CN102749731A - 液晶显示装置及其制造方法 - Google Patents

Abstract

本发明提供一种使用了超薄玻璃的液晶显示装置，在制造时能够形成稳定的刻划线，并且，能够将液晶面板的超薄玻璃端面附近加强。在本发明的液晶显示装置（100）中，具有：TFT基板（110）以及由超薄玻璃构成的CF基板（120），它们对置配置；液晶层（140），配置在这些基板间；主密封图案（130），将这些基板贴合，并且，包围密封液晶材料；间隙保持件（131），在利用CF基板（120）的切断而形成的基板端附近，至少架设配置至基板端，将这些基板间的距离保持为一定范围。

Description

液晶显示装置及其制造方法

技术领域

本发明涉及使用了超薄玻璃的液晶显示装置及其制造方法。

背景技术

近年来，提出了弯曲用途的液晶显示装置（弯曲显示器）或通过在液晶面板的显示面配置视差屏障从而能够进行双画面显示的液晶显示装置（双画面显示器）。作为在这些液晶显示装置中共同的结构，使用了超薄玻璃。例如，在专利文献1中，存在关于如下液晶面板的记载：为了实现也能够转用于弯曲显示器并能够柔软地弯折的液晶面板，作为超薄玻璃，使用了具有约0.01～0.15mm的超薄的基板厚度的玻璃基板。另外，在专利文献2中，存在关于如下液晶面板及其切断方法等的技术的记载：作为反射型液晶显示装置的用途，同样地，仅一个基板侧使用了作为超薄玻璃的具有0.1mm～0.2mm的超薄的基板厚度的玻璃基板。

专利文献1：日本特开2003-337550号公报。

专利文献2：日本特开平5-249422号公报。

在双画面显示器或弯曲显示器、或者反射型显示器等这样的使用了基板厚度为0.1mm左右的超薄玻璃的液晶显示装置中，如也在专利文献2中记载的那样，在母基板（mother board）尺寸的单元基板的状态下，在至少使一个玻璃基板薄型化而做成超薄玻璃之后，分割成各个液晶面板的尺寸。在该分割用的玻璃的切断时，在玻璃表面形成成为切断的起点的切痕即刻划线（scribe line）。具体地说，利用划线刀（或者划线刀轮）在相邻的面板的密封图案间的超薄玻璃表面形成刻划线。在该划线刀（或者划线刀轮）抵接于超薄玻璃表面并施加负荷时，超薄玻璃产生大的挠曲。由于挠曲量因刻划线和密封的间隔的不同而发生变化，所以，回弹应力不稳定，难以良好地形成刻划线。另外，即使在同一刻划线上，也由于密封位置、宽度、刻划线精度的偏差的影响而不能保持均匀的间隔，划线条件也发生变动。其结果是，产生在切断面残存微小裂纹等切断损伤及切断时发生裂开等的不良，成品率降低。另外，在这些使用了超薄玻璃的液晶显示装置中，就结构上而言，在通常难以抵抗外部应力的施加、发生由超薄玻璃的损伤所引起的液晶泄漏等的液晶显示装置本身的耐久性方面残留问题。

发明内容

本发明是为了解决上述这样的问题而提出的，其目的在于得到一种使用了超薄玻璃的液晶显示装置，能够提高耐久性及可靠性并且能够通过高成品率以低成本制造。

本发明提供一种液晶显示装置，具有：对置配置并且至少一个由超薄玻璃构成的一对基板；配置在这一对基板间的液晶材料；主密封图案，将这一对基板贴合，并且，包围密封液晶材料；间隙保持件，在切断由超薄玻璃构成的一个基板而形成的基板端附近，至少架设配置至基板端，将一对基板间的距离保持为一定范围。

在使用了超薄玻璃的液晶面板以及液晶显示装置中，在制造时能够形成稳定的刻划线，并且，能够将液晶面板的超薄玻璃端面附近加强。

附图说明

图1是本发明的实施方式1的液晶显示装置中的液晶面板的平面图。

图2是本发明的实施方式1的液晶显示装置中的液晶面板的剖视图。

图3是表示本发明的实施方式1中的液晶面板的制造方法中的组装工序的流程图。

图4是表示本发明的实施方式1的液晶面板制造工序中的母TFT基板以及母CF基板的平面图。

图5是表示本发明的实施方式1的液晶面板制造工序中的母TFT基板以及母CF基板的剖视图。

图6是表示本发明的实施方式1的液晶面板制造工序中的划线工序的母TFT基板以及母CF基板的平面图以及剖视图。

图7是表示本发明的实施方式1的液晶面板制造工序中的划线工序以及单元分割工序的信号端子附近的剖视图。

图8是表示本发明的实施方式1变形例的液晶面板制造工序中的母TFT基板以及母CF基板的剖视图。

图9是表示本发明的实施方式1变形例的液晶面板制造工序中的划线工序的母TFT基板以及母CF基板的剖视图。

图10是表示本发明的实施方式1变形例的液晶面板制造工序中的母TFT基板以及母CF基板的平面图以及剖视图。

图11是表示本发明的实施方式1变形例的液晶面板制造工序中的划线工序的母TFT基板以及母CF基板的平面图以及剖视图。

图12是本发明的实施方式2的液晶显示装置中的液晶面板的平面图。

图13是本发明的实施方式2的液晶显示装置中的液晶面板的剖视图。

图14是表示本发明的实施方式2的液晶面板制造工序中的母TFT基板以及母CF基板的剖视图。

图15是表示本发明的实施方式2变形例的液晶面板制造工序中的划线工序的母TFT基板以及母CF基板的剖视图。

其中，附图标记说明如下：

100、101 液晶面板、110、110a～110f TFT基板、120、120a～120f CF基板、10 母TFT基板、20 母CF基板、30 母单元基板、111、121 玻璃基板、112、122 取向膜、113 像素电极、114 TFT、115 绝缘膜、116 栅极布线、117 源极布线、118 信号端子、123 共同电极、124滤色片、125 BM、126 视差屏障、130、130a～130f 主密封图案、131、131ps、 132、 132ps 间隙保持件、132o 开口部、133 柱状隔离件、134、135 偏振片、136 控制基板、137 FFC 、140 液晶层、140dp 液晶材料、150a～150f、157 主密封剂、151、153 辅助密封剂、152 隔离件、154、156 密封剥离辅助层、155 不要部切断片、200、200a～200f 显示区域  SL 刻划线、WH 刀轮。

具体实施方式

实施方式1

使用图1以及图2的示意图，对本实施方式1的液晶显示装置中所使用的液晶面板100的结构进行说明。图1表示液晶面板整体的结构的平面图，图2表示图1中的A-B剖视线的剖视图。此外，此处，作为一例，对TFT（Thin Film Transistor：薄膜晶体管）方式的双画面显示器液晶面板进行说明。如图所示，该液晶面板100具有：开关元件基板（以下称为TFT基板110），将作为开关元件的TFT配置成阵列状；滤色片基板（以下称为CF基板120），形成有滤色片等；主密封图案130，相对于显示区域200在TFT基板110和CF基板120之间以至少包围显示区域200的方式配置且将CF基板120和TFT基板110之间的间隙密封，该显示区域200是与在液晶面板100动作时显示图像的显示面对应的区域。进而，在TFT基板110和CF基板120之间，在显示区域200内配置有很多使基板间形成并保持预定的一定范围的间隙的柱状隔离件133，换言之，在显示区域200内配置有很多使基板间的距离保持为一定范围的柱状隔离件133。在由该主密封图案130密封并且由柱状隔离件保持的CF基板120和TFT基板110之间的间隙的至少与显示区域200对应的区域夹持有液晶材料，从而配置有液晶层140。换言之，液晶材料被主密封图案130包围并密封。此处，作为液晶材料，采用一般的TN（Twisted Nematic：扭曲向列）型的液晶材料。此外，关于此处所使用的显示区域200，在液晶面板100的TFT基板110上、CF基板120上或者在两基板间夹持的区域都使用，在本说明书中，都以同样的意思来使用。

上述的TFT基板110具有如下等构件：取向膜112，在透明基板即由厚度为0.7mm左右的一般的玻璃构成的玻璃基板111的一个面使液晶取向；像素电极113，设置在取向膜112的下部，施加对液晶进行驱动的电压；作为向像素电极113供给电压的开关元件的TFTl14；绝缘膜115，覆盖TFTl14；作为向TFT114供给信号的布线的多个栅极布线116以及源极布线117；信号端子118，从外部接收向TFT114供给的信号；转移电极（transfer electrode）（省略图示），用于将从信号端子118输入的信号向对置电极123传递。另外，在玻璃基板111的另一个面具有偏振片134。

另一方面，上述的CF基板120具有如下等构件：取向膜122，在透明基板即由厚度为0.1mm左右的超薄玻璃构成的玻璃基板121的一个面使液晶取向；共同电极（common electrode）123，配置在取向膜122的下部，在与TFT基板110上的像素电极113之间产生电场，对液晶进行驱动；滤色片124，设置在共同电极123下部；黑矩阵（Black Matrix：BM）125，该黑矩阵是为了对滤色片124间进行遮光或对在与显示区域200对应的区域外侧所配置的边缘区域进行遮光而设置的遮光层。另外，在玻璃基板121的另一个面，作为双画面显示器，在与在像素内所配置的BM125错开的位置形成有将视野方向分离为二个方向的遮光层即视差屏障126。进而，在视差屏障126的外侧具有偏振片135。作为滤色片124，能够选择在树脂中分散了顔料等的色料（coloring material）层，起到有选择地使红、绿、蓝等特定波长范围的光透过的滤光片的功能，以这些不同颜色的色料层有规则地排列的方式构成。在滤色片124间以外，BM125还配置在显示区域200外侧的边缘区域，在CF基板120的边缘区域的大致整个区域形成，对在显示中不需要的边缘区域的CF基板120中的光的透过进行遮光。作为构成BM125以及视差屏障126的遮光层，能够选择使用了铬和氧化铬的层叠膜等的金属类的材料或在树脂中分散了黑色粒子的树脂类的材料等。此外，也可以做成如下结构：在取向膜的下层，以覆盖滤色片124和BM125的方式设置由透明树脂膜构成的覆盖层。

另外，TFT基板110和CF基板120经由主密封图案130贴合在一起，由在显示区域200配置的柱状隔离件133保持为预定的基板间隔。进而，转移电极与共同电极123利用转移件而电连接在一起，从信号端子118输入的信号传递至共同电极123。关于转移件，也能够通过在主密封图案130中混合导电性的粒子等来代用而省略，在本实施方式中，使用混合了导电性的粒子等的主密封图案130，从图1可知，主密封图案130和共同电极123接触，所以，将转移电极以在俯视下与主密封图案130重叠的方式配置并且与主密封图案130接触而设置，由此，转移电极与共同电极123经由主密封图案130电连接在一起。除此之外，液晶面板100具有产生驱动信号的控制基板136、将控制基板136电连接于信号端子118的FFC（Flexible Flat Cable：软性扁平电缆）137、成为光源的背光单元（通常，与TFT基板110的外侧对置配置，TFT基板110的外侧是与成为显示面的CF基板120侧相反的一侧，但在此未图示）等，成为显示面的显示区域200的CF基板120的外侧的部分与这些构件一起容纳在开放的框体（未图示）中，构成本实施方式1的液晶显示装置。

接着，对本实施方式1的液晶面板100的特征部分即成为面板周边部的边缘区域的结构进行补充说明。在本实施方式1的液晶面板100中，如图1所示，在边缘区域的主密封图案130的外侧，设置有保持基板切断时的基板间距离（基板间间隙）的间隙保持件131。在本实施方式1中，如图1以及图2所示，以将面板间完全填埋的方式设置有间隙保持件131，利用与主密封图案130相同的树脂材料形成为一体。如图1所示，在所完成的液晶面板100中，间隙保持件131设置至CF基板120的基板端。

如上述那样对结构进行了说明的本实施方式1的液晶显示装置以及液晶面板100如下那样动作。例如，当从控制基板136输入电信号时，对像素电极113以及共同电极123施加驱动电压，液晶层140中的液晶分子的方向与驱动电压匹配地发生变化。并且，背光单元发出的光经由TFT基板110、液晶层140以及CF基板120透过至观察者侧或者被遮挡，由此，在液晶面板100的显示区域200显示影像等。此外，本实施方式1的液晶显示装置是双画面显示器液晶面板，所以，经由CF基板120而透过的光被视察屏障126限制在两个方向的预定的角度方向的视角范围。具体地说，在显示面上，在图中的＋X方向和－X方向这两个方向具有视角范围来显示影像等。另外，设定与两个方向的视角范围对应的显示像素，进行各自不同的影像显示，由此，对于两个方向的视角范围分别显示不同的影像，作为双画面显示器液晶面板发挥功能。另外，本实施方式1的液晶显示装置如上述那样在边缘区域具有特征结构，所以，尽管是对于外部应力的施加而在耐久性方面有问题的使用了超薄玻璃的双画面显示器液晶面板，也能够得到具有高的耐久性的双画面显示器液晶面板。

接着，对本实施方式1的液晶显示装置以及液晶面板100的制造方法进行说明。通常，液晶面板是从比最终形状大的母基板截取一个或多个液晶面板进行制造（多面取出）的。此处，在本发明中以特征的组装工序为中心进行说明，作为一例，对从母基板截取6个液晶面板的情况进行说明。下面，根据图3所示的流程图对本实施方式1的液晶面板100的组装工序进行说明，并且，适当使用图4～图7的详细说明附图对特征工序进行说明。

首先，在基板准备工序中，准备彼此贴合前的截取TFT基板110的母TFT基板10和截取CF基板120的母CF基板20（S1）。关于母TFT基板10和母CF基板20，CF基板120最终因对玻璃进行薄型化加工而形成为超薄玻璃，但是，为了以后的工序的实施变得容易，直到中途为止，利用由厚度为0.5～1.5mm左右的玻璃构成的母TFT基板10和母CF基板20制造。此处，母TFT基板10和母CF基板20这两者都作为由厚度0.7mm的玻璃构成的基板来准备。图4（a）以及图4（b）分别表示在以后说明的贴合工序（S7）之前的阶段的母TFT基板10和母CF基板20，该贴合工序（S7）是将母TFT基板10和母CF基板20贴合的工序。

首先，如图4（a）所示，在母TFT基板10上制作6个TFT基板110a～110f，在以后进行的工序中，TFT基板110a～110f从母TFT基板10截取。进而，例如，在TFT基板110a上，如在结构的说明中所说明的那样，制作从外部接收信号的信号端子118、位于与液晶面板完成时的显示面对应的区域即显示区域200a的驱动液晶的像素电极113、TFT114、栅极布线116以及源极布线117等（在图4（a）中都省略图示）。另外，作为特征结构，在显示区域200a和信号端子118之间的区域的TFT基板110a表面，配置有密封剥离辅助层154。该密封剥离辅助层154设置在与沿着图4（b）中的CF基板120a的切断端部的位置对应的TFT基板110a表面，在切断CF基板120a时发挥效果，但是，关于密封剥离辅助层154的作用，在以后的制造方法的说明详细地说明，故在此省略说明。另外，关于TFT基板110b～110f，也省略图示以及说明，但是，制作与开关元件基板110a同样的结构。此外，这些信号端子118以及TFT114等的制作与一般的液晶面板中的TFT基板的制造方法同样即可，故省略关于详细的制造方法的说明。

另一方面，如图4（b）所示，在母CF基板20上制作6个CF基板120a～120f，在以后进行的工序中，CF基板120a～120f从母CF基板20截取。进而，例如，在CF基板120a上，如在结构的说明中所说明的那样，在与液晶面板100完成时的显示面对应的区域即显示区域200，制作驱动液晶的共同电极123、滤色片124、BM125、柱状隔离件133（都省略图示）等。此外，这些共同电极123、滤色片124、BM125以及柱状隔离件133等的制作与一般的液晶面板中的滤色片基板的制造方法同样即可，故省略关于详细的制造方法的说明。

接着，在基板清洗工序中，对上述说明的那样准备的形成有TFT基板110a～110f的母TFT基板10进行清洗（S2）。接着，在取向膜材料涂敷工序中，在母TFT基板10的一个面涂敷形成取向膜材料（S3）。在该工序中，例如利用印刷法涂敷由有机膜构成的取向膜材料，利用加热板等进行烧结处理并使其干燥。然后，在摩擦研磨（rubbing）工序中对取向膜材料进行摩擦研磨，对取向膜材料表面进行取向处理，做成取向膜112（S4）。

另外，与S2～S4同样地，对形成有CF基板120a～120f的母CF基板20也进行清洗、取向膜材料的涂敷、摩擦研磨，由此，形成取向膜122。接着，在密封剂涂敷工序中，将密封剂作为印刷膏利用丝网印刷装置在母TFT基板10或母CF基板20的一个面涂敷密封剂，最终形成包围显示区域200的形状的主密封图案130a～130f和在主密封图案130a～130f的外侧配置的成为间隙保持件131的密封剂（S5）。

 具体地说，例如，如图4（b）所示，在形成于母CF基板20的CF基板120a～120f上形成有：主密封剂150a～150f，形成为包围各显示区域200a～200f的形状，具有之后包围密封液晶材料的多个密封区域；辅助密封剂（dummy sealant）151，沿着主密封剂150a～150f的外侧的各边配置。另外，关于辅助密封剂151，与CF基板120a～120f的外形一致地配置，即，与在将CF基板120a～120f从母CF基板20切出时的切断线上一致地配置。另外，这些主密封图案130a～130f和间隙保持件131由相同的密封剂形成，将该共同的密封剂作为印刷膏利用丝网印刷装置同时涂敷形成。此外，使构成主密封图案130a～130f和间隙保持件131的密封剂共同化，利用丝网印刷装置同时形成，由此，在不特别增加制造工序的情况下就能够配置间隙保持件131，因此，在本实施方式1中采用了丝网印刷。但是，在使用了利用喷嘴进行的涂敷（分配器法）的情况下，因耗费了用于涂敷形成间隙保持件131的喷嘴的移动时间也会导致增加一些处理时间，但是，通过使密封剂共同化而不会增加密封剂更换时间等这样长的处理时间，就能够配置间隙保持件131。

接着，在液晶滴下工序中，在母TFT基板10或者母CF基板20的一个面，在由主密封剂150a～150f包围的区域内滴下很多液滴状的液晶材料140dp（S6）。具体地说，例如，如图4（b）所示，在母CF基板20的各CF基板120a～120f上，在由主密封剂150a～150f包围并密封液晶材料的密封区域内，以整体形成预定量的液晶层140的方式滴下很多液滴状的液晶材料140dp。另外，此处，将使用所谓的滴下注入（ODF：One Drop Filling）法填充液晶来形成液晶层140的方法作为一例，所以这样形成，但是，在使用所谓的真空注入法的情况下，主密封剂150a～150f不是完全封闭的形状，形成有一部分开口的液晶注入口。进而，关于沿着主密封剂150a～150f的外侧的各边配置的辅助密封剂151，沿着除了液晶注入口之外的主密封剂150a～150f的外侧形成。此外，在使用真空注入法的情况下，理所当然，由于在贴合后从所述液晶注入口注入液晶材料，所以，省略上述说明的液滴状的液晶材料140dp的形成处理。

接着，在贴合工序中，将母TFT基板10与母CF基板20贴合，形成单元基板（S7）。具体地说，将如图4（a）以及图4（b）那样准备的母TFT基板10和母CF基板20以TFT基板110a～110f和CF基板120a～120f分别对应的方式对置配置，在真空中使两者接近并贴合。图5是表示S7以后的制造工序的剖视图，示出图4（b）的母CF基板20的剖视线YI-Y2的剖面，表示S7以后的制造工序中的CF基板120a和TFT基板110a的边缘区域的状况。如图5（a）那样，在母TFT基板10和母CF基板20贴合前的状态下，在相邻配置的CF基板120a和CF基板120c之间（相当于CF基板120a和CF基板120c被分离切断时的切断线上），在主密封剂150a和主密封剂150c之间形成有辅助密封剂151，在CF基板120a的与CF基板120c相邻的一侧相反的一侧的端部，在主密封剂150a的外侧仅配置有辅助密封剂151（相当于CF基板120a和母CF基板20的周边不要部玻璃被分离切断时的切断线上）。

这样对置配置的母TFT基板10和母CF基板20在图5（a）中的箭头方向上接近，如图5（b）那样贴合。其结果是，主密封剂150a、150c和辅助密封剂151被母TFT基板10和母CF基板20夹压变形而扩展，在主密封剂150a和主密封剂150c的相邻部分，主密封剂150a、主密封剂150c以及辅助密封剂151被一体化，形成主密封图案130a、主密封图案130c以及间隙保持件131。另外，在与相邻的一侧相反的一侧的端部，主密封剂150a和辅助密封剂151被一体化，形成主密封图案130a和间隙保持件131。另外，在辅助密封剂151中混入的隔离件152优选使用例如玻璃的圆柱状的隔离件（称为微细杆（micro-rod）等），但是，在辅助密封剂151被按压变形时，由该隔离件152保持母TFT基板10和母CF基板20间的基板间隔，将辅助密封剂151按压变形而形成的间隙保持件131有助于保持母TFT基板10和母CF基板20间的基板间隔。此外，关于在辅助密封剂151中混入的隔离件152，只要是将基板间的距离（基板间间隙）保持为一定范围的隔离件，就能够得到同样的效果，不限于圆柱状玻璃，也可以是球状的隔离件。关于材质，也不限于玻璃这样的变形少的硬质的材质，即使是比较硬的弹性体（例如，丙烯酸树脂）等的在预定的压力范围内伴有一定范围内的变形的材质，也能够具有将基板间隔（基板间距离）保持为一定范围的功能，因而能够进行置换。

接着，在密封剂硬化工序中，在将母TFT基板10和母CF基板20贴合的状态下，使主密封剂150a～150f或者辅助密封剂151等的在母TFT基板10和母CF基板20间形成的密封剂完全硬化（S8）。例如，与密封剂的材质相匹配地进行加热或照射紫外线来进行该工序。在本实施方式1中，利用与滴下注入法相配性好的照射紫外线的方法进行硬化。利用该工序，母TFT基板10和母CF基板20在保持对位的位置关系不变的状态下被固定。

另外，为了使液晶面板100轻量化或如本实施方式那样形成双画面显示器液晶面板而将构成TFT基板10和CF基板20的玻璃基板的至少一个薄型化加工为超薄玻璃的情况下，在该贴合的状态下实施即可，在本实施方式1中实施薄型化研磨工序（S9）。具体地说，能够选择利用药液或机械研磨进行的薄型化处理，但是，在使用由在基板厚度控制性方面适合超薄玻璃加工的药液进行的薄型化处理的情况下，在使TFT基板10和CF基板20这两者薄型化时，在对母TFT基板10和母CF基板20的周边部实施防止药液进入基板间的周边密封后，将贴合的母TFT基板10和母CF基板20整体浸渍在药液中，对母TFT基板10和母CF基板20的表面进行切削薄型化。另外，若仅使TFT基板10和CF基板20中的一个、如本实施方式1那样仅使CF基板20薄型化，则除了周边密封之外，在母TFT基板10表面利用抗蚀剂等形成保护层的状态下，仅对母CF基板20的表面进行切削薄型化即可。其结果是，如图5（c）那样，能够得到仅将母CF基板20薄型化加工为0.1mm左右的超薄玻璃的单元基板。

进而，进行如下的视差屏障形成工序：在该被薄型化的母CF基板20侧的表面形成作为双画面显示器液晶面板而发挥功能的结构即由遮光层构成的视差屏障126（S10）。具体地说，根据构成视差屏障126的材料，将使用了铬和氧化铬的层叠膜等的金属类的材料或在树脂中分散了黑色粒子的树脂类的材料进行成膜，对用于起到视差屏障126功能的预定的位置具有开口部的形状实施与构成各个视差屏障126的材料对应的图案加工。如以上那样，形成母单元基板30。

接着，在划线工序中，对如上那样形成的母单元基板30，在母TFT基板10和母CF基板20各自的表面形成成为切断的起点的线形状的切痕（称为刻划线）（S11）。通常，就玻璃基板的切断而言，在玻璃基板的表面形成成为切断的起点的刻划线之后，在刻划线的附近施加应力，从而进行分割。

对本实施方式1中的能够得到特征效果的划线工序，使用图6详细地进行说明。图6（a）是母单元基板30的平面图，图6（b）是表示图6（a）中的剖视线Y1-Y2（与图4（b）的剖视线Y1-Y2位置一致）的剖面。刻划线对应于母TFT基板10和母CF基板20各自的切断线而形成，在图6（a）中，图示了在由在本实施方式1中成为问题的超薄玻璃构成的母CF基板20上所形成的刻划线SL的位置。此外，在图6（a）以及图6（b）中，关于已经在母CF基板20表面形成的视差屏障26，是具有相对于由超薄玻璃构成的母CF基板20的厚度能够忽略程度的厚度、并且对基板强度的帮助也是几乎能够忽略的结构，故省略图示以及视差屏障26对切断的帮助等的说明。

 如图6（b）所示，利用划线刀的刀轮WH形成刻划线SL，但是，在由特别成为问题的超薄玻璃构成的母CF基板20的刻划线SL形成部分，在刻划线SL上，在母CF基板20下层，配置有将母CF基板20和母TFT基板10的基板间距离保持为一定范围的间隙保持件131。因此，在为了形成切痕而将刀轮WH按压在母CF基板20表面时，由0.1mm左右的超薄玻璃构成的母CF基板20也由间隙保持件131保持而不会挠曲，针对刀轮WH的按压的回弹力也稳定。其结果是，刀轮WH在母CF基板20表面的旋转和利用旋转而被推进的刀轮WH扫掠（scanning）稳定，能够形成稳定的刻划线SL。进而，由于能够形成稳定的刻划线SL，所以，能够对在以后说明的单元分割工序中通过切断而得到的超薄玻璃端面残存微小裂纹等的切断损伤以及在切断时产生裂开等的不良进行抑制。另外，在本实施方式1中，在刀轮WH被按压的刻划线SL附近，在刻划线SL正下方配置的间隙保持件131填埋直到形成有在刻划线SL的两侧配置的主密封图案130a或主密封图案130c的区域而形成，换言之，得到间隙保持件131与在刻划线SL的两侧配置的主密封图案130a或者主密封图案130c形成为一体的结构，所以，在刻划线SL附近，利用这些一体化的结构整体保持母CF基板20，能够最大地发挥保持母CF基板20的作用，关于上述说明的保持母CF基板20发挥作用而得到的几个效果，也能够最大限度地得到。另外，在不存在相邻的面板的基板端的例如图6（b）的左侧的刻划线SL的下部，间隙保持件131和主密封图案130a也一体化配置，当然，也能够得到由间隙保持件131保持母CF基板20的作用，并且，也能够得到利用使间隙保持件131和主密封图案130a一体化后的结构而得到的作用以及附加效果。

接着，在单元分割工序中，将单元基板分割为很多独立单元基板（S12）。在该工序中，在先前说明的划线工序S11中形成的刻划线SL附近施加应力，由此，按各个独立单元基板的TFT基板110a～110f和CF基板120a～120f的形状进行分割，从母单元基板30被分割为独立单元基板。如先前说明的那样，就在划线工序S11中形成的刻划线SL而言，能够形成稳定的刻划线SL，由此，在刻划线SL附近，很少会发生微小裂纹，刻划线SL的直线性也良好，所以，能够抑制在该单元分割工序中通过切断而得到的CF基板120a～120f的超薄玻璃端面残存微小裂纹等的切断损伤以及在切断时发生裂开等的不良。

此处，关于先前使用图4（a）所说明的在母TFT基板10表面形成的密封剥离辅助层154的作用，适当地使用图7详细地进行说明。密封剥离辅助层154在该单元分割工序S12中起到重要的作用。由于TFT基板110a～110f的信号端子118需要被露出，所以，与信号端子118对置的部分的母CF基板20在该分割工序中作为不要部而被除去。但是，在本实施方式1中，如在图6中所说明的那样，在与各CF基板120a～120f的基板端对应地形成的划刻线SL的下部，配置有间隙保持件131。

在图7中，作为一例，示出TFT基板110a的信号端子118附近，与图6（a）中的剖视线X1-X2的剖面对应。如图7（a）所示，特别是在配置信号端子118的一侧的基板端所形成的刻划线SL的下部，也横跨刻划线SL的两侧而配置有间隙保持件131。间隙保持件131在本实施方式1中由密封剂形成，粘接在母TFT基板10和母CF基板20这两者的表面而形成。因此，与信号端子118对置的母CF基板20的不要部（在图7（a）中，作为不要部切断片155而示出。）也经由间隙保持件131固定于母TFT基板10。因此，即使该不要部切断片155从CF基板120a被分割，仍与母TFT基板10（或者各个TFT基板110a等）固定，不能够分离除去。在假设由外力等强制分离的情况下，TFT基板110a表面的膜固定在不要部切断片155上而被剥离。例如，向信号端子118的引出布线等与不要部切断片155一起被剥离。但是，在本实施方式1中，在经由间隙保持件131固定有该母CF基板20的不要部切断片155的TFT基板110a等的表面，配置有密封剥离辅助层154。该密封剥离辅助层154具有帮助构成间隙保持件131的密封剂从TFT基板110a～110f剥离的作用，例如，由彼此紧贴力小的二层膜或包含该二层膜的多层膜等构成。更具体地说，能够使用在a-Si膜上形成了硅氮化膜的二层膜等。在这样的层结构的情况下，在密封剥离辅助层154的形成区域那样的1边由以毫米为单位的比较大的连续图案构成时，彼此的层间的紧贴力变小，能够容易在层间进行剥离。因此，在单元分割工序S12中作为密封剥离辅助层154发挥功能的情况下，如图7（b）所示，密封剥离辅助层154的上层膜（作为密封剥离辅助层154而示出）保持与间隙保持件131固定的状态从TFT基板110a分离，密封剥离辅助层154的下层膜（作为密封剥离辅助层156而示出。）残留在TFT基板110a～110f上，能够防止其他结构被剥离等的对TFT基板110a～110f造成损伤。

此外，作为密封剥离辅助层154的其他方式，密封剥离辅助层154可以由与相接形成的TFT基板110a～110f的表面（例如，绝缘膜115）的紧贴力小的材料构成。在该情况下，在单元分割工序S12中，密封剥离辅助层154保持着完全与间隙保持件131固定的状态从TFT基板110a～110f分离，不残存在TFT基板110a～110f上。若用图7（b）进行说明，则省略残存在TFT基板110a上的密封剥离辅助层156。在该情况下，仅密封剥离辅助层154与间隙保持件131固定而从TFT基板110a～110f分离，TFT基板110a～110f的其他结构保持与间隙保持件131固定的状态而不被剥离。因此，与使用二层膜的情况同样地，能够防止对TFT基板110a～110f造成损伤。

此外，在使用所谓的真空注入法的情况下，如先前所说明的那样，在密封件130形成一部分开口的液晶注入口，在上述的单元分割工序之后进行的液晶注入工序中，从液晶注入口对各个独立单元基板注入液晶材料，形成液晶层140。该工序例如利用真空注入从液晶注入口填充液晶材料来进行。进而，在密封工序中，将液晶注入口密封。通过例如用光硬化型树脂进行密封并照射光来进行该工序。

这样被分割为各个液晶面板的形状后，在偏振片贴附工序中，在单元基板的外侧的TFT基板110以及CF基板120的各个表面贴附偏振片134以及偏振片135（S13），在控制基板安装工序中，安装控制基板136（S14），从而完成液晶面板100。进而，在成为液晶面板100的可视侧的相反侧的TFT基板110的背面侧，经由相位差板等光学薄膜配设背光单元，在由树脂或金属等构成的框架内，适当容纳液晶面板100以及这些周边构件，完成本实施方式1的液晶显示装置。

在构成以上说明的实施方式1的液晶显示装置的液晶面板100中，如上所述，在与由超薄玻璃构成的CF基板120的切断位置相当的基板端附近，具有将与对置配置的TFT基板110的基板间的距离保持为一定范围的间隙保持件131，该间隙保持件131架设配置至与切断位置下部相当的至少CF基板120的基板端，所以，能够得到以下的效果。具体地说，能够得到如下等效果：在为了在截取CF基板120的母CF基板20的表面形成切痕而将划线用的刀轮WH按压在由超薄玻璃构成的母CF基板20表面时，母CF基板20也由间隙保持件131从下部保持而不会挠曲；针对刀轮WH的按压的回弹力稳定、或者刀轮WH在母CF基板20表面的旋转和由旋转推进的刀轮WH扫掠稳定；能够形成稳定的刻划线SL；能够形成稳定的刻划线SL，由此，在刻划线SL附近，很少发生微小裂纹；刻划线SL的直线性变好；进而，实施以这样形成的刻划线SL为基础的单元分割工序，由此，在由切断而得到的CF基板120a～120f的超薄玻璃端面残存微小裂纹等的切断损伤被抑制；在切断时发生裂开等的不良被抑制。进而，该间隙保持件131架设配置至由超薄玻璃基板构成的CF基板120的基板端，所以，能够将液晶面板100的超薄玻璃端面附近加强，由此，能够提高液晶显示装置的耐久性以及可靠性。

进而，在构成以上说明的实施方式1的液晶显示装置的液晶面板100中，间隙保持件131从成为基板端的刻划线SL填埋至形成有在刻划线SL的两侧或者单侧所配置的主密封图案的区域而形成，取得间隙保持件131和主密封图案形成为一体的结构，所以，在刻划线SL附近，利用这些一体化的结构整体来保持母CF基板20，能够最大限度发挥保持母CF基板20的作用，关于上述说明的保持母CF基板20进行作用所得到的几个效果，也能够最大限度地得到。另外，在这样由超薄玻璃构成的CF基板120的下部，间隙保持件131从CF基板120的基板端填埋至形成主密封图案的区域而被一体化，从而能够将超薄玻璃端面附近加强，最大限度地得到提高液晶面板100的耐久性以及可靠性的效果。进而，使用这样一体化的结构，由此，在不特别考虑间隙保持件131的形成精度（形成宽度精度、形成位置精度）或者刻划线SL向CF基板120的形成精度（位置精度）的情况下，能够在刻划线SL下部必定配置间隙保持件131的至少一部分，能够比较容易得到上述说明的效果。另外，间隙保持件131由与主密封图案相同的材料形成，构成主密封图案以及间隙保持件131的材料由混入了将基板间的距离保持为一定范围的隔离件152的密封剂构成，因此，在密封剂涂敷工序中，与主密封图案同时形成或者连续形成，所以，不特别增加制造工序，就能够配置能够利用混入在密封剂中的隔离件152将基板间的距离保持为一定范围的间隙保持件131。另外，在本实施方式1中，在固定有与信号端子118对置的母CF基板20的不要部切断片155的间隙保持件131部分，间隙保持件131经由起到帮助构成间隙保持件131的密封剂从母TFT基板10表面剥离的作用的密封剥离辅助层154而固定在母TFT基板10上进行制造，因此，即使在将间隙保持件131架设配置于不要部切断片155的情况下，也能够防止发生针对TFT基板110的损伤来进行制造。

此外，在上述的实施方式1中，分别形成了具有包围密封液晶材料的多个密封区域的主密封剂150a～150f和沿着主密封剂150a～150f的外侧的各边配置的辅助密封剂151之后，将母TFT基板10和母CF基板20贴合，利用母TFT基板10和母CF基板20夹压变形，由此，一体化形成主密封图案130a～130f和间隙保持件131。主密封剂150a～150f和辅助密封剂151由共同材料构成，并且，一体化形成，因此主密封图案130a～130f和间隙保持件131在不被明确地区别的情况下一体化形成。因此，不需要如实施方式1那样分别形成主密封剂150a～150f和辅助密封剂151。即，能够省略辅助密封剂151的涂敷形成。以下，适当使用图8以及图9对省略了该辅助密封剂151的涂敷形成的实施方式1的变形例进行说明。

首先，图8（a）是说明该变形例的密封剂涂敷工序S5的图，与液晶滴下工序S6完成并且母TFT基板10和母CF基板20被贴合之前的状态、即实施方式1中的图5（a）的状态对应。此处，主要说明从实施方式1变更的部分，对于重复的部分适当省略说明。如图8（a）所示，在本变形例中，在相邻配置的CF基板120a和CF基板120c之间，仅主密封剂150a和主密封剂150c相邻配置在CF基板120a和CF基板120c被分离切断时的形成刻划线SL的位置（在图中，为便于说明，示出之后形成刻划线SL的位置。），在实施方式1中形成的辅助密封剂151被省略。该主密封剂150a和主密封剂150c与实施方式1的情况相比较，接近刻划线SL而配置，进而，较多地形成所涂敷的密封剂的涂敷量。为了使涂敷量增多，具体地说，在利用丝网印刷装置进行涂敷形成的情况下，使印刷丝网的开口图案的图案宽度变粗，形成线宽大的密封图案，从而能够增多密封剂的涂敷量。在利用分配器法进行涂敷形成的情况下，将喷出压设定得大，从而能够增多涂敷量。另外，在CF基板120a的与CF基板120c相邻的一侧相反的一侧的端部，在主密封剂150a的外侧，在相对于刻划线SL大致对称的位置，配置有由与主密封剂150a相同的密封剂构成的辅助密封剂153。该辅助密封剂153和主密封剂150a的相对于刻划线SL的位置关系和涂敷量，与在主密封剂150a和主密封剂150c相邻的部分的主密封剂150a、主密封剂150c、刻划线SL的位置关系、主密封剂150a和主密封剂150c的涂敷量同等即可。

这样对置配置的母TFT基板10和母CF基板20与实施方式1同样地在图8（a）中的箭头方向上接近，如图8（b）那样贴合。其结果是，分别具有包围密封液晶材料的密封区域而形成的主密封剂150a、150c被母TFT基板10和母CF基板20夹压变形而扩展，在主密封剂150a和主密封剂150c的相邻部分，主密封剂150a和主密封剂150c被一体化。另外，在与相邻的一侧相反的一侧的端部，主密封剂150a与辅助密封剂153也被一体化。另外，主密封剂150a、主密封剂150c以及辅助密封剂153由共同的密封剂构成，与实施方式1同样地，在密封剂中混入有隔离件152。在主密封剂150a、主密封剂150c以及辅助密封剂153被夹压变形时，利用该隔离件152保持母TFT基板10和母CF基板20间的基板间隔。之后，与实施方式1同样地依次进行密封剂硬化工序S8、如图8（c）那样的薄型化研磨工序S9、视差屏障形成工序S10，形成母单元基板30，但是，在这些工序中，没有特别地与实施方式1不同之处，故省略详细说明。

接着，对在本变形例中成为要点的划线工序S11进行说明。图9示出了本变形例中的划线工序S11时的CF基板120a和TFT基板110a的边缘区域处的状况，与对实施方式1的划线工序S11进行说明时的图6（b）对应。对于到视差屏障形成工序S10为止所形成的母单元基板30，如图9所示，在母TFT基板10和母CF基板20的各自的表面形成刻划线SL。与实施方式1相比较，在密封剂涂敷工序S5中在刻划线SL附近下部配置的密封剂的形成的方法不同，但是，其结果是，如下方面为相同的结构：在刻划线SL下部，具有将母CF基板20和母TFT基板10的基板间距离保持为一定范围的功能的密封剂和具有以包围显示区域200的方式配置的在CF基板120和TFT基板110之间的间隙密封液晶层140的主密封图案的功能的密封剂一体化形成。具体地说，如图9所示，在刻划线SL附近下部配置的密封剂中的配置在液晶层140的周围的密封剂成为主密封图案130a以及主密封图案130c，配置在刻划线SL的正下方并且混入了将基板间距离保持为一定范围的隔离件152而具有将基板间距离保持为一定范围的功能的密封剂成为间隙保持件131。因此，其结果是，与实施方式1同样地，在与由超薄玻璃构成的CF基板120的切断位置相当的基板端附近，具有将与对置配置的TFT基板110的基板间的距离保持为一定范围的间隙保持件131，该间隙保持件131架设配置至与切断位置下部相当的至少CF基板120的基板端，所以，得到与实施方式1同样的效果。另外，在本变形例中，能够省略在相邻配置的CF基板间涂敷形成辅助密封剂151的工序。因此，在利用丝网印刷装置实施密封剂涂敷工序的情况下，仅变更印刷丝网的开口图案设计，所以，得不到工序的增减效果，但是，在使用了分配器法的情况下，由于喷嘴进行动作的距离变短，所以，削减了若干处理时间，有助于制造时的低成本化。

另外，从以上的变形例的说明可知，若最终在刻划线SL下部，具有将母CF基板20与母TFT基板10的基板间距离保持为一定范围的功能的密封剂和具有以包围显示区域200的方式所配置的在CF基板120和TFT基板110之间的间隙密封液晶层140的主密封图案的功能的密封剂一体化形成，则得到与实施方式1同样的效果。因此，不限于使在刻划线SL的两侧形成的两条主密封剂150a、主密封剂150c的图案一体化形成的方法，也可以从最初在刻划线SL上涂敷形成与使主密封剂150a和主密封剂150c的图案一体化的情况下的密封剂的涂敷量相当的一条密封剂，在刻划线SL附近扩展形成。以下，对使用了在该刻划线SL附近仅形成一条密封剂的方法的实施方式1的第二变形例，适当使用图10、图11进行说明。

首先，图10（a）是说明该第二变形例的密封剂涂敷工序S5以及液晶滴下工序S6后的母CF基板20的状态的图，与实施方式1中的图4（b）的状态对应。另外，图10（b）与母TFT基板10和母CF基板20被贴合之前的对置配置的状态即实施方式1中的图5（a）的状态对应。此处，主要说明从实施方式1变更的部分，对重复的部分适当省略说明。如图10（b）的剖视图所示，在本第二变形例中，在相邻配置的CF基板120a和CF基板120c之间，形成有由一条密封剂构成的主密封剂157，该一条密封剂沿着在将CF基板120a和CF基板120c分离切断时的形成刻划线SL的位置（在图中，为了便于说明，示出在之后形成刻划线SL的位置）上形成。另外，如图10（a）的平面图所示，在成为CF基板120a～120f全部的外形端部的位置的刻划线SL形成的位置，也与CF基板120a和CF基板120c间同样地，沿着刻划线SL形成由一条密封剂构成的主密封剂157。另外，为了这样形成主密封剂157变得高效，在本第二变形例中，全部CF基板120a～120f都紧贴无间隙地排列在母CF基板20上，如图10（a）所示，该主密封剂157形成为包围各液晶面板的显示区域200a～200f的每一个的形状，具有之后包围密封液晶材料的多个密封区域而形成，对于各密封区域，使用滴下液滴状的液晶材料140dp的滴下注入法形成液晶层140。

这样，在本第二变形例中，在各CF基板120a～120f间或者之后包围密封液晶材料的多个密封区域间，形成由一体化的一条密封剂构成的主密封剂157，所以，无需如实施方式1以及变形例那样以包围各CF基板120a～120f的显示区域200a～200f的方式分别形成主密封剂150a～150f，如图10（a）的平面图所示，在母CF基板20上，在纵向和横向平行地、即在图中X方向、Y方向上根据刻划线SL条数形成平行的主密封剂157即可。与实施方式1同样地，以仅在液晶面板100的一边形成有信号端子118的情况为例，因此，在相邻面板间配置有信号端子118的形成区域的与信号端子118的形成区域平行的方向（图中Y方向）上，在相邻面板间形成二条主密封剂157，在相邻面板间未配置信号端子118的形成区域的与信号端子118的形成区域垂直的方向（图中X方向），形成一条主密封剂157。此外，如先前说明的那样，由该一条主密封剂157形成实施方式1中的刻划线SL两侧的主密封图案130和间隙保持件131，所以，以比在实施方式1中所涂敷的主密封剂150粗的宽度、更具体地说以2倍至3倍的宽度左右形成即可。另外，在本第二变形例中，在利用分配器方式涂敷形成密封剂时，与实施方式1相比较，喷嘴进行动作的距离显著变短（至少在相邻的CF基板120a～120f间，两条或三条密封剂的形成变为由一条密封剂形成即可，喷嘴的动作简单地变为1/2至1/3左右。），因此削减处理时间，有助于制造时的低成本化。

就如图10（b）那样对置配置的母TFT基板10和母CF基板20而言，与实施方式1的变形例同样地，在贴合工序S7中，母TFT基板10和母CF基板20接近并贴合。其结果是，沿着形成有刻划线SL的位置上形成的主密封剂157被母TFT基板10和母CF基板20夹压变形而扩展，横跨形成刻划线SL的位置的两侧而扩展。另外，在本第二变形例的主密封剂157中，也与实施方式1的主密封剂150等同样地，在密封剂中混入了隔离件152。在主密封剂157被按压变形时，由该隔离件152保持母TFT基板10和母CF基板20间的基板间隔。然后，与实施方式1同样地，依次进行密封剂硬化工序S8、薄型化研磨工序S9以及视差屏障形成工序S10，形成母单元基板30，但是，在这些工序中，由于没有与实施方式1特别不同之处，故省略详细说明。

接着，使用图11对该第二变形例的划线工序S11进行说明。图11（a）是该第二变形例的母单元基板30的平面图，图11（b）是表示图11（a）中的剖视线Y1-Y2的剖面，分别对应于实施方式1的图6（a）以及图6（b）的状态。如图11（a）所示，在图10（a）中沿着形成刻划线SL的位置上所形成的主密封剂157横跨形成刻划线SL的位置的两侧而扩展，对于在该扩展的主密封剂157上所配置的母CF基板20，形成刻划线SL。如图11（b）所示，在母TFT基板10和母CF基板20各自的表面形成刻划线SL。与实施方式1或者先前说明的实施方式1的变形例相比较，在密封剂涂敷工序S5中在刻划线SL附近下部配置的密封剂的形成的方法不同，但是，其结果是，在刻划线SL下部具有将母CF基板20与母TFT基板10的基板间距离保持为一定范围的功能的密封剂和具有以包围显示区域200的方式配置的在CF基板120和TFT基板110之间的间隙密封液晶层140的主密封图案的功能的密封剂一体化形成这方面为相同的结构。具体地说，如图11（b）所示，在刻划线SL附近下部配置的密封剂中的在液晶层140的周围配置的密封剂成为主密封图案130a以及主密封图案130c，配置在刻划线SL的正下方并且混入了将基板间距离保持为一定范围的隔离件152而具有将基板间距离保持为一定范围的功能的密封剂成为间隙保持件131。因此，其结果是，与实施方式1或者先前说明的实施方式1的变形例同样地，在与由超薄玻璃构成的CF基板120的切断位置相当的基板端附近，具有将与对置配置的TFT基板110的基板间的距离保持为一定范围的间隙保持件131，该间隙保持件131架设配置至与切断位置下部相当的至少CF基板120的基板端，因此，得到与实施方式1同样的效果。

另外，在本第二变形例中，在母TFT基板10的信号端子118周边的基板端全部，配置有间隙保持件131。另外，在实施方式1中，配置密封剥离辅助层154，该密封剥离辅助层154具有在除去需要从母CF基板20或者母TFT基板10除去的不要部切断片155时帮助构成间隙保持件131的密封剂从母TFT基板10表面剥离的作用。因此，在本第二变形例中，关于该密封剥离辅助层154，可以配置在设置于不要部切断片155上的所有的间隙保持件131与母TFT基板10的抵接部分、即配置在不要部切断片155的外端部整个外周的间隙保持件131与母TFT基板10的抵接部分。

在以上说明的实施方式1的第二变形例中，得到与实施方式1同样的效果，并且，采用将CF基板120a～120f全部紧贴无间隙地排列在母CF基板20上并且利用滴下注入法形成液晶层140的方法，由此，不需要形成注入液晶的液晶注入口，所以，在各CF基板120a～120f间，能够将主密封剂157做成单纯的直线形状的密封剂。其结果是，能够高效地形成主密封剂157，削减处理时间，因此能够得到制造时的低成本化的效果。

实施方式2

在实施方式1中，对由与主密封图案130为共同构件的密封剂形成成为本发明的特征结构的间隙保持件131的例子进行了说明。在本实施方式2中，将该间隙保持件131变形为由与在显示区域200配置的柱状隔离件133共同的构件形成的间隙保持件132ps。关于在本实施方式2的液晶显示装置中所使用的液晶面板101的结构，使用图12以及图13的示意图进行说明。图12表示液晶面板整体的结构的平面图，图13表示图12中的C-D剖视线的剖面图。关于与实施方式1的液晶面板100的结构共同的结构，适当省略说明。

在本实施方式2的液晶面板中，如图12以及图13所示，与实施方式1同样地，CF基板120由透明基板即玻璃基板121构成，该玻璃基板121由0.1mm左右的超薄玻璃构成。在由该超薄玻璃构成的CF基板120的下部，在边缘区域的主密封图案130的外侧，设置有对基板切断时的基板间间隙进行保持的间隙保持件132ps。该间隙保持件132ps与实施方式1同样地配置在与CF基板120的基板端对应而形成的刻划线SL的下部，因此，在完成了的液晶面板101中，间隙保持件132ps设置至CF基板120的基板端。

作为本实施方式2的间隙保持件132ps的与实施方式1的间隙保持件131的不同点，间隙保持件132ps由与在显示区域200内配置的柱状隔离件133共同的构件构成。另外，间隙保持件132ps与主密封图案130分离配置，进而，形成为预定的宽度。作为预定的宽度，考虑主密封图案130以及间隙保持件132ps的形成精度（形成宽度精度、形成位置精度）与刻划线SL向CF基板120的形成精度（位置精度），设计为在刻划线SL下部必定配置有间隙保持件132ps的至少一部分、并且与主密封图案130必定分离的预定的宽度。此外，虽然在后面说明，但在本实施方式2中，间隙保持件132ps与柱状隔离件133同时形成，利用照相制版形成，因此，间隙保持件132ps的形成精度本身的偏差能够形成为相对于刻划线SL的形成精度可忽略的程度。因此，作为预定的宽度，设定为仅考虑了刻划线SL的形成精度的宽度即可。具体地说，此处，作为一个例子，以间隙保持件132ps的宽度形成为0.7mm左右、与主密封图案130之间的距离的平均值为0.5mm左右的方式进行设计、管理。以上的值是一个例子，根据所使用的划线形成装置、构成主密封图案130的密封剂的涂敷装置的精度，考虑主密封图案130以及间隙保持件132ps的形成精度（形成宽度精度、形成位置精度）和刻划线SL向CF基板120的形成精度（位置精度），适当调整来决定预定的值即可。另外，从平面图的图12可知，间隙保持件132ps以在CF基板120的四角具有开口部132o的方式被分割，构成为与CF基板120的四边的长度大致对应的长度。

另外，柱状隔离件133和间隙保持件132ps形成为相同的高度，进而，为了在形成柱状隔离件133的显示区域200内和形成间隙保持件132ps的边缘区域使各个位置的基板间间隙一致，在配置间隙保持件132ps的部分，同样地形成有显示区域200内的配置柱状隔离件133的部分的绝缘膜115，进而，适当配置以和与柱状隔离件133重叠的BM125或共同电极123或者在TFT基板110上配置的栅极布线116或源极布线117等相同的厚度形成于相同层的图案等（省略图示）。

接着，对本实施方式2的液晶面板101的制造方法进行说明。关于本实施方式2的液晶面板101的制造方法，特别是，针对与实施方式1的液晶面板100的制造方法相比较产生不同点的工序、即准备形成在CF基板120配置的间隙保持件132ps的母CF基板20的基板准备工序S1、在母CF基板20的一个面涂敷密封剂的密封剂涂敷工序S5、针对母单元基板30在母TFT基板10和母CF基板20各自的表面形成刻划线SL的划线工序S11以及从母单元基板30分割为独立单元基板的单元分割工序S12，以与实施方式1的差异为中心进行说明。

首先，在基板准备工序S1中，准备母CF基板20。准备基本上能与实施方式1的母CF基板20同样地制作了6个CF基板120a～120f的母CF基板即可，关于柱状隔离件133，也利用一般的柱状隔离件的形成方法即感光性树脂膜的涂敷和构图来形成柱状隔离件133即可。在本实施方式2中，在对该母CF基板20的柱状隔离件133进行形成的感光性树脂膜的构图时，同时对间隙保持件132ps进行构图，利用该相同的感光性树脂膜形成。因此，柱状隔离件133和间隙保持件132ps由相同的感光性树脂膜材料形成为相同的高度，同时（通过共同的构图工序）形成。另外，对于形成间隙保持件132ps的位置来说，在以后实施的划线工序S11中形成刻划线SL的位置，形成为在图12的结构中所说明的间隙保持件132ps的图案形状。但是，在母CF基板20上，间隙保持件132ps横跨该刻划线SL的两侧，分别形成于在刻划线SL的两侧相邻配置的CF基板120a～120f上。即使是平面配置，间隙保持件132ps也沿着在各CF基板120a～120f的基板端位置形成的刻划线SL并横跨该刻划线SL的两侧配置。此外，横跨刻划线SL的两侧配置的间隙保持件132ps不需要利用由与柱状隔离件133共同的构件形成的完全一体化的图案构成，例如，可以通过密集配置由与在显示区域200配置的柱状隔离件133同样的形状的柱状隔离件133共同的构件形成的图案来构成。此外，在由某种程度一体化的图案构成的情况下，也优选由以刻划线SL为边界而分离的图案构成。

接着，图14（a）是说明本实施方式2的密封剂涂敷工序S5的图，与液晶滴下工序S6完成并且母TFT基板10和母CF基板20被贴合之前的状态、即实施方式1的图5（a）的状态对应。此处，主要说明从实施方式1变更的部分，对重复的部分适当省略说明。如图14（a）所示，在本实施方式2中，在相邻配置的CF基板120a和CF基板120c之间（与CF基板120a和CF基板120c被分离切断时的切断线上相当），在主密封剂150a和主密封剂150c间形成有间隙保持件132ps，在CF基板120a的与CF基板120c相邻的一侧相反的一侧的端部，在主密封剂150a的外侧仅配置有间隙保持件132ps（与CF基板120a和母CF基板20的周边不要部玻璃被分离切断时的切断线上相当）。

 这样对置配置的母TFT基板10和母CF基板20与实施方式1同样地在贴合工序S7中在图14（a）的箭头的方向上接近并贴合。其结果是，主密封剂150a以及150c被母TFT基板10和母CF基板20夹压变形而扩展，形成主密封图案130a以及主密封图案130c。另外，在母TFT基板10和母CF基板20被贴合时，在相邻配置的CF基板120a和CF基板120c间的形成刻划线SL的位置的附近，由间隙保持件132ps保持母TFT基板10和母CF基板20间的基板间隔。进而，间隙保持件132ps具有以在各CF基板的四角具有开口部132o的方式被分割的结构。因此，对于外部开放，密封图案130a～130f与间隙保持件132ps间不会形成完全封闭的空间。因此，在从贴合工序S7的贴合后的真空向大气开放时，不会发生由封闭的空间与外部之间的压力差引起的密封穿孔（密封剂的图案的破裂或者破坏）等。在贴合工序S7之后，与实施方式1同样地，依次进行密封剂硬化工序S8、薄型化研磨工序S9、以及视差屏障形成工序S10，形成母单元基板30，但是，在这些工序中，由于没有与实施方式1特别不同之处，故省略详细说明。

接着，对在本实施方式2中成为要点的划线工序S11进行说明。图14（b）表示本实施方式2的划线工序S11时的CF基板120a和TFT基板110a的边缘区域处的状况，与对实施方式1的划线工序S11进行说明时的图6（b）对应。对于到视差屏障形成工序S10为止所形成的母单元基板30，如图14（b）所示，利用刀轮WH在母TFT基板10和母CF基板20各自的表面形成刻划线SL，但是，在由特别成为问题的超薄玻璃构成的母CF基板20的刻划线SL形成部分，在刻划线SL上，在母CF基板20下层配置有与由在显示区域200内配置的柱状隔离件133共同的构件构成的间隙保持件132ps，利用该间隙保持件132ps，能够将母CF基板20和母TFT基板10的基板间距离保持为一定范围。因此，在为了形成切痕而将刀轮WH按压在刻划线SL形成部分的母CF基板20表面时，也由间隙保持件132ps保持由0.lmm左右的超薄玻璃构成的母CF基板20，不会发生挠曲，针对刀轮WH的按压的回弹力也稳定，因此，刀轮WH在母CF基板20表面的旋转和由旋转推进的刀轮WH扫掠也稳定。其结果是，与实施方式1或者实施方式1的变形例同样地，能够形成稳定的刻划线SL，能够抑制以后说明的单元分割工序中通过切断而得到的超薄玻璃端面残存微小裂纹等的切断损伤以及在切断时发生裂开等的不良。

另外，如在结构的说明中所说明的那样，间隙保持件132ps沿着在各CF基板120a～120f的基板端位置形成的刻划线SL横跨该刻划线SL的两侧配置，进而，作为间隙保持件132ps的宽度，考虑主密封图案130以及间隙保持件132ps的形成精度（形成宽度精度、形成位置精度）和刻划线SL向CF基板120的形成精度（位置精度），设计为在刻划线SL下部必定配置间隙保持件132ps的至少一部分并且与主密封图案130必定分离预定的宽度。因此，在形成刻划线SL时，在以密封位置精度和划线位置精度的范围形成刻划线SL的刀轮WH所抵接的部分的由超薄玻璃构成的母CF基板20的下部，必定配置有间隙保持件132ps的至少一部分。其结果是，在刻划线SL的形成中的整个期间，划线用的刀轮WH所抵接的母CF基板20被间隙保持件132ps从下部保持，能够形成稳定的刻划线SL。

在接着进行的从母单元基板30分割为独立单元基板的单元分割工序S12中，与实施方式1同样地，对在先前说明的划线工序S11中形成的刻划线SL附近施加应力，由此，按照各个独立单元基板的TFT基板110a～110f和CF基板120a～120f的形状进行分割，从母单元基板30分割为独立单元基板。在本实施方式2中，也如先前说明的那样，关于在划线工序S11中形成的刻画线SL，能够形成稳定的刻划线SL，由此，在刻划线SL附近很少发生微小裂纹，刻划线SL的直线性也良好，因此，在该单元分割工序中通过切断而得到的CF基板120a～120f的超薄玻璃端面残存微小裂纹等的切断损伤以及在切断时发生裂开等的不良被抑制。

另外，在除去需要从在该单元分割工序S12中实施的母CF基板20或者母TFT基板10除去的不要部切断片155时，在实施方式1中，配置起到帮助构成间隙保持件131的密封剂从母TFT基板10表面剥离的作用的密封剥离辅助层154，由此，容易除去不要部切断片155，防止对TFT基板110造成损伤。本实施方式2的间隙保持件132ps与主密封图案130分离配置，进而，间隙保持件132ps由与柱状隔离件133共同的构件构成，所以，与母CF基板20以及母TFT基板10未完全粘接一体化（柱状隔离件133以及间隙保持件132ps仅固定在母CF基板20以及母TFT基板10中的任一个上，在本实施方式2或者实施方式1中，仅固定形成在母CF基板20上，仅与母TFT基板10抵接），所以，不要部切断片155没有固定于母TFT基板10，不要部切断片155的除去变得容易。即，能够省略配置密封剥离辅助层154，与实施方式1同样地，在将间隙保持件132ps架设配置于不要部切断片155的情况下，也能够防止对TFT基板110造成损伤来进行制造。另外，如果间隙保持件132ps由以刻划线SL为边界而分离的图案构成，则不要部切断片155的除去变得更容易。此外，上述说明的作用不限于间隙保持件132ps由与柱状隔离件133共同的构件构成的情况，即使仅是间隙保持件132ps与密封图案130分离配置，由于不要部切断片155与母TFT基板10的固定程度变弱，所以也能够得到上述作用，能够得到防止使TFT基板110发生损伤的一定的效果。

关于单元分割工序S12之后的工序，由于与实施方式1相同，故省略详细说明，此处，结束与本实施方式2的液晶面板101的制造方法相关的说明。以上，在构成对结构以及制造方法依次进行了说明的实施方式2的液晶显示装置的液晶面板101中，与实施方式1或者实施方式1的变形例相比较，不同之处在于，在刻划线SL附近下部配置的具有将母CF基板20和母TFT基板10的基板间距离保持为一定范围的功能的密封剂变更为由与在显示区域200内配置的柱状隔离件133共同的构件构成的间隙保持件132ps，但是，如下这一点具有与实施方式1或者实施方式1的变形例同样的结构：在与由超薄玻璃构成的CF基板120的切断位置相当的基板端附近具有将与对置配置的TFT基板110的基板间的距离保持为一定范围的间隙保持件132ps，进而，该间隙保持件132ps架设配置至与切断位置下部相当的至少CF基板120的基板端。因此，与实施方式1或者实施方式1的变形例同样地，能够得到如下等的效果：在为了在截取CF基板120的母CF基板20的表面形成切痕而将划线用的刀轮WH按压在由超薄玻璃构成的母CF基板20表面时，母CF基板20也由间隙保持件132ps保持，不会挠曲；针对刀轮WH的按压的回弹力稳定、或者刀轮WH在母CF基板20表面的旋转和由旋转推进的刀轮WH扫掠稳定；能够形成稳定的刻划线SL；能够形成稳定的刻划线SL，由此，在刻划线SL附近很少发生微小裂纹；刻划线SL的直线性良好；进而，通过实施以这样形成的刻划线SL为基础的单元分割工序，由此，在利用切断而得到的CF基板120a～120f的超薄玻璃端面残存微小裂纹等的切断损伤被抑制；在切断时发生裂开等的不良被抑制。进而，由于该间隙保持件132ps也架设配置至由超薄玻璃基板构成的CF基板120的基板端，所以，能够将液晶面板100的超薄玻璃端面附近加强，从而能够提高液晶显示装置的耐久性以及可靠性。

进而，在本实施方式2的液晶面板中，间隙保持件132ps由与柱状隔离件133相同的材料形成，在形成柱状隔离件133时，能够与柱状隔离件133同时形成。因此，在不会特别增加制造工序的情况下，就能够配置由与柱状隔离件133共同的材料构成的将基板间的距离保持为一定范围的间隙保持件132ps。另外，在刻划线SL附近，间隙保持件132ps与主密封图案130分离配置，进而，由与柱状隔离件133共同的构件构成，因此，在单元分割工序中，由与信号端子118对置的母CF基板20部分构成的不要部切断片155的除去变得容易，能够防止使TFT基板110发生裂开等损伤并能够高成品率地进行制造。另外，间隙保持件132ps形成为考虑了主密封图案130的形成精度和在由超薄玻璃构成的一个基板上形成切痕的形成精度的预定的宽度，由此，在形成刻划线SL时，在形成刻划线SL的刀轮WH所抵接的部分的由超薄玻璃构成的母CF基板20的下部，必定配置有间隙保持件132ps的至少一部分，能够可靠地得到先前说明的能够稳定地形成刻划线SL带来的效果。进而，间隙保持件132ps设计为与主密封图案130必定分离的预定的宽度，由此，能够可靠地得到不要部切断片155的除去变得容易的效果。进而，间隙保持件132ps具有以在各CF基板的四角具有开口部132o的方式被分割的结构，由此，在贴合工序S7中，不会发生由封闭的空间与外部之间的压力差导致的密封穿孔（密封剂的图案的破裂或者破坏）等，能够成品率较好地进行制造。

在构成以上说明的实施方式2的液晶显示装置的液晶面板101中，对使由与在显示区域200内配置的柱状隔离件133共同的构件构成的间隙保持件132ps与主密封图案130分离配置的结构进行了说明。由与该柱状隔离件133共同的构件构成的间隙保持件132ps可以如图15（a）或者图15（b）所示那样使结构发生部分变形。此外，图15（a）以及图15（b）是表示成为要点的划线工序S11中的相邻的CF基板120a和CF基板120c间的刻划线SL和间隙保持件的结构的剖视图，相当于实施方式2的图14（b）的CF基板120a和CF基板120c间的部分。例如，作为一个变形例，如图15（a）所示那样，可以以如下方式变更：与实施方式1中的间隙保持件131同样地，从成为基板端的刻划线SL填埋至形成有在刻划线SL的两侧或者单侧配置的主密封图案130的区域，形成间隙保持件132ps。此外，可以如下构成：与实施方式2同样地，在间隙保持件132ps的形成部分，不需要利用由与柱状隔离件133共同的构件构成的完全一体化的图案构成，例如，密集配置与在显示区域200配置的柱状隔离件133同样的形状的由与柱状隔离件133共同的构件构成的图案。这样填埋至形成主密封图案130的区域以形成间隙保持件132ps的结构的情况下，不特别考虑刻划线SL的形成精度，就能够在刻划线SL下部必定配置间隙保持件132ps的至少一部分，能够比较容易地得到稳定形成刻划线SL带来的效果。进而，间隙保持件132ps与实施方式2同样地由与柱状隔离件133共同的构件构成，因此，在单元分割工序中，由与信号端子118对置的母CF基板20部分构成的不要部切断片155的除去变得容易，防止使TFT基板110发生裂开等损伤，能够成品率较好地进行制造。

另外，作为另一个变形例，对实施方式2的间隙保持件132ps变更构件，如图15（b）所示，与实施方式1的间隙保持件131同样地，利用成为与主密封图案130共同的构件的混入了将基板间的距离保持为一定范围的隔离件152的密封剂，变更为具有与主密封图案130分离配置的结构的间隙保持件132也可以。在该情况下，间隙保持件132由与主密封图案130相同的材料形成，在形成主密封图案130时，能够与主密封图案130同时形成。因此，在不特别增加制造工序的情况下，就能够配置将基板间的距离保持为一定范围的间隙保持件132。另外，与实施方式2的结构同样地，在刻划线SL附近，间隙保持件132与主密封图案130分离配置，所以，在单元分割工序中，由与信号端子118对置的母CF基板20部分构成的不要部切断片155的除去变得容易，能够防止使TFT基板110发生裂开等的损伤，成品率较好地进行制造。此外，该变形例的间隙保持件132的结构与实施方式1相比，与实施方式2同样地与主密封图案130分离配置，固定在母TFT基板10和母CF基板20这两者上的区域少，因此，即使不配置如在实施方式1中所设置的密封剥离辅助件，也难以发生除去不要部切断片155时的损伤。但是，与实施方式2的结构相比，间隙保持件132是固定在母TFT基板10和母CF基板20这两者上的结构，因此，与实施方式1同样地，可以适当配置密封剥离辅助件，进而能够成品率较好地进行制造。另外，与实施方式2同样地，在间隙保持件132和主密封图案130之间形成有间隙，所以，优选取得与实施方式2的间隙保持件132ps同样地以在各CF基板的四角具有开口部1320的方式被分割的结构，在贴合工序S7中，不会发生由封闭的空间和外部之间的压力差导致的密封穿孔（密封剂的图案的破裂或者破坏）等，能够成品率较好地进行制造。

另外，间隙保持件132与实施方式2的间隙保持件132ps同样地，可以形成为考虑了主密封图案130的形成精度和在由超薄玻璃构成的一个基板上形成切痕的形成精度后的预定的宽度，但是，与构成间隙保持件132的密封剂也涂敷在母CF基板20上时相比，贴合工序后的宽度等发生变化，因此，关于贴合工序后的宽度，需要设定为与间隙保持件132ps同样的预定的宽度。具体地说，作为与间隙保持件132ps同样的预定的宽度，例如，若与实施方式2同样地使间隙保持件132形成为0.7mm左右，则密封剂的宽度的大致目标形成为如下的值，即，对0.7mm乘以基板间距离并除以所形成的密封剂的高度而得到的值。另外，关于间隙保持件132和主密封图案130间的距离，由于间隙保持件132的形成位置精度比间隙保持件132ps的形成位置精度差，所以，在此可以设计为具有0.7mm左右的若干量的余量。此外，与实施方式2同样地，以上的值为一个例子，根据所使用的划线形成装置、构成间隙保持件132以及主密封图案130的密封剂的涂敷装置的精度，考虑主密封图案130以及间隙保持件132的形成精度（形成宽度精度、形成位置精度）和在CF基板120上形成刻划线SL的形成精度（位置精度），适当地进行调整来决定预定的值即可。如以上那样，在划线工序S11中，间隙保持件132形成为预定的宽度，由此，在形成刻划线SL时，在形成刻划线SL的刀轮WH所抵接的部分的由超薄玻璃构成的母CF基板20的下部，必定设置有间隙保持件132的至少一部分，能够可靠地得到与实施方式2同样的稳定形成刻划线SL带来的效果。进而，间隙保持件132设计为与主密封图案130必定分离的预定的宽度，从而能够可靠地得到不要部切断片155的除去变得容易的效果。

此外，在实施方式1、2以及变形例中，对应用于仅一个基板为超薄玻璃的双画面显示器液晶面板的本发明的应用例进行了说明。本发明在至少一个基板由超薄玻璃构成的情况下得到共同的效果，因此，能够应用于TFT基板和CF基板这二者使用了超薄玻璃的弯曲显示器和仅一个基板使用了超薄玻璃的反射型显示器等。另外，作为视为超薄玻璃的基板厚度的范围，在实施方式1、2以及变形例中，以0.1mm左右作为代表性的厚度进行了说明，但是，在小于0.2mm左右，关于在实施方式1、2以及变形例中进行说明的效果，与使用在一般的液晶显示装置中使用的程度的薄板玻璃即基板厚度为0.3mm左右的玻璃基板的液晶显示装置相比，得到有益的效果。另外，关于下限，解释为在现有文献中也有记载的在液晶显示装置所使用的玻璃基板的下限的基板厚度即0.01mm以上的范围。因此，在本说明书中所使用的超薄玻璃定义为具有0.01mm以上且小于0.2mm的范围的基板厚度的玻璃，以该意义进行记载。从以上可知，作为本发明的效果，不限于在实施方式1、2以及变形例中例示的0.1mm左右的超薄玻璃，在使用具有0.01mm以上且小于0.2mm的范围的基板厚度的超薄玻璃的情况下，也能够得到与实施方式1、2以及变形例同样的效果。

Claims (9)

1.一种液晶显示装置，其特征在于，具有：

一对基板，对置配置并且至少一个由超薄玻璃构成；

液晶材料，配置在所述一对基板间；

主密封图案，配置在所述一对基板间，将所述一对基板贴合，并且包围密封所述液晶材料；

间隙保持件，在利用由所述超薄玻璃构成的一个基板的切断而形成的基板端附近，至少架设配置至该基板端，将所述一对基板间的距离保持为一定范围。

2.如权利要求1所述的液晶显示装置，其特征在于，

间隙保持件与主密封图案分离形成。

3.如权利要求2所述的液晶显示装置，其特征在于，

间隙保持件在一部分具有开口部，该开口部用于将在该间隙保持件和主密封图案间所形成的空间从由该间隙保持件包围的区域向外部开放。

4.如权利要求1所述的液晶显示装置，其特征在于，

间隙保持件填埋从基板端至形成主密封图案的区域而形成。

5.如权利要求1～4的任一项所述的液晶显示装置，其特征在于，

在显示区域配置有将一对基板间的距离保持为一定范围的柱状隔离件，间隙保持件由与所述柱状隔离件相同的材料形成为相同的高度。

6.如权利要求1～4的任一项所述的液晶显示装置，其特征在于，

在主密封图案中混入有将一对基板间的距离保持为一定范围的隔离件，间隙保持件由与所述主密封图案相同的材料形成。

7.一种权利要求6所述的液晶显示装置的制造方法，其特征在于，包括如下工序：

准备一对母基板；

在所述一对母基板中的一个母基板上形成具有对液晶材料进行包围密封的多个密封区域的主密封剂；

对所述主密封剂的多个密封区域滴下液晶材料；

将所述一对母基板贴合，由此，在所述多个密封区域间，由所述主密封剂形成为使分别包围所述多个密封区域来密封液晶材料的多个主密封图案和在该多个主密封图案间配置的间隙保持件一体化的结构。

8. 一种液晶显示器的制造方法，其特征在于，包括如下工序：

准备一对母基板；

在所述一对母基板中的一个母基板上形成具有对液晶构件进行包围密封的多个密封区域的主密封图案和位于所述主密封图案间的间隙保持件；

将所述一对母基板贴合，由此，形成将所述主密封图案和所述间隙保持件一体化的一体化结构；

在与所述间隙保持件对应的位置切割所述贴合的母基板。

9. 一种液晶显示器的制造方法，其特征在于，包括如下工序：

准备一对母基板；

在所述一对母基板中的任意一个上形成具有对液晶材料进行包围密封的多个密封区域的主密封图案；

在所述多个密封区域间配置将所述一对基板间的距离保持为一定范围的间隙保持件；

将所述一对母基板贴合；

使所述一对母基板中的至少一个母基板变薄来形成超薄玻璃；

在所述一对母基板的至少一个母基板上，在与所述间隙保持件对应的位置形成刻划线来切断所述一对母基板中的至少一个母基板。

Images