DE4134143A1 - Verfahren zur herstellung von flachdruckformen und danach hergestellte flachdruckformen - Google Patents
Verfahren zur herstellung von flachdruckformen und danach hergestellte flachdruckformenInfo
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Description
Die Erfindung betrifft ein Verfahren zur Herstellung von
Flachdruckformen aus aufgerauhten, eloxierten und hydro
philierten Flachdruckplatten, die strahlungsempfindlich
beschichtet, belichtet und in einer wäßrig-alkalischen
Lösung entwickelt werden, und danach hergestellte Flach
druckformen.
Als vorsensibilisierte Flachdruckplatten werden Alumi
niumträger in Band-, Platten- oder Folienform verwendet,
die mit positiv oder negativ arbeitenden strahlungsemp
findlichen Beschichtungen versehen sind.
Folgende strahlungsempfindlichen Beschichtungen werden
üblicherweise hierfür eingesetzt:
- - positiv oder negativ arbeitende Diazoverbindungen,
- - negativ arbeitende Mischungen aus olefinisch unge sättigten Verbindungen und Photoinitiatoren und
- - positiv arbeitende Mischungen mit Photohalbleitern.
Als Filmbildner enthalten diese Beschichtungen Polymere
mit funktionellen Einheiten, die die Entwicklung der
Beschichtungen nach der bildmäßigen Belichtung und
gegebenenfalls weiteren Verarbeitungsschritten, wie
Temperung oder Betonerung, in den wäßrig-alkalischen
Entwicklerlösungen sicherstellen. Beispiele solcher
funktioneller Einheiten sind -COOH, -SO3H, -PO3H2, -SH,
-OH und -NH2.
Als alkalische Komponenten enthalten die Entwickler
lösungen neben weiteren Inhaltsstoffen, wie Tensiden,
Hydrotropen, Lösemitteln, Komplexbildnern etc., in der
Regel Alkalisilikate. Silikate besitzen den Vorteil, daß
sie die im Eloxierschritt aufgebaute Al2O3-Schicht der
Trägeroberfläche deutlich weniger als andere alkalische
Agenzien angreifen.
Dennoch treten in der Praxis Probleme auf, und zwar ins
besondere derart, daß das auf der Vorder- und Rückseite
des Aluminiumträgers gebildete Al2O3 im Entwicklungs
prozeß einem zum Teil starken Abbau unterliegt. Dabei
entsteht insbesondere auf der Rückseite des Aluminium
trägers, die nur einen relativ dünnen Oxidbelag auf
weist, ein gelartiger Belag, der sich auf den Abquetsch
walzen der Entwicklungsgeräte ansammelt und von dort auf
die entwickelten Flachdruckformen rückübertragen werden
kann. Um die hieraus resultierenden Störungen im Druck
prozeß zu vermeiden, ist es daher unvermeidlich, dieser
Verschmutzung durch regelmäßige Reinigung der Entwick
lungsgeräte vorzubeugen.
Aufgabe der Erfindung ist es, ein Verfahren der eingangs
beschriebenen Art so zu verbessern, daß der Abbau des
Oxidbelags auf der Vorder- und Rückseite des Aluminium
trägers und die dadurch bedingten Verschmutzungen der
Druckformen sowie der Entwicklungsgeräte vermieden bzw.
wirksam reduziert werden.
Diese Aufgabe wird erfindungsgemäß dadurch gelöst, daß
die Flachdruckplatte nach der Hydrophilierung mit einer
Salzlösung eines zwei- oder mehrwertigen Kations in
einer Konzentration von mindestens 0,02 mol/l behandelt
wird.
Kationkonzentrationen unterhalb von 0,02 mol/l - wie sie
beispielsweise in hartem Wasser vorliegen - zeigen keine
hinreichende Wirksamkeit in der Verbesserung der Alkali
stabilität der Eloxalschicht. Der bevorzugte Kon
zentrationsbereich liegt zwischen 0,04 und 0,4 mol/l.
Als besonders geeignete Kationen sind die zwei- bzw.
dreiwertigen Ionen der Elemente der 2. und 3. Haupt
gruppe und der 3. Nebengruppe des Periodensystems zu
nennen. Jedoch zeigen auch die zwei- bzw. dreiwertigen
Kationen von V, Cr, Mn, Fe, Co, Ni, Zn, Sn und Pb eine
gute Wirksamkeit.
Als Anionen eignen sich grundsätzlich sowohl anorgani
sche als auch organische, mono- wie polyvalente Anionen,
wobei die Auswahl insbesondere von der Löslichkeit der
entsprechenden Salze bestimmt wird.
Die Behandlung der Rückseite des Aluminiumträgers mit
der Salzlösung erfolgt bevorzugt bei einer Temperatur
zwischen 20 und 90°C in Zeiten zwischen 1 Sekunde und 1
Minute.
Die Applizierung der Salzlösung erfolgt mittels der üb
lichen Techniken, z. B. Sprühen, Spülen oder Tauchen,
am einfachsten nach der Hydrophilierung der Vorderseite
und vor Aufbringung der lichtempfindlichen Beschichtung.
Die Spülung der Rückseite kann auch nach dem Aufbringen
der lichtempfindlichen Beschichtung vorgenommen werden.
Eine Trocknung nach der Behandlung mit der Salzlösung
bei Temperaturen zwischen 50 und 250°C kann vorteilhaft
sein.
Die weitere Ausgestaltung des Verfahrens ergibt sich aus
den Verfahrensmaßnahmen der Ansprüche 10 bis 16.
Für die sonstigen Behandlungsschritte der Trägeroberflä
che, wie Beizung, Aufrauhung, Zwischenbeizung und
Eloxierung, ergeben sich in bezug auf den Stand der
Technik keine weiteren Besonderheiten.
Die nach dem erfindungsgemäßen Verfahren hergestellten
Flachdruckformen zeichnen sich dadurch aus, daß der Alu
miniumträger der Flachdruckplatte mit einem Kopierlack
film mit einem Filmgewicht von 1 bis 3 g/m2 beschichtet
ist und daß der Kopierlackfilm durch Trocknen einer
Kopierlacklösung gebildet wird. Die Ausgestaltung weite
rer Flachdruckformen nach der Erfindung ergibt sich aus
den Ansprüchen 18 bis 20.
Der Vorteil des Verfahrens und der danach hergestellten
Flachdruckformen liegt darin, daß durch die Behandlung
mit der Salzlösung der Angriff der wäßrig-alkalischen
Entwicklerlösung auf die Oxidschicht auf der Vorder- und
Rückseite des Trägermaterials unterbunden wird.
Die nachfolgenden Beispiele erläutern im Detail den
Gegenstand der Erfindung und sind den Vergleichsbeispie
len gegenübergestellt.
Ein walzblankes Aluminiumband der Stärke 0,3 mm wird in
NaOH gebeizt, in Salzsäure elektrolytisch aufgerauht
(Rz-Wert nach DIN 4768: 5,0 µm), in Schwefelsäure elo
xiert (Oxidgewicht auf der Vorderseite 4,0 g/m2, am Rand
der Rückseite 1,7 g/m2, in der Mitte der Rückseite
0,3 g/m2) und mit Polyvinylphosphonsäurelösung entspre
chend der DE-B 16 21 478 hydrophiliert. Danach wird das
Aluminiumband mit verschiedenen 0,02- bis 0,4molaren
Salzlösungen (siehe Tabelle 1) 1 bis 60 s bei 20 bis
90°C besprüht und dann mit einer Kopierlacklösung
beschichtet, die folgende Bestandteile enthält:
- a) ein Kresol-Formaldehyd-Novolakharz,
- b) ein Veresterungsprodukt eines 1,2-Naphthochinon-2- diazid-4- oder -5-sulfonylchlorids mit einem Phe nolderivat,
- c) eine bei Bestrahlung eine starke Säure bildende Verbindung,
- d) ein kationischer Farbstoff und
- e) ein Lösemittel oder Lösemittelgemisch mit einem Siedepunkt kleiner 200°C.
In einem speziellen Ausführungsbeispiel enthält die
Kopierlacklösung folgende Bestandteile:
5,00 Gew.-% Kresol-Formaldehyd-Novolakharz mit
einer Hydroxylzahl von 420 nach DIN
53 783/53 240 und einem Gewichtsmittelwert
nach GPC von 10 000
(Polystyrol-Standard),
1,20 Gew.-% Veresterungsprodukt von 3 mol 1,2- Naphthochinon-2-diazid-5-sulfonylchlorid und 1 mol 2,3,4-Trihydroxybenzophenon,
0,15 Gew.-% 1,2-Naphthochinon-2-diazid-4-sulfonylchlorid,
0,05 Gew.-% Victoriareinblau (C. I. 44 045) und
ad 100 Gew.-% eines Lösemittelgemisches aus Methylethylketon und Propylenglykolmonomethylether (40/60).
1,20 Gew.-% Veresterungsprodukt von 3 mol 1,2- Naphthochinon-2-diazid-5-sulfonylchlorid und 1 mol 2,3,4-Trihydroxybenzophenon,
0,15 Gew.-% 1,2-Naphthochinon-2-diazid-4-sulfonylchlorid,
0,05 Gew.-% Victoriareinblau (C. I. 44 045) und
ad 100 Gew.-% eines Lösemittelgemisches aus Methylethylketon und Propylenglykolmonomethylether (40/60).
Der Kopierlackfilm wird eine Minute lang bei 125°C ge
trocknet. Das Filmgewicht beträgt 1 bis 3 g/m2, insbe
sondere 2,4 g/m2.
Die vorsensibilisierten Flachdruckplatten werden zu
Druckformen verarbeitet. Die Platten werden in einem Va
kuum-Kontaktkopierrahmen durch Evakuieren mit einem
Testbild kontaktiert, mit einer 5-kW-metallhalogenid
dotierten Quecksilberdampflampe im Abstand von 110 cm so
belichtet, daß nach Entwicklung eine offene Stufe 4 im
UGRA-Offset-Testkeil resultiert, was einer Hoch
belichtung zur Filmkanteneliminierung entspricht.
Danach wird eine Minute lang bei 25°C in einem Entwick
lungsgerät (VA 86 der Hoechst AG) mit einem Kaliumsili
kat-Entwickler, der einen Gesamtalkaligehalt von 0,95
mol/l aufweist, entwickelt.
Es erfolgt eine Beurteilung durch Augenscheinnahme, in
wieweit es beim Entwicklungsprozeß zu einem Abbau der
Oxidschicht des Trägermaterials kommt. Visuell macht
sich der Abbau in Form eines weißen, streifigen Belags
auf der Rückseite des Trägermaterials bemerkbar.
Das Bewertungsschema in der nachfolgenden Tabelle 1 lau
tet wie folgt:
(+)=starker Oxidabbau
(○)=leichter Oxidabbau (d. h. vor allem im Randbereich der Rückseite)
(-)=Oxidabbau nicht feststellbar
(○)=leichter Oxidabbau (d. h. vor allem im Randbereich der Rückseite)
(-)=Oxidabbau nicht feststellbar
Eine in Salpetersäure elektrolytisch aufgerauhte (Rz-
Wert nach DIN 4768: 3,2 µm), in Schwefelsäure eloxierte
(Oxidgewicht auf der Vorderseite 2,0 g/m2, am Rand der
Rückseite 1,2 g/m2, in der Mitte der Rückseite 0,2 g/m2)
Aluminiumfolie der Stärke 0,3 mm wird mit Polyvinyl
phosphonsäure entsprechend der DE-B 16 21 478 hydrophi
liert, 1 bis 60 s bei verschiedenen Temperaturen (siehe
Tabelle 2) in eine Ca-Salzlösung mit mehr als 0,02
mol/l, z. B. in 0,15molare CaCl2-Lösung, getaucht, 15 s
bei 120°C getrocknet und dann mit einer Kopierlacklö
sung beschichtet, die folgende Bestandteile enthält:
- a) ein Kresol-Formaldehyd-Novolakharz,
- b) ein Veresterungsprodukt eines 1,2-Naphthochinon-2- diazid-4- oder -5-sulfonylchlorids mit einem Phe nolderivat,
- c) eine bei Bestrahlung eine starke Säure bildende Verbindung,
- d) einen kationischen Farbstoff und
- e) einen Kieselsäurefüllstoff mit einer mittleren Korngröße von 3 bis 5 µm,
- f) ein Tensid auf Basis von Dimethylsiloxan- und Ethy lenoxideinheiten und
- g) ein Lösemittel oder Lösemittelgemisch mit einem Siedepunkt kleiner 200°C.
In einem speziellen Ausführungsbeispiel enthält die
Kopierlacklösung folgende Bestandteile:
4,80 Gew.-% Kresol-Formaldehyd-Novolakharz mit
einer Hydroxylzahl von 420 nach DIN
53 783/53 240 und einem Gewichtsmittelwert
nach GPC von 10 000 (Poly
styrol-Standard),
1,05 Gew.-% Veresterungsprodukt von 3 mol 1,2- Naphthochinon-2-diazid-4-sulfonylchlorid und 1 mol 2,3,4-Trihydroxybenzophenon,
0,05 Gew.-% 2-(4-Styrylphenyl)-4,6-bis-trichlor methyl-s-triazin,
0,10 Gew.-% Kristallviolett (C. I. 42 555) und
1,00 Gew.-% Kieselsäurefüllstoff mit einer mittleren Korngröße von 3,9 µm,
0,10 Gew.-% Tensid auf Basis von Dimethylsiloxan- und Ethylenoxideinheiten,
ad 100 Gew.-% eines Lösemittelgemisches aus Tetrahydrofuran und Propylenglykol monomethylether (55/45).
1,05 Gew.-% Veresterungsprodukt von 3 mol 1,2- Naphthochinon-2-diazid-4-sulfonylchlorid und 1 mol 2,3,4-Trihydroxybenzophenon,
0,05 Gew.-% 2-(4-Styrylphenyl)-4,6-bis-trichlor methyl-s-triazin,
0,10 Gew.-% Kristallviolett (C. I. 42 555) und
1,00 Gew.-% Kieselsäurefüllstoff mit einer mittleren Korngröße von 3,9 µm,
0,10 Gew.-% Tensid auf Basis von Dimethylsiloxan- und Ethylenoxideinheiten,
ad 100 Gew.-% eines Lösemittelgemisches aus Tetrahydrofuran und Propylenglykol monomethylether (55/45).
Der Kopierlackfilm wird 1 Minute bei 125°C getrocknet.
Das Filmgewicht beträgt 1 bis 3 g/m2, insbesondere
1,8 g/m2.
Die Verarbeitung der gefertigten Flachdruckplatten mit
einer umkehrbaren Positivschicht geschieht folgender
maßen:
Belichtung in einem Kopierrahmen wie in den Bei
spielen unter Punkt 1) durch eine Testvorlage, 60 s
lang,
1minütige Temperung bei 135°C in einem Durchlauf ofen,
Abkühlung durch Umluftkühlung, 10 s lang,
Ausbelichtung ohne Vorlage mit UV-A-Leuchtstoff lampen einer Strahlungsleistung von 240 Watt, 30 s lang in einem Durchlaufgerät,
Entwicklung in einem Gerät wie in den Beispielen unter Punkt 1) bei einer Verarbeitungsgeschwin digkeit der Druckplatten von 0,5 m/min.
1minütige Temperung bei 135°C in einem Durchlauf ofen,
Abkühlung durch Umluftkühlung, 10 s lang,
Ausbelichtung ohne Vorlage mit UV-A-Leuchtstoff lampen einer Strahlungsleistung von 240 Watt, 30 s lang in einem Durchlaufgerät,
Entwicklung in einem Gerät wie in den Beispielen unter Punkt 1) bei einer Verarbeitungsgeschwin digkeit der Druckplatten von 0,5 m/min.
Zur Entwicklung wird ein Kaliumsilikat-Entwickler ent
sprechend der DE-A 40 27 299 mit einem Gesamtalkalige
halt von 1,3 mol/l und einem Gehalt an Polyglykol-1000-
dicarbonsäure von 0,6 Gew.-% eingesetzt.
Untersucht wird neben dem Kriterium Oxidabbau, der wie
in den Beispielen unter Punkt 1) bewertet wird, das
kopiertechnische Verhalten, d. h. Lichtempfindlichkeit,
Wiedergabe, Farbschleier, Unterstrahlungsanfälligkeit,
und das drucktechnische Verhalten, d. h. Freilaufen, Was
serbedarf, Auflage, der so gefertigten Flachdruck
platten.
Ein gemäß den Beispielen unter Punkt 1) gefertigter
Flachdruckplattenträger wird nach der Hydrophilierung
mit einer Lösung beschichtet, die folgende Bestandteile
enthält:
- a) eine Verbindung mit mindestens einer olefi nisch ungesättigten Doppelbindung,
- b) ein polymeres, alkalilösliches Bindemittel mit einer Säurezahl größer 10,
- c) einen Photoinitiator,
- d) einen Farbstoff und
- e) ein Lösemittel oder Lösemittelgemisch mit einem Siedepunkt kleiner 200°C.
In einem speziellen Ausführungsbeispiel enthält die
Lösung folgende Bestandteile:
3,00 Gew.-% Trimethylolpropantriacrylat,
10,00 Gew.-% Copolymer aus Methylmethacrylat und Methacrylsäure mit einer Säurezahl von 190 und einem Gewichtsmittelwert nach GPC von 50 000 (Polystyrol-Standard),
0,05 Gew.-% Dibenzalaceton,
0,05 Gew.-% 9-Phenylacridin,
0,10 Gew.-% eines Azofarbstoffs aus 2,4-Dinitro- 6-Chlor-Benzoldiazoniumchlorid und 2-Methoxy-5-Acetylamino-N-Cyano ethyl-N-Hydroxyethyl-Anilin und
ad 100 Gew.-% Ethylenglykolmonomethylether.
10,00 Gew.-% Copolymer aus Methylmethacrylat und Methacrylsäure mit einer Säurezahl von 190 und einem Gewichtsmittelwert nach GPC von 50 000 (Polystyrol-Standard),
0,05 Gew.-% Dibenzalaceton,
0,05 Gew.-% 9-Phenylacridin,
0,10 Gew.-% eines Azofarbstoffs aus 2,4-Dinitro- 6-Chlor-Benzoldiazoniumchlorid und 2-Methoxy-5-Acetylamino-N-Cyano ethyl-N-Hydroxyethyl-Anilin und
ad 100 Gew.-% Ethylenglykolmonomethylether.
Der Kopierlackfilm wird zwei Minuten lang bei 125°C ge
trocknet und besitzt Schichtgewichte im Bereich von 1
bis 5 g/m2, insbesondere 3,0 g/m2.
Danach wird die Rückseite der Trägerfolie mit Ca-Salzlö
sungen, z. B. Ca(NO3)2-Lösungen verschiedener Konzentra
tionen (Tabelle 3), bei 20 bis 90°C zwischen 1 und 60 s
besprüht und dann auf die Vorderseite als Sauerstoff-
Nachdiffusionssperrschicht folgende Lösung aufgebracht:
2,20 Gew.-% Polyvinylalkohol mit einem Rest
acetylgruppengehalt von 10,7%, dessen
4%ige wäßrige Lösung eine Viskosität
von 8 mPas besitzt (Mowiol 8-88
der Hoechst AG),
0,02 Gew.-% sec.-Natrium-Alkansulfonat (Hostapur SAS der Hoechst AG),
0,02 Gew.-% Chloracetamid und
ad 100 Gew.-% VE-Wasser.
0,02 Gew.-% sec.-Natrium-Alkansulfonat (Hostapur SAS der Hoechst AG),
0,02 Gew.-% Chloracetamid und
ad 100 Gew.-% VE-Wasser.
Nach 1minütiger Trocknung bei 125°C besitzt die Sperr
schicht ein Schichtgewicht von 2,0 g/m2.
Die so erhaltenen vorsensibilisierten Flachdruckplatten
werden wie in den Beispielen unter Punkt 1) 35 s belich
tet und dann in einem Entwicklungsgerät wie in den Bei
spielen unter Punkt 1) mit einer vorgeschalteten VE-Was
ser-Spülung der Vorderseite zur Entfernung der PVAl-
Deckschicht bei einer Verarbeitungsgeschwindigkeit von
0,6 m/min in einem Kaliumsilikat-Entwickler mit einem
Gesamtalkaligehalt von 0,55 mol/l und einem Gehalt an
nichtionischem Netzmittel (Kokosfettalkohol-Polyoxy
ethylenether mit ca. 8 Oxyethyleneinheiten (Genapol C080
der Hoechst AG) von 1 g/l entwickelt.
Der Oxidabbau wird wiederum wie in den Beispielen unter
Punkt 1) bewertet.
Mit einer Reihe von Einstellungen wird ein Entwick
lererschöpfungstest bis zu einer Beladung von 3 m2
Druckplatten/1 l Entwickler durchgeführt. Bei Ver
gleichsbeispiel 3-7 zeigt sich danach ein starker und
bei 3-8 ein leichter Belag auf den Abquetschwalzen, wäh
rend bei Beispiel 3-3 kein Belag sichtbar ist.
Ein wie in den Beispielen unter Punkt 1) bearbeiteter
Flachdruckplattenträger wird nach der Hydrophilierung
verschieden lang (Tabelle 4) in 0,02- bis 0,4molare Sr-
Salzlösung getaucht und dann mit einer Lösung beschich
tet, die folgende Bestandteile enthält:
- a) einen organischen Photoleiter,
- b) ein polymeres, alkalilösliches Bindemittel,
- c) einen Farbstoff und
- d) ein Lösemittel oder Lösemittelgemisch mit einem Siedepunkt kleiner 100°C.
In einem speziellen Ausführungsbeispiel enthält die Be
schichtungslösung folgende Bestandteile:
5,00 Gew.-% 2,5-Bis(4′-diethylaminophenyl)-
1,3,4-oxadiazol,
5,00 Gew.-% Kresol-Formaldehyd-Novolakharz (entsprechend den Beispielen 1),
0,01 Gew.-% Rhodamin FB (C. I. 45 170) und
ad 100 Gew.-% Ethylenglykolmonomethylether.
5,00 Gew.-% Kresol-Formaldehyd-Novolakharz (entsprechend den Beispielen 1),
0,01 Gew.-% Rhodamin FB (C. I. 45 170) und
ad 100 Gew.-% Ethylenglykolmonomethylether.
Die Schichten werden zwei Minuten lang bei 125°C ge
trocknet und haben Schichtgewichte im Bereich von 3 bis
8 g/m2, insbesondere 5 g/m2.
Die so gefertigten, nach dem elektrophotographischen
Prinzip arbeitenden Flachdruckplatten werden im Dunkeln
mit einer Corona auf -500 V aufgeladen, in Projektion
mit 8 Halogenlampen mit je 500 Watt 30 s lang belichtet.
Das entstandene latente Ladungsbild wird mit Hilfe einer
Magnetwalze mit einem handelsüblichen Toner/Carrier-
Gemisch betonert. Nach Wärmefixierung des Toners werden
die Nichtbildstellen mit folgender Lösung entfernt:
Na₂SiO₃ | |
2,0 Gew.-% | |
NaOH | 0,2 Gew.-% |
Ethylenglykol | 15,0 Gew.-% |
n-Propanol | 10,0 Gew.-% |
Untersucht wird, inwieweit es beim 5 Minuten erfordern
den Entschichtungsvorgang zu einem Angriff auf die Oxid
schicht des Trägers kommt.
Tauchzeit in Sekunden | |
Oxidabbau | |
0 | |
+ | |
1 | - |
2 | - |
5 | - |
10 | - |
60 | - |
Wie der Tabelle 4 zu entnehmen ist, kommt es nur beim
Unterlassen einer Behandlung mit der Salzlösung zu einem
erheblichen Oxidabbau, während schon ein sehr kurzes
Eintauchen in die Salzlösung (1 s) den Oxidabbau unter
bindet.
Claims (20)
1. Verfahren zur Herstellung von Flachdruckformen aus
aufgerauhten, eloxierten und hydrophilierten Flach
druckplatten, die strahlungsempfindlich beschich
tet, belichtet und in einer wäßrig-alkalischen Lö
sung entwickelt werden, dadurch gekennzeichnet, daß
die Flachdruckplatte nach der Hydrophilierung mit
einer Salzlösung eines zwei- oder mehrwertigen
Kations in einer Konzentration von mindestens
0,02 mol/l behandelt wird.
2. Verfahren nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet,
daß die Applizierung der Salzlösung durch Sprühen,
Tauchen oder Spülen nach der Hydrophilierung der
Vorderseite und vor dem Aufbringen der strahlungs
empfindlichen Beschichtung auf die Flachdruckplatte
erfolgt.
3. Verfahren nach Anspruch 2, dadurch gekennzeichnet,
daß die Rückseite der Flachdruckplatte zugleich mit
der Vorderseite mit der Salzlösung gespült wird.
4. Verfahren nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet,
daß die Spülung der Rückseite der Flachdruckplatte
mit der Salzlösung nach der Hydrophilierung und
nach dem Aufbringen der strahlungsempfindlichen Be
schichtung erfolgt.
5. Verfahren nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet,
daß die Konzentration der Salzlösung im Bereich von
0,04 bis 0,4 mol/l liegt.
6. Verfahren nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet,
daß die Temperatur der Salzlösung 20 bis 90°C be
trägt.
7. Verfahren nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet,
daß die Einwirkzeit der Salzlösung zwischen einer
Sekunde und einer Minute liegt.
8. Verfahren nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet,
daß das Kation der Salzlösung ein Ion eines Ele
ments der 2. oder 3. Hauptgruppe oder der 3. Neben
gruppe des Periodensystems ist.
9. Verfahren nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet,
daß das Kation Calcium ist.
10. Verfahren nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet,
daß das Kation der Salzlösung ein Ion eines Ele
ments aus der Gruppe V, Cr, Mn, Fe, Co, Ni, Zn, Sn
und Pb ist.
11. Verfahren nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet,
daß die Hydrophilierung mit Polyvinylphosphonsäure
erfolgt.
12. Verfahren nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet,
daß die wäßrig-alkalische Lösung Silikat enthält.
13. Verfahren nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet,
daß die Salzlösung ein Salz aus der Gruppe MgCl2,
Mg(NO3)2, CaCl2, Ca(NO3)2, Ca-Acetat, SrCl2, Sr-
Lävulinat, BaCl2, Ba(NO3)2, ScCl3, Sc2(SO4)3,
LaCl3, La(NO3)3, TiCl3, VSO4, CrCl2, MnBr2, NiCl2,
CuCl2, ZnSO4, AlCl3, SnCl2 oder Pb-Acetat enthält.
14. Verfahren nach Anspruch 9, dadurch gekennzeichnet,
daß die Flachdruckplatte vor dem Aufbringen einer
strahlungsempfindlichen Beschichtung zwischen 1 und
60 s in eine mehr als 0,02molare Ca-Salzlösung bei
einer Temperatur im Bereich von 20 bis 90°C einge
taucht wird.
15. Verfahren nach Anspruch 9, dadurch gekennzeichnet,
daß die Rückseite der Flachdruckplatte nach dem
Aufbringen einer strahlungsempfindlichen Beschich
tung zwischen 1 und 60 s bei 20 bis 90°C mit einer
Ca-Salzlösung im Konzentrationsbereich vom 0,02 bis
0,40 mol/l besprüht wird.
16. Verfahren nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet,
daß eine Flachdruckplatte nach der Hydrophilierung
und vor dem Aufbringen einer strahlungsempfind
lichen Beschichtung 1 bis 60 s lang in eine 0,02-
bis 0,4molare Sr-Salzlösung eingetaucht wird.
17. Flachdruckform, hergestellt nach einem oder mehre
ren der Ansprüche 1 bis 16, dadurch gekennzeichnet,
daß der Aluminiumträger der Flachdruckplatte mit
einem Kopierlackfilm mit einem Filmgewicht von 1
bis 3 g/m2 beschichtet ist und daß der Kopierlack
film durch Trocknen einer Kopierlacklösung, die
folgende Bestandteile enthält, gebildet ist:
- a) ein Kresol-Formaldehyd-Novolakharz,
- b) ein Veresterungsprodukt eines 1,2-Naphtho chinon-2-diazid-4- oder -5-sulfonylchlorids mit einem Phenolderivat,
- c) eine bei Bestrahlung eine starke Säure bilden de Verbindung,
- d) einen kationischen Farbstoff und
- e) ein Lösemittel oder Lösemittelgemisch mit einem Siedepunkt kleiner 200°C.
18. Flachdruckform, hergestellt nach einem oder mehre
ren der Ansprüche 1 bis 16, dadurch gekennzeichnet,
daß der Aluminiumträger der Flachdruckplatte mit
einem Kopierlackfilm mit einem Filmgewicht von 1
bis 3 g/m2 beschichtet ist und daß der Kopierlack
film durch Trocknen einer Kopierlacklösung, die
folgende Bestandteile enthält, gebildet ist:
- a) ein Kresol-Formaldehyd-Novolakharz,
- b) ein Veresterungsprodukt eines 1,2-Naphtho chinon-2-diazid-4- oder -5-sulfonylchlorids mit einem Phenolderivat,
- c) eine bei Bestrahlung eine starke Säure bilden de Verbindung,
- d) einen kationischen Farbstoff und
- e) einen Kieselsäurefüllstoff mit einer mittleren Korngröße von 3 bis 5 µm,
- f) ein Tensid auf Basis von Dimethylsiloxan- und Ethylenoxideinheiten und
- g) ein Lösemittel oder Lösemittelgemisch mit einem Siedepunkt kleiner 200°C.
19. Flachdruckform, hergestellt nach einem oder mehre
ren der Ansprüche 1 bis 16, dadurch gekennzeichnet,
daß der Aluminiumträger der Flachdruckplatte mit
einem Kopierlackfilm, dessen Filmgewicht 1 bis
5 g/m beträgt, beschichtet ist und daß der Kopier
lackfilm durch Trocknen einer Kopierlacklösung, die
folgende Bestandteile enthält, gebildet ist:
- a) eine Verbindung mit mindestens einer olefi nisch ungesättigten Doppelbindung,
- b) ein polymeres, alkalilösliches Bindemittel mit einer Säurezahl größer 10,
- c) einen Photoinitiator,
- d) einen Farbstoff und
- e) ein Lösemittel oder Lösemittelgemisch mit einem Siedepunkt kleiner 200°C.
20. Flachdruckform, hergestellt nach einem oder mehre
ren der Ansprüche 1 bis 16, dadurch gekennzeichnet,
daß der Aluminiumträger der Flachdruckplatte mit
einer strahlungsempfindlichen elektrophotographi
schen Schicht, deren Schichtgewicht 3 bis 8 g/m2
beträgt, beschichtet ist und daß diese Schicht
durch Trocknen einer Beschichtungslösung, die fol
gende Bestandteile enthält, gebildet ist:
- a) einen organischen Photoleiter,
- b) ein polymeres, alkalilösliches Bindemittel,
- c) einen Farbstoff und
- d) ein Lösemittel oder Lösemittelgemisch mit einem Siedepunkt kleiner 100°C.
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