CN101034223A - 基板清洁装置、基板工艺设备及基板清洁装置的清洁方法 - Google Patents
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Abstract
本发明公开一种基板清洁装置、基板工艺设备及基板清洁装置的清洁方法,该装置包含一内室、一出气装置、一气体供应装置、一栅门以及一第一挡板,该内室具有一输入口与一输出口,以分别用于输入/输出一待加工材料。该出气装置具有一用以对该待加工材料吹送气体的气体出口。该气体供应装置用以供应该气体出口所吹送的气体。该栅门可于该输入口输入该待加工材料时开启。该第一挡板设置于该栅门的上方用以防止自该待加工材料上溅起的液体越过该栅门,且该第一挡板的第一侧设有一用以接引该液体的沟槽。本发明可有效地防止由该待加工材料表面溅起的液体喷溅至未经清洁处理的待加工材料表面,从而提高液晶显示器面板的良率,也可提高该液体的回收率。
Description
技术领域
本发明涉及一种基板清洁装置、基板工艺设备及基板清洁装置的清洁方法,尤其涉及一种可有效防止溅起的液体喷溅至未经清洁处理的蚀刻后的待加工材料表面的清洁装置及其清洁方法。
背景技术
由于现有技术的液晶显示器工艺技术具有能够与半导体工艺技术兼容等特性,因此于阵列(Array)液晶显示器面板的制造流程中为了降低成本及提高产能,便利用具有工艺单纯、设备简单、低成本及产量速度(Throughput)快等优点的湿式蚀刻技术以将红、蓝、绿三原色及黑色以微细的结构建置于待加工材料表面,从而成为彩色滤光片。
其中,当蚀刻处理结束后,便通过多个滚轮逐步推送该蚀刻后的待加工材料前进至与蚀刻槽相邻的一清洁装置内以进行清洁处理,接着再另通过多个滚轮逐步推送该经过清洁处理的待加工材料前进至与该清洁装置相邻的一水洗槽内以进行水洗工艺的步骤。其中,于该清洁装置内,通过一出气装置,即现有技术的风刀(Air Knife)彻底吹除该蚀刻后的待加工材料表面所残留的液体以达到清洁处理的目的,但是,该清洁处理虽然可避免该经过蚀刻的待加工材料表面残留多余的液体,可是于清洁处理的同时却会导致被吹除的液体产生一溅起的作用力。
现有技术的出气装置上方具有一挡板以用于防止溅起的液体喷溅至该出气装置上而造成损坏,但是,前述的该蚀刻槽与该清洁装置之间并未具有任何如同挡板的装置。因此,若该液体的溅起的作用力过大,则该液体便很容易越过该清洁装置而喷溅至未经清洁处理的蚀刻后的待加工材料表面,而造成白点云纹(White Dot Mura)的形成,进而导致最终液晶显示器面板产生亮度不均匀的现象。然而,若将该出气装置的出风量调小虽可降低该液体产生溅起的机率,但却无法彻底吹除该液体,此举除了使得该经清洁处理的待加工材料表面残留多余的液体外,也降低该液体的回收率而造成浪费。
综上所述,因此有必要提供一种基板清洁装置及其清洁方法,除可有效地防止由该待加工材料表面溅起的液体喷溅至未经清洁处理的待加工材料表面,从而达到提高液晶显示器面板的良率外,也可提高该液体的回收率。
发明内容
本发明所要解决的技术问题在于提供一种基板清洁装置,其通过所包含的第一挡板以防止溅起的液体喷溅至未经清洁处理的待加工材料表面。
本发明的另一目的在于提供一种含有上述基板清洁装置的基板工艺设备。
本发明的另一目的在于提供上述基板清洁装置的清洁方法,其可有效地防止溅起的液体喷溅至未经清洁处理的待加工材料表面,从而达到提高液晶显示器面板的良率。
为实现上述的发明目的,该基板清洁装置包含一内室、一出气装置、一气体供应装置、一栅门以及一第一挡板,其中该内室具有一输入口与一输出口,该输入口用以输入一待加工材料,该输出口用以输出该待加工材料。该出气装置具有一气体出口,该气体出口对该待加工材料吹送气体,其中该出气装置设于该输出口上方。该气体供应装置用以供应该气体出口所吹送的气体。该栅门设置于该输入口处,当该待加工材料须由该输入口输入至该内室时,该栅门开启以供该待加工材料通过。该第一挡板设置于该栅门的上方,且还具有与该栅门间呈一第一角度的第一平面,该第一平面的第一侧设有一沟槽用以接引自该待加工材料上溅起的液体。
为实现上述目的,本发明的基板工艺设备,包含:一工艺机台,其包含一待加工材料座;一液体涂布装置,其设置于待加工材料座的相对位置并与该待加工材料座保持一间距;以及一基板清洁装置,其包含:一内室,其具有一输入口与一输出口;一出气装置,其设于该输出口上方;一气体供应装置,与该出气装置连结,并用以供应该气体出口所吹送的气体;一栅门,其设置于该输入口处;以及一第一挡板,其设置于该栅门的上方,该第一挡板具有一第一平面且与栅门间呈一第一角度,该第一平面的第一侧设有一沟槽。
此外,根据上述基板清洁装置的清洁方法,首先输入一表面上具有一液体的待加工材料,接着利用一出气装置对该待加工材料表面吹送一高压气体,以用于清洁该待加工材料表面,同时利用一设有一沟槽的挡板来阻挡由该待加工材料表面溅起的液体,最后再将被挡下的液体由该沟槽接引排出以及输出该待加工材料至一水洗槽进行水洗工艺。
综上所述,本发明的基板清洁装置及其清洁方法除可有效地防止由该待加工材料表面溅起的液体喷溅至未经清洁处理的待加工材料表面,从而达到提高液晶显示器面板的良率外,也可提高该液体的回收率。
附图说明
图1为根据本发明实施例的基板清洁装置的第一挡板侧面示意图;
图2为根据本发明实施例的第一挡板另一实施例的侧面示意图;
图3为根据本发明实施例的基板清洁装置的侧面示意图;
图4为根据本发明实施例的基板清洁装置的立体结构示意图。
其中,附图标记:
10:基板清洁装置 11:工艺机台
10a:内室 101:第一挡板
101a:第一平面 101a1:第一侧
101a2:第二侧 101b:第二平面
101c:第三平面 101d:第四平面
101e:第一角度 101f:第二角度
101g:第三角度 101h:第四角度
101i:沟槽 102:栅门
103:出气装置 103a:气体出口
103b:气体供应装置 104:第二挡板
105:待加工材料 106:出气方向
107:液体喷溅方向 108:待加工材料行进方向
109:液体 110:液体涂布装置
111:待加工材料座 201:输入口
202:输出口 203:滚轮
具体实施方式
为让本发明的上述目的能更明显易懂,如下将配合所附的附图以作详细的说明。
请参阅图1,为根据本发明实施例的基板清洁装置的第一挡板101侧面示意图。如图1所示,第一挡板101可由塑料材质或其它材质(诸如玻璃、石英等)所制成,且具有一第一平面101a,且位于第一平面101a的下、上两侧分别具有第一侧101a1及第二侧101a2,其中第一侧101a1延伸出一第二平面101b。该第二平面101b与第一平面101a呈一第三角度101g向右延伸形成,该第三角度101g可为直角。第二平面101b上与第一平面101a相对的一端向上延伸出一第三平面101c,而第三平面101c与第二平面101b呈一第四角度101h向上延伸形成,该第四角度101h可为直角,其中第三平面101c的高度小于第一平面101a的高度。通过第一平面101a、第二平面101b以及第三平面101c形成一沟槽101i。另外,于第一平面101a上相对于第一侧101a1的第二侧101a2还延伸出一第四平面101d,该第四平面101d可与第二平面101b呈平行的延伸,且第四平面101d的宽度大致相等于第二平面101b。
上述实施例中第三角度101g及第四角度101h虽均为90度的直角,然而,其角度仅为本发明的较佳实施例,并非为本发明的限制条件。只要第一平面101a、第二平面101b以及第三平面101c相互的延伸可形成沟槽101i,则第三角度101g及第四角度101h也可成其它角度,如图2所示,其第三角度101g与第四角度101h都可为60度或80度等锐角的角度,除此之外,第三角度101g与第四角度101h也可为100度或120度等钝角的角度。
参见图3所示,阐示根据本发明实施例的基板清洁装置的侧面示意图。对照于图1,本发明的第一挡板101与待加工材料105的行进方向(箭头108所示的方向)呈一第一角度101e设置于栅门102上方,其中所述的该待加工材料可为一玻璃基板且该第一角度101e可为直角,而栅门102主要用于区分基板清洁装置10与工艺机台11。于执行清洁处理之前,先将待加工材料105放置于工艺机台11中的待加工材料座111上并关闭栅门102,接着再通过液体涂布装置110相对于待加工材料座111移动,以将液体109涂布于待加工材料105的表面,其中所述的待加工材料座可为一玻璃基板座。当完成该涂布处理之后,便开启栅门102并利用位于待加工材料座111下方及上方的滚轮203以将待加工材料105如同箭头108所示的方向推送至基板清洁装置10的内室10a中。
然而,于内室10a的输入口203接送到待加工材料105的同时,出气装置103同时通过相互连接的气体供应装置103b产生一高压气体,并利用气体出口103a以将该高压气体以一出气方向(箭头106所示的方向)吹送至待加工材料105的表面,其中气体出口103a的出气方向106与待加工材料105的行进方向108呈一锐角的第二角度101f。出气装置103与气体供应装置103b可为一风刀装置。此时待加工材料105表面的液体109由于受到高压气体的吹送而产生一溅起作用力,液体109的液体喷溅方向(箭头107所示的方向)会产生往后(图式的右边)及往前(图式的左边)等不同方向,当液体109往后溅起时,由于出气装置103上方具有一第二挡板104,因此便可防止溅起的液体109喷溅至出气装置103上而造成出气装置103损坏,其中第二挡板104可由塑料材质或其它材质(诸如玻璃、石英等)所制成。然而,若当液体109往前溅起时,也可能喷溅至第一挡板101的第一平面101a上,并沿第一平面101a往下滑落至沟槽101i中以利用沟槽101i的两侧接引排出。若溅起的液体109过高时,则会喷溅至第一挡板101的第四平面101d上,并滴落至沟槽101i中同样利用沟槽101i的两侧接引排出。借此可避免液体109越过该第一挡板101喷溅至工艺机台11的区域。
上述的清洁处理完成后,通过滚轮205以由内室10a的输出口202将经过清洁处理的待加工材料105推送至后续的水洗槽(未图示)内进行水洗工艺。该基板清洁装置10内的第一挡板101的高度可根据气体出口103a的出气量来决定,换言之,无论出气量过大或过小,反溅的液体109均可被第一挡板101限制住,而不会越过栅门102并喷溅至未经清洁处理的待加工材料105的表面,以避免白点云纹的产生,从而提高产率。
请参阅图4,为根据本发明实施例的基板清洁装置的立体结构示意图。如图所示,基板清洁装置10及工艺机台11之间利用栅门102及第一挡板101区隔开。栅门102上具有一可将经过涂布处理的待加工材料送至基板清洁装置10的输入口201。于基板清洁装置10及工艺机台11内均具有多个滚轮205,其分别用以于涂布处理完成后将该待加工材料推送至基板清洁装置10内进行清洁处理以及于清洁处理完成后将该待加工材料推送至水洗槽(未图示)内进行水洗工艺。而于基板清洁装置10内具有依第一挡板101以及一第二挡板104,其中第二挡板104设置于出气装置103上方以用于避免该待加工材料上所溅起的液体喷溅至出气装置103上。第一挡板101的高度可根据气体出口103a的出气量来决定,以用于避免该待加工材料上所溅起的液体越过栅门102而喷溅至仍位于工艺机台11内的未经清洁处理的待加工材料表面,并可通过沟槽101i的两侧将液体接引排出,以提高工艺液体的回收率并避免污染。
综上所述,本发明的基板清洁装置及其基板清洁方法除可有效地防止由该待加工材料表面溅起的液体喷溅至未经清洁处理的待加工材料表面,从而达到提高液晶显示器面板的良率外,也可提高该液体的回收率。
当然,本发明还可有其它多种实施例,在不背离本发明精神及其实质的情况下,熟悉本领域的普通技术人员当可根据本发明做出各种相应的改变和变形,但这些相应的改变和变形都应属于本发明所附的权利要求的保护范围。
Claims (15)
1、一种基板清洁装置,其特征在于,包含:
一内室,其具有一输入口与一输出口;
一出气装置,其具有一气体出口设于该输出口上方;
一气体供应装置,与该出气装置连结,并用以供应该气体出口所吹送的气体;
一栅门,其设置于该输入口处;以及
一第一挡板,其设置于该栅门的上方,该第一挡板具有一第一平面且与该栅门间呈一第一角度,该第一平面的第一侧设有一沟槽。
2、根据权利要求1所述的基板清洁装置,其特征在于,该第一角度为直角。
3、根据权利要求1所述的基板清洁装置,其特征在于,该出气装置的上方设有一第二挡板。
4、根据权利要求1项所述的基板清洁装置,其特征在于,该第一挡板的第一平面的第一侧延伸出一第二平面,该第二平面与该第一平面呈一第三角度,该第二平面上与该第一平面相对的一端向上延伸出一第三平面,该第三平面与该第二平面呈一第四角度,该第三平面的高度小于该第一平面的高度,该第一平面、第二平面与第三平面之间形成该沟槽。
5、根据权利要求1所述的基板清洁装置,其特征在于,该第一挡板的第一平面上相对于该第一侧的一第二侧延伸出一第四平面,该第四平面大致与该第二平面平行。
6、根据权利要求5所述的基板清洁装置,其特征在于,该第四平面的宽度大致相等于该第二平面的宽度。
7、一种基板工艺设备,其特征在于,包含:
一工艺机台,其包含一待加工材料座;
一液体涂布装置,其设置于待加工材料座的相对位置并与该待加工材料座保持一间距;以及
一基板清洁装置,其包含:
一内室,其具有一输入口与一输出口;
一出气装置,其设于该输出口上方;
一气体供应装置,与该出气装置连结,并用以供应该气体出口所吹送的气体;
一栅门,其设置于该输入口处;以及
一第一挡板,其设置于该栅门的上方,该第一挡板具有一第一平面且与栅门间呈一第一角度,该第一平面的第一侧设有一沟槽。
8、根据权利要求7所述的基板工艺设备,其特征在于,该第一角度为直角。
9、根据权利要求7所述的基板工艺设备,其特征在于,该出气装置的上方设有一第二挡板。
10、根据权利要求7所述的基板工艺设备,其特征在于,该第一挡板的第一平面的第一侧延伸出一第二平面,该第二平面与该第一平面呈一第三角度,该第二平面上与该第一平面相对的一端向上延伸出一第三平面,该第三平面与该第二平面呈一第四角度,该第三平面的高度小于该第一平面的高度,该第一平面、第二平面与第三平面之间形成该沟槽。
11、根据权利要求7所述的基板工艺设备,其特征在于,该第一挡板的第一平面上相对于该第一侧的一第二侧延伸出一第四平面,该第四平面大致于该第二平面平行。
12、根据权利要求11所述的基板工艺设备,其特征在于,该第四平面的宽度大致相等于该第二平面的宽度。
13、一种基板清洁装置的清洁方法,其特征在于,该方法包含以下步骤:
输入一待加工材料,该待加工材料表面上具有一液体;
利用一出气装置对该待加工材料表面吹送一高压气体,以清洁该待加工材料板表面;
通过设有一沟槽的第一挡板以阻挡由该待加工材料表面溅起的液体;
将被阻挡的液体由该沟槽接引排出;以及
输出该待加工材料至一水洗槽内进行水洗工艺。
14、根据权利要求13所述的清洁方法,其特征在于,该待加工材料利用其下方设置的多个滚轮用以承载与输入该待加工材料。
15、根据权利要求13所述的清洁方法,其特征在于,该第一挡板的高度根据该气体出口的出气量来决定。
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