DE3909450C2 - - Google Patents
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- G21K4/00—Conversion screens for the conversion of the spatial distribution of X-rays or particle radiation into visible images, e.g. fluoroscopic screens
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- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/0005—Production of optical devices or components in so far as characterised by the lithographic processes or materials used therefor
- G03F7/0007—Filters, e.g. additive colour filters; Components for display devices
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- Exposure Of Semiconductors, Excluding Electron Or Ion Beam Exposure (AREA)
Description
Die Erfindung betrifft ein Verfahren zur Herstellung von
Leuchtschirmen, Verstärkungs- oder Speicherfolien für die
Röntgendiagnostik gemäß dem Oberbegriff von Anspruch 1.
Aus der DE 33 25 035 A1 ist ein Verfahren zur Herstellung ei
nes gerasterten Röntgenleuchtschirms bekannt, bei dem eine
strahlenempfindliche Glasplatte hinter einer Maske mit
parallelem Licht belichtet wird. Dadurch entstehen in der
Glasplatte Veränderungen, die das Ätzen von dem Maskenmuster
entsprechenden Löchern gestattet, die mit Leuchtstoff gefüllt
werden. Bei diesem als Fotoätzen bezeichneten Verfahren ver
ringert sich jedoch mit feiner werdendem Raster das erzielbare
Aspektverhältnis, d. i. das Verhältnis von Lochtiefe zu Steg
breite der Rasterelemente, wodurch die erreichbare Leucht
stoffbelegung bei schmalen Stegen begrenzt wird.
Aus der EP 01 85 534 A2 ist ein Verfahren zur Herstellung von
Speicherschirmen bekannt, bei dem Positiv- oder Negativresists
zur lithographischen Erzeugung von Mikrostrukturformen auf ei
nem Träger verwendet werden, die nach dem Füllen mit Leucht
stoff entfernt werden. Eine Kammerung des Leuchtstoffs durch
metallische Zwischenwände ist bei diesem Verfahren nicht vor
gesehen.
Aus der EP 01 26 564 A2 ist ein Verfahren zur Herstellung
gattungsgemäßer Gegenstände bekannt, bei denen die mit Leucht
stoff gefüllten Kammern ebenfalls aus metallischen Zwischen
wänden gebildet sind. Hierzu wird z. B. eine Nickelplatte beid
seitig mit einem Photoresist beschichtet. Beide Photoresist
schichten werden sodann über je eine ein Lochmuster tragende
Maske bestrahlt und entwickelt, worauf in die Nickelplatte dem
Lochmuster entsprechende Löcher geätzt werden. Hiermit er
reicht man bei einer Plattenstärke von z. B. 190 µm eine Steg
breite der Zwischenwände von 35 µm, entsprechend einem Aspekt
verhältnis von ca. 5,5 : 1. Anzustreben sind jedoch Aspektver
hältnisse in der Größenordnung von 50 : 1 bis 100 : 1, wobei
die Stegbreite der metallischen Zwischenwände 10 µm nicht
überschreiten sollte.
Die Erfindung hat zur Aufgabe, ein Verfahren zur Herstellung
von Leuchtschirmen, Verstärkungs- oder Speicherfolien der
gattungsgemäßen Art vorzuschlagen, mit dem sich auch bei
extrem dünnen, metallischen Zwischenwänden für die Kammerung
des Leuchtstoffs wesentlich höhere Aspektverhältnisse im Ver
gleich zu dem vorerörterten Stande der Technik erzielen
lassen.
Diese Aufgabe wird mit den kennzeichnenden Merkmalen von An
spruch 1 gelöst. Die hierauf bezogenen Unteransprüche beinhal
ten vorteilhafte Ausgestaltungen dieser Lösung.
Mit dem erfindungsgemäßen Verfahren ist es nicht nur möglich,
die gestellten Forderungen an die Kammerung der Leuchtstoffe
zu erfüllen, vielmehr können die Kammern in ihren Quer
schnitten noch wesentlich verkleinert werden, wodurch das Auf
lösungsvermögen erhöht wird. Trotzdem haben die so hergestell
ten Leuchtschirme etc. wegen der metallischen Zwischenwände
eine hohe mechanische Stabilität, lange Lebensdauer und hohe
Beständigkeit gegen Röntgenstrahlung.
Die Herstellung wird im folgenden anhand der Zeichnungen 1 bis
7 beispielhaft erläutert.
Als Ausgangsmaterial dient gemäß Fig. 1 eine 0,3 mm starke
Platte 1 aus Polymethylmethacrylat (PMMA), die festhaftend auf
einer Metallplatte 2 aufgebracht ist. Die PMMA-Platte 1 wird
gemäß Fig. 1 über eine Röntgenmaske 3 mit extrem paralleler
Synchrotronstrahlung 4 bestrahlt. Die Röntgenmaske besteht aus
einem die Röntgenstrahlung nur schwach absorbierenden Träger 5
und einem die Röntgenstrahlung stark absorbierenden Absorber
6. In den nicht von dem Absorber abgeschatteten Bereichen 7a
der Platte 1 wird das PMMA strahlenchemisch verändert und
durch eine Entwicklerlösung entfernt, so daß netzförmig mit
einander verbundene Zwischenräume 7 entstehen und nur noch die
PMMA-Säulen 8 auf der Metallplatte 2 stehen bleiben (Fig. 2).
Durch galvanische Abscheidung von Nickel auf der als Elektrode
dienenden Metallplatte 2 werden metallische Zwischenwände 9
der Mikrostruktur hergestellt und sodann die PMMA-Säulen 8
entfernt.
Die so hergestellte Mikrostruktur (Fig. 3) besitzt Zwischen
wände 9, die 5 µm schmal sind und eine Höhe von 300 µm aufwei
sen, während die voneinander isolierten Hohlräume 10 einen
Durchmesser von 30 µm haben.
Nach Lösen der metallischen Zwischenwände 9 von der Metall
platte 2 werden die wabenartigen Hohlräume 10 mit Leuchtstoff
11 gefüllt und die Struktur wird beidseitig mit einer dünnen,
als Schutzhaut dienenden lichtdurchlässigen Polyimid-Folie 12
abgedeckt (Fig. 4).
Die so hergestellten Folien mit gekammertem Leuchtstoff können
als Leuchtschirme, Vorder- oder Rückverstärkungsfolien und als
Speicherfolien eingesetzt werden.
Bei einem Einsatz als Rückverstärkungsfolie oder als Spei
cherfolie ist es auch möglich, die metallischen Zwischenwände
9 fest auf der Metallplatte 2 zu belassen und die Struktur nur
einseitig mit der als Schutzschicht dienenden Polyimid-Folie
abzudecken.
Durch die Verwendung der extrem parallelen Synchrotronstahlung
4 werden Mikrostrukturen erzeugt, die überall auf der
Metallplatte 2 senkrecht stehen und damit sind alle Zwischenwände 9
der wabenartigen Mikrostrukturen völlig parallel.
Wie in Fig. 5 dargestellt ist, wird bei der Röntgendiagnose
eine punktförmige Röntgenquelle 13 eingesetzt, so daß die
Röntgenstrahlung 14 strahlenförmig von einem Punkt 15 ausgeht.
Dies führt beim Einsatz von mit Synchrotronstahlung herge
stellten wabenförmigen Mikrostrukturen mit parallelen Wänden 9
zur Kammerung des Leuchtstoffes 11 dazu, daß die Röntgenstrah
lung 14 und die Zwischenwände 9 nicht überall parallel zuein
ander sind und die Absorption der Röntgenstrahlung in besagten
Zwischenwänden 9 vom Ort abhängt. An den Rändern der Leucht
schirme, Verstärkungs- oder Speicherfolien wird daher die
Röntgenstrahlung 14 weniger effektiv in sichtbare Strahlung 16
umgewandelt, was durch die Länge der Pfeile 16 angedeutet ist.
Die Randgebiete erscheinen daher z. B. auf einem Leuchtschirm
etwas dunkler bzw. auf einem hinter der Verstärkungsfolie
angebrachten Negativfilm etwas heller.
Ist bei der Röntgendiagnose eine völlige gleichmäßige Um
wandlung von Röntgenstrahlung in sichtbares Licht gefordert,
so kann man - wie in Fig. 6 dargestellt - die Bestrahlung der
PMMA-Platte 1 über die Röntgenmaske 3 mit der Strahlung einer
Hochleistungs-Röntgenröhre 17 anstelle der Synchrotronstrah
lung durchführen. Da hier die energiereiche Strahlung 18 zur
Änderung der Materialeigenschaften des PMMA von einem Punkt 19
ausgeht, ergibt der Schattenwurf der Röntgenmaske 3 eine Mi
krostruktur, bei der die Wände nicht parallel sondern auf die
sen Punkt 19 fokussiert sind. Bei dieser Bestrahlung wird der
Abstand 20 zwischen der Hochleistungs-Röntgenröhre 17 und der
PMMA-Platte 1 gerade so groß gewählt wie bei der Röntgen
diagnose der Abstand zwischen der mit Leuchtstoff 11 gefüllten
Mikrostruktur und der Röntgenquelle 13. Nach einer analogen
Prozeßfolge, wie sie in den Fig. 2 bis 4 dargestellt ist,
entsteht eine Mikrostruktur (Fig. 7), deren metallische Wände
21 genau auf den Fokussierungspunkt 15 der bei der Röntgen
diagnose verwendete Röntgenquelle 13 fokussiert sind. Daher
wird die Röntgenstrahlung 14 im gesamten Gebiet völlig gleich
mäßig in sichtbares Licht 22 umgewandelt, in Fig. 7 durch die
gleiche Länge aller Pfeile 22 angedeutet.
Anstelle von Positivresists können in bekannter, analoger
Weise auch Negativresists als strahlenempfindliches Material
für die Platte 1 verwendet werden.
Claims (5)
1. Verfahren zur Herstellung von Leuchtschirmen, Verstärkungs-
oder Speicherfolien für die Röntgendiagnostik, die aus ei
ner wabenartigen Mikrostruktur mit metallischen Zwischen
wänden und Hohlräumen bestehen, die mit
Leuchtstoff gefüllt werden, wobei
in eine auf einer Metallplatte (2) aufgebrachten Platte (1)
aus durch energiereiche Strahlung in seinen Eigenschaften
veränderbarem Material, bevorzugt Polymethylmethacrylat,
durch partielles Bestrahlen mit der energiereichen Strah
lung (4) und Entfernen des bestrahlten Materials (7a) unter
Ausnutzung der durch die Bestrahlung erzeugten un
terschiedlichen Materialeigenschaften netzförmig miteinan
der verbundene Zwischenräume (7) eingearbeitet werden,
dadurch gekennzeichnet, daß
mit der so behandelten Platte (1) als Schablone und
der mit ihr in Verbindung stehenden Metallplatte (2) als
Elektrode galvanisch Zwischenwände (9) aus Metall erzeugt
werden, wonach das restliche Material (8) der Platte (1)
entfernt und die so entstandenen wabenartigen Hohlräume
(10) mit Leuchtstoff gefüllt werden.
2. Verfahren nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß man
die Zwischenwände (9) der wabenartigen Mikrostruktur von
der Metallplatte (2) trennt.
3. Verfahren nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß zur
Bestrahlung der Platte (1) parallele Synchrotronstahlung
(4) verwendet wird und dadurch alle Wände (9) der wa
benartigen Mikrostruktur parallel werden.
4. Verfahren nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß zur
Bestrahlung der Platte (1) eine Röntgenröhre (17) mit
punktförmigem Brennfleck (19) verwendet wird und dadurch
alle Wände (21) der wabenartigen Mikrostruktur auf einen
Punkt (19) fokussiert werden.
5. Verfahren nach Anspruch 1 bis 4, dadurch gekennzeichnet,
daß wabenförmige Mikrostrukturprodukte mit Wänden erzeugt
werden, die eine Stärke von 2 µm bis 10 µm aufweisen bei ei
nem Durchmesser der mit Leuchtstoff gefüllten Hohlräume
zwischen 15 µm und 150 µm.
Priority Applications (1)
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DE19893909450 DE3909450A1 (de) | 1989-03-22 | 1989-03-22 | Verfahren zur herstellung von leuchtschirmen, verstaerkungs- oder speicherfolien fuer die roentgendiagnostik |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
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DE19893909450 DE3909450A1 (de) | 1989-03-22 | 1989-03-22 | Verfahren zur herstellung von leuchtschirmen, verstaerkungs- oder speicherfolien fuer die roentgendiagnostik |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
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DE3909450A1 DE3909450A1 (de) | 1990-09-27 |
DE3909450C2 true DE3909450C2 (de) | 1991-05-16 |
Family
ID=6376976
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
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DE19893909450 Granted DE3909450A1 (de) | 1989-03-22 | 1989-03-22 | Verfahren zur herstellung von leuchtschirmen, verstaerkungs- oder speicherfolien fuer die roentgendiagnostik |
Country Status (1)
Country | Link |
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1989
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Also Published As
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