CN103073278A - 高精度、高可靠性ntc热敏电阻芯片的制造方法 - Google Patents
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Abstract
本发明公开了一种高精度、高可靠性NTC热敏电阻芯片的制造方法,包括以下步骤:1)按照化学式Mn3-x-y-zNixFeyCozQtO4称量对应的金属氧化物,混合球磨,煅烧成热敏陶瓷预粉体A;2)将热敏陶瓷预粉体A与纳米级热敏陶瓷预粉体B混合均匀制成混合物,并将该混合物制成浆料,其中,B在混合物中的质量百分比为5-75wt%,浆料的固含量为70-80wt%;3)将浆料压滤成型为生坯,将生坯烘干,再将生坯等静压;4)将步骤3)得到的坯体微波烧结;5)将得到的烧结块切片,上电极,在保护气体氛围下进行热处理即可。本发明制备的芯片的1%成品率有了大幅度提高,可靠性也得到了明显改善。
Description
技术领域
本发明涉及一种高精度、高可靠性NTC热敏电阻芯片的制造方法。
背景技术
负温度系数(NTC)热敏电阻是指电阻随温度升高而下降的电子陶瓷材料,广泛用于温度传感器中用来测量温度。近年来,随着科学技术的发展,对测温精度和控温精度提出了越来越高的要求。通常地,要求NTC热敏电阻芯片具有高精度和高可靠性的特点。高精度主要是指的要求热敏电阻芯片阻值和材料常数B值的精度应控制在±1%以内并且在使用过程中电阻值和材料常数B值变化很小。可靠性通常用信赖性试验中的老化特性和冷热冲击性能来描述,要求在这两种试验条件下,阻值变化率≤1%。
国内外生产实践及相关文献资料,目前生产NTC热敏电阻芯片主要有以下几种办法:
(1)采用干压成型+冷等静压相结合的方式制成压坯,烧结后切片、上电极、老练、划片制成芯片
(2)湿法成型制直接制成薄片,烧结后上电极、老练、划片并制成芯片。所用的湿法主要有:刮刀成膜法、丝网印刷法和流延法等(据专利 CN201080060023.1、CN201210072615.6、CN02135087.6)
粉体制备和成型阶段,现有技术要么采用氧化物粉末混合球磨、预烧、破碎、干压成型这一传统办法,或者通过各种水热法制成纳米粉体然后再成型的办法。传统办法需要的烧结温度较高,难以致密,从而影响阻值精度和可靠性。此外干压成型的另外一个缺点是容易出现密度不均匀,产生孔洞,从而影响和精度和性能。全部采用纳米粉体,则生产过程繁琐,生产成本高。
通常NTC热敏电阻压坯的烧结是在传统的马弗炉中进行的,采用的是热传导的方式由外向内进行梯度式加热,这种加热烧结方式首先是烧结时间较长,生产效率低下,能耗高。其次经常会引起陶瓷外层与芯部在组成和微结构上有较显著的差别,造成电阻率沿径向或纵向变化分布,导致产品合格率低。
为了提高阻值精度和可靠性,现有技术往往采用低温老练。这种老练通常在空气里面进行。老练温度低了效果不明显,温度高又容易导致银层氧化,阻值和B值发生变化。在氮气中老练,可以提高老练温度,但同时又会导致氮气和银层反应生成氮化银,影响导电性能和焊接性能。
发明内容
本发明的目的是提供一种高精度、高可靠性NTC热敏电阻芯片的制造方法。
本发明所采取的技术方案是:
高精度、高可靠性NTC热敏电阻芯片的制造方法,包括以下步骤:
1)按照化学式Mn3-x-y-zNixFeyCozQtO4称量对应的金属氧化物,混合球磨,煅烧成热敏陶瓷预粉体A;
2)将热敏陶瓷预粉体A与纳米级热敏陶瓷预粉体B混合均匀制成混合物,并将该混合物和水混合制成浆料,其中,B在混合物中的质量百分比为5-75wt%,水占混合物质量的20-30wt%;
3)将浆料压滤成型为生坯,将生坯烘干,再将生坯等静压;
4)将步骤3)得到的坯体进行微波烧结;
5)将得到的烧结块切片,上电极,在保护气体氛围下进行热处理即可;
其中,纳米级热敏陶瓷预粉体B中金属离子的摩尔比和步骤1)中的化学式中金属离子的摩尔比是相同的。
所述的纳米级热敏陶瓷预粉体B是这样制备的:按照步骤1)中的化学式中金属离子的摩尔比配成对应的金属离子硝酸盐溶液,使得各金属离子的浓度为0.5-1mol/L,调节其pH=7,超声喷雾干燥,再于400-500℃下煅烧2-6h即可。
步骤3)中,所述的将浆料压滤成型为生坯的过程中,是边加压,边将水份排除,所述的等静压条件为:静压压力100Mpa~380Mpa,保压时间为1~5min。
微波烧结的工艺为:将坯体置入微波炉中,以8-15℃/min的速率将温度从室温升温到900-1100℃,保温30-50min,再以1-3℃/min的速率降温至450-550℃即可。
步骤5)中,热处理的工艺为:在保护气氛下,将上电极后的烧结块切片从室温升温到550-850℃,升温速率为0.5-15℃/min,再保温1-24h,再以1-3℃/min的速率降温至室温即可。
所述的保护气氛为氦气、氖气、氩气、氪气、氙气、氮气中的一种。
所述的Q为Al、Cu、Zr中的一种,0≤t<1,x≥0,y≥0,z≥0,且0<x+y+z<3。
本发明的有益效果是:1、本发明采用超声喷雾干燥制取纳米粉体,通过原料混合搭配,同时配合其他工艺步骤,降低了生坯的烧结温度,使得最后得到的坯体较为致密;2、利用压滤成型的方式成型热敏电阻生坯;3、采用微波烧结技术,实现低温、快速、高效的烧结;4、采取了在保护气氛下进行的特有的热处理方式。
通过这些手段的运用,芯片的1%成品率有了大幅度提高,可靠性也得到了明显改善。
附图说明
图1是实施例1制备的纳米粉体的TEM图。
图2是实施例2制备的纳米粉体的TEM图。
图3是实施例3制备的纳米粉体的TEM图。
具体实施方式
高精度、高可靠性NTC热敏电阻芯片的制造方法,包括以下步骤:
1)按照化学式Mn3-x-y-zNixFeyCozQtO4称量对应的金属氧化物,混合球磨,煅烧成热敏陶瓷预粉体A,所得预粉体的粒径为1-5μm;
2)将热敏陶瓷预粉体A与纳米级热敏陶瓷预粉体B混合均匀制成混合粉体,并将该混合粉体和水混合均匀制成浆料,其中,B在混合粉体中的质量百分比为5-75wt%,水占混合粉体质量的20-30wt%;
3)将浆料压滤成型为生坯(生坯中的水份的质量百分比为8-10wt%),将生坯烘干(烘干后的生坯中水份的质量百分比≤0.5wt),再将生坯等静压;
4)将步骤3)得到的坯体进行微波烧结;
5)将得到的烧结块切片,上电极,在保护气体氛围下进行热处理即可;
其中,纳米级热敏陶瓷预粉体B中金属离子的摩尔比和步骤1)中的化学式中金属离子的摩尔比是相同的。
所述的纳米级热敏陶瓷预粉体B是这样制备的:按照步骤1)中的化学式中金属离子的摩尔比配成对应的金属离子硝酸盐溶液,使得各金属离子的浓度为0.5-1mol/L,用浓度为25-28wt%的氨水调节其pH=7,超声喷雾干燥,再于400-500℃下煅烧2-6h即可。
等静压的条件为:等静压压力100Mpa~380Mpa,保压时间为1~5min。
微波烧结的工艺为:将坯体置入微波炉中,以8-15℃/min的速率将温度从室温升温到900-1100℃,保温30-50min,再以1-3℃/min的速率降温至450-550℃即可。
步骤5)中,热处理的工艺为:在保护气氛下,将上电极后的烧结块切片从室温升温到550-850℃,升温速率为0.5-15℃/min,再保温1-24h,再以1-3℃/min的速率降温至室温即可。
所述的保护气氛为氦气、氩气、氮气中的一种。
所述的Q为Al、Cu、Zr中的一种,0≤t<1,x≥0,y≥0,z≥0,且0<x+y+z<3。
下面结合具体实施例对本发明做进一步的说明:
实施例1:
利用分析天平准确称量四氧化三锰405.2g,氧化镍457.04g,三氧化二铁599.30g,氧化铝39.42g,将上述混合物球磨混合20h,烘干后破碎并在950℃煅烧2h,然后再次球磨20h,得到传统的粗颗粒粉体(粉体的粒径为1-5μm)。按同样金属离子摩尔比将硝酸镍、硝酸锰、硝酸铁和硝酸铝配成0.7mol/L的水溶液,用氨水调节pH=7,在搅拌状态下进行超声喷雾干燥,在450℃煅烧4h,得到纳米粉体。称取375g此种纳米粉体加入到粗颗粒粉体中,边搅拌边加入去离子水制成泥浆,其中,水的添加量占混合粉体(即上述的纳米粉体+粗颗粒粉体)的25wt%。将泥浆在压滤成型模具中压滤成型,加压压力为10Mpa,保压2min,制成直径52mm,高16mm的圆柱,100℃烘烤1h后再放入到冷等静压机中300Mpa压制2min。然后在微波炉中以10℃/min的速度从室温升温到1050℃,保温30min,然后以2℃/min降温至500℃,然后自然冷却至室温,得到陶瓷块体;利用切片机将陶瓷体切割成厚度为0.3mm,直径52mm的圆片;在圆片上印银,800℃烧渗后再进行热处理:即将所制备得到的薄片以5℃/min的升温速度升温到800℃,并在此基础上保温24h,然后以2℃/min的速度冷却到室温,在整个热处理过程中,通入氩气作为保护性气氛;然后利用划片机切成0.8×0.8mm大小的芯片。
随机抽取60片用此种方法得到的热敏电阻芯片,测量其在25℃的阻值,与按传统方法制备的热敏电阻芯片相比,新工艺制得的芯片阻值10KΩ±1%以内的合格率95.7%,而采用传统方法±1%以内的合格率75.3%,即阻值合格率有了较大幅度的提升。将60片芯片分成2部分,焊接封装后一半在110℃烘箱中老化1000h,另一半在-30~100℃槽做冷热冲击1000次,分别测量其试验前后的阻值变化。变化率分别为0.36%和0.344%,而传统方法这一数值分别为0.92%和1.09%。由此可见,采用新工艺可以使NTC热敏电阻芯片的阻值精度和可靠性有大幅度提升。
本实施例中,用以做对比的按传统方法制备的热敏电阻芯片是这样制备的:
1)利用分析天平准确称量四氧化三锰506.4g,氧化镍571.21g,三氧化二铁749.01g,氧化铝49.27g,将上述混合物球磨混合20h,烘干后破碎并在950℃煅烧2h,然后再次球磨20h,得到粗颗粒粉体(粉体的粒径为1-5μm);
2)将上述粉体以40Kg/cm2 的压力进行压块成型,时间为10min,将成型的块体材料进行冷等静压,在压强为400MPa 下保压10min,然后于温度1250℃高温烧结3h;
3)利用切片机将烧结后的陶瓷体切割成厚度为0.3mm,直径52mm的圆片;在圆片上印银,将得到的热敏电阻圆片材料于温度110℃老化1000h。
图1是本实施例制备的纳米粉体的TEM图。
实施例2:
利用分析天平准确称量四氧化三锰385.1g,氧化镍146.48g,三氧化二铁499.30g,氧化钴500.31g,将上述混合物球磨混合20h,烘干后破碎并在850℃煅烧2h,然后再次球磨20h,得到传统的粗颗粒粉体(粉体的粒径为1-5μm)。按同样金属离子摩尔比将硝酸镍、硝酸锰、硝酸铁和硝酸钴配成0.7mol/L的水溶液,用氨水调节pH=7,在搅拌状态下进行超声喷雾干燥,在500℃煅烧4h,得到纳米粉体。称量689g此种纳米粉体加入到粗颗粒粉体中,边搅拌边加入去离子水,水的添加量占混合粉体(即上述的纳米粉体+粗颗粒粉体)中的25wt%。将泥浆在压滤成型模具中压滤成型,加压压力为10Mpa,保压2min,制成φ52mm,高16mm的圆柱,100℃烘烤1h后再放入到冷等静压机中250Mpa压制2min。然后在微波炉中以10℃/min的速度从室温升温到1000℃,保温30min,然后以2℃/min降温至500℃,然后自然冷却至室温,得到陶瓷块体;利用切片机将陶瓷体切割成直径52mm,厚度为0.4mm的圆片;在圆片上印银,800℃烧渗后再进行热处理:即将所制备得到的薄片以5℃/min的升温速度升温到750℃,并在此基础上保温20h,然后以2℃/min的速度冷却到室温,在整个热处理过程中,通入氩气作为保护性气氛;然后利用划片机切成0.7×0.7mm大小的芯片。
随机抽取60片用此种方法得到的热敏电阻芯片,测量其在25℃的阻值,与按传统方法制备的热敏电阻芯片相比,新工艺制得的芯片阻值10KΩ±1%以内的合格率85.9%,而采用传统方法±1%以内的合格率55.1%,即阻值合格率有了较大幅度的提升。将60片芯片分成2部分,焊接封装后一半在150℃烘箱中老化100h,另一半在-30~100℃槽做冷热冲击1000次,分别测量其试验前后的阻值变化。变化率分别为0.56%和0.42%,而传统方法这一数值分别为0.86%和1.36%。由此可见,采用新工艺可以使热敏电阻芯片的阻值精度和可靠性有大幅度提升。
本实施例中,用以做对比的按传统方法制备的热敏电阻芯片是这样制备的:
1)利用分析天平准确称量四氧化三锰558.40g,氧化镍212.40g,三氧化二铁723.98g,氧化钴725.44g,将上述混合物球磨混合20h,烘干后破碎并在850℃煅烧2h,然后再次球磨20h,得到粗颗粒粉体(粉体的粒径为1-5μm);
2)将上述粉体以40Kg/cm2 的压力进行压块成型,时间为10min,将成型的块体材料进行冷等静压,在压强为400MPa 下保压10min,然后于温度1250℃高温烧结3h;
3)利用切片机将烧结后的陶瓷体切割成厚度为0.4mm,直径52mm的圆片;在圆片上印银,将得到的热敏电阻圆片材料于温度110℃老化1000h。
图2是本实施例制备的纳米粉体的TEM图。
实施例3:
利用分析天平准确称量四氧化三锰420.2g,氧化钴487.04g,三氧化二铁499.30g,氧化铝40.40g,将上述混合物球磨混合20h,烘干后破碎并在1000℃煅烧2h,然后再次球磨20h,得到传统的粗颗粒的粉体(粉体的粒径为1-5μm)。按同样金属离子摩尔比将硝酸钴、硝酸锰、硝酸铁和硝酸铝配成0.7mol/L的水溶液,用氨水调节pH=7,在搅拌状态下进行超声喷雾干燥,在500℃煅烧4h,得到纳米复合的粉体。称量506.2g此种纳米粉体加入到粗颗粒粉体中,边搅拌边加入去离子水,水的添加量占混合粉体(即上述的纳米粉体+粗颗粒粉体)中的25wt%。将泥浆在压滤成型模具中压滤成型,加压压力为10Mpa,保压2min,制成φ52mm,高16mm的圆柱,100℃烘烤1h后再放入到冷等静压机中320Mpa压制2min。然后在微波炉中以10℃/min的速度从室温升温到1000℃,保温30min,然后以2℃/min降温至500℃,然后自然冷却至室温,得到陶瓷块体;利用切片机将陶瓷体切割成厚度为0.25mm、直径为52mm的圆片;在圆片上印银,800℃烧渗后再进行热处理:即将所制备得到的薄片以5℃/min的升温速度升温到750℃,并在此基础上保温20h,然后以2℃/min的速度冷却到室温,在整个热处理过程中,通入氦气作为保护性气氛;然后利用划片机切成0.7×0.7mm大小的芯片。
随机抽取60片用此种方法得到的热敏电阻芯片,测量其在25℃的阻值,与按传统方法制备的热敏电阻芯片相比,新工艺制得的芯片阻值50KΩ±1%以内的合格率93.2%,而采用传统方法±1%以内的合格率76.1%,即阻值合格率有了较大幅度的提升。将60片芯片分成2部分,焊接封装后一半在110℃烘箱中老化1000h,另一半在-30~100℃槽做冷热冲击1000次,分别测量其试验前后的阻值变化。变化率分别为0.316%和0.352%,而传统方法这一数值分别为0.86%和0.93%。由此可见,采用新工艺可以使热敏电阻芯片的阻值精度和可靠性有大幅度提升。
本实施例中,用以做对比的按传统方法制备的热敏电阻芯片是这样制备的:
1)利用分析天平准确称量四氧化三锰567.27 g,氧化镍657.50g,三氧化二铁674.06g,氧化铝54.54g,将上述混合物球磨混合20h,烘干后破碎并在1000℃煅烧2h,然后再次球磨20h,得到粗颗粒粉体(粉体的粒径为1-5μm);
2)将上述粉体以40Kg/cm2 的压力进行压块成型,时间为10min,将成型的块体材料进行冷等静压,在压强为400MPa 下保压10min,然后于温度1250℃高温烧结3h;
3)利用切片机将烧结后的陶瓷体切割成厚度为0.25mm,直径52mm的圆片;在圆片上印银,将得到的热敏电阻圆片材料于温度110℃老化1000h。
图3是本实施例制备的纳米粉体的TEM图。
Claims (7)
1.高精度、高可靠性NTC热敏电阻芯片的制造方法,其特征在于:包括以下步骤:
1)按照化学式Mn3-x-y-zNixFeyCozQtO4称量对应的金属氧化物,混合球磨,煅烧成热敏陶瓷预粉体A;
2)将热敏陶瓷预粉体A与纳米级热敏陶瓷预粉体B混合均匀制成混合物,并将该混合物和水混合制成浆料,其中,B在混合物中的质量百分比为5-75wt%,水占混合物质量的20-30wt%;
3)将浆料压滤成型为生坯,将生坯烘干,再将生坯等静压;
4)将步骤3)得到的坯体进行微波烧结;
5)将得到的烧结块切片,上电极,在保护气体氛围下进行热处理即可;
其中,纳米级热敏陶瓷预粉体B中金属离子的摩尔比和步骤1)中的化学式中金属离子的摩尔比是相同的。
2.根据权利要求1所述的高精度、高可靠性NTC热敏电阻芯片的制造方法,其特征在于:所述的纳米级热敏陶瓷预粉体B是这样制备的:按照步骤1)中的化学式中金属离子的摩尔比配成对应的金属离子硝酸盐溶液,使得各金属离子的浓度为0.5-1mol/L,调节其pH=7,超声喷雾干燥,再于400-500℃下煅烧2-6h即可。
3.根据利要求1所述的高精度、高可靠性NTC热敏电阻芯片的制造方法,其特征在于:步骤3)中,所述的将浆料压滤成型为生坯的过程中,是边加压,边将水份排除,所述的等静压条件为:静压压力100Mpa~380Mpa,保压时间为1~5min。
4.根据利要求1所述的高精度、高可靠性NTC热敏电阻芯片的制造方法,其特征在于:微波烧结的工艺为:将坯体置入微波炉中,以8-15℃/min的速率将温度从室温升温到900-1100℃,保温30-50min,再以1-3℃/min的速率降温至450-550℃即可。
5.根据利要求1所述的高精度、高可靠性NTC热敏电阻芯片的制造方法,其特征在于:步骤5)中,热处理的工艺为:在保护气氛下,将上电极后的烧结块切片从室温升温到550-850℃,升温速率为0.5-15℃/min,再保温1-24h,再以1-3℃/min的速率降温至室温即可。
6.根据利要求5所述的高精度、高可靠性NTC热敏电阻芯片的制造方法,其特征在于:所述的保护气氛为氦气、氖气、氩气、氪气、氙气、氮气中的一种。
7.根据利要求1所述的高精度、高可靠性NTC热敏电阻芯片的制造方法,其特征在于:所述的Q为Al、Cu、Zr中的一种,0≤t<1,x≥0,y≥0,z≥0,且0<x+y+z<3。
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