CN111402739A - 显示模组和显示模组的制备方法 - Google Patents

Abstract

本发明公开了一种显示模组和显示模组的制备方法。其中，显示模组具有用于设置屏下器件的挖孔区，所述显示模组包括：显示面板，包括显示面；至少一层遮光层，位于所述显示面板的远离所述显示面的一侧，且在所述显示面板上的正投影区域与所述挖孔区在所述显示面板上的正投影区域交叠。本发明改善了mura现象。

Description

显示模组和显示模组的制备方法

技术领域

本发明实施例涉及显示技术领域，尤其涉及一种显示模组和显示模组的制备方法。

背景技术

随着全面屏的发展，屏下器件如屏下指纹和屏下摄像头等的设计成为了研究热点。但是，具有屏下器件的显示屏在显示画面时，通常会出现亮度均匀性差的问题，即mura现象。

发明内容

有鉴于此，本发明的目的是提出一种显示模组和显示模组的制备方法，以改善mura现象。

为实现上述目的，本发明采用如下技术方案：

一方面，本发明实施例提供了一种显示模组，具有用于设置屏下器件的挖孔区，所述显示模组包括：

显示面板，包括显示面；

至少一层遮光层，位于所述显示面板的远离所述显示面的一侧，且在所述显示面板上的正投影区域与所述挖孔区在所述显示面板上的正投影区域交叠。

可选地，所述遮光层在所述显示面板上的正投影区域与所述挖孔区在所述显示面板上的正投影区域重合，或者所述挖孔区在所述显示面板上的正投影区域位于所述遮光层在所述显示面板上的正投影区域内。从而可遮挡照射到挖孔区的全部的光，更好地改善了mura现象。

可选地，所述显示模组还包括保护层，位于所述显示面板的远离所述显示面的一侧，所述保护层包括开口，所述开口限定出所述挖孔区。设置保护层一方面可以通过设计开口限定出挖孔区，另一方面可以对屏体(显示面板)起到保护作用。可选地，所述遮光层贴附于所述保护层上和/或所述显示面板上，提供了遮光层的多种可实施方式，可根据实际情况进行设置。

可选地，所述遮光层贴附于所述保护层上和/或所述显示面板上。提供了遮光层的多种可实施方式。

可选地，所述遮光层包括黑色遮光层或减反射膜；优选地，所述黑色遮光层为黑色遮光胶带。黑色遮光层可实现对光的吸收，可有效防止到达遮光层的光通过透射或反射照射到薄膜晶体管。黑色遮光胶带可在后续组装屏下器件时便于撕下遮光层。减反射膜可减少对光的反射率或者增大对光的透射率，可以减少由显示面板的显示面方向发来的光在显示面板的位于挖孔区的交界面处的反射。

可选地，所述减反射膜为紫外光波段减反射膜；优选地，所述紫外光波段减反射膜为超低防反射纳米光学膜。紫外光波段减反射膜可以减少显示面板的位于挖孔区的交界面对紫外线的反射，从而有效避免紫外线对薄膜晶体管的影响，改善mura现象。

可选地，至少一层黑色遮光层贴附于所述保护层上，且至少一层减反射膜贴附于所述显示面板上。至少一层的黑色遮光层和减反射膜分别贴附于保护层和显示面板上，能起到更优异的效果。

另一方面，本发明实施例提供了一种显示模组的制备方法，所述显示模组具有用于设置屏下器件的挖孔区，所述显示模组的制备方法包括：

制备显示面板，其中，所述显示面板包括显示面；

在所述显示面板的远离所述显示面的一侧设置至少一层遮光层，其中，所述遮光层在所述显示面板上的正投影区域与所述挖孔区在所述显示面板上的正投影区域交叠。该显示模组的制备方法改善了mura现象，提高了产品良率。

可选地，制备显示面板包括：

制备阵列基板；

在所述阵列基板的一侧制备发光器件；

在所述发光器件远离所述阵列基板的一侧涂覆紫外固化胶；

将盖板通过所述紫外固化胶与所述发光器件进行贴合；

采用紫外线对所述紫外固化胶进行固化；

其中，在所述显示面板的远离所述显示面的一侧设置至少一层遮光层，在采用紫外线对所述紫外固化胶进行固化的步骤之前执行；

优选地，紫外线的能量为2600兆焦至3500兆焦。降低了紫外线的能量，可进一步降低对薄膜晶体管的影响，提高产品良率。

可选地，在采用紫外线对所述紫外固化胶进行固化的步骤之后，还包括：

对所述显示模组进行高温静态修复，其中，高温静态修复的温度低于80摄氏度。高温静态修复，可以分散集中在薄膜晶体管中的光生载流子，进一步降低对薄膜晶体管的影响。

优选地，在对所述显示模组进行高温静态修复的步骤之后，还包括：

工艺等待，所述工艺等待的时间管控在大于或等于2小时。在半导体制备工艺中，工艺等待时间影响着产品的良率，因此，通过对工艺等待时间进行适当地管控，可提高产品的良率。

本发明的有益效果是：本发明实施例通过在显示面板的远离显示面的一侧设置至少一层遮光层，且遮光层在显示面板上的正投影区域与用于设置屏下器件的挖孔区在所述显示面板上的正投影区域交叠，从而减少了由挖孔区透射至显示面板而到达薄膜晶体管的光，和/或经显示面板的位于挖孔区的交界面处反射至薄膜晶体管的光，进而降低了强光对薄膜晶体管的影响，使得薄膜晶体管正常工作，从而使得对应连接的发光器件可以达到或接近预期的发光亮度，改善了mura现象，提高了产品良率。

附图说明

下面将通过参照附图详细描述本发明的示例性实施例，使本领域的普通技术人员更清楚本发明的上述及其他特征和优点，附图中：

图1是本发明实施例提供的一种显示模组的结构示意图；

图2是本发明实施例提供的另一种显示模组的结构示意图；

图3是本发明实施例提供的另一种显示模组的结构示意图；

图4是本发明实施例提供的另一种显示模组的结构示意图；

图5是本发明实施例提供的一种显示模组的制备方法的流程图。

具体实施方式

下面结合附图并通过具体实施方式来进一步说明本发明的技术方案。可以理解的是，此处所描述的具体实施例仅仅用于解释本发明，而非对本发明的限定。另外还需要说明的是，为了便于描述，附图中仅示出了与本发明相关的部分而非全部结构。

正如背景技术所述，现有技术中的显示屏存在mura现象。发明人经研究发现，存在上述问题的根本原因在于，在显示模组的制备过程中，用于设置屏下器件的挖孔区会裸露在强光(如外界光、显示面板中发光器件所发的光和屏体/模组贴合工艺中的紫外光等)环境下，而显示面板对应挖孔区的部分半导体膜层(如薄膜晶体管中的有源层/沟道层)在强光的照射下会产生光生载流子，导致薄膜晶体管的特性发生偏移，从而造成对应连接的发光器件达不到预期的发光亮度，以致发生mura现象。

基于上述技术问题，本实施例提供了以下解决方案：

图1是本发明实施例提供的一种显示模组的结构示意图。该显示模组可应用于具有屏下器件(如屏下指纹和屏下摄像头等)的显示装置，可改善显示装置的mura现象。如图1所示，本发明实施例提供的显示模组，具有用于设置屏下器件的挖孔区A，该显示模组包括：

显示面板1，包括显示面；

至少一层遮光层2，位于显示面板1的远离显示面的一侧，且在显示面板1上的正投影区域B与挖孔区A在显示面板1上的正投影区域交叠。本实施例提供的显示模组包括了至少一层的遮光层2，该遮光层2的层数可以为一层、两层、五层等，可根据实际情况进行设置。

可知的，本实施例中以一层遮光层2为例进行具体描述。

其中，显示面板1可包括阵列基板和位于阵列基板上的发光器件20，阵列基板包括像素电路，用于驱动发光器件20发光，像素电路包括薄膜晶体管10，薄膜晶体管10的源极/漏极与发光器件20电连接。遮光层2用于遮挡到达挖孔区A的光，防止被遮挡的光照射到显示面板1中的薄膜晶体管10上。遮光层2可根据不同的情况选择不同的遮光结构。例如，对于在减少光的反射的同时减少光的透射的情况，遮光层2可选择吸光结构；对于仅需减少光的透射的情况，遮光层2可选择高反射结构或全反射结构；对于仅需减少光的反射的情况，遮光层2可选择减反射结构或增透结构；对于需要减少某波段的光的反射的情况，遮光层2可选择对应波段的减反射结构。

本实施例中，遮光层2在显示面板1上的正投影区域B与挖孔区A在显示面板1上的正投影区域交叠，即遮光层2可以遮挡挖孔区A的一部分或者全部，从而使得到达挖孔区A的一部分光或全部光被遮光层2所遮挡，进而减少了可到达薄膜晶体管10的光。

图1示意性地示出了一种可实施的显示模组的结构。如图1所示，遮光层2与显示面板1未接触设置，由于显示面板1与遮光层2之间存在间隙，因此该遮光层2不影响发光器件20所发的光在显示面板1的位于挖孔区A的交界面处反射。此时，将遮光层2可以为吸光结构，外界光到达遮光层2时被遮光层2吸收，从而可防止外界光由显示模组的背面经挖孔区A进入到显示面板1中，即避免了外界光照射到薄膜晶体管10，减少了外界光对薄膜晶体管10的影响，改善了mura现象。

另外，图2示意性地示出了一种可实施的显示模组的优选结构。如图2所示，遮光层2与显示面板1接触设置，此时，将遮光层2可以为吸光结构，外界光以及发光器件20发出的光到达遮光层2时被遮光层2吸收，从而可防止外界光由显示模组的背面经挖孔区A进入到显示面板1中，以及防止发光器件20发出的光在显示面板1的位于挖孔区A的交界面处发生反射，即避免了外界光与发光器件20的反射光照射到薄膜晶体管10，减少了外界光与发光器件20的反射光对薄膜晶体管10的影响，进一步改善了mura现象。

本实施例通过在显示面板1的远离显示面的一侧设置遮光层2，且遮光层2在显示面板1上的正投影区域与用于设置屏下器件的挖孔区在显示面板上1的正投影区域交叠，从而减少了由挖孔区透射至显示面板1而到达薄膜晶体管10的光，和/或经显示面板1的位于挖孔区的交界面处反射至薄膜晶体管10的光，进而降低了强光对薄膜晶体管10的影响，使得薄膜晶体管10正常工作，从而使得对应连接的发光器件20可以达到或接近预期的发光亮度，改善了mura现象，提高了产品良率。

可选地，遮光层2在显示面板1上的正投影区域与挖孔区在显示面板1上的正投影区域重合，或者挖孔区在显示面板1上的正投影区域位于遮光层2在显示面板1上的正投影区域内。

示例性地，参见图1，挖孔区A在显示面板1上的正投影区域位于遮光层2在显示面板1上的正投影区域B内；参见图2，遮光层2在显示面板1上的正投影区域B与挖孔区A在显示面板1上的正投影区域重合。由此，遮光层2可完全覆盖挖孔区A，从而可遮挡照射到挖孔区A的全部的光，更好地改善了mura现象。

可选地，遮光层2包括黑色遮光层或者减反射膜。其中，黑色遮光层可实现对光的吸收，可有效防止到达遮光层2的光通过透射或反射照射到薄膜晶体管10。可选地，黑色遮光层为黑色遮光胶带，由此在后续组装屏下器件时便于撕下遮光层2。减反射膜可减少对光的反射率或者增大对光的透射率，可以减少由显示面板1的显示面方向发来的光在显示面板1的位于挖孔区的交界面处的反射。可选地，减反射膜为紫外光波段减反射膜。考虑到在屏体/模组贴合工艺中，通常采用紫外线对框胶等紫外固化胶进行固化，而紫外线等短波段的光对薄膜晶体管10的影响更大，因此，减反射膜为紫外光波段减反射膜，可以减少显示面板1的位于挖孔区的交界面对紫外线的反射，从而有效避免紫外线对薄膜晶体管10的影响，改善mura现象。本实施例中，通过设置了紫外光波段减反射膜，相比未设置减反射膜时，该紫外光波段减反射膜对光的反射率减小了10％。

示例性地，紫外光波段减反射膜可以为超低防反射纳米光学膜，如SLR-0170超低防反射纳米光学膜。本实施例中，使用超低防反射纳米光学膜，相比未设置减反射膜时，该超低防反射纳米光学膜对光的反射率减小了15％。

可选地，遮光层2包括单向透视膜，显示模组设置了单向透视膜之后，可以将显示面板1中发光器件20所发的光透射过去，也可以将屏体和/或模组贴合工艺中的紫外光透射过去，同时还可以避免外界光由显示模组的背面经挖孔区A进入到显示面板1中，采用单向透视膜能有效改善了mura现象。

可选地，显示模组还包括保护层3，位于显示面板1的远离显示面的一侧，保护层3包括开口，开口限定出挖孔区。

示例性地，可继续参考图1和图2，显示模组还包括保护层3，一方面可以通过设计开口限定出挖孔区A，另一方面可以对屏体(显示面板)起到保护作用。可选地，保护层3为复合胶带，可防止静电对屏体造成干扰。

可选地，遮光层2贴附于保护层3上和/或显示面板1上。遮光层2可与保护层3集成在一起。

具体地，参考图1，在遮光层2贴附于保护层3上时，挖孔区A在显示面板1上的正投影区域位于遮光层2在显示面板1上的正投影区域B内，此时，保护层3围绕开口的一圈可形成缺口，以容纳遮光层2，增加遮光层2与保护层3的贴合面积，使遮光层2贴合的比较牢固；基于该种情况，遮光层2远离显示面板1一侧的表面可以与保护层3远离显示面板1一侧的表面齐平，也可以凸出于保护层3远离显示面板1一侧的表面。

此外，参考图2和图3，遮光层2也可贴附于显示面板1上。作为一种可选方案，如图3所示，遮光层2整面贴附于显示面板1上，保护层3贴附于遮光层2远离显示基板1的一侧。

可选地，至少一层黑色遮光层贴附于保护层3上，且至少一层减反射膜贴附于显示面板1上。贴附于保护层3上的黑色遮光层可有效减少外界强光对薄膜晶体管的影响，贴附于显示面板1上的减反射膜可有效减少由显示面板1的显示面方向发来的光在显示面板1的位于挖孔区的交界面处的反射。本实施例提供了遮光层2的多种可实施方式，具体可根据实际情况进行设置。

再者，参考图4，遮光层2可以有两层，其中一层遮光层2贴附于显示面板1上，另一层遮光层2贴附于保护层3上。此时，可以加强对到达挖孔区的光的遮挡，进一步降低光对薄膜晶体管的影响，改善mura现象。可知的，这两层遮光层2可以同时为黑色遮光层或减反射膜；或者其中一层为黑色遮光层，另一层为减反射膜，黑色遮光层和减反射膜组合的方式达到更优异的效果，具体可根据实际情况进行设置。

在上述技术方案中，当遮光层2为黑色遮光胶带，保护层3为复合胶带时，在后续的屏下器件组装工艺中，需将黑色遮光胶带撕下；而当遮光层2为紫外光波段减反射膜，保护层3为复合胶带时，在后续的屏下器件组装工艺中，由于紫外光波段减反射膜为透明膜层，且不会对发光器件20发出的光以及外界可见光进行遮挡，因此可不必撕下紫外光波段减反射膜。

另外，本发明实施例提供了一种显示模组的制备方法，图5是本发明实施例提供的一种显示模组的制备方法的流程图，其中，显示模组具有用于设置屏下器件的挖孔区。如图5所示，显示模组的制备方法包括：

步骤110、制备显示面板。

其中，显示面板包括显示面；显示面板可包括阵列基板和位于阵列基板上的发光器件，阵列基板包括像素电路，用于驱动发光器件发光，像素电路包括薄膜晶体管，薄膜晶体管的源极/漏极与发光器件电连接。

步骤120、在显示面板的远离显示面的一侧设置至少一层遮光层。

其中，遮光层在显示面板上的正投影区域与挖孔区在显示面板上的正投影区域交叠。遮光层可根据不同的情况选择不同的遮光结构。例如，对于在减少光的反射的同时减少光的透射的情况，遮光层可选择吸光结构；对于仅需减少光的透射的情况，遮光层可选择高反射结构或全反射结构；对于仅需减少光的反射的情况，遮光层可选择减反射结构或增透结构；对于需要减少某波段的光的反射的情况，遮光层可选择对应波段的减反射结构。

需要说明的是，本实施例对显示模组的制备方法的执行顺序不作限制，步骤120可在步骤110的某一具体步骤之前或之后执行。

本实施例通过在显示面板的远离显示面的一侧设置至少一层遮光层，且遮光层在显示面板上的正投影区域与用于设置屏下器件的挖孔区在显示面板上的正投影区域交叠，从而减少了由挖孔区透射至显示面板而到达薄膜晶体管的光，和/或经显示面板的位于挖孔区的交界面处反射至薄膜晶体管的光，进而降低了强光对薄膜晶体管的影响，使得薄膜晶体管正常工作，从而使得对应连接的发光器件可以达到或接近预期的发光亮度，改善了mura现象，提高了产品良率。

可选地，制备显示面板包括：

制备阵列基板；

在阵列基板的一侧制备发光器件；

在发光器件远离阵列基板的一侧涂覆紫外固化胶；

将盖板通过紫外固化胶与发光器件进行贴合；

采用紫外线对紫外固化胶进行固化；

其中，在显示面板的远离显示面的一侧设置至少一层遮光层，在采用紫外线对紫外固化胶进行固化的步骤之前执行，所述遮光层为紫外光波段减反射膜。

考虑到紫外线等短波段的光对薄膜晶体管的影响更大，因此，在采用紫外线对紫外固化胶进行固化的步骤之前执行步骤120，可以在后续步骤中有效阻挡紫外线传输至薄膜晶体管，从而降低对薄膜晶体管的影响，改善mura现象。

可选地，紫外线的能量为2600兆焦至3500兆焦。在现有方案的UV制程中，紫外线的能量为3000兆焦至4000兆焦。在本发明一优选方案中，将紫外线的能量设置为2600兆焦至3200兆焦，由此，降低了紫外线的能量，可进一步降低对薄膜晶体管的影响，提高产品良率。

可选地，在采用紫外线对紫外固化胶进行固化的步骤之后，还包括：

对显示模组进行高温静态修复，其中，高温静态修复的温度低于80摄氏度。

本实施例的技术方案通过对显示模组进行高温静态修复，可以分散集中在薄膜晶体管中的光生载流子，进一步降低对薄膜晶体管的影响。

优选地，高温静态修复的温度为60摄氏度至80摄氏度，进一步优选为60摄氏度，可有效降低对薄膜晶体管的影响。

可选地，在对显示模组进行高温静态修复的步骤之后，还包括：

工艺等待，该工艺等待的时间管控在大于或等于2小时。

在半导体制备工艺中，工艺等待时间影响着产品的良率，因此，通过对工艺等待时间进行适当地管控，可提高产品的良率。本实施例通过将工艺等待时间管控在大于或等于2小时，同时结合上述遮光层的设计，可大大提高产品的良率。

基于上述技术方案，经实验验证，在显示面板的远离显示面的一侧设置遮光层之后，产品的不良率由29.40％降低至11.70％；在此基础上，通过对显示模组进行高温静态修复24小时，产品的不良率降低至1.57％；在上述实验的基础上，在高温静态修复之后，又将工艺等待时间管控在大于或等于2小时，使得产品的不良率降低至0.43％；在上述实验的基础上，采用能量为3000至3500兆焦的紫外线对紫外固化胶进行固化，最终将产品的不良率降低至0.04％。由此可见，通过本发明的技术方案，可将产品的不良率由29.40％降低至0.04％，有效提高了产品良率。

本说明书中各个实施例采用递进的方式描述，每个实施例重点说明的都是与其他实施例的不同之处，各个实施例之间相同相似部分互相参见即可。

对所公开的实施例的上述说明，使本领域专业技术人员能够实现或使用本发明。对这些实施例的多种修改对本领域的专业技术人员来说将是显而易见的，本文中所定义的一般原理可以在不脱离本发明的精神或范围的情况下，在其它实施例中实现。因此，本发明将不会被限制于本文所示的这些实施例，而是要符合与本文所公开的原理和新颖特点相一致的最宽的范围。

Claims (10)

1.一种显示模组，其特征在于，具有用于设置屏下器件的挖孔区，所述显示模组包括：

显示面板，包括显示面；

至少一层遮光层，位于所述显示面板的远离所述显示面的一侧，且在所述显示面板上的正投影区域与所述挖孔区在所述显示面板上的正投影区域交叠。

2.根据权利要求1所述的显示模组，其特征在于，所述遮光层在所述显示面板上的正投影区域与所述挖孔区在所述显示面板上的正投影区域重合，或者所述挖孔区在所述显示面板上的正投影区域位于所述遮光层在所述显示面板上的正投影区域内。

3.根据权利要求1所述的显示模组，其特征在于，所述显示模组还包括保护层，位于所述显示面板的远离所述显示面的一侧，所述保护层包括开口，所述开口限定出所述挖孔区。

4.根据权利要求3所述的显示模组，其特征在于，所述遮光层贴附于所述保护层上和/或所述显示面板上。

5.根据权利要求1-4任一项所述的显示模组，其特征在于，所述遮光层包括黑色遮光层或减反射膜；优选地，所述黑色遮光层为黑色遮光胶带。

6.根据权利要求5所述的显示模组，其特征在于，所述减反射膜为紫外光波段减反射膜；优选地，所述紫外光波段减反射膜为超低防反射纳米光学膜。

7.根据权利要求5所述的显示模组，其特征在于，至少一层所述黑色遮光层贴附于所述保护层上，且至少一层所述减反射膜贴附于所述显示面板上。

8.一种显示模组的制备方法，其特征在于，所述显示模组具有用于设置屏下器件的挖孔区，所述显示模组的制备方法包括：

制备显示面板，其中，所述显示面板包括显示面；

在所述显示面板的远离所述显示面的一侧设置至少一层遮光层，其中，所述遮光层在所述显示面板上的正投影区域与所述挖孔区在所述显示面板上的正投影区域交叠。

9.根据权利要求8所述的显示模组的制备方法，其特征在于，所述制备显示面板包括：

制备阵列基板；

在所述阵列基板的一侧制备发光器件；

在所述发光器件远离所述阵列基板的一侧涂覆紫外固化胶；

将盖板通过所述紫外固化胶与所述发光器件进行贴合；

采用紫外线对所述紫外固化胶进行固化；

其中，在所述显示面板的远离所述显示面的一侧设置至少一层遮光层，在采用紫外线对所述紫外固化胶进行固化的步骤之前执行；

优选地，紫外线的能量为2600兆焦至3500兆焦。

10.根据权利要求9所述的显示模组的制备方法，其特征在于，在采用紫外线对所述紫外固化胶进行固化的步骤之后，还包括：

对所述显示模组进行高温静态修复，其中，高温静态修复的温度低于80摄氏度；

优选地，在对所述显示模组进行高温静态修复的步骤之后，还包括：

工艺等待，所述工艺等待的时间管控在大于或等于2小时。

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