DE4224012C1 - Lötfähiges elektrisches Kontaktelement - Google Patents
Lötfähiges elektrisches KontaktelementInfo
- Publication number
- DE4224012C1 DE4224012C1 DE4224012A DE4224012A DE4224012C1 DE 4224012 C1 DE4224012 C1 DE 4224012C1 DE 4224012 A DE4224012 A DE 4224012A DE 4224012 A DE4224012 A DE 4224012A DE 4224012 C1 DE4224012 C1 DE 4224012C1
- Authority
- DE
- Germany
- Prior art keywords
- layer
- tin
- silver
- alloy
- alloy layer
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired - Fee Related
Links
Classifications
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L23/00—Details of semiconductor or other solid state devices
- H01L23/48—Arrangements for conducting electric current to or from the solid state body in operation, e.g. leads, terminal arrangements ; Selection of materials therefor
- H01L23/488—Arrangements for conducting electric current to or from the solid state body in operation, e.g. leads, terminal arrangements ; Selection of materials therefor consisting of soldered or bonded constructions
- H01L23/495—Lead-frames or other flat leads
- H01L23/49579—Lead-frames or other flat leads characterised by the materials of the lead frames or layers thereon
- H01L23/49582—Metallic layers on lead frames
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B23—MACHINE TOOLS; METAL-WORKING NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- B23K—SOLDERING OR UNSOLDERING; WELDING; CLADDING OR PLATING BY SOLDERING OR WELDING; CUTTING BY APPLYING HEAT LOCALLY, e.g. FLAME CUTTING; WORKING BY LASER BEAM
- B23K35/00—Rods, electrodes, materials, or media, for use in soldering, welding, or cutting
- B23K35/001—Interlayers, transition pieces for metallurgical bonding of workpieces
- B23K35/004—Interlayers, transition pieces for metallurgical bonding of workpieces at least one of the workpieces being of a metal of the iron group
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C22—METALLURGY; FERROUS OR NON-FERROUS ALLOYS; TREATMENT OF ALLOYS OR NON-FERROUS METALS
- C22C—ALLOYS
- C22C5/00—Alloys based on noble metals
- C22C5/06—Alloys based on silver
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L23/00—Details of semiconductor or other solid state devices
- H01L23/48—Arrangements for conducting electric current to or from the solid state body in operation, e.g. leads, terminal arrangements ; Selection of materials therefor
- H01L23/488—Arrangements for conducting electric current to or from the solid state body in operation, e.g. leads, terminal arrangements ; Selection of materials therefor consisting of soldered or bonded constructions
- H01L23/498—Leads, i.e. metallisations or lead-frames on insulating substrates, e.g. chip carriers
- H01L23/49866—Leads, i.e. metallisations or lead-frames on insulating substrates, e.g. chip carriers characterised by the materials
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01R—ELECTRICALLY-CONDUCTIVE CONNECTIONS; STRUCTURAL ASSOCIATIONS OF A PLURALITY OF MUTUALLY-INSULATED ELECTRICAL CONNECTING ELEMENTS; COUPLING DEVICES; CURRENT COLLECTORS
- H01R13/00—Details of coupling devices of the kinds covered by groups H01R12/70 or H01R24/00 - H01R33/00
- H01R13/02—Contact members
- H01R13/03—Contact members characterised by the material, e.g. plating, or coating materials
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L2924/00—Indexing scheme for arrangements or methods for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies as covered by H01L24/00
- H01L2924/0001—Technical content checked by a classifier
- H01L2924/0002—Not covered by any one of groups H01L24/00, H01L24/00 and H01L2224/00
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01R—ELECTRICALLY-CONDUCTIVE CONNECTIONS; STRUCTURAL ASSOCIATIONS OF A PLURALITY OF MUTUALLY-INSULATED ELECTRICAL CONNECTING ELEMENTS; COUPLING DEVICES; CURRENT COLLECTORS
- H01R4/00—Electrically-conductive connections between two or more conductive members in direct contact, i.e. touching one another; Means for effecting or maintaining such contact; Electrically-conductive connections having two or more spaced connecting locations for conductors and using contact members penetrating insulation
- H01R4/02—Soldered or welded connections
Landscapes
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Mechanical Engineering (AREA)
- Physics & Mathematics (AREA)
- Condensed Matter Physics & Semiconductors (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Computer Hardware Design (AREA)
- Microelectronics & Electronic Packaging (AREA)
- Power Engineering (AREA)
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Materials Engineering (AREA)
- Metallurgy (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Contacts (AREA)
Description
Die Erfindung betrifft ein lötfähiges elektrisches Kontaktelement
aus einem Träger aus einer Eisen-Nickel-Legierung und einem darauf
angeordneten Schichtensystem aus einer metallischen Schicht und einer auf einem Teil der Oberfläche der metallischen Schicht
aufgebrachten Lötschicht aus einer Legierung aus 60-90 Gewichts-% Gold und
10-40 Gewichts-% Zinn.
Aus DE 30 28 044 C1 ist ein lötfähiges Schichtensystem aus einer Lötschicht
aus zum Beispiel Kupfer oder Eisen und einer diese überdeckenden Korrosionsschutzschicht
bekannt. Das Schichtensystem kann die lötfähige Anschlußstelle
einer auf einem zum Beispiel aus Glas, Silicium, Epoxid oder Keramik bestehenden
Träger befindlichen Leiterschicht einer Flüssigkristallanzeige sein. Ist
die Korrosionsschutzschicht dünn, so gelangt beim Lötvorgang das Lot durch die
porösen Stellen der Korrosionsschutzschicht und stellt so den Kontakt her. Ist
die Korrosionsschutzschicht dicker, so muß sie vor dem Lötvorgang entfernt
werden.
In DE 40 25 622 A1 wird ein Antischlußkontakthöcker für Halbleitersysteme, insbesondere
Halbleitersysteme von integrierten Schaltkreisen, beschrieben, der
auf einem mit einer Barriereschicht versehenen Leiter, üblicherweise aus Aluminium,
aufgebracht ist und aus Gold und Zinn besteht. Der Anschlußkontakthöcker
weist in dem der zum Beispiel aus Titan/Wolfram bestehenden Barriereschicht
benachbarten Bereich eine unlegierte Goldschicht und in dem der Barriereschicht
abgewandten Bereich eine Schicht aus einer Gold-Zinn-Legierung
aus 80 Gewichts-% Gold und 20 Gewichts-% Zinn auf.
Nach "Elektrische Kontakte und ihre Werkstoffe", A. Keil u. a., Springer-Verlag
1984, besonders Seite 263, linke Spalte, wird Zinn mit geringen Silberzusätzen
als Weichlot verwendet, wenn von dem Lot eine besondere Korrosionsbeständigkeit
verlangt wird. Die Legierung mit 3,5% Silber weist eine gute Leitfähigkeit
auf und benetzt andere Metalle leicht.
Aus US-PS 33 67 756 ist ein Verbundwerkstoff aus einem metallischen Träger und
einer darauf mechanisch aufgebrachten Plattierung aus einer Gold-Schicht und
einer Gold-Zinn-Legierungsschicht mit einem Zinn-Gehalt von 15-25% bekannt.
Der Träger kann zum Beispiel aus Nickel, Nickel-Eisen, Kovar® oder Molybdän
bestehen.
Aus DE 39 32 536 C1 ist ein auf einem Träger aufgebrachter Kontaktwerkstoff
für Steckverbinder bekannt. Der Kontaktwerkstoff besteht zum Beispiel aus
einer Legierung aus 60-70 Gewichts-% Silber und 30-40 Gewichts-% Zinn und
einer darauf befindlichen geschlossenen Deckschicht aus Zinnoxid.
EP 00 55 368 B1 bezieht sich auf ein Verfahren zum Verbinden zweier Teile
miteinander unter Verwendung eines goldreichen Lotes und einer auf die Oberfläche
eines der beiden Teile aufgebrachten Kupfer-Schicht. Die nach dem Verfahren
gebildete Lötverbindung besitzt, bedingt durch die Mitverwendung des
Kupfers, einen höheren Schmelzpunkt als die lediglich mit dem goldreichen Lot
erzeugte. Mit Hilfe des Verfahrens werden die metallisierte Fläche eines auf
einem Keramik-Substrat befindlichen Chips und ein elektrischer Verbindungsstift
aus mit Palladium und Gold überzogenem Kovar® unter Verwendung eines
80/20 Au/Sn-Lotes miteinander verbunden.
Nach EP 00 82 271 B1 werden Kovar-Legierungen, da sie in unerwünschter Weise
mit Gold/Zinn-Loten reagieren, zunächst mit Gold plattiert.
EP 01 34 532 B1 betrifft Lot-Legierungen aus 60-80 Gewichts-% Gold, 15-30
Gewichts-% Indium und 5-10 Gewichts-% Zinn und ihre Verwendung zum Verbinden
von elektrischen "input/output"-Steckverbinderstiften oder Halbleiterchips mit
einem Substrat. Mit Hilfe dieser Legierungen werden mit Nickel und Gold plattierte
Kovar®-Stifte und Keramik-Substrate durch Löten bei 510°C miteinander
verbunden.
Aufgabe der vorliegenden Erfindung ist es, ein lötfähiges elektrisches Kontaktelement
der eingangs charakterisierten Art zu finden,
dessen metallische Schicht aus einem Material besteht, das - bei Gewährleistung
etwa gleicher elektrischer und physikalisch-chemischer Eigenschaften -
preiswerter als Gold ist und gleichzeitig ebenso wie Gold das unkontrollierte
Zerlaufen der Gold-Zinn-Lotlegierung auf der Oberfläche des Kontakt- und Verbindungselementes
verhindert.
Das die Lösung der Aufgabe darstellende lötfähige elektrische Kontakt- und
Verbindungselement ist erfindungsgemäß dadurch gekennzeichnet, daß die metallische
Schicht (3) aus einer Legierung aus 50-90 Gewichts-% Silber und
10-50 Gewichts-% Zinn besteht.
Die Silber-Zinn-Legierungsschicht ist wesentlich preiswerter als eine
Gold-Schicht und hinsichtlich der benötigten elektrischen bzw. physikalisch-
chemischen Eigenschaften der Gold-Schicht gleichwertig.
Vorteilhaft ist es, daß die Silber-Zinn-Legierung einen Zinn-Anteil von 15 bis
40 Gewichts-% aufweist. Weiterhin ist es zweckmäßig, daß zwischen dem Träger
und der Silber-Zinn-Legierungsschicht eine Nickel-Schicht angeordnet ist.
Diese Nickel-Schicht dient als Sperre für die Diffusion des Eisens aus der
Eisen-Nickel-Legierung des Trägers in die Silber-Zinn-Legierungsschicht. Sie
hat sich insbesondere in den Fällen als vorteilhaft erwiesen, in denen die
Anwesenheit von Eisen die Eigenschaften der Silber-Zinn-Legierungsschicht in
unerwünschter Weise verändern kann.
Die Verwendung von Nickel als "Diffusionsbremse"
bei Mehrschichtwerkstoffen ist zum Beispiel aus "Elektrische Kontakte
und ihre Werkstoffe", A. Keil u. a., Springer-Verlag 1984, Seite 19, bekannt.
Zur Verhinderung der Diffusion des Eisens in die Silber-Zinn-Legierungsschicht
ist eine Nickel-Schicht mit einer Schichtdicke von etwa 2 µm ausreichend.
Die Silber-Zinn-Legierungsschicht weist eine Dicke von etwa 2-4 µm auf;
auch größere Schichtdicken sind möglich, jedoch für die meisten Anwendungsfälle
nicht sinnvoll.
Derartige Schichten können beispielsweise galvanisch oder durch Aufdampfen im
Vakuum (PVD-Verfahren, "Physical Vapour Deposition") auf den Träger aufgebracht
werden. Die Gold-Zinn-Legierung kann beispielsweise als Schmelztropfen
aufgebracht werden oder als festes Material, etwa in Kugelform, wobei
die Verbindung mit der Silber-Zinn-Legierungsschicht anschließend durch Aufschmelzen
erfolgt. Bei dem Aufschmelzvorgang verformt sich die Gold-Zinn-Kugel
zu einer Form ähnlich einem Kugelabschnitt. Die Größe der von der Gold-Zinn-
Legierung benetzten Fläche kann dabei durch die Menge der aufgebrachten Gold-
Zinn-Legierung beeinflußt werden. Selbst bei einer großflächigen Beschichtung
des Trägers mit der Silber-Zinn-Legierungsschicht, die zugleich als Kontaktschicht
für Feder-, Schleif- oder Steckkontakte verwendet werden kann, benetzt
die Gold-Zinn-Legierung nur einen eng begrenzten Bereich der Silber-Zinn-Legierungsschicht.
Das Kontaktelement läßt sich mehrfach auf 330±5°C erwärmen,
ohne daß die Lotschicht zerläuft.
Nachfolgend wird die Erfindung anhand zweier in der Zeichnung dargestellter
Ausführungsbeispiele näher erläutert. In der Zeichnung zeigt
Fig. 1 eine Kontaktfeder in der Seitenansicht und
Fig. 2 einen Kontaktstift im Längsschnitt.
Das in Fig. 1 dargestellte elektrische Kontaktelement weist
einen Träger 1 in Form eines flachen Streifens aus einer Eisen-Nickel-Legierung
auf. Der Träger 1 ist mit einer Nickel-Schicht 2 als
Diffusionssperre gegen die Diffusion des Eisens versehen. Auf dieser Nickel-
Schicht 2 ist die Schicht 3 aus einer galvanisch aufgebrachten Silber-Zinn-
Legierung aus 80 Gewichts-% Silber und 20 Gewichts-% Zinn und auf einem Teil der Oberfläche dieser Schicht die
Lotschicht 4 angeordnet. Sie wird durch Auflegen einer Kugel aus einer Gold-Zinn-Legierung
auf die Silber-Zinn-Legierungsschicht
3 und anschließendes Aufschmelzen durch eine mehrere Minuten
dauernde Temperaturbehandlung bei etwa 305°C erhalten.
Eine weitere Ausführung zeigt Fig. 2. Hier ist die Lötverbindung an der
Stirnseite des in zylindrischer Form vorliegenden Trägers 1 vorgesehen. Auf
der Stirnseite sind in gleicher Weise, wie oben beschrieben, die Nickel-
Schicht 2 und die Silber-Zinn-Legierungsschicht 3 angeordnet. Darauf ist, die
Stirnseite bedeckend, die Lotschicht 4 in Form eines Kugelabschnittes aufgebracht.
Claims (3)
1. Lötfähiges elektrisches Kontaktelement aus einem Träger
aus einer Eisen-Nickel-Legierung und einem darauf angeordneten Schichtensystem
aus einer metallischen Schicht und einer auf einem Teil der Oberfläche der metallischen Schicht aufgebrachten Lotschicht
aus einer Legierung aus 60-90 Gewichts-% Gold und 10-40 Gewichts-%
Zinn, dadurch gekennzeichnet, daß die metallische Schicht (3) aus
einer Legierung aus 50-90 Gewichts-% Silber und 10-50 Gewichts-% Zinn
besteht.
2. Kontakt- und Verbindungselement nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet,
daß die metallische Schicht (3) aus einer Legierung aus 60-85 Gewichts-%
Silber und 15-40 Gewichts-% Zinn besteht.
3. Kontakt- und Verbindungselement nach Anspruch 1 oder 2, dadurch gekennzeichnet,
daß zwischen dem Träger (1) und der metallischen Schicht (3)
eine Nickel-Schicht (2) angeordnet ist.
Priority Applications (4)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
DE4224012A DE4224012C1 (de) | 1992-07-21 | 1992-07-21 | Lötfähiges elektrisches Kontaktelement |
CA002096103A CA2096103A1 (en) | 1992-07-21 | 1993-05-12 | Electrical contact element |
US08/078,835 US5422451A (en) | 1992-07-21 | 1993-06-21 | Electrical contact element |
JP5180112A JPH081770B2 (ja) | 1992-07-21 | 1993-07-21 | 電気接点構造 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
DE4224012A DE4224012C1 (de) | 1992-07-21 | 1992-07-21 | Lötfähiges elektrisches Kontaktelement |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
DE4224012C1 true DE4224012C1 (de) | 1993-12-02 |
Family
ID=6463746
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
DE4224012A Expired - Fee Related DE4224012C1 (de) | 1992-07-21 | 1992-07-21 | Lötfähiges elektrisches Kontaktelement |
Country Status (4)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US5422451A (de) |
JP (1) | JPH081770B2 (de) |
CA (1) | CA2096103A1 (de) |
DE (1) | DE4224012C1 (de) |
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
DE10139797A1 (de) * | 2001-08-14 | 2003-02-27 | Bsh Bosch Siemens Hausgeraete | Elektrische Steckverbindung |
EP3070188A3 (de) * | 2015-03-14 | 2016-12-07 | Diehl Metal Applications GmbH | Verfahren zur beschichtung eines einpresspins und einpresspin |
Families Citing this family (9)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US6246551B1 (en) * | 1998-10-20 | 2001-06-12 | Ecrix Corporation | Overscan helical scan head for non-tracking tape subsystems reading at up to 1X speed and methods for simulation of same |
JP3350667B2 (ja) * | 1999-02-02 | 2002-11-25 | 住友特殊金属株式会社 | ろう接用複合材及びろう接構造物 |
US6166341A (en) * | 1999-09-24 | 2000-12-26 | Honeywell Inc | Dual cross edge contacts for low energy switches |
US6156982A (en) * | 1999-09-24 | 2000-12-05 | Honeywell Inc. | Low current high temperature switch contacts |
US7391116B2 (en) * | 2003-10-14 | 2008-06-24 | Gbc Metals, Llc | Fretting and whisker resistant coating system and method |
JP4622705B2 (ja) * | 2005-07-01 | 2011-02-02 | パナソニック株式会社 | パネルスイッチ用可動接点体 |
JP4834022B2 (ja) * | 2007-03-27 | 2011-12-07 | 古河電気工業株式会社 | 可動接点部品用銀被覆材およびその製造方法 |
JP4834023B2 (ja) * | 2007-03-27 | 2011-12-07 | 古河電気工業株式会社 | 可動接点部品用銀被覆材およびその製造方法 |
TWI488733B (zh) * | 2012-10-04 | 2015-06-21 | Jx Nippon Mining & Metals Corp | Metal material for electronic parts and manufacturing method thereof |
Citations (10)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US3367756A (en) * | 1966-03-25 | 1968-02-06 | Alloys Unltd Inc | Gold tin alloy clad product |
DE1960047A1 (de) * | 1968-11-28 | 1970-11-26 | Sel Rex Corp | Verfahren zur elektrolytischen Abscheidung einer Goldlegierung und waessriges Abscheidungsbad zur Ausfuehrung des Verfahrens |
DE2363444B2 (de) * | 1973-12-20 | 1976-01-08 | Siemens Ag, 1000 Berlin U. 8000 Muenchen | Elektrischer Schaltkontakt für Schutzgasrelais |
DE3028044C1 (de) * | 1980-07-24 | 1981-10-08 | Vdo Adolf Schindling Ag, 6000 Frankfurt | Lötfähiges Schichtensystem |
EP0055368B1 (de) * | 1980-12-31 | 1985-06-26 | International Business Machines Corporation | Hartlötverfahren |
EP0134532B1 (de) * | 1983-08-08 | 1987-04-08 | International Business Machines Corporation | Hartlöt-Legierung |
EP0082271B1 (de) * | 1981-12-17 | 1987-09-09 | International Business Machines Corporation | Verfahren zum Hartlöten aneinandergrenzender Oberflächen von Bauelementen, Hartlötlegierungen und Hartlötnähte enthaltende Einrichtungen |
EP0359228A2 (de) * | 1988-09-16 | 1990-03-21 | National Semiconductor Corporation | Eutektische Verbindung mit Gold/Zinn für die automatische Bandmontage-Technik |
DE3932536C1 (en) * | 1989-09-29 | 1990-08-09 | W.C. Heraeus Gmbh, 6450 Hanau, De | Wear resistant contact material - in which is applied to support comprising copper alloy and non-noble metal contg. silver, palladium or palladium-silver alloy |
DE4025622A1 (de) * | 1990-08-13 | 1992-02-20 | Siemens Ag | Anschlusskontakthoecker und verfahren zu dessen herstellung |
Family Cites Families (7)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US1904241A (en) * | 1926-12-31 | 1933-04-18 | Kammerer Erwin | Compound metal stock |
US3576415A (en) * | 1967-10-26 | 1971-04-27 | Textron Inc | Electrical contact surface plate having a mercury amalgam |
US3703656A (en) * | 1971-02-17 | 1972-11-21 | Gen Electric | Monolithic semiconductor display devices |
GB1517702A (en) * | 1974-09-19 | 1978-07-12 | Fujitsu Ltd | Electrical contact |
US4053728A (en) * | 1975-10-24 | 1977-10-11 | General Electric Company | Brazed joint between a beryllium-base part and a part primarily of a metal that is retractable with beryllium to form a brittle intermetallic compound |
DE2940772C2 (de) * | 1979-10-08 | 1982-09-09 | W.C. Heraeus Gmbh, 6450 Hanau | Elektrischer Schwachstromkontakt |
US5139890A (en) * | 1991-09-30 | 1992-08-18 | Olin Corporation | Silver-coated electrical components |
-
1992
- 1992-07-21 DE DE4224012A patent/DE4224012C1/de not_active Expired - Fee Related
-
1993
- 1993-05-12 CA CA002096103A patent/CA2096103A1/en not_active Abandoned
- 1993-06-21 US US08/078,835 patent/US5422451A/en not_active Expired - Fee Related
- 1993-07-21 JP JP5180112A patent/JPH081770B2/ja not_active Expired - Lifetime
Patent Citations (10)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US3367756A (en) * | 1966-03-25 | 1968-02-06 | Alloys Unltd Inc | Gold tin alloy clad product |
DE1960047A1 (de) * | 1968-11-28 | 1970-11-26 | Sel Rex Corp | Verfahren zur elektrolytischen Abscheidung einer Goldlegierung und waessriges Abscheidungsbad zur Ausfuehrung des Verfahrens |
DE2363444B2 (de) * | 1973-12-20 | 1976-01-08 | Siemens Ag, 1000 Berlin U. 8000 Muenchen | Elektrischer Schaltkontakt für Schutzgasrelais |
DE3028044C1 (de) * | 1980-07-24 | 1981-10-08 | Vdo Adolf Schindling Ag, 6000 Frankfurt | Lötfähiges Schichtensystem |
EP0055368B1 (de) * | 1980-12-31 | 1985-06-26 | International Business Machines Corporation | Hartlötverfahren |
EP0082271B1 (de) * | 1981-12-17 | 1987-09-09 | International Business Machines Corporation | Verfahren zum Hartlöten aneinandergrenzender Oberflächen von Bauelementen, Hartlötlegierungen und Hartlötnähte enthaltende Einrichtungen |
EP0134532B1 (de) * | 1983-08-08 | 1987-04-08 | International Business Machines Corporation | Hartlöt-Legierung |
EP0359228A2 (de) * | 1988-09-16 | 1990-03-21 | National Semiconductor Corporation | Eutektische Verbindung mit Gold/Zinn für die automatische Bandmontage-Technik |
DE3932536C1 (en) * | 1989-09-29 | 1990-08-09 | W.C. Heraeus Gmbh, 6450 Hanau, De | Wear resistant contact material - in which is applied to support comprising copper alloy and non-noble metal contg. silver, palladium or palladium-silver alloy |
DE4025622A1 (de) * | 1990-08-13 | 1992-02-20 | Siemens Ag | Anschlusskontakthoecker und verfahren zu dessen herstellung |
Non-Patent Citations (1)
Title |
---|
DE-B "Elektrische Kontakte und ihre Werkstoffe", A. Keil u.a., Springer-Verlag 1984, S 18,19,180,181,258-263,278-279 * |
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
DE10139797A1 (de) * | 2001-08-14 | 2003-02-27 | Bsh Bosch Siemens Hausgeraete | Elektrische Steckverbindung |
EP3070188A3 (de) * | 2015-03-14 | 2016-12-07 | Diehl Metal Applications GmbH | Verfahren zur beschichtung eines einpresspins und einpresspin |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
US5422451A (en) | 1995-06-06 |
JPH081770B2 (ja) | 1996-01-10 |
JPH06187866A (ja) | 1994-07-08 |
CA2096103A1 (en) | 1994-01-22 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
DE10164502B4 (de) | Verfahren zur hermetischen Verkapselung eines Bauelements | |
DE3785720T2 (de) | Verfahren zum herstellen eines filmtraegers. | |
EP0301533B1 (de) | Elektrische Sicherung und Verfahren zu ihrer Herstellung | |
DE102005042780B4 (de) | Halbleiteranordnung mit einer Lotschicht auf Zinnbasis und Verfahren zum Herstellen derselben | |
DE4442960C1 (de) | Lothöcker für die Flip-Chip-Montage und Verfahren zu dessen Herstellung | |
DE69813701T2 (de) | Elektrodenstruktur einer Siliziumhalbleiteranordnung | |
DE4313980B4 (de) | Integrierte Hybridschaltung und Verfahren zu deren Herstellung | |
DE4224012C1 (de) | Lötfähiges elektrisches Kontaktelement | |
WO1996016442A1 (de) | Kernmetall-lothöcker für die flip-chip-technik | |
EP0218069A1 (de) | Verfahren zum Verschweissen mittels Laserlicht | |
DE4414729A1 (de) | Werkstoff für einen Leitungsrahmen und Leitungsrahmen für Halbleiterbauelemente | |
DE4311872A1 (de) | Leiterrahmen für integrierte Schaltungen | |
DE4443459A1 (de) | Bleifreies Weichlot und seine Verwendung | |
DE102006023998B4 (de) | Elektronische Schaltungsanordnung und Verfahren zur Herstellung einer solchen | |
DE3788263T2 (de) | Verfahren zum elektrischen Verbinden von zwei Objekten. | |
DE3704200C2 (de) | ||
EP0833384A2 (de) | Halbleiterkörper mit Lotmaterialschicht | |
DE69430114T2 (de) | Element-Anschlussfläche für Halbleiteranordnungsmontageplatte | |
DE3040493C2 (de) | Verfahren zum lötflußmittelfreien Anlöten einer Glasfläche an eine Metallfläche | |
EP4069459B1 (de) | Verfahren zum fügen mindestens eines ersten und eines zweiten fügebereichs, fügeverbindung und elektronische komponente sowie schaltungsanordnung | |
DE19710462C2 (de) | Elektrisches Bauelement, insbesondere Chipinduktivität | |
DE3781232T2 (de) | Verbindungsvorrichtung fuer einen statischen leistungsschalter, der mit biegsamen leitenden anschluessen versehen ist. | |
DE69605989T2 (de) | Glasversiegelte halbleiteranordnung bestehend aus einem halbleiterkörper, der mittels einer silber-aluminium-verbindungsschicht mit einer senke verbunden ist | |
JPH0871741A (ja) | 電気部品 | |
DE102005024430B4 (de) | Verfahren zum Beschichten eines Siliziumwafers oder Siliziumchips |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
8100 | Publication of the examined application without publication of unexamined application | ||
D1 | Grant (no unexamined application published) patent law 81 | ||
8364 | No opposition during term of opposition | ||
8339 | Ceased/non-payment of the annual fee |