CN102736400B - 防尘薄膜、其制造方法以及用该膜贴付的防尘薄膜组件 - Google Patents

Abstract

本发明提供一种将含有i线、h线、g线的350至450nm的波长领域的紫外线进行照射的光刻工程中适宜的，便宜的耐光性优良的防尘薄膜。本发明的薄膜是在用350至450nm的波长领域的紫外线进行照射的光刻工程中被使用防尘薄膜组件用防尘薄膜。该防尘薄膜的特征是，在原料防尘薄膜的至少曝光光源侧的表面，对350至450nm的波长领域的紫外线的平均透过率为90％以上，同时有对200至300nm的波长领域的紫外线的平均透过率为50％以下的紫外线吸收层。

Description

防尘薄膜、其制造方法以及用该膜贴付的防尘薄膜组件

技术领域

本发明涉及半导体装置，IC封装，印刷基板，液晶显示器或者有机ＥＬ显示器等的制造时作为防尘物使用的防尘薄膜组件，特别是涉及作为曝光光源，使用ｉ线（365ｎｍ），ｈ线（405ｎｍ）或者ｇ线（436ｎｍ）的任一个或者它们复合在一起的紫外线的光刻工程中使用的防尘薄膜，其制造方法以及将该膜绷紧贴付的防尘薄膜组件。

背景技术

LSI，超LSI等的半导体，ＩＣ封装体，印刷基板等的电路基板，液晶显示器以及有机EL显示器等的制造中，在半导体晶片，封装基板或者显示器用原板表面设置光刻胶，然后，通过具有图案的光掩模向其照射光，显影以制作图案。此时所用的光掩模或者中间掩模（以下，均称光掩模）如有灰尘付着，该灰尘对光进行吸收,或使光弯曲，如此转印的图案就会变形，图案的边缘就会模糊，基底变的变黒等，最终产品的尺寸，品质以及外观等受损。

因此，这些操作通常在无尘室中进行，但是即使如此要使光掩模时常清洁也是困难的。因此，要在光掩模表面作为防尘物将防尘薄膜组件贴付后再进行曝光。在该場合，异物就不会在光掩模的表面上直接付着，而是在防尘薄膜组件上付着，这样光刻时只要将焦点对准光掩模的图案上，防尘薄膜组件上的异物就与转印无关了。

一般，防尘薄膜组件，是将光良好透过的透明的防尘薄膜在由铝，不锈钢以及工程塑料等形成的防尘薄膜组件框架的上端面贴付，或粘接制作。进一步，在防尘薄膜组件框架的下端，为了光掩模的安装，设置由聚丁烯树脂，聚乙酸乙烯基酯树脂，丙烯酸树脂，热溶胶粘着剂或硅氧烷树脂等形成的粘着层，以及根据必要，还要设置以保护该粘着层的为目的的离型层（剥离片）。

另外，在防尘薄膜组件被贴付于光掩模的状态，为了使防尘薄膜组件内部围成的空间与外部没有气压差，在防尘薄膜组件框架的一部分设置气压调整用的小孔，为了防止通过该小孔的移动空气带入异物，有时也设置过滤器。

作为防尘薄膜，要选择与曝光使用的光源相对应的最适宜的材料。例如，ＡｒＦ激光（193ｎｍ），或者ＫｒＦ激光（248ｎｍ）被使用的場合，对该波长的光有充分的透过率和耐光性的氟类树脂被使用（专利文献1）。

另外，在使用ｉ线（365ｎｍ），ｈ线（405ｎｍ）以及ｇ线（436ｎｍ）进行曝光的場合，可以使用硝化纤维素，乙基纤维素，丙酸纤维素等的纤维素类树脂，聚乙烯基缩醛树脂以及环烯类树脂等（专利文献2，3以及4）。这些的光源中，一般使用高压水银灯或者超高压水银灯。

高压水银灯以及超高压水银灯，具有在254至577ｎｍ之间具有数个峰的宽波长的特性。它们之中，从光刻中的发光量以及光能量的观点，最高強度的为ｉ线（365ｎｍ），然后为ｇ线（436ｎｍ）以及ｈ线（405ｎｍ）的光可以良好地使用，偶尔也使用313ｎｍ的光。另外，显示器制造用等的量被特别重视的場合，并不使用特定的波的光，而是使用例如365ｎｍ至436ｎｍ的全部的光。

上述的氟树脂，对短波长几乎没有吸收，可以使用短波长，高能量的ＫｒＦ激光以及ＡｒＦ激光的波长，所以使用比它们的能量低的ｉ线，ｇ线等的波长也当然也完全没有问题。但是氟树脂有成本极高的缺点。因此一般，在ｉ线至ｇ线的波长领域，作为防尘薄膜材料考虑种种的特性，多使用便于使用的纤维素类树脂等。

另外，也有以提高防尘薄膜的透光率为目的，在其一面或两面上设置反射防止膜的多层结构的情况。特别是，折射率高反射多的纤维素系树脂等被用做氟系树脂的反射防止膜的场合更是如此。另以，也有在防尘薄膜的内面设置有机硅粘着剂层，由此将附着在防尘薄膜内侧的异物固定，防止其落到光掩模上的情况(专利文献5)。有机硅氧烷树脂的透光率，由于其耐光性优良，甚至有的种类还具有对波长短的光的高透光率，所以可以用于在防尘薄膜上进行层叠。

【先有技术文献】

【专利文献】

【专利文献1】特开平03－39963

【专利文献2】特开平01－100549

【专利文献3】特开平01－172430

【专利文献4】特开2010－152308

特许文献5特开平5－88359

近年，在光刻工程中，为了用更细的线来对电路进行描绘，以及提高生产性，要求更高的曝光強度。曝光強度变高，防尘薄膜的紫外线造成的老化被促进，从而发生膜厚的減少，透过率的变低，海斯(ヘイズ)的发生等的问题。具体地说，被光掩模的铬（Cr)层遮光的部分由于没有被紫外线照射所以没有任何变化，但是没有Ｃｒ层的部分（图案被描绘的部分），防尘薄膜表面直接被紫外线照射，该部分的膜会损伤。

如上述，曝光光源在使用高压水银灯或者超高压水银灯的場合，这些光源发生的光中，不仅有曝光用的ｉ线，ｈ线，ｇ线，还有其他波长的光，其代表性的可以例举254ｎｍ，302ｎｍ，313ｎｍ等的短波长光。这些短波长的光，特别是254ｎｍ的光，具有比纤维素类树脂等构成防尘薄膜的分子的键能量还要高能量，其键就会被切断。键被切断的分子被分解,气化，防尘薄膜表面被削取,膜厚減少。

部分防尘薄膜组件的膜厚減少，光路长变得不均一,除光学上不不令认满意得之外，表面变得不平整,光会散射，透过率变低。另外，膜強度減少，进一步严重的場合，防尘薄膜上的张力变的不均一，防尘薄膜表面上就会发生折皱。

要防止这样的问题，在曝光光源发生的光中，将254ｎｍ，302ｎｍ，313ｎｍ等图案化不使用的短波长的光除去即可。作为其方法，例如，可以例举从曝光光源到光掩模的光路中,插入仅将这些短波长光除去的过滤器，或者，插入对这些的短波长的光以外的光进行反射的反光镜等。另外，在没有光掩模的图案面的侧，附加具有同样的过滤器功能的层也可。这些过滤器功能，在石英玻璃等的过滤器用基板以及光掩模自体的图案面的相反侧，例如，将ＴｉＯ₂，ＺｎＯ₂，ＣｅＯ₂等的在短波长领域有吸收的无机材料，用蒸镀以及溅射等的方法进行付着就可以得到。但是，这样的加工的成本不一定便宜，而且这些的材料具有折射率高,反射大，有使曝光使用的光的強度变低的坏处。因此，不是在曝光机和光掩模侧的进行对应，而是要在防尘薄膜组件侧进行对应。

但是，上述的无机材料在防尘薄膜上付与是极为困难的。蒸镀以及溅射进行时有必要将防尘薄膜在真空室内收纳是有必要的，这是由于減压时以及向大气压的复旧时,在中真空室内,大量的空气的出入会发生，由此防尘薄膜上有大量的异物付着。但是，防尘薄膜与玻璃基板等不同,不能洗浄。因此，要求有极高的清洁度的防尘薄膜上有异物付着的場合，立即会变成不良。

由于上述的理由，至今为止，还没有出现使用便宜的纤维素类树脂构成的防尘薄膜，对短波长的光的耐久性优良的防尘薄膜。因此，在问题发生前，防尘薄膜的贴换这种方法就不得不采用。

发明内容

因此本发明的第1目的，是提供一种对使用ｉ线，ｈ线，ｇ线的曝光适宜的，对254ｎｍ，313ｎｍ等的短波长紫外线耐性高，便宜的防尘薄膜。

本发明的第2目的，是提供一种350至450ｎｍ的波长领域的紫外线光刻工程中被使用，便宜且耐久性优良的防尘薄膜的制造方法。

进一步本发明的第3目的，是提供一种350至450ｎｍ的波长领域的紫外线的光刻工程中可以使用的，便宜的防尘薄膜组件。

本发明的上述的诸目的就是提供一种在使用350至450ｎｍ的波长领域的紫外线照射光刻工程中被使用的防尘薄膜组件用防尘薄膜，该防尘薄膜为，原料防尘薄膜的至少在曝光光源侧的表面上具有紫外线吸收层，该紫外线吸收层，对上述350至450ｎｍ的波长领域的紫外线的平均透过率为90％以上，同时对200至300ｎｍ的波长领域的紫外线的平均透过率为50％以下。本发明还提供该防尘薄膜的制造方法以及使用该防尘薄膜的防尘薄膜组件。

本发明中，优选在上述紫外线吸收层的上进一步有反射防止层。另外，上述紫外线吸收层有硅氧烷树脂构成为优选，紫外线吸收层的折射率以1.50以下为优选。

发明的効果

本发明的防尘薄膜，尽管使用与以往相同的便宜的材料，例如纤维素类树脂、聚乙烯基缩醛树脂、环烯类树脂等，但是对在曝光光中作为不要成分存在的300ｎｍ以下的成分的光耐性高，与以往的防尘薄膜相比大幅度地提高了耐光性的优良之物。为此，可以使用更高地曝光强度，曝光品质以及量的提高可以达成。另外，也可对使用中的膜厚的减少小，折皱与模糊的发生等的问题也可以防止，可以长期维持曝光品质。

附图说明

图1为表示本发明的防尘薄膜组件的基本构造的截面图；

图2为具有紫外线吸收层的本发明的防尘薄膜的截面图；

图3为在紫外线吸收层上，进一步加上反射防止层的本发明的防尘薄膜的截面图；

图4为本发明的防尘薄膜组件的概略立体图。

【记号的说明】

11 防尘薄膜组件框架

12 粘着层

13 粘接层

14 剥离片

15 有紫外线吸收层的本发明的防尘薄膜

21 原料防尘薄膜

22 紫外线吸收层

23 反射防止层

40 本发明的防尘薄膜组件

41 防尘薄膜组件框架

42 沟

43 夹具穴

44 粘着层

45 粘接层

46 通气孔

47 过滤器

48 有紫外线吸收层的本发明的防尘薄膜

具体实施方式

构成本发明的防尘薄膜的原料防尘薄膜的材料，可以在公知的材料中进行适宜选择，可以例举硝化纤维素、乙基纤维素、纤维素乙酸酯、纤维素丙酸酯以及纤维素乙酰丙酸酯等的纤维素类树脂，聚乙烯基缩醛树脂以及环烯类树脂等，可以使用与以往相同的便宜的材料。这些的材料，对在图案化中被使用350至450ｎｍ的波长的光具有充分的耐性，但是对作为曝光光中以不需要成分存在的300ｎｍ以下的短波长的耐性低，由此老化快。本发明中，防尘薄膜的入射侧表面设置的紫外线吸收层，能防止上述短波长成分到达原料防尘薄膜，由此耐光性被大幅度改善。

上述紫外线吸收层，特别是350至450ｎｍ的波长领域的紫外线的平均透过率为90％以上，同时对200至300ｎｍ的波长领域的紫外线的平均透过率为50％以下是必要的。这样的紫外线吸收层的材料可以从公知物中适宜选择，本发明中，特别是，以紫外线吸收层用硅氧烷树脂构成为优选。硅氧烷树脂作为紫外线吸收层来使用时，与无机材料不同，可以在溶媒中溶解的溶液状态进行涂布成膜，与通常的防尘薄膜的制造的場合相同,本发明的防尘薄膜的制造也是可能的。由此,就可以得到本发明的异物的少，清洁的防尘薄膜。另外，硅氧烷树脂耐光性优良，具有由于紫外线吸收而老化的程度极少的优点。

本发明的防尘薄膜中，紫外线吸收层之外，以进一步设置反射防止层为优选。反射防止层，根据付与的上述紫外线吸收层的折射率对材料、膜厚以及付与的位置进行考虑即可。反射防止层，可以作为入射侧的防尘薄膜最外层,出射侧的最外层或者其两侧的最外层来设置，根据折射率的组合，在紫外线吸收层和原料防尘薄膜的中间设置也可。另外，反射防止层的材料不限于1种类，可以多种类组合，将反射防止层制为多层构造也可以。

另外，本发明中，上述紫外线吸收层的折射率为1.50以下，也可在其具有紫外线吸收功能的同时,让其具有作为反射防止层的功能也可以。

本发明的防尘薄膜，优选在构成本发明的防尘薄膜的原料防尘薄膜、紫外线吸收层以及反射防止层之中，将最外层的一个的材料溶液在成膜基板上涂布，将其干燥，固化后，在该干燥固化的层上，根据所希望的膜构造的顺序，反复进行同样的对各层的构成材料进行涂布、干燥以及固化工程，最后，将成膜基板上形成叠层的防尘薄膜的整体，从成膜基板上剥离即可。该手法，与通常的防尘薄膜的制造方法同样，可以得到异物的付着少，具有紫外线吸收层的本发明的防尘薄膜。

防尘薄膜的曝光光源侧为原料防尘薄膜老化的主原因，由于本发明的防尘薄膜具有对200至300ｎｍ的波长领域的紫外线吸收的紫外线吸收层，所以原料防尘薄膜不使用高价的氟类树脂,也可以成为耐光性优良的防尘薄膜。特别是，如上述，作为紫外线吸收层,使用硅氧烷树脂的場合，可以在溶媒中溶解,进行紫外线吸收层涂布，即以与通常的防尘薄膜制造的場合同样的方法就可以对本发明的防尘薄膜加以制造，得到耐久性优良,同时异物的少，便宜清洁的防尘薄膜。

图1为本发明的防尘薄膜组件的外形的表示截面图。图中的符号15为本发明的防尘薄膜，介于粘接层13，对防尘薄膜组件框架11以适当的张力贴付。符号12是使用时在光掩模上进行防尘薄膜组件的贴付的粘着层，14为在使用前来保护粘着层的剥离片。

图2，为图1中的防尘薄膜Ａ部的放大截面图。符号21为原料防尘薄膜，符号22为紫外线吸收层。图3与图2相同,为图1中的防尘薄膜Ａ部的放大截面图，为在紫外线吸收层22上加上反射防止层23的实施方式的情况。

本发明的防尘薄膜组件，在利用350至450ｎｍ的波长领域的紫外线的所有的光刻中，可以作为防尘薄膜组件使用，其使用波长，用途，大小等没有制限。本发明的防尘薄膜贴付的防尘薄膜组件框架11的材料，可以是工程塑料，钢铁，不锈钢，铝合金，钛以及其合金，ＣＦＲＰ等，在公知的防尘薄膜组件框架使用的材料中进行适宜选择即可。

本发明的防尘薄膜15使用的原料防尘薄膜21的材料，从公知的防尘薄膜材料的中进行适宜的选择即可。也可以使用氟类树脂等对350ｎｍ以下的光的耐光性优良的高价的材料,但是在本发明中，是使用硝化纤维素、乙基纤维素、纤维素乙酸酯、纤维素丙酸酯以及纤维素乙酸酯丙酸酯等的纤维素类树脂，聚乙烯基缩醛树脂以及环烯类树脂等便宜之物。

本发明使用的紫外线吸收层22的材料，优选在防尘薄膜被涂布的状态，对350至450ｎｍ的波长领域中的紫外线的平均透过率为90％以上，同时对200至300ｎｍ的波长领域的紫外线的平均透过率为50％以下的有机物质构成，特别是在紫外线的照射下，不发生老化以及不发生灰尘的材料是必要的。从该观点出发，在本发明中，如上述，优选使用不仅透明性高，透过率优良，而且在短波长的紫外线照射下，耐光性也优良的硅氧烷树脂。另外，硬化前的硅氧烷树脂可以溶于甲苯，二甲苯等的有机溶媒,所以易于涂布成膜。

在上述的专利文献5中，为了赋与粘着性之目的，选择即使在短波长范围内也具有高的透光率的硅氧烷树脂，但是，在本发明中，选择了不在曝光中使用的350nm以下的波长时的透光率激剧下降的硅氧烷树脂。另外，虽然将异物固定在在防尘薄膜上可以提高粘着性的信赖性，但是由于具有从成膜基板剥离困难，极难制造的问题，所以在本发明中，没有赋与防尘薄膜粘着性。本发明使用的上述硅氧烷树脂，优选使用导入甲基、苯基的直链硅氧烷树脂，或者，导入聚醚、环氧、胺、羧基、芳烷基以及氟烷基等的有机改性硅氧烷树脂等。在本发明中，对于这些，要从光学的特性以及机械的特性的两面来进行考虑，对具有所希望之特性之物进行选择即可。另外，作为树脂的形态，优选为固体，具有所希望的膜強度以及柔软性。本发明中，不限定这些硅氧烷树脂以及橡胶的硬化物，加热硬化型、2液硬化型以及付加反应型的那一个都可。

本发明中，对本发明的防尘薄膜15的配置，要使曝光的光在到达原料防尘薄膜21之前，就透过紫外线吸收层22，即在光的入射侧有紫外线吸收层。但是，在兼为反射防止膜23的紫外线吸收层的場合，进一步在出射侧，将该紫外线吸收层22重叠设置即可（无图示）。

本发明中，如图3所示，紫外线吸收层22上，进一步加上反射防止层23也可。图3的实施方式中，反射防止层23设置在与紫外线吸收层22设置的表面相反侧的原料防尘薄膜21的表面上，但是也可以用其他方式,可以在紫外线吸收层22上,进一步设置反射防止层。另外，根据紫外线吸收层22的折射率，在紫外线吸收层22和原料防尘薄膜21的中间设置反射防止层也可以。本发明的防尘薄膜15包括这些所有的方式。

反射防止层的材料，从具有比隣接的层的折射率低的折射率的公知的材料的中进行适宜选择即可。例如，在一般的纤维素类树脂形成的原料防尘薄膜表面设置的場合，纤维素类树脂的折射率为约1.5，折射率为1.3至1.35程度的氟类树脂适宜。另外，膜厚以及层数等，根据使用的材料，按公知技术进行适宜设计即可。

根据上述的理由,如使紫外线吸收层22的折射率变为1.5以下，紫外线吸收层22就可以兼有反射防止层的功能,由此，反射防止层就可以省略,或者如图3所示的实施方式那样，加上反射防止层，从光的入射侧算起，为紫外线吸收层（兼反射防止层）→原料防尘薄膜→反射防止层的3层的构成形式也可。该构成中，成膜回数多,成本不利，但是可以得到耐光性优良，透过率高的効果。特别是，为光学用途开发的硅氧烷树脂的折射率以1.40至1.50为多，适宜利用。

另外，该紫外线吸收层22的膜厚，与其说根据反射防止层的膜厚设计的場合，不如说应该重视紫外线透过特性来进行决定。从原材料的波长－光透过率特性来看，350ｎｍ至450ｎｍ的波长领域的范围中的平均光透过率为90％以上，优选尽量为高透过率，另外，要考虑使200至300ｎｍ的波长领域的范围中平均光透过率为50％以下，来进行紫外线吸收层22的膜厚的决定是必要的。

以下，对本发明的防尘薄膜的制造方法进行详述。

本发明的防尘薄膜，基本地，可以在平滑基板上成膜的原料防尘薄膜的表面将紫外线吸收层的材料溶液进行涂布成膜。图3是对紫外线吸收层－原料防尘薄膜－反射防止膜的3层构造的場合进行说明，首先，在苏打玻璃，石英玻璃，硅氧烷晶片等的平滑研磨了的基板上，将紫外线吸收材的溶液，用旋转涂布法，缝隙及旋转法，缝隙涂布法等的公知的手段进行涂布?干燥，固化得到紫外线吸收层22。膜厚，从透过率来进行设计决定。接着，将原料防尘薄膜材料的溶液，按光学设计，在上述成膜的紫外线吸收层22上涂布，干燥固化,得到原料防尘薄膜21。同样,反射防止材料的溶液在原料防尘薄膜上涂布，干燥固化，在上述成膜的原料防尘薄膜上，进一步设置反射防止层23。

上述的各种成膜，按照本发明的防尘薄膜的构造设计进行就可以,没有任何的限定。在此，对基底的紫外线吸收层的成膜方式进行说明，反射防止层为最下层，其上为原料防尘薄膜成膜，进一步在原料防尘薄膜上进行紫外线吸收层的成膜。该顺序，可以根据工程的需要采取正逆皆可，将与成膜基板的剥离性高的层作为最下层（＝成膜基板侧）为优选。另外，根据必要，成膜基板表面，也可以进行提高剥离性的表面処理。

如上述，在成膜基板上得到固化的本发明的防尘薄膜15后，在具有与基板外形相同的外形的框状的剥离夹具（无图示）粘接，将其慢慢地拉起剥离,就可以得到具有紫外线吸收层的本发明的防尘薄膜。

另外，被赋予粘接层的防尘薄膜组件框架上,将如此得到的本发明的防尘薄膜进行粘接。即可得到本发明的防尘薄膜组件。

以下，对本发明用实施例进行进一步说明，但是对本发明没有任何限定。

【实施例1】

如图4所示的形状的Ａ5052铝合金制防尘薄膜组件框架41用机械加工进行制作。该防尘薄膜组件框架41的形状，各角部的外尺寸为1146ｘ1392mm，其内寸为1124ｘ1370ｍｍ的长方形，厚度为5.8ｍｍ，各角部的形状内侧为Ｒ2，外侧为Ｒ6。另外，在长边,作为处理用,设置4处直径2.5ｍｍ，深度2ｍｍ的凹孔43，在短边以及长边的各2处，设置高度2ｍｍ，深度3ｍｍ的沟42。进一步，在两长边,直径为1.5ｍｍ的通气孔46在8处设置。

将该防尘薄膜组件框架运入10级的无尘室，用表面活性剂以及纯水进行良好洗浄，干燥。然后，防尘薄膜组件框架的一个端面作为防尘薄膜粘接层45设置硅氧烷粘接层，另一个端面作为光掩模粘着层44，将甲苯稀释硅氧烷粘着剂(商品名都为ＫＲ3700，信越化学工业株式会社制），用空气加压的分散机进行涂布，加热硬化。然后，以将防尘薄膜组件框架41侧面的通气穴46覆盖的方式将过滤器47贴付。最后，将离型剂赋予表面，将厚度150μｍ的ＰＥＴ薄膜用切断工具进行与防尘薄膜组件框架几乎同样形状进行切断加工制作，将光掩模粘着层保护用剥离片（无图示）进行贴付，框架部分完成。

另外，在1200×1500ｍｍ×厚度17ｍｍ的平滑研磨的石英制的成膜基板上，将丙酸纤维素（Ｓｉｇｍａ－Ａｌｄｒｉｃｈ制）用乙酸丁基酯稀释的原料防尘薄膜材料溶液，用缝隙涂布法进行涂布。此时,涂布量，设定为干燥后膜厚4.0μｍ。将其进行1小时静置,使溶媒具有某种程度自然干燥后，用ＩＲ灯（未图示）130℃加热，原料防尘薄膜形成。

然后，在该原料防尘薄膜上，作为紫外线吸收层，将进行了付加硬化型硅氧烷橡胶（商品名ＫＥＲ－2500，信越化学工业株式会社制）Ａ，Ｂ液进行良好混合，用甲苯进行了粘度调整后,用缝隙涂布法涂布。此时，膜厚干燥后变为1μｍ那样进行调整。其后，2小时水平静置,使表面平滑的同时，将稀释用的甲苯蒸发，进一步，用ＩＲ灯在100℃进行1小时，然后在150℃进行5小时加热，使其完全反应硬化。该紫外线吸收层的折射率为1.41。将全体冷却至室温，以与基板外形同样形状的，框状的不锈钢制剥离夹具将紫外线吸收层粘接，边除电边慢慢地拉起,作为剥离膜得到本发明的防尘薄膜。

然后，将紫外线吸收层以向着防尘薄膜粘接层侧那样配置，在上述的防尘薄膜组件框架41的粘接层45上，将有紫外线吸收层的本发明的防尘薄膜48粘接，防尘薄膜组件框架41周围的不要的膜用切刀切断除去，本发明的防尘薄膜组件40完成。

得到的本发明的防尘薄膜组件，防尘薄膜的光透过率用透过率测定机（大冢电子株式会社制）进行计测，波长350－450ｎｍ的全波长领域中，平均为95.2％的透过率。另一方面，波长200至300ｎｍ的波长领域，透过率的平均値约为48％。

进一步，得到的本发明的防尘薄膜组件，用高压水银灯照射，耐光性被确认。对于高压水银灯（牛尾电机株式会社制），光要按紫外线吸收层→防尘薄膜的顺序通过那样的配置，防尘薄膜面用光強度为5000ｍＷ／ｃｍ²的紫外线照射，上述波长领域中的光透过率，膜厚的变化以及外观得到确认。其结果，即使进行实验直至累积能量60万Ｊ,上述光透过率，膜厚以及照射部的外观没有发现变化。

【实施例2】

与实施例1同样，外尺寸280×280，内尺寸270×270，高度4.8ｍｍ的Ａ5052铝合金制防尘薄膜组件框架被制作，在10级的无尘室中用表面活性剂和纯水进行良好地洗浄，完全干燥。其后，在一个端面，设置作为光掩模付着的粘着层的硅氧烷粘着剂（商品名：Ｘ－40－3004Ａ，信越化学工业株式会社制）层，在另一端面，作为对本发明的防尘薄膜进行粘接的粘接剂,将硅氧烷粘着剂（商品名：ＫＲ3700，信越化学工业株式会社制）进行涂布，烘箱加热硬化。然后，将对厚度150μｍ的ＰＥＴ薄膜进行了氟变性硅氧烷涂布的剥离片，以与框架外尺寸几乎同样形状的框状进行切断，贴附于上述粘着层上。

接着，在将表面进行了平滑研磨以及进行了良好洗浄的350ｘ350ｘ厚度8ｍｍ的石英基板上，将氟类溶媒（商品名：ＥＦ－Ｌ174，三菱材料株式会社制）稀释的氟树脂（商品名：CYTOP，旭硝子株式会社制）用旋转涂布法进行涂布。使干燥后膜厚为0.07μｍ那样地膜厚进行调整。涂布后，将成膜基板一边保持水平，一边干燥直至溶媒难以流动，然后用热板加热到180℃将溶媒完全除去。

接着，将丙酸纤维素（Ｓｉｇｍａ－Ａｌｄｒｉｃｈ制）用乙酸丁基酯进行稀释，在上述氟树脂层的上面用旋转涂布法进行涂布。对此时的膜厚进行调整，使干燥后的纤维素树脂层为4μｍ。然后,一边将成膜基板保持水平，一边进行干燥直至溶媒难以流动为止进行干燥，然后用热板加热到130℃使溶媒完全除去。

接着，作为紫外线吸收层，将有机改性硅氧烷树脂（商品名：ＳＣＲ1011，信越化学工业株式会社制）的Ａ液和Ｂ液进行良好混合，用甲苯进行粘度调整,用旋转涂布法进行涂布。该时，调整膜厚,使其在干燥后变为1μｍ。其后，2小时水平静置,表面涂平，同时对稀释剂的甲苯进行蒸发，进一步，用ＩＲ灯在70℃进行1小时，然后在150℃进行5小时加热，完全硬化。该紫外线吸收层的折射率为约1.5。

紫外线吸收层的硬化后，将全体冷却至室温，与基板外形同样形状的铝合金制框粘接，边除电边慢慢剥离,得到本发明的防尘薄膜。使得到的本发明的防尘薄膜的紫外线吸收层向着粘接层将进行粘接，框架外侧的防尘薄膜用切刀切断除去,得到本发明的防尘薄膜组件。该防尘薄膜组件的防尘薄膜，光透过率用透过率测定机（大冢电子株式会社制）进行计测，350至450ｎｍ的波长领域中的平均透过率为95.0％，200至300ｎｍ的波长领域约为35％。

[比较例]

使用与实施例1中使用的防尘薄膜组件框架同一的防尘薄膜组件框架，制作防尘薄膜组件。该时使用的防尘薄膜，仅由上述实施例1中使用的丙酸纤维素形成，厚度为4μｍ的单层膜。该防尘薄膜的制造方法，除仅将紫外线吸收层成膜工序省略以外，与实施例1同样。

该防尘薄膜组件，防尘薄膜的光透过率用透过率测定机（大冢电子株式会社制）进行计测，350至450ｎｍ的波长领域中的平均透过率为95.0％。对该防尘薄膜组件，在与实施例1的場合同样的条件下,进行光照射实验的结果，累积能量变为60万Ｊ时，轻薄的白浊的园形的照射痕在照射部发生。另外,透过率，在350至450ｎｍ的波长领域中的平均透过率可以观察到约2％的变低，同时从测定光谱对膜厚进行算出，可以确认到40ｎｍ的膜厚減少。

产业上的利用可能性

本发明的防尘薄膜，在使用波长350至450ｎｍ的紫外线的光刻中，尽管使用了便宜的纤维素类树脂等的膜材料，但是大幅度地提高了耐光性，本发明在产业上极有意义的。

Claims (7)

1.一种防尘薄膜,其在350至450ｎｍ的波长范围的紫外线照射光刻中被用于在防尘薄膜组件，其特征在于,该防尘薄膜是,其原料防尘薄膜的至少在曝光光源侧的表面上有紫外线吸收层，上述350至450ｎｍ的波长范围的紫外线在该紫外线吸收层的透过率为在该波长范围平均90％以上，同时200至300ｎｍ的紫外线的在该紫外线吸收层的透过率为在该波长范围中平均50％以下。

2.权利要求1所述的防尘薄膜,在所述紫外线吸收层的上进一步具有反射防止层。

3.权利要求1或者2所述的防尘薄膜,构成所述紫外线吸收层的树脂为硅氧烷树脂。

4.权利要求1-3的任一项的防尘薄膜,所述紫外线吸收层的折射率为1.50以下。

5.一种具有紫外线吸收层以及反射防止层的防尘薄膜的制造方法,其中在成膜基板上将原料防尘薄膜、紫外线吸收层以及反射防止层的3层以任意的顺序设置后，将所述成膜基板剥离，其特征在于所述各层是将与各层对应的材料溶液涂布后，将其干燥,固化，由此顺次形成的，其中350至450ｎｍ的波长范围的紫外线在该紫外线吸收层的透过率为在该波长范围平均90％以上，同时200至300ｎｍ的紫外线的在该紫外线吸收层的透过率为在该波长范围中平均50％以下。

6.一种防尘薄膜组件,其特征在于将用权利要求5的方法制造的防尘薄膜在防尘薄膜组件框架上绷紧贴附。

7.一种防尘薄膜组件,其特征在于将权利要求1至4的任一项的所述防尘薄膜在防尘薄膜组件框架上绷紧贴附。

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