DE102004041610B4

DE102004041610B4 - Verfahren zur Herstellung einer Lithographie-Druckplatte

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Publication number: DE102004041610B4
Application number: DE102004041610A
Authority: DE
Inventors: Bernd Dr. Strehmel; Ulrich Fiebag; Tanja Ebhardt; Harald Dr. Baumann
Original assignee: Kodak Polychrome Graphics GmbH
Current assignee: Kodak Graphic Communications GmbH
Priority date: 2004-08-27
Filing date: 2004-08-27
Publication date: 2006-09-07
Anticipated expiration: 2024-08-28
Also published as: EP1794657A1; JP2008511031A; US20080092763A1; WO2006021447A1; CN101010641B; CN101010641A; US7569329B2; DE102004041610A1; EP1794657B1

Abstract

Verfahren zur Herstellung einer Lithographie-Druckplatte, umfassend
(a) Bereitstellen eines lithographischen Trägers;
(b) Aufbringen mindestens einer strahlungsempfindlichen Zusammensetzung auf den in Schritt (a) bereitgestellten Träger und Trocknen;
(c) bildweises Bestrahlen des in Schritt (b) erhaltenen Lithographie-Druckplattenvorläufers;
(d) Entfernen der Nicht-Bildbereiche von dem bildweise bestrahlten Vorläufer mit einem alkalischen Entwickler;
(e) Behandlung der in Schritt (d) erhaltenen Lithographie-Druckplatte mit einer Lösung, umfassend mindestens ein phosphonosubstituiertes Siloxan der allgemeinen Formel (I)

wobei
R¹ ausgewählt wird aus einem Wasserstoffatom, einer Hydroxygruppe, einem linearen oder verzweigten C₁-C₂₀ Alkyl-, linearen oder verzweigten C₂-C₂₀ Alkenyl-, linearen oder verzweigten C₁-C₂₀ Alkoxy-, linearen oder verzweigten C₂-C₂₀ Alkinyl-, Aryl-, Arylalkyl-, Alkylaryl-, Arylalkenyl-, Alkenylaryl-, Arylalkinyl-, Alkinylaryl-, Acyloxyrest, und einer Gruppe -CHR⁶-PO₃ ^2–,
R² und R³ unabhängig voneinander ausgewählt werden aus einem Wasserstoffatom, einem linearen oder verzweigten C₁-C₂₀ Alkyl-, linearen oder verzweigten C₂-C₂₀ Alkenyl-, linearen oder verzweigten C₂-C₂₀ Alkinyl-, Aryl-, Arylalkyl-, Alkylaryl-, Arylalkenyl-, Alkenylaryl-, Arylalkinyl-, und...

Description

Die Erfindung betrifft ein Verfahren zur Herstellung von Lithographie-Druckplatten, insbesondere ein Verfahren zur Behandlung einer entwickelten Lithographie-Druckplatte mit einem phosphonosubstituierten Siloxan. Außerdem betrifft die Erfindung Lithographie-Druckplatten, die nach diesem Verfahren hergestellt wurden.
Das Fachgebiet des lithographischen Drucks basiert auf der Nichtmischbarkeit von Öl und Wasser, wobei das ölige Material oder die Druckfarbe bevorzugt von dem Bildbereich und das Wasser oder Feuchtmittel bevorzugt von dem Nichtbildbereich angenommen wird. Wird eine angemessen hergestellte Oberfläche mit Wasser befeuchtet und dann eine Druckfarbe aufgetragen, nimmt der Hintergrund oder der Nichtbildbereich das Wasser an und weist die Druckfarbe ab, während der Bildbereich die Druckfarbe annimmt und das Wasser abweist. Die Druckfarbe auf dem Bildbereich wird dann auf die Oberfläche eines Materials, wie Papier, Gewebe und ähnliches, übertragen, auf welchem das Bild erzeugt werden soll. Im Allgemeinen wird die Druckfarbe aber zuerst auf ein Zwischenmaterial, „Drucktuch" genannt, übertragen, welches dann die Druckfarbe auf die Oberfläche des Materials überträgt, auf welchem das Bild erzeugt werden soll; man spricht hier von Offset-Lithographie.
Üblicherweise weist ein Lithographie-Druckplattenvorläufer (mit „Druckplattenvorläufer" wird hier eine beschichtete Druckplatte vor dem Belichten und Entwickeln bezeichnet) eine auf einen Träger – in der Regel auf Aluminiumbasis – aufgetragene, strahlungsempfindliche Beschichtung auf. Reagiert eine Beschichtung auf Strahlung so, dass der belichtete Teil so löslich wird, dass er beim Entwicklungsverfahren entfernt wird, wird die Platte als „positiv arbeitend" bezeichnet. Umgekehrt wird eine Platte als „negativ arbeitend" bezeichnet, wenn der belichtete Teil der Beschichtung durch die Strahlung gehärtet wird. In beiden Fällen nimmt der verbleibende Bildbereich Druckfarbe auf oder ist oleophil und nimmt der Nichbildbereich (Hintergrund) Wasser auf oder ist hydrophil. Die Differenzierung zwischen Bild- und Nichtbildbereichen erfolgt beim Belichten. Zum Entfernen der löslicheren Beschichtungsteile wird in der Regel ein wässriger stark alkalischer Entwickler verwendet.
Üblicherweise wird ein Träger, insbesondere ein Aluminiumträger mit Aluminiumoxidschicht, mit einer hydrophilen Schutzschicht (auch als „Interlayer" bezeichnet) versehen, bevor die strahlungsempfindliche Schicht aufgebracht wird. Diese hydrophile Schicht verbessert die Wasserannahme der (nichtdruckenden) Hintergrundbereiche einer Lithographie-Druckplatte bzw. verbessert die Abstoßung der Druckfarbe in diesen Bereichen. Eine geeignete Schutzschicht führt auch dazu, dass während des Entwickelns die löslichen Teile der strahlungsempfindlichen Schicht leicht und rückstandsfrei vom Träger entfernt werden, so dass saubere Hintergrundbereiche beim Drucken erhalten werden. Ohne ein solches rückstandsfreies Entfernen würde es beim Drucken zum sog. Tonen kommen, das heißt, die Hintergrundbereiche würden Druckfarbe annehmen. Der Interlayer hat außerdem die Aufgabe, die Aluminiumoxidschicht vor Korrosion während des Entwickelns mit einem stark alkalischen Entwickler (pH >11,5) zu schützen, sowie vor dauerhafter Adsorption, z.B. von in der strahlungsempfindlichen Schicht verwendeten Farbstoffen (sog. „staining"), zu schützen.

In DE 25 327 69 Al werden Lithographie-Druckplattenvorläufer auf der Basis von negativen Diazoharzen beschrieben, die einen Natriumsilikat-Interlayer aufweisen. Die Haftung der Bildstellen auf diesem Interlayer ist zwar sehr gut, es hat sich aber herausgestellt, dass sich die Lichtempfindlichkeit dieser Platten bei Lagerung bei erhöhter Temperatur und Luftfeuchtigkeit deutlich verschlechtert. Darüber hinaus ist der Prozess des Aufbringens des Interlayers mit Problemen verbunden, zum Beispiel führt das Eintrocknen der alkalischen Natriumsilikat-Lösung an Anlagenteilen zu schwer entfernbaren Rückständen.

Die Verwendung von Polyvinylphosphonsäure oder ihren Salzen sowie Copolymeren von Vinylphosphonsäure mit acrylischen Monomeren als Interlayer bei Lithographie-Druckplattenvorläufern wird z.B. in DE 1 134 093 C , US 4,153,461 und EP 0 537 633 B1 vorgeschlagen. Mit einer solchen Schicht wird jedoch die Aluminiumoxidschicht nicht optimal geschützt, so dass es zu einer Verschlammung des Entwicklers kommt; außerdem neigen solche Druckplatten nach einem erneuten Start der Druckmaschine zum Tonen.

Für ein sauberes Druckbild ist erforderlich, dass die Bildbereiche (das heißt die bildweise verbliebene Beschichtung) die Druckfarbe gut annehmen, während die Nicht-Bildbereiche (das heißt der bildweise freigelegte Träger, wie z.B. Aluminiumträger) die Druckfarbe nicht annehmen sollen. Um den bildweise freigelegten Träger, wie z.B. Aluminiumträger, vor Fingerabdrücken, Aluminiumoxid-Bildung und Korrosion und gegen mechanische Einwirkungen, wie Kratzer, beim Einspannen der Druckplatte in die Druckmaschine zu schützen, das heißt die Hydrophilie der Nicht-Bildbereiche aufrechtzuerhalten und gegebenenfalls zu verbessern, wird die entwickelte Druckplatte in der Regel einer „Gummierung" unterzogen (auch „Fertigstellung" oder „Finishing"). Die Gummierung vor der Lagerung der Platte oder vor langen Stillständen der Druckmaschine gewährleistet, dass die Nicht-Bildbereiche hydrophil bleiben und somit ein Tonen verhindert wird. Beim Drucken muss dann die Gummierung durch das verwendete Feuchtwasser schnell abwaschbar sein, damit die Bildbereiche sofort Farbe annehmen können. Gummierungslösungen sind seit langem bekannt und basieren häufig auf Gummi arabicum (z.B. DE 29 26 645 Al ).

US 4,880,555 beschreibt einen „Finisher" für Lithographie-Druckplatten, der durch enzymatische Hydrolyse hergestelltes Maltodextrin, ein Polyol, Kohlenwasserstoffe, ein Gemisch aus langkettigem Alkohol und aminiertem Alkoholsulfat, substituiertes Phenoxypoly(oxyethylen)ethanol und ein Ethanolamin enthält.

In US 4,033,919 wird eine wässrige Gummierungslösung beschrieben, die ein Polymer enthält, welches vom Acrylamid abgeleitete Einheiten und 1 bis 25 Gew.% Einheiten mit Carboxylgruppe enthält. Die Lösung umfasst außerdem ein saures Material wie Phosphorsäure, Zitronensäure und Weinsäure. Eine wässrige Gummierungslösung, die ein Polymer oder Copolymer auf Polyacrylamid-Basis enthält, wird auch in US 4,143,021 und DE 25 045 94 Al beschrieben.

In EP 0 985 546 Al wird vorgeschlagen, eine Verbindung der folgenden Formel

(wobei a und b unabhängig jeweils eine ganze Zahl von 1 bis 50 ist und R ein Alkylrest mit 8 bis 22 Kohlenstoffatomen ist) in einer Gummierungslösung für Lithographie-Druckplatten oder im Feuchtmittel zu verwenden.

EP 1 260 866 A2 beschreibt, dass es möglich ist, den zum Entwickeln verwendeten Entwickler von einer Lithographie-Druckplatte abzuspülen und dabei gleichzeitig eine Gummierung durchzuführen. Dazu wird die Druckplatte mit Spülwasser in Kontakt gebracht, welches (a) mindestens ein filmbildendes wasserlösliches Polymer und (b) mindestens ein Phosphonsäurederivat

enthält.

In EP 0 943 967 A2 und DE 29 25 363 Al werden Gummierungen vom Emulsionstyp beschrieben.

US 6,010,818 A beschreibt ein Verfahren zur Herstellung von Offset-Druckplatten nach dem Silbersalz-Diffusions-Transferprozess, umfassend 2 Verfahrensschritte mit lithographischem Finisher.

In US 5,736,256 A wird der Zusatz von monomeren Organophosphonsäure-Komplexbildnern zu Entwicklern, Finishern, Feuchtmitteln, Druckfarben und Korrekturlösungen für Lithographie-Druckplatten beschrieben.

EP 1 440 796 A2 offenbart ein Verfahren zur Herstellung von Druckplatten bei dem Bildbereiche auf einem Träger durch bildweises Aufbringen eines oleophilen Polymers mittels Tintenstrahlverfahren aufgebracht werden.

Es ist die Aufgabe der vorliegenden Erfindung, ein Verfahren zur Herstellung einer Lithographie-Druckplatte und zur Nachbehandlung einer (entwickelten) Lithographie-Druckplatte bereitzustellen, mit denen die Haftung der Bildbereiche auf dem Träger verbessert wird, wodurch eine höhere Empfindlichkeit erreicht wird und ein geringerer Punktzuwachs beim Drucken, ohne dass das sensible Druckfarbe-Wasser-Gleichgewicht beeinträchtigt wird und Probleme, wie Tonen, beim erneuten Start der Druckmaschine auftreten.

Die Aufgabe wird gelöst durch ein Verfahren, bei dem nach dem bildweisen Bestrahlen und Entwickeln eine Lösung aufgebracht wird, die ein phosphonosubstituiertes Siloxan der allgemeinen Formel (I) umfasst

wobei
R¹ ausgewählt wird aus einem Wasserstoffatom, einer Hydroxygruppe, einem linearen oder verzweigten C₁-C₂₀ Alkyl-, linearen oder verzweigten C₂-C₂₀ Alkenyl-, linearen oder verzweigten C₁-C₂₀ Alkoxy-, linearen oder verzweigten C₂-C₂₀ Alkinyl-, Aryl-, Arylalkyl-, Alkylaryl-, Arylalkenyl-, Alkenylaryl-, Arylalkinyl-, Alkinylaryl-, Acyloxyrest, und einer Gruppe -CHR⁶-PO₃ ^2–,
R² und R³ unabhängig voneinander ausgewählt werden aus einem Wasserstoffatom, einem linearen oder verzweigten C₁-C₂₀ Alkyl-, linearen oder verzweigten C₂-C₂₀ Alkenyl-, linearen oder verzweigten C₂-C₂₀ Alkinyl-, Aryl-, Arylalkyl-, Alkylaryl-, Arylalkenyl-, Alkenylaryl-, Arylalkinyl-, und Alkinylarylrest,
R⁴ ausgewählt wird aus einem Wasserstoffatom_; einem linearen oder verzweigten C₁-C₂₀ Alkyl-, linearen oder verzweigten C₂-C₂₀ Alkenyl-, linearen oder verzweigten C₂-C₂₀ Alkinyl-, Aryl-, Arylalkyl-, Alkylaryl-, Arylalkenyl-, Alkenylaryl-, Arylalkinyl-, Alkinylarylrest und der Gruppe -CHR⁶-PO₃ ^2–,
R⁵ ausgewählt wird aus einem Wasserstoffatom, einem linearen oder verzweigten C₁-C₂₀ Alkyl-, linearen oder verzweigten C₂-C₂₀ Alkenyl-, linearen oder verzweigten C₂-C₂₀ Alkinyl-, Aryl-, Arylalkyl-, Alkylaryl-, Arylalkenyl-, Alkenylaryl-, Arylalkinyl-, Alkinylarylrest und der Gruppe -CHR⁶-PO₃ ^2–,
Z für -(CR⁶R⁷)_x- oder Arylen steht,
R⁶ und R⁷ unabhängig voneinander ausgewählt werden aus einem Wasserstoffatom, einem linearen oder verzweigten C₁-C₆ Alkyl-, linearen oder verzweigten C₂-C₆ Alkenyl-, linearen oder verzweigten C₂-C₆ Alkinyl-, Aryl-, Arylalkyl-, Alkylaryl-, Arylalkenyl-, Alkenylaryl-, Arylalkinyl- und Alkinylarylrest,
n ein Mittelwert ist und einen Wert von 1 bis 200 hat und
x eine ganze Zahl von 1 bis 100 ist,
M für das/die zum Ladungsausgleich nötige(n) Gegenion(en), ausgewählt aus ein-, zweiwertigen oder mehrwertigen Kationen, steht und
m die Anzahl der zum Ladungsausgleich benötigten Kationen ist.

Die Aufgabe wird auch gelöst durch ein alternatives Verfahren, bei dem die oleophilen Bildbereiche bildweise auf einen lithographischen Träger aufgebracht werden und anschließend die vorstehend beschriebene Lösung aufgebracht wird.

Unter einem „Druckplattenvorläufer" wird im Rahmen dieser Erfindung eine Platte in unbebildertem Zustand (das heißt nicht bildweise belichtet und entwickelt) verstanden, aus der durch bildweise Bestrahlung und gegebenenfalls Entwickeln eine Druckplatte hergestellt wird. Unter „Druckplatte" wird im Rahmen dieser Erfindung eine aus einem Druckplattenvorläufer hergestellte bereits bebilderte Platte verstanden (auch als „Druckform" bezeichnet).

1 bis 6 stellen graphisch den Punktzuwachs bei verschiedenen Tonwerten vor und nach dem Drucken dar, wie er in Vergleichsbeispiel 1, Beispiel 1, Vergleichsbeispiel 4, Beispiel 4, Beispiel 7 und Vergleichsbeispiel 5 ermittelt wurde.

Für die erfindungsgemäße Nachbehandlung einer Lithographie-Druckplatte wird ein phosphonosubstituiertes Siloxan der allgemeinen Formel (I) verwendet
wobei
R¹ ausgewählt wird aus einem Wasserstoffatom, einer Hydroxygruppe, einem linearen oder verzweigten C₁-C₂₀ Alkyl-, linearen oder verzweigten C₂-C₂₀ Alkenyl-, linearen oder verzweigten C₁-C₂₀ Alkoxy-, linearen oder verzweigten C₂-C₂₀ Alkinyl-, Aryl-, Arylalkyl-, Alkylaryl-, Arylalkenyl-, Alkenylaryl-, Arylalkinyl-, Alkinylaryl-, Acyloxyrest, und einer Gruppe -CHR⁶-PO₃ ^2–,
R² und R³ unabhängig voneinander ausgewählt werden aus einem Wasserstoffatom, einem linearen oder verzweigten C₁-C₂₀ Alkyl-, linearen oder verzweigten C₂-C₂₀ Alkenyl-, linearen oder verzweigten C₂-C₂₀ Alkinyl-, Aryl-, Arylalkyl-, Alkylaryl-, Arylalkenyl-, Alkenylaryl-, Arylalkinyl-, und Alkinylarylrest,
R⁴ ausgewählt wird aus einem Wasserstoffatom, einem linearen oder verzweigten C₁-C₂₀ Alkyl-, linearen oder verzweigten C₂-C₂₀ Alkenyl-, linearen oder verzweigten C₂-C₂₀ Alkinyl-, Aryl-, Arylalkyl-, Alkylaryl-, Arylalkenyl-, Alkenylaryl-, Arylalkinyl-, Alkinylarylrest und der Gruppe -CHR⁶-PO₃ ^2–,
R⁵ ausgewählt wird aus einem Wasserstoffatom, einem linearen oder verzweigten C₁-C₂₀ Alkyl-, linearen oder verzweigten C₂-C₂₀ Alkenyl-, linearen oder verzweigten C₂-C₂₀ Alkinyl-, Aryl-, Arylalkyl-, Alkylaryl-, Arylalkenyl-, Alkenylaryl-, Arylalkinyl-, Alkinylarylrest und der Gruppe -CHR⁶-PO₃ ^2–,
Z für -(CR⁶R⁷)_x- oder Arylen steht,
R⁶ und R⁷ unabhängig voneinander ausgewählt werden aus einem Wasserstoffatom, einem linearen oder verzweigten C₁-C₆ Alkyl-, linearen oder verzweigten C₂-C₆ Alkenyl-, linearen oder verzweigten C₂-C₆ Alkinyl-, Aryl-, Arylalkyl-, Alkylaryl-, Arylalkenyl-, Alkenylaryl-, Arylalkinyl- und Alkinylarylrest,
n ein Mittelwert ist und einen Wert von 1 bis 200 hat (vorzugsweise 1 bis 100) und
x eine ganze Zahl von 1 bis 100 ist (vorzugsweise 1 bis 50, besonders bevorzugt 1 bis 10),
M für das/die zum Ladungsausgleich nötige(n) Gegenion(en), ausgewählt aus ein-, zweiwertigen oder mehrwertigen Kationen, steht und
m die Anzahl der zum Ladungsausgleich benötigten Kationen ist.
Vorzugsweise weist das phosphonosubstituierte Siloxan die allgemeine Formel (II)
auf, wobei n ein Mittelwert ist und einen Wert von 1 bis 100 hat.
Abhängig vom pH-Wert kann das Siloxan der Formel (I) oder (II) am N-Atom auch protoniert sein. Wann immer in dieser Anmeldung auf Formel (I) oder (II) Bezug genommen wird, sollen daher die protonierten Spezies mitumfasst sein.
Als Gegenion M kommen Protonen ebenso wie Alkali- bzw. Erdalkalimetallionen, Ammoniumsalze oder Phosphoniumionen infrage. Im Falle der Protonen liegt die Verbindung dann als freie Säure vor. Die freien Säuren können im sauren Medium (pH-Bereich zwischen 1–3) auch als Säureadditionssalze vorliegen, z.B. als Hydrochloride, Sulfate usw. Am isoelektrischen Punkt können betainartige Strukturen vorliegen.
Wenn das Gegenion M ein Übergangsmetallkation ist, kann es auch zur Komplexbildung kommen, das heißt, es liegt keine echte Salzstruktur vor. Solche Komplexe sind von der vorliegenden Erfindung auch umfasst.
Eine Variante zur Herstellung der erfindungsgemäßen phosphonosubstituierten Siloxane beruht auf der Umsetzung eines geeigneten AminoSiloxans mit Formaldehyd und phosphoriger Säure, wobei die phosphorige Säure zum Beispiel durch kontrollierte Hydrolyse geeigneter halogenierter Phosphorverbindungen in situ hergestellt werden kann, z.B. aus PCl₃.
Eine derartige Umsetzung beruht auf folgendem Reaktionsschema: R'-NH₂ + H₃PO₃ + HCHO → R'-NH-CH₂-PO₃ ^2– oder
wobei R' einen oder mehrere Siloxanreste trägt.
Der lithographische Träger ist ein dimensionsbeständiges platten- bzw. folienförmiges Material. Als ein solches dimensionsbeständiges Platten- bzw. Folienmaterial wird vorzugsweise eines verwendet, das bereits bisher als Träger für Drucksachen verwendet worden ist. Zu Beispielen für einen solchen Träger gehören Papier, Papier, das mit Kunststoffen (wie Polyethylen, Polypropylen oder Polystyrol) beschichtet ist, eine Metallplatte oder -folie, wie z.B. Aluminium (einschließlich Aluminiumlegierungen), Zink- und Kupferplatten, Kunststofffilme aus beispielsweise Cellulosediacetat, Cellulosetriacetat, Cellulosepropionat, Celluloseacetat, Celluloseacetatbutyrat, Cellulosenitrat, Polyethylenterephthalat, Polyethylen, Polystyrol, Polypropylen, Polycarbonat und Polyvinylacetat, und ein Laminat aus Papier oder einem Kunststofffilm und einem der obengenannten Metalle oder ein Papier/Kunststofffilm, der durch Aufdampfen metallisiert worden ist. Unter diesen Trägern ist eine Aluminiumplatte oder -folie besonders bevorzugt, da sie bemerkenswert dimensionsbeständig und billig ist. Außerdem kann eine Verbundfolie verwendet werden, bei der eine Aluminiumfolie auf eine Kunststofffolie, wie z.B. einen Polyethylenterephthalatfilm oder Papier, auflaminiert ist oder eine Kunststofffolie, auf die Aluminium aufgedampft wurde.
Ein Metallträger, insbesondere ein Aluminiumträger, wird vorzugsweise mindestens einer Behandlung, ausgewählt aus Aufrauung (z.B. durch Bürsten im trockenen Zustand, oder Bürsten mit Schleifmittel-Suspensionen oder auf elektrochemischem Wege, z.B. mit Salzsäure oder HNO₃) und Anodisierung (z.B. in Schwefelsäure oder Phosphorsäure), unterworfen.
Der Träger kann auch einer Hydrophilisierung durch Aufbringung eines Interlayers aus Polyvinylphosphonsäure oder einem Silikat auf eine oder beide Seiten des Trägers unterworfen werden, jedoch ist das bei der vorliegenden Erfindung nicht nötig.
Die Details der o.g. Trägervorbehandlung sind dem Fachmann hinlänglich bekannt.
Ein besonders bevorzugter Träger ist eine Aluminiumfolie, die vorzugsweise eine Dicke von 0,1 bis 0,7 mm aufweist, bevorzugter 0,15 bis 0,5 mm. Es ist bevorzugt, dass die Folie aufgeraut wird (vorzugsweise elektrochemisch) und dann eine mittlere Rauheit von 0,2 bis 1 μm, besonders bevorzugt 0,3 bis 0,8 μm aufweist.
Gemäß einer besonders bevorzugten Ausführungsform wurde die aufgeraute Aluminiumfolie außerdem anodisiert. Das Schichtgewicht des dabei erzeugten Aluminiumoxids beträgt vorzugsweise 1,5 bis 5 g/m², besonders bevorzugt 2 bis 4 g/m².
Die erfindungsgemäße Nachbehandlung von Lithographie-Druckplatten eignet sich für alle Typen von Lithographie-Druckplatten, das heißt sowohl solcher, die aus positiv arbeitenden als auch solcher, die aus negativ arbeitenden Vorläufern hergestellt wurden, wobei die Druckplattenvorläufer sowohl UV/VIS-empfindlich (das heißt empfindlich für Strahlung, ausgewählt aus dem Wellenlängenbereich von 320 bis 750 nm) als auch IR-empfindlich (das heißt empfindlich für Strahlung, ausgewählt aus dem Wellenlängenbereich von über 750 nm bis 1600 nm, vorzugsweise über 750 nm bis 1350 nm) oder wärmeempfindlich sein können. Bei den Vorläufern kann es sich sowohl um einschichtige als auch solche mit mehrschichtigem Aufbau handeln.
Bei der strahlungsempfindlichen Beschichtung kann es sich beispielsweise um eine negativ arbeitende UV-empfindliche Beschichtung auf der Basis von Negativ-Diazoharzen handeln, wie sie u.a. in EP 0 752 430 B1 beschrieben wird, eine negativ arbeitende Photopolymerschicht, die für Strahlung um 405 nm empfindlich ist (siehe z.B. DE 103 07 451.1 ), ein negativ arbeitendes Photopolymersystem, das für Strahlung aus dem sichtbaren Spektrumsbereich empfindlich ist (z.B. EP 0 684 522 B1 ) oder eine negativ arbeitende IR-empfindlichen Schicht, basierend auf radikalischer Polymerisation (z.B. DE 199 06 823 C2 ).
Des Weiteren kann es sich bei der strahlungsempfindlichen Beschichtung um eine positiv arbeitende UV-empfindliche Schicht, basierend auf Chinondiaziden und Novolaken, wie sie in US 4,594,306 beschrieben ist, handeln, oder eine positiv arbeitende IR-empfindliche Schicht auf der Basis eines Gemisches von Novolaken und IR-Farbstoffen (siehe auch EP 0 887 182 B1 und EP 1 101 607 Al ).
Außerdem kann es sich bei den für die Herstellung der Druckplatten verwendeten Druckplattenvorläufer um ein negativ arbeitendes einschichtiges IR-empfindliches Element handeln, bei dem die strahlungsempfindliche Schicht durch IR-Bestrahlung im wässrig-alkalischen Entwickler unlöslich oder undurchdringbar wird und vorzugsweise

(i) mindestens eine Verbindung, die bei Einwirkung von IR-Strahlung eine Säure bildet (im Folgenden auch als „latente Brönstedsäure bezeichnet), und
(ii) eine durch Säure vernetzbare Komponente (im Folgenden auch als „Vernetzungsmittel" bezeichnet) oder ein Gemisch davon und gegebenenfalls
(iii) ein Bindemittelharz oder ein Gemisch davon, enthält. Solche Systeme sind z.B. in EP 0 625 728 B1 und EP 0 938 413 B1 beschrieben.

Als Druckplattenvorläufer können auch positiv arbeitende zweischichtige Elemente verwendet werden, bei denen sich auf der hydrophilen Oberfläche des Trägers eine erste Schicht, die in wässrig-alkalischem Entwickler löslich ist und ihre Löslichkeit durch IR-Bestrahlung nicht ändert und darauf eine in wässrig-alkalischem Entwickler unlösliche Deckschicht, die durch IR-Bestrahlung im Entwickler löslich oder von dem Entwickler durchdringbar wird, befindet.
Für die Deckschicht können bekannte Prinzipien verwendet werden:

(a) Es wird ein in stark alkalischem wässrigen Entwickler (pH>11) unlösliches Polymer verwendet, das durch IR-Bestrahlung im Entwickler löslich oder von diesem durchdringbar wird; solche Systeme sind z.B. in US 6,352,812 beschrieben.
(b) Es wird ein in stark alkalischem wässrigen Entwickler (pH>11) lösliches Polymer verwendet, dessen Löslichkeit durch einen gleichzeitig vorhandenen Löslichkeitsinhibitor so stark reduziert wird, dass die Schicht unter Entwicklungsbedingungen nicht lösbar oder durchdringbar ist; durch IR-Bestrahlung wird die Wechselwirkung zwischen Polymer und Inhibitor so geschwächt, dass die Schicht in den bestrahlten (erwärmten) Bereichen im Entwickler löslich oder durchdringbar wird. Solche Systeme sind z.B. in US 6,352,811 und US 6,358,669 beschrieben. Es ist nicht erforderlich, dass Polymer und Löslichkeitsinhibitor zwei getrennte Verbindungen sind, sondern es können auch Polymere eingesetzt werden, die gleichzeitig eine Löslichkeitsinhibitor-Funktion aufweisen, wie z.B. die in US 2002/0,150,833 A1, US 6,320,018 B und US 6,537,735 B beschriebenen funktionalisierten Harze, wie z.B. funktionalisierte Novolake.
(c) Es wird ein in wässrig-alkalischem Entwickler mit pH<11 unlösliches (bei pH>11 aber lösliches) Polymer verwendet, das durch IR-Bestrahlung in einem solchen Entwickler mit pH<11 löslich wird, und die Entwicklung des bestrahlten Elements wird mit einem alkalischen Entwickler mit pH<11 vorgenommen. Ein derartiges System ist zum Beispiel in WO 02/14071 beschrieben.

Gemäß einer Ausführungsform der vorliegenden Erfindung wird eine Lithographie-Druckplatte hergestellt durch ein Verfahren, umfassend:

(a) Bereitstellen eines lithographischen Trägers,
(b) Aufbringen mindestens einer strahlungsempfindlichen Zusammensetzung auf den Träger und Trocknen,
(c) bildweises Bestrahlen des in Schritt (b) erhaltenen Lithographie-Druckplattenvorläufers,
(d) Entfernen der Nichtbildbereiche von dem bildweise bestrahlten Vorläufer mit einem Entwickler,
(e) Behandlung der entwickelten Druckplatte mit einer Lösung eines wie vorstehend beschriebenen phosphonosubstituierten Siloxans.

Die strahlungsempfindliche Zusammensetzung kann dabei mit üblichen Methoden, wie z.B. Schleuderbeschichtung, Tauchbeschichtung, Sprühbeschichtung und Beschichtung mittels Rakel auf die Oberfläche des Trägers, aufgebracht werden. Es ist möglich, die strahlungsempfindliche Zusammensetzung auf beide Seiten des Trägers aufzubringen; bevorzugt ist jedoch die Aufbringung auf nur eine Seite.
Bei dem Träger handelt es sich vorzugsweise um einen, der keinen Interlayer aufweist, insbesondere um eine aufgeraute und anodisierte Aluminiumfolie ohne Interlayer.
In Abhängigkeit von dem in der Zusammensetzung verwendeten Sensibilisator wird der Druckplattenvorläufer bildweise mit UV-Strahlung, VIS-Strahlung oder IR-Strahlung bestrahlt.
Je nachdem, ob es sich um eine positiv arbeitende strahlungsempfindliche Schicht oder eine negativ arbeitende strahlungsempfindliche Schicht handelt, werden anschließend die bestrahlten Bereiche bzw. die nicht bestrahlten Bereiche mit Entwickler (vorzugsweise einem wässrigen alkalischen Entwickler) entfernt und so druckende Bildbereiche und nicht druckende Hintergrundbereiche erhalten.
Gemäß einer alternativen Ausführungsform ist es auch möglich, die druckenden oleophilen Bereiche bildweise auf den Träger aufzubringen (z.B. durch Inkjet-Verfahren, Thermotransferverfahren und Tonertransferverfahren), wodurch keine bildweise Bestrahlung und Entwickler mehr nötig sind.
Für die erfindungsgemäße Nachbehandlung einer bebilderten Lithographie-Druckplatte wird eine Lösung des phosphonosubstituierten Siloxans, vorzugsweise mit einer Konzentration von 0,01 bis 15 Gew.%, bezogen auf Lösungsmittel, besonders bevorzugt 0,1 bis 5 Gew.%, insbesondere bevorzugt 0,3 bis 3 Gew.% hergestellt. Diese Lösung wird dann mit üblichen Beschichtungsverfahren, wie z.B. Tauchbeschichten, Walzenbeschichten, Sprühbeschichten, Streichbeschichten und Schlitzdüsenbeschichten aufgebracht. Das verwendete Lösungsmittel hat dabei eine Temperatur von vorzugsweise 20 bis 90°C. Als Lösungsmittel kommen dipolare aprotische (wie DMF, DMSO, NMP und THF) infrage sowie protische Lösungsmitteln (wie C₁-C₄-Alkanole), Wasser und Gemische der vorstehenden.
Neben dem phosphonosubstituierten Siloxan kann die Lösung übliche Additive, wie Verdickungsmittel, oberflächenaktive Mittel, Bakterizide, Fungizide etc., enthalten.
Einen Überschuss an aufgebrachter Lösung kann man, falls gewünscht, nach einer angemessenen Verweilzeit mit einer Rakel oder Quetschwalzen entfernen oder durch Spülen mit Wasser (vorzugsweise mit einer Temperatur von 20 bis 80°C).
Die mit der Lösung behandelte Druckplatte wird anschließend getrocknet, beispielsweise an Luft oder mit einem Heißlufttrockner oder Infrarottrockner. Vorzugsweise wird bei einer Temperatur von 20 bis 120°C, besonders bevorzugt 20 bis 80°C getrocknet.
Im Anschluss an die Nachbehandlung mit dem phosphonosubstituierten Siloxan kann – falls gewünscht – eine übliche Gummierung, z.B. eine wässrige Lösung, enthaltend Gummi arabicum, mit üblichen Verfahren (z.B. Walzenauftrag) aufgebracht werden.
Gemäß einer alternativen Ausführungsform kann aber auch die zur Nachbehandlung verwendete Lösung des phosphonosubstituierten Siloxans zusätzlich Gummi arabicum oder ein anderes Gummierungsmittel enthalten, wodurch Nachbehandlung und Gummierung in einem Schritt ausgeführt werden.
Die vorliegende Erfindung wird nun durch die folgenden Beispiele näher erläutert, ohne dadurch eingeschränkt zu werden.
Beispiele
Referenzbeispiel (Herstellung des phosphonosubstituierten Siloxans II)
In einem Glasreaktor geeigneter Größe, ausgestattet mit Rührer und Temperaturregler, gibt man unter Rückfluss bei Raumtemperatur 460 g H₃PO₃ (70-%ig) und 660 g HCL (31-%ig) zusammen und rührt diese etwa 10 min. Anschließend werden über einen Zeitraum von 3 h 1200 g einer 40-%igen wässrigen Lösung von polykondensierten 3-AminopropyltrihydroxySiloxan zugetropft. Die Temperatur wird dabei unterhalb von 70°C gehalten. Anschließend erhitzt man in einem Druckreaktor auf 100 bis 109°C und gibt langsam 166 g Paraformaldehyd zu. Im Anschluss lässt man die Umsetzung 2 h bei dieser Temperatur ablaufen. Danach wird bei atmosphärischem Druck bis zu einem Gewichtsverlust von 1300 g abdestilliert.
Die beschriebene Verbindung liegt nach der Synthese in wässriger Lösung als freie Säure und in polymerisiertem Zustand vor.
Die hier beschriebene Synthesevariante kann bei Vornahme entsprechender Anpassung in gleicher Weise für sämtliche erfindungsgemäß verwendeten Siloxane durchgeführt werden.
Eine weitere vorteilhafte Variante für die Synthese beruht darauf, anstelle von Salzsäure andere starke anorganische Säuren, wie z.B. Schwefelsäure, zu verwenden.
Herstellung von Träger 1
(Träger mit Polyvinylphosphonsäure-Interlayer)
Eine elektrochemisch aufgeraute (mit HCl, durchschnittliche Rauheit 0,6 μm) und anodisierte Aluminiumfolie (Oxidschichtgewicht 3,2 g/m²) wurde einer Nachbehandlung mit einer wässrigen Lösung von 1,5 g/l Polyvinylphosphonsäure (PVPA) 10 s bei 50°C unterzogen, wodurch ein Interlayer mit 15 mg/m² PVPA auf dem Aluminiumträger erhalten wurde.
Herstellung von Träger 2
(Träger ohne Interlayer)
Eine elektrochemisch aufgeraute (mit HCl, durchschnittliche Rauheit 0,6 μm) und anodisierte Aluminiumfolie (Oxidschichtgewicht 3,2 g/m²) wurde hergestellt; es wurde kein Interlayer aufgebracht.
Beispiele 1 bis 3 und Vergleichsbeispiele 1 bis 3
(Lithographie-Druckplattenvorläufer mit UV-empfindlicher Photopolymerschicht)
Eine wie in Tabelle 1 beschriebene UV-empfindliche filtrierte Beschichtungslösung wurde auf den in Tabelle 2 angegebenen Träger aufgebracht und 4 Minuten bei 90°C getrocknet. Das Trockenschichtgewicht der Photopolymerschicht betrug etwa 1,5 g/m².
Die erhaltenen Proben wurden durch Beschichten mit einer wässrigen Lösung von Poly(vinylalkohol) (Hydrolysegrad 88 %) mit einer Deckschicht versehen; die Deckschicht wies nach dem Trocknen bei 90°C für 4 Minuten ein Trockenschichtgewicht von etwa 3 g/m² auf.
Der Druckplattenvorläufer wurde mit einer Belichtungseinheit (Andromeda^® A750M von Lithotech, ausgestattet mit einer Laserdiode, die bei 405 nm mit einer Leistung von 30 mW emittiert, cw-Betrieb) belichtet. Ein UGRA-Digital-Graukeil V2.4 mit definierten Tonwerten (alle Daten wurden linearisiert, um etwa den gewünschten Tonwert zu erhalten) wurde auf dem vorstehend beschriebenen Plattenvorläufer aufbelichtet. Zusätzlich wurde mit einem UGRA Graukeil 85 durch Flutbelichtung die Plattenempfindlichkeit bestimmt. Nach der Belichtung wurde die Platte sofort in einem Ofen 2 Minuten auf 90°C erhitzt.
Anschließend wurde die belichtete und thermisch behandelte Platte 30 Sekunden mit einer Entwicklerlösung behandelt, welche einen pH-Wert von etwa 12 aufwies und KOH als alkalische Komponente und Poly(oxyethylen)-2-naphthyl-ether enthielt.
Anschließend wurde die Entwicklerlösung nochmals 30 s mit einem Tampon auf der Oberfläche verrieben und dann die gesamte Platte mit Wasser abgespült. Nach dieser Behandlung verblieben die belichteten Teile auf der Platte.
Tabelle 1
Die entwickelten Platten wurden dann gemäß der vorliegenden Erfindung mit einer Siloxanlösung behandelt; das verwendete Siloxan wurde gemäß dem Referenzbeispiel hergestellt. Für diese Nachbehandlung wurde die gesamte Platte, d.h. Bild- und Nicht-Bild-Bereiche, mit einem Tampon, der mit der entsprechenden Lösung versehen war, vorsichtig abgerieben und anschließend bei Raumtemperatur getrocknet. Anschließend wurde eine wässrige Gummierungslösung (0,5 % H₃PO₄, 6 % Gummi arabicum) nach Standardverfahren aufgebracht.
Die Einzelheiten zu verwendetem Träger, Lösungsmittel für die Siloxanlösung und Gummierung sowie die erhaltenen Ergebnisse bezüglich Empfindlichkeit, relativem Punktzuwachs und Tonen sind Tabelle 2 zu entnehmen.
Bei Beispiel 3 wurde die entwickelte Platte mit einer Gummierungslösung behandelt, die gleichzeitig das Siloxan enthielt, das heißt, die Nachbehandlung und Gummierung wurden in einem Schritt ausgeführt. Die Einzelheiten sind ebenfalls Tabelle 2 zu entnehmen.
Der relative Punktzuwachs und die Empfindlichkeit wurden wie folgt bestimmt:
Die Platten wurden in eine Bogenoffset-Druckmaschine eingebaut und mit einer abrasiven Druckfarbe (Offset S7184 von Sun Chemical; enthält 10 % CaCO₃) zum Drucken verwendet.
Unter „Punktzuwachs" wird die Änderung der Tonwerte einer linearisierten Platte beim Drucken verstanden. Linearisierung bedeutet, dass bei einer digitalen Platte so belichtet wird, dass ein vorgegebener Solltonwert (STW) annähernd erreicht wird. Die zugänglichen Messwerte sind die Tonwerte (TW). Diese werden in unterschiedlichen Größen (Index i in Gleichung 1) auf die linearisierte Platte belichtet, wobei sich je nach Auswahl dieser Größen nach dem Entwickeln ein differenziertes Bild bezüglich der Tonwerte ergibt. Somit ergibt sich eine Datenreihe der Tonwerte vor dem Druck (TWV). Die linearisierte, entwickelte, und in dieser Erfindung nachbehandelte Druckplatte wird in der Druckmaschine für 10000 Überrollungen verwendet, gereinigt und anschließend wieder einer Tonwertkontrolle unterzogen, woraus sich die Tonwerte nach dem Druck (TWN) ergeben. Der Punktzuwachs wird dann nach Gleichung 1 berechnet.
Der Punktzuwachs kann sowohl ein positives als auch ein negatives Vorzeichen haben. Interessant für drucktechnische Anwendungen ist lediglich der Absolutbetrag, welcher im Idealfall gegen Null konvergieren sollte.
Mit anderen Worten: je geringer der Punktzuwachs desto besser die Platte.
Als Referenz dient die Platte von Vergleichsbeispiel 1, d.h. eine Platte mit beträchtlichem Punktzuwachs im Druck bei verschiedenen Tonwerten. Der relative Punktzuwachs wird gemäß der folgenden Gleichung (2) berechnet:
In 1 und 2 ist der Punktzuwachs bei verschiedenen Tonwerten vor dem Drucken und nach 10000 Überrollungen (d.h. 10000 Kopien) für Vergleichsbeispiel 1 und Beispiel 1 graphisch dargestellt. Der relative Punktzuwachs bei 1 (Vergleichsbeispiel 1) wurde als 100% angenommen; der relative Punktzuwachs bei 2 (Beispiel 1) errechnete sich zu 28%, was eine deutliche Verbesserung gegenüber Vergleichsbeispiel 1 anzeigt.
Tabelle 2

¹⁾ „Nachbehandlung" bedeutet, dass die entwickelte Platte mit einer wässrigen Lösung der genannten Verbindung nachbehandelt wurde. Das Siloxan wurde gemäß Referenzbeispiel hergestellt und wies folgende Struktur auf:
²⁾ Das angegebene Lösungsmittel wurde für die zur Nachbehandlung verwendete Lösung eingesetzt.
³⁾ „Finishing" bedeutet, dass es sich um den letzten Behandlungsschritt der Druckplatte handelt; es wurde dazu entweder eine Gummierungslösung 850 S^® von Kodak Polychrome Graphics oder ein Gemisch aus 1 Volumenteil dieser Gummierungslösung und 1 Volumenteil einer 2-Gew.%-igen Lösung des Siloxans in dem unter „Lösungsmittel" angegebenen Lösungsmittel verwendet.
⁴⁾ mit einer frischen, nach der Bestrahlung entwickelten Platte erhaltenen Stufen eines UGRA^® Graukeils
⁵⁾ Der relative Punktzuwachs wurde gemäß vorstehender Gleichung (2) berechnet.

Beispiele 4 bis 6 und Vergleichsbeispiel 4
(Lithographie-Druckplattenvorläufer mit UV-empfindlicher Photopolymerschicht)
Eine wie in Tabelle 3 beschriebene UV-empfindliche filtrierte Beschichtungslösung wurde auf den in Tabelle 4 angegebenen Träger aufgebracht und 4 Minuten bei 90°C getrocknet. Das Trockenschichtgewicht der Photopolymerschicht betrug etwa 1,5 g/m².
Die erhaltenen Proben wurden durch Beschichten mit einer wässrigen Lösung von Poly(vinylalkohol) (Hydrolysegrad 88 %) mit einer Deckschicht versehen; die Deckschicht wies nach dem Trocknen bei 90°C für 4 Minuten ein Trockenschichtgewicht von etwa 3 g/m² auf.
Der Druckplattenvorläufer wurde mit einer Creo Trendsetter-Belichtungseinheit, die bei 830 nm emittiert (120 mJ/cm²), belichtet. Ein UGRA-Digital-Graukeil mit definierten Tonwerten (alle Daten wurden linearisiert, um annähernd den gewünschten Tonwert zu erhalten) wurde auf den vorstehend beschriebenen Plattenvorläufer aufbelichtet. Nach der Belichtung wurde die Platte sofort in einem Ofen 1 Minute auf 120°C erhitzt.
Anschließend wurde die belichtete und thermisch behandelte Platte 30 Sekunden mit Entwickler 980^® von Kodak Polychrome Graphics behandelt. Danach wurde die Entwicklerlösung nochmals 30 s mit einem Tampon auf der Oberfläche verrieben und dann die gesamte Platte mit Wasser abgespült. Nach dieser Behandlung verblieben die belichteten Bereiche auf der Platte.
Tabelle 3
Die entwickelten Platten wurden dann gemäß der vorliegenden Erfindung mit einer Siloxanlösung behandelt; dazu wurde die gesamte Platte, d.h. Bild- und Nicht-Bild-Bereiche, mit einem Tampon, der mit der entsprechenden Siloxanlösung versehen war, vorsichtig abgerieben und anschließend bei Raumtemperatur getrocknet. Anschließend wurde eine wässrige Gummierungslösung (0,5 % H₃PO₄, 6 % Gummi arabicum) nach Standardverfahren aufgebracht.
Die Einzelheiten zu verwendetem Träger, Siloxan, Lösungsmittel für die Siloxanlösung und Gummierung sowie die erhaltenen Ergebnisse bezüglich relativem Punktzuwachs sind Tabelle 4 zu entnehmen.
Bei Beispiel 6 wurde die entwickelte Platte mit einer Gummierungslösung behandelt, die gleichzeitig die Siloxanlösung enthielt, das heißt, die Nachbehandlung und Gummierung wurden in einem Schritt ausgeführt. Die Einzelheiten sind ebenfalls Tabelle 4 zu entnehmen.
Der relative Punktzuwachs wurde, wie bei den Beispielen 1 bis 3 beschrieben, bestimmt: Tabelle 4

¹⁾ „Nachbehandlung" bedeutet, dass die entwickelte Platte mit einer wässrigen Lösung der genannten Verbindung nachbehandelt wurde. Das Siloxan wurde gemäß Referenzbeispiel hergestellt und wies folgende Struktur auf:
²⁾ Das angegebene Lösungsmittel wurde für die zur Nachbehandlung verwendete Lösung eingesetzt.
³⁾ „Finishing" bedeutet, dass es sich um den letzten Behandlungsschritt der Druckplatte handelt; es wurde dazu entweder eine Gummierungslösung 850 S^® von Kodak Polychrome Graphics oder ein Gemisch aus 1 Volumenteil dieser Gummierungslösung und 1 Volumenteil einer 2-Gew.%-igen Lösung des Siloxans in dem unter „Lösungsmittel" angegebenen Lösungsmittel.

In den 3 und 4 sind die Ergebnisse bezüglich des Punktzuwachses bei verschiedenen Tonwerten graphisch für Vergleichsbeispiel 4 und Beispiel 4 jeweils vor dem Drucken und nach 10.000 Überrollungen (d.h. 10.000 Kopien) dargestellt. Der relative Punktzuwachs bei 3 (Vergleichsbeispiel 4) wurde als 100 % angenommen; der relative Punktzuwachs bei 4 (Beispiel 4) errechnete sich zu nur 3 %.
Die Platten von Beispielen 4 bis 6 wurden außerdem einem Lagerbeständigkeitstest unterworfen; dazu wurden die Druckplattenvorläufer 90 Minuten bei 88°C in einem Ofen aufbewahrt. Die gealterten Plattenvorläufer wurden dann bebildert und bezüglich Empfindlichkeit und Verhalten auf der Druckmaschine mit frischen Plattenvorläufern verglichen; es waren keine signifikanten Unterschiede feststellbar.
Beispiel 7 und Vergleichsbeispiel 5
Wie in Vergleichsbeispiel 1 und Beispiel 3 beschrieben, wurden zwei Druckplattenvorläufer hergestellt. Die Druckplattenvorläufer wurden mit einem Heidelberg Prosetter mit einer bei 405 nm emittierenden Diode belichtet (P = 30 mW). Dabei wurde mit einer Auflösung von 2540 dpi im 20 μ FM Raster (Heidelberg Diamond) das Testbild aufbelichtet. Die Platte wurde dann analog, wie in den Beispielen 1 bis 4 beschrieben, entwickelt und zum Schluss einem Finishing unterzogen. Die Platte von Beispiel 7, welche mit dem Träger 2 hergestellt wurde, zeigte nach 10.000 Drucken eine wesentlich geringere Verschiebung der Tonwerte (siehe 5) als die Platte von Vergleichsbeispiel 5, welche mit Träger 1 hergestellt wurde (siehe 6). Die Ergebnisse sind in Tabelle 5 zusammengefasst.
Tabelle 5

¹⁾ "Finishing" bedeutet, dass es sich um den letzten Behandlungsschritt der Druckplatte handelt; es wurde dazu eine Gummierungslösung 850 S^® von Kodak Polychrome Graphics bzw. ein Gemisch aus 1 Volumenteil der Gummierungslösung und 1 Volumenteil einer 4-Gew.%-igen Lösung des Siloxans der Formel (II) gemischt;
²⁾ Der relative Punktzuwachs wurde gemäß vorstehender Gleichung (2) berechnet.

Das Beispiel zeigt, dass selbst kleine Strukturelemente, wie sie bei der 20 μ FM-Rasterung auftreten, auf Träger 2 sich im Druck wesentlich besser verhalten als solche auf Träger 1. Das Tonen der Platte, welche mit Träger 2 hergestellt wurde, kann vermieden werden, wenn diese entsprechend mit dem in dieser Erfindung genannten Siloxan nachbehandelt wird.

Claims

Verfahren zur Herstellung einer Lithographie-Druckplatte, umfassend (a) Bereitstellen eines lithographischen Trägers; (b) Aufbringen mindestens einer strahlungsempfindlichen Zusammensetzung auf den in Schritt (a) bereitgestellten Träger und Trocknen; (c) bildweises Bestrahlen des in Schritt (b) erhaltenen Lithographie-Druckplattenvorläufers; (d) Entfernen der Nicht-Bildbereiche von dem bildweise bestrahlten Vorläufer mit einem alkalischen Entwickler; (e) Behandlung der in Schritt (d) erhaltenen Lithographie-Druckplatte mit einer Lösung, umfassend mindestens ein phosphonosubstituiertes Siloxan der allgemeinen Formel (I)
wobei R¹ ausgewählt wird aus einem Wasserstoffatom, einer Hydroxygruppe, einem linearen oder verzweigten C₁-C₂₀ Alkyl-, linearen oder verzweigten C₂-C₂₀ Alkenyl-, linearen oder verzweigten C₁-C₂₀ Alkoxy-, linearen oder verzweigten C₂-C₂₀ Alkinyl-, Aryl-, Arylalkyl-, Alkylaryl-, Arylalkenyl-, Alkenylaryl-, Arylalkinyl-, Alkinylaryl-, Acyloxyrest, und einer Gruppe -CHR⁶-PO₃ ^2–, R² und R³ unabhängig voneinander ausgewählt werden aus einem Wasserstoffatom, einem linearen oder verzweigten C₁-C₂₀ Alkyl-, linearen oder verzweigten C₂-C₂₀ Alkenyl-, linearen oder verzweigten C₂-C₂₀ Alkinyl-, Aryl-, Arylalkyl-, Alkylaryl-, Arylalkenyl-, Alkenylaryl-, Arylalkinyl-, und Alkinylarylrest, R⁴ ausgewählt wird aus einem Wasserstoffatom, einem linearen oder verzweigten C₁-C₂₀ Alkyl-, linearen oder verzweigten C₂-C₂₀ Alkenyl-, linearen oder verzweigten C₂-C₂₀ Alkinyl-, Aryl-, Arylalkyl-, Alkylaryl-, Arylalkenyl-, Alkenylaryl-, Arylalkinyl-, Alkinylarylrest und der Gruppe -CHR⁶-PO₃ ^2–, R⁵ ausgewählt wird aus einem Wasserstoffatom, einem linearen oder verzweigten C₁-C₂₀ Alkyl-, linearen oder verzweigten C₂-C₂₀ Alkenyl-, linearen oder verzweigten C₂-C₂₀ Alkinyl-, Aryl-, Arylalkyl-, Alkylaryl-, Arylalkenyl-, Alkenylaryl-, Arylalkinyl-, Alkinylarylrest und der Gruppe -CHR⁶-PO₃ ^2–, Z für -(CR⁶R⁷)_x- oder Arylen steht, R⁶ und R⁷ unabhängig voneinander ausgewählt werden aus einem Wasserstoffatom, einem linearen oder verzweigten C₁-C₆ Alkyl-, linearen oder verzweigten C₂-C₆ Alkenyl-, linearen oder verzweigten C₂-C₆ Alkinyl-, Aryl-, Arylalkyl-, Alkylaryl-, Arylalkenyl-, Alkenylaryl-, Arylalkinyl- und Alkinylarylrest, n ein Mittelwert ist und einen Wert von 1 bis 200 hat und x eine ganze Zahl von 1 bis 100 ist, M für das/die zum Ladungsausgleich nötige(n) Gegenion(en), ausgewählt aus ein-, zweiwertigen oder mehrwertigen Kationen, steht, und m die Anzahl der zum Ladungsausgleich benötigten Kationen ist. (f) Trocknen.
Verfahren gemäß Anspruch 1, außerdem umfassend (g) Behandeln der in Schritt (f) erhaltenen nachbehandelten Lithographie-Druckplatte mit einer Gummierungslösung.
Verfahren gemäß Anspruch 1, wobei die in Schritt (e) verwendete Lösung außerdem ein Gummierungsmittel enthält.
Verfahren zur Herstellung einer Lithographie-Druckplatte, umfassend (a) Bereitstellen eines lithographischen Trägers; (b) bildweises Aufbringen einer im getrockneten Zustand oleophilen Zusammensetzung, wodurch druckende Bildbereiche erzeugt werden; (c) Behandeln der in Schritt (b) erhaltenen Lithographie-Druckplatte mit einer Lösung, umfassend mindestens ein phosphonosubstituiertes Siloxan der allgemeinen Formel (I)
wobei R¹ ausgewählt wird aus einem Wasserstoffatom, einer Hydroxygruppe, einem linearen oder verzweigten C₁-C₂₀ Alkyl-, linearen oder verzweigten C₂-C₂₀ Alkenyl-, linearen oder verzweigten C₁-C₂₀ Alkoxy-, linearen oder verzweigten C₂-C₂₀ Alkinyl-, Aryl-, Arylalkyl-, Alkylaryl-, Arylalkenyl-, Alkenylaryl-, Arlalkinyl-, Alkinylaryl-, Acyloxyrest, und einer Gruppe -CHR⁶-PO₃ ^2–, R² und R³ unabhängig voneinander ausgewählt werden aus einem Wasserstoffatom, einem linearen oder verzweigten C₁-C₂₀ Alkyl-, linearen oder verzweigten C₂-C₂₀ Alkenyl-, linearen oder verzweigten C₂-C₂₀ Alkinyl-, Aryl-, Arylalkyl-, Alkylaryl-, Arylalkenyl-, Alkenylaryl-, Arylalkinyl-, und Alkinylarylrest, R⁴ ausgewählt wird aus einem Wasserstoffatom, einem linearen oder verzweigten C₁-C₂₀ Alkyl-, linearen oder verzweigten C₂-C₂₀ Alkenyl-, linearen oder verzweigten C₂-C₂₀ Alkinyl-, Aryl-, Arylalkyl-, Alkylaryl-, Arylalkenyl-, Alkenylaryl-, Arylalkinyl-, Alkinylarylrest und der Gruppe -CHR⁶-PO₃ ^2–, R⁵ ausgewählt wird aus einem Wasserstoffatom, einem linearen oder verzweigten C₁-C₂₀ Alkyl-, linearen oder verzweigten C₂-C₂₀ Alkenyl-, linearen oder verzweigten C₂-C₂₀ Alkinyl-, Aryl-, Arylalkyl-, Alkylaryl-, Arylalkenyl-, Alkenylaryl-, Arylalkinyl-, Alkinylarylrest und der Gruppe -CHR⁶-PO₃ ^2–, Z für -(CR⁶R⁷)_x- oder Arylen steht, R⁶ und R⁷ unabhängig voneinander ausgewählt werden aus einem Wasserstoffatom, einem linearen oder verzweigten C₁-C₆ Alkyl-, linearen oder verzweigten C₂-C₆ Alkenyl-, linearen oder verzweigten C₂-C₆ Alkinyl-, Aryl-, Arylalkyl-, Alkylaryl-, Arylalkenyl-, Alkenylaryl-, Arylalkinyl- und Alkinylarylrest, n ein Mittelwert ist und einen Wert von 1 bis 200 hat und x eine ganze Zahl von 1 bis 100 ist, M für das/die zum Ladungsausgleich nötige(n) Gegenion(en), ausgewählt aus ein-, zweiwertigen oder mehrwertigen Kationen, steht, und m die Anzahl der zum Ladungsausgleich benötigten Kationen ist; (d) Trocknen.
Verfahren gemäß Anspruch 4, außerdem umfassend (e) Behandeln der in Schritt (d) erhaltenen Lithographie-Druckplatte mit einer Gummierungslösung.
Verfahren gemäß Anspruch 4, wobei die in Schritt (c) verwendete Lösung außerdem ein Gummierungsmittel enthält.
Verfahren gemäß einem der Ansprüche 1 bis 6, wobei das phosphonosubstituierte Siloxan in der Lösung in einer Konzentration von 0,01 bis 15 Gew.% vorliegt.
Verfahren gemäß einem der Ansprüche 1 bis 7, wobei es sich bei dem lithographischen Träger um eine Aluminiumfolie oder -platte, ein Laminat aus Kunststofffolie oder Papier und Aluminiumfolie oder eine Kunststofffolie, auf die Aluminium aufgedampft worden ist, handelt.
Verfahren gemäß Anspruch 8, wobei das Aluminium vor dem Schritt (b) mindestens einer Behandlung, ausgewählt aus mechanischem Aufrauen, elektrochemischem Aufrauen und Anodisieren, unterzogen wurde.
Verfahren gemäß einem der Ansprüche 1 bis 9, wobei der lithographische Träger keinen Interlayer aufweist.
Verfahren gemäß einem der Ansprüche 1 bis 10, wobei das Siloxan die allgemeine Struktur (II) aufweist, in der n ein Mittelwert ist und einen Wert von 1 bis 100 hat
Verfahren gemäß einem der Ansprüche 1 bis 11, wobei mM = 2 H⁺ gilt.
Verfahren gemäß einem der Ansprüche 1 bis 11, wobei mM = 2 Li⁺ gilt.
Verfahren gemäß einem der Ansprüche 1 bis 3, wobei es sich bei der strahlungsempfindlichen Schicht um eine positiv arbeitende Schicht handelt.
Verfahren gemäß einem der Ansprüche 1 bis 3, wobei es sich bei der strahlungsempfindlichen Schicht um eine negativ arbeitende Schicht handelt.
Verfahren gemäß einem der Ansprüche 1 bis 3, 14 oder 15, wobei es sich bei der strahlungsempfindlichen Schicht um eine UV/VIS-empfindliche Schicht handelt, die für Strahlung einer Wellenlänge, ausgewählt aus dem Bereich von 320 bis 750 nm empfindlich ist.
Verfahren gemäß einem der Ansprüche 1 bis 3, 14 oder 15, wobei es sich bei der strahlungsempfindlichen Schicht um eine IR-empfindliche Schicht handelt, die für Strahlung einer Wellenlänge, ausgewählt aus dem Bereich von über 750 bis 1600 nm, empfindlich ist.
Verfahren zur Nachbehandlung einer bebilderten Lithographie-Druckplatte, umfassend (a) Bereitstellen einer Lithographie-Druckplatte umfassend Bildbereiche und Nicht-Bildbereiche auf einem lithographischen Träger; (b) Inkontaktbringen der Lithographie-Druckplatte von Schritt (a) mit einer Lösung umfassend ein phosphonosubstituiertes Siloxan, welches wie in einem der Ansprüche 1, 11, 12 und 13 definiert ist; (c) Trocknen.
Verfahren gemäß Anspruch 18, wobei die in Schritt (c) erhaltene Druckplatte anschließend mit einer Gummierungslösung in Kontakt gebracht wird.
Verfahren gemäß Anspruch 18, wobei die in Schritt (b) verwendete Lösung außerdem ein Gummierungsmittel enthält.
Verfahren gemäß einem der Ansprüche 18 bis 20, wobei das phosphonosubstituierte Siloxan in der Lösung in einer Konzentration von 0,01 bis 15 Gew.% vorliegt.
Verfahren gemäß einem der Ansprüche 18 bis 21, wobei der lithographische Träger keinen Interlayer aufweist.
Lithographie-Druckplatte, erhältlich nach dem Verfahren gemäß einem der Ansprüche 1 bis 22.
Verwendung eines phosphonosubstituierten Siloxans der allgemeinen Formel (I)
wobei R¹ ausgewählt wird aus einem Wasserstoffatom, einer Hydroxygruppe, einem linearen oder verzweigten C₁-C₂₀ Alkyl-, linearen oder verzweigten C₂-C₂₀ Alkenyl-, linearen oder verzweigten C₁-C₂₀ Alkoxy-, linearen oder verzweigten C₂-C₂₀ Alkinyl-, Aryl-, Arylalkyl-, Alkylaryl-, Arylalkenyl-, Alkenylaryl-, Arlalkinyl-, Alkinylaryl-, Acyloxyrest, und einer Gruppe -CHR⁶-PO₃ ^2–, R² und R³ unabhängig voneinander ausgewählt werden aus einem Wasserstoffatom, einem linearen oder verzweigten C₁-C₂₀ Alkyl-, linearen oder verzweigten C₂-C₂₀ Alkenyl-, linearen oder verzweigten C₂-C₂₀ Alkinyl-, Aryl-, Arylalkyl-, Alkylaryl-, Arylalkenyl-, Alkenylaryl-, Arylalkinyl-, und Alkinylarylrest, R⁴ ausgewählt wird aus einem Wasserstoffatom, einem linearen oder verzweigten C₁-C₂₀ Alkyl-, linearen oder verzweigten C₂-C₂₀ Alkenyl-, linearen oder verzweigten C₂-C₂₀ Alkinyl-, Aryl-, Arylalkyl-, Alkylaryl-, Arylalkenyl-, Alkenylaryl-, Arylalkinyl-, Alkinylarylrest und der Gruppe -CHR⁶-PO₃ ^2–, R⁵ ausgewählt wird aus einem Wasserstoffatom, einem linearen oder verzweigten C₁-C₂₀ Alkyl-, linearen oder verzweigten C₂-C₂₀ Alkenyl-, linearen oder verzweigten C₂-C₂₀ Alkinyl-, Aryl-, Arylalkyl-, Alkylaryl-, Arylalkenyl-, Alkenylaryl-, Arylalkinyl-, Alkinylarylrest und der Gruppe -CHR⁶-PO₃ ^2–, Z für -(CR⁶R⁷)_x- oder Arylen steht, R⁶ und R⁷ unabhängig voneinander ausgewählt werden aus einem Wasserstoffatom, einem linearen oder verzweigten C₁-C₆ Alkyl-, linearen oder verzweigten C₂-C₆ Alkenyl-, linearen oder verzweigten C₂-C₆ Alkinyl-, Aryl-, Arylalkyl-, Alkylaryl-, Arylalkenyl-, Alkenylaryl-, Arylalkinyl- und Alkinylarylrest, n ein Mittelwert ist und einen Wert von 1 bis 200 hat und x eine ganze Zahl von 1 bis 100 ist, M für das/die zum Ladungsausgleich nötige(n) Gegenion(en), ausgewählt aus ein-, zweiwertigen oder mehrwertigen Kationen, steht und m die Anzahl der zum Ladungsausgleich benötigten Kationen ist, zur Nachbehandlung einer Lithographie-Druckplatte umfassend Bildbereiche und Nicht-Bildbereiche auf einem lithographischen Träger.