CN202094093U - 基板清洗设备 - Google Patents
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Abstract
本实用新型公开了一种基板清洗设备。该基板清洗设备包括：水箱，所述水箱上设置有供纯水和循环水进入的入水口、供纯水和循环水排出的排水口、供液面超限时溢水的溢水机构和为二流体清洗供水的抽水口；所述入水口、所述抽水口和所述溢水机构分别设置在所述水箱的侧壁上，所述排水口设置在所述水箱的底部。本实用新型提供的基板清洗设备，通过改变入水口的位置来改变水箱内部的水流方向，从而实现水箱内部的水自动循环冲刷水箱侧壁和底部的污物，在生产过程中保持了清洗设备内的水质，提高了玻璃基板的洗净度，从而保证了光刻胶与膜质的密着性。
Description
技术领域
本实用新型涉及液晶显示器的制造设备结构技术，尤其涉及一种基板清洗设备。
背景技术
液晶显示器是目前常用的平板显示器，其中薄膜晶体管液晶显示器(ThinFilm Transistor Liquid Crystal Display，简称：TFT-LCD)是液晶显示器中的主流产品。在TFT-LCD的制造过程中，污染物会造成很多产品不良，因此，清洗设备被广泛的使用在生产过程的各个环节，例如：成膜前洗净、光刻胶涂覆前的洗净等等，目前TFT-LCD广泛采用的是四次掩膜工艺，该工艺过程对污染物的去除要求更高，这就对清洗设备提出了更高的要求。
现有的基板清洗设备水箱结构如图1所示，水箱的顶部设置有入水口A，水箱底部边缘设置有排水口B，水箱的一个侧壁上设置有溢水机构C和供二流体清洗的抽水口D。水箱内初始装入的纯水从抽水口D抽出经过过滤器过滤后用于二流体清洗(即高压空气和高压水的混合清洗)或者循环水清洗，二流体清洗后的水从入水口A进入水箱被循环使用。
然而，现有的基板清洗设备中，水的流动性较差，并且进入水箱的水是清洗基板后的污水，随着设备使用时间的增长，水箱内壁和底部容易出现污染物的聚集，影响循环水水质。而现有的清洗设备在自动运行中，只能通过溢水口排出水箱内上层的水流，对水箱内壁和底部的水流只能人工定期进行换水和清洗，从而不能保证生产过程中清洗水箱内的水质，导致无法洗净玻璃基板，造成光刻胶与膜质密着性不良。
实用新型内容
本实用新型提供一种基板清洗设备，用以解决现有的基板清洗设备不能保证生产过程中清洗设备内的水质，导致无法洗净玻璃基板，造成光刻胶与膜质密着性不良的缺陷。
本实用新型提供一种基板清洗设备，包括：水箱，所述水箱上设置有供纯水和循环水进入的入水口、供纯水和循环水排出的排水口、供液面超限时溢水的溢水机构和为二流体清洗供水的抽水口；所述入水口、所述抽水口和所述溢水机构分别设置在所述水箱的侧壁上，所述排水口设置在所述水箱的底部。
如上所述的基板清洗设备，所述排水口设置在所述水箱的底部，且靠近所述入水口所在的侧壁。
如上所述的基板清洗设备，所述排水口设置在所述水箱的底部中央。
如上所述的基板清洗设备，与所述入水口所在侧壁相邻的侧壁上还设置有另一入水口。
如上所述的基板清洗设备，与所述入水口所在侧壁相对的侧壁上还设置有另一入水口。
如上所述的基板清洗设备，所述溢水机构为设置在所述水箱一个侧壁上的溢水口，或者为设置在所述水箱内壁上的液面传感器。
如上所述基板清洗设备，所述排水口处设有一阀门。
本实用新型提供的基板清洗设备，通过改变入水口的位置来改变水箱内部的水流方向，从而实现水箱内部的水自动循环冲刷水箱侧壁和底部的污物，在生产过程中保持了清洗设备内的水质，提高了玻璃基板的洗净度，从而保证了光刻胶与膜质的密着性。
附图说明
图1为现有的基板清洗设备水箱的结构示意图；
图2为本实用新型提供的基板清洗设备第一实施例的结构示意图；
图3为本实用新型提供的基板清洗设备第二实施例的结构示意图；
图4为本实用新型提供的基板清洗设备第三实施例的结构示意图。
附图标记：
I-水箱； A-入水口； A’-入水口；
B-排水口； C-溢水机构；D-抽水口；
E-液面传感器。
具体实施方式
为使本实用新型实施例的目的、技术方案和优点更加清楚，下面将结合本实用新型实施例中的附图，对本实用新型实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例是本实用新型一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本实用新型中的实施例，本领域普通技术人员在没有作出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本实用新型保护的范围。
实施例一
图2为本实用新型提供的基板清洗设备第一实施例的结构示意图，如图2所示，该清洗设备包括：水箱I，该水箱I上设置有供纯水和循环水进入的入水口A、供纯水和循环水排出的排水口B、供液面超限时溢水的溢水机构C和为二流体清洗供水的抽水口D；入水口A、抽水口D和溢水机构C分别设置在水箱I的侧壁上，排水口B设置在水箱I的底部。
本实施例提供的基板清洗设备，通过改变入水口的位置来改变水箱内部的水流方向，从而实现水箱内部的水自动循环冲刷水箱侧壁和底部的污物，在生产过程中保持了清洗设备内的水质，提高了玻璃基板的洗净度，从而保证了光刻胶与膜质的密着性。
其中，水箱I中初始装入的水为纯水，纯水从入水口A进入水箱I后，从抽水口D处由高压泵抽出，经过高压过滤器过滤后，高压水和高压空气形成二流体，喷淋到基板上。清洗后的水中混合了污染物或杂质，这些水经过被重新输送回入水口A进行循环利用。因此，从入水口A进入水箱I中的水由纯水和对基板清洗后的循环水组成。
水箱I中装入的水量根据基板清洗过程中需要的水量来确定，由于水箱I内的水量太大时不利于水的循环流动，因此，通常会将水箱I内的水量设置在一定的范围内，而溢水机构C的位置也根据水箱I的最大水量限制来设定，当水箱I内的水量超过设定值时，水从溢水机构C自动溢出，从而保持水箱I内的水量始终在合理的范围内，防止水箱I内水量过多而造成损坏。而水溢出的过程中会将水面上的部分污染物和杂质带出水箱I，因此，溢水机构C在一定程度上也起到了排污的作用。
入水口A、溢水机构C和抽水口D分别设置在水箱I的侧壁上，溢水机构C位于抽水口D上方，排水口B设置在水箱I的底部。循环水从入水口A进入水箱I后，水流的方向如图2中虚线和箭头所示，由于入水口A设置在水箱I的侧壁上，而进入水箱I的水流具有一定的压力，因此，水流进入水箱后，其流向方向与水箱I的侧壁是垂直的，即向与入水口A相对的侧壁流动，当水流接触到与入水口A相对的侧壁时，水流经过短暂的垂直向下运动后，回弹向入水口A所在的侧壁。
可以看出，经过处理后的循环水从入水口A进水水箱I之后，其运动轨迹依次为入水口A所在侧壁至相对的侧壁方向、垂直向下方向以及相对的侧壁至入水口A所在侧壁方向，而在这过程中水流流经入水口A所在侧壁垂直的两个水箱I的内壁及水箱I的底部，并且触及入水口A所在侧壁以及相对的侧壁，即遍及了水箱I的内部。因此，使用设备进行基板清洗的过程中，水流始终冲刷着水箱I的各个侧壁和底部，将各个内壁和底部的污染物冲刷到水箱I底部，通过水流方向可以看出，污染物会聚集在排水口B的附近。
当设备使用一段时间后，打开排水口B，能够将水箱I的各个侧壁和底部的污染物排出水箱I。实现对水箱I内的水流循环冲刷，防止污染物附在水箱I的侧壁或者底部，造成二次污染。
实施例二
参见图3，在前一实施例的基础上，溢水机构C可以为设置在水箱I一个侧壁上的溢水口，当水箱I内的水量超过设定值时，水从溢水口自动溢出，从而保持水箱I内的水量始终在合理的范围内。
作为另一种较佳的实施方式，溢水机构C还可以为水箱I内壁上设置的液面传感器E，通过液面传感器E来检测水面高度，当水面高度高于设定值时，打开水箱I底部的排水口B来排出一定的水量，从而将水箱I内的水量保持在合理的范围中。
采用液面传感器E的方式，可以将原本从侧壁上的溢水口溢出的水由下部排水口B排出，这样沉积在水箱下部的污染物就更容易排出。此外，在实际使用中，由于水从溢水口溢出的过程中，由于水存在一定压力，因此从溢水口溢出的水会撞击溢水口附近的内壁，而这种撞击会造成水面的波动，从而影响水溢出的速度。因此，可以只采用液面传感器E来控制水面高度，使水面高度的控制更加平稳和精确。
另外，为了对水箱I内排出的水量加以控制，可以在排水口B处设置一阀门，通过该阀门来控制排水口B流出的水量和水流速度。该阀门可以采用机械阀、电子阀或组合阀等各种类型，当阀门打开的角度较大时，可以实现水快速地流出水箱I，从而使水箱内部的水快速冲刷水箱I的底部，更有利于污染物的排出。当阀门打开的角度较小时，水缓慢地流出水箱I，从而可以更精确地控制水箱I内的水面高度。
排水口B可以设置在水箱I的底部，且靠近入水口A所在的侧壁，即图2所示的情况，循环水从入水口A进水水箱I之后，其运动轨迹依次为入水口A所在侧壁至相对的侧壁方向、垂直向下方向以及相对的侧壁至入水口A所在侧壁方向。由于排水口B靠近入水口A所在的侧壁，因此，循环水几乎遍及了水箱I的内部。当设备使用一段时间后，打开排水口B，能够将水箱I的各个侧壁和底部的污染物排出水箱I。实现对水箱I内部更为彻底的循环冲刷，防止污染物附在水箱I的侧壁或者底部。
作为另一优选的实施方式，可以将排水口B设置在水箱I的底部中央，并且在与入水口A所在侧壁相邻，或者相对的另一侧壁上设置另一入水口A’。采用两个入水口能够加大对水箱I内部的循环冲刷力度，增加冲刷效果。
优选的，在与入水口A所在侧壁相对的另一侧壁上设置另一入水口A，参见图4，从图4中水箱I内虚线和箭头所示的水流方向可以看出，入水口A和入水口A’一同向水箱I中注入纯水和循环水，水从水箱I的两个相对的侧壁同时流向水箱I的底部。在此过程中，水流遍及水箱I的各个侧壁，而两侧的水流相遇后在重力和撞击力的共同作用下冲刷至水箱I的底部，达到了更好的冲刷侧壁和水箱I底部的效果，在基板清洗过程中，加大了水箱I的内部水的自循环速度和循环范围，更有效的防止水箱I侧壁和底部污物残留。
最后应说明的是：以上实施例仅用以说明本实用新型的技术方案，而非对其限制；尽管参照前述实施例对本实用新型进行了详细的说明，本领域的普通技术人员应当理解：其依然可以对前述各实施例所记载的技术方案进行修改，或者对其中部分技术特征进行等同替换；而这些修改或者替换，并不使相应技术方案的本质脱离本实用新型各实施例技术方案的精神和范围。
Claims (7)
1.一种基板清洗设备，包括：水箱，所述水箱上设置有供纯水和循环水进入的入水口、供纯水和循环水排出的排水口、供液面超限时溢水的溢水机构和为二流体清洗供水的抽水口；其特征在于，所述入水口、所述抽水口和所述溢水机构分别设置在所述水箱的侧壁上，所述排水口设置在所述水箱的底部。
2.根据权利要求1所述的基板清洗设备，其特征在于，所述排水口设置在所述水箱的底部，且靠近所述入水口所在的侧壁。
3.根据权利要求1所述的基板清洗设备，其特征在于，所述排水口设置在所述水箱的底部中央。
4.根据权利要求1-3任一项所述的基板清洗设备，其特征在于，与所述入水口所在侧壁相邻的侧壁上还设置有另一入水口。
5.根据权利要求1-3任一项所述的基板清洗设备，其特征在于，与所述入水口所在侧壁相对的侧壁上还设置有另一入水口。
6.根据权利要求1-3任一项所述的基板清洗设备，其特征在于，所述溢水机构为设置在所述水箱一个侧壁上的溢水口，或者为设置在所述水箱内壁上的液面传感器。
7.根据权利要求6所述基板清洗设备，其特征在于，所述排水口处设有一阀门。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| CN 201020632867 CN202094093U (zh) | 2010-11-25 | 2010-11-25 | 基板清洗设备 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
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| CN 201020632867 CN202094093U (zh) | 2010-11-25 | 2010-11-25 | 基板清洗设备 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| CN202094093U true CN202094093U (zh) | 2011-12-28 |
Family
ID=45369142
Family Applications (1)
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| CN 201020632867 Expired - Lifetime CN202094093U (zh) | 2010-11-25 | 2010-11-25 | 基板清洗设备 |
Country Status (1)
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| CN (1) | CN202094093U (zh) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN106475897A (zh) * | 2016-10-11 | 2017-03-08 | 京东方科技集团股份有限公司 | 基片研磨装置和基片清洁设备 |
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2010
- 2010-11-25 CN CN 201020632867 patent/CN202094093U/zh not_active Expired - Lifetime
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