DE2919804C2 - Method and apparatus for developing an electrostatic latent image - Google Patents
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Description
Die Erfindung betrifft eine Vorrichtung zur Entwicklung eines elektrostatischen Ladungsbildes der im Oberbegriff des Anspruchs I angegebenen Gattung.The invention relates to an apparatus for developing an electrostatic charge pattern of the type specified in the preamble of claim I.
Aus der DE-OS 27 32 172 geht eine Entwicklungseinrichtung für ein Kopicrgcräi hervor, die eine Enlwicklungsrolle für den Auftrag des Entwicklers auf das elektrostatische Ladungsbild aufweist. Dabei liegt das Verhältnis der Umfangsgeschwindigkeit der Entwiddungsrolle zur Transportgeschwindigkeit der photoleitfähigen Fläche mit dem elektrostatischen Ladungsbild im Bereich von 1 bis 2.From DE-OS 27 32 172 a development device goes for a copy that has a developmental role for the application of the developer to the electrostatic charge image. Here lies the relationship the circumferential speed of the developing roller the transport speed of the photoconductive surface with the electrostatic charge image im Range from 1 to 2.
Eine Vorrichtung zur Entwicklung eines elektrostatisehen Ladungsbildes der angegebenen Gattung geht aus der DE-OS 28 30 012 hervor und weist einen Vorratsbehälter für einen Einkomponenten-Entwickler, eine drehbare Auftragwalze mit leitender Oberfläche, auf der der Entwickler von dem Vorratsbehälter als dünne ίο Entwicklerschicht abgelagert wird und die den Entwickler dem elektrostatischen Ladungsbild zuführt sowie eine an der Oberfläche der Auftragwalze mit einem vorgegebenen, die Dicke der Entwicklerschicht bestimmenden Druck anliegende, m:t Spannung beaufschlagte und die Etitwicklerschicht aufladende Schneidenelektrode auf.A device for developing an electrostatic charge image of the type specified is possible from DE-OS 28 30 012 and has a storage container for a one-component developer, a rotatable application roller with conductive surface on which the developer from the reservoir as a thin ίο developer layer is deposited and which the developer the electrostatic charge image as well as one on the surface of the application roller with a predetermined, the pressure applied, m: t voltage applied and which determines the thickness of the developer layer the etiwickler layer charging cutting edge electrode.
Der Erfindung liegt die Aufgabe zugrunde, eine Vorrichtung zur Entwicklung eines elektrostatischen Ladungsbildes der angegebenen Gattung zu scharfen, bei der kein Strom zwischen Schneidenelektrode und Auftragwalze fließen kann, so daß immer die ausreichende Aufladung der Entwicklerschicht gewährleistet ist und dadurch Kopien mit hohem Kontrast hergestellt werden können.The invention is based on the object of a device for the development of an electrostatic charge image of the specified type to sharpen that no current can flow between the cutting electrode and the applicator roller, so that there is always sufficient Charging of the developer layer is guaranteed and copies are made with high contrast can.
Diese Aufgabe wird erfindungsgemäß durch die im kennzeichnenden Teil des Anspruchs 1 angegebenen Merkmale gelöst.This object is achieved according to the invention by what is stated in the characterizing part of claim 1 Features solved.
Zweckmäßige Ausführungsformen sind in den Unteransprüchen zusammengestellt.Appropriate embodiments are compiled in the subclaims.
Die mit der Erfindung erzielten Vorteile beruhen insbesondere darauf, daß die Schneidenelektrode nicht nur zur gleichmäßigen Aufladung der Entwicklerschichl dient, sondern gleichzeitig, nämlich durch die Vorsprünge aus isolierendem Material, die Aufrechterhaltung eines bcsiimmten, minimalen Abstandes zwischen Auftragwal/.c und Schneidenelektrode gewährleistet. Auf diese Weise wird verhindert, daß die Schneidenelektrode in direkte Berührung mit der Auftragwalze kommen kann, wodurch der Einkomponenten-Entwickler nicht in der gewünschten Weise aufgeladen werden kann. Außerdem wird selbst dann noch die Ausbildung einer Entwicklerschicht ausreichender Dicke sichergestellt, wenn die Vorsprünge aus dem isolierenden Material die Auftragwalzc berühren, da — mit Ausnahme des Bereiches der Vorsprünge aus dem isolierenden Material — Auftragwalze und Schncidcnclektrodc einen ausreichenden Abstand voneinander haben.The advantages achieved with the invention are based in particular on the fact that the cutting electrode is not only serves to evenly charge the developer layer, but at the same time, namely through the projections made of insulating material, the maintenance of a certain, minimum distance between the application rollers / .c and cutting electrode guaranteed. In this way it is prevented that the cutting electrode can come into direct contact with the applicator roller, so that the one-component developer is not in can be charged the way you want. In addition, even then, a developer layer will still be formed sufficient thickness ensured when the projections made of the insulating material the applicator rollersc touch, because - with the exception of the area of the projections made of the insulating material - applicator roller and cutting rods have a sufficient distance from one another.
Die Erfindung wird im folgenden anhand von Ausführungsbcispiclen uiilcr Bezugnahme auf die schematisehen Zeichnungen näher erläutert. Es zeigtThe invention is illustrated below with the aid of exemplary embodiments Explained in more detail with reference to the schematic drawings. It shows
Fig. 1 einen Schnitt durch eine erste Ausführungsform einer Vorrichtung zur Entwicklung eines elektrostatischen Ladungsbildes,1 shows a section through a first embodiment of an apparatus for developing an electrostatic Charge image,
F i g. 2 im vergrößerten Maßstab einen Schnitt durch « das unlere Ende der Schneidcnelektrode der Vorrichtung nach Fig. 1.F i g. 2 shows, on an enlarged scale, a section through the lower end of the cutting electrode of the device according to Fig. 1.
F i g. 3 eine Darstellung des Übergangsbereiches zwischen Schneidenclektrode und Auftragwalze. gesehen aus der Richtung des Pfeils A in F i g. 2. bo Fig.4 eine Kurvendarstellung der Beziehung /wischen dem Aufladüngspotenlial V1 des Einkomponcnlen-Entwicklcrs und dem Potentialunterschied V, zwischen der Schneidenclektrode und der Auftragwalze.F i g. 3 shows the transition area between the cutting electrode and the applicator roller. seen from the direction of arrow A in FIG. 2. FIG. 4 is a graph showing the relationship between the charging potential V 1 of the one-component developer and the potential difference V between the cutting electrode and the applicator roller.
undand
Fig. 5 eine perspektivische Ansicht der wesentlichen Teile einer weiteren Ausfiihrungsform einer Vorrichtung /ur Entwicklung eines elektrostatischen Ladungsbildes. Fig. 5 is a perspective view of the essential Parts of a further embodiment of a device / ur development of an electrostatic charge image.
Bei einem üblichen, elektrophotographischen Kopiergerät wird die Oberfläche einer Trommel 3, die mit einem photoleitfähigen Material beschichtet ist, gleichmäßig aufgeladen und mit einer Abbildung einer zu kopierenden Vorlage belichtet, wodurch ein elektrostatisches, der Vorlage entsprechendes Ladungsbild entsteht. Dieses elektrostatische Ladungsbild auf der photoleitfähigen Trommel 3, die sich in Richtung des Pfeils in F i g. 1 dreht, wird mittels einer Entwicklungseinrichtung zu einem sichtba, en Tonerbild entwickelt. Dieses Tonerbild wird anschließend auf ein Bildempfangsmaterial übertragen; das Tonerbild wird dann auf dem Bildempfangsmaterial fixiert, wodurch eine permanente Kopie der Vorlage entsteht.In a conventional electrophotographic copier, the surface of a drum 3 covered with a photoconductive material is coated evenly charged and exposed to an image of an original to be copied, whereby an electrostatic, The charge pattern corresponding to the template is created. This electrostatic charge image on the photoconductive Drum 3, which is in the direction of the arrow in F i g. 1 rotates becomes a by means of a developing device Visible toner image developed. This toner image is then transferred to an image receiving material; The toner image is then fused onto the image receiving material, creating a permanent copy of the Template is created.
Wie man aus F i g. 1 erkennt, weist die Vorrichtung zur Entwicklung des elektrostatischen Ladungsbildes, das sich auf der Oberfläche der photoleitfähigen Trommel 3 befindet, eine Auftragwalze 15 auf. die drehbar in einem nicht näher dargestellten Entwicklerbchälter gelagert ist. Die Auftragwalze 15 enthält einen leitenden Metallkern 16 und eine äußere Schicht 17 aus einem leitenden Gummi, deren spezifischer Widersland nicht höher als 108HCm, insbesondere nichc höher als 105 Qcm ist. Auf der oberen Oberfläche der Auftragwalze 15 liegt eine Schneidenelektrode 18 auf, die durch eine Feder 19 in Richtung auf die Oberfläche der Auftragwalze 15 vorgespannt ist und dadurch mit einem bestimmten, die Dicke der Entwicklerschicht fesilegenden Druck an der Auftragwalze 15 anliegt. Die Schncidenelektrode 18 wird durch eine in Achsrichtung der Auftragwalze 15 verlaufende Platte mit einem spitz zulaufenden, unteren Ende aus leitendem Material geb'ldet. Die Schneidenelektrode 18 wird durch ein Tragteil aus einem isolierenden Material gehalten und ist an einer Wand eines trichterförmigen Vorratsbehälters 8 für einen Einkomponenten-Entwickler Tbefestigt.As one can see from FIG. 1 recognizes, the device for developing the electrostatic charge image, which is located on the surface of the photoconductive drum 3, has an applicator roller 15. which is rotatably mounted in a developer container, not shown in detail. The applicator roller 15 contains a conductive metal core 16 and an outer layer 17 made of a conductive rubber, the specific contradiction of which is not higher than 10 8 Hcm, in particular not higher than 10 5 Ωcm. A blade electrode 18 rests on the upper surface of the applicator roller 15, which is pretensioned by a spring 19 in the direction of the surface of the applicator roller 15 and thereby rests on the applicator roller 15 with a certain pressure that determines the thickness of the developer layer. The cutting electrode 18 is formed by a plate which runs in the axial direction of the applicator roller 15 and has a tapered lower end made of conductive material. The cutting edge electrode 18 is held by a support part made of an insulating material and is attached to a wall of a funnel-shaped storage container 8 for a one-component developer T.
Dieser Einkomponenten-Entwickler That einen spezifischen Widerstand, der nicht kleiner als ΙΟ/Ώοη. insbesondere nicht kleiner als IO14 Ωοη ist.This one-component developer that has a specific resistance that is not less than ΙΟ / Ώοη. in particular is not less than IO 14 Ωοη.
An die Auftragwalze 15 und an die Schneidenelektrode 18 wird mittels einer Spannungsquelle Ex ein Potential angelegt.A potential is applied to the applicator roller 15 and to the cutting electrode 18 by means of a voltage source E x.
Zur optimalen, ausreichenden Aufladung des Kinkomponenten-Entwicklers 7", wie sie für die Herstellung von qualitativ hochwertigen Kopien erforderlich ist, weist die Schneidenelektrode 18 Vorsprünge 41, 42 aus isolierendem Material auf (siehe Fig. I bis 3). deren Dicke I2 geringer ist als die Dicke der Eniwicklerschicht, nämlich der Abstand Ix zwischen der Oberfläche der elastischen Schicht *7 der Auftragwalze 15 und dem unteren Ende der Schneidenelektrode 18. An den beiden Randbereichen der Schneidenelcktrode 18 ist also der Abstand l> zwischen den Vorsprüngen 41. 42 und der elastischen Gummischicht 17 der Auftragwal/.e 15 gegeben durch die Beziehung Ix — I2. Da der Abstand Ix zwischen der Schneidenelektrode 18 und der Schicht 17 sich in Abhängigkeit von den Betriebsbedingungen ändern kann und deshalb eine kritische Größe darstellt, wird die Dicke h der Vorsprünge 41, 42 aus dem isolierenden Material so gewählt, daß die Schncidenelcktrodc 18 die Schicht 17 nicht berührt, und zwar selbst dann nicht, wenn der Abstand Ix sein Minimum (l\mm) erreicht, d. h., der Abstand /j darf nie null werden.For optimal, sufficient charging of the kink component developer 7 ″, as is necessary for the production of high-quality copies, the cutting electrode 18 has projections 41, 42 made of insulating material (see FIGS. 1 to 3), whose thickness I 2 is smaller is than the thickness of the developer layer, namely the distance I x between the surface of the elastic layer * 7 of the applicator roller 15 and the lower end of the blade electrode 18. At the two edge areas of the blade corner electrode 18, the distance l> between the projections 41, 42 and the elastic rubber layer 17 of the applicator roller 15 given by the relationship I x - I 2 Since the distance I x between the cutting electrode 18 and the layer 17 can change depending on the operating conditions and is therefore a critical value, becomes the thickness h of the projections 41, 42 selected from the insulating material so that the cutting edge rod 18 does not touch the layer 17, namely not even if the distance I x reaches its minimum (l \ mm ) , that is, the distance / j must never become zero.
Bei Verwendung eines Einkomponenien-Entwicklers muß die Entwicklerschicht eine Dicke von 20—60 μΐη hüben, so daß die exakte Aufrechterhaltung dieser Dikkc Probleme berti'et. Befinden sich jedoch die Vorsorünee 41 und 42 aus dem isolierenden Material an den beiden Randbereichen der Schneidenelektrode 18, so kommen selbst bei einer Änderung des Abstandes Ix nur die Vorsprünge 41, 42 in Kontakt mii der elastischen Schicht 17, während eine direkte Berührung zwischen der Schneidenelektrode 18 und der elastischen Schicht 17 ausgeschlossen ist.When using a one-component developer, the developer layer must have a thickness of 20-60 µm, so that the exact maintenance of this thickness poses problems. However, if the precursors 41 and 42 made of the insulating material are located on the two edge regions of the cutting electrode 18, even if the distance I x changes, only the projections 41, 42 come into contact with the elastic layer 17, while there is direct contact between the Cutting electrode 18 and the elastic layer 17 is excluded.
Wird nun der Entwickler aufgeladen, indem eine Spannung von der Spannungsquelle Ex an die Schneidenelektrode 18 angelegt wird, so verhindern die Vor-Sprünge 41, 42 aus dem isolierenden Material, daß Strom von den Randbereichen der Schneidenelektrode 16 zu der Auftragwalze 15 fließt, also die Schneidenelektrodc 18 immer ausreichend aufgeladen wird, wie es für die Erzeugung von Abbildungen mit hohem Kontrast erforderlich ist.If the developer is now charged by applying a voltage from the voltage source E x to the cutting edge electrode 18, the pre-cracks 41, 42 of the insulating material prevent current from flowing from the edge areas of the cutting edge electrode 16 to the applicator roller 15 the cutting electrode 18 is always sufficiently charged, as is necessary for the generation of images with high contrast.
Da die Vorsprünge 41,42 die erwähnte Dicke haben, besteht weiterhin die Möglichkeit, die Entwicklerschicht mittels der Schneidenclektrode 18 zusammenzudrükken. Berühren die Vorsprünge 41, 42 die elastische Schicht \7 der Auftragwalze 15. so hat die Entwickler schicht auf der Auftragwalze 15 d- - Dicke /2, d. h„ selbst in diesem ungünstigsten Faii wird Entwickler auf das Ladungsbild aufgebracht.Since the projections 41, 42 have the thickness mentioned, there is still the possibility of compressing the developer layer by means of the cutting electrode 18. If the projections 41, 42 touch the elastic layer 7 of the applicator roller 15, the developer layer on the applicator roller 15 has d- - thickness / 2, i.e. Even in this worst case, developer is applied to the charge image.
Gemäß Fig. 1 wird an die Schneidenelektrode 18 mittels der Spannungsquelle Ex eine Spannung mit einer PoIa- <tät angelegt, die entgegengesetzt zu der Polarität des elektrostatischen Ladungsbildes ist. Der Metallkern 16 der Auftragwalze 15 ist geerdet. Um die Ablagerung des Entwicklers auf den Untergrundbereichen des La-According to FIG. 1, a voltage with a polarity opposite to the polarity of the electrostatic charge image is applied to the cutting edge electrode 18 by means of the voltage source E x. The metal core 16 of the applicator roller 15 is grounded. In order to avoid the build-up of the developer on the underground areas of the
jo dungsbildes auf der photoleitfähigen Trommel 3 zu verhindern, kann zum Zeitpunkt der Entwicklung an die Auftragwalze 15 eine Entwicklungs-Vorspannung angelegt werden, deren Polarität gleich der Polarität der Untergrundbereiche des Ladungsbildes ist und derenjo formation image to prevent on the photoconductive drum 3, A developing bias can be applied to the applicator roller 15 at the time of development whose polarity is the same as the polarity of the background areas of the charge image and their
J5 Wert etwa gleich oder eiwas höher als das Potential der Untergrundbreiche ist.J5 value roughly equal to or slightly higher than the potential of the Is underground.
Wie man aus F i g. 3 erkennt, befinde; sich die Schicht aus dem Einkomponenten-Entwickler Tauf der elastischen Schicht 17 der Aufiragwalze 15, und ,zwar mit Ausnahme der. in Richtung der Walzenachse gesehen, beiden Randbereiche der Auftragwalze. Der wirksame feil der Schneidenelektrode 18 überdeckt mindestens die Entwicklerschicht; an den Randbereichen der Schneidenclektrode 18 sind die Vorsprünge 41, 42 aus isolierendem Material außerhalb der Entwicklerschicht ausgebildet, so daß sie die Entwicklerschicht nicht berühren. As one can see from FIG. 3 recognizes, located; the layer from the one-component developer baptize the elastic Layer 17 of the application roller 15, namely with Exception of. seen in the direction of the roller axis, both edge areas of the applicator roller. The effective one The edge electrode 18 covers at least the developer layer; at the edge of the Blade electrode 18 are the projections 41, 42 made of insulating material outside the developer layer formed so that they do not touch the developer layer.
Zur Herstellung der Vorsprünge 41, 42 werden die beiden Randbereiche der Schneidenelektrode 18 mit einem isolierenden Material, wie beispielsweise Polytetrafluorethylen. /Aberzogen. Als Alternative hierzu kann ein dünner, isolierender Überzug an den Randbereichen der Schncidenelektrcde 18 angebracht werden.To produce the projections 41, 42, the two edge regions of the cutting edge electrode 18 are provided with a insulating material such as polytetrafluoroethylene. / Disgusted. As an alternative to this, you can a thin, insulating coating can be applied to the edge regions of the cutting electrode 18.
3ti der Ausführungsform nach F i g. 1 wird die Auftragwalze 15 durch eine nicht dargestellte Antriebseinrichtung gedreht. Als Alternative hierzu lcann die Auftragwalze 15 mit vorgegebenem Druck an der Trommel 3 anliegen, so daß die Auftragwalze 15 von der Trommel 3 mitgenommen wird. Und schließlich kann die Auftrag-3ti of the embodiment according to FIG. 1 becomes the applicator roller 15 rotated by a drive device not shown. As an alternative to this, the applicator roller can be used 15 rest against the drum 3 with a predetermined pressure, so that the applicator roller 15 is removed from the drum 3 is taken. And finally, the order
ho walze 15 in Richtung gegen den Uhrzeigersinri mit einer Umfangsgeschwindigkeit gedreht werden, die gleich der oder etwas höher als die Umfangsgeschwindigkeit der photoleitfähigen Trommel 3 ist, so daß der Entwickler von dem trichterförmigen Vorratsbehälter 8 auf der Oberfläche der elastischen Schicht 17 der Auftragwalze 15 abgelagert und weitertransportiert wird. Die Dicke der Entwicklerschicht auf der Auftragwalze 15 wird mittels der Schneidenclektrode 18 eingestellt: eleichzeitiEho roller 15 in the counterclockwise direction with a Circumferential speed that is equal to or slightly higher than the peripheral speed of the photoconductive drum 3 is so that the developer from the funnel-shaped reservoir 8 on the Surface of the elastic layer 17 of the applicator roller 15 is deposited and transported on. The fat the developer layer on the applicator roller 15 is adjusted by means of the cutting electrode 18: equilibrium time
wird der unter der Schneidenelcktrode 18 durchlaufende Entwickler mit einer Polarität aufgeladen, die entgegengesetzt zu der Polarität des elektrostatischen Ladungsbildes ist. Dieser aufgeladene Entwickler wird dann auf das Ladungsbild auf der photolcitfähigen Trommel 3 übertragen, wodurch dieses Ladungsbild zu einem sichtbaren Tonerbild entwickelt wird.becomes the one passing under the cutting edge corner electrode 18 Developer charged with a polarity that is opposite to the polarity of the electrostatic charge image is. This charged developer is then applied to the charge image on the photoconductive Drum 3 is transferred, whereby this charge image is developed into a visible toner image.
Die Beziehung zwischen der an die Schneidenclektrode 18 angelegten Spannung und der Aufladung des Entwicklers läßt sich durch folgenden Versuch erhalten: Bei der Entwicklungsvorrichtung nach Fig. I wird ein Entwickler mit einem spezifischen Widerstand von 10" Ohm/cm verwendet. Mittels der Schncidcnelekirode 18 wird eine Entwicklersehiehl mit einer Dicke von etwa 40 μπι auf der Auftragrolle 15 ausgebildet. Die elastische Schicht 17 auf der Auf tragwalze 15 besteht aus einem leitenden Silikonkautschuk, dessen Shorc-Härte 45 beträgt und dessen spezifischer Widerstand nicht größer als 10'1 Ohm/cm ist. Die Aultragwalzc 15 wird mit einer Umfangsgeschwindigkeit von 200 mm/s gedreht. Wenn der maximale Strom, der von der Schneidenelektrode 18 durch die Eniwicklerschicht zu der Auftragwalze 15 fließt, auf 0.4 mA und der normale Stromwert auf etwa 0,05 mA eingestellt werden, schmilzt der Entwickler auf der Auftragwai/.c 15 und der Schneidenelektrode 18 nicht. Der Spannungsunterschied V,\ zwischen der an die Schneidenelekirode 18 angelegten Spannung und der an die Auftragwalzc 15 angelegten Spannung ist proportional zu dem Aufladungspotential Vr des Entwicklers, wie man in F i g. 3 erkennt. Damit kann durch Änderung der an die Schneidenelektrode 18 angelegten Spannung das Aufladungspotential des Entwicklers, nämlich der Schwarzungsgrad, geändert werden, so daß man in Abhängigkeit von der Art der zu kopierenden Vorlage die optimale Entwicklung erhält. Beispielsweise kann bei einer Vorlage mit geringem Kontrast die an die Schneidenelekirode 18 angelegte Spannung erhöht werden, um die Aufladung des Entwicklers zu erhöhen; gleichzeitig wird die an die Auftragwalze 15 angelegte Vorspannung etwas erhöht, um das Absetzen des Entwicklers auf den Untergrundbereichen des Ladungsbildes zu verhindern.The relationship between the voltage applied to the blade electrode 18 and the charge of the developer can be obtained by the following experiment: In the developing device of FIG Developer hiehl formed with a thickness of about 40 μm on the application roller 15. The elastic layer 17 on the application roller 15 consists of a conductive silicone rubber whose Shorc hardness is 45 and whose specific resistance is not greater than 10 ' 1 ohm / cm. The application roller 15 is rotated at a peripheral speed of 200 mm / sec. When the maximum current flowing from the cutting electrode 18 through the developing layer to the application roller 15 is set to 0.4 mA and the normal current value is set to about 0.05 mA, it melts the developer does not on the order wai / .c 15 and the cutting edge electrode 18. The voltage difference V, \ between The voltage applied to the blade electrode 18 and the voltage applied to the applicator roller 15 are proportional to the charging potential Vr of the developer, as shown in FIG. 3 recognizes. Thus, by changing the voltage applied to the cutting edge electrode 18, the charging potential of the developer, namely the degree of blackening, can be changed so that the optimum development is obtained depending on the type of the original to be copied. For example, in the case of an original with low contrast, the voltage applied to the cutting electrode 18 can be increased in order to increase the charge on the developer; at the same time the bias voltage applied to the applicator roller 15 is increased somewhat in order to prevent the developer from settling on the background areas of the charge image.
F i g. 5 zeigt eine perspektivische Ansicht einer anderen Ausführungsform einer solchen Entwicklungsvorrichtung. Gemäß F i g. 5 weist eine Auftragwalzc 43 einen leitenden Metallkern 45 mit einer Welle 44. eine leitende, elastische Schicht 46 auf dem Metallkern 45 sowie Vorsprünge 47,48 aus isolierendem Material auf den gegenüberliegenden Randbcrcichen der Auftragwalze 43 auf. Die leitende, elastische Schicht 46 kann aus dem gleichen Material hergestellt werden, wie bei der Ausführungsform nach Fig. 1. Als Alternative hierzu kann die elastische Schicht 46 auch aus einem isolierenden Material hergestellt werden: dann muß ihr mittlerer Bereich jedoch so behandelt werden, daß er elektrisch leitfähig ist.F i g. Figure 5 shows a perspective view of another embodiment of such a developing device. According to FIG. 5, an applicator roller 43 has a conductive metal core 45 with a shaft 44 conductive, elastic layer 46 on the metal core 45 and projections 47,48 made of insulating material the opposite edge areas of the applicator roller 43. The conductive, elastic layer 46 can be made of the same material as in the embodiment of FIG. 1. As an alternative to this the elastic layer 46 can also be made of an insulating material: then it must be middle However, the area should be treated so that it is electrically conductive.
Auf der Auftragwalze 46 wird eine Schicht Taus einem Einkomponenten-Entwickler ausgebildet. Die Vorsprünge 47, 48 aus dem isolierenden Material haben eine Dicke, die geringer als die Dicke der Entwicklerschicht Tist.A layer of a one-component developer is formed on the applicator roller 46. The protrusions 47, 48 made of the insulating material have a thickness which is less than the thickness of the developer layer Tist.
Am oberen Bereich der Auftragwaize 53 liegt die Schneidenelektrode 18 mit einem vorgegebenen Druck an. der durch die Federanordnung 19 erzeugt wird: das untere Ende der Schncidenelektrode 18 berührt die Entwicklerschicht T gleichmäßig. Das untere Ende der Schneidenelektrode 18 ist mit einer abgeschrägten Kanie versehen, so daß sich die Dicke der Schneidcnelektrode 18 zu ihrem unteren Ende hin kontinuierlich verringert (siehe auch F i g. 2).The cutting electrode 18 rests against the upper area of the application roller 53 with a predetermined pressure. generated by the spring arrangement 19: the lower end of the cutting electrode 18 touches the developer layer T uniformly. The lower end of the cutting electrode 18 is provided with a bevelled groove so that the thickness of the cutting electrode 18 is continuously reduced towards its lower end (see also FIG. 2).
An die Schncidenelektrode 18 wird ein" Spannung angelegt, so daß der Entwickler aufgeladen wird; der Entwickler auf der Auftragwalze 43 wird durch den so entstehenden Potentialunterschied zwischen der Schneidenelcktrode 18 und der Auftragwalzc 43 mit einer Polarität aufgeladen, die entgegengesetzt zu der Polarität des elektrostatischen Ladungsbildes ist.A voltage is applied to the cutting electrode 18 so that the developer is charged; the Developer on the applicator roller 43 is through the so resulting potential difference between the cutting edge electrode 18 and the applicator roller 43 with a Polarity charged, which is opposite to the polarity of the electrostatic charge image.
ίο Normalerweise kommt die Schneidenelektrode 18 nur mit der F.ntwicklcrschicht T in Berührung. Wenn jedoch die Dicke der Entwicklcrschicht Tabnimmt und damit der Abstand zwischen der Schneidenclektrodc 18 und der Auftragwalze 43 geringer wird, berühren dieίο Normally, the cutting electrode 18 only comes into contact with the developing layer T. However, if the thickness of the developer layer Tab increases and thus the distance between the blade electrode 18 and the applicator roller 43 becomes smaller, the touch
is gegenüberliegenden Randberciche der Schneidenelektrodc 18 die Vorsprünge 47, 48 aus dem isolierenden Material auf der Schicht 46. Infolgedessen fließt kein Strom von den Randbereichen der Schneidenelcktrode Ϊ8 zu der Auftragwai/.c 43. Da riüöerdcrn auf der Auf tragwalze 43 eine Entwicklerschicht ausgebildet wird, die (mindestens) so dick wie die Dicke der Vorspriinge 47, 48 aus dem isolierenden Material ist, läßt sich eine einwandfreie Entwicklung durchführen. In F i g. 5 ist der trichterförmige Vorratsbehälter für den Entwickler nicht dargestellt: es kann jedoch ein Vorratsbehälter verwendet werden, wie er aus F i g. 1 zu erkennen ist.is the opposite edge area of the cutting electrodec 18 the protrusions 47, 48 of the insulating material on the layer 46. As a result, no flow Current from the edge areas of the cutting edge electrode Ϊ8 to the order wai / .c 43. Da riüöerdcrn on the Auf Carrying roller 43 a developer layer is formed which is (at least) as thick as the thickness of the projections 47, 48 is made of the insulating material, proper development can be carried out. In Fig. 5 is the funnel-shaped storage container for the developer not shown: however, a storage container can be used can be used as shown in FIG. 1 can be seen.
Bei den Ausführungsformen nach den F i g. 1 bzw. 5 befindt.-jsich die Vorsprünge aus dem isolierenden Material entweder an den Randbereichen der Schneiden-In the embodiments according to FIGS. 1 and 5 are the projections made of the insulating material either at the edge areas of the cutting edge
)o elektrode 18 oder an den Randbercichen der Auftragwalzc 43. Solche Vorsprünge können jedoch sowohl an der Schneidenelektrode 18 als auch an der Auftragwalzc 43 ausgebildet werden.) o electrode 18 or on the edge areas of the applicator rollersc 43. Such projections can, however, both on the cutting electrode 18 and on the applicator roller 43 are formed.
Hierzu 3 Blatt ZeichnungenFor this purpose 3 sheets of drawings
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