DE4208388A1

DE4208388A1 - Excimer laser with supply of gas mixt. for tube filling - is safeguarded against halogen leakage by separate stopping of supplies from high-pressure halogen and inert gas cylinders

Info

Publication number: DE4208388A1
Application number: DE19924208388
Authority: DE
Inventors: Dirk Dr Basting; Ulrich Dr Rebhan
Original assignee: Lambda Physik AG
Current assignee: Lambda Physik AG
Priority date: 1992-03-16
Filing date: 1992-03-16
Publication date: 1993-09-23

Abstract

The laser tube (10) in its housing (11) is filled via a stopcock (V5) from a supply (12) in which a number of pressurised gas cylinders contain inert gases (1-3) and F2 or HCl (4). The cylinders are connected (L1-L4) via separate stopcocks (V1-V4) to a common outlet pipe (L5) feeding the laser housing. This arrangement precludes any high-pressure halogen connection to the laser, esp. if the pipe carries a continuous high-pressure supply of harmless inert gas which provides a leak detection facility. USE/ADVANTAGE - Esp. in clinical and industrial surroundings where leakage from halogen pipework cannot be tolerated. Safe supply is guaranteed without recourse to costly additional measures.

Description

Die Erfindung betrifft einen Excimerlaser mit einer Gasversor gungsvorrichtung zum Befüllen der Laserröhre sowie ein Verfah ren zum Befüllen der Laserröhre.The invention relates to an excimer laser with a gas supplier supply device for filling the laser tube and a process for filling the laser tube.

Bei Excimerlasern wird bekanntlich ein laseraktives Medium da durch erzeugt, daß im Plasma einer Gasentladung unter Beteili gung von Edelgasatomen und Halogenen (sowie weitere Reaktions teilnehmer) hoch angeregte Excimere gebildet werden.As is known, excimer lasers use a laser-active medium generated by that in the plasma of a gas discharge with participi generation of noble gas atoms and halogens (as well as other reactions highly excited excimers are formed.

Die Excimerlaser-Gasmischungen bestehen typischerweise aus 3 - 6% des aktiven Edelgases (z. B. Kr), 0,1 bis 0,5% eines Halogendonors (z. B. F₂ oder HCl) und einem leichten Puffergas wie He oder Ne bei einem Gesamtdruck von 1,5 bis 4 bar. Die Gase stehen normalerweise in Druckzylindern zur Verfügung. Das Halogengas selbst ist sehr aggressiv und toxisch und wird standardmäßig verdünnt ebenfalls in Druckbehältern geliefert. Typisch sind 5% Halogen mit 95% Helium. The excimer laser gas mixtures typically consist of 3 - 6% of the active noble gas (e.g. Kr), 0.1 to 0.5% of a halogen donor (e.g. F ₂ or HCl) and a light buffer gas such as He or Ne at a total pressure of 1.5 to 4 bar. The gases are usually available in pressure cylinders. The halogen gas itself is very aggressive and toxic and is also supplied diluted in pressure containers as standard. 5% halogen with 95% helium are typical.

Die Excimerlaser-Gasmischung wird üblicherweise aus mindestens zwei, häufig jedoch drei mit Edelgasen gefüllten Druckbehältern und einem Druckbehälter, der mit dem Halogengas gefüllt ist, erst in der Excimerlaserröhre gemischt. Dazu wird eine der Druckbehälterzahl entsprechende Anzahl von Fülleitungen verwen det.The excimer laser gas mixture is usually made up of at least two, but often three, pressure vessels filled with noble gases and a pressure vessel filled with the halogen gas first mixed in the excimer laser tube. For this one of the Use the appropriate number of filling lines for the number of pressure vessels det.

Eine hierfür geeignete Anordnung ist in Fig. 1 dargestellt. Im Gasflaschenschrank 12 befinden sich hier insgesamt vier Gas flaschen. Über die Leitungen L1 bis L3 werden Edelgase, über die Leitung L4 das Halogengas zum Laser 11 transportiert. Über vier Ventile innerhalb des Lasergehäuses 11, die in den jewei ligen Leitungen angeordnet sind, wird der Gasfluß reguliert. Die Leitungen münden im Gehäuse 11 des Lasers in einer zur Laserröhre 10 führenden Leitung.A suitable arrangement for this is shown in FIG. 1. In the gas bottle cabinet 12 there are a total of four gas bottles. Noble gases are transported via lines L1 to L3, and the halogen gas is conveyed to laser 11 via line L4. The gas flow is regulated via four valves within the laser housing 11 , which are arranged in the respective lines. The lines open in the housing 11 of the laser in a line leading to the laser tube 10 .

Während des Betriebes stehen die Fülleitungen alle unter Druck. Der Leitungsdruck beträgt bei einer derartigen üblichen Anord nung gewöhnlich 5 bar. Im Falle eines Lecks stellt die Halo genfülleitung eine Gefahrenquelle dar, da gasförmiger Chlorwas serstoff oder andere gasförmige Halogene stark ätzend und toxisch sind.The fill lines are all under pressure during operation. The line pressure in such a conventional arrangement is usually 5 bar. In the event of a leak, the halo provides gene filling line is a source of danger because gaseous chlorine highly corrosive and other gaseous halogens and are toxic.

Das Risiko eines Lecks in der Halogenleitung kann in vielen An wendungen nicht toleriert werden. Speziell in der Medizin ist die Nähe einer größeren Anzahl von Menschen sowie die Anwesen heit eines eventuell nicht transportfähigen Patienten während des Laserbetriebs problematisch und auch im industriellen Ein satz muß die Sicherheit am Arbeitsplatz berücksichtigt werden.The risk of a leak in the halogen line can vary in many ways turns are not tolerated. Especially in medicine the proximity of a larger number of people as well as the property of a patient who may not be transportable during problematic of laser operation and also in industrial use safety at work must be taken into account.

Es hat deshalb bereits Überlegungen gegeben, wie diesem Risiko begegnet werden könnte.There have therefore already been considerations of how to take this risk could be encountered.

Folgende Maßnahmen sind in der Vergangenheit bereits durchge führt worden:The following measures have already been taken in the past led:

a) The halogen line was provided with a double wall.
b) The halogen bottle was in the bottle cabinet directly on the Bottle equipped with a second valve to the Druckbe to be able to shut off the container separately.

Der Erfindung liegt die Aufgabe zugrunde, eine sichere Versor gung der Laserröhre mit Halogengas zu gewährleisten, ohne daß aufwendige Zusatzmaßnahmen ergriffen werden müßten.The invention has for its object a secure Versor to ensure the supply of the laser tube with halogen gas without expensive additional measures would have to be taken.

Zur Lösung dieser Aufgabe wird ein Excimerlaser mit einer Gas versorungsvorrichtung zum Befüllen der Laserröhre vorgeschla gen, der dadurch gekennzeichnet ist, daß zumindest die Leitung einer Halogengasquelle und zumindest eine Leitung einer nicht Halogengas liefernden Gasquelle in der Gasversorgungsvorrich tung, die entfernt vom Gehäuse des Lasers angeordnet ist, über Ventile in eine gemeinsame Leitung münden, die zur Laserröhre führt.To solve this problem, an excimer laser with a gas Supply device for filling the laser tube suggested gene, which is characterized in that at least the line a halogen gas source and at least one line one not Halogen gas supplying gas source in the gas supply device device, which is arranged remotely from the housing of the laser Valves open into a common line leading to the laser tube leads.

Bevorzugte Ausgestaltungen des erfindungsgemäßen Excimerlasers sind in den abhängigen Ansprüchen beschrieben. Insbesondere be inhaltet der Anspruch 7 ein Verfahren zum besonders sicheren Überführen von Halogengas in die Laserröhre.Preferred configurations of the excimer laser according to the invention are described in the dependent claims. In particular be Claim 7 contains a method for particularly safe Transfer of halogen gas into the laser tube.

Nachfolgend werden Ausführungsbeispiele der Erfindung anhand der Zeichnung näher erläutert. Es zeigt:Exemplary embodiments of the invention are described below the drawing explained in more detail. It shows:

Fig. 2 ein Ausführungsbeispiel eines Excimerlasers mit einer Gasversorgungsvorrichtung; Fig. 2 shows an embodiment of an excimer laser to a gas supply device;

Fig. 3 eine Einzelheit der Gasversorgungsvorrichtung gemäß Fig. 2 und Fig. 3 shows a detail of the gas supply device according to Fig. 2 and

Fig. 4 eine Gasversorgungsvorrichtung gemäß Fig. 2 mit zusätzlich einer Steuereinheit zum Steuern der Gas-Partialdrucke. Fig. 4 shows a gas supply apparatus according to FIG. 2, in addition to a control unit for controlling the gas partial pressures.

Gemäß Fig. 2 ist eine Laserröhre 10 in einem Gehäuse 11 des Lasers angeordnet. Die Laserröhre 10 und das Gehäuse 11 bilden somit den eigentlichen Laser, wobei die verschiedenen Versor gungseinrichtungen, insbesondere die elektrischen Schaltungen des Lasers im Gehäuse 11 angeordnet sind. Dies ist allgemeiner Stand der Technik.According to Fig. 2 a laser tube 10 is disposed in a housing 11 of the laser. The laser tube 10 and the housing 11 thus form the actual laser, the various supply devices, in particular the electrical circuits of the laser, being arranged in the housing 11 . This is the general state of the art.

Getrennt und entfernt vom Gehäuse 11 des Lasers ist ein anderes Gehäuse angeordnet, nämlich das einer Gasversorgungsvorrichtung 12, in der eine Reihe von Gasquellen 1, 2, 3 und 4 in Form von unter Druck stehenden Gasflaschen aufgenommen sind. Die Gas flaschen stehen unter einem Druck, der jeweils wesentlich höher ist als der Atmosphärendruck. In den Gasquellen 1, 2 und 3 sind jeweils Edelgase enthalten, während die Gasquelle 4 ein Halo gengas enthält, beispielsweise F₂ oder HCl. Die Halogengasquel le kann aber auch geringeren Druck aufweisen.Another housing is arranged separately and distant from the housing 11 of the laser, namely that of a gas supply device 12 in which a number of gas sources 1 , 2 , 3 and 4 are accommodated in the form of pressurized gas bottles. The gas bottles are under a pressure that is significantly higher than the atmospheric pressure. The gas sources 1 , 2 and 3 each contain noble gases, while the gas source 4 contains a halogen gas, for example F ₂ or HCl. The halogen gas source can also have lower pressure.

Leitungen L1, L2, L3 und L4 führen jeweils von den zugeordneten Gasflaschen weg und sind über Ventile V1, V2, V3 und V4 ab sperrbar. Zwischen den einzelnen, den Gasquellen zugeordneten Ventilen V1 bis V4 sind jeweils Druckreduzierventile angeord net. Die Ventile V1 bis V4 sind steuerbar.Lines L1, L2, L3 and L4 each lead from the assigned Gas bottles gone and are off via valves V1, V2, V3 and V4 lockable. Between the individual gas sources Valves V1 to V4 are each arranged pressure reducing valves net. The valves V1 to V4 can be controlled.

Innerhalb des Gehäuses der Gasversorgungsvorrichtung 12 münden alle von den Gasquellen 1, 2, 3 und 4 wegführenden Leitungen L1, L2, L3 und L4 in eine gemeinsame Leitung L5, die den Ab stand zwischen dem Gehäuse 11 des Lasers und der Gasversor gungsvorrichtung 12 überbrückt. Die gemeinsame Leitung L5 führt über ein Ventil V5 zur Laserröhre 10.Within the housing of the gas supply device 12 open all of the gas sources 1 , 2 , 3 and 4 leading lines L1, L2, L3 and L4 into a common line L5, which stood between the housing 11 of the laser and the gas supply device 12 bridges. The common line L5 leads to the laser tube 10 via a valve V5.

Statt der im Ausführungsbeispiel gemäß Fig. 2 dargestellten An ordnung von einer Halogengasquelle und drei Edelgasquellen 1, 2 und 3 können auch andere Zusammensetzungen von Gasquellen vor gesehen sein, wobei jedoch immer zumindest eine Gasquelle für Halogengas oder ein anderes gefährliches Gas dabei ist. Die Quelle für Halogengas muß nicht reines F₂ oder HCl liefern, sondern wird, wie es im Stand der Technik üblich ist, bereits zur Reduzierung der mit dem Halogengas einhergehenden Gefahren mit Edelgas versetzt, d. h. die Halogengasquelle 4 liefert eine Mischung aus Halogengas und einem Edelgas, z. B. He.Instead of the arrangement shown in the embodiment according to FIG. 2 of a halogen gas source and three noble gas sources 1 , 2 and 3 , other compositions of gas sources can also be seen before, but at least one gas source for halogen gas or another dangerous gas is always present. The source of halogen gas does not have to supply pure F ₂ or HCl, but, as is customary in the prior art, noble gas is already added to reduce the dangers associated with the halogen gas, ie the halogen gas source 4 supplies a mixture of halogen gas and a noble gas , e.g. B. He.

Gemäß der vorstehenden Beschreibung führt nur eine einzige ge meinsame Leitung L5 von den Gasquellen 1, 2, 3 und 4 zur Laser röhre 10. Damit reduziert sich der Installationsaufwand erheb lich im Vergleich zur Lösung gemäß dem Stand der Technik (Fig. 1). Auch die Mobilität des Lasers wird aufgrund der ein zigen gemeinsamen Zuleitung zur Laserröhre erheblich verbes sert.As described above, only a single common line L5 leads from gas sources 1 , 2 , 3 and 4 to laser tube 10 . This significantly reduces the installation effort compared to the solution according to the prior art ( FIG. 1). The mobility of the laser is also considerably improved due to the only common supply line to the laser tube.

Die gezeigte Anordnung gemäß Fig. 2 ermöglicht es, die Halogen gasquelle in einfacher Weise ganz aus dem Versorgungssystem herauszunehmen. Dies ist insbesondere bei bestimmten Anwendun gen im Bereich der Medizin, wo der Laser häufig nur ein einzi ges Mal anfänglich gefüllt wird, aus Sicherheitsgründen vor teilhaft.The arrangement shown in FIG. 2 makes it possible to remove the halogen gas source completely from the supply system in a simple manner. This is particularly advantageous for certain applications in the field of medicine, where the laser is often initially filled only once, for safety reasons.

Mit der gezeigten Anordnung ist es möglich, zu gewährleisten, daß im Anschluß an eine Befüllung der Laserröhre mit frischem Gas keine Zuleitung zum Laser unter hohem Halogengasdruck steht. Vielmehr kann die Leitung L5 permanent unter höherem Druck eines ungefährlichen Edelgases stehen, wobei gleichzeitig auch eine zuverlässige und sichere Leckprüfung des besonders kritischen Bereiches zwischen der Gasversorgungsvorrichtung 12 und dem Lasergehäuse 11 vorgenommen werden kann. Hierzu wird die gemeinsame Zuleitung L5 unter erhöhten Edelgasdruck gesetzt und mittels einer Druckmeßeinrichtung der Abfall des Druckes über der Zeit ermittelt. Das Ergebnis kann einem Rechner einge geben werden, der den Druckabfall mit einem maximal zulässigen Abfall-Sollwert vergleicht und bei zu starkem Druckabfall in der Leitung L5 ein entsprechendes Alarmsignal abgibt. With the arrangement shown, it is possible to ensure that, following a filling of the laser tube with fresh gas, there is no supply line to the laser under high halogen gas pressure. Rather, the line L5 can be permanently under higher pressure of a non-hazardous noble gas, and at the same time a reliable and safe leak test of the particularly critical area between the gas supply device 12 and the laser housing 11 can be carried out. For this purpose, the common supply line L5 is placed under increased inert gas pressure and the drop in pressure over time is determined by means of a pressure measuring device. The result can be entered into a computer which compares the pressure drop with a maximum allowable drop setpoint and emits a corresponding alarm signal in line L5 if the pressure drop is too great.

Auch wenn in der gemeinsamen Zuleitung L5 ein Leck auftritt, ist dies relativ ungefährlich, da dafür Sorge getragen werden kann, daß nur Edelgase ausströmen.Even if there is a leak in the common supply line L5, this is relatively harmless because care is taken can only leak noble gases.

Während des Befüllens der Laserröhre 10 mit den verschiedenen Gasen wird die einzige gemeinsame Zuleitung L5 nur während der Halogengasfüllphase von Halogengas durchströmt. Das Befüllen des Lasers erfolgt dabei mit Unterdruck in der Laserröhre, d. h. es wird zunächst die Laserröhre 10 evakuiert und sodann Halo gengas durch Öffnen des Ventils V4 bei geschlossenen Ventilen V1 bis V3, über die Leitung L5 und das Ventil V5 in die Laser röhre 10 überführt. Da dabei Unterdruck besteht, kann sogar im Falle eines Lecks in der Leitung L5 kein Halogengas austreten. Anschließend wird die Leitung L5 automatisch beim Befüllen der Laserröhre 10 mit den weiteren Edelgasen aus den Edelgasquellen 1, 2, 3 von Halogengas gespült und nach dem Befüllen der Laser röhre 10 mit den Edelgasen bleibt die Leitung L5 unter Edel gasdruck stehen.During the filling of the laser tube 10 with the various gases, the only common feed line L5 is only flowed through by halogen gas during the halogen gas filling phase. The filling of the laser takes place with negative pressure in the laser tube, ie first the laser tube 10 is evacuated and then halogen gas by opening valve V4 with valves V1 to V3 closed, transferred via line L5 and valve V5 into laser tube 10 . Since there is negative pressure, even in the event of a leak in line L5, no halogen gas can escape. Then the line L5 is automatically flushed with halogen gases when filling the laser tube 10 with the other noble gases from the noble gas sources 1 , 2 , 3 and after filling the laser tube 10 with the noble gases, the line L5 remains under noble gas pressure.

Fig. 3 zeigt einen Teil der Anlage gemäß Fig. 2. Einander ent sprechende Bauteile sind mit gleichen Bezugszeichen versehen. In Fig. 3 ist nur die Halogengasquelle 4 dargestellt, während die übrigen Gasquellen (Edelgase) weggelassen sind. In der Leitung L4, die von der Halogengasquelle 4 wegführt, ist eine Blende B angeordnet, d. h. eine Verengung im Strömungsquer schnitt in der Leitung L4. Mit der Blende B kann die Sicherheit der Gasversorgungsanlage weiter erhöht werden. Hierzu wird der Strömungsquerschnitt Q_B der Blende B so gewählt, daß er sehr klein ist im Vergleich zum effektiven Strömungsquerschnitt Q_V5 des Ventils V5 und der Leitung L5. Aufgrund der so gewählten Strömungsquerschnitte der Blende B einerseits und des Ventils V5 andererseits wird während einer Füllung der unter Unterdruck stehenden Laserröhre 10 mit Halogengas gewährleistet, daß auch bei defekter Leitung L5 kein Halogen in die äußere Atmosphäre austritt. Durch die Blende B wird nämlich zwangsweise die nachströmende Halogengasmenge so weit begrenzt, daß die Leitung L5 auch während des Beschickens der Laserröhre 10 mit Lasergas unter Unterdruck steht. Fig. 3 shows part of the system of FIG. 2. Mutually speaking components are provided with the same reference numerals. In Fig. 3 only the halogen gas source 4 is shown, while the other gas sources (noble gases) are omitted. In the line L4, which leads away from the halogen gas source 4 , an orifice B is arranged, that is to say a narrowing in the flow cross section in the line L4. Cover B can further increase the security of the gas supply system. For this purpose, the flow cross section Q _{B of} the orifice B is selected so that it is very small in comparison to the effective flow cross section Q _{V5 of} the valve V5 and the line L5. Due to the flow cross-sections of the orifice B on the one hand and the valve V5 on the other hand, when the laser tube 10, which is under negative pressure, is filled with halogen gas, it is ensured that even if the line L5 is defective, no halogen escapes into the external atmosphere. The orifice B inevitably limits the amount of halogen gas flowing in so far that the line L5 is under negative pressure even when the laser tube 10 is loaded with laser gas.

Fig. 4 zeigt eine Ausgestaltung der Gasversorgungsanlage gemäß den Fig. 2 und 3, wobei wieder nur die besonders interessieren den Teile dargestellt sind, hier die Gasquelle 4 für Halogen gas, während die weiteren Gasquellen nicht im einzelnen darge stellt sind. Die Fig. 4 ist auch wie Fig. 3 ergänzt zu denken. Fig. 4 shows an embodiment of the gas supply system according to FIGS. 2 and 3, again only the parts of particular interest are shown, here the gas source 4 for halogen gas, while the other gas sources are not shown in detail Darge. FIG. 4 is to think supplemented as FIG. 3.

Gemäß Fig. 4 ist eine Steuereinheit 13 in der Nähe der Gasquel len 1, 2, 3 und 4 in dem Gehäuse der Gasversorgungsvorrichtung 12 angeordnet. Die Steuereinheit 13 steuert die Ventile V1, V2, V3 und V4. Die Ventilsteuereinheit kann in die Gesamt-Steuer einheit des Excimerlasers integriert werden, insbesondere eine im Stand der Technik bekannte Datenring-Steuerung (LAN) des Excimerlasers.According to FIG. 4, a control unit 13 in the vicinity of the Gasquel len 1, 3 and 4 are arranged in the housing of the gas supply device 12 2. The control unit 13 controls the valves V1, V2, V3 and V4. The valve control unit can be integrated into the overall control unit of the excimer laser, in particular a data ring control (LAN) of the excimer laser known in the prior art.

Mittels der Steuereinheit 13, die entweder einen eigenen Rech ner aufweist oder an einem zentralen Rechner angeschlossen ist, der auch die übrigen Funktionen des Lasers steuert, konnen alle oben beschriebenen Vorgänge automatisiert werden, also insbe sondere das Öffnen der Ventile und zwar jeweils bis zu bestimm ten vorgegebenen Partialdrucken der einzelnen Gase. Eine Druck messung erfolgt mit einem Drucksensor (nicht dargestellt) des Lasergasreservoirs. Die Steuereinheit 13 kann somit nacheinan der die einzelnen Ventile V1 bis V4 öffnen und es wird jeweils der erzeugte Partialdruck des betreffenden Gases auf einen Sollwert eingestellt (durch gesteuertes Öffnen des jeweiligen Regelventils V1 bis V4).By means of the control unit 13 , which either has its own computer or is connected to a central computer which also controls the other functions of the laser, all of the processes described above can be automated, in particular the opening of the valves in particular, each up to a certain point specified partial pressures of the individual gases. Pressure is measured using a pressure sensor (not shown) in the laser gas reservoir. The control unit 13 can thus open the individual valves V1 to V4 one after the other and the partial pressure of the gas in question is set to a desired value (by controlled opening of the respective control valve V1 to V4).

Mit dem Drucksensor 14 ist es auch möglich, die gesamte Anlage weitgehend auf Dichtigkeit zu überwachen. Hierzu wird die gesamte Anlage mittels eines einzigen Ventils einer Edelgas quelle, z. B. dem Ventil V1, unter hohen Druck gesetzt, sodann das Ventil geschlossen und der Druckabfall mittels des Druck sensors 14 gemessen und im Rechner ausgewertet. Ist ein Leck vorhanden, fällt der Druck relativ schnell ab.With the pressure sensor 14 , it is also possible to monitor the entire system largely for leaks. For this purpose, the entire system by means of a single valve of an inert gas source, for. B. the valve V1, placed under high pressure, then the valve closed and the pressure drop measured by the pressure sensor 14 and evaluated in the computer. If there is a leak, the pressure drops relatively quickly.

Auf diese Weise läßt sich auch die Dichtigkeit insbesondere des kritischen Leitungsbereiches zur Halogengasquelle 4 überwachen. Dazu wird das Hauptventil der Halogengasflasche manuell ge schlossen. Das Ventil V4 wird danach geöffnet und dann wird die gesamte Anlage unter Edelgasdruck gesetzt und anschließend der Druckabfall beobachtet.In this way, the tightness, in particular of the critical line area to the halogen gas source 4, can also be monitored. To do this, the main valve of the halogen gas bottle is closed manually. The valve V4 is then opened and then the entire system is pressurized with inert gas and the pressure drop is then observed.

Claims

1. Excimer laser with a gas supply device ( 12 ) for filling a laser tube ( 10 ) arranged in a housing ( 11 ) of the laser with halogen gas and other gases from pressurized gas sources ( 1 , 2 , 3 , 4 ) via lines (L1, L2 , L3, L4) which can be connected to the laser tube ( 10 ), characterized in that at least the line (L4) of a halogen gas source ( 4 ) and at least one line (L1, L2, L3) of a non-halogen gas source ( 1 , 2 , 3 ) in the gas supply device ( 12 ), which is arranged remote from the housing ( 11 ) of the laser, via Ven tile (V1, V2, V3, V4) open into a common line (L5) leading to the laser tube ( 10 ) leads.

2. Excimer laser according to claim 1, characterized in that the common line leading to the laser tube ( 10 ) (L5) has a shut-off valve (V5), which is arranged in particular in the housing ( 11 ) of the laser.

3. Excimer laser according to one of claims 1 or 2, characterized in that the common, to the laser tube ( 10 ) leading line (L5) is a single line, in which all of the gas sources ( 1 , 2 , 3 , 4 ) outgoing lines (L1, L2, L3, L4) open outside the housing ( 11 ) of the laser.

4. Excimer laser according to one of claims 2 or 3, characterized in that in the halogen gas source ( 4 ) outgoing halogen gas line (L4) an aperture (B) is arranged, the cross section (Q _B ) is small compared to the effective cross section (Q _V5 ) of the valve (V5) in the common line leading to the laser tubes ( 10 ).

5. Excimer laser according to one of the preceding claims, characterized in that the common line leading to the laser tube ( 10 ) (L5) is equipped with a pressure sensor ( 14 ).

6. Excimer laser according to one of the preceding claims, characterized in that a valve control unit ( 13 ) for adjusting the partial pressures of the gases is provided on or in the gas supply device ( 12 ).

7. A method for filling the laser tube of an excimer laser according to one of the preceding claims, characterized in that first the laser tubes ( 10 ) via the common line (L5) with halogen gas at a pressure lower than atmospheric pressure and then filled with noble gas.