DE2523325A1 - Verfahren zur herstellung von feuerfestem metallborid-pulver - Google Patents
Verfahren zur herstellung von feuerfestem metallborid-pulverInfo
- Publication number
- DE2523325A1 DE2523325A1 DE19752523325 DE2523325A DE2523325A1 DE 2523325 A1 DE2523325 A1 DE 2523325A1 DE 19752523325 DE19752523325 DE 19752523325 DE 2523325 A DE2523325 A DE 2523325A DE 2523325 A1 DE2523325 A1 DE 2523325A1
- Authority
- DE
- Germany
- Prior art keywords
- hydrogen
- boron
- halide
- starting material
- reactor
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C01—INORGANIC CHEMISTRY
- C01B—NON-METALLIC ELEMENTS; COMPOUNDS THEREOF; METALLOIDS OR COMPOUNDS THEREOF NOT COVERED BY SUBCLASS C01C
- C01B35/00—Boron; Compounds thereof
- C01B35/02—Boron; Borides
- C01B35/04—Metal borides
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Inorganic Chemistry (AREA)
- Chemical Vapour Deposition (AREA)
- Physical Or Chemical Processes And Apparatus (AREA)
Description
Dr. Michael Hann
Patentanwalt
63 Gießen/Lahn
Ludwigstr. 67 ΗνΚ/He (808)
PPG Industries, Inc., Pittsburgh, Pennsylvania, U.S.A. Verfahren zur Herstellung von feuerfestem Metallborid-Pulver
Die vorliegende Erfindung betrifft ein Verfahren zur Herstellung von feuerfestem Metallborid-Pulver. Spezifischer gesagt
bezieht sich die Erfindung auf ein Verfahren zur Herstellung von feuerfestem Titan-, Zirkon- und Hafniumborid-Pulver
durch Umsetzung in der Dampfphase eines Halogenids des entsprechenden Metalls mit einem borhaltigen Ausgangsstoff in
Gegenwart von Wasserstoff.
Über die Herstellung von Titan-, Zirkon- und Hafniumboriden durch Umsetzung in der Gasphase der entsprechenden Metallhalogenide^
z.B. Titantetrachloridjmit borhaltigen Ausgangsstoffen,
z.B. einem Borhalogenidein Gegenwart von Wasserstoff
bei Temperaturen von etwa 1000 bis 1330° C, 1700 bis 2500° C
bzw. 1900 bis 2700° C wird in Schwarzkopf und Kieffers,
"Refractory Hard Metals", The MacMillan Company, New York 1953 auf den Seiten 277, 281 und 285 berichtet. Im allgemeinen
werden derartige Dampfphasenreaktionen in der Weise durchgeführt, daß man die Ausgangsstoffe in Gegenwart eines
Wolfram-Glühfadens erhitzt. Dennoch erzeugen derartige Verfahrensweisen eher einen Überzug mit Metallborid auf einem
erhitzten Substrat als ein pulverförmiges Produkt. Die oben erwähnte Dampfphasenreaktion zur Herstellung von Titandiborid
wird bei Temperaturen von weniger als 1200° C durchgeführt, wobei anstelle von WasseiPstoff, Natriumdampf Verwendung
findet (vergl. US-PS 3 244 482).
Ein feinverteiltes, z.B. ein im Submikronbereich liegendes, feuerfestes Metallborid-Pulver, z.B. Titandiborid, Zirkondiborid und HafniiunriIborid, kann dadurch hergestellt werden,
609834/0588
7523325
daß man die Dampphasenreaktion in Abwesenheit eines Substrates durchführt und dadurch ein festes Pulver direkt aus der
Gasphase erzeugt. Bei einem derartigen Verfahren wird Wasserstoff erhitzt, beispielsweise mit Hilfe einer Einrichtung
zum Erhitzen von Plasma, um einen hoch erhitzten Wasserstoffgasstrom
zu erzeugen, der in den Reaktor eingeführt wird. Die Ausgangsstoffe, d.h. das entsprechende Metallhaiogenid, beispielsweise
Titanhalogenid und die Quelle für das Bor, z.B. Borhydrid oder Borhalogenid werden in den Reaktor und vorzugsweise
in den heißen Wasserstoffstrom eingeführt. Die Ausgangsstoffe werden mit dem Wasserstoff gemischt und reagieren
in einer Reaktionszone, die bei Metallboridbildungstemperaturen liegt. Das gebildete feste Metallborid, das in dem Gasproduktstrom
suspendiert ist, wird aus dem Reaktor entfernt, gequentscht und in einer üblichen Einrichtung zum Sammeln
feinverteilter Teilchen, z.B. in Zyklonen, elektrostatischen Fällungseinrichtungen, Staubsammlern und dergl. rückgewonnen.
Das zuvor beschriebene Verfahren kann verwendet werden, um Submikronmetallboridpulver herzustellen, indem die überwiegende
Anzahl von Metallboridteilchen eine Teilchengröße im Bereich zwischen 0,05 und 0,7 Mikron hat.
Um ein feinverteiltes, z.B. ein im Submikronbereich liegendes Metallborid-Pulver mit einer relativ beschränkten Teilchengrößenverteilung
zu erzeugen, ist es notwendig, die Ausgangsstoffe schnell innerhalb des Reaktors bei Reaktionstemperaturen
zusammenzubringen, die besonders zweckdienlich für die Bildung von Metallboriden sind. Diese Verfahrensweise
läßt einen größeren Prozentsatz der Reaktion bei im wesentlichen den gleichen Bedingungen ablaufen, wobei ein im wesentlichen
gleichförmiges Endprodukt erzielt wird. Um die Ausgangsstoffe schnell bei den entsprechenden Reaktionstemperaturen
zusammenzubringen, werden sie in eine Ausgangsstoffmischzone
durch eine Einlaßvorrichtung geführt. Der heiße Wasserstoffstrom ist in der Regel innerhalb oder in Nachbarschaft
zu dieser Mischzone und infolge davon in allernächster
809834/0588
Nähe zu der Ausgangsstoff-Einlaßvorrichtung. Der Wärmegehalt
des heißen WasserstoffStroms und der Ausgangsstoffströme
reicht aus, um eine Temperatur aufrechtzuerhalten, bei welcher sich die Bildung von Metallborid abspielt. Infolge
dessen verläuft die Reaktion unmittelbar, sobald die Ausgangsstoffe in diese Mischzone in Gegenwart des heißen Wasserstoff
stromes eingeführt worden sind. Da nun die Ausgangsstoff-Einlaßvorrichtung an diese Mischungszone und an die
Reaktionszone angrenzt, die beinahe gleichartig sind, besteht eine starke Tendenz, daß das bei dieser Reaktion erzeugte
feste Metallborid sich auf den Oberflächen der zuvor beschriebenen Einrichtung ablagert, die sich zu der Ausgangsstoff-Mischzone
und der Reaktionszone hin erstreckt. Diese Ablagerungen häufen sich an, wachsen an diesen Oberflächen
an und können gegebenenfalls teilweise oder sogar vollständig die Einlaßöffnungen innerhalb der Einrichtung blockieren,
durch welche die Ausgangsstoffe in den Reaktor einströmen. Eine teilweise Blockierung der Einlaßöffnungen kann
eine Abweichung von dem gewünschten zum Ausgangsstoffstrom
gerichteten Fluß verursachen und infolgedessen ein Anwachsen der Geschwindigkeit bewirken, bei der das Metallboridprodukt
sich auf der Einlaßvorrichtung ablagert.
Es wurde nun gefunden, daß bei dem Verfahren zur Herstellung von feuerfestem Metallborid-Pulver, wobei man das entsprechende
Metallhalogenid und eine Quelle für das Bor in Gegenwart von Wasserstoff umsetzt, besondere Verfahrensweisen zur
Einführung des Ausgangsstoffes zweckdienlich sind, um eine im wesentlichen ablagerungsfreie Arbeitsweise an der Stelle
sicherzustellen, wo der Ausgangsstoff eingeführt wird, d.h. an der Ausgangsstoff-Einlaßvorrichtung. Insbesondere wurde
festgestellt, daß ein im wesentlichen wasserfreier Halogenwasserstoff in die Reaktionszone eingeführt und dieser sowie
der Metallhalogenidausgangsstoff in die Ausgangsstoff-Michzone
stromaufwärts von der Quelle für den Borausgangsstoff eingeleitet werden sollte. Weiterhin wurde festgestellt, daß
das zur Einführung des Borausgangsstoffes in diese Ausgangs-
609834/0588
7523325
stoff-Mischzone verwendete Trägergas ein inertes Gas, z.B.
ein Edelgas wie Argon, sein sollte. Wenn der als Borquelle dienende Ausgangsstoff ein Borhalogenid ist, sollte außerdem
das Trägergas im wesentlichen frei von elementarem Wasserstoff sein. Bei Befolgung der zuvor genannten Verfahrensarbeitsweisen, können Ablagerungen von feuerfestem Metallborid
auf der Ausgangsstoff-Einlaßvorrichtung im wesentlichen vermieden und dadurch ein kontinuierlicher Verfahrensverlauf erzielt werden.
Das hier "beschriebene, verbesserte Verfahren zur Herstellung
von feuerfestem Metallborid-Pulver kann anhand der Zeichnung besser verstanden werden, die eine schematische und teilweise
im Ausschnitt wiedergegebene Darstellung einer Apparatur zeigt", die aus einem Gerät mit Lichtbogenheizung zur Erzeugung
eines Gasplasmas (arc plasma gas heating means), einer Ausgangsstoff-Einlaßvorrichtung mit zwei Durchgangsöffnungen,
um Ausgangsstoffe zu dem heißen Gasstrom zu leiten, der aus der Heizvorrichtung zur Erzeugung des Gasplasmas stammt, aus
einem Reaktor sowie aus Hilfseinrichtungen, wie z.B. Zyklone oder Filterbeutel, um das Metallborid-Pulverprodukt rückzugewinnen,
das in dem Produktgasstrom des Reaktors suspendiert ist, besteht.
Feuerfeste Metallboride der 4b Nebengruppe des Periodensystems der Elemente (Handbook of Chemistry and Physics,
45. Auflage, The Chemical Rubber Co. 1964), wie z.B. Titandiborid, Zirkondiborid und Hafniumdiborid, sind zweckdienlich
als metallurgische Zusatzstoffe, als Keramik-Metall-Verbundwerkstoff -Komponenten, für eine Dispersionsverfestigung
von Metallen, als Verbindungen der sogenannten höheren Legierungen (superalloys) und der·kerntechnischen Stähle,
als Überzüge für Materialien, die geschmolzenem Metall ausgesetzt sind, als stromleitende Elemente, wenn sie sich zu
einer festen Form verdichtet haben, und bei Verwendungszwecken, bei denen feuerfestes Material notwendig ist. Viele derartige
609834/0588
7523325
Die zuvor genannten feuerfesten Metallboride können in pulverisierter
Form dadurch hergestellt werden, daß man die Metallhalogenide der 4b Nebengruppe und einen borhaltigen
Ausgangsstoff in der Dampphase in Gegenwart von Wasserstoff und in Abwesenheit eines Substrates zur Reaktion bringt,
wobei das feste Metallborid direkt aus der Gasphase gebildet wird.
Um nun eine relativ begrenzte Teilchengrößenverteilung des Boridendproduktes zu erzielen, sollte man das Metallhalogenid
und die borhaltigen Ausgangsstoffe in der Weise aufheizen und zu dem gewünschten Metallborid überführen, daß
man die notwendige Temperatur in einem vergleichsweise kurzen Zeitintervall erzeugt. Vorzugsweise wird die Reaktion
unter" Berührung mit den herausragenden Oberflächen der Ausgangsstoff-Einlaßvorrichtung
und des Reaktors durchgeführt. Die Verweilzeiten innerhalb des Reaktors bei diesen Reaktionstemperaturen
liegen im Bereich von Millisekunden im Unterschied zu Sekunden oder Minuten.
Eine mögliche Verfahrensweise zur Durchführung der oben beschriebenen
Dampfphasenreaktion ist darin zu sehen, daß man beide Ausgangsstoffe auf die Reaktionstemperatur erhitzt,
bevor man sie in dem Reaktor mischt. Dennoch bestehen zahllose Probleme, wenn man korrosive Gase wie die Metallhalogenide,
z.B. Titantetrachlorid, auf Temperaturen erhitzt, bei denen ein Metallborid gebildet wird, sowie bei der Handhabe
derartiger hoch erhitzter Ausgangsstoffgase. Bei einer
anderen Verfahrensweise werden beide Ausgangsstoffe (einzeln oder vorgemischt) im wesentlichen unterhalb der Reaktionstemperaturen in eine Hochtemperaturausgangsstoffmisch- und
Reaktionszone eingeführt. Ohne daß- man die Ausgangsstoffe
unmittelbar auf die Reaktionstemperaturen bringt, verläuft die Gasphasenreaktion dennoch über einen ziemlich breiten
Temperaturbereich und erzeugt ein Produkt, das keine vergleichsweise eingeschränkte Teilchengrößenverteilung besitzt.
609834/0588
7523325
Um eine im wesentlichen sofortige vollständige Reaktion zu
erzielen, ist es notwendig, die Ausgangsstoffe schnell in die Hauptreaktionszone einzuführen, d.h. in die Zone, wo
sich in der Regel meistens mehr als 80?£ der Gesamtreaktion
abspielen. Infolgedessen liegt die Hauptreaktionszone für gewöhnlich in nächster Nähe zu der Zone, in die die Ausgangsstoffe
eingeführt werden. Eine derartige Verfahrensweise kann zu einem Produkt führen, das an den Oberflächen der Ausgangsstoff-Einlaßvorrichtung
angewachsen ist, die ihrerseits der Reaktion ausgesetzt sind, insbesondere die Ausgangsstoff-Einlaßvorrichtung.
Es wurde nunmehr gefunden, daß die zuvor geschilderten unerwünschten
Produktablagerungen im wesentlichen dadurch vermieden werden können, daß man eine vorgeschriebene Folge der
Ausgangsstoffeinführung befolgt und bestimmte Hilfs- und Trägergase verwendet. Insbesondere wurde gefunden, daß der
Metallhalogenidausgangsstoff, z.B. Titanhalogenid, in die
Hauptreaktionsmischzone eingeführt werden sollte, d.h. in die Zone, wo die Ausgangsstoffe gemischt und/oder zuerst den
Metallborid-Reaktionstemperaturen oberhalb oder über der Zone ausgesetzt werden, in welche der als Borquelle dienende Ausgangsstoff
innerhalb der Hauptmischzone eingeführt wird. Weiterhin wird ein im wesentlichen wasserfreier Halogenwasserstoff
gleichzeitig in die Hauptausgangsstoff-Mischzone oberhalb des borhaltigen Ausgangsstoffes eingeführt. Zusätzlich
wird ein inertes Trägergas, z.B. ein wasserstofffreies inertes Gas verwendet, um die Einleitung des borhaltigen Ausgangsstoffes
zu unterstützen. Bei den zuvor beschriebenen Verfahrens- und Arbeitsschritten wird eine Metallboridproduktablagerungund
ein Anwachsen an den exponierten Oberflächen der Ausgangsstoff-Einlaßvorrichtung und insbesondere
das Zuwachsen der Ausgangsstoff-Einlaßöffnungen einer derartigen
Vorrichtung im wesentlichen eliminiert oder in eindeutiger Weise in dem Umfang eingeschränkt, daß eine kontinuierliche
Verfahrensweise möglich ist. Die nahezu vollständige
609834/0588
7523325
Eliminierung eines derartigen, unerwünschten Metallboridproduktanwachsens
an den exponierten Oberflächen der Ausgangsstoff-Einlaßöffnungen bzw. der entsprechenden Vorrichtung
ist besonders wichtig für ein kommerziell betriebenes Verfahren, wo eine kontinuierliche Arbeitsweise eine ökonomische
Arbeitsweise darstellt.
Wie schon erwähnt, wird ein wasserfreier Halogenwasserstoff in die Hauptausgangsstoff-Mischzone eingeleitet, um eine Unterdrückung
oder Verminderung der Ablagerung eines Boridproduktes bzw. das Anwachsen derartiger Ablagerungen auf den
Oberflächen der Ausgangsstoff-Einlaßvorrichtung zu bewerkstelligen,
die sich in Nachbarschaft zu der Mischzone und der Reaktionszone befindet. In turbulent arbeitenden Reaktoren
mit Rückvermischung (recirculating reactors) zum Unterschied von linear arbeitenden Reaktoren ohne Rückvermischung
(plug flow type reactors) verläuft das Mischen der Ausgangsstoffe bis zu einem gewissen Ausmaß überall in dem Reaktor
wegen der üblichen Verwendung eines Überschusses eines Ausgangsstoffes und der Gasrezirkulation innerhalb des Reaktors.
Dennoch gibt es eine Zone, in der die Ausgangsstoffe zuerst alle zusammen den Reaktionstemperaturen ausgesetzt
werden. Dies kann dadurch bewerkstelligt werden, daß man die Ausgangsstoffe bei einer Temperatur vormischt, bei der
.sie nicht reagieren, und diese mit einer heißen Quelle, z.B. einem heißen Wasserstoff plasma, mischt, um die Ausgangsstoffe
unmittelbar auf die Reaktionstemperatur zu bringen. Die heiße Quelle kann natürlich von jeder Quelle hergeleitet
sein, z.B. von einer zusätzlichen chemischen Reaktion,
. oder von der Reaktionswärme" einer Anfangsreaktion oder von
einer äußeren Wärmequelle. Alternativ können die Ausgangsstoffe getrennt in den Reaktor eingeführt werden, sowie gemischt
und dann zusammen den Reaktionstemperatur ausgesetzt werden. Dabei kann jede übliche Verfahrensweise Verwendung
finden. Bezüglich der bevorzugt verwendeten Verfahrensweise wird eine Zone in dem Reaktor aufgebaut, in der die Aus-
609834/0588
? 5 2 3 3 2 5
gangsstoffe, in der Regel im wesentlichen alle Ausgangsstoffe, zuerst alle gemeinsam den Reaktionstemperaturen ausgesetzt
werden. Diese Zone ist die Hauptausgangsstoff-Mischzone und geht für gewöhnlich gerade dem Beginn der Reaktionszone voraus.
Wenn die Ausgangsstoffe in den Reaktor eingeführt und an mehr als einer Stelle, z.B. periodisch, bei den Reaktionstemperaturen gemischt werden, besteht eine Serie von Hauptmischzonen,
und das hier beschriebene Verfahren kann bei jeder einer derartigen Mischzone durchgeführt werden.
Der Halogenwasserstoff, der in die Hauptausgangsstoff-Mischzone
eingeführt wird, ist im wesentlichen wasserfrei, da die Gegenwart von Wasser in dem Reaktor Korrosionsprobleme aufwirft,
und zwar in dem Reaktor selbst und in der weiteren Anlage. Vorzugsweise ist der Halogenwasserstoff in gasförmigem
Zustand; dennoch kann auch ein flüssiger Halogenwasserstoff verwendet werden, da die Reaktionswärme sehr leicht den
Halogenwasserstoff verdampfen IaBt. Der verwendete Halogenwasserstoff
kann Chlorwasserstoff, Bromwasserstoff, Fluorwasserstoff oder Jodwasserstoff sein. Der im ökonomischen
Sinne bevorzugte Halogenwasserstoff ist Chlorwasserstoff. Der Halogenanteil in dem Halogenwasserstoff ist vorzugsweise
der gleiche, wie der Halogenanteil des gasförmigen Metalls oder des Metallhalogenids, um eine Einführung von verschiedenartigen
Halogenspezies in das System zu vermeiden, die eine umständliche und teure Rückgewinnung und eine Abtrennungsvorrichtung
zur Abtrennung und Rückgewinnung der verschiedenen Komponenten des aus dem Reaktor ausströmenden
Produktes benötigen.
Die Menge des Halogenwasserstoffes, der in die Mischzone eingeführt wird, liegt in der Größenordnung, die ausreicht,
um das Anwachsen eines Metallboridproduktes an den exponierten
Oberflächen des Reaktors und/oder der Ausgangsstoff- Einlaßdüsenvorrichtung zu verzögern, d.h. es ist eine verzögernde oder inhibierende Menge. Der Ausdruck "exponierte
60983W058B
7523325
Oberflächen des Reaktors" wird im Sinne der Erfindung in dem
Sinne verwendet, daß diese Oberflächen die exponierten Oberflächen des Reaktors und der Gaseinlaßdüsenvorrichtung sowie
jede andere ähnliche Oberfläche umfassen, die sich in Nachbarschaft zu der Zone befinden, wo die Ausgangsstoffe eingeleitet
werden, d.h. die Zone, in der der oder die Ausgangsstoffe in den Reaktor eingeführt werden und wo sich Metallboridablagerungen
abspielen. Die verwendete Menge des wasserfreien Halogenwasserstoffes kann verschieden sein; in der
Regel wird diese Menge jedoch zwischen etwa 50 und etwa 350 Mol% Halogenwasserstoff liegen, bezogen auf den Metallhalogenidausgangsstoff
(Metalle der Nebengruppe 4b des Periodensystems) . Die Menge an wasserfreiem Halogenwasserstoff
wird dem Reaktor zugegeben und wird von dem Halogenwasserstoff* unterschieden, der in dem Reaktor während der Reaktion
gebildet wird, d.h. durch die Reaktion von Wasserstoff und Halogen innerhalb des Reaktors.
Im Unterschied zu der genauen Stelle ist eine besondere Verfahrensweise,
mit der der wasserfreie Halogenwasserstoff in die Hauptmischungszone der Ausgangsstoffe eingeführt wird,
bei der vorliegenden Erfindung nicht kritisch, vorausgesetzt, daß der Halogenwasserstoff oberhalb von dem borhaltigen Ausgangsstoff
eingeleitet wird. Infolgedessen kann der Halogenwasserstoff zusammen mit dem Metallhalogenid oder als getrennter
Gasstrom eingeleitet werden. Wenn der Halogenwasserstoff zusammen mit dem Metallhalogenid eingeleitet wird,
kann er einen Teil des Trägergases, z.B. Wasserstoff, oder das gesamte Trägergas ersetzten, das zusammen mit dem Metallhalogenid
verwendet werden kann. Alternativ kann der Halogenwasserstoff als eine Umhüllung (shroud) zwischen dem Metallhalogenid
und dem borhaltigen Ausgangsstoff oder sogar über bzw. oberhalb des Metallhalogenide eingeleitet werden. Vorzugsweise
wird der wasserfreie Halogenwasserstoff zusammen mit dem Metallhalogenid eingeleitet. Infolgedessen wird der
Halogenwasserstoff zusammen mit dem Metallhalogenid oder als
609834/0588
getrennter Strom direkt in die Hauptmischungszone der Ausgangszone
eingeleitet, jedoch über der Zone, in die der borhalt ige Ausgangsstoff eingeführt wird.
Ein wichtiges Merkmal der vorliegenden Erfindung ist in dem Vorhandensein einer ausreichenden Menge an Halogenwasserstoff
zu sehen, um das Anwachsen des Produktes an den Ausgangsstoff-Einlaßöffnungen
in der Mischungszone zu verzögern, d.h. die Zone, wo die Ausgangsstoffe zum erstenmal gemeinsam die Temperaturen
erfahren, bei denen eine Reaktion zwischen den Ausgangsstoffen verlaufen kann. Wenn der Halogenwasserstoff
wahllos in den Reaktor eingeführt wird, kann infolgedessen die gewünschte Wirkung, d.h. die Vermeidung des oben beschriebenen
Anwachsens des Produktes an den Einlaßöffnungen, nicht erzielt werden. Da die Mischungs- und Reaktionszonen bei gewissen
Verfahrensweisen der Einführung der Ausgangsstoffe aufgrund der vorliegenden, kurzen Verweilzeiten mit dem
bloßen Auge im wesentlichen nicht wahrnehmbar sind, ist es wichtig, eine Verfahrensweise zur Einleitung des Halogenwasserstoffes
zu verwenden, welche sein Vorhandensein in der Hauptmischungszone der Ausgangsstoffe sicherstellt. Dies kann
dadurch bewerkstelligt werden, wie weiter oben angezeigt, daß man den Halogenwasserstoff zusammen mit dem Metallhalogenid,
z.B. als Trägergas, einführt oder daß man einen Halogenwasserstoff strom in der Mischungszone aufrechterhält, bevor die
Einleitung der Ausgangsstoffe beginnt, oder daß man irgendeine andere vergleichbare Verfahrensweise anwendet.
Zusätzlich zu der oben beschriebenen praktischen Durchführung ist das Trägergas, das" zur Unterstützung bei der Einleitung
des borhaltigen Ausgangsstoffes verwendet wird, ein inertes Gas. Unter dem Begriff "inert" ,wird im Sinne der
Erfindung verstanden, daß das Trägergas im wesentlichen chemisch gegenüber dem borhaltigen Ausgangsstoff inert ist und
nicht den Reaktionen, die sich innerhalb des Reaktors abspielen, im chemischen Sinne gegenteilig beeinflußt. Es wurde
609834/0588
7523325
festgestellt, daß, wenn man Wasserstoff, der üblicherweise als Trägergas in dem beschriebenen System Verwendung findet,
zusammen mit einem Borhalogenid, beispielsweise Bortrichlorid,
verwendet, eine Reaktion abspielt, die als Ergebnis eine Störung des Leitungssystems und der Einlaßöffnungen zeigt, die
bei der Einleitung des borhaltigen Ausgangsstoffes eingesetzt werden. Infolgedessen ist Wasserstoff nicht in obigem Sinne
inert und kann nicht als Trägergas für einen borhaltigen Ausgangsstoff verwendet werden. Als Folge davon hat man gefunden,
daß es notwendig ist, ein inertes Gas, wie z.B. Edelgase, nämlich Helium, Neon, Argon usw. als Trägergas zu verwenden.
Vorzugsweise wird Argon als Trägergas verwendet. Die Menge des Trägergases, die zur Erleichterung der Einleitung
der Ausgangsstoffe verwendet wird, ist nicht kritisch und variiert in Abhängigkeit von der Menge der Ausgangsstoffe,
die in den Reaktor eingeführt werden, ebenso wie in Abhängigkeit von den Größenabmessungen des Leitungssystems, das zur
Einleitung der Ausgangsstoffe dient. In der Regel liegt die Menge des verwendeten Trägergases im Bereich zwischen 250
und 1200 Mol£, bezogen auf den Ausgangsstoff, mit dem das Trägergas gemischt wird.
In der Regel können jegliche flüchtige anorganische Titan-, Zirkon- oder Hafniumhalogenide, z.B. eine Verbindung von
nur einem dieser Metalle und Halogen (Chlor, Brom, Fluor und Jod) als Metallquelle in dem feuerfesten Metallborid-Pulverprodukt
verwendet werden, das durch das hier beschriebene Verfahren erzeugt wurde. Die hierbei verwendeten Ausdrücke
"Metallhalogenid",llMetallborid" oder "Metalldiborid"
werden in dem Sinne der Erfindung dahingehend verstanden, daß die Halogenide und Boride des Titans, des Zirkons und
des Hafniuas alt eingeschlossen sind. Dennoch wird der Kürze
halber manchmal nur auf eines dieser vorgenannten Metallhalogenide oder Metallboride Bezug genommen.
Beispiele von feuerfesten Metallhalogeniden, die bei dem
vorliegenden Verfahren verwendet werden können, achließen
609834/0588
7523325
ein: Titantetrachlorid, Titantetrabromid, Titantetrajodid,
Titantetrafluorid, Zirkontetrabromid, Zirkontetrachlorid, Zirkontetrafluorid, Zirkontetrajodid, Hafniumtetrabromid,
Hafniumtetrachlorid, Hafniumtetrafluorid, Hafniumtetra-Jodid,
ebenso wie die Subhalogenide des Titan und des Zirkons, wie z.B. Titandichlorid, Titantrichlorid, Titantrifluorid,
Zirkondibromid, Zirkontribromid, Zirkondichlorid und Zirkontrichlorid. Natürlich können auch andere Subhalogenide
als die Subchloride und Subfluoride in der gleichen Weise Verwendung finden. Mischungen dieser Metallhalogenide
mit dem gleichen Metall, wie z.B. Mischungen aus Chloriden und Bromiden, z.B. Titantetrachlorid und Titantetrabromid
können als Metallhalogenid-haltiger Ausgangsstoff eingesetzt werden. Weiterhin können Mischungen von Halogeniden
verschiedener Metalle verwendet werden, wenn es erwünscht ist, mehr als ein Metallborid-Pulver zusammen zu erzeugen,
z.B. Titandiborid und Zirkondiborid. Vorzugsweise ist der
Halogenidanteil in dem Metallhalogenid bzw. in den Metallhalogeniden der gleiche, um eine Abtrennung und eine Wiedergewinnung
verschiedenartiger Halogenwasserstoffe aus dem Produktstrom zu vermeiden. Das oder die Metallhalogenide
können in die Ausgangsstoff-Einlaßvorrichtung oder Mischvorrichtung
eingeleitet werden, die dazu verwendet werden, um die Ausgangsstoffe in den Reaktor als Flüssigkeit oder
als Dampf einzuführen. Jedoch sollten sie in der Weise eingeführt werden, daß das bzw. die Ausgangsstoffe dampfförmig
in der Mischungszone und der abschließenden Reaktionszone vorliegen. Für den Metallhalogenid-haltigen Ausgangsstoff
bevorzugt man ökonomischerweise die Tetrachloride, z.B. Titantetrachlorid. Das bzw.-die Metallhalogenide sollten
vorzugsweise im wesentlichen rein sein, d.h. im wesentlichen frei von Metallverunreinigungen und frei von Sauerstoff
oder chemisch gebundenem Sauerstoff, damit ein im wesentlichen reines Metallborid-Pulver erzeugt wird.
Der als Borquelle dienende Ausgangsstoff sollte vorzugsweise wie das Metallhalogenid auch sauerstofffrei und im wesentli-
609834/0588
chen rein sein, um die Einführung von Sauerstoff und Metallverunreinigungen
in das Metalldiboridprodukt zu vermeiden. Mit sauerstofffrei ist gemeint, daß der borhaltige Ausgangsstoff
im wesentlichen frei von chemisch gebundenem Sauerstoff ist, z.B. frei von Boroxiden, ebenso wie frei von ungebundenem
Sauerstoff. Als geeignete Quelle für das Bor der Metallboride können anorganische Borverbindungen betrachtet
werden, wie z.B. Bortribromid, Bortrijodid, Bortrichlorid,
Bortrifluorid und die Hydroboride (Borane), wie z.B. ^2^^
Β,-Hq, B-jQH^f und BgHp. Bortrichlorid ist die bevorzugte Verbindung.
"Wie im Falle des Metallhalogenid-haltigen Ausgangsstoffes wird der borhaltige Ausgangsstoff in den Reaktor in
der Weise eingeführt, daß er in der Mischungszone der Ausgangsstoffe und in der Reaktionszone als Dampf vorhanden ist.
Das Metallhalogenid und der borhaltige Ausgangsstoff sollten vorzugsweise von denjenigen Verbindungen ausgesucht werden,
die in Kombination eine thermodynamisch günstige Reaktion bei der gewünschten Reaktionstemperatur ermöglichen. Beispielsweise
ist die Reaktion des Titantetrachlorids mit Bortrifluorid bei 1727° C (2000° K) thermodynamisch weniger
günstig als bei 2227° C (2500° K). Infolgedessen benötigen derartige, thermodynamisch weniger günstige Reaktionen höhere
Reaktionstemperaturen.
Die Menge des borhaltigen Ausgangsstoffes, der in die Reaktionszone
innerhalb des Reaktors eingeführt wird, liegt bevorzugt zumindest in stöchiometrischen Mengenverhältnissen
vor, d.h. in Mengen, die ausreichen, um zumindest zwei Boratome für jedes Metallatom bereitzustellen, z.B. Titan,
dasr in die Reaktionszone innerhalb des Reaktors als Metallhalogenid,
z.B. als Titanhalogenid, eingeführt worden ist. Das Verhältnis von borhaltigem Ausgangsstoff zu Metallhalogenid-haltigem
Ausgangsstoff kann verständlicherweise in den stöchiometrischen Mengenverhältnissen variieren. Infolgedessen kann der borhaltige Ausgangsstoff in ausreireichenden Mengen eingeführt werden, um die Reaktionszone
609834/0588
zwischen etwa 1,8 und etwa 3 Boratomen pro Metallatom, z.B.
Titan, bereitzustellen. Vorzugsweise wird ein größeres Mengenverhältnis als das stöchiometrische Verhältnis verwendet.
Beispielsweise kann das Molverhältnis der Ausgangsstoffe Bortrihalogenid zu Titantetrahalogenid (BX-z/TiX^, wobei X Halogen
ist) von etwa 1,8:1 bis 3:1 variieren und ist vorzugsweise etwa 2:1. Wenn ein stöchiometrischer Überschuß des Metallhalogenide
Verwendung findet, werden Subhalogenide des Metalls in dem Endprodukt gefunden. Während es bevorzugt
ist, daß der borhaltige Ausgangsstoff in stöchiometrischem Überschuß, verwendet wird, kann entweder der metallhalogenidhaltige
oder der borhaltige Ausgangsstoff im stöchiometrischen Überschuß in einer Menge von 5 bis 30 Gew.% verwendet
werden.
Ein kohlenstoffhaltiges Metalldiborid-Pulver kann dadurch in dem Reaktor hergestellt werden, daß man einen kohlenstoffhaltigen Ausgangsstoff in die Reaktionszone des Reaktors
einführt. Ein derartiger kohlenstoffhaltiger Ausgangsstoff ist von dem Typus, der in der Reaktionszone flüchtig
und in der Lage ist, in thermodynamisch günstiger Art und Weise bei den Temperaturen zu reagieren, bei welchen die
Reaktion ausgeführt wird. In der zuvor genannten Ausführungsform können flüchtige Kohlenwasserstoffe, halogenierte
Kohlenwasserstoffe oder deren Mischungen, die im wesentlichen rein und sauerstofffrei sindjwie zuvor definiert, als
Kohlenstoffquelle verwendet werden. Der Ausdruck "halogenierte
Kohlenwasserstoffe", z.B. "chlorierte Kohlenwasserstoffe"} wird im Sinne der Erfindung dahingehend verstanden,
daß= sowohl kohlenstoff-|halogen- und wasserstoff-haltige
Verbindungen als auch nur kohlenstoff- und halogen-haltige Verbindungen z.B. Tetrachlorkohlenstoff, mit eingeschlossen
sind.
Typische Kohlenwasserstoffe, die als Kohlenstoffquelle verwendet
werden können, schließen die normalerweise gasförmi-
609334/0588
gen oder flüssigen, Jedoch vergleichsweise flüchtigen Kohlenwasserstoffe
mit ein und zwar gesättigte und ungesättigte C1-C12 Kohlenwasserstoffe, wie z.B. Methan, Äthan, Propan,
Butane, Pentane, Decane, Dodecane, Äthylen, Propylen, Butylene und Amylene, symmetrisches Dimethyläthylen und ähnliche
Alkene, zykloaliphatische und aromatische Kohlenwasserstoffe,
wie z.B. Zyklopentan, Zyklohexan, Toluol, Benzol usw. und acetylenische Verbindungen, von denen Acetylen, Methylacetylen,
Äthylacetylen und Dimethylacetylen genannt sein sollen.
Methan oder Propan werden im ökonomischen Sinne für diesen Zweck" bevorzugt. In seltenen Fällen werden Kohlenwasserstoffe
mit mehr als 12 Kohlenstoffatomen verwendet.
Beispiele von halogenierten Kohlenwasserstoffen, die als Kohlenstoffquelle
in dem hier beschriebenen Verfahren verwendet werden können, schließen gesättigte und ungesättigte Verbindungen
mit ein, die 1 bis 12 und noch zweckdienlicher 1 bis 8 Kohlenstoffatome enthalten, wie z.B. Methylchlorid,
Äthylchlorid, Chloroform, Methylenchlorid, Tetrachlorkohlenstoff, Dichlordifluormethan, Amylchlorid, Chloräthan, Vinylchlorid,
1,1-Dichloräthylen, 1,2-Dichloräthylen, 1,1-Dichloräthan,
1,2-Dichloräthan, Äthylendibromid, Trichloräthylen,
Perchloräthylen, Propylendichlorid, 1,1,2-Trichloräthan,
1,1,1-Trichloräthan, 1,1,1,2- und 1,1,2,2-Tetrachloräthan,
Hexachloräthan und ähnliche aliphatische Chloride, Fluoride,
Bromide oder Jodide mit bis zu etwa 12 Kohlenstoffatomen, besonders bevorzugt bis zu etwa 6 Kohlenstoffatomen. Aromatische
Halogenkohlenwasserstoffverbindungen, beispielsweise Chlorkohlenwasserstoffverbindungen, können außerdem Verwendung
finden. Derartige Verbindungen umfassen halogenierte "aromatische Cg-Cg-Verbindungen, beispielsweise Monochlorbenzol,
Orthodichlorbenzol, Paradichlorbenzol und dergl.
Zykloaliphatische Halogenide, beispielsweise die aliphatischen Cc-Cg-Halogenide, z.B. chloriertes Zyklopentan und
chloriertes Zyklohexan usw. können außerdem verwendet werden.
609834/0588
Typischerweise sollten die oben beschriebenen Kohlenwasserstoffe und halogenierten Kohlenwasserstoffe vorzugsweise
leicht flüchtig bzw. verdampfbar ohne Teerbildung sein, da andererseits unnötige Schwierigkeiten, die in keiner Relation
zu dem Prozeß selbst stehen, sich einstellen können, wie z.B. das Verstopfen der Transportleitungen durch Zersetzungs-
oder Polymerisations-produkte, die im Verlauf der Verdampfung des kohlenstoffhaltigen Ausgangsstoffes erzeugt
werden.
Die Gasphasenreaktion eines Metallhalogenides und eines borhaltigen
Ausgangsstoffes mit oder ohne flüchtigem kohlenstoffhaltigem Ausgangsstoff wird in Gegenwart von Wasserstoff
durchgeführt. Die Menge des in dem zuvor beschriebenen Verfahren verwendeten Wasserstoffes ist zumindest die
Menge, welche stöchiometrisch gebraucht wird, um dem theoretischen Bedarf der Reaktion Genüge zu leisten. Vorzugsweise
ist die verwendete Wasserstoffmenge größer als die theoretische Menge an Wasserstoff. Wenn z.B. das verwendete
Metallhalogenid Titantetrachlorid ist und der verwendete borhaltige Ausgangsstoff Bortrichlorid ist, kann die theoretische
Menge oder der theoretische Bedarf an Wasserstoff durch folgende Gleichung ausgedrückt werden:
I. TiCl4 + 2BCl3 + 5H2 * TiB2 + 10 HCl
Oftmals kann die Menge an verwendetem Wasserstoff mehr als zehnmal und so hoch wie hundertmal die Menge an Wasserstoff
ausmachen, die gemäß obiger Gleichung benötigt wird oder die =benötigt wird, um die chemischen Äquivalente des Halogens
im Metallhalogenid und/oder im Borhalogenid zu erreichen. Wenn der borhaltige Ausgangsstoff; ein Hydroborid ist,
kann der Wasserstoff, der aus dem Hydroborid verfügbar ist, verwendet werden, um den gesamten oder einen Teil des Was-
serstoffbedarfes zu erfüllen. In typischer Weise beträgt das
Molverhältnis des Wasserstoffes zu dem Metallhalogenidhaltigen Ausgangsstoff zwischen etwa 20 und 40 Mole, z.B.
25 Mole Wasserstoff pro Mol Metallhalogenid.
609834/0588
7523325
Die Temperatur, bei der die Gasphasenreaktion des Metallhalogenide
und des borhaltigen Ausgangsstoffes durchgeführt wird, hängt von den ausgewählten Ausgangsstoffen ab und
wird bei den Temperaturen liegen, bei welchen ein Metallborid-Pulver
im Submikronbereich unter thermodynamisch günstigen Bedingungen mit den ausgewählten Ausgangsstoffen
erzeugt wird, d.h. bei Temperaturen, die ein Metallborid-Pulver entstehen lassen. Die mittlere Reaktionszonentemperatur
für die zuvor beschriebene Dampfphasenerzeugung von Metall-Pulver,
wie z.B. Titandiborid-Pulver liegt in der Regel über 1000° C und reicht üblicherweise von oberhalb von
1000° C bis etwa 3500° C. Das Verfahren kann bei Unterdruck, bei Normaldruck und bei Überdruck durchgeführt werden. In
der Regel wird das Verfahren zwischen etwa 1 und etwa 3 Atmosphären, üblicherweise zwischen 1 und 1,5 Atmosphähren
Druck durchgeführt.
Die in dem erfindungsgemäßen, zuvor beschriebenen Verfahren verwendete Bedienungsapparatur zur Herstellung von Metalldiborid-Pulver
ist aus Materialien konstruiert, die widerstandsfähig gegenüber den Temperaturen und der korrosiven
Umgebung sind, denen sie während der verschiedenen Verfahrensschritte ausgesetzt sind, wie es im nachhinein näher
ausgeführt wird.
Die vorliegende Erfindung wird nun noch eingehender unter Bezugnahme auf die Zeichnung erklärt. In dieser Zeichnung
wird eine Apparatur gezeigt, die eine Heiz- oder Brennervorrichtung 1 zur Erzeugung von Plasma enthält, die auf
der Ausgangsstoff-Einlaßvorpichtung (Mischer) 30 montiert ist, welcher wechselseitig auf einen Reaktor 34 montiert
ist. Obwohl die genannte Apparatur.,hier. in vertikaler Bauweise gezeigt wird, werden auch andere Bauweisen, weg von
der Vertikalen, einschließlich einer horizontalen Bauart in Betracht gezogen. Während die Heizvorrichtung zur Erzeugung von Plasma als Lichtbogenheizung (arc heater) wiedergegeben wird, können auch andere Heizvorrichtungen zur
Erzeugung von Plasma, z.B. ein Induktiona- (Hochfrequenz-)
609834/0588
7523325
brenner auch Verwendung finden. Weiterhin können auch andere Heizvorrichtungen, wie z.B. elektrische Widerstandsheizungen
verwendet werden, um den Wasserstoff auf die Temperaturen zu erhitzen, die bei dem beschriebenen Verfahren benötigt werden.
In der Regel wird der Wasserstoff auf Temperaturen erhitzt, die ausreichen, um Temperaturen zur Erzeugung des Metallborids
innerhalb der Reaktionszone zu erreichen und aufrechtzuerhalten, eingedenk dessen, daß der Wasserstoff mit
dem Metallhalogenid und dem borhaltigen Ausgangsstoff gemischt wird, die in die Reaktionszone unterhalb der Reaktionstemperatur,
für gewöhnlich in ausgeprägter Weise unterhalb der Reaktionstemperaturen, eingeführt werden. Infolgedessen
ist in der Regel der hoch erhitzte Wasserstoffgasstrom die Hauptwärmequelle für die Reaktion. Die Heizvorrichtung
zur Plasmaerzeugung 1 besteht im wesentlichen aus einer ringförmigen Anode 11, welche koaxial zu einem Kathodenstab
3 ausgerichtet ist. Sowohl die Anode als auch die Kathode sind in einer zylindrischen Manschette oder Umkleidung
9 eingebaut, die elektrisch nicht-leitend ist. In der gezeigten Ausführungsform ist der Kathodenstab 3 an seinem
Ende im wesentlichen auf einen Bezugspunkt konisch abgeschrägt. Die Anode und die Kathode sind aus dem üblichen
Elektrodenmaterial gefertigt, wie z.B. Kupfer, Wolfram und dergl. Oftmals hat die Kathode eine thoriumhaltige Wolframspitze
oder entsprechende Einlagen, die die Kühlung der Kathode unterstützen.
Wie es bei Heizvorrichtung zur Erzeugung von Plasma üblich ist, ist die Anode von einer ringförmigen Kühlkammer 13 umgeben,
durch welche ein Kühlmittel, z.B. Wasser oder ein anderes Kühlmedium durch entsprechende, nicht gezeigte Einrichtungen^im
Kreislauf geführt wird,-.um die Anode bei einer geeigneten,
niedrigen Temperatur zu halten und deren übermäßige Erosion zu verhindern. In ähnlicher Weise ist das Innere der
Kathode mit einer Kühlkammer 7 und mit entsprechenden, nicht
gezeigten Einrichtungen ausgerüstet, um Wasser oder irgend-
609834/0588
7523325
ein anderes geeignetes Kühlmedium darin im Kreis zu führen, um die Kathode bei einer geeigneten Arbeitstemperatur zu
halten. Ein Rohr 2 dient dazu, den Kathodenstab 3 abzustützen und auszurichten, und schafft ein Leitungssystem für das
Kühlmittel. Kathode 3 kann mit Einrichtungen versehen sein, um sie in vertikaler Richtung in der Weise zu bewegen, daß
der Abstand zwischen der Kathode 3 und der Anode 11 variiert werden kann.
Die Kathode und die Anode sind axial ausgerichtet, jedoch in Längsrichtung im Abstand angeordnet, um einen ringförmigen
Raum 21 zu schaffen, der zu einem koaxialen Auslaßleitsystem oder Auslaßrohr 23 konisch abgeschrägt ist. Außerdem
ist die Vorrichtung mit einer Plasma- oder Arbeitsgas-Einlaßvorrichtung 15 mit einer Leitung 17 versehen, die über
eine ringförmige konische Leitung 19 mit dem ringförmigen Raum 21 in Verbindung steht. Die Kathode und die Anode sind
durch entsprechende, nicht gezeigte elektrische Verbindungen mit einer ebenfalls nicht gezeigten Stromzuführung verbunden.
In der Regel ist die Stromzuführung eine Gleichstromquelle .
Der Mischer 30 für die Ausgangsstoffe befindet sich in Nachbarschaft
zu dem Anodenende an der zylindrischen Manschette 9, und wie aus der Figur zu entnehmen ist, enthält er zwei
koaxiale, in Längsrichtung ausgerichtete ringförmige Leitungen 42 und 47, welche mit einer Einlaßdüseneinrichtung
40 bzw. 45 ausgerüstet sind. Eine Auslaßöffnung 48 der ringförmigen Leitung 47 ist von einer Auslaßöffnung 43 der ringförmigen
Leitung 42 seitlich versetzt angeordnet, um eine konische Ausgangsstoff-Einlaßzone 24 zu bilden. Die Ausgangsstoffe
werden von nicht gezeigten, t entsprechenden Fördermitteln
in die Leitungen 42 und 47 durch die Einlaßdüseneinrichtungen 40 bzw. 45 eingeleitet. Die Fluß- oder Strömungsstrecke
der Ausgangsstoffe, die durch die Auslaßöffnungen und 48 befördert werden, können rechtwinklig zu der Gasaus-
609834/0588
7523325
laßleitung 22 verlaufen. Wenn es erwünscht ist, können außerdem
die Auslaßöffnungen 43 und 48 abweichend von dem rechten Winkel angeordnet sein, d.h. abwärts oder aufwärts in einem
Winkel von 1 bis 45° von der Horizontalen, so daß der Ausgangsstoff-Gasstrom in einem derartigen Winkel in den oder
unter Berührung mit dem Strom des heißen Gases geleitet wird, der aus der Heizvorrichtung zur Plasmaerzeugung herrührt.
Man kann das Ausgangsstoffgas radial, tangential oder unter
irgendeinem geeigneten Winkel dazwischen in den nach unten fließenden Strom des erhitzten Plasmagases schicken, das von
der Gasauslaßleitung herbeigeführt wird. Das Oberteil des
Mixers 30 der Ausgangsstoffe enthält eine Öffnung 31, welche koaxial zu der Auslaßöffnung 23 der Anode 11 ausgerichtet
ist, um eine direkte, geradlinige Gesamtwegstrecke für das erhitzte Plasmagas von dem Plasmagenerator 1 durch den Ausgangsstoff
mischer 30 in den Reaktor 34 zu schaffen. Vorzugsweise wird das erhitzte Plasmagas in das Zentrum des Reaktors
34 eingeführt und im Abstand von dessen Wänden belassen, um dadurch eine Verschiebung der Reaktionszone von den Wänden
des Reaktors weg herbeizuführen.
In der Regel wird Wasserstoff als Gas verwendet, das in der zuvor beschriebenen Heizvorrichtung, z.B. einem Plasmagenerator
1 erhitzt wird; dennoch können auch andere Gase, z.B. Edelgase, verwendet werden. Argon und Helium sind geeignete
Plasmagase. Verwendung von Wasserstoff als Plasmagas ist von Vorteil, da es das Aufrechterhalten einer reduzierenden
Atmosphäre herstellt und einen Halogenakzeptor, z.B. einen Chlorakzeptor, liefert, wodurch das Halogen als Halogenwasserstoff
entfernt wird, der" von dem Metallhalogenid, dem Borhalogenid und/oder der halogenierten Kohlenwasserstoffverbindung
stammt. Außerdem können'Mischungen des Wasserstoffes
mit anderen Gasen, z.B. Edelgasen, wie Argon oder Helium^als Plasmagas Verwendung finden. Sofern ein Edelgas
als Plasmagas verwendet wird, wird der für die Gasphasenreaktion benötigte Wasserstoff in den Reaktor eingeleitet, indem
6098 34/0588
7523325
man ihn mit den Ausgangsstoffen als ein Teil des borhaltigen
Ausgangsstoffes, z.B. der Borane, und/oder als separaten Strom mit Hilfe des Mischers 30 mischt.
Da der erhitzte Plasmagasstrom zuvor die Einlaßzone 24 der Ausgangsstoffe durchläuft, mischt er sich mit den Ausgangsstoffen,
die durch die Ausgangsstoff-Mischvorrichtung 30 eingeleitet werden. Die Ausgangsstoffe werden für gewöhnlich
unterhalb der Reaktionstemperaturen eingeführt. Aufgrund des hohen Wärmegehaltes des heißen Wasserstoffstromes werden
keine besonderen Anstrengungen benötigt, um die Ausgangsstoffe auf Temperaturen zu erhitzten, bei denen sie gasförmig
werden. Die resultierende gasförmige Mischung wird in das Innere des Reaktors 34 eingeleitet und kommt dort zur
Reaktion. Der Reaktor 34 ist in der Regel mit einer nicht gezeigten äußeren Wasserkühlung versehen. In der Regel befinden
sich die Ausgangsstoffe und die Reaktionsmischung in einer turbulenten Strömung, obwohl auch eine laminare Strömung
angewandt werden kann. Die Reaktionsmischung, die in dem Reaktor 34 einfließt, der ein turbulent arbeitender Reaktor
mit Rückvermischung ist, im Gegensatz zu einem linear arbeitenden Reaktor ohne Rückvermischung, hat in der Regel
eine scheinbare Verweilzeit in dem Reaktor zwischen etwa 0,05 und etwa 0,5 Sekunden, besonders zweckdienlich zwischen
etwa 0,1 und 0,2 Sekunden. Die scheinbare Verweilzeit kann dadurch berechnet werden, daß man das Reaktorvolumen durch
den Gasfluß durch den Reaktor dividiert.
Wie in der Figur gezeigt, wird ein feinverteiltes Metalldiborid-Pulverprodukt,
das in· den Reaktionsproduktgasen wie auch in dem überschüssigen Ausgangsstoffgas suspendiert ist
(und was später zusammenfassend als» Produktgase oder mit einem anderen gleichbedeutenden Ausdruck bezeichnet wird),
von dem Reaktor 34 durch die Leitung 36 entfernt und in Zyklone 38 und 39 eingeleitet, um das feste Metalldiborid-Pulver von den Produktgasen zu trennen. Die Teilchen des
609834/0588
7523325
Metalldiborids werden vollständig in dem Reaktor gebildet j
und, da der Reaktorausfluß im wesentlichen unmittelbar bis unter die Metallboridbildungstemperaturen abgekühlt wird, es
tritt im wesentlichen keine Metallboridbildung oder ein einzelner Teilchenwuchs (ein anderer Wuchs als durch eine physikalische
Aggregation hervorgerufen) außerhalb des Reaktors auf. Die Zyklone 38 und 39 werden in der Regel gekühlt, z.B.
mit einer äußeren Wasserkühlung, um das pulverförmige Produkt abzukühlen. Beispielsweise können die Zyklone mit einem
Röhrensystem durchzogen sein, durch das ein Kühlmittel, z.B. Wasser, hindurchläuft. Die Förderung durch die Leitung 36
verläuft tangential in den Zyklon 38 und von dort in den Zyklon 39 mit Hilfe eines Leitungssystems 51. Das Metalldiborid-Pulver
tropft in Aufnahmebehälter 25 und 26 ab, währe'nddessen der gasförmige Ausfluß den Zyklon 39 durch
die Leitung 52 und weiter in eine Feststoffabtrennkammer 28 verläßt, in der ein Sackfilter 29, eine elektrostatische
Fällungseinrichtung oder eine andere übliche Einrichtung zum Abtrennen von suspendierten Feststoffen aus einem Gas
angeordnet ist. Die Zyklone 38 und 39 sowie die Aufnahmebehälter 25 und 26 sind von der Außenatmosphäre abgeschlossen,
um eine Verunreinigung des Produktes mit Sauerstoff zu verhindern. Infolgedessen wird das Metalldiborid-Pulver,
das in dem Reaktor bei den Metalldiboridbildungstemperaturen erzeugt wird, unmittelbar aus dem Reaktor entfernt und
zur Produktsammeieinrichtung weitergeleitet, und zwar bei Temperaturen, die im wesentlichen unter den Temperaturen
liegen, die in dem Reaktor angetroffen werden. Das pulverförmige Produkt wird in der Regel abgekühlt oder zum Abkühlen,
auf Raumtemperatur veranlaßt. Dennoch kann das Produkt in den Aufnahmebehältern, wenn die Kühlkapazität der Zyklone
und der Aufnahmebehälter nicht ausreicht, um ein pulverförmiges Produkt bei Raumtemperatur zu schaffen, über
Raumtemperatur, d.h. bei etwa 20° C bis etwa 100° C^aufgrund des restlichen Wärmegehaltes des Pulvers liegen. Es
können auch absichtlich höhere Temperaturen in dem Aufnahmebehälter verwendet werden, um eine Entgasung des pulverför-
609834/0588
7523325
migen Produktes voranzutreiben. Die Feststoffabtrennkammer
besitzt außerdem an der entgegengesetzten Seite des Sackfilters einen Ausgang oder einen Abzug 50. Mit dem Sackfilter
29 ist eine geeignete Schüttelvorrichtung 59 verbunden, um den Filter des Metalldiborid-Pulvers zu reinigen. Obwohl
nur jeweils 2 Zyklone und Aufnahmebehälter gezeigt werden, können auch mehr als 2 verwendet werden. Alternativ kann
auch ein einzelner Aufnahmebehälter und ein einzelner Zyklon Verwendung finden.
Außerdem "kann die Feststoffabtrennkammer 28 eine Schrubbereinrichtung
mit wäßrigem Natriumhydroxid (caustic water scrubber) sein, wobei sie des öfteren mit Füllkörpern verschiedenster
Art, z.B. mit Kugeln, Ringen und dergl. angefüllt" ist, um einen größeren Kontakt herbeizuführen. Die
Schrubbereinrichtung trennt die feinen festen Teilchen von dem Gasstrom und neutralisiert die sauren Spezies, bevor
das Gas in die Atmosphäre oder in einen Feuerungskanal abgeführt wird. Um nicht-umgesetzte Ausgangsstoffe, Wasserstoff,
Chlorwasserstoff usw. von den Produktgasen im wesentlichen ohne ihre Feststoff-Charge zu entfernen, können übliche Abtrennungs- oder Rückgewinnungseinrichtungen für der
artige Stoffe zwischen der Auslaßleitung 52 und dem Heizungskanal (flue) installiert werden. Weiterhin kann das Produkttransportleitungssystem
36 äußerlich gekühlt werden, wenn der Wärmeabzug von den Produktrückgewinnungsapparaturen,
d.h. von den Zyklonen und den Aufnahmebehältern, unzureichend ist. Darüberhinaus kann ein kaltes oder kühleres,
mit dem ausfließenden Produktstrom verträgliches Gas zugemischt werden, wodurch ein Kühlvorgang erzeugt wird.
Die das Metallhalogenid und das Bor·enthaltenden Ausgangsstoffe
werden gemeinhin mit einem Trägergas gemischt, um ihre Einleitung in die Einlaßzone 24 zu erleichtern. Das
Trägergas kann Wasserstoff, Kreislauf-Wasserstoff, feststoff freies Kreislauf-Produktgas oder ein chemisch inertes
609834/0588
7523325
Gas sein, z.B. ein Edelgas, also beispielsweise Argon und Helium. Wasserstoff wird nicht zusammen mit dem borhaltigen
Ausgangsstoff, z.B. Bortrichlorid.verwendet, weil Wasserstoff
mit dem Borhalogenid innerhalb der Ausgangsstoff-Einlaßleitungen reagiert, wodurch deren Blockierung verursacht
wird. Infolgedessen sollte das inerte Trägergas vorzugsweise, wenn der borhaltige Ausgangsstoff ein Borhalogenid ist, im
wesentlichen frei von elementarem Wasserstoff sein. Das Trägergas unterstützt die Kühlung des Mischers 30, hält die
Ausgangsstoffleitungen frei von kondensierbaren Stoffen und hat einen gewissen Effekt auf die Kontrolle des Mischvorgangs
der Ausgangsstoffe innerhalb der Zone 24 mit einer nachfolgenden Wirkung an der Oberflächenzone des Metallborid-Pulverproduktes.
Bei der Durchführung der Herstellung eines feuerfesten Metalldiborid-Pulvers,
z.B. eines Titandiborid-Pulvers gemäß dem hier beschriebenen Prozeß bzw. der dabei verwendeten
Apparatur wird ein wasserstoffhaltiges Gas, z.B. Wasserstoff,
in einen Plasmagenerator durch die Leitung 17 eingeleitet, von wo es durch die ringförmige Leitung 19 in den
ringförmigen Raum 21 zwischen Kathode 3 und Anode 11 geleitet wird. Das Wasserstoffplasmagas kann in der Weise eingeleitet
werden, daß das Gas spiral- oder schraubenförmig durch die Auslaßleitung 23 strömt. Alternativ kann das Wasserstoffplasmagas
radial in den Raum 21 zwischen der Kathode und der Anode eingeleitet, so daß kein schraubenförmiger
Strömungsverlauf durch das Plasmagas entsteht und das erhitzte Plasmagas den Plasmagenerator in einem im wesentlichen
linearen Strömungsverläuf verläßt.
Zwischen der Anode und der Kathode·1'wird-ein elektrischer
Lichtbogen eingerichtet, und, sobald der Lichtbogen durch das Wasserstoffplasmagas hindurchgeht, wird das Gas auf
hohe Temperaturen, in der Regel auf Temperaturen über den Temperaturen in der Reaktionszone erhitzt. Ein Wasserstoff-
609834/0588
7523325
plasmagas kann eineEnthalpie zwischen 11.120 und 33.360 kcal/ kg Gas (20.000 - 60.000 BTU per pound of gas), und bevorzugt
zwischen 16.680 und 22.240 kcal/kg Gas (30.000 - 40.000 BTU per pound of gas) haben. Das erhitzte Wasserstoffplasmagas
wird direkt in den Reaktor 34 eingeleitet, durchläuft die Ausgangsstoff-Einlaßzone 24, die durch die tiefer liegende
Tülle der Anode 11 und den Auslaßöffnungen der Ausgangsstoff-Einlaßleitungen
42 und 47 gebildet wird.
Die Ausgangsstoffgase, das Titantetrachlorid und das Bortrichlorid
werden in die Einlaßdüsen 40 und 45 und sodann in die Ausgangsstoff-Einleitungszone 24 und weiter in die
Umgebung des nach unten fließenden Stromes des heißen Wasserstoff plasmagases geleitet, das darin enthalten ist. Außerdem
wird wasserfreies Chlorwasserstoffgas in die Düse 40
eingeleitet, um einen Titandiboridablagerungswuchs an den exponierten Stellen des Ausgangsstoff-Mischers 30 zu verhindern.
Als Trägergas kann Wasserstoff verwendet werden, um das Einleiten des Titantetrachlorids und des Chlorwasserstoffs
in die Ausgangsstoff-Einleitungszone 24 zu erleichtern. In die Düse 45 wird Argon als Trägergas eingeleitet,
um das Einleiten von Bortrichlorid in die Zone 24 zu erleichtern. Die Reaktionsgase können mit einer Massengeschwindigkeit
in der Weise eingeleitet werden, daß sie durch die Bewegung des eintreffenden Plasmastromes aufgesaugt werden.
Oder sie können mit einer Massengeschwindigkeit in den Plasmastrom eingeleitet werden, daß der Plasmastrom für einen
Augenblick eingeschnürt wird. Infolgedessen wird eine Hauptausgangsstoff-Mischzone
innerhalb der Zone 24 gebildet, in die,das Tetantetrachlorid und der Chlorwasserstoff oberhalb
des Bortrichlorids eingeleitet werden. Die Ausgangsstoffmischung wird unmittelbar durch Berührung mit dem heißen
Wasserstoffplasmagas auf die Reaktionstemperatur gebracht.
Die Ausgangsstoffe werden daher im wesentlichen von ihren Verdampfungstemperaturen auf diejenigen Temperaturen erhitzt,
bei denen ein Titandiborid gebildet wird. Die Reaktionsmischung wird von der Ausgangsstoff-Einleitungszone 24 in den
609834/0588
Reaktor 34 und weiter in die Hauptreaktionszone geleitet,
von der man annimmt, daß sie sich in dem oberen Teil des Zentrums des Reaktors 34 befindet. Obwohl ein Ausgangsstoffmischer
30 mit 2 Schlitzen gezeigt wird, können auch Mischvorrichtungen mit 3, 4, 5 oder mehr Schlitzen bzw. vergleichbaren
Durchgangsöffnungen verwendet werden. Eine Mischvorrichtung
mit einer Vielzahl von Durchgangsöffnungen erlaubt es, daß jeder Ausgangsstoff oder jedes Hilfsgas getrennt
durch seine eigene Leitung eingeleitet werden kann.
Bildung eines Titandiborid-Pulvers im Submikronmaßstab bei vorwiegender Abwesenheit von Sauerstoff, sowohl gebundenem
als auch elementarem Sauerstoff, beginnt im wesentlichen unmittelbar mit dem Mischungsvorgang der Ausgangsstoffe bei
den Metallboridbildungstemperaturen. Am besten wird die Gasphasenreaktion auf eine Zone innerhalb des Reaktors 34 beschränkt,
die von den heißen Oberflächen des Ausgangsstoffmischers und des Reaktors entfernt ist. Dies verringert
nämlich das Absetzen des Metallborid-Pulverproduktes an den Wandoberflächen, das, wenn es nicht auf andere Weise entfernt
wird, immer weiter anwächst, bis eine Unterbrechung des Verfahrens bewirkt wird. Das Pulver, das sich an den
Wänden des Reaktors aufbaut, tendiert dazu grober zu sein, als das pulverförmige Produkt, das aus dem Reaktor entfernt
wird, sobald es gebildet worden ist. Ein Miteinvermengen dieses auf den Reaktorwänden abgelagerten Pulvers in das
Hauptprodukt-Diboridpulver trägt dazu bei, daß ein nicht gleichförmiges Endprodukt erzeugt wird. Wenn also das pulverförmige
Hauptprodukt aufgrund dieses von den Reaktorwänden ■■ stammenden groben Pulvers nicht gleichförmig wird, muß
das pulverförmige Endprodukt dahingehend klassifiziert werden, daß die übergroßen Teilchen 'etötfeiyit werden, bevor das
Produkt verwendet werden kann.
Das feinverteilte Titandiborid-Pulver, das in dem aus dem Reaktor strömenden Produktgas suspendiert ist, wird unmit-
609834/0588
7523325
telbar von dem Reaktor 34 entfernt und in einen Zyklon 38 eingeleitet. Ein Teil des pulverförmigen Produktes wird aus
dem Zyklon 38 entfernt und in dem Aufnahmebehälter 25 gewonnen. Das pulverförmige Produkt, das in dem ausströmenden
Gas des Zyklon 38 zurückbleibt, wird über die Leitung 51 zu dem Zyklon 39 geleitet, aus dem weitere Mengen an Metalldiborid-Pulverprodukt
entfernt und in dem Aufnahmebehälter 26 gesammelt werden. Es können zusätzliche Zyklone und Aufnahmebehälter
Verwendung finden, wenn dafür ein Bedarf besteht. In den meisten Fällen wird das Produkt aus den Aufnahmebehältern
2*5. und 26 zu einem einheitlichen Endprodukt gemischt.
Das aus dem Reaktor ausströmende Produktgas, nunmehr im wesentlichen
frei von seinem Gehalt an Titandiborid-Pulver, wird in eine Gasabtrennungskammer 28, wo es weiter behandelt
wird, um von jeglichen verbleibenden suspendierten Titandiborid-Pulverresten
befreit zu werden, geleitet. Wie in der Figur gezeigt wird, durchläuft das Produktgas den Sackfilter
29 und wird dann aus der Kammer 28 mit Hilfe eines Leitungssystems 50 entfernt. Das Produktgas, das nunmehr seiner Metalldiborid-
und/oder anderer Feststoff-Charge entledigt
ist, kann nunmehr weiterhin behandelt werden, um wertvolle Nebenprodukte zu gewinnen und giftige Komponenten zu entfernen,
bevor es verbrannt oder in die Atmosphäre abgelassen wird. Wenn es gewünscht wird, kann das Produktgas dahingehend
behandelt werden, daß man den Wasserstoff und/oder den Halogenwasserstoff, z.B. Chlorwasserstoff zur Verwendung in
dem vorliegenden Verfahren oder in irgendeinem Verfahren rückgewinnt.
. Das erfindungsgemäße Verfahren wird nun besonders anhand
der folgenden Beispiele beschrieben*. In, diesen Beispielen werden einige Gasvolumina in der Einheit 0,02832 nr/Stunde
bei Standardbedingungen angegeben (cubic feet per hour at standard conditions or SCFH) oder in 1,029 kg/cm , bei 21° C
(14,7 pounds per square inch pressure and 70° F). Die Ge-
609834/0588
schwindigkeiten des Ausgangsstoffe a vj.'J -J---3 anderen Gasstromes
werden bei normalen Laboratoriumsbedingungen gemessen, d.h. bei 1 Atmosphäre und 21° C und werden in der Einheit
angegeben, in der sie gemessen wurden, sofern eine andere Einheit als die 0,02832 nr/Stunde bei Standardbedingungen
gewählt wurde. Alle Prozentangaben sind in Gewichtsprozent, sofern sie nicht anders angegeben werden.
Die folgenden Beispiele erläutern die Herstellung von feuerfesten Metallboriden durch Umsetzung der entsprechenden Metallhalogenide
und eines borhaltigen Stoffes in einer Gasphasenreaktion in Gegenwart eines heißen Wasserstoffstromes
und im wesentlichen in Abwesenheit von Sauerstoff, sowohl gebundenem als auch elementarem Sauerstoff.
Es wurde eine Apparatur zur Herstellung von Titandiborid verwendet, die der in der Zeichnung gezeigten ähnlich ist.
Die Lichtbogenheizvorrichtung hatte eine mittlere Spannung und eine mittlere Ampörezahl mit einer Leistungsaufnahme
von 28 Kilowatt. Die Lichtbogenheizvorrichtung wurde mit etwa 24 - 28 Kw betrieben. Eine Wasserstoff menge von 308,7
kg/cm (300 SCFH) wurde in die Lichtbogenheizvorrichtung als Plasmagas eingeleitet. Gasförmiges Titantetrachlorid
in einer Menge von 18,7 g/Minute wurde zusammen mit Wasserstoff als Trägergas in einer Menge von 20,58 kg/cm (20 SCFH)
durch den oberen Schlitz bzw. durch die Durchgangsöffnung der Ausgangsstoff-Einlaßvorrichtung eingeleitet. Gasförmiges
rBortrichlorid in einer Menge von 26,9 g/Minute mit Argon
als Trägergas in einer Menge 22,64 kg/cm (22 SCFH) wurde den am Boden liegenden Schl-it-z bzw. die Durchgangsöffnung der Einlaßvorrichtung eingeleitet. Dieser Versuch
wurde 95,5 Minuten fortgesetztjund ein Titandiborid mit βίο
ner B.E.T.-Oberflächenzone von etwa 14 m /g (B.E.T. surface
area of about 14 square meters/gram) wurde erhalten. Titandiborid-Ablagerungen wurden an dem Bodenausfluß der Ausgangsstoff -Einlaßvorrichtung zum Ende des Versuchs hin beobachtet.
609834/0588
7523325
Die Verfahrensweise von Beispiel 1 wurde wiederholt mit Ausnahme davon, daß Bortrichlorid durch den oberen Schlitz und
Titantetrachlorid durch den Bodenschlitz der Ausgangsstoff-Einlaßvorrichtung
eingeleitet wurden. Es wurden 25,6 g/Minuten gasförmigen Bortrichlorids mit 22,64 kg/cm2 (22 SCFH)
Argon und 18,7 g/Minute Titantetrachlorid zusammen mit 12,35 kg/cm (12 SCFH) Chlorwasserstoff als Ausgangsstoffe verwendet.
Der Versuch wurde 120 Minuten lang durchgeführt, um ein Titandiborid zu erzeugen, das eine B.E.T.-Oberflächenzone
von etwa 9,1 m /g besaß. Es wurde eine dünne Haut von Titandiborid-Pulverablagerungen an der Einlaßvorrichtung gegen
Ende des Versuches beobachtet. Es wurde gefunden, daß die größte Menge an Ablagerungen an dem Boden anhaftete,
der einem Teil der Einlaßvorrichtung ausgesetzt war, z.B. die Ausflußtülle 46 der Mischvorrichtung 30 (wie in der Figur
zu sehen) und die exponierte obere Tülle des Reaktors
Die Verfahrensweise von Beispiel 1 wurde wiederholt mit Aus-
nähme dessen, daß 12,25 kg/cm (12 SCFH) Chlorwasserstoff
als Trägergas für das Titantetrachlorid verwendet wurde und 27,8 g/Minute Bortrichlorid in den Reaktor eingespeist wurden.
Dieser Versuch wurde 150 Minuten durchgeführt, und es
wurde gefunden, daß das Titandiborid-Produkt eine B.E.T.-
Oberflächenzone von etwa 5,8 m /g besaß. Es wurde keinerlei Anwachsen von Titandiborid-Ablagerungen an der Einlaßvorrichtung
beobachtet.
Beispiel 4 '"* ,
Die Verfahrensweise von Beispiel 3 wurde wiederholt mit Ausnahme dessen, daß die mittlere Einspeisgeschwindigkeit für das
Titantetrachlorid etwa 21 g/Minute und die mittlere Einspeis-
609834/0538
rate für das Bortrichlorid etwa 29,8 g/Minute betrug. Dieser Versuch wurde 975 Minuten durchgeführt, und das Titandiborid-Produkt
hatte eine B.E.T.-Oberflächenzone von etwa 6,3 m /g.
Keinerlei Bewuchs an Titandiborid-Ablagerungen wurde an der Ausgangsstoff-Einlaßvorrichtung gegen Ende des Versuches beobachtet.
Die Verfahrensweise von Beispiel 4 wurde wiederholt mit Ausnahme dessen, daß 23,67 kg/cm2 (23 SCFH) zu dem Titantetrachlorid
hinzugegeben wurde, das durch den oberen Schlitz der Ausgangsstoff-Einlaßvorrichtung eingeleitet wurde. Die mittleren
Einspeisraten betrugen für das Titantetrachlorid 19,2 g/Minute und für den Chlorwasserstoff 2,57 kg/cm2 (2,5
SCFH). Es wurden 27,0 g/Minute Bortrichlorid zusammen mit 22,64 kg/cm (22 SCFH) Argon durch den Bodenschlitz der Ausgangsstoff-Einlaßvorrichtung
eingeleitet. Dieser Versuch wurde 1072 Minuten durchgeführtjund das erzeugte Titandiborid hatte eine B.E.T.-Oberflächenzone von etwa 14,1 m /g.
Die Versuchsdaten zeigen, daß ein kontinuierlicher Betrieb des Herstellungsverfahrens der Erfindung ohne die unerwünschten Titandiborid-Ablagerungen erzielt werden kann, wenn man
(1) wasserfreien Halogenwasserstoff, z.B. Chlorwasserstoffy
in die Reaktionszone oberhalb des borhaltigen Ausgangsstoffes, z.B. Bortrichlorid, einführt,
(2) ein Metallhalogenid oberhalb des borhaltigen Ausgangsstoffes
einleitet und
(3) ein inertes Trägergas, z.B. Argon, für den borhaltigen
Ausgangsstoff verwendet.
609834/0588
Claims (16)
1. Verfahren zur Herstellung eines feuerfesten Titan-, Zirkon- oder Hafniumborid-Pulvers, wobei man das Halogenid
des entsprechenden Metalls und einen borhaltigen Ausgangsstoff in Gegenwart von Wasserstoff in einer Gasphasenreaktion
innerhalb eines Reaktors umsetzt, das Metallhalogenid und den borhaltigen Ausgangsstoff durch
eine Ausgangsstoff-Einlaßvorrichtung in eine Ausgangsstoff-Mischzone
einführt und diese innerhalb des Reaktors zur Re'aktion bringt, um ein festes, feuerbeständiges Metallborid-Pulver
des entsprechenden Metalls zu erzeugen, und wobei das Metallborid-Pulver zur Ablagerung und zu
einem Anwachsen an den Oberflächen der Apparatur tendiert, die den genannten Ausgangsstoffen ausgesetzt sind,
dadurch gekennzeichnet, daß man. einen heißen Wasserstoffgasstrom in allernächster Nähe zu
der Ausgangsstoff-Einlaßvorrichtung einrichtet, das jeweilige Metallhalogenid und im wesentlichen wasserfreien
Halogenwasserstoff in diesen Wasserstoffstrom oberhalb des borhaltigen Ausgangsstoffes einführt, wobei man die
Menge des eingeleiteten Halogenwasserstoffes genügend groß wählt, um das Anwachsen des Metallborid-Pulvers an
den exponierten Oberflächen der Apparatur zu unterdrücken, daß man einen borhaltigen Ausgangsstoff, der mit einem
inerten Trägergas gemischt ist, in diesen Wasserstoffstrom einführt, den Wärmebetrag des Wasserstoff stromes
und der Ausgangsstoffe genügend groß hält, um die Bildungstemperaturen für das feuerfeste Metallborid-Pulver
in dem Reaktor aufrechtzuerhalten und daß man das feuerfeste Metallborid-Pulver aus dem Reaktor entfernt.
• }■·
2. Verfahren nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet , daß man wasserfreien Chlorwasserstoff
einführt, der mit dem Metallhalogenid gemischt ist.
609834/0588
7523325
3. Verfahren nach Anspruch 1, d a d v. r- c- ':. g 3 k e η η zeichnet
, daß man als inertes Trägergas ein Edelgas verwendet, das mit dem borhaltigen Ausgangsstoff
gemischt ist,
4. Verfahren nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet , daß man eine Menge an wasserfreiem
Halogenwasserstoff verwendet, die etwa zwischen 50 und 350 Mol% beträgt, bezogen auf das Metallhalogenid.
5. Verfahren nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß der Halogenidanteil des Halogenwasserstoffes
mit dem Halogenanteil des Metallhalogenide übereinstimmt.
6. Verfahren nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß das verwendete Metallhalogenid ein
Titantetrahalogenid, der borhaltige Ausgangsstoff Bortrichlorid und das Trägergas für das Bortrichlorid Argon ist.
7. Verfahren nach Anspruch 6, dadurch gekennzeichnet
, daß Wasserstoff als Trägergas für das Titantetrahalogenid verwendet wird.
8. Verfahren nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet , daß der heiße Wasserstoffstrom dadurch
erzeugt wird, daß man Wasserstoff in einer Plasma-Heizvorrichtung heizt.
9. Verfahren zur Herstellung von feinverteiltem Titandiborid im Submikronbereich, wobei man ein Titanhalogenid und einen
borhaltigen Ausgangsstoff in· einer Gasphasenreaktion in Gegenwart von Wasserstoff in einem Reaktor durchführt,
die Ausgangsstoffe durch Ausgangsstoff-Einlaßvorrichtungen in eine Mischzone einleitet und die Ausgangsstoffe in
nerhalb des Reaktors zur Reaktion bringt, um ein festes Titandiborid-Produkt zu erzeugen, und wobei das Titandi-
609834/0588
7523325
borid-Produkt zur Ablagerung und Ansammlung auf den Oberflächen der Apparatur tendiert, die den Ausgangsstoffen
ausgesetzt sind, dadurch gekennzeichnet, daß man einen heißen Wasserstoffgasstrom in die
Ausgangsstoff-Mischzone einführt, einen Titantetrahalogenid-Ausgangsstoff
und im wesentlichen wasserfreien Halogenwasserstoff in den Wasserstoffstrom oberhalb des borhaltigen
Ausgangsstoffes einführt, die Menge an Halogenwasserstoff zwischen 50 und 350 Mol%, bezogen auf das Metallhalogenide
einstellt) den borhaltigen Ausgangsstoff, der mit einem inerten Trägergas gemischt ist, in den Wasserstoff
strom einführt, den Wärmebetrag des Wasserstoff-Stroms
und der Ausgangsstoffe genügend hoch hält, um Titandiboridbildungstemperaturen
in dem Reaktor aufrechtzuerhalten und daß man ein festes Titandiborid aus dem Reaktor
entfernt.
10. Verfahren nach Anspruch 9, dadurch gekennzeichnet , daß das Titantetrahalogenid ein Titantetrachlorid
und der borhaltige Ausgangsstoff Bortrichlorid ist.
11. Verfahren nach Anspruch 10, dadurch gekennzeichnet , daß das verwendete inerte Trägergas
Argon ist.
12. Verfahren nach Anspruch 10, da durch gekennzeichnet , daß der heiße Wasserstoffstrom dadurch
erzeugt wird, daß man Wasserstoff in einer Plasma-Heizvorrichtung erhitzt.
13. Verfahren nach Anspruch 12, d-a'du(r oh gekennzeichnet
, daß die Plasma-Heizvorrichtung ein Lichtbogen-Plasmabrenner ist.
14. Verfahren nach Anspruch 10, dadurch gekenn zeichnet , daß der verwendete Halogenwasserstoff
Chlorwasserstoff ist.
609834/0588
15. Verfahren nach Anspruch 10, dadurch gekennzeichnet , daß Wasserstoff als Trägergas für das
Titantetrachlorid verwendet wird.
16. Verfahren nach Anspruch 12, dadurch gekennzeichnet , daß das inerte Trägergas Argon und der
Halogenwasserstoff Chlorwasserstoff ist.
609834/0588
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
US05/546,837 US4233277A (en) | 1975-02-03 | 1975-02-03 | Preparing refractory metal boride powder |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
DE2523325A1 true DE2523325A1 (de) | 1976-08-19 |
Family
ID=24182235
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
DE19752523325 Pending DE2523325A1 (de) | 1975-02-03 | 1975-05-27 | Verfahren zur herstellung von feuerfestem metallborid-pulver |
Country Status (7)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US4233277A (de) |
JP (1) | JPS5516099B2 (de) |
CA (1) | CA1041272A (de) |
DE (1) | DE2523325A1 (de) |
FR (1) | FR2299270A2 (de) |
GB (1) | GB1524972A (de) |
IT (1) | IT1041562B (de) |
Families Citing this family (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US4503021A (en) * | 1983-04-26 | 1985-03-05 | The United States Of America As Represented By The Department Of Energy | Preparation of titanium diboride powder |
DE3432565A1 (de) * | 1984-09-05 | 1986-03-13 | Hoechst Ag, 6230 Frankfurt | Verfahren zur herstellung von glycosylfluoriden |
US4689129A (en) * | 1985-07-16 | 1987-08-25 | The Dow Chemical Company | Process for the preparation of submicron-sized titanium diboride |
US8268035B2 (en) | 2008-12-23 | 2012-09-18 | United Technologies Corporation | Process for producing refractory metal alloy powders |
BR112014030485B1 (pt) * | 2012-06-06 | 2022-02-01 | Alcoa Usa Corp | Método para produzir um produto de titânio |
AU2014244509A1 (en) * | 2013-03-14 | 2015-09-17 | SDCmaterials, Inc. | High-throughput particle production using a plasma system |
Family Cites Families (9)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US2768061A (en) * | 1953-02-26 | 1956-10-23 | Gen Electric | Hydrogen reduction method and apparatus |
US3253886A (en) * | 1961-05-09 | 1966-05-31 | Union Carbide Corp | Process for producing ultrafine powders of refractory materials |
BE651736A (de) * | 1963-08-13 | |||
US3455745A (en) * | 1966-07-08 | 1969-07-15 | Dow Corning | Coating of objects with tetraboron silicide |
FR1533423A (fr) * | 1967-06-08 | 1968-07-19 | Pechiney Saint Gobain | Procédé de stabilisation par traitement thermique de copolymères à base de formaldéhyde, et copolymères particulièrement stables à la chaleur en résultant |
GB1194415A (en) * | 1967-07-03 | 1970-06-10 | United States Borax Chem | High Temperature Chemical Reaction and Apparatus therefor |
US3812239A (en) * | 1969-09-25 | 1974-05-21 | Ppg Industries Inc | Preparation of submicron titanium carbide |
US3661523A (en) * | 1970-04-14 | 1972-05-09 | Ppg Industries Inc | Preparation of titanium carbide |
US3979500A (en) * | 1973-05-02 | 1976-09-07 | Ppg Industries, Inc. | Preparation of finely-divided refractory powders of groups III-V metal borides, carbides, nitrides, silicides and sulfides |
-
1975
- 1975-02-03 US US05/546,837 patent/US4233277A/en not_active Expired - Lifetime
- 1975-05-27 DE DE19752523325 patent/DE2523325A1/de active Pending
- 1975-06-11 CA CA229,132A patent/CA1041272A/en not_active Expired
- 1975-08-07 GB GB32977/75A patent/GB1524972A/en not_active Expired
- 1975-08-13 IT IT69078/75A patent/IT1041562B/it active
- 1975-09-29 FR FR7529750A patent/FR2299270A2/fr active Granted
-
1976
- 1976-01-28 JP JP886276A patent/JPS5516099B2/ja not_active Expired
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JPS5516099B2 (de) | 1980-04-28 |
GB1524972A (en) | 1978-09-13 |
AU8257075A (en) | 1977-01-06 |
CA1041272A (en) | 1978-10-31 |
IT1041562B (it) | 1980-01-10 |
FR2299270B2 (de) | 1979-03-09 |
US4233277A (en) | 1980-11-11 |
JPS51100996A (de) | 1976-09-06 |
FR2299270A2 (fr) | 1976-08-27 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
DE2650869C3 (de) | Verfahren zur Herstellung eines feuerfesten Pulvers | |
DE2915023C2 (de) | Verfahren zur Herstellung von Metallnitridpulver | |
US3979500A (en) | Preparation of finely-divided refractory powders of groups III-V metal borides, carbides, nitrides, silicides and sulfides | |
US3840750A (en) | Plasma apparatus for carrying out high temperature chemical reactions | |
DE69326297T2 (de) | Oxidation von Titanium Tetrachlorid | |
EP2041030A2 (de) | Verfahren zur herstellung von suspensionen nanopartikulärer feststoffe | |
DE2756467A1 (de) | Verfahren zur herstellung von hochreinem silizium | |
DE2816234A1 (de) | Verfahren zum dotieren von hochreinem silicium in einem lichtbogenerhitzer | |
DE1792516C3 (de) | Verfahren zur Herstellung von groben Metalloxidgranulaten und Chlorwasserstoff | |
DE2814751A1 (de) | Verfahren zur herstellung von siliciumeinkristallen und vorrichtung zur durchfuehrung des verfahrens | |
DE1229988B (de) | Verfahren und Vorrichtung zur Durchfuehrung von Gasphasenreaktionen unter Bildung mindestens eines festen Reaktionsproduktes | |
DE1542365A1 (de) | Verfahren zur Herstellung eines fein verteilten Metalloxydpigments durch Dampfphasenoxydation | |
DE3839700C2 (de) | Wirbelschichtreaktor mit beheizbarer Auskleidung | |
DE2800281A1 (de) | Verfahren zur herstellung von hochreinem silizium | |
DE2523325A1 (de) | Verfahren zur herstellung von feuerfestem metallborid-pulver | |
DE2523423C2 (de) | Submikrones Titandiborid und Verfahren zu seiner Herstellung | |
DE69202419T2 (de) | Verfahren zur Herstellung von Fulleren. | |
DE1948435A1 (de) | Verfahren zur Herstellung von Titancarbid | |
US3661523A (en) | Preparation of titanium carbide | |
DE3910343C2 (de) | ||
DE2715736A1 (de) | Verfahren zur reduktion von vanadiumoxiden | |
DE112009001931T5 (de) | Verfahren zur Reinigung eines Materials, das ein Halbmetallelement oder ein Metallelement als Hauptkomponente enthält | |
EP0028691B1 (de) | Verfahren zur Herstellung von Titandisulfid hoher Reinheit und stöchiometrischer Zusammensetzung | |
WO2005056475A1 (de) | Verfahren zur herstellung von bortrichlorid | |
DE2420621C3 (de) | Verfahren zur Herstellung von feinverteilten feuerfesten Pulvern |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
OHW | Rejection |