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CN117518650A - 显示装置及显示系统 - Google Patents

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CN117518650A
CN117518650A CN202310969542.9A CN202310969542A CN117518650A CN 117518650 A CN117518650 A CN 117518650A CN 202310969542 A CN202310969542 A CN 202310969542A CN 117518650 A CN117518650 A CN 117518650A
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CN
China
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display device
conductive layer
insulating film
display
film
Prior art date
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Application number
CN202310969542.9A
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English (en)
Inventor
渡边恭辅
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Japan Display Inc
Original Assignee
Japan Display Inc
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Publication date
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Abstract

提供抑制设于阵列基板的导电层所反射的反射光的显示装置及显示系统。显示装置具有阵列基板和对置基板。阵列基板具有在第1方向上隔开间隔排列的多个信号线、在第2方向上隔开间隔排列的多个扫描线、滤色器、按每个像素而配置的多个像素电极、隔着绝缘膜而与多个像素电极重叠的共通电极、在平面视图中与多个信号线及多个扫描线重叠的格状的导电层、沿着导电层而设在导电层上的透光性的光干涉薄膜、和沿着导电层而设在光干涉薄膜上的金属薄膜。

Description

显示装置及显示系统
技术领域
本发明涉及显示装置及显示系统。
背景技术
在专利文献1中，公开了在具备开关元件的阵列基板侧配置有滤色器、像素电极及共通电极的所谓COA(Color Filter On Array)构造。
现有技术文献
专利文献
专利文献1：日本特开2021－063897号公报
发明内容
发明要解决的课题
在专利文献1中，为了减小阵列基板与对置基板的重叠偏差的影响，在对置基板的显示区域中没有遮光层。因此，设于阵列基板的金属层进行像素间的遮光。但是，有可能设于阵列基板的金属层自身将光反射而图像的视觉识别性变差。
本公开的目的在于，提供对设于阵列基板的导电层所反射的反射光进行抑制的显示装置及显示系统。
用来解决课题的手段
一技术方案的显示装置，具有：阵列基板；以及对置基板，与上述阵列基板对置；上述阵列基板具有：多个信号线，在第1方向上隔开间隔排列；多个扫描线，在第2方向上隔开间隔排列；滤色器，配置在与由相邻的两个信号线及相邻的两个扫描线包围的开口重叠的位置；多个像素电极，按每个像素而配置；共通电极，隔着绝缘膜而与多个上述像素电极重叠；格状的导电层，在平面视图中与多个上述信号线及多个上述扫描线重叠；透光性的光干涉薄膜，沿着上述导电层而设在上述导电层上；以及金属薄膜，沿着上述导电层而设在上述光干涉薄膜上。
附图说明
图1是表示实施方式1的显示系统的一例的结构图。
图2是表示显示装置和用户的眼睛的相对关系的一例的示意图。
图3是表示实施方式1的显示系统的结构的一例的框图。
图4是表示实施方式1的显示区域的像素排列的电路图。
图5是表示实施方式1的显示面板的一例的示意图。
图6是在实施方式1中将显示区域的一部分放大而示意地表示的示意图。
图7是示意地表示图6的VII－VII’的剖面的剖视图。
图8是示意地表示实施方式1的显示区域和周边区域的边界的剖视图。
图9是示意地表示图8的IX－IX’的剖面的剖视图。
图10是示意地表示图6的VII－VII’的剖面的剖视图。
图11是示意地表示实施方式2的图6的VII－VII’的剖面的另一例的剖视图。
图12是示意地表示实施方式3的图6的VII－VII’的剖面的另一例的剖视图。
标号说明
1 显示系统
10 第1绝缘基板
11 第1绝缘膜
12 第2绝缘膜
13 第3绝缘膜
14 第4绝缘膜
15 第5绝缘膜
16 第6绝缘膜
17 第7绝缘膜
17A 第1中间绝缘膜
17B 第2中间绝缘膜
17C 第3中间绝缘膜
18 第8绝缘膜
19 第9绝缘膜
19A 保护膜
20 第2绝缘基板
20B 外侧面
21 外覆层
100 显示装置
110 显示面板
112 显示控制电路
200 控制装置
410 透镜
AA 显示区域
BM 遮光层
CE、CE1、CE2 共通电极
CES 狭缝
CF 滤色器
FL 金属薄膜
GA 周边区域
GL 扫描线
LS 遮光层
PE、PE1、PE2 像素电极
SL 信号线
SUB1 阵列基板
SUB2 对置基板
TL 导电层
XL 光干涉薄膜
具体实施方式
参照附图对用于实施本发明的方式(实施方式)详细地进行说明。本公开并不由以下实施方式所记载的内容限定。此外，在以下记载的构成要素中，包括本领域技术人员能够容易地想到的、实质上相同的构成要素。进而，能够将以下记载的构成要素适当组合。另外，公开只不过是一例，关于由本领域技术人员就保持着发明主旨的适当变更能够容易地想到的形态，当然包含在本公开的范围中。此外，附图为了使说明更明确而有与实际形态相比关于各部的宽度、厚度、形状等示意地表示的情况，但不过是一例，并不限定本公开的解释。此外，在本说明书和各图中，对于针对在先附图而描述过的要素同样的要素赋予相同的标号，有适当省略详细说明的情况。
(实施方式1)
图1是表示实施方式1的显示系统的一例的结构图。图2是表示显示装置和用户的眼睛的相对关系的一例的示意图。
在本实施方式中，显示系统1是随着用户的运动而变更显示的显示系统。例如，显示系统1是将表示虚拟空间上的三维物体等的VR(Virtual Reality)图像进行立体显示并伴随用户头部的朝向(位置)将立体显示变更从而使用户产生虚拟现实感的VR系统。
显示系统1例如具有显示装置100和控制装置200。显示装置100和控制装置200成为能够经由线缆300进行信息(信号)的输入输出的结构。线缆300例如包括USB(UniversalSerial Bus)、HDMI(注册商标)(High－Definition Multimedia Interface)等的线缆。显示装置100和控制装置200也可以是能够通过无线通信进行信息的输入输出的结构。
此外，显示装置100被从控制装置200经由线缆300供给电力。例如，显示装置100具备被从控制装置200的电源部经由线缆300供给电力的受电部，显示装置100的显示面板110、传感器120等各结构可以利用从控制装置200供给的电力来驱动。通过这样，能够从显示装置100将电池等去除，能够提供更便宜且轻量的显示装置100。另外，也可以在佩戴部件400或显示装置100中具备电池，向显示装置供给。
显示装置100具有显示面板。显示面板例如是液晶显示器(Liquid CrystalDisplay)。
显示装置100被固定于佩戴部件400。佩戴部件400例如包括耳机、护目镜、将用户的两眼覆盖的头盔及面具等。佩戴部件400被佩戴在用户的头部。佩戴部件400在佩戴时以将用户的两眼覆盖的方式配置在用户的正面。佩戴部件400通过使固定于内部的显示装置100位于用户的两眼之前从而作为沉入型的佩戴部件发挥功能。佩戴部件400也可以具有将从控制装置200输出的声音信号等输出的输出部。此外，佩戴部件400也可以是将控制装置200的功能内置的构造。
在图1所示的一例中，表示了显示装置100被插入到佩戴部件400中的情况，但显示装置100也可以固定于佩戴部件400。换言之，显示系统可以由包括佩戴部件400和显示装置100的佩戴型显示装置以及控制装置200构成。
如图2所示，佩戴部件400例如具有与用户的两眼对应的透镜410。透镜410是用来使图像成像于用户的眼睛的放大透镜。当佩戴部件400被佩戴在用户的头部时，透镜410位于用户的眼睛E的前方。用户视觉识别由透镜410放大了的显示装置100的显示区域。因此，显示装置100为了将图像(画面)鲜明地显示而需要提高分辨率。另外，在本公开中，例示透镜为1个而进行了说明，但例如也可以具有多个透镜，将显示装置100配置在与眼前不同的位置。
控制装置200例如使显示装置100显示图像。控制装置200例如能够采用个人计算机、游戏设备等电子设备。虚拟图像例如包括计算机图形影像、360度的实拍影像等图像。控制装置200将利用了用户的两眼的视差的三维图像向显示装置100输出。控制装置200将追随于用户头部朝向的右眼用及左眼用的图像向显示装置100输出。
图3是表示实施方式1的显示系统的结构的一例的框图。如图3所示，显示装置100具备两个显示面板110、传感器120、图像分离电路150和接口160。
显示装置100由两个显示面板110构成，1个作为左眼用的显示面板110使用，另一方作为右眼用的显示面板110使用。
两个显示面板110分别具有显示区域AA和显示控制电路112。另外，显示面板110具有从背后将显示区域AA照射的未图示的光源装置。
显示区域AA的像素Pix以P0×Q0个(在行方向上为P0个，在列方向上为Q0个)的二维矩阵状(行列状)排列。在本实施方式中，设P0＝2880，Q0＝1700。在图3中示意地表示了多个像素Pix的排列，详细的像素Pix的排列在后面叙述。由于经由透镜来视觉识别显示装置的像素，所以像素间距例如成为3μm以上10μm以下，显示区域AA成为高精细度的像素Pix的排列。显示区域AA被周边区域GA包围。
显示面板110具有在X方向上延伸的扫描线和在与X方向交叉的Y方向上延伸的信号线。例如，显示面板110具有2880条信号线SL和1700条扫描线GL。在显示面板110中，在由信号线SL和扫描线GL包围的区域中配置像素Pix。像素Pix具有与信号线SL及扫描线GL连接的开关元件SW(TFT：薄膜晶体管)、以及与开关元件SW连接的像素电极。1个扫描线GL连接沿着扫描线GL的延伸方向配置的多个像素Pix。此外，1个信号线SL连接沿着信号线SL的延伸方向配置的多个像素Pix。
在两个显示面板110中，一方的显示面板110的显示区域AA是右眼用，另一方的显示面板110的显示区域AA是左眼用。在实施方式1中，对显示面板110具有左眼用和右眼用的两个显示面板110的情况进行说明。但是，显示装置100并不限定于如上述那样使用两个显示面板110的构造。例如，显示面板110也可以是1个，将1个显示面板110的显示区域分割为两部分，以使得在右半部的区域中显示右眼用的图像并且在左半部的区域中显示左眼用的图像。
显示控制电路112具备驱动器IC(Integrated Circuit：集成电路)115、信号线连接电路113及扫描线驱动电路114。信号线连接电路113与信号线SL电连接。驱动器IC115通过扫描线驱动电路114而控制用来控制像素Pix的动作(光透过率)的开关元件(例如TFT)的通断(ON/OFF)。扫描线驱动电路114与扫描线GL电连接。
传感器120检测能够推定用户的头部的朝向的信息。例如，传感器120检测表示显示装置100、佩戴部件400的运动的信息，显示系统1基于表示显示装置100、佩戴部件400的运动的信息，推定在头部佩戴有显示装置100的用户的头部的朝向。
传感器120例如使用显示装置100、佩戴部件400的角度、加速度、角速度、方位、距离的至少1个，检测能够推定视线的朝向的信息。传感器120例如能够采用陀螺仪传感器、加速度传感器、方位传感器等。传感器120例如可以通过陀螺仪传感器来检测显示装置100、佩戴部件400的角度及角速度。传感器120例如可以通过加速度传感器来检测作用于显示装置100、佩戴部件400的加速度的方向及大小。传感器120例如可以通过方位传感器来检测显示装置100的方位。传感器120例如可以通过距离传感器、GPS(Global Positioning System)接收机等来检测显示装置100、佩戴部件400的移动。传感器120只要是用来检测用户的头部的朝向、视线的变化、移动等的传感器，则也可以是光传感器等其他传感器，也可以将多个传感器组合使用。传感器120经由后述的接口160而与图像分离电路150电连接。
图像分离电路150接受经由线缆300从控制装置200发送来的左眼用图像数据和右眼用图像数据，将左眼用图像数据向显示左眼用的图像的显示面板110发送，将右眼用图像数据向显示右眼用的图像的显示面板110发送。
接口160包括将线缆300(图1)连接的连接器。接口160经由所连接的线缆300而被输入来自控制装置200的信号。图像分离电路150经由接口160及接口240，将从传感器120输入的信号向控制装置200输出。这里，在从传感器120输入的信号中，包括能够推定上述的视线的朝向的信息。或者，也可以将从传感器120输入的信号经由接口160，直接向控制装置200的控制部230输出。接口160例如可以作为无线通信装置，经由无线通信而在与控制装置200之间进行信息的收发。
控制装置200具备操作部210、存储部220、控制部230和接口240。
操作部210受理用户的操作。操作部210例如能够使用键盘、按钮、触摸屏等输入设备。操作部210与控制部230电连接。操作部210将与操作对应的信息向控制部230输出。
存储部220存储程序及数据。存储部220将控制部230的处理结果暂时存储。存储部220包括存储介质。存储介质例如包括ROM、RAM、存储卡、光盘或光磁盘等。存储部220也可以存储显示在显示装置100上的图像的数据。
存储部220例如存储控制程序211、VR应用212等。控制程序211例如能够提供与用来使控制装置200工作的各种控制有关的功能。VR应用212能够提供使显示装置100显示虚拟现实的图像的功能。存储部220例如能够存储表示传感器120的检测结果的数据等从显示装置100输入的各种信息。
控制部230例如包括MCU(Micro Control Unit)、CPU(Central Processing Unit)等。控制部230能够总括性地对控制装置200的动作进行控制。控制部230的各种功能基于控制部230的控制而实现。
控制部230例如包括生成所显示的图像的GPU(Graphics Processing Unit)。GPU生成显示在显示装置100上的图像。控制部230将GPU所生成的图像经由接口240向显示装置100输出。在本实施方式中，对控制装置200的控制部230包括GPU的情况进行了说明，但并不限定于此。例如，GPU也可以设于显示装置100或显示装置100的图像分离电路150。该情况下，显示装置100例如从控制装置200、外部的电子设备等取得数据，GPU基于该数据生成图像即可。
接口240包括将线缆300(参照图1)连接的连接器。接口240经由线缆300而被输入来自显示装置100的信号。接口240将从控制部230输入的信号经由线缆300向显示装置100输出。接口240例如可以作为无线通信装置，经由无线通信而在与显示装置100之间进行信息的收发。
控制部230在执行VR应用212时，使显示装置100显示与用户(显示装置100)的运动相应的图像。控制部230如果在使图像显示在显示装置100上的状态下检测出用户(显示装置100)的变化，则使显示在显示装置100上的图像向该变化的方向的图像变化。控制部230在图像的制作开始时，制作基于虚拟空间上的基准视点及基准视线的图像，在检测出用户(显示装置100)的变化的情况下，将制作所显示的图像时的视点或视线从基准视点或基准视线方向对应于用户(显示装置100)的运动而变更，使显示装置100显示基于变更后的视点或视线的图像。
例如，控制部230基于传感器120的检测结果，检测出用户的头部向右方的移动。该情况下，控制部230使得从当前显示的图像向使视线向右方变化了的情况下的图像变化。用户能够视觉识别显示在显示装置100上的图像的右方的图像。
例如，控制部230如果基于传感器120的检测结果而检测到显示装置100的移动，则对应于检测到的移动而使图像变化。控制部230在检测到显示装置100向前方移动了的情况下，使得向朝向当前所显示的图像的前方移动了的情况下的图像变化。控制部230在检测到显示装置100向后方方向移动了的情况下，使得向朝向当前所显示的图像的后方移动了的情况下的图像变化。用户从显示在显示装置100上的图像，能够视觉识别自身的移动方向的图像。
图4是表示实施方式1的显示区域的像素排列的电路图。在本公开中，扫描线GL和信号线SL并不一定以直角交叉，但在图3中为了说明的方便，扫描线GL和信号线SL成直角。
在显示区域AA中，形成有图4所示的各像素PixR、PixG、PixB的开关元件SW、信号线SL、扫描线GL等。信号线SL是用来向各像素电极PE(参照图6)供给像素信号的布线。扫描线GL是用来供给将各开关元件SW驱动的栅极信号的布线。
如图4所示，像素PixR、PixG、PixB分别具备开关元件SW及液晶层LC的电容。开关元件SW由薄膜晶体管构成，在该例中，由n沟道的MOS(Metal Oxide Semiconductor)型的TFT构成。在后述的像素电极PE与共通电极CE之间设有绝缘膜，在像素电极PE与共通电极CE之间，形成有图4所示的保持电容Cs。
图5所示的滤色器CFR1、CFG1、CFB1例如周期性地排列有被着色为红(第1色：R)、绿(第2色：G)、蓝(第3色：B)3色的色区。R、G、B这3色的色区与上述的图4所示的各像素PixR、PixG、PixB建立了对应。并且，与3色的色区对应的像素PixR、PixG、PixB以1组而成为像素。另外，滤色器也可以包括4色以上的色区。也有将像素PixR、PixG、PixB分别称作副像素的情况。
图5所示的滤色器CFR1、CFG1、CFB1配置在由两个信号线SL及两个扫描线GL包围的开口部。
如图4及图5所示，在方向Vx(第1方向)上，像素PixR被像素PixB和像素PixG夹着，在方向Vy(第2方向)上，像素PixR被像素PixB和像素PixG夹着。
此外，在方向Vx上，像素PixG被像素PixR和像素PixB夹着，在方向Vy上，像素PixG被像素PixR和像素PixB夹着。
此外，在方向Vx上，像素PixB被像素PixG和像素PixR夹着，在方向Vy上，像素PixB被像素PixG和像素PixR夹着。
在方向Vx上，像素PixR、像素PixG、像素PixB依次反复排列。在方向Vy上，像素PixR、像素PixB、像素PixG依次反复排列。另外，方向Vy上的排列也可以按像素PixR、像素PixG、像素PixB的顺序反复排列。
滤色器CFR1彼此被用相同的红色的滤色器CFR2连接，如果将滤色器CFR1、滤色器CFR2相连，则相同颜色的滤色器被配置在与方向Vx及方向Vy分别交叉的斜向上。同样，滤色器CFG1彼此被用相同的绿色的滤色器CFG2连接，滤色器CFB1彼此被用相同的蓝色的滤色器CFB2连接。
由于滤色器CFR1和滤色器CFR2一体形成，所以为了说明的方便，在不将滤色器CFR1和滤色器CFR2区别的情况下，以下称作滤色器CFR。同样，在不将滤色器CFG1和滤色器CFG2区别的情况下，以下称作滤色器CFG。在不将滤色器CFB1和滤色器CFB2区别的情况下，以下称作滤色器CFB。进而，在不将滤色器CFR、滤色器CFG、滤色器CFB区别的情况下，将滤色器CFR、滤色器CFG、滤色器CFB称作滤色器CF。
图5所示的间隔件SP是限制阵列基板SUB1与对置基板SUB2之间的距离的部件。间隔件SP是圆柱状，在图5中表示了间隔件SP的最大径。另外，间隔件SP形状不限于圆柱，例如也可以形成为十字柱配置的间隔件。
图6所示的像素Pix是像素PixR、像素PixG、像素PixB的某个。以下，在不将像素PixR、像素PixG及像素PixB各自区别的情况下，将像素PixR、像素PixG及像素PixB称作像素Pix。
多个信号线SL在方向Vx上隔开间隔排列。多个扫描线GL在方向Vy上隔开间隔排列。导电层TL在平面观察时与多个信号线SL及多个扫描线GL重叠，是格子状。导电层TL的方向Vx上的宽度比信号线SL的方向Vx上的宽度大。扫描线GL的方向Vy上的宽度比导电层TL的方向Vy上的宽度大。
在像素Pix中，按被两个信号线SL及两个扫描线GL包围的每个开口部而配置有像素电极PE及开关元件SW。共通电极CE是多个像素Pix的共通的电极。共通电极CE按被两个信号线SL及两个扫描线GL包围的每个开口部而具有狭缝CES。狭缝CES是共通电极CE的没有透光性导电材料的部分。狭缝CES与像素电极PE重叠。
如图6所示，半导体SC形成为U字状。信号线SL与半导体SC经由接触孔CH1电连接。半导体SC与中继电极RE经由接触孔CH2电连接。中继电极RE与像素电极PE经由接触孔CH3电连接。
图7是示意地表示图6的VII－VII’的剖面的剖视图。实施方式1如图5所示，滤色器CF设置在阵列基板SUB1。显示装置100具有在阵列基板SUB1配置有滤色器CF、像素电极PE及共通电极CE的所谓COA(Color Filter On Array)构造。
如图7所示，阵列基板SUB1以玻璃基板、树脂基板等具有透光性的第1绝缘基板10为基体。阵列基板SUB1在第1绝缘基板10的与对置基板SUB2对置的一侧具备遮光层LS、第1绝缘膜11、第2绝缘膜12、第3绝缘膜13、第4绝缘膜14、滤色器CF、第5绝缘膜15、像素电极PE1、第6绝缘膜16、共通电极CE1、第7绝缘膜17、像素电极PE2、第8绝缘膜18、第9绝缘膜19、导电层TL、共通电极CE2、第1取向膜AL1等。在以下的说明中，将从阵列基板SUB1朝向对置基板SUB2的方向称作上方或仅称作上。
遮光层LS位于第1绝缘基板10之上。第1绝缘膜11位于遮光层LS及第1绝缘基板10的内侧面10A之上。第2绝缘膜12位于第1绝缘膜11之上。半导体SC位于第2绝缘膜12之上。第3绝缘膜13位于半导体SC及第2绝缘膜12之上。扫描线GL的栅极电极位于第3绝缘膜13之上。
第4绝缘膜14位于扫描线GL的栅极电极及第3绝缘膜13之上。在与半导体SC重叠的位置，在第3绝缘膜13及第4绝缘膜14中开孔而形成接触孔CH1，形成在第4绝缘膜14之上的信号线SL经由接触孔CH1而与半导体SC电连接。
在与半导体SC重叠的位置，在第3绝缘膜13及第4绝缘膜14中开孔而形成接触孔CH2，形成在第4绝缘膜14之上的中继电极RE经由接触孔CH2而与半导体SC电连接。
第5绝缘膜15位于信号线SL、中继电极RE及第4绝缘膜14之上。滤色器CF位于第5绝缘膜15之上。第6绝缘膜16位于滤色器CF及第5绝缘膜15之上。
在与中继电极RE重叠的位置，在第5绝缘膜15及第6绝缘膜16中开孔而形成接触孔CH3，像素电极PE1经由接触孔CH3而与中继电极RE电连接。第1中间绝缘膜17A位于第6绝缘膜16及像素电极PE1之上。像素电极PE1例如由ITO(Indium Tin Oxide)、IZO(Indium ZincOxide)、IGO(Indium Gallium Oxide)等具有透光性的导电材料形成。
共通电极CE1位于第1中间绝缘膜17A之上。共通电极CE1例如由ITO、IZO、IGO等具有透光性的导电材料形成。第2中间绝缘膜17B位于共通电极CE1及第1中间绝缘膜17A之上。像素电极PE2位于第2中间绝缘膜17B之上。像素电极PE2例如由ITO、IZO、IGO等具有透光性的导电材料形成。在第2中间绝缘膜17B中形成有接触孔CH4。第2中间绝缘膜17B将像素电极PE2和共通电极CE1电绝缘，并且，像素电极PE2和像素电极PE1经由接触孔CH4电导通。
第3中间绝缘膜17C位于像素电极PE2及第2中间绝缘膜17B之上。第1中间绝缘膜17A、第2中间绝缘膜17B及第3中间绝缘膜17C是第7绝缘膜。
在接触孔CH3形成有第3中间绝缘膜17C的表面的凹部，所以凹部被第8绝缘膜18平坦化。第9绝缘膜19位于第3中间绝缘膜17C及第8绝缘膜18之上。
导电层TL位于第9绝缘膜19之上。导电层TL是导体，与共通电极CE电连接，所以共通电极CE及导电层TL的每单位面积的电阻值变小。导电层TL例如可以是铝(Al)等金属的单层，也可以由在铝的上层及下层配置钛(Ti)、钼(Mo)而由钛/铝/钛或钼/铝/钼等的多个金属层形成。
光干涉薄膜XL位于导电层TL之上。光干涉薄膜XL由ITO、IZO、IGO(Indium GalliumOxide)、IGZO(Indium Gallium Zinc Oxide)等具有透光性的导电材料形成。光干涉薄膜XL具有10nm以上100nm以下的厚度。
金属薄膜FL位于光干涉薄膜XL之上。金属薄膜FL例如由Mo、MoW、MoNb等金属形成。由这样的金属形成的金属薄膜FL通过设为15nm以下的厚度而使得光透过。此外，在用钛(Ti)形成金属薄膜FL的情况下，从反射的观点来看金属薄膜FL优选的是30nm以下的厚度，例如，优选的是以10nm以上30nm以下的范围的厚度形成。
共通电极CE2位于金属薄膜FL及第9绝缘膜19之上。共通电极CE2将金属薄膜FL的对置基板SUB2侧的表面及侧面覆盖。共通电极CE2及狭缝CES被第1取向膜AL1覆盖。
如图7所示，沿着导电层TL形成有光干涉薄膜XL、金属薄膜FL，导电层TL、光干涉薄膜XL及金属薄膜FL成为反射抑制构造LR。
对置基板SUB2以玻璃基板、树脂基板等具有透光性的第2绝缘基板20为基体。对置基板SUB2在第2绝缘基板20的与阵列基板SUB1对置的一侧具备外覆层21、第2取向膜AL2。
上述的阵列基板SUB1及对置基板SUB2以第1取向膜AL1及第2取向膜AL2相面对的方式配置。液晶层LC被封入在第1取向膜AL1与第2取向膜AL2之间。通过第1取向膜AL1和第2取向膜AL2，将液晶分子的长轴取向为与图6所示的初始取向方向AD平行。
液晶层LC由介电常数各向异性为负的负型液晶材料或者介电常数各向异性为正的正型液晶材料构成。
阵列基板SUB1与背光单元对置，对置基板SUB2位于显示面侧。作为背光单元，能够应用各种形态，关于其详细的构造省略说明。
包括第1偏光板PL1的第1光学元件OD1配置在第1绝缘基板10的外侧面10B、或者与背光单元对置的面。包括第2偏光板PL2的第2光学元件OD2配置在第2绝缘基板20的外侧面20B、或者观察位置侧的面。第1偏光板PL1的第1偏光轴及第2偏光板PL2的第2偏光轴例如在Vx－Vy平面中处于正交尼科尔(cross Nicol)的位置关系。另外，第1光学元件OD1及第2光学元件OD2也可以包括相位差板等其他光学功能元件。
例如，在液晶层LC是负型液晶材料的情况下，在没有对液晶层LC施加电压的状态下，液晶分子LM在Vx－Vy平面内在其长轴沿着规定方向的方向上初始取向。另一方面，在对液晶层LC施加了电压的状态下、即在像素电极PE与共通电极CE之间形成了电场的导通(on)时，液晶分子LM受到电场的影响而其取向状态变化。在导通时，入射的直线偏光其偏光状态在穿过液晶层LC时对应于液晶分子LM的取向状态而变化。
图8是示意地表示实施方式1的显示区域和周边区域的边界的剖视图。图9是示意地表示图8的IX－IX’的剖面的剖视图。如图8及图9所示，在周边区域GA，在第4绝缘膜14之上配置有供给共通电位的布线COM。第5绝缘膜15将布线COM覆盖而保护。在第5绝缘膜15的一部分，设有接触孔CHG，布线COM经由接触孔CHG而与从显示区域AA引出的共通电极CE1、导电层TL、光干涉薄膜XL、金属薄膜FL、共通电极CE2电连接。
如图8及图9所示，在周边区域GA，在对置基板SUB2设有遮光层BM，遮光层BM能够将阵列基板SUB1的周边区域GA遮挡。如图7及图9所示，在显示区域AA，在对置基板SUB2没有设置遮光层BM。遮光层BM由黑色的树脂材料形成。
与实施方式1不同，如果做成在对置基板SUB2设置滤色器和处于滤色器的各色的边界处的遮光层的比较例的构造，则像素Pix越小，阵列基板的像素Pix的开口与对置基板SUB2的显示区域AA的遮光层的位置越有可能重叠。相对于此，在图8及图9所示的实施方式1的COA构造中，由于在对置基板SUB2的显示区域AA中没有滤色器和处于滤色器的各色的边界处的遮光层，所以即使像素Pix较小，像素Pix的开口也不被遮光。
但是，由于导电层TL具有金属光泽，所以导电层TL向视觉识别者侧反射光。由于导电层TL的反射光不会被对置基板SUB2遮光，所以有可能到达视觉识别者而产生不适感。
图10是示意地表示图6的VII－VII’的剖面的剖视图。如图10所示，在光干涉薄膜XL和导电层TL的界面反射的反射光由于薄膜干涉作用而与在光干涉薄膜XL和金属薄膜FL的界面产生的反射光相互减弱。
如以上说明，显示装置100具有阵列基板SUB1以及与阵列基板SUB1对置的对置基板SUB2。在对置基板SUB2的显示区域AA中没有遮光层。由此，阵列基板SUB1和对置基板SUB2的重叠偏差的影响变小。
阵列基板SUB1具有在方向Vx上隔开间隔排列的多个信号线SL和在方向Vy上隔开间隔排列的多个扫描线GL。阵列基板SUB1的滤色器CF配置在与由相邻的两个信号线SL及相邻的两个扫描线GL包围的开口重叠的位置。阵列基板SUB1具有按每个像素Pix而配置的多个像素电极PE、和经由绝缘膜而与多个像素电极PE重叠的共通电极CE。格状的导电层TL在平面视图中与多个信号线SL及多个扫描线GL重叠。光干涉薄膜XL设在导电层TL上，沿着导电层TL而为格状。金属薄膜FL设在光干涉薄膜XL上，沿着导电层而为格状。
这样，反射抑制构造LR抑制导电层TL的反射光。结果，不易产生视觉识别者的不适感。另外，关于导电层TL、光干涉薄膜XL、金属薄膜FL的形状，在上述实施方式中说明了格状，但导电层TL、光干涉薄膜XL、金属薄膜FL的形状也可以是仅与多个扫描线GL重叠的直线形状，也可以是仅与多个信号线SL重叠的直线形状。
(实施方式2)
图11是示意地表示实施方式2的图6的VII－VII’的剖面的另一例的剖视图。在以下的说明中，有时对同样的构成要素赋予相同的标号。进而，将重复的说明省略。
在实施方式2中，共通电极CE2的一部分介于导电层TL与金属薄膜FL之间。这样，实施方式2的光干涉薄膜是介于导电层TL与金属薄膜FL之间的共通电极CE2的一部分。反射抑制构造LR通过在导电层TL与金属薄膜FL之间的共通电极CE2的一部分处发生的薄膜干涉，抑制导电层TL的反射光。
第1取向膜AL1将金属薄膜FL及共通电极CE2覆盖。
(实施方式3)
图12是示意地表示实施方式3的图6的VII－VII’的剖面的另一例的剖视图。在以下的说明中，对与实施方式1及实施方式2同样的构成要素赋予相同的标号，将重复的说明省略。
在实施方式3中，共通电极CE2的一部分介于导电层TL与金属薄膜FL之间。这样，实施方式3的光干涉薄膜是介于导电层TL与金属薄膜FL之间的共通电极CE2的一部分。
金属薄膜FL的对置基板SUB2侧的表面及侧面被保护膜19A覆盖。由此，金属薄膜FL的膜剥离等被抑制，可靠性提高。保护膜19A是氮化硅或氧化硅等无机绝缘膜。第1取向膜AL1将保护膜19A及共通电极CE2覆盖。
反射抑制构造LR通过在导电层TL与金属薄膜FL之间的共通电极CE2的一部分处发生的薄膜干涉，抑制导电层TL的反射光。
以上，说明了优选的实施方式，但本公开并不限定于这样的实施方式。在实施方式中公开的内容只不过是一例，在不脱离本公开的主旨的范围中能够进行各种变更。关于在不脱离本公开的主旨的范围中进行的适当的变更，也当然属于本公开的技术范围。

Claims (6)

1.一种显示装置，其特征在于，
具有：
阵列基板；以及
对置基板，与上述阵列基板对置；
上述阵列基板具有：
多个信号线，在第1方向上隔开间隔排列；
多个扫描线，在第2方向上隔开间隔排列；
滤色器，配置在与由相邻的两个信号线及相邻的两个扫描线包围的开口重叠的位置；
多个像素电极，按每个像素而配置；
共通电极，隔着绝缘膜而与多个上述像素电极重叠；
格状的导电层，在平面视图中与多个上述信号线及多个上述扫描线重叠；
透光性的光干涉薄膜，沿着上述导电层而设在上述导电层上；以及
金属薄膜，沿着上述导电层而设在上述光干涉薄膜上。
2.如权利要求1所述的显示装置，其特征在于，
上述共通电极将上述金属薄膜覆盖。
3.如权利要求1所述的显示装置，其特征在于，
上述光干涉薄膜是上述共通电极的一部分。
4.如权利要求3所述的显示装置，其特征在于，
具有将上述金属薄膜的表面及侧面覆盖的绝缘膜。
5.如权利要求1～4中任一项所述的显示装置，其特征在于，
上述对置基板具有显示区域和上述显示区域的周围的周边区域；
在上述对置基板的上述周边区域具有遮光层；
在上述对置基板的上述显示区域没有遮光层。
6.一种显示系统，其特征在于，
具备：
透镜；
显示装置，具有经由上述透镜而被视觉识别的显示区域；以及
控制装置，向上述显示装置输出图像；
上述显示装置具有：
阵列基板；以及
对置基板，与上述阵列基板对置；
上述阵列基板具有：
多个信号线，在第1方向上隔开间隔排列；
多个扫描线，在第2方向上隔开间隔排列；
滤色器，配置在与由相邻的两个信号线及相邻的两个扫描线包围的开口重叠的位置；
多个像素电极，按每个像素而配置；
共通电极，隔着绝缘膜而与多个上述像素电极重叠；
格状的导电层，在平面视图中与多个上述信号线及多个上述扫描线重叠；
透光性的光干涉薄膜，沿着上述导电层而设在上述导电层上；以及
金属薄膜，沿着上述导电层而设在上述光干涉薄膜上。
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