[go: up one dir, main page]
More Web Proxy on the site http://driver.im/

DE1298414B - Lichtempfindliches Gemisch - Google Patents

Lichtempfindliches Gemisch

Info

Publication number
DE1298414B
DE1298414B DEK63858A DEK0063858A DE1298414B DE 1298414 B DE1298414 B DE 1298414B DE K63858 A DEK63858 A DE K63858A DE K0063858 A DEK0063858 A DE K0063858A DE 1298414 B DE1298414 B DE 1298414B
Authority
DE
Germany
Prior art keywords
vinylcarbazole
layers
layer
compounds
lamp
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
DEK63858A
Other languages
English (en)
Inventor
Dietrich
Dr Roland
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Kalle GmbH and Co KG
Original Assignee
Kalle GmbH and Co KG
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Kalle GmbH and Co KG filed Critical Kalle GmbH and Co KG
Priority to DEK63858A priority Critical patent/DE1298414B/de
Priority to NL6815474A priority patent/NL6815474A/xx
Priority to BE723475D priority patent/BE723475A/xx
Priority to AT1078668A priority patent/AT287484B/de
Publication of DE1298414B publication Critical patent/DE1298414B/de
Pending legal-status Critical Current

Links

Classifications

    • GPHYSICS
    • G03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/004Photosensitive materials
    • G03F7/027Non-macromolecular photopolymerisable compounds having carbon-to-carbon double bonds, e.g. ethylenic compounds
    • G03F7/028Non-macromolecular photopolymerisable compounds having carbon-to-carbon double bonds, e.g. ethylenic compounds with photosensitivity-increasing substances, e.g. photoinitiators
    • G03F7/029Inorganic compounds; Onium compounds; Organic compounds having hetero atoms other than oxygen, nitrogen or sulfur
    • G03F7/0295Photolytic halogen compounds
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C08ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08FMACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED BY REACTIONS ONLY INVOLVING CARBON-TO-CARBON UNSATURATED BONDS
    • C08F26/00Homopolymers and copolymers of compounds having one or more unsaturated aliphatic radicals, each having only one carbon-to-carbon double bond, and at least one being terminated by a single or double bond to nitrogen or by a heterocyclic ring containing nitrogen
    • C08F26/06Homopolymers and copolymers of compounds having one or more unsaturated aliphatic radicals, each having only one carbon-to-carbon double bond, and at least one being terminated by a single or double bond to nitrogen or by a heterocyclic ring containing nitrogen by a heterocyclic ring containing nitrogen
    • C08F26/12N-Vinyl-carbazole

Landscapes

  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Physics & Mathematics (AREA)
  • Inorganic Chemistry (AREA)
  • Spectroscopy & Molecular Physics (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Health & Medical Sciences (AREA)
  • Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
  • Medicinal Chemistry (AREA)
  • Polymers & Plastics (AREA)
  • Organic Chemistry (AREA)
  • Photosensitive Polymer And Photoresist Processing (AREA)

Description

Die Erfindung betrifft ein lichtempfindliches Gemisch mit einem N-Vinylcarbazol als äthylenisch ungesättigte photopolymerisierbare Verbindung und einer als Initiator wirksamen photolytischen organischen Polyhalogenverbindung.
Unter der Wirkung von Strahlung geeigneter Wellenlänge wird in derartigen Gemischen oder in ^ daraus hergestellten Schichten, ausgelöst durch die Polyhalogenverbindungen, eine Polymerisation bzw. Vernetzung und damit eine Veränderung der Lös- ro lichkeit hervorgerufen, so daß unbelichtete Bildteile ablösbar werden, wodurch derartige Schichten zur Herstellung von Kopien oder nach einer entsprechenden Nachbehandlung zur Herstellung von Druckformen geeignet sind.
Es ist bekannt, Schichten aus monomeren, photopolymerisierbaren Verbindungen in Anwesenheit geeigneter Photopolymerisationsinitiatoren zu belichten und so zu einem Bild einer entsprechenden, zwischen Lampe und Schicht befindlichen Kopiervorlage zu kommen. Die so erhaltenen Bilder sind jedoch meist farblos und daher nicht direkt lesbar, zum anderen sind die notwendigen Belichtungszeiten dabei sehr lang. Es gehört ferner zum Stand der Technik, durch Zusatz entsprechender Sensibilisatoren die Lichtempfindlichkeit dieser Systeme noch zu steigern. Zur Erzeugung von Rückvergrößerungsbildem innerhalb vertretbarer Zeiten reichen diese Verfahren jedoch nicht aus.
Ferner ist es bekannt, als Photoinitiatoren Polyhalogenverbindungen zu verwenden, die wahrscheinlich durch Radikalbildung die Polymerisation der monomeren Verbindungen auslösen, wobei direkt gefärbte, hochmolekulare Verbindungen entstehen (deutsche Auslegeschrift 1 175 986).
Nachteilig daran ist, daß die am besten geeigneten Polyhalogenverbindungen, wie Jodoform oder Tetrabrommethan, einen so hohen Dampfdruck aufweisen, daß sie sich in kurzer Zeit aus der Schicht verflüchtigen und ferner toxikologisch außerordentlich bedenklich sind.
Aufgabe der Erfindung ist, lichtempfindliche, photopolymerisierbare Gemische anzugeben, die als Photopolymerisationsinitiatoren nicht flüchtige und toxikologisch unbedenkliche photolytische organische Halogenverbindungen enthalten und die in lichtempfindlichen Schichten direkt lesbare Bilder ergeben.
Der Gegenstand der Erfindung geht von einem lichtempfindlichen Gemisch mit einem N-Vinylcarbazol als äthylenisch ungesättigter photopolymerisierbarer Verbindung und einer als Initiator wirksamen photolytischen organischen Polyhalogenverbindung aus und ist dadurch gekennzeichnet, daß es als Initiator eine oder mehrere Halogenmethylsym-triazine der Formel
und H, Cl, Br oder J bedeuten, B, C gleich
— OR oder -NR2 mit R gleich H, Alkyl, Aryl, Aralkyl, wobei im Falle von —NRa N auch Glied eines cycloaliphatischen Ringes sein kann.
Eine Anzahl der erfindungsgemäß verwendbaren Verbindungen ist in der nachfolgend angegebenen Tabelle aufgeführt, wobei besonders bevorzugt solche Verbindungen sind, die die Polyhalogenmethylgruppe mehrfach enthalten. Ihre Herstellung kann beispielsweise nach den Verfahren von S c h a e f e r— Ross, Journal of Organic Chemistry, 1964, Vol. 29, S. 1527 ff., erfolgen.
X —C-Z
N N
χ γ Z B C
1 Br Br-' Br -CBr3 -CBr3
2 H Br Br -CHBr2 -CHBr2
3 Br Br Br (_θΓ3 -NH2
4 Br Br Br -CBr3 -N<T>
5 Br Br Br -CBr3 -OCH3
6 J J J -CJ3 -CJ3
7 H J J -CHJ2 -OQH5
8 Br Br Br -CBr3 -OC6H4CH3
X —C — Z
N N
60
65
enthält, worin X, Y, Z gleich oder verschieden sind Als polymerisationsfähige monomere Verbindungen werden N-Vinylcarbazol verwendet, so insbesondere das Vinylcarbazol selbst, sowie 3,6-Dimethyl-N-vinylcarbazol oder /fyi-Dimethyl-N-vinylcarbazol.
Durch die Erfindung wird erreicht, daß Schichten aus den lichtempfindlichen Gemischen gemäß der Erfindung eine ungewöhnlich hohe Lichtempfindlichkeit aufweisen, wie sie sonst nur mit Schichten, die Tetrabrommethan enthalten, erreicht wird. Die in ihnen enthaltenen Initiatoren haben jedoch einen minimalen Dampfdruck und verflüchtigen sich daher nicht aus der fertigen Kopierschicht. Trotzdem sind die Schichten aus den erfindungsgemäßen Gemischen sehr leicht löslich, so daß sie in einem Fixierschritt unschwer entfernt werden können.
Die Herstellung eines Aufzeichnungsmaterials aus den erfindungsgemäßen lichtempfindlichen Gemischen wird nach an sich in der Reproduktionstechnik üblichen Verfahren vorgenommen. Die Schichten können durch Zusatz geeigneter Sensibilisatoren, ζ. B. Merocyanines Ferrocenen, N-Phenylthioacridonen, in ihrer Lichtempfindlichkeit noch erheblich gesteigert werden. Zusätzlich können noch ver-
schiedenartige Bindemittel in ihnen enthalten sein, ζ. Β. Celluloseäther, Celluloseester, Polyvinylchlorid, Polyvinylidenchlorid, Phenol-Formaldehyd-Kondensationsprodukte, Polystyrol, Maleinsäure-Styrol-Copolymerisate, Polyvinylcarbazol, Acrylharze u. a. Die Kopierschichten können auf geeignete Schichtträger aufgebracht sein, so auf Papier, Folie, Keramik oder metallische Schichtträger.
Die erfindungsgemäßen lichtempfindlichen Gemische sind geeignet sowohl zur Herstellung von normalen Kopien von Kopiervorlagen im Maßstab 1:1 als auch für Rückvergrößerungen von Mikrofilm auf Papier. Bei Zusatz von Sensibilisatoren ist es fernerhin möglich, handelsübliche Wärmekopiergeräte zu verwenden. Die Belichtungszeiten nach dem normalen Durchlichtverfahren betragen z. B. in einem handelsüblichen Wärmekopiergerät 0,1 bis 0,3 Sekunden, liegen also an der obersten Grenze der Leistungsfähigkeit solcher Geräte. Erhalten werden dabei je nach den Bestandteilen der Schicht rötliche, grüne oder nahezu schwarze, scharfe, reliefartige Bilder auf farblosem Grund.
Ebenfalls hervorragend geeignet sind die erfindungsgemäßen Kopierschichten zur Herstellung von Druckformen, die hohe Druckauflagen von Rastervorlagen erreichen und selbst die feinsten Raster ausgezeichnet wiedergeben. Bei der Herstellung von Ätzschichten, Hochdruckformen und gedruckten Schaltungen kann es vorteilhaft sein, das lichtempfindliche Gemisch als, solches in fester Form oder gelöst in geeigneten Lösungsmitteln, wie Äthylglykol, Aceton, Methyläthylkeio.a, Butylacetat usw., oder Gemischen von Solventien zu verwenden und erst unmittelbar vor der Verwendung auf den gewünschten Schichtträger aufzubringen.
B e i s ρ i e ! 1
Eine sorgfältig entfettete Glasplatte wird im Halbdunkel gleichmäßig mit einer Lösung von 1 g N-Vinylcarbazol, 450 «ig Tris-tribrommethyl-s-triazin und 20 mg eines Sensibilisators in iO ml Aceton beschichtet. Der Sensibilisator ist ein Merocyanin der Formel
C-N-C2H5
■ QH5
Die getrocknete Schicht belichtet man unter einer negativen Kopiervorlage mit einer Kohlenbogenlampe (18 A, Abstand Schicht — Lampenrand 35 cm) 1 Sekunde. Die Schicht wird kurz in Ligroin ausgewaschen, und man erhält ein gelblichbraunes, spiegelndes Reliefbild auf blaßgefärbtem Grund.
Beispiel 2
Ein Barytpapier wird im Halbdunkel gleichmäßig mit einer Lösung von 10 g Tris-dibrommethyls-triazin, 10 g N-Vinylcarbazol und 200 mg des unter Beispiel 1 verwendeten Sensibilisators in zusammen 100 ml Aceton beschichtet und getrocknet. Belichtet wird im Kontakt unter einer negativen Kopiervorlage mit einer 125-W-Mischlichtlampe (Abstand Lampenrand — Schicht 35 cm) 10 Sekunden. Nach kurzem Auswaschen in Ligroin wird eine scharfe, tief schwarzgrüne Kopie auf reinweißem Grund erhalten.
Beispiel 3
Wie unter 2 wird ein Barytpapier mit einer Lösung von 1 g Tris-dibrommethyl-s-triazon, 1 g N-Vinylcarbazol und 200 mg des gleichen Sensibilisators wie im Beispiel 1 unter Zusatz von 300 mg Äthylcellulose
ίο beschichtet und nach Trocknung zusammen mit einer negativen Kopiervorlage im normalen Durchlichtverfahren durch ein handelsübliches Wärmekopiergerät geschickt, wobei es für etwa 0,4 Sekunden der Strahlung des Brenners ausgesetzt bleibt. Die erhaltene Kopie zeigt nach kurzem Abspülen mit Ligroin ein schwarzgrünes, scharfes, reliefartig erhabenes Bild auf farblosem Grund.
Beispiel 4
1 g 2-Amino-4,6-bis-tribrommethyl-s-triazin, 1 g N-Vinylcarbazol und 100 mg Ferrocen als Sensibilisator werden in 10 ml Aceton gelöst und wie unter Beispiel 3 beschrieben auf einem mit dieser Lösung beschichteten Barytpapier in einem Wärmekopiergerät bei schnellstmöglichem Durchlauf eine Kopie erzeugt. Erhalten wird ein dunkelbraunes Bild auf farblosem Grund.
Beispiel 5
Analog wie in den Beispielen 2 und 3 werden gefärbte Bilder von negativen Kopiervorlagen erhalten bei Verwendung von 2-Piperidino-4,6-bistribrommethyl-s-triazin oder 2-Methoxy-4,6-bis-tribrommethyl-s-triazin als photolytische organische Polyhalogenverbindung und N-Vinylcarbazol oder 3,6-Dimethyl-N-vinylcarbazol als äthylenisch ungesättigte photopolymerisierbare Verbindungen.
Beispiel 6
Ein Schichtträger aus mechanisch aufgerauhtem Aluminium wird mit einem Vorstrich von 2°/< > eines mit Cbloressigsäure modifizierten Phenol-Formaldehyd-Harzes in Aceton—Butylacetat versehen. Anschließend wird eine Beschichtungslösung aus 1 g N-Vinylcarbazol, 0,5 g Tris-dibrom-methyl-s-triazin, 0,1 g des gleichen Phenol-Formaldehyd-Kunstharzes, 0,4 g Poly-(/i,/i-dimethyl-N-vinylcarbazol) und 25 mg des gleichen Sensibilisators wie im Beispiel 1, gelöst in einem Gemisch auf 10 ml Aceton und 10 ml Butylacetat, aufgeschichtet. Nach dem Trocknen wird von einem Mikrofilmnegativ mit einem UV-Projektor (500 W) eine Rückvergrößerung im Maßstab 1 : 10 angefertigt (Belichtungszeit 30 Sekunden). Die Platte, die sofort das lesbare Bild zeigt, kann durch kurzes Uberwischen mit schwach alkalischen Lösungen entwickelt und dann mit fetter Farbe eingefärbt werden. Mit einer solchen Druckform werden hohe Druckauflagen erreicht.
. Beispiel 7
Eine in gleicher Weise, wie im Beispiel 6 beschrieben, vorbehandelte und beschichtete Druckplatte aus mechanisch aufgerauhtem Aluminium wird unter einer negativen Rastervorlage mit einer handelsüblichen Kohlenbogenpauslampe 2 Sekunden be lichtet (3-Kohlenlampe 3-20A, Abstand Lampenrand—Platte 110 cm). Nach der Belichtung ist sofort das tiefgefärbte Bild sichtbar. Anschließend werden
! 298414
mit einem Entwickler auf Basis Natriumsilikat, gelöst in einem ein- oder mehrwertigen Alkohol, die nicht belichteten Bildteile weggelöst und die Druckform mit fetter Farbe eingefärbt. Die Haftung der Bildpunkte auf der Unterlage ist ausgezeichnet. Mit einer solchen Druckform lassen sich hohe Auflagen drucken, wobei auch die feinsten Raster hervorragend wiedergegeben werden.
Beispiel 8
r
Ein flacher Schichtträger aus einem elektrisch isolierenden Kunststoff, z. B. aus einem Phenoplast, Schichtstoff mit Papiereinlage, der oberflächlich mit einer dünnen Haut aus metallischem Kupfer überzogen ist, wird auf einer im Druckereigewerbe üblichen Plattenschleuder in einem abgedunkelten Raum mit einer Lösung homogen beschichtet, die wie foigt zirammengesetzt ist:
1 g N-Vinylcarbazol, 0,5 g Tris-dibromnieihyl-s-triazin, 0,1 g chloressigsäure-modifiziertes Kresol-
Fcrm 3 !dehyd-Polykondensa t, 0,4 ζ Po1.v-(/i,^-dimethyi-N -vinylcarbazol), 0,C2 g des im Beispie! 1 genannten Merocyanins, 20 ml Äthylglykol.
Die Kunststoffplatte wird dann unter einer Kopiervorlage mit einer gedruckten Schaltung 2 bis 5 Sekunden mit einer Kohlenbogenlampe oder einer üblichen Xenonlampe belichtet und wie beschrieben mit einem alkalischen Entschichter zur Entfernung der unbelichteten Bildteile kurz behandelt. Nach Abspülen ätzt man mit einem geeigneten Ätzmittel, z. B. 35°,0 Eisen(IiI)-chloridlösung, die frei liegenden Kupferbereiche weg und erhält so, nötigenfalls nach Entfernung restlicher Schichtbestandteile mit einem Lösungsmittel, eine metallische Leiterbahn, die als kopierte Schaltung weiterverarbeitet werden kann.
40 B e i s ρ i e 1 9
Die gleiche Lösung, wie im Beispiel 8 beschrieben, wird unter gleichen Bedingungen auf eine gereinigte Einstufenätz-Zinkplatte aufgebracht und diese wie beschrieben unter einer negativen Rastervorlage mit einer Kohlenbogenlampe oder einer üblichen Xenonlampe 2 bis 5 Sekunden belichtet.
Die in üblicher Weise entwickelte Schicht kann durch einen Erhitzungsschritt (3 Minuten, 180°C) noch gehärtet werden, doch ist dies nicht unbedingt erforderlich. Die Zinkplatte wird nun in einer Einstufenätzmaschine mit Salpetersäure, die ein Flankenschutzmittel enthält, geätzt. Die außerordentlich festhaftende Deckschicht ermöglicht einen schnellen, relativ scharfen Ätzvorgang und liefert eine hervorragende Rasterwiedergabe auf der fertigen Hochdruckplatte. Die restliche Deckschicht läßt sich mit einem Lösungsmittel leicht entfernen. Die Druckform kann zum Druck sehr hoher Auflagen Verwendung finden.

Claims (1)

  1. Patentanspruch:
    Lichtempfindliches Gemisch mit einem N-Vinylcarbazol als äthylenisch ungesättigte photopolymerisierbare Verbindung und einer als Initiator v/irksamen photolytischen organischen Polyhalogen verbindung, dadurch gekennzeichnet, daß es ais initiator eine oder mehrere Halogenmethyl-sym-triazine der Formel
    f -j
    /X
    N N
    enthält, worin X, Y, Z gleich oder verschieden sind und H, Cl, Br oder J bedeuten, und B und C gleich
    -C-Y
    Z
    — OR oder — NR2 mit R gleich H. Alkyl, Aryl. Aralkyl sind, wobei im Falle von — NR2 N auch Glied eines cycloaliphatische Ringes sein kann.
DEK63858A 1967-11-09 1967-11-09 Lichtempfindliches Gemisch Pending DE1298414B (de)

Priority Applications (4)

Application Number Priority Date Filing Date Title
DEK63858A DE1298414B (de) 1967-11-09 1967-11-09 Lichtempfindliches Gemisch
NL6815474A NL6815474A (de) 1967-11-09 1968-10-30
BE723475D BE723475A (de) 1967-11-09 1968-11-06
AT1078668A AT287484B (de) 1967-11-09 1968-11-06 Lichtempfindliches Gemisch zur Herstellung von lichtempfindlichem Aufzeichnungsmaterial

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
DEK63858A DE1298414B (de) 1967-11-09 1967-11-09 Lichtempfindliches Gemisch

Publications (1)

Publication Number Publication Date
DE1298414B true DE1298414B (de) 1969-06-26

Family

ID=7231330

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
DEK63858A Pending DE1298414B (de) 1967-11-09 1967-11-09 Lichtempfindliches Gemisch

Country Status (4)

Country Link
AT (1) AT287484B (de)
BE (1) BE723475A (de)
DE (1) DE1298414B (de)
NL (1) NL6815474A (de)

Cited By (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE2718259A1 (de) * 1977-04-25 1978-11-02 Hoechst Ag Strahlungsempfindliche kopiermasse
EP0135348A3 (en) * 1983-08-12 1986-06-11 Vickers Plc Improvements in or relating to radiation sensitive compounds
US5338641A (en) * 1989-09-09 1994-08-16 Hoechst Aktiengesellschaft Positive-working radiation-sensitive mixture and copying material produced therefrom comprising an α,α-bis(sulfonyl) diazo methane as an acid forming compound
US5340682A (en) * 1989-09-09 1994-08-23 Hoechst Aktiengesellschaft Positive-working radiation-sensitive mixture and copying material produced therefrom comprising an α-carbonyl-α-sulfonyl diazomethane, a water-insoluble binder and an acid cleavable compound

Families Citing this family (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE3613632A1 (de) * 1986-04-23 1987-10-29 Hoechst Ag Photopolymerisierbares gemisch und dieses enthaltendes photopolymerisierbares aufzeichnungsmaterial

Citations (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE1175986B (de) * 1959-09-28 1964-08-13 Horizons Inc Lichtempfindliche Schicht zur Herstellung photographischer Bilder

Patent Citations (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE1175986B (de) * 1959-09-28 1964-08-13 Horizons Inc Lichtempfindliche Schicht zur Herstellung photographischer Bilder

Cited By (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE2718259A1 (de) * 1977-04-25 1978-11-02 Hoechst Ag Strahlungsempfindliche kopiermasse
EP0135348A3 (en) * 1983-08-12 1986-06-11 Vickers Plc Improvements in or relating to radiation sensitive compounds
US5338641A (en) * 1989-09-09 1994-08-16 Hoechst Aktiengesellschaft Positive-working radiation-sensitive mixture and copying material produced therefrom comprising an α,α-bis(sulfonyl) diazo methane as an acid forming compound
US5340682A (en) * 1989-09-09 1994-08-23 Hoechst Aktiengesellschaft Positive-working radiation-sensitive mixture and copying material produced therefrom comprising an α-carbonyl-α-sulfonyl diazomethane, a water-insoluble binder and an acid cleavable compound

Also Published As

Publication number Publication date
BE723475A (de) 1969-05-06
NL6815474A (de) 1969-05-13
AT287484B (de) 1971-01-25

Similar Documents

Publication Publication Date Title
DE2064079C2 (de) Photopolymerisierbares Gemisch
DE2718130C2 (de) lichtempfindliches Aufzeichnungsmaterial
DE2027467C3 (de) Photopolymerisierbare Kopiermasse
EP0028749B1 (de) Photopolymerisierbares Gemisch und damit hergestelltes photopolymerisierbares Kopiermaterial
DE2039861C3 (de) Photopolymensierbare Kopier masse
DE3120052A1 (de) Durch strahlung polymerisierbares gemisch und damit hergestelltes kopiermaterial
DE1447919B2 (de) Beschichtungslösung und damit hergestelltes lichtempfindliches Kopiermaterial
DE3048502A1 (de) Durch strahlung polymerisierbares gemisch und daraus hergestelltes strahlungsempfindliches aufzeichnungsmaterial
DE3817424A1 (de) Alkenylphosphon- und -phosphinsaeureester, verfahren zu ihrer herstellung und durch strahlung polymerisierbares gemisch, das diese verbindungen enthaelt
EP0311926A2 (de) Photopolymerisierbares Gemisch
DE1296975B (de) Lichtempfindliches Gemisch
EP0011786B1 (de) Photopolymerisierbares Gemisch
EP0103218B1 (de) 10-Phenyl-1,3,9-triazaanthracene und diese enthaltendes photopolymerisierbares Gemisch
DE2558813C2 (de) Lichtempfindliches Gemisch mit synergistischem Initiatorsystem
DE2230936C3 (de) Lichtempfindliches Gemisch
DE2407033C2 (de) Lichtvernetzbare Polymere und Verfahren zu ihrer Herstellung
DE1298414B (de) Lichtempfindliches Gemisch
DE1770629A1 (de) Fotoelektrisches Polymerisationsverfahren
DE2306353A1 (de) Lichtempfindliches material
EP0220589B1 (de) Photopolymerisierbares Gemisch und dieses enthaltendes photopolymerisierbares Aufzeichnungsmaterial
DE2234511A1 (de) Beschichtungsmasse zur herstellung von photoresistschichten und dgl
DE1597784C3 (de) Sensibilisierte Druckplatte
DE1572062C3 (de) Lichtempfindliche Kopierschicht
EP0102586B1 (de) 1,3-Diaza-9-thia-anthracen-2,4-dione und diese enthaltendes photopolymerisierbares Gemisch
DE2060576A1 (de) Photopolymerisierbare Kopiermasse