[go: up one dir, main page]
More Web Proxy on the site http://driver.im/

DE2358937C3 - Thyristor fuer hochspannung im kilovoltbereich - Google Patents

Thyristor fuer hochspannung im kilovoltbereich

Info

Publication number
DE2358937C3
DE2358937C3 DE19732358937 DE2358937A DE2358937C3 DE 2358937 C3 DE2358937 C3 DE 2358937C3 DE 19732358937 DE19732358937 DE 19732358937 DE 2358937 A DE2358937 A DE 2358937A DE 2358937 C3 DE2358937 C3 DE 2358937C3
Authority
DE
Germany
Prior art keywords
edge
thyristor
junction
ground
plane
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Expired
Application number
DE19732358937
Other languages
English (en)
Other versions
DE2358937A1 (de
DE2358937B2 (de
Inventor
Alois Dipl Phys Sonntag
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Licentia Patent Verwaltungs GmbH
Original Assignee
Licentia Patent Verwaltungs GmbH
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Licentia Patent Verwaltungs GmbH filed Critical Licentia Patent Verwaltungs GmbH
Priority to DE19732358937 priority Critical patent/DE2358937C3/de
Priority to SE7413915A priority patent/SE392992B/xx
Priority to US527396A priority patent/US3925807A/en
Priority to JP13563074A priority patent/JPS5444557B2/ja
Publication of DE2358937A1 publication Critical patent/DE2358937A1/de
Publication of DE2358937B2 publication Critical patent/DE2358937B2/de
Application granted granted Critical
Publication of DE2358937C3 publication Critical patent/DE2358937C3/de
Expired legal-status Critical Current

Links

Classifications

    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L29/00Semiconductor devices specially adapted for rectifying, amplifying, oscillating or switching and having potential barriers; Capacitors or resistors having potential barriers, e.g. a PN-junction depletion layer or carrier concentration layer; Details of semiconductor bodies or of electrodes thereof ; Multistep manufacturing processes therefor
    • H01L29/02Semiconductor bodies ; Multistep manufacturing processes therefor
    • H01L29/06Semiconductor bodies ; Multistep manufacturing processes therefor characterised by their shape; characterised by the shapes, relative sizes, or dispositions of the semiconductor regions ; characterised by the concentration or distribution of impurities within semiconductor regions
    • H01L29/0657Semiconductor bodies ; Multistep manufacturing processes therefor characterised by their shape; characterised by the shapes, relative sizes, or dispositions of the semiconductor regions ; characterised by the concentration or distribution of impurities within semiconductor regions characterised by the shape of the body
    • H01L29/0661Semiconductor bodies ; Multistep manufacturing processes therefor characterised by their shape; characterised by the shapes, relative sizes, or dispositions of the semiconductor regions ; characterised by the concentration or distribution of impurities within semiconductor regions characterised by the shape of the body specially adapted for altering the breakdown voltage by removing semiconductor material at, or in the neighbourhood of, a reverse biased junction, e.g. by bevelling, moat etching, depletion etching

Landscapes

  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Microelectronics & Electronic Packaging (AREA)
  • Power Engineering (AREA)
  • Physics & Mathematics (AREA)
  • Ceramic Engineering (AREA)
  • Condensed Matter Physics & Semiconductors (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Computer Hardware Design (AREA)
  • Thyristors (AREA)

Description

40
Die Erfindung betrifft einen Thyristor für Hochspannung im Kilovoltbereich mit einer volldiffundierten, an den zwei Hauptflächen mit Elektroden versehenen ^5 Halbleiterscheibe, bei dem die Hauptflächen unterschiedlich groß sind und die Randfläche konusförmig abgeschrägt ist.
Derartige Thyristoren, bei denen die Randfläche der Halbleiterscheibe konusförmig abgeschrägt ist, sind durch die DT-AS 12 12 215 und die DT-OS 19 06 479 bekannt. Die konusförmige Abschrägung wird allgemein bei Thyristoren hoher Sperrfähigkeit verwendet, um an der abgeschrägten Randfläche die Raumladungszone des mittleren pn-Überganges, welcher in der Durchlaßrichtung des Thyristors sperrt, zu verlängern und die Randflächenfeldstärke herabzusetzen. Eine Sperrfähigkeit von etwa 2 kV erfordert indes, daß besonders an diesem mittleren pn-Übergang die Randfläche unter einem kleinen Winkel von etwa 2° abgeschrägt werden muß (vgl. DT-AS 12 12 215, Fig. 3). Dies führt dazu, daß eine Halbleiterscheibe mit einem entsprechend breiten Rand außerhalb der stromtragenden kontaktierten kleineren Hauptfläche verwendet werden muß, und zwar eine Halbleiterscheibe mit großem Durchmesser, die eine gewünschte Einkristallqualität aufweist und entsprechend hoch strombelastbar ist.
Von dieser Problematik ausgehend wird nach DT-OS 19 06 479 bei einer konusförmigen Halbleiterscheibe eines Thyristors von der kleineren Hauptfläche her eine rinE. und konusförmige Nut mit zur Abschrägung der Halbleiterscheibe entgegengesetzt verlaufender Abschrägujig in die Halbleiterscheibe bis in die Anodenbasiszone eingebracht Hierdurch wird die Randflächenfeldstärke des in der Sperrichtung vorgespannten mittleren pn-Überganges herabgesetzt
Durch die DT-AS 12 50 008, Fig. 5 bis 7, ist ferner auch ein Halbleiterbauelement mit einem scheibenförmigen Halbleiterkörper mit einem symmetrischen Kantenschliff in einer nicht abgeschrägten Randfläche der Halbleiterscheibe bekannt
Des weiteren ist durch die DT-OS 15 64 146, Fig. 1 und 12 ein als Thyristor ausgebildetes Halbleiterbauelement mit einem scheibenförmigen Halbleiterkörper mit einem symmetrischen Kantenschliff in einer nicht abgeschrägten Randfläche des Halbleiterkörpers bekannt. . .
Die Verwendung einer Halbleiterscheibe mit einer solchen Randflächenform für einen hochsperrenden Thyristor engt die vorhin erläuterte Fiächenausnutzung zwar nicnt ein, es kann aber bei einer solchen Ausführung der Halbleiterscheibe eine mit einer mit abgeschrägter Randfläche versehenen Halbleiterscheibe vergleichbare Herabsetzung der Randflächenfeldstärke nur mit einer nahezu zweimal so dicken Anodenbasiszone erzielt werden. Unabhängig von der Profilgebung der Randfläche wird bei Thyristoren im wesentlichen die Dicke der Anodenbasiszone von der verlangten Sperrfähigkeit bestimmt. Größere Dicke einer Halbleiterzone, insbesondere bei einer Halbleiterscheibe aus Silizium, bedingt aber größere Durchlaßspannung und höhere Durchlaßverluste. Problematisch bei Halbleiterbauelementen mit symmetrischem Kantenschliff ist außerdem, daß die scharfen Schliffkanten an den dünnen, ganz oder nur zum Teil an den Hauptflächen liegenden Zonen leicht ausbrechen können.
Ein Thyristor hoher Sperrfähigkeit setzt bekanntlich ferner eine geringe Vordotierung der verwendeten Halbleiterscheibe voraus. Ein Thyristor großer Strombelastbarkeit bedingt andererseits, wie oben erwähnt, entsprechend große stromtragende Hauptflächen und somit großen Durchmesser der verwendeten Halbleiterscheibe. Da aber die Herstellung von Halbleiterscheiben großen Durchmessers mit homogener Dosierung schwieriger sind, je geringer diese homogene Dotierung sein soll, so stellen sich die Anforderungen an die Sperrfähigkeit im Grunde einander entgegen. Es hängt besonders von der Entwicklung der Kristall-Ziehtechnik ab. ob die Schwierigkeit der Herstellung von Einkristallen großen Durchmessers und homogener Schwachdotierung verringert werden kann.
Die vorangehend skizzierte Problematik wird durch die Anforderung noch verschärft, die seitens der Anwender an die Freiwerdezeit hochsperrender und leistungsstarker Thyristoren gestellt ist. Das bedeutet eine weitere Einschränkung für die Entwicklung eines hochsperrenden Thyristors mit einer nach oben begrenzten Freiwerdezeit, denn hierdurch wird eine obere Begrenzung der Lebensdauer der Ladungsträger in der Basiszone der Halbleiterscheibe bedingt. Demgegenüber wird eine Begrenzung der Ladungsträgerlebensdauer nach unten, um eine niedrige Durchlaßspannung zu erzielen, von der Höhe der verlangten Sperrfähigkeit her bedingt. Ein entsprechen-
der unterer Grenzwert der Lebensdauer nimmt jedoch n«;t der Dicke der Basiszone zu. Diese Begrenzung wird um so weniger kritisch, je mehr stromtragende Hauptftäehe durch Verbesserung des Rantprofils zur Herabsetzung der Randflächenfeldstärke erhalten wird.
Der Erfindung liegt die Aufgabe zugrunde, einen Thyristor für Hochspannung mit einer Sperrfähigkeit weitaus höher als 2,5 kV, welcher mit einigen hundert Ampere Dauergrenzstrom belastbar ist, mit einer Freiwerdezeit, die nicht größer als bei den bekannten Thyristoren ist, durch eine optimale Formgebung und Bemessung der Randfläche der Halbleiterscheibe und der Zonenstruktur zu schaffen.
Die erfindungsgemäße Lösung dieser Aufgabe besteht darin, bei einem Thyristor der eingangs beschriebenen Gattung in der konusförmigen Randfläche dne umlaufende in einer Ebene parallel zu den pn-Übergangsflächen liegende Kante derart einzuscTtleifen, daß diese Kante durch zwei unter einem Winkel aufeinanderstoßende Schliffflächen, eine den in der Durchlaßrichtung des Thyristors sperrenden pn-Übergang schneidende und an die kleinere Hauptfläche stoßende Schlifffläche und eine die konusförmige Randfläche jedoch keine pn-Übergangsf!äche schneidende Schlifffläche gebildet wird und daß die Schlifffläehe. welche an die kleinere Hauptfläche stößt, den in der Durchlaßrichtung sperrenden pn-übergang unter einem größeren Winkel als der Winkel zwischen der Ebene der Kante und der anderen Schliffflä^he schneidet, und daß der Abstand des in der Durchlaßrichtung des Thyristors sperrenden pn-Überganges von der Ebene, in welcher die Kante liegt, größer ist als der Abstand des rückwärts sperrenden pn-Überganges von derselben Ebene, wobei der Abstand zwischen diesen kreisscheibenförmigen pn-Übergangsflächen kleiner ist als ihre Radiusdifferenz.
Nach einer Ausgestaltung der Erfindung bildet die abgeschrägte Randfläche mit der größeren Hauptfläche einen Abschrägungswinkel zwischen 10 und 40°.
Um die Kanten der Halbleiterscheibe, insbesondere die Peripheriekanten der Hauptflächen eines Thyristors nach der Erfindung bei übermäßiger mechanischer Beanspruchung vor dem Ausbrechen zu sichern, sind diese Peripheriekanten sowie auch die in die Randfläche eingeschliffene Knnte nach einer weiteren Ausgestaltung der Erfindung abgerundet.
Die Vorteile der Erfindung werden auf Grund der bei erfindungsgemäß ausgebildeten Thyristoren erzielten elektrischen Eigenschaften besonders in der Verwendung dieser Thyristoren bei Stromrichtern für die Hochspannungsgleichstrom-Übertragung (HGÜ) gesehen. Eei diesen Stromrichtern wurden bisher und werden noch Thyristoren mit einer Sperrfähigkeit bis zu etwa 2,5 kV eingesetzt. Es müssen hierbei viele Thyristoren, die z. B. paarweise miteinander in Parallelschaltung aufgebaut werden, in Reihe geschaltet werden. Können aber Thyristoren mit einer weitaus höheren Sperrfähigkeit als 2,5 kV eingesetzt werden, so verringert sich dementsprechend die Anzahl der für gleiche Spannung in Reihe zu schallenden Thyristoren &, und der zugehörigen Steuerungs- und Bcschaltungsmittel. Bei einer geringeren Anzahl von in Reihe geschalteter Thyristoren werden Durchlaßspannung und damit auch die Durchlaßverluste der einzelnen Stromrichter/.weige entsprechend geringer. Der Einsatz von solcherart hochsperrender Thyristoren kann sonach eine beträchtliche Verminderung der Investilinnukosten bei elektrotechnischen Anlagen und bei den dafür erforderlichen Kühleinrichtungen mit sich bringen. Da die erfindungsgemäß ausgeführten Thyristoren ferner eine große Strombelastbarkeit aufweisen, ergibt sich deshalb der Vorteil, daß auch die Anzahl der bei einem Stromrichter für eine vorgegebene Betriebsstromstärke unter sich parallel zu schaltender Thyristoren geringer oder nicht größer als bisher ist.
Die Erfindung ist auch vorteilhaft bei der Ausbildung der sogenannten Frequenzthyristoren anwendbar, bei welchen die Kathode durch eine radial verzweigte fingerförmige Steuerelektrode in viele Abschnitte unterteilt ist.
Es wird nachstehend an Hand der Zeichnung ein Ausführungsformbeispiel eines Thyristors nach der Erfindung beschrieben. In der Zeichnung ist ein Querschnitt längs eines Durchmessers einer volldiffundierten Halbleiterscheibe, und zwar das Randgebiet derselben dargestellt.
Die Halbleiterscheibe 10 ist an seinen zwei unterschiedlich großen Hauptflächen 11 und 12 mit Elektroden K, G und A versehen. An der größeren Hauptfläche 12 befindet sich die Anode A. welche sich über die ganze Hauptfläche erstreckt. An der kleineren Hauptfläche 11 befindet sich die Kathode K, welche sich nahezu über der ganzen Hauptfläche erstreckt, und eine nicht dargestellte Steuerelektrode G.
In der Zeichnung ist dargestellt, daß die ursprünglich zylinderförmige Halbleiterscheibe an ihrer Randfläche 13 konusförmig abgeschrägt ist unter einem Abschrägwinkel j», den die abgeschrägte Randfläche mit der größeren Hauptfläche 12 der Halbleiterscheibe bildet. Es sei hier angemerkt, daß in der Zeichnung die Halbleiterscheibe 10 nicht maßstabsgerecht dargestellt ist; die vertikale Dimension der Halbleiterscheibe erscheint ungefähr zweifach gedehnt gegenüber der horizontalen Dimension. In der abgeschrägten Randfläche 13 ist, wie ersichtlich, in einem kleineren Abstand von der Anode A als von der Kathode K eine umlaufende und durch zwei unter einem Winkel κ kegelförmig aufeinanderstoßende Schliffflächen 14 und 15 gebildete Kante k eingeschliffen. Diese Kante liegt in einer in bezug auf die pn-Übergangsflächen 16, 17, 18 und die Hauptfiächen 11 und 12 parallelen Ebene E Die Schlifffläche 14, welche auf die kleinere Hauptfläche 11 stößt, schneidet die pn-Übergangsfläche 17, welche in der Durchlaßrichtung des Thyristors sperrt, unter einem Winkel ß, der größer als der Winkel * zwischen der Ebene fund der anderen Schlifffläche 15 ist. Ferner ist der Abstand b zwischen der Ebene E und der pn-Übergangsfläche 17 größer als der Abstand a zwischen der Ebene E und der pn-Übergangsfläche 18. Es ist die stromtragende Fläche des Thyristors im wesentlichen durch die Größe der kleineren Hauptfläche U der Halbleiterscheibe 10 bestimmt, die in Richtung der größeren Hauptfläche \2 von einer um so breiteren Randzone umgeben sein muß, je höher bei einer gewünschten Strombelastbarkeit die Sperrfähigkeit sein soll. Die Radiusdifferenz Ar der zwei kreisförmigen pn-Übergangsflächcn 17 und 18 ist daher großer bemessen als der Abstand a + b zwischen den zwei pn-Übergangsflächcn 17 und 18.
Eine Halbleiterscheibe mit einem Kantenschliff in seiner abgeschrägten Randfläche, die wie vorangehend erläutert bemessen ist, kann eine Spcrrfnhigkeit von 5 kV und eine .Strombelastbarkeit von z.B. 400 A Dauergren/.Mrom aufweisen. Diese Leistungsfähigkeit wird insbesondere dadurch ermöglicht, daß bei angeleg ter Hochspannung die RandfUichcnfeldstärkc an der
Schnittlinie der pn-Übergangsfläche 17 infolge der Randflächenkontur erheblich vermindert ist.
Während bei Anwendung eines Kantenschliffs nach den Fig. 5 bis 7 der DT-AS 12 50 008 bei einer Halbleiterscheibe eines Thyristors mit einer Basisweite der niedrig dotierten η-leitenden Zone des Thyristors gearbeitet werden muß, die nahezu dem zweifachen Wert der theoretisch benötigten Basisweite für ein gewünschtes Sperrvermögen entspricht, um die Randflächenfeldstärke niedrig halten zu können, so ist dies bei einem Thyristor nach der Erfindung nicht nötig.
Um die Wirkung des Kantenschliffs bei einem Thyristor nach der Erfindung zu erläutern, sei hier zunächst der Fall betrachtet, daß der pn-Übergang 17 in Sperrichtung gepolt ist. Es bewirkt die in diesem Falle positiv definierte Abschrägung der Schlifffläche 14, daß sich die Raumladung in der η-Basiszone längs der Schlifffläche 14 zunächst schneller mit einer Krümmung nach unten ausdehnt als im Volumen dieser n-Basiszone. Demzufolge ist auch die Randflächenfeldstärke kleiner als die Volumenfeldstärke. Dies gilt solange, als die Grenze der Raumladung den Rand der Ebene £, d. h. die Schliffkante Jt. nicht erreicht hat. Liegt diese Ebene £im unteren Teil der η-Basiszone, so fällt schon der größte Teil der Spannung längs der Schlifffläche 14 ab, bevor die Raumladungsgrenze um die Kante Ar umbiegt und sich im Bereich der negativen Abschrägung der Schlifffläche 15 ausdehnt. Wählt man den Winkel β und den Abstand der Ebene E vom pn-Übergang 17 dementsprechend, so kann man die Raumladung also zwingen, eine solche Form anzunehmen, daß an keiner Steile der Randfläche die Feldstärke den Durchschlags wert erreicht.
Ist nun der pn-Übergang 18 in Sperrichtung gepolt, se ist die Abschrägung der Schlifffläche 15 als positiv anzusehen. Da der Abstand der Ebene, in welcher di< Schlifffläche 15 auf die konusförmige Abschrägung \: stößt, vom pn-Übergang 18 nur gering ist, so überwinde die Raumladungsgrenze auch sehr schnell die langt flache Schlifffläche 15 und erreicht somit schon be
ίο niedriger Sperrspannung den Rand der Ebene E Be Spannungserhöhung wird sich dann die Raumladung längs der nun negativ definierten Abschrägung den Schlifffläche 14 weiter ausdehnen und sich dabei in Richtung des pn-Überganges 18 krümmen. Von der Anodenseite des Thyristors: her gesehen, wirkt indes das Randprofil des Halbleiterelementes, bei dem nicht viel η-Silizium der p-Anodenzone vorgelagert ist, wie eine positive konusförmige Randabschrägung. Da die Grenze der Raumladungszone in der p+-Anodenzone an die konusförmig abgeschrägte Randfläche 13 stößt, wird sie sich in der η-Basiszone aui der negativ abgeschrägten Schlifffläche 14 oberhalb der Ebene E weiter in der Richtung des pn-Überganges 17 ausbreiten, damit eine entsprechende Gegenladung in bezug auf die p + -Anodenzone umfaßt wird. Diese Ausbreitung geht um so schneller vor sich, je größer die Radiusdifferenz Ar der pn-Übergangsflächen 17 und 18 ist.
Durch entsprechende Wahl der Größe dieser Differenz kann somit erreicht werden, daß auch bei rückwärts am Thyristor anliegender Spannung die Randflächenfeldstärke nirgends zum Durchschlag führt.
Hierzu 1 Blatt Zeichnungen

Claims (3)

Patentansprüche:
1. Thyristor für Hochspannung im Kilovoltbereich mit einer volldiffundierten, an den zwei Hauptflächen mit Elektroden versehenen Halbleiterscheibe, bei dem die Hauptflächen unterschiedlich groß sind und die Randfläche konusförmig abgeschrägt ist, dadurch gekennzeichnet, daß in der konusförmigen Randfläche (13) eine umlaufende in einer Ebene ^parallel zu den pn-Übergangsflächen (16,17,18) liegende Kante (k) derart eingeschliffen ist, daß diese Kante durch zwei unter einem Winkel (x) aufeinanderstoßende Schliffflächen (14, 15), eine den in der Durchlaßrichtung des Thyristors sperrenden pn-Übergang (17) schneidende, an die kleinere Hauptfläche (11) stoßende Schlifffläche (14) und eine die konusförmige Randfläche jedoch keine pn-Obergangsfläche schneidende Schlifffläche (15) gebildet wird und daß die Schlifffläche (14), welche an die *> kleinere Hauptfläche (11) des Thyristors stößt, den in der Durchlaßrichtung sperrenden pn-Übergang (17) unter einem größeren Winkel (ß) als der Winkel (cn) zwischen der Ebene (E) und der anderen Schlifffläche (15) schneidet, und daß der Abstand (b) der pn-Übergangsfläche (17) von der Ebene (E) größer
als der Abstand (a)der pn-Übergangsfläche (18) von derselben Ebene ist, wobei der Abstand (a + b) zwischen diesen kreisscheibenförmigen pn-Übergangsflächen kleiner als ihre Radiusdifferenz (Ar)XsX.
2. Thyristor nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß die abgeschrägte Randfläche (13) mit der größeren Hauptfläche (12) einen Abschrägwinkel (γ) zwischen 10 und 40° bildet.
3. Thyristor nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß die in die Randfläche (13) eingeschliffene Kante (k) und die Peripheriekanten (k1) der Hauptflächen (11 und 12) abgerundet sind.
DE19732358937 1973-11-27 1973-11-27 Thyristor fuer hochspannung im kilovoltbereich Expired DE2358937C3 (de)

Priority Applications (4)

Application Number Priority Date Filing Date Title
DE19732358937 DE2358937C3 (de) 1973-11-27 1973-11-27 Thyristor fuer hochspannung im kilovoltbereich
SE7413915A SE392992B (sv) 1973-11-27 1974-11-06 Tyristor
US527396A US3925807A (en) 1973-11-27 1974-11-26 High voltage thyristor
JP13563074A JPS5444557B2 (de) 1973-11-27 1974-11-27

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
DE19732358937 DE2358937C3 (de) 1973-11-27 1973-11-27 Thyristor fuer hochspannung im kilovoltbereich

Publications (3)

Publication Number Publication Date
DE2358937A1 DE2358937A1 (de) 1975-06-05
DE2358937B2 DE2358937B2 (de) 1975-12-11
DE2358937C3 true DE2358937C3 (de) 1976-07-15

Family

ID=5899153

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
DE19732358937 Expired DE2358937C3 (de) 1973-11-27 1973-11-27 Thyristor fuer hochspannung im kilovoltbereich

Country Status (4)

Country Link
US (1) US3925807A (de)
JP (1) JPS5444557B2 (de)
DE (1) DE2358937C3 (de)
SE (1) SE392992B (de)

Families Citing this family (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE3137695A1 (de) * 1981-09-22 1983-04-21 Siemens AG, 1000 Berlin und 8000 München Thyristor mit einem mehrschichten-halbleiterkoerper mit pnpn-schichtfolge und verfahren zu seiner herstellung
JPS6088535U (ja) * 1983-11-24 1985-06-18 住友電気工業株式会社 半導体ウエハ
JPS60250670A (ja) * 1984-05-25 1985-12-11 Mitsubishi Electric Corp 半導体装置
JPH0624200B2 (ja) * 1989-04-28 1994-03-30 信越半導体株式会社 半導体デバイス用基板の加工方法
AU2001296104A1 (en) * 2000-10-11 2002-04-22 Timofei Timofeevich Kondratenko Nonplanar semiconductor devices having closed region of spatial charge

Citations (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE1564146A1 (de) * 1965-05-11 1970-02-26 Itt Ind Gmbh Deutsche Halbleiterbauelement und Verfahren zum Herstellen
DE1906479A1 (de) * 1968-04-11 1970-08-20 Tokyo Shibaura Electric Co Halbleitervorrichtung
DE1212215B (de) * 1961-07-12 1974-03-28 Halbleiterbauelement mit einem plattenfoermigen halbleiterkoerper mit pn-uebergangsflaechen

Family Cites Families (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
BE628619A (de) * 1962-02-20
BE639315A (de) * 1962-10-31
NL6603372A (de) * 1965-03-25 1966-09-26
JPS5623596B2 (de) * 1973-07-18 1981-06-01

Patent Citations (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE1212215B (de) * 1961-07-12 1974-03-28 Halbleiterbauelement mit einem plattenfoermigen halbleiterkoerper mit pn-uebergangsflaechen
DE1564146A1 (de) * 1965-05-11 1970-02-26 Itt Ind Gmbh Deutsche Halbleiterbauelement und Verfahren zum Herstellen
DE1906479A1 (de) * 1968-04-11 1970-08-20 Tokyo Shibaura Electric Co Halbleitervorrichtung

Also Published As

Publication number Publication date
SE7413915L (de) 1975-05-28
US3925807A (en) 1975-12-09
JPS5444557B2 (de) 1979-12-26
JPS5086283A (de) 1975-07-11
DE2358937A1 (de) 1975-06-05
DE2358937B2 (de) 1975-12-11
SE392992B (sv) 1977-04-25

Similar Documents

Publication Publication Date Title
DE10259373B4 (de) Überstromfeste Schottkydiode mit niedrigem Sperrstrom
DE112011103230B4 (de) Non-Punch-Through-Bipolarleistungshalbleiterbauelement und ein Verfahren zum Herstellen eines derartigen Halbleiterbauelements
DE112011100533T5 (de) Halbleitervorrichtung
DE1489937A1 (de) Halbleiterbauelement
DE2727405A1 (de) Feldgesteuerter thyristor mit eingebettetem gitter
DE2846637A1 (de) Halbleiterbauelement mit mindestens einem planaren pn-uebergang und zonen- guard-ringen
DE112011102082B4 (de) Phasensteuerungsthyristor mit verbessertem Muster von lokalen Emitterkurzschlusspunkten
DE2845934A1 (de) Leistungshalbleiterbauelement mit zonen-guard-ringen
DE112012005039B4 (de) Halbleitervorrichtung
DE1906479C2 (de) Halbleiterbauelement
DE1281584B (de) Halbleiterbauelement mit einem Halbleiterkoerper aus Silizium oder Germanium mit einem oder mehreren diffundierten PN-UEbergaengen
DE102016112018A1 (de) Leistungshalbleitervorrichtung mit vollständig verarmten Kanalregionen
EP1092238A1 (de) Universal-halbleiterscheibe für hochvolt-halbleiterbauelemente
DE2358937C3 (de) Thyristor fuer hochspannung im kilovoltbereich
DE1213920B (de) Halbleiterbauelement mit fuenf Zonen abwechselnden Leitfaehigkeitstyps
DE1216435B (de) Schaltbares Halbleiterbauelement mit vier Zonen
DE1211339B (de) Steuerbares Halbleiterbauelement mit vier Zonen
EP0651445A2 (de) Abschaltbarer Thyristor
DE1261603B (de) Steuerbares Halbleiterbauelement
EP1488465B1 (de) Halbleiteraufbau mit schaltelement und randelement
DE2356674C2 (de) Halbleiterbauelement mit einem scheibenförmigen Halbleiterkörper
DE2425364A1 (de) Gate-gesteuerter halbleitergleichrichter
DE3029836C2 (de) Thyristor
DE1208011B (de) Halbleiterbauelement mit mindestens einer p pn- oder n np -Zonenfolge im Silizium-Halbleiterkoerper, insbesondere Halbleiterflaechengleichrichter oder Halbleiterstromtor
DE1934208U (de) Halbleiterbauelement.

Legal Events

Date Code Title Description
C3 Grant after two publication steps (3rd publication)
E77 Valid patent as to the heymanns-index 1977
EF Willingness to grant licences
8339 Ceased/non-payment of the annual fee