DE1514781A1 - Elektronenstrahl-Erzeugungssystem - Google Patents
Elektronenstrahl-ErzeugungssystemInfo
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Description
Die Erfindung betrifft ein Elektronenstrahl-Erzeugungssystem
für hohe Strahlspannungen.
Bei bekannten Elektronenstrahl-Erzeugungssystemen für hohe Strahl spannung en sind die hochspannungsfülirenden Teile des
Elektronenstrahlsystems durch Vakuumstrecken oder Isolator-Kriechstrecken
von den^jrf auf Erdpotential liegenden oder von
außen zugänglichen Teilen isoliert. Insbesondere ist der Abstand zwischen den hochspannungsführenden Teilen und dem
normalerweise metallischen Vakuumgehäuse an allen Stellen so groß, daß ein elektrischer Überschlag zum Gehäuse mit Sicherheit
nicht auftreten kann. Halterungen für die hoehspannungsführenden
Teile sitzen in Isolatoren» die eine große Oberflächen-Kriechstrecke
zwischen diesen Halterungen und den geerdeten Teilen, auf denen die Isolatoren aufgebaut sind, aufweisen.
Bei bekannten Elektronenstrahl-Erzeugungssystemen dieser und
ähnlicher Bauart ergeben sich bei der Verwendung hoher Strahl-
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Spannungen, etwa in der Größenordnung 100 kV, erhebliche Abmessungen, die beim praktischen Einsatz sehr hinderlich
sein können. Besonders störend sind die großen Gehäusedurchmesser, die sich aus den notwendigen Abständen zwischen
Elektronenstrahl-Erzeugungssystem und Gehäuse-Innenwand ergeben O
Die Erfindung hat sich die Aufgabe gestellt, ein Elektronenstrahl-Erzeugungssystem
der eingangs angegebenen Art zu schaffen, das bei gegebener Streu spannung erheblich verminderte
Abmessungen, insbesondere einen erheblich verringerten Durchmesser aufweist.
Nach der Erfindung wird die gestellte Aufgabe bei einem Elektronenstrahl-Erzeugungssystem für hohe Strahlspannungen
im wesentlichen dadurch gelöst, daß die hochspannungsführenden Teile des Elektrodensystems von einem Gefäß umgeben sind,
dessen Außenfläche von einem geerdeten elektrischen Leiter bedeckt ist und dessen Innenwände, als Isolierkörper ausgebildet
sind und die hochspannungsführenden Teile mit so kleinem Abstand umgeben, daß zumindest bereichsweise die elektrische
Isolierung zwischen den hochspannungsführenden Teilen und den im wesentlichen auf Erdpotential liegenden Teilen teilweise
oder ganz von der elektrischen Durchschlagsfestigkeit des
Isolierkörpers bestimmt ist.
Bei dem erfindungsgemäßen Elektronenstrahl-Erzeugungssystem wird somit die im Vergleich zum Vakuum erheblich größere
Durchschlagsfestigkeit eines Isolierkörpers ausgenutzt, so daß Jjank der Verwendung dieses Isolierkörpers im Isolationsweg
zwischen den hochspannungsführenden Teilen und den im wesentlichen auf Erdpotential liegenden Teilen eine erhebliche Ver-
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kleinerung dieses Isolationsweges möglich ist. Xm Gegensatz
zu den bekannten Bauarten von Elektronenstrahl-Erzeugungssystemen
werden bei dem erfindungsgemäßen Elektronenstrahl-Erzeugungssystem
die verwendeten Isolierstoffe nicht nur nach
dem Gesichtspunkt ausgebildet, daß ein möglichst großer Kriechweg
auf der Oberfläche der Isolierstoff teile vorhanden ist, sondern bewußt auch senkrecht zu ihrer Oberfläche mit einer
elektrischen Feldstärke belastet, die einen erheblichen Bruchteil der Durchschlagsfeldstärke betragen kann.
Nach einem weiteren Merkmal der vorliegenden Erfindung kann
das Elektronenstrahl-Erzeugungssystem so ausgebildet sein, daß die elektrische Mitte des Kriechweges auf der dem Elektrodensystem
zugewandten Fläche des Isolierkörpers der elektrischen Mitte der Beschieunigungsstrecke etwa gegenüberliegt.
Durch diese Gestaltung des Aufbaues des Elektronenstrahl-Erzeugungssystems
wird erreicht, daß die elektrische Belastung des Isolierkörpers zumindest in der Nähe der elektrischen
Mitte der Beschleunigungsstrecke etwa nur die Hälfte der gesamten Potentialdifferenz zwischen den hochspannungsführenden
und geerdeten Teilen beträgte
Nach einem weiteren Merkmal der vorliegenden Erfindung kann der Isolierkörper derart geformt sein, daß die vom Kriechweg
bestimmten Oberflächenpotentiale der dem Elektroden-System zugewandten Fläche des Isolierkörpers mit den auf dieser Flache
durch die Geometrie der Metallteile bestimmten Potentialen möglichst weitgehend übereinstimnyfc. Durch diese Gestaltung
des Isolierkörpers werden die Einflüsse, die bei etwaigen Veränderungen der Oberflächenbeschaffenheit des Isolierkörpers
von der dabei entstehenden Veränderung der Ladungsverteilung
auf die Strahlgeometrie ausgeübt werden, weitgehend herabgesetzt.
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Weitere Merkmale der Vorteile der Erfindung ergeben sich aus der folgenden beispielsweisen Beschreibung in Verbindung mit
den Zeichnungen.
Fig. 1 zeigt schematisch einen Axialschnitt durch den oberen
Teil eines erfindungs gemäß en Elektron«, -.strahl -Erzeugungssystems.
Fig. 2 zeigt eine der Fig. 1 entsprechende Darstellung, erläutert
jedoch eine andere Ausführungsform, bei der ein
Kathodenmagazin mit liathodenwechsel-Vorrichtung vorgesehen
ist.
Fig. 3 erläutert schematisch in vergrößerter Darstellung
eine erfindungsgemäße Gestaltung des Isolierkörpers, ebenfalls in einem Axialschnitt.
Das in Fig. 1 schematisch dargestellte erfindungsgemäße Elektronenstrahl-Erzeugungssystem enthält ein Gefäß 1,
das einen Teil des Vakuumgehäuses darstellt und im wesentlichen aus einem hohlzylindrischen Isolierkörper 5 besteht,
auf dessen Außenseite 2 ein geerdeter elektrischer Leiter 3 in Form einer Blech-Ummantelung vorgesehen ist. Die Ummantelung
3 kann beispielsweise mit Hilfe von Spannbändern 30 auf den Isolierkörper 5 aufgezogen sein.
Im Inneren des wesentlich hohlzylindrischen Gefäßes 1 ist das Kathodensystem angeordnet, das sämtliche hochspannungsführenden
Teile umfaßt} die Innenwand 4 des Gefäßes liegt
verhältnismäßig dicht an dem Kathodensystem, so daß die elektrische Isolierung zwischen dem Kathodensystem und der
metallischen Umhüllung 3 Am wesentlichen von der Durchschlagfestigkeit
des Isolierkörpers 5 bestimmt wird. Das Kathoden-
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system ist mit Hilfe eines Tragringes 6 am Isolierkörper
befestigt. Der Tragring 6 kann beispielsweise, wie dargestellt, in den Isolierkörper eingegossen sein· Zu diesem
Zweck kann der Isolierkörper an den Befestigungsstellen des Tragringes 6 Verstärkungen 35 aufweisen, in welchen
die zweckmäßigerweise als Verankerungen ausgebildeten und aus elektrischen Gründen abgerundeten Randteile 3^ des
Tragringes 6 eingegossen sind. Die Berührungsfläche zwischen
den Randteilen 34 und dem Isolierkörper 5 wird erfindungsgemäß so groß gewählt, daß der vom Kathodensystem im Betrieb
über den Tragring 6 abfließende Wärmestrom die Berührungsstellen mit dem Isolierkörper 5 nicht so hoch erwärmen kann,
daß das Material, aus dem der Isolierkörper 5 besteht, in
seinen Eigenschaften beeinträchtigt wird. Das Kathodensystem besteht bei der dargestellten Ausführungsform aus einer
Wehneltelektrode 71 in deren Steueröffnung die V-förmige
Kathode 8 liegt. Die Kathode 8 ist in einer Kathodenhalterung befestigt, die mit seitlichen Isolieransätzen 36 in (nicht
dargestellten) Führungsbahnen der Wehneltelektrode 7 in vorbestimmter
Lage relativ zur Wehneltelektrode einsitzt. Am
oberen Ende ist die Kathodenhaiterung 32 mit Verankerungsmitteln versehen, die mit einem (nicht dargestellten) Schlüssel
für das Herausnehmen und Einsetzen der Kathodenhalterung in Eingriff treten können. Bei den Ausführungsformen nach den
Fig. 1 und 2 sind als Verankerungsmittel einfache Bajonettschlitze
33 angedeutet; selbstverständlich können auch andere Vorrichtungen zum Herstellen eines Eingriffs zwischen der
Kathodenhalterung und einem Schlüssel verwendet werden. ■
In dem Tragring 6 sind Pumpöffnungen 9 vorgesehen, damit in den ,oberhalb und unterhalb des Kathodensystems liegenden
Räumen 1.4 und 15 im wesentlichen gleiche Drucke herrschen.
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Wie sich aus den Figuren 1 und 2 ergibt, wird bei den dort dargestellten Ausführungsformen das Kathodensystem
von dem als Vakuumgehäuse dienenden Isolierkörper 5 getragen.
Das obere Ende des Gefäßes 1 ist mit einem lösbaren Deckel 12 versehen, der ebenfalls aus Isoliermaterial
besteht und einen zur Innenfläche 4 des Isolierkörpers 5
passenden Randabsatz l6 sowie eine metallische Abdeckung 13 aufweist. Die Abbildung 13 kann mittels Schrauben 29 an dem
Deckel 12 angeschraubt sein. Die Abdichtung zwischen dem Isolierkörper 5 und dem Deckel 12 erfolgt durch eine Ringdichtung
17.
Das untere Ende des Isolierkörpers 5 ist mit einem Flansfr 25
versehen und mit diesem Flansch 25 an einer Anodenplatte 11 um einen Flansch 26 eines nach unten anschließenden weiteren
Gehäuseteiles 20 mittels Schrauben 27 verschraubt. Um eine genaue Ausrichtung des Gefäßes 1, des Anodenringes 11 und
des unteren Gehäuseteiles 20 sicherzustellen, können Paßstifte
vorgesehen sein. Die Abdichtung zwischen den genannten Teilen erfolgt wiederum durch Ringdichtungen 22 un d 23 · Die an den
unteren Gehäuseteil 20 anschließenden und in diesem Gehäuseteil untergebrachten Teile sind in den Fig. nicht dargestellt.
Es kann sich dabei beispielsweise um elektronenoptasche Systeme
und Vorrichtungen zur Strahlablenkung sowie Bearbeitungsräume handeln.
Die Anodenplatte 11 besitzt Pumpöffnungen l8 und einen mittleren Anodenwulst 10. Unmittelbar unterhalb der Anodenplatte 11
kann an dem vom Gehäuseteil 20 umschlossenen Raum 19 ein
(nicht dargestelltes) Blendensystem angebracht sein, das einen Durchtritt von verdampftem Material aus den Bearbeitungsräumen
in die Innenräume 14 und 15 des Elektronenstrahl-Erzeugungs-
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systems verhindert. Die Evakuierung des Gefäßes l erfolgt
vom Raum 19 bzw. den daran anschließenden Räumen her durch die Anodenöffnung und die Pumpöffnungen 9 und l8.
Wie aus den Fig. 1 und 2 ersichtlich, gliedert das Kathodensystem
das Innere des Isolierkörpers 5 in eine hintere Kammer l4 und eine vordere Kammer 15J die hintere Kammer tk
kann durch Abnehmen des Deckels 12 geöffnet werden. Durch die entstandene Öffnung können dann Werkzeuge, Kathoden und
dergleichen in das Innere des Isolierkörpers 5 und in das Innere der nach oben offenen becherförmigen Wehneltelektrode
eingeführt werden*
In den Fig. 1 und 2 ist die elektrische Mitte des Beschleunigungsweges
zwischen der Kathode 8 und der Anode 10 durch
die gestrichelte Linie 28 angedeutet. Man erkennt, daß bei der
in den Figuren gewählten Anordnung diese Linie 28 die Innenfläche 4 des Isolierkörpers 5 etwa auf halbem Weg zwischen dem
Tragring 6 und dem Anodenring 11 schneidet, so daß die elektrische
Mitte des Beschleunigungsweges etwa der elektrischen Mitte des Kriechweges zwischen dem auf Kochspannung liegenden
Tragring 6 und dem im wesentlichen auf Brdpotential liegenden Anodenring 11 radial gegenüberliegt. Die sich auf der Innenfläche 4 des Isolierkörpers 5 im Betrieb ausbildenden Oberflächenpotentiale
beeinflussen die Lage/r/ des erzeugten Elektronenstrahls.
Bei denen in Fig. 1 und 2 dargestellten Ausfuhr ungs formen ist die Ladungsverteilung auf der Fläche 4 im
wesentlichen zeitlich konstant, da Kriechpotential und geometrisches
Potential übereinstimmt.
Die Zuführung der auf hohem Potential gegen Erde liegenden
Betriebsspannungen zum Kathodensystem erfolgt über (nicht dar-
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gestellte) Leitungen, die vorzugsweise den Isolierkörper etwa radial durchsetzen und beispielsweise mittels einer
Hochspannungs-Steckkupplung, die am Außenmantel 3 befestigt
sein kann, an Versorgungsleitungen angeschlossen sind·
Die in Fig· 2 dargestellte Ausführungsform eines erfindungsgemäßen
Elektronenstrahl-Brzeugungssystems unterscheidet
sich von der Ausführungsform nach Fig· 1 im wesentlichen dadurch, daß sich an die hintere Kammer Ik nach hinten eine
weitere Kammer 21 anschließt, in welcher sich eine Vorrichtung zur Aufnahme von Reservekathoden und zur Beschickung des
Strahlerzeugungesystems unter Vakuum befindet· Bei dieser Ausführungsform ist die Öffnung l€ der hinteren Kammer ik
offen, und statt des Deckels 12 ist ein Metallring 51 auf
die Oberseite des Isolierkörpers 5 aufgesetzt· Dieser Metallring ist durch eine Ringdichtung 57 gegen den Isolierkörper
abgedichtet. Das obere Ende des Isolierkörpers 5 ist mit einem
Flansch 5k versehen, der mit dem Rand des Metallringes 51 und einem darüber aufgesetzten Flansch 55 der Kammer 21 mittels
Schrauben 53 verschraubt ist. Die Kammer 21 ist mittels einer
Ringdichtung 56 gegen den Metallring 51 abgedichtet, im
wesentlichen zylindrisch geformt und besteht aus einem an den Flansch 55 anschließenden Mantel 58 und einem Deckel 93,
Zur Ausrichtung der Teile 5, 51 und 58 aufeinander dienen
beispielsweise Paßstifte 52.
Die Vorrichtung zur Aufnahme von Reservekathoden und zur Beschickung des Strahlerzeugungasystems mit Kathoden besteht
im wesentlichen aus einer kreisförmigen Magazinscheibe 64, die in einem Lager 63 um eine parallel zur Strahlachse verlaufende
Drehachse gelagert ist und mehrere über den Umfang
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verteilte Magazinöffnungen 65 aufweist, in welchen Kathodenhalterungen
32 lösbar befestigt werden können. Der Außenrand der Magazinscheibe 64 ist mit einer Zahnung versehen
und steht mit einem Zahnrad 67 in Eingriff, das in dem
Lager 62 gelagert ist. Das Zahnrad 67 wird von einem Ritzel angetrieben, das mit der Antriebswelle eines im Raum 21
angeordneten Getriebemotors 69 drehfest verbunden ist. Der
Getriebemotor 69 wird von Stützen 70 getragen und ist über Zuleitungen 71 und eine Vakuum-Leitungsdurchführung 72, die
in den Deckel 93 eingekittet ist, mit Anschlußklemmen verbunden. In der Mitte des Deckels 93 ist eine Schubstange 77
mit Hilfe einer Wellendichtung 75 vakuumdicht in Strahlrichtung durchgeführt. Die Dichtung 75 sitzt in einem Ring
ein und wird von einem Druckglied 74, das mit Schrauben 76
befestigt ist, an Ort und Stelle gehalten und gegen die Schubstange
77 gedrückt. Das untere Ende der Schubstange 77 ist
mit einem zu den Verankerungselementen 33 der Kathodenhaiterung
passenden Eingriffmittel versehen, beispielsweise mit einem
radialen Stift 78, der mit der in den Fig. 1 und 2 dargestellten
Bajonettfassung 33 in Eingriff treten kann. Es läßt sich also
durch Absenken der Schubstange 77» Eintreten des Stiftes 78
in den Bajonettschlitz 33, Drehung der Schubstange 77 und erneutes
Anheben der Schubstange 77 eine in der Wehneltelektrode befindliche Kathodenhaiterung 32 nach oben herausziehen. In
Fig. 2 ist dieser Zustand dargestellt. Um dieses Herausziehen durch die Magazinscheibe 64 zu ermöglichen, ist in der Magazinschibe
zumindest eine große Öffnung65 vorgesehen, durch welche
die Kathodenhaiterung 32 mit Spiel hindurch geht. Nachdem die
in Fig. 2 dargestellte Lage erreicht ist, kann durch Einschalten
des Getriebemotors 69 die Magazinscheibe 64 so weit gedreht
werden, daß eine leere Magazinöffnung 66 genau unterhalb der
herausgezogenen Kathodenhaiterung 32 zu liegen kommt. Durch
Absinken der Schubstange 77 kann dann diese Kathodenhaiterung
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in die Magazinöffnung eingesetzt und durch gegenseitige Drehung und durch Drehung der Schubstange 77 von der Schubstange
gelöst -werden. Danach kann die Schubstange nach oben weggezogen und die Magazinscheibe -64 durch erneutes Einschalten
des Getriebemotors 69 so weit gedreht werden, daß eine volle Magazinöffnung 66, z. B. die in Fig. 2 mit der
Reserve-Kathodenhalterung 132 gefüllt« Magazinöffnung/ genau
unterhalb der Schubstange 77 zu liegen kommt. Die exakte Ein- und Ausschaltung des Getriebemotors 69 kann mit Hilfe
von (nicht dargestellten) Grenzschaltern und ähnlichen bekannten Einrichtungen auch automatisiert werden. Die genau
unterhalb der Schubstange 77 liegende Reserve-Kathodenhalterung
132 läßt sich mit Hilfe der Schubstange 77 erfassen und nach oben ziehen. Sodann kann die Magazinscheibe
wieder so weit gedreht werden, daß die große Öffnung 65 unterhalb der nach oben gezogenen Reserve-Kathodenhalterung liegt,
und es kann die Schubstange 77 nach unten bewegt werden, bis die an ihr befestigte Reserve-Kathodenhalterung in die Wehneltelektrode
7 eingesetzt ist. Durch Drehen kann sodann die Schubstange 77 aus ihrem Eingriff mit der Reserve-Kathodenhalterung
gelöst und wieder nach oben bewegt werden. Zur Beobachtung des Wechselvorganges kann im Material 58 oder
im Deckel 93 ein Beobachtungsfenster 59 eingesetzt sein.
Das Laden und Entladen der Magazinscheibe 64 mit Kathodenhalterungen
kann über eine im Deckel 93 vorgesehene Öffnung erfolgen, die durch einen mittels Dichtung 6l vakuumdicht
aufsitzenden Deckel 60 verschlossen ist.
Die Bewegungen der Stange 77 beim Kathodenwechsel lassen sich automatisieren und mit den Bewegungen der Magazinscheibe
64 koordinieren. Derartige Vorrichtungen lassen sich in vielfältiger Weise ausführen. In Fig. 2 ist ledig-
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lieh beispielsweise angedeutet, daß ein Mittelabsohnitt
der Stange 77 mit (siewinde versehen sein kann; auf diesem
Mittelabschnitt sitzt eine Hülse 94, die innen mit einem
zum Stangengewinde 79 passenden Gewinde und außen mit einer
Zahnung versehen ist * Die äußere Zahnung steht mit einem
Schneckenrad 80 eines Getriebemotors 8i in Eingriff* Die Hüls· 94 1st zwischen Anschlägen 95 der Höhe nach unbeweglich gelagert. Die Anschläge 95 und der Motor 8i sind auf
einem Lagerbock 86 und einem Gestell 83 befestigt. Das obere Ende der Stange 77 trägt einen Steuerzylinder 84,
der mit einer Steuerkurve 85 und Anschlagmitteln 96 versehen
ist. Jn die Kurve 85 greift ein (nicht dargestellter)
ortsfester Steuerstift ein, und die Anschlagmittel $6
treten in den Bndlagen der Vertikalbewegung der Stange 77
mit Grenzschaltern 82 in Eingriff. Die Steuerkurve 85 verläuft so, daß sich bei der Drehung des Getriebemotors 81
die zum Lösen und Erfassen der Kathodenhaiterungen erforderlichen
Schub- und Drehbewegungen der Stange 77 automatisch an den richtigen Stellen und im richtigen Ausmaß
ergeb.en. Auf die genaue Ausführung dieser automatischen Steuerung wird hier nicht weiter eingegangen.
Xn Fig. 3 ist schematisch erläutert, daß der Kriechweg auf
der Innenfläche 4 des Isolierkörpers 5 in vorbestimmter
Weise verändert, beispielsweise durch die Einfügung von Wellen 91 und 92 in der Nähe des Tragringes 6 verlängert
sein kann. Durch derartige oder ähnliche Maßnahmen läßt sich erreichen, daß die vom Kriechweg bestimmten Oberflächenpotentiale der dem Elektrodensystem zugewandten Fläche des
Isolierkörpers mit den auf dieser Fläche durch die Geometrie der Metallteile bestimmten Potentialen möglichst weitgehend
übereinstimmt. Durch diese Maßnahme wird sichergestellt, daß
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gegenseitige Beeinflussungen des Elektronenstrahls und der
Ladungsverteilung auf der Fläche 4 auf ein Minimum herabgesetzt wird*
Ändere Ausführungsformen sind möglich.ohne den Rahmen der
Erfindung zu verlassen·
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Claims (1)
- φμλ 1 R 1 A 7 P 1Patentansprüche /I $ I- O I η / Q rElektronenstrahl-Erzeugungssystemfür nolie Strahlspannungen, dad. gek.,· daß die hochspannungsführenden Teile des Elektrodensystems von einem Gefäß (1) umgeben sind, dessen Außenfläche (2) von einem geerdeten elektrischen Leiter (3) "bedeckt ist und dessen Innenwände (4) als Isolierkörper (5) ausgebildet sind und die hocnspannungsführenden Teile (6,7,8) mit so kleinem Abstand umgeben, daß zumindest bereichsweise die elektrische Isolierung zwischen den hocnspannungsführenden Teilen und den im wesentlichen auf Erdpotential liegenden Teilen (3,1o,1i) teilweise oder ganz von der elektrischen ' Durchschlagfestigkeit des Isolierkörpers (5) bestimmt ist.2. Elektronenstrahl-Erzeugungssystem nach Ansprucn 1 , dad«,gek. , daß das Gefäß (1) zumindest einen Teil eines Vakuumgehäuses (1,11,12) bildet, das wahlweise geöffnet werden kann.3. Elektronenstrahl-Erzeugungssystem nach Anspruch 1 oder 2, mit einem zu den hocrispannungsführenden Teilen genörigen Kathodensystem (7,8), dad. gek., daß das Kathodensystem von dem Isolierkörper (5) getragen.wird»4-c Elektronenstrahl-Erzeugungssystem nach Anspruch 3> dad.geko, daß dem KatJiodensystfcm die auf rionem Potential gegen Erde befindlichen Betriebsspannungen über -Leitungen zugeführt werden, die den Isolierkörper durchsetzen.5. Elektronenstrahl-Erzeugungssystem nacn Anspruch 3 oder 4-, dad. gek. , daß das ICathodensystem (7,8) im Inneren des im wesentliciien iiohlzylindriscn ausgebildeten Isolierkörpers (5) angeordnet ist und dieses Innere in eine in ütrahlrichtung ninter dem Kathodensystem liegende hintere Kammer (14·-) und eine zwischen dem Kathodensystem und der Anode (ίο) liegende vordere Kammer (15) gliedert.909 8 17/052615H7816. Elektronenstrahl »-Erzeugungssystem nach Anspruch 5>, dad. gek., daß die hintere Kammer (14) mit mindestens einer verschließbaren Öffnung (16) zum Zuführen von Kathoden, Werkzeug und dergleichen versehen ist.Elektronenstrahl-Erzeugungssystem nach Anspruch 5> dad. gek„, daß sich in dem in Strahlrichtung hinter dem Kathodensystem liegenden Raum (21) eine Vorrichtung zur Aufnahme von Beservekathoden (132) und zur automatischen Beschickung des Strahlerζeugungssystems mit Kathoden unter Vakuum befindet.8. Elektronenstrahl-Erzeugungssystem nach Anspruch 5, dado gek., daß sich an die hintere Kammer (14) eine weitere Kammer (21) anschließt, in welcher sich eine Vorrichtung zur Aufnanme von Seservekathoden (132) und zur Beschickung des Stranlerzeugungssystems mit Katnoden unter Vakuum befindet.9. Elektronenstrahl-Erzeugungssystem nach Anspruch 6 oder 7» dad. gek., daß die Öffnung (16) sowoiril vakuumdicht als auch nochspannungsdicrit verschließbar ist.Ιο«, Elektronenstrahl-Erzeugungssystem nach einem der .Ansprüche 1-9> dad. gek., daß die elektrische Mitte des Kriechweges auf der dem Elektrodensystem zugewandten Fläcne des Isolierkörpers (5) der elektrischen Mitte (28) der Bescnleunigungsstrek-' ■ ke etwa gegenüberliegt.11. Elektronenstrahl-Erzeugungssystem nach einem der Ansprüche 1-1o, dad. gek., daß der Isolierkörper (5) derart geformt ist, daß die vom Kriechweg bestimmten Oberflächenpotentiale der dem Elektrodensystem zugewandten Fläche (4) des Isolierkörpers mit den auf dieser Fläche durch die Geometrie der Metallteile (3>7,1o)11) bestimmten Potentialen möglicnst weitgehend übereinstimmt._ 3 _ 9098 17/0526, _ Τ5Μ7811.2» Elektronenstrahl-Efczeugungssystem nach einem der Ansprüche 1-11, dad. gek*, daß die im Isolierkörper (5) gelagerten und sich im Betrieb erwärmenden Metallteile (6) eine so große Berührtmgsflache mit dem Isolierkörper haben, daß der Isolierkörper die ihm aus den Metallteilen zufließenden Wärmeströme zu auf Erdpotential^liegenden Teilen (5,11) abführen kann» ohne daß die Berührungsstellen zwischen den Metallteilen und dem Isolierkörper sich auf eine Temperatur erwärmen, die dem Isolier* material, aus dem der Isolierkörper besteht, schädlich sind«9098 1 7/0526
Applications Claiming Priority (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
DEST024757 | 1965-12-13 | ||
DEST024757 | 1965-12-13 |
Publications (3)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
DE1514781A1 true DE1514781A1 (de) | 1969-04-24 |
DE1514781B2 DE1514781B2 (de) | 1975-09-11 |
DE1514781C3 DE1514781C3 (de) | 1976-04-22 |
Family
ID=
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
DE4000573A1 (de) * | 1990-01-10 | 1991-07-11 | Balzers Hochvakuum | Elektronenstrahlerzeuger und emissionskathode |
DE102011007215A1 (de) * | 2011-04-12 | 2012-10-18 | Siemens Aktiengesellschaft | Elektronenquelle zur Erzeugung eines Elektronenstrahls sowie Röntgenquelle zur Erzeugung von Röntgenstrahlung |
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WO2012139872A2 (de) | 2011-04-12 | 2012-10-18 | Siemens Aktiengesellschaft | Elektronenquelle zur erzeugung eines elektronenstrahls sowie röntgenquelle zur erzeugung von röntgenstrahlung |
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AT272420B (de) | 1969-07-10 |
FR1504366A (fr) | 1967-12-01 |
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Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
C3 | Grant after two publication steps (3rd publication) | ||
E77 | Valid patent as to the heymanns-index 1977 | ||
8320 | Willingness to grant licences declared (paragraph 23) | ||
8327 | Change in the person/name/address of the patent owner |
Owner name: MESSER GRIESHEIM GMBH, 6000 FRANKFURT, DE |