CN109788745A - 使用电子束处理禽蛋以对钙质壳杀菌的方法和装置 - Google Patents
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Abstract
该发明涉及一种使用电子束处理禽蛋以对钙质壳杀菌的方法和装置，所述方法包括以下步骤：‑使至少一个蛋移动通过电子束源的束路径，‑照射蛋，其中使用不同剂量照射钙质壳。该方法特征在于以下步骤：‑使用电子束对蛋的钙质壳的所有区域进行全面地照射，其中将元件插入电子束的束路径中以使照射分布在钙质壳的所有区域上，由于剂量被设定在预定的目标剂量范围内，钙质壳被全面地照射；或者‑使用电子束源对在电子束的束路径中的滚动的/被滚动的蛋进行照射，或者‑使用电子束源照射在电子束的束路径中的蛋，这些蛋被保持成使得一侧在设置在转动装置的上游的装置中在零度位置处。
Description
说明书
该发明涉及一种使用电子束处理禽蛋以对钙质壳杀菌的方法和装置。禽蛋可以是用于人类消费的蛋、工业用蛋以及还有孵化蛋。例如，在工业家禽生产以及用于疫苗业的SPF(无特定病原体的)蛋的生产领域，根据出版物S.Cadirci：Disinfection of hatchingeggs by formaldehyde funigation-a review,Arch.Geflügelk.73(2)，pp.1-16.123，2009，ISSB 0003-9098，出版社Eugen Ulmer，斯图加特；Trenner，Profe：Die konsequenteAnwendung der Dampfdesinfektion zur Unterbrechung von Infektionsketten，21。Kongress der DeutschenGesellschaft e.V,Bad Nauheim，1995年3月21-24日，Aktuelle Forschung，第2部分，第461-465页；TRGS 513：Begasung mitEthylendioxid and Formaldehyd in Sterilisations-and Desinfektionsanlagen，1996年6月期(BArbBI.Heft 6/1996，第53-58页)最近修改和补充于2000年2月(BArbBI.2/2000期，p.80)，在孵化过程开始前对孵化蛋进行杀菌，以防止在孵化期间微生物的不受控制的扩散，这与孵化损失以及孵化雏鸡的压力有关。
目前用于表面处理孵化蛋以减少细菌的最普遍的方法是用甲醛熏蒸。为此目的，例如，多聚甲醛粉末在所谓的干法中加热。所得到的气体在气体室中被分配使得产生每立方米环境空气的尽可能均匀的浓度，并对孵化蛋具有约20分钟的作用。继该处理后，将该室通风至外部大气。由于其对环境的毒性和致癌作用，该方法被极其严格地评判。此外，过量可能导致成功孵化的显著损害。甲醛熏蒸的另一大缺点是对于纯表面处理的限制。位于深入微孔钙质壳内部的微生物不能被杀灭。
孵化蛋消毒的替代方法，诸如使用过乙酸或各种果酸进行处理，到目前为止尚未获得认可。迄今为止，由于实际可行性或相应成本效益，复杂的物理处理方法诸如臭氧或等离子体处理都已经失败了。
目前，电子束杀菌的物理方法尤其是用在食品领域，用于处理外包装、家禽肉或生的蛋物质。一方面，目标是家禽病原体的灭活以及某些食品成分(蛋白)的改变。为了获得尽可能大的有效深度，在MeV范围内以相对高的加速电压进行操作。
根据其目的该发明因此指出了一种用于使用电子束处理禽蛋以对钙质壳杀菌的方法和装置，其被适当地设计成使得根据孵化蛋与电子束源的不同距离而导致电子剂量梯度的可能的降低。此外，蛋的电子照射应该均匀地发生在整个蛋上。
该目的通过权利要求1和权利要求3、权利要求6、权利要求8的特征实现。
使用电子束处理禽蛋以对钙质壳杀菌的方法具有以下步骤：
-使至少一个蛋移动通过电子束源的束路径，
-使用来自电子束源的电子束照射蛋，其中使用不同的剂量照射钙质壳，
因此，根据权利要求1的特征部分，进行以下步骤：
-使用电子束实施覆盖蛋的钙质壳的所有区域的照射，其中将元件插入到电子束的束路径中以使照射分布在钙质壳的所有区域上，其中，由于剂量被设定在预定的目标剂量范围内，钙质壳被全面地照射，
或者，
-借助于电子束源对在电子束的束路径中滚动的蛋实施照射，其中，由于被滚动的蛋的相应的预定旋转角，钙质壳被以均匀的方式全面地照射，
或者，
-对在设置于转动装置的上游的装置中被保持的蛋在一侧的零度位置中实施照射，通过转动装置将被保持的蛋转动到相对于零度位置转动后的一角度位置例如180度位置中，以及，借助于设置在转动装置的下游的装置对蛋的达到的侧进行另外的照射，该下游的装置以类似于设置在上游的装置的方式构造，其中，由于蛋被转动，钙质壳被全面地照射。考虑作为待使用电子束处理的禽蛋可以是用于人类消费的蛋、工业用蛋并且也可以是孵化蛋以及用于其他目的和工业领域的蛋。
在该方法中，基本上可以进行以下方法步骤，以实现使用电子对蛋的处理：
-感测A蛋的高度，
-通过门道移动B到遮蔽区域中，
-使用对应的高度校正单元处理C，
-通过门道从遮蔽区域移出D，以及
-可选地，再污染E蛋以及转移蛋用于后续处理步骤。
使用上述方法之一，用于使用电子束处理禽蛋以对钙质壳进行杀菌的第一装置至少包括：
-带有至少一个蛋的运输系统，
-用于发射电子束的电子束源，蛋在处理区域中以被用电子处理的方式被引导通过电子束的束路径，
其中，根据权利要求3的特征部分，
为了设定在目标剂量范围内撞击钙质壳的电子的剂量，将元件设置在电子束源与经支撑的(一个或多个)蛋之间，以便在预定的目标剂量范围内，实现覆盖蛋的用于照射蛋的钙质壳的电子的剂量的分配减小。
用于设定该剂量的元件可以是电子挡板。用于设定该剂量的元件可以是钢片、杆、菱形件、铝制圆形件或具有间隙的菱形件。
第一装置可以具有以下单元和线路：
-中心控制单元，
-电子束发生器/电子束源，
-围绕处理单元的遮蔽装置，
-电子挡板，
-运输系统，该运输系统具有将蛋锁定就位的位置保持器，
-用于输送和取走的通道或遮板的系统，
-用于遮板的多个驱动单元，
-高度感测装置，
-用于蛋的高度校正单元，以便在照射期间补偿不同的高度或相应的蛋的尺寸，以使用相同的电子的剂量来照射，
-高压供应单元，
-用于电子束发生器的冷却系统，
-用于处理区域的臭氧抽吸单元，
-可选地用于蛋的再污染单元，
-来自电子束发生器的电子束，用于照射在处理区域中的蛋，
其中，为了发信号和操作性供给，中心控制单元经由线路连接到驱动单元、经由线路连接到高度感测装置、经由线路连接到运输系统、经由线路连接到再污染单元、经由线路连接到用于另外的处理的构造、以及经由线路连接到高度校正单元。
使用所提到的方法之一，用于使用电子束处理禽蛋以对钙质壳进行杀菌的第二装置至少包括：
-带有至少一个蛋的运输系统，
-用于发射电子束的电子束源，蛋在处理区域中以被用电子处理的方式被引导通过电子束的束路径，
其中，根据权利要求6的特征部分，
运输系统具有带有经限定的空间的辊，蛋在带有经限定的空间的辊上移动，由此，借助于辊保持的蛋被滚动通过电子束的束路径，使得照射相对于蛋的圆周发生在所有侧面上并且在很大程度上均匀地发生照射。
此外，使用电子束处理禽蛋以对钙质壳杀菌的第二装置可以具有以下单元和线路：
-中心控制单元，
-电子束发生器/电子束源，
-围绕处理单元/围绕处理区域的遮蔽装置，
-具有辊的运输系统，
-用于输送和取走的通道或多个遮板的系统，
-用于遮板的多个驱动单元，
-高度感测装置，
-用于蛋的高度校正单元，以便在照射期间补偿不同的高度或相应的蛋的尺寸，以使用相同的电子的剂量来照射，
-高压供应单元，
-用于电子束发生器的冷却系统，
-用于处理区域的臭氧抽吸单元，
-可选地用于蛋的再污染单元，
-来自处理单元的处理区域中的电子束发生器的电子束，
其中，为了发信号和操作性供给，中心单元经由线路连接到驱动单元、经由线路连接到高度感测装置、经由线路连接到运输系统、经由线路连接到再污染单元、经由线路连接到用于另外的处理的构造、以及经由线路连接到高度校正单元。
同样，中心控制单元通过至少一个线路连接到
-高压供应单元，
-用于电子束发生器的冷却系统，以及
-用于处理区域的臭氧抽吸单元。
使用所提到的方法之一，用于使用电子束处理禽蛋以对钙质壳进行杀菌的第三装置，
该第三装置至少包括：
-带有至少一个蛋的至少一个运输系统，
-用于发射电子束的至少一个电子束源，蛋在处理区域中以被用电子处理的方式被引导通过电子束的束路径，
其中，根据权利要求8的特征部分，
提供了经组合的第三装置，包含以相同的方式构造的两个第一装置，其中在两个第一装置之间设置了转动装置，它们借助于连接运输系统连接在一起，其中，在转动装置中，在设置在该转动装置的上游的第一装置中被保持于零度位置的蛋被转动到一角度位置例如180度的位置中，使得在每种情况下，在使用电子对蛋进行第一次照射之后以及在蛋穿过转动装置且同时被转动到一角度位置例如180度的位置之后，蛋的另一相对侧借助于设置在转动装置的下游的第一装置接收第二次照射。
所述电子挡板用于在孵化蛋的电子束处理期间局部减小电子剂量。该发明和另外的实施方式的进一步发展在另外的从属权利要求中给出。
该发明将参考附图借助于实施方式实例来解释：
图1示出了根据该发明的使用电子束处理禽蛋以对钙质壳进行杀菌的第一装置的示意图，其中蛋以固定的方式以孵化蛋的形式定位在运输系统上，以对在零度位置的孵化蛋的钙质壳进行杀菌，其中可选的最终的再污染单元用于经处理的孵化蛋，
图2示出了使用电子束处理的在预定的运动方向上立于竖向极位置的蛋的示意图，
图3示出了使用电子束处理的在预定运动方向上平躺于水平极位置的蛋的示意图，
图4示出了通过钙质壳特别是具有位于其中的病原微生物的孔的细节的示意性图截面，
图5示出了电子和次级电子通过根据图4的钙质壳的细节以及在钙质壳内氧电离成臭氧的发展过程的示意性截面，
图6示出了孵化蛋的照射的示意图，其中环绕蛋的剂量条用于检测围绕孵化蛋的电子剂量的分配，
图7示出了根据使用电子照射的孵化蛋，缠绕在孵化蛋周围的剂量条上的位置/剂量曲线，
图8示出了根据使用增加的剂量率例如从30kGy(千戈瑞)到45kGy的电子照射孵化蛋，使得蛋的远侧位于目标剂量范围内的缠绕在根据图7的孵化蛋周围的剂量条上的位置/剂量曲线，
图9示出了通过使用电子辐射穿透的用于在孵化蛋的局部照射区域中减小电子剂量的过滤元件的在剂量条上的位置/剂量曲线，
图10示出了使用通过电子辐射穿透的过滤元件且孵化蛋位于过滤元件下面的在缠绕在孵化蛋周围的剂量条的目标剂量范围内的位置/剂量曲线，
图11示出了根据该发明的使用电子束处理禽蛋以对钙质壳杀菌，在设置有辊的运输系统上借助于辊保持蛋，例如孵化蛋，其中可选的最终的再污染单元用于经处理的孵化蛋的第二装置的示意图，
图12示出了与孵化蛋的两个极的轴线正交的截面，用于旋转表示，
图13示出了相对于点表示的水平于孵化蛋的两个极的轴线的方向的纵向截面，
并且图14示出了根据该发明的第三装置的示意性黑框图表示，其中在具有转动装置的运输系统上将孵化蛋保持在零度位置和角度位置，例如转动180度的位置。
该公开内容将在具有孵化蛋42、43形式的蛋的实施方式实例上进行。
图1中示出了第一装置20、201(根据图14)的示意图，该第一装置20、201使用电子束处理孵化蛋42的形式的蛋以对孵化蛋42的钙质壳22杀菌，由此第一装置20、201至少包括：
-带有至少一个孵化蛋42的运输系统5，
-用于发射电子束14的电子束源2，孵化蛋42以被用电子31处理的方式被引导通过电子束14在处理区域53中的束路径。
根据该发明，为了设定在目标剂量范围18内撞击钙质壳22的电子31的剂量21(根据图10)，将元件4设置在电子束源与经支撑的(一个或多个)孵化蛋42之间，以便在预定的目标剂量范围18内，实现用于照射孵化蛋42的钙质壳22的电子31的剂量21的(覆盖孵化蛋42的)的减小的分配。
用于设定该剂量21的元件4可以是电子挡板。
使用电子束31处理禽蛋42以对钙质壳22杀菌的第一装置20、201(后者根据图14)因此在图1中包含以下单元和线路：
-中心控制单元1，
-电子束发生器/电子束源2，
-围绕处理单元53的遮蔽装置3，
-电子挡板4，
-运输系统5，该运输系统5具有将蛋42锁定就位的位置保持器51、52，
-用于输送和取走的通道6或遮板的系统，
-用于遮板的多个驱动单元7，
-高度感测装置8，
-高度校正单元9，
-高压供应单元10，
-用于电子束发生器2的冷却系统11，
-用于处理区域的臭氧抽吸单元12，
-用于蛋42、43的再污染单元13，
-来自电子束发生器2的电子束14，由此图1和图11中的中心控制单元1经由线路36连接到驱动单元7、经由线路37连接到高度感测装置8、经由线路38连接到运输系统5、经由线路39连接到再污染单元13、经由线路40连接到用于另外的处理的构造、以及经由线路41连接到高度校正单元9。
图1和图11中指出了以下处理的过程步骤：
-感测A孵化蛋42、43的高度，
-通过门道45移动B到遮蔽区域中，
-使用对应的高度校正单元9处理C，
-通过门道46从遮蔽区域移出D，以及
-可选地，再污染E孵化蛋42、43以及转移孵化蛋42、43用于后续处理步骤。
图1中示出了根据该发明的装置20、201(根据图14)的示意图，其中孵化蛋42以固定方式定位在运输系统5上以对处于零度位置的孵化蛋42的钙质壳22进行杀菌，其中可选的最终的再污染单元13用于经杀菌、处理钙质壳的孵化蛋42。
如实践所示，借助于使用经加速的电子31进行处理的所描述的装置20、201和30，在孵化蛋42、43的钙质壳22上或分别在孵化蛋42、43的钙质壳22中的活微生物的数量可以减小到零。由于可能由此导致后面的雏鸡孵化的缺点，因此，使用已知类型和数量的微生物诸如例如乳酸杆菌可以对钙质壳22进行良好的靶定以及再污染的控制。这是可能的使用例如以图1和图11中所示的喷涂构造的形式的再污染单元13。
图2示出了使用电子束14处理的孵化蛋43的示意图，该蛋在预定的运动方向44上立于竖向极位置。
图3示意性地示出了使用电子束14处理的孵化蛋43，该蛋被示出为在预定运动方向44上平躺于水平极位置。
图4中示出的是通过钙质壳22的细节的示意性截面；特别指出，孔23是病原微生物可能位于其中的腔。
以下元件基本上属于钙质壳22：
-孔23，
-壳胶膜24，
-柱状层25，
-乳头层26，
-外壳膜27，
-内壳膜28，以及
-薄膜29。
图5示出了照射电子31和通过散射效应32生成的次级电子33通过根据图4的钙质壳22的细节，以及在钙质壳22内氧电离35成灭菌臭氧的发展过程的示意性截面，由此次级电子33经由吸收34而被包含在钙质壳22中。
图6示出了孵化蛋42、43的照射的示意图，其中环绕孵化蛋42、43的剂量条17用于检测围绕孵化蛋42、43的电子剂量19、20的分配。
为了检测，图7示出了在使用电子31照射后缠绕在孵化蛋42、43周围的剂量条17上的位置/剂量曲线。
图8示出了根据使用增加的剂量率例如从30kGy(千戈瑞)到45kGy的电子照射孵化蛋，使得蛋的远侧位于目标剂量范围内的缠绕在根据图7的孵化蛋周围的剂量条上的位置/剂量曲线。
本质上剂量条17的目的应该是实现围绕蛋42、43的钙质壳22的大体均匀的照射。因此，目标剂量范围18远高于在远侧上的减小的剂量20。应通过减小加速电压和/或减小来自电子束源的电子流来降低目标剂量范围18。同时，使用元件4，在面对侧上的增加的剂量最大值减小。剂量条17的相应端的点16和17也对应地表示使用电子的照射。由此达到目标剂量范围18，这实现了在钙质壳22上的大致均匀的剂量并且削减原始剂量最大值。
图9中示出了使用电子31辐射穿透的以在孵化蛋42、43的局部照射区域中减小电子剂量的过滤元件4的在剂量条17上的位置/剂量曲线，由此根据元件的剂量分布，在面对侧的过量剂量减弱到剂量21。D
用于设定该剂量21的元件4可以是钢片、杆、菱形件、铝制圆形件。在图8中，元件4是具有间隙的菱形件。
剂量21的这种调平可以在图10中看到。
图10示出了两次剂量修改的结果，即，一方面，在面对侧的剂量增加并且，另一方面，通过元件4根据图9的剂量减小，使得产生图10中的剂量分布21，以及在使用通过电子31辐射而穿透的过滤元件/电子挡板4和位于下方的孵化蛋的情况下的位于缠绕在孵化蛋42周围的剂量条17的目标剂量范围18内的位置/剂量曲线21。
图11给出了具有用于经处理的孵化蛋43的可选的最终再污染单元13的根据该发明的第二装置30的示意图，孵化蛋43借助于辊47、48保持在配备有辊47、48的运输系统5上。使用电子束31处理孵化禽蛋以对钙质壳22杀菌的第二装置30因此包含根据图11的以下单元和线路，它们在很大程度上对应于第一装置20的元件：
-中心控制单元1，
-电子束发生器/电子束源2，
-围绕处理单元的遮蔽装置3，
-运输系统5，该运输系统5具有辊47、48或者具有多个辊对47、48的系统，
-用于输送和取走的通道6或遮板的系统，
-用于遮板的多个驱动单元7，
-高度感测装置8，
-用于不同尺寸的蛋43的高度校正单元9，
-高压供应单元10，
-用于电子束发生器2的冷却系统11，
-用于处理区域的臭氧抽吸单元12，
-用于孵化蛋43的再污染单元13，
-来自电子束发生器2的电子束14，用于处理在处理区域53中的蛋43，
由此，图1和图11中的中心控制单元1经由线路36连接到驱动单元7、经由线路37连接到高度感测装置8、经由线路38连接到运输系统5、经由线路39连接到再污染单元13、经由线路40连接到用于另外的处理的构造、以及经由线路41连接到高度校正单元9。
同样，图1和图11中的中心控制单元1至少通过线路54或通过线缆连接到
-高压供应单元10，
-用于电子束发生器2的冷却系统11，以及
用于处理区域53的臭氧抽吸单元12。
使用高度感测装置8，感测移动经过的蛋42、43的尺寸/高度，由此经接收和转发的信号通过控制单元1进行评估，并被传送到高度校正单元9，该高度校正单元9以使其对准的方式调整在此期间进入处理区域53中的蛋42、43，使得对于不同尺寸的蛋43没有剂量问题，代替的是有调整的相同照射剂量21。图12示出了垂直于孵化蛋43的极轴的截面，并且图13示出了水平于孵化蛋43的极轴的方向的纵向截面。在图12中，以圆形体形式的孵化蛋43被引导通过电子束14，由此实现了对表面的所有侧面的均匀照射。由此进行旋转运动，同时孵化蛋43位于束路径14中。根据距基于旋转的表面点的间距，旋转改变孵化蛋43的表面上的点的速度。该速度直接用于式(I)中：
D＝k·IStrahl/v (I)，其中
D＝产生的剂量，
k＝结构工程常数(也包括间距)，
IStrahi＝电子束流，以及
v＝观察点的速度。
由此可以得出结论，表面上的靠近轴线的点比远离轴线的点经受更高的剂量。间接比例D～1/v可以通过与电子束14正交并且与旋转轴线正交的孵化蛋43的平移运动来影响。图12和图13说明了这一点。因此，旋转运动的三个箭头的表示示出了具有相同旋转角的不同轴线间距给他们带来不同的距离，并且从而带来不同的速度。图14中示出的是根据该发明的经组合的第三装置50的示意性黑框图表示，其中在具有转动装置49的运输系统5上将孵化蛋42保持在根据设置在转动装置的上游的第一装置20的零度位置，以及保持在根据局部设置在转动装置的下游的具有与装置20相同的构造的第一装置201的经枢转的例如180度的位置。在使用电子31第一次照射之后，在蛋通过转动装置49期间，位于零度位置的孵化蛋42转动到一角度位置例如180度位置，并且随后借助于设置在下游的第一装置201使用电子31在相对的180°侧上照射。代替将蛋42转动180°的角度，蛋42可以转动不同的预定角度。
使用电子束14处理孵化蛋42、43以对孵化蛋42、43的钙质壳22杀毒的方法具有以下步骤：
-使至少一个孵化蛋42、43移动通过电子束源2的束路径14，
-使用来自电子束源42的电子束14照射孵化蛋42、43，其中使用不同的剂量照射钙质壳22。
根据该发明，可以实施以下步骤：
-借助于电子束14实施覆盖孵化蛋42的钙质壳22的所有区域的照射，其中将元件4插入电子束14的束路径中以使照射分布在钙质壳22的所有区域上，由此由于剂量设定在预定的目标剂量范围18内，钙质壳22被全面地照射，
或者，
-借助于电子束源2对在电子束的束路径14中的滚动的或被滚动的蛋43实施照射，由此由于被滚动的蛋43的相应的预定旋转角，钙质壳22被全面照射，
或者，
-在第一装置20中的一侧的零度位置处对所保持的蛋42实施照射，通过转动装置49将所保持的蛋42转动到相对于零度位置转动的一角度位置例如180度的位置中，并借助于以类似于第一装置20的方式构造的第二装置201对蛋42的达到的另一侧进行另外的照射，其中，由于孵化蛋43被转动，钙质壳22被全面地照射。
待使用电子束31处理的禽蛋42、43可以是用于人类消费的蛋、工业用蛋和优选的孵化蛋。
该发明因此还涉及在借助于用于杀菌(灭杀或相应地钝化微生物，诸如细菌、病毒和真菌)目的的经加速的电子31来处理孵化蛋42、43期间，用于遮蔽(根据图8、图9、图10)或者相应地用于局部减小电子剂量的方法和装置。为此目的，例如，电子过滤器/电子挡板4或相应地适当几何形状和适当材料的阻挡元件被定位在电子束源2与被处理的孵化蛋42、43之间。在这种元件4的辅助下，可以在被处理的蛋42、43的最接近电子束源2的区域处减小由蛋形状引起的局部电子剂量增加。由此电子能量可以增加。经加速的电子31的中值范围增加，因此位于更远处的蛋区域也可以被足够高的电子剂量撞击。结果，这导致位于最靠近电子束源2以及距电子束源2最远的钙质壳区域16-17之间的剂量梯度减小。
为了防止孵化蛋内部部分的损坏或相应地发育胚的损坏，使用具有较小合成穿透深度的较低电子能量来对孵化蛋42、43的钙质壳22进行杀菌。因此，经加速的电子31根据它们的能量来穿透钙质壳22并且通过散射效应32非弹性地散射。通过该过程，一部分能量沉积在钙质壳22中，这导致位于该位置的微生物的破坏或相应地钝化。此外，生成的次级电子33可以进一步渗透到钙质壳22中，并且进而灭杀细菌、病毒和真菌。除了所提到的作用之外，位于微孔钙质壳22中的氧原子被电离，并且由此生成臭氧，该臭氧例如通过蛋白质衣壳渗透到病毒的核酸核中并损害它们的核糖核酸(RNA)。这些病毒因此变得不活跃或死亡。
代理处理孵化蛋42、43，可以根据相同的方法和在相同的装置中处理工业用蛋和用于人类消费的蛋。
附图标记列表
1中心控制单元
2处理单元中的电子束发生器
3围绕处理单元的遮蔽装置
4元件/电子挡板
5具有位置保持器的运输系统/具有辊的运输系统
6用于输送和取走的通道/遮板的系统
7遮板的驱动单元
8高度感测装置
9高度校正单元
10高压供应单元
11用于电子束发生器的冷却系统
12用于处理区域的臭氧抽吸单元
13蛋的再污染单元
14电子束
15剂量条的起点
16剂量条的终点
17剂量条
18目标剂量范围
19面对侧上的增加剂量
20第一装置，其中蛋以固定方式定位在零度位置中
201第一装置，其中蛋以固定方式定位在一角度位置中
21目标剂量范围内的测量的剂量
22钙质壳
23孔
24壳胶膜
25柱状层
26乳头层
27外壳膜
28内壳膜
29薄膜
30第二装置，其中蛋以设定方式滚动
31初级电子
32散射效应
33次级电子
34吸收
35氧的电离和臭氧的形成
36第一线路
37第二线路
38第三线路
39第四线路
40第五线路
41第六线路
42蛋/孵化蛋
43蛋/孵化蛋
44运动方向
45门道
46门道
47第一辊
48第二辊
49转动装置
50具有转动装置的第三装置
51第一位置保持器
52第二位置保持器
53处理区域/处理单元
54电线路。
Claims (12)
1.一种使用电子束(14)处理禽蛋(42、43)以对钙质壳(22)进行杀菌的方法，
所述方法具有以下步骤：
-使至少一个蛋(42、43)移动通过电子束源(2)的束路径(14)，
-使用来自所述电子束源(2)的电子束(14)照射所述蛋(42、43)，其中，使用不同的剂量照射所述钙质壳(22)，
所述方法的特征在于以下步骤：
-使用所述电子束(14)实施覆盖所述蛋(42、43)的所述钙质壳(22)的所有区域的照射，其中，将元件(4)插入到所述电子束(14)的束路径中以使照射分布在所述钙质壳(22)的所有区域上，其中，由于所述剂量被设定在预定的目标剂量范围(18)内，所述钙质壳(22)被全面地照射，
或者，
-借助于所述电子束源(2)对在所述电子束的束路径(14)中的滚动的/被滚动的蛋(43)实施照射，其中，由于所述被滚动的蛋(43)的相应的预定旋转角，所述钙质壳(22)被以均匀的方式全面地照射，
或者，
-在设置于转动装置(49)上游的装置(20)中借助于所述电子束源(2)对在所述电子束的束路径(14)中的被保持蛋(42)在一侧的零度位置处实施照射；通过所述转动装置(49)将所述被保持蛋(42)转动到相对于所述零度位置转动后的一角度位置中；以及，借助于设置在所述转动装置(49)下游的装置(201)对所述蛋(42)的达到的另一侧实施另外的照射，所述下游的装置(201)以与设置在上游的装置(20)相似的方式构造，其中，由于所述蛋(43)被转动，所述钙质壳(22)被照射。
2.根据权利要求1所述的方法，
其中，
所述目标剂量范围(20)是经由中心控制单元(1)通过改变所述电子束源(2)的电子流(31)和/或加速电压来设定的。
3.根据权利要求1所述的方法，
其中，
实施以下用于处理的方法步骤：
-感测A所述蛋(42、43)的高度，
-通过门道(45)移动B至遮蔽区域中，
-在蛋(42、43)具有不同的尺寸(42、43)的情况下使用对应的高度校正单元(8)处理C，
-通过门道(46)从所述遮蔽区域移出D，以及
-可选的，再污染E所述蛋(42、43)以及转移所述蛋(42、43)用于后续处理步骤。
4.根据权利要求1所述的方法，
其中，
被处理的禽蛋(42、43)选择性地是用于人类消费的蛋、工业用蛋和孵化蛋。
5.一种使用根据权利要求1至4所述的方法中的一种方法、使用电子束(14)对蛋(42)进行处理以对所述蛋(42)的钙质壳(22)进行杀菌的装置(20)，
其中，所述装置(20)至少包括：
-带有至少一个蛋(42)的运输系统(5)，
-用于发射电子束(14)的电子束源(2)，所述蛋(42)以被用电子(31)处理的方式被引导通过所述电子束(14)的束路径，
其中，
为了设定在目标剂量范围(18)内撞击所述钙质壳(22)的所述电子(31)的剂量(21)，将元件(4)设置在所述电子束源(2)与经支撑的一个或多个蛋之间，以便在预定的目标剂量范围(18)内，实现覆盖所述蛋(42)的用于照射所述蛋(42)的钙质壳(22)的所述电子(31)的剂量(21)的减小的分配。
6.根据权利要求5所述的装置，
其中，
用于设定所述剂量(21)的所述元件(4)是电子挡板。
7.根据权利要求5或6所述的装置，
其中，
用于设定所述剂量(21)的所述元件(4)是钢片、杆、菱形件、铝制圆形件或具有间隙的菱形件。
8.根据权利要求5至7所述的装置，
其中，
至少存在以下单元和线路：
-所述中心控制单元(1)，
-电子束发生器/电子束源(2)，
-围绕所述处理单元(53)的遮蔽装置(3)，
-运输系统(5)，所述运输系统至少具有将蛋(42)锁定就位的位置保持器(51、52)，
-用于输送和取走的通道(6)或遮板的系统，
-用于所述遮板的多个驱动单元(7)，
-高度感测装置(8)，
-用于使具有不同尺寸的蛋(42)对准的高度校正单元(9)，
-高压供应单元(10)，
-用于所述电子束发生器(2)的冷却系统(11)，
-用于所述处理区域(53)的臭氧抽吸单元(12)，
-可选地，用于所述蛋(42)的再污染单元(13)，
-来自所述电子束发生器(2)的电子束(14)，其中，为了发信号以及可选地用于操作性供给，所述中心控制单元(1)经由线路(36)连接至所述驱动单元(7)、经由线路(37)连接至所述高度感测装置(8)、经由线路(38)连接至所述运输系统(5)、经由线路(39)连接至所述再污染单元(13)、经由线路(40)连接至用于另外的处理的构造、以及经由线路(41)连接至所述高度校正单元(9)。
9.一种使用根据权利要求1至4所述的方法中的一种方法、使用电子束(31)对蛋(43)进行处理以对所述蛋(43)的钙质壳(22)进行杀菌的装置(30)，
其中，所述装置(30)至少包括：
-带有至少一个蛋(43)的运输系统(5)，
-用于发射电子束(14)的电子束源(2)，所述蛋(43)以被用电子(31)处理的方式被引导通过所述电子束(14)的束路径，
其中，
所述运输系统(5)具有带有经限定的间距的辊(47、48)或成对的辊(47、48)，所述蛋(43)在带有经限定的间距的辊(47、48)或成对的辊(47、48)上移动，其中，借助于辊(47、48)保持的所述蛋(43)滚动通过所述电子束的束路径(14)，使得使用所述电子(31)的照射相对于所述蛋的圆周在所有侧面上发生。
10.根据权利要求9所述的装置，
其中，
至少存在以下单元和线路：
-中心控制单元(1)，
-电子束发生器/电子束源(2)，
-围绕所述处理单元(53)的遮蔽装置(3)，
-运输系统(5)，所述运输系统具有辊(47、48)或者辊(47、48)的系统，
-用于输送和取走的通道(6)或多个遮板的系统，
-用于所述遮板的多个驱动单元(7)，
-高度感测装置(8)，
-用于使具有不同尺寸的蛋(43)对准的高度校正单元(9)，
-高压供应单元(10)，
-用于所述电子束发生器(2)的冷却系统(11)，
-用于所述处理区域(53)的臭氧抽吸单元(12)，
-可选地，用于所述蛋(42、43)的再污染单元(13)，
-来自所述电子束发生器(2)的电子束(14)，其中，为了发信号以及可选地用于操作性供给，所述中心单元(1)经由线路(36)连接至所述驱动单元(7)、经由线路(37)连接至所述高度感测装置(8)、经由线路(38)连接至所述运输系统(5)、经由线路(39)连接至所述再污染单元(13)、经由线路(40)连接至用于另外的处理的构造、以及经由线路(41)连接至所述高度校正单元(9)。
11.一种使用根据权利要求1至4所述的方法中的一种方法、使用电子束(31)对蛋(42)进行处理以对钙质壳(22)进行杀菌的装置(50)，其中，所述装置(50)至少包括：
-带有至少一个蛋(42)的至少一个运输系统(5)，
-用于发射电子束(14)的至少一个电子束源(2)，所述蛋(42)以被用电子(31)处理的方式被引导通过所述电子束(14)的束路径，
其中，
提供了经组合的装置(50)，所述经组合的装置(50)包含以相同的方式构造的两个第一装置(20、201)，布置在转动装置(49)的上游，其中，在所述两个第一装置(20、21)之间设置有转动装置(49)，其借助于连接运输系统(5)连接在一起，其中，在所述转动装置(49)中，在设置于上游的所述装置(20)中被保持于零度位置的所述蛋(42)被转动到一角度位置处，使得在每种情况下，在使用电子(31)对所述蛋(42)进行第一次照射之后以及在所述蛋(42)穿过所述转动装置(49)且同时被转动到所述角度位置中之后，所述蛋(42)的达到的另一侧接收到借助于设置在下游的第一装置(201)的使用电子(31)进行的第二次照射。
12.根据权利要求5至11所述的装置，
其中，
被处理的禽蛋(42、43)选择性地是用于人类消费的蛋、工业用蛋和孵化蛋。
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