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CN108368088A - 杂环化合物和使用其的有机发光器件 - Google Patents

杂环化合物和使用其的有机发光器件 Download PDF

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CN108368088A
CN108368088A CN201680072857.1A CN201680072857A CN108368088A CN 108368088 A CN108368088 A CN 108368088A CN 201680072857 A CN201680072857 A CN 201680072857A CN 108368088 A CN108368088 A CN 108368088A
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CN
China
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compound
chemical formula
aryl
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Application number
CN201680072857.1A
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朴建裕
吴韩国
李允智
金东骏
崔珍硕
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HISUNG MATERIAL CO Ltd
LT Materials Co Ltd
Original Assignee
HISUNG MATERIAL CO Ltd
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Publication date
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Abstract

本申请提供了可以显著改善有机发光器件的使用寿命、效率、电化学稳定性和热稳定性的杂环化合物,以及其中所述杂环化合物包含在有机化合物层中的有机发光器件。

Description

杂环化合物和使用其的有机发光器件
技术领域
本申请要求于2015年12月8日向韩国知识产权局提交的韩国专利申请第10-2015-0174500号的优先权和权益,其全部内容通过引用并入本文。
本申请涉及杂环化合物和使用其的有机发光器件。
背景技术
电致发光器件是一种自发光型显示器件,并且具有视角宽、对比度优异和响应速度快的优点。
有机发光器件具有其中在两个电极之间设置有有机薄膜的结构。当向具有该结构的有机发光器件施加电压时,从两个电极注入的电子和空穴在有机薄膜中彼此结合成对,然后在熄灭的同时发光。根据需要,有机薄膜可以由单个层或多个层构成。
根据需要,用于有机薄膜的材料可以具有发光功能。例如,作为用于有机薄膜的材料,也可以使用其本身可以单独构成发光层的化合物,或者也可以使用可以用作基于主体-掺杂剂的发光层的主体或掺杂剂的化合物。此外,作为用于有机薄膜的材料,也可以使用可以执行诸如空穴注入、空穴传输、电子阻挡、空穴阻挡、电子传输或电子注入的功能的化合物。
为了改善有机发光器件的性能、使用寿命或效率,一直需要开发用于有机薄膜的材料。
发明内容
技术问题
需要对包含具有一定化学结构的化合物的有机发光器件进行研究,所述具有一定化学结构的化合物可以满足可用于有机发光器件的材料所需的条件,例如适当的能级、电化学稳定性、热稳定性等,并且可以根据取代基执行有机发光器件所需的各种功能。
技术方案
本申请的一个示例性实施方案提供了由以下化学式1表示的杂环化合物:
[化学式1]
在化学式1中,
Ar1至Ar3彼此相同或不同,并且各自独立地为经取代或未经取代的C6至C60芳基;或者经取代或未经取代的C2至C60杂芳基,
R1和R2彼此相同或不同,并且各自独立地选自氢;氘;卤素基团;-CN;经取代或未经取代的C1至C60烷基;经取代或未经取代的C2至C60烯基;经取代或未经取代的C2至C60炔基;经取代或未经取代的C1至C60烷氧基;经取代或未经取代的C3至C60环烷基;经取代或未经取代的C2至C60杂环烷基;经取代或未经取代的C6至C60芳基;经取代或未经取代的C2至C60杂芳基;-SiRR’R”;-P(=O)RR’;以及未经取代或者经C1至C20烷基、经取代或未经取代的C6至C60芳基、或者C2至C60杂芳基取代的胺基,
R、R’和R”彼此相同或不同,并且各自独立地为氢;氘;-CN;经取代或未经取代的C1至C60烷基;经取代或未经取代的C3至C60环烷基;经取代或未经取代的C6至C60芳基;或者经取代或未经取代的C2至C60杂芳基,以及
a和b各自独立地为0至4的整数。
此外,本申请的另一个示例性实施方案提供了一种有机发光器件,其包括:正电极;负电极;以及设置在所述正电极与所述负电极之间的具有一个或更多个层的有机材料层,其中所述有机材料层的一个或更多个层包含由化学式1表示的杂环化合物。
此外,本申请的又一个示例性实施方案提供了一种有机发光器件,其中包含所述杂环化合物的有机材料层另外地包含由以下化学式2或3表示的化合物:
[化学式2]
在化学式4中,
L1和L2彼此相同或不同,并且各自独立地为直接键或者经取代或未经取代的C6至C60亚芳基,
Ar33为经取代或未经取代的包含至少一个N的C2至C60杂芳基,
Ar34由以下化学式4或5表示,
[化学式4]
[化学式5]
Y1至Y4彼此相同或不同,并且各自独立地为经取代或未经取代的C6至C60芳族烃环;或者经取代或未经取代的C2至C60芳族杂环,
R23至R29彼此相同或不同,并且各自独立地选自氢;氘;卤素基团;-CN;经取代或未经取代的C1至C60烷基;经取代或未经取代的C2至C60烯基;经取代或未经取代的C2至C60炔基;经取代或未经取代的C1至C60烷氧基;经取代或未经取代的C3至C60环烷基;经取代或未经取代的C2至C60杂环烷基;经取代或未经取代的C6至C60芳基;经取代或未经取代的C2至C60杂芳基;-SiRR’R”;-P(=O)RR’;以及未经取代或者经C1至C20烷基、经取代或未经取代的C6至C60芳基、或者C2至C60杂芳基取代的胺基,或者两个或更多个相邻基团彼此键合以形成经取代或未经取代的脂族或芳族烃环,
R、R’和R”彼此相同或不同,并且各自独立地为氢;氘;-CN;经取代或未经取代的C1至C60烷基;经取代或未经取代的C3至C60环烷基;经取代或未经取代的C6至C60芳基;或者经取代或未经取代的C2至C60杂芳基,以及
[化学式3]
在化学式3中,
X1至X3中的至少一者为N,并且其余的各自独立地为N或CR48,
R31、R32和R48彼此相同或不同,并且各自独立地选自氢;氘;卤素基团;-CN;经取代或未经取代的C1至C60烷基;经取代或未经取代的C2至C60烯基;经取代或未经取代的C2至C60炔基;经取代或未经取代的C1至C60烷氧基;经取代或未经取代的C3至C60环烷基;经取代或未经取代的C2至C60杂环烷基;经取代或未经取代的C6至C60芳基;经取代或未经取代的C2至C60杂芳基;-SiRR’R”;-P(=O)RR’;以及未经取代或者经C1至C20烷基、经取代或未经取代的C6至C60芳基、或者C2至C60杂芳基取代的胺基,或者两个或更多个相邻基团彼此键合以形成经取代或未经取代的脂族或芳族烃环,
R32至R34和R40至R43彼此相同或不同,并且各自独立地选自氢;氘;卤素基团;-CN;经取代或未经取代的C1至C60烷基;经取代或未经取代的C2至C60烯基;经取代或未经取代的C2至C60炔基;经取代或未经取代的C1至C60烷氧基;经取代或未经取代的C3至C60环烷基;经取代或未经取代的C2至C60杂环烷基;经取代或未经取代的C6至C60芳基;经取代或未经取代的C2至C60杂芳基;-SiRR’R”;-P(=O)RR’;以及未经取代或者经C1至C20烷基、经取代或未经取代的C6至C60芳基、或者C2至C60杂芳基取代的胺基,
R44至R47彼此相同或不同,并且各自独立地选自氢;氘;卤素基团;-CN;经取代或未经取代的C1至C60烷基;经取代或未经取代的C2至C60烯基;经取代或未经取代的C2至C60炔基;经取代或未经取代的C1至C60烷氧基;经取代或未经取代的C3至C60环烷基;经取代或未经取代的C2至C60杂环烷基;经取代或未经取代的C6至C60芳基;经取代或未经取代的C2至C60杂芳基;-SiRR’R”;-P(=O)RR’;以及未经取代或者经C1至C20烷基、经取代或未经取代的C6至C60芳基、或者C2至C60杂芳基取代的胺基,或者两个或更多个相邻基团彼此键合以形成经取代或未经取代的烃环或杂环,
R35至R39中的至少一者为-CN,并且其余的各自独立地选自氢;氘;卤素基团;-CN;经取代或未经取代的C1至C60烷基;经取代或未经取代的C2至C60烯基;经取代或未经取代的C2至C60炔基;经取代或未经取代的C1至C60烷氧基;经取代或未经取代的C3至C60环烷基;经取代或未经取代的C2至C60杂环烷基;经取代或未经取代的C6至C60芳基;经取代或未经取代的C2至C60杂芳基;-SiRR’R”;-P(=O)RR’;以及未经取代或者经C1至C20烷基、经取代或未经取代的C6至C60芳基、或者C2至C60杂芳基取代的胺基,或者两个或更多个相邻基团彼此键合以形成经取代或未经取代的脂族或芳族烃环,以及
R、R’和R”彼此相同或不同,并且各自独立地为氢;氘;-CN;经取代或未经取代的C1至C60烷基;经取代或未经取代的C3至C60环烷基;经取代或未经取代的C6至C60芳基;或者经取代或未经取代的C2至C60杂芳基。
有益效果
根据本申请的示例性实施方案的杂环化合物可以用作用于有机发光器件的有机材料层的材料。所述杂环化合物可以用作用于有机发光器件中的空穴注入层、空穴传输层、发光层、电子传输层、电子注入层等的材料。特别地,由化学式1表示的杂环化合物可以用作用于有机发光器件的电子传输层、空穴传输层或发光层的材料。此外,当由化学式1表示的杂环化合物用于有机发光器件时,器件的驱动电压可以降低,器件的光效率可以改善,并且器件的使用寿命特性由于所述化合物的热稳定性而可以改善。
特别地,根据本申请的示例性实施方案的有机发光器件包含由化学式1表示的杂环化合物和由化学式2或3表示的化合物二者作为用于发光层的主体材料,并因此与应用单一化合物作为主体材料的有机发光器件相比,可以在驱动、效率和使用寿命方面均表现出显著改善的特性。
附图说明
图1至图3各自是示意性示出根据本申请的一个示例性实施方案的有机发光器件的堆叠结构的图。
<附图标记说明>
100:基底
200:正电极
300:有机材料层
301:空穴注入层
302:空穴传输层
303:发光层
304:空穴阻挡层
305:电子传输层
306:电子注入层
400:负电极
具体实施方式
下文中,将详细地描述本申请。
根据本申请的一个示例性实施方案的杂环化合物由化学式1至3中的任一者表示。更具体地,由化学式1至3中的任一者表示的杂环化合物可以通过如上所述的核结构和取代基的结构特性用作用于有机发光器件的有机材料层的材料。
在本申请的一个示例性实施方案中,化学式1可以由以下化学式1a至1j中的任一者表示。
[化学式1a]
[化学式1b]
[化学式1c]
[化学式1d]
[化学式1e]
[化学式1f]
[化学式1g]
[化学式1h]
[化学式1i]
[化学式1j]
在化学式1a至1j中,
Ar4至Ar32的限定与化学式1中的Ar1至Ar4的那些相同,
R3至R22的限定与化学式1中的R1和R2的那些相同,以及
c、d、e、f、g、h、i、j、k、l、m、n、o、p、q、r、s、t、u和v的限定与化学式1中的a和b的那些相同。
在本申请的一个示例性实施方案中,化学式1的R1和R2可以各自独立地为氢或氘。
在本申请中,如下将更具体地描述化学式的取代基。
在本说明书中,“经取代或未经取代的”意指未被取代或者被选自以下的一个或更多个取代基取代:氘;卤素基团;-CN;C1至C60烷基;C2至C60烯基;C2至C60炔基;C3至C60环烷基;C2至C60杂环烷基;C6至C60芳基;C2至C60杂芳基;-SiRR’R”;-P(=O)RR’;C1至C20烷基胺基;C6至C60芳基胺基;和C2至C60杂芳基胺基,未被取代或者被所述取代基中的两个或更多个取代基相键合的取代基取代,或者未被取代或者被选自所述取代基中的两个或更多个取代基相连接的取代基取代,例如,“两个或更多个取代基相连接的取代基”可以为联苯基。即,联苯基也可以为芳基,也可以理解为两个苯基相连接的取代基。另外的取代基也可以另外地取代。R、R’和R”彼此相同或不同,并且各自独立地为氢;氘;-CN;经取代或未经取代的C1至C60烷基;经取代或未经取代的C3至C60环烷基;经取代或未经取代的C6至C60芳基;或者经取代或未经取代的C2至C60杂芳基。
根据本申请的一个示例性实施方案,“经取代或未经取代的”意指未被取代或者被选自以下的一个或更多个取代基取代:氘、卤素基团、-CN、SiRR’R”、P(=O)RR’、C1至C20直链或支链烷基、C6至C60芳基、和C2至C60杂芳基,以及
R、R’和R”彼此相同或不同,并且各自独立地为氢;氘;-CN;未经取代或者经氘、卤素基团、-CN、C1至C20烷基、C6至C60芳基和C2至C60杂芳基取代的C1至C60烷基;未经取代或者经氘、卤素、-CN、C1至C20烷基、C6至C60芳基和C2至C60杂芳基取代的C3至C60环烷基;未经取代或者经氘、卤素、-CN、C1至C20烷基、C6至C60芳基和C2至C60杂芳基取代的C6至C60芳基;或者未经取代或者经氘、卤素、-CN、C1至C20烷基、C6至C60芳基和C2至C60杂芳基取代的C2至C60杂芳基。
术语“取代”意指与化合物的碳原子键合的氢原子变成另一取代基,并且取代的位置没有限制,只要该位置是氢原子被取代的位置(即,取代基可以取代的位置)即可,并且当两个或更多个取代时,两个或更多个取代基可以彼此相同或不同。
在本说明书中,卤素可以为氟、氯、溴或碘。
在本说明书中,烷基包括具有1至60个碳原子的直链或支链,并且可以另外地被另一取代基取代。烷基的碳原子数可以为1至60,特别为1至40,更特别为1至20。其具体实例包括甲基、乙基、丙基、正丙基、异丙基、丁基、正丁基、异丁基、叔丁基、仲丁基、1-甲基-丁基、1-乙基-丁基、戊基、正戊基、异戊基、新戊基、叔戊基、己基、正己基、1-甲基戊基、2-甲基戊基、4-甲基-2-戊基、3,3-二甲基丁基、2-乙基丁基、庚基、正庚基、1-甲基己基、环戊基甲基、环己基甲基、辛基、正辛基、叔辛基、1-甲基庚基、2-乙基己基、2-丙基戊基、正壬基、2,2-二甲基庚基、1-乙基-丙基、11-二甲基-丙基、异己基、2-甲基戊基、4-甲基己基、5-甲基己基等,但不限于此。
在本说明书中,烯基包括具有2至60个碳原子的直链或支链,并且可以另外被另一取代基取代。烯基的碳原子数可以为2至60,特别为2至40,更特别为2至20。其具体实例包括乙烯基、1-丙烯基、异丙烯基、1-丁烯基、2-丁烯基、3-丁烯基、1-戊烯基、2-戊烯基、3-戊烯基、3-甲基-1-丁烯基、1,3-丁二烯基、烯丙基、1-苯基乙烯-1-基、2-苯基乙烯-1-基、2,2-二苯基乙烯-1-基、2-苯基-2-(萘-1-基)乙烯-1-基、2,2-双(二苯基-1-基)乙烯-1-基、茋基、苯乙烯基等,但不限于此。
在本说明书中,炔基包括具有2至60个碳原子的直链或支链,并且可以另外被另一取代基取代。炔基的碳原子数可以为2至60,特别为2至40,更特别为2至20。
在本说明书中,环烷基包括具有3至60个碳原子的单环或多环,并且可以另外被另一取代基取代。在此,多环意指其中环烷基与另一环状基团直接连接或稠合的基团。在此,另一环状基团也可以为环烷基,但也可以为另一种环状基团,例如杂环烷基、芳基、杂芳基等。环烷基的碳原子数可以为3至60,特别为3至40,更特别为5至20。其具体实例包括环丙基、环丁基、环戊基、3-甲基环戊基、2,3-二甲基环戊基、环己基、3-甲基环己基、4-甲基环己基、2,3-二甲基环己基、3,4,5-三甲基环己基、4-叔丁基环己基、环庚基、环辛基等,但不限于此。
在本说明书中,杂环烷基包含O、S、Se、N或Si作为杂原子,包括具有2至60个碳原子的单环或多环,并且可以另外被另一取代基取代。在此,多环意指其中杂环烷基与另一环状基团直接连接或稠合的基团。在此,另一环状基团也可以是杂环烷基,但也可以为另一种环状基团,例如环烷基、芳基、杂芳基等。杂环烷基的碳原子数可以为2至60,特别为2至40,更特别为3至20。
在本说明书中,芳基包括具有6至60个碳原子的单环或多环,并且可以另外被另一取代基取代。在此,多环意指其中芳基与另一环状基团直接连接或稠合的基团。在此,另一环状基团也可以为芳基,但也可以为另一种环状基团,例如环烷基、杂环烷基、杂芳基等。芳基包括螺环基团。芳基的碳原子数可以为6至60,特别为6至40,更特别为6至25。芳基的具体实例包括苯基、联苯基、三苯基、萘基、蒽基、基、菲基、苝基、荧蒽基、三亚苯基、非那烯基、芘基、并四苯基、并五苯基、芴基、茚基、苊基、苯并芴基、螺二芴基、2,3-二氢-1H-茚基、其稠合环状基团等,但不限于此。
在本说明书中,螺环基团是包含螺环结构的基团,并且可以具有15至60个碳原子。例如,螺环基团可以包含其中2,3-二氢-1H-茚基或环己烷基与芴基螺环键合的结构。具体地,螺环基团可以包括以下结构式的基团中的任一者。
在本说明书中,杂芳基包含S、O、Se、N或Si作为杂原子,包括具有2至60个碳原子的单环或多环,并且可以另外被另一取代基取代。在此,多环意指其中杂芳基与另一环状基团直接连接或稠合的基团。在此,另一环状基团也可以为杂芳基,但也可以为另一种环状基团,例如环烷基、杂环烷基、芳基等。杂芳基的碳原子数可以为2至60,特别为2至40,更特别为3至25。杂芳基的具体实例包括吡啶基、吡咯基、嘧啶基、哒嗪基、呋喃基、噻吩基、咪唑基、吡唑基、唑基、异唑基、噻唑基、异噻唑基、三唑基、呋咱基、二唑基、噻二唑基、二噻唑基、四唑基、吡喃基、噻喃基、二嗪基、嗪基、噻嗪基、二英基、三嗪基、四嗪基、喹啉基、异喹啉基、喹唑啉基、异喹唑啉基、喹啉基(quinozolilyl)、萘啶基、吖啶基、菲啶基、咪唑并吡啶基、二氮杂萘基、三氮杂茚基、吲哚基、吲嗪基、苯并噻唑基、苯并唑基、苯并咪唑基、苯并噻吩基、苯并呋喃基、二苯并噻吩基、二苯并呋喃基、咔唑基、苯并咔唑基、二苯并咔唑基、吩嗪基、二苯并噻咯基、螺二(二苯并噻咯基)、二氢吩嗪基、吩嗪基、菲啶基、咪唑并吡啶基、噻吩基、吲哚并[2,3-a]咔唑基、吲哚并[2,3-b]咔唑基、二氢吲哚基、10,11-二氢-二苯并[b,f]吖庚因基、9,10-二氢吖啶基、菲吖嗪基(phenanthrazinyl)、吩噻嗪基、酞嗪基、萘啶基、菲咯啉基、苯并[c][1,2,5]噻二唑基、5,10-二氢二苯并[b,e][1,4]氮杂硅啉基(azasilinyl)、吡唑并[1,5-c]喹唑啉基、吡啶并[1,2-b]吲唑基、吡啶并[1,2-a]咪唑并[1,2-e]二氢吲哚基、5,11-二氢茚并[1,2-b]咔唑基等,但不限于此。
在本说明书中,胺基可以选自单烷基胺基;单芳基胺基;单杂芳基胺基;-NH2;二烷基胺基;二芳基胺基;二杂芳基胺基;烷基芳基胺基;烷基杂芳基胺基;和芳基杂芳基胺基,并且其碳原子数没有特别限制,但优选为1至30。胺基的具体实例包括甲基胺基、二甲基胺基、乙基胺基、二乙基胺基、苯基胺基、萘基胺基、联苯基胺基、二联苯基胺基、蒽基胺基、9-甲基-蒽基胺基、二苯基胺基、苯基萘基胺基、二甲苯基胺基、苯基甲苯基胺基、三苯基胺基、联苯基萘基胺基、苯基联苯基胺基、联苯基芴基胺基、苯基三亚苯基胺基、联苯基三亚苯基胺基等,但不限于此。
在本说明书中,亚芳基意指在芳基中存在两个键合位置,即二价基团。上述对芳基的描述可以应用于亚芳基,不同之处在于亚芳基是二价的。此外,亚杂芳基意指在杂芳基中存在两个键合位置,即二价基团。上述对杂芳基的描述可以应用于亚杂芳基,不同之处在于亚杂芳基是二价的。
根据本申请的一个示例性实施方案,由化学式1表示的化合物可以由以下化合物中的任一者表示,但不限于此。
此外,可以合成具有通过将各种取代基引入化学式1的结构中而引入的取代基的固有特性的化合物。例如,可以将通常用于用于制造有机发光器件的空穴注入层材料、传输空穴用材料、发光层材料和电子传输层材料的取代基引入核结构中以合成满足各个有机材料层所需条件的材料。
此外,可以通过将各种取代基引入化学式1的结构中来精细地调节能带隙,并且同时,可以改善有机材料之间的界面处的特性并使材料的用途多样化。
同时,所述杂环化合物具有高的玻璃化转变温度(Tg)并因此具有优异的热稳定性。热稳定性的增加成为向器件提供驱动稳定性的重要因素。
根据本申请的一个示例性实施方案的杂环化合物可以通过多步化学反应来制备。首先制备一些中间化合物,并且可以由中间化合物来制备化学式1的化合物。更具体地,根据本申请的一个示例性实施方案的杂环化合物可以基于以下将描述的制备例来制备。
本申请的一个示例性实施方案提供了一种有机发光器件,其包括正电极,负电极,以及设置在正电极与负电极之间的具有一个或更多个层的有机材料层,其中有机材料层的一个或更多个层包含由化学式1表示的杂环化合物。
本申请的另一个示例性实施方案提供了一种有机发光器件,其包括正电极,负电极,以及设置在正电极与负电极之间的具有一个或更多个层的有机材料层,其中有机材料层包括发光层,并且所述发光层包含:由化学式1表示的杂环化合物;和由化学式2或3表示的化合物。
在化学式4和5中,*表示与化学式2的L2连接的位置。
根据本申请的一个示例性实施方案,化学式4可以由以下化学式中的任一者表示。
在所述结构式中,X1至X6彼此相同或不同,并且各自独立地为NR、S、O或CR’R”,
R49至R55彼此相同或不同,并且各自独立地选自氢;氘;卤素基团;-CN;经取代或未经取代的C1至C60烷基;经取代或未经取代的C2至C60烯基;经取代或未经取代的C2至C60炔基;经取代或未经取代的C1至C60烷氧基;经取代或未经取代的C3至C60环烷基;经取代或未经取代的C2至C60杂环烷基;经取代或未经取代的C6至C60芳基;经取代或未经取代的C2至C60杂芳基;-SiRR’R”;-P(=O)RR’;以及未经取代或者经C1至C20烷基、经取代或未经取代的C6至C60芳基、或者C2至C60杂芳基取代的胺基,或者两个或更多个相邻基团彼此键合以形成经取代或未经取代的脂族或芳族烃环,
R、R’和R”彼此相同或不同,并且各自独立地为氢;氘;-CN;经取代或未经取代的C1至C60烷基;经取代或未经取代的C3至C60环烷基;经取代或未经取代的C6至C60芳基;或者经取代或未经取代的C2至C60杂芳基;以及
w1为0至8的整数,以及w2至w7各自独立地为0至6的整数。
根据本申请的一个示例性实施方案,化学式5可以由以下结构式中的任一者表示。
在所述结构式中,X7和X8彼此相同或不同,并且各自独立地为NR、S、O或CR’R”,
R56至R59彼此相同或不同,并且各自独立地选自氢;氘;卤素基团;-CN;经取代或未经取代的C1至C60烷基;经取代或未经取代的C2至C60烯基;经取代或未经取代的C2至C60炔基;经取代或未经取代的C1至C60烷氧基;经取代或未经取代的C3至C60环烷基;经取代或未经取代的C2至C60杂环烷基;经取代或未经取代的C6至C60芳基;经取代或未经取代的C2至C60杂芳基;-SiRR’R”;-P(=O)RR’;以及未经取代或者经C1至C20烷基、经取代或未经取代的C6至C60芳基、或者C2至C60杂芳基取代的胺基,或者两个或更多个相邻基团彼此键合以形成经取代或未经取代的脂族或芳族烃环,
R、R’和R”彼此相同或不同,并且各自独立地为氢;氘;-CN;经取代或未经取代的C1至C60烷基;经取代或未经取代的C3至C60环烷基;经取代或未经取代的C6至C60芳基;或者经取代或未经取代的C2至C60杂芳基;以及
y1为0至7的整数。
在本申请的一个示例性实施方案中,化学式4的R24至R28可以各自独立地为氢或氘。
根据本申请的一个示例性实施方案,由化学式2表示的化合物可以由以下化合物中的任一者表示,但不限于此。
在本申请的一个示例性实施方案中,在化学式3中,X1至X3中的一者可以为N,X1至X3中的两者可以为N,X1至X3中的全部可以为N。
在本申请的一个示例性实施方案中,化学式3的R30和R31可以各自独立地为经取代或未经取代的C6至C60芳基;或者经取代或未经取代的C2至C60杂芳基。
在本申请的一个示例性实施方案中,化学式3的R32至R34可以各自独立地为氢或氘。
在本申请的一个示例性实施方案中,化学式3的R35至R39中的任一者可以为-CN,并且其余的可以各自独立地为氢或氘。
根据本申请的一个示例性实施方案,由化学式3表示的化合物可以由以下化合物中的任一者表示,但不限于此。
根据本申请的一个示例性实施方案的有机发光器件可以包含以下作为用于发光层的主体材料:由化学式1表示的杂环化合物;和由化学式2或3表示的化合物。在这种情况下,用于发光层的掺杂剂材料可以使用本领域已知的材料。
在主体材料中,由化学式1表示的杂环化合物与由化学式2或3表示的化合物的重量比可以为1:10至10:1、1:8至8:1、1:5至5:1、1:2至2:1、和1:1,但不限于此。
主体材料是其中两种或更多种化合物简单混合的形式,并且可以在形成有机发光器件的有机材料层之前将粉末状态的材料混合,并且可以在等于或大于适当温度的温度下将液体状态的材料混合。主体材料在等于或低于每种材料的熔点的温度下处于固态,并且如果调节温度则可以保持为液态。
根据本申请的一个示例性实施方案的有机发光器件可以通过用于制造有机发光器件的典型方法和材料来制造,不同之处在于通过使用由化学式1表示的杂环化合物和由化学式2或3表示的化合物形成具有一个或更多个层的有机材料层。
在制造有机发光器件时,杂环化合物不仅可以通过真空沉积法而且可以通过溶液涂覆法形成为有机材料层。在此,溶液涂覆法意指旋涂、浸涂、喷墨印刷、丝网印刷、喷涂法、辊涂等,但不限于此。
由化学式1表示的化合物可以用作用于有机发光器件中的电子传输层、空穴阻挡层或发光层等的材料。作为实例,由化学式1表示的化合物可以用作用于有机发光器件的电子传输层、空穴传输层或发光层的材料。
此外,由化学式1表示的化合物可以用作用于有机发光器件中的发光层的材料。作为实例,由化学式1表示的化合物可以用作用于有机发光器件中的发光层的磷光主体的材料。
此外,根据需要,包含由化学式1表示的化合物的有机材料层可以另外包含其他材料。
由化学式1表示的化合物可以用作用于有机发光器件中的电荷产生层的材料。
由化学式1表示的化合物可以用作用于有机发光器件中的电子传输层、空穴阻挡层或发光层等的材料。作为实例,由化学式1表示的化合物可以用作用于有机发光器件的电子传输层、空穴传输层或发光层的材料。
此外,由化学式1表示的化合物可以用作用于有机发光器件中的发光层的材料。作为实例,由化学式1表示的化合物可以用作用于有机发光器件中的发光层的磷光主体的材料。
图1至图3例示了根据本申请的一个示例性实施方案的有机发光器件的电极和有机材料层的堆叠顺序。然而,本申请的范围并不旨在受限于这些附图,并且本领域中已知的有机发光器件的结构也可以应用于本申请。
根据图1,示出了其中正电极200、有机材料层300和负电极400依次堆叠在基底100上的有机发光器件。然而,有机发光器件不仅限于这样的结构,如图2所示,也可以实现其中负电极、有机材料层和正电极依次堆叠在基底上的有机发光器件。
图3例示了有机材料层为多层的情况。根据图3的有机发光器件包括空穴注入层301、空穴传输层302、发光层303、空穴阻挡层304、电子传输层305和电子注入层306。然而,本申请的范围不受限于如上所述的堆叠结构,根据需要,可以省略除发光层之外的其他层,并且可以进一步添加另外的需要的功能层。
在根据本申请的一个示例性实施方案的有机发光器件中,以下将例示除化学式1至5的化合物以外的材料,但这些材料仅是说明性的,并不用于限制本申请的范围,并且可以用本领域公知的材料代替。
作为正电极材料,可以使用具有相对高的功函数的材料,并且可以使用透明导电氧化物、金属或导电聚合物等。正电极材料的具体实例包括:金属,例如钒、铬、铜、锌和金,或其合金;金属氧化物,例如氧化锌、氧化铟、氧化铟锡(ITO)和氧化铟锌(IZO);金属和氧化物的组合,例如ZnO:Al或SnO2:Sb;导电聚合物,例如聚(3-甲基噻吩)、聚[3,4-(亚乙基-1,2-二氧基)噻吩](PEDOT)、聚吡咯和聚苯胺;等等,但不限于此。
作为用于负电极的材料,可以使用具有相对低的功函数的材料,并且可以使用金属、金属氧化物或导电聚合物等。负电极材料的具体实例包括:金属,例如镁、钙、钠、钾、钛、铟、钇、锂、钆、铝、银、锡和铅,或其合金;多层结构材料,例如LiF/Al或LiO2/Al;等等,但不限于此。
作为空穴注入材料,也可以使用公知的空穴注入材料,例如,可以使用:酞菁化合物,例如美国专利第4,356,429号中公开的铜酞菁;或者文献[Advanced Material,6,第677页(1994)]中描述的星型胺衍生物,例如三(4-咔唑-9-基苯基)胺(TCTA)、4,4',4"-三[苯基(间甲苯基)氨基]三苯基胺(m-MTDATA)、1,3,5-三[4-(3-甲基苯基苯基氨基)苯基]苯(m-MTDAPB)、为可溶性导电聚合物的聚苯胺/十二烷基苯磺酸或聚(3,4-亚乙基二氧噻吩)/聚(4-苯乙烯磺酸酯)、聚苯胺/樟脑磺酸、或者聚苯胺/聚(4-苯乙烯-磺酸酯)等。
作为空穴传输材料,可以使用吡唑啉衍生物、基于芳基胺的衍生物、茋衍生物、三苯基二胺衍生物等,也可以使用低分子量材料或聚合物材料。
作为电子传输材料,可以使用二唑衍生物、蒽醌二甲烷及其衍生物、苯醌及其衍生物、萘醌及其衍生物、蒽醌及其衍生物、四氰基蒽醌二甲烷及其衍生物、芴酮衍生物、二苯基二氰基乙烯及其衍生物、联苯醌衍生物、8-羟基喹啉及其衍生物的金属配合物等,也可以使用低分子量材料和聚合物材料。
作为电子注入材料,例如,本领域中代表性地使用LiF,但本申请不限于此。
根据所使用的材料,根据本申请的一个示例性实施方案的有机发光器件可以为顶部发光型、底部发光型或双侧发光型。
甚至在有机电子器件(包括有机太阳能电池、有机光电导体、有机晶体管等)中,根据本申请的一个示例性实施方案的杂环化合物也可以基于与应用于有机发光器件的原理类似的原理起作用。
发明的实施方式
下文中,将通过实施例更详细地描述本说明书,但这些实施例仅提供用于例示本申请,并不旨在限制本申请的范围。
<实施例>
[制备例1-1]化合物1-1的制备
化合物1-1-1的制备
将20g(73.98mmol)1,3-二溴-5-氯苯、46.7g(162.8mmol)(9-苯基-9H-咔唑-1-基)硼酸、4.27g(3.7mmol)Pd(PPh3)4和30.67g(221.94mmol)K2CO3溶解在350/70/70mL甲苯/EtOH/H2O中,然后使所得溶液回流12小时。使所得产物冷却至室温,然后使用蒸馏水和二氯甲烷进行萃取。此后,将萃取物溶解在二氯甲烷中,将所得溶液使用硅胶、硅藻土和弗罗里硅土(florisil)进行过滤,除去溶剂,并使用柱色谱以获得37.42g(85%)目标化合物1-1-1。
化合物1-1的制备
将5g(8.40mmol)化合物1-1-1、1.23g(10.08mmol)苯基硼酸、0.77g(0.84mmol)Pd2(dba)3、0.69g(1.68mmol)SPhos和5.35g(25.2mmol)K3PO4溶解在40/4mL甲苯/H2O中,然后使所得溶液回流12小时。使所得产物冷却至室温,然后使用蒸馏水和二氯甲烷进行萃取。此后,将萃取物溶解在二氯甲烷中,将所得溶液使用硅胶、硅藻土和弗罗里硅土进行过滤,除去溶剂,并使用柱色谱以获得3.5g(66%)目标化合物1-1。
[制备例1-2]化合物1-13的制备
化合物1-13-2的制备
将15g(55.48mmol)1,3-二溴-5-氯苯、15.9g(55.48mmol)(9-苯基-9H-咔唑-1-基)硼酸、3.2g(2.77mmol)Pd(PPh3)4和23.01g(166.44mmol)K2CO3溶解在250/50/50mL甲苯/EtOH/H2O中,然后使所得溶液回流12小时。使所得产物冷却至室温,然后使用蒸馏水和二氯甲烷进行萃取。此后,将萃取物溶解在二氯甲烷中,将所得溶液使用硅胶、硅藻土和弗罗里硅土进行过滤,除去溶剂,并使用柱色谱以获得14.9g(62%)目标化合物1-13-2。
化合物1-13-1的制备
将24g(55.48mmol)化合物1-13-2、24.2g(66.58mmol)(9-苯基-9H-咔唑-2-基)硼酸、3.2g(2.77mmol)Pd(PPh3)4和23.01g(166.44mmol)K2CO3溶解在250/50/50mL甲苯/EtOH/H2O中,然后使所得溶液回流12小时。使所得产物冷却至室温,然后使用蒸馏水和二氯甲烷进行萃取。此后,将萃取物溶解在二氯甲烷中,将所得溶液使用硅胶、硅藻土和弗罗里硅土进行过滤,除去溶剂,并使用柱色谱以获得30.5g(82%)目标化合物1-13-1。
化合物1-13的制备
将6.2g(9.28mmol)化合物1-13-1、1.36g(11.14mmol)苯基硼酸、0.43g(0.46mmol)Pd2(dba)3、0.76g(1.86mmol)SPhos和5.9g(27.9mmol)K3PO4溶解在50/5mL甲苯/H2O中,然后使所得溶液回流12小时。使所得产物冷却至室温,然后使用蒸馏水和二氯甲烷进行萃取。此后,将萃取物溶解在二氯甲烷中,将所得溶液使用硅胶、硅藻土和弗罗里硅土进行过滤,除去溶剂,并使用柱色谱以获得4.5g(68%)目标化合物1-13。
[制备例1-3]化合物1-21的制备
化合物1-21-1的制备
将24g(55.48mmol)化合物1-13-2、24.2g(66.58mmol)(9-苯基-9H-咔唑-3-基)硼酸、3.2g(2.77mmol)Pd(PPh3)4和23.01g(166.44mmol)K2CO3溶解在250/50/50mL甲苯/EtOH/H2O中,然后使所得溶液回流12小时。使所得产物冷却至室温,然后使用蒸馏水和二氯甲烷进行萃取。此后,将萃取物溶解在二氯甲烷中,将所得溶液使用硅胶、硅藻土和弗罗里硅土进行过滤,除去溶剂,并使用柱色谱以获得30.5g(82%)目标化合物1-21-1。
化合物1-21的制备
将6.2g(9.28mmol)化合物1-21-1、1.36g(11.14mmol)苯基硼酸、0.43g(0.46mmol)Pd2(dba)3、0.76g(1.86mmol)SPhos和5.9g(27.9mmol)K3PO4溶解在50/5mL甲苯/H2O中,然后使所得溶液回流12小时。使所得产物冷却至室温,然后使用蒸馏水和二氯甲烷进行萃取。此后,将萃取物溶解在二氯甲烷中,将所得溶液使用硅胶、硅藻土和弗罗里硅土进行过滤,除去溶剂,并使用柱色谱以获得4.5g(68%)目标化合物1-21。
[制备例1-4]化合物1-31的制备
化合物1-31-1的制备
将24g(55.48mmol)化合物1-13-2、24.2g(66.58mmol)(9-苯基-9H-咔唑-4-基)硼酸、3.2g(2.77mmol)Pd(PPh3)4和23.01g(166.44mmol)K2CO3溶解在250/50/50mL甲苯/EtOH/H2O中,然后使所得溶液回流12小时。使所得产物冷却至室温,然后使用蒸馏水和二氯甲烷进行萃取。此后,将萃取物溶解在二氯甲烷中,将所得溶液使用硅胶、硅藻土和弗罗里硅土进行过滤,除去溶剂,并使用柱色谱以获得30.5g(82%)目标化合物1-31-1。
化合物1-31的制备
将6.2g(9.28mmol)化合物1-31-1、2.2g(11.14mmol)[1,1’-联苯]-4-基硼酸、0.43g(0.46mmol)Pd2(dba)3、0.76g(1.86mmol)SPhos和5.9g(27.9mmol)K3PO4溶解在50/5mL甲苯/H2O中,然后使所得溶液回流12小时。使所得产物冷却至室温,然后使用蒸馏水和二氯甲烷进行萃取。此后,将萃取物溶解在二氯甲烷中,将所得溶液使用硅胶、硅藻土和弗罗里硅土进行过滤,除去溶剂,并使用柱色谱以获得4.5g(68%)目标化合物1-31。
[制备例1-5]化合物1-41的制备
化合物1-41-1的制备
将20g(73.98mmol)1,3-二溴-5-氯苯、46.7g(162.8mmol)(9-苯基-9H-咔唑-2-基)硼酸、4.27g(3.7mmol)Pd(PPh3)4和30.67g(221.94mmol)K2CO3溶解在350/70/70mL甲苯/EtOH/H2O中,然后使所得溶液回流12小时。使所得产物冷却至室温,然后使用蒸馏水和二氯甲烷进行萃取。此后,将萃取物溶解在二氯甲烷中,将所得溶液使用硅胶、硅藻土和弗罗里硅土进行过滤,除去溶剂,并使用柱色谱以获得37.42g(85%)目标化合物1-41-1。
化合物1-41的制备
将5g(8.40mmol)化合物1-41-1、1.23g(10.08mmol)苯基硼酸、0.77g(0.84mmol)Pd2(dba)3、0.69g(1.68mmol)SPhos和5.35g(25.2mmol)K3PO4溶解在40/4mL甲苯/H2O中,然后使所得溶液回流12小时。使所得产物冷却至室温,然后使用蒸馏水和二氯甲烷进行萃取。此后,将萃取物溶解在二氯甲烷中,将所得溶液使用硅胶、硅藻土和弗罗里硅土进行过滤,除去溶剂,并使用柱色谱以获得3.5g(66%)目标化合物1-41。
[制备例1-6]化合物1-43的制备
将6g(10.08mmol)化合物1-41-1、2.99g(15.12mmol)[1,1’-联苯]-4-基硼酸、0.93g(1.0mmol)Pd2(dba)3、0.96g(2.0mmol)XPhos和6.42g(30.2mmol)K3PO4溶解在50/5mL甲苯/H2O中,然后使所得溶液回流12小时。使所得产物冷却至室温,然后使用蒸馏水和二氯甲烷进行萃取。此后,将萃取物溶解在二氯甲烷中,将所得溶液使用硅胶、硅藻土和弗罗里硅土进行过滤,除去溶剂,并使用柱色谱以获得4.3g(60%)目标化合物1-43。
[制备例1-7]化合物1-44的制备
将6g(10.08mmol)化合物1-41-1、2.6g(15.12mmol)萘-1-基硼酸、0.93g(1.0mmol)Pd2(dba)3、0.96g(2.0mmol)XPhos和6.42g(30.2mmol)K3PO4溶解在50/5mL甲苯/H2O中,然后使所得溶液回流12小时。使所得产物冷却至室温,然后使用蒸馏水和二氯甲烷进行萃取。此后,将萃取物溶解在二氯甲烷中,将所得溶液使用硅胶、硅藻土和弗罗里硅土进行过滤,除去溶剂,并使用柱色谱以获得4.3g(62%)目标化合物1-44。
[制备例1-8]化合物1-45的制备
将6g(10.08mmol)化合物1-41-1、2.6g(15.12mmol)萘-2-基硼酸、0.93g(1.0mmol)Pd2(dba)3、0.96g(2.0mmol)XPhos和6.42g(30.2mmol)K3PO4溶解在50/5mL甲苯/H2O中,然后使所得溶液回流12小时。使所得产物冷却至室温,然后使用蒸馏水和二氯甲烷进行萃取。此后,将萃取物溶解在二氯甲烷中,将所得溶液使用硅胶、硅藻土和弗罗里硅土进行过滤,除去溶剂,并使用柱色谱以获得4.2g(61%)目标化合物1-45。
[制备例1-9]化合物1-48的制备
将6g(10.08mmol)化合物1-41-1、3.6g(15.12mmol)(9,9-二甲基-9H-芴-2-基)硼酸、0.93g(1.0mmol)Pd2(dba)3、0.82g(2.0mmol)SPhos和6.42g(30.2mmol)K3PO4溶解在50/5mL甲苯/H2O中,然后使所得溶液回流12小时。使所得产物冷却至室温,然后使用蒸馏水和二氯甲烷进行萃取。此后,将萃取物溶解在二氯甲烷中,将所得溶液使用硅胶、硅藻土和弗罗里硅土进行过滤,除去溶剂,并使用柱色谱以获得4.0g(53%)目标化合物1-48。
[制备例1-10]化合物1-49的制备
将6g(10.08mmol)化合物1-41、3.5g(15.12mmol)二苯并[b,d]噻吩-4-基硼酸、0.93g(1.0mmol)Pd2(dba)3、0.82g(2.0mmol)SPhos和6.42g(30.2mmol)K3PO4溶解在50/5mL甲苯/H2O中,然后使所得溶液回流12小时。使所得产物冷却至室温,然后使用蒸馏水和二氯甲烷进行萃取。此后,将萃取物溶解在二氯甲烷中,将所得溶液使用硅胶、硅藻土和弗罗里硅土进行过滤,除去溶剂,并使用柱色谱以获得4.4g(58%)目标化合物1-49。
[制备例1-11]化合物1-50的制备
将5.5g(9.24mmol)化合物1-41-1、2.35g(11.09mmol)二苯并[b,d]呋喃-4-基硼酸、0.84g(0.92mmol)Pd2(dba)3、0.90g(1.85mmol)SPhos和5.88g(27.72mmol)K3PO4溶解在50/5mL甲苯/H2O中,然后使所得溶液回流12小时。使所得产物冷却至室温,然后使用蒸馏水和二氯甲烷进行萃取。此后,将萃取物溶解在二氯甲烷中,将所得溶液使用硅胶、硅藻土和弗罗里硅土进行过滤,除去溶剂,并使用柱色谱以获得4.3g(64%)目标化合物1-50。
[制备例1-12]化合物1-54的制备
化合物1-54-2的制备
将20g(73.98mmol)1,3-二溴-5-氯苯、21.2g(73.98mmol)(9-苯基-9H-咔唑-2-基)硼酸、4.27g(3.7mmol)Pd(PPh3)4和30.67g(221.94mmol)K2CO3溶解在350/70/70mL甲苯/EtOH/H2O中,然后使所得溶液回流12小时。使所得产物冷却至室温,然后使用蒸馏水和二氯甲烷进行萃取。此后,将萃取物溶解在二氯甲烷中,将所得溶液使用硅胶、硅藻土和弗罗里硅土进行过滤,除去溶剂,并使用柱色谱以获得19.2g(60%)目标化合物1-54-2。
化合物1-54-1的制备
将24g(55.48mmol)化合物1-54-2、26.9g(66.58mmol)(9-(9,9-二甲基-9H-芴-2-基-9H-咔唑-2-基)硼酸、3.2g(2.77mmol)Pd(PPh3)4和23.01g(166.44mmol)K2CO3溶解在250/50/50mL甲苯/EtOH/H2O中,然后使所得溶液回流12小时。使所得产物冷却至室温,然后使用蒸馏水和二氯甲烷进行萃取。此后,将萃取物溶解在二氯甲烷中,将所得溶液使用硅胶、硅藻土和弗罗里硅土进行过滤,除去溶剂,并使用柱色谱以获得30.8g(78%)的目标化合物1-54-1。
化合物1-54的制备
将5.97g(8.40mmol)化合物1-54-1、1.23g(10.08mmol)苯基硼酸、0.77g(0.84mmol)Pd2(dba)3、0.69g(1.68mmol)SPhos和5.35g(25.2mmol)K3PO4溶解在40/4mL甲苯/H2O中,然后使所得溶液回流12小时。使所得产物冷却至室温,然后使用蒸馏水和二氯甲烷进行萃取。此后,将萃取物溶解在二氯甲烷中,将所得溶液使用硅胶、硅藻土和弗罗里硅土进行过滤,除去溶剂,并使用柱色谱以获得4.7g(74%)目标化合物1-54。
[制备例1-13]化合物1-60的制备
化合物1-60-1的制备
将24g(55.48mmol)化合物1-54-2、19.1g(66.58mmol)(9-苯基-9H-咔唑-4-基)硼酸、3.2g(2.77mmol)Pd(PPh3)4和23.01g(166.44mmol)K2CO3溶解在250/50/50mL甲苯/EtOH/H2O中,然后使所得溶液回流12小时。使所得产物冷却至室温,然后使用蒸馏水和二氯甲烷进行萃取。此后,将萃取物溶解在二氯甲烷中,将所得溶液使用硅胶、硅藻土和弗罗里硅土进行过滤,除去溶剂,并使用柱色谱以获得23.1g(70%)目标化合物1-60-1。
化合物1-60的制备
将5.0g(8.40mmol)化合物1-60-1、1.23g(10.08mmol)苯基硼酸、0.77g(0.84mmol)Pd2(dba)3、0.69g(1.68mmol)SPhos和5.35g(25.2mmol)K3PO4溶解在40/4mL甲苯/H2O中,然后使所得溶液回流12小时。使所得产物冷却至室温,然后使用蒸馏水和二氯甲烷进行萃取。此后,将萃取物溶解在二氯甲烷中,将所得溶液使用硅胶、硅藻土和弗罗里硅土进行过滤,除去溶剂,并使用柱色谱以获得3.5g(65%)目标化合物1-60。
[制备例1-14]化合物1-70的制备
化合物1-70-2的制备
将15g(55.48mmol)1,3-二溴-5-氯苯、15.9g(55.48mmol)(9-苯基-9H-咔唑-3-基)硼酸、3.2g(2.77mmol)Pd(PPh3)4和23.01g(166.44mmol)K2CO3溶解在250/50/50mL甲苯/EtOH/H2O中,然后使所得溶液回流12小时。使所得产物冷却至室温,然后使用蒸馏水和二氯甲烷进行萃取。此后,将萃取物溶解在二氯甲烷中,将所得溶液使用硅胶、硅藻土和弗罗里硅土进行过滤,除去溶剂,并使用柱色谱以获得14.9g(62%)目标化合物1-70-2。
化合物1-70-1的制备
将24g(55.48mmol)化合物1-70-2、24.2g(66.58mmol)(9-1,1-联苯-9H-咔唑-3-基)硼酸、3.2g(2.77mmol)Pd(PPh3)4和23.01g(166.44mmol)K2CO3溶解在250/50/50mL甲苯/EtOH/H2O中,然后使所得溶液回流12小时。使所得产物冷却至室温,然后使用蒸馏水和二氯甲烷进行萃取。此后,将萃取物溶解在二氯甲烷中,将所得溶液使用硅胶、硅藻土和弗罗里硅土进行过滤,除去溶剂,并使用柱色谱以获得30.5g(82%)目标化合物1-70-1。
化合物1-70的制备
将6.2g(9.28mmol)化合物1-70-1、1.36g(11.14mmol)苯基硼酸、0.43g(0.46mmol)Pd2(dba)3、0.76g(1.86mmol)SPhos和5.9g(27.9mmol)K3PO4溶解在50/5mL甲苯/H2O中,然后使所得溶液回流12小时。使所得产物冷却至室温,然后使用蒸馏水和二氯甲烷进行萃取。此后,将萃取物溶解在二氯甲烷中,将所得溶液使用硅胶、硅藻土和弗罗里硅土进行过滤,除去溶剂,并使用柱色谱以获得4.5g(68%)目标化合物1-70。
[制备例1-15]化合物1-82的制备
化合物1-82-1的制备
将24g(55.48mmol)化合物1-70-2、26.9g(66.58mmol)(9-(9,9-二甲基-9H-芴-2-基-9H-咔唑-2-基)硼酸、3.2g(2.77mmol)Pd(PPh3)4和23.01g(166.44mmol)K2CO3溶解在250/50/50mL甲苯/EtOH/H2O中,然后使所得溶液回流12小时。使所得产物冷却至室温,然后使用蒸馏水和二氯甲烷进行萃取。此后,将萃取物溶解在二氯甲烷中,将所得溶液使用硅胶、硅藻土和弗罗里硅土进行过滤,除去溶剂,并使用柱色谱以获得30.8g(78%)目标化合物1-82-1。
化合物1-82的制备
将6.2g(9.28mmol)化合物1-82-1、1.36g(11.14mmol)苯基硼酸、0.43g(0.46mmol)Pd2(dba)3、0.76g(1.86mmol)SPhos和5.9g(27.9mmol)K3PO4溶解在50/5mL甲苯/H2O中,然后使所得溶液回流12小时。使所得产物冷却至室温,然后使用蒸馏水和二氯甲烷进行萃取。此后,将萃取物溶解在二氯甲烷中,将所得溶液使用硅胶、硅藻土和弗罗里硅土进行过滤,除去溶剂,并使用柱色谱以获得4.95g(75%)目标化合物1-82。
[制备例1-16]化合物1-90的制备
化合物1-90-1的制备
将15g(55.48mmol)1,3-二溴-5-氯苯、35g(122mmol)(9-苯基-9H-咔唑-3-基)硼酸、3.2g(2.77mmol)Pd(PPh3)4和23.01g(166.44mmol)K2CO3溶解在250/50/50mL甲苯/EtOH/H2O中,然后使所得溶液回流12小时。使所得产物冷却至室温,然后使用蒸馏水和二氯甲烷进行萃取。此后,将萃取物溶解在二氯甲烷中,将所得溶液使用硅胶、硅藻土和弗罗里硅土进行过滤,除去溶剂,并使用柱色谱以获得27.07g(82%)目标化合物1-90-1。
化合物1-90的制备
将5.8g(9.28mmol)化合物1-1-1、1.36g(11.14mmol)苯基硼酸、0.43g(0.46mmol)Pd2(dba)3、0.76g(1.86mmol)SPhos和5.9g(27.9mmol)K3PO4溶解在50/5mL甲苯/H2O中,然后使所得溶液回流12小时。使所得产物冷却至室温,然后使用蒸馏水和二氯甲烷进行萃取。此后,将萃取物溶解在二氯甲烷中,将所得溶液使用硅胶、硅藻土和弗罗里硅土进行过滤,除去溶剂,并使用柱色谱以获得4.2g(68%)目标化合物1-90。
[制备例1-17]化合物1-97的制备
将6g(10.08mmol)化合物1-90-1、3.6g(15.12mmol)(9,9-二甲基-9H-芴-2-基)硼酸、0.93g(1.0mmol)Pd2(dba)3、0.96g(2.0mmol)XPhos和6.42g(30.2mmol)K3PO4溶解在50/5mL甲苯/H2O中,然后使所得溶液回流12小时。使所得产物冷却至室温,然后使用蒸馏水和二氯甲烷进行萃取。此后,将萃取物溶解在二氯甲烷中,将所得溶液使用硅胶、硅藻土和弗罗里硅土进行过滤,除去溶剂,并使用柱色谱以获得7.4g(90%)目标化合物1-97。
[制备例1-18]化合物1-100的制备
将6g(10.08mmol)化合物1-90-1、3.5g(15.12mmol)二苯并[b,d]噻吩-4-基硼酸、0.93g(1.0mmol)Pd2(dba)3、1.66g(4.0mmol)XPhos和6.42g(30.2mmol)K3PO4溶解在50/5m甲苯/H2O中,然后使所得溶液回流12小时。使所得产物冷却至室温,然后使用蒸馏水和二氯甲烷进行萃取。此后,将萃取物溶解在二氯甲烷中,将所得溶液使用硅胶、硅藻土和弗罗里硅土进行过滤,除去溶剂,并使用柱色谱以获得6.7g(90%)目标化合物1-100。
[制备例1-19]化合物1-101的制备
将8g(13.44mmol)化合物1-90-1、4.28g(20.16mmol)二苯并[b,d]呋喃-4-基硼酸、1.24g(1.3mmol)Pd2(dba)3、2.2g(5.4mmol)SPhos和8.56g(40.32mmol)K3PO4溶解在60/6mL甲苯/H2O中,然后使所得溶液回流12小时。使所得产物冷却至室温,然后使用蒸馏水和二氯甲烷进行萃取。此后,将萃取物溶解在二氯甲烷中,将所得溶液使用硅胶、硅藻土和弗罗里硅土进行过滤,除去溶剂,并使用柱色谱以获得8.4g(90%)目标化合物1-101。
[制备例1-20]化合物1-103的制备
化合物1-103-1的制备
将24g(55.48mmol)化合物1-70-2、24.2g(66.58mmol)(9-1,1-联苯-9H-咔唑-3-基)硼酸、3.2g(2.77mmol)Pd(PPh3)4和23.01g(166.44mmol)K2CO3溶解在250/50/50mL甲苯/EtOH/H2O中,然后使所得溶液回流12小时。使所得产物冷却至室温,然后使用蒸馏水和二氯甲烷进行萃取。此后,将萃取物溶解在二氯甲烷中,将所得溶液使用硅胶、硅藻土和弗罗里硅土进行过滤,除去溶剂,并使用柱色谱以获得30.5g(82%)目标化合物1-103-1。
化合物1-103的制备
将6.2g(9.28mmol)化合物1-103-1、1.36g(11.14mmol)苯基硼酸、0.43g(0.46mmol)Pd2(dba)3、0.76g(1.86mmol)Sphos和5.9g(27.9mmol)K3PO4溶解在50/5mL甲苯/H2O中,然后使所得溶液回流12小时。使所得产物冷却至室温,然后使用蒸馏水和二氯甲烷进行萃取。此后,将萃取物溶解在二氯甲烷中,将所得溶液使用硅胶、硅藻土和弗罗里硅土进行过滤,除去溶剂,并使用柱色谱以获得4.5g(68%)目标化合物1-103。
[制备例1-21]化合物1-110的制备
化合物1-110-1的制备
将24g(55.48mmol)化合物1-70-2、19.1g(66.58mmol)(9-联苯-9H-咔唑-4-基)硼酸、3.2g(2.77mmol)Pd(PPh3)4和23.01g(166.44mmol)K2CO3溶解在250/50/50mL甲苯/EtOH/H2O中,然后使所得溶液回流12小时。使所得产物冷却至室温,然后使用蒸馏水和二氯甲烷进行萃取。此后,将萃取物溶解在二氯甲烷中,将所得溶液使用硅胶、硅藻土和弗罗里硅土进行过滤,除去溶剂,并使用柱色谱以获得30.5g(82%)目标化合物1-110-1。
化合物1-110的制备
将6.2g(9.28mmol)化合物1-110-1、1.36g(11.14mmol)苯基硼酸、0.43g(0.46mmol)Pd2(dba)3、0.76g(1.86mmol)Sphos和5.9g(27.9mmol)K3PO4溶解在50/5mL甲苯/H2O中,然后使所得溶液回流12小时。使所得产物冷却至室温,然后使用蒸馏水和二氯甲烷进行萃取。此后,将萃取物溶解在二氯甲烷中,将所得溶液使用硅胶、硅藻土和弗罗里硅土进行过滤,除去溶剂,并使用柱色谱以获得3.54g(60%)目标化合物1-110。
[制备例1-22]化合物1-120的制备
化合物1-120-1的制备
将20g(73.98mmol)1,3-二溴-5-氯苯、46.7g(162.8mmol)(9-苯基-9H-咔唑-4-基)硼酸、4.27g(3.7mmol)Pd(PPh3)4和30.67g(221.94mmol)K2CO3溶解在350/70/70mL甲苯/EtOH/H2O中,然后使所得溶液回流12小时。使所得产物冷却至室温,然后使用蒸馏水和二氯甲烷进行萃取。此后,将萃取物溶解在二氯甲烷中,将所得溶液使用硅胶、硅藻土和弗罗里硅土进行过滤,除去溶剂,并使用柱色谱以获得37.42g(85%)目标化合物1-120-1。
化合物1-120的制备
将5g(8.40mmol)化合物1-120-1、1.23g(10.08mmol)苯基硼酸、0.77g(0.84mmol)Pd2(dba)3、0.69g(1.68mmol)Sphos和5.35g(25.2mmol)K3PO4溶解在40/4mL甲苯/H2O中,然后使所得溶液回流12小时。使所得产物冷却至室温,然后使用蒸馏水和二氯甲烷进行萃取。此后,将萃取物溶解在二氯甲烷中,将所得溶液使用硅胶、硅藻土和弗罗里硅土进行过滤,除去溶剂,并使用柱色谱以获得3.5g(66%)目标化合物1-120。
[制备例2-1]化合物2-11的制备
化合物2-11-2的制备
将5.0g(19.0mmol)2-溴二苯并[b,d]噻吩、2.6g(15.8mmol)9H-咔唑、3.0g(15.8mmol)CuI、1.9mL(15.8mmol)反式-1,2-二氨基环己烷和3.3g(31.6mmol)K3PO4溶解在100mL 1,4-二烷中,然后使所得溶液回流24小时。在反应完成之后,在室温下向其中添加蒸馏水和DCM,进行萃取,有机层用MgSO4干燥,然后通过旋转蒸发器除去溶剂。将反应物通过柱色谱(DCM:己烷=1:3)纯化并用甲醇重结晶以获得4.7g(85%)目标化合物2-11-2。
化合物2-11-1的制备
在-78℃下向包含5g(14.3mmol)化合物2-11-2和100mL THF的混合溶液中逐滴添加7.4mL(18.6mmol)2.5M n-BuLi,并将所得混合物在室温下搅拌1小时。向反应混合物中逐滴添加4.8mL(42.9mmol)硼酸三甲酯(B(OMe)3),并将所得混合物在室温下搅拌2小时。在反应完成之后,在室温下向其中添加蒸馏水和DCM,进行萃取,有机层用MgSO4干燥,然后通过旋转蒸发器除去溶剂。将反应物通过柱色谱(DCM:MeOH=100:3)纯化并用DCM重结晶以获得3.9g(70%)目标化合物2-11-1。
化合物2-11的制备
将7.5g(19.0mmol)化合物2-11-1、5.1g(19.0mmol)2-氯-4,6-二苯基-1,3,5-三嗪、1.1g(0.95mmol)Pd(PPh3)4和5.2g(38.0mmol)K2CO3溶解在100/20/20mL甲苯/EtOH/H2O中,然后使所得溶液回流12小时。在反应完成之后,在室温下向其中添加蒸馏水和DCM,进行萃取,有机层用MgSO4干燥,然后通过旋转蒸发器除去溶剂。将反应物通过柱色谱(DCM:己烷=1:3)纯化并用甲醇重结晶以获得7.7g(70%)目标化合物2-11。
[制备例2-2]化合物2-12的制备
将7.5g(19.0mmol)化合物4-11-1、6.5g(19.0mmol)2-([1,1'-联苯]-3-基)-4-氯-6-苯基-1,3,5-三嗪、1.1g(0.95mmol)Pd(PPh3)4和5.2g(38.0mmol)K2CO3溶解在100/20/20mL甲苯/EtOH/H2O中,然后使所得溶液回流12小时。在反应完成之后,在室温下向其中添加蒸馏水和DCM,进行萃取,有机层用MgSO4干燥,然后通过旋转蒸发器除去溶剂。将反应物通过柱色谱(DCM:己烷=1:3)纯化并用甲醇重结晶以获得8.7g(70%)目标化合物2-12。
[制备例2-3]化合物2-28的制备
将7.5g(19.0mmol)化合物2-11-1、7.4g(19.0mmol)2-(3-溴苯基)-4,6-二苯基-1,3,5-三嗪、1.1g(0.95mmol)Pd(PPh3)4和5.2g(38.0mmol)K2CO3溶解在100/20/20mL甲苯/EtOH/H2O中,然后使所得溶液回流12小时。在反应完成之后,在室温下向其中添加蒸馏水和DCM,进行萃取,有机层用MgSO4干燥,然后通过旋转蒸发器除去溶剂。将反应物通过柱色谱(DCM:己烷=1:3)纯化并用甲醇重结晶以获得8.7g(70%)目标化合物2-28。
[制备例2-4]化合物2-36的制备
将7.5g(19.0mmol)化合物2-11-1、7.4g(19.0mmol)2-(4-溴苯基)-4,6-二苯基-1,3,5-三嗪、1.1g(0.95mmol)Pd(PPh3)4和5.2g(38.0mmol)K2CO3溶解在100/20/20mL甲苯/EtOH/H2O中,然后使所得溶液回流12小时。在反应完成之后,在室温下向其中添加蒸馏水和DCM,进行萃取,有机层用MgSO4干燥,然后通过旋转蒸发器除去溶剂。将反应物通过柱色谱(DCM:己烷=1:3)纯化并用甲醇重结晶以获得8.7g(70%)目标化合物2-36。
[制备例2-5]化合物2-39的制备
化合物2-39-2的制备
将5.0g(19.0mmol)2-溴二苯并[b,d]噻吩、3.8g(15.8mmol)2-苯基-9H-咔唑、3.0g(15.8mmol)CuI、1.9mL(15.8mmol)反式-1,2-二氨基环己烷和3.3g(31.6mmol)K3PO4溶解在100mL 1,4-二烷中,然后使所得溶液回流24小时。在反应完成之后,在室温下向其中添加蒸馏水和DCM,进行萃取,有机层用MgSO4干燥,然后通过旋转蒸发器除去溶剂。将反应物通过柱色谱(DCM:己烷=1:3)纯化并用甲醇重结晶以获得5.7g(85%)目标化合物2-39-2。
化合物2-39-1的制备
在-78℃下向包含6.1g(14.3mmol)化合物2-39-2和100mL THF的混合溶液中逐滴添加7.4mL(18.6mmol)2.5M n-BuLi,并将所得混合物在室温下搅拌1小时。向反应混合物中逐滴添加4.8mL(42.9mmol)硼酸三甲酯(B(OMe)3),并将所得混合物在室温下搅拌2小时。在反应完成之后,在室温下向其中添加蒸馏水和DCM,进行萃取,有机层用MgSO4干燥,然后通过旋转蒸发器除去溶剂。将反应物通过柱色谱(DCM:MeOH=100:3)纯化并用DCM重结晶以获得4.7g(70%)目标化合物2-39-1。
化合物2-39的制备
将8.9g(19.0mmol)化合物2-39-1、5.1g(19.0mmol)2-氯-4,6-二苯基-1,3,5-三嗪、1.1g(0.95mmol)Pd(PPh3)4和5.2g(38.0mmol)K2CO3溶解在100/20/20mL甲苯/EtOH/H2O中,然后使所得溶液回流12小时。在反应完成之后,在室温下向其中添加蒸馏水和DCM,进行萃取,有机层用MgSO4干燥,然后通过旋转蒸发器除去溶剂。将反应物通过柱色谱(DCM:己烷=1:3)纯化并用甲醇重结晶以获得8.7g(70%)目标化合物2-39。
[制备例2-6]化合物2-40的制备
将8.9g(19.0mmol)化合物2-39-1、7.4g(19.0mmol)2-([1,1'-联苯]-3-基)-4-溴-6-苯基-1,3,5-三嗪、1.1g(0.95mmol)Pd(PPh3)4和5.2g(38.0mM)K2CO3溶解在100/20/20mL甲苯/EtOH/H2O中,然后使所得溶液回流12小时。在反应完成之后,在室温下向其中添加蒸馏水和DCM,进行萃取,有机层用MgSO4干燥,然后通过旋转蒸发器除去溶剂。将反应物通过柱色谱(DCM:己烷=1:3)纯化并用甲醇重结晶以获得9.7g(70%)目标化合物2-40。
[制备例2-7]化合物2-41的制备
将8.9g(19.0mmol)化合物2-39-1、7.4g(19.0mmol)2-([1,1'-联苯]-4-基)-4-溴-6-苯基-1,3,5-三嗪、1.1g(0.95mM)Pd(PPh3)4和5.2g(38.0mM)K2CO3溶解在100/20/20mL甲苯/EtOH/H2O中,然后使所得溶液回流12小时。在反应完成之后,在室温下向其中添加蒸馏水和DCM,进行萃取,有机层用MgSO4干燥,然后通过旋转蒸发器除去溶剂。将反应物通过柱色谱(DCM:己烷=1:3)纯化并用甲醇重结晶以获得9g(65%)目标化合物2-41。
[制备例2-8]化合物2-42的制备
将8.9g(19.0mmol)化合物2-39-1、7.4g(19.0mmol)2-(3-溴苯基)-4,6-二苯基-1,3,5-三嗪、1.1g(0.95mmol)Pd(PPh3)4和5.2g(38.0mmol)K2CO3溶解在100/20/20mL甲苯/EtOH/H2O中,然后使所得溶液回流12小时。在反应完成之后,在室温下向其中添加蒸馏水和DCM,进行萃取,有机层用MgSO4干燥,然后通过旋转蒸发器除去溶剂。将反应物通过柱色谱(DCM:己烷=1:3)纯化并用甲醇重结晶以获得9.7g(70%)目标化合物2-42。
[制备例2-9]化合物2-43的制备
将8.9g(19.0mmol)化合物2-39-1、7.4g(19.0mmol)2-(4-溴苯基)-4,6-二苯基-1,3,5-三嗪、1.1g(0.95mmol)Pd(PPh3)4和5.2g(38.0mmol)K2CO3溶解在100/20/20mL甲苯/EtOH/H2O中,然后使所得溶液回流12小时。在反应完成之后,在室温下向其中添加蒸馏水和DCM,进行萃取,有机层用MgSO4干燥,然后通过旋转蒸发器除去溶剂。将反应物通过柱色谱(DCM:己烷=1:3)纯化并用甲醇重结晶以获得9.7g(70%)目标化合物2-43。
[制备例2-10]化合物2-47的制备
化合物2-47-2的制备
将5.0g(19.0mmol)2-溴二苯并[b,d]噻吩、5.0g(15.8mmol)2,7-二苯基-9H-咔唑、3.0g(15.8mmol)CuI、1.9mL(15.8mmol)反式-1,2-二氨基环己烷和3.3g(31.6mmol)K3PO4溶解在100mL 1,4-二烷中,然后使所得溶液回流24小时。在反应完成之后,在室温下向其中添加蒸馏水和DCM,进行萃取,有机层用MgSO4干燥,然后通过旋转蒸发器除去溶剂。将反应物通过柱色谱(DCM:己烷=1:3)纯化并用甲醇重结晶以获得6.7g(85%)目标化合物2-47-2。
化合物2-47-1的制备
在-78℃下向包含7.2g(14.3mmol)化合物2-47-2和100mL THF的混合溶液中逐滴添加7.4mL(18.6mmol)2.5M n-BuLi,并将所得混合物在室温下搅拌1小时。向反应混合物中逐滴添加4.8mL(42.9mmol)硼酸三甲酯(B(OMe)3),并将所得混合物在室温下搅拌2小时。在反应完成之后,在室温下向其中添加蒸馏水和DCM,进行萃取,有机层用MgSO4干燥,然后通过旋转蒸发器除去溶剂。将反应物通过柱色谱(DCM:MeOH=100:3)纯化并用DCM重结晶以获得(60%)目标化合物2-47-1。
化合物2-47的制备
将10.4g(19.0mmol)化合物2-47-1、5.1g(19.0mM)2-氯-4,6-二苯基-1,3,5-三嗪、1.1g(0.95mmol)Pd(PPh3)4和5.2g(38.0mmol)K2CO3溶解在100/20/20mL甲苯/EtOH/H2O中,然后使所得溶液回流12小时。在反应完成之后,在室温下向其中添加蒸馏水和DCM,进行萃取,有机层用MgSO4干燥,然后通过旋转蒸发器除去溶剂。将反应物通过柱色谱(DCM:己烷=1:3)纯化并用甲醇重结晶以获得9.7g(70%)目标化合物2-47。
[制备例2-11]化合物2-66的制备
化合物2-66-2的制备
将5.0g(19.0mmol)2-溴二苯并[b,d]噻吩、4.5g(15.8mmol)7,7-二甲基-5,7-二氢茚并[2,1-b]咔唑、3.0g(15.8mmol)CuI、1.9mL(15.8mmol)反式-1,2-二氨基环己烷和3.3g(31.6mmol)K3PO4溶解在100mL 1,4-二烷中,然后使所得溶液回流24小时。在反应完成之后,在室温下向其中添加蒸馏水和DCM,进行萃取,有机层用MgSO4干燥,然后通过旋转蒸发器除去溶剂。将反应物通过柱色谱(DCM:己烷=1:3)纯化并用甲醇重结晶以获得7.3g(85%)目标化合物2-66-2。
化合物2-66-1的制备
在-78℃下向包含6.7g(14.3mmol)化合物2-66-2和100mL THF的混合溶液中逐滴添加7.4mL(18.6mmol)2.5M n-BuLi,并将所得混合物在室温下搅拌1小时。向反应混合物中逐滴添加4.8mL(42.9mmol)硼酸三甲酯(B(OMe)3),并将所得混合物在室温下搅拌2小时。在反应完成之后,在室温下向其中添加蒸馏水和DCM,进行萃取,有机层用MgSO4干燥,然后通过旋转蒸发器除去溶剂。将反应物通过柱色谱(DCM:MeOH=100:3)纯化并用DCM重结晶以获得5.1g(70%)目标化合物2-66-1。
化合物2-66的制备
将9.7g(19.0mmol)化合物2-66-1、5.9g(19.0mmol)2-溴-4,6-二苯基嘧啶、1.1g(0.95mmol)Pd(PPh3)4和5.2g(38.0mmol)K2CO3溶解在100/20/20mL甲苯/EtOH/H2O中,然后使所得溶液回流12小时。在反应完成之后,在室温下向其中添加蒸馏水和DCM,进行萃取,有机层用MgSO4干燥,然后通过旋转蒸发器除去溶剂。将反应物通过柱色谱(DCM:己烷=1:3)纯化并用甲醇重结晶以获得9.3g(70%)目标化合物2-66。
[制备例2-12]化合物2-68的制备
将9.7g(19.0mmol)化合物2-66-1、5.1g(19.0mmol)2-氯-4,6-二苯基-1,3,5-三嗪、1.1g(0.95mmol)Pd(PPh3)4和5.2g(38.0mmol)K2CO3溶解在100/20/20甲苯/EtOH/H2O中,然后使所得溶液回流12小时。在反应完成之后,在室温下向其中添加蒸馏水和DCM,进行萃取,有机层用MgSO4干燥,然后通过旋转蒸发器除去溶剂。将反应物通过柱色谱纯化(DCM:己烷=1:3)并用甲醇重结晶以获得9.3g(70%)目标化合物2-68。
[制备例2-13]化合物2-71的制备
将9.7g(19.0mmol)化合物2-66-1、7.4g(19.0mmol)2-(3-溴苯基)-4,6-二苯基-1,3,5-三嗪、1.1g(0.95mmol)Pd(PPh3)4和5.2g(38.0mmol)K2CO3溶解在100/20/20mL甲苯/EtOH/H2O中,然后使所得溶液回流12小时。在反应完成之后,在室温下向其中添加蒸馏水和DCM,进行萃取,有机层用MgSO4干燥,然后通过旋转蒸发器除去溶剂。将反应物通过柱色谱(DCM:己烷=1:3)纯化并用甲醇重结晶以获得10.3g(70%)目标化合物2-71。
[制备例2-14]化合物2-74的制备
将9.7g(19.0mmol)化合物2-66-1、7.4g(19.0mmol)2-(4-溴苯基)-4,6-二苯基-1,3,5-三嗪、1.1g(0.95mmol)Pd(PPh3)4和5.2g(38.0mmol)K2CO3溶解在100/20/20mL甲苯/EtOH/H2O中,然后使所得溶液回流12小时。在反应完成之后,在室温下向其中添加蒸馏水和DCM,进行萃取,有机层用MgSO4干燥,然后通过旋转蒸发器除去溶剂。将反应物通过柱色谱(DCM:己烷=1:3)纯化并用甲醇重结晶以获得10.3g(70%)目标化合物2-74。
[制备例2-15]化合物2-79的制备
化合物2-79-2的制备
将5.0g(19.0mmol)2-溴二苯并[b,d]噻吩、4.5g(15.8mmol)11,11-二甲基-5,11-二氢茚并[1,2-b]咔唑、3.0g(15.8mmol)CuI、1.9mL(15.8mmol)反式-1,2-二氨基环己烷和3.3g(31.6mmol)K3PO4溶解在100mL1,4-二烷中,然后使所得溶液回流24小时。在反应完成之后,在室温下向其中添加蒸馏水和DCM,进行萃取,有机层用MgSO4干燥,然后通过旋转蒸发器除去溶剂。将反应物通过柱色谱(DCM:己烷=1:3)纯化并用甲醇重结晶以获得5.9g(80%)目标化合物2-79-2。
化合物2-79-1的制备
在-78℃下向包含6.7g(14.3mmol)化合物2-79-2和100mL THF的混合溶液中逐滴添加7.4mL(18.6mmol)2.5M n-BuLi,并将所得混合物在室温下搅拌1小时。向反应混合物中逐滴添加4.8mL(42.9mmol)硼酸三甲酯(B(OMe)3),并将所得混合物在室温下搅拌2小时。在反应完成之后,在室温下向其中添加蒸馏水和DCM,进行萃取,有机层用MgSO4干燥,然后通过旋转蒸发器除去溶剂。将反应物通过柱色谱(DCM:MeOH=100:3)纯化并用DCM重结晶以获得5.1g(70%)目标化合物2-79-1。
化合物2-79的制备
将9.7g(19.0mmol)化合物2-79-1、5.1g(19.0mmol)2-氯-4,6-二苯基-1,3,5-三嗪、1.1g(0.95mmol)Pd(PPh3)4和5.2g(38.0mmol)K2CO3溶解在100/20/20mL甲苯/EtOH/H2O中,然后使所得溶液回流12小时。在反应完成之后,在室温下向其中添加蒸馏水和DCM,进行萃取,有机层用MgSO4干燥,然后通过旋转蒸发器除去溶剂。将反应物通过柱色谱(DCM:己烷=1:3)纯化并用甲醇重结晶以获得9.3g(70%)目标化合物2-79。
[制备例2-16]化合物2-83的制备
化合物2-83-2的制备
将5.0g(19.0mmol)2-溴二苯并[b,d]噻吩、5.3g(15.8mmol)5-苯基-5,7-二氢吲哚并[2,3-b]咔唑、3.0g(15.8mmol)CuI、1.9mL(15.8mmol)反式-1,2-二氨基环己烷和3.3g(31.6mmol)K3PO4溶解在100mL1,4-二烷中,然后使所得溶液回流24小时。在反应完成之后,在室温下向其中添加蒸馏水和DCM,进行萃取,有机层用MgSO4干燥,然后通过旋转蒸发器除去溶剂。将反应物通过柱色谱(DCM:己烷=1:3)纯化并用甲醇重结晶以获得6.9g(85%)目标化合物2-83-2。
化合物2-83-1的制备
在-78℃下向包含7.4g(14.3mmol)化合物2-83-2和100mL THF的混合溶液中逐滴添加7.4mL(18.6mmol)2.5M n-BuLi,并将所得混合物在室温下搅拌1小时。向反应混合物中逐滴添加4.8mL(42.9mmol)硼酸三甲酯(B(OMe)3),并将所得混合物在室温下搅拌2小时。在反应完成之后,在室温下向其中添加蒸馏水和DCM,进行萃取,有机层用MgSO4干燥,然后通过旋转蒸发器除去溶剂。将反应物通过柱色谱(DCM:MeOH=100:3)纯化并用DCM重结晶以获得5.6g(70%)目标化合物2-83-1。
化合物2-83的制备
将10.6g(19.0mmol)化合物2-83-1、5.9g(19.0mmol)2-溴-4,6-二苯基嘧啶、1.1g(0.95mmol)Pd(PPh3)4和5.2g(38.0mmol)K2CO3溶解在100/20/20mL甲苯/EtOH/H2O中,然后使所得溶液回流12小时。在反应完成之后,在室温下向其中添加蒸馏水和DCM,进行萃取,有机层用MgSO4干燥,然后通过旋转蒸发器除去溶剂。将反应物通过柱色谱(DCM:己烷=1:3)纯化并用甲醇重结晶以获得9.3g(70%)目标化合物2-83。
[制备例2-17]化合物2-85的制备
将10.6g(19.0mmol)化合物2-83-1、5.1g(19.0mM)2-氯-4,6-二苯基-1,3,5-三嗪、1.1g(0.95mmol)Pd(PPh3)4和5.2g(38.0mmol)K2CO3溶解在100/20/20mL甲苯/EtOH/H2O中,然后使所得溶液回流12小时。在反应完成之后,在室温下向其中添加蒸馏水和DCM,进行萃取,有机层用MgSO4干燥,然后通过旋转蒸发器除去溶剂。将反应物通过柱色谱(DCM:己烷=1:3)纯化并用甲醇重结晶以获得9.3g(70%)目标化合物2-85。
[制备例2-18]化合物2-99的制备
化合物2-99-2的制备
将5.0g(19.0mmol)2-溴二苯并[b,d]噻吩、4.3g(15.8mmol)5H-苯并[4,5]噻吩并[3,2-c]咔唑、3.0g(15.8mmol)CuI、1.9mL(15.8mmol)反式-1,2-二氨基环己烷和3.3g(31.6mmol)K3PO4溶解在100mL 1,4-二烷中,然后使所得溶液回流24小时。在反应完成之后,在室温下向其中添加蒸馏水和DCM,进行萃取,有机层用MgSO4干燥,然后通过旋转蒸发器除去溶剂。将反应物通过柱色谱(DCM:己烷=1:3)纯化并用甲醇重结晶以获得7.2g(85%)目标化合物2-99-2。
化合物2-99-1的制备
在-78℃下向包含6.5g(14.3mmol)化合物2-99-2和100mL THF的混合溶液中逐滴添加7.4mL(18.6mmol)2.5M n-BuLi,并将所得混合物在室温下搅拌1小时。向反应混合物中逐滴添加4.8mL(42.9mmol)硼酸三甲酯(B(OMe)3),并将所得混合物在室温下搅拌2小时。在反应完成之后,在室温下向其中添加蒸馏水和DCM,进行萃取,有机层用MgSO4干燥,然后通过旋转蒸发器除去溶剂。将反应物通过柱色谱(DCM:MeOH=100:3)纯化并用DCM重结晶以获得5.0g(70%)目标化合物2-99-1。
化合物2-99的制备
将9.5g(19.0mmol)化合物2-99-1、5.1g(19.0mmol)2-氯-4,6-二苯基-1,3,5-三嗪、1.1g(0.95mmol)Pd(PPh3)4和5.2g(38.0mmol)K2CO3溶解在100/20/20mL甲苯/EtOH/H2O中,然后使所得溶液回流12小时。在反应完成之后,在室温下向其中添加蒸馏水和DCM,进行萃取,有机层用MgSO4干燥,然后通过旋转蒸发器除去溶剂。将反应物通过柱色谱(DCM:己烷=1:3)纯化并用甲醇重结晶以获得8.9g(70%)目标化合物2-99。
[制备例2-19]化合物2-164的制备
化合物2-164-2的制备
将5g(19.0mmol)2-溴二苯并[b,d]噻吩、5.5g(19.0mmol)(4-(9H-咔唑-9-基)苯基)硼酸、1.1g(0.95mmol)Pd(PPh3)4和5.2g(38.0mmol)K2CO3溶解在100/20/20mL甲苯/EtOH/H2O中,然后使所得溶液回流12小时。在反应完成之后,在室温下向其中添加蒸馏水和DCM,进行萃取,有机层用MgSO4干燥,然后通过旋转蒸发器除去溶剂。将反应物通过柱色谱(DCM:己烷=1:3)纯化并用甲醇重结晶以获得8.9g(70%)目标化合物2-164-2。
化合物2-164-1的制备
在-78℃下向包含6.09g(14.3mmol)化合物2-164-2和100mL THF的混合溶液中逐滴添加7.4mL(18.6mmol)2.5M n-BuLi,并将所得混合物在室温下搅拌1小时。向反应混合物中逐滴添加4.8mL(42.9mmol)硼酸三甲酯(B(OMe)3),并将所得混合物在室温下搅拌2小时。在反应完成之后,在室温下向其中添加蒸馏水和DCM,进行萃取,有机层用MgSO4干燥,然后通过旋转蒸发器除去溶剂。将反应物通过柱色谱(DCM:MeOH=100:3)纯化并用DCM重结晶以获得4.7g(70%)目标化合物2-164-1。
化合物2-164的制备
将8.9g(19.0mmol)化合物2-164-1、6.1g(22.8mmol)2-氯-4,6-二苯基-1,3,5-三嗪、1.1g(0.95mmol)Pd(PPh3)4和5.2g(38.0mmol)K2CO3溶解在100/20/20mL甲苯/EtOH/H2O中,然后使所得溶液回流12小时。在反应完成之后,在室温下向其中添加蒸馏水和DCM,进行萃取,有机层用MgSO4干燥,然后通过旋转蒸发器除去溶剂。将反应物通过柱色谱(DCM:己烷=1:3)纯化并用甲醇重结晶以获得9.0g(72%)目标化合物2-164。
[制备例3-1]化合物3-87的制备
化合物3-87-3的制备
将8.9g(52.93mmol)化合物9H-咔唑、22.1g(105.8mmol)1-溴-3-氯-5-氟苯、1.9g(79.40mmol)氢化钠和200mL DMF放入反应器中,并使所得混合物在120℃下反应8小时。使所得产物冷却至室温,然后使用蒸馏水和二氯甲烷进行萃取。此后,将萃取物溶解在二氯甲烷中,将所得溶液使用硅胶和弗罗里硅土进行过滤,并除去溶剂以获得13.2g(70%)目标化合物3-87-3。
化合物3-87-2的制备
将14.3g(40.18mmol)化合物3-87-3、13.26g(52.24mmol)双(频哪醇)二硼、0.8g(1.205mmol)PdCl2(dppf)、11.8g(120.5mmol)KOAc和150mL 1,4-二烷放入反应器中,并使所得混合物在120℃下反应5小时。使所得产物冷却至室温,然后使用蒸馏水和二氯甲烷进行萃取。此后,将萃取物溶解在二氯甲烷中,将所得溶液使用硅胶、硅藻土和弗罗里硅土进行过滤,并除去溶剂以获得12.7g(78%)目标化合物3-87-2。
化合物3-87-1的制备
将14g(34.6mmol)化合物3-87-2、11.2g(41.5mmol)2-氯-4,6-二苯基-1,3,5-三嗪、2g(1.7mmol)Pd(PPh3)4、14.3g(103.8mmol)K2CO3、120mL甲苯、20mL乙醇和20mL水放入反应器中,并使所得混合物在120℃下反应8小时。使所得产物冷却至室温,然后使用蒸馏水和二氯甲烷进行萃取。此后,将萃取物溶解在二氯甲烷中,将所得溶液使用硅胶、硅藻土和弗罗里硅土进行过滤,并用二氯甲烷和甲醇使滤液重结晶以获得14.1g(80%)目标化合物3-87-1。
化合物3-87的制备
将4.9g(9.582mmol)化合物3-87-1、2.1g(14.37mmol)(2-氰基苯基)硼酸、0.61g(0.67mmol)Pd2(dba)3、6.1g(28.7mmol)K3PO4、0.91g(1.91mmol)Xphos、60mL甲苯和10mL水放入反应器中,并使所得混合物进行氮取代。使所得产物回流并反应12小时,并使用蒸馏水和二氯甲烷进行萃取。在有机层用无水MgSO4干燥之后,通过旋转蒸发器除去溶剂,然后将所得产物在1:1的二氯甲烷与己烷比率下进行柱纯化以获得4.0g(73%)目标化合物3-87。
[制备例3-2]化合物3-99的制备
化合物3-99-1的制备
将18g(34.6mmol)化合物3-203-2、11.2g(41.5mmol)2-氯-4,6-二苯基-1,3,5-三嗪、2g(1.7mmol)Pd(PPh3)4、14.3g(103.8mmol)K2CO3、120mL甲苯、20mL乙醇和20mL水放入反应器中,并使所得混合物在120℃下反应8小时。使所得产物冷却至室温,然后使用蒸馏水和二氯甲烷进行萃取。此后,将萃取物溶解在二氯甲烷中,将所得溶液使用硅胶、硅藻土和弗罗里硅土进行过滤,并用二氯甲烷和甲醇使滤液重结晶以获得16g(77%)目标化合物3-99-1。
化合物3-99的制备
将6g(9.58mmol)化合物3-99-1、2.1g(14.37mmol)(2-氰基苯基)硼酸、0.61g(67mmol)Pd2(dba)3、6.1g(28.7mmol)K3PO4、0.91g(1.91mmol)Xphos、60mL甲苯和10mL水放入反应器中,并使所得混合物进行氮取代。使所得产物回流并反应12小时,并使用蒸馏水和二氯甲烷进行萃取。在有机层用无水MgSO4干燥之后,通过旋转蒸发器除去溶剂,然后将所得产物在1:1的二氯甲烷与己烷比率下进行柱纯化以获得4.1g(73%)目标化合物3-99。
[制备例3-3]化合物3-203的制备
化合物3-203-3的制备
将15g(52.93mmol)化合物7,7-二甲基-5,7-二氢茚并[2,1-b]咔唑、22.1g(105.8mmol)1-溴-3-氯-5-氟苯、1.9g(79.4mmol)氢化钠和200mL DMF放入反应器中,并使所得混合物在120℃下反应8小时。使所得产物冷却至室温,然后使用蒸馏水和二氯甲烷进行萃取。此后,将萃取物溶解在二氯甲烷中,将所得溶液使用硅胶和弗罗里硅土进行过滤,并除去溶剂以获得19g(76%)目标化合物3-203-3。
化合物3-203-2的制备
将19g(40.18mmol)化合物3-203-3、13.26g(52.24mmol)双(频哪醇)二硼、0.8g(1.21mmol)PdCl2(dppf)、11.8g(120.5mmol)KOAc和150mL1,4-二烷放入反应器中,并使所得混合物在120℃下反应5小时。使所得产物冷却至室温,然后使用蒸馏水和二氯甲烷进行萃取。此后,将萃取物溶解在二氯甲烷中,将所得溶液使用硅胶、硅藻土和弗罗里硅土进行过滤,并除去溶剂以获得18g(76%)目标化合物3-203-2。
化合物3-203-1的制备
将18g(34.6mmol)化合物3-203-2、11.0g(41.5mmol)2-氯-4,6-二苯基嘧啶、2g(1.7mmol)Pd(PPh3)4、14.3g(103.8mmol)K2CO3、120mL甲苯、20mL乙醇和20mL水放入反应器中,并使所得混合物在120℃下反应8小时。使所得产物冷却至室温,然后使用蒸馏水和二氯甲烷进行萃取。此后,将萃取物溶解在二氯甲烷中,将所得溶液使用硅胶、硅藻土和弗罗里硅土进行过滤,并用二氯甲烷和甲醇使滤液重结晶以获得15g(78%)目标化合物3-203-1。
化合物3-203的制备
将5g(7.98mmol)化合物3-203-1、1.5g(10.38mmol)(3-氰基苯基)硼酸、0.36g(39mmol)Pd2(dba)3、5.2g(23.9mmol)K3PO4、0.33g(79mmol)Sphos、60mL甲苯和10mL水放入反应器中,并使所得混合物进行氮取代。使所得产物回流并反应12小时,并使用蒸馏水和二氯甲烷进行萃取。在有机层用无水MgSO4干燥之后,通过旋转蒸发器除去溶剂,然后将所得产物在1:1的二氯甲烷与己烷比率下进行柱纯化以获得3.4g(61%)目标化合物3-203。
[制备例3-4]化合物3-251的制备
化合物3-251-3的制备
将12.8g(52.89mmol)化合物2-苯基-9H-咔唑、22.1g(105.8mmol)1-溴-3-氯-5-氟苯、1.9g(79.40mmol)氢化钠和200mL DMF放入反应器中,并使所得混合物在120℃下反应8小时。使所得产物冷却至室温,然后使用蒸馏水和二氯甲烷进行萃取。此后,将萃取物溶解在二氯甲烷中,将所得溶液使用硅胶和弗罗里硅土进行过滤,并除去溶剂以获得17.2g(74%)目标化合物3-251-3。
化合物3-251-2的制备
将17.3g(40.09mmol)化合物3-251-3、13.26g(52.24mmol)双(频哪醇)二硼、0.8g(1.205mmol)PdCl2(dppf)、11.8g(120.5mmol)KOAc和150mL 1,4-二烷放入反应器中,并使所得混合物在120℃下反应5小时。使所得产物冷却至室温,然后使用蒸馏水和二氯甲烷进行萃取。此后,将萃取物溶解在二氯甲烷中,将所得溶液使用硅胶、硅藻土和弗罗里硅土进行过滤,并除去溶剂以获得14.8g(74%)目标化合物3-251-2。
化合物3-251-1的制备
将11.7g(24.53mmol)化合物3-251-2、7.9g(29.48mmol)2-氯-4,6-二苯基-1,3,5-三嗪、1.4g(1.2mmol)Pd(PPh3)4、10.1g(73.7mmol)K2CO3、120mL甲苯、20mL乙醇和20mL水放入反应器中,并使所得混合物在120℃下反应8小时。使所得产物冷却至室温,然后使用蒸馏水和二氯甲烷进行萃取。此后,将萃取物溶解在二氯甲烷中,将所得溶液使用硅胶、硅藻土和弗罗里硅土进行过滤,并用二氯甲烷和甲醇使滤液重结晶以获得10g(70%)目标化合物3-251-1。
化合物3-251的制备
将5.6g(9.582mmol)化合物3-251-1、2.1g(14.37mmol)3-氰基苯基硼酸、0.61g(0.67mmol)Pd2(dba)3、6.1g(28.7mmol)K3PO4、0.91g(1.91mmol)Xphos、60mL甲苯和10mL水放入反应器中,并使所得混合物进行氮取代。使所得产物回流并反应12小时,并使用蒸馏水和二氯甲烷进行萃取。在有机层用无水MgSO4干燥之后,通过旋转蒸发器除去溶剂,然后将所得产物在1:1的二氯甲烷与己烷比率下进行柱纯化以获得3.6g(58%)目标化合物3-251。
[制备例3-5]化合物3-260的制备
将5g(7.98mmol)化合物3-99-1、1.5g(10.38mmol)(3-氰基苯基)硼酸、0.36g(39mmol)Pd2(dba)3、5.2g(23.9mmol)K3PO4、0.33g(79mmol)Sphos、60mL甲苯和10mL水放入反应器中,并使所得混合物进行氮取代。使所得产物回流并反应12小时,并使用蒸馏水和二氯甲烷进行萃取。在有机层用无水MgSO4干燥之后,通过旋转蒸发器除去溶剂,然后将所得产物在1:1的二氯甲烷与己烷比率下进行柱纯化以获得3.5g(64%)目标化合物3-260。
[制备例3-6]化合物3-262的制备
化合物3-262-3的制备
将15g(53mmol)化合物11,11-二甲基-5,11-二氢茚并[1,2-b]咔唑、24.3g(106.01mmol)1-溴-3-氯-5-氟苯、3.1g(79.54mmol)氢化钠和200mL DMF放入反应器中,并使所得混合物在120℃下反应8小时。使所得产物冷却至室温,然后使用蒸馏水和二氯甲烷进行萃取。此后,将萃取物溶解在二氯甲烷中,将所得溶液使用硅胶和弗罗里硅土进行过滤,并除去溶剂以获得17g(71%)目标化合物3-262-3。
化合物3-262-2的制备
将17g(40.25mmol)化合物3-262-3、15.2g(60.81mmol)双(频哪醇)二硼、1.4g(2.01mmol)PdCl2(dppf)、11.8g(120.7mmol)KOAc和150mL 1,4-二烷放入反应器中,并使所得混合物在120℃下反应5小时。使所得产物冷却至室温,然后使用蒸馏水和二氯甲烷进行萃取。此后,将萃取物溶解在二氯甲烷中,将所得溶液使用硅胶、硅藻土和弗罗里硅土进行过滤,并除去溶剂以获得16g(72%)目标化合物3-262-2。
化合物3-262-1的制备
将16g(34.68mmol)化合物3-262-2、19.4g(52.02mmol)2-氯-4,6-二苯基-1,3,5-三嗪、2.6g(1.7mmol)Pd(PPh3)4、14.3g(109.8mmol)K2CO3、120mL甲苯、20mL乙醇和20mL水放入反应器中,并使所得混合物在120℃下反应8小时。使所得产物冷却至室温,然后使用蒸馏水和二氯甲烷进行萃取。此后,将萃取物溶解在二氯甲烷中,将所得溶液使用硅胶、硅藻土和弗罗里硅土进行过滤,并用二氯甲烷和甲醇使滤液重结晶以获得16g(75%)目标化合物3-262-1。
化合物3-262的制备
将6g(9.64mmol)化合物3-262-1、2.1g(14.42mmol)(3-氰基苯基)硼酸、0.44g(48mmol)Pd2(dba)3、6.1g(28.9mmol)K3PO4、0.39g(94mmol)Sphos、60mL甲苯和10mL水放入反应器中,并使所得混合物进行氮取代。使所得产物回流并反应12小时,并使用蒸馏水和二氯甲烷进行萃取。在有机层用无水MgSO4干燥之后,通过旋转蒸发器除去溶剂,然后将所得产物在1:1的二氯甲烷与己烷比率下进行柱纯化以获得4.6g(77%)目标化合物3-262。
[制备例3-7]化合物3-264的制备
化合物3-264-3的制备
将15g(53mmol)化合物11,11-二甲基-5,11-二氢茚并[1,2-b]咔唑、24.3g(106.01mmol)1-溴-3-氯-5-氟苯、3.1g(79.54mmol)氢化钠和200mL DMF放入反应器中,并使所得混合物在120℃下反应8小时。使所得产物冷却至室温,然后使用蒸馏水和二氯甲烷进行萃取。此后,将萃取物溶解在二氯甲烷中,将所得溶液使用硅胶和弗罗里硅土进行过滤,并除去溶剂以获得19g(78%)目标化合物3-264-3。
化合物3-264-2的制备
将19g(40.25mmol)化合物3-264-3、15.2g(60.81mmol)双(频哪醇)二硼、1.4g(2.01mmol)PdCl2(dppf)、11.8g(120.7mmol)KOAc和150mL 1,4-二烷放入反应器中,并使所得混合物在120℃下反应5小时。使所得产物冷却至室温,然后使用蒸馏水和二氯甲烷进行萃取。此后,将萃取物溶解在二氯甲烷中,将所得溶液使用硅胶、硅藻土和弗罗里硅土进行过滤,并除去溶剂以获得18g(73%)目标化合物3-264-2。
化合物3-264-1的制备
将18g(34.68mmol)化合物3-264-2、19.4g(52.02mmol)2-氯-4,6-二苯基-1,3,5-三嗪、2.6g(1.7mmol)Pd(PPh3)4、14.3g(109.8mmol)K2CO3、120mL甲苯、20mL乙醇和20mL水放入反应器中,并使所得混合物在120℃下反应8小时。使所得产物冷却至室温,然后使用蒸馏水和二氯甲烷进行萃取。此后,将萃取物溶解在二氯甲烷中,将所得溶液使用硅胶、硅藻土和弗罗里硅土进行过滤,并用二氯甲烷和甲醇使滤液重结晶以获得16g(74%)目标化合物3-264-1。
化合物3-264的制备
将6g(9.64mmol)化合物3-264-1、2.1g(14.42mmol)(3-氰基苯基)硼酸、0.44g(48mmol)Pd2(dba)3、6.1g(28.9mmol)K3PO4、0.39g(94mmol)Sphos、60mL甲苯和10mL水放入反应器中,并使所得混合物进行氮取代。使所得产物回流并反应12小时,并使用蒸馏水和二氯甲烷进行萃取。在有机层用无水MgSO4干燥之后,通过旋转蒸发器除去溶剂,然后将所得产物在1:1的二氯甲烷与己烷比率下进行柱纯化以获得4.6g(75%)目标化合物3-264。
[制备例3-8]化合物3-267的制备
化合物3-267-3的制备
将15g(54.94mmol)化合物5H-苯并[4,5]噻吩并[3,2-c]咔唑、22.9g(109.89mmol)1-溴-3-氯-5-氟苯、3.2g(82.41mmol)氢化钠和200mL DMF放入反应器中,并使所得混合物在120℃下反应8小时。使所得产物冷却至室温,然后使用蒸馏水和二氯甲烷进行萃取。此后,将萃取物溶解在二氯甲烷中,将所得溶液使用硅胶和弗罗里硅土进行过滤,并除去溶剂以获得17g(76%)目标化合物3-267-3。
化合物3-267-2的制备
将17g(41.12mmol)化合物3-267-3、15.6g(61.68mmol)双(频哪醇)二硼、1.5g(2.056mmol)PdCl2(dppf)、12.08g(123.3mmol)KOAc和150mL 1,4-二烷放入反应器中,并使所得混合物在120℃下反应5小时。使所得产物冷却至室温,然后使用蒸馏水和二氯甲烷进行萃取。此后,将萃取物溶解在二氯甲烷中,将所得溶液使用硅胶、硅藻土和弗罗里硅土进行过滤,并除去溶剂以获得19g(76%)目标化合物3-267-2。
化合物3-267-1的制备
将17.7g(34.68mmol)化合物3-267-2、19.4g(52.02mmol)2-氯-4,6-二苯基-1,3,5-三嗪、2.6g(1.7mmol)Pd(PPh3)4、14.3g(109.8mmol)K2CO3、120mL甲苯、20mL乙醇和20mL水放入反应器中,并使所得混合物在120℃下反应8小时。使所得产物冷却至室温,然后使用蒸馏水和二氯甲烷进行萃取。此后,将萃取物溶解在二氯甲烷中,将所得溶液使用硅胶、硅藻土和弗罗里硅土进行过滤,并用二氯甲烷和甲醇使滤液重结晶以获得15.8g(74%)目标化合物3-267-1。
化合物3-267的制备
将5.9g(9.64mmol)化合物3-267-1、2.1g(14.42mmol)(3-氰基苯基)硼酸、0.44g(48mmol)Pd2(dba)3、6.1g(28.9mmol)K3PO4、0.39g(94mmol)Sphos、60mL甲苯和10mL水放入反应器中,并使所得混合物进行氮取代。使所得产物回流并反应12小时,并使用蒸馏水和二氯甲烷进行萃取。在有机层用无水MgSO4干燥之后,通过旋转蒸发器除去溶剂,然后将所得产物在1:1的二氯甲烷与己烷比率下进行柱纯化以获得4.9g(75%)目标化合物3-267。
[制备例3-9]化合物3-271的制备
化合物3-271-3的制备
将15g(58.36mmol)化合物5H-苯并呋喃并[3,2-c]咔唑、24.3g(116.73mmol)1-溴-3-氯-5-氟苯、3.5g(87.54mmol)氢化钠和200mL DMF放入反应器中,并使所得混合物在120℃下反应8小时。使所得产物冷却至室温,然后使用蒸馏水和二氯甲烷进行萃取。此后,将萃取物溶解在二氯甲烷中,将所得溶液使用硅胶和弗罗里硅土进行过滤,并除去溶剂以获得18g(73%)目标化合物3-271-3。
化合物3-271-2的制备
将18g(42.6mmol)化合物3-271-2、15.6g(63.90mmol)双(频哪醇)二硼、1.5g(2.130mmol)PdCl2(dppf)、12.08g(127.9mmol)KOAc和150mL 1,4-二烷放入反应器中,并使所得混合物在120℃下反应5小时。使所得产物冷却至室温,然后使用蒸馏水和二氯甲烷进行萃取。此后,将萃取物溶解在二氯甲烷中,将所得溶液使用硅胶、硅藻土和弗罗里硅土进行过滤,并除去溶剂以获得17g(78%)目标化合物3-271-2。
化合物3-271-1的制备
将17g(36.51mmol)化合物3-271-2、19.4g(73.02mmol)2-氯-4,6-二苯基-1,3,5-三嗪、2.6g(1.7mmol)Pd(PPh3)4、14.3g(106.0mmol)K2CO3、120mL甲苯、20mL乙醇和20mL水放入反应器中,并使所得混合物在120℃下反应8小时。使所得产物冷却至室温,然后使用蒸馏水和二氯甲烷进行萃取。此后,将萃取物溶解在二氯甲烷中,将所得溶液使用硅胶、硅藻土和弗罗里硅土进行过滤,并用二氯甲烷和甲醇使滤液重结晶以获得18g(71%)目标化合物3-271-1。
化合物3-271的制备
将6g(8.34mmol)化合物3-271-1、1.8g(12.52mmol)(3-氰基苯基)硼酸、0.38g(0.41mmol)Pd2(dba)3、5.3g(25.1mmol)K3PO4、0.34g(0.83mmol)Sphos、60mL甲苯和10mL水放入反应器中,并使所得混合物进行氮取代。使所得产物回流并反应12小时,并使用蒸馏水和二氯甲烷进行萃取。在有机层用无水MgSO4干燥之后,通过旋转蒸发器除去溶剂,然后将所得产物在1:1的二氯甲烷与己烷比率下进行柱纯化以获得4.6g(72%)目标化合物3-271。
[制备例3-10]化合物3-416的制备
将5g(7.98mmol)化合物3-99-1、1.5g(10.38mmol)(4-氰基苯基)硼酸、0.36g(39mmol)Pd2(dba)3、5.2g(23.9mmol)K3PO4、0.33g(79mmol)Sphos、60mL甲苯和10mL水放入反应器中,并使所得混合物进行氮取代。使所得产物回流并反应12小时,并使用蒸馏水和二氯甲烷进行萃取。在有机层用无水MgSO4干燥之后,通过旋转蒸发器除去溶剂,然后将所得产物在1:1的二氯甲烷与己烷比率下进行柱纯化以获得4.1g(73%)目标化合物3-416。
[制备例3-11]化合物3-421的制备
化合物3-421-3的制备
将15g(54.94mmol)化合物12H-苯并[4,5]噻吩并[2,3-a]咔唑、22.9g(109.89mmol)1-溴-3-氯-5-氟苯、3.2g(82.41mmol)氢化钠和200mL DMF放入反应器中,并使所得混合物在120℃下反应8小时。使所得产物冷却至室温,然后使用蒸馏水和二氯甲烷进行萃取。此后,将萃取物溶解在二氯甲烷中,将所得溶液使用硅胶和弗罗里硅土进行过滤,并除去溶剂以获得17g(76%)目标化合物3-421-3。
化合物3-421-2的制备
将17g(41.12mmol)化合物3-421-3、15.6g(61.68mmol)双(频哪醇)二硼、1.5g(2.056mmol)PdCl2(dppf)、12.08g(123.3mmol)KOAc和150mL 1,4-二烷放入反应器中,并使所得混合物在120℃下反应5小时。使所得产物冷却至室温,然后使用蒸馏水和二氯甲烷进行萃取。此后,将萃取物溶解在二氯甲烷中,将所得溶液使用硅胶、硅藻土和弗罗里硅土进行过滤,并除去溶剂以获得19g(76%)目标化合物3-421-2。
化合物3-421-1的制备
将19g(35.36mmol)化合物3-421-2、14.1g(53.04mmol)2-氯-4,6-二苯基-1,3,5-三嗪、2g(1.7mmol)Pd(PPh3)4、14.3g(106.0mmol)K2CO3、120mL甲苯、20mL乙醇和20mL水放入反应器中,并使所得混合物在120℃下反应8小时。使所得产物冷却至室温,然后使用蒸馏水和二氯甲烷进行萃取。此后,将萃取物溶解在二氯甲烷中,将所得溶液使用硅胶、硅藻土和弗罗里硅土进行过滤,并用二氯甲烷和甲醇使滤液重结晶以获得15g(77%)目标化合物3-421-1。
化合物3-421的制备
将5g(8.13mmol)化合物3-421-1、1.7g(12.19mmol)(4-氰基苯基)硼酸、0.36g(0.40mmol)Pd2(dba)3、5.8g(24.39mmol)K3PO4、0.33g(0.79mmol)Sphos、60mL甲苯和10mL水放入反应器中,并使所得混合物进行氮取代。使所得产物回流并反应12小时,并使用蒸馏水和二氯甲烷进行萃取。在有机层用无水MgSO4干燥之后,通过旋转蒸发器除去溶剂,然后将所得产物在1:1的二氯甲烷与己烷比率下进行柱纯化以获得4.5g(78%)目标化合物3-421。
[制备例3-12]化合物3-422的制备
化合物3-422的制备
将5g(8.13mmol)化合物3-267-1、1.7g(12.19mmol)(4-氰基苯基)硼酸、0.36g(0.40mmol)Pd2(dba)3、5.8g(24.39mmol)K3PO4、0.33g(0.79mmol)Sphos、60mL甲苯和10mL水放入反应器中,并使所得混合物进行氮取代。使所得产物回流并反应12小时,并使用蒸馏水和二氯甲烷进行萃取。在有机层用无水MgSO4干燥之后,通过旋转蒸发器除去溶剂,然后将所得产物在1:1的二氯甲烷与己烷比率下进行柱纯化以获得4.3g(72%)目标化合物3-422。
[制备例3-13]化合物3-450的制备
将5.6g(9.582mmol)化合物3-251-1、3.7g(14.37mmol)3,5-二氰基苯基硼酸频哪醇酯、0.61g(0.67mmol)Pd2(dba)3、6.1g(28.7mmol)K3PO4、0.91g(1.91mmol)Xphos、60mL甲苯和10mL水放入反应器中,并使所得混合物进行氮取代。使所得产物回流并反应12小时,并使用蒸馏水和二氯甲烷进行萃取。在有机层用无水MgSO4干燥之后,通过旋转蒸发器除去溶剂,然后将所得产物在1:1的二氯甲烷与己烷比率下进行柱纯化以获得4.4g(68%)目标化合物3-450。
以与制备例中相同的方式来制备化合物,并且其合成确定结果示于下表1至4中。表1示出了NMR值,表2示出了通过场解吸质谱法(FD-MS)测量的结果。
[表1]
[表2]
化合物 FD-MS 化合物 FD-MS
1-1 m/z=636.78(C48H32N2=636.26) 1-13 m/z=636.78(C48H32N2=636.26)
1-21 m/z=636.78(C48H32N2=636.26) 1-31 m/z=712.88(C54H36N2=712.29)
1-41 m/z=637.26(C48II32N2=636.26) 1-43 m/z=713.36(C54II36N2=712.29)
1-44 m/z=867.40(C52H34N2=686.27) 1-45 m/z=687.41(C52H34N2=686.27)
1-48 m/z=753.32(C52H34N2=752.32) 1-49 m/z=743.17(C54H34N2S=742.24)
1-50 m/z=727.04(C54H34N2O=726.27) 1-54 m/z=752.94(C57H40N2=752.32)
1-60 m/z=636.78(C48H32N2=636.26) 1-70 m/z=636.78(C48H32N2=636.26)
1-82 m/z=752.94(C57H40N2=752.32) 1-110 m/z=636.78(C48H32N2=636.26)
1-120 m/z=636.78(C48H32N2=636.26) 1-90 m/z=637.24(C48H32N2=636.20)
1-97 m/z=753.17(C57H40N2=752.32) 1-100 m/z=743.29(C54H34N2S=742.24)
1-101 m/z=727.27(C54II34N2O=726.27) 1-103 m/z=712.88(C54II36N2=712.29)
2-11 m/z=580.70(C39H24N4S=580.17) 2-12 m/z=656.80(C45H28N4S=656.20)
2-28 m/z=656.80(C45H28N4S=656.20) 2-36 m/z=656.80(C45H28N4S=656.20)
2-39 m/z=656.80(C45H28N4S=656.20) 2-40 m/z=732.89(C51H32N4S=732.23)
2-41 m/z=732.89(C51H32N4S=732.23) 2-42 m/z=732.89(C51H32N4S=732.23)
2-43 m/z=732.89(C51H32N4S=732.23) 2-47 m/z=732.89(C51H32N4S=732.23)
2-66 m/z=695.87(C49H33N3S=695.24) 2-68 m/z=696.86(C48H32N4S=696.23)
2-71 m/z=772.96(C54H31N4S=772.27) 2-74 m/z=772.96(C54H36N4S=772.27)
2-79 m/z=698.86(C48H32N4S=696.23) 2-83 m/z=744.90(C52H32N4S=744.23)
2-85 m/z=745.89(C51II31N5S=745.23) 2-99 m/z=686.84(C45II26N4S2=686.16)
2-164 m/z=656.80(C45H28N4S=656.20) 3-87 m/z=575.66(C40H25N5=575.21)
3-99 m/z=691.27(C49H33N5=691.27) 3-203 m/z=690.83(C50H34N4=690.28)
3-251 m/z=651.76(C46H29N5=651.24) 3-260 m/z=691.82(C49H33N5=691.27)
3-262 m/z=691.82(C49H33N5=691.27) 3-264 m/z=691.82(C49H33N5=691.27)
3-267 m/z=681.81(C46H27N5S=681.20) 3-271 m/z=665.74(C46H27N5O=665.22)
3-416 m/z=691.82(C49H33N5=691.27) 3-421 m/z=681.81(C46H27N5S=681.20)
3-422 m/z=681.80(C46H27N5S=681.20) 3-450 m/z=676.77(C47H28N6=676.24)
[表3]
[表4]
T1(eV) Tg(℃) Tm(℃) Td(℃)
化合物1-45 2.52 133 ND 511
化合物1-49 2.65 152 ND 528
化合物1-50 2.66 144 ND 520
化合物1-70 2.67 128 ND 478
化合物1-72 2.63 141 ND 517
化合物1-73 2.62 138 ND 509
化合物1-90 2.75 127 ND 494
化合物1-97 2.57 1.51 349,354 511
化合物1-100 2.74 151 ND 543
化合物1-101 2.76 145 ND 530
化合物2-11 2.50 ND 321 453
化合物2-28 2.72 ND 294 464
化合物2-36 2.58 145 289,307 507
化合物2-39 2.50 152 338 495
化合物2-40 2.50 147 300 519
化合物2-41 2.53 164 310 511
化合物2-42 2.64 158 ND 516
化合物2-66 2.59 179 ND 475
化合物2-68 2.50 185 ND 475
化合物2-71 2.77 195 ND 494
化合物2-79 2.48 181 330 485
化合物2-83 2.59 ND 327 529
化合物2-85 2.46 190 314 517
化合物2-99 2.55 177 400 521
化合物2-164 2.65 152 ND 528
化合物3-260 2.61 177 ND 471
化合物3-416 2.67 160 ND 472
<实验例>
1)有机发光器件的制造
将薄薄地涂覆有厚度为的ITO的玻璃基底用蒸馏水超声洗涤。当用蒸馏水洗涤完成时,将玻璃基底用溶剂例如丙酮、甲醇和异丙醇超声洗涤,干燥,然后在UV洗涤机中通过使用UV进行UVO处理5分钟。此后,将基底转移到等离子体洗涤机(PT)中,然后在真空状态下进行等离子体处理以实现ITO功函数并除去残留膜,并如此转移到热沉积设备中以进行有机沉积。
在如上所述准备的ITO上,形成4,4′,4″-三[2-萘基(苯基)氨基]三苯基胺(2-TNATA)作为空穴注入层,并形成N,N′-二(1-萘基)-N,N′-二苯基-(1,1′-联苯)-4,4′-二胺(NPB)作为空穴传输层。通过在该空穴传输层上进行热真空沉积来形成厚度为的发光层。
对于发光层,在各个电池中以1:1的速度比率沉积下表中描述的化合物(其为主体),并且发光层通过用7%的作为磷光掺杂剂的三(2-苯基吡啶)铱(Ir(ppy)3)进行掺杂来使用。此后,将BCP沉积至的厚度作为空穴阻挡层,并在其上将Alq3沉积至的厚度作为电子传输层。最后,在电子传输层上将氟化锂(LiF)沉积至的厚度以形成电子注入层,然后在电子注入层上将铝(Al)沉积至的厚度以形成负电极,由此制造了有机电致发光器件。
同时,对于每种材料,在10-6托至10-8托下使制造OLED所需的所有有机化合物经受真空升华纯化,然后用于制造OLED。
2)有机电致发光器件的驱动电压和发光效率
对于如上所述制造的有机电致发光器件,通过由McScience Inc.制造的M7000测量电致发光(EL)特性,并且基于其测量结果,在参照亮度为5000cd/m2时,通过由McScienceInc.制造的使用寿命测量设备(M6000)测量T90。本发明的有机电致发光器件的特性如下表5和表6所示。
[表5]
本发明的化合物是强P型化合物,并且确定,所述化合物在与比较例中的化合物相比时表现出更好的器件特性。
[表6]
如结果所示,特别地,根据本申请的一个示例性实施方案的有机发光器件包含由化学式1表示的化合物和由化学式2或3表示的化合物二者作为发光层的主体材料,从而与应用单一化合物作为主体材料的有机发光器件相比,可以在驱动、效率和使用寿命所有方面表现出显著改善的特性。
这是因为使用P-N型主体材料改善了空穴与电子之间的平衡,从而提高器件的特性。

Claims (13)

1.一种由以下化学式1表示的化合物:
[化学式1]
在化学式1中,
Ar1至Ar3彼此相同或不同,并且各自独立地为经取代或未经取代的C6至C60芳基;或者经取代或未经取代的C2至C60杂芳基,
R1和R2彼此相同或不同,并且各自独立地选自氢;氘;卤素基团;-CN;经取代或未经取代的C1至C60烷基;经取代或未经取代的C2至C60烯基;经取代或未经取代的C2至C60炔基;经取代或未经取代的C1至C60烷氧基;经取代或未经取代的C3至C60环烷基;经取代或未经取代的C2至C60杂环烷基;经取代或未经取代的C6至C60芳基;经取代或未经取代的C2至C60杂芳基;-SiRR’R”;-P(=O)RR’;以及未经取代或者经C1至C20烷基、经取代或未经取代的C6至C60芳基、或者C2至C60杂芳基取代的胺基,
R、R’和R”彼此相同或不同,并且各自独立地为氢;氘;-CN;经取代或未经取代的C1至C60烷基;经取代或未经取代的C3至C60环烷基;经取代或未经取代的C6至C60芳基;或者经取代或未经取代的C2至C60杂芳基,以及
a和b各自独立地为0至4的整数。
2.根据权利要求1所述的杂环化合物,其中化学式1由以下化学式1a至1j中的任一者表示:
[化学式1a]
[化学式1b]
[化学式1c]
[化学式1d]
[化学式1e]
[化学式1f]
[化学式1g]
[化学式1h]
[化学式1i]
[化学式1j]
在化学式1a至1j中,
Ar4至Ar32的限定与化学式1中的Ar1至Ar4的那些相同,
R3至R22的限定与化学式1中的R1和R2的那些相同,以及
c、d、e、f、g、h、I、j、k、l、m、n、o、p、q、r、s、t、u和v的限定与化学式1中的a和b的那些相同。
3.根据权利要求1所述的杂环化合物,其中化学式1的R1和R2各自独立地为氢或氘。
4.根据权利要求1所述的杂环化合物,其中化学式1由以下化合物中的任一者表示:
5.一种有机发光器件,包括:
正电极;
负电极;以及
设置在所述正电极与所述负电极之间的具有一个或更多个层的有机材料层,
其中所述有机材料层的一个或更多个层包含根据权利要求1至4中任一项所述的杂环化合物。
6.根据权利要求5所述的有机发光器件,其中所述有机材料层包括空穴阻挡层、电子注入层和电子传输层中的至少一个层,并且所述空穴阻挡层、所述电子注入层和所述电子传输层中的至少一个层包含所述杂环化合物。
7.根据权利要求5所述的有机发光器件,其中所述有机材料层包括发光层,并且所述发光层包含所述杂环化合物。
8.根据权利要求5所述的有机发光器件,其中所述有机材料层包括空穴注入层、空穴传输层以及同时注入和传输空穴的层中的一个或更多个层,并且所述层中的一个层包含所述杂环化合物。
9.根据权利要求5所述的有机发光器件,其中包含所述杂环化合物的所述有机材料层另外地包含由以下化学式2或3表示的化合物:
[化学式2]
在化学式4中,
L1和L2彼此相同或不同,并且各自独立地为直接键或者经取代或未经取代的C6至C60亚芳基,
Ar33为经取代或未经取代的包含至少一个N的C2至C60杂芳基,
Ar34由以下化学式4或5表示,
[化学式4]
[化学式5]
Y1至Y4彼此相同或不同,并且各自独立地为经取代或未经取代的C6至C60芳族烃环;或者经取代或未经取代的C2至C60芳族杂环,
R23至R29彼此相同或不同,并且各自独立地选自氢;氘;卤素基团;-CN;经取代或未经取代的C1至C60烷基;经取代或未经取代的C2至C60烯基;经取代或未经取代的C2至C60炔基;经取代或未经取代的C1至C60烷氧基;经取代或未经取代的C3至C60环烷基;经取代或未经取代的C2至C60杂环烷基;经取代或未经取代的C6至C60芳基;经取代或未经取代的C2至C60杂芳基;-SiRR’R”;-P(=O)RR’;以及未经取代或者经C1至C20烷基、经取代或未经取代的C6至C60芳基、或者C2至C60杂芳基取代的胺基,或者两个或更多个相邻基团彼此键合以形成经取代或未经取代的脂族或芳族烃环,
R、R’和R”彼此相同或不同,并且各自独立地为氢;氘;-CN;经取代或未经取代的C1至C60烷基;经取代或未经取代的C3至C60环烷基;经取代或未经取代的C6至C60芳基;或者经取代或未经取代的C2至C60杂芳基,以及
[化学式3]
在化学式3中,
X1至X3中的至少一者为N,并且其余的各自独立地为N或CR48,
R31、R32和R48彼此相同或不同,并且各自独立地选自氢;氘;卤素基团;-CN;经取代或未经取代的C1至C60烷基;经取代或未经取代的C2至C60烯基;经取代或未经取代的C2至C60炔基;经取代或未经取代的C1至C60烷氧基;经取代或未经取代的C3至C60环烷基;经取代或未经取代的C2至C60杂环烷基;经取代或未经取代的C6至C60芳基;经取代或未经取代的C2至C60杂芳基;-SiRR’R”;-P(=O)RR’;以及未经取代或者经C1至C20烷基、经取代或未经取代的C6至C60芳基、或者C2至C60杂芳基取代的胺基,或者两个或更多个相邻基团彼此键合以形成经取代或未经取代的脂族或芳族烃环,
R32至R34和R40至R43彼此相同或不同,并且各自独立地选自氢;氘;卤素基团;-CN;经取代或未经取代的C1至C60烷基;经取代或未经取代的C2至C60烯基;经取代或未经取代的C2至C60炔基;经取代或未经取代的C1至C60烷氧基;经取代或未经取代的C3至C60环烷基;经取代或未经取代的C2至C60杂环烷基;经取代或未经取代的C6至C60芳基;经取代或未经取代的C2至C60杂芳基;-SiRR’R”;-P(=O)RR’;以及未经取代或者经C1至C20烷基、经取代或未经取代的C6至C60芳基、或者C2至C60杂芳基取代的胺基,
R44至R47彼此相同或不同,并且各自独立地选自氢;氘;卤素基团;-CN;经取代或未经取代的C1至C60烷基;经取代或未经取代的C2至C60烯基;经取代或未经取代的C2至C60炔基;经取代或未经取代的C1至C60烷氧基;经取代或未经取代的C3至C60环烷基;经取代或未经取代的C2至C60杂环烷基;经取代或未经取代的C6至C60芳基;经取代或未经取代的C2至C60杂芳基;-SiRR’R”;-P(=O)RR’;以及未经取代或者经C1至C20烷基、经取代或未经取代的C6至C60芳基、或者C2至C60杂芳基取代的胺基,或者两个或更多个相邻基团彼此键合以形成经取代或未经取代的烃环或杂环,
R35至R39中的至少一者为-CN,并且其余的各自独立地选自氢;氘;卤素基团;-CN;经取代或未经取代的C1至C60烷基;经取代或未经取代的C2至C60烯基;经取代或未经取代的C2至C60炔基;经取代或未经取代的C1至C60烷氧基;经取代或未经取代的C3至C60环烷基;经取代或未经取代的C2至C60杂环烷基;经取代或未经取代的C6至C60芳基;经取代或未经取代的C2至C60杂芳基;-SiRR’R”;-P(=O)RR’;以及未经取代或者经C1至C20烷基、经取代或未经取代的C6至C60芳基、或者C2至C60杂芳基取代的胺基,或者两个或更多个相邻基团彼此键合以形成经取代或未经取代的脂族或芳族烃环,以及
R、R’和R”彼此相同或不同,并且各自独立地为氢;氘;-CN;经取代或未经取代的C1至C60烷基;经取代或未经取代的C3至C60环烷基;经取代或未经取代的C6至C60芳基;或者经取代或未经取代的C2至C60杂芳基。
10.根据权利要求9所述的有机发光器件,其中由化学式2表示的化合物由以下化合物中的任一者表示:
11.根据权利要求9所述的有机发光器件,其中由化学式3表示的化合物由以下化合物中的任一者表示:
12.根据权利要求9所述的有机发光器件,其中所述有机发光器件包含以下作为用于发光层的主体材料:所述杂环化合物;和由化学式2或3表示的化合物。
13.根据权利要求9所述的有机发光器件,其中所述有机发光器件包含以下作为用于发光层的主体材料:所述杂环化合物;和由化学式2或3表示的化合物,所述杂环化合物与所述由化学式2或3表示的化合物的重量比为1:10至10:1。
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Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN111247648A (zh) * 2018-09-28 2020-06-05 喜星素材株式会社 杂环化合物以及包含此化合物的有机发光装置
CN111393420A (zh) * 2019-10-31 2020-07-10 陕西莱特光电材料股份有限公司 含氮化合物、电子元件及电子装置
CN111440159A (zh) * 2020-04-16 2020-07-24 烟台显华化工科技有限公司 一种化合物、光提取材料和有机电致发光器件

Families Citing this family (26)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN107056806A (zh) * 2016-04-25 2017-08-18 中节能万润股份有限公司 一种含有均苯骨架结构的化合物及其在有机电致发光器件中的应用
CN107848989B (zh) * 2016-07-20 2021-06-11 株式会社Lg化学 新杂环化合物和包含其的有机发光器件
JP2020061390A (ja) * 2016-12-26 2020-04-16 出光興産株式会社 組成物、有機エレクトロルミネッセンス素子用材料、組成物膜、有機エレクトロルミネッセンス素子、及び電子機器
KR102101473B1 (ko) * 2017-07-10 2020-04-16 주식회사 엘지화학 헤테로 고리 화합물 및 이를 포함하는 유기 발광 소자
CN109385266B (zh) * 2017-08-04 2021-10-26 北京绿人科技有限责任公司 用于形成有机电致发光材料的组合物及其应用和有机电致发光器件及其制备方法
KR102423189B1 (ko) * 2017-08-25 2022-07-22 삼성디스플레이 주식회사 유기 분자, 특히 광전자 장치에 사용하기 위한 유기 분자
WO2019038377A1 (en) * 2017-08-25 2019-02-28 Cynora Gmbh ORGANIC MOLECULES, ESPECIALLY FOR USE IN OPTOELECTRONIC DEVICES
CN107586299A (zh) * 2017-09-29 2018-01-16 江苏三月光电科技有限公司 一种以氮杂苯为核心的有机化合物及其应用
WO2019076844A1 (en) * 2017-10-18 2019-04-25 Cynora Gmbh ORGANIC MOLECULES, IN PARTICULAR FOR USE IN OPTOELECTRONIC DEVICES
KR102530155B1 (ko) * 2017-10-23 2023-05-10 솔루스첨단소재 주식회사 유기 화합물 및 이를 포함하는 유기 전계 발광 소자
EP3700997B1 (en) * 2017-10-25 2021-12-08 Cynora Gmbh Organic molecules, in particular for use in optoelectronic devices
EP3704211B1 (en) * 2017-11-03 2023-12-27 Samsung Display Co., Ltd. Organic molecules for use in optoelectronic devices
KR20190070586A (ko) 2017-12-13 2019-06-21 엘지디스플레이 주식회사 전자수송 재료용 화합물 및 이를 포함하는 유기 발광 다이오드
CN109928962A (zh) * 2017-12-18 2019-06-25 江苏三月光电科技有限公司 一种以咔唑为核心的化合物、制备方法及其在有机电致发光器件上的应用
EP3502108A1 (en) * 2017-12-20 2019-06-26 Samsung Electronics Co., Ltd. Condensed cyclic compound, composition including the condensed cyclic compound, and organic light-emitting device including the composition
JP7145608B2 (ja) * 2017-12-20 2022-10-03 三星電子株式会社 有機エレクトロルミネッセンス素子用化合物、液状組成物、インク組成物、薄膜、及び有機エレクトロルミネッセンス素子
CN109659448B (zh) * 2017-12-27 2021-07-06 广州华睿光电材料有限公司 有机混合物、组合物及有机电子器件
WO2019143112A1 (ko) * 2018-01-16 2019-07-25 주식회사 두산 유기 전계 발광 소자
WO2019143109A1 (ko) * 2018-01-16 2019-07-25 주식회사 두산 유기 화합물 및 이를 이용한 유기 전계 발광 소자
WO2019143110A1 (ko) * 2018-01-16 2019-07-25 주식회사 두산 유기 화합물 및 이를 이용한 유기 전계 발광 소자
WO2019143111A1 (ko) * 2018-01-16 2019-07-25 주식회사 두산 유기 화합물 및 이를 이용한 유기 전계 발광 소자
KR102235477B1 (ko) * 2018-08-09 2021-04-02 주식회사 엘지화학 신규한 헤테로 고리 화합물 및 이를 이용한 유기 발광 소자
US11485706B2 (en) * 2018-09-11 2022-11-01 Universal Display Corporation Organic electroluminescent materials and devices
US20220059773A1 (en) * 2018-09-21 2022-02-24 Lg Chem, Ltd. Novel heterocyclic compound and organic light emitting device comprising the same
EP3670517A1 (en) * 2018-12-21 2020-06-24 Idemitsu Kosan Co., Ltd. Polycyclic compound, composition and an organic electroluminescence device comprising the polycyclic compound or the composition
JP2023107436A (ja) * 2022-01-24 2023-08-03 株式会社Kyulux 化合物、発光材料および発光素子

Citations (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN102770981A (zh) * 2010-02-26 2012-11-07 新日铁化学株式会社 有机场致发光元件
WO2015088183A1 (ko) * 2013-12-13 2015-06-18 덕산네오룩스 주식회사 유기전기 소자용 화합물, 이를 이용한 유기전기소자 및 그 전자 장치
WO2015115756A1 (ko) * 2014-01-28 2015-08-06 덕산네오룩스 주식회사 유기전기 소자용 화합물, 이를 이용한 유기전기소자 및 그 전자 장치
US20150318487A1 (en) * 2014-05-02 2015-11-05 Samsung Display Co., Ltd. Organic light-emitting device
US20150318510A1 (en) * 2014-05-02 2015-11-05 Samsung Display Co., Ltd. Organic light-emitting device
CN107056807A (zh) * 2016-04-25 2017-08-18 中节能万润股份有限公司 一种以均苯为核心的化合物及其在有机电致发光器件中的应用

Family Cites Families (41)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US4356429A (en) 1980-07-17 1982-10-26 Eastman Kodak Company Organic electroluminescent cell
TW545080B (en) * 2000-12-28 2003-08-01 Semiconductor Energy Lab Light emitting device and method of manufacturing the same
JP4552436B2 (ja) * 2003-12-24 2010-09-29 コニカミノルタホールディングス株式会社 有機エレクトロルミネッセンス素子、表示装置及び照明装置
US20070252516A1 (en) * 2006-04-27 2007-11-01 Eastman Kodak Company Electroluminescent devices including organic EIL layer
KR100863906B1 (ko) * 2007-01-18 2008-10-17 삼성에스디아이 주식회사 카바졸계 화합물 및 이를 포함한 유기막을 구비한 유기발광 소자
JP5116347B2 (ja) * 2007-04-09 2013-01-09 キヤノン株式会社 ビフェニル誘導体及びそれを使用した有機発光素子
JP2009120582A (ja) * 2007-10-26 2009-06-04 Toyo Ink Mfg Co Ltd カルバゾリル基を有する化合物およびその用途
WO2010004877A1 (ja) * 2008-07-10 2010-01-14 コニカミノルタホールディングス株式会社 有機エレクトロルミネッセンス素子、表示装置及び照明装置
JP5338184B2 (ja) * 2008-08-06 2013-11-13 コニカミノルタ株式会社 有機エレクトロルミネッセンス素子、表示装置、照明装置
JP5694939B2 (ja) * 2008-10-14 2015-04-01 チェイル インダストリーズ インコーポレイテッド ベンズイミダゾール化合物およびこれを含む有機光電素子
JP5707665B2 (ja) * 2008-12-03 2015-04-30 コニカミノルタ株式会社 有機エレクトロルミネッセンス素子、該素子を備えた照明装置及び表示装置
KR20100114745A (ko) * 2009-04-16 2010-10-26 에스에프씨 주식회사 이미다졸 유도체 및 이를 이용한 유기전계발광소자
KR101801048B1 (ko) * 2009-06-08 2017-11-28 에스에프씨 주식회사 인돌로카바졸 유도체 및 이를 이용한 유기전계발광소자
WO2011004639A1 (ja) * 2009-07-07 2011-01-13 コニカミノルタホールディングス株式会社 有機エレクトロルミネッセンス素子、新規な化合物、照明装置及び表示装置
EP2489664A4 (en) * 2009-10-16 2013-04-03 Idemitsu Kosan Co AROMATIC COMPOUND CONTAINING FLUORENE, MATERIAL FOR ORGANIC ELECTROLUMINESCENCE ELEMENT, AND ORGANIC ELECTROLUMINESCENT ELEMENT USING SUCH MATERIAL
CN102146090B (zh) * 2010-02-09 2013-03-13 广东阿格蕾雅光电材料有限公司 芳环取代的双蒽类化合物发光材料
KR20110093055A (ko) * 2010-02-11 2011-08-18 다우어드밴스드디스플레이머티리얼 유한회사 신규한 유기 발광 화합물 및 이를 채용하고 있는 유기 전계 발광 소자
JP5505315B2 (ja) * 2011-01-05 2014-05-28 コニカミノルタ株式会社 有機エレクトロルミネッセンス素子用材料、および有機エレクトロルミネッセンス素子、これを用いた表示装置、照明装置、並びに複合縮環化合物
JP5862079B2 (ja) * 2011-07-06 2016-02-16 コニカミノルタ株式会社 有機エレクトロルミネッセンス素子、表示装置及び照明装置
JP2013110262A (ja) * 2011-11-21 2013-06-06 Konica Minolta Holdings Inc 有機el素子ならびに有機elモジュールおよびその製造方法
JP5817608B2 (ja) * 2012-03-21 2015-11-18 コニカミノルタ株式会社 有機エレクトロルミネッセンス素子
KR102125199B1 (ko) * 2012-07-23 2020-06-22 메르크 파텐트 게엠베하 유기 전계발광 소자용 재료
WO2014021572A1 (en) * 2012-07-31 2014-02-06 Sk Chemicals Co., Ltd. Compound for organic electroluminescent device and organic electroluminescent device including the same
JP6146415B2 (ja) * 2012-08-07 2017-06-14 コニカミノルタ株式会社 有機エレクトロルミネッセンス素子、照明装置及び表示装置
JP6428267B2 (ja) * 2012-12-10 2018-11-28 コニカミノルタ株式会社 有機エレクトロルミネッセンス素子材料、有機エレクトロルミネッセンス素子、照明装置及び表示装置
KR101499102B1 (ko) * 2013-04-11 2015-03-05 (주)피엔에이치테크 새로운 유기전계발광소자용 화합물 및 그를 포함하는 유기전계발광소자
KR20140145428A (ko) * 2013-06-13 2014-12-23 에스케이케미칼주식회사 유기전계발광소자용 화합물 및 그를 포함하는 유기전계발광소자
KR102126201B1 (ko) * 2013-11-28 2020-06-24 덕산네오룩스 주식회사 유기전기 소자용 화합물, 이를 이용한 유기전기소자 및 그 전자 장치
CN104650088B (zh) * 2013-12-26 2017-08-01 固安鼎材科技有限公司 一种含咔唑基的衍生物及其在有机电致发光器件中的应用
CN104650076A (zh) * 2013-12-26 2015-05-27 北京鼎材科技有限公司 含有咪唑并吡啶基团的化合物及在有机电致发光中的应用
KR20150104260A (ko) * 2014-03-04 2015-09-15 삼성디스플레이 주식회사 헤테로고리 화합물 및 이를 포함한 유기 발광 소자
CN105431425B (zh) * 2014-03-12 2019-10-01 出光兴产株式会社 化合物、有机电致发光元件用材料、油墨组合物、有机电致发光元件、及电子设备
KR101765027B1 (ko) * 2014-04-11 2017-08-03 메르크 파텐트 게엠베하 유기 전계발광 소자용 물질
KR101729660B1 (ko) * 2014-05-09 2017-04-26 (주)씨엠디엘 신규한 유기 전계 발광 소자용 화합물, 이를 포함하는 유기 전계 발광 소자 및 전자 기기
KR101964606B1 (ko) * 2014-05-26 2019-04-02 주식회사 엘지화학 디벤조 5원고리 화합물 및 이를 이용한 유기 발광 소자
WO2016045765A1 (de) * 2014-09-24 2016-03-31 Merck Patent Gmbh Materialien für organische elektrolumineszenzvorrichtungen
KR102585105B1 (ko) * 2014-12-04 2023-10-05 주식회사 동진쎄미켐 신규한 화합물 및 이를 포함하는 유기발광소자
US10644247B2 (en) * 2015-02-06 2020-05-05 Universal Display Corporation Organic electroluminescent materials and devices
JP5831654B1 (ja) * 2015-02-13 2015-12-09 コニカミノルタ株式会社 芳香族複素環誘導体、それを用いた有機エレクトロルミネッセンス素子、照明装置及び表示装置
WO2016148390A1 (en) * 2015-03-13 2016-09-22 Rohm And Haas Electronic Materials Korea Ltd. A plurality of host materials and organic electroluminescent device comprising the same
KR102600725B1 (ko) * 2015-08-11 2023-11-10 메르크 파텐트 게엠베하 유기 전계발광 소자용 재료

Patent Citations (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN102770981A (zh) * 2010-02-26 2012-11-07 新日铁化学株式会社 有机场致发光元件
WO2015088183A1 (ko) * 2013-12-13 2015-06-18 덕산네오룩스 주식회사 유기전기 소자용 화합물, 이를 이용한 유기전기소자 및 그 전자 장치
WO2015115756A1 (ko) * 2014-01-28 2015-08-06 덕산네오룩스 주식회사 유기전기 소자용 화합물, 이를 이용한 유기전기소자 및 그 전자 장치
US20150318487A1 (en) * 2014-05-02 2015-11-05 Samsung Display Co., Ltd. Organic light-emitting device
US20150318510A1 (en) * 2014-05-02 2015-11-05 Samsung Display Co., Ltd. Organic light-emitting device
CN107056807A (zh) * 2016-04-25 2017-08-18 中节能万润股份有限公司 一种以均苯为核心的化合物及其在有机电致发光器件中的应用

Cited By (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN111247648A (zh) * 2018-09-28 2020-06-05 喜星素材株式会社 杂环化合物以及包含此化合物的有机发光装置
CN111247648B (zh) * 2018-09-28 2023-09-15 Lt素材株式会社 杂环化合物以及包含此化合物的有机发光装置
CN111393420A (zh) * 2019-10-31 2020-07-10 陕西莱特光电材料股份有限公司 含氮化合物、电子元件及电子装置
CN111393420B (zh) * 2019-10-31 2021-04-13 陕西莱特光电材料股份有限公司 含氮化合物、电子元件及电子装置
CN111440159A (zh) * 2020-04-16 2020-07-24 烟台显华化工科技有限公司 一种化合物、光提取材料和有机电致发光器件
CN111440159B (zh) * 2020-04-16 2023-12-15 烟台显华化工科技有限公司 一种化合物、光提取材料和有机电致发光器件

Also Published As

Publication number Publication date
EP3392246A1 (en) 2018-10-24
US20180287072A1 (en) 2018-10-04
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WO2017099490A1 (ko) 2017-06-15

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