DE3933423A1 - Tempervorrichtung, insbesondere fuer lcd-substratplatten - Google Patents
Tempervorrichtung, insbesondere fuer lcd-substratplattenInfo
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- C30B31/14—Substrate holders or susceptors
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Description
Technisches Gebiet
Die Erfindung betrifft eine Tempervorrichtung in Form einer flachen beheizten Platte. Derartige Vorrichtungen dienen zum Tempern von z. B. Halbleiterwafern oder von Flüssigkristall (LCD)-Substratplatten.
Die Erfindung betrifft eine Tempervorrichtung in Form einer flachen beheizten Platte. Derartige Vorrichtungen dienen zum Tempern von z. B. Halbleiterwafern oder von Flüssigkristall (LCD)-Substratplatten.
Temperprozesse werden bisher in Öfen oder auf sogenannten "Hot
plates" ausgeführt. Hotplates sind sehr gleichmäßig beheizte
Heizplatten, auf deren Auflagefläche die plattenförmigen Bau
teile aufgelegt werden. In der Regel ist die Hotplate noch durch
eine Haube abdeckbar. Derartige Vorrichtungen werden insbeson
dere zum Tempern von Halbleiterwafern verwendet.
Öfen, wie auch Hotplates, haben den Nachteil relativ großer Tem
peraturänderungsträgheit. So dauert das Aufheizen und Abkühlen
des zu tempernden plattenförmigen Bauteiles meist viel länger,
als die Zeitspanne dauert, während der das Bauteil auf der Ziel
temperatur zu halten ist. Dieser Nachteil wird dann besonders
deutlich, wenn das Bauteil während des Tempervorgangs unter
Schutzgas zu halten ist. Es kann dann nicht bereits bei relativ
hoher Temperatur der Vorrichtung entnommen werden, da dann an
Luft unerwünschte Oxidationsprozesse stattfinden würden. Proble
matisch ist außerdem, daß vor dem Beginn des Temperns in Schutz
gas zunächst das Ofenvolumen oder das Volumen zwischen Hotplate
und Abdeckhaube zu evakuieren ist. Erst dann wird Schutzgas ein
gefüllt. Wenn eine sehr reine Schutzgasatmosphäre erforderlich
ist, ist der Evakuierprozeß und Schutzgas-Befüllprozeß unter
Umständen mehrfach auszuführen.
Ein weiterer gemeinsamer Nachteil von Ofen und Hotplate ist,
daß diese Vorrichtungen praktisch nicht an Änderungen in der
Form zu tempernder Bauteile angepaßt werden können. Es werden
daher in der Regel Vielzwecköfen bzw. Vielzweck-Hotplates ver
wendet.
Zusätzlich von Nachteil ist bei Hotplates, daß deren Heizvor
richtungen relativ schnell ortsabhängig ihre Heizeigenschaften
ändern, wodurch es erforderlich ist, die Heizeinrichtungen re
lativ häufig auszuwechseln, um ein einigermaßen gleichmäßiges
Temperaturprofil zu erhalten.
Es bestand demgemäß das grundsätzliche Problem, eine Tempervor
richtung anzugeben, die ein gleichmäßiges Beheizen eines plat
tenförmigen Bauteiles und ein schnelles Erwärmen und Abkühlen
desselben zuläßt.
Die erfindungsgemäße Tempervorrichtung weist eine Heizeinrich
tung zum Beheizen von Gas und zahlreiche Gasleitungen in einer
flachen Platte auf, die in deren Auflageflächen münden und denen
das Gas zugeführt wird.
Die Heizeinrichtung kann innerhalb der Platte angeordnet sein,
so daß das Gas dann beheizt wird, wenn es durch die Gasleitungen
strömt. Selbst wenn dann in unterschiedlichen Bereichen etwas
unterschiedlich geheizt wird, wirkt sich dies am zu tempernden
Bauteil nicht allzu stark aus, da sich die Gasströme aus ver
schiedenen Gasleitungen durch Mischen und damit die gesamte zu
beheizende Gasmenge im wesentlichen dieselbe Temperatur aufweist.
Von besonderem Vorteil ist es jedoch, die Heizeinrichtung ge
sondert von der Platte anzuordnen, so daß die Platte nur die
in ihre Auflagefläche mündenden Gasleitungen aufweist. Dies
hat zum einen den Vorteil, daß allen Gasleitungen Gas aus einem
gemeinsamen Volumen zugeführt wird, was gewährleistet, daß die
Temperatur über die gesamte Temperfläche konstant ist. Weiter
hin besteht der Vorteil, daß die Wärmekapazität der Platte sehr
klein gehalten werden kann, wodurch besonders schnelle Aufheiz
und Abkühlzeiten erreicht werden können. Es ist jedoch anzumer
ken, daß selbst dann, wenn die Heizeinrichtung in die Platte
integriert ist, schnellere Aufheiz- und Abkühlzeiten erreich
bar sind, als unter Verwendung bisheriger Hotplates, da die
Wärmeübertragung zwischen Temperplatte und plattenförmigem Bau
teil nicht durch unmittelbare Wärmeleitung, sondern durch Kon
vektion erfolgt. Sind die Heizeinrichtungen abgeschaltet, bleibt
zwar noch das Hauptplattenvolumen noch relativ heiß, jedoch wird
das Gas in den Leitungen nicht mehr allzu stark aufgeheizt, was
dazu führt, daß das plattenförmige Bauteil stärker abkühlt als
die Temperplatte.
Die Temperplatte kann aus beliebigem Material, insbesondere
Kunststoff, Keramik oder, vorzugsweise, Metall, bestehen. Ist
die Heizeinrichtung gesondert von der Platte angeordnet, ist
letztere ein äußerst einfaches und billiges Bauteil, so daß es
leicht möglich ist, die Tempervorrichtung durch Verwenden von
Temperplatten mit unterschiedlicher Geometrie an plattenförmige
Bauteile mit unterschiedlicher Umfangskontur anzupassen.
Ein weiterer sehr großer Vorteil der erfindungsgemäßen Temper
vorrichtung besteht darin, daß für das Tempern in Schutzgas
keine Evakuierprozesse mehr erforderlich sind, vorausgesetzt,
es ist eine Schicht zu tempern, die sich nur auf einer Oberflä
che des plattenförmigen Bauteiles befindet. In diesem Fall wird
das plattenförmige Bauteil mit der luftempfindlichen, zu tem
pernden Schicht nach unten auf die Temperplatte gelegt. Strömt
nun Schutzgas durch die Gasleitungen in der Temperplatte, ist
die zu tempernde Schicht vor Sauerstoffzutritt geschützt. Luft
könnte nämlich nur durch den Spalt zwischen der Oberfläche der
Temperplatte und dem Umfang des aufgelegten Bauteiles an die
empfindliche Schicht gelangen, jedoch strömt durch diesen Spalt
das Schutzgas aus, wodurch der Sauerstoffzutritt verwehrt ist.
Das Auflegen eines Bauteiles auf die Temperplatte kann mit
Hilfe von Auflagestücken erfolgen. Jedoch kann das Bauteil auch
direkt aufgelegt werden, wonach es im Betrieb auf einem Gas
strom über der Temperplatte schwebt. Um es beim Schweben in
einer festgelegten Position zu halten, können Seitenbewegungen
entweder durch entsprechende Gestaltung des Gasflusses begrenzt
werden, oder es können Begrenzungsstücke verwendet werden, die
vorzugsweise so ausgebildet sind, daß sie die von ihnen nicht
begrenzten Auflagebereiche abdecken, so daß dort kein Gas aus
den in die Auflagefläche mündenden Gasleitungen austreten kann.
Fig. 1 schematischer Querschnitt durch eine Temperplatte mit
gesonderter Heizeinrichtung;
Fig. 2 schematischer Querschnitt durch eine Temperplatte mit
angesetzter Labyrinth-Heizeinrichtung;
Fig. 3 schematischer Querschnitt durch eine Temperplatte mit
Begrenzungsstücken;
Fig. 4 schematischer Querschnitt durch eine Temperplatte mit
Auflagestücken.
Die Tempervorrichtung gemäß Fig. 1 besteht aus einer Temper
platte 10 mit Abstandsstücken 11, einer Abdeckhaube 12, einer
Gasverteilungskammer 13 und einer Heizeinrichtung 14. Die Tem
perplatte 10 wird von zahlreichen Gasleitungen 15 durchsetzt,
die in die Auflagefläche 16 der Platte münden. Die Gasvertei
lungskammer 13 ist dicht an die Unterseite der Temperplatte 10
angesetzt. Sie wird von der Heizeinrichtung 14 mit beheiztem
Gas, z. B. Stickstoff als Schutzgas, versorgt. Aus der Gasver
teilungskammer 13 strömt das beheizte Gas in die Gasleitungen 15.
Die Abstandsstücke 11 sind am Rand der Auflagefläche 16 ange
ordnet. Auf sie ist in der Darstellung gemäß Fig. 1 als zu tem
perndes plattenförmiges Bauteil eine LCD-Substratplatte 17 auf
gelegt, die eine auszuhärtende Orientierungsschicht 18 trägt.
Die Substratplatte 17 liegt so auf den Abstandsstücken 11, daß
die Orientierungsschicht 18 nach unten zeigt. Der Abstand zur
Auflagefläche 16 beträgt etwa 1 mm. Wenn die Orientierungs
schicht 18 aus einem oxydationsempfindlichen Material besteht,
z. B. Polyphenylen, muß zum Tempern Schutzgas verwendet werden.
Die LCD-Substratplatte 17 wird von unten durch das aus den Gas
leitungen 15 strömende erhitzte Gas erwärmt, und von oben durch
das heiße Gas, das sich zwischen Auflagefläche 16 und Abdeck
haube 12 befindet. Die Abdeckhaube 12 besteht vorzugsweise aus
reflektierendem und gut wärmeisolierendem Material. Ist die
Temperzeitspanne bei der Zieltemperatur, z. B. 2 Minuten bei
410°C oder 5 Minuten bei 400°C zum Tempern von Polyphenylen,
abgelaufen, wird die Abdeckhaube 12 abgenommen und die Heizein
richtung 14 wird abgeschaltet, so daß kühleres Gas durch die
Gasleitungen 15 strömt. Es muß jedoch noch für einige Zeit
Schutzgas verwendet werden, nämlich solange, bis die LCD-Sub
stratplatte 17 eine Temperatur erreicht hat, bei der die dünne
Orientierungsschicht 18 nicht mehr oxydationsempfindlich ist.
Dann kann zum Abkühlen bis auf die Entnahmetemperatur Luft als
Kühlgas verwendet werden.
Die Abdeckhaube 12 muß nicht notwendigerweise verwendet werden.
Insbesondere dann, wenn nur eine dünne Schicht auf einem Sub
strat geringer Wärmeleitfähigkeit und/oder
hoher Wärmekapazität nur kurzzeitig zu erhitzen ist,
reicht es aus, das Erhitzen dieser Schicht durch den unmittel
bar auf die Schicht treffenden Gasstrom vorzunehmen.
Bei der Ausführungsform gemäß Fig. 1 ist angenommen, daß die
Temperplatte 10 nur geringe Wärmekapazität aufweist, so daß
sie kaum zu einer Temperaturänderung des durch die Gasleitun
gen 15 strömenden Gases beiträgt. Regelschwingungen in der Tem
peraturregelung des Heizgases wirken sich dann fast unmittel
bar auf die Temperungstemperatur aus.
Dies ist bei der Anordnung gemäß Fig. 2 vermieden, die sich
durch eine Labyrinth-Gasverteilungskammer 13.2 mit Gasleitwän
den 19 möglichst hoher Wärmekapazität auszeichnet. Wenn das von
der (in Fig. 2 nicht dargestellten) Heizeinrichtung zugeführte
Gas in die Labyrinth-Gasverteilungskammer 13.2 einströmt, wer
den aufgrund des langen Strömungsweges in der Kammer und auf
grund der hohen Wärmekapazität der Kammer Temperatur-Regel
schwingungen ausgeglättet.
Bei der Anordnung gemäß Fig. 1 wurde davon ausgegangen, daß das
zu tempernde Bauteil auf Abstandsstücke 11 aufgelegt wird. Man
kann jedoch den bekannten Gaskisseneffekt nutzen, um das Bau
teil in Abstand über der Auflagefläche 16 der Temperplatte 10
zu halten. Es muß dann allerdings dafür gesorgt werden, daß das
Bauteil seitlich nicht verrutschen kann. Die Fig. 3 und 4 ver
anschaulichen zwei Ausführungsformen von Tempervorrichtungen
mit Einrichtungen zum Verhindern des seitlichen Verschiebens
aufgelegter schwebender plattenförmiger Bauteile.
Bei der Vorrichtung gemäß Fig. 3 ist ein Begrenzungsstück 20
mit einer Innenaussparung vorhanden, deren Umfang geringfügig
größer ist als der Außenumfang einer in die Aussparung gelegten
LCD-Substratplatte 17. Dadurch kann die Substratplatte 17 zwar
über die Oberfläche 16 der Temperplatte 10 gehoben werden, je
doch kann sie seitlich nicht verrutschen. Das Begrenzungsstück 20
begrenzt aber nicht nur die Bewegung des aufgelegten platten
förmigen Bauteils, sondern es sorgt zugleich dafür, daß Gaslei
tungen 15, durch die kein Gas strömen soll, da sie sich außer
halb des Bereichs des aufgelegten plattenförmigen Bauteils be
finden, abgedeckt werden. Hierzu verfügt das Begrenzungsstück 20
über einen entsprechenden ebenen Bereich, der auf der Auflage
fläche in demjenigen Bereich aufliegt, der nicht von der Ausspa
rung umschlossen wird.
Bei der Ausführungsform gemäß Fig. 4 sind die Gasleitungen 15
in der Temperplatte 10 mit nach außen hin abnehmendem gegensei
tigem Abstand angeordnet. Dadurch strömt am Rand der Temper
platte 10 mehr Gas als in ihrer Mitte, was dafür sorgt, daß ein
aufgelegtes plattenförmiges Bauteil 17.4 - z. B. wieder eine
LCD-Substratplatte oder ein Halbleiterwafer - in einer mittleren
Lage über der Temperplatte 10 zentriert gehalten wird. Der Zen
triereffekt kann auch durch Schrägstellen der Gasströmung am
Rand und/oder durch größere Strömungsquerschnitte am Rand als
in der Mitte unterstützt werden.
Die Ausführungsformen können in vielfacher Art und Weise abge
wandelt werden. So muß die Gasverteilung nicht notwendigerweise
mit Hilfe einer Gasverteilungskammer 13 erfolgen, sondern es
ist z. B. auch möglich, jeweils eine Reihe von Gasleitungen 15
über eine gesonderte Versorgungsleitung mit Gas zu versorgen.
Die Gasleitungen 15 gehen dann nicht ganz durch die Temperplat
te 10 durch, sondern sie münden jeweils in eine zugehörige Ver
sorgungsleitung. Wie schon eingangs beschrieben, muß die Heiz
einrichtung 14 nicht als gesondertes Bauteil angeordnet sein,
sondern sie kann in die Temperplatte 10 integriert sein oder
auch in der Gasverteilungskammer angeordnet sein, vorausgesetzt
daß eine solche vorhanden ist.
Soll ein seitliches Verschieben eines aufgelegten plattenförmi
gen Bauteils durch eine Begrenzungsanordnung begrenzt werden,
muß diese nicht aus einem einzelnen Begrenzungsstück 20 mit
einer Mittenaussparung bestehen, sondern es können auch mehrere
getrennte Begrenzungsstücke, z. B. Stifte verwendet werden, die
in die Öffnungen nicht benötigter Gasleitungen eingesetzt wer
den.
Claims (6)
1. Tempervorrichtung in Form einer flachen beheizten Platte zum
Tempern plattenförmiger Bauteile,
gekennzeichnet durch
- - zahlreiche Gasleitungen (15) in der Platte (10), die in deren Auflagefläche (16) münden,
- - eine Gasverteileinrichtung (13) zum Zuführen von Gas zu den Gasleitungen, und
- - eine Heizeinrichtung (14) zum Beheizen von Gas.
2. Tempervorrichtung nach Anspruch 1, dadurch gekenn
zeichnet, daß die Heizeinrichtung (14) getrennt von
der Temperplatte (10) ausgebildet ist, zum Beheizen des durch
die Gasleitungen (15) zuzuführenden Gases.
3. Tempervorrichtung nach Anspruch 1, gekennzeichnet
durch mehrere Abstandsstücke (11) zum Auflegen des plat
tenförmigen Bauteils (17) unter Einhalten eines geringen Ab
standes zur Auflagefläche (16).
4. Tempervorrichtung nach Anspruch 1, gekennzeichnet
durch mindestens ein Begrenzungsstück (20) auf der Auf
lagefläche (16).
5. Tempervorrichtung nach Anspruch 4, dadurch gekenn
zeichnet, daß die Begrenzungsstückanordnung (20) so
ausgebildet ist, daß sie die von ihr nicht begrenzten Auf
lageflächenbereiche abdeckt.
6. Tempervorrichtung nach Anspruch 1, dadurch gekenn
zeichnet, daß die Gasleitungen (15) so angeordnet und
ausgebildet sind, daß der Fluß austretenden Gases von der
Mitte zum Rand der Auflagefläche (16) hin zunimmt.
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
DE19893933423 DE3933423C2 (de) | 1989-10-06 | 1989-10-06 | Vorrichtung zur Wärmebehandlung, insbesondere für LCD-Substratplatten |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
DE19893933423 DE3933423C2 (de) | 1989-10-06 | 1989-10-06 | Vorrichtung zur Wärmebehandlung, insbesondere für LCD-Substratplatten |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
DE3933423A1 true DE3933423A1 (de) | 1991-04-11 |
DE3933423C2 DE3933423C2 (de) | 1994-12-22 |
Family
ID=6390975
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
DE19893933423 Expired - Fee Related DE3933423C2 (de) | 1989-10-06 | 1989-10-06 | Vorrichtung zur Wärmebehandlung, insbesondere für LCD-Substratplatten |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
DE (1) | DE3933423C2 (de) |
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Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
DE3933423C2 (de) | 1994-12-22 |
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8339 | Ceased/non-payment of the annual fee |