[go: up one dir, main page]
More Web Proxy on the site http://driver.im/

DE4007069C2 - Vorrichtung zur optischen Abbildung - Google Patents

Vorrichtung zur optischen Abbildung

Info

Publication number
DE4007069C2
DE4007069C2 DE4007069A DE4007069A DE4007069C2 DE 4007069 C2 DE4007069 C2 DE 4007069C2 DE 4007069 A DE4007069 A DE 4007069A DE 4007069 A DE4007069 A DE 4007069A DE 4007069 C2 DE4007069 C2 DE 4007069C2
Authority
DE
Germany
Prior art keywords
lens
image
illuminating
imaging lens
imaging
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Expired - Fee Related
Application number
DE4007069A
Other languages
English (en)
Other versions
DE4007069A1 (de
Inventor
Minoru Takubo
Toshio Fukasawa
Tatsuo Yamanaka
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
NSK Ltd
Original Assignee
NSK Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by NSK Ltd filed Critical NSK Ltd
Publication of DE4007069A1 publication Critical patent/DE4007069A1/de
Application granted granted Critical
Publication of DE4007069C2 publication Critical patent/DE4007069C2/de
Anticipated expiration legal-status Critical
Expired - Fee Related legal-status Critical Current

Links

Classifications

    • GPHYSICS
    • G03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/70Microphotolithographic exposure; Apparatus therefor
    • G03F7/70058Mask illumination systems
    • G03F7/70091Illumination settings, i.e. intensity distribution in the pupil plane or angular distribution in the field plane; On-axis or off-axis settings, e.g. annular, dipole or quadrupole settings; Partial coherence control, i.e. sigma or numerical aperture [NA]
    • GPHYSICS
    • G03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/70Microphotolithographic exposure; Apparatus therefor
    • G03F7/70216Mask projection systems
    • G03F7/70241Optical aspects of refractive lens systems, i.e. comprising only refractive elements
    • GPHYSICS
    • G03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/70Microphotolithographic exposure; Apparatus therefor
    • G03F7/70425Imaging strategies, e.g. for increasing throughput or resolution, printing product fields larger than the image field or compensating lithography- or non-lithography errors, e.g. proximity correction, mix-and-match, stitching or double patterning

Landscapes

  • Physics & Mathematics (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Exposure And Positioning Against Photoresist Photosensitive Materials (AREA)
  • Preparing Plates And Mask In Photomechanical Process (AREA)
  • Exposure Of Semiconductors, Excluding Electron Or Ion Beam Exposure (AREA)

Description

Die Erfindung betrifft eine Vorrichtung zur optischen Abbildung gemäß dem Oberbegriff des Anspruchs 1 beispielsweise zur Verwendung in Verkleinerungsgeräten oder anderen optischen Abbildungsgeräten, wobei eine Mustervorlage auf ein zu belichtendes Material übertragen wird.
Bislang wurde üblicherweise für Lithographieverfahren ein Mustergenerator mit variabler Apertur verwendet, der ein nicht rechtwinkliges Muster auf ein Belichtungsmaterial kopierte. Solche bekannten Mustergeneratoren liefern ein rechtwinkliges Muster, das normalerweise von zwei Paaren sich gegenüberliegender Blendenflügel vorgesehen wird, wobei beide Paare gemeinsam eine Vorrichtung zur Definition einer variablen Apertur bilden. Ein solcher Mustergenerator projiziert das rechtwinklige Muster schrittweise nach Art eines Kopier- und Repetiervorgangs durch ein optisches Linsensystem auf ein belichtetes Material, um auf diese Weise ein wahlweise belichtetes Muster in Form eines geeigneten Kreises, eines geeigneten Dreiecks, Quadrates oder anderen Formen zu erzeugen.
Bekannte Musterlithographien mit solchen Mustergeneratoren benötigen einen relativ großen Zeitaufwand, da mit einer einzigen Belichtung die beliebigen Muster nicht erstellbar sind. Zudem ist eine zweidimensionale Bewegung des belichteten Materials erforderlich.
Um diese Probleme zu lösen, hat die vorliegende Anmelderin eine Vorrichtung zur Definition einer variablen Apertur vorgeschlagen, die zumindest ein Paar zwei sich gegenüberliegender Blenden umfaßt, die jeweils relativ zueinander bewegbar sind, wobei zumindest eine der beiden sich gegenüberliegenden Blenden einen V-förmigen Schlitz aufweist, so daß ein wahlfreies polygonales Muster erzeugt werden kann (japanische Gebrauchsmusteranmeldung Nr. SHO 36-42799). In dieser Auslegung besteht jedoch noch ein Problem darin, daß diese Vorrichtung zur Definition einer variablen Apertur lediglich ein angenähert kreisförmiges Muster erzeugen kann und die Dimensionen eines polygonalen Musters zwar schrittweise, jedoch nicht stufenlos geändert werden können. [Die ungeprüfte japanische Patentanmeldung Nr. SHO 61-220895 beschreibt eine vergleichbare Vorrichtung mittels zweier solcher Blenden, wobei auch diese zum Zeichnen eines geeigneten Kreises dienende Vorrichtung die gleichen Nachteile beinhaltet.]
Die vorliegende Anmelderin schlug daraufhin ein Verfahren und eine entsprechende Vorrichtung vor, in der ein Musterbild der die Apertur definierenden Vorrichtung nicht mechanisch geändert wurde, sondern die Vergrößerung eines Musterbildes optisch geändert wurde (japanische Patentanmeldung Nr. SHO 63-24629). Die Lehre dieser Anmeldung besteht darin, daß Beleuchtungslicht von einer Lichtquelle auf eine Mustervorlage projiziert wird, ein optisches Linsensystem das resultierende Projektionsbild der Mustervorlage auf einem belichteten Material hervorruft, daß zumindest die Mustervorlage oder das belichtete Material oder beide entlang einer optischen Achse bewegt wird bzw. werden oder daß zwischen der Mustervorlage und dem optischen Linsensystem eine Vergrößerungskorrekturlinse vorgesehen wird, wobei entweder die Mustervorlage oder die Vergrößerungskorrekturlinse oder beide auf der optischen Achse bewegt werden und daraufhin die Mustervorlage und die Vergrößerungskorrekturlinse bewegt werden, während die Bewegungspositionen so beibehalten werden, daß die Abbildungsposition der Vergrößerungskorrekturlinse mit einer vorbestimmten Position zusammenfällt, wodurch die Vergrößerung des projizierten Musters auf dem belichteten Material stufenlos geändert wird.
In diesem früheren Verfahren bzw. in der entsprechenden Vorrichtung der obigen japanischen Patentanmeldung besteht jedoch ein Problem darin, daß zur Variation der Vergrößerung zwischen der Mustervorlage und dem abgebildeten Muster auf dem belichteten Material jede der einzelnen Komponenten, die Mustervorlage, das belichtete Material und die Vergrößerungskorrekturlinse entlang der optischen Achse bewegt werden müssen, und daß, da die Abbildungsposition des projizierten Musters auf das belichtete Material durch jede dieser Bewegungen verschoben wird, entsprechende Verschiebungen kompensiert werden müssen, so daß die Einstellungen zur Änderung der Vergrößerung kompliziert sind und die Auflösung des abgebildeten Musters herabgesetzt ist.
In der US-PS 4 737 823 sind sowohl Beleuchtungslinsen als auch zwei Abbildungslinsen vorgesehen, von denen eine zur Projektion einer Maske oder Mustervorlage auf eine Substratvorlage in verkleinertem Maßstab dient. Eine Bewegung der Linsen beinhaltet gleichzeitig eine Bewegung der Maske, wobei die Maske mittels ihres Halters und das zwei Linsen umfassende Abbildungssystem mittels seines Halters gegenüber einander und einem Rahmen so bewegt werden, daß durch den Abstand zwischen dem Linsenabbildungssystem und der Maske eine variable Vergrößerung eingestellt wird und dann eine Fokussierung erfolgt, indem der Abstand zwischen der projizierenden Linse des Linsenabbildungssystems und dem Substrat und damit der Maskenabbildung ebenfalls verändert wird. Letzteres ist notwendig, da sich bei der Veränderung der Vergrößerung die Fokuslage des Linsenabbildungssystems bezüglich des Substrats ändert und daher der Abstand zwischen der einen projizierenden Linse und dem Substrat bei jeder Vergrößerungseinstellung entsprechend korrigiert werden muß. Die der Maske vorgeschalteten Beleuchtungslinsen sind fixiert.
Ausgehend von den Merkmalen im Oberbegriff des Anspruchs 1 besteht die Aufgabe der Erfindung darin, eine Vorrichtung zur optischen Abbildung anzugeben, bei der die Vergrößerung mit möglichst geringem Aufwand variierbar ist.
Diese Aufgabe wird durch den Gegenstand des Patentanspruchs gelöst.
In der erfindungsgemäßen Vorrichtung sind mehrere Beleuchtungs- und Abbildungslinsen auf der optischen Achse zur Ausbildung eines optischen Systems in der im Anspruch definierten Weise angeordnet, wobei zwei (eine zweite Beleuchtungslinse und eine erste Abbildungslinse) Linsen des optischen Systems eine Mustervorlage sandwichartig zwischen sich einschließen und diese beiden Linsen relativ zur Mustervorlage so bewegt werden, daß der Abstand zwischen dem Linsenpaar unverändert bleibt. Diese Bewegung wird derart gesteuert, daß die Größe eines von den Abbildungslinsen abgebildeten zweiten Musterbildes sich ändert, wobei der Bewegungsbereich so gewählt wird, daß die Bildpunktverschiebung von diesem zweiten Musterbild innerhalb des objektseitigen Fokusbereichs der Projektionslinse fällt. Auf diese Weise garantiert eine Bildpunktverschiebung des zweiten Musterbildes, das von der Projektionslinse aufgenommen und projiziert wird, um beispielsweise bis zu etwa 0,4 mm noch, daß die Brennweite der Projektionslinse nicht eingestellt werden muß, um ein scharfes Musterbild auf dem Belichtungsmaterial zu entwerfen. Somit erübrigen sich erfindungsgemäß eine Verschiebung der zweiten Abbildungslinse und der Projektionslinse. Allein durch die gemeinsame Verschiebung der zweiten Beleuchtungslinse und der ersten Abbildungslinse kann man ein vergrößertes oder verkleinertes zweites Musterbild innerhalb des objektseitigen Fokusbereichs der Projektionslinse gewinnen, das ohne weitere Nachjustierung der Projektionslinse scharf abgebildet wird. Mit anderen Worten erzeugt nicht die Projektionslinse selbst die gewünschte Variation der Vergrößerung, sondern ihr wird bereits die gewünschte Vergrößerung in Form des entsprechend variierten zweiten Musterbildes angeboten - und zwar innerhalb einer vorbestimmten Projektionslinsen-Brennweitenposition. Im Stand der Technik hingegen müssen stets sowohl die Mustervorlage als auch die der Belichtungsvorlage direkt vorgeschaltete Projektionslinse verstellt werden, wenn die Vergrößerung modifiziert werden soll. Erfindungsgemäß bleibt die Lage sowohl der Mustervorlage als auch der zweiten Abbildungslinse unverändert.
Erfindungsgemäß sind die Beleuchtungslinsen relativ zu den Abbildungslinsen in bestimmter Weise gemäß den kennzeichnenden Merkmalen des Anspruchs positioniert. So entwirft die zweite Beleuchtungslinse ein erstes Beleuchtungsbild außerhalb des objektraumseitigen Brennpunktes der ersten Abbildungslinse, die ein zweites Beleuchtungsbild außerhalb des bildraumseitigen Brennpunktes der ersten Beleuchtungslinse entwirft. Ein viertes Beleuchtungsbild wird durch die weiteren Abbildungen so entworfen, daß es mit vorteilhafter Größe und Lage der Eintrittspupillenlage der Projektionslinse erzeugt wird. Das Verhältnis aus dem Durchmesser des Beleuchtungsbildes zum Durchmesser der Eintrittspupille der Projektionslinse (im folgenden als Öffnungsverhältnis bezeichnet) kann dabei innerhalb eines vorgegebenen Toleranzbereiches gehalten werden.
Mit der erfindungsgemäßen Vorrichtung kann eine Abbildung mit hohem Kontrast und guter Telezentrizität erzeugt werden. Bei der Vergrößerungseinstellung des Musterbildes braucht die Distanz zwischen der zweiten Abbildungslinse und der Projektionslinse nicht korrigiert zu werden. Statt dessen können die zweite Beleuchtungslinse und die erste Abbildungslinse in einfacher Weise als eine Einheit bewegt werden. Infolgedessen ist die Steuerung der Bewegung der Einheit aus der zweiten Beleuchtungslinse und der ersten Abbildungslinse einfach und mit hoher Genauigkeit ausführbar.
Im folgenden wird die Erfindung an Hand der Zeichnungen näher erläutert. Es zeigt
Fig. 1 eine schematische Darstellung eines Ausführungsbeispiels der erfindungsgemäßen optischen Abbildungsvorrichtung,
Fig. 2(a) einen Grundriß eines Mechanismus zur Definition einer variablen Apertur aus dieser Vorrichtung,
Fig. 2(b) einen Schnitt durch den Mechanismus aus Fig. 2(a) entlang der Linie B-B,
Fig. 2(c) einen Schnitt durch den Mechanismus aus Fig. 2(a) entlang der Linie C-C,
Fig. 2(d) einen Schnitt durch den Mechanismus aus Fig. 2(a) entlang der Linie D-D,
Fig. 3 ein Blockschaltbild eines Ausführungsbeispiels für eine Mustersteuervorrichtung, die in der erfindungsgemäßen Vorrichtung verwendet wird, und
Fig. 4 bis 11 schematische Darstellungen des Strahlenganges optischer Systeme zur Veranschaulichtung der Funktion der erfindungsgemäßen Vorrichtung.
Die Fig. 1 zeigt in schematischer Weise ein erstes Ausführungsbeispiel eines Verkleinerungsgerätes, auf das die Erfindung angewandt ist.
Ein XYZ-Objekttisch, der zu belichtendes Material 2, beispielsweise ein Master für eine Schattenmaske, trägt, ist durch die Bezugszahl 1 angedeutet und ist in XYZ- Richtungen bewegbar. Ein optisches Linsensystem 4 mit einem Mechanismus 12 zur Definition einer variablen Apertur ist oberhalb des XYZ-Objekttisches 1 angeordnet. Eine Lichtquelle 5 mit einer Xenonlampe 5a und einer Facettenaugenlinse 5b (fly array lense) ist über Reflexion mittels eines Reflektors 7 oberhalb des optischen Linsensystems 4 angeordnet. Beleuchtungs- oder Belichtungslicht von der Lichtquelle 5 wird über den Reflektor 7 und das optische Linsensystem 4 auf das Material 2 übertragen, welches auf dem XYZ- Objekttisch 1 angeordnet ist, um ein Projektionsmuster, das am Mechanismus 12 zur Definition einer variablen Apertur des optischen Linsensystems 4 vorgesehen ist, auf dem Material 2 verkleinert zu projizieren und abzubilden.
Der XYZ-Objekttisch bzw. die XYZ-Stufe 1 umfaßt eine Basis 1b, die eine schräge obere Führungsfläche 1a aufweist, die zur rechten Seite der Abbildung hin fortschreitend abfällt, ferner einen Z-Achsentisch 1f, dessen untere schräge Fläche 1c sich der schrägen Führungsfläche 1a der Basis 1b anpaßt und der eine horizontale obere Fläche 1d aufweist und von links nach rechts und umgekehrt mit Hilfe eines linearen Antriebsmechanismus 1e, der einen Antriebsmotor und beispielsweise eine Kugelumlaufspindel usw. umfaßt, bewegbar ist. Ferner umfaßt der XYZ-Objekttisch einen X-Achsentisch 1h, der auf Wälzelementen 1g, beispielsweise Kugeln, auf dem Z-Achsentisch 1f zwischen der linken und rechten Seite gleitend angebracht ist. Ferner ist auf dem X- Achsentisch 1h ein Y-Achsentisch 1i angebracht und in Richtung von vorn nach hinten gleitbar. Der lineare Antriebsmechanismus 1e läßt den Z-Achsentisch 1f entlang der schrägen Führungsfläche 1a in Fig. 1 von rechts nach links und umgekehrt gleiten, um das belichtete Material 2, das auf dem Y-Achsentisch 1i plaziert ist, längs einer optischen Achse 6 zu bewegen.
Das optische Linsensystem 4 umfaßt eine erste Be­ leuchtungslinse LL 1, die der Lichtquelle 5 über die Reflexion über den Reflektor 7 gegenüberliegt, ferner eine zweite Beleuchtungslinse LL 2 und eine erste Abbildungslinse LI 1, die beide vor oder innerhalb des Bildpunktes OL 1 der ersten Beleuchtungslinse LL 1 liegen. Ein Fadenkreuz oder eine Strichplatte 11 sind zwischen den beiden Linsen LL 2 und LI 1 vorgesehen und bilden eine Mustervorlage, beispielsweise für ein kreisrundes Muster. Eine zweite Abbildungslinse LI 2 ist außerhalb des Bildpunktes OL 1 der ersten Beleuchtungslinse LL 1 angeordnet und eine Verkleinerungs­ linse LR, die eine Projektionslinse darstellt, ist so vorgesehen, daß ein Bildpunkt OI 2 der zweiten Abbildungslinse LI 2 in die objektseitige Brennweite der Linse LR fällt. Die obengenannten Elemente des optischen Linsensystems 4 sind auf der optischen Achse 6 hintereinander angeordnet.
Eine Distanz l zwischen der zweiten Beleuchtungslinse LL 2 und der ersten Abbildungslinse LI 1 ist so ausgewählt, daß sie kürzer als die Summe (fL 2+fI 1) der Brennweite oder des Brennpunktabstandes fL 2 der zweiten Beleuchtungslinse LL 2 und der Brennweite fI 1 der ersten Abbildungslinse LI 1 ist, so daß die Strichplatte 11 und ein virtuelles Bild i₂, das, wie später näher erläutert wird, von der zweiten Beleuchtungslinse LL 2 geliefert wird, in die bildseitige Brennweite fL 2 der zweiten Beleuchtungslinse LL 2 und außerhalb der objektseitigen Brennweite fI 1 der ersten Abbildungslinse LI 1 fallen, wie in der Zeichnung durch die entsprechenden Brennpunkte FI 1 und FL 2′ angedeutet ist. Das Paar aus der zweiten Beleuchtungslinse LL 2 und der ersten Abbildungslinse LI 1 ist entlang der optischen Achse 6 relativ zur Strichplatte 11 so bewegbar, daß die Länge l konstant gehalten wird.
Die Linsen LL 2 und LI 1 sowie die Strichplatte 11 werden von einem Trag- oder Halterungsmechanismus 13 [Fig. 2(a) bis 2(d) ] gehaltert, der am Mechanismus 12 zur Definition einer variablen Apertur entfernbar angebracht ist. Der Aperturdefinitionsmechanismus 12 umfaßt: eine Führung 14 mit einem Querschnitt, der einer rechtwinkligen U-Form entspricht und an einem fixierten Rahmentragwerk befestigt ist, wobei sich die Führung entlang der X-Achse erstreckt und eine quadratische oder rechtwinklige Öffnung 14a in der Mitte der Führung 14 aufweist; ein Paar von Gleitplatten 15a und 15b, die von der Führung 14 gleitend geführt werden; ein Paar Blendenflügel 16a und 16b, jeweils mit einer Schneidkante an ihren vorderen Enden, die jeweils an den sich gegenüberliegenden Öffnungsenden 14a der Gleitplatten 15a und 15b befestigt sind; eine weitere Führung 17 mit einem Querschnitt, der der Form eines umgekehrten rechtwinkligen U's entspricht, wobei die Führung 17 am Zentrum der Führung 14 befestigt ist, sich entlang der Y-Achse erstreckt und eine quadratische oder rechtwinklige Öffnung 17a im Zentrum der Führung 17 aufweist; ein weiteres Paar von Gleitplatten 18a und 18b, das in der in Fig. 2(c) gezeigten Weise gleitend von der Führung 17 bewegt wird; und ein weiteres Paar von Blendenflügeln 19a und 19b, die jeweils wiederum Schneidkantenvorderenden aufweisen und an den jeweiligen sich gegenüberliegenden Öffnungsseitenenden 14a der Gleitplatten 18a und 18b angebracht sind. Auf diese Weise bilden die beiden Paare von Blendenflügeln oder Abdeckflügeln 16a, 16b, 19a und 19b gemeinsam ein rechtwinkliges bzw. quadratisches Blendenmuster. Ein Kugelumlaufspindelmechanismus (Fig. 3) umfaßt einen Antriebsmotor 20, eine Gewindespindel oder eine Gewindestange 21, die vom Antriebsmotor 20 angetrieben wird, und eine Kugelmutter 22, die auf die Spindel 21 paßt und jeweils an jedem Blendenflügel 16a, 16b, 19a und 19b befestigt ist und diesen an ihr befestigten Blendenflügel bewegt. In den Fig. 2(a) bis 2(d) sind die Antriebsmechanismen für die Blendenflügel 16b, 19a und 19b nicht dargetellt, und es ist statt dessen nur der Mechanismus für den Blendenflügel 16a bzw. dessen Gleitplatte 15a zu sehen.
Der Halterungsmechanismus 13 umfaßt einen Rahmentragwerk 23, dessen mittlerer Abschnitt lösbar innerhalb der Öffnung 17a in der Führung 17 des Aperturdefinitionsmechanismus 12 angebracht ist und die Strichplatte 11 hält. Ferner umfaßt der Halterungsmechanismus 13 einen oberen Halter 25, der an den oberen Enden von Schiebewellen 24a und 24b befestigt ist, welche mittels linearer Kugellager 23a und 23b vertikal geführt werden, welche innerhalb des Rahmentragwerks 23 befestigt sind, und hält die zweite Beleuchtungslinse LL 2. Ein unterer Halter 26 ist an den unteren Enden der Schiebewellen oder Gleitstücke 24a und 24b befestigt und hält die erste Abbildungslinse LI 1. Ferner umfaßt der Mechanismus 13 ein Paar von Kompressions- oder Druckschraubenfedern 27a und 27b, die jeweils um die Schiebewellen 24a und 24b herum angeordnet zwischen der Unterseite des Rahmentragwerks 23 und der Oberseite des unteren Halters 26 liegen. Darüber hinaus weist der Mechanismus 13 einen Vertilantriebsmechanismus 28 auf, der den oberen Halter 24 vertikal bewegt.
Das Rahmentragwerk 23 umfaßt einen horizontalen Plattenabschnitt 23c und einen vertikalen Abschnitt 23d in Form eines umgekehrten rechtwinkligen U's, der integral an die Unterseite des horizontalen Plattenabschnitts 23c angefügt ist. Eine Durchbohrung oder durchgehende Öffnung 23e erstreckt sich durch den Mittelpunkt des horizontalen Plattenabschnitts 23 und des Abschnitts 23d in Form eines auf dem Kopf stehenden rechtwinkligen U's. Ein Zwischenbereich der Oberfläche der inneren Wandung der durchgehenden Öffnung 23e weist eine Öffnung oder Aussparung auf, die einen Flansch definiert, dessen Unterseite die ein kreisrundes Muster liefernde Strichplatte 11 lösbar hält. Links und rechts von der durchgehenden Aussparung 23e liegende Durchgangslöcher 23f und 23g erstrecken sich durch den horizontalen Plattenabschnitt 23c und den Abschnitt 23d in Form eines vertikalen umgedrehten rechtwinkligen U's. Die entsprechenden Linearkugellager 23a und 23b sind innerhalb der Durchgangslöcher 23f und 23g angeordnet.
Wie aus den Fig. 2(a) und 2(d) hervorgeht, erstreckt sich entsprechend einem vertikalen Antriebsmechanismus 28 ein Paar von Schiebewellen 29a und 29b zwischen der rechten und linken Seite durch die Zentren von Vorder/Hinter-Achsen von im Rahmentragwerk 23 definierten rechtwinkligen Ausnehmungen oder Einstichen 23h und 23i symmetrisch auf der Vorder- und Rückseite der durchgehenden Öffnung 23e, die im horizontalen Plattenabschnitt des Rahmentragwerks 23 definiert ist, eine Verbindungsstange 30a verbindet die linksseitigen, sich außerhalb des Rahmentragwerks 23 erstreckenden Enden der Schiebewellen 29a und 29b, eine weitere Verbindungsstange 23b verbindet die rechtsseitigen, sich außerhalb des Rahmentragwerks 23 erstreckenden Enden der Schiebewellen 29a und 29b, ein Paar von Nocken 31a und 31b, die jeweils eine sich nach rechts fortschreitend absenkende Nockensteuerfläche aufweisen, sind jeweils an Abschnitten der Schiebewellen 29a und 29b befestigt, welche Abschnitte den Aussparungen 23h und 23i entsprechen. Ein Paar von Nockenstößeln 32a und 32b, die jeweils mit Wälzlagern, deren äußere Laufflächen in Kontakt mit den Nockensteuerflächen der Nocken 31a und 31b sind, ausgestattet sind, sind am oberen Halter 25 befestigt, ein Paar von Zug- oder Spannfedern 34a und 34b verbindet die Verbindungsstange 30a mit einem Ständer oder einer Stütze 33, die an der oberen Fläche der Gleitplatte 15a befestigt ist, und ferner können in diesem vertikalen Antriebsmechanismus 28 ein Vorsprung 35a, der an der Verbindungsstange 30a vorgesehen ist, und ein Anschlag 35b, der am Ständer 33 vorgesehen ist und ein einstellbares Vorsprungausmaß aufweist, in Kontakt miteinander sein. Eine Bewegung der Gleitplatte 15a bewegt die Schiebewellen 29a und 29b so, daß der obere und untere Halter 25 und 26 als eine Einheit vertikal bewegt werden.
Ein Träger 36, der auf der Unterseite der Führung 14 des Aperturdefinitionsmechanismus 12 angebracht ist, geht in eine Blendenflügelhalterungsstütze über. Das Zentrum des Trägers 36 hält die zweite Abbildungslinse LI 1. Die Position der zweiten Abbildungslinse LI 2 ist derart ausgewählt, daß der Bildpunkt OI 2′, bei dem das zweite Musterbild I₂ des ring- oder kreisförmigen Musters der Strichplatte 11 durch die zweite Abbildungslinse LI 2 hervorgerufen wird, mit einer Position zusammenfällt, an der die beiden Blendenpaare 16a, 16b und 19a, 19b gemeinsam ein quadratisches oder rechteckiges Muster definieren.
Eine Mustersteuervorrichtung 37 (Fig. 3) steuert den Antriebsmotor 20 des Mechanismus 12 zur Definition einer variablen Apertur.
Die Mustersteuervorrichtung 37 umfaßt: einen Mikrocomputer 38, der zumindest ein Eingangs/Ausgangs-Interface 38a, einen Prozessor 38b und einen Speicher 38c umfaßt; eine Motorantriebsschaltung 39 und eine Musterauswahleingabeeinheit 40 zur Eingabe von Projektionsvergrößerungswerten eines projizierten Musters in den Mikrocomputer 38.
Wenn die Musterauswahleingabeeinheit 40 Daten, die die Projektionsvergrößerung festlegen, eingibt, so nimmt der Prozessor 38b des Mikrocomputers ansprechend auf die eingegebenen, die Projektionsvergrößerung festlegenden Daten auf eine gespeicherte Tabelle Bezug, die vorab im Speicher 38c gespeichert worden ist, berechnet eine Zielverschiebung der Einheit aus der zweiten Beleuchtungslinse LL 2 und der ersten Abbildungslinse LI 1, die der gewünschten Projektionsvergrößerung entspricht, und erzeugt eine Verschiebungsanweisung für die Motorantriebsschaltung 39 in Abhängigkeit von einer Differenz zwischen der Zielverschiebung bzw. dem Verschiebungszielpunkt und einer gerade vorliegenden Position der Einheit aus den Linsen LL 2 und LI 1, um den Antriebsmotor 20 zu steuern, so daß auf diese Weise die Projektionsvergrößerung festgelegt wird.
In der Fig. 1 weist die dem belichteten Material 2 gegenüberliegende Unterseite eines feststehenden die Linse LR halternden hohlen Zylinders 41 eine Aperturöffnung 42 auf, die Belichtungslicht hindurchläßt, und es sind vier Luftzuführdüsen 43 um den Umfang dieser Öffnung 42 in gleichen Intervallen beabstandet angeordnet. Jede der Düsen 43 ist mit einer gemeinsamen Lufteinspeisungsquelle 44 über eine Verengung 45 und mit einer Einlaßöffnung eines gemeinsamen Differentialdruckwandlers 46 verbunden. Der andere Eingangsanschluß des Differentialdruckwandlers 46 steht mit der Lufteinspeisungsquelle 44 über eine weitere Verengung oder Drosselstelle 47 und mit der Atmosphäre in Verbindung. Die Düsen 43, die Lufteinspeisungsquelle 44, die Verengungen 45 und 47 und der Differentialdruckwandler 46 bilden gemeinsam ein Luftmikrometer 48.
Ein Detektorsignal des Differentialdruckwandlers 46 wird zu einer Brennpunkteinstellsteuervorrichtung oder -stufe 50 geleitet. Die Brennpunkteinstellsteuervorrichtung 50 vergleicht das Detektorsignal des Differentialwandlers 46 mit einem Zielwert, der von einer Zielwertbestimmungseinheit 50a bestimmt worden ist, und erzeugt ein Abweichungssignal, das einen Differenzwert aus diesem Vergleich darstellt und einer Antriebsschaltung 50b, die einen Verstärker usw. umfaßt, zugeführt wird. Die Antriebsschaltung 50b erzeugt ein Antriebsausgangssignal, das eine Betätigungseinheit, beispielsweise einen Motor für den linearen Antriebsmechanismus 1e des XYZ-Objekttisches 1 so steuert, daß der lineare Antriebsmechanismus 1e die Distanz zwischen den Düsen 43 und dem belichteten Material 2 auf einen geeigneten Wert einstellt.
Die XYZ-Achsenbewegungen des XYZ-Objekttisches 1 werden mit Hilfe von Meßwertrückkopplungssignalen von einem Detektor 52 in aufeinanderfolgender Kopier- und Repetiervorgangsweise (step-and-repeat manner) derart gesteuert bzw. geregelt, daß eine ursprüngliche (nicht dargestellte) Markierung, die auf dem Belichtungsmaterial 2 vorgesehen ist, optisch ausgelesen wird, ein Steuerausgangspunkt auf der Grundlage der ausgelesenen ursprünglichen Markierung bestimmt wird der der Detektor 52, beispielsweise eine Laserlängenmeßeinrichtung, die die absoluten Distanzen entlang der XY-Achsen, ansprechend auf einen Belichtungszyklus des projizierten Musters, erfaßt, die auf den gemessenen Wert zurückgehenden Rückkopplungssignale erzeugt.
Im folgenden wird die Funktionsweise des oben erläuterten Ausführungsbeispiels näher erläutert.
Wie aus Fig. 4 hervorgeht, wird Belichtungslicht vom Austrittsende der Facettenaugenlinse 5b der Lichtquelle 5 vom Reflektor 7 zur ersten Beleuchtungslinse LL 1 reflektiert. Die erste Beleuchtungslinse LL 1 erzeugt das erste Beleuchtungsbild i₁ an ihrem entsprechenden Bildpunkt OL 1. Die zweite Beleuchtungslinse LL 2 erzeugt das zweite Beleuchtungsbild i₂ vom ersten Bild i₁ innerhalb des bildraumseitigen Brennpunktes F′L 2 und außerhalb des objekt- oder gegenstandsraumseitigen Brennpunktes FI 1 der ersten Abbildungslinse LI 1, um auf diese Weise das erste Bild i₁ als virtuelles Bild aufzunehmen. Die erste Abbildungslinse LI 1 erzeugt das dritte Beleuchtungsbild i₃ so groß wie das erste Beleuchtungsbild i₁ aus dem zweiten Beleuchtungsbild i₂ bei einer Position, die mit der der ersten Abbildung der Lichtquelle i₁ zusammenfällt. Die zweite Abbildungslinse LI 2 erzeugt das vierte Beleuchtungsbild i₄ aus dem dritten Beleuchtungsbild i₃ an der Eintrittspupillenposition der Verkleinerungslinse LR. (Mit Eintrittspupille ist das dingseitige, den Strahlenraum der optischen Abbildung begrenzende Blendenbild gemeint.)
Andererseits erzeugt, wie aus Fig. 5 hervorgeht, die erste Abbildungslinse LI 1 das erste Musterbild I₁ an ihrem Bildpunkt O′I 1 vom kreis- oder ringförmigen Muster der Strichplatte 11, die innerhalb des bildseitigen Brennpunktes F′L 2, d. h. der Brennweite, der zweiten Beleuchtungslinse LL 2 vorgesehen ist. Die zweite Abbildungslinse LI 2 erzeugt ein zweites Musterbild I₂ aus dem ersten Musterbild I₁ am Bildpunkt O′I 2 innerhalb des objektraumseitigen Fokusbereichs der Reduktionslinse LR. Die Reduktionslinse LR reduziert das zweite Musterbild I₂, um dieses auf dem belichteten Material 2 vorzusehen, das auf dem XYZ-Objekttisch 1 plaziert ist. Da das ring- oder kreisförmige Muster der Strichplatte 11 am Bildpunkt O′I 2 der zweiten Abbildungslinse LI 2 abgebildet wird, der innerhalb der zulässigen Objektraumbrennweite der Reduktionslinse LR fällt, wird die Strichplatte 11 gleichermaßen am Bildpunkt O′I 2 plaziert, so daß die Linsen LL 1, LL 2, LI 1 und LI 2 gemeinsam eine einzige Kondensorlinse zu bilden scheinen.
Entsprechend dieser Anordnung ändert die gleichzeitige Bewegung der zweiten Beleuchtungslinse LL 2 und der ersten Abbildungslinse LI 1 bezüglich der Strichplatte 11 mittels der Mustersteuervorrichtung 37 die Vergrößerung des Musterbildes, das am Bildpunkt O′I 2 der zweiten Abbildungslinse LI 2 erzeugt wird, in der Weise, daß das Öffnungsverhältnis des Beleuchtungslichtbildes der Lichtquelle 5, das auf die Eintrittspupille der Reduktionslinse LR einfällt, innerhalb eines zulässigen Bereiches fallen kann.
Im folgenden wird das Prinzip, daß die Änderung der Distanz der Einheit der zweiten Beleuchtungslinse LL 2 und der ersten Abbildungslinse LI 1 von der Strichplatte 11 die Vergrößerung des zweiten Musterbildes I₂ ändert, näher erläutert.
Zunächst wird die Beziehung zwischen einer Verschiebung Δ eines Objektpunktes O einer einzigen dünnen Linse und einer Verschiebung Δ′ eines entsprechenden Bildpunktes O′ der einzigen dünnen Linse erläutert, wobei diese Beziehung der vorliegenden Erfindung zugrundeliegt.
In der Fig. 6 ist die objektseitige Brennweite einer dünnen Linse mit f angedeutet, die bildseitige Brennweite ist mit f′ angedeutet, die Distanz vom Hauptpunkt H der dünnen Linse zum Objektpunkt O ist mit S angezeigt, die Distanz vom Hauptpunkt H zum Bildpunkt O′ ist mit S′ angezeigt, die Größe eines Objektes, das am Objektpunkt O liegt, ist mit A angedeutet, die Größe eines entsprechenden Bildes, das am Bildpunkt O′ erzeugt wird, ist mit B angedeutet, und die Vergrößerung wird mit m bezeichnet. Damit ergibt sich die folgende Abbildungsgleichung:
1/S′ = 1/S + 1/f′ (1)
Die Vergrößerung m wird durch die folgende Gleichung ausgedrückt:
m = S′/S = B/A. (2)
Infolgedessen werden die Distanzen S und S′ aus den Gleichungen (1) und (2) wie folgt abgeleitet:
S′ = f′ [1/m-1] (3)
S′ = f′ [1-m]. (4)
Die Beziehung zwischen der Verschiebung Δ des Objektpunktes O und der Verschiebung Δ′ des Bildpunktes O′ wird aus Gleichung (1) wie folgt abgeleitet:
In diesem Fall ist das Verhältnis K einer Vergrößerung m* nach einer Verschiebung zur Vergrößerung m vor der Verschiebung durch die folgende Gleichung ausdrückbar:
K = m*/m. (7)
Substitution der Gleichungen (1), (3) und (5) für m* und m aus Gleichung (7) und darauffolgende Umformung der resultierenden Gleichung ergeben die folgende Gleichung:
Die Bildpunktverschiebung Δ′ wird wie folgt ausgedrückt:
Δ′ = mf′ (1-K ). (9)
In ähnlicher Weise wird das Verhältnis K, bezogen auf die Objektverschiebung Δ, wie folgt ausgedrückt:
Die Objektverschiebung Δ ergibt sich wie folgt:
Subtraktion der Gleichung (11) von Gleichung (9) liefert die folgende Gleichung:
Infolgedessen kann die Beziehung zwischen der Bildpunktverschiebung Δ′ und Objektpunktverschiebung Δ wie folgt ausgedrückt werden:
Δ′ = Δ (m²K-1) + Δ = Δm²K. (13)
Da, wenn die erste Abbildungslinse LI 1 um eine Verschiebung Δ₁ so verschoben wird, daß das kreisrunde Muster der Strichplatte 11 am Bildpunkt O′I 2 der zweiten Abbildungslinse LI 2 abgebildet wird, wie in Fig. 5 gezeigt ist, die Beziehung zwischen der Verschiebung Δ₁ der ersten Abbildungslinse LI 1 und einer Verschiebung Δ″I des Bildpunktes O′I 2 der zweiten Abbildungslinse LI 2 mit Bezug auf die erste Abbildungslinse LI 1 äquivalent zu der Beziehung zwischen einer Verschiebung Δ₁, um die die Strichplatte 11 in einer bezüglich der Verschiebung der ersten Abbildungslinse LI 1 entgegengesetzten Richtung verschoben wird, und der Verschiebung Δ″I des Bildpunktes O′I 2 der zweiten Abbildungslinse LI 2 ist, so wird folglich eine Verschiebung des ersten Musterbildes I₁, die von der ersten Abbildungslinse LI 1 hervorgerufen wird, durch den Ausdruck Δ′II ausgedrückt. Wird eine Vergrößerung vor der Verschiebung durch mI 1 ausgedrückt, eine Vergrößerung nach einer Verschiebung durch mI 1* ausgedrückt und das Verhältnis in der Vergrößerung durch KI 1 (=mI 1*/mI 1) ausgedrückt, so wird aus Gleichung (12) die folgende Gleichung abgeleitet:
Δ′I - ΔI = ΔI(m²I 1KI 1-1). (14)
Eine Bildpunktverschiebung Δ″I der zweiten Abbildungslinse LI 2 wird folgendermaßen ausgedrückt, wenn eine Vergrößerung vor der Verschiebung durch mI 2, eine Vergrößerung nach der Verschiebung durch mI 2* ausgedrückt werden und das Verhältnis der Vergrößerung KI 2 (=mI 2*/mI 2) dargestellt wird, wobei die folgende Gleichung aus Gleichung (13) abgeleitet wird:
Δ″I = (Δ′III 2KI 2 = ΔI(m²I 1KI 1-1) m²I 2KI 2 (15)
Andererseits kann die Objektpunktverschiebung ΔI der ersten Abbildungslinse LI 1 aus Gleichung (11) wie folgt abgeleitet werden:
Eine Objektpunktverschiebung (Δ′II) der zweiten Abbildungslinse LI 2 kann ebenfalls aus Gleichung (11) wie folgt abgeleitet werden:
Ein Verhältnis der Vergrößerung KI 1 kann aus Gleichung (10) wie folgt abgeleitet werden:
Ein Verhältnis der Vergrößerung KI 1 kann ebenfalls aus Gleichung (10) wie folgt abgeleitet werden:
Wird die erste Abbildungslinse LI 1 um die Verschiebung ΔI verschoben, wird eine generelle Vergrößerung KI, die am Bildpunkt O′I 2 der zweiten Abbildungslinse LI 2 geliefert wird, folgendermaßen ausgedrückt:
Ein Umformen dieser Gleichung (20) liefert die Verschiebung ΔI der ersten Abbildungslinse LI 1, die wie folgt ausgedrückt werden kann:
Wird der zulässige Bereich der Objektraumbrennweite der Reduktionslinse LR beispielsweise zu 0,4 mm angenommen, so ergeben sich die folgenden Dimensionierungen für die jeweiligen Linsen: Im Fall der ersten Beleuchtungslinse LL 1 betragen die Brennweite fL 1= 229,30 mm, der effektive Durchmesser ⌀=79 mm, die f-Zahl (Lichtstärke)=2,9, der Abstand von der Hauptebene zum Objektpunkt SL 1=-1095,56 mm, der Abstand von der Hauptebene zum Bildpunkt S′L 1=3290 mm und die Vergrößerung mL 1=-1/3,7778; im Fall der zweiten Beleuchtungslinse LL 2 betragen die Brennweite fL 2=76,77 mm, der effektive Durchmesser ⌀=25 mm, die f-Zahl=3,07, der Abstand von der Hauptebene zum Objektpunkt SL 2=-256,04 mm, der Abstand von der Hauptebene zum Bildpunkt S′L 2=59,06 mm und die Vergrößerung mL 2=1/4,3353; im Fall der ersten Abbildungslinse LI 1 betragen die Brennweite fI 1=30 mm, der effektive Durchmesser ⌀=17 mm, die f-Zahl=1,76, der Abstand von der Hauptebene zum Objektpunkt SI 1= -36,92 mm, der Abstand von der Hauptebene zum Bildpunkt S′I 1=160,06 mm und die Vergrößerung mI 2= -4,3353 (SI 1=-60 mm, S′I 1=60 mm und die Vergrößerung mI 1=-1 für ein Musterbild); im Fall der zweiten Abbildungslinse LI 2 betragen die Brennweite fI 2=81 mm, der effektive Durchmesser ⌀=32 mm, die f-Zahl=2,53, der Abstand von der Hauptebene zum Objektpunkt SI 2=102,44 mm, der Abstand von der Hauptebene zum Bildpunkt S′I 2=387 mm, die Vergrößerung mI 2=-3,7778 (SI 2=-202,5 mm, S′I 2=135 mm und die Vergrößerung mI 2=-1/1,5 für ein Musterbild). Die Verschiebung ΔI von LI 1 wird für die angegebenen Werte durch die Gleichung (21) hervorgerufen, wobei eine gewünschte allgemeine oder generelle Vergrößerung K₁ gegeben wird. Fällt die Verschiebung Δ″I des Bildpunktes O′I 2 der zweiten Abbildungslinse LI 2 innerhalb des zulässigen objektseitigen Fokusbereichs von 0,4 mm, so kann in diesem Fall ein gutes defokussiertes bzw. unscharfes freies Musterbild auf die Reduktionslinse LR fallen.
Die folgende Tabelle 1 zeigt die Verschiebung Δ₁, die Änderung der Vergrößerung als Verhältnis KI 1 und die Bildpunktverschiebung Δ′II der ersten Abbildungslinse LI 1 und die Änderungsrate der Vergrößerung KI 2 und die Bildpunktverschiebung Δ″I der zweiten Abbildungslinse LI 2 für verschiedene gegebene generelle oder insgesamte Vergrößerungen KI.
Tabelle 1
Wie aus dieser Tabelle 1 hervorgeht, wird beim Verschieben der ersten Abbildungslinse LI 1 aus einer Position, die das zweite Musterbild des kreisförmigen Musters der Strichplatte 11 am Bildpunkt O′I 2 der zweiten Abbildungslinse LI 2 mit einer gleichbleibenden Größe (Vergrößerung von 1) erzeugt, nach links das zweite Musterbild I₂ vergrößert, andererseits wird beim Verschieben der ersten Abbildungslinse LI 1 aus dieser Position nach rechts das zweite Musterbild I₂ verkleinert. Werden derartige Vergrößerungs- und Verkleinerungsbereiche mit ±15% angesetzt, so wird dafür gesorgt, daß die Bildpunktverschiebung Δ″I in den zulässigen objektraumseitigen Fokusbreite (0,4 mm) der Reduktionslinse LR fällt, so daß die Brennweite der Reduktionslinse LR nicht speziell eingestellt werden muß.
Wie oben erläutert wurde, erzeugt das Beleuchtungslicht von der Lichtquelle 5 das erste Beleuchtungsbild i₁ am Bildpunkt O′L 1 außerhalb des bildseitigen Brennpunktes F′I 1 der ersten Abbildungslinse LI 1 mittels der ersten Beleuchtungslinse LL 1, wie in Fig. 5 und 7 gezeigt ist. Wie in Fig. 8 und 9 gezeigt ist, erzeugt die zweite Beleuchtungslinse LL 2 das zweite Beleuchtungsbild (die zweite Abbildung des Beleuchtungslichtes) i₂, welches ein virtuelles Bild innerhalb des bildseitigen Brennpunktes FL 2 der zweiten Beleuchtungslinse LL 2 außerhalb des objektraumseitigen Brennpunktes FI 1 der ersten Abbildungslinse LI 1 vom ersten Beleuchtungsbild i₁ darstellt. Wie in Fig. 4 dargestellt ist, erzeugt die erste Abbildungslinse LI 1 das dritte Beleuchtungsbild i₃ ebenso groß wie das erste Bild i₁ am Bildpunkt O′L 1 der ersten Beleuchtungslinse LL 1 aus dem zweiten Bild i₂. Wie ferner aus Fig. 4 hervorgeht, erzeugt die Abbildungslinse LI 2 das vierte Beleuchtungsbild i₄ an der Eintrittspupillenlage der Reduktionslinse LR aus dem dritten Bild i₃.
In diesem Fall ist die Verschiebung der Einheit aus der zweiten Beleuchtungslinse LL 2 und der ersten Abbildungslinse LI 1 um die Verschiebung ΔL, wie in Fig. 9 gezeigt, äquivalent zu einer virtuellen Objektpunktverschiebung ΔL des ersten Beleuchtungslichtbildes i₁, so daß der Bildpunkt O′L 2 der zweiten Beleuchtungslinse LL 2, bei dem das Beleuchtungslichtbild i₂ erzeugt wird, relativ zur zweiten Beleuchtungslinse LL 2 und die Verschiebung Δ′L 2 verschoben wird.
Infolgedessen wird die Beziehung der Objektpunktverschiebung ΔL und der Bildpunktverschiebung Δ′L aus Gleichung (13) wie folgt ausgedrückt:
Δ′L = ΔLL 2KL 2 (22)
Da das Verhältnis KL 2 sich aus Gleichung (10) wie folgt ergibt:
ergibt sich bei Substitution von KL 2 in Gleichung (23) mit Hilfe von Gleichung (22) die folgende Gleichung für die Bildpunktverschiebung Δ′L 2:
Da ein Verschieben des Bildpunktes O′L 2, bei dem das zweite Beleuchtungsbild i₂ erzeugt wird, um die Verschiebung Δ′L 2 aus der Anfangsposition der Fig. 10(a) zur Position der Fig. 10(b) äquivalent einer Verschiebung des Objektpunktes OI 1 der ersten Abbildungslinse LI 1 um die Verschiebung ΔI 1 (=Δ′L 2) in der Beziehung zwischen dem zweiten Beleuchtungsbild i₂ und der ersten Abbildungslinse LI 1 ist, so ergibt sich folglich die Beziehung zwischen der Objektpunktverschiebung ΔI 1 und der Bildpunktverschiebung Δ′I 1 aus Gleichung (13) wie folgt:
Δ′I = ΔI 1I 1KI 1 (25)
Das Verhältnis KI 1 wird aus Gleichung (10) wie folgt abgeleitet:
Die Substitution von KI 1 in Gleichung (26) durch den entsprechenden Wert aus Gleichung (25) liefert die Bildpunktverschiebung Δ′I 1 mit folgender Gleichung:
Da die Objektverschiebung ΔI 1 gleich der Bildpunktverschiebung Δ′L 2 der zweiten Beleuchtungslinse LL 2 ist, ergibt die Substitution der Objektpunktverschiebung ΔI 1 in Gleichung (24), d. h. von Δ′L 2, durch die Gleichung (27) die folgende Gleichung für die Objektpunktverschiebung:
Infolgedessen ergibt sich, wie in Fig. 11 gezeigt ist, bei Verschiebung der ersten Abbildungslinse LI 1 um eine Verschiebung ΔL eine Verschiebung des dritten Beleuchtungsbildes i₃, das am Bildpunkt O′I 1 erzeugt wird, um die Verschiebung Δ₃, in der die Verschiebung ΔL von der Verschiebung Δ′I 1 subtrahiert ist.
Infolgedessen ist die Verschiebung Δ₃ durch die folgende Gleichung darstellbar:
Δ₃ = Δ′I 1 - ΔL (29)
Wird in Gleichung (28) Δ′I 1 aus Gleichung (29) ersetzt und dann die resultierende Gleichung (29) umgeformt, so ergibt sich die Gleichung:
worin
A = ΔLfI 1fL 2I 1L 2
B = ΔL[fI 1fL 2-L(fI 1mL 2+fL 2mI 1L 2) ]
C = fI 1fL 2-L(fI 1mL 2+fL 2mI 1L 2)
In Gleichung (30) sind die Bedingungen, die erforderlich sind, um die Vergrößerungen des ersten Beleuchtungsbildes i₁ und dritten Beleuchtungsbildes i₃ gleich zu machen und um das erste und dritte Beleuchtungsbild i₁ und i₃ an derselben Position, jedoch umgekehrt bezüglich einander abzubilden, wie folgt:
mI 1 · mL 2 = -1 (31)
I 1 · m²L 2 = 1 (32)
Substituiert man in den Gleichungen (31) und (32) mI 1 mit Hilfe von Gleichung (30) und formt die resultierende Gleichung um, so ergibt sich die folgende Gleichung:
Da die zweite Abbildungslinse LI 2 das vierte Beleuchtungsbild i₄ an der Eintrittspupillenlage der Reduktionslinse LR aus dem dritten Beleuchtungsbild i₃ erzeugt, wird die Bildpunktverschiebung Δ′L 4 der zweiten Abbildungslinse LI 2 mit Gleichung (13) wie folgt ausgedrückt:
Δ′L 4 = Δ₃ · mI 2 · KI 2 (34)
Da in diesem Fall das Verhältnis KI 2 mit Hilfe von Gleichung (10) wie folgt ausgedrückt werden kann:
ergibt sich beim Einsetzen von Gleichung (34) in Gleichung (35) die Bildpunktverschiebung Δ′L 4 in folgender Weise:
Bei Substitution von Δ₃ in Gleichung (36) mit Hilfe von Gleichung (33) und darauffolgendes Umformen der resultierenden Gleichung (36) gewinnt man die Beziehung zwischen der Bildpunktverschiebung Δ′L 4 der zweiten Abbildungslinse LI 2 und der Verschiebung ΔL der Einheit aus der zweiten Beleuchtungslinse LL 2 und der ersten Abbildungslinse LI 1 wie folgt:
Die insgesamte Vergrößerung KL des vierten Beleuchtungsbildes i₄, das an der Eintrittspupillenposition oder -lage der Reduktionslinse LR erzeugt wird, wird wie folgt ausgedrückt:
Die Objektpunktverschiebung ΔI 1, die gleich der Bildpunktverschiebung Δ′L 2 ist, wird aus der Verschiebung ΔL der Einheit aus der zweiten Beleuchtungslinse LL 2 und der ersten Abbildungslinse LI 1 mit Hilfe von Gleichung (24) berechnet. Ferner wird mit Hilfe von Gleichung (33) die Bildverschiebung Δ₃ aus der Verschiebung ΔL berechnet.
Ist folglich die Verschiebung Δ′L 4 des vierten Beleuchtungsbildes i₄ (in dem die objektseitige Brennweite fL 2 der zweiten Beleuchtungslinse LL 2 -76,77 mm beträgt, die objektseitige Brennweite fI 1 der ersten Abbildungslinse LI 1 -30 mm beträgt, die objektseitige Brennweite fI 2 der zweiten Abbildungslinse LI 2 -81 mm beträgt, die Vergrößerung mL 2 1/4,3353 beträgt, die Vergrößerung mI 1 -4,3353 (d. h. ein invertiertes Bild) und die Vergrößerung mI 2 -3,7778 in Übereinstimmung mit den oben beschriebenen Dimensionierungen betragen, für den Fall, daß der zulässige Bereich der Eintrittspupillenlage der Reduktionslinse LR beispielsweise 2 mm beträgt) innerhalb eines vorbestimmten Toleranzbereiches (beispielsweise ±0,02), bezogen auf den Referenzwert eines Öffnungsverhältnisses, das als ein Verhältnis des Durchmessers eines Beleuchtungsbildes (Abbildung der Lichtquelle) zum Durchmesser einer Eintrittspupille definiert ist und im allgemeinen auf einen Wert von 1 oder weniger ausgewählt ist, unter dem zulässigen Eintrittspupillenlagenbereich von 2 mm, so fällt das Beleuchtungslicht von der Lichtquelle 5 effektiv auf die Reduktionslinse LR.
Die folgende Tabelle 2 zeigt Berechnungsergebnisse von Bildpunktverschiebungen ΔL 4 für Verschiebungen ΔL der Einheit aus der zweiten Beleuchtungslinse LL 2 und der ersten Abbildungslinse LI 1 sowie Öffnungsverhältnisse σ des Durchmessers d des von der zweiten Abbildungslinse entworfenen vierten Beleuchtungsbildes i₄, das hervorgerufen wird, wenn das Musterbild I₂ mit der Vergrößerung KI vergrößert bzw. verkleinert wird.
Tabelle 2
Wie aus der Tabelle 2 hervorgeht, wird, wenn die zweiten Musterbilder I₂ erzeugt werden, in denen das kreisförmige Muster der Strichplatte 11 mit gewünschten Vergrößerungswerten vergrößert bzw. verkleinert abgebildet wird, die Verschiebung Δ′L 4 des Beleuchtungsbildes i₄ im wesentlichen innerhalb des zulässigen Eintrittspupillenlagebereiches von 2 mm der Reduktionslinse LR innerhalb des Toleranzbereiches von ±0,02 des Öffnungsverhältnisses eingegrenzt und auf diesen Bereich beschränkt, so daß die Eintrittspupillenlage der Verkleinerungs- oder Reduktionslinse LR nicht in besonderer Weise eingestellt werden muß.
Infolgedessen kann durch Speichern der Verhältnisse zwischen den Vergrößerungswerten KI der Musterbilder und der entsprechenden Verschiebungen ΔL der Einheit aus der zweiten Beleuchtungslinse LL 2 und der ersten Abbildungslinse LI 1 als Tabelle im Speicher 38c der Mustersteuervorrichtung 37 die Möglichkeit gegeben werden, sofort den Vergrößerungen KI entsprechende Verschiebungen der Einheit aus den Linsen LL 2 und LI 1 zu berechnen, wenn der Prozessor 38b die ausgewählten Vergrößerungsdaten empfängt. Diese Berechnung verursacht, daß der Antriebsmotor 20 die Vergrößerung des Musterbildes entsprechend einstellt. Unmittelbar von dieser Vergrößerungseinstellung ausgehend, kann eine einfache Verschiebung der Einheit aus der zweiten Beleuchtungslinse LL 2 und der ersten Abbildungslinse LI 1 mit einer vorbestimmten fixierten Distanz zwischen den Linsen bewirken, daß das zweite Musterbild I₂ innerhalb der zulässigen objektraumseitigen Brennweite der Reduktionslinse LR eingegrenzt wird und das vierte Beleuchtungsbild i₄ so begrenzt wird, daß es innerhalb eines zulässigen Öffnungsverhältnistoleranzbereiches in den zulässigen Eintrittspupillenlagebereich der Reduktionslinse LR fällt, so daß die fixierte Distanz zwischen der zweiten Abbildungslinse LI 2 und der Reduktionslinse LR nicht korrigiert zu werden braucht.
Infolgedessen wird nach einem Abschluß der Einstellung des optischen Systems 4 eine Brennpunkteinstellung zwischen der Reduktionslinse LR und dem belichteten Material 2 ausgeführt. Die Bewegung des XYZ-Objekttisches 1 längs der optischen Achse ruft diese Brennpunkteinstellung hervor. Da eine Distanz k zwischen dem optischen Zentrum der Reduktionslinse LR und der Unterseite des fixierten Hohlzylinders 41 festliegt, wird zunächst mittels einer Zielwerteinstelleinheit 50a ein Zielwert festgelegt, in dem der Wert der Distanz k von einem Zielwert b subtrahiert wird. In diesem Betriebszustand führt die Lufteinspeisungsquelle 44 durch die Verengung 45 unter Druck stehende Luft zu den Düsen 43, um auf diese Weise einen Differentialdruckwandler 46 und die Brennpunkteinstellsteuervorrichtung 50 in ihre Betriebsstellungen zu bringen.
Wenn die Brennpunkteinstellsteuervorrichtung 50 sich in ihrer Betriebsstellung befindet, wird der Antriebsschaltung 50b das Abweichungssignal einer Differenz zwischen dem vorgegebenen Zielwert der Zielwerteinstelleinheit 50a und einem Differentialdruckdetektorsignal vom Differentialdruckwandler 46 zugeführt. Die Antriebsschaltung 50b erzeugt ein Antriebssignal für den linearen Antriebsmechanismus 1e zur Bewegung des XYZ-Objekttisches 1 vertikal oder längs der Z-Achse, so daß auf diese Weise das Abweichungssignal Null wird. Auf diese Weise wird die Brennpunkteinstellung zwischen der Reduktionslinse LR und dem zu belichtenden Material 2 abgeschlossen.
Nachdem die Brennpunkteinstellung abgeschlossen ist, wird der XYZ-Objekttisch 1 längs der XY-Achsen in geeigneter Weise so verschoben, daß das Material 2 an einer vorbestimmten Musterbelichtungsposition oder -expositionsposition positioniert wird. Dann wird ein geeigneter Ausschnitt des zu belichtenden Materials 2 mit dem projizierten Muster belichtet. Daraufhin wird der XYZ-Objekttisch 1 wiederum längs der XY-Achse bewegt, um das zu belichtende Material 2 in die nächste Musterbelichtungsposition zu bewegen. Auf diese Weise wird der Kopier- und Repetiervorgang einer Belichtung des Materials 2 durch das projizierte Muster so lange wiederholt, bis sämtliche Belichtungen an sämtlichen Belichtungspositionen des Materials 2 ausgeführt worden sind. Das belichtete Material 2, das allen Belichtungsstufen unterworfen worden ist, wird vom XYZ-Objekttisch 1 abgenommen. Daraufhin wird ein nächstfolgend zu belichtendes Material 2 auf den Objekttisch 1 gelegt und wiederum dem oben erläuterten Verfahren unterzogen.
Soll die Größe des projizierten Musters, das zur Exposition des Materials 2 verwendet wird, geändert werden, so wird die gewünschte Vergrößerung KI der Musterauswahleingabeeinheit 40 der Mustersteuervorrichtung 37 zugeführt, um dafür zu sorgen, daß der Antriebsmotor 20 die Einheit aus der zweiten Beleuchtungslinse LL 2 und der ersten Abbildungslinse LI 1 um die dieser Vergrößerung KI entsprechende Verschiebung ΔL verschiebt, um die Vergrößerung des zweiten Musterbildes I₂ einzustellen.
Wird z. B. andererseits ein polygonales Muster, beispielsweise ein rechtwinkliges Muster vorbestimmter Ausmaße auf das belichtete Material 2 projiziert, so wird das Rahmentragwerk 23 entfernt, und die vier Blendenflügel 16a, 16b, 19a und 19b können so eingestellt werden, daß sie gemeinsam das gewünschte polygonale Muster erzeugen und dieses lediglich mittels der Reduktionslinse LR auf das Material projizieren.
Entsprechend der oben erläuterten Erfindung kann durch Verschieben der zweiten Beleuchtungslinse LL 2 und der ersten Abbildungslinse LI 1, die die Strichplatte 11 sandwichartig einschließen, in einer feststehenden Einheit die Vergrößerung des zweiten Musterbildes I₂, das am Bildpunkt O′L 2 der zweiten Abbildungslinse LI 2 hervorgerufen wird, stufenlos so geändert werden, daß die Verschiebung Δ″I des zweiten Musterbildes I₂ auf den zulässigen objektraumseitigen Brennweitenbereich der Reduktionslinse LR beschränkt wird und die Verschiebung Δ′L 4 des vierten Beleuchtungslichtbildes i₄, welches an der Eintrittspupillenlage der Reduktionslinse LR erzeugt wird, auf den zulässigen Eintrittspupillenlagebereich der Reduktionslinse LR innerhalb des vorbestimmten Öffnungsverhältnistoleranzbereiches beschränkt wird. Auf diese Weise wird das Musterbild effektiv projiziert, eine Belichtungsungleichmäßigkeit im projizierten Muster, mit dem das belichtete Material 2 belichtet wird, wird eliminiert, so daß eine hohe Auflösung erzielt wird, und die Distanz zwischen der zweiten Abbildungslinse LI 2 und der Reduktionslinse LR braucht nicht korrigiert zu werden.
Entsprechend dem ersten Ausführungsbeispiel ist jede der Linsen LL 1, LL 2, LI 1 und LI 2 mit einer einzelnen Linse verwirklicht. Jedoch können alternativ auch mehrere Linsen zur Realisierung jeder einzelnen dieser Linsen LL 1, LL 2, LI 1 und LI 2 verwendet werden.
Entsprechend dem ersten Ausführungsbeispiel wird der Teil der Einheit der zweiten Beleuchtungslinse LL 2 und der ersten Abbildungslinse LI 1 bewegt. Jedoch ist die Art und Weise dieser Bewegung nicht auf diese Möglichkeit beschränkt, es kann jedoch auch als Bewegungsteil die Strichplatte 11 bewegt werden.
Entsprechend dem ersten Ausführungsbeispiel bildet das kreis- oder ringförmige Muster der Strichplatte 11 die Musterquelle. Jedoch ist die Form der Musterquelle nicht auf derartige kreisförmige Muster beschränkt, sondern es können z. B. mehrere Strichplatten 11 mit Mustern unterschiedlicher Formen am Umfang eines Kreises auf einer Scheibe angeordnet werden, die rotiert, um auf diese Weise ein gewünschtes Muster auf der optischen Achse 6 zu positionieren. Auch können wahlweise andere Musterquellen, z. B. andere Masken, verwendet werden.
Entsprechend des ersten Ausführungsbeispiels werden ein Paar von Nocken 31a und 31b und entsprechende Nockenstößeln 32a und 32b für den vertikalen Antriebsmechanismus 28 verwendet, mit dem die Einheit aus der zweiten Beleuchtungslinse LL 2 und der ersten Abbildungslinse LI 1 bewegt wird. Jedoch ist der vertikale Antriebsmechanismus 28 nicht auf eine solche Ausführung beschränkt, sondern es kann statt dessen z. B. auch ein Antriebsmechanismus mit einer Vorschubspindel linear die Schiebewellen 24a und 24b antreiben.
In der Beschreibung des ersten Ausführungsbeispiels wurde die Erfindung auf ein Verkleinerungsprojektionsausrichtgerät angewandt. Jedoch ist die Erfindung nicht auf solche Geräte beschränkt, sondern ist ebenfalls auf alle möglichen anderen optischen Abbildungsgeräte, beispielsweise auf Musterschreibgeräte, anwendbar, die ein Muster einer Musterquelle, beispielsweise eines Mustergenerators, auf ein belichtetes Material schreiben.

Claims (1)

  1. Vorrichtung zur optischen Abbildung eines Musters auf ein zu belichtendes Material, in welcher Beleuchtungslicht von einer Lichtquelle auf das zu belichtende Material mittels eines optischen Systems übertragen wird, das zumindest ein Beleuchtungslinsensystem, eine Mustervorlage und ein Projektionslinsensystem aufweist, das zur Abbildung der Mustervorlage auf das zu belichtende Material diesem gegenüberliegend angeordnet ist, dadurch gekennzeichnet,
    daß das optische System eine erste Beleuchtungslinse (LL1), eine zweite Beleuchtungslinse (LL2), die Mustervorlage (11), eine erste Abbildungslinse (LI1) und eine zweite Abbildungslinse (LI2) aufweist, die in dieser Reihenfolge zwischen der Lichtquelle (5) und einer Projektionslinse (LR) angeordnet sind,
    daß die erste Beleuchtungslinse (LL1) ein erstes Beleuchtungslichtbild (i₁) von der Lichtquelle außerhalb des bildraumseitigen Brennpunktes (FL1′) der ersten Beleuchtungslinse entwirft,
    daß die zweite Beleuchtungslinse (LL2) ein zweites Beleuchtungslichtbild (i₂) vom ersten Beleuchtungslichtbild (i₁) außerhalb des objektraumseitigen Brennpunktes (FI1) der ersten Abbildungslinse (LI1) entwirft,
    daß die erste Abbildungslinse (LI1) ein erstes Musterbild (I₁) der Mustervorlage (11), die innerhalb des bildraumseitigen Brennpunktes (FL2′) der zweiten Beleuchtungslinse liegt, außerhalb des bildraumseitigen Brennpunktes (FI1′) der ersten Abbildungslinse (LI1) entwirft,
    daß der Abstand zwischen der zweiten Beleuchtungslinse (LL2) und der ersten Abbildungslinse (LI1) geringer als die Gesamtheit der Brennweiten der zweiten Beleuchtungslinse und der ersten Abbildungslinse ist, so daß die Mustervorlage (11) und das zweite Beleuchtungslichtbild (i₂) innerhalb des bildraumseitigen Brennpunktes (FL2′) der zweiten Beleuchtungslinse und außerhalb des objektraumseitigen Brennpunktes (FI1) der ersten Abbildungslinse liegen und die erste Abbildungslinse (LI1) ein drittes Beleuchtungslichtbild (i₃) vom zweiten Beleuchtungslichtbild (i₂) mit derselben Vergrößerung wie der des ersten Beleuchtungslichtbildes (i₁) erzeugt,
    daß der zweiten Abbildungslinse (FI2) das erste Musterbild (I₁) und das dritte Beleuchtungsbild (i₃) außerhalb des objektseitigen Brennpunktes (FI2) der zweiten Abbildungslinse angeboten werden und die zweite Abbildungslinse ein zweites Musterbild (I₂) vom ersten Musterbild (I₁) innerhalb des vorbestimmten objektraumseitigen Fokusbereichs der Projektionslinse (LR), und ein viertes Beleuchtungslichtbild (i₄) vom dritten Beleuchtungslichtbild (i₃) bei einer vorbestimmten Eintrittspupillenlage der Projektionslinse (LR) entwirft,
    daß das aus der zweiten Beleuchtungslinse (LL2) und der ersten Abbildungslinse (LI1) gebildete Linsenpaar auf der optischen Achse relativ zur Mustervorlage (11) bewegbar ist, wobei der Abstand zwischen der zweiten Beleuchtungslinse und der ersten Abbildungslinse festbleibt, und
    daß entsprechend einer Vergrößerung des projizierten Musterbildes der Mustervorlage die Bewegung des Linsenpaars (LL2 und LI1) relativ zur Mustervorlage (11) gesteuert und somit die Größe des von den Abbildungslinsen (LI1) und LI2) abgebildeten Musterbildes I₂ geändert wird, wobei der Bewegungsbereich so gewählt wird, daß die Bildpunktverschiebung von I₂ innerhalb des objektseitigen Fokusbereichs der Projektionslinse (LR) fällt und die Bildlage des vierten Beleuchtungslichtbildes (i₄) und dessen Größe innerhalb eines vorbestimmten Bereichs der Eintrittspupille der Projektionslinse (LR) gehalten wird.
DE4007069A 1989-03-15 1990-03-07 Vorrichtung zur optischen Abbildung Expired - Fee Related DE4007069C2 (de)

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP6327589A JPH0812843B2 (ja) 1989-03-15 1989-03-15 光学結像装置及び方法

Publications (2)

Publication Number Publication Date
DE4007069A1 DE4007069A1 (de) 1990-09-20
DE4007069C2 true DE4007069C2 (de) 1995-06-29

Family

ID=13224596

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
DE4007069A Expired - Fee Related DE4007069C2 (de) 1989-03-15 1990-03-07 Vorrichtung zur optischen Abbildung

Country Status (4)

Country Link
US (1) US5061956A (de)
JP (1) JPH0812843B2 (de)
DE (1) DE4007069C2 (de)
NL (1) NL9000599A (de)

Families Citing this family (11)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US5229811A (en) * 1990-06-15 1993-07-20 Nikon Corporation Apparatus for exposing peripheral portion of substrate
NL9100202A (nl) * 1991-02-05 1992-09-01 Asm Lithography Bv Lithografische inrichting met een hangende objecttafel.
US5305054A (en) 1991-02-22 1994-04-19 Canon Kabushiki Kaisha Imaging method for manufacture of microdevices
US5673102A (en) * 1991-02-22 1997-09-30 Canon Kabushiki Kaisha Image farming and microdevice manufacturing method and exposure apparatus in which a light source includes four quadrants of predetermined intensity
NL9100421A (nl) * 1991-03-08 1992-10-01 Asm Lithography Bv Ondersteuningsinrichting met een kantelbare objecttafel alsmede optisch lithografische inrichting voorzien van een dergelijke ondersteuningsinrichting.
JPH0536586A (ja) * 1991-08-02 1993-02-12 Canon Inc 像投影方法及び該方法を用いた半導体デバイスの製造方法
US5424803A (en) * 1991-08-09 1995-06-13 Canon Kabushiki Kaisha Projection exposure apparatus and semiconductor device manufacturing method
JP3210123B2 (ja) * 1992-03-27 2001-09-17 キヤノン株式会社 結像方法及び該方法を用いたデバイス製造方法
JP3278896B2 (ja) * 1992-03-31 2002-04-30 キヤノン株式会社 照明装置及びそれを用いた投影露光装置
DE102006038455A1 (de) 2006-08-16 2008-02-21 Carl Zeiss Smt Ag Optisches System für die Halbleiterlithographie
KR20090116333A (ko) * 2008-05-07 2009-11-11 주식회사 프로텍 상하 독립구동 방식의 양면 동시 노광시스템

Family Cites Families (7)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
AU406392B2 (en) * 1966-12-05 1970-10-07 Method and apparatus forthe production of masks for use inthe manufacture of planar transistors and integrated circuits
US4811055A (en) * 1984-02-27 1989-03-07 Canon Kabushiki Kaisha Projection exposure apparatus
JPS6119129A (ja) * 1984-07-05 1986-01-28 Nippon Kogaku Kk <Nikon> 投影光学装置
JPH0720755B2 (ja) * 1985-03-28 1995-03-08 大日本印刷株式会社 疑似円形描画用光学作図装置
NL8601547A (nl) * 1986-06-16 1988-01-18 Philips Nv Optisch litografische inrichting met verplaatsbaar lenzenstelsel en werkwijze voor het regelen van de afbeeldingseigenschappen van een lenzenstelsel in een dergelijke inrichting.
JPS63246296A (ja) * 1987-03-31 1988-10-13 三菱電機株式会社 Icカ−ド装置
JP2690960B2 (ja) * 1988-09-07 1997-12-17 株式会社日立製作所 拡大投影露光方法及びその装置

Also Published As

Publication number Publication date
DE4007069A1 (de) 1990-09-20
JPH02241018A (ja) 1990-09-25
JPH0812843B2 (ja) 1996-02-07
NL9000599A (nl) 1990-10-01
US5061956A (en) 1991-10-29

Similar Documents

Publication Publication Date Title
DE69222963T2 (de) Abbildungsverfahren zur Herstellung von Mikrovorrichtungen
DE69127335T2 (de) Projektionsbelichtungsapparat mit einer Vorrichtung zur Ausgleichung der Verzeichnung einer Projektionslinse
DE69207106T2 (de) Bildprojektionsverfahren und Herstellungsverfahren von Halbleiterbauteilen unter Verwendung desselben
DE3318980C2 (de) Vorrichtung zum Justieren beim Projektionskopieren von Masken
DE69605479T2 (de) Beleuchtungssystem mit räumlich getrennten Senkrechten und waagrechten Bildebenen für die Photolithographie
DE69415610T2 (de) Vorrichtung und Verfahren zur Projektionsbelichtung
DE102004035595B4 (de) Verfahren zur Justage eines Projektionsobjektives
DE69728948T2 (de) Projektionsbelichtungsvorrichtung und Verfahren
DE69434080T2 (de) Abtastbelichtungsvorrichtung
DE102008001553B4 (de) Komponente zur Einstellung einer scanintegrierten Beleuchtungsenergie in einer Objektebene einer Mikrolithographie-Projektionsbelichtungsanlage
DE60219404T2 (de) Beleuchtungsvorrichtung
DE102008064504A1 (de) Projektionsbelichtungsverfahren und Projektionsbelichtungsanlage für die Mikrolithographie
DE4007069C2 (de) Vorrichtung zur optischen Abbildung
DE102008007449A1 (de) Beleuchtungsoptik zur Beleuchtung eines Objektfeldes einer Projektionsbelichtungsanlage für die Mikrolithographie
DE3342719C2 (de) Positionierungseinrichung in einem Projektionsbelichter
DE60120825T2 (de) Lithographischer Apparat, Verfahren zur Herstellung einer Vorrichtung, sowie durch dieses Verfahren hergestellte Vorrichtung
DE3872705T2 (de) Vorrichtung und verfahren zum feststellen/regulieren des freiraums bei einer lithographiemaschine.
DE102004014766A1 (de) Verfahren zur Verzeichnungskorrektur in einer mikrolithographischen Projektionsbelichtungsanlage
DE3915868C2 (de) UV-taugliches Trockenobjektiv für Mikroskope
DE102015209051B4 (de) Projektionsobjektiv mit Wellenfrontmanipulator sowie Projektionsbelichtungsverfahren und Projektionsbelichtungsanlage
DE19809395A1 (de) Beleuchtungssystem und REMA-Objektiv mit Linsenverschiebung und Betriebsverfahren dafür
DE3404063C2 (de)
DE4313796A1 (de) Laserbearbeitungsvorrichtung
DE3118632A1 (de) Belichtungsprojektionsgeraet
DE102007000981A1 (de) Vorrichtung und Verfahren zum Vermessen von Strukturen auf einer Maske und zur Berechnung der aus den Strukturen resultierenden Strukturen in einem Photoresist

Legal Events

Date Code Title Description
8110 Request for examination paragraph 44
8125 Change of the main classification

Ipc: G03F 7/20

D2 Grant after examination
8364 No opposition during term of opposition
8339 Ceased/non-payment of the annual fee