DE3711748A1 - Mattiertes glas, verfahren zum herstellen mattierten glases, photovoltaikzelle mit einer solchen glasscheibe und verfahren zur herstellung einer solchen zelle - Google Patents
Mattiertes glas, verfahren zum herstellen mattierten glases, photovoltaikzelle mit einer solchen glasscheibe und verfahren zur herstellung einer solchen zelleInfo
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Description
Die Erfindung betrifft ein lichtdurchlässiges Glas mit
wenigstens einem Oberflächenbereich, welcher durch Ober
flächengrübchen (pits) mattiert ist. Die Erfindung richtet
sich auf eine Photovoltaikzelle mit einer Glasscheibe, die
nacheinander überzogen wird mit einer ersten leitfähigen
Schicht, die lichtdurchlässig ist, einer photoaktiven
Schicht und einer zweiten leitfähigen Schicht.
Die Erfindung richtet sich weiterhin auf ein Verfahren zur
Erzeugung mattierten Glases (Mattglas), wobei ein Ober
flächenbereich eines Glasstückes oder einer Glasscheibe
mit einer Population von Oberflächengrübchen versehen
wird sowie auf ein Verfahren zur Herstellung einer Photo
voltaikzelle, wobei nacheinander auf einer Glasscheibe
oder Glastafel eine erste Überzugsschicht aus einem licht
durchlässigen leitfähigen Material, eine zweite Überzugs
schicht, die ein photoaktives Material enthält sowie eine
dritte Überzugsschicht abgeschieden werden, die aus einer
zweiten Lage leitfähigen Materials besteht.
Der Ausdruck "mattiertes Glas" (Mattglas) ist auf dem Fach
gebiet wohl bekannt und bezeichnet ein Glas, bei dem wenig
stens eine Oberfläche ent- oder depoliert wurde. Das Ergeb
nis kann mechanisch, beispielsweise durch Sandblasen oder
durch chemischen Angriff, gewöhnlich unter Zuhilfenahme
von Fluorwasserstoffsäure erfolgen. In der vorliegenden
Beschreibung wird "mattiert" mit bezug auf ein Glas ver
wendet, daß einem chemischen Angriff ausgesetzt wurde.
Dieses Mattieren wird durch Ätzen des Glases herbeigeführt.
Nachfrage besteht nach mattiertem Glas für die verschieden
sten Zwecke. Ein solcher Zweck liegt in der Zurverfügung
stellung von Verglasungsscheiben für Innen- und Außenwände
von Gebäuden, die die Beleuchtung durch die Verglasung
möglich machen, die Einsicht jedoch trüben, und so einen
Grad des Privatseins schützen.
Zunächst liegt der Erfindung die Aufgabe zugrunde, ein
neues mattiertes Glas, welches diesen Bedarf deckt, anzu
geben und welches gewisse Vorteile gegenüber bekannten
mattierten Gläsern bietet, die durch Ätzen erzeugt wurden,
und zwar bei der Herstellung zu diesem Zweck.
Somit wird zunächst ein lichtdurchlassendes Glas vorge
schlagen, bei dem wenigstens ein Oberflächenbereich durch
Oberflächengrübchen mattiert ist. Dieses zeichnet sich
dadurch aus, daß solch ein Oberflächenbereich geätzt wurde,
um eine Population von sich vereinigenden oder aneinander
angrenzenden Oberflächengrübchen vielflächiger Form zu bil
den, die von so kleiner Fläche sind, daß wenigstens 30%
des sichtbaren normal hierauf einfallenden Lichtes diffus
durchgelassen wird und das gesamte Lichtdurchlaßvermögen
von normal einfallendem sichtbaren Licht durch die Ober
fläche nicht geringer als TT-10 ist, wo TT die Lichtdurch
laßfähigkeit insgesamt durch die gleiche Oberfläche vor
dem Ätzen, ausgedrückt als prozentualer Anteil des gesamt
einfallenden sichtbaren Lichtes ist.
In dieser Beschreibung wird "Lichtdurchlaßvermogen" Transmittanz als
das Verhältnis des durchgelassenen zum einfallenden Licht
entsprechend ASTM-Verfahren D 307 (1964, Book of ASTM
Standards, Teil 21) bezeichnet. "Diffus", wie mit bezug
auf Lichttransmission benutzt, bezeichnet den Anteil des
Lichtes, der durch das Glas geht und veranlasst wird, vom
einfallenden Strahl durch Streuen um mehr als 2,5° abzu
weichen. Wird "diffus" mit bezug auf Lichtreflexion benutzt,
so bezeichnet es den Anteil von Licht, der bei Reflexion
an der Glas/Luftgrenzfläche veranlasst wird, aus dem unter
Spiegeln reflektierten Strahl durch Streuen um mehr als
2,5° abzuweichen.
Solch ein Glas ermöglicht eine Lichttransmission, verhin
dert aber gleichzeitig im wesentlichen die optische Auf
lösung irgendeines Gegenstandes durch es und gibt so einen
Grad von Privatheit. Es hat sich herausgestellt, daß diese
Population von Oberflächengrübchen sehr geringen Einfluß
auf die gesamte sichtbare Lichtdurchlaßfähigkeit durch das
Glas aufweist. Dies steht im Gegensatz zu vorher bekannten
mattierten Gläsern, deren Lichtdurchlaßfähigkeit merklich
abnimmt, weil das Glas absorbent gemacht ist. Da weiterhin
solch ein hoher Anteil durchgelassenen Lichtes diffus ist,
wird die Beleuchtung durch das Glas noch gleichmässiger als
es bei bekannten geätzten Gläsern ist.
Nach den am meisten bevorzugten Ausführungsformen der
Erfindung ist die gesamte Lichtdurchgangsfähigkeit normal
einfallenden sichtbaren Lichtes durch diesen mattierten
Oberflächenbereich nicht geringer als TT-3. Durch Einhal
tung dieses bevorzugten Merkmals nach der Erfindung hat die
Mattierungsbehandlung einen sehr geringen Einfluß (wenn
überhaupt) bei der Verminderung der gesamten Lichtdurchlaß
fähigkeit des Glases, so daß für einen hohen Beleuchtungs
grad durch das Glas es nur notwendig ist, eine ziemlich
niedrige spezifische Innenabsorption, beispielsweise nor
males Kalk-Natron-Fensterglas, zu verwenden.
Nach bevorzugten Ausführungsformen der Erfindung wird
wenigstens dieser eine geätzte Oberflächenbereich von einer
solchen Population von Oberflächengrübchen eingenommen,
die von so kleiner Größe sind, daß eine Scheibe mit einem
Durchmesser von 10 µm hierauf nicht gelegt werden, ohne
daß wenigstens 2 Grübchen überlappt werden. Nach den bevor
zugtesten Ausführungsformen der Erfindung wird wenigstens
ein solcher geätzter Oberflächenbereich eingenommen von ei
ner solchen Population von Oberflächengrübchen, die von
so geringer Größe sind, daß eine Scheibe mit einem Durch
messer von 5 µm hierauf nicht ohne Überlappen von wenigstens
zwei Grübchen gelegt werden kann. Eine dichte Population von
Oberflächengrübchen so geringer Größenbereiche vorzusehen
ist einer der Faktoren, die einen wichtigen Einfluß bei der
Erreichung einer hohen Diffustransmittanz hat. In Praxis
sollten diese Tests an Photoelektronenmikroskopbildern mit
beispielsweise einer Vergrösserung des 1000fachen durch
geführt werden.
Mit Grübchen einer so geringen Größe hat sich herausgestellt,
daß das geätzte Glas nicht lediglich als brechendes Objekt
behandelt werden kann, um das Ausmaß der Diffusion von Licht
nach den klassischen Gesetzen der geometrischen Geometrie
vorherzusagen. Für sehr kleine Grübchen ist es nicht
möglich, daß die Diffusion von der Rayleigh′schen Gleichung
bestritten wird für die für Gegenstände, die klein mit
bezug auf die Wellenlänge des beleuchtenden Lichtes sind,
die Intensität des diffus gestreuten Lichtes proportional
zum Reziprokwert der vierten Potenz der Wellenlänge g
des Lichtes ist. Es ist jedoch wahrscheinlicher, daß die
Intensität des gestreuten Lichts proportional λ -n (Mie′sche
Gleichung) ist, wo n im Bereich zwischen 0 und 4 ist. Tat
sächlich scheint für einen Grübchendurchmesser von etwa
5 µm n etwa≃1,5 zu sein.
Die Tiefe der Grübchen (pits) ist auch von Wichtigkeit.
Vorzugsweise wird wenigstens ein solcher geätzter Ober
flächenbereich von einer solchen Population von Oberflächen
grübchen eingenommen, von denen im wesentlichen sämtliche
Grübchen eine Tiefe in der Größenordnung von 0,1 bis 1,0 µm
einschliesslich haben. Hierdurch wird ein breiter Streu
winkel von diffus durchgelassenem Licht erzeugt. Ein breiter
Streuwinkel ist günstig, wenn eine gleichmässige Beleuch
tung eines Raumes hinter einer Glasscheibe erzeugt werden
soll, da das durchgelassene Licht weniger stark gerichtet
ist.
Nach den am meisten bevorzugtesten Ausführungsformen der
Erfindung wird wenigstens ein solcher geätzter Oberflächen
bereich von einer solchen Population von Oberflächengrüb
chen eingenommen, wobei im wesentlichen sämtliche dieser
Grübchen eine Tiefe und eine mittlere Querabmessung (im
folgenden Durchmesser genannt) haben, die so in Beziehung
stehen, daß die Tiefe dieses Grübchens geteilt durch ihren
Durchmesser wenigstens = 0,01 und optimal = 0,02 bis 0,5
einschliesslich beträgt. Dies begünstigt eine große Menge
Licht, die an diesem geätzten Oberflächenbereich (diffus)
gestreut wird.
Nach besonders bevorzugten Ausführungsformen der Erfindung
beträgt der Streuwinkel diffusen durch einen solchen ge
ätzten Oberflächenbereich durchgelassenen Lichtes wenigstens
10°. Ein grosser Streuwinkel ist günstig, wenn das geätzte
Glas bei gewissen Arten Photovoltaikzellen eingesetzt wer
den soll.
Für gewisse Zwecke einschliesslich denen in einer Photo
voltaikzelle ist es wünschenswert, daß ein großer Anteil
durchgelassenen Lichtes diffus durchgelassen oder gestreut
wird. Nach gewissen bevorzugten Ausführungsformen der Er
findung werden wenigstens 40% und bevorzugt wenigstens
50% von normal auf diesen geätzten Oberflächenbereich
einfallenden Lichtes diffus durchgelassen. Dies begünstigt
auch eine gleichmässigere Ausleuchtung eines Raumes hinter
dem geätzten Glas. Besonders günstig ist es, wenn das Glas
in eine Photovoltaikzelle eingebaut ist.
Vorzugsweise beträgt das gesamte Solarenergiedurchlaßver
mögen des Glases wenigstens 85% und bevorzugt wenigstens
90%. Ein hohes Solarenergiedurchlaßvermögen, welches ein
hohes Durchlaßvermögen für sichtbares Licht mit sich bringt,
ist wünschenswert für eine gute Ausleuchtung und für andere
Zwecke.
Mattiertes Glas nach der Erfindung kann von irgendeiner
gewünschten physikalischen Gestalt sein; bevorzugt jedoch
liegt das Glas in Form einer Tafel vor, da man glaubt, daß
geätztes Glas in Tafelform weiteste kommerzielle Verbrei
tung findet. Das Glas kann auf beiden Seiten geätzt sein,
nach einigen bevorzugten Ausführungsformen jedoch wird die
Tafel nur auf einer Hauptfläche geätzt.
Bezug genommen wurde auf die Verwendung geätzten Glases
im Zusammenhang mit Photovoltaikzellen. Auf dem Gebiet
Photovoltaikzellen, insbesondere denen, die für die Um
setzung von Solarenergie in elektrische Energie verwendet
werden, besteht eine kontinuierliche Suche nach einer immer
höheren Energieumwandlungseffektivität.
Einer der Faktoren, die den Umwandlungswirkungsgrad eines
gegebenen Zellentyps beeinflussen, ist die Länge des
Lichtweges durch die photoaktive Schicht. Eine erste Über
legung ist, daß für die grösste einfallende Lichtintensität
die Zelle normal, bezogen auf die Strahlung von der Licht
quelle, orientiert sein sollte. Die Länge des Lichtweges kann
so prima facie als gleich zur optischen Dicke der photoakti
ven Schicht angesehen werden. Ein Dickermachen dieser Schicht
wird diesen Lichtweg klar verlängern, so daß eine grössere
Wahrscheinlichkeit besteht, daß irgendein gegebenes Photon
zur Wirkung kommt, um ein Elektronenlochpaar innerhalb des
photoaktiven Materials zu erzeugen. Solch eine Zunahme in
der physikalischen Dicke dieser Schicht steigert auch die
Wahrscheinlichkeit, daß ein hierin freigesetztes Elektron
während seiner Wanderung gegen eine leitfähige Schicht ein
gefangen wird, weil die mittlere Länge der Elektronwande
rungswege ebenfalls vergrössert wird. Dies macht wenigstens
zum Teil den Vorteil der Steigerung der Länge des optischen
Weges wieder zunichte.
Erfindungsgemäß wird zudem eine Photovoltagezelle vorge
schlagen mit einer Glasscheibe, die aufeinanderfolgend
überzogen wird mit einer ersten leitfähigen Schicht, die
Licht durchläßt, einer photoaktiven Schicht und einer zwei
ten leitfähigen Schicht. Diese zeichnet sich dadurch aus,
daß die Glasscheibe entsprechend dem oben erwähnten Aspekt
der Erfindung ausgebildet ist.
Die Einhaltung dieses Merkmals der Erfindung schafft eine
Einrichtung, mit der die Länge des Lichtweges durch eine
photoaktive Schicht einer Photovoltaikzelle vergrössert
wird, ohne daß eine entsprechende Steigerung in der Dicke
der Schicht vorgenommen werden müsste. Ein diffus ge
streuter Lichtstrahl wandert durch diese Schicht als Kegel
und nicht direkt, mit dem Ergebnis, daß eine Steigerung
in der Länge des mittleren Weges des Lichtes und eine
grössere Wahrscheinlichkeit gegeben ist, daß Elektronen
lochpaare erzeugt werden. Dies kann gemacht werden, ohne
daß die physikalische Dicke der photoaktiven Schicht ver
grössert wird, so daß die mittlere Länge der Wanderungswege
der Elektronen zu einer leitfähigen Schicht die gleiche
bleibt wie die Möglichkeit, daß die gerade freigesetzten
Elektronen während dieser Wanderung eingefangen werden.
Das Ergebnis ist ein gesteigerter Energieumwandlungswir
kungsgrad.
Die herbeigeführte Steigerung im Wirkungsgrad hängt haupt
sächlich von drei Faktoren ab:
- - Dem Anteil des einfallenden Lichtes, welches diffus durch gelassen wird;
- - dem Streuwinkel dieser diffusen Transmission;
- - und dem gesamten Transmissionsvermögen der Glasscheibe.
Für einen gesteigerten Wirkungsgrad ist es wünschenswert,
daß jeder dieser Faktoren hoch liegt.
Nach einigen Ausführungsformen verfügt die Glasscheibe
über einen Oberflächenbereich mit einer Population sich
vereinigender oder angrenzender Oberflächengrübchen, die
von so geringer Fläche und Profil sind, daß klar lesbar
geschriebene Zeichen von einem Schreibschritt von 10
(10 Zeichen pro Zoll) noch klar lesbar sind, wenn man durch
einen geätzten Oberflächenbereich sieht, wenn diese Fläche
unter einer Entfernung von 10 cm von diesen Zeichen gehalten
wird. Auf diese Weise nutzt eine Photovoltaikzelle nach
der Erfindung ein neues geätztes Glas, welches beschrieben
und beansprucht ist in der hiermit zusammenhängenden Patent
anmeldung (internes Aktenzeichen G 3533), entsprechend
Großbritannien vom 8. 4. 1986, Nr. 86 08 496.
Nach einigen bevorzugten Ausführungsformen der Erfindung
hinsichtlich des zweiten Aspekts verfügt die Glasscheibe
über einen geätzten Oberflächenbereich, der eine Population
von sich vereinigenden oder benachbarten Oberflächengrübchen
aufweist, die weiterbehandelt wurden, so daß wenigstens die
Bodenbereiche dieser Grübchen von abgerundetem Profil sind.
Es hat sich herausgestellt, daß die Verwendung solch eines
Glases den Energieumwandlungswirkungsgrad erhöht, während
sie auch eine gute Auflösung eines Bildes der Lichtquelle
durch das Glas ermöglicht. Solch ein Glas ist nützlich bei
Photovoltaikfeldern oder Platten, bei denen man wünscht,
die innenliegende Schaltung zu sehen.
Nach den am meisten bevorzugten Ausführungsformen der Er
findung ist diese zweite Schicht eine lichtreflektierende
Schicht. Die Einhaltung dieses Merkmals ist besonders zu be
vorzugen, weil hierdurch effektiv die optische Weglänge
durch eine Schicht photoaktiven Materials einer gegebenen
Dicke verdoppelt wird. Besonders zweckmässig ist es, die
zweite leitfähige Schicht als Schicht aus Aluminium her
zustellen.
Vorzugsweise ist diese lichtdurchlassende leitfähige Schicht
eine Schicht aus dotiertem Zinnoxid. Dotierte Zinnoxid
schichten können hochtransparent mit guter Leitfähigkeit
hergestellt werden. Sie können auch sehr haltbar sein,
was wichtig ist, wenn sie die Bedingungen aushalten müssen,
denen sie während der Abscheidung aufeinanderfolgender
Überzugsschichten ausgesetzt werden. Weiterhin hat Zinnoxid
eine Brechungszahl derart, daß der Kegel diffus durchge
lassenen Lichtes weiter verbreitet wird, wenn diese Schicht
gekreuzt wird.
Vorteilhaft umfasst diese photoaktive Schicht eine Schicht
aus amorphem Silicium. Amorphes Silicium kann auch ein
wirksames photoaktives Material bilden. Beispielsweise
kann die photoaktive Schicht drei Unterschichten umfassen,
eine 10 nm dicke Kontaktschicht vom p-Typ in Kontakt mit
der lichtdurchlassenden leitfähigen Schicht, die aus einer
bor-dotierten Legierung amorphen Siliciums und Kohlenstoffs
gebildet ist, eine 500 nm dicke amorphe Siliciumschicht und
eine 20 nm bis 50 nm dicke Kontaktschicht vom n-Typ, bei
spielsweise ein phosphor-dotiertes amorphes Silicium.
Diese Schichten können auch nach einem Vakuumabscheidever
fahren, beispielsweise einem Glimmentladungsverfahren, abge
schieden werden, wobei geeignete Silane als Ausgangsmateria
lien verwendet werden.
Die Verwendung amorphen Siliciums als photoaktives Material
ist an sich bekannt. Ebenfalls ist bekannt, daß solche
photoaktiven Schichten besonders empfindlich gegen blaues
Licht oder rotes Licht gemacht werden können. Besonders
wird empfohlen, daß das photoaktive Material eine blau
empfindliche erste Schicht in Kontakt mit der lichtdurch
lassenden Schicht umfassen soll, wobei die blauempfindliche
Schicht darüber eine rotempfindliche zweite Schicht als
Überzug trägt.
Vorzugsweise wurde diese Glasscheibe auf nur einer Haupt
fläche geätzt; diese Überzugsschichten befinden sich auf
der gegenüberliegenden Hauptfläche der Scheibe. Es hat
sich als einfacher herausgestellt, Überzüge mit gutem Haftungs
vermögen auf einer Glasoberfläche, die nicht geätzt wurde,
zu bilden.
Die Erfindung richtet sich auch auf ein Verfahren zur Her
stellung mattierten Glases und schafft somit nach ihrem
dritten Aspekt ein Verfahren zur Herstellung mattierten
Glases, wobei ein Oberflächenbereich eines Stück Glases
oder einer Glastafel mit einer Population von Oberflächen
grübchen ausgebildet wird. Die Erfindung zeichnet sich
dadurch aus, daß der Oberflächenbereich mit einer Lösung
eines Salzes der Fluorwasserstoffsäure geätzt wird und
eine im wesentlichen angrenzende Population von Fluor
enthaltenden Kristallen zurücklässt und daß diese Kristalle
entfernt werden, wodurch dieser Oberflächenbereich mit
einer Population sich vereinigender oder benachbarter viel
flächiger Oberflächengrübchen belassen wird, die sämtlich
von so geringer Erstreckung sind, daß wenigstens 30% des
sichtbaren normal hierauf einfallenden Lichtes diffus ge
streut wird und daß diese gesamte Lichttransmittanz normal
einfallenden sichtbaren Lichtes durch diese Oberfläche nicht
geringer als TT-10 ist, wo TT die Gesamtlichttransmittanz
durch die gleiche Oberfläche vor dem Ätzen, ausgedrückt als
Anteil des gesamt auffallenden sichtbaren Lichtes, ist.
Solch ein Verfahren ist besonders wertvoll und zweckmässig
bei der Ausbildung eines Stückes oder einer Tafel geätzten
Glases zur Anwendung nach der Maßnahme dieser Erfindung.
Es zeigt sich, daß die Behandlung mit einem Salz der Fluor
wasserstoffsäure leicht vorgenommen werden kann und zu einer
dichten Population kleiner Oberflächengrübchen führt, die
von Fluor enthaltenden Kristallen aufgrund der Reaktion
zwischen der Salzlösung und dem Glas eingenommen werden;
die resultierende geätzte Oberfläche des Glases lässt einen
hohen Anteil von Licht diffus ohne einen wesentlichen Verlust
in Totaltransmittanz, verglichen mit dem Glas vor dem Ätzen,
durch.
Nach den am meisten bevorzugten Ausführungsformen der
Erfindung ist diese Lösung eines Salzes der Fluorwasserstoff
säure eine wässrige Lösung von einem oder mehreren aus Kalium
bifluorid, Natriumbifluorid und Ammoniumbifluorid. Die Ver
wendung eines solchen Bifluorids begünstigt einen chemischen
Angriff auf das Glas, der derart ist, daß nach der Entfernung
der gebildeten Fluorsilikatkristalle eine mit Grübchen ver
sehene Oberfläche einer Form vorgesehen ist, die besonders
zweckmässig auch für die in Betracht gezogenen Zwecke aus
gebildet ist. Die Verwendung eines Alkalimetallbifluorids
stellt sicher, daß der Angriff auf das Glas im wesentlichen
unabhängig von dem Alkalimetallgehalt des Glases ist. Vor
zugsweise besteht diese Lösung eines Salzes der Fluorwasser
stoffsäure im wesentlichen aus Kaliumbifluorid in Wasser. Die
Verwendung von Kaliumbifluorid ist äusserst wirksam.
Vorzugsweise ist diese Lösung eines Salzes der Fluorwasser
stoffsäure eine wässrige Lösung, die dieses Salz in einem
Anteil zwischen 70 und 200 g pro Liter enthält; dieser
Oberflächenbereich ist einer solchen Lösung über einen
Zeitraum von 20 Sekunden bis 2 Minuten ausgesetzt. Dies
begünstigt die Bildung einer Vielzahl von kleinen Fluor
enthaltenden Kristallen, die entfernt werden können und eine
sehr dichte Population kleiner Oberflächengrübchen im Glas
zurücklassen.
Nach gewissen bevorzugten Ausführungsformen der Erfindung
geht diesem Ätzschritt ein anfänglicher Säurewaschschritt
vorher, bei dem der zu ätzende Oberflächenbereich mit einer
Säurelösung gewaschen wird. Es hat sich herausgestellt, daß
sich so eine jungfräuliche Oberfläche ergibt, die somit ein
gleichförmigeres Ätzen erlaubt und zu einem gleichförmigeren
behandelten Produkt führt.
Es ist besonders zweckmässig, dieses anfängliche Säurewaschen
dadurch durchzuführen, daß dieser Oberflächenbereich einer
Lösung ausgesetzt wird, die Fluorsäure und gewünschtenfalls
Schwefelsäure umfasst.
Nach gewissen bevorzugten Ausführungsformen der Erfindung
geht diesem Ätzschritt ein Schritt vorher, bei dem der
zu ätzende Oberflächenbereich mit einem viskosen Film organi
schen Materials überzogen wird. Dies führt zu dem Effekt, daß
die Größe der Grübchen reduziert wird, die in der Oberfläche
des Glases während des Ätzschrittes geformt werden und
resultiert in einer gesteigerten Streuung durch den geätzten
Oberflächenbereich. Unter geeigneten organischen Materialien
seien genannt einige oder mehrere aus:
Sucrose, Glukose, Glyzerin, Glykol, Polyvinylpyrrolidon.
Sucrose, Glukose, Glyzerin, Glykol, Polyvinylpyrrolidon.
Es wurde nämlich gefunden, daß der anfängliche Säurewasch
schritt dazu neigt, zur Bildung grösserer Kristalle und
so grösserer Grübchen während des Ätzschrittes zu führen.
Es zeigt sich, daß es möglich ist, verschiedene aufeinander
folgende Behandlungsstufen derart durchzuführen, daß ein
gewisses Maß von Kontrolle über die Größe der Kristalle
dabei herauskommt, die während des Ätzschrittes gebildet
werden. Am meisten bevorzugt man, daß dieser anfängliche
Säurewaschschritt dieser Stufe mit dem organischen Überzug
vorhergeht.
Die Erfindung richtet sich auch auf ein Verfahren zur Her
stellung einer Photovoltaikzelle und somit nach einem vierten
Aspekt liefert die Erfindung ein Verfahren zur Herstellung
einer Photovoltaikzelle, wobei nacheinander auf einer
Glasscheibe eine erste Überzugsschicht eines lichtdurch
lassenden leitfähigen Materials, eine zweite Überzugsschicht,
die ein photoaktives Material umfasst und eine dritte Über
zugsschicht abgeschieden wird, die eine zweite Schicht aus
leitfähigem Material ist. Die Erfindung zeichnet sich dadurch
aus, daß die Glasscheibe entsprechend dem dritten Aspekt der
Erfindung behandelt wird. Die Verwendung solch eines Ver
fahrens ist besonders zweckmässig für die Herstellung von
Photovoltaikzellen nach dem zweiten Aspekt der Erfindung.
Vorzugsweise wird der von einer Population sich vereinigen
der oder angrenzender vielflächiger Oberflächengrübchen
eingenommene Oberflächenbereich behandelt, um eine Ober
flächenschicht hiervon zu entfernen, wodurch das Profil
wenigstens der Bodenbereiche dieser Grübchen abgerundet wird.
Es hat sich herausgestellt, daß die Verwendung von Glas,
das solch einer Behandlung ausgesetzt wurde, den Energie
umwandlungswirkungsgrad in einer Photovoltaikplatte steigern
kann, während es auch eine gute Auflösung eines Bildes einer
Lichtquelle durch das Glas ermöglicht. Solch ein Glas ist
nützlich in Photovoltaikplatten oder Panelen bzw. Feldern,
bei denen man wünscht, die innengelegene Schaltung zu sehen.
Die Entfernung der Oberflächenschicht vom Glas nach der
Bildung der Grübchen hierin, wobei die Grübchen mit einem
solchen abgerundeten Profil belassen werden, kann durch eine
mechanische Polierbehandlung ausgeführt werden; es ist jedoch
zweckmässiger und im allgemeinen einfacher, eine gleich
förmigere Behandlung zu erreichen, wenn, wie bevorzugt, diese
Oberflächenschichtentfernung in einem chemischen Polierschritt
durchgeführt wird.
Vorzugsweise wird dieser chemische Polierschritt durchgeführt,
indem dieser Oberflächenbereich einer Lösung, die Fluorwasser
stoffsäure enthält, ausgesetzt wird. Solch eine Behandlung ist
ganz einfach in der Durchführung und erteilt den Oberflächen
grübchen das geforderte Profil und lässt einen geätzten Ober
flächenbereich auf dem Glas zurück, der ein hohes Licht
transmissionsvermögen begünstigt.
Es ist besonders zweckmässig, dieses chemische Polieren so
auszuführen, daß dieser Oberflächenbereich über einen Zeit
raum von 60 Minuten bis 20 Sekunden einer Lösung ausgesetzt
wird, die 1,0 bis 20% Fluorwasserstoffsäure und 0 bis 15%
Schwefelsäure enthält.
Vorzugsweise wird diese Glasscheibe auf nur einer Haupt
fläche geätzt; diese Überzugslagen werden auf der der ge
ätzten Fläche gegenüberliegenden Seite abgeschieden. Dies
erleichtert die Abscheidung von stark haftenden Überzugs
schichten.
Es ist gewünscht, die Widerstandsfähigkeit des geätzten
Glases gegen Bruch zu steigern; das Glas kann chemisch
spannungsfrei nach der abschliessenden Ätzbehandlung gemacht
werden, ohne daß dessen optische Eigenschaften beeinträchtigt
würden.
Eine Desalkalisierbehandlung kann am Glas nach dem Ätzen
durchgeführt werden, um die Alkalimetallionenpopulation
in dessen Oberfläche gewünschtenfalls zu vermindern.
Bevorzugte Ausführungsformen der Erfindung werden nun mit
bezug auf die beiliegenden Zeichnungen näher erläutert,
wobei
die Fig. 1 und 2 jeweils ein Elektronenmikroskopbild
einer Glasscheibe darstellen, die einer Behandlung nach
der Erfindung ausgesetzt wurden;
die Fig. 3 und 4 sind jeweils ein Elektronenmikroskopbild
einer Glasscheibe, die vor dem Einbau in eine Photovoltaik
zelle nach der Erfindung behandelt wurde;
Fig. 5 ist eine graphische Darstellung und zeigt die Licht
transmittanz und Reflektanzkurven des behandelten, in Fig. 4
gezeigten Glases und
Fig. 6 ist ein schematischer Schnitt durch eine Photozelle
nach der Erfindung.
Die folgenden Beispiele erläutern die Erfindung, ohne sie
zu begrenzen.
Eine Scheibe gezogenen Kalknatronglases von 1,9 mm Dicke
wurde in eine wässrige Lösung getaucht, die zwischen
70 und 150 g/l Kaliumfluorid in einem Ätzbad bei Umgebungs
temperatur (etwa 20°C) enthielt, und zwar für einen Zeit
raum von etwa 1 Minute. Eine Schicht Kristalle aus Natrium
fluorsilikat wurde auf den getauchten Flächen des Glases
gebildet; diese wurden durch Waschen in Wasser entfernt.
Die resultierende Fläche erwies sich als dicht populiert
von einer Vielzahl von vielflächigen Oberflächengrübchen,
von denen jedes eine maximale Abmessung zwischen etwa
5 µm bis etwa 1µm bei einer Tiefe in der Grössenordnung von
0,4 µm aufwies. Ein Elektronenmikroskopbild dieser Fläche
bei einem Maßstab wie angegeben von etwa 1000facher Ver
grösserung ist wie in Fig. 1 gezeigt. Es ist nicht möglich,
eine 10-mm-Scheibe (10 µm×1000) auf Fig. 1 zu legen, ohne
daß wenigstens 2 Grübchen überlappt werden. Das Glas, dessen
Fläche so behandelt wurde, zeigte ausgezeichnete licht
streuende Eigenschaften. Die gesamte Lichtdurchlaßfähigkeit
der so behandelten Scheibe lag bei etwa 88%; die diffuse
Transmittanz bei etwa 60% des normal einfallenden Lichtes.
Vor der Behandlung lag die Gesamttransmissionsfähigkeit
der Glasscheibe bei etwa 93%.
Um die Größe der gebildeten Grübchen zu verändern und um
eine gleichförmigere Grübchenabmessung zu erreichen, wurde
dem Ätzschritt des vorhergehenden Beispiels ein Säurewasch
schritt vorgeschaltet, in dem das Glas mit einer anfäng
lichen Säurewaschlösung gewaschen wurde, die ein Volumen-%
Fluorwasserstoffsäure und 6 Volumen-% Schwefelsäure in
Wasser enthielt, und zwar bei Umgebungstemperatur mehrere
Minuten lang. Nach Spülen in Wasser wurde das Glas der
gleichen Ätzbehandlung ausgesetzt und dann in Wasser ge
waschen. Ein Elektronenmikroskopbild der resultierenden
Oberfläche mit einem Maßstab wie angegeben von etwa 1000facher
Vergrösserung ist wie Fig. 2 dargestellt. Die resultierenden
Oberflächengrübchen hatten eine Maximalabmessung zwischen
7 µm und 10 µm mit einer Tiefe bis zu 0,8 µm mit einer Streuung
von viel kleineren Grübchen. Es ist nicht möglich, eine
10-mm-Scheibe (10 µm×1000) auf Fig. 2 zu legen, ohne daß
wenigstens zwei Grübchen überlappt würden. Die gesamte Licht
durchlaßfähigkeit auf der so behandelten Scheibe wurde um
etwa 93% erhöht, der Anteil normal einfallenden Lichtes,
der diffus durchgelassen wurde, wurde auf etwas mehr als
75% erhöht.
Die in Säure gewaschene und geätzte Glasscheibe des Bei
spiels 2 wurde einer Behandlung ausgesetzt, in der eine
Oberflächenschicht entfernt wurde. Die letztgenannte Be
handlung bestand darin, die Scheibe in ein Polierbad zu
tauchen, die 1 Volumen-% Fluorwasserstoffsäure und 6 Volu
men-% Schwefelsäure in Wasser enthielt, und zwar eine Stunde
lang bei Umgebungstemperatur. Ein Elektronenmikroskopbild der
resultierenden Oberfläche in einem Maßstab wie angegeben von
etwa 1000facher Vergrösserung ist wie in Fig. 3 dargestellt.
Die resultierenden Oberflächengrübchen sind von abgerundetem
Profil mit einer Maximalabmessung von im wesentlichen weni
ger als 10 µm. Es ist nicht möglich, eine 10-mm-Scheibe (10 µm
×1000) auf Fig. 3 zu legen, ohne daß wenigstens zwei Grüb
chen überlappt würden. Das gesamte Lichtdurchlaßvermögen
der so behandelten Scheibe lag bei etwa 92%, der Anteil
normal einfallenden Lichtes, das diffus durchgelassen wurde,
lag bei etwa 38,5%. Der Streuwinkel des Lichts, das diffus
an der geätzten Oberfläche des Glases durchgelassen wurde,
lag bei mehr als 10°.
Eine Scheibe aus gezogenem Natronkalkglas von 1,5 mm Dicke
wurde der gleichen Säureanfangswaschbehandlung wie in
Beispiel 2 unterzogen. Nach diesem anfänglichen Säurewaschen
wurde das Glas gespült und in ein Bad getaucht, welches
Glyzerin und Wasser enthielt; es wurde ein Film aus Glyzerin
auf der Oberfläche des Glases zurückgelassen. Das mit
Glyzerin überzogene Glas wurde dann in ein Ätzbad getaucht,
welches eine wässrige Lösung von Kaliumbifluorid (70 bis
120 g/l) bei Umgebungstemperatur (etwa 20°C) enthielt und
zwar über einen Zeitraum von 30 bis 60 Sekunden. Das Glas
wurde entfernt und in Wasser gespült und wurde dann in ein
chemisches Polierbad getaucht, welches 10% Fluorwasserstoff
säure und 4% Schwefelsäure (wässrig) enthielt, und zwar
bei Umgebungstemperatur zwei Minuten lang; dann wurde erneut
gespült. Ein Elektronenmikroskopbild der resultierenden Ober
fläche mit einer Skala wie angegeben von etwa 1000facher
Vergrösserung ist wie Fig. 4 zeigt. Diese zeigt eine dichte
Population von Oberflächengrübchen, die abgerundetes Profil
bei einer Maximalabmessung von weniger als 5 µm und einer
Tiefe in der Grössenordnung von 0,4 µm haben. Es ist nicht
möglich, eine 5-mm-Scheibe auf Fig. 4 zu legen, ohne wenig
stens zwei der Grübchen zu überlappen.
Das Diagramm der Fig. 5 zeigt als Prozent des normal ein
fallenden Lichtes:
bei TTdas gesamte Lichttransmissionsvermögen für
verschiedene Wellenlängen
bei TDdas diffuse Transmissionsvermögen für diese
Wellenlänge
bei RTdas gesamte Lichtreflexionsvermögen für diese
Wellenlängen und
bei RDdas diffuse Reflexionsvermögen für diese
Wellenlängen.
Der Anteil des durchgelassenen Lichtes, der diffus ist,
nimmt mit zunehmender Wellenlänge gegenüber dem sichtbaren
Bereich zu.
Die Scheibe gezogenen Natronkalkglases, behandelt wie nach
diesem Beispiel, hatte die folgenden optischen Eigenschaften,
integriert über das sichtbare Spektrum:
Transmissionsvermögen
insgesamt89,48% des normal einfallenden Lichtes diffuses Transmissionsvermögen45,61% des normal einfallenden Lichtes
50,97% des durchgelassenen Lichtes Totalreflexionsvermögen7,96% des normal einfallenden Lichtes diffuses Reflexionsvermögen7,58% des normal einfallenden Lichtes
95,23% des reflektierten Lichtes.
insgesamt89,48% des normal einfallenden Lichtes diffuses Transmissionsvermögen45,61% des normal einfallenden Lichtes
50,97% des durchgelassenen Lichtes Totalreflexionsvermögen7,96% des normal einfallenden Lichtes diffuses Reflexionsvermögen7,58% des normal einfallenden Lichtes
95,23% des reflektierten Lichtes.
Vor der Behandlung hatte die Glasscheibe ein gesamtes Trans
missionsvermögen von 90,50% für normal einfallendes Licht.
Der Streuwinkel des Lichtes, das diffus an der geätzten Ober
fläche des Glases durchgelassen wurde, war größer als 10°.
Eine Scheibe gezogenen Natronkalkglases von 1,04 mm Dicke
wurde folgenden Behandlungen ausgesetzt:
anfänglichem Säurewaschen, Überziehen mit Glyzerin und Spülbehandlungen wie in Beispiel 4 beschrieben und wurde dann für weniger als 1 Minute bei Umgebungstemperatur in einem Bad geätzt, welches eine wässrige Lösung von Kalium bifluorid (150 bis 200 g/l) enthielt. Das Glas wurde dann entfernt und in Wasser gespült und wurde dann in ein chemisches Polierbad, welches (Volumen-%) 10% Fluorwasser stoffsäure und 5% Schwefelsäure (wässrig) 3 Minuten bei Umgebungstemperatur getaucht und wurde dann wieder gespült. Die Oberflächenstruktur der Scheibe war ähnlich der in Fig. 4 gezeigten. Die so behandelte Scheibe hatte ein sehr hohes gesamtes Lichttransmissionsvermögen, berechnet als 93,4% und diffuses Transmissionsvermögen von 40,97% des normal einfallenden sichtbaren Lichtes. Das gesamte Trans missionsvermögen des Glases vor der Behandlung lag bei 93,6%. Der Streuwinkel des Lichtes, das diffus an der ge ätzten Oberfläche des Glases durchgelassen wurde, war grösser als 10°.
anfänglichem Säurewaschen, Überziehen mit Glyzerin und Spülbehandlungen wie in Beispiel 4 beschrieben und wurde dann für weniger als 1 Minute bei Umgebungstemperatur in einem Bad geätzt, welches eine wässrige Lösung von Kalium bifluorid (150 bis 200 g/l) enthielt. Das Glas wurde dann entfernt und in Wasser gespült und wurde dann in ein chemisches Polierbad, welches (Volumen-%) 10% Fluorwasser stoffsäure und 5% Schwefelsäure (wässrig) 3 Minuten bei Umgebungstemperatur getaucht und wurde dann wieder gespült. Die Oberflächenstruktur der Scheibe war ähnlich der in Fig. 4 gezeigten. Die so behandelte Scheibe hatte ein sehr hohes gesamtes Lichttransmissionsvermögen, berechnet als 93,4% und diffuses Transmissionsvermögen von 40,97% des normal einfallenden sichtbaren Lichtes. Das gesamte Trans missionsvermögen des Glases vor der Behandlung lag bei 93,6%. Der Streuwinkel des Lichtes, das diffus an der ge ätzten Oberfläche des Glases durchgelassen wurde, war grösser als 10°.
Nach einer Variante eines der vorhergehenden Beispiele wurde
der Ätzschritt unter der Verwendung von Natriumbifluorid
oder Ammoniumbifluorid anstelle von Kaliumbifluorid durch
geführt. Dies führte zu sehr ähnlichen Ergebnissen.
Nach einer anderen Variante wurde das behandelte Glas an
schliessend chemisch spannungsfrei geglüht, um seine Be
ständigkeit gegen mechanische Stöße zu erhöhen. Dies macht
keinen merklichen Unterschied hinsichtlich der optischen
Eigenschaften des Glases.
Eine geätzte Glasscheibe nach einem der vorhergehenden
Beispiele ist besonders günstig zur Verwendung in Photo
zellen, insbesondere solchen vom amorphen Siliciumtyp.
Ein Scheibe oder ein Feld mit mehreren solcher Zellen, die
in Reihe geschaltet waren, ist in Fig. 6 gezeigt. Nach Fig. 6
ist eine Scheibe Glas 1, die auf einer der beiden Seiten
geätzt wurde, auf der einen Seite mit einer Vielzahl von
Photozellen versehen. Jede Zelle ist gebildet durch auf
einanderfolgende Schichten dotierten Zinnoxids 2, beispiels
weise von 70 nm Dicke, amorphem Silicium 3 und einem reflek
tierenden Leiter 4 beispielsweise Aluminium, das 100 bis
500 nm dick sein kann. Der reflektierende Leiter 4 jeder Zelle
ist über einen Leiter 5 mit der Zinnoxidschicht 1 der
nächsten Zelle verbunden, so daß die Zellen in Reihe ge
schaltet sind. Ein Schutzfilm 6 ist über den Zellen ange
bracht. Die amorphe Siliciumschicht 3 jeder Zelle wird
durch drei Unterschichten gebildet, einer 10 nm dicken Kon
taktschicht 3 p vom p-Typ in Kontakt mit der lichtdurchlassen
den leitfähigen Schicht und ist aus einer bor-dotierten
Legierung amorphen Siliciums und Kohlenstoffs gebildet,
einer 500 nm dicken amorphen Siliciumzwischenschicht 3 i
und einer 20 nm bis 50 nm dicken Kontaktschicht 3 n vom n-Typ,
die aus phosphor-dotiertem amorphen Silicium gebildet ist.
Diese Schichten können durch eine Vakuumabscheidetechnik,
beispielsweise eine Glimmentladetechnik unter der Verwendung
geeigneter Silane als Ausgangsmaterialien abgeschieden werden.
Als eine Variante werden diese drei Unterschichten 3 p, 3 i,
3 n überzogen mit einer zweiten Gruppe von drei Unterschichten
(nicht dargestellt), um eine zweite photoaktive Schicht zu
bilden. Indem man die erste dieser Schichten 3 empfindlich
gegen blaues Licht, die zweite empfindlich gegen rotes Licht
macht, lassen sich beachtliche Steigerungen im Gesamtwir
kungsgrad der Einrichtung erreichen.
Bei der Herstellung von Photozelleneinrichtungen ist es
wünschenswert, Glas zu verwenden, welches nur auf einer
Seite geätzt wurde und das Photozellenfeld zu bilden, in dem
die aktiven Überzugsschichten auf der Fläche gegenüber der
jenigen, die geätzt wurde, abzuscheiden. Dies führt zu einem
noch grösseren Wirkungsgrad. Abgeschieden wurden im wesent
lichen identische aktive Überzugsschichten zur Bildung von
Photozellen auf drei Glasscheiben gleicher Dicke. Von diesen
Zellen war eine Zelle (Zelle A) nicht behandelt und zwei
wurden nach einem Verfahren entsprechend den Beispielen 3,
4 oder 5 nur auf einer Fläche geätzt. Die aktiven Schichten
wurden auf die geätzte Fläche abgeschieden und bildeten die
Zelle B und auf der nicht geätzten Fläche bilden sie die
Zelle C. Es zeigte sich, daß die Zelle B zu einem 50%igen
Anstieg im Strom verglichen mit Zelle A führte; tatsächlich
war die Ausbeute im wesentlichen die gleiche wie die der
kristallinen Siliciumzelle des gleichen Bereichs. Die Zelle C
war sogar noch wirksamer und lieferte 30% mehr Strom als die
Zelle A.
Claims (33)
1. Lichtdurchlassendes Glas mit wenigstens einem Oberflächen
bereich, welcher durch Oberflächengrübchen mattiert ist,
dadurch gekennzeichnet, daß dieser Oberflächenbereich unter
Bildung einer Population von sich vereinigenden oder an
grenzenden Oberflächengrübchen vielflächiger Form geätzt
wurde, die von so geringer Fläche sind, daß wenigstens 30%
des sichtbaren normal hierauf einfallenden Lichtes diffus
durchgelassen wird und daß das gesamte Lichtdurchlaßvermögen
normal einfallenden sichtbaren Lichtes durch diese Fläche
nicht geringer als TT-10 ist, wobei TT das gesamte Licht
durchlaßvermögen durch die gleiche Fläche vor dem Ätzen,
ausgedrückt als prozentualer Anteil des gesamt einfallen
den Lichtes ist.
2. Glas nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß das
gesamte Lichttransmissionsvermögen normal einfallenden
sichtbaren Lichts durch einen solchen Flächenbereich
nicht kleiner als TT-3 ist.
3. Glas nach Anspruch 1 oder 2, dadurch gekennzeichnet, daß
wenigstens ein solcher geätzter Oberflächenbereich von
einer solchen Population von Oberflächengrübchen einge
nommen ist, die von so geringer Fläche sind, daß eine
Scheibe mit einem Durchmesser von 10 µm hierauf nicht
legbar ist, ohne wenigstens zwei Grübchen zu überlappen.
4. Glas nach Anspruch 3, dadurch gekennzeichnet, daß wenig
stens ein solcher geätzter Oberflächenbereich von einer
solchen Population von Oberflächengrübchen eingenommen
ist, die von so geringer Größe sind, daß eine Scheibe mit
einem Durchmesser von 5 µm hierauf nicht gelegt werden
kann, ohne wenigstens zwei Grübchen zu überlappen.
5. Glas nach einem der vorhergehenden Ansprüche, dadurch
gekennzeichnet, daß wenigstens ein solcher geätzter Ober
flächenbereich von einer solchen Population von Ober
flächengrübchen eingenommen ist, von denen im wesentlichen
alle Grübchen eine Tiefe im Bereich von 0,1 µm bis 1,0 µm
einschliesslich haben.
6. Glas nach einem der vorhergehenden Ansprüche, dadurch
gekennzeichnet, daß wenigstens ein solcher geätzter
Oberflächenbereich eingenommen ist von einer solchen
Population von Oberflächengrübchen, von denen im wesent
lichen sämtliche eine Tiefe und eine mittlere Querab
messung (im folgenden "Durchmesser" genannt) haben, die
so in Beziehung stehen, daß die Tiefe eines solchen
Grübchens, dividiert durch ihren Durchmesser wenigstens
gleich 0,01 ist.
7. Glas nach Anspruch 5, dadurch gekennzeichnet, daß wenig
stens ein solcher geätzter Oberflächenbereich von einer
dichten Population von Oberflächengrübchen eingenommen
ist, von denen im wesentlichen sämtliche eine Tiefe und
einen Durchmesser haben, die so in Beziehung stehen, daß
die Tiefe eines solchen Grübchens, dividiert durch ihren
Durchmesser zwischen 0,02 und 0,5 einschliesslich liegt.
8. Glas nach einem der vorhergehenden Ansprüche, dadurch
gekennzeichnet, daß der Streuwinkel diffusen Lichtes,
das durch einen solchen geätzten Oberflächenbereich
durchgelassen wird, wenigstens 10° beträgt.
9. Glas nach einem der vorhergehenden Ansprüche, dadurch
gekennzeichnet, daß wenigstens 40% und vorzugsweise
wenigstens 50% des normal auf diesen geätzten Oberflächen
bereich einfallenden Lichtes diffus durchgelassen werden.
10. Glas nach einem der vorhergehenden Ansprüche, dadurch
gekennzeichnet, daß das gesamte Solarenergietransmissions
vermögen des Glases wenigstens 85% und vorzugsweise
wenigstens 90% beträgt.
11. Glas nach einem der vorhergehenden Ansprüche, dadurch
gekennzeichnet, daß das Glas bzw. Glasstück in Form
einer Scheibe ist.
12. Glas nach Anspruch 11, dadurch gekennzeichnet, daß die
Glasscheibe nur auf einer Hauptfläche geätzt ist.
13. Photovoltaikzelle mit einer Glasscheibe, die aufeinander
folgend überzogen ist mit einer ersten leitfähigen Schicht,
die lichtdurchlässig ist, einer photoaktiven Schicht und
einer zweiten leitfähigen Schicht, dadurch gekennzeichnet,
daß die Glasscheibe nach einem der Ansprüche 11 oder 12
ausgebildet ist.
14. Photozelle nach Anspruch 13, dadurch gekennzeichnet, daß
die Glasscheibe einen Oberflächenbereich mit einer
Population von sich vereinigenden oder angrenzenden
Oberflächengrübchen aufweist, die sämtlich von so ge
ringer Fläche und Profil sind, daß klar lesbar maschinen
geschriebene Zeichen von 10er-Teilung (10 Zeichen pro Zoll)
noch klar lesbar sind, wenn sie durch diesen geätzten
Oberflächenbereich betrachtet werden, wenn die Scheibe
unter einem Abstand von 10 cm von diesen Zeichen ge
halten ist.
15. Photozelle nach Anspruch 13 oder 14, dadurch gekenn
zeichnet, daß dieser geätzte Oberflächenbereich eine
Population von sich vereinigenden oder angrenzenden
Oberflächengrübchen aufweist, die weiter so behandelt
wurden, daß wenigstens die Bodenbereiche der Grübchen
von abgerundetem Profil sind.
16. Photozelle nach einem der Ansprüche 13 bis 15, dadurch
gekennzeichnet, daß die zweite leitfähige Schicht eine
lichtreflektierende Schicht ist.
17. Photozelle nach einem der Ansprüche 13 bis 16, dadurch
gekennzeichnet, daß die zweite leitfähige Schicht eine
Aluminiumschicht ist.
18. Photozelle nach einem der Ansprüche 13 bis 17, dadurch
gekennzeichnet, daß diese erste leitfähige Schicht eine
Schicht aus dotiertem Zinnoxid ist.
19. Photozelle nach einem der Ansprüche 13 bis 18, dadurch
gekennzeichnet, daß diese photoaktive Schicht eine
Schicht aus amorphem Silicium umfasst.
20. Photozelle nach einem der Ansprüche 13 bis 19, dadurch
gekennzeichnet, daß das photoaktive Material eine blau
empfindliche erste Schicht in Kontakt mit der lichtdurch
lassenden Schicht aufweist, wobei die blauempfindliche
Schicht einen Überzug aus einer rotempfindlichen zweiten
Schicht trägt.
21. Photozelle nach einem der Ansprüche 13 bis 20, dadurch
gekennzeichnet, daß die Glasscheibe auf nur einer Hauptfläche
geätzt ist, wobei diese Überzugsschichten auf der gegen
überliegenden Hauptfläche der Scheibe angeordnet sind.
22. Verfahren zur Herstellung mattierten Glases, wobei
ein Oberflächenbereich eines Stück Glases oder einer
Glasscheibe mit einer Population von Oberflächengrübchen
ausgebildet wird, dadurch gekennzeichnet, daß dieser
Oberflächenbereich mit einer Lösung eines Salzes der
Fluorwasserstoffsäure geätzt wird und hierbei eine
im wesentlichen angrenzende Population Fluor enthaltender
Kristalle zurückbelassen wird und daß diese Kristalle
entfernt werden, und diesen Oberflächenbereich mit einer
Population sich vereinigender oder angrenzender viel
flächiger Oberflächengrübchen belassen, die von so kleiner
Fläche sind, daß wenigstens 30% des sichtbaren normal
hierauf einfallenden Lichtes diffus durchgelassen wird
und derart, daß das gesamte Lichttransmissionsvermögen
normal einfallenden sichtbaren Lichtes durch diese
Oberfläche nicht geringer als TT-10 ist, wo TT das Licht
gesamttransmissionsvermögen durch die gleiche Fläche
vor dem Ätzen, ausgedrückt als Prozent des gesamten ein
fallenden sichtbaren Lichtes, ist.
23. Verfahren nach Anspruch 22, dadurch gekennzeichnet, daß
diese Lösung eines Salzes der Fluorwasserstoffsäure im
wesentlichen aus Kaliumbifluorid in Wasser besteht.
24. Verfahren nach Anspruch 22 oder 23, dadurch gekennzeich
net, daß diese Lösung eines Salzes der Fluorwasserstoff
säure eine wässrige Lösung ist, die dieses Salz in einem
Anteil von zwischen 70 und 200 g/l enthält und daß dieser
Oberflächenbereich einer solchen Lösung über einen Zeitraum
von 20 Sekunden bis 2 Minuten ausgesetzt wird.
25. Verfahren nach einem der Ansprüche 22 bis 24, dadurch ge
kennzeichnet, daß dem Ätzschritt ein anfänglicher Säure
waschschritt vorhergeht, bei dem der zu ätzende Ober
flächenbereich mit einer Säurelösung gewaschen wird.
26. Verfahren nach einem der Ansprüche 22 bis 25, dadurch
gekennzeichnet, daß dem Ätzschritt eine Stufe vorge
schaltet wird, in der der zu ätzende Oberflächenbereich
mit einem viskosen Film organischen Materials geätzt wird.
27. Verfahren nach Anspruch 25 und 26, dadurch gekennzeichnet,
daß dieser anfängliche Säurewaschschritt dem organischen
Überzugsschritt vorhergeht.
28. Verfahren zum Herstellen einer Photovoltaikzelle, wobei
nacheinander auf einer Glasscheibe eine erste Überzugs
schicht aus einem lichtdurchlässigen leitfähigen Material,
eine zweite Überzugsschicht, die photoaktives Material
enthält sowie eine dritte Überzugsschicht abgeschieden
werden, bei der es sich um eine zweite Schicht leitfähi
gen Materials handelt, dadurch gekennzeichnet, daß die
Glasscheibe nach einem der Ansprüche 22 bis 27 behandelt
wird.
29. Verfahren nach Anspruch 28, dadurch gekennzeichnet, daß
der Oberflächenbereich, der von einer solchen Population
sich vereinigender oder angrenzender vielflächiger Ober
flächengrübchen behandelt wird, um eine Oberflächenschicht
hiervon zu entfernen, wodurch das Profil wenigstens der
Bodenbereiche dieser Grübchen abgerundet wird.
30. Verfahren nach Anspruch 29, dadurch gekennzeichnet, daß
die Entfernung der Oberflächenschicht in einem chemischen
Polierschritt durchgeführt wird.
31. Verfahren nach Anspruch 30, dadurch gekennzeichnet, daß
der chemische Polierschritt durchgeführt wird, indem
der Oberflächenbereich einer Fluorwasserstoffsäure ent
haltenden Lösung ausgesetzt wird.
32. Verfahren nach Anspruch 31, dadurch gekennzeichnet, daß
das chemische Polieren durchgeführt wird, indem dieser
Oberflächenbereich für einen Zeitraum von 60 Minuten bis
20 Sekunden einer Lösung ausgesetzt wird, die 1,0 bis
20 Volumen-% Fluorwasserstoffsäure und 0 bis 15 Volumen-%
Schwefelsäure enthält.
33. Verfahren nach einem der Ansprüche 28 bis 32, dadurch
gekennzeichnet, daß diese Glasscheibe auf nur einer
Hauptfläche geätzt wird und daß die Überzugsschichten
auf der Fläche gegenüber der geätzten Fläche abgeschieden
werden.
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