[go: up one dir, main page]
More Web Proxy on the site http://driver.im/

CN115698856A - 转印膜、层叠体的制造方法 - Google Patents

转印膜、层叠体的制造方法 Download PDF

Info

Publication number
CN115698856A
CN115698856A CN202180037910.5A CN202180037910A CN115698856A CN 115698856 A CN115698856 A CN 115698856A CN 202180037910 A CN202180037910 A CN 202180037910A CN 115698856 A CN115698856 A CN 115698856A
Authority
CN
China
Prior art keywords
photosensitive composition
composition layer
formula
layer
gamma
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
CN202180037910.5A
Other languages
English (en)
Inventor
米泽裕之
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Fujifilm Corp
Original Assignee
Fujifilm Corp
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Fujifilm Corp filed Critical Fujifilm Corp
Publication of CN115698856A publication Critical patent/CN115698856A/zh
Pending legal-status Critical Current

Links

Classifications

    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B32—LAYERED PRODUCTS
    • B32B—LAYERED PRODUCTS, i.e. PRODUCTS BUILT-UP OF STRATA OF FLAT OR NON-FLAT, e.g. CELLULAR OR HONEYCOMB, FORM
    • B32B37/00—Methods or apparatus for laminating, e.g. by curing or by ultrasonic bonding
    • B32B37/02—Methods or apparatus for laminating, e.g. by curing or by ultrasonic bonding characterised by a sequence of laminating steps, e.g. by adding new layers at consecutive laminating stations
    • G—PHYSICS
    • G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/004—Photosensitive materials
    • G—PHYSICS
    • G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/004—Photosensitive materials
    • G03F7/027—Non-macromolecular photopolymerisable compounds having carbon-to-carbon double bonds, e.g. ethylenic compounds
    • G—PHYSICS
    • G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/004—Photosensitive materials
    • G03F7/027—Non-macromolecular photopolymerisable compounds having carbon-to-carbon double bonds, e.g. ethylenic compounds
    • G03F7/032—Non-macromolecular photopolymerisable compounds having carbon-to-carbon double bonds, e.g. ethylenic compounds with binders
    • G03F7/033—Non-macromolecular photopolymerisable compounds having carbon-to-carbon double bonds, e.g. ethylenic compounds with binders the binders being polymers obtained by reactions only involving carbon-to-carbon unsaturated bonds, e.g. vinyl polymers
    • G—PHYSICS
    • G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/004—Photosensitive materials
    • G03F7/09—Photosensitive materials characterised by structural details, e.g. supports, auxiliary layers
    • G03F7/11—Photosensitive materials characterised by structural details, e.g. supports, auxiliary layers having cover layers or intermediate layers, e.g. subbing layers
    • G—PHYSICS
    • G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/20—Exposure; Apparatus therefor
    • G—PHYSICS
    • G06—COMPUTING; CALCULATING OR COUNTING
    • G06F—ELECTRIC DIGITAL DATA PROCESSING
    • G06F3/00—Input arrangements for transferring data to be processed into a form capable of being handled by the computer; Output arrangements for transferring data from processing unit to output unit, e.g. interface arrangements
    • G06F3/01—Input arrangements or combined input and output arrangements for interaction between user and computer
    • G06F3/03—Arrangements for converting the position or the displacement of a member into a coded form
    • G06F3/041—Digitisers, e.g. for touch screens or touch pads, characterised by the transducing means
    • G—PHYSICS
    • G06—COMPUTING; CALCULATING OR COUNTING
    • G06F—ELECTRIC DIGITAL DATA PROCESSING
    • G06F3/00—Input arrangements for transferring data to be processed into a form capable of being handled by the computer; Output arrangements for transferring data from processing unit to output unit, e.g. interface arrangements
    • G06F3/01—Input arrangements or combined input and output arrangements for interaction between user and computer
    • G06F3/03—Arrangements for converting the position or the displacement of a member into a coded form
    • G06F3/041—Digitisers, e.g. for touch screens or touch pads, characterised by the transducing means
    • G06F3/044—Digitisers, e.g. for touch screens or touch pads, characterised by the transducing means by capacitive means

Landscapes

  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Physics & Mathematics (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • General Engineering & Computer Science (AREA)
  • Theoretical Computer Science (AREA)
  • Human Computer Interaction (AREA)
  • Spectroscopy & Molecular Physics (AREA)
  • Architecture (AREA)
  • Structural Engineering (AREA)
  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
  • Materials For Photolithography (AREA)

Abstract

本发明提供一种抑制产生保护膜剥离不良及转印不良的转印膜以及使用上述转印膜而成的层叠体的制造方法。本发明的转印膜具有临时支承体、感光性组合物层及保护膜，在将临时支承体的感光性组合物层侧的表面的表面能量的极性成分设为γh1、将感光性组合物层的临时支承体侧的表面的表面能量的极性成分设为γh2、感光性组合物层的保护膜侧的表面的表面能量的极性成分设为γh3、将保护膜的感光性组合物层侧的表面的表面能量的极性成分设为γh4的情况下，满足式(1A)及式(2A)的关系。式(1A)|γh3‑γh4|‑|γh1‑γh2|≥2.0mJ/m2式(2A)|γh1‑γh2|≥3.0mJ/m2。

Description

转印膜、层叠体的制造方法
技术领域
本发明涉及一种转印膜及层叠体的制造方法。
背景技术
由于用于得到规定图案的工序数量少，因此使用转印膜在任意的基板上配置感光性组合物层并隔着掩模对该感光性组合物层进行曝光之后进行显影的方法被广泛使用。
例如，在专利文献1中，公开了具有临时支承体及配置于临时支承体上的包含规定的成分的感光性透明树脂层的转印膜。
以往技术文献
专利文献
专利文献1：日本特开2017-044965号公报
发明内容
发明要解决的技术课题
通常，在转印膜中，在感光性组合物层上配置有保护膜，使用转印膜之前剥离保护膜而曝光感光性组合物层。在剥离保护膜时，优选以感光性组合物层残留在临时支承体上的方式剥离保护膜。换言之，优选在剥离保护膜时，抑制感光性组合物层的一部分与保护膜一起从临时支承体上剥离。以下，将如此导致感光性组合物层的至少一部分与保护膜一起剥离的情况也称为保护膜剥离不良。尤其，从转印膜切出多个样品，对各样品实施保护膜的剥离，因此优选在对转印膜的任意部位也进行保护膜的剥离时，不产生上述保护膜的剥离不良。
另外，当转印膜在感光性组合物层与保护膜之间具有与两者接触的折射率调整层时，保护膜剥离不良是指，导致折射率调整层的至少一部与保护膜一起剥离的情况。
并且，关于保护膜被剥离的具有临时支承体和感光性组合物层的转印膜，通常将其感光性组合物层贴合于被转印体而进行转印。在将转印膜贴合于被转印体之后，在实施光照射处理前或后，剥离临时支承体。在剥离该临时支承体时，优选以曝光前或曝光后的感光性组合物层残留在被转印体上的方式剥离临时支承体。换言之，优选在剥离临时支承体时，抑制曝光前或曝光后的感光性组合物层的一部分与临时支承体一起从被转印体上被剥离。以下，将如此导致曝光前或曝光后的感光性组合物层的至少一部分与临时支承体一起剥离的情况也称为转印不良。尤其，从转印膜切出多个的样品，将各样品贴合在被转印体之后，实施临时支承体的剥离，因此优选对转印膜的任意部位也进行临时支承体的剥离时，不产生上述转印不良。
鉴于上述情况，本发明的课题在于，提供一种抑制产生保护膜剥离不良及转印不良的转印膜。
并且，本发明的课题还在于提供一种使用了上述转印膜的层叠体的制造方法。
用于解决技术课题的手段
本发明人等对上述问题进行了深入研究的结果，发现了能够通过以下结构解决上述问题。
(1)一种转印膜，其具有：
临时支承体；
感光性组合物层，其与临时支承体的表面接触而配置；及
保护膜，其与感光性组合物层的与临时支承体侧相反的一侧的表面接触而配置，
在将临时支承体的感光性组合物层侧的表面的表面能量的极性成分设为γh1、将感光性组合物层的临时支承体侧的表面的表面能量的极性成分设为γh2、将感光性组合物层的保护膜侧的表面的表面能量的极性成分设为γh3、将保护膜的感光性组合物层侧的表面的表面能量的极性成分设为γh4的情况下，满足后述的式(1A)及后述的式(2A)的关系。
(2)根据(1)所述的转印膜，其满足后述的式(1B)的关系。
(3)根据(1)或(2)所述的转印膜，其满足后述的式(1C)的关系。
(4)根据(1)至(3)中任一项所述的转印膜，其满足后述的式(1D)的关系。
(5)一种转印膜，其具有：
临时支承体；
感光性组合物层，其与临时支承体的表面接触而配置；
折射率调整层，其与感光性组合物层的与临时支承体侧相反的一侧的表面接触而配置；及
保护膜，其与折射率调整层的与感光性组合物层侧相反的一侧的表面接触而配置，
在将临时支承体的感光性组合物层侧的表面的表面能量的极性成分设为γh1、将感光性组合物层的临时支承体侧的表面的表面能量的极性成分设为γh2、将感光性组合物层的折射率调整层侧的表面的表面能量的极性成分设为γh5、将折射率调整层的感光性组合物层侧的表面的表面能量的极性成分设为γh6、将折射率调整层的保护膜侧的表面的表面能量的极性成分设为γh7、将保护膜的折射率调整层侧的表面的表面能量的极性成分设为γh8的情况下，满足后述的式(3A)、后述的式(2A)、后述的式(4)及后述的式(5)的关系。
(6)根据(1)至(5)中任一项所述的转印膜，其满足后述的式(2B)的关系。
(7)根据(1)至(6)中任一项所述的转印膜，其满足后述的式(2C)的关系。
(8)根据(1)至(7)中任一项所述的转印膜，其满足后述的式(2D)的关系。
(9)根据(1)至(8)中任一项所述的转印膜，其中，感光性组合物层包含硅酮系表面活性剂。
(10)根据(1)至(9)中任一项所述的转印膜，其中，感光性组合物层包含粘合剂聚合物、聚合性化合物及聚合引发剂。
(11)根据(10)所述的转印膜，其中，粘合剂聚合物及聚合性化合物中的至少一种具有选自芳香族环结构及2环以上的脂肪族烃环稠合而成的环结构中的结构。
(12)根据(11)所述的转印膜，其中，粘合剂聚合物具有源自苯乙烯化合物的结构单元。
(13)根据(11)所述的转印膜，其中，聚合性化合物具有选自三环癸烷结构及三环癸烯结构中的结构。
(14)根据(1)至(13)中任一项所述的转印膜，其中，临时支承体的弯曲弹性模量大于保护膜的弯曲弹性模量。
(15)根据(1)至(14)中任一项所述的转印膜，其中，临时支承体为聚对苯二甲酸乙二酯膜。
(16)根据(1)至(4)中任一项所述的转印膜，其满足后述的式(6)的关系。
(17)根据(1)至(16)中任一项所述的转印膜，其中，感光性组合物层用于形成触摸面板用电极保护膜。
(18)一种转印膜，其具有：
临时支承体；
转印层，其与临时支承体的表面接触而配置；及
保护膜，其与转印层的与临时支承体侧相反的一侧的表面接触而配置，
在将临时支承体的转印层侧的表面的表面能量的极性成分设为γx1、将转印层的临时支承体侧的表面的表面能量的极性成分设为γx2、将转印层的保护膜侧的表面的表面能量的极性成分设为γx3、将保护膜的转印层侧的表面的表面能量的极性成分设为γx4的情况下，满足后述的式(X)及后述的式(Y)的关系。
(19)一种层叠体的制造方法，其包括：
贴合工序，使从(1)至(17)中任一项所述的转印膜剥离保护膜而露出的表面与具有导电层的基板接触而贴合，从而获得依次具有基板、导电层、感光性组合物层及临时支承体的带感光性组合物层的基板；
曝光工序，对感光性组合物层进行图案曝光；及
显影工序，对经曝光的感光性组合物层进行显影而形成图案，
层叠体的制造方法在贴合工序与曝光工序之间或者在曝光工序与显影工序之间还具有从带感光性组合物层的基板剥离临时支承体的剥离工序。
(20)根据(19)所述的层叠体的制造方法，其中，导电层具有基板为具有触摸面板用电极及触摸面板用布线的至少一种的基板。
发明效果
根据本发明，能够提供一种抑制产生保护膜剥离不良及转印不良的转印膜。
并且，根据本发明，能够提供一种使用了上述转印膜的层叠体的制造方法。
具体实施方式
以下，对本发明进行详细说明。
在本说明书中，使用“～”表示的数值范围是指，包含记载于“～”前后的数值作为下限值及上限值的范围。
在本说明书中，阶段性记载的数值范围中，以某个数值范围记载的上限值或下限值可替换为其他阶段性记载的数值范围的上限值或下限值。并且，本说明书中所记载的数值范围中，某个数值范围中所记载的上限值或下限值可替换为实施例所示的值。
在本说明书中，“工序”这一术语不仅为独立的工序，即使在无法与其他工序明确地区别的情况下，只要可实现该工序的所期望的目的，则也包含于本术语中。
在本说明书中，“透明”是指波长400～700nm的可见光的平均透射率为80％以上，优选为90％以上。
在本说明书中，可见光的平均透射率为使用分光光度计测定的值，例如能够使用Hitachi，Ltd.制造的分光光度计U-3310来测定。
在本说明书中，只要没有特别指定，则重均分子量(Mw)及数均分子量(Mn)为作为柱而使用TSKgel GMHxL、TSKgel G4000HxL或TSKgel G2000HxL(均为TOSOH CORPORATION制造的产品名称)、作为洗脱液而使用THF(四氢呋喃)、作为检测器而使用差示折射计及作为标准物质而使用聚苯乙烯，并利用凝胶渗透色谱(GPC)分析装置测定的使用标准物质的聚苯乙烯换算的值。
在本说明书中，只要没有特别指定，则分子量分布所具有的化合物的分子量为重均分子量(Mw)。
在本说明书中，只要没有特别指定，则金属元素的含量为使用电感耦合等离子体(ICP：Inductively Coupled Plasma)分光分析装置测定的值。
在本说明书中，只要没有特别指定，则折射率为在波长550nm下使用椭圆偏振计测定的值。
在本说明书中，只要没有特别指定，则色相为使用色差计(CR-221，Minolta Co.，Ltd.制造)测定的值。
在本说明书中，“(甲基)丙烯酸”是包含丙烯酸及甲基丙烯酸这两者的概念，“(甲基)丙烯酰氧基”是包含丙烯酰氧基及甲基丙烯酰氧基这两者的概念。
作为本发明的转印膜的特征点，可举出调整各层之间的表面能量的极性部分的关系的点。
在后述的本发明的转印膜的第1实施方式中，发现通过将临时支承体与感光性组合物层之间的表面能量的极性成分之差及感光性组合物层与保护膜之间的表面能量的极性成分之差调整为满足规定的关系，可获得所期望的效果。
并且，在后述的本发明的转印膜的第2实施方式中，发现通过将临时支承体与感光性组合物层之间的表面能量的极性成分之差、感光性组合物层与折射率调整层之间的表面能量的极性成分之差及折射率调整层与保护膜之间的表面能量的极性成分之差调整为满足规定的关系，可获得所期望的效果。
并且，在后述的本发明的转印膜的第3实施方式中，发现通过将临时支承体与转印层之间的表面能量的极性成分之差及转印层与保护膜之间的表面能量的极性成分之差调整为满足规定的关系，可获得所期望的效果。
另外，各部件间的表面能量的极性成分之差的调整方法并无特别限制，能够适当变更所使用的部件的种类及所使用的组合物中的材料的种类来进行调整。
本发明的转印膜的第1实施方式具有：临时支承体；感光性组合物层，与临时支承体的表面接触而配置；及保护膜，与感光性组合物层的与临时支承体侧相反的一侧的表面接触而配置。
对转印膜的第1实施方式中所包含的各部件将在后段进行详细叙述。
在上述转印膜的第1实施方式中，在将临时支承体的感光性组合物层侧的表面的表面能量的极性成分设为γh1、将感光性组合物层的临时支承体侧的表面的表面能量的极性成分设为γh2、将感光性组合物层的保护膜侧的表面的表面能量的极性成分设为γh3、将保护膜的感光性组合物层侧的表面的表面能量的极性成分设为γh4的情况下，满足式(1A)及式(2A)的关系。
式(1A)|γh3-γh4|-|γh1-γh2|≥2.0mJ/m2
式(2A)|γh1-γh2|≥3.0mJ/m2
其中，从进一步抑制产生保护膜剥离不良的观点出发，优选满足式(1B)的关系，更优选满足式(1C)的关系，进一步优选满足式(1D)的关系。
式(1B)|γh3-γh4|-|γh1-γh2|≥3.0mJ/m2
式(1C)|γh3-γh4|-|γh1-γh2|≥4.0mJ/m2
式(1D)|γh3-γh4|-|γh1-γh2|≥5.0mJ/m2
并且，从进一步抑制产生转印不良的观点出发，优选满足式(2B)的关系，更优选满足式(2C)的关系，进一步优选满足式(2D)的关系。
式(2B)|γh1-γh2|≥4.0mJ/m2
式(2C)|γh1-γh2|≥5.0mJ/m2
式(2D)|γh1-γh2|≥6.0mJ/m2
并且，从进一步抑制产生成分从感光性组合物层内偏向保护膜侧的表面(所谓的渗漏)的观点出发，本发明的转印膜的第1实施方式优选满足式(6)的关系。
式(6)|γh2-γh4|≤14mj/m2
只要γh1满足上述关系，则其范围并不受特别限制，优选为4.0～16.0mJ/m2，更优选为6.0～14.0mJ/m2。
只要γh2满足上述关系，则其范围并不受特别限制，优选为6.0～24.0mJ/m2，更优选为8.0～22.0mJ/m2。
只要γh3满足上述关系，则其范围并不受特别限制，优选为4.0～20.0mJ/m2，更优选为6.0～18.0mJ/m2。
只要γh4满足上述关系，则其范围并不受特别限制，优选为0.1～6.0mJ/m2，更优选为0.3～4.0mJ/m2。
上述表面能量的极性成分通过以下的方法计算。
本发明中所记载的表面能量的极性成分是根据参考D.K.Owens：J.Appl.Polym.Sci.，13，1741(1969)实际测量而得的纯水H2O与二碘甲烷CH2I2的各接触角θH2O及θCH2I2通过以下的联立方程式(A)及(B)而求出。
〔联立方程式〕
(A)：1+cosθH2O＝2(γsd)1/2(γH2O d)1/2/γH2O v+2(γsh)1/2(γH2O h)1/2/γH20v
(B)：1+cosθCH2I2＝2(γsd)1/2(γCH2I2 d)1/2/γCH2I2 v+2(γsh)1/2(γCH2I2 h)1/2/γCH2I2 v
γH2O d＝21.8、γH2O h＝51.0、γH2O v＝72.8、
γCH2I2 d＝49.5、γCH2I2 h＝1.3、γCH2I2 v＝50.8
但是，在上述联立方程式中，γsd相当于表面能量的分散力成分、γsh相当于表面能量的极性成分，将由这些之和表示的值γsv(＝γsd+γsh)定义为表面能量。
上述接触角(静态接触角)的测定是，使用接触角测定仪(Kyowa InterfaceScience Co.，Ltd.制、DROPMASTER-501)，在25℃且相对湿度55％的条件下，向样品的测定面滴落2μL的纯化水或二碘甲烷之后，通过液滴法测定7秒后的接触角。
例如，关于临时支承体的感光性组合物层侧的表面的表面能量的极性成分，分别测定临时支承体的与感光性组合物层接触的侧的表面的水及二碘甲烷的静态接触角，解上述联立方程式，由此能够计算γh1。
并且，关于保护膜的感光性组合物层侧的表面的表面能量的极性成分，分别测定保护膜的与感光性组合物层接触的侧的表面的水及二碘甲烷的静态接触角，解上述联立方程式，由此能够计算γh4。
关于作为感光性组合物层的临时支承体侧的表面的表面能量的极性成分的γh2，首先准备层叠体，所述层叠体包括：临时支承体；及感光性组合物层，与临时支承体的表面接触而配置。接着，通过粘合胶带将感光性组合物层从该层叠体强制剥离，分别测定曝光后的感光性组合物层的表面(位于临时支承体侧的表面)的水及二碘甲烷的静态接触角，解上述联立方程式，由此能够计算γh2。
并且，关于作为感光性组合物层的保护膜侧的表面的表面能量的极性成分的γh3，首先准备转印膜，所述转印膜具有：临时支承体；感光性组合物层，与临时支承体的表面接触而配置；及保护膜，与感光性组合物层的与临时支承体侧相反的一侧的表面接触而配置。接着，将保护膜从该转印膜剥离，分别测定曝光后的感光性组合物层的表面(位于保护膜侧的表面)的水及二碘甲烷的静态接触角，解上述联立方程式，由此能够计算γh3。
本发明的转印膜的第2实施方式具有：临时支承体；感光性组合物层，与临时支承体的表面接触而配置；折射率调整层，与感光性组合物层的与临时支承体侧相反的一侧的表面接触而配置；及保护膜，与折射率调整层的与感光性组合物层侧相反的一侧的表面接触而配置。
对转印膜的第2实施方式中所包含的各部件将在后段进行详细叙述。
在上述转印膜的第2实施方式中，在将临时支承体的感光性组合物层侧的表面的表面能量的极性成分设为γh1、将感光性组合物层的临时支承体侧的表面的表面能量的极性成分设为γh2、将感光性组合物层的折射率调整层侧的表面的表面能量的极性成分设为γh5、将折射率调整层的感光性组合物层侧的表面的表面能量的极性成分设为γh6、将折射率调整层的保护膜侧的表面的表面能量的极性成分设为γh7、将保护膜的折射率调整层侧的表面的表面能量的极性成分设为γh8的情况下，满足式(3A)、式(2A)、式(4)及式(5)的关系。
式(3A)|γh7-γh8|-|γh1-γh2|≥2.0mJ/m2
式(2A)|γh1-γh2|≥3.0mJ/m2
式(4)|γh5-γh6|＜|γh1-γh2|
式(5)|γh5-γh6|＜|γh7-γh8|
其中，从进一步抑制产生保护膜剥离不良的观点出发，优选满足式(3B)的关系，更优选满足式(3C)的关系，进一步优选满足式(3D)的关系。
式(3B)|γh5-γh6|-|γh1-γh2|≥3.0mJ/m2
式(3C)|γh5-γh6|-|γh1-γh2|≥4.0mJ/m2
式(3D)|γh5-γh6|-|γh1-γh2|≥5.0mJ/m2
并且，从进一步抑制产生转印不良的观点出发，优选满足上述式(2B)的关系，更优选满足上述式(2C)的关系，进一步优选满足上述式(2D)的关系。
γh1及γh2的优选范围如第1实施方式中所说明。
只要γh5满足上述关系，则其范围并不受特别限制，优选为4.0～14.0mJ/m2，更优选为6.0～12.0mJ/m2。
只要γh6满足上述关系，则其范围并不受特别限制，优选为4.0～14.0mJ/m2，更优选为6.0～12.0mJ/m2。
只要γh7满足上述关系，则其范围并不受特别限制，优选为4.0～14.0mJ/m2，更优选为6.0～12.0mJ/m2。
只要γh8满足上述关系，则其范围并不受特别限制，优选为0.1～6.0mJ/m2，更优选为0.3～4.0mJ/m2。
作为各部件的表面的表面能量的极性成分的测定方法，可举出第1实施方式中说明的方法。
另外，关于作为感光性组合物层的折射率调整层侧的表面的表面能量的极性成分的γh5及作为折射率调整层的感光性组合物层侧的表面的表面能量的极性成分的γh6，首先准备转印膜，所述转印膜具有：临时支承体；感光性组合物层，与临时支承体的表面接触而配置；折射率调整层，与感光性组合物层的与临时支承体侧相反的一侧的表面接触而配置；及保护膜，与折射率调整层的与感光性组合物层侧相反的一侧的表面接触而配置。接着，从该转印膜剥离临时支承体及保护膜。然后，将粘合胶带贴合于感光性组合物层的与折射率调整层侧相反的一侧的表面，进一步将粘合胶带贴合于折射率调整层的与感光性组合物层侧相反的一侧的表面，并强制剥离两者，以使感光性组合物层与折射率调整层之间产生剥离。分别测定曝光后的感光性组合物层的表面(位于折射率调整层侧的表面)的水及二碘甲烷的静态接触角，解上述联立方程式，由此能够计算γh5。并且，分别测定曝光后的折射率调整层的表面(位于感光性组合物层侧的表面)的水及二碘甲烷的静态接触角，解上述联立方程式，由此能够计算γh6。
并且，关于作为折射率调整层的保护膜侧的表面的表面能量的极性成分的γh7，首先准备转印膜，所述转印膜具有：临时支承体；感光性组合物层，与临时支承体的表面接触而配置；折射率调整层，与感光性组合物层的与临时支承体侧相反的一侧的表面接触而配置；及保护膜，与折射率调整层的与感光性组合物层侧相反的一侧的表面接触而配置。接着，将保护膜从该转印膜剥离，分别测定曝光后的折射率调整层的表面(位于保护膜侧的表面)的水及二碘甲烷的静态接触角，解上述联立方程式，由此能够计算γh7。
并且，关于保护膜的折射率调整层侧的表面的表面能量的极性成分，分别测定保护膜的与折射率调整层接触的侧的表面的水及二碘甲烷的静态接触角，解上述联立方程式，由此能够计算γh8。
本发明的转印膜的第3实施方式具有：临时支承体；转印层，与临时支承体的表面接触而配置；及保护膜，与转印层的与临时支承体侧相反的一侧的表面接触而配置。
在上述转印膜的第3实施方式中，在将临时支承体的转印层侧的表面的表面能量的极性成分设为γx1、将转印层的临时支承体侧的表面的表面能量的极性成分设为γx2、将转印层的保护膜侧的表面的表面能量的极性成分设为γx3及将保护膜的感光性组合物层侧的表面的表面能量的极性成分设为γx4的情况下，满足式(X)及式(Y)的关系。
式(X)|γx3-γx4|-|γx1-γx2|≥2.0mJ/m2
式(Y)|γx1-γx2|≥3.0mJ/m2
只要γx1满足上述关系，则其范围并不受特别限制，优选为4.0～16.0mJ/m2，更优选为6.0～14.0mJ/m2。
只要γx2满足上述关系，则其范围并不受特别限制，优选为6.0～24.0mJ/m2，更优选为8.0～22.0mJ/m2。
只要γx3满足上述关系，则其范围并不受特别限制，优选为4.0～20.0mJ/m2，更优选为6.0～18.0mJ/m2。
只要γx4满足上述关系，则其范围并不受特别限制，优选为0.1～6.0mJ/m2，更优选为0.3～4.0mJ/m2。
作为各部件的表面的表面能量的极性成分的测定方法，可举出第1实施方式中说明的方法。
在第3实施方式中，转印层是指从临时支承体转印的层。
作为转印层，例如可举出以下的方式1～方式4。另外，在转印层为方式1的情况下，转印膜对应于上述第1实施方式，转印层为方式2的情况下，转印膜对应于上述第2实施方式。另外，感光性组合物层也优选为着色树脂层。
方式1：感光性组合物层
方式2：感光性组合物及折射率调整层的层叠体
方式3：中间层及感光性组合物的层叠体
方式4：热塑性树脂层、水溶性树脂层及感光性组合物层的层叠体
以下，对构成转印膜的各部件进行详细说明。
<临时支承体>
转印膜具有临时支承体。
临时支承体为支承后述的感光性组合物层的部件，最终通过剥离处理被去除。
临时支承体可以为单层结构，也可以为多层结构。
临时支承体优选为膜，更优选为树脂膜。作为临时支承体，优选为具有挠性且在加压下或加压及加热下不会产生显著的变形、收缩或拉伸的膜。
作为上述膜，例如可以举出聚对苯二甲酸乙二酯膜(例如，双轴拉伸聚对苯二甲酸乙二酯膜)、聚甲基丙烯酸甲酯膜、三乙酸纤维素膜、聚苯乙烯膜、聚酰亚胺膜及聚碳酸酯膜。
其中，作为临时支承体，优选为聚对苯二甲酸乙二酯膜。
并且，用作临时支承体的膜优选为没有褶皱等变形及划痕等。
从能够经由临时支承体进行图案曝光的观点出发，临时支承体的透明性优选为高，365nm的透射率优选为60％以上，更优选为70％以上。
从经由临时支承体的图案曝光时的图案形成性及临时支承体的透明性的观点出发，临时支承体的雾度优选为小。具体而言，临时支承体的雾度的值优选为2％以下，更优选为0.5％以下，进一步优选为0.1％以下。
从经由临时支承体进行图案曝光时的图案形成性及临时支承体的透明性的观点出发，临时支承体中所包含的微粒、异物及缺陷的数量优选为少。临时支承体中的直径1μm以上的微粒、异物及缺陷的数量优选为50个/10mm2以下，更优选为10个/10mm2以下，进一步优选为3个/10mm2以下，尤其优选为0个/10mm2。
临时支承体的厚度并无特别限制，优选为5～200μm，从易操作性及通用性的观点出发，更优选为10～150μm，进一步优选为10～50μm。
临时支承体的厚度作为通过基于SEM(扫描型电子显微镜：Scanning FlectronMicroscope)的剖面观察而测定的任意5个点的平均值而计算。
作为临时支承体，例如可以举出膜厚16μm的双轴拉伸聚对苯二甲酸乙二酯膜、膜厚12μm的双轴拉伸聚对苯二甲酸乙二酯膜及膜厚9μm的双轴拉伸聚对苯二甲酸乙二酯膜。
作为临时支承体的优选方式，例如可举出日本特开2014-085643号公报的[0017]～[0018]段、日本特开2016-027363号公报的[0019]～[0026]段、国际公开第2012/081680号的[0041]～[0057]段及国际公开第2018/179370号的[0029]～[0040]段中所记载的方式，这些公报的内容被编入本说明书中。
从赋予操作性的观点出发，可以在临时支承体的表面设置包括微小粒子的层(润滑剂层)。润滑剂层可以设置于临时支承体的单面上，也可以设置于两个面上。润滑剂层中所包含的粒子的直径优选为0.05～0.8μm。
并且，润滑剂层的膜厚优选为0.05～1.0μm。
临时支承体的弯曲弹性模量并不受特别限制，从进一步抑制产生保护膜剥离不良及转印不良的至少一种的观点(以下，简称为“本发明的效果更优异的观点”。)出发，优选为临时支承体的弯曲弹性模量大于后述的保护膜的弯曲弹性模量。
作为弯曲弹性模量的测定方法，可举出以ASTM D790基准的测定方法。
作为临时支承体的市售品，可举出Lumirror16KS40、Lumirror16FB40(以上，TorayIndustries，Inc.制)、COSMOSHINE A4100、COSMOSHINE A4300、COSMOSHINE A8300(以上，TOYOBO CO.，LTD.制)。
<感光性组合物层>
转印膜具有感光性组合物层。
在将感光性组合物层转印到被转印体上之后，进行曝光及显影，由此能够在被转印体上形成图案。
作为感光性组合物层，能够使用公知的感光性组合物层，优选为负型。另外，负型感光性组合物层是指，通过曝光曝光部在显影液中的溶解性下降的感光性组合物层。当感光性组合物层为负型感光性组合物层时，所形成的图案对应于固化层。
以下，对感光性组合物层(尤其，负型感光性组合物层)中所包含的成分进行详细叙述。
[粘合剂聚合物]
感光性组合物层可以包含粘合剂聚合物。
作为粘合剂聚合物，例如可以举出(甲基)丙烯酸树脂、苯乙烯树脂、环氧树脂、酰胺树脂、酰胺环氧树脂、醇酸树脂、酚醛树脂、酯树脂、氨基甲酸酯树脂、通过环氧树脂与(甲基)丙烯酸的反应而得到的环氧丙烯酸酯树脂及通过环氧丙烯酸酯树脂与酸酐的反应而得到的酸改性环氧丙烯酸酯树脂。
作为粘合剂聚合物的优选方式之一，从碱显影性及膜形成性优异的观点出发，可以举出(甲基)丙烯酸树脂。
另外，在本说明书中，(甲基)丙烯酸树脂是指具有源自(甲基)丙烯酸化合物的结构单元的树脂。源自(甲基)丙烯酸化合物的结构单元的含量相对于(甲基)丙烯酸树脂的全部结构单元优选为50质量％以上，更优选为70质量％以上，进一步优选为90质量％以上。
(甲基)丙烯酸树脂可以仅由源自(甲基)丙烯酸化合物的结构单元构成，也可以具有源自除(甲基)丙烯酸化合物以外的聚合性单体的结构单元。即，源自(甲基)丙烯酸化合物的结构单元的含量的上限相对于(甲基)丙烯酸树脂的全部结构单元为100质量％以下。
作为(甲基)丙烯酸化合物，例如可以举出(甲基)丙烯酸、(甲基)丙烯酸酯、(甲基)丙烯酰胺及(甲基)丙烯腈。
作为(甲基)丙烯酸酯，例如可以举出(甲基)丙烯酸烷基酯、(甲基)丙烯酸四氢糠基酯、(甲基)丙烯酸二甲基氨基乙酯、(甲基)丙烯酸二乙基氨基乙酯、(甲基)丙烯酸缩水甘油酯、(甲基)丙烯酸苄酯、2，2，2-三氟乙基(甲基)丙烯酸酯及2，2，3，3-四氟丙基(甲基)丙烯酸酯，优选为(甲基)丙烯酸烷基酯。
作为(甲基)丙烯酰胺，例如可以举出二丙酮丙烯酰胺等丙烯酰胺。
(甲基)丙烯酸烷基酯的烷基可以为直链状，也可以为支链状。作为(甲基)丙烯酸烷基酯的具体例，例如可以举出(甲基)丙烯酸甲酯、(甲基)丙烯酸乙酯、(甲基)丙烯酸丙酯、(甲基)丙烯酸丁酯、(甲基)丙烯酸戊酯、(甲基)丙烯酸己酯、(甲基)丙烯酸庚酯、(甲基)丙烯酸辛酯、(甲基)丙烯酸2-乙基己酯、(甲基)丙烯酸壬酯、(甲基)丙烯酸癸酯、(甲基)丙烯酸十一烷基酯及(甲基)丙烯酸十二烷基酯等具有碳原子数为1～12的烷基的(甲基)丙烯酸烷基酯。
作为(甲基)丙烯酸酯，优选为具有碳原子数1～4的烷基的(甲基)丙烯酸烷基酯，更优选为(甲基)丙烯酸甲酯或(甲基)丙烯酸乙酯。
(甲基)丙烯酸树脂可以具有除源自(甲基)丙烯酸化合物的结构单元以外的结构单元。
作为形成上述结构单元的聚合性单体，只要为除能够与(甲基)丙烯酸化合物共聚的(甲基)丙烯酸化合物以外的化合物，则不受特别限制，例如可以举出苯乙烯、乙烯基甲苯及α-甲基苯乙烯等在α位或芳香族环上可以具有取代基的苯乙烯化合物、丙烯腈及乙烯基正丁醚等乙烯醇酯、马来酸、马来酸酐、马来酸单甲酯、马来酸单乙酯及马来酸单异丙酯等马来酸单酯、富马酸、肉桂酸、α-氰基肉桂酸、衣康酸以及巴豆酸。
这些聚合性单体可以使用一种或者组合使用两种以上。
并且，从使碱显影性变得更良好的观点出发，(甲基)丙烯酸树脂优选包含具有酸基的结构单元。作为酸基，例如可以举出羧基、磺基、磷酸基及膦酸基。
其中，(甲基)丙烯酸树脂更优选为包含具有羧基的结构单元，进一步优选为具有源自上述(甲基)丙烯酸的结构单元。
从显影性优异的观点出发，(甲基)丙烯酸树脂中的具有酸基的结构单元(优选为源自(甲基)丙烯酸的结构单元)的含量相对于(甲基)丙烯酸树脂的总质量优选为10质量％以上。并且，上限值并不受特别限制，但从耐碱性优异的观点出发，优选为50质量％以下，更优选为40质量％以下。
并且，(甲基)丙烯酸树脂更优选为具有源自上述(甲基)丙烯酸烷基酯的结构单元。
(甲基)丙烯酸树脂中的源自(甲基)丙烯酸烷基酯的结构单元的含量相对于(甲基)丙烯酸树脂的全部结构单元优选为50～90质量％，更优选为60～90质量％，进一步优选为65～90质量％。
作为(甲基)丙烯酸树脂，优选为具有源自(甲基)丙烯酸的结构单元及源自(甲基)丙烯酸烷基酯的结构单元这两者的树脂，更优选为仅由源自(甲基)丙烯酸的结构单元及源自(甲基)丙烯酸烷基酯的结构单元构成的树脂。
并且，作为(甲基)丙烯酸树脂，也优选为具有源自甲基丙烯酸的结构单元、源自甲基丙烯酸甲酯的结构单元及源自丙烯酸乙酯的结构单元的丙烯酸树脂。
并且，从本发明的效果更优异的观点出发，(甲基)丙烯酸树脂优选具有选自源自甲基丙烯酸的结构单元及源自甲基丙烯酸烷基酯的结构单元中的至少一种，优选具有源自甲基丙烯酸的结构单元及源自甲基丙烯酸烷基酯的结构单元这两者。
从本发明的效果更优异的观点出发，(甲基)丙烯酸树脂中的源自甲基丙烯酸的结构单元及源自甲基丙烯酸烷基酯的结构单元的合计含量相对于(甲基)丙烯酸树脂的全部结构单元优选为40质量％以上，更优选为60质量％以上。上限并不受特别限制，可以为100质量％以下，优选为80质量％以下。
并且，从本发明的效果更优异的观点出发，(甲基)丙烯酸树脂优选具有选自源自甲基丙烯酸的结构单位及源自甲基丙烯酸烷基酯的结构单位中的至少一种、选自源自丙烯酸的结构单位及源自丙烯酸烷基酯的结构单位中的至少一种。
从本发明的效果更优异的观点出发，源自甲基丙烯酸的结构单元及源自甲基丙烯酸烷基酯的结构单元的合计含量相对于源自丙烯酸的结构单元及源自丙烯酸烷基酯的结构单元的合计含量以质量比计优选为60/40～80/20。
从转印后的感光性组合物层的显影性优异的观点出发，(甲基)丙烯酸树脂优选在末端具有酯基。
另外，(甲基)丙烯酸树脂的末端部由源自用于合成的聚合引发剂的部位构成。在末端具有酯基的(甲基)丙烯酸树脂能够通过使用产生具有酯基的自由基的聚合引发剂来合成。
并且，作为粘合剂聚合物的其他优选方式，可举出碱溶性树脂。
另外，在本发明中，“碱溶性”是指，在22℃下碳酸钠在1质量％水溶液100g中的溶解度为0.1g以上。
例如，从显影性的观点出发，粘合剂聚合物优选为酸值60mgKOH/g以上的粘合剂聚合物。
并且，例如，从通过加热与交联成分进行热交联而容易形成牢固的膜的观点出发，粘合剂聚合物更优选为酸值60mgKOH/g以上的具有羧基的树脂(所谓的含有羧基的树脂)，进一步优选为酸值60mgKOH/g以上的具有羧基的(甲基)丙烯酸树脂(所谓的含有羧基的(甲基)丙烯酸树脂)。
当粘合剂聚合物为具有羧基的树脂时，例如，通过添加封端异氰酸酯化合物等热交联性化合物来进行热交联，能够提高三维交联密度。并且，若具有羧基的树脂的羧基脱水而疏水化，则能够改善耐湿热性。
作为酸值60mgKOH/g以上的含有羧基的(甲基)丙烯酸树脂，只要满足上述酸值的条件，则没有特别限制，能够从公知的(甲基)丙烯酸树脂中适当选择。
例如，能够优选为使用日本特开2011-095716号公报的[0025]段中记载的聚合物中的酸值60mgKOH/g以上的含羧基丙烯酸树脂、日本特开2010-237589号公报的[0033]～[0052]段中记载的聚合物中的酸值60mgKOH/g以上的含羧基丙烯酸树脂等。
作为粘合剂聚合物的其他优选方式，可以举出苯乙烯-丙烯酸共聚物。
另外，在本发明中，苯乙烯-丙烯酸共聚物是指具有源自苯乙烯化合物的结构单元和源自(甲基)丙烯酸化合物的结构单元的树脂，源自上述苯乙烯化合物的结构单元及源自上述(甲基)丙烯酸化合物的结构单元的合计含量相对于上述共聚物的全部结构单元优选为30质量％以上，更优选为50质量％以上。
并且，源自苯乙烯化合物的结构单元的含量相对于上述共聚物的全部结构单元优选为1质量％以上，更优选为5质量％以上，进一步优选为5～80质量％。
并且，源自上述(甲基)丙烯酸化合物的结构单元的含量相对于上述共聚物的全部结构单元优选为5质量％以上，更优选为10质量％以上，进一步优选为20～95质量％。
从本发明的效果更优异的观点出发，粘合剂聚合物优选具有芳香环结构，更优选包含具有芳香环结构的结构单元。
作为形成具有芳香环结构的结构单元的单体，可以举出苯乙烯、叔丁氧基苯乙烯、甲基苯乙烯及α-甲基苯乙烯等苯乙烯化合物以及(甲基)丙烯酸苄酯等。
其中，优选为苯乙烯化合物，更优选为苯乙烯。
并且，从本发明的效果更优异的观点出发，粘合剂聚合物更优选具有由下述式(S)表示的结构单元(源自苯乙烯的结构单元)。
[化学式1]
Figure BDA0003962334070000171
在粘合剂聚合物包含具有芳香环结构的结构单位的情况下，从本发明的效果更优异的观点出发，具有芳香环结构的结构单位的含量相对于粘合剂聚合物的全部结构单位优选为5～90质量％，更优选为10～70质量％，进一步优选为20～60质量％。
并且，从本发明的效果更优异的观点出发，粘合剂聚合物中的具有芳香环结构的结构单元的含量相对于粘合剂聚合物的全部结构单元优选为5～70摩尔％，更优选为10～60摩尔％，进一步优选为20～60摩尔％。
此外，从本发明的效果更优异的观点出发，粘合剂聚合物中的由上述式(S)表示的结构单元的含量相对于粘合剂聚合物的全部结构单元优选为5～70摩尔％，更优选为10～60摩尔％，进一步优选为20～60摩尔％。
另外，在本发明中，以摩尔比规定“结构单元”的含量的情况下，上述“结构单元”的含义与“单体单元”相同。并且，在本发明中，上述“单体单元”可以在通过高分子反应等聚合后进行修饰。以下也相同。
从本发明的效果更优异的观点出发，粘合剂聚合物优选具有脂肪族烃环结构。即，粘合剂聚合物优选包含具有脂肪族烃环结构的结构单元。脂肪族烃环结构可以为单环也可以为多环，其中，粘合剂聚合物更优选具有2环以上的脂肪族烃环稠合而成的环结构。
作为具有脂肪族烃环结构的结构单元中的构成脂肪族烃环结构的环，可以举出三环癸烷环、环己烷环、环戊烷环、降冰片烷环及异佛尔酮环。
其中，从本发明的效果更优异的观点出发，优选为2环以上的脂肪族烃环稠合而成的环，更优选为四氢二环戊二烯环(三环[5.2.1.02，6癸烷环)。
作为形成具有脂肪族烃环结构的结构单元的单体，可举出(甲基)丙烯酸二环戊酯、(甲基)丙烯酸环己酯及(甲基)丙烯酸异冰片酯。
并且，从本发明的效果更优异的观点出发，粘合剂聚合物更优选具有由下述式(Cy)表示的结构单元，进一步优选具有由上述式(S)表示的结构单元及由下述式(Cy)表示的结构单元。
[化学式2]
Figure BDA0003962334070000181
在式(Cy)中，RM表示氢原子或甲基，RCy表示具有脂肪族烃环结构的1价基团。
式(Cy)中的RM优选为甲基。
从本发明的效果更优异的观点出发，式(Cy)中的RCy优选为具有碳原子数5～20的脂肪族烃环结构的1价基团，更优选为具有碳原子数6～16的脂肪族烃环结构的1价基团，进一步优选为具有碳原子数8～14的脂肪族烃环结构的1价基团。
并且，从本发明的效果更优异的观点出发，式(Cy)的RCy中的脂肪族烃环结构优选为环戊烷环结构、环己烷环结构、四氢二环戊二烯环结构、降冰片烷环结构、异佛尔酮环结构，更优选为环己烷环结构或四氢二环戊二烯环结构，进一步优选为四氢二环戊二烯环结构。
此外，从本发明的效果更优异的观点出发，式(Cy)的RCy中的脂肪族烃环结构优选为2环以上的脂肪族烃环稠合而成的环结构，更优选为2～4环的脂肪族烃环稠合而成的环。
此外，从本发明的效果更优异的观点出发，式(Cy)中的RCy优选为式(Cy)中的-C(＝O)O-的氧原子和脂肪族烃环结构直接键合的基团即脂肪族烃环基，更优选为环己基或二环戊基，进一步优选为二环戊基。
粘合剂聚合物可以单独含有一种具有脂肪族烃环结构的结构单元，也可以含有两种以上。
粘合剂聚合物包含具有脂肪族烃环结构的结构单元的情况下，从本发明的效果更优异的观点出发，具有脂肪族烃环结构的结构单元的含量相对于粘合剂聚合物的全部结构单元优选为5～90质量％，更优选为10～80质量％，进一步优选为20～70质量％。
并且，从本发明的效果更优异的观点出发，粘合剂聚合物中具有脂肪族烃环结构的结构单元的含量相对于粘合剂聚合物的全部结构单元优选为5～70摩尔％，更优选为10～60摩尔％，进一步优选为20～50摩尔％。
此外，从本发明的效果更优异的观点出发，粘合剂聚合物中的由上述式(Cy)表示的结构单元的含量相对于粘合剂聚合物的全部结构单元优选为5～70摩尔％，更优选为10～60摩尔％，进一步优选为20～50摩尔％。
粘合剂聚合物包含具有芳香环结构的结构单元及具有脂肪族烃环结构的结构单元的情况下，从本发明的效果更优异的观点出发，具有芳香环结构的结构单元及具有脂肪族烃环结构的结构单元的总含量相对于粘合剂聚合物的全部结构单元优选为10～90质量％，更优选为20～80质量％，进一步优选为40～75质量％。
并且，从本发明的效果更优异的观点出发，粘合剂聚合物中的具有芳香环结构的结构单元及具有脂肪族烃环结构的结构单元的总含量相对于粘合剂聚合物的全部结构单元优选为10～80摩尔％，更优选为20～70摩尔％，进一步优选为40～60摩尔％。
此外，从本发明的效果更优异的观点出发，粘合剂聚合物中的由上述式(S)表示的结构单元及由上述式(Cy)表示的结构单元的总含量相对于粘合剂聚合物的全部结构单元优选为10～80摩尔％，更优选为20～70摩尔％，进一步优选为40～60摩尔％。
并且，从本发明的效果更优异的观点出发，粘合剂聚合物中的由上述式(S)表示的结构单元的摩尔量nS及由上述式(Cy)表示的结构单元的摩尔量nCy优选满足下述式(SCy)所示的关系，更优选满足下述式(SCy-1)，进一步优选满足下述式(SCy-2)。
0.2≤nS/(nS+nCy)≤0.8 式(SCy)
0.30≤nS/(nS+nCy)≤0.75 式(SCy-1)
0.40≤nS/(nS+nCy)≤0.70 式(SCy-2)
从本发明的效果更优异的观点出发，粘合剂聚合物优选包含具有酸基的结构单元。
作为上述酸基，可以举出羧基、磺基、膦酸基及磷酸基，优选为羧基。
作为上述具有酸基的结构单元，优选为下述所示的源自(甲基)丙烯酸的结构单元，更优选为源自甲基丙烯酸的结构单元。
[化学式3]
Figure BDA0003962334070000201
粘合剂聚合物可以单独具有一种具有酸基的结构单元，也可以具有两种以上具有酸基的结构单元。
从本发明的效果更优异的观点出发，粘合剂聚合物包含具有酸基的结构单元的情况下，具有酸基的结构单元的含量相对于粘合剂聚合物的全部结构单元优选为5～50质量％，更优选为5～40质量％，进一步优选为10～30质量％。
并且，从本发明的效果更优异的观点出发，粘合剂聚合物中的具有酸基的结构单元的含量相对于粘合剂聚合物的全部结构单元优选为5～70摩尔％，更优选为10～50摩尔％，进一步优选为20～40摩尔％。
此外，从本发明的效果更优异的观点出发，粘合剂聚合物中的源自(甲基)丙烯酸的结构单元的含量相对于粘合剂聚合物的全部结构单元优选为5～70摩尔％，更优选为10～50摩尔％，进一步优选为20～40摩尔％。
从本发明的效果更优异的观点出发，粘合剂聚合物优选具有反应性基团，更优选包括具有反应性基团的结构单元。
作为反应性基团，优选为自由基聚合性基团，更优选为烯属不饱和基团。并且，在粘合剂聚合物具有烯属不饱和基团的情况下，粘合剂聚合物优选在侧链上包含具有烯属不饱和基团的结构单元。
在本发明中，“主链”表示在构成树脂的高分子化合物的分子中相对最长的连接链，“侧链”表示从主链分支的原子团。
作为烯属不饱和基团，优选为(甲基)丙烯酸基，更优选为(甲基)丙烯酰氧基。
作为具有反应性基团的结构单元的一例，可以举出下述所示的结构单元，但并不限定于这些。
[化学式4]
Figure BDA0003962334070000211
粘合剂聚合物可以单独具有一种具有反应性基团的结构单元，也可以具有两种以上具有反应性基团的结构单元。
粘合剂聚合物包含具有反应性基团的结构单元的情况下，从本发明的效果更优异的观点出发，具有反应性基团的结构单元的含量相对于粘合剂聚合物的全部结构单元优选为5～70质量％，更优选为10～50质量％，进一步优选为20～40质量％。
并且，从本发明的效果更优异的观点出发，粘合剂聚合物中的具有反应性基团的结构单元的含量相对于粘合剂聚合物的全部结构单元优选为5～70摩尔％，更优选为10～60摩尔％，进一步优选为20～50摩尔％。
作为将反应性基团导入到粘合剂聚合物中的方法，可以举出使环氧化合物、封端异氰酸酯化合物、异氰酸酯化合物、乙烯基砜化合物、醛化合物、羟甲基化合物及羧酸酐等化合物与羟基、羧基、伯氨基、仲氨基、乙酰乙酰基及磺基等官能团进行反应的方法。
作为将反应性基团导入到粘合剂聚合物中的方法的优选例，可举出如下方法：通过聚合反应合成具有羧基的聚合物之后，通过高分子反应使(甲基)丙烯酸缩水甘油酯与所获得的聚合物的羧基的一部分反应，从而将(甲基)丙烯酰氧基导入到聚合物中。通过该方法，能够获得在侧链上具有(甲基)丙烯酰氧基的粘合剂聚合物。
上述聚合反应优选在70～100℃的温度条件下进行，更优选在80～90℃的温度条件下进行。作为用于上述聚合反应的聚合引发剂，优选为偶氮系引发剂，例如，更优选为FUJIFILM Wako Pure Chemical Corporation制的V-601(产品名称)或V-65(产品名称)。上述高分子反应优选在80～110℃的温度条件下进行。在上述高分子反应中，优选使用铵盐等催化剂。
从本发明的效果更优异的观点出发，作为粘合剂聚合物，优选为以下所示的聚合物。另外，以下所示的各结构单元的含有比率(a～d)及重均分子量Mw等能够根据目的适当变更。
[化学式5]
Figure BDA0003962334070000231
在上述式中，a优选为20～60质量％，b优选为10～50质量，c优选为5～25质量％，d优选为10～50质量％。
[化学式6]
Figure BDA0003962334070000232
在上述式中，a优选为20～60质量％，b优选为10～50质量，c优选为5～25质量％，d优选为10～50质量％。
[化学式7]
Figure BDA0003962334070000241
在上述式中，a优选为20～60质量％，b优选为1～20质量，c优选为5～25质量％，d优选为10～50质量％。
[化学式8]
Figure BDA0003962334070000242
在上述式中，a优选为1～20质量％，b优选为20～60质量，c优选为5～25质量％，d优选为10～50质量％。
[化学式9]
Figure BDA0003962334070000243
在上述式中，a优选为10～60质量％，b优选为10～40质量，c优选为5～40质量％，d优选为0～30质量％。
并且，粘合剂聚合物可以包含包含具有羧酸酐结构的结构单元的聚合物(以下，也称为“聚合物X”。)。
羧酸酐结构可以为链状羧酸酐结构及环状羧酸酐结构中的任一种，优选为环状羧酸酐结构。
作为环状羧酸酐结构的环，优选为5～7元环，更优选为5元环或6元环，进一步优选为5元环。
具有羧酸酐结构的结构单元优选为在主链中包含从由下述式P-1表示的化合物除去2个氢原子而得的2价的基团的结构单元或从由下述式P-1表示的化合物除去1个氢原子而得的1价的基团直接或经由2价的连结基团键合于主链的结构单元。
[化学式10]
Figure BDA0003962334070000251
式P-1中，RA1a表示取代基，n1a个RA1a可以相同也可以不同，Z1a表示形成包含-C(＝O)-O-C(＝O)-的环的2价的基团，n1a表示0以上的整数。
作为由RA1a表示的取代基，例如可举出烷基。
作为Z1a，优选为碳原子数2～4的亚烷基，更优选为碳原子数2或3的亚烷基，进一步优选为碳原子数2的亚烷基。
n1a表示0以上的整数。当Z1a表示碳原子数2～4的亚烷基时，n1a优选为0～4的整数，更优选为0～2的整数，进一步优选为0。
当n1a表示2以上的整数时，存在多个的RA1a可以相同也可以不同。并且，存在多个的RA1a可以彼此键合而形成环，但优选为不彼此键合而形成环。
作为具有羧酸酐结构的结构单元，优选为源自不饱和羧酸酐的结构单元，更优选为源自不饱和环式羧酸酐的结构单元，进一步优选为源自不饱和脂肪族环式羧酸酐的结构单元，尤其优选为源自马来酸酐或衣康酸酐的结构单元，最优选为源自马来酸酐的结构单元。
以下，举出具有羧酸酐结构的结构单元的具体例，但具有羧酸酐结构的结构单元并不限定于这些具体例。在下述结构单元中，Rx表示氢原子、甲基、CH2OH基或CF3基，Me表示甲基。
[化学式11]
Figure BDA0003962334070000261
[化学式12]
Figure BDA0003962334070000262
聚合物X中的具有羧酸酐结构的结构单元可以为单独一种，也可以为两种以上。
具有羧酸酐结构的结构单元的总含量相对于聚合物X的全部结构单元优选为0～60摩尔％，更优选为5～40摩尔％，进一步优选为10～35摩尔％。
感光性组合物层可以仅包含一种聚合物X，也可以包含两种以上。
在感光性组合物层包含聚合物X的情况下，从本发明的效果更优异的观点出发，聚合物X的含量相对于感光性组合物层总质量，优选为0.1～30质量％，更优选为0.2～20质量％，更优选为0.5～20质量％，进一步优选为1～20质量％。
从本发明的效果更优异的观点出发，粘合剂聚合物的重均分子量(Mw)优选为5,000以上，更优选为10,000以上，进一步优选为10,000～50,000，尤其优选为20,000～30,000。
粘合剂聚合物的酸值优选为10～200mgKOH/g，更优选为60mg～200mgKOH/g，进一步优选为60～150mgKOH/g，尤其优选为60～110mgKOH/g。
粘合剂聚合物的酸值为按照JIS K0070：1992中记载的方法测定的值。
感光性组合物层可以仅包含一种粘合剂聚合物，也可以包含两种以上。
从本发明的效果更优异的观点出发，粘合剂聚合物的含量相对于感光性组合物层总质量优选为10～90质量％，更优选为20～80质量％，进一步优选为30～70质量％。
从显影性的观点出发，粘合剂聚合物的分散度优选为1.0～6.0，更优选为1.0～5.0，进一步优选为1.0～4.0，尤其优选为1.0～3.0。
[聚合性化合物]
感光性组合物层可以包含聚合性化合物。
聚合性化合物为具有聚合性基团的化合物。作为聚合性基团，例如可以举出自由基聚合性基团及阳离子聚合性基团，优选为自由基聚合性基团。
聚合性化合物优选包含具有烯属不饱和基团的自由基聚合性化合物(以下，简称为“烯属不饱和化合物”。)。
作为烯属不饱和基团，优选为(甲基)丙烯酰氧基。
另外，本发明中的烯属不饱和化合物为除了上述粘合剂聚合物以外的化合物，优选为小于分子量5，000。
作为聚合性化合物的优选方式之一，可举出由下述式(M)表示的化合物(简称为“化合物M”。)。
Q2-R1-Q1 式(M)
在式(M)中，Q1及Q2分别独立地表示(甲基)丙烯酰氧基，R1表示具有链状结构的2价连接基团。
从合成容易性的观点出发，式(M)中的Q1及Q2优选为相同的基团。
并且，从反应性的观点出发，式(M)中的Q1及Q2优选为丙烯酰氧基。
从本发明的效果更优异的观点出发，作为式(M)中的R1优选亚烷基、亚烷氧基亚烷基(-L1-O-L1-)或聚亚烷氧基亚烷基(-(L1-O)p-L1-)，更优选碳原子数2～20的烃基或聚亚烷氧基亚烷基，进一步优选碳原子数4～20的亚烷基，尤其优选碳原子数6～18的直链亚烷基。
上述烃基只要在至少一部分具有链状结构即可，作为除上述链状结构以外的部分，并没有特别限制，例如可以为支链状、环状或碳原子数1～5的直链状亚烷基、亚芳基、醚键及它们的组合中的任一个，优选为亚烷基或将2个以上的亚烷基和1个以上的亚芳基组合而成的基团，更优选为亚烷基，进一步优选为直链亚烷基。
另外，上述L1分别独立地表示亚烷基，优选为亚乙基、亚丙基或亚丁基，更优选为亚乙基或1，2-亚丙基。p表示2以上的整数，优选为2～10的整数。
并且，从本发明的效果更优异的观点出发，化合物M中的连结Q1与Q2之间的最短的连结链的原子数量优选为3～50个，更优选为4～40个，进一步优选为6～20个，尤其优选为8～12个。
在本发明中，“连结Q1与Q2之间的最短连结链的原子数”是指，从连结于Q1的R1中的原子连结至连结于Q2的R1中的原子的最短的原子数。
作为化合物M的具体例，可举出1，3-丁二醇二(甲基)丙烯酸酯、四亚甲基二醇二(甲基)丙烯酸酯、新戊二醇二(甲基)丙烯酸酯、1，6-己二醇二(甲基)丙烯酸酯、1，7-庚二醇二(甲基)丙烯酸酯、1，8-辛二醇二(甲基)丙烯酸酯、1，9-壬二醇二(甲基)丙烯酸酯、1，10-癸二醇二(甲基)丙烯酸酯、1，4-环己二醇二(甲基)丙烯酸酯、三环癸烷二甲醇二(甲基)丙烯酸酯、氢化双酚A的二(甲基)丙烯酸酯、氢化双酚F的二(甲基)丙烯酸酯、聚乙二醇二(甲基)丙烯酸酯、聚丙二醇二(甲基)丙烯酸酯、聚(乙二醇/丙二醇)二(甲基)丙烯酸酯及聚丁二醇二(甲基)丙烯酸酯。上述酯单体也能够作为混合物使用。
从本发明的效果更优异的观点出发，在上述化合物中，也优选为选自1，6-己二醇二(甲基)丙烯酸酯、1，9-壬二醇二(甲基)丙烯酸酯、1，10-癸二醇二(甲基)丙烯酸酯及新戊二醇二(甲基)丙烯酸酯中的至少一种化合物，更优选为选自1，6-己二醇二(甲基)丙烯酸酯、1，9-壬二醇二(甲基)丙烯酸酯及1，10-癸二醇二(甲基)丙烯酸酯中的至少一种化合物，进一步优选为选自1，9-壬二醇二(甲基)丙烯酸酯及1，10-癸二醇二(甲基)丙烯酸酯中的至少一种化合物。
并且，作为聚合性化合物的优选方式之一，可举出2官能以上的烯属不饱和化合物。
在本发明中，“2官能以上的烯属不饱和化合物”是指，在一个分子中具有两个以上的烯属不饱和基团的化合物。
作为烯属不饱和化合物中的烯属不饱和基团，优选为(甲基)丙烯酰基。
作为烯属不饱和化合物，优选为(甲基)丙烯酸酯化合物。
作为2官能的烯属不饱和化合物并没有特别的限制，能够从公知的化合物中适当选择。
作为除了上述化合物M以外的2官能的烯属不饱和化合物，可举出三环癸烷二甲醇二(甲基)丙烯酸酯及三环癸烷二甲醇二(甲基)丙烯酸酯。
作为2官能的烯属不饱和化合物的市售品，可举出三环癸烷二甲醇二丙烯酸酯(产品名称：NK酯A-DCP、Shin-Nakamura Chemical Co.，Ltd.制)、三环癸烷二甲醇二甲基丙烯酸酯(产品名称：NK酯DCP、Shin-Nakamura Chemical Co.，Ltd.制)、1，9-壬二醇二丙烯酸酯(产品名称：NK酯A-NOD-N、Shin-Nakamura Chemical Co.，Ltd.制)及1，6-己二醇二丙烯酸酯(产品名称：NK酯A-HD-N、Shin-Nakamura Chemical Co.，Ltd.制)、二氧杂环己烷乙醇二丙烯酸酯(Nippon Kayaku Co.，Ltd.制KAYARAD R-604)等。
作为3官能以上的烯属不饱和化合物并没有特别的限制，能够从公知的化合物中适当选择。
作为3官能以上的烯属不饱和化合物，可举出二季戊四醇(三/四/五/六)(甲基)丙烯酸酯、季戊四醇(三/四)(甲基)丙烯酸酯、三羟甲基丙烷三(甲基)丙烯酸酯、二三羟甲基丙烷四(甲基)丙烯酸酯、异氰脲酸(甲基)丙烯酸酯及甘油三(甲基)丙烯酸酯骨架的(甲基)丙烯酸酯化合物。
在此，“(三/四/五/六)(甲基)丙烯酸酯”是包含三(甲基)丙烯酸酯、四(甲基)丙烯酸酯、五(甲基)丙烯酸酯及六(甲基)丙烯酸酯的概念，“(三/四)(甲基)丙烯酸酯”是包含三(甲基)丙烯酸酯及四(甲基)丙烯酸酯的概念。
作为聚合性化合物，还可以举出(甲基)丙烯酸酯化合物的己内酯改性化合物(Nippon Kayaku Co.，Ltd.制KAYARAD(注册商标)DPCA-20，Shin-Nakamura Chemical Co.，Ltd.制造A-9300-1CL等)、(甲基)丙烯酸酯化合物的环氧烷改性化合物(Nippon KayakuCo.，Ltd.制造的KAYARAD(注册商标)RP-1040，Shin-Nakamura Chemical Co.，Ltd.制造的ATM-35E、A-9300、DAICEL-ALLNEX LTD.的EBECRYL(注册商标)135等)及乙氧基化甘油三丙烯酸酯(Shin-Nakamura Chemical Co.，Ltd.制造NK Ester A-GLY-9E等)。
作为聚合性化合物，还可举出氨基甲酸酯(甲基)丙烯酸酯化合物〔优选为3官能以上的氨基甲酸酯(甲基)丙烯酸酯化合物〕。
作为3官能以上的氨基甲酸酯(甲基)丙烯酸酯化合物，例如可举出8UX-015A(Taisei Fine Chemical Co.，Ltd.制)、NK ESTETR UA-32P(SHIN-NAKAMURA CHEMICAL CO，LTD.制)及NK ESTETR UA-1100H(SHIN-NAKAMURA CHEMICAL CO，LTD.制)等。
作为聚合性化合物的优选方式之一，可举出具有酸基的烯属不饱和化合物。
作为酸基，可以举出磷酸基、磺基及羧基。
在这些中，作为酸基，优选为羧基。
作为具有酸基的烯属不饱和化合物，可举出具有酸基的3～4官能的烯属不饱和化合物〔将羧基导入至季戊四醇三和四丙烯酸酯(PETA)骨架而得的化合物(酸值：80～120mgKOH/g)〕及具有酸基的5～6官能的烯属不饱和化合物(将羧基导入至二季戊四醇五和六丙烯酸酯(DPHA)骨架而得的化合物〔酸值：25～70mgKOH/g)〕等。
这些具有酸基的3官能以上的烯属不饱和化合物可以根据需要与具有酸基的2官能的烯属不饱和化合物同时使用。
作为具有酸基的烯属不饱和化合物，优选选自具有羧基的2官能以上的烯属不饱和化合物及其羧酸酐中的至少一种。
若具有酸基的烯属不饱和化合物为选自具有羧基的2官能以上的烯属不饱和化合物及其羧酸酐中的至少一种，则显影性及膜强度进一步提高。
具有羧基的2官能以上的烯属不饱和化合物并无特别限制，能够从公知的化合物中适当选择。
作为具有羧基的2官能以上的烯属不饱和化合物，可以举出ARONIX(注册商标)TO-2349(TOAGOSEI CO.，LTD.制造)、ARONIX(注册商标)M-520(TOAGOSEI CO.，LTD.制造)及ARONIX(注册商标)M-510(TOAGOSEI CO.，LTD.制造)等。
作为具有酸基的烯属不饱和化合物，优选为日本特开2004-239942号公报的[0025]～[0030]段中所记载的具有酸基的聚合性化合物，该公报中所记载的内容被编入本说明书中。
作为聚合性化合物，例如还可以举出使α，β-不饱和羧酸与多元醇进行反应而得到的化合物、使α，β-不饱和羧酸与含有缩水甘油基的化合物进行反应而得到的化合物、具有氨基甲酸酯键的(甲基)丙烯酸酯化合物等氨基甲酸酯单体、γ-氯-β-羟基丙基-β’-(甲基)丙烯酰氧基乙基-邻苯二甲酸酯、β-羟基乙基-β’-(甲基)丙烯酰氧基乙基-邻苯二甲酸酯及β-羟基丙基-β’-(甲基)丙烯酰氧基乙基-邻苯二甲酸酯等邻苯二甲酸类化合物以及(甲基)丙烯酸烷基酯。
这些可以单独使用或者组合使用两种以上。
作为使α，β-不饱和羧酸与多元醇进行反应而得到的化合物，例如可以举出2，2-双(4-((甲基)丙烯酰氧基聚乙氧基)苯基)丙烷、2，2-双(4-((甲基)丙烯酰氧基聚丙氧基)苯基)丙烷及2，2-双(4-((甲基)丙烯酰氧基聚乙氧基聚丙氧基)苯基)丙烷等双酚A类(甲基)丙烯酸酯化合物、环氧乙烷基的数量为2～14的聚乙二醇二(甲基)丙烯酸酯、环氧丙烷基的数量为2～14的聚丙二醇二(甲基)丙烯酸酯、环氧乙烷基的数量为2～14且环氧丙烷基的数量为2～14的聚乙烯聚丙二醇二(甲基)丙烯酸酯、三羟甲基丙烷二(甲基)丙烯酸酯、三羟甲基丙烷三(甲基)丙烯酸酯、三羟甲基丙烷乙氧基三(甲基)丙烯酸酯、三羟甲基丙烷二乙氧基三(甲基)丙烯酸酯、三羟甲基丙烷三乙氧基三(甲基)丙烯酸酯、三羟甲基丙烷四乙氧基三(甲基)丙烯酸酯、三羟甲基丙烷五乙氧基三(甲基)丙烯酸酯、二(三羟甲基丙烷)四丙烯酸酯、四羟甲基甲烷三(甲基)丙烯酸酯、四羟甲基甲烷四(甲基)丙烯酸酯、二季戊四醇四(甲基)丙烯酸酯、二季戊四醇五(甲基)丙烯酸酯以及二季戊四醇六(甲基)丙烯酸酯。
其中，优选为具有四羟甲基甲烷结构或三羟甲基丙烷结构的乙烯不饱和化合物，更优选为四羟甲基甲烷三(甲基)丙烯酸酯、四羟甲基甲烷四(甲基)丙烯酸酯、三羟甲基丙烷三(甲基)丙烯酸酯或二(三羟甲基丙烷)四丙烯酸酯。
作为聚合性化合物，还可以举出烯属不饱和化合物的己内酯改性化合物(例如，Nippon Kayaku Co.，Ltd.制造的KAYARAD(注册商标)DPCA-20、Shin-Nakamura ChemicalCo.，Ltd.制造的A-9300-1CL等)、烯属不饱和化合物的环氧烷改性化合物(例如，NipponKayaku Co.，Ltd.制造的KAYARAD RP-1040、Shin-Nakamura Chemical Co.，Ltd.制造的ATM-35E、A-9300、DAICEL-ALLNEX LTD.制造的EBECRYL(注册商标)135等)及乙氧基化甘油三丙烯酸酯(Shin-Nakamura Chemical Co.，Ltd.制造的A-GLY-9E等)等。
作为聚合性化合物(尤其烯属不饱和化合物)，从转印后的感光性组合物层的显影性优异的观点出发，其中，也优选为包括酯键的化合物。
作为包含酯键的烯属不饱和化合物，只要在分子内包含酯键，则并不受特别限制，但从本发明的效果优异的观点出发，优选为具有四羟甲基甲烷结构或三羟甲基丙烷结构的乙烯不饱和化合物，更优选为四羟甲基甲烷三(甲基)丙烯酸酯、四羟甲基甲烷四(甲基)丙烯酸酯、三羟甲基丙烷三(甲基)丙烯酸酯或二(三羟甲基丙烷)四丙烯酸酯。
从赋予可靠性的观点出发，作为烯属不饱和化合物，优选为包含具有碳原子数6～20的脂肪族基团的烯属不饱和化合物和上述具有四羟甲基甲烷结构或三羟甲基丙烷结构的乙烯不饱和化合物。
作为具有碳原子数6以上的脂肪族结构的烯属不饱和化合物，可以举出1，9-壬二醇二(甲基)丙烯酸酯、1，10-癸二醇二(甲基)丙烯酸酯及三环癸烷二甲醇二(甲基)丙烯酸酯。
作为聚合性化合物的优选方式之一，可举出具有脂肪族烃环结构的聚合性化合物(优选为2官能烯属不饱和化合物)。
作为上述聚合性化合物，优选具有2环以上的脂肪族烃环稠合而成的环结构(优选为，选自三环癸烷结构及三环癸烯结构中的结构)的聚合性化合物，更优选具有2环以上的脂肪族烃环稠合而成的环结构的2官能烯属不饱和化合物，进一步优选为三环癸烷二甲醇二(甲基)丙烯酸酯。
从本发明的效果更优异的观点出发，作为上述脂肪族烃环结构，优选为环戊烷结构、环己烷结构、三环癸烷结构、三环癸烯结构、降冰片烷结构、或者异佛尔酮结构。
聚合性化合物的分子量优选为200～3,000，更优选为250～2,600，进一步优选为280～2,200，尤其优选为300～2,200。
在感光性组合物层中所包含的聚合性化合物中，分子量300以下的聚合性化合物的含量的比例相对于感光性组合物层中所包含的所有的聚合性化合物的含量优选为30质量％以下，更优选为25质量％以下，进一步优选为20质量％以下。
作为感光性组合物层的优选方式之一，感光性组合物层优选包含2官能以上的烯属不饱和化合物，更优选包含3官能以上的烯属不饱和化合物，进一步优选包含3官能或4官能的烯属不饱和化合物。
并且，作为感光性组合物层的优选方式之一，感光性组合物层优选包含具有脂肪族烃环结构的2官能烯属不饱和化合物和包含具有脂肪族烃环的结构单元的粘合剂聚合物。
并且，作为感光性组合物层的优选方式之一，感光性组合物层优选包含由式(M)表示的化合物和具有酸基的烯属不饱和化合物，更优选包含1，9-壬二醇二丙烯酸酯、三环癸烷二甲醇二丙烯酸酯及具有羧酸基的多官能烯属不饱和化合物，进一步优选包含1，9-壬二醇二丙烯酸酯、三环癸烷二甲醇二丙烯酸酯及二季戊四醇五丙烯酸酯的琥珀酸改性体。
并且，作为感光性组合物层的优选方式之一，感光性组合物层优选包含由式(M)表示的化合物、具有酸基的烯属不饱和化合物及后述的热交联性化合物，更优选为包含由式(M)表示的化合物、具有酸基的烯属不饱和化合物及后述的封端异氰酸酯化合物。
并且，作为感光性组合物层的优选方式之一，感光性组合物层优选包含2官能的烯属不饱和化合物(优选为2官能的(甲基)丙烯酸酯化合物)、3官能以上的烯属不饱和化合物(优选为3官能以上的(甲基)丙烯酸酯化合物)。
并且，作为感光性组合物层的优选方式之一，从防锈性的观点出发，感光性组合物层优选包含化合物M及具有脂肪族烃环结构的2官能烯属不饱和化合物。
并且，作为感光性组合物层的优选方式之一，从基板密合性、显影残渣抑制性及防锈性的观点出发，感光性组合物层优选包含化合物M及具有酸基的烯属不饱和化合物，更优选包含化合物M、具有脂肪族烃环结构的2官能烯属不饱和化合物及具有酸基的烯属不饱和化合物，进一步优选包含化合物M、具有脂肪族烃环结构的2官能烯属不饱和化合物、3官能以上的烯属不饱和化合物及具有酸基的烯属不饱和化合物，尤其优选包含化合物M、具有脂肪族烃环结构的2官能烯属不饱和化合物、3官能以上的烯属不饱和化合物、具有酸基的烯属不饱和化合物及氨基甲酸酯(甲基)丙烯酸酯化合物。
并且，作为感光性组合物层的优选方式之一，从基板密合性、显影残渣抑制性及防锈性的观点出发，感光性组合物层优选包含1，9-壬二醇二丙烯酸酯及具有羧酸基的多官能烯属不饱和化合物，优选包含1，9-壬二醇二丙烯酸酯、三环癸烷二甲醇二丙烯酸酯及具有羧酸基的多官能烯属不饱和化合物，进一步优选包含1，9-壬二醇二丙烯酸酯、三环癸烷二甲醇二丙烯酸酯、二季戊四醇六丙烯酸酯及具有羧酸基的烯属不饱和化合物，尤其优选包含1，9-壬二醇二丙烯酸酯、三环癸烷二甲醇二丙烯酸酯、具有羧酸基的烯属不饱和化合物及氨基甲酸酯丙烯酸酯化合物。
感光性组合物层可以包含单官能烯属不饱和化合物作为烯属不饱和化合物。
上述烯属不饱和化合物中的2官能以上的烯属不饱和化合物的含量相对于感光性组合物层中所包含的所有烯属不饱和化合物的总含量优选为60～100质量％，更优选为80～100质量％，进一步优选为90～100质量％。
聚合性化合物(尤其，烯属不饱和化合物)可以单独使用一种，也可以同时使用两种以上。
感光性组合物层中的聚合性化合物(尤其，烯属不饱和化合物)的含量相对于感光性组合物层总质量优选为1～70质量％，更优选为10～70质量％，进一步优选为20～60质量％，尤其优选为20～50质量％。
[聚合引发剂]
感光性组合物层可以包含聚合引发剂。
作为聚合引发剂，优选为光聚合引发剂(优选为光自由基聚合引发剂)。
作为光聚合引发剂并无特别限制，可举出公知的光聚合引发剂。
作为光聚合引发剂(优选为光自由基聚合引发剂)，可举出具有肟酯结构的光聚合引发剂(以下，也称为“肟系光聚合引发剂”。)、具有α-氨基烷基苯酮结构的光聚合引发剂(以下，也称为“α-氨基烷基苯酮系光聚合引发剂”。)、具有α-羟烷基苯酮结构的光聚合引发剂(以下，也称为“α-羟烷基苯酮系聚合引发剂”。)、具有酰基氧化膦结构的光聚合引发剂(以下，也称为“酰基氧化膦系光聚合引发剂”。)及具有N-苯基甘氨酸结构的光聚合引发剂(以下，也称为“N-苯基甘氨酸系光聚合引发剂”。)。
光聚合引发剂优选包含选自肟系光聚合引发剂、α-氨基烷基苯酮系光聚合引发剂、α-羟烷基苯酮系聚合引发剂及N-苯基甘氨酸系光聚合引发剂中的至少一种，更优选包含选自肟系光聚合引发剂、α-氨基烷基苯酮系光聚合引发剂及N-苯基甘氨酸系光聚合引发剂中的至少一种。
并且，从本发明的效果更优异的观点出发，光聚合引发剂优选同时使用两种以上，更优选包含肟系光聚合引发剂及α-氨基烷基苯酮系光聚合引发剂，进一步优选包含1-[9-乙基-6-(2-甲基苯甲酰基)-9H-咔唑-3-基]乙酮-1-(O-乙酰基肟)及2-甲基-1-(4-甲硫基苯基)-2-吗啉基丙烷-1-酮。
并且，作为光聚合引发剂，例如可使用日本特开2011-095716号公报的[0031]～[0042]段及日本特开2015-014783号公报的[0064]～[0081]段中记载的聚合引发剂。
作为光聚合引发剂的市售品，可举出1-[4-(苯硫基)苯基]-1，2-辛二酮-2-(O-苯甲酰肟)〔产品名称：IRGACURE(注册商标)OXE-01、BASF公司制〕、1-[9-乙基-6-(2-甲基苯甲酰基)-9H-咔唑-3-基]乙酮-1-(O-乙酰肟)〔产品名称：IRGACURE(注册商标)OXE-02、BASF公司制〕、[8-[5-(2，4，6-三甲基苯基)-11-(2-乙基己基)-11H-苯并[a]咔唑][2-(2，2，3，3-四氟丙氧基)苯基]甲酮-(O-乙酰肟)〔产品名称：IRGACURE(注册商标)OXE-03、BASF公司制〕、1-[4-[4-(2-苯并呋喃基羰基)苯基]硫基]苯基]-4-甲基戊酮-1-(O-乙酰肟)〔产品名称：IRGACURE(注册商标)OXE-04、BASF公司制〕、2-(二甲基氨基)-2-[(4-甲基苯基)甲基]-1-[4-(4-吗啉基)苯基]-1-丁酮〔产品名称：IRGACURE(注册商标)379EG、BASF公司制〕、2-甲基-1-(4-甲硫基苯基)-2-吗啉基丙烷-1-酮〔产品名称：IRGACURE(注册商标)907、BASF公司制〕、2-羟基-1-{4-[4-(2-羟基-2-甲基丙酰基)苄基]苯基}-2-甲基丙烷-1-酮〔产品名称：IRGACURE(注册商标)127、BASF公司制〕、2-苄基-2-二甲基氨基-1-(4-吗啉代苯基)丁酮-1〔产品名称：IRGACURE(注册商标)369、BASF公司制〕、2-羟基-2-甲基-1-苯基丙烷-1-酮〔产品名称：IRGACURE(注册商标)1173、BASF公司制〕、1-羟基环己基苯基酮〔产品名称：IRGACURE(注册商标)184、BASF公司制〕、2，2-二甲氧基-1，2-二苯基乙烷-1-酮〔产品名称：IRGACURE 651、BASF公司制〕等、肟酯系的产品〔产品名称：Lunar(注册商标)6、DKSHManagement Ltd.制〕、1-[4-(苯硫基)苯基]-3-环戊基丙烷-1，2-二酮-2-(O-苯甲酰肟)(产品名称：TR-PBG-305、常州强力电子新材料公司制)、1，2-丙二酮，3-环己基-1-[9-乙基-6-(2-呋喃基羰基)-9H-咔唑-3-基]-2-(O-乙酰基肟)(产品名称：TR-PBG-326、常州强力电子新材料公司制)、3-环己基-1-(6-(2-(苯甲酰氧基亚氨基)己酰基)-9-乙基-9H-咔唑-3-基)-丙烷-1，2-二酮-2-(O-苯甲酰肟)(产品名称：TR-PBG-391、常州强力电子新材料公司制)、APi-307(1-(联苯-4-基)-2-甲基-2-吗啉基-1-丙酮，Shenzhen UV-ChemTech Ltd.制)等。
作为聚合引发剂，从透明性及10μm以下的图案形成能力更优异的观点出发，优选为肟酯化合物、或者酰基氧化膦系化合物，更优选为2-苄基-2-二甲基氨基-1-(4-吗啉苯基)丁酮-1、1，2-辛烷二酮-1-[4-(苯硫基)苯基]-2-(O-苯甲酰肟)、或者2，4，6-三甲基苯甲酰基-二苯基-氧化膦。
聚合引发剂可以单独使用一种，也可以同时使用两种以上。
感光性组合物层中的聚合引发剂的含量并不受特别限制，相对于感光性组合物层总质量优选为0.1质量％以上，更优选为0.5质量％以上，进一步优选为1.0质量％以上。
并且，感光性组合物层中的聚合引发剂的含量相对于感光性组合物层总质量优选为10质量％以下，更优选为5质量％以下。
[杂环化合物]
感光性组合物层可以包含杂环化合物。
杂环化合物所具有的杂环可以为单环及多环中的任一杂环。
作为杂环化合物所具有的杂原子，可举出氮原子、氧原子及硫原子。杂环化合物优选具有选自氮原子、氧原子及硫原子中的至少一种的原子，更优选具有氮原子。
作为杂环化合物，例如可举出三唑化合物、苯并三唑化合物、四唑化合物、噻二唑化合物、三嗪化合物、绕丹宁化合物、噻唑化合物、苯并噻唑化合物、苯并咪唑化合物、苯并噁唑化合物及嘧啶化合物。
在上述中，作为杂环化合物，优选为选自三唑化合物、苯并三唑化合物、四唑化合物、噻二唑化合物、三嗪化合物、绕丹宁化合物、噻唑化合物、苯并咪唑化合物及苯并噁唑化合物中的至少一种化合物，更优选为选自三唑化合物、苯并三唑化合物、四唑化合物、噻二唑化合物、噻唑化合物、苯并噻唑化合物、苯并咪唑化合物及苯并噁唑化合物中的至少一种化合物。
以下示出杂环化合物的优选具体例。作为三唑化合物及苯并三唑化合物，能够例示以下化合物。
[化学式13]
Figure BDA0003962334070000371
[化学式14]
Figure BDA0003962334070000372
作为四唑化合物，能够例示以下化合物。
[化学式15]
Figure BDA0003962334070000381
[化学式16]
Figure BDA0003962334070000382
作为噻二唑化合物，能够例示以下化合物。
[化学式17]
Figure BDA0003962334070000383
作为三嗪化合物，能够例示以下化合物。
[化学式18]
Figure BDA0003962334070000384
作为绕丹宁化合物，能够例示以下化合物。
[化学式19]
Figure BDA0003962334070000391
作为噻唑化合物，能够例示以下化合物。
[化学式20]
Figure BDA0003962334070000392
作为苯并噻唑化合物，能够例示以下化合物。
[化学式21]
Figure BDA0003962334070000393
作为苯并咪唑化合物，能够例示以下化合物。
[化学式22]
Figure BDA0003962334070000401
[化学式23]
Figure BDA0003962334070000402
作为苯并噁唑化合物，能够例示以下化合物。
[化学式24]
Figure BDA0003962334070000403
杂环化合物可以单独使用一种，也可以同时使用两种以上。
在感光性组合物层包含杂环化合物的情况下，杂环化合物的含量相对于感光性组合物层总质量，优选为0.01～20.0质量％，更优选为0.10～10.0质量％，进一步优选为0.30～8.0质量％，尤其优选为0.50～5.0质量％。
[脂肪族硫醇化合物]
感光性组合物层可以包含脂肪族硫醇化合物。
通过感光性组合物层包含脂肪族硫醇化合物，脂肪族硫醇化合物在与具有烯属不饱和基团的自由基聚合性化合物之间进行烯-硫醇反应，从而所形成的膜的固化收缩得到抑制，并且应力得到缓解。
作为脂肪族硫醇化合物，优选为单官能的脂肪族硫醇化合物或多官能的脂肪族硫醇化合物(即，2官能以上的脂肪族硫醇化合物)。
在上述中，作为脂肪族硫醇化合物，从所形成的图案的密合性(尤其为曝光后的密合性)的观点出发，优选为多官能的脂肪族硫醇化合物。
在本说明书中，“多官能的脂肪族硫醇化合物”是指，在分子内具有2个以上的硫醇基(也称为“巯基”。)的脂肪族化合物。
作为多官能的脂肪族硫醇化合物，优选为分子量为100以上的低分子化合物。具体而言，多官能的脂肪族硫醇化合物的分子量更优选为100～1，500，进一步优选为150～1，000。
作为多官能的脂肪族硫醇化合物的官能团数，例如从所形成的图案的密合性的观点出发，优选为2～10官能，更优选为2～8官能，进一步优选为2～6官能。
作为多官能的脂肪族硫醇化合物，例如可举出三羟甲基丙烷三(3-巯基丁酸酯)、1，4-双(3-巯基丁酰氧基)丁烷、季戊四醇四(3-巯基丁酸酯)、1，3，5-三(3-巯基丁酰氧基乙基)-1，3，5-三嗪-2，4，6(1H，3H，5H)-三酮、三羟甲基乙烷三(3-巯基丁酸酯)、三[(3-巯基丙酰基氧基)乙基]异氰脲酸酯、三羟甲基丙烷三(3-巯基丙酸酯)、季戊四醇四(3-巯基丙酸酯)、四乙二醇双(3-巯基丙酸酯)、二季戊四醇六(3-巯基丙酸酯)、乙二醇双硫代丙酸酯、1，4-双(3-巯基丁酰氧基)丁烷、1，2-乙二硫醇、1，3-丙二硫醇、1，6-六亚甲基二硫醇、2，2’-(亚乙基二硫代)双乙硫醇、meso-2，3-二巯基丁二酸及二(巯基乙基)醚。
在上述中，作为多官能的脂肪族硫醇化合物，优选为选自三羟甲基丙烷三(3-巯基丁酸酯)、1，4-双(3-巯基丁酰氧基)丁烷及1，3，5-三(3-巯基丁酰氧基乙基)-1，3，5-三嗪-2，4，6(1H，3H，5H)-三酮中的至少一种化合物。
作为单官能的脂肪族硫醇化合物，例如可举出1-辛硫醇、1-十二烷硫醇、β-巯基丙酸、甲基-3-巯基丙酸酯、2-乙基己基-3-巯基丙酸酯、正辛基-3-巯基丙酸酯、甲氧基丁基-3-巯基丙酸酯及硬酯基-3-巯基丙酸酯。
感光性组合物层可以包含单独一种脂肪族硫醇化合物，也可以包含两种以上的脂肪族硫醇化合物。
在感光性组合物层包含脂肪族硫醇化合物的情况下，脂肪族硫醇化合物的含量相对于感光性组合物层总质量，优选为5质量％以上，更优选为5～50质量％，进一步优选为5～30质量％，尤其优选为8～20质量％。
<热交联性化合物>
从所得到的固化膜的强度及所得到的未固化膜的粘合性的观点出发，感光性组合物层优选包含热交联性化合物。另外，在本发明中，后述的具有烯属不饱和基团的热交联性化合物不作为烯属不饱和化合物，而作为热交联性化合物。
作为热交联性化合物，可举出环氧化合物、氧杂环丁烷化合物、羟甲基化合物及封端异氰酸酯化合物。其中，从所获得的固化膜的强度及所获得的未固化膜的粘合性的观点出发，优选为封端异氰酸酯化合物。
由于封端异氰酸酯化合物与羟基及羧基反应，因此例如在粘合剂聚合物及具有烯属不饱和基团的自由基聚合性化合物中的至少一个具有羟基及羧基中的至少一个的情况下，所形成的膜的亲水性趋于下降，作为保护膜的作用趋于增强。
另外，封端异氰酸酯化合物是指“具有利用封端剂保护(所谓掩模)异氰酸酯的异氰酸酯基的结构的化合物”。
封端异氰酸酯化合物的解离温度并不受特别限制，但优选为100～160℃，更优选为130～150℃。
封端异氰酸酯的解离温度是指“使用差示扫描量热计并通过DSC(Differentialscanning calorimetry：差示扫描量热法)分析测定时的伴随封端异氰酸酯的脱保护反应的吸热峰的温度”。
作为差示扫描量热计，例如可优选为使用Seiko Instruments Inc.制的差示扫描量热计(型号：DSC6200)。但是，差示扫描量热计并不限定于此。
作为解离温度为100～160℃的封端剂，可举出活性亚甲基化合物〔(丙二酸二酯(丙二酸二甲酯、丙二酸二乙酯、丙二酸二正丁酯、丙二酸二2-乙基己酯等)〕、肟化合物(甲醛肟、乙醛肟、丙酮肟、甲基乙基酮肟及环己酮肟等在分子内具有由-C(＝N-OH)-表示的结构的化合物)。
在这些之中，作为解离温度为100～160℃的封端剂，例如从保存稳定性的观点出发，优选为选自肟化合物中的至少一种。
例如，从改善膜的脆性、提高与被转印体的密合力等的观点出发，封端异氰酸酯化合物优选具有异氰脲酸酯结构。
具有异氰脲酸酯结构的封端异氰酸酯化合物例如可通过将六亚甲基二异氰酸酯进行异氰脲酸酯化来进行保护而获得。
在具有异氰脲酸酯结构的封端异氰酸酯化合物中，从比不具有肟结构的化合物更容易将解离温度设在优选的范围，并且容易减少显影残渣的观点出发，优选为具有将肟化合物用作封端剂的肟结构的化合物。
封端异氰酸酯化合物可以具有聚合性基团。
作为聚合性基团，并没有特别限制，能够使用公知的聚合性基团，优选为自由基聚合性基团。
作为聚合性基团，可举出(甲基)丙烯酰氧基、(甲基)丙烯酰胺基及苯乙烯基等烯属不饱和基团、以及缩水甘油基等具有环氧基的基团。
其中，作为聚合性基团，优选为烯属不饱和基团，更优选为(甲基)丙烯酰氧基，进一步优选为丙烯酰氧基。
作为封端异氰酸酯化合物，能够使用市售品。
作为封端异氰酸酯化合物的市售品的例子，可以举出Karenz(注册商标)AOI-BM、Karenz(注册商标)MOI-BM、Karenz(注册商标)MOI-BP等(以上，SHOWA DENKO K.K.制造)、封端型的Duranate系列(例如，Duranate(注册商标)TPA-B80E、Duranate(注册商标)WT32-B75P等，Asahi Kasei Chemicals Corporation制造)。
热交联性化合物可以单独使用一种，也可以同时使用两种以上。
在感光性组合物层包含热交联性化合物的情况下，热交联性化合物的含量相对于感光性组合物层总质量优选为1～50质量％，更优选为5～30质量％。
[表面活性剂]
感光性组合物层可以包含表面活性剂。
作为表面活性剂，可举出非离子系表面活性剂、氟系表面活性剂或硅酮系表面活件剂。
作为表面活性剂，可举出例如在日本专利第4502784号公报的[0017]段及日本特开2009-237362号公报的[0060]～[0071]段中记载的表面活性剂。
作为表面活性剂，优选为氟系表面活性剂或硅酮系表面活性剂，更优选为硅酮系表面活性剂。
作为氟系表面活性剂的市售品，例如可举出Megaface F-171、F-172、F-173、F-176、F-177、F-141、F-142、F-143、F-144、F-437、F-475、F-477、F-479、F-482、F-551-A、F-552、F-554、F-555-A、F-556、F-557、F-558、F-559、F-560、F-561、F-565、F-563、F-568、F-575、F-780、EXP、MFS-330、EXP.MFS-578、EXP.MFS-579、EXP.MFS-586、EXP.MFS-587、R-41、R-41-LM、R-01、R-40、R-40-LM、RS-43、TF-1956、RS-90、R-94、RS-72-K、DS-21(以上，DICCorporation制)、Fluorad FC430、FC431、FC171(以上，Sumitomo3M Limited制)、SurflonS-382、SC-101、SC-103、SC-104、SC-105、SC-1068、SC-381、SC-383、S-393、KH-40(以上，AGCInc.制)、PolyFox PF636、PF656、PF6320、PF6520、PF7002(以上，OMNOVA Solutions Inc.制)、Ftergent 710FL、710FM、610FM、601AD、601ADH2、602A、215M、245F、251、212M、250、209F、222F、208G、710LA、710FS、730LM、650AC、681、683(以上，Neos Corporation制)等。
并且，作为氟系表面活性剂，也能够优选使用丙烯酸系化合物，该丙烯酸系化合物具有具备包含氟原子的官能团的分子结构，若加热，则包含氟原子的官能团部分被切断而氟原子挥发。作为这些氟系表面活性剂，可举出DIC Corporation制的MAGAFACE DS系列(化学工业日报(2016年2月22日)、日经产业新闻(2016年2月23日))、例如MAGAFACE DS-21。
并且，作为氟系表面活性剂也优选使用具有氟化烷基或氟化亚烷基醚基的含氟原子乙烯醚化合物与亲水性乙烯醚化合物的聚合物。
并且，作为氟系表面活性剂，也能够使用封端聚合物。
并且，作为氟系表面活性剂，还能够优选使用含氟高分子化合物，该含氟高分子化合物包含：源自具有氟原子的(甲基)丙烯酸酯化合物的结构单元；及源自具有2个以上(优选为5个以上)亚烷氧基(优选为亚乙氧基、亚丙氧基)的(甲基)丙烯酸酯化合物的结构单元。
并且，作为氟系表面活性剂，也能够使用在侧链上具有含有烯属不饱和键的基团的含氟聚合物。可以举出MEGAFACE RS-101、RS-102、RS-718K、RS-72-K(以上，DICCorporation制)等。
作为氟系表面活性剂，从提高环境适应性的观点出发，优选为源自全氟辛烷酸(PFOA)及全氟辛烷磺酸(PFOS)等具有碳原子数为7以上的直链状全氟烷基的化合物的代替材料的表面活性剂。
作为非离子系表面活性剂，可以举出甘油、三羟甲基丙烷、三羟甲基乙烷以及它们的乙氧基化物及丙氧基化物(例如，甘油丙氧基化物、甘油乙氧基化物等)、聚氧乙烯月桂基醚、聚氧乙烯十八烷基醚、聚氧乙烯油基醚、聚氧乙烯辛基苯基醚、聚氧乙烯壬基苯基醚、聚乙二醇二月桂酸酯、聚乙二醇二硬脂酸酯、脱水山梨糖醇脂肪酸酯、P]uronic(注册商标)L10、L31、L61、L62、10R5、17R2、25R2(以上，BASF公司制造)、Tetronic 304、701、704、901、904、150R1(以上，BASF公司制造)、Solsperse 20000(以上，Lubrizol Japan Limited.制造)、NCW-101、NCW-1001、NCW-1002(以上，FUJIFILM Wako Pure Chemical Corporation制造)、PIONIN D-6112、D-6112-W、D-6315(以上，Takemoto Oil&Fat Co.，Ltd.制造)、OlfineE1010、Surfynol 104、400、440(以上，Nissin Chemical Co.，Ltd.制造)等。
作为硅酮系表面活性剂，可以举出由硅氧烷键构成的直链状聚合物及在侧链或末端导入有有机基团的改性硅氧烷聚合物。
并且，作为硅系表面活性剂的具体例，可举出DOWSIL 8032 ADDITIVE、ToraySilicone DC3PA、Toray Silicone SH7PA、Toray Silicone DC11PA、Toray SiliconeSH21PA、Toray Silicone SH28PA、Toray Silicone SH29PA、Toray Silicone SH30PA、Toray Silicone SH8400(以上，Dow Corning Toray Co.，Ltd.制)、以及X-22-4952、X-22-4272、X-22-6266、KF-351A、K354L、KF-355A、KF-945、KF-640、KF-642、KF-643、X-22-6191、X-22-4515、KF-6004、KP-341、KF-6001、KF-6002(以上，Shin-Etsu Silicone Co.，Ltd.制)、F-4440、TSF-4300、TSF-4445、TSF-4460、TSF-4452(以上，Momentive Performance MaterialsInc.制)、BYK307、BYK323、BYK330(以上，BYK Co.，LTD制)等。
表面活性剂可以单独使用一种，也可以同时使用两种以上。
在感光性组合物层包含表面活性剂的情况下，表面活性剂的含量相对于感光性组合物层总质量，优选为0.01～3.0质量％，更优选为0.05～1.0质量％，进一步优选为0.10～0.80质量％。
[磷酸酯化合物]
从进一步提高感光性组合物层与基板或导电层的密合性的观点出发，感光性组合物层优选包括磷酸酯化合物。
作为磷酸酯化合物，只要磷酸(O＝P(OH)3)中的3个氢中的至少1个以上被有机基团取代则并无特别限制，可举出Unichemical Co.，Ltd.制的Phosmer系列(Phosmer-M、Phosmer-CL、Phosmer-PE、Phosmer-MH、Phosmer-PP)、Nippon Kayaku Co.，Ltd.制的KAYAMER系列(KAYAMER PM-21、KAYAMER PM-2)及KYOEISHA CHEMICAL Co.，LTD.制的LIGHTESTER系列(LIGHT ESTERP-2M(产品名称))。
磷酸酯化合物可以单独使用一种，也可以同时使用两种以上。
磷酸酯化合物的含量并不受特别限制，相对于感光性组合物层总质量优选为0.05～3.0质量％，更优选为0.1～2.0质量％，进一步优选为0.2～1.0质量％。
在感光性组合物层包含磷酸酯化合物的情况下，磷酸酯化合物的含量并不受特别限制，从进一步提高感光性组合物层与基板或导电层的密合性的观点出发，相对于粘合剂聚合物及聚合性化合物的合计100质量份优选为10质量份以下，更优选为3质量份以下。并且，优选为0.01质量份以上，更优选为0.1质量份以上。
[阻聚剂]
感光性组合物层可以包含阻聚剂。
阻聚剂是指，具有延迟或禁止聚合反应的功能的化合物。作为阻聚剂，例如能够使用用作阻聚剂的公知的化合物。
作为阻聚剂，例如可举出吩噻嗪、双-(1-二甲基苄基)吩噻嗪、及3，7-二辛基吩噻嗪等吩噻嗪化合物；二缩三乙二醇双[3-(3-叔丁基-5-甲基-4-羟基苯基)丙酸酯]2，4-双〔(十二烷基)甲基〕-邻甲酚、1，3，5-三(3，5-二叔丁基-4-羟基苄基)、1，3，5-三(4-叔丁基-3-羟基-2，6-二甲苯基)、6-(4-羟基-3，5-二叔丁基苯氨基)-2，4-二-(正辛硫基)-1，3，5-三嗪及四[3-(3，5-二叔丁基-4-羟苯基)丙酸]季戊四醇酯等受阻酚化合物；4-硝基苯酚、N-亚硝基二苯胺、N-亚硝基环己基羟胺及N-亚硝基苯基羟胺等亚硝基化合物或其盐；甲基氢醌、叔丁基氢醌、2，5-二-叔丁基氢醌、及4-苯醌等醌化合物；4-甲氧基苯酚、4-甲氧基-1-萘酚及叔丁基邻苯二酚等酚化合物；二丁基二硫代氨基甲酸铜、二甲基二硫代氨基甲酸铜、二乙基二硫代氨基甲酸锰及二苯基二硫代氨基甲酸锰等金属盐化合物。
其中，从本发明的效果更优异的观点出发，作为阻聚剂，优选为选自吩噻嗪化合物、亚硝基化合物或其盐及受阻酚化合物中的至少一种，更优选为吩噻嗪、二缩三乙二醇双[3-(3-叔丁基-5-甲基-4-羟基苯基)丙酸酯]2，4-双〔(十二烷基)甲基〕-邻甲酚、1，3，5-三(3，5-二叔丁基-4-羟基苄基)及N-亚硝基苯基羟胺铝盐。
阻聚剂可以单独使用一种，也可以同时使用两种以上。
在感光性组合物层包含阻聚剂的情况下，阻聚剂的含量相对于感光性组合物层总质量优选为0.01～10.0质量％，更优选为0.05～5.0质量％，进一步优选为0.10～3.0质量％。
[供氢性化合物]
感光性组合物层可以包含供氢性化合物。
供氢性化合物具有进一步提高光聚合引发剂对活化光线的灵敏度的、及抑制由氧引起的聚合性化合物的聚合阻碍等的作用。
作为供氢性化合物，例如可以举出胺类及氨基酸化合物。
作为胺类，例如可举出M.R.Sander等人著“Journal of Polymer Society”第10卷3173页(1972)、日本特公昭44-020189号公报、日本特开昭51-082102号公报、日本特开昭52-134692号公报、日本特开昭59-138205号公报、日本特开昭60-084305号公报、日本特开昭62-018537号公报、日本特开昭64-033104号公报及Research Disclosure 33825号等中记载的化合物。更具体而言，可以举出4，4’-双(二乙基氨基)二苯甲酮、三(4-二甲氨基苯基)甲烷(别名：无色结晶紫)、三乙醇胺、对二甲基氨基苯甲酸乙酯、对甲酰基二甲基苯胺及对甲硫基二甲基苯胺。
其中，从本发明的效果更优异的观点出发，作为胺类，优选选自4，4’-双(二乙基氨基)二苯甲酮及三(4-二甲基氨基苯基)甲烷中的至少一种。
作为氨基酸化合物，例如可以举出N-苯基甘氨酸、N-甲基-N-苯基甘氨酸、N-乙基-N-苯基甘氨酸。
其中，从本发明的效果更优异的观点出发，作为氨基酸化合物，优选为N-苯基甘氨酸。
并且，作为供氢性化合物，例如还可以举出日本特公昭48-042965号公报中所记载的有机金属化合物(乙酸三丁锡等)、日本特公昭55-034414号公报中所记载的供氢体及日本特开平6-308727号公报中所记载的硫化合物(三噻烷等)。
供氢性化合物可以单独使用一种，也可以同时使用两种以上。
在感光性组合物层包含供氢性化合物的情况下，从通过聚合生长速度和链转移的平衡而提高固化速度的观点出发，供氢性化合物的含量相对于感光性组合物层总质量，优选为0.01～10.0质量％，更优选为0.03～8.0质量％，进一步优选为0.10～5.0质量％。
[杂质等]
感光性组合物层可以包含规定量的杂质。
作为杂质的具体例，可以举出钠、钾、镁、钙、铁、锰、铜、铝、钛、铬、钻、镍、锌、锡、卤素及这些的离子。其中，卤化物离子、钠离子及钾离子容易以杂质形式混入，因此优选设为下述含量。
感光性组合物层中的杂质的含量以质量基准计，优选为80ppm以下，更优选为10ppm以下，进一步优选为2ppm以下。感光性组合物层中的杂质的含量以质量基准，能够设为1ppb以上或0.1ppm以上。作为感光性组合物层中的杂质的含量的具体例，可举出上述的所有杂质以质量基准为0.6ppm的方式。
作为将杂质设定在上述范围的方法，可举出如下方法：作为感光性组合物层的原料选择杂质的含量少的原料及在形成感光性组合物层时防止杂质的混入、通过清洗将其去除。通过这种方法，能够将杂质量设定在上述范围内。
杂质例如能够通过ICP(Inductively Coupled Plasma：电感耦合等离子体)发射光谱分析法、原子吸收光谱法及离子色谱法等公知的方法来定量。
感光性组合物层中的苯、甲醛、三氯乙烯、1，3-丁二烯、四氯化碳、氯仿、N，N-二甲基甲酰胺、N，N-二甲基乙酰胺及己烷等化合物的含量优选为少。作为这些化合物在感光性组合物层中的含量，以质量基准计，优选为100ppm以下，更优选为20ppm以下，进一步优选为4ppm以下。
下限以质量基准计，能够设为10ppb以上，也能够设为100ppb以上。这些化合物能够通过与上述金属的杂质相同的方法来抑制含量。并且，能够通过公知的测定法来定量。
从提高可靠性及层压性的观点出发，感光性组合物层中的水的含量优选为0.01～1.0质量％，更优选为0.05～0.5质量％。
[残余单体]
感光性组合物层有时包含上述粘合剂聚合物(例如，碱溶性树脂)的各结构单元的残余单体。
从图案形成性及可靠性的观点出发，残余单体的含量相对于粘合剂聚合物(例如，碱溶性树脂)总质量优选为5，000质量ppm以下，更优选为2，000质量ppm以下，进一步优选为500质量ppm以下。下限并无特别限制，优选为1质量ppm以上，更优选为10质量ppm以上。
从图案形成性及可靠性的方面出发，粘合剂聚合物(例如，碱溶性树脂)的各结构单元的残余单体相对于后述的感光性组合物总质量，优选为3，000质量ppm以下，更优选为600质量ppm以下，进一步优选为100质量ppm以下。下限并无特别限制，优选为0.1质量ppm以上，更优选为1质量ppm以上。
通过高分子反应合成粘合剂聚合物(例如，碱溶性树脂)时的单体的残余单体量也优选设在上述范围内。例如，在使丙烯酸缩水甘油酯与羧酸侧链反应来合成粘合剂聚合物(例如，碱溶性树脂)的情况下，优选将丙烯酸缩水甘油酯的含量设为上述范围。
残余单体的量能够利用液相色谱及气相色谱等公知的方法进行测定。
[其他成分]
感光性组合物层也可以包含除上述成分以外的成分(以下，也称为“其他成分”。)。作为其他成分，例如可以举出着色剂、抗氧化剂及粒子(例如，金属氧化物粒子)。并且，作为其他成分，还可举出日本特开2000-310706号公报的[0058]～[0071]段中记载的其他添加剂。
-粒子-
作为粒子，优选为金属氧化物粒子。
金属氧化物粒子中的金属还包含B、Si、Ge、As、Sb及Te等半金属。
例如从固化膜的透明性的观点出发，粒子的平均一次粒径优选为1～200nm，更优选为3～80nm。
粒子的平均一次粒径通过使用电子显微镜测定任意200个粒子的粒径，并将测定结果进行算术平均来计算。另外，在粒子的形状为非球形的情况下，将最长的边作为粒径。
并且，在感光性组合物层包含粒子的情况下，可以仅包含一种金属种类及大小等不同的粒子，也可以包含两种以上。
感光性组合物层优选不包含粒子，或者在感光性组合物层包含粒子的情况下，粒子的含量相对于感光性组合物层总质量超过0质量％且35质量％以下，更优选不包含粒子，或者粒子的含量相对于感光性组合物层总质量超过0质量％且10质量％以下，进一步优选不包含粒子，或者粒子的含量相对于感光性组合物层总质量超过0质量％且5质量％以下，进一步优选不包含粒子，或者粒子的含量相对于感光性组合物层总质量超过0质量％且1质量％以下，尤其优选不包含粒子。
-着色剂-
感光性组合物可以包含微量的着色剂(颜料、染料等)，例如，从透明性的观点出发，优选为实质上不包含着色剂。
在感光性组合物层包含着色剂的情况下，着色剂的含量相对于感光性组合物层总质量，优选为小于1质量％，更优选为小于0.1质量％。
-抗氧化剂-
作为抗氧化剂，例如可以举出1-苯基-3-吡唑烷酮(别名：菲尼酮)、1-苯基-4，4-二甲基-3-吡唑烷酮及1-苯基-4-甲基-4-羟基甲基-3-吡唑烷酮等3-吡唑烷酮类；氢醌、邻苯二酚、邻苯三酚、甲基氢醌及氯代氢醌等聚羟基苯类；对甲氨基苯酚、对氨基苯酚、对羟基苯甘氨酸及对苯二胺。
其中，从本发明的效果更优异的观点出发，作为抗氧化剂，优选为3-吡唑烷酮类，更优选为1-苯基-3-吡唑烷酮。
在感光性组合物层包括抗氧化剂的情况下，抗氧化剂的含量相对于感光性组合物层总质量优选为0.001质量％以上，更优选为0.005质量％以上，进一步优选为0.01质量％以上。上限并不受特别限制，但优选为1质量％以下。
[感光性组合物层的厚度]
感光性组合物层的厚度并不受特别限制，但通常多为30μm以下，从本发明的效果更优异的观点出发，优选为20μm以下，更优选为15μm以下，进一步优选为10μm以下，尤其优选为5μm以下。下限没有特别限制，但优选为0.05μm以上。
感光性组合物层的厚度例如能够作为通过基于扫描式电子显微镜(SEM)的剖面观察测定的任意5个点的平均值而算出。
[感光性组合物层的折射率]
感光性组合物层的折射率优选为1.47～1.56，更优选为1.49～1.54。
[感光性组合物层的颜色]
感光性组合物层优选为无彩色。具体而言，全反射(入射角8°、光源：D-65(2°视野))在CIE1976(L*，a*，b*)颜色空间中，L*值优选为10～90，a*值优选为-1.0～1.0，b*值优选为-1.0～1.0。
另外，将感光性组合物层固化而获得的图案(感光性组合物层的固化膜)优选为无彩色。
具体而言，全反射(入射角8°、光源：D-65(2°视野))在CIE1976(L*，a*，b*)颜色空间中，图案的L*值优选为10～90，图案的a*值优选为-1.0～1.0，图案的b*值优选为-1.0～1.0。
[感光性组合物层的透射率]
感光性组合物层的膜厚每1.0μm的可见光透射率优选为80％以上，更优选为90％以上，进一步优选为95％以上。
作为可见光的透射率，优选为波长400nm～800nm的平均透射率、波长400nm～800nm的透射率的最小值、波长400nmm的透射率均满足上述。
作为透射率的优选值，例如可举出87％、92％、98％等。感光性组合物层的固化膜的膜厚每1.0μm的透射率也相同。
[感光性组合物层的透湿度]
从电极或布线的防锈性的观点及器件的可靠性的观点出发，将感光性组合物层固化而获得的图案(感光性组合物层的固化膜)的膜厚40μm处的透湿度优选为500g/m2/24hr以下，更优选为300g/m2/24hr以下，进一步优选为100g/m2/24hr以下。
利用i射线以曝光量300mJ/cm2对感光性组合物层进行曝光之后，在145℃进行30分钟的后烘干，由此在使感光性组合物层固化而得的固化膜中测定透湿度。
透湿度的测定以JIS Z0208的杯法进行。在温度40℃/湿度90％、温度65℃/湿度90％及温度80℃/湿度95％的任何试验条件下，也优选上述的透湿度。
作为具体的优选数值，例如可举出80g/m2/24hr、150g/m2/24hr、220g/m2/24hr等。
[感光性组合物层的溶解速度]
从抑制显影时的残渣的观点出发，感光性组合物层对碳酸钠1.0％水溶液的溶解速度优选为0.01μm/秒以上，更优选为0.10μm/秒以上，进一步优选为0.20μm/秒以上。
从图案的边缘形状的观点出发，优选为5.0μm/秒以下，更优选为4.0μm/秒以下，进一步优选为3.0μm/秒以下。
作为具体的优选数值，例如可举出1.8μm/秒、1.0μm/秒、0.7μm/秒等。
感光性组合物层对1.0质量％碳酸钠水溶液的每单位时间的溶解速度以如下测定。
对形成于玻璃基板的充分去除溶剂而成的感光性组合物层(膜厚1.0～10μm的范围内)使用1.0质量％碳酸钠水溶液在25℃下进行喷淋显影(但是最长设为2分钟为止)直至完全溶解感光性组合物层。上述感光性组合物层的每单位时间的溶解速度是通过将感光性组合物层的膜厚除以感光性组合物层完全溶解所需的时间来求出。另外，在2分钟内未完全溶剂情况下，相同地从至今为此的膜厚变化量进行计算。
感光性组合物层的固化膜(膜厚1.0～10μm的范围内)对碳酸钠1.0％水溶液的溶解速度优选为3.0μm/秒以下，更优选为2.0μm/秒以下，进一步优选为1.0μm/秒以下，尤其优选为0.2μm/秒以下。上述感光性组合物层的固化膜为利用i射线以曝光量300mJ/cm2对感光性组合物层进行曝光而得到的膜。
作为具体的优选数值，例如可举出0.8μm/秒、0.2μm/秒、0.001μm/秒等。
显影时使用H.IKEUCHI&CO.，LTD.制1/4MINJJX030PP的喷淋喷嘴，喷淋的喷压设为0.08MPa。在上述条件的情况下，每单位时间的喷淋流量设为1，800mL/min。
[感光性组合物层的溶胀比]
从提高图案形成性的观点出发，曝光后的感光性组合物层对1.0质量％碳酸钠水溶液的溶胀率优选为100％以下，更优选为50％以下，进一步优选为30％以下。
曝光后的感光性组合物层对1.0质量％碳酸钠水溶液的溶胀率以如下进行测定。
对形成于玻璃基板的充分去除了溶剂的感光性组合物层(膜厚1.0～10μm的范围内)，用超高压汞灯以500mJ/cm2(i射线测定)进行曝光。下25℃下将每个玻璃基板浸渍于1.0质量％碳酸钠水溶液中，测定经过了30秒的时间点的膜厚。然后，计算浸渍后的膜厚相对于浸渍前的膜厚增加的比例。
作为具体的优选数值，例如可举出4％、13％、25％等。
[感光性组合物层中的异物]
从图案形成性的观点出发，感光性组合物层中的直径1.0μm以上的异物的数量优选为10个/mm2以下，更优选为5个/mm2以下。
异物个数量以如下测定。
使用光学显微镜，从感光性组合物层的表面的法线方向肉眼观察感光性组合物层的面上的任意5个区域(1mm×1mm)，测定各区域中的直径1.0μm以上的异物的数量，将这些进行算术平均，并作为异物的数量而算出。
作为具体的优选数值，例如可举出0个/mm2、1个/mm2、4个/mm2、8个/mm2等。
[感光性组合物层中的溶解物的雾度]
从抑止显影时产生凝聚物的观点出发，将1.0cm3的感光性组合物层溶解于1.0升的1.0质量％碳酸钠的30℃水溶液中所获得的溶液的雾度优选为60％以下，更优选为30％以下，进一步优选为10％以下，尤其优选为1％以下。
雾度以如下测定。
首先，准备1.0质量％的碳酸钠水溶液，并将液温调整为30℃。将1.0cm3的感光性组合物层放入碳酸钠水溶液1.0L中。一边注意不让气泡混入，一边在30℃下搅拌4小时。搅拌后，测定感光性组合物层溶解而成的溶液的雾度。使用雾度计(产品名“NDH4000”，NIPPONDENSHOKU INDUSTRIES Co.，LTD.制造)，并使用液体测定用单元及光路长度20mm的液体测定专用比色池(cell)来测定雾度。
作为具体的优选数值，例如可举出0.4％、1.0％、9％、24％等。
《保护膜>
转印膜具有保护膜。
作为保护膜，能够使用具有耐热性及耐溶剂性的树脂膜，例如可以举出聚丙烯膜及聚乙烯膜等聚烯烃膜、聚对苯二甲酸乙二酯膜等聚酯膜、聚碳酸酯膜以及聚苯乙烯膜。
并且，作为保护膜可以使用由与上述临时支承体相同的材料构成的树脂膜。
其中，作为保护膜，优选为聚烯烃膜，更优选为聚丙烯膜或聚乙烯膜，进一步优选为聚乙烯膜。
保护膜的厚度优选为1～100μm，更优选为5～50μm，进一步优选为5～40μm，尤其优选为15～30μm。
从机械强度优异的观点出发，保护膜的厚度优选为1μm以上，从相对廉价的观点出发，优选为100μm以下。
并且，在保护膜中，保护膜中所包含的直径80μm以上的鱼眼(fisheye)数量优选为5个/m2以下。
另外，“鱼眼”是指使材料热熔融，并进行混炼、挤出，并且通过双轴拉伸及流延法等方法制造膜时，材料的异物、未溶解物及氧化劣化物等被取入膜中的现象。
保护膜中所包含的直径3μm以上的粒子的数量优选为30个/mm2以下，更优选为10个/mm2以下，进一步优选为5个/mm2以下。
由此，能够抑制通过由保护膜中所包含的粒子引起的凹凸转印到感光性组合物层或导电层而产生的缺陷。
从赋予卷取性的观点出发，与保护膜的与感光性组合物层或折射率调整层接触的面相反的一侧的表面的算术平均粗糙度Ra优选为0.01μm以上，更优选为0.02μm以上，进一步优选为0.03μm以上。另一方面，优选为小于0.50μm，更优选为0.40μm以下，进一步优选为0.30μm以下。
从抑制转印时的缺陷的观点出发，保护膜的与感光性组合物层或折射率调整层接触的面的表面粗糙度Ra优选为0.01μm以上，更优选为0.02μm以上，进一步优选为0.03μm以上。另一方面，优选为小于0.50μm，更优选为0.40μm以下，进一步优选为0.30μm以下。
<折射率调整层>
转印膜的第2实施方式具有折射率调整层。
作为折射率调整层，能够适用公知的折射率调整层。作为折射率调整层中所包含的材料，例如可以举出粘合剂聚合物、聚合性化合物、金属盐及粒子。
控制折射率调整层的折射率的方法并不受特别限制，例如可以举出单独使用规定的折射率的树脂的方法、使用树脂和粒子的方法及使用金属盐与树脂的复合体的方法。
作为粘合剂聚合物及聚合性化合物，例如可举出在上述“感光性组合物层”项中进行说明的粘合剂聚合物及聚合性化合物。
作为粒子，例如可以举出金属氧化物粒子及金属粒子。
金属氧化物粒子的种类并没有特别限制，可以举出公知的金属氧化物粒子。金属氧化物粒子中的金属还包含B、Si、Ge、As、Sb及Te等半金属。
例如从固化膜的透明性的观点出发，粒子的平均一次粒径优选为1～200nm，更优选为3～80nm。
粒子的平均一次粒径通过使用电子显微镜测定任意200个粒子的粒径，并将测定结果进行算术平均来计算。另外，在粒子的形状为非球形的情况下，将最长的边作为粒径。
作为金属氧化物粒子，具体而言，优选为选自氧化锆粒子(ZrO2粒子)、Nb2O5粒子、氧化钛粒子(TiO2粒子)、二氧化硅粒子(SiO2粒子)及这些的复合粒子中的至少一种。
在这些之中，作为金属氧化物粒子，例如从容易调整折射率的观点出发，更优选为选自氧化锆粒子及氧化钛粒子中的至少一种。
作为金属氧化物粒子的市售品，可举出煅烧氧化锆粒子(CIK-Nano Tek.制、商品名称：ZRPGM15WT％-F04)、煅烧氧化锆粒子(CIK-Nano Tek.制、商品名称：ZRPGM15WT％-F74)、煅烧氧化锆粒子(CIK-Nano Tek.制、商品名称：ZRPGM15WT％-F75)、煅烧氧化锆粒子(CIK-Nano Tek.制、商品名称：ZRPGM15WT％-F76)、氧化锆粒子(NanoUse OZ-S30M、NIssanChemical Corporation制)及氧化锆粒子(NanoUse OZ-S30K、NIssan ChemicalCorporation制)。
粒子可以单独使用一种，也可以同时使用两种以上。
折射率调整层中的粒子的含量相对于折射率调整层总质量优选为1～95质量％，更优选为20～90质量％，进一步优选为40～85质量％。
在作为金属酸化物粒子使用酸化钛的情况下，酸化钛粒子的含量相对于折射率调整层总质量优选为1～95质量％，更优选为20～90质量％，进一步优选为40～85质量％。
折射率调整层的折射率优选为高于感光性组合物层的折射率。
折射率调整层的折射率优选为1.50以上，更优选为1.55以上，进一步优选为1.60以上，尤其优选为1.65以上。折射率调整层的折射率的上限优选为2.10以下，更优选为1.85以下，进一步优选为1.78以下，尤其优选为1.74以下。
折射率调整层的厚度优选为50～500nm，更优选为55～110nm，进一步优选为60～100nm。
折射率调整层的厚度作为利用扫描型电子显微镜(SEM)通过剖面观察测定而得的任意5点的平均值而计算出。
<中间层>
中间层优选包含碱溶性树脂及聚合性化合物。作为碱溶性树脂，例如可举出作为已叙述的感光性组合物层的成分的碱溶性树脂及作为后述的热塑性树脂层的成分的碱溶性树脂。作为聚合性化合物，例如可举出作为已叙述的感光性组合物层的成分的聚合性化合物。
在中间层包含碱溶性树脂及聚合性化合物的情况下，中间层中聚合性化合物的质量与碱溶性树脂的质量之比优选为0.5以上，更优选为0.6～1.1，进一步优选为0.6～0.9。
中间层中的聚合性化合物的质量与碱溶性树脂的质量之比影响中间层的储存弹性模量。例如，若中间层中的聚合性化合物的质量与碱溶性树脂的质量之比变大，则中间层的储存弹性模量变小。若中间层的储存弹性模量变小，则转印层的转印到对象物(例如，基板)时转印层与对象物的密合性提高，分辨率也提高。另一方面，若中间层中的聚合性化合物的质量与碱溶性树脂的质量之比变小，则中间层的储存弹性模量变大。若中间层的储存弹性模量变大，则抑制转印层附着于所剥离的临时支承体或保护膜的表面，也抑制分辨率的下降。
从与相邻的层的密合性的观点出发，中间层的厚度优选为1μm以上，更优选为2μm以上。从显影性及分辨率的观点出发，中间层的厚度优选为20μm以下，更优选为10μm以下，进一步优选为5μm以下。
中间层可以具有单层结构或多层结构。作为优选中间层，例如可举出热塑性树脂层及水溶性树脂层。中间层可以包括热塑性树脂层、水溶性树脂层、或者热塑性树脂层及水溶性树脂层这两者。中间层优选包括热塑性树脂层及水溶性树脂层。在中间层包括热塑性树脂层及水溶性树脂层的情况下，转印膜优选依次包括临时支承体、热塑性树脂层、水溶性树脂层、感光性组合物层及保护膜。并且，作为中间层，例如还可以举出在日本特开平5-072724号公报中记载为“分离层”的具有阻氧功能的阻氧层。若中间层为阻氧层，则曝光时的灵敏度提高，曝光机的时间负荷减少，从而生产率提高。
(中间层的结构要素：热塑性树脂层)
关于热塑性树脂层，例如，贴合转印膜与基板时提高对基板的追随性，抑制在基板与转印膜之间混入气泡，提高基板与转印膜的密合性。
(热塑性树脂层的成分：碱溶性树脂)
热塑性树脂层优选为包含碱溶性树脂作为热塑性树脂。作为碱溶性树脂，例如可以举出丙烯酸树脂、聚苯乙烯树脂、苯乙烯-丙烯酸共聚物、聚氨酯树脂、聚乙烯醇、聚乙烯醇缩甲醛、聚酰胺树脂、聚酯树脂、环氧树脂、聚缩醛树脂、聚羟基苯乙烯树脂、聚酰亚胺树脂、聚苯并噁唑树脂、聚硅氧烷树脂、聚乙烯亚胺、聚烯丙基胺及聚亚烷基二醇。
作为碱溶性树脂，从显影性及与相邻的层的密合性的观点出发，优选为丙烯酸树脂。其中，丙烯酸树脂是指，具有选自源自(甲基)丙烯酸的结构单元、源自(甲基)丙烯酸酯的结构单元、及源自(甲基)丙烯酸酰胺的结构单元中的至少一种结构单元的树脂。作为丙烯酸树脂，源自(甲基)丙烯酸的结构单元、源自(甲基)丙烯酸酯的结构单元及源自(甲基)丙烯酸酰胺的结构单元的合计含量相对于丙烯酸树脂的总质量，优选为50质量％以上。其中，源自(甲基)丙烯酸的结构单元及源自(甲基)丙烯酸酯的结构单元的合计含量相对于丙烯酸树脂的总质量优选为30～100质量％，更优选为50～100质量％。
并且，碱溶性树脂优选为具有酸基的聚合物。作为酸基，可以举出羧基、磺基、磷酸基及膦酸基，优选为羧基。从显影性的观点出发，碱溶性树脂更优选为酸值60mgKOH/g以上的碱溶性树脂，进一步优选为酸值60mgKOH/g以上的含有羧基的丙烯酸树脂。碱溶性树脂的酸值的上限并无特别限制，优选为200mgKOH/g以下，更优选为150mgKOH/g以下。
作为酸值60mgKOH/g以上的含有羧基的丙烯酸树脂，并无特别限制，能够从公知的树脂中适当选择使用。例如，可以举出日本特开2011-095716号公报的0025段中所记载的聚合物之中作为酸值为60mgKOH/g以上的含有羧基的丙烯酸树脂的碱溶性树脂、日本特开2010-237589号公报的0033～0052段中所记载的聚合物之中酸值60mgKOH/g以上的含有羧基的丙烯酸树脂及日本特开2016-224162号公报的0053～0068段中所记载的碱溶性树脂之中酸值为60mgKOH/g以上的含有羧基的丙烯酸树脂。上述含有羧基的丙烯酸树脂中的具有羧基的结构单元的共聚比相对于丙烯酸树脂的总质量，优选为5～50质量％，更优选为10～40质量％，进一步优选为12～30质量％。作为碱溶性树脂，从显影性及与相邻的层的密合性的观点出发，尤其优选为具有源自(甲基)丙烯酸的结构单元的丙烯酸树脂。
碱溶性树脂可以具有反应性基团。作为反应性基团，只要为能够聚合的基团，例如能够加聚、缩聚或聚加成的基团即可，可以举出烯属不饱和基团；羟基及羧基等缩聚性基团；环氧基、(封端)异氰酸酯基等聚加成反应性基团。
碱溶性树脂的重均分子量(Mw)优选为1，000以上，更优选为1万～10万，进一步优选为2万～5万。
热塑性树脂层可以单独包含一种碱溶性树脂，也可以包含两种以上碱溶性树脂。
从显影性及与相邻的层的密合性的观点出发，相对于热塑性树脂层的总质量，碱溶性树脂的含量优选为10～99质量％，更优选为20～90质量％，进一步优选为40～80质量％，尤其优选为50～70质量％。
(热塑性树脂层的成分：色素)
热塑性树脂层优选包含显色时的波长范围400～780nm中的极大吸收波长为450nm以上且极大吸收波长通过酸、碱或自由基而发生变化的色素(也简称为“色素B”。)。关于色素B的优选方式，除了后述点以外，与色素N的优选方式也相同。
从曝光部及非曝光部的可见性以及分辨性的观点考虑，作为色素B优选为极大吸收波长通过酸或自由基而发生变化的色素，更优选为极大吸收波长通过酸而发生变化的色素。从曝光部及非曝光部的可见性以及分辨性的观点出发，热塑性树脂层优选包含作为色素B的极大吸收波长通过酸而发生变化的色素及后述的通过光而产生酸的化合物这两个。
色素B可以单独使用一种，也可以使用两种以上。
从曝光部及非曝光部的可见性的观点出发，相对于热塑性树脂层的总质量，色素B的含量优选为0.2质量％以上，更优选为0.2～6质量％，进一步优选为0.2～5质量％，尤其优选为0.25～3.0质量％。
在此，色素B的含量是指，使热塑性树脂层中所包含的所有色素B处于显色状态时的色素的含量。以下以通过自由基而显色的色素为例，对色素B的含量的定量方法进行说明。制备在甲基乙基酮100mL中溶解有色素0.001g或0.01g的两种溶液。向所得到的各溶液中加入光自由基聚合引发剂Irgacure OXE01(产品名称，BASF公司制造)，并照射365nm的光，由此产生自由基而使所有色素成为显色状态。然后，在大气环境下，使用分光光度计(UV3100，Shimadzu Corporation制造)测定液温为25℃的各溶液的吸光度，并制作校准曲线。接着，代替色素将0.1g热塑性树脂层溶解于甲基乙基酮中，除此以外，以与上述相同的方法测定使所有色素显色的溶液的吸光度。根据校准曲线，由所获得的包含热塑性树脂层的溶液的吸光度计算出热塑性树脂层中所包含的色素的量。
(热塑性树脂层的成分：通过光产生酸、碱或自由基的化合物)
热塑性树脂层可以包含通过光而产生酸、碱或自由基的化合物(也简称为“化合物C”。)。作为化合物C优选为受到紫外线及可见光线等活化光线而产生酸、碱或自由基的化合物。作为化合物C，能够使用公知的光产酸剂、光产碱剂及光自由基聚合引发剂(光自由基产生剂)。其中，优选为光产酸剂。
从分辨性的观点出发，热塑性树脂层优选包含光产酸剂。作为光产酸剂，可以举出上述感光性组合物层可以包含的光阳离子聚合引发剂，除了后述的点以外，优选方式也相同。
作为光产酸剂，从灵敏度及分辨性的观点出发，优选包含选自鎓盐化合物及肟磺酸酯化合物中的至少一种化合物，从灵敏度、分辨性及密合性的观点出发，更优选包含肟磺酸酯化合物。并且，作为光产酸剂，还优选为具有以下结构的光产酸剂。
[化学式25]
Figure BDA0003962334070000591
热塑性树脂层可以包含光自由基聚合引发剂(光自由基聚合引发剂)。作为光自由基聚合引发剂，可以举出上述感光性组合物层可以包含的光自由基聚合引发剂，优选方式也相同。
热塑性树脂层可以包含光产碱剂。作为光产碱剂，只要为公知的光产碱剂，则不受特别限制，例如可以举出2-硝基苄基环己基氨甲酸酯、三苯基甲醇、O-氨甲酰基羟基酰胺、O-氨甲酰基肟、{[(2，6-二硝基苄基)氧基]羰基}环己基胺、双{[(2-硝基苄基)氧基]羰基}己烷-1，6-二胺、4-(甲硫基苯甲酰基)-1-甲基-1-吗啉基乙烷、(4-吗啉基苯甲酰基)-1-苄基-1-二甲基氨基丙烷、N-(2-硝基苄氧基羰基)吡咯烷、六氨合钴(III)三(三苯基甲基硼酸盐)、2-苄基-2-二甲基氨基-1-(4-吗啉基苯基)丁酮、2，6-二甲基-3，5-二乙酰基-4-(2-硝基苯基)-1，4-二氢吡啶及2，6-二甲基-3，5-二乙酰基-4-(2，4-二硝基苯基)-1，4-二氢吡啶。
热塑性树脂层可以单独包含一种化合物C，也可以包含两种以上化合物C。
从曝光部及非曝光部的可见性以及分辨率的观点出发，相对于热塑性树脂层的总质量，化合物C的含量优选为0.1～10质量％，更优选为0.5～5质量％。
(热塑性树脂层的成分：增塑剂)
从分辨性、与相邻的层的密合性及显影性的观点出发，热塑性树脂层优选包含增塑剂。
增塑剂的分子量优选为小于碱溶性树脂的分子量(低聚物或聚合物时为重均分子量(Mw))。增塑剂的分子量(重均分子量(Mw))优选为200～2，000。
增塑剂只要为与碱溶性树脂相容而显现可塑性的化合物，则不受限制，但从赋予可塑性的观点出发，增塑剂优选在分子中具有亚烷氧基，更优选为聚亚烷基二醇化合物。增塑剂中所包含的亚烷基氧基更优选具有聚乙烯氧基结构或聚丙烯氧基结构。
并且，从分辨性及保存稳定性的观点出发，增塑剂优选包含(甲基)丙烯酸酯化合物。从相容性、分辨性及与相邻的层的密合性的观点出发，更优选为碱溶性树脂为丙烯酸树脂且增塑剂包含(甲基)丙烯酸酯化合物。作为用作增塑剂的(甲基)丙烯酸酯化合物，可以举出作为上述感光性组合物层中所含有的烯属不饱和化合物而记载的(甲基)丙烯酸酯化合物。
在转印膜中，当热塑性树脂层与感光性组合物层直接接触而层叠时，优选为热塑性树脂层及感光性组合物层均包含相同的(甲基)丙烯酸酯化合物。这是因为，通过热塑性树脂层及感光性组合物层分别包含相同的(甲基)丙烯酸酯化合物，层间的成分扩散得到抑制，保存稳定性提高。
当热塑性树脂层包含(甲基)丙烯酸酯化合物作为增塑剂时，从与相邻的层的密合性的观点出发，优选为(甲基)丙烯酸酯化合物在曝光后的曝光部也不聚合。
并且，从分辨性、与相邻层的密合性及显影性的观点出发，作为用作增塑剂的(甲基)丙烯酸酯化合物，优选为在一个分子中具有2个以上的(甲基)丙烯酰基的多官能(甲基)丙烯酸酯化合物。
进而，作为用作增塑剂的(甲基)丙烯酸酯化合物，还优选为具有酸基的(甲基)丙烯酸酯化合物或氨基甲酸酯(甲基)丙烯酸酯化合物。
热塑性树脂层可以单独包含一种增塑剂，也可以包含两种以上。
从分辨率、与相邻的层的密合性及显影性的观点出发，相对于热塑性树脂层的总质量，增塑剂的含量优选为1～70质量％，更优选为10～60质量％，进一步优选为20～50质量％。
(热塑性树脂层的成分：表面活性剂)
从厚度均匀性的观点出发，热塑性树脂层优选包含表面活性剂。作为表面活性剂，可以举出上述感光性组合物层可以包含的表面活性剂，优选方式也相同。
热塑性树脂层可以单独包含一种表面活性剂，也可以包含两种以上。
相对于热塑性树脂层的总质量，表面活性剂的含量优选为0.001～10质量％，更优选为0.01～3质量％。
(热塑性树脂层的成分：敏化剂)
热塑性树脂层可以包含敏化剂。作为敏化剂，并不受特别限制，可以举出上述感光性组合物层可以包含的敏化剂。
热塑性树脂层可以单独包含一种敏化剂，也可以包含两种以上。
敏化剂的含量能够根据目的适当选择，但从提高对光源的灵敏度、以及曝光部及非曝光部的可见性的观点出发，相对于热塑性树脂层的总质量优选为0.01～5质量％的范围，更优选为0.05～1质量％的范围。
(热塑性树脂层的成分：添加剂等)
热塑性树脂层除了上述成分以外，根据需要可以包含公知的添加剂。并且，关于热塑性树脂层，记载于日本特开2014-085643号公报的0189～0193段，该公报中所记载的内容被编入到本说明书中。
(热塑性树脂层的物性等)
热塑性树脂层的层厚并无特别限制，但从与相邻的层的密合性的观点出发，优选为1μm以上，更优选为2μm以上。上限并无特别限制，但从显影性及分辨率的观点出发，优选为20μm以下，更优选为10μm以下，进一步优选为5μm以下。
(热塑性树脂层的形成方法)
热塑性树脂层的形成方法只要是能够形成包含上述成分的层的方法，则并无特别限制。作为热塑性树脂层的形成方法，例如可以举出如下方法：通过制备包含上述的成分和溶剂的热塑性树脂组合物，并将热塑性树脂组合物涂布于临时支承体等的表面，并且对热塑性树脂组合物的涂膜进行干燥来形成。
为了调节热塑性树脂组合物的粘度而使得容易形成热塑性树脂层，热塑性树脂组合物优选为包含溶剂。
作为热塑性树脂组合物中所包含的溶剂，只要能够溶解或分散热塑性树脂层中所包含的上述成分，则不受特别限制。
作为热塑性树脂组合物中所包含的溶剂，可举出上述感光性组合物可以包含的溶剂，优选方式也相同。
热塑性树脂组合物中所包含的溶剂可以单独包含一种，也可以包含两种以上。
相对于热塑性树脂组合物中的总固体成分100质量份，涂布热塑性树脂组合物时的溶剂的含量优选为50～1,900质量份，更优选为100～900质量份。
热塑性树脂组合物的制备及热塑性树脂层的形成只要按照上述感光性组合物的制备方法及感光性组合物层的形成方法进行即可。
例如，预先制备使热塑性树脂层中所包含的各成分溶解于上述溶剂而成的溶液，以规定的比例混合所获得的溶液，由此制备了热塑性树脂组合物之后，将所获得的热塑性树脂组合物涂布于临时支承体的表面，使热塑性树脂组合物的涂膜干燥，由此形成热塑性树脂层。
并且，在后述的保护膜上形成感光性组合物层及中间层之后，可以在中间层的表面形成热塑性树脂层。
(转印层的结构要素：水溶性树脂层)
水溶性树脂层优选包含水溶性树脂。作为水溶性树脂，例如可以举出聚乙烯醇类树脂、聚乙烯吡咯烷酮类树脂、纤维素类树脂、丙烯酰胺类树脂、聚环氧乙烷类树脂、明胶、乙烯醚类树脂、聚酰胺树脂及它们的共聚物等树脂。从抑制多个层间的成分的混合的观点出发，水溶性树脂层中所包含的树脂优选为与感光性组合物层中所包含的聚合物A、及热塑性树脂层中所包含的热塑性树脂(例如，碱溶性树脂)均不同的树脂。
从阻氧性以及抑制涂布多层时及涂布后保存时的成分的混合的观点出发，水溶性树脂层优选包含聚乙烯醇，更优选包含聚乙烯醇及聚乙烯吡咯烷酮这两者。
水溶性树脂层可以单独包含一种水溶性树脂，也可以包含两种以上。
水溶性树脂层中的水溶性树脂的含量并不受特别限制，从阻氧性以及抑制涂布多个层时及涂布后的保存时的成分的混合的观点出发，相对于水溶性树脂层的总质量优选为50～100质量％，更优选为70～100质量％，进一步优选为80～100质量％，尤其优选为90～100质量％。
并且，水溶性树脂层根据需要可以包含表面活性剂等添加剂。
水溶性树脂层的层厚并不受特别限制，优选为0.1～5μm，更优选为0.5～3μm。
若水溶性树脂层的厚度在上述范围内，则不会使阻氧性下降而能够抑制涂布多层时及涂布后保存时的成分的混合，并且能够抑制显影时的水溶性树脂层的去除时间增加。
水溶性树脂层的形成方法并无特别限制，例如可举出制备包含上述树脂及任意的添加剂的水溶性树脂组合物，涂布于热塑性树脂层或感光性组合物层的表面，并对水溶性树脂组合物的涂膜进行干燥，由此形成水溶性树脂层的方法。为了调节水溶性树脂组合物的粘度而使得容易形成水溶性树脂层，水溶性树脂组合物优选包含溶剂。
作为水溶性树脂组合物中所包含的溶剂，只要能够溶解或分散上述树脂，则不受特别限制，优选为选自水及水混合性有机溶剂中的至少一种，更优选为水或水与水混合性有机溶剂的混合溶剂。
作为水混合性有机溶剂，例如可以举出碳原子数1～3的醇、丙酮、乙二醇及甘油，优选为碳原子数1～3的醇，更优选为甲醇或乙醇。
<转印膜的制造方法>
本发明的转印膜的制造方法并无特别限制，能够使用公知的方法。
其中，从生产性优异的观点出发，优选为将感光性组合物涂布于临时支承体上，根据需要实施干燥处理而形成感光性组合物层，将保护膜层叠在所获得的感光性组合物层上的方法(以下，将该方法称为“涂布方法”。)。
在涂布方法中所使用的感光性组合物优选包含构成上述感光性组合物层的成分(例如，粘合剂聚合物、聚合性化合物及聚合引发剂等)及溶剂。
作为溶剂，优选为有机溶剂。作为有机溶剂，例如可举出甲基乙基酮、丙二醇单甲醚、丙二醇单甲醚乙酸酯(别名：1-甲氧基-2-丙基乙酸酯)、二乙二醇乙基甲基醚、环己酮、甲基异丁基酮、乳酸乙酯、乳酸甲酯、己内酰胺、正丙醇及2-丙醇。
并且，作为溶剂，根据需要也能够使用沸点为180～250℃的有机溶剂(高沸点溶剂)。
溶剂可以单独使用一种，也可以同时使用两种以上。
在感光性组合物包含溶剂的情况下，感光性组合物的总固体成分量相对于感光性组合物的总质量，优选为5～80质量％，更优选为5～40质量％，进一步优选为5～30质量％。
另外，固体成分是指，构成除溶剂以外的感光性组合物层的成分。另外，构成上述感光性组合物层的成分的性状可以为液状，作为固体成分计算。
在感光性组合物包含溶剂的情况下，例如从涂布性的观点出发，感光性组合物在25℃下的粘度优选为1～50mPa·s，更优选为2～40mPa·s，进一步优选为3～30mPa·s。粘度是通过使用粘度计来进行测定。作为粘度计，能够优选使用例如TOKI SANGYO CO.，LTD.制的粘度计(产品名称：VISCOMETER TV-22)。但是，粘度计不限于上述粘度计。
在感光性组合物包含溶剂的情况下，例如从涂布性的观点出发，感光性组合物在25℃下的表面张力优选为5～100mN/m，更优选为10～80mN/m，进一步优选为15～40mN/m。表面张力是通过使用表面张力计来进行测定。作为表面张力计，能够优选使用例如KyowaInterface Science Co.，Ltd.制的表面张力计(产品名称：Automatic SurfaceTensiometer CBVP-Z)。但是，表面张力计不限于上述表面张力计。
作为感光性组合物的涂布方法，可举出例如印刷法、喷涂法、辊涂法、棒涂法、帘涂法、旋涂法及模涂法(即，狭缝涂布法)。
作为干燥方法，例如可举出自然干燥、加热干燥及减压干燥。能够单独使用上述方法或组合使用多个上述方法。
在本发明中，“干燥”是指去除组合物中所含有的溶剂的至少一部分。
并且，通过将保护膜贴合于感光性组合物层，能够制造转印膜。
将保护膜贴合于感光性组合物层的方法并无特别限制，可以举出公知的方法。
作为将保护膜贴合于感光性组合物层的装置，可以举出真空层压机及自动切割层压机等公知的层压机。
层压机具备橡胶辊等任意的可加热的辊，优选为能够进行加压及加热的辊。
并且，在转印膜在感光性组合物层上具有折射率调整层的情况下，例如，将折射率调整层形成用组合物涂布于感光性组合物层上，且根据需要使其干燥，由此能够形成折射率调整层。
<用途>
本发明的转印膜能够适用于各种用途中。
例如，能够适用于电极保护膜、绝缘膜、平坦化膜、外涂膜、硬涂膜、钝化膜、隔壁、间隔物、微透镜、滤光器、防反射膜、蚀刻抗蚀剂及电镀部件等。作为更具体的例，可举出触摸面板电极的保护膜或绝缘膜、印刷线路板的保护膜或绝缘膜、TFT基板的保护膜或绝缘膜、滤色器、滤色器用外涂膜、用于布线形成的蚀刻抗蚀剂及电镀时的牺牲层等。
另外，从抑制在后述的贴合工序中产生气泡的观点出发，转印膜的波纹的最大宽度优选为300μm以下，更优选为200μm以下，进一步优选为60μm以下。另外，作为波纹的最大宽度的下限值，为0μm以上，优选为0.1μm以上，更优选为1μm以上。
转印膜波纹的最大宽度为通过以下步骤测定的值。
首先，将转印膜沿着与主面垂直的方向剪裁为长20cm×宽20cm的尺寸而制作出试验样品。接着，在表面平滑且水平的工作台上，将上述试验样品以临时支承体的表面与工作台对置的方式静置。静置后，对试验样品的中心10cm见方的范围，用激光显微镜(例如，KEYENCE CORPORATION制造的VK-9700SP)扫描试验样品的表面而得到三维表面图像，从在所得到的三维表面图像中观察到的最大凸面高度减去最低凹面高度。对10个试验样品进行上述操作，将其算术平均值作为“转印膜的波纹最大宽度”。
<层叠体的制造方法>
通过使用上述转印膜，能够将感光性组合物层转印到被转印体。
其中，本发明的转印膜优选用于触摸面板的制造中。
其中，本发明的层叠体的制造方法包括：贴合工序，将保护膜从转印膜剥离而露出的表面与具有导电层的基板接触而贴合，从而获得依次具有基板、导电层、感光性组合物层及临时支承体的带感光性组合物层的基板；
曝光工序，对感光性组合物层进行图案曝光；及
显影工序，对经曝光的感光性组合物层进行显影而形成图案，
此外，优选为包括在所述剥离工序为在贴合工序与曝光工序之间，或者在曝光工序与显影工序之间，进行从带感光性组合物层的基板剥离临时支承体的剥离工序的层叠体的制造方法(以下也称为“制造方法A”)。
以下，对上述工序的步骤进行详细叙述。
[贴合工序]
贴合工序为保护膜从转印膜剥离而露出的表面与具有导电层的基板接触而贴合，从而获得依次具有基板、导电层、感光性组合物层及临时支承体的带感光性组合物层的基板的工序。
在作为转印膜使用第1实施方式的转印膜的情况下，保护膜被剥离之后，使临时支承体上的经曝光后的感光性组合物层与具有导电层的基板接触而贴合。通过该贴合，在具有导电层的基板上配置感光性组合物层及临时支承体。
另外，在作为转印膜使用第2实施方式的转印膜的情况下，保护膜被剥离之后，使曝光后的折射率调整层与具有导电层的基板接触而贴合。通过该贴合，在具有导电层的基板上配置有折射率调整层、感光性组合物层及临时支承体。
即，从转印膜剥离保护膜，使所获得的层叠体的与临时支承体侧相反的一侧的表面接触于具有导电层的基板而贴合。即使在使用第1实施方式的转印膜及第2实施方式的转印膜中的任一种的情况下，通过贴合而获得的层叠体至少在具有导电层的基板上具有感光性组合物层及临时支承体。
在上述贴合中，以上述导电层与上述感光性组合物层的表面接触的方式进行压接。若为上述方式，则能够将曝光及显影后获得的图案优选为用作对导电层进行蚀刻时的蚀刻抗蚀剂。
作为上述压接的方法并无特别限制，能够使用公知的转印方法及层压方法。其中，优选将感光性组合物层的表面重叠于具有导电层的基板上，通过基于辊等的加压及加热来进行。
贴合时，能够使用真空层压机及自动切割层压机等公知的层压机。
具有导电层的基板在基板上具有导电层，并且可以根据需要形成任意的层。即，具有导电层的基板为至少具有基板及配置于基板上的导电层的导电性基板。
作为基板，例如可举出树脂基板、玻璃基板及半导体基板。
作为基板的优选方式，例如在国际公开第2018/155193号的[0140]段中有记载，该内容被编入本说明书中。
作为导电层，从导电性及细线形成性的观点出发，优选为选自金属层、导电性金属氧化物层、石墨烯层、碳纳米管层及导电聚合物层中的至少一种层。
并且，在基板上可以仅配置1层导电层，也可以配置2层以上。在配置2层以上的导电层的情况下，优选具有不同材质的导电层。
作为导电层的优选方式，例如国际公开第2018/155193号的[0141]段中有记载，该内容被编入本说明书中。
作为具有导电层的基板，优选为具有透明电极及迂回布线的至少一个的基板。如上所述的基板能够优选用作触摸面板用基板。
透明电极能够优选作为触摸面板用电极发挥作用。透明电极优选由ITO(氧化铟锡)及IZO(氧化铟锌)等金属氧化膜以及金属网及银纳米线等金属细线构成。
作为金属细线可举出银、铜等细线。其中，优选为银网、银纳米线等银导电性材料。
作为迂回配线的材质，优选为金属。
作为迂回配线的材质的金属，可举出金、银、铜、钼、铝、钛、铬、锌及锰以及包含这些金属元素中的两种以上的合金。作为迂回配线的材质，优选为铜、钼、铝或钛，尤其优选为铜。
本发明的转印膜中的使用感光性组合物层所形成的触摸面板用电极保护膜以保护电极等(即、触摸面板用电极及触摸面板用布线的至少一个)目的，优选设置成直接或经由其他层覆盖电极等。
[曝光工序]
曝光工序为对感光性组合物层进行图案曝光的工序。
另外，在此，“图案曝光”是指以图案状曝光的方式、即存在曝光部和非曝光部的方式的曝光。
图案曝光中的曝光区域与未曝光区域的位置关系并无特别限制，可适当调整。
作为图案曝光的光源，只要至少能够照射能够使感光性组合物层固化的波长区域的光(例如为365nm或405nm)，则能够适当选择使用。其中，图案曝光的曝光光的主波长优选为365nm。另外，主波长为强度最高的波长。
作为光源，例如可举出各种激光、发光二极管(LED)、超高压汞灯、高压汞灯及金属卤化物灯。
曝光量优选为5～200mJ/cm2，更优选为10～200mJ/cm2。
作为用于曝光的光源、曝光量及曝光方法的优选方式，例如在国际公开第2018/155193号的[0146]～[0147]段中有记载，这些内容被编入于本说明书中。
[剥离工序]
剥离工序为在贴合工序与曝光工序之间或曝光工序与后述的显影工序之间，进行从带感光性组合物层的基板剥离临时支承体的工序。
剥离方法并无特别限制，能够使用与日本特开2010-072589号公报的[0161]～[0162]段中所记载的覆盖膜剥离机构相同的机构。
[显影工序]
显影工序为对经曝光的感光性组合物层进行显影而形成图案的工序。
上述感光性组合物层的显影能够使用显影液来进行。
作为显影液，优选为碱性水溶液。作为可包含于碱性水溶液中的碱性化合物，例如可举出氢氧化钠、氢氧化钾、碳酸钠、炭酸钾、碳酸氢钠、碳酸氢钾、四甲基氢氧化铵、四乙基氢氧化铵、四丙基氢氧化铵、四丁基氢氧化铵及胆碱(2-羟乙基三甲基氢氧化铵)。
作为显影的方式，例如可举出旋覆浸没显影、喷淋显影、旋转显影及浸渍显影等方式。
作为在本发明中优选为使用的显影液，例如可举出国际公开第2015/093271号的[0194]段中所记载的显影液，作为优选为使用的显影方式，例如可举出国际公开第2015/093271号的[0195]段中所记载的显影方式。
[后曝光工序及后烘烤工序]
上述层叠体的制造方法可以具有对通过上述显影工序获得的图案进行曝光的工序(后曝光工序)及/或进行加热的工序(后烘烤工序)。
在包括后曝光工序及后烘烤工序这两者的情况下，优选在后曝光之后实施后烘烤。
[蚀刻工序]
上述层叠体的制造方法可以包括对处于在所获得的层叠体中未配置图案的区域的导电层进行蚀刻处理的蚀刻工序。
在上述蚀刻工序中，将通过上述显影工序由上述感光性组合物层形成的图案用作蚀刻抗蚀剂，并进行上述导电层的蚀刻处理。
作为蚀刻处理的方法，能够适用日本特开2017-120435号公报的[0209]～[0210]段中所记载的方法、日本特开2010-152155号公报的[0048]～[0054]段等中所记载的方法、基于公知的等离子体蚀刻等干式蚀刻的方法等、公知的方法。
[去除工序]
上述层叠体的制造方法可以包括去除图案的去除工序。
去除工序能够根据需要来进行，但是优选在蚀刻工序之后进行。
作为去除图案的方法并无特别限制，但可举出通过药品处理去除的方法，优选为使用去除液。
作为图案的去除方法，可举出在优选为30～80℃、更优选为50～80℃下进行搅拌的去除液中浸渍具有图案的层叠体1～30分钟的方法。
作为去除液，例如可举出将氢氧化钠、氢氧化钾等无机碱成分或伯胺化合物、仲胺化合物、叔胺化合物、季铵盐化合物等有机碱成分溶解于水、二甲基亚砜、N-甲基吡咯烷酮或这些的混合溶液的去除液。
并且，可以使用去除液，通过喷涂法、喷淋法及旋覆浸没法等去除。
[其他工序]
本发明的层叠体的制造方法可以包括除上述以外的任意工序(其他工序)。
例如，可举出在国际公开第2019/022089号的[0172]段中所记载的降低可见光线反射率的工序、在国际公开第2019/022089号的[0172]段中所记载的在绝缘膜上形成新的导电层的工序等，但是并不限于这些工序。
通过本发明的层叠体的制造方法制造的层叠体能够适用于各种装置。作为具备上述层叠体的装置，例如可举出输入装置等，优选为触摸面板，更优选为电容型触摸面板。并且，上述输入装置能够适用于有机电致发光显示装置、液晶显示装置等显示装置。
在层叠体适用于触摸面板的情况下，由感光性组合物层形成的图案优选用作触摸面板用电极的保护膜。即，转印膜中所包含的感光性组合物层优选用于形成触摸面板用电极保护膜。
实施例
以下列举实施例对本发明进行进一步具体说明。以下实施例中所示的材料、使用量、比例、处理内容、处理步骤等只要不脱离本发明的主旨，则能够适当进行变更。因此，本发明的范围并不限定于以下所示的具体例。另外，只要无特别说明，则“份”及“％”为质量基准。并且，除非另有说明，聚合物中的组成比为摩尔比。
<聚合物A1的合成>
向三口烧瓶放入丙二醇单甲醚乙酸酯(SHOWA DENKO K.K.制)(100份)，在氮气气氛下升温至90℃。将添加有苯乙烯(FUJIFILM Wako Pure Chemical Corporation制)(55份)、甲基丙烯酸(FUJIFILM Wako Pure Chemical Corporation制)(15份)、甲基丙烯酸乙酯(FUJIFILM Wako Pure Chemical Corporation制)(30份)、2，2’-偶氮双(2-甲基丙酸)二甲酯(FUJIFILM Wako Pure Chemical Corporation制)(2份)及丙二醇单甲醚乙酸酯(SHOWA DENKO K.K.制)(131份)而成的溶液经2小时滴加到维持在90℃±2℃的三口烧瓶溶液中。结束滴加之后，在90℃±2℃下搅拌了2小时，由此合成了表1所示的聚合物A1(固体成分浓度30.0％)。
另外，在表1中，源自各单体的结构单元的含量以相对于聚合物的全部结构单元的质量％表示。
[表1]
Figure BDA0003962334070000711
在表1中，各记载表示以下。
St：苯乙烯(FUJIFILM Wako Pure Chemical Corporation制)
MAA：甲基丙烯酸(FUJIFILM Wako Pure Chemical Corporation制)
EtMA：甲基丙烯酸乙酯(FUJIFILM Wako Pure Chemical Corporation制)
HEMA：甲基丙烯酸羟乙酯(FUJIFILM Wako Pure Chemical Corporation制)
<聚合物A2～A5的合成>
按照表1混合各成分，并以与上述合成法相同的步骤，合成了聚合物A2～A5。
<感光性组合物1的制备>
按照表2混合各成分，制备了感光性组合物(OC-1～OC-13)。
[表2]
Figure BDA0003962334070000712
表中的各记号表示以下的化合物。
B1：A-DCP(SHIN-NAKAMURA CHEMICAL CO，LTD.制)
B2：TMPTA(OSAKA ORGANIC CHEMICAL INDUSTRY LTD.制、VISCOAT#295)
B3：NK OLIGO A-600(SHIN-NAKAMURA CHEMICAL CO，LTD.制)
C1：Irgacure-OXE-01(BASF公司制造)
W1：八甲基环四硅氧烷(Tokyo Chemical公司制)
W2：MEGAFACEF551(DIC Corporation制)
MEK：甲基乙基酮
将日本特开2016-181083号公报的实施例栏中所记载的材料B-2用作折射率调整层形成用组合物IM-1。
<实施例1>
使用狭缝状喷嘴将感光性组合物OC-1涂布于作为临时支承体的厚度16μm的聚对苯二甲酸乙二酯(PET)膜上，使其经40秒钟通过80℃的干燥区，从而形成了厚度5μm的感光性组合物层。
接着，在上述感光性组合物层上层压厚度16μm的PP膜作为保护膜，从而获得了实施例1的转印膜。
<实施例2～16、比较例1～5>
按照表3变更感光性组合物的种类以及临时支承体和保护膜的种类，除此之外，以与实施例1相同的步骤，获得了实施例2～16的转印膜及比较例1～5的转印膜。
另外，关于实施例9，将折射率调整层形成用组合物涂布于感光性组合物层上，形成折射率调整层之后，将保护膜配置在折射率调整层上获得了转印膜。
<评价>
(表面能量的极性成分的测定)
关于临时支承体的感光性组合物层侧的表面的表面能量的极性成分，分别测定临时支承体的与感光性组合物层接触的侧的表面的水及二碘甲烷的静态接触角，解上述的联立方程式，由此计算出了γh1。
关于保护膜的感光性组合物层侧或折射率调整层侧的表面的表面能量的极性成分，分别测定保护膜的与感光性组合物层或折射率调整层接触的侧的表面的水及二碘甲烷的静态接触角，解上述联立方程式，由此计算出了γh4或γh8。
关于作为感光性组合物层的临时支承体侧的表面的表面能量的极性成分的γh2，首先准备了层叠体，所述层叠体包括：临时支承体；及感光性组合物层，与临时支承体的表面接触而配置。接着，通过粘合胶带将感光性组合物层从该层叠体强制剥离，分别测定曝光后的感光性组合物层的表面(位于临时支承体侧的表面)的水及二碘甲烷的静态接触角，解上述的联立方程式，由此计算出了γh2。
并且，关于作为感光性组合物层的保护膜侧的表面的表面能量的极性成分的γh3，首先准备了转印膜，所述转印膜具有：临时支承体；感光性组合物层，与临时支承体的表面接触而配置；及保护膜，与感光性组合物层的与临时支承体侧相反的一侧的表面接触而配置。接着，将保护膜从该转印膜剥离，分别测定曝光后的感光性组合物层的表面(位于保护膜侧的表面)的水及二碘甲烷的静态接触角，解上述的联立方程式，由此计算出了γh3。
并且，关于作为折射率调整层的保护膜侧的表面的表面能量的极性成分的γh7，首先准备了转印膜，所述转印膜具有：临时支承体；感光性组合物层，与临时支承体的表面接触而配置；折射率调整层，与感光性组合物层的与临时支承体侧相反的一侧的表面接触而配置；及保护膜，与折射率调整层的与感光性组合物层侧相反的一侧的表面接触而配置。接着，将保护膜从该转印膜剥离，分别测定曝光后的折射率调整层的表面(位于保护膜侧的表面)的水及二碘甲烷的静态接触角，解上述的联立方程式，由此计算出了γh7。
并且，关于作为感光性组合物层的折射率调整层侧的表面的表面能量的极性成分的γh5及作为折射率调整层的感光性组合物层侧的表面的表面能量的极性成分的γh6，首先准备了转印膜，所述转印膜具有：临时支承体；感光性组合物层，与临时支承体的表面接触而配置；折射率调整层，与感光性组合物层的与临时支承体侧相反的一侧的表面接触而配置；及保护膜，与折射率调整层的与感光性组合物层侧相反的一侧的表面接触而配置。接着，从该转印膜剥离了临时支承体及保护膜。然后，将粘合胶带贴合于感光性组合物层的与折射率调整层侧相反的一侧的表面，进一步将粘合胶带贴合于折射率调整层的与感光性组合物层侧相反的一侧的表面，并强制剥离了两者，以使感光性组合物层与折射率调整层之间产生剥离。分别测定曝光后的感光性组合物层的表面(位于折射率调整层侧的表面)的水及二碘甲烷的静态接触角，解上述联立方程式，由此计算出了γh5。并且，分别测定曝光后的折射率调整层的表面(位于感光性组合物层侧的表面)的水及二碘甲烷的静态接触角，解上述联立方程式，由此计算出了γh6。
(评价保护膜剥离)
按照上述步骤，准备了宽500mm的转印膜的辊。从该转印膜的辊切出了1000片9.7英寸大小(长240mm、宽170mm)的测定样品。接着，分别使用所切出的1000片的测定样品，以剥离角度90度、剥离速度4m/min剥离了测定样品中的保护膜。在各测定样品中，肉眼观察剥离保护膜之后的保护膜及感光性组合物层，计算出了在1000片的样品中，未产生保护膜剥离不良(感光性组合物层的至少一部分与保护膜一起剥离的不良)的良品的比例((良品的数量/1000)×100)。只要为80％以上则实际上没有问题，优选为接近100％。
另外，在实施例9中，计算出不产生折射率调整层的至少一部分与保护膜一起剥离的不良的良品比例。
(评价转印)
上述保护膜剥离评价中，准备了1000片包括保护膜被良好地剥离的状态的临时支承体与感光性组合物层的膜。
接着，以使所获得的膜的感光性组合物层(或者折射率调整层)与ITO膜接触的方式，以温度100℃、速度4m/min将上述膜热层压于形成有厚度50nm的ITO膜的COP基材上。此外，以超高压汞灯为光源，将100mJ/cm2的光从临时支承体侧照射在整个表面。
然后，以剥离角度90度、剥离速度4m/min，从所获得的样品剥离了临时支承体。在各样品中，肉眼观察剥离临时支承体之后的临时支承体及感光性组合物层，计算出在1000片的样品中，未产生转印不良(感光性组合物层的至少一部分与临时支承体一起剥离的不良)的良品的比例((良品的数量/1000)×100)。只要为80％以上则实际上没有问题，优选为接近100％。
(渗漏评价)
在将从转印膜切出了10cm平方的样品放入遮光袋的状态下，在温度50℃、湿度50％的环境下保管了1周。剥离保管后的样品的保护膜，通过肉眼及触摸检查确认了在保护膜侧是否附着有感光性组合物层的素材。将未附着时设为“OK”，将存在附着时设为“NG”。
表中的各记号表示以下。
PET：聚对苯二甲酸乙二酯膜(弯曲弹性模量：30kgf/cm2)
PMMA：聚甲基丙烯酸甲酯膜(弯曲弹性模量：33kgf/cm2)
PC：聚碳酸酯膜(弯曲弹性模量：32kgf/cm2)
PP：聚丙烯膜(弯曲弹性模量：16kgf/cm2)
PE：聚乙烯膜(弯曲弹性模量：4kgf/cm2)
PS：聚苯乙烯膜(弯曲弹性模量：28kgf/cm2)
表中，“式1A)或式(3A)”栏在实施例1～8、10～16及比较例1～5中表示对应于式1A)的左边的|γh3-γh4|-|γh1-γh2|的值，在实施例9中，表示对应于式(3A)的左边的|γh5-γh6|-|γh1-γh2|的值。
“式(2A)”栏表示对应于式(2A)的左边的|γh1-γh2|的值。
“式(6)”栏表示对应于式(6)的左边的|γh3-γh4|的值。
Figure BDA0003962334070000761
如表3所示，确认到若使用本发明的转印膜，则可获得所期望的效果。
由实施例1～4的比较确认到，在满足式(2B)的情况下(优选为满足式(2C)的情况，更优选为满足式(2D)的情况)，可得到更优异的效果。
由实施例1、5～7的比较确认到，在满足式(1B)的情况下(优选为满足式(1C)的情况、更优选为满足式(1D)的情况)，可得到更优异的效果。
由实施例8与10的比较确认到，在作为表面活性剂使用硅酮系表面活性剂的情况下，可得到更优异的效果。
由实施例8与11的比较确认到，在单体具有2环以上的脂肪族烃环稠合而成的环结构的情况下，可得到更优异的效果。
由实施例8与12的比较确认到，在临时支承体的弯曲弹性模量大于保护膜的弯曲弹性模量的情况下，可得到更优异的效果。
由实施例13确认到，在满足式(6)的情况下，可得到更优异的效果。

Claims (20)

1.一种转印膜，其具有：
临时支承体；
感光性组合物层，其与所述临时支承体的表面接触而配置；及
保护膜，其与所述感光性组合物层的与所述临时支承体侧相反的一侧的表面接触而配置，
在将所述临时支承体的所述感光性组合物层侧的表面的表面能量的极性成分设为γh1、将所述感光性组合物层的所述临时支承体侧的表面的表面能量的极性成分设为γh2、将所述感光性组合物层的所述保护膜侧的表面的表面能量的极性成分设为γh3、将所述保护膜的所述感光性组合物层侧的表面的表面能量的极性成分设为γh4的情况下，满足式(1A)及式(2A)的关系：
式(1A)|γh3-γh4|-|γh1-γh2|≥2.0mJ/m2；
式(2A)|γh1-γh2|≥3.0mJ/m2。
2.根据权利要求1所述的转印膜，其满足式(1B)的关系：
式(1B)|γh3-γh4|-|γh1-γh2|≥3.0mJ/m2。
3.根据权利要求1或2所述的转印膜，其满足式(1C)的关系：
式(1C)|γh3-γh4|-|γh1-γh2|≥4.0mJ/m2。
4.根据权利要求1至3中任一项所述的转印膜，其满足式(1D)的关系：
式(1D)|γh3-γh4|-|γh1-γh2|≥5.0mJ/m2。
5.一种转印膜，其具有：
临时支承体；
感光性组合物层，其与所述临时支承体的表面接触而配置；
折射率调整层，其与所述感光性组合物层的与所述临时支承体侧相反的一侧的表面接触而配置；及
保护膜，其与所述折射率调整层的与所述感光性组合物层侧相反的一侧的表面接触而配置，
在将所述临时支承体的所述感光性组合物层侧的表面的表面能量的极性成分设为γh1、将所述感光性组合物层的所述临时支承体侧的表面的表面能量的极性成分设为γh2、将所述感光性组合物层的所述折射率调整层侧的表面的表面能量的极性成分设为γh5、将所述折射率调整层的所述感光性组合物层侧的表面的表面能量的极性成分设为γh6、将所述折射率调整层的所述保护膜侧的表面的表面能量的极性成分设为γh7、将所述保护膜的所述折射率调整层侧的表面的表面能量的极性成分设为γh8的情况下，满足式(3A)、式(2A)、式(4)、及式(5)的关系：
式(3A)|γh7-γh8|-|γh1-γh2|≥2.0mJ/m2；
式(2A)|γh1-γh2|≥3.0mJ/m2；
式(4)|γh5-γh6|＜|γh1-γh2|；
式(5)|γh5-γh6|＜|γh7-γh8|。
6.根据权利要求1至5中任一项所述的转印膜，其满足式(2B)的关系：
式(2B)|γh1-γh2|≥4.0mJ/m2。
7.根据权利要求1至6中任一项所述的转印膜，其满足式(2C)的关系：
式(2C)|γh1-γh2|≥5.0mJ/m2。
8.根据权利要求1至7中任一项所述的转印膜，其满足式(2D)的关系：
式(2D)|γh1-γh2≥6.0mJ/m2。
9.根据权利要求1至8中任一项所述的转印膜，其中，
所述感光性组合物层包含硅酮系表面活性剂。
10.根据权利要求1至9中任一项所述的转印膜，其中，
所述感光性组合物层包含粘合剂聚合物、聚合性化合物及聚合引发剂。
11.根据权利要求10所述的转印膜，其中，
所述粘合剂聚合物及所述聚合性化合物中的至少一种具有选自芳香族环结构及2环以上的脂肪族烃环稠合而成的环结构中的结构。
12.根据权利要求11所述的转印膜，其中，
所述粘合剂聚合物具有源自苯乙烯化合物的结构单元。
13.根据权利要求11所述的转印膜，其中，
所述聚合性化合物具有选自三环癸烷结构及三环癸烯结构中的结构。
14.根据权利要求1至13中任一项所述的转印膜，其中，
所述临时支承体的弯曲弹性模量大于所述保护膜的弯曲弹性模量。
15.根据权利要求1至14中任一项所述的转印膜，其中，
所述临时支承体为聚对苯二甲酸乙二酯膜。
16.根据权利要求1至4中任一项所述的转印膜，其满足式(6)的关系：
式(6)|γh3-γh4|≤14mJ/m2。
17.根据权利要求1至16中任一项所述的转印膜，其中，
所述感光性组合物层用于形成触摸面板用电极保护膜。
18.一种转印膜，其具有：
临时支承体；
转印层，其与所述临时支承体的表面接触而配置；及
保护膜，其与所述转印层的与所述临时支承体侧相反的一侧的表面接触而配置，
在将所述临时支承体的所述转印层侧的表面的表面能量的极性成分设为γx1、将所述转印层的所述临时支承体侧的表面的表面能量的极性成分设为γx2、将所述转印层的所述保护膜侧的表面的表面能量的极性成分设为γx3、将所述保护膜的所述转印层侧的表面的表面能量的极性成分设为γx4的情况下，满足式(X)及式(Y)的关系：
式(X)|γx3-γx4|-|γx1-γx2|≥2.0mJ/m2；
式(Y)|γx1-γx2|≥3.0mJ/m2。
19.一种层叠体的制造方法，其包括：
贴合工序，使从权利要求1至17中任一项所述的转印膜剥离所述保护膜而露出的表面与具有导电层的基板接触而贴合，从而获得依次具有所述基板、所述导电层、所述感光性组合物层及所述临时支承体的带感光性组合物层的基板；
曝光工序，对所述感光性组合物层进行图案曝光；及
显影工序，对经曝光的所述感光性组合物层进行显影而形成图案，
所述层叠体的制造方法在所述贴合工序与所述曝光工序之间或者在所述曝光工序与所述显影工序之间还具有从所述带感光性组合物层的基板剥离所述临时支承体的剥离工序。
20.根据权利要求19所述的层叠体的制造方法，其中，
具有所述导电层的基板为具有触摸面板用电极及触摸面板用布线中的至少一种的基板。
CN202180037910.5A 2020-05-27 2021-05-26 转印膜、层叠体的制造方法 Pending CN115698856A (zh)

Applications Claiming Priority (3)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2020-092034 2020-05-27
JP2020092034 2020-05-27
PCT/JP2021/020005 WO2021241636A1 (ja) 2020-05-27 2021-05-26 転写フィルム、積層体の製造方法

Publications (1)

Publication Number Publication Date
CN115698856A true CN115698856A (zh) 2023-02-03

Family

ID=78744630

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
CN202180037910.5A Pending CN115698856A (zh) 2020-05-27 2021-05-26 转印膜、层叠体的制造方法

Country Status (3)

Country Link
JP (1) JP7514305B2 (zh)
CN (1) CN115698856A (zh)
WO (1) WO2021241636A1 (zh)

Families Citing this family (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2024024864A1 (ja) * 2022-07-28 2024-02-01 富士フイルム株式会社 感光性転写材料及びその製造方法、樹脂パターンの製造方法、並びに、回路配線の製造方法

Family Cites Families (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH08302304A (ja) * 1995-05-15 1996-11-19 Sekisui Chem Co Ltd 耐可塑剤用両面粘着テープ
JPH093413A (ja) * 1995-06-20 1997-01-07 Sekisui Chem Co Ltd アクリル系粘着シート
JPWO2018070489A1 (ja) * 2016-10-14 2019-08-08 日立化成株式会社 感光性エレメント、半導体装置、及びレジストパターンの形成方法

Also Published As

Publication number Publication date
JP7514305B2 (ja) 2024-07-10
WO2021241636A1 (ja) 2021-12-02
JPWO2021241636A1 (zh) 2021-12-02

Similar Documents

Publication Publication Date Title
US20240369922A1 (en) Transfer film, manufacturing method of laminate, laminate, and micro led display element
WO2021199996A1 (ja) 感光性転写材料、樹脂パターンの製造方法、回路配線の製造方法、及び感光性転写材料用仮支持体
US20230106830A1 (en) Transfer film, method for producing laminate, and blocked isocyanate compound
CN115698856A (zh) 转印膜、层叠体的制造方法
US20230069709A1 (en) Touch panel sensor and manufacturing method of touch panel sensor
WO2022196537A1 (ja) 積層体及びその製造方法
JP7213981B2 (ja) 転写フィルム、積層体の製造方法およびタッチパネルの製造方法
CN115519871A (zh) 转印膜、层叠体、音响扬声器、层叠体的制造方法
CN115136073A (zh) 转印薄膜、层叠体的制造方法
CN116157741A (zh) 转印膜、层叠体的制造方法、电路配线的制造方法
TW202236009A (zh) 積層體之製造方法、電路配線基板之製造方法、轉印薄膜
CN116018262A (zh) 感光性转印材料、树脂图案的制造方法、蚀刻方法及电子器件的制造方法
US20240027897A1 (en) Laminate and manufacturing method of laminate
WO2020066405A1 (ja) 積層体、積層体の製造方法、及び静電容量型入力装置
WO2021246251A1 (ja) 転写フィルム、積層体の製造方法
WO2023100553A1 (ja) 転写フィルム、導体パターンを有する積層体及び導体パターンを有する積層体の製造方法、転写フィルムの製造方法
CN115917430A (zh) 转印膜、层叠体的制造方法
CN115516376A (zh) 转印膜、层叠体的制造方法、触摸传感器、印刷布线基板的制造方法
TW202240291A (zh) 轉印薄膜、積層體之製造方法、電路配線之製造方法
CN114830034A (zh) 转印膜、层叠体的制造方法
JP2022156251A (ja) 転写フィルム、積層体の製造方法、導体パターンを有する積層体の製造方法
CN115702386A (zh) 转印膜及层叠体的制造方法
CN115729045A (zh) 具有导体图案的层叠体的制造方法、转印膜
CN118707808A (zh) 卷绕体、树脂图案的制造方法、具有导体图案的层叠体的制造方法
CN115826352A (zh) 感光性组合物、转印膜及具有导体图案的层叠体的制造方法

Legal Events

Date Code Title Description
PB01 Publication
PB01 Publication
SE01 Entry into force of request for substantive examination
SE01 Entry into force of request for substantive examination