CN202084018U - 触控面板 - Google Patents
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Abstract
本实用新型的一实施例提供一种触控面板，包含：一透明基板，包含一感测区域及一外围区域；多个透明桥接线，局部覆盖该感测区域；一绝缘层，局部覆盖该透明桥接线；多个金属线，局部覆盖该外围区域；以及一透明导电层，至少覆盖该透明桥接线及该金属线，该透明导电层包含多个第一单元、多个第二单元及多个连接线，所述多个第一单元及所述多个第二单元交错布置，该连接线连接两相邻的该第二单元，该透明桥接线连接两相邻的该第一单元，所述多个金属线连接于邻近该外围区域的该第一单元或该第二单元。本实用新型的触控面板通过设置透明导电层覆盖金属线，以避免金属线的氧化问题并避免金属线的刮伤问题。
Description
技术领域
本实用新型是关于一种触控面板，特别是关于一种使用高硬度的金属化合物覆盖金属线的触控面板，以避免金属线的氧化问题并避免金属线的刮伤问题。
背景技术
触控面板已被广泛应用于家庭用品、通讯装置及电子信息装置等领域。通常触控面板的应用为个人数字助理(PDA)、电子产品及游戏机等输入接口。目前触控面板和显示屏的整合趋势可允许使用者以手指或接触笔选取面板上显示的代表图像(icon)，如此可使个人数字助理、电子产品及游戏机执行喜好的功能。此种触控面板亦应用于公共信息查询系统，可以提供公众有效率的操作系统。
传统触控面板包含一透明基板，该透明基板具有多个感测区域所构成的一表面，所述分布的感测区域用于感测使用者以手指或接触笔触摸所造成的信号，以进行输入或控制。该感测区域由透明导电薄膜所构成，例如：氧化铟锡(ITO)，使用者可以触摸显示于显示屏上特定位置的对应透明导电薄膜，即可有效操作该装置。
为能有效侦测使用者以手指或接触笔触摸面板的正确位置，有很多种触控面板的技术被发展出来。图1例示现有的触控面板200，图2为沿图1中线1-1的剖面图。该触控面板200包含一透明基板201、一第一透明导电层203、一绝缘层209及一第二透明导电层211。该第一透明导电层203以光学蚀刻制程被图案化及形成于该透明基板201上，其包含多个第一单元205及连接沿纵向对齐排列第一单元205的多个第一导线207。该绝缘层209覆盖该第一透明导电层203及该基板201。图案化的第二透明导电层211形成于该绝缘层209上，且包含多个第二电极单元213及连接沿横向对齐排列第二单元213的多个第二导线215。
该触控面板200另有多个金属线217，设于绝缘层209的一侧，通过所 述多个金属线217使得该第二单元213的各横向连接得以转向所述多个该金属线217的汇流端。该第一透明导电层203和该第二透明导电层211覆盖于该基板201上，且该绝缘层209覆盖于该基板201上整个面积。
然而，该金属线217易于与空气中的氧气反应而发生氧化，因而增加电阻；为了避免该金属线217的氧化问题，现有技术必须在该金属线217的表面涂布一保护层(未显示于图中)，将该金属线217与空气隔离并避免刮伤。然而，该保护层除了增加制造成本之外，亦会吸收光线，因而造成光穿透率变差。因此，市场上需要一种触控面板能克服上述现有触控面板所具有的缺点。
发明内容
本实用新型提供一种触控面板，以避免金属线的氧化问题并避免金属线的刮伤问题。
本实用新型的一实施例提供一种触控面板，包含：一透明基板，包含一感测区域及一外围区域；多个透明桥接线，局部覆盖该感测区域；一绝缘层，局部覆盖该透明桥接线；多个金属线，局部覆盖该外围区域；以及一透明导电层，至少覆盖该透明桥接线及该金属线，该透明导电层包含多个第一单元、多个第二单元及多个连接线，所述多个第一单元及所述多个第二单元交错布置，该连接线连接两相邻的该第二单元，该透明桥接线连接两相邻的该第一单元，所述多个金属线连接于邻近该外围区域的该第一单元或该第二单元。
进一步地，该透明导电层直接覆盖该金属线。
进一步地，该绝缘层包含：
一第一绝缘区域，局部覆盖该透明桥接线；以及
一第二绝缘区域，局部覆盖该金属线。
进一步地，该透明导电层设置在该金属线上的该第二绝缘区域。
进一步地，各该桥接线是衔接两相邻该第一单元间最短的路径。
进一步地，该桥接线为导电氧化物线或金属线。
进一步地，该透明导电层为金属化合物层。
进一步地，该透明基板为玻璃板或透明高分子板材。
本实用新型的另一实施例提供一种触控面板，包含：一透明基板，包含 一感测区域及一外围区域；一金属层，包含多个局部覆盖该感测区域的第一金属线以及多个局部覆盖该外围区域的第二金属线；一绝缘层，局部覆盖该第一金属线；以及一透明导电层，局部覆盖该第一金属线及该第二金属线，该透明导电层包含多个第一单元、多个第二单元及多个连接线，所述多个第一单元及所述多个第二单元交错布置，该连接线连接两相邻的该第二单元，该第一金属线连接两相邻的该第一单元，所述多个第二金属线连接于邻近该外围区域的该第一单元或该第二单元。
进一步地，该透明导电层直接覆盖该第二金属线。
进一步地，该绝缘层包含：
一第一绝缘区域，局部覆盖该第一金属线；以及
一第二绝缘区域，局部覆盖该第二金属线。
进一步地，该透明导电层设置在该第二金属线上的该第二绝缘区域。
进一步地，各该连接线是衔接两相邻该第二单元间最短的路径。
进一步地，该连接线为导电氧化物线或金属线。
进一步地，该透明导电层为金属化合物层。
进一步地，该透明基板为玻璃板或透明高分子板材。
本实用新型的触控面板通过设置透明导电层覆盖金属线，以避免金属线的氧化问题并避免金属线的刮伤问题。
上文已相当广泛地概述本实用新型的技术特征及优点，使下文的本实用新型详细描述得以获得较佳了解。构成本实用新型的申请专利范围标的之其它技术特征及优点将描述于下文。本实用新型所属技术领域中具有通常知识者应了解，可相当容易地利用下文揭示的概念与特定实施例可作为修改或设计其它结构或工艺而实现与本实用新型相同的目的。本实用新型所属技术领域中具有通常知识者亦应了解，这类等效建构无法脱离后附的申请专利范围所界定的本实用新型的精神和范围。
附图说明
图1例示现有的触控面板；
图2是沿图1中线1-1的剖面图；
图3至图6是俯视图，例示本实用新型一实施例的触控面板的制备方法；
图7是沿图6中线2-2的剖面图的一实施例；
图8是沿图6中线3-3的剖面图的一实施例；
图9是沿图6中线3-3的剖面图的另一实施例；
图10是沿图6中线3-3的剖面图的再一实施例；
图11至图14是俯视图，例示本实用新型另一实施例的触控面板的制备方法；
图15是沿图14中线4-4的剖面图的一实施例；
图16是沿图14中线5-5的剖面图的一实施例；
图17是沿图14中线5-5的剖面图的另一实施例；
图18是沿图14中线5-5的剖面图的另一实施例；
图19是沿图14中线5-5的剖面图的再一实施例；
图20至图22是俯视图，例示本实用新型另一实施例的触控面板的制备方法；
图23是沿图22中线6-6的剖面图；
图24是沿图22中线7-7的剖面图；以及
图25是沿图22中线7-7的剖面图的另一实施例。
具体实施方式
图3至图6是俯视图，例示本实用新型一实施例的触控面板10的制备方法。参考图3，首先提供一透明基板11，其包含一感测区域13及一外围区域15。在本实用新型的一实施例中，该透明基板11的材料是玻璃或透明高分子板材，例如：聚碳酸酯(PC)及聚氯乙烯(PVC)。之后，形成多个透明桥接线17，其局部覆盖该感测区域13。在本实用新型的一实施例中，所述多个透明桥接线17以一光学蚀刻工艺所形成，其材料是导电氧化物，例如氧化铟锡(ITO)、氧化铝锌(AZO)或氧化铟锌(IZO)，或是金属。该光学蚀刻工艺包含溅镀、涂敷、曝光、软烤、硬烤、显影、烘烤和其它步骤。
参考图4，形成一绝缘层18，其包含多个绝缘区域19，各局部覆盖该透明桥接线17。在本实用新型的一实施例中，所述多个绝缘区域19以一光学蚀刻工艺所形成，且分别局部覆盖所述多个桥接线17，该光学蚀刻工艺包含溅镀、涂敷、曝光、软烤、硬烤、显影、烘烤和其它步骤。在本实用新型的 一实施例中，各桥接线17的相对的两端部则未被该绝缘区域19覆盖，该绝缘区域19的材料是一透明高分子材料，例如：光阻材料。
参考图5，形成多个金属线21，其局部覆盖该外围区域15。在本实用新型的一实施例中，所述多个金属线21是以一光学蚀刻工艺所形成，该光学蚀刻工艺包含溅镀、涂敷、曝光、软烤、硬烤、显影、烘烤和其它步骤。
参考图6，形成一透明导电层30，至少覆盖该透明桥接线17及该金属线21，该透明导电层30包含多个第一单元31、多个第二单元35、多个第一连接线33及多个第二连接线37，所述多个第一单元31及所述多个第二单元35是交错布置，该第一连接线33连接两相邻的该第二单元35，该透明桥接线17连接两相邻的该第一单元31，所述多个金属线21是连接于邻近该外围区域15的该第一单元31或该第二单元35，所述多个第二连接线37覆盖所述多个金属线21。
在本实用新型的一实施例中，各该透明桥接线17是衔接两相邻第一单元31间最短的路径。在本实用新型的一实施例中，该透明导电层30的材料是金属化合物，例氧化铟锡(ITO)、氧化铝锌(AZO)或氧化铟锌(IZO)。该光学蚀刻工艺包含溅镀、涂敷、曝光、软烤、硬烤、显影、烘烤和其它步骤。该透明基板31的材料是玻璃或透明高分子板材，例如：聚碳酸酯(PC)及聚氯乙烯(PVC)。
图7是沿图6中线2-2的剖面图，图8是沿图6中线3-3的剖面图的一实施例。参考图7，该透明桥接线17及所述多个第一连接线33是被该绝缘区域19所相互隔绝。参考图8，该透明导电层30覆盖所述多个金属线21。本实用新型使用该透明导电层30的第二连接线37覆盖该金属线21，而该透明导电层30是金属化合物，不易氧化；此外，该透明导电层30的硬度高于该金属线21的硬度，不易被刮伤。
图9是沿图6中线3-3的剖面图的另一实施例。相较于图8的实施例将该金属线21直接形成于该透明基板11上；图9的实施例是将该透明桥接线17直接形成于该透明基板11上，再将该金属线21直接形成于该透明桥接线17上。总而言之，图8及图9的实施例均使用该透明导电层30的第二连接线37覆盖该金属线21，而该透明导电层30是金属化合物，不易氧化；此外，透明导电层30的硬度高于该金属线21的硬度，不易被刮伤。
图10是沿图6中线3-3的剖面图的再一实施例。相较于图8的实施例将该金属线21直接形成于该透明基板11上；图10的实施例是将该透明桥接线17直接形成于该透明基板11上并以该绝缘层18的绝缘区域19覆盖该透明桥接线17，再将该金属线21直接形成于该绝缘区域19上。总而言之，图8及图10的实施例均使用该透明导电层30的第二连接线37覆盖该金属线21，而该透明导电层30是金属化合物，不易氧化；此外，透明导电层30的硬度高于该金属线21的硬度，不易被刮伤。
现有的金属线因易于与空气中的氧气反应而发生氧化现象，必须在该金属线的表面涂布一保护层；相对地，本实用新型使用该透明导电层30覆盖所述多个金属线21可省略去现有技术必须在金属线的表面涂布一保护层，却仍可避免金属线氧化及刮伤问题。
图11至图14是俯视图，例示本实用新型另一实施例的触控面板60的制备方法。参考图11，首先提供一透明基板61，其包含一感测区域63及一外围区域65。在本实用新型的一实施例中，该透明基板61的材料是玻璃或透明高分子板材，例如：聚碳酸酯(PC)及聚氯乙烯(PVC)。之后，形成多个局部覆盖该感测区域63的透明桥接线67。在本实用新型的一实施例中，所述多个透明桥接线67是以一光学蚀刻工艺所形成，其材料是导电氧化物，例如氧化铟锡(ITO)、氧化铝锌(AZO)或氧化铟锌(IZO)。该光学蚀刻工艺包含溅镀、涂敷、曝光、软烤、硬烤、显影、烘烤和其它步骤。
参考图12，形成多个局部覆盖该外围区域65的金属线69。在本实用新型的一实施例中，所述多个金属线69是以一光学蚀刻工艺所形成。该光学蚀刻工艺包含溅镀、涂敷、曝光、软烤、硬烤、显影、烘烤和其它步骤。
参考图13，形成一绝缘层70，包含多个第一绝缘区域71及第二绝缘区域73，该第一绝缘区域71局部覆盖该透明桥接线67，该第二绝缘区域73局部覆盖该金属线69。在本实用新型的一实施例中，该绝缘层70是以一光学蚀刻工艺所形成，且各桥接线67的相对的两端部则未被该绝缘层70覆盖，该绝缘层70的材料是一透明高分子材料，例如：光阻材料。
参考图14，形成一透明导电层80，至少覆盖该透明桥接线67及该金属线69，该透明导电层80包含多个第一单元81、多个第二单元85、多个第一连接线83及多个第二连接线87，所述多个第一单元81及所述多个第二单元 85是交错布置，该第一连接线83连接两相邻的该第二单元85，该透明桥接线67连接两相邻的该第一单元81，所述多个金属线69是连接于邻近该外围区域65的该第一单元81或该第二单元85，所述多个第二连接线87覆盖所述多个金属线69。该第一连接线83是衔接两相邻该第二单元85间最短的路径。
在本实用新型的一实施例中，各该桥接线67是衔接两相邻第一单元81间最短的路径。在本实用新型的一实施例中，该透明导电层80的材料是金属化合物，例氧化铟锡(ITO)、氧化铝锌(AZO)或氧化铟锌(IZO)。该光学蚀刻工艺包含溅镀、涂敷、曝光、软烤、硬烤、显影、烘烤和其它步骤。
图15是沿图14中线4-4的剖面图，图16是沿图14中线5-5的剖面图。参考图15，该透明桥接线67及所述多个第一连接线83是被该第一绝缘区域71所相互隔绝。参考图16，在本实用新型的一实施例中，该透明导电层80的多个第二连接线87覆盖所述多个金属线69。本实用新型使用该透明导电层80的第二连接线87覆盖该金属线69，而该透明导电层80是金属化合物，不易氧化；此外，且该透明导电层80的硬度高于该金属线69的硬度，不易被刮伤。
图17是沿图14中线5-5的剖面图的另一实施例。相较于图16的实施例将该金属线69直接形成于该透明基板61上并以该绝缘层70的绝缘区域73覆盖该金属线69之后，再将该透明导电层80的多个第二连接线87形成于该绝缘区域73上；图17的实施例是将该金属线69形成于该透明基板61上之后，即直接将该透明导电层80的多个第二连接线87形成于该金属线69上。
图18是沿图14中线5-5的剖面图的另一实施例。相较于图16的实施例将该金属线69直接形成于该透明基板61上并以该绝缘层70的绝缘区域73覆盖该金属线69之后，再将该透明导电层80的多个第二连接线87形成于该绝缘区域73上；图18的实施例是将该透明桥接线67形成于该透明基板61上，并将该金属线69形成于该透明桥接线67上，再将该透明导电层80的多个第二连接线87形成于该金属线69上。
图19是沿图14中线5-5的剖面图的另一实施例。相较于图16的实施例将该金属线69直接形成于该透明基板61上并以该绝缘层70的绝缘区域73 覆盖该金属线69之后，再将该透明导电层80的多个第二连接线87形成于该绝缘区域73上；图19的实施例是将该透明桥接线67形成于该透明基板61上，并将该金属线69形成于该透明桥接线67上，再以该绝缘层70的绝缘区域73覆盖该金属线69，以及将该透明导电层80的多个第二连接线87形成于该绝缘区域73上。
总而言之，图16至图19的实施例均使用该透明导电层80的多个第二连接线87覆盖该金属线69，而该透明导电层80是金属化合物，不易氧化；此外，透明导电层80的硬度高于该金属线69的硬度，不易被刮伤。现有的金属线因易于与空气中的氧气反应而发生氧化现象，必须在该金属线的表面涂布一保护层；相对地，本实用新型使用该透明导电层80覆盖所述多个金属线71可省略去现有技术必须在金属线的表面涂布一保护层，却仍可避免金属线氧化及刮伤问题。
图20至图22是俯视图，例示本实用新型另一实施例的触控面板100的制备方法。参考图20，首先提供一透明基板101，其包含一感测区域103及一外围区域105。在本实用新型的一实施例中，该透明基板101的材料是玻璃或透明高分子板材，例如：聚碳酸酯(PC)及聚氯乙烯(PVC)。之后，形成一金属层110，包含多个局部覆盖该感测区域103的第一金属线107以及多个局部覆盖该外围区域105的第二金属线109。在本实用新型的一实施例中，该金属层110是以一光学蚀刻工艺所形成，包含溅镀、涂敷、曝光、软烤、硬烤、显影、烘烤和其它步骤。
参考图21，形成一绝缘层120，包含多个第一绝缘区域121及第二绝缘区域123，该第一绝缘区域121局部覆盖该第一金属线107，该第二绝缘区域123局部覆盖该第二金属线109。在本实用新型的一实施例中，该绝缘层120是以一光学蚀刻工艺所形成，且各第一金属线107的相对的两端部则未被该绝缘层120覆盖，该绝缘层120的材料是一透明高分子材料，例如：光阻材料。
参考图22，形成一透明导电层130，至少覆盖该第一金属线107及该第二金属线109。在本实用新型的一实施例中，该透明导电层130包含多个第一单元131、多个第二单元135、多个第一连接线133及多个第二连接线137，所述多个第一单元131及所述多个第二单元135是交错布置，该第一连接线 133连接两相邻的该第二单元135，该第一金属线107线连接两相邻的该第一单元131，所述多个第二金属线109连接于邻近该外围区域105的该第一单元131或该第二单元135，所述多个第二连接线137覆盖所述多个金属线109。
在本实用新型的一实施例中，各该第一金属线107是衔接两相邻第一单元131间最短的路径。在本实用新型的一实施例中，该透明导电层130的材料是金属化合物，例氧化铟锡(ITO)、氧化铝锌(AZO)或氧化铟锌(IZO)。该光学蚀刻工艺包含溅镀、涂敷、曝光、软烤、硬烤、显影、烘烤和其它步骤。
图23是沿图22中线6-6的剖面图，图24是沿图22中线7-7的剖面图。参考图23，该第一金属线107及该第一连接线133是被该第一绝缘区域121所相互隔绝。参考图24，该透明导电层130的第二连接线137覆盖所述多个金属线109。本实用新型使用该透明导电层130的第二连接线137覆盖该金属线106，而该透明导电层130是金属化合物，不易氧化；此外，该透明导电层130的硬度高于该金属线109的硬度，不易被刮伤。
图25是沿图22中线7-7的剖面图的另一实施例。相较于图24的实施例将该金属线109直接形成于该透明基板101上并以该绝缘层120的绝缘区域123覆盖该金属线109，再将该透明导电层130的多个第二连接线137形成于该绝缘区域123上；图25的实施例将该金属线109形成于该透明基板101上后，即直接将该透明导电层130的多个第二连接线137形成于该金属线109上。
现有的金属线因易于与空气中的氧气反应而发生氧化现象，必须在该金属线的表面涂布一保护层；相对地，本实用新型使用该透明导电层130覆盖所述多个金属线109可省略去现有技术必须在金属线的表面涂一保护层，却仍可避免金属线氧化及刮伤问题。
本实用新型的技术内容及技术特点已揭示如上，然而本实用新型所属技术领域中具有通常知识者应了解，在不背离后附申请专利范围所界定的本实用新型精神和范围内，本实用新型的教示及揭示可作种种的替换及修饰。例如，上文揭示的许多工艺可以不同的方法实施或以其它工艺予以取代，或者采用上述二种方式的组合。
此外，本案的权利范围并不局限于上文揭示的特定实施例的工艺、机台、 制造、物质的成份、装置、方法或步骤。本实用新型所属技术领域中具有通常知识者应了解，基于本实用新型教示及揭示工艺、机台、制造、物质的成份、装置、方法或步骤，无论现在已存在或日后开发者，其与本案实施例揭示者是以实质相同的方式执行实质相同的功能，而达到实质相同的结果，亦可使用于本实用新型。因此，以下的申请专利范围是用以涵盖用以此类工艺、机台、制造、物质的成份、装置、方法或步骤。
Claims (16)
1.一种触控面板，其特征在于，该触控面板包含：
一透明基板，包含一感测区域及一外围区域；
多个透明桥接线，局部覆盖该感测区域；
一绝缘层，局部覆盖该透明桥接线；
多个金属线，局部覆盖该外围区域；以及
一透明导电层，至少覆盖该透明桥接线及该金属线，该透明导电层包含多个第一单元、多个第二单元及多个连接线，所述多个第一单元及所述多个第二单元交错布置，该连接线连接两相邻的该第二单元，该透明桥接线连接两相邻的该第一单元，所述多个金属线连接于邻近该外围区域的该第一单元或该第二单元。
2.如权利要求1所述的触控面板，其特征在于：该透明导电层直接覆盖该金属线。
3.如权利要求1所述的触控面板，其特征在于：该绝缘层包含：
一第一绝缘区域，局部覆盖该透明桥接线；以及
一第二绝缘区域，局部覆盖该金属线。
4.如权利要求3所述的触控面板，其特征在于：该透明导电层设置在该金属线上的该第二绝缘区域。
5.如权利要求1所述的触控面板，其特征在于：各该桥接线是衔接两相邻该第一单元间最短的路径。
6.如权利要求1所述的触控面板，其特征在于：该桥接线为导电氧化物线或金属线。
7.如权利要求1所述的触控面板，其特征在于：该透明导电层为金属化合物层。
8.如权利要求1所述的触控面板，其特征在于：该透明基板为玻璃板或透明高分子板材。
9.一种触控面板，其特征在于，该触控面板包含：
一透明基板，包含一感测区域及一外围区域；
一金属层，包含多个局部覆盖该感测区域的第一金属线以及多个局部覆盖该外围区域的第二金属线；
一绝缘层，局部覆盖该第一金属线；以及
一透明导电层，局部覆盖该第一金属线及该第二金属线，该透明导电层包含多个第一单元、多个第二单元及多个连接线，所述多个第一单元及所述多个第二单元交错布置，该连接线连接两相邻的该第二单元，该第一金属线连接两相邻的该第一单元，所述多个第二金属线连接于邻近该外围区域的该第一单元或该第二单元。
10.如权利要求9所述的触控面板，其特征在于：该透明导电层直接覆盖该第二金属线。
11.如权利要求9所述的触控面板，其特征在于：该绝缘层包含：
一第一绝缘区域，局部覆盖该第一金属线；以及
一第二绝缘区域，局部覆盖该第二金属线。
12.如权利要求11所述的触控面板，其特征在于：该透明导电层设置在该第二金属线上的该第二绝缘区域。
13.如权利要求9所述的触控面板，其特征在于：各该连接线是衔接两相邻该第二单元间最短的路径。
14.如权利要求9所述的触控面板，其特征在于：该连接线为导电氧化物线或金属线。
15.如权利要求9所述的触控面板，其特征在于：该透明导电层为金属化合物层。
16.如权利要求9所述的触控面板，其特征在于：该透明基板为玻璃板或透明高分子板材。
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