CN111118501A - 一种锡面保护剂及其制备方法 - Google Patents
一种锡面保护剂及其制备方法 Download PDFInfo
- Publication number
- CN111118501A CN111118501A CN202010014992.9A CN202010014992A CN111118501A CN 111118501 A CN111118501 A CN 111118501A CN 202010014992 A CN202010014992 A CN 202010014992A CN 111118501 A CN111118501 A CN 111118501A
- Authority
- CN
- China
- Prior art keywords
- mixture
- tin surface
- stirring
- tin
- parts
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23F—NON-MECHANICAL REMOVAL OF METALLIC MATERIAL FROM SURFACE; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL; MULTI-STEP PROCESSES FOR SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL INVOLVING AT LEAST ONE PROCESS PROVIDED FOR IN CLASS C23 AND AT LEAST ONE PROCESS COVERED BY SUBCLASS C21D OR C22F OR CLASS C25
- C23F1/00—Etching metallic material by chemical means
- C23F1/02—Local etching
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23F—NON-MECHANICAL REMOVAL OF METALLIC MATERIAL FROM SURFACE; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL; MULTI-STEP PROCESSES FOR SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL INVOLVING AT LEAST ONE PROCESS PROVIDED FOR IN CLASS C23 AND AT LEAST ONE PROCESS COVERED BY SUBCLASS C21D OR C22F OR CLASS C25
- C23F1/00—Etching metallic material by chemical means
- C23F1/10—Etching compositions
- C23F1/14—Aqueous compositions
- C23F1/32—Alkaline compositions
- C23F1/34—Alkaline compositions for etching copper or alloys thereof
-
- H—ELECTRICITY
- H05—ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H05K—PRINTED CIRCUITS; CASINGS OR CONSTRUCTIONAL DETAILS OF ELECTRIC APPARATUS; MANUFACTURE OF ASSEMBLAGES OF ELECTRICAL COMPONENTS
- H05K3/00—Apparatus or processes for manufacturing printed circuits
- H05K3/02—Apparatus or processes for manufacturing printed circuits in which the conductive material is applied to the surface of the insulating support and is thereafter removed from such areas of the surface which are not intended for current conducting or shielding
- H05K3/06—Apparatus or processes for manufacturing printed circuits in which the conductive material is applied to the surface of the insulating support and is thereafter removed from such areas of the surface which are not intended for current conducting or shielding the conductive material being removed chemically or electrolytically, e.g. by photo-etch process
- H05K3/061—Etching masks
- H05K3/062—Etching masks consisting of metals or alloys or metallic inorganic compounds
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Metallurgy (AREA)
- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
- General Chemical & Material Sciences (AREA)
- Materials Engineering (AREA)
- Mechanical Engineering (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Manufacturing & Machinery (AREA)
- Microelectronics & Electronic Packaging (AREA)
- Preventing Corrosion Or Incrustation Of Metals (AREA)
Abstract
本发明涉及印刷线路板工艺制剂技术领域,尤其是一种锡面保护剂及其制备方法。其中,锡面保护剂,按重量份计,包括3‑8份六次甲基四胺、2‑10份尿素、0.7‑1.1份聚乙二醇300、0.1‑0.3份苯并三氮唑、0.1‑0.3份烷基苯并咪唑、0.1‑0.3份硫脲嘧啶、0.5‑1.0份单乙醇胺和80‑94份水。本发明在应用时不但可以改变金属锡的氧化还原电位,使锡面更加难以与强碱发生化学反应,而且可在锡面上形成一层保护膜,从而隔绝强碱与锡面,起到保护锡面的作用;同时,可将线路板的锡面厚度要求降低至2‑4μm,即可完全达到抗蚀刻的要求,从而大大地节省了金属锡的用量,为降低企业成本创造了条件。
Description
技术领域
本发明涉及印刷线路板工艺制剂技术领域,尤其是一种锡面保护剂及其制备方法。
背景技术
周知,碱性蚀刻是印制线路板加工工艺中必不可少的一道工艺工序,其通常是指在线路完成镀铜工序后,还会在铜的表面镀一层锡,以利用电镀成型的锡面作为抗蚀刻层,而后利用强碱来剥除干膜以蚀刻出线路;由于锡属于两性金属,会与强碱发生化学反应;因此,业内在制作印刷线路板时,通常会采用5-8μm的锡厚来达到抗蚀刻的效果(如果锡层太薄,往往会达不到抗蚀刻的效果)。然而,由于金属锡的成本较高,且现有技术无法将锡厚降至最小,给企业的生产加工成本造成了极大的压力。
发明内容
针对上述现有技术存在的不足,本发明的其中一个目的在于提供一种锡面保护剂;本发明的另一个目的在于提供一种锡面保护剂的制备方法。
为了实现上述目的,本发明采用第一个技术方案为:
一种锡面保护剂,按重量份计,包括3-8份六次甲基四胺、2-10份尿素、0.7-1.1份聚乙二醇300、0.1-0.3份苯并三氮唑、0.1-0.3份烷基苯并咪唑、0.1-0.3份硫脲嘧啶、0.5-1.0份单乙醇胺和80-94份水。其中,利用六次甲基四胺、尿素和硫脲嘧啶可改变金属锡的氧化还原电位,使金属锡更难以与强碱发生化学反应;利用烷基苯并咪唑和苯并三氮唑则可在锡面上形成一层保护膜以通过隔绝强碱与锡面来避免金属锡被强碱攻击和腐蚀;利用单乙醇胺则可为各个组成成分提供一个碱性环境,以便促进各个组分进行溶解;利用聚乙二醇300不但可以作为增溶剂来进一步增强各个组分在水中的溶解效果,还可以作为湿润剂以使各个组分能够更好地作用于锡面上。
优选地,所述烷基苯并咪唑为2-乙基苯并咪唑。
优选地,所述硫脲嘧啶为2-硫脲嘧啶。
优选地,按重量份计,包括5份六次甲基四胺、5份尿素、1.0份聚乙二醇300、0.2份苯并三氮唑、0.2份烷基苯并咪唑、0.1份硫脲嘧啶、0.5份单乙醇胺和88份水。
本发明采用第二个技术方案为:
一种锡面保护剂的制备方法,包括以下步骤
S1、按重量份配比将单乙醇胺和50%的水进行混合搅拌,直至单乙醇胺完全溶解,得到一次混合物;
S2、按重量份配比将聚乙二醇300加入一次混合物中进行混合搅拌,直至聚乙二醇300完全溶解,得到二次混合物;
S3、按重量份配比将六次甲基四胺加入二次混合物中进行搅拌混合,直至六次甲基四胺完全溶解,得到三次混合物;
S4、按重量份配比将尿素加入三次混合物中进行搅拌混合,直至尿素完全溶解,得到四次混合物;
S5、按重量份配比将苯并三氮唑加入四次混合物中进行搅拌混合,直至苯并三氮唑完全溶解,得到五次混合物;
S6、按重量份配比将硫脲嘧啶加入五次混合物中进行搅拌混合,直至硫脲嘧啶完全溶解,得到六次混合物;
S7、按重量份配比将烷基苯并咪唑加入六次混合物中进行搅拌混合,直至烷基苯并咪唑完全溶解,得到七次混合物;
S8、按重量份配比将剩余的50%的水加入七次混合物中持续搅拌至少60min,即可锡面保护剂。
由于采用了上述方案,在印刷线路板的碱性蚀刻工艺中,通过在强碱溶液将加入锡面保护剂不但可以改变金属锡的氧化还原电位,使锡面更加难以与强碱发生化学反应,而且可在锡面上形成一层保护膜,从而隔绝强碱与锡面,起到保护锡面的作用;同时,通过对锡面保护剂的应用可将线路板的锡面厚度要求降低至2-4μm,即可完全达到抗蚀刻的要求,从而大大地节省了金属锡的用量,为降低企业成本创造了条件。
具体实施方式
以下对本发明的实施例进行详细说明,但是本发明可以由权利要求限定和覆盖的多种不同方式实施。
实施例一:
S1、按将0.5kg单乙醇胺和44kg水进行混合搅拌,直至单乙醇胺完全溶解,得到一次混合物;
S2、将1.0kg聚乙二醇300加入一次混合物中进行混合搅拌,直至聚乙二醇300完全溶解,得到二次混合物;
S3、将5.0kg六次甲基四胺加入二次混合物中进行搅拌混合,直至六次甲基四胺完全溶解,得到三次混合物;
S4、将5.0kg尿素加入三次混合物中进行搅拌混合,直至尿素完全溶解,得到四次混合物;
S5、将0.2kg苯并三氮唑加入四次混合物中进行搅拌混合,直至苯并三氮唑完全溶解,得到五次混合物;
S6、将0.1kg 2-硫脲嘧啶加入五次混合物中进行搅拌混合,直至硫脲嘧啶完全溶解,得到六次混合物;
S7、将0.2kg烷基苯并咪唑加入六次混合物中进行搅拌混合,直至烷基苯并咪唑完全溶解,得到七次混合物;
S8、按重量份配比将剩余的44kg水加入七次混合物中持续搅拌至少60min,即可锡面保护剂。
实施例二:
S1、按将1.0kg单乙醇胺和40kg水进行混合搅拌,直至单乙醇胺完全溶解,得到一次混合物;
S2、将0.5kg聚乙二醇300加入一次混合物中进行混合搅拌,直至聚乙二醇300完全溶解,得到二次混合物;
S3、将8.0kg六次甲基四胺加入二次混合物中进行搅拌混合,直至六次甲基四胺完全溶解,得到三次混合物;
S4、将10.0kg尿素加入三次混合物中进行搅拌混合,直至尿素完全溶解,得到四次混合物;
S5、将0.2kg苯并三氮唑加入四次混合物中进行搅拌混合,直至苯并三氮唑完全溶解,得到五次混合物;
S6、将0.1kg 2-硫脲嘧啶加入五次混合物中进行搅拌混合,直至硫脲嘧啶完全溶解,得到六次混合物;
S7、将0.2kg烷基苯并咪唑加入六次混合物中进行搅拌混合,直至烷基苯并咪唑完全溶解,得到七次混合物;
S8、按重量份配比将剩余的40kg水加入七次混合物中持续搅拌至少60min,即可锡面保护剂。
实施例三:
S1、按将0.8kg单乙醇胺和46.3kg水进行混合搅拌,直至单乙醇胺完全溶解,得到一次混合物;
S2、将0.9kg聚乙二醇300加入一次混合物中进行混合搅拌,直至聚乙二醇300完全溶解,得到二次混合物;
S3、将3.0kg六次甲基四胺加入二次混合物中进行搅拌混合,直至六次甲基四胺完全溶解,得到三次混合物;
S4、将2.0kg尿素加入三次混合物中进行搅拌混合,直至尿素完全溶解,得到四次混合物;
S5、将0.1kg苯并三氮唑加入四次混合物中进行搅拌混合,直至苯并三氮唑完全溶解,得到五次混合物;
S6、将0.3kg 2-硫脲嘧啶加入五次混合物中进行搅拌混合,直至硫脲嘧啶完全溶解,得到六次混合物;
S7、将0.3kg烷基苯并咪唑加入六次混合物中进行搅拌混合,直至烷基苯并咪唑完全溶解,得到七次混合物;
S8、按重量份配比将剩余的46.3kg水加入七次混合物中持续搅拌至少60min,即可锡面保护剂。
在对印刷电路板进行碱性蚀刻处理时(通常的处理工序为退膜-水洗-蚀刻-水洗-退锡-水洗-烘干),将实施例一至三所制得的锡面保护剂在退膜阶段按照表一所述及的工艺条件进行使用,并在相同的工艺条件采用传统方式(即:未加入锡面保护剂的情况下)进行碱性蚀刻处理后,可从表二所述及的试验数据中明确确定:采用本实施例的锡面保护剂可有效避免在退膜阶段以及后续的碱性蚀刻工艺中因强碱对金属锡的攻击腐蚀而导致线路板蚀刻不良问题的发生,而且经反复实验锡厚仅需控制在2-4μm即可完全满足蚀刻工艺的抗蚀刻要求,有效地节省了金属锡的使用量,为降低企业成本创造了条件。
以上所述仅为本发明的优选实施例,并非因此限制本发明的专利范围,凡是利用本发明说明书内容所作的等效结构或等效流程变换,或直接或间接运用在其他相关的技术领域,均同理包括在本发明的专利保护范围内。
Claims (5)
1.一种锡面保护剂,其特征在于:按重量份计,包括3-8份六次甲基四胺、2-10份尿素、0.7-1.1份聚乙二醇300、0.1-0.3份苯并三氮唑、0.1-0.3份烷基苯并咪唑、0.1-0.3份硫脲嘧啶、0.5-1.0份单乙醇胺和80-94份水。
2.如权利要求1所述的一种锡面保护剂,其特征在于:所述烷基苯并咪唑为2-乙基苯并咪唑。
3.如权利要求1所述的一种锡面保护剂,其特征在于:所述硫脲嘧啶为2-硫脲嘧啶。
4.如权利要求1所述的一种锡面保护剂,其特征在于:按重量份计,包括5份六次甲基四胺、5份尿素、1.0份聚乙二醇300、0.2份苯并三氮唑、0.2份烷基苯并咪唑、0.1份硫脲嘧啶、0.5份单乙醇胺和88份水。
5.一种锡面保护剂的制备方法,其特征在于:包括以下步骤
S1、按重量份配比将单乙醇胺和50%的水进行混合搅拌,直至单乙醇胺完全溶解,得到一次混合物;
S2、按重量份配比将聚乙二醇300加入一次混合物中进行混合搅拌,直至聚乙二醇300完全溶解,得到二次混合物;
S3、按重量份配比将六次甲基四胺加入二次混合物中进行搅拌混合,直至六次甲基四胺完全溶解,得到三次混合物;
S4、按重量份配比将尿素加入三次混合物中进行搅拌混合,直至尿素完全溶解,得到四次混合物;
S5、按重量份配比将苯并三氮唑加入四次混合物中进行搅拌混合,直至苯并三氮唑完全溶解,得到五次混合物;
S6、按重量份配比将硫脲嘧啶加入五次混合物中进行搅拌混合,直至硫脲嘧啶完全溶解,得到六次混合物;
S7、按重量份配比将烷基苯并咪唑加入六次混合物中进行搅拌混合,直至烷基苯并咪唑完全溶解,得到七次混合物;
S8、按重量份配比将剩余的50%的水加入七次混合物中持续搅拌至少60min,即可锡面保护剂。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
CN202010014992.9A CN111118501A (zh) | 2020-01-07 | 2020-01-07 | 一种锡面保护剂及其制备方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
CN202010014992.9A CN111118501A (zh) | 2020-01-07 | 2020-01-07 | 一种锡面保护剂及其制备方法 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
CN111118501A true CN111118501A (zh) | 2020-05-08 |
Family
ID=70487272
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
CN202010014992.9A Pending CN111118501A (zh) | 2020-01-07 | 2020-01-07 | 一种锡面保护剂及其制备方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
CN (1) | CN111118501A (zh) |
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN111926332A (zh) * | 2020-07-16 | 2020-11-13 | 深圳市点石源水处理技术有限公司 | 一种锡面保护剂及其制备方法与应用 |
CN114086169A (zh) * | 2021-11-09 | 2022-02-25 | 南通群安电子材料有限公司 | 锡面保护剂 |
Citations (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN105331978A (zh) * | 2015-12-03 | 2016-02-17 | 东莞市广华化工有限公司 | 一种新型的无机环保型退膜液 |
CN107815245A (zh) * | 2017-11-02 | 2018-03-20 | 深圳市华宇节耗电子有限公司 | 一种十二烷基三乙氧基硅烷的应用及用于pcb制造的锡面保护剂及锡面保护方法 |
CN107908084A (zh) * | 2017-11-21 | 2018-04-13 | 东莞市广华化工有限公司 | 一种新式无机环保型退膜液 |
CN109831879A (zh) * | 2019-02-23 | 2019-05-31 | 上海富柏化工有限公司 | 一种护锡型pcb去膜液 |
CN110093639A (zh) * | 2019-04-22 | 2019-08-06 | 深圳市泓达环境科技有限公司 | 一种护锡添加剂及蚀刻液 |
-
2020
- 2020-01-07 CN CN202010014992.9A patent/CN111118501A/zh active Pending
Patent Citations (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN105331978A (zh) * | 2015-12-03 | 2016-02-17 | 东莞市广华化工有限公司 | 一种新型的无机环保型退膜液 |
CN107815245A (zh) * | 2017-11-02 | 2018-03-20 | 深圳市华宇节耗电子有限公司 | 一种十二烷基三乙氧基硅烷的应用及用于pcb制造的锡面保护剂及锡面保护方法 |
CN107908084A (zh) * | 2017-11-21 | 2018-04-13 | 东莞市广华化工有限公司 | 一种新式无机环保型退膜液 |
CN109831879A (zh) * | 2019-02-23 | 2019-05-31 | 上海富柏化工有限公司 | 一种护锡型pcb去膜液 |
CN110093639A (zh) * | 2019-04-22 | 2019-08-06 | 深圳市泓达环境科技有限公司 | 一种护锡添加剂及蚀刻液 |
Cited By (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN111926332A (zh) * | 2020-07-16 | 2020-11-13 | 深圳市点石源水处理技术有限公司 | 一种锡面保护剂及其制备方法与应用 |
CN111926332B (zh) * | 2020-07-16 | 2022-05-27 | 深圳市点石源水处理技术有限公司 | 一种锡面保护剂及其制备方法与应用 |
CN114086169A (zh) * | 2021-11-09 | 2022-02-25 | 南通群安电子材料有限公司 | 锡面保护剂 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
EP0438535B1 (en) | Inhibited composition and method for stripping tin, lead or tin-lead alloy from copper surfaces | |
CN109898085B (zh) | 退锡组合液及退锡方法 | |
CN109628934A (zh) | 环保型褪锡液及其制备方法 | |
CN111118501A (zh) | 一种锡面保护剂及其制备方法 | |
CN105676603A (zh) | 印刷线路板去膜液及其配制方法和使用方法 | |
CA2007608C (en) | Composition and method for stripping tin or tin-lead alloy from copper surfaces | |
US4439338A (en) | Solution for stripping a layer of tin or tin-lead alloy from a substrate by means of a spraying operation | |
CN102286745A (zh) | 铜面粗化微蚀刻剂 | |
US8486281B2 (en) | Nickel-chromium alloy stripper for flexible wiring boards | |
DE10302596A1 (de) | Behandlung von Metalloberflächen mit einer modifizierten Oxidaustauschmasse | |
EP0397327B1 (en) | Process for dissolving tin and tin alloys | |
AU8317898A (en) | Composition and method for stripping solder and tin from printed circuit boards | |
JP4418916B2 (ja) | エッチング処理用組成物 | |
US20050236359A1 (en) | Copper/copper alloy surface bonding promotor and its usage | |
CN101407914B (zh) | 一种退锡铅剂 | |
JP2005187945A (ja) | 銅および銅合金用のマイクロエッチング剤 | |
CN117144367A (zh) | 一种ic封装载板用线路蚀刻溶液及其制备方法与应用 | |
JP2587254B2 (ja) | 錫または錫一鉛合金の剥離方法 | |
JP3854523B2 (ja) | レジスト剥離剤 | |
JP4431860B2 (ja) | 銅および銅合金の表面処理剤 | |
JP4395148B2 (ja) | レジスト剥離剤 | |
JPH09228075A (ja) | 選択的ニッケル剥離液およびこれを用いる剥離方法 | |
CN116162933B (zh) | 一种用于铜合金表面的酸性微蚀液及其制备方法 | |
CN116583026B (zh) | 一种ic载板退锡方法及其应用 | |
CN112928020A (zh) | 一种金镍膜层的蚀刻方法及其应用 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
PB01 | Publication | ||
PB01 | Publication | ||
SE01 | Entry into force of request for substantive examination | ||
SE01 | Entry into force of request for substantive examination | ||
RJ01 | Rejection of invention patent application after publication | ||
RJ01 | Rejection of invention patent application after publication |
Application publication date: 20200508 |