DE19924756A1 - Magnetoresistives Element - Google Patents
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Abstract
Magnetoresistives Element, insbesondere GMR-Zelle, mit abwechselnd übereinander angeordneten ersten Schichten mit magnetischen Eigenschaften und zweiten Schichten mit nichtmagnetischen Eigenschaften, dadurch gekennzeichnet, daß die ersten Schichten einen wenigstens dreilagigen Aufbau aufweisen, wobei wenigstens zwei der wenigstens drei Lagen magnetische Eigenschaften aufweisen.
Description
Die vorliegende Erfindung betrifft ein magnetoresistives
Element, insbesondere eine GMR-Zelle, nach dem Oberbegriff
des Patentanspruchs 1.
Schichtpakete aus ultradünnen magnetischen und
unmagnetischen Einzelschichten können unter bestimmten
Voraussetzungen den an sich bekannten magnetoresistiven
Effekt bzw. den sogenannten GMR-Effekt (englisch: Giant
magneto-resistance) zeigen. Als gekoppelte Schichtsysteme
werden Elemente bezeichnet, welche im einfachsten Fäll aus
zwei dünnen Magnetschichten bestehen, welche durch eine
nicht-magnetische Zwischenschicht getrennt sind. Die
magnetischen Schichten treten miteinander in
Wechselwirkung, wobei sich die magnetischen Momente in den
Schichten in Abhängigkeit von der Dicke der Zwischenschicht
parallel oder antiparallel ausrichten. Beispielsweise
ergibt sich bei Verwendung von Elementen, bei welchen die
magnetischen Schichten aus Kobalt bestehen und die nicht-
magnetische Schicht aus Kupfer hergestellt ist, bei
üblichen Schichtdicken der magnetischen Schicht von 10 bis
40 Å im Falle einer Schichtdicke der nicht-magnetischen
Schicht von etwa 10 oder etwa 20 Å eine antiparallele
Ausrichtung der Magnetisierungen benachbarter Schichten
(erstes und zweite antiferromagnetisches Maximum), und im
Falle einer Zwischenschichtdicke von etwa 15 Å eine
parallele Ausrichtung der Magnetisierung der magnetischen
Schichten (erstes ferromagnetisches Maximum). Es ist
üblich, eine große Anzahl derartiger dreilagiger Elemente
übereinander anzuordnen.
Derart aufgebaute Elemente bzw. Materialien sind als
Funktionsschichtmaterialien für verschiedenartige
Magnetsensoren von großem Interesse. Anwendungsspezifisch
muß jedoch die magnetfeldabhängige Widerstandskennlinie der
Elemente (MR-Kennlinie) charakteristische Kenngrößen
aufweisen. Es ist beispielsweise bekannt, daß man die MR-
Kennlinie durch Materialauswahl der einzelnen Schichten,
die Schichtfolge, die Dicke der einzelnen Schichten sowie
Prozeßparameter bei der Präparation beeinflussen kann. Als
charakteristische Kenngrößen sind beispielsweise zu nennen
die absolute Änderung des elektrischen Widerstands des
magnetoresistiven Elements in einem angelegten Magnetfeld,
die sogenannte Effektgröße, das Magnetfeld, bei dem keine
Widerstandsänderung mehr auftritt, das sogenannte
Sättigungsfeld, sowie die Hysterese der Kennlinie des
magnetoresistiven Elements. Diese Kenngrößen können bei
herkömmlichen magnetoresistiven Elementen, insbesondere
herkömmlichen GMR-Zellen, jedoch nicht beliebig und
unabhängig voneinander mittels Variation der genannten
Parameter (Materialauswahl, Schichtfolge,
Einzelschichtdicken, Prozeßparameter) eingestellt werden.
Aufgabe der Erfindung ist die Bereitstellung eines
magnetoresistiven Elements, insbesondere einer GMR-Zelle,
bei welcher die Kenngrößen des Elements, d. h. die
Kenngrößen der MR-Kennlinie des Elements, im Vergleich zu
herkömmlichen Elementen im größeren Maße und mit größerer
Unabhängigkeit voneinander einstellbar sind.
Diese Aufgabe wird gelöst durch ein magnetoresistives
Element, insbesondere eine GMR-Zelle, mit den Merkmalen des
Patentanspruchs 1.
Mit dem erfindungsgemäßen magnetoresistiven Element können
die Kenngrößen der MR-Kurve in wesentlich größerem Maße und
unabhängiger voneinander, als dies bei herkömmlichen
magnetoresistiven Elementen möglich war, eingestellt
werden. Auf der Grundlage des erfindungsgemäßen
magnetoresistiven Elements sind somit wesentlich flexiblere
Funktionsschichtmaterialien für unterschiedliche
Anwendungsfälle realisierbar. Im einfachsten Falle wird
gemäß der vorliegenden Erfindung bei einem mehrschichtigen
magnetoresistiven Element, bei welchem abwechselnd
magnetische und nicht-magnetische Schichten übereinander
angeordnet sind, die jeweilige magnetische Schicht in Form
eines sogenannten Trilayers bzw. dreilagig ausgebildet,
wobei eine nichtmagnetische Lage zwischen zwei magnetischen
Lagen ausgebildet ist. Es sei an dieser Stelle angemerkt,
daß zum Zwecke der Darstellung der Erfindung der Begriff
"Lage" im Sinne einer einzelnen schichtartigen Komponente
einer "Schicht" verwendet wird, wobei die magnetoresistiven
Elemente aus einer Anzahl von "Schichten" bestehen, die
ihrerseits aus einer Anzahl von Lagen zusammengesetzt sind.
Vorteilhafte Ausgestaltungen des erfindungsgemäßen
magnetoresistiven Elements sind Gegenstand der
Unteransprüche.
Gemäß einer ersten Ausführungsform des erfindungsgemäßen
magnetoresistiven Elements weisen sämtliche Lagen der
jeweiligen magnetische Eigenschaften aufweisenden Schichten
ihrerseits magnetische Eigenschaften auf. Durch das
Zusammenwirken dieser magnetische Eigenschaften
aufweisenden Schichten mit den jeweils dazwischen
angeordneten Schichten mit nicht-magnetischen Eigenschaften
lassen sich, durch Variation der Parameter der einzelnen
Lagen der magnetischen Schicht, gegenüber herkömmlichen
Elementen verbesserte Kennlinieneinstellungen vornehmen.
Gemäß einer weiteren Ausführungsform des erfindungsgemäßen
magnetoresistiven Elements weist eine mittlere von drei
Lagen einer magnetischen Schicht eine Dicke auf, welche
eine parallele oder antiparallele Ausrichtung der
Magnetisierung der zwei benachbarten äußeren Lagen
verursacht. Im Gegensatz zu herkömmlichen magnetoresistiven
Elementen ist es also möglich, den magnetischen Schichten
"intern" verschiedene Magnetisierungszustände zuzuordnen.
Waren bei einer herkömmlichen magnetischen Schicht nur zwei
"interne" Zustände realisierbar, sind erfindungsgemäß
innerhalb einer magnetischen Schicht vier
Magnetisierungszustände realisierbar. Beispielsweise bei
Verwendung des magnetoresistiven Elements als
Speicherelement oder Sensorelement sind hierdurch
vorteilhafte Anwendungen möglich.
Gemäß einer weiteren bevorzugten Ausführungsform des
erfindungsgemäßen magnetoresistiven Elements sind die
magnetischen Lagen der jeweiligen magnetischen Schichten
aus unterschiedlichen Materialien hergestellt. Wird
beispielsweise für die erste magnetische Lage Kobalt (Co),
und für die zweite magnetische Lage Nickel-Eisen (NiFe)
verwendet, lassen sich durch Wahl der Einzellagendicken MR-
Kennlinien mit großer Variationsmöglichkeit erzeugen.
Gemäß einer weiteren vorteilhaften Ausgestaltung des
erfindungsgemäßen magnetoresistiven Elements sind die
nicht-magnetischen Schichten zwischen magnetischen
Schichten und die nicht-magnetischen Lagen innerhalb der
magnetischen Schichten aus unterschiedlichen Materialien
hergestellt. Auch durch diese Maßnahme lassen sich MR-
Kennlinien in weit größerem Maße, als dies bisher möglich
war, variieren.
Es sei ferner gemäß einer vorteilhaften Ausgestaltung des
erfindungsgemäßen magnetoresistiven Elements möglich, daß
die magnetischen Lagen wenigstens einer magnetischen
Schicht unterschiedliche Dicken aufweisen.
Die Erfindung wird nun anhand der beigefügten Zeichnung
weiter erläutert. In dieser zeigt:
Fig. 1 in einer seitlichen schematischen Ansicht eine
GMR-Zelle gemäß dem Stand der Technik,
Fig. 2 in einer seitlichen schematischen Ansicht eine
als Trilayer ausgebildete magnetische Schicht,
welche einen Bestandteil eines
magnetoresistiven Elements gemäß der
vorliegenden Erfindung darstellt, und
Fig. 3 in einer seitlichen schematischen Ansicht eine
bevorzugte Ausführungsform einer GMR-Zelle
gemäß der vorliegenden Erfindung.
In Fig. 1 ist eine Prinzipskizze einer herkömmlichen GMR-
Zelle in einer seitlichen Ansicht dargestellt. Man erkennt
ein gekoppeltes Schichtensystem, bei dem die magnetischen
Einzelschichten 1 jeweils durch nicht-magnetische
Zwischenschichten 2 getrennt sind. Die Dicke der Schichten
2 ist derart gewählt, daß sich eine antiparallele
Ausrichtung der magnetischen Momente der Schichten 1
ergibt, wie mittels Pfeilen angedeutet ist (erstes oder
zweites antiferromagnetisches Maximum). Strebt man bei
einer derartigen GMR-Zelle beispielsweise an, durch
Variation der Materialauswahl oder der Einzelschichtdicken
eine Erhöhung der Effektgröße zu erzielen, stellt man fest,
daß auch das Sättigungsfeld zunimmt. Beispielsweise bei
Verwendung von Co-haltigen Legierungen für die magnetischen
Lagen 1 stellt man ferner fest, daß bei einer Anordnung
gemäß Fig. 1 stets Hysterese auftritt, was für die meisten
Anwendungen nachteilig ist.
Zur Vermeidung derartiger Nachteile wird erfindungsgemäß
vorgeschlagen, die homogenen magnetischen Schichten 1, wie
sie in Fig. 1 dargestellt sind, durch magnetische
Trilayer, wie sie in Fig. 2 dargestellt sind, zu ersetzen.
In Fig. 2 erkennt man, daß ein derartiges Trilayer,
welches insgesamt mit 10 bezeichnet ist, zwei äußere
magnetische Lagen 10a, 10b, sowie eine Zwischenlage 10c
aufweist. Obwohl auch die Zwischenlage 10c erfindungsgemäß
magnetisch ausgebildet sein kann, wird in der folgenden
Darstellung davon ausgegangen, daß die Lage 10c aus einem
nicht-magnetischen Material, beispielsweise Kupfer oder
Ruthenium (Ru), besteht. Durch Wahl der Dicke der
Zwischenlage 10c kann eine parallele oder antiparallele
Ausrichtung der Magnetisierungen der Lagen 10a, 10b im
Falle geeigneter Magnetfelder bewirkt werden.
In Fig. 3 ist schließlich eine bevorzugte Ausführungsform
einer erfindungsgemäßen GMR-Zelle dargestellt, bei welcher
die magnetischen Schichten 10 als Trilayer ausgebildet
sind. Man erkennt, daß zwischen den jeweiligen Trilayern 10
nicht-magnetische Schichten 20 ausgebildet sind. Die für
die nicht-magnetischen Schichten 20 der GMR-Zelle
verwendeten Materialien können sich von dem Material für
die nicht-magnetische Zwischenlage 10c der magnetischen
Schicht 10 unterscheiden.
Ein Vergleich des in Fig. 3 dargestellten
Magnetisierungszustands (antiparallele Ausrichtung der
einzelnen Lagen) der jeweiligen magnetischen Schichten mit
dem Magnetisierungszustand der Fig. 1 verdeutlicht, daß
mit einer GMR-Zelle, wie sie in Fig. 3 dargestellt ist,
innerhalb einer magnetischen Schicht vier verschiedene
Magnetisierungszustände realisierbar sind, während bei
einer herkömmlichen magnetischen Schicht lediglich zwei
Zustände möglich waren.
Das erfindungsgemäße magnetoresistive Element zeichnet sich
ferner dadurch aus, daß innerhalb der magnetischen
Schichten 10 eine Variation der einzelnen Lagendicken
möglich ist.
Durch die genannten Variationsmöglichkeiten können
beispielsweise sowohl die Effektgröße als auch das
Sättigungsfeld und damit die Empfindlichkeit der Lagen bzw.
Schichten gleichzeitig optimiert werden. Werden
beispielsweise die nicht-magnetischen Zwischenschichten 20
über eine kleine Austauschwechselwirkung in Richtung
kleinerer Sättigungsfelder optimiert, können gleichzeitig
die als Trilayer ausgebildeten magnetischen Schichten 10
zur Erzielung großer Effektgrößen hin optimiert werden,
wodurch eine MR-Kennlinie mit kleinen Sättigungsfeldern und
großen Effektgrößen bereitstellbar ist. Die beiden Größen
sind somit im wesentlichen unabhängig voneinander
einstellbar bzw. optimierbar.
Die einzelnen Lagendicken der jeweiligen magnetischen
Schichten 10 können, wie bereits erwähnt, unterschiedliche
Dicken aufweisen. Beispielsweise kann eine Lage 10a
bezüglich einer Lage 10b eine unterschiedliche Dicke
aufweisen. Es sei schließlich noch einmal angemerkt, daß
die dargestellte Ausbildung der magnetischen Schichten 10
als Trilayer lediglich ein bevorzugtes Ausführungsbeispiel
bildet. Es sind beliebige Multilayer-Schichtstrukturen der
jeweiligen Schichten 10 denkbar.
Die MR-Kennlinie eines magnetoresistiven Elements gemäß der
vorliegenden Erfindung kann beispielsweise durch Vermessung
in herkömmlicher Weise, sowie durch eine Analyse des Lagen-
bzw. Schichtaufbaus des Elements nachgewiesen werden.
Claims (6)
1. Magnetoresistives Element, insbesondere GMR-Zelle, mit
abwechselnd übereinander angeordneten ersten Schichten (10)
mit magnetischen Eigenschaften und zweiten Schichten (20)
mit nicht-magnetischen Eigenschaften, dadurch
gekennzeichnet, daß die ersten Schichten (10) einen
wenigstens dreilagigen Aufbau (10a, 10b, 10c) aufweisen,
wobei wenigstens zwei der wenigstens drei Lagen (10a, 10b,
10c) magnetische Eigenschaften aufweisen.
2. Magnetoresistives Element nach Anspruch 1, dadurch
gekennzeichnet, daß sämtliche Lagen wenigstens einer der
ersten Schichten (10), insbesondere sämtliche drei Lagen
(10a, 10b, 10c), magnetische Eigenschaften aufweisen.
3. Magnetoresistives Element nach Anspruch 1, dadurch
gekennzeichnet, daß wenigstens eine der drei Lagen der
wenigstens einen der ersten Schichten (10), insbesondere
die mittlere Lage einer dreilagigen ersten Schicht (10),
eine Dicke aufweist, welche bei Anliegen eines geeigneten
Magnetfeldes eine parallele oder eine antiparallele
Ausrichtung der Magnetisierung der zwei benachbarten Lagen
(10a, 10b) verursacht.
4. Magnetoresistives Element nach einem der vorstehenden
Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, daß die magnetische
Eigenschaften aufweisenden Lagen wenigstens einer der
ersten Schichten (10) aus unterschiedlichen Materialien
hergestellt sind.
5. Magnetoresistives Element nach einem der vorstehenden
Ansprüche 1, 3 oder 4, dadurch gekennzeichnet, daß
wenigstens eine der zweiten Schichten (20) und wenigstens
eine nicht-magnetische Lage (10c) einer ersten Schicht (10)
aus unterschiedlichen Materialien hergestellt sind.
6. Magnetoresistives Element nach einem der vorstehenden
Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, daß die magnetischen
Lagen wenigstens einer ersten Schicht (10) unterschiedliche
Dicken aufweisen.
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US5841611A (en) * | 1994-05-02 | 1998-11-24 | Matsushita Electric Industrial Co., Ltd. | Magnetoresistance effect device and magnetoresistance effect type head, memory device, and amplifying device using the same |
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US5825595A (en) * | 1997-05-13 | 1998-10-20 | International Business Machines Corporation | Spin valve sensor with two spun values separated by an insulated current conductor |
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