DE3546846C2 - Verfahren zur Herstellung von dotiertem Quarzglas - Google Patents
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Description
Die Erfindung betrifft ein Sol-Gel-Verfahren zur Herstellung
von dotiertem Quarzglas (Siliciumdioxidglas) für verschiedene
Anwendungszwecke, beispielsweise für optische
Fasern. Insbesondere betrifft die Erfindung ein Sol-Gel-
Verfahren zur Herstellung von zylindrischen dotierten
Quarzgläsern unter Verwendung von Alkylsilicaten als Ausgangsmaterial.
Erfindungsgemäß wird eine Sollösung hergestellt, indem
man zu einer hydrolysierten Alkylsilicatlösung ultrafeine
Siliciumdioxidteilchen gibt. Die Sollösung wird in ein Gel
übergeführt, das Gel wird getrocknet und zu einem Glas
gesintert. In einer zusätzlichen Stufe wird ein Dotierungsmittel
zugesetzt, so daß man dotiertes Quarzglas erhält,
das im Vergleich zu herkömmlichen Verfahren größere Abmessungen
aufweist und nicht zur Rißbildung neigt.
Das an sich bekannte Sol-Gel-Verfahren zur Herstellung von
dotiertem Quarzglas hat verschiedene Vorteile:
- (1) Man erhält Glas unter geringem Energieeinsatz.
- (2) Es lassen sich leicht Gläser aus Bestandteilen bilden, die bei anderen herkömmlichen Verfahren keine gleichmäßigen Gläser ergeben.
- (3) Es werden Gläser von hoher Reinheit erhalten.
- (4) Es ergeben sich Gläser, in denen die verschiedenen Bestandteile gleichmäßig verteilt sind.
Bisher wurden verschiedene Sol-Gel-Verfahren in der Praxis
eingesetzt. Beispielsweise entwickelten Kamiya et al., ein
TiO₂-SiO₂-Glas mit einem geringeren Wärmeausdehnungskoeffizienten
als Quarzglas, das sich für astronomische Teleskope
eignet; vgl. Japan Chemics Conference Bulletin, Nr. 10
(1981), S. 1571.
Ferner schlugen Sato et al. ein Verfahren zur Herstellung
von Kieselgel unter Einverleibung von Additiven, wie Ge,
Ti, Zr, Ta, Nb, Sb und dergl. vor, wobei dieses Gel als
Vorstufe für optische Gläser dient und für verschiedene
Anwendungszwecke geeignet ist; vgl. JP-OS 57/191221.
Ferner gibt es einige Arbeiten über das Sol-Gel-Verfahren
zur Herstellung von zylindrischen dotierten Quarzgläsern.
Ein derartiges Sol-Gel-Verfahren ist beispielsweise in
der JP-OS 56/104732 beschrieben.
Die herkömmlichen Verfahren zur Herstellung von Quarzglas
haben jedoch verschiedene Nachteile. Beim Verfahren gemäß
Kamiya et al. dauert die vollständige Durchführung
des Verfahrens sehr lange, beispielsweise mehr als 4 Monate,
und es lassen sich keine TiO₂-SiO₂-Gläser von praxisgerechten
großen Abmessungen erhalten. Gemäß dem Sato-Verfahren
beträgt die Größe des erhaltenen trockenen Gels etwa 4 mm
im Durchmesser und 50 mm in der Länge, was keine praxisgerechten
Abmessungen für dotiertes Quarzglas sind, wo
beispielsweise Substrate von 38,7 cm² Querschnitt
oder Stäbe von 20 mm Durchmesser und 500 mm Länge
benötigt werden. Ferner haben die herkömmlichen Sol-Gel-
Verfahren zur Herstellung von zylindrischem dotiertem
Quarzglas den Nachteil, daß hochreine, bruchfreie Produkte
nur schwer erhältlich sind.
In WO 84/02519 wird die Herstellung von Gläsern beschrieben,
die ein Dotierungsmittel enthalten können. Zur Herstellung
dieser Gläser werden feine SiO₂-Teilchen zu einer hydrolysierten
Alkylsilicatlösung gegeben. Das erhaltene Sol wird
dann in ein Gel übergeführt und das Gel zu einem Glas gesintert.
An keiner Stelle dieser Druckschrift wird aber darauf
hingewiesen, in welcher Verfahrensstufe das Dotierungsmittel
zugesetzt werden soll.
DE 20 08 653 beschreibt die Herstellung von dotierten Gläsern
unter Verwendung von hydrolysiertem Alkylsilicat. Die Zugabe
von feinen SiO₂-Teilchen zum hydrolysierten Alkylsilicat ist
gemäß dieser Druckschrift nicht vorgesehen.
Journal of Non-Crystalline Solids, 1982, S. 435-439 betrifft
die Gelbildung von kolloidalem Siliciumdioxid unter Zusatz
von B₂O₃ als Dotierungsmittel. Die Verwendung einer hydrolysierten
Alkylsilicatlösung ist in dieser Druckschrift nicht
erwähnt.
Aufgabe der Erfindung ist es, ein verbessertes Verfahren zur
Herstellung von Quarzglas bereitzustellen, wobei Produkte mit
für eine industrielle Anwendung ausreichend großen Abmessungen
erhalten werden, insbesondere sollen größere zylindrische
Quarzgläser von hoher Reinheit in guten Ausbeuten erhältlich
sein.
Gegenstand der Erfindung ist somit ein Verfahren zur Herstellung
von dotiertem Quarzglas, bei dem man
- eine erste Sollösung durch Hydrolyse von Alkylsilicat herstellt,
- eine zweite Sollösung mit einem Gehalt an ultrafeinen Siliciumdioxidteilchen (nachstehend als Ammosil bezeichnet) herstellt, indem man Alkylsilicat mit wäßrigem Ammoniak oder Ammoniakgas und Wasser hydrolysiert,
- eine dritte Sollösung durch Vermischen der ersten und der zweiten Sollösung herstellt,
- ein Dotierungsmittel zu der dritten Lösung gibt,
- den pH-Wert der dritten Sollösung durch Zugabe von wäßrigem Ammoniak, Ammoniakgas oder einer organischen Base auf einen vorbestimmten Wert einstellt,
- das Sol in ein nasses Gel überführt,
- das Gel trocknet und
- das trockene Gel zu einem durchsichtigen dotierten Quarzglas sintert.
- eine erste Sollösung durch Hydrolyse von Alkylsilicat herstellt,
- eine zweite Sollösung mit einem Gehalt an ultrafeinen Siliciumdioxidteilchen (nachstehend als Ammosil bezeichnet) herstellt, indem man Alkylsilicat mit wäßrigem Ammoniak oder Ammoniakgas und Wasser hydrolysiert,
- eine dritte Sollösung durch Vermischen der ersten und der zweiten Sollösung herstellt,
- ein Dotierungsmittel zu der dritten Lösung gibt,
- den pH-Wert der dritten Sollösung durch Zugabe von wäßrigem Ammoniak, Ammoniakgas oder einer organischen Base auf einen vorbestimmten Wert einstellt,
- das Sol in ein nasses Gel überführt,
- das Gel trocknet und
- das trockene Gel zu einem durchsichtigen dotierten Quarzglas sintert.
Gegenstand der Erfindung ist ferner ein Verfahren zur Herstellung
von dotiertem Quarzglas, bei dem man
- eine erste Sollösung durch Hydrolyse von Alkylsilicat herstellt,
- eine zweite Sollösung mit einem Gehalt an ultrafeinen Siliciumdioxidteilchen (nachstehend als Ammosil bezeichnet) herstellt, indem man Alkylsilicat mit wäßrigem Ammoniak oder Ammoniakgas und Wasser hydrolysiert,
- eine dritte Sollösung durch Vermischen der ersten und der zweiten Sollösung herstellt,
- den pH-Wert der dritten Sollösung durch Zugabe von wäßrigem Ammoniak, Ammoniakgas oder einer organischen Base auf einen vorbestimmten Wert einstellt,
- das Sol in ein nasses Gel überführt,
- das Gel trocknet,
- ein Dotierungsmittel zum trockenen Gel gibt und
- das trockene Gel zu einem durchsichtigen dotierten Quarzglas sintert.
- eine erste Sollösung durch Hydrolyse von Alkylsilicat herstellt,
- eine zweite Sollösung mit einem Gehalt an ultrafeinen Siliciumdioxidteilchen (nachstehend als Ammosil bezeichnet) herstellt, indem man Alkylsilicat mit wäßrigem Ammoniak oder Ammoniakgas und Wasser hydrolysiert,
- eine dritte Sollösung durch Vermischen der ersten und der zweiten Sollösung herstellt,
- den pH-Wert der dritten Sollösung durch Zugabe von wäßrigem Ammoniak, Ammoniakgas oder einer organischen Base auf einen vorbestimmten Wert einstellt,
- das Sol in ein nasses Gel überführt,
- das Gel trocknet,
- ein Dotierungsmittel zum trockenen Gel gibt und
- das trockene Gel zu einem durchsichtigen dotierten Quarzglas sintert.
Gegenstand der Erfindung ist außerdem ein Verfahren zur Herstellung
von dotiertem Quarzglas, bei dem man
- eine erste Sollösung durch Hydrolyse von Alkylsilicat herstellt,
- eine zweite Sollösung mit einem Gehalt an ultrafeinen Siliciumdioxidteilchen (nachstehend als Ammosil bezeichnet) herstellt, indem man feine Teilchen einer festen Lösung des Dotierungsmittels in Siliciumdioxid gleichmäßig dispergiert,
- eine dritte Sollösung durch Vermischen der ersten und der zweiten Sollösung herstellt,
- den pH-Wert der dritten Sollösung durch Zugabe von wäßrigem Ammoniak, Ammoniakgas oder einer organischen Base auf einen vorbestimmten Wert einstellt,
- das Sol in ein nasses Gel überführt,
- das Gel trocknet und
- das trockene Gel zu einem durchsichtigen dotierten Quarzglas sintert.
- eine erste Sollösung durch Hydrolyse von Alkylsilicat herstellt,
- eine zweite Sollösung mit einem Gehalt an ultrafeinen Siliciumdioxidteilchen (nachstehend als Ammosil bezeichnet) herstellt, indem man feine Teilchen einer festen Lösung des Dotierungsmittels in Siliciumdioxid gleichmäßig dispergiert,
- eine dritte Sollösung durch Vermischen der ersten und der zweiten Sollösung herstellt,
- den pH-Wert der dritten Sollösung durch Zugabe von wäßrigem Ammoniak, Ammoniakgas oder einer organischen Base auf einen vorbestimmten Wert einstellt,
- das Sol in ein nasses Gel überführt,
- das Gel trocknet und
- das trockene Gel zu einem durchsichtigen dotierten Quarzglas sintert.
Beispiele für erfindungsgemäß geeignete Dotierungsmittel
sind Li, Na, K, Cs, B, Al, Ga, Ge, N, P, F, Zr, Ti, Ta, Tl,
Pb, Ag.
Die Wahl des Dotierungsmittels
erfolgt unter Berücksichtigung des jeweiligen Verwendungszwecks.
Auf diese Weise erhält man ein Glas aus einem porösen Gel
mit einem hohen Anteil an großen Poren, wobei die Bruchgefahr
bei den Trocknungs- und Sinterungsschritten gering
ist und das erhaltene dotierte Quarzglas größere Abmessungen
als nach herkömmlichen Verfahren hergestellte
Gläser aufweist.
Im Hinblick auf das Dotierungsmittel stehen große Auswahlmöglichkeiten
zur Verfügung. Demzufolge ist es möglich,
verschiedenartige dotierte Quarzgläser je nach
Anwendungszweck herzustellen.
Um beim Sol-Gel-Verfahren die Ausbeute an dotiertem Quarzglas
zu steigern, werden ultrafeine Siliciumdioxidteilchen
zugesetzt, wodurch das Auftreten von Brüchen im trockenen
Gel während der Trocknung des feuchten Gels zu einem
trockenen Gel verringert wird. Außerdem wird durch Zugabe
der ultrafeinen Siliciumdioxidteilchen die Struktur des
trockenen Gels nicht-porös und die Gefahr von Brüchen oder
Rissen während der Sinterungsstufe wird erheblich verringert.
Um die Kontrolle des Teilchendurchmessers bzw. der Dispergierung
der Siliciumdioxidteilchen zu erleichtern, werden
erfindungsgemäß ultrafeine Siliciumdioxidteilchen
verwendet, die durch Hydrolyse von Alkylsilicat mit wäßrigem
Ammoniak oder Ammoniakgas und Wasser erhalten worden
sind. Derartige Teilchen werden nachstehend als "Ammosil"
bezeichnet.
Es wurde festgestellt, daß ein enger Zusammenhang zwischen
der Festigkeit des trockenen Gels und dem pH-Wert der Sollösung
sowie mit der Temperatur, bei der die Sollösung
in ein Gel übergeführt wird, besteht. Beispielsweise ist
es bei der Verwendung von reinem Siliciumdioxid vorteilhaft,
die Temperatur auf 0 bis 50°C und den pH-Wert auf
3 bis 6 einzustellen. Dabei werden als Basen zur Einstellung
des pH-Werts wäßriges Ammoniak, Ammoniakgas und organische
Basen, insbesondere Triäthylamin, wäßrige Triäthylaminlösungen,
Pyridin, wäßrige Pyridinlösungen, Anilin
und wäßrige Anilinlösungen, bevorzugt. Dagegen sind Basen
mit einem Gehalt an Alkalimetallionen, wie Natriumhydroxid,
Kaliumhydroxid und dergl. nicht geeignet, da die im Glas
verbleibenden positiven Ionen zur Kristallbildung neigen.
Bei der Herstellung von größeren trockenen Gelen, ist es
erforderlich, daß ein gegenüber dem Gel hydrophober Behälter
verwendet wird. Organische Polymerisate, wie Polypropylen,
Polyäthylenfluorid, Polyvinylchlorid, Polyäthylen,
Polystyrol und dergl. sowie anorganische Materialien, wie
Glas, die mit derartigen organischen Polymerisaten beschichtet
sind, eignen sich besonders gut für diesen Zweck.
Bei der Herstellung des zylindrischen Quarzglases, das zur
Herstellung von optischen Fasern verwendet wird, ist es
wünschenswert, die hydrolysierte Lösung mit Germaniumalkoxid,
das den Brechungsindex des Glases erhöht, als Metallalkoxid
zu dotieren.
Wie vorstehend erwähnt, wird die Ausbeute an durchsichtigem
Glas durch Zugabe von Ammosil erhöht. Da jedoch Ammoniak
zur Herstellung von Ammosil verwendet wird, erfolgt bei
direkter Zugabe des hergestellten Ammosils zur hydrolysierten
Lösung eine abrupte Überführung der Sollösung in
ein Gel, was nicht wünschenswert ist. Demzufolge soll der
pH-Wert des Ammosils vor Zugabe zur hydrolysierten Lösung
auf weniger als 7,0 eingestellt werden.
Beträgt der Anteil des reinen Siliciumdioxids im Ammosil
weniger als 20 Prozent des in der hydrolysierten Alkylsilicatlösung
enthaltenen Siliciumdioxids, so besteht die
Tendenz, daß es im Glas bei der Sinterung zur Schaumbildung
kommt, was Glasbrüche verursacht.
Erfolgt die Dotierung mit dem Metallalkoxid bei der Hydrolyse
des Alkylsilicats, so wird die Hydrolyse durch Zugabe
von Wasser in einem Molverhältnis von mehr als 1 in bezug
auf das Alkylsilicat durchgeführt. Wird Wasser jedoch in
einem Molverhältnis von mehr als 3 zugesetzt, so reagiert
das überschüssige Wasser direkt mit dem Metallalkoxid, was
verhindert, daß das trockene Gel bei der Sinterungsstufe
durchsichtig wird, und außerdem eine ungleichmäßige Verteilung
in bezug auf den Brechungsindex bewirkt. Wird die
Hydrolyse ohne alkoholisches Lösungsmittel durchgeführt,
sollte die hydrolysierte Lösung bei einer Temperatur unter
20°C gehalten werden, da ansonsten Gelbildung auftritt und
die Ausbeute verringert wird.
Der durchschnittliche Teilchendurchmesser des Ammosils wird
durch entsprechende Wahl der Menge an Ammoniak oder Alkohol
eingestellt. Wenn der durchschnittliche Teilchendurchmesser
des Ammosils zu gering ist, so kommt es bei der
Sinterungsstufe zur Schaumbildung im Gel. Ist der durchschnittliche
Teilchendurchmesser zu groß, so besteht bei
der Trocknungsstufe Bruchgefahr. Durch im Rahmen der vorliegenden
Erfindung ausgeführte Untersuchungen wurde
festgestellt, daß ein geeigneter durchschnittlicher Teilchendurchmesser
des Ammosils, der zur Bildung von dotiertem
Quarzglas in guter Ausbeute führt, 0,01 bis 0,1 µm beträgt.
Mit steigendem durchschnittlichem Teilchendurchmesser
des Ammosils wird die Dispersion der Siliciumdioxidteilchen
beeinträchtigt. Daher wird ggf. die Lösung
einer Ultraschallvibrationsbehandlung unterworfen oder
die Masse wird durch zentrifugale Abtrennung entfernt, um
die Siliciumdioxidteilchen gleichmäßig zu dispergieren.
Bei der Überführung der Sollösung in ein Gel, kann die
Festigkeit des erhaltenen trockenen Gels verändert werden,
indem man den pH-Wert und die Temperatur der Sollösung entsprechend
einstellt. Außerdem ist es möglich, die beiden
Betriebsvariationsmöglichkeiten in eine überzuführen, indem
man die Gelbildungszeit kontrolliert. Aufgrund von Untersuchungen
wurde festgestellt, daß geeignete Gelbildungszeiten
3 bis 100 Minuten betragen.
Wenn das Volumenverhältnis von feuchtem Gel und von gebildetem
durchsichtigen Glas, das durch Trocknen und Sintern
des feuchten Gels erhalten worden ist, zu groß ist, ist
eine lange Trocknungszeit erforderlich und die Bruchbildungsgefahr
beim Schrumpfen ist groß. Ist dieses Volumenverhältnis
zu gering, so kommt es beim Trocknen des Gels
leicht zu Brüchen. Untersuchungen haben ergeben, daß das
Volumen des erhaltenen Glases vorzugsweise 5 bis 15 Prozent
beträgt.
Die Stufe der Trocknung des feuchten Gels zu einem trockenen
Gel hat den größten Einfluß auf die Glasbildung und
stellt damit eine sehr wichtige Stufe dar. Untersuchungen
haben ergeben, daß besonders geeignete Bedingungen zur
Trocknung des feuchten Gels unter Bildung eines trockenen
Gels in guter Ausbeute und bei Einhaltung kurzer Herstellungszeiten
dann vorliegen, wenn das feuchte Gel in einen
Behälter gebracht wird, der mit einem Deckel abgedeckt ist,
dessen Öffnungen weniger als 15 Prozent der Oberfläche
ausmachen. Dabei wird die Trocknung durch Erwärmen auf eine
Temperatur von 0 bis 120°C bei Einhaltung einer Aufheizgeschwindigkeit
von weniger als 120°C pro Stunde durchgeführt.
Es ist möglich, den Deckel des Behälters, in dem
das feuchte Gel gebildet worden ist, durch einen Deckel mit
Öffnungen von weniger als 15 Prozent auszutauschen. Vorzugsweise
wird jedoch das Gel in einen anderen Behälter
von größerem Fassungsvermögen übergeführt, wobei Abstandshalter,
z. B. zottelartige Gebilde, vorgesehen sind, um die
Kontaktfläche zwischen dem feuchten Gel und dem Behälter
möglichst gering zu halten.
Nachstehend werden die Sinterungsausbeute und entsprechende
Bedingungen zur Erhöhung der Ausbeute näher erläutert.
Gemäß einer bevorzugten Ausführungsform der Erfindung
erfolgt die Sinterung der trockenen Gele in folgenden fünf
Stufen:
- 1) Entfernung von absorbiertem Wasser,
- 2) Entfernung von Kohlenstoff,
- 3) Entfernung von Hydroxidgruppen,
- 4) Entfernung von Chloriden oder Fluoriden und Überführen in ein nicht-poröses Gel und
- 5) Überführung des Gels in ein durchsichtiges Glas.
Die Stufe 1) zur Entfernung von absorbiertem Wasser hat den
größten Einfluß auf die Ausbeute. Ein Teil des im trockenen
Gel physikalisch absorbierten Wassers kann durch Wärmebehandlung
bei einer Temperatur von etwa 400°C entfernt
werden. Wird dabei das Gel abrupt erwärmt, so nimmt die
Bruchbildung zu und die Ausbeute wird verringert. Ist jedoch
die Aufheizgeschwindigkeit zu langsam, so dauert dieser
Vorgang sehr lange, was die Herstellungskosten erhöht.
Untersuchungen haben ergeben, daß die Obergrenze für eine
annehmbare Aufheizgeschwindigkeit, durch die es nicht zu
einer Ausbeuteverminderung kommt, etwa 400°C pro Stunde
beträgt. Zur Entfernung von absorbiertem Wasser ist es
zweckmäßig, mindestens eine Verfahrensstufe durchzuführen,
bei der das Gel mindestens 1 Stunde bei einer Temperatur
im Bereich von Raumtemperatur bis 400°C belassen wird.
In Stufe 2) wird Kohlenstoff durch eine Wärmebehandlung
bei 400 bis 1200°C entfernt. Die Stufe 2) erweist sich als
sehr wirkungsvoll, da dabei Hydrochloride im Grundmaterial
zersetzt werden und die dehydratisierende Kondensation
beschleunigt wird. Dadurch wird der Anteil an verbleibenden
Hydroxidgruppen vor der Chloridbehandlung verringert.
Auch somit hat die Erwärmungsgeschwindigkeit in Stufe 2) einen
Einfluß auf die Ausbeute, wenngleich auch nicht in gleichem
Maße wie in Stufe 1). Aufgrund von Untersuchungen
wurde festgestellt, daß eine Aufheizgeschwindigkeit von
30 bis 400°C pro Stunde zweckmäßig ist und daß es ferner
zweckmäßig ist, anschließend mindestens eine Verfahrensstufe
durchzuführen, bei der das Gel mindestens
1 Stunde bei einer Temperatur von 400 bis 1200°C belassen
wird.
In Stufe 3) werden Hydroxidgruppen entfernt. Quarzglas
mit einem Gehalt an Hydroxidgruppen absorbiert Licht mit
einer Wellenlänge von etwa 1,39 µm, was zu einer Beeinträchtigung
der Qualität von daraus hergestellten optischen
Fasern führt. Aufgrund von Untersuchungen wurde
festgestellt, daß es zweckmäßig ist, zur Entfernung der
Hydroxidgruppen mindestens eine Verfahrensstufe durchzuführen,
bei der ein Trägergas und das Mittel zur Entfernung
der Hydroxidgruppen in einem Strömungsverhältnis von
1 bis 40 Prozent, bezogen auf das Trägergas, mindestens
20 Minuten lang bei einer Temperatur von 700 bis 1200°C in
den Sinterungsofen eingeleitet werden. Als Trägergase haben
sich He, Ne, Ar und N₂ als besonders zweckmäßig erwiesen.
Empfehlenswerte Mittel zur Entfernung von Hydroxidgruppen
sind Cl₂, SOCl, SF₆, CF₄, C₂F₆ und C₃F₈.
Die Aufgabe der Stufe 4) zur Entfernung von Chloriden und
Fluoriden besteht darin zu verhindern, daß aus der vorstehenden
Stufe im Glas die Mittel zur Entfernung der
Hydroxidgruppen verbleiben, was zur Schaumbildung führen
würde. Chloride und Fluoride sollen im Verlauf mindestens
einer Stufe entfernt werden, bei der ein Trägergas, wie
vorstehend erwähnt, und O₂ in einem Strömungsverhältnis von
1 bis 100 Prozent, in bezug auf das Trägergas, in den Sinterungsofen
bei einer Temperatur von 1000 bis 1500°C eingeleitet
werden. Außerdem ist es wünschenswert, das trockene
Gel in einen nicht-porösen Zustand überzuführen, indem
man mindestens eine Verfahrensstufe durchführt, bei der
nur He-Gas in den Ofen eingeleitet wird.
In der Stufe 5) wird das trockene Gel durch Wärmebehandlung
in ein durchsichtiges Glas übergeführt. Die Temperatur der
Wärmebehandlung hängt vom Mischungsverhältnis des Ammosils
ab und liegt zweckmäßigerweise zwischen etwa 1000 und
1600°C.
Nachstehend wird die Erfindung anhand von Beispielen näher
erläutert.
444,6 g 0,2 n Salzsäure werden zu 642,5 g Äthylsilicat gegeben,
um eine Hydrolyse durchzuführen. Die erhaltene
Lösung wird als hydrolysierte Lösung bezeichnet.
Ein Gemisch aus 78 ml 29-prozentigem wäßrigem Ammoniak,
839 ml Äthanol und 271,7 g Wasser wird zu einem Gemisch aus
785,3 g Äthylsilicat und 839 ml Äthanol gegeben. Das erhaltene
Gemisch wird bei 30°C gerührt, wodurch man feinteiliges
Siliciumdioxid erhält. Nach Stehenlassen über
Nacht wird die Lösung unter vermindertem Druck eingeengt.
Der Alkohol in der eingeengten Lösung wird durch Wasser
ersetzt, um die Ausbeute in der Trocknungsstufe zu erhöhen.
Der pH-Wert der Lösung wird durch Zusatz von 2 n
Salzsäure auf 4,0 eingestellt, um eine Gelbildung zum
Zeitpunkt des Vermischens mit der hydrolysierten Lösung
zu verhindern. Die erhaltene Lösung enthält feinteiliges
Siliciumdioxid mit einem durchschnittlichen Teilchendurchmesser
von 0,28 µm. Sie wird nachstehend als Siliciumdioxiddispersion
bezeichnet.
Die hydrolysierte Lösung und die Siliciumdioxiddispersion
werden vermischt. Der pH-Wert und das Volumen der Sollösung
werden durch Zugabe von 0,2 n wäßrigem Ammoniak
und Wasser auf 4,75 bzw. 1872 ml eingestellt.
Die Sollösung wird in einen zylindrischen Polytetrafluoräthylen-Behälter
(50 mm Innendurchmesser und 1000 mm Länge) in einer Höhe
von 900 mm gegossen und 40 Minuten bei einer Raumtemperatur
von etwa 20°C der Gelbildung unterworfen.
10 feuchte Gele, die auf die vorstehende Weise hergestellt
worden sind, werden 3 Tage gealtert und in einen Trocknungsbehälter
mit einem Öffnungsanteil von 0,2 Prozent
der Oberfläche gebracht. Die feuchten Gele werden darin
bei 60°C getrocknet. Innerhalb von 13 Tagen erfolgt bei
den trockenen Gelen selbst bei Raumtemperatur kein Bruch,
was einer Ausbeute von 100 Prozent entspricht. Die Dichte
der erhaltenen trockenen Gele beträgt 0,67 g/cm³.
10 trockene Gele werden in einen Sinterungsofen gebracht
und mit einer Aufheizgeschwindigkeit von 30°C pro Stunde
auf 200°C erwärmt, 5 Stunden bei 200°C belassen, mit einer
Aufheizgeschwindigkeit von 30°C pro Stunde auf 300°C erwärmt
und 5 Stunden belassen, um absorbiertes Wasser zu
entfernen. Anschließend werden die Gele mit einer Aufheizgeschwindigkeit
von 60°C pro Stunde von 300°C auf
920°C erwärmt und 2 Stunden bei 920°C belassen, um Kohlenstoff
und Ammoniumchlorid zu entfernen und die Dehydratisierende
Kondensationsreaktion zu beschleunigen. Sodann
werden die Gele auf Raumtemperatur abgekühlt. Man erhält
10 gesinterte Gele mit einem großen Anteil an Mikroporen.
Die gesinterten Gele werden in ein Gemisch aus Tetraäthoxygermanium
und Äthanol getaucht, wodurch die Gele mit
dieser Lösung imprägniert werden. Nach dem Trocknen werden
die Gele gemäß Beispiel 1 gesintert und zu zylindrischen
durchsichtigen Gläsern verarbeitet.
Diese durchsichtigen Gläser weisen einen Außendurchmesser
von 23,5 mm und eine Länge von 423,6 mm auf. Mittels
IMA, XMA, ICP und dergl. wird in sämtlichen Bereichen
des Glases ein Ge-Anteil von 5 Molprozent ermittelt, was
zeigt, daß Ge gleichmäßig im Glas dispergiert ist.
Somit erhält man durch Zugabe von Ge zum Gel ein qualitativ
hochwertiges, dotiertes Quarzglas.
444,6 g 0,02 n Salzsäure werden zu 642,5 g Äthylsilicat
gegeben, um die Hydrolyse durchzuführen. Die erhaltene
Lösung wird als hydrolysierte Lösung bezeichnet.
Eine Siliciumdioxiddispersion wird gemäß Beispiel 1
hergestellt.
Ein Gemisch aus Tetrabutoxygermanium und Äthanol wird
hydrolysiert. Man erhält eine Lösung, in der feinteiliges
Germanium mit einem durchschnittlichen Teilchendurchmesser
von weniger als 0,1 µm gleichmäßig dispergiert ist.
Die hydrolysierte Lösung, die Siliciumdioxiddispersion und
die Lösung mit dispergierten Germaniumteilchen werden in
einem Molverhältnis von Silciumatomen und Germaniumatomen
von 45 : 52 : 3 vermischt. Die Herstellung der Sollösung,
die Gelbildung, die Trocknung und die Sinterung werden in
nahezu gleicher Weise wie in Beispiel 1 durchgeführt. Man
erhält ein zylindrisches durchsichtiges Glas.
Dieses durchsichtige Glas weist einen Außendurchmesser von
23,2 mm und eine Länge von etwa 200 mm auf. Durch IMA, XMA
und ICP und dergl. wird ein Ge-Anteil in sämtlichen Bereichen
des Glases von 3 Molprozent festgestellt, was zeigt,
daß die Ausbeute in bezug auf Ge fast 100 Prozent beträgt
und Ge gleichmäßig im Glas dispergiert ist.
Man erhält also durch Zugabe von Ge in Form von feinen
Teilchen hochwertiges dotiertes Quarzglas.
444,6 g 0,02 n Salzsäure werden zu 642,5 g Äthylsilicat
gegeben, um eine Hydrolyse durchzuführen. Die erhaltene
Lösung wird als hydrolysierte Lösung bezeichnet.
Feine Teilchen mit einem durchschnittlichen Teilchendurchmesser
von 0,15 µm einer festen Lösung von 6 Molprozent
Germaniumoxid in Siliciumdioxid, die gemäß dem Gasphasenverfahren
hergestellt worden ist, werden in Wasser vom 2-fachen
Gewicht der Teilchen gleichmäßig dispergiert, wodurch man eine
feinteilige Dispersion erhält.
Die hydrolysierte Lösung und die feinteilige Dispersion
werden gleichmäßig in solchen Mengen vermischt, daß
sich ein Molverhältnis von Silicium zu Germanium im
fertigen Glas von 97 : 3 ergibt. Die Herstellung der Sollösung,
die Gelbildung, die Trocknung und die Sinterung
werden gemäß Beispiel 1 durchgeführt. Man erhält ein
zylindrisches durchsichtiges Glas.
Dieses durchsichtige Glas weist einen Außendurchmesser
von 23,2 mm und eine Länge von etwa 200 mm auf. Durch XMA,
IMA, ICP und dergl. wird ein Ge-Anteil in sämtlichen Bereichen
des Glases von 3 Molprozent gemessen, was einer
Ausbeute an Ge von fast 100 Prozent entspricht und zeigt,
daß Ge im Glas gleichmäßig dispergiert ist.
Auf die vorstehende Weise erhält man durch Zugabe von Ge
in Form von kleinen Teilchen ein hochwertiges dotiertes
Quarzglas.
Ein Gemisch aus Tetrachlorsilan und n-Hexan wird zu einer
hydrolysierten Lösung hydrolysiert.
Feine Teilchen mit einem durchschnittlichen Teilchendurchmesser
von 0,13 µm aus Siliciumdioxid mit einem Germaniumanteil
von 6 Molprozent, bezogen auf das Siliciumdioxid,
werden nach dem Gasphasenverfahren hergestellt und gleichmäßig
in einem Gemisch aus n-Hexan und Äthanol dispergiert.
Die erhaltene Lösung wird als feinteilige Dispersion
bezeichnet.
Die hydrolysierte Lösung und die feinteilige Dispersion
werden gleichmäßig in einem solchen Molverhältnis vermischt,
daß das Verhältnis von Silicium zu Germanium im
fertigen Glas 97 : 3 beträgt. Anschließend erfolgt die Herstellung
der Sollösung, die Gelbildung, Trocknung und
Sinterung. Man erhält ein durchsichtiges zylindrisches Glas.
Das erhaltene durchsichtige Glas weist einen Außendurchmesser
von 5 mm und eine Länge von 200 mm auf. Durch XMA,
IMA, ICP und dergl. wird in sämtlichen Bereich des Glases
ein Ge-Anteil von 3 Molprozent gemessen, was zeigt,
daß die Ge-Ausbeute fast 100 Prozent beträgt und Ge
gleichmäßig im Glas dispergiert ist.
Gemäß diesem Beispiel erhält man durch Zugabe von Ge
in Form von feinen Teilchen ein hochwertiges dotiertes
Quarzglas.
Es werden verschiedene Quarzgläser mit verschiedenen Dotierungsmitteln
hergestellt. Die Ergebnisse sind in Tabelle II
zusammengestellt.
Bei Verwendung von verschiedenen Dotierungsmitteln erhält
man nach verschiedenen Verfahren verschiedenartige dotierte
Quarzgläser.
32 ml 0,01 n Salzsäure werden zu 1248 g gereinigtem, handelsüblichem
Siliciumäthoxid gegeben. Die Lösung wird zur
Durchführung der Hydrolyse heftig gerührt.
Ein Gemisch aus 540 ml 28-prozentigem wäßrigem Ammoniak,
5,25 Liter Äthanol und 1 Liter Wasser wird zu einem Gemisch
aus 3 Liter Siliciumäthoxid und 5,25 Liter Äthanol
gegeben. Die Lösung wird gerührt und über Nacht stehengelassen.
Die erhaltene Lösung wird unter vermindertem
Druck auf eine vorbestimmte Konzentration eingeengt. Der
pH-Wert der Lösung wird auf 6,0 eingestellt. Man erhält
eine Ammosil-Lösung.
Die hydrolysierte Lösung und die Ammosil-Lösung werden
vermischt und einer Ultraschallvibrationsbehandlung unterzogen,
um die Siliciumdioxidteilchen gleichmäßig in der
Lösung zu dispergieren. Der pH-Wert der erhaltenen Lösung
wird durch Zugabe von 0,1 n Ammoniak auf 6,0 eingestellt.
Man erhält eine Sollösung.
Bei 40°C wird das Sol in einen zylindrischen Behälter
aus Polyäthylen (Innendurchmesser 4,0 cm und Länge
180 cm) in einer Höhe von 160 cm gegossen. Der Behälter
wird verschlossen. Innerhalb von 15 Minuten entsteht aus
dem Sol ein Gel. Nach Stehenlassen über Nacht wird der
Deckel des Behälters gegen einen Deckel mit einem Öffnungsanteil
von 0,5 Prozent, bezogen auf die Deckelfläche,
ausgetauscht. Sodann wird das Gel mit einer Aufheizgeschwindigkeit
von 100°C pro Stunde auf 80°C erwärmt.
Das Gel wird 7 Tage bei 80°C belassen. Das trockene Gel
(Außendurchmesser 2,80 cm und Länge 11 cm) erleidet auch
bei Raumtemperatur keinen Bruch.
Von 12 unter den gleichen Bedingungen hergestellten
trockenen Gelen kommt es bei einem Gel zum Bruch. Man erhält
11 vollständige trockene Gele, was einer Ausbeute
von 92 Prozent entspricht.
Die vorstehenden 11 trockenen Gele werden mit einer Aufheizgeschwindigkeit
von 60°C pro Stunde auf 150°C erwärmt,
1 Stunde bei 150°C belassen, mit einer Aufheizgeschwindigkeit
von 70°C/h auf 400°C erwärmt und 1 Stunde bei 400°C belassen,
um absorbiertes Wasser zu entfernen.
Anschließend werden die Gele mit einer Aufheizgeschwindigkeit
von 90°C pro Stunde auf 950°C erwärmt und 5 Stunden
bei 950°C belassen, um Kohlenstoff zu entfernen. Sodann
wird ein Gasgemisch aus Ne und SF₆ mit einem Strömungsverhältnis
von 40 Prozent, bezogen auf Ne, 1,5 Stunden
in den Ofen eingeleitet, um Hydroxidgruppen zu entfernen.
Anschließend werden die Gele mit einer Aufheizgeschwindigkeit
von 5°C pro Minute auf 1000°C erwärmt, und
ein Gasgemisch aus Ne und O₂ wird mit einem Strömungsverhältnis
von 100 Prozent, bezogen auf Ne, 2 Stunden lang
eingeleitet, um Fluorid zu entfernen. Anschließend wird
Ne-Gas allein 2 Stunden lang in den Ofen geleitet. Es
entstehen nicht-poröse Gele.
Diese Gele werden mit einer Aufheizgeschwindigkeit von
6°C pro Minute 3 1/2 Stunden auf 1200°C erwärmt. Man erhält
durchsichtige Gläser.
Beim vorstehenden Sinterungsverfahren kommt es bei keinem
der 11 trockenen Gele zum Bruch. Man erhält zylindrische
reine Quarzgläser (Außendurchmesser 2 cm und Länge 83 cm),
in einer Ausbeute von 100 Prozent.
432 ml 0,02 n Salzsäure werden zu 1248 g gereinigtem
handelsüblichen Siliciumäthoxid gegeben. Die Lösung wird
heftig bei Raumtemperatur gerührt.
Ein Gemisch aus 360 ml 28-prozentigem wäßrigem Ammoniak,
3,5 Liter Äthanol und 650 ml Wasser wird zu einem Gemisch
aus 2 Liter Siliciumäthoxid und 3,5 Liter Äthanol
gegeben. Die Lösung wird bei Raumtemperatur gerührt.
Nach Stehenlassen über Nacht wird die Lösung auf eine
vorbestimmte Konzentration eingeengt und auf einen pH-Wert
von 5,0 eingestellt.
Die hydrolysierte Lösung und die Ammosil-Lösung werden zu
einer Sollösung vermischt. Die Sollösung wird in einen
Behälter aus Polyvinylchlorid mit 5,0 cm Innendurchmesser
und 200 cm Länge gegossen. Man erhält ein feuchtes Gel von
5 cm Außendurchmesser und 170 cm Länge. Das feuchte Gel
wird in einen Trocknungsbehälter aus Polypropylen mit einem
Öffnungsanteil von 0,45 Prozent gegeben. Anschließend
wird das gleiche Trocknungs- und Sinterungsverfahren wie
in Beispiel 9 durchgeführt. Man erhält reines Quarzglas
von 3 cm Außendurchmesser und 940 cm Länge.
Von 20 unter den gleichen Bedingungen hergestellten trockenen
Gelen kommt es bei 3 zur Bruchbildung vor dem Sintern.
Man erhält 17 vollständig reine Quarzgläser von hoher
Reinheit, was einer Ausbeute von 85 Prozent entspricht.
108 ml 0,01 n Salzsäure werden zu 1248 g gereinigtem handelsüblichem
Siliciumäthoxid gegeben. Die Lösung wird ohne Einstellung
der Lösungstemperatur bei Raumtemperatur gerührt.
Sodann werden 57 g Tetraäthoxygermanium zugesetzt, und
die Lösung wird ausreichend gerührt. Anschließend werden
324 ml Wasser unter Rühren zu der Lösung gegeben. Während
des Rührvorgangs kommt es zur Gelbildung der Lösung.
Gemäß den vorstehenden Beispielen erhält man
reine zylindrische dotierte Quarzgläser von hoher Qualität,
die sich für Faserkerne von optischen Fasern eignen.
Diese Quarzgläser weisen einen Außendurchmesser von 2 cm
und eine Länge von 1 m auf und werden in guter Ausbeute
erhalten, was gemäß dem Stand der Technik bisher nicht
möglich war.
Die erfindungsgemäß hergestellten Quarzgläser besitzen
vielfältige Anwendungsmöglichkeiten, beispielsweise als
Vorprodukte für Kerne von optischen Fasern,
Mantelrohre, verschiedene optische Gläser, Konstruktionsmaterialien
und dergl.
Durch Faserziehverfahren der erfindungsgemäß hergestellten
dotierten Quarzgläser von hohem Brechungsindex und Beschichten
mit niedrigbrechenden Materialien, wie Kunststoffen,
erhält man unter niedrigen Kosten optische Fasern. Außerdem
lassen sich erfindungsgemäß auch gefärbte Quarzgläser
billig herstellen.
Claims (22)
1. Verfahren zur Herstellung von dotiertem Quarzglas,
bei dem man
- eine erste Sollösung durch Hydrolyse von Alkylsilicat herstellt,
- eine zweite Sollösung mit einem Gehalt an ultrafeinen Siliciumdioxidteilchen (nachstehend als Ammosil bezeichnet) herstellt, indem man Alkylsilicat mit wäßrigem Ammoniak oder Ammoniakgas und Wasser hydrolysiert,
- eine dritte Sollösung durch Vermischen der ersten und der zweiten Sollösung herstellt,
- ein Dotierungsmittel zu der dritten Lösung gibt,
- den pH-Wert der dritten Sollösung durch Zugabe von wäßrigem Ammoniak, Ammoniakgas oder einer organischen Base auf einen vorbestimmten Wert einstellt,
- das Sol in ein nasses Gel überführt,
- das Gel trocknet und
- das trockene Gel zu einem durchsichtigen dotierten Quarzglas sintert.
- eine erste Sollösung durch Hydrolyse von Alkylsilicat herstellt,
- eine zweite Sollösung mit einem Gehalt an ultrafeinen Siliciumdioxidteilchen (nachstehend als Ammosil bezeichnet) herstellt, indem man Alkylsilicat mit wäßrigem Ammoniak oder Ammoniakgas und Wasser hydrolysiert,
- eine dritte Sollösung durch Vermischen der ersten und der zweiten Sollösung herstellt,
- ein Dotierungsmittel zu der dritten Lösung gibt,
- den pH-Wert der dritten Sollösung durch Zugabe von wäßrigem Ammoniak, Ammoniakgas oder einer organischen Base auf einen vorbestimmten Wert einstellt,
- das Sol in ein nasses Gel überführt,
- das Gel trocknet und
- das trockene Gel zu einem durchsichtigen dotierten Quarzglas sintert.
2. Verfahren zur Herstellung von dotiertem Quarzglas,
bei dem man
- eine erste Sollösung durch Hydrolyse von Alkylsilicat herstellt,
- eine zweite Sollösung mit einem Gehalt an ultrafeinen Siliciumdioxidteilchen (nachstehend als Ammosil bezeichnet) herstellt, indem man Alkylsilicat mit wäßrigem Ammoniak oder Ammoniakgas und Wasser hydrolysiert,
- eine dritte Sollösung durch Vermischen der ersten und der zweiten Sollösung herstellt,
- den pH-Wert der dritten Sollösung durch Zugabe von wäßrigem Ammoniak, Ammoniakgas oder einer organischen Base auf einen vorbestimmten Wert einstellt,
- das Sol in ein nasses Gel überführt,
- das Gel trocknet,
- ein Dotierungsmittel zum trockenen Gel gibt und
- das trockene Gel zu einem durchsichtigen dotierten Quarzglas sintert.
- eine erste Sollösung durch Hydrolyse von Alkylsilicat herstellt,
- eine zweite Sollösung mit einem Gehalt an ultrafeinen Siliciumdioxidteilchen (nachstehend als Ammosil bezeichnet) herstellt, indem man Alkylsilicat mit wäßrigem Ammoniak oder Ammoniakgas und Wasser hydrolysiert,
- eine dritte Sollösung durch Vermischen der ersten und der zweiten Sollösung herstellt,
- den pH-Wert der dritten Sollösung durch Zugabe von wäßrigem Ammoniak, Ammoniakgas oder einer organischen Base auf einen vorbestimmten Wert einstellt,
- das Sol in ein nasses Gel überführt,
- das Gel trocknet,
- ein Dotierungsmittel zum trockenen Gel gibt und
- das trockene Gel zu einem durchsichtigen dotierten Quarzglas sintert.
3. Verfahren zur Herstellung von dotiertem Quarzglas,
bei dem man
- eine erste Sollösung duch Hydrolyse von Alkylsilicat herstellt,
- eine zweite Sollösung mit einem Gehalt an ultrafeinen, ein Dotierungsmittel enthaltenden Siliciumdioxidteilchen (nachstehend als Ammosil bezeichnet) herstellt, indem man feine Teilchen einer festen Lösung des Dotierungsmittels in Siliciumdioxid gleichmäßig dispergiert,
- eine dritte Sollösung durch Vermischen der ersten und der zweiten Sollösung herstellt,
- den pH-Wert der dritten Sollösung durch Zugabe von wäßrigem Ammoniak, Ammoniakgas oder einer organischen Base auf einen vorbestimmten Wert einstellt,
- das Sol in ein nasses Gel überführt,
- das Gel trocknet und
- das trockene Gel zu einem durchsichtigen dotierten Quarzglas sintert.
- eine erste Sollösung duch Hydrolyse von Alkylsilicat herstellt,
- eine zweite Sollösung mit einem Gehalt an ultrafeinen, ein Dotierungsmittel enthaltenden Siliciumdioxidteilchen (nachstehend als Ammosil bezeichnet) herstellt, indem man feine Teilchen einer festen Lösung des Dotierungsmittels in Siliciumdioxid gleichmäßig dispergiert,
- eine dritte Sollösung durch Vermischen der ersten und der zweiten Sollösung herstellt,
- den pH-Wert der dritten Sollösung durch Zugabe von wäßrigem Ammoniak, Ammoniakgas oder einer organischen Base auf einen vorbestimmten Wert einstellt,
- das Sol in ein nasses Gel überführt,
- das Gel trocknet und
- das trockene Gel zu einem durchsichtigen dotierten Quarzglas sintert.
4. Verfahren nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet,
daß die Sollösung zur Schaffung eines zylindrischen Gegenstands
in einen zylindrischen Behälter gegeben wird.
5. Verfahren nach einem der vorstehenden Ansprüche,
dadurch gekennzeichnet, daß das Dotierungsmittel ausgewählt
ist aus der Gruppe Li, Na, K, Cs, B, Al, Ga, Ge, N, P, F,
Zr, Ti, Ta, Tl, Pb, Ag.
6. Verfahren nach einem der vorhergehenden Ansprüche,
dadurch gekennzeichnet, daß ein Metallalkoxid als Dotierungsmittel
zugegeben wird.
7. Verfahren nach Anspruch 6, dadurch gekennzeichnet,
daß man als Metallalkoxid Tetraalkoxygermanium der allgemeinen
Formel Ge(OR)4 verwendet.
8. Verfahren nach einem der vorstehenden Ansprüche,
dadurch gekennzeichnet, daß man die dritte Sollösung herstellt,
indem man die das Ammosil enthaltende Lösung, deren
pH-Wert vorher auf einen vorbestimmten Wert eingestellt
worden ist, zu der hydrolysierten Lösung in einem ausgewählten
Verhältnis gibt.
9. Verfahren nach einem der vorstehenden Ansprüche,
dadurch gekennzeichnet, daß man die hydrolysierte Lösung
durch folgende Stufen herstellt:
partielle Hydrolyse des Alkylsilicats mit Wasser in einem Molverhältnis von 1 bis 3 in bezug auf das Alkylsilicat bei einer Temperatur unter 20°C,
Zugabe des Metalloxids in einer geeigneten Menge und
Hydrolyse der in der Lösung verbleibenden Alkoxidgruppen.
partielle Hydrolyse des Alkylsilicats mit Wasser in einem Molverhältnis von 1 bis 3 in bezug auf das Alkylsilicat bei einer Temperatur unter 20°C,
Zugabe des Metalloxids in einer geeigneten Menge und
Hydrolyse der in der Lösung verbleibenden Alkoxidgruppen.
10. Verfahren nach einem der vorstehenden Ansprüche,
dadurch gekennzeichnet, daß man die hydrolysierte Lösung
durch folgende Stufen herstellt:
Zugabe von Wasser zu einer gemischten Lösung von Alkylsilicat und Alkohol in einem Volumenverhältnis von mehr als 20% in bezug auf das Alkylsilicat, wobei das Wasser in einem Molverhältnis von 1 bis 3 in bezug zum Alkylsilicat vorliegt, um die partielle Hydrolyse durchzuführen,
Zugabe des Metallalkoxids zu der erhaltenen Lösung in einer geeigneten Menge und
Hydrolyse der in der Lösung verbleibenden Alkoxidgruppen.
Zugabe von Wasser zu einer gemischten Lösung von Alkylsilicat und Alkohol in einem Volumenverhältnis von mehr als 20% in bezug auf das Alkylsilicat, wobei das Wasser in einem Molverhältnis von 1 bis 3 in bezug zum Alkylsilicat vorliegt, um die partielle Hydrolyse durchzuführen,
Zugabe des Metallalkoxids zu der erhaltenen Lösung in einer geeigneten Menge und
Hydrolyse der in der Lösung verbleibenden Alkoxidgruppen.
11. Verfahren nach einem der vorstehenden Ansprüche,
dadurch gekennzeichnet, daß man den durchschnittlichen
Teilchendurchmesser des Ammosils auf 0,01 bis 1,0 µm einstellt.
12. Verfahren nach einem der vorstehenden Ansprüche,
dadurch gekennzeichnet, daß man das Ammosil gleichmäßig in
der Lösung durch Ultraschallvibration und/oder zentrifugale
Abtrennung dispergiert.
13. Verfahren nach einem der vorstehenden Ansprüche,
dadurch gekennzeichnet, daß man den pH-Wert der das Ammosil
enthaltenden Sollösung
auf 3 bis 6
und die Temperatur auf 0 bis 50°C einstellt.
14. Verfahren nach einem der Ansprüche 4 bis 13, dadurch
gekennzeichnet, daß man bei der Trocknung des feuchten
Gels beide Enden des zylindrischen Behälters mit
Deckeln abdeckt, die Öffnungen in einer Menge von weniger
als 15% der Deckeloberfläche aufweisen.
15. Verfahren nach einem der Ansprüche 4 bis 14, dadurch
gekennzeichnet, daß man beim Trocknen des feuchten
Gels dieses Gel aus dem zylindrischen Behälter entfernt und
in einen anderen Behälter bringt, der Öffnungen in einer
Menge von weniger als 15% der Oberfläche aufweist.
16. Verfahren nach einem der Ansprüche 1 bis 15, dadurch
gekennzeichnet, daß man das feuchte Gel bei einer
Temperatur von 0 bis 100°C trocknet und auf eine Temperatur
von 20 bis 120°C mit einer Geschwindigkeit von weniger als
120°C pro Stunde erwärmt, wobei bei dieser Temperatur das
Gel gemäß dem Kontraktionstrocknungsverfahren zu einem
trocknen Gel getrocknet wird.
17. Verfahren nach einem der Ansprüche 1 bis 16, dadurch
gekennzeichnet, daß man bei der Sinterung folgende
Stufen durchführt:
- (1) Entfernen von absorbiertem Wasser,
- (2) Entfernen von Kohlenstoff,
- (3) Entfernen von Hydroxidgruppen,
- (4) Entfernen von Hydrochlorid oder Fluorid und Überführen in eine nicht-poröse Gelstruktur und
- (5) Herstellung eines durchsichtigen Glases aus dem Gel.
18. Verfahren nach Anspruch 17, dadurch gekennzeichnet,
daß man das absorbierte Wasser in mindestens einer
Stufe entfernt, bei der man das Gel auf eine erste gewählte
Temperatur zwischen 20 und 400°C mit einer Erwärmungsgeschwindigkeit
von weniger als 400°C pro Stunde erwärmt und
das Gel bei dieser ersten gewählten Temperatur mindestens 1
Stunde beläßt.
19. Verfahren nach einem der Ansprüche 17 oder 18, dadurch gekennzeichnet,
daß man den Kohlenstoff in mindestens einer Stufe entfernt,
bei der man das Gel auf eine zweite gewählte Temperatur
zwischen 400 und 1200°C mit einer Erwärmungsgeschwindigkeit
von 30 bis 400°C pro Stunde erwärmt und es mindestens
1 Stunde bei der zweiten gewählten Temperatur beläßt.
20. Verfahren nach einem der Ansprüche 17 bis 19, dadurch gekennzeichnet,
daß man die Hydroxidgruppen in mindestens einer Stufe
entfernt, bei der man das Gel auf eine dritte gewählte
Temperatur zwischen 700 und 1200°C in einem Sinterungsofen
erwärmt, wobei man Trägergas aus der Gruppe He, Ne, Ar, N₂,
O₂ und ein Hydroxid-Entfernungsmittel, wie Cl₂,
SOCl, SF₆, SF₄, C₂F₆ und C₃F₈ in einem Strömungsverhältnis
von 1 bis 40%, bezogen auf das Trägergas, durchströmen
läßt.
21. Verfahren nach einem der Ansprüche 17 bis 20, dadurch gekennzeichnet,
daß man nach Entfernen der Hydroxidgruppen
Chloride oder Fluoride wenigstens einmal entfernt, indem
man ein Trägergas aus der Gruppe He, Ne, Ar, N₂
und Sauerstoff in einem Strömungsverhältnis von 1 bis 100%,
bezogen auf das Trägergas, in den Ofen bei der dritten
gewählten Temperatur zwischen 700 und 1200°C einleitet und
das Gel durch Erwärmen auf eine vierte gewählte Temperatur
zwischen 1000 und 1500°C unter Einleiten von reinem He-Gas
in eine nicht-poröse Struktur überführt.
22. Verfahren nach einem der Ansprüche 17 bis 21, dadurch gekennzeichnet,
daß man das Gel in ein durchsichtiges Glas überführt,
indem man das Gel auf eine fünfte gewählte Temperatur zwischen
1000 und 1600°C erwärmt und das Gel für eine vorbestimmte
Zeitdauer bei der fünften gewählten Temperatur beläßt.
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
DE19853535388 DE3535388C2 (de) | 1984-10-05 | 1985-10-03 | Verfahren zur Herstellung von dotiertem Quarzglas |
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JP59209361A JPS6191024A (ja) | 1984-10-05 | 1984-10-05 | 円筒状シリカ系ガラスの製造方法 |
JP15666885A JPS6217026A (ja) | 1985-07-16 | 1985-07-16 | 石英系ガラスの製造方法 |
DE19853535388 DE3535388C2 (de) | 1984-10-05 | 1985-10-03 | Verfahren zur Herstellung von dotiertem Quarzglas |
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DE3546846A Expired - Lifetime DE3546846C2 (de) | 1984-10-05 | 1985-10-03 | Verfahren zur Herstellung von dotiertem Quarzglas |
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