CN107921738A - 层叠膜 - Google Patents

Abstract

本发明的课题在于提供一种层叠膜，其能够防止量子点因水分或氧气而劣化，且具有高耐久性，并且，能够实现窄边框化，且具有高生产率。本发明的层叠膜具有：功能层层叠体，其具有光学功能层及层叠于光学功能层的至少一个主表面的阻气层；及端面密封层，覆盖功能层层叠体的端面的至少一部分而形成，并且，功能层层叠体的端面的、端面密封层的形成区域中的表面粗糙度Ra为0.1～2μm，端面密封层的厚度为1～5μm，由此解决问题。

Description

层叠膜

技术领域

本发明涉及一种用于液晶显示装置的背光等中的层叠膜。

背景技术

液晶显示装置(以下，也称为LCD)作为耗电量较少且省空间的图像显示装置，其用途正在逐年扩大。并且，在近年来的液晶显示装置中，作为LCD性能改善，要求进一步的省电化、颜色再现性提高等。

伴随LCD的背光的省电化，提出有为了提高光利用效率并且提高颜色再现性而利用将入射光的波长进行转换而射出的量子点。

所谓量子点，是在三维全方向上移动方向受到限制的电子的状态的结晶，半导体的纳米粒子由高势垒立体包围时，该纳米粒子成为量子点。量子点显现各种量子效应。例如，显现电子的状态密度(能级)被离散化的“量子尺寸效应”。根据该量子尺寸效应，能够通过改变量子点的大小来控制光的吸收波长或发光波长。

通常，这种量子点分散在树脂等中，例如作为进行波长转换的量子点膜，配置于背光与液晶面板之间来使用。

若从背光向包含量子点的薄膜入射激发光，则量子点被激发并发出荧光。在此能够通过使用具有不同的发光特性的量子点，发出红色光、绿色光、蓝色光的半值宽度窄的光而具体实现白色光。基于量子点的荧光由于半值宽度较窄，因此能够使通过适当地选择波长而获得的白色光成为高亮度或者设计成颜色再现性优异。

量子点存在容易因水分或氧而劣化，而且发光强度因光氧化反应而下降的问题。因此，进行如下：在包含量子点的树脂层的两面层叠阻气膜来保护包含量子点的树脂层。以下，将包含量子点的树脂层也称为“电子点层”。

然而，存在若仅由阻气膜保护量子点层的两个主表面，则水分或氧从没有被阻气膜保护的端面渗透，导致量子点劣化的问题。

因此，提出有包括量子点层的整个端面(周边)在内由阻气膜保护量子点层。

例如，专利文献1中记载了使量子点(量子点荧光体)在浓度0.01～20质量％的范围分散在环烯烃(共)聚合物中而成的组合物，并记载了具有包覆分散有量子点的树脂成型体的整个面的阻气层的结构。并且，记载了该阻气层为在树脂层的至少一个面形成有二氧化硅膜或氧化铝膜的阻气膜。

专利文献2中，记载了在具备包含量子点(QD)组的远程荧光体薄膜的显示器背光单元，并记载了如下结构：用2个阻气膜夹住QD荧光体材料，在被夹在QD荧光体材料的周围周边的2个阻气膜的区域包括具有阻气性的保护层(非活动区域)。

专利文献3中，记载了在具备将从光源部发出的彩色光的至少一部分转换为其他彩色光的颜色转换层及密封颜色转换层的不渗透性的密封片的发光装置，并记载有如下机构：具有以沿着荧光体层的外周，即以包围荧光体层的平面形状的方式设置成框形状的保护层(第2贴合层)，该保护层包含具有阻气性的粘接材料。

专利文献4中记载有一种量子点波长转换体，其包括：波长转换部，其包含将激发光进行波长转换而产生波长转换光的量子点及使量子点分散的分散介质；及密封部件，密封波长转换部，并记载了对密封片的端部区域进行加热而使其热粘结来密封波长转换部。

现有技术文献

专利文献

专利文献1：国际公开第2012/102107号

专利文献2：日本特表2013-544018号公报

专利文献3：日本特开2009-283441号公报

专利文献4：日本特开2010-061098号公报

发明内容

发明所要解决的问题

用于LCD的包括量子点层的薄膜为50～350μm左右的薄型膜。

存在很难以利用阻气膜包覆较薄的量子点层的整个面，生产率差这样的问题。并且，若为了覆盖量子点层的整个面而弯曲阻气膜，则还存在阻气层在弯曲的部分断裂而阻气性降低这样的问题。

另一方面，当为以包围被2个阻气膜夹住的量子点层的方式形成阻气性的保护层的结构时，考虑例如以所谓的坝填充方式形成保护层及树脂层。即，考虑制作如下薄膜，即在其中一个阻气膜上的周边部分形成保护层之后，在被保护层包围的区域内形成量子点层，之后在保护层及量子点层上层叠另一个阻气膜，由此用阻气膜夹持量子点层，并且由保护层包围量子点层的端面而得的薄膜。

然而，能够通过这种方法形成的保护层的材料为粘结材料等，所以无法赋予高阻隔性，阻气性或耐久性不充分。

并且，在这种坝填充方式中，所有工序均为分批方式，因此存在生产率差这样的问题。

并且，在缩小或密封夹住量子点层的2个阻气膜的端部的开口的结构中，由于在端部量子点层的厚度变薄，因此存在在端部量子点层无法充分显现出功能，能够有效利用的区域的大小变小，边框部分变大这样的问题。并且，通常具备高阻气性的阻气层硬且脆，所以若突然弯曲具有这种阻气层的阻气膜，则存在阻气层破裂，阻气性降低这样的问题。

本发明的目的为解决这种现有技术的问题，并提供一种层叠膜，其能够防止量子点层等光学功能层因水分或氧而劣化，具有高耐久性，并且能够实现窄边框化。

用于解决问题的手段

为了实现这种目的，提供一种层叠膜，本发明的层叠膜具有：功能层层叠体，其具有光学功能层及层叠于光学功能层的至少一个主表面的阻气层；及

端面密封层，覆盖功能层层叠体的端面的至少一部分而形成，

并且，功能层层叠体的端面的、端面密封层的形成区域中的表面粗糙度Ra为0.1～2μm，端面密封层的厚度为1～5μm。

在这种本发明的层叠膜中，优选端面密封层覆盖功能层层叠体的整个端面而形成。

并且，优选端面密封层具有选自包括树脂层、金属层、金属氧化物层、金属氮化物层、金属碳化物层及金属碳氮化物层的组中的至少一层。

并且，优选端面密封层具有层叠多层而成的层叠结构。

并且，优选端面密封层具有多个金属层。

并且，优选端面密封层具有金属镀层及设置于金属镀层与功能层层叠体的端面之间的金属层。

并且，优选具有多层设置于金属镀层与功能层层叠体的端面之间的金属层。

进而优选端面密封层具有：选自包括金属氧化物层、金属氮化物层、金属碳化物层及金属碳氮化物层的组中的至少一层无机化合物层；及设置于无机化合物层与功能层层叠体的端面之间的树脂层。

发明效果

根据这种本发明，能够提供一种能够防止量子点因水分或氧等而劣化，具有高耐久性，并且能够实现窄边框化的层叠膜。

附图说明

图1是示意地表示本发明的层叠膜的一例的剖视图。

图2是示意地表示层叠膜中所使用的阻气膜的一例的剖视图。

图3是示意地表示本发明的层叠膜的另一例的剖视图。

图4是示意地表示本发明的层叠膜的另一例的剖视图。

图5A是用于说明制造本发明的层叠膜的制造方法的一例的示意图。

图5B是用于说明制造本发明的层叠膜的制造方法的一例的示意图。

图5C是用于说明制造本发明的层叠膜的制造方法的一例的示意图。

图5D是用于说明制造本发明的层叠膜的制造方法的一例的示意图。

具体实施方式

以下，基于附图所示的优选实施例，对本发明的层叠膜进行详细说明。

以下所记载的构成要件的说明有时是基于本发明的具有代表性的实施方式来进行，但本发明并不限定于这种实施方式。

另外，在本说明书中，用“～”来表示的数值范围是指，将“～”的前后所记载的数值作为下限值及上限值来包含的范围。

并且，本说明书中，“(甲基)丙烯酸酯”以“丙烯酸酯及甲基丙烯酸酯中的至少一方或任一方的含义使用。“(甲基)丙烯酰基”等也相同。

本发明的层叠膜具有：功能层层叠体，其具有光学功能层及层叠于光学功能层的至少一个主表面(最大表面)上的阻气层；及端面密封层，覆盖功能层层叠体的端面的至少一部分而形成，功能层层叠体的端面的、端面密封层的形成区域中的表面粗糙度Ra为0.1～2μm，端面密封层的厚度为1～5μm。

图1是示意地表示本发明的层叠膜的一例的剖视图。

图1所示的层叠膜10a具有：功能层层叠体11，其具有光学功能层12及分别层叠于光学功能层12的两个主表面上的阻气层14；及端面密封层16a，覆盖功能层层叠体11的端面的整个面而形成。

图1所示的层叠膜10a中，功能层层叠体11作为一例具有矩形的平面形状。平面形状是从图中上方观察图1时的形状，且为层叠体的主表面的形状。即，层叠膜10a具有以端面密封层16a覆盖并密封矩形的功能层层叠体11的四边的整个端面的结构。

光学功能层12为用于显现波长转换等所期望的光学功能的层。

作为光学功能层12能够利用各种显现光学功能的层。具体而言，例示荧光层(波长转换层)、有机电致发光层(有机EL(Electro Luminescence)层)、用于太阳能电池等中的光电转换层、电子纸等图像显示层等。

在图示例的层叠膜10a中，作为优选的方式，光学功能层12为将多个荧光体分散于固化性树脂等基质中而成的荧光层，并且具有将入射到光学功能层12的光的波长进行转换而射出的功能。

例如，若从未图示的背光射出的蓝色光入射到光学功能层12，则光学功能层12通过内部所含有的荧光体的效应，将该蓝色光的至少一部分波长转换为红色光或绿色光而射出。

在此，所谓蓝色光是在400nm～500nm的波长频带具有发光中心波长的光，所谓绿色光是在超过500nm且600nm以下的波长频带具有发光中心波长的光，所谓红色光是在超过600nm且680nm以下的波长频带具有发光中心波长的光。

另外，荧光层所显现的波长转换的功能不限定于将蓝色光波长转换为红色光或绿色光的结构，只要是将入射光的至少一部分转换为不同波长的光的结构即可。

荧光体至少被入射的激发光激发而发出荧光。

荧光曾中所含有的荧光体的种类没有特别限定，只要根据所要求的波长转换的性能等适当选择各种公知的荧光体即可。

作为这种荧光体的例子，例如除了有机荧光染料及有机荧光颜料以外，还例示磷酸盐或铝酸盐、金属氧化物等中掺杂有稀土类离子的荧光体、金属硫化物或金属氮化物等半导体性物质中掺有杂活化离子的荧光体、利用了称为量子点的量子限制效应的荧光体等。其中，在本发明中适用能够实现发射光谱宽度窄，用于显示器时的颜色再现性优异的光源，并且发射量子效率优异的量子点。

即，在本发明中，作为光学功能层12，可适用将量子点分散于树脂等基质中而成的量子点层。图1等中所示的例子中，作为优选的方式，光学功能层12为量子点层。

关于量子点，例如能够参考日本特开2012-169271号公报的[0060]～[0066]段，但并不限定于此处记载的内容。并且，作为量子点，能够没有任何限制地使用市售品。量子点的发光波长通常能够通过粒子的组成、尺寸来进行调整。

量子点优选均匀地分散在基质中，但也可以不均匀地分散在基质中。并且，量子点可以只使用1种，也可以并用2种以上。

当并用2种以上量子点时，可使用发出光的波长不同的2种以上的量子点。

具体而言，所谓公知的量子点中有在超过600nm且680nm范围的波长频带具有发光中心波长的量子点(A)、在超过500nm且600nm范围的波长频带具有发光中心波长的量子点(B)、在400nm～500nm的波长频带具有发光中心波长的量子点(C)。量子点(A)被激发光激发而发出红色光，量子点(B)发出绿色光，量子点(C)发出蓝色光。

例如，若向包含量子点(A)和量子点(B)的量子点层入射蓝色光而作为激发光，则能够通过由量子点(A)发出的红色光、由量子点(B)发出的绿色光及透射了量子点层的蓝色光来具体实现白色光。或者通过向包含量子点(A)、量子点(B)及量子点(C)的量子点层入射紫外光而作为激发光，由此能够通过由量子点(A)发出的红色光、由量子点(B)发出的绿色光及由量子点(C)发出的蓝色光来具体实现白色光。

并且，作为量子点，可使用形状为杆状且具有方向性并发出偏振光的所谓的量子杆或四角锥型量子点。

如前所述，在本发明的层叠膜10a中，光学功能层12是将树脂等作为基质，将量子点等分散而成。

在此，基质能够利用各种用于量子点层的公知的基质，优选使包含至少2种以上的聚合性化合物的聚合性组合物(涂布组合物)固化而成的基质。另外，并用至少2种以上的聚合性化合物的聚合性基团可相同也可不同，优选为该至少2种化合物具有至少一个以上的共同的聚合性基团。

聚合性基团的种类没有特别限定，优选为(甲基)丙烯酸酯基、乙烯基或环氧基、氧杂环丁烷基，更优选为(甲基)丙烯酸酯基，进一步优选为丙烯酸酯基。

并且，成为光学功能层12的基质的聚合性化合物优选包含：包括单官能聚合性化合物的第1聚合性化合物的至少一种；及包括多官能聚合性化合物的第2聚合性化合物的至少一种。

具体而言，能够采用例如包含以下第1聚合性化合物及第2聚合性化合物的方式。

＜第1聚合性化合物＞

第1聚合性化合物为单官能(甲基)丙烯酸酯单体以及具有一个官能团的单体，所述官能团选自包括环氧基及氧杂环丁烷基的组。

作为单官能(甲基)丙烯酸酯单体能够列举丙烯酸及甲基丙烯酸、它们的衍生物，更详细而言，能够列举在分子内具有一个(甲基)丙烯酸的聚合性不饱和键((甲基)丙烯酰基)，且烷基的碳原子数为1～30的脂肪族或芳香族单体。作为它们的具体例在以下列举化合物，但本发明并不限定于此。

作为脂肪族单官能(甲基)丙烯酸酯单体，可列举：(甲基)丙烯酸甲酯、(甲基)丙烯酸正丁酯、(甲基)丙烯酸异丁酯、(甲基)丙烯酸-2-乙基己酯、(甲基)丙烯酸异壬酯、(甲基)丙烯酸正辛酯、(甲基)丙烯酸月桂酯、(甲基)丙烯酸硬脂基酯等烷基的碳原子数为1～30的(甲基)丙烯酸烷基酯；

(甲基)丙烯酸丁氧基乙酯等烷氧基烷基的碳原子数为2～30的(甲基)丙烯酸烷氧基烷基酯；

(甲基)丙烯酸-N,N-二甲氨基乙酯等(单烷基或二烷基)氨基烷基的总碳原子数为1～20的(甲基)丙烯酸氨基烷基酯；

二乙二醇乙醚的(甲基)丙烯酸酯、三乙二醇丁基醚的(甲基)丙烯酸酯、四乙二醇单甲基醚的(甲基)丙烯酸酯、六乙二醇单甲醚的(甲基)丙烯酸酯、八乙二醇的单甲基醚(甲基)丙烯酸酯、九乙二醇的单甲醚(甲基)丙烯酸酯、二丙二醇的单甲基醚(甲基)丙烯酸酯、庚丙二醇的单甲基醚(甲基)丙烯酸酯、四乙二醇的单乙基醚(甲基)丙烯酸酯等亚烷基链的碳原子数为1～10且末端烷基醚的碳原子数为1～10的聚亚烷基二醇烷基醚的(甲基)丙烯酸酯；

六乙二醇苯基醚的(甲基)丙烯酸酯等亚烷基链的碳原子数为1～30且末端芳基醚的碳原子数为6～20的聚亚烷基二醇芳基醚的(甲基)丙烯酸酯；

(甲基)丙烯酸环己酯、(甲基)丙烯酸二环戊酯、(甲基)丙烯酸异冰片酯、甲醛加成环癸三烯(甲基)丙烯酸酯等具有脂环结构的总碳原子数4～30的(甲基)丙烯酸酯；(甲基)丙烯酸十七氟癸酯等总碳原子数为4～30的(甲基)丙烯酸氟代烷基酯；

(甲基)丙烯酸-2-羟基乙酯、(甲基)丙烯酸-3-羟基丙酯、(甲基)丙烯酸-4-羟基丁酯、三乙二醇的单(甲基)丙烯酸酯、四乙二醇单(甲基)丙烯酸酯、六乙二醇单(甲基)丙烯酸酯、八丙二醇单(甲基)丙烯酸酯、甘油的单(甲基)丙烯酸酯等具有羟基的(甲基)丙烯酸酯；

(甲基)丙烯酸缩水甘油酯等具有缩水甘油基的(甲基)丙烯酸酯；

四乙二醇单(甲基)丙烯酸酯、六乙二醇单(甲基)丙烯酸酯、八丙二醇单(甲基)丙烯酸酯等亚烷基链的碳原子数为1～30的聚乙二醇单(甲基)丙烯酸酯；

(甲基)丙烯酰胺、N,N-二甲基(甲基)丙烯酰胺、N-异丙基(甲基)丙烯酰胺、2-羟乙基(甲基)丙烯酰胺、丙烯酰基吗啉等(甲基)丙烯酰胺等。

作为芳香族单官能丙烯酸酯单体，可列举(甲基)丙烯酸苄基酯等芳烷基的碳原子数为7～20的(甲基)丙烯酸芳烷基酯。

并且，第1聚合性化合物中，优选烷基的碳原子数为4～30的脂肪族或芳香族(甲基)丙烯酸烷基酯，进一步优选(甲基)丙烯酸正辛酯、(甲基)丙烯酸月桂酯、(甲基)丙烯酸硬脂基酯、；(甲基)丙烯酸环己酯、(甲基)丙烯酸二环戊酯、(甲基)丙烯酸异冰片酯、甲醛加成环癸三烯(甲基)丙烯酸酯。这是因为，由此提高了量子点的分散性。量子点的分散性越提高，从光转换层直达出射面的光量越增加，因此对提高正面亮度及正面对比度是有效的。

作为具有一个环氧基的单官能环氧化合物的例子，例如可列举：苯基缩水甘油醚、对叔丁基苯基缩水甘油醚、丁基缩水甘油醚、2-乙基己基缩水甘油醚、烯丙基缩水甘油醚、1,2-环氧丁烷、1,3-丁二烯单环氧化物、1,2-环氧十二烷、表氯醇、1,2-环氧癸烷、氧化苯乙烯、环氧环己烷、3-甲基丙烯酰氧甲基环氧环己烷、3-丙烯酰氧甲基环氧环己烷、3-乙烯基环氧环己烷、4-乙烯基环氧环己烷等。

作为具有一个氧杂环丁烷基的单官能氧杂环丁烷化合物的例子，能够利用将上述单官能环氧化合物的环氧基适当地取代为氧杂环丁烷基而得的化合物。并且，关于具有这种氧杂环丁烷环的化合物，还能够在日本特开2003-341217号公报、日本特开2004-91556号公报中记载的氧杂环丁烷化合物中适当地选择单官能化合物。

第1聚合性化合物相对于第1聚合性化合物与第2聚合性化合物的总质量100质量份，优选包含5～99.9质量份，优选包含20～85质量份。其理由将在后面进行叙述。

＜第2聚合性化合物＞

第2聚合性化合物为多官能(甲基)丙烯酸酯单体以及在分子内具有2个以上官能团的单体，所述官能团选自包括环氧基及氧杂环丁烷基的组。

2官能以上的多官能(甲基)丙烯酸酯单体中，作为2官能的(甲基)丙烯酸酯单体，可列举新戊二醇二(甲基)丙烯酸酯、1,6-己二醇二(甲基)丙烯酸酯、1,9-壬二醇二(甲基)丙烯酸酯、1,10-癸二醇二丙烯酸酯、三丙二醇二(甲基)丙烯酸酯、乙二醇二(甲基)丙烯酸酯、四乙二醇二(甲基)丙烯酸酯、羟基特戊酸新戊二醇二(甲基)丙烯酸酯、聚乙二醇二(甲基)丙烯酸酯、三环癸烷二甲醇二丙烯酸酯、乙氧基化双酚A二丙烯酸酯等作为优选例。

并且，2官能以上的多官能(甲基)丙烯酸酯单体中，作为3官能以上的(甲基)丙烯酸酯单体，可列举环氧氯丙烷(ECH)改性甘油三(甲基)丙烯酸酯、环氧乙烷(EO)改性甘油三(甲基)丙烯酸酯、环氧丙烷(PO)改性甘油三(甲基)丙烯酸酯、季戊四醇三丙烯酸酯、季戊四醇四丙烯酸酯、EO改性磷酸三丙烯酸酯、三羟甲基丙烷三(甲基)丙烯酸酯、己内酯改性三羟甲基丙烷三(甲基)丙烯酸酯、EO改性三羟甲基丙烷三(甲基)丙烯酸酯、PO改性三羟甲基丙烷三(甲基)丙烯酸酯、三(丙烯酰基氧基乙基)异氰脲酸酯、二季戊四醇六(甲基)丙烯酸酯、二季戊四醇五(甲基)丙烯酸酯、己内酯改性二季戊四醇六(甲基)丙烯酸酯、二季戊四醇羟基五(甲基)丙烯酸酯、烷基改性二季戊四醇五(甲基)丙烯酸酯、二季戊四醇聚(甲基)丙烯酸酯、烷基改性二季戊四醇三(甲基)丙烯酸酯、二三羟甲基丙烷四(甲基)丙烯酸酯、季戊四醇乙氧基四(甲基)丙烯酸酯、季戊四醇四(甲基)丙烯酸酯等作为优选例。

并且，作为多官能单体，还能够使用在分子内具有氨基甲酸酯键的(甲基)丙烯酸酯单体，具体而言，还能够使用甲苯二异氰酸酯(TDI)与丙烯酸羟基乙酯的加成物、异佛尔酮二异氰酸酯(IPDI)与丙烯酸羟基乙酯的加成物、六亚甲基二异氰酸酯(HDI)与季戊四醇三丙烯酸酯(PETA)的加成物、通过使制备TDI与PETA的加成物后剩余的异氰酸酯与丙烯酸十二烷氧基羟基丙酯反应而得的化合物、6,6-尼龙与TDI的加成物、季戊四醇、TDI及丙烯酸羟基乙酯的加成物等。

作为具有2个以上的选自包括环氧基及氧杂环丁烷基的组中的官能团的单体，例如优选使用：脂肪族环状环氧化合物、双酚A二缩水甘油醚、双酚F二缩水甘油醚、双酚S二缩水甘油醚、溴化双酚A二缩水甘油醚、溴化双酚F二缩水甘油醚、溴化双酚S二缩水甘油醚、氢化双酚A二缩水甘油醚、氢化双酚F二缩水甘油醚、氢化双酚S二缩水甘油醚、1,4-丁二醇二缩水甘油醚、1,6-己二醇二缩水甘油醚、甘油三缩水甘油醚、三羟甲基丙烷三缩水甘油醚、聚乙二醇二缩水甘油醚、聚丙二醇二缩水甘油醚类；通过在乙二醇、丙二醇、甘油等脂肪族多元醇中加成1种或2种以上的环氧烷烃而得的聚醚多元醇的聚缩水甘油醚类；脂肪族长链二元酸的二缩水甘油酯类；高级脂肪酸的缩水甘油酯类；包含环氧环烷烃的化合物等。

作为能够适当地用作具有2个以上选自包含环氧基及氧杂环丁烷基的组中的官能团的单体的市售品，可列举Daicel Chemical Industries Ltd.制造的CELLOXIDE 2021P、CELLOXIDE 8000、Sigma-Aldrich Co.LLC.制造的4-乙烯基环己烯二氧化物等。

并且，具有2个以上选自包括环氧基及氧杂环丁烷基的组中的官能团的单体的制备方法没有限定，例如能够参考如下文献来合成：丸善KK出版、第四版实验化学讲座20有机合成II、213～、平成4年、Ed.by Alfred Hasfner,The chemistry of heterocycliccompounds-Small Ring Heterocycles part3Oxiranes,John&Wiley and Sons,AnInterscience Publication,New York,1985、吉村、粘接、29卷12号、32、1985、吉村、粘接、30卷5号、42、1986、吉村、粘接、30卷7号、42、1986、日本特开平11-100378号公报、日本专利第2906245号公报、日本专利第2926262号公报等。

第2聚合性化合物相对于第1聚合性化合物与第2聚合性化合物的总质量100质量份，优选包含0.1～95质量份，优选包含15～80质量份。其理由将在后面进行叙述。

虽然在后面进行详述，但层叠膜10a具有利用端面密封层16a来密封层叠有光学功能层12与阻气层14的功能层层叠体11的端面而成的结构。

在本发明中，端面密封层16a作为一例优选例示包括多层金属层的层，优选为，在端面密封层16a中，首先通过溅射法、真空蒸镀法、离子镀法及等离子体CVD法等气相沉积法(气相成膜法)形成薄膜的金属层。

在此，例如若在将仅包含单官能(甲基)丙烯酸酯化合物的固化物作为基质的光学功能层12的端面通过溅射法来形成金属层，则基质经不住金属层的内部应力，其结果，金属层中产生缺陷，且无法赋予足够的阻隔性。另一方面，若在将仅包含多官能(甲基)丙烯酸酯化合物的固化物作为基质的光学功能层12的端面通过溅射法形成金属层，则不会产生金属层的缺陷，但由于硬且脆，所以端面的平滑性差，从而金属层无法均匀地包覆端面，其结果阻隔性受损。

相对于此，在本发明中，作为优选的方式，通过在前述适当的范围下混合单官能(甲基)丙烯酸酯单体与多官能(甲基)丙烯酸酯单体，形成金属层时抵抗膜收缩，且消除光学功能层12端面的金属层的缺陷，并且能够确保平滑性，从而能够在端面形成具有高阻隔性的端面密封层16a。

形成光学功能层12的基质(固化物)在50℃下的弹性模量优选为1～4000MPa，更优选为10～3000MPa。使用50℃下的弹性模量的原因是例如在溅射法中成膜时膜面温度达到50℃左右，因此被设定为抵抗膜收缩的基质的物理性质值。通过设为该范围，能够减少端部密封层的金属层的缺陷。

形成光学功能层12的基质、换言之成为光学功能层12的聚合性组合物根据需要可包含粘度调节剂或溶剂等必要的成分。另外，成为光学功能层12的聚合性组合物换言之为用于形成光学功能层12的聚合性组合物。

＜粘度调节剂＞

聚合性组合物根据需要可包含粘度调节剂。粘度调节剂优选为粒径为5～300nm的填料。并且，粘度调节剂也优选为赋予触变性的触变剂。另外，在本发明中，所谓触变性是指在液态组合物中相对于剪切速度的增加而降低粘度的性质，所谓触变剂是指具有通过使其包含于液态组合物中而对组合物赋予触变性的功能的材料。

作为触变剂的具体例，可列举气相二氧化硅、氧化铝、氮化硅、二氧化钛、碳酸钙、氧化锌、滑石、云母、长石、高岭土(kaolin clay)、叶腊石(Pyrophyllite clay)、绢云母(sericite)、膨润土、蒙脱石·蛭石类(蒙脱土、贝得石、绿脱石、皂石等)、有机膨润土、有机蒙脱石等。

用于形成光学功能层12的聚合性组合物中，粘度在剪切速度500s^-1时为3～50mPa·s，在剪切速度1s^-1时优选为100mPa·s以上。为了如此进行粘度调节，优选使用触变剂。

聚合性组合物的粘度在剪切速度500s^-1时优选为3～50mPa·s，且在剪切速度1s^-1时优选为100mPa·s以上的原因如下。

作为功能层层叠体11的制造方法，作为一例可列举包含如下工序的制造方法：准备后述2个阻气层14(阻气膜)，在其中一个阻气层14的表面涂布成为光学功能层12的聚合性组合物之后，在聚合性组合物上贴付另一张阻气层14，之后使聚合性组合物固化而形成光学功能层12的工序。在以下说明中，将被涂布聚合性组合物的阻气层也称为第1基材，将涂布于第1基材上的聚合性组合物中所贴付的另一张阻气层也称为第2基材。

该制造方法中，优选均匀地涂布以免在第1基材上涂布聚合性组合物时产生涂布不均，从而使涂膜的膜厚均匀，为此从涂布性和流平性的观点考虑，优选聚合性组合物的粘度较低。另一方面，在涂布于第1基材的聚合性组合物上贴付第2基材时，为了均匀地贴合第2基材，优选为对贴合时的压力的抵抗力较高，从该观点考虑，优选聚合性组合物的粘度较高。

前述剪切速度500s^-1为施加到涂布于第1基材的聚合性组合物的剪切速度的代表值，剪切速度1s^-1为将要在聚合性组合物中贴合第2基材之前施加到聚合性组合物的剪切速度的代表值。另外，剪切速度1s^-1只是代表值。在涂布于第1基材的聚合性组合物上贴合第2基材时，只要是以相同速度传送且贴合第1基材和第2基材，则施加到聚合性组合物的剪切速度大致为0s^-1，在实际制造工序中，施加到聚合性组合物的剪切速度不限于1s^-1。另一方面，剪切速度500s^-1也同样地仅为代表值，在实际制造工序中，施加到聚合性组合物的剪切速度不限于500s^-1。

而且，从均匀的涂布及贴合的观点考虑，将聚合性组合物的粘度，在第1基材上涂布聚合性组合物时施加到聚合性组合物的剪切速度的代表值为500s^-1时调节为3～50mPa·s，将要在涂布于第1基材的聚合性组合物上贴合第2基材之前施加到聚合性组合物的剪切速度的代表值为1s^-1时调节为100mPa·s以上。

＜溶剂＞

成为光学功能层12的聚合性组合物根据需要可包含溶剂。此时使用的溶剂的种类及添加量没有特别限定。例如作为溶剂，能够使用一种有机溶剂或混合两种以上来使用。

并且，在成为光学功能层12的聚合性组合物中，可包含三氟乙基(甲基)丙烯酸酯、五氟乙基(甲基)丙烯酸酯、(全氟丁基)乙基(甲基)丙烯酸酯、全氟丁基-羟基丙基(甲基)丙烯酸酯、(全氟己基)乙基(甲基)丙烯酸酯、八氟戊基(甲基)丙烯酸酯、全氟辛基乙基(甲基)丙烯酸酯、四氟丙基(甲基)丙烯酸酯等具有氟原子的化合物。

能够通过包含这些化合物来提高涂布性。

在光学功能层12中，成为基质的树脂的量可根据光学功能层12所包含的功能性材料的种类等来适当地确定即可。

在图示例中，光学功能层12为量子点层，因此成为基质的树脂相对于量子点层的总量100质量份，优选为90～99.9质量份，更优选为92～99质量份。

光学功能层12的厚度也根据光学功能层12的种类或层叠膜10a的用途等适当地确定即可。

在图示例中，光学功能层12为量子点层，因此在处理性及发光特性的方面而言，光学功能层12的厚度优选为5～200μm，更优选为10～150μm。

另外，光学功能层12的上述厚度是指平均厚度，平均厚度是通过测定量子点层的任意的10个点以上的厚度并对它们进行算术平均后求出。

光学功能层12的形成方法能够利用各种形成将功能性材料分散在基质中而成的固化层的公知的方法。

例如，光学功能层12为量子点层(荧光层)时，制备包含量子点(荧光体)和至少两种以上的聚合性化合物的聚合性组合物，将该聚合性组合物涂布于阻气层14上，并使其固化，由此能够形成。

另外，成为量子点层等光学功能层12的聚合性组合物中根据需要可添加聚合引发剂或硅烷偶联剂等。

阻气层14为层叠于光学功能层12的主表面的具有阻气性的层。即，阻气层14是用于通过覆盖光学功能层12的主表面来抑制水分或氧从光学功能层12的主表面渗透的部件。

另外，图示例的层叠膜10a中，功能层层叠体11在光学功能层12的两个主表面层叠阻气层14，但是本发明并不限定于此。例如，也可以是如下结构，即水分或氧从功能层层叠体11的一个主表面渗透的可能性较低时，只在光学功能层12的一个主表面层叠有阻气层14的结构。然而，为了更可靠地防止由水分或氧而导致的光学功能层12的劣化，如图示例那样优选在光学功能层12的两个主表面层叠阻气层14，并用2张阻气层14夹持光学功能层12。

阻气层14的水蒸气渗透率优选为1×10^-3g/(m²·天)以下。并且，阻气层14的氧渗透率优选为1×10^-2cc/(m²·天·大气压)以下。

通过使用水蒸气渗透率以及氧渗透率较低、即阻气性较高的阻气层14，能够防止水分或氧渗透到光学功能层12中并能够更适当地防止光学功能层12的劣化。

另外，作为一例，在温度40℃、相对湿度90％RH的条件下通过MOCON法测定了水蒸气渗透率。并且，当水蒸气渗透率超过MOCON法的测定极限时，通过钙腐蚀法(日本特开2005-283561号公报中记载的方法)进行测定即可。并且，作为一例，利用基于APIMS法(大气压离子化质量分析法)的测定装置(NIPPON API制造)，在温度25℃、湿度60％RH的条件下，测定氧渗透率即可。

并且，阻气层14的厚度优选为5～100μm，更优选为10～70μm，尤其优选为15～55μm。

通过将阻气层14的厚度设为5μm以上，由此在2个阻气层14之间形成光学功能层12时，能够使光学功能层12的厚度均匀，在该等方面是优选的。并且，通过将阻气层14的厚度设为100μm以下，能够使包括光学功能层12的层叠膜10a整体的厚度变薄，在这些面是优选的。

作为阻气层14没有特别限定，能够利用各种具有所期望的阻气性的阻气层。

在此，阻气层14优选为透明，例如能够使用玻璃、透明的无机结晶性材料、透明的树脂材料等。并且，阻气层14可以为刚性片状，也可以为柔性薄膜状。另外，阻气层14还可以为能够卷绕的长条状、也可以是预先切成规定尺寸的片状。

作为阻气层14，作为一例适用在阻气支撑体上作为阻隔层形成1组以上的无机层与成为该无机层的基底(形成面)的有机层的组合而成的、有机无机层叠型的阻气层(有机无机层叠型的阻气膜)。

图2中示出示意地表示这种有机无机层叠型的阻气层14的一例的剖视图。图2所示的阻气层14具有依次层叠有机层34、无机层36及有机层38而成的阻隔层32及支撑阻隔层32的阻气支撑体30。

另外，阻气层14在阻气支撑体30上具有至少一个无机层36即可，优选具有一个以上的无机层36与成为无机层36的基底的有机层34的组合。因此，阻气层14也可以具有2个无机层36与作为基底的有机层34的组合，或者也以可具有3个以上。有机层34作为用于适当地形成无机层36的基底层而发挥功能，作为基底的有机层34与无机层36的组合的层叠数越多，可获得具有越优异的阻气性的阻气膜。

并且，在图示例中，阻隔层32的最表层设为有机层38，但并不限定于此，最表层也可以是无机层36。另外，阻隔层32的最表层即为阻隔层32的与阻气支撑体30相反的一侧的层。

在此，层叠有光学功能层12的基本上为阻隔层32侧。因此，将阻隔层32的最表层设为无机层36，将光学功能层12层叠于阻隔层32侧，由此即使从阻气支撑体30或有机层34释放逸出气体，由于该逸出气体被无机层36屏蔽，也能够防止到达光学功能层12。

作为阻气层14的阻气支撑体30，能够利用各种在公知的阻气膜中用作支撑体的阻气支撑体。

其中，就薄型化或轻量化容易、适合柔性化等方面而言，优选利用包含各种塑料(高分子材料/树脂材料)的薄膜。

具体而言，优选例示包含如下的树脂薄膜：聚乙二醇(PE)、聚萘二甲酸乙二醇酯(PEN)、聚酰胺(PA)、聚对苯二甲酸乙二醇酯(PET)、聚氯乙烯(PVC)、聚乙烯醇(PVA)、聚丙烯腈(PAN)、聚酰亚胺(PI)、透明聚酰亚胺、聚甲基丙烯酸甲酯树脂(PMMA)、聚碳酸酯(PC)、聚丙烯酸酯、聚甲基丙烯酸酯、聚丙烯(PP)、聚苯乙烯(PS)、丙烯腈·丁二烯·苯乙烯共聚物(ABS)、环烯烃共聚物(COC)、环烯烃聚合物(COP)及三醋酸纤维素(TAC)。

阻气支撑体30的厚度根据用途或大小适当地设定即可。在此，根据本发明人的研究，阻气支撑体30的厚度优选10μm～100μm左右。通过将阻气支撑体30的厚度设在该范围，在轻量化或薄型化等方面可获得较佳的结果。

另外，关于阻气支撑体30，可以对在这种塑料薄膜的表面赋予防反射或相位差控制、光提取效率提高等功能。

阻隔层32具有主要显现阻气性的无机层36、成为无机层36的基底层的有机层34及保护无机层36的有机层38。

有机层34成为在阻气层14中主要显现阻气性的无机层36的基底层。

有机层34能够利用各种在公知的阻气膜中用作有机层34的有机层。例如，有机层34是将有机化合物作为主要成分的膜，且基本上能够使用对单体和/或低聚物进行交联而形成的有机层。

阻气层14通过具有成为无机层36的作为基底的有机层34，包埋阻气支撑体30的表面的凹凸或附着于表面的异物等，能够使无机层36的成膜面变得适当。其结果，能够在成膜面的整个面形成无间隙的、无裂缝或裂痕等的适当的无机层36。由此，能够获得如水蒸气渗透率为1×10^-3g/(m²·天)以下且氧渗透率为1×10^-2cc/(m²·天·大气压)以下的高阻隔性能。

并且，阻气层14具有成为该基底的有机层34，由此该有机层34还作为无机层36的缓冲垫而发挥功能。因此，在无机层36从外部受到冲击时等，通过该有机层34的缓冲效果能够防止无机层36的损伤。

由此，在层叠膜10a中，阻气层14适当地显现阻隔性能，从而能够适当地防止因水分或氧而导致的光学功能层12的劣化。

在阻气层14中，作为有机层34的形成材料，能够利用各种有机化合物(树脂/高分子化合物)。

具体而言，优选例示聚酯、丙烯酸树脂、甲基丙烯酸树脂、甲基丙烯酸-马来酸共聚物、聚苯乙烯、透明氟树脂、聚酰亚胺、氟化聚酰亚胺、聚酰胺、聚酰胺酰亚胺、聚醚酰亚胺、纤维素酰化物、聚氨酯、聚醚醚酮、聚碳酸酯、脂环式聚烯烃、聚芳酯、聚醚砜、聚砜、芴环改性聚碳酸酯、脂环改性聚碳酸酯、芴环改性聚酯、丙烯酰基化合物等热塑性树脂、或聚硅氧烷、其他有机硅化合物的膜。它们也可并用多个。

其中，在玻璃化转变温度或强度优异等方面，优选为由自由基聚合性化合物和/或官能团中具有醚基的阳离子聚合性化合物的聚合物构成的有机层34。

其中，尤其除了上述强度以外，在折射率较低、透明性较高且光学特性优异等方面，优选例示以丙烯酸酯和/或甲基丙烯酸酯的单体或低聚物的聚合物为主要成分且玻璃化转变温度为120℃以上的丙烯酸树脂或甲基丙烯酸树脂作为有机层34。其中，尤其优选例示二丙二醇二(甲基)丙烯酸酯(DPGDA)、三羟甲基丙烷三(甲基)丙烯酸酯(TMPTA)、二季戊四醇六(甲基)丙烯酸酯(DPHA)等、以2官能以上、尤其3官能以上的丙烯酸酯和/或甲基丙烯酸酯的单体或低聚物的聚合物为主要成分的、丙烯酸树脂或甲基丙烯酸树脂。并且，还优选使用多个这些丙烯酸树脂或甲基丙烯酸树脂。

通过由这种丙烯酸树脂或甲基丙烯酸树脂形成有机层34，能够在骨架牢固的基底上形成无机层36，因此能够形成更精密且阻隔性高的无机层36。

有机层34的厚度优选为1～5μm。

通过将有机层34的厚度设为1μm以上，更优选使无机层36的成膜面变得适当，从而能够在成膜面的整个面形成没有裂纹或裂缝等的适当的无机层36。

并且，通过将有机层34的厚度设为5μm以下，能够适当地防止因有机层34过厚而引起的有机层34的龟裂或阻气层14的卷曲等问题的产生。

若考虑以上方面，则有机层34的厚度更优选设为1～3μm。

另外，阻气层14具有多个作为基底层的有机层34时，各有机层的厚度可以相同也可以不同。

并且，具有多个有机层34时，各有机层的形成材料可以相同也可以不同。然而，从生产率等的观点考虑，优选由相同材料形成所有的有机层。

有机层34通过涂布法或闪蒸等公知的方法形成即可。

并且，为了提高与成为有机层34的下层的无机层36的粘附性，有机层34优选含有硅烷偶联剂。

在有机层34上将该有机层34作为基底形成无机层36。无机层36是以无机化合物为主要成分的膜，且在阻气层14中主要显现出阻隔性。

作为无机层36，能够利用各种显现阻隔性的包括金属氧化物、金属氮化物、金属碳化物、金属氮氧化物等的膜。

具体而言，优选例示包括氧化铝、氧化镁、氧化钽、氧化锆、氧化钛、氧化铟锡(ITO)等金属氧化物；氮化铝等金属氮化物；碳化铝等金属碳化物；氧化硅、氧化氮化硅、氧碳化硅、氧化氮化碳化硅等硅氧化物；氮化硅、氮化碳化硅等硅氮化物；碳化硅等硅碳化物；它们的氢化物；它们2种以上的混合物；及它们的含氢物质等无机化合物的膜。另外，在本发明中，硅也视作金属。

尤其，就透明性较高且能够显现优异的阻隔性的方面而言，优选例示包含硅氧化物、硅氮化物、硅氧氮化物及硅氧化物等硅化合物的膜。其中，包含氮化硅的膜除了更优异的阻隔性以外，透明性也高，从而尤其优选例示。

另外，阻气膜具有多个无机层36时，无机层36的形成材料可以互相不同。然而，若考虑生产率等，则优选以相同材料形成所有无机层36。

无机层36的厚度根据形成材料适当确定能够显现目标阻隔性的厚度即可。另外，根据本发明人的研究，无机层36的厚度优选为10～200nm。

将无机层36的厚度设为10nm以上，由此能够形成稳定显现充分的阻隔性能的无机层36。并且，无机层36通常若较脆、过厚则有可能产生裂纹或龟裂、剥离等，但是将无机层36的厚度设为200nm以下，由此能够防止产生裂纹。

并且，若考虑到这种方面，则无机层36的厚度优选为10～100nm，更优选为15～75nm。

另外，阻气膜具有多个无机层36时，各无机层36的厚度可以相同也可以不同。

无机层36根据形成材料以公知的方法形成即可。具体而言，可优选例示CCP(Capacitively Coupled Plasma；电容耦合等离子体)-CVD(Chemical Vapor Deposition；化学气相沉积)或ICP(Inductively Coupled Plasma；电感耦合等离子体)-CVD等等离子体CVD、磁控溅射或反应性溅射等溅射、真空蒸镀等气相沉积法。

有机层38为形成于阻隔层32的最表层的层，且为用于保护无机层36的层。并且，有机层38也可具有作为与光学功能层12的粘附层的作用。

作为有机层38，能够利用各种与上述有机层34相同的层。并且，关于有机层38除此以外还能够适用包括接枝共聚物的化合物，所述接枝共聚物以丙烯酸聚合物为主链，在侧链具有末端为丙烯酰基的氨基甲酸酯聚合物及末端为丙烯酰基的氨基甲酸酯低聚物中的至少一者，分子量为10000～3000000，且丙烯酸当量为500g/mol以上。

并且，有机层38的形成方法也与前述有机层34同样地通过涂布法或闪蒸等公知的方法形成即可。有机层38的厚度也依照前述有机层34。

并且，成为阻隔层32的最表层的有机层38的厚度优选为80～1000nm。通过将有机层38的厚度设为80nm以上，能够充分地保护无机层36。并且，在能够防止裂纹并防止透射率降低等的方面，优选将有机层38的厚度设为1000nm以下。

由以上观点，有机层38的厚度更优选为80～500nm。

另外，作为保护层的有机层38与作为基底层的有机层34的形成材料可相同也可不同。然而，从生产率等的观点考虑，优选由相同的材料形成所有的有机层。

并且，为了提高与成为有机层38的下层的无机层36的粘附性，有机层38优选含有硅烷偶联剂。

本发明的层叠膜10a具有通过端面密封层16a覆盖了功能层层叠体11的端面的结构，所述功能层层叠体具有光学功能层12及以夹持光学功能层12的方式层叠的2个阻气层14。另外，功能层层叠体11的端面即为与功能层层叠体11的层叠方向正交的方向的面。

在此，在本发明的层叠膜10a中，关于功能层层叠体11的端面，形成端面密封层16a的区域的表面粗糙度Ra为0.1～2μm。关于这一方面将在后面进行叙述。

如前述，在本发明的层叠膜10a中，阻气层14防止氧或水分从光学功能层12的主表面渗透到光学功能层12。

相对于此，端面密封层16a防止水分或氧从功能层层叠体11的端面渗透到光学功能层12。

如前所述，在包含容易因水分或氧而劣化的量子点的量子点层的两个主表面层叠阻气膜来保护量子点层。然而，仅由阻气膜保护量子点层的两个主表面时，存在水分或氧从未被阻气膜保护的端面渗透，从而导致量子点劣化的问题。

相对于此，为了抑制水分或氧从端面渗透，提出有如下结构等，即用阻气膜保护量子点层的整个面的结构、被2个阻气膜夹住且在量子点层的端面区域形成具有阻隔性的保护层的结构、减小夹住量子点层的2个阻气膜的端部的开口的结构。

然而，很难用阻气膜包覆较薄的量子点层的整个面，从而存在生产率差，并且将阻气膜弯曲时阻隔层破裂而导致阻隔性降低的问题。

并且，当为在被2个阻气膜夹住的量子点层的端面区域形成具有阻隔性的保护层的结构时，作为保护层的材料无法使用具有高阻隔性的材料，阻隔性或耐久性不充分，并且制作这种层叠膜时，由于所有工序为分批方式，因此有生产率极差的问题。

并且，当为减小夹住量子点层的2个阻气膜的端部的开口的结构时，由于端部处的量子点层的厚度变薄，因此存在在端部无法充分显现其功能，能够有效利用的区域的大小变小，且边框部分变大这样的问题。并且，通常，具备高阻隔性的阻隔层硬且脆，所以若突然弯曲具有这种阻隔层的阻气膜，则存在阻隔层破裂，阻隔性降低，从而导致无法抑制水分或氧渗透到量子点层的问题。

相对于此，本发明具有：功能层层叠体11，其具有光学功能层12和层叠于光学功能层12的至少一个主表面的阻气层14；及端面密封层16a，其是覆盖功能层层叠体11的端面中的至少一部分而形成。

通过利用端面密封层16a密封功能层层叠体11的端面，能够抑制水分或氧渗透到光学功能层12中，并能够防止量子点等因水分或氧而劣化，从而能够进一步延长寿命，并能够提高耐久性。

并且，仅仅是在功能层层叠体11的端面形成端面密封层16a，因此没有光学功能层12变薄或阻气层14被弯曲的情况，所以大大地维持能够有效利用光学功能层12的区域，并能够实现窄边框化。

并且，虽在后面进行详述，形成端面密封层16a时，能够在重叠多个功能层层叠体11的状态下形成端面密封层16a的各层，因此能够总括制作多个层叠膜10a，从而能够提高生产率。

在此，本发明的层叠膜10a中，功能层层叠体11的端面的、端面密封层16a的形成区域中的表面粗糙度Ra为0.1～2μm。如前所述，图示例的层叠膜10a在功能层层叠体11的整个端面形成端面密封层16a，因此功能层层叠体11的整个端面的表面粗糙度Ra为0.1～2μm。

并且，本发明的层叠膜10a中，端面密封层16a的厚度为1～5μm。

本发明的层叠膜10a具有这种结构，由此能够通过无空隙和龟裂等的适当的端面密封层16a以高粘附性覆盖功能层层叠体11的端面。

另外，在以下说明中，将“功能层层叠体11的端面中的端面密封层16a的形成区域”也简称为“功能层层叠体11的端面”。

若在功能层层叠体11的端面与端面密封层16a之间产生剥离，则氧或水分等从剥离部渗透，无法防止氧等从功能层层叠体11的端面渗透到光学功能层12。为此，需要功能层层叠体11的端面与端面密封层16a的粘附性充分。

在此，为了提高功能层层叠体11的端面与端面密封层16a的粘附性，为了获得所谓的粘结效应，优选功能层层叠体11的端面具有一定程度的表面粗糙度Ra。

另一方面，为了防止氧等从功能层层叠体11的端面渗透到光学功能层12，需要通过没有空隙或龟裂等的端面密封层16a连续地覆盖功能层层叠体11的端面。然而，相反地，若功能层层叠体11的端面的表面粗糙度Ra过大，则端面密封层16a难以适当地覆盖功能层层叠体11的端面。

并且，为了通过没有空隙或龟裂等的端面密封层16a连续地覆盖功能层层叠体11的端面，需要将端面密封层16a的厚度设为一定程度以上的厚度。相反地，若端面密封层16a过厚，则所谓的边框区域变大而相对于层叠膜10的主表面的面积的有效面积变窄、端面密封层16a中容易产生龟裂。

相对于此，在本发明中，通过将功能层层叠体11的端面的表面粗糙度Ra设为0.1～2μm，并且将端面密封层16a的厚度设为1～5μm，能够通过没有空隙或龟裂等的适当的端面密封层16a以高粘附性覆盖功能层层叠体11的端面。

关于本发明，在由此利用阻气层夹持量子点层而成的量子点膜等、利用阻气层夹持光学功能层而成的层叠膜等中，经长期实现了兼顾了防止因氧或水分引起的光学功能层12的劣化的高耐久性及窄边框化的高品质的层叠膜。

功能层层叠体11的端面的表面粗糙度Ra小于0.1μm时，无法充分发挥粘结效应，因此在功能层层叠体11的端面与端面密封层16a之间产生粘附性不充分的区域。其结果，氧或水分从因剥离或损伤等而产生的功能层层叠体11的端面与端面密封层16a之间的缺陷部渗透，导致光学功能层12劣化。

功能层层叠体11的端面的表面粗糙度Ra超过2μm时，即使加厚端面密封层16a，端面密封层16a也无法充分追随功能层层叠体11的端面，导致在端面密封层16a产生气孔或空隙。认为这是因为，功能层层叠体11的端面过于粗糙，由此基于用于设置端面密封层16a的气相沉积法或液相沉积法的成膜超过形态追随的极限。

若考虑上述方面，功能层层叠体11的端面的表面粗糙度Ra为0.1～2μm，优选为0.5～1μm。

在本发明中，例如能够通过光干涉方式中的非接触式表面形状测量(例如，Mitsubishi Chemical Systems,inc.制造的Micromap、Vertscan2.0、Vertscan3.0等)等测定功能层层叠体11的端面的表面粗糙度Ra(算数平均粗糙度Ra)。或者，也可通过接触式表面形状测量并根据JISB0601(2001)来测定功能层层叠体11的端面的表面粗糙度Ra(JIS：Japanese Industrial Standards：日本工业标准)。

并且，在具有端面密封层16a的状态下测定功能层层叠体11的端面的表面粗糙度Ra时，例如利用与功能层层叠体11的端面正交的线切断层叠膜10，切出包括功能层层叠体11的端面的截面，并通过扫描式电子显微镜拍摄该截面，通过分析拍摄到的图像来检测功能层层叠体11的端面的轮廓，从检测到的端面的轮廓根据JISB0601(2001)测定功能层层叠体11的端面的表面粗糙度Ra即可。

另一方面，端面密封层16a的厚度小于1μm时，即使在功能层层叠体11的端面的表面粗糙度Ra较小的情况下，端面密封层16a也无法充分追随功能层层叠体11的端面，而导致在端面密封层16a产生气孔或空隙。

若端面密封层16a的厚度超过5μm，则产生边框区域变大而导致相对于层叠膜10的面积的有效面积减小，且在端面密封层16a容易产生龟裂等不良情况。关于后者，推测是因为在设置有端面密封层16a时产生内部应力，欲向端面密封层16a的面内方向收缩的力起作用。

若考虑上述方面，端面密封层16a的厚度为1～5μm，优选为2～4μm。

另外，端面密封层16a的厚度，换言之为与功能层层叠体11的端面垂直的方向的端面密封层16a的大小。

端面密封层16a中，氧渗透率优选为1×10^-2cc/(m²·天·大气压)以下，更优选为1×10^-3cc/(m²·天·大气压)以下。

在功能层层叠体11的端面形成氧渗透率低即阻隔性高的端面密封层16a，由此能够通过进一步适当地防止水分或氧渗透到光学功能层12来进一步适当地防止光学功能层12的劣化。

并且，端面密封层16a以覆盖功能层层叠体11的端面的至少一部分的方式形成即可，优选为覆盖端面的整个圆周而形成。

如前所述，当功能层层叠体11具有矩形的平面形状时，只要在至少一个端面或其一部分形成端面密封层16a即可，优选在4个端面整体上形成端面密封层16a。

另外，功能层层叠体11的主表面的形状(层叠膜10a的形状)不限定于矩形，能够设为正方形、圆形、多边形等各种形状。因此，端面保护层只要以覆盖端面中的至少一部分的方式形成即可，优选覆盖整个圆周而形成。

在本发明的层叠膜10中，密封功能层层叠体11的端面的端面密封层可以是单层，也可以包含多层。包含多层的端面密封层可以是2层结构，也可以是3层以上的层结构。

作为一例，如图1所示的层叠膜的端面密封层16a所示，包含多层的端面密封层也可以是2层结构，该2层结构包括：形成于功能层层叠体11的端面的基底层18；及形成于基底层18上且端面密封层16a中的主要显现阻隔性的屏蔽层20。另外，在端面密封层中，上方是每一个层的表面，即为与功能层层叠体11相反的一侧的面。

并且，如图3所示的层叠膜10b那样，端面密封层也可以是在功能层层叠体11的端面具有第1基底层18a，在第1基底层18a上具有第2基底层18b，在第2基底层18b上具有屏蔽层20的3层结构。

即，基底层是形成于主要显现阻隔性的屏蔽层20与功能层层叠体11的端面之间的层。

另外，在本发明的层叠膜中，端面密封层在屏蔽层20上例如可具有保护层、硬涂层、光学补偿层、透明导电层等上涂层。

在本发明的层叠膜中，屏蔽层20也可以是多层结构。

例如，屏蔽层20也可以是如在显现阻隔性的层之间夹住阻气功能小的中间层那样的结构。并且，还例示有在前述阻气层14时例示的具有成为基底的有机层、显现阻隔性的无机层及一组或多组成为无机层的基底层(形成面)的有机层的组合的屏蔽层20。在该情况下，有机层与无机层的组合均为屏蔽层20，并且，在功能层层叠体11的端面形成有机层时，该有机层成为兼做基底层18、屏蔽层20的一部分及基底层18的层。

另外，如图1及图3所示，端面密封层层叠于功能层层叠体11的端面，因此构成端面密封层的各层(基底层18、第1基底层18a、第2基底层18b、屏蔽层20)的层叠方向为与功能层层叠体11的端面垂直的方向，且为与功能层层叠体11的层叠方向正交的方向。

并且，当端面密封层为多层结构时，端面密封层16的厚度为所有层的总计厚度。即，只要是图1所示的层叠膜10a，则端面密封层16a的厚度为基底层18与屏蔽层20的总计厚度，只要是图3所示的层叠膜10b，则端面密封层16b的厚度为第1基底层18a与第2基底层18b及屏蔽层20的总计厚度。另外，端面密封层具有上涂层时为也包含上涂层在内的厚度。

在图1所示的层叠膜10a中，基底层18及屏蔽层20均优选例示金属层(包含金属的层)。在图3所示的层叠膜10b中，第1基底层18a、第2基底层18b及屏蔽层20也均优选例示金属层。

并且，当屏蔽层20为金属层时，屏蔽层20优选为通过电镀形成的金属镀层。通过将屏蔽层20设为金属镀层，以高包覆性(润湿性)覆盖形成面的整个面，作为屏蔽层20能够形成具有所期望的厚度的细致的金属层，因此能够形成阻隔性高的端面密封层。

并且，基底层18、第1基底层18a及第2基底层18b优选为通过溅射法、真空蒸镀法、离子镀法及等离子体CVD法中的任一方法而形成的金属层。其中，更优选为粘附性良好，能够低温成膜的通过溅射法形成的金属层。

功能层层叠体11主要由树脂形成，因此即使通过电镀在功能层层叠体11的端面直接形成金属镀层作为屏蔽层20，由于没有导电路径，所以无法形成适当的金属层。

相对于此，通过在功能层层叠体11的端面具有金属层，能够提高功能层层叠体11与端面密封层的粘附性。并且，通过在屏蔽层20的下层具有金属层，由于该金属层作为电极而发挥功能，因此能够适当地形成金属镀层且能够优选形成致密且阻隔性高的基于金属电镀的屏蔽层20。并且，进行电镀处理时，该第1层保护功能层层叠体11，从而能够防止功能层层叠体11受损。

另外，如图3所示的端面密封层16b那样，具有第1基底层18a及第2基底层18b，通过第1基底层18a增强与功能层层叠体11的端面的粘附性，通过第2基底层18b确保高导电性，从而能够形成粘附性及阻隔性更优异的端面密封层16b。

另外，还考虑将端面密封层设为通过溅射法、真空蒸镀法、离子镀法及等离子体CVD法中的任一方法形成的金属层仅一层。然而，在该情况下，虽然能够使与功能层层叠体11的粘附性良好，但难以形成较厚的厚度，或者较厚地形成时生产率非常差，所以不得不减薄。因此，无法在功能层层叠体11的端面以均匀的厚度形成无气孔或空隙的端面密封层，无法获得充分的阻隔性。

相对于此，通过具有用溅射法、真空蒸镀法、离子镀法及等离子体CVD法中的任一方法形成的金属性的基底层及作为屏蔽层20的金属镀层，能够使与功能层层叠体的粘附性良好，并且能够获得充分的阻隔性。

包含金属电镀的屏蔽层20的厚度优选比基底层18的厚度及第1基底层18a与第2基底层18b的总计厚度厚。即，包含金属电镀的屏蔽层20的厚度优选比金属制的基底层的厚度厚。

通过将包含金属电镀的屏蔽层20的厚度设为比金属制的基底层厚，能够更可靠地显现充分的阻隔性。

另外，基底层18的厚度、第1基底层18a的厚度、第2基底层18b的厚度、屏蔽层20的厚度为与功能层层叠体11的端面垂直的方向上的厚度。

具体而言，从导电性、与功能层层叠体11的粘附性、生产率等的观点考虑，基底层18的厚度优选设为0.001～0.5μm，更优选设为0.01～0.3μm。

并且，当形成第1基底层18a及第2基底层18b时，从导电性、与功能层层叠体11的粘附性、生产率等的观点考虑，第1基底层18a优选设为0.001～0.5μm，更优选设为0.01～0.3μm，另外，第2基底层18b优选设为0.001～0.5μm，更优选设为0.01～0.3μm。

另一方面，从确保阻隔性或生产率等的观点考虑，包含金属电镀的屏蔽层20的厚度优选设为0.1～5μm，更优选设为1～5μm。

当由金属形成基底层18、第1基底层18a及第2基底层18b时，形成材料能够利用各种能够通过前述溅射法、真空蒸镀法、离子镀法及等离子体CVD法中的任一方法成膜的金属。

具体而言，优选包含选自包括铝、钛、铬、铜及镍的组中的至少一种或它们中的至少一种的合金。其中，作为第1基底层18a，在粘附性方面，优选例示钛。

在能够通过由这些金属形成基底层18、第1基底层18a及第2基底层18b提高功能层层叠体11的端面与端面密封层的粘附性，且能够通过电镀适当地形成屏蔽层20等方面是优选的。

并且，屏蔽层20的形成材料能够利用各种能够进行电镀的金属。

具体而言，优选为包含选自包括铝、钛、铬、镍、锡、铜、银及金的组中的至少一种或它们中的至少一种的合金。

通过由这些金属形成屏蔽层20，利用电镀形成致密且阻隔性高的屏蔽层20，从而能够提高端面密封层的阻隔性。

基底层18及屏蔽层20的形成材料可以是相同金属，也可以是不同金属。

并且，第1基底层18a、第2基底层18b及屏蔽层20的形成材料也可以是相同金属，也可以是不同的金属。例如，可由铜等相同的金属形成第2基底层18b及屏蔽层20，只有第1基底层18a由钛等不同的金属形成。

另外，将端面密封层设为多层金属层时，也能够利用除此以外的结构。

例如，也可以是在金属制的基底层18上通过电镀形成屏蔽层20，在屏蔽层20上与基底层18同样地通过溅射法、真空蒸镀法、离子镀法及等离子体CVD法中的任一方法形成有金属层作为上涂层的结构。

在本发明的层叠膜10a中，将端面密封层16a的屏蔽层20设为金属镀层时，也可将基底层18作为有机层。即，本发明的层叠膜10a也能够适用具有有机层作为基底层18且具有基于金属电镀的金属层作为屏蔽层20的端面密封层16a。

或者，本发明的层叠膜在将端面密封层16a的屏蔽层20设为金属镀层时，在作为第1基底层18a的有机层上与之前同样地形成金属制的第2基底层18b或另一金属制的第3基底层(参考图3)，并在其上通过金属电镀形成屏蔽层20。即，本发明的层叠膜也能够适用端面密封层，该端面密封层具有有机层作为第1基底层18a，具有金属层作为第2基底层18b，具有基于金属电镀的金属层作为屏蔽层20，或进一步在第2基底层18b与屏蔽层20之间具有金属层作为第3基底层。

通过具有作为基底层18(第1基底层18a)的有机层，使屏蔽层20的形成面变得适当，覆盖功能层层叠体11的端面的整个面而形成适当的屏蔽层20，并能够形成阻隔性高的端面密封层。

通过具有作为基底层18的有机层，有机层还发挥缓冲垫的作用，因此在屏蔽层20从外部受到冲击时等，通过基底层18的缓冲效果能够防止无机层36的损伤。

由此，在层叠膜10a中，阻气层14适当地显现阻隔性能，从而能够适当地防止因水分或氧而导致的光学功能层12的劣化。

作为基底层18的有机层的形成材料，能够利用各种有机化合物(树脂/高分子化合物)。

具体而言，优选例示聚酯、丙烯酸树脂、甲基丙烯酸树脂、甲基丙烯酸-马来酸共聚物、聚苯乙烯、透明氟树脂、聚酰亚胺、氟化聚酰亚胺、聚酰胺、聚酰胺酰亚胺、聚醚酰亚胺、纤维素酰化物、聚氨酯、聚醚醚酮、聚碳酸酯、脂环式聚烯烃、聚芳酯、聚醚砜、聚砜、芴环改性聚碳酸酯、脂环改性聚碳酸酯、芴环改性聚酯、丙烯酰基化合物等热塑性树脂、或聚硅氧烷、其他有机硅化合物的膜。它们中，可并用多个。

其中，在玻璃化转变温度或强度优异等方面，优选为由自由基聚合性化合物和/或官能团中具有醚基的阳离子聚合性化合物的聚合物构成的有机层。

其中，尤其除了上述强度之外，在折射率较低、透明性较高且光学特性优异等方面，优选例示以丙烯酸酯和/或甲基丙烯酸酯的单体或低聚物的聚合物为主要成分且玻璃化转变温度为120℃以上的丙烯酸树脂或甲基丙烯酸树脂作为有机层34。其中，尤其优选例示二丙二醇二(甲基)丙烯酸酯(DPGDA)、三羟甲基丙烷三(甲基)丙烯酸酯(TMPTA)、二季戊四醇六(甲基)丙烯酸酯(DPHA)等、以2官能以上、尤其3官能以上的丙烯酸酯和/或甲基丙烯酸酯的单体或低聚物的聚合物为主要成分的、丙烯酸树脂或甲基丙烯酸树脂。并且，还优选使用多个这些丙烯酸树脂或甲基丙烯酸树脂。

通过由这种丙烯酸树脂或甲基丙烯酸树脂形成作为基底层18的有机层，能够在骨架牢固的基底上形成屏蔽层20，因此能够形成更精密且阻隔性更高的屏蔽层20。

作为基底层18的有机层的厚度优选为1～3μm。

通过将有机层的厚度设为1μm以上，能够使屏蔽层20的成膜面变得适当，从而能够在整个成膜面形成适当的屏蔽层20。

并且，在通过将有机层的厚度设为3μm以下，能够实现窄边框化并适当地防止有机层的龟裂产生或由内部应力引起的粘附不良等方面是优选的。

另外，如后述，具有多层作为基底层18的有机层时，各有机层的厚度可以相同也可不同。

并且，具有多层有机层时，各有机层的形成材料可以相同也可不同，但从生产率等方面考虑，优选由相同的材料形成所有有机层。

作为基底层18的有机层通过涂布法或闪蒸等公知的方法形成即可。

并且，为了提高与屏蔽层20的粘附性，作为基底层18的有机层34优选含有硅烷偶联剂。

在本发明的层叠膜10中，当利用有机层作为基底层18时，也能够适当地利用无机层作为屏蔽层20。即，本发明的层叠膜10a也能够适当地利用具有有机层作为基底层18，且具有无机层作为屏蔽层20的端面密封层16a。

即，端面密封层也能够适当地利用前述阻气层14中的有机无机的层叠结构。并且，具有有机无机的层叠结构的端面密封层可以是具有多组有机层与无机层的组合的层。

作为屏蔽层20的无机层能够利用各种显现阻隔性的包括金属氧化物、金属氮化物、金属碳化物、金属碳氮化物等无机化合物的膜。

具体而言，优选例示包括氧化铝、氧化镁、氧化钽、氧化锆、氧化钛、氧化铟锡(ITO)等金属氧化物；氮化铝等金属氮化物；碳化铝等金属碳化物；氧化硅、氧化氮化硅、氧碳化硅、氧化氮化碳化硅等硅氧化物；氮化硅、氮化碳化硅等硅氮化物；碳化硅等硅碳化物；它们的氢化物；它们2种以上的混合物；及它们的含氢物质等无机化合物的膜。在本发明中，如前述，硅也视作金属。

尤其，就能够显现优异的阻气性方面而言，优选例示包含硅氧化物、硅氮化物、硅氧氮化物及硅氧化物等硅化合物的膜。其中，包含氮化硅的膜除了更优异的阻气性以外，透明性也高，从而尤其优选例示。

另外，端面密封层的屏蔽层20具有多个无机层时，无机层的形成材料可互相不同。然而，若考虑生产率等，优选由相同的材料形成所有无机层。

关于作为屏蔽层20的无机层的厚度，根据形成材料适当确定能够显现目标阻气性的厚度即可。另外，根据本发明人的研究，无机层的厚度优选为10～200nm。

将作为屏蔽层20的无机层的厚度设为10nm以上，由此能够形成稳定显现充分的阻气性能的无机层。并且，无机层通常若较脆、过厚则有可能产生裂纹或龟裂、剥离等，但是将无机层的厚度设为200nm以下，由此能够防止产生裂纹。

并且，若考虑这种发面，作为屏蔽层20的无机层的厚度优选为10～100nm，更优选为15～75nm。

另外，屏蔽层20具有多个无机层时，各无机层的厚度可相同也可不同。

无机层根据形成材料以公知的方法形成即可。具体而言，优选例示CCP-CVD或ICP-CVD等等离子体CVD、磁控管溅射或反应性溅射等溅射、真空蒸镀等气相沉积法。

并且，作为屏蔽层20的无机层也能够利用使用聚硅氮烷等的涂布形的无机层。

作为这种涂布形的无机层，能够适当地利用日本特开2011-161302号公报、日本特开2012-56130号公报及日本特开2012-61659号公报中记载的无机层。

当使用无机层作为屏蔽层20时，在屏蔽层20的表面也可形成作为保护层而发挥功能的有机层作为上涂层。

作为上涂层的有机层能够利用各种与作为前述基底层18的有机层相同的层。

并且，作为上涂层的有机层的厚度优选为80～1000nm。通过将有机层的厚度设为80nm以上，能够充分地保护屏蔽层20。并且，在能够防止裂纹并防止透射率降低等的方面，优选有机层的厚度设为1000nm以下。从以上观点考虑，作为上涂层的有机层的厚度更优选为80～500nm。

另外，作为上涂层的有机层和作为基底层18的有机层的形成材料可以相同也可不同。然而，从生产率等方面考虑，优选由相同材料形成所有有机层。

并且，为了提高与成为下层的屏蔽层20的粘附性，作为上涂层的有机层优选含有硅烷偶联剂。

如前述，在本发明中，如图4中示意地示出的层叠膜10c那样，端面密封层16c可以是单层。即，端面密封层16c可以仅由屏蔽层形成。

作为单层的端面密封层16c，能够利用包括具有阻隔性的树脂的端面密封层。

成为端面密封层16c的具有阻隔性的树脂层能够由能够形成显现目标阻隔性的端面密封层16c的公知的各种树脂材料形成。在以下说明中，将“具有阻隔性的树脂层”也称为“阻隔性树脂层”。

在此，关于阻隔性树脂层，通常是制备包含主要构成端面密封层16c即主要构成阻隔性树脂层的固化性化合物(单体、二聚体、三聚体、低聚物、聚合物等)、根据需要添加的交联剂和表面活性剂等添加剂、有机溶剂等的组合物，将该组合物涂布于端面密封层16c的形成面，对组合物进行干燥，并根据需要通过紫外线照射和加热等聚合(交联/固化)主要成为阻隔性树脂层的固化性化合物而形成。

在阻隔性树脂层中，固化性化合物能够广泛采用具有聚合性基团的化合物。聚合性基团的种类没有特别限定，优选为(甲基)丙烯酸酯基、乙烯基或环氧基，更优选为(甲基)丙烯酸酯基，进一步优选为丙烯酸酯基。另外，具有2个以上聚合性基团的聚合性单体各自的聚合性基团可相同也可不同。

＜(甲基)丙烯酸酯系＞

从固化后的固化覆膜的透明性、粘附性等的观点考虑，优选单官能或多官能(甲基)丙烯酸酯单体等(甲基)丙烯酸酯化合物或其聚合物、预聚物等。

＜＜2官能的化合物＞＞

作为具有2个聚合性基团的聚合性单体，能够列举具有2个含烯属不饱和键的基团的2官能聚合性不饱和单体。2官能的聚合性不饱和单体适于使组合物低粘度化。在本发明中，优选反应性优异且没有残留催化剂等问题的(甲基)丙烯酸酯系化合物。

尤其，新戊二醇二(甲基)丙烯酸酯、1,9-壬基二醇二(甲基)丙烯酸酯、二丙二醇二(甲基)丙烯酸酯、三丙二醇二(甲基)丙烯酸酯、四乙二醇二(甲基)丙烯酸酯、羟基新戊酸新戊二醇二(甲基)丙烯酸酯、聚乙二醇二(甲基)丙烯酸酯、二环戊烯基(甲基)丙烯酸酯、二环戊烯酰氧乙基(甲基)丙烯酸酯、二环戊基二(甲基)丙烯酸酯等适用于本发明。

从将涂布液的粘度调整为优选的范围的观点考虑，2官能(甲基)丙烯酸酯单体的用量相对于组合物中所包含的固化性化合物的总量100质量份，优选设为5质量份以上，更优选设为10～80质量份。

＜＜3官能以上的化合物＞＞

作为具有3个以上聚合性基团的聚合性单体，能够列举具有3个以上含烯属不饱和键的基团的多官能聚合性不饱和单体。这些多官能的聚合性不饱和单体在机械强度赋予方面是优异的。在本发明中，优选反应性优异且没有残留催化剂等的问题的(甲基)丙烯酸酯系化合物。

具体而言，优选为ECH改性甘油三(甲基)丙烯酸酯、EO改性甘油三(甲基)丙烯酸酯、PO改性甘油三(甲基)丙烯酸酯、季戊四醇三丙烯酸酯、季戊四醇四丙烯酸酯、EO改性磷酸三丙烯酸酯、三羟甲基丙烷三(甲基)丙烯酸酯、己内酯改性三羟甲基丙烷三(甲基)丙烯酸酯、EO改性三羟甲基丙烷三(甲基)丙烯酸酯、PO改性三羟甲基丙烷三(甲基)丙烯酸酯、三(丙烯酰基氧基乙基)异氰脲酸酯、二季戊四醇六(甲基)丙烯酸酯、二季戊四醇五(甲基)丙烯酸酯、己内酯改性二季戊四醇六(甲基)丙烯酸酯、二季戊四醇羟基五(甲基)丙烯酸酯、烷基改性二季戊四醇五(甲基)丙烯酸酯、二季戊四醇聚(甲基)丙烯酸酯、烷基改性二季戊四醇三(甲基)丙烯酸酯、二三羟甲基丙烷四(甲基)丙烯酸酯、季戊四醇乙氧基四(甲基)丙烯酸酯、季戊四醇四(甲基)丙烯酸酯等。

其中，在本发明中尤其优选使用EO改性甘油三(甲基)丙烯酸酯、PO改性甘油三(甲基)丙烯酸酯、三羟甲基丙烷三(甲基)丙烯酸酯、EO改性三羟甲基丙烷三(甲基)丙烯酸酯、PO改性三羟甲基丙烷三(甲基)丙烯酸酯、二季戊四醇六(甲基)丙烯酸酯、二季戊四醇五(甲基)丙烯酸酯、季戊四醇乙氧基四(甲基)丙烯酸酯、季戊四醇四(甲基)丙烯酸酯。

多官能(甲基)丙烯酸酯单体的用量相对于涂布液中所含有的固化性化合物的总量100质量份，从固化后的光学功能层的涂膜强度的观点考虑，优选设为5质量份以上，从涂布液的凝胶化抑制的观点考虑，优选设为95质量份以下。

＜＜单官能化合物＞＞

作为单官能(甲基)丙烯酸酯单体能够列举丙烯酸及甲基丙烯酸、它们的衍生物，更详细而言能够列举在分子内具有一个(甲基)丙烯酸的聚合性不饱和键((甲基)丙烯酰基)的单体。作为它们的具体例在以下列举化合物，但本发明并不限定于此。

可列举：(甲基)丙烯酸甲酯、(甲基)丙烯酸正丁酯、(甲基)丙烯酸异丁酯、(甲基)丙烯酸2-乙基己酯、(甲基)丙烯酸异壬酯、(甲基)丙烯酸正辛酯、(甲基)丙烯酸月桂酯、(甲基)丙烯酸硬脂酯等烷基的碳原子数为1～30的(甲基)丙烯酸烷酯；(甲基)丙烯酸苄酯等芳烷基的碳原子数为7～20的(甲基)丙烯酸芳烷酯；(甲基)丙烯酸丁氧基乙酯等烷氧基烷基的碳原子数为2～30的(甲基)丙烯酸烷氧基烷酯；N,N-二甲基胺基乙基(甲基)丙烯酸酯等(单烷基或二烷基)胺基烷基的总碳原子数为1～20的胺基烷基(甲基)丙烯酸酯；二乙二醇乙基醚的(甲基)丙烯酸酯、三乙二醇丁基醚的(甲基)丙烯酸酯、四乙二醇单甲基醚的(甲基)丙烯酸酯、六乙二醇单甲基醚的(甲基)丙烯酸酯、八乙二醇的单甲基醚(甲基)丙烯酸酯、九乙二醇的单甲基醚(甲基)丙烯酸酯、二丙二醇的单甲基醚(甲基)丙烯酸酯、七丙二醇的单甲基醚(甲基)丙烯酸酯、四乙二醇的单乙基醚(甲基)丙烯酸酯等亚烷基链的碳原子数为1～10且末端烷基的醚碳原子数为1～10的聚亚烷二醇烷基醚的(甲基)丙烯酸酯；六乙二醇苯基醚的(甲基)丙烯酸酯等亚烷基链的碳原子数为1～30且末端芳基醚的碳原子数为6～20的聚亚烷二醇芳基醚的(甲基)丙烯酸酯；(甲基)丙烯酸环己酯、(甲基)丙烯酸二环戊酯、(甲基)丙烯酸异冰片酯、甲醛加成环癸三烯(甲基)丙烯酸酯等具有脂环结构的总碳原子数4～30的(甲基)丙烯酸酯；(甲基)丙烯酸十七氟癸酯等总碳原子数4～30的(甲基)丙烯酸氟化烷酯；(甲基)丙烯酸2-羟基乙酯、(甲基)丙烯酸3-羟基丙酯、(甲基)丙烯酸4-羟基丁酯、三乙二醇的单(甲基)丙烯酸酯、四乙二醇单(甲基)丙烯酸酯、六乙二醇单(甲基)丙烯酸酯、八丙二醇单(甲基)丙烯酸酯、甘油的单或二(甲基)丙烯酸酯等具有羟基的(甲基)丙烯酸酯；(甲基)丙烯酸环氧丙酯等具有环氧丙基的(甲基)丙烯酸酯；四乙二醇单(甲基)丙烯酸酯、六乙二醇单(甲基)丙烯酸酯、八丙二醇单(甲基)丙烯酸酯等亚烷基链的碳原子数为1～30的聚乙二醇单(甲基)丙烯酸酯；(甲基)丙烯酰胺、N,N-二甲基(甲基)丙烯酰胺、N-异丙基(甲基)丙烯酰胺、2-羟基乙基(甲基)丙烯酰胺、丙烯酰基吗啉等(甲基)丙烯酰胺等。

从将涂布液的粘度调整为优选的范围的观点考虑，单官能(甲基)丙烯酸酯单体的用量相对于涂布液所包含的固化性化合物的总量100质量份，优选设为10质量份以上，更优选设为10～80质量份。

＜环氧类化合物及其他＞

作为用于阻隔性树脂层的聚合性单体，能够列举：具有环氧基、氧杂环丁烷基等能够开环聚合的环状醚基等环状基团的化合物。作为这种化合物，更优选能够列举含有具有环氧基的化合物(环氧化合物)的化合物。通过将具有环氧基或氧杂环丁烷基的化合物与(甲基)丙烯酸酯类化合物组合使用，与阻隔层的粘附性有提高的趋势。

作为具有环氧基的化合物，例如能够列举：多元酸的聚环氧丙酯类、多元醇的聚缩水甘油醚类、聚氧化烯二醇的聚缩水甘油醚类、芳香族多元醇的聚缩水甘油醚类、芳香族多元醇的聚缩水甘油醚类的加氢化合物类、氨基甲酸酯聚环氧化合物及环氧化聚丁二烯类等。这些化合物也能够单独使用其1种，并且，也能够混合其2种以上使用。

作为除此以外能够优选使用的具有环氧基的化合物，例如能够例示：脂肪族环状环氧化合物、双酚A二缩水甘油醚、双酚F二缩水甘油醚、双酚S二缩水甘油醚、溴化双酚A二缩水甘油醚、溴化双酚F二缩水甘油醚、溴化双酚S二缩水甘油醚、水添双酚A二缩水甘油醚、水添双酚F二缩水甘油醚、水添双酚S二缩水甘油醚、1,4-丁二醇二缩水甘油醚、1,6-己二醇二缩水甘油醚、甘油三缩水甘油醚、三羟甲基丙烷三缩水甘油醚、聚乙二醇二缩水甘油醚、聚丙二醇二缩水甘油醚类；在乙二醇、丙二醇、甘油等脂肪族多元醇中加成1种或2种以上的环氧烷烃而得的聚醚多元醇的聚缩水甘油醚类；脂肪族长链二元酸的二缩水甘油酯类；脂肪族高级醇的单缩水甘油醚类；苯酚、甲酚、丁基苯酚或在它们中附加环氧烷而得到的聚醚醇的单缩水甘油醚类；高级脂肪酸的环氧丙酯类等。

这些成分中，优选为脂肪族环状环氧化合物、双酚A二缩水甘油醚、双酚F二缩水甘油醚、氢化双酚A二缩水甘油醚、氢化双酚F二缩水甘油醚、1,4-丁烷二醇二缩水甘油醚、1,6-己烷二醇二缩水甘油醚、甘油三缩水甘油醚、三羟甲基丙烷三缩水甘油醚、新戊二醇二缩水甘油醚、聚乙二醇二缩水甘油醚、聚丙二醇二缩水甘油醚。

作为能够适合用作具有环氧基或氧杂环丁烷基的化合物的市售品，能够列举：UVR-6216(Union Carbide Corporation制造)、Glycidol、AOEX24、CyclomerA200、Celloxide2021P、Celloxide8000(以上，DAICEL CHEMICAL INDUSTRIES,LTD.制造)、Sigma-Aldrich Corporation制造的4-乙稀基环己稀二氧化物、Epikote828、Epikote812、Epikotel031、Epikote872、EpikoteCT508(以上，Yuka Shell Co.,Ltd.制造)、KRM-2400、KRM-2410、KRM-2408、KRM-2490、KRM-2720、KRM-2750(以上，Asahi Denka Kogyo Ltd.制造)等。它们能够单独使用1种或组合2种以上使用。

并且，具有这些环氧基及氧杂环丁烷基的化合物的制备方法没有限定，例如能够参考如下文献来合成：丸善KK出版、第四版实验化学讲座20有机合成II、213～、平成4年、Ed.by Alfred Hasfner,The chemistry OF heterocyclic compounds-Small RingHeterocycles part3Oxiranes,John&Wiley and Sons,An Interscience Publication,New York,1985、吉村、粘接、29卷12号、32、1985、吉村、粘接、30卷5号、42、1986、吉村、粘接、30卷7号、42、1986、日本特开平11-100378号公报、日本专利第2906245号公报、日本专利第2926262号公报等。

阻隔性树脂层中使用的固化性化合物可使用乙烯基醚化合物。

乙烯基醚化合物能够适当地选择公知的乙烯基醚化合物，例如，能够优选采用日本特开2009-73078号公报的段落号0057中记载的乙烯基醚化合物。

这些乙烯基醚化合物例如能够通过Stephen.C.Lapin,Polymers Paint ColourJournal.179(4237)、321(1988)中记载的方法即多元醇或多元酚与乙炔的反应、或多元醇或多元酚与卤化烷基乙烯基醚的反应而合成，它们能够单独使用一种或组合两种以上使用。

在形成阻气制树脂层的组合物中，从低粘度化、高硬度化的观点来看，也能够使用日本特开2009-73078号公报中记载的具有反应性基团的硅倍半氧烷化合物。

＜填料＞

从降低透氧性或透湿性的观点考虑，优选阻隔性树脂层中含有填料。

关于填料，能够利用球状、针状、线上、扁平状、层状、不规则形状、多孔、凝聚物等任意的形状及形态的物质，在发挥增加渗透路径长度的效果的方面，优选为针状、扁平状或层状。从能够使膜厚变薄的观点考虑，更优选为针状、层状。

作为填料的形成材料，能够无限制地使用无机化合物或有机化合物，从提高阻氧性的观点考虑，优选为无机化合物及结晶性有机高分子。

作为无机化合物填料，优选使用能够用作另外说明的触变剂的各种层状化合物。并且，也能够优选使用碳纳米管、石墨烯等碳材料。

作为结晶性有机高分子填料，能够使用被称作纤维素纳米纤维或纤维素纳米晶须的、结晶性纤维素的针状结晶体、或其他结晶性高分子、例如聚酰胺或聚酰亚胺、聚乙烯醇、乙烯-乙烯醇共聚物等粒子化物或纤维化状物、晶须等。

这些填料的含量根据所使用的填料的性质或分散性、粘度上升效果的显现程度适当地确定即可。粘度上升效果即为作为触变剂的功能。

若填料过少，则有可能无法充分获得阻隔性的提高效果，若过剩，则因脆性恶化所导致的龟裂或空隙的产生反而有可能损害阻隔性。并且，这些填料有时兼做作为触变剂的功能，也应根据前述触变剂的添加量的观点来设定最佳添加量。

鉴于以上方面，填料的含量在用于形成阻隔性树脂层的组合物中，相对于固化性化合物100质量份，优选为0.1～100质量份，更优选为0.2～50质量份，尤其优选为0.5～20质量份。

＜触变剂＞

用于形成阻隔性树脂层的组合物根据需要可含有触变剂。

触变剂为无机化合物或有机化合物。

＜＜无机化合物＞＞

触变剂的优选的一个方式为无机化合物的触变剂，例如能够优选使用针状化合物、链状化合物、扁平状化合物、层状化合物。其中，优选为层状化合物。

作为层状化合物没有特别限制，可列举：滑石、云母、长石、高岭土(kaolin clay)、叶腊石(Pyrophyllite clay)、绢云母(sericite)、膨润土、蒙脱石·蛭石类(蒙脱土、贝得石、绿脱石、皂石等)、有机膨润土、有机蒙脱石等。

它们能够单独使用或组合2种以上使用。作为市售的层状化合物，例如作为无机化合物，可列举：Crown Clay、Burgess Clay#60、Burgess Clay KF、Optiwhite(以上，Shiraishi Kogyo Co.,Ltd.制造)、Kaolin JP-100、NN Kaolin、ST Kaolin、Hardsil(以上，TSUCHIYAKOGYO CO.,LTD.制造)、ASP-072、SatentonPlus、Translink37、HydrousDelamiNCD(以上，ANGEL HEART CO.,LTD.制造)、SY Kaolin、OS Clay、HA Clay、MCHard Clay(以上，MARUO CALCIUM CO.,LTD.制造)、Lucentite SWN、Lucentite SAN、Lucentite STN、Lucentite SEN、Lucentite SPN(以上，Co-op Chemical Co.,Ltd.制造)、Smecton(KUNIMINE INDUSTRIES CO.,LTD.制造)、Ben-Gel、Ben-Gel FW、S-Ben、S-Ben74、Organite、Organite T(以上，HOJUN Co.,Ltd.制造)、穂高印、Orben、250M、Bentone 34、Bentone 38(以上，Wilbur-Ellis公司制)、Raponite、Raponite RD、Raponite RDS(以上，NipponSilica Industrial Co.,Ltd.制造)等。这些化合物也可分散在溶剂中。

添加于用于形成阻隔性树脂层的组合物中的触变剂中，即使在层状无机化合物中也是由xM(I)₂O·ySiO₂表示的硅酸盐化合物(也有氧化数为2、3相当于的M(II)O、M(III)₂O₃的化合物。x、y表示正数)，更优选的化合物为水辉石、膨润土、蒙皂石、蛭石等膨润性层状粘土矿物。

尤其优选能够使用经有机阳离子修饰的层状(粘土)化合物，例如可列举对硅酸钠·镁(水辉石)的钠离子经如下的铵离子交换而得的化合物。另外，经有机阳离子修饰的层状化合物为对硅酸盐化合物的钠等层间阳离子经有机阳离子化合物交换而得的化合物。

作为铵离子的例，可列举：具有碳原子数6至18的烷基链的单烷基三甲基铵离子、二烷基二甲基铵离子、三烷基甲基铵离子、氧乙烯链为4至18的二聚氧乙烯椰子油烷基甲基铵离子、双(2-羟基乙基)椰子油烷基甲基铵离子、氧丙烯链为4至25的聚氧丙烯甲基二乙基铵离子等。这些铵离子能够单独使用或组合2种以上使用。

作为对硅酸钠·镁的钠离子经铵离子交换而得的有机阳离子修饰硅酸盐矿物的制造方法，使硅酸钠·镁分散于水中且进行充分搅拌之后，放置16小时以上，调整4质量％的分散液。一边搅拌该分散液，一边在硅酸钠·镁中添加30质量％～200质量％的所需要的铵盐。添加之后，发生阳离子交换，层间含有铵盐的水辉石不溶于水而沉淀，因此过滤并取出沉淀，进行干燥，由此获得。制备时，为了加快分散，也可进行加热。

作为烷基铵改性硅酸盐矿物的市售品，可列举Lucentite SAN、Lucentite SAN-316、Lucentite STN、Lucentite SEN、Lucentite SPN(以上为Co-op Chemical Co.,Ltd.制造)等，能够单独使用或组合2种以上使用。

在本发明中，作为无机化合物的触变剂，能够使用二氧化硅、氧化铝、氮化硅、二氧化钛、碳酸钙、氧化锌等。这些化合物根据需要也能够在表面进行调节亲水性或疏水性的处理。

＜＜有机化合物＞＞

触变剂也能够使用有机化合物的触变剂。

作为有机化合物的触变剂，可列举氧化聚烯烃、改性脲等。

氧化聚烯烃可自制，也可使用市售品。作为市售品，例如可列举Disparlon 4200-20(Kusumoto Chemicals,Ltd.制造)、FlownonSA300(KYOEISHA CHEMICAL Co.,LTD制造)等。

改性脲为异氰酸酯单体或其加合物与有机胺的反应物。改性脲可自制，也可使用市售品。作为市售品，例如可列举BYK410(BYK Additives&Instruments制造)等。

＜＜含量＞＞

关于触变剂的含量，在涂布液中，相对于100质量份的固化性化合物，优选为0.15～20质量份，更优选为0.2～10质量份，尤其优选为0.2～8质量份。尤其为无机化合物的触变剂时，相对于100质量份的固化性化合物，若为20质量以下，则脆性处于优化状态。

＜聚合引发剂＞

用于形成阻隔性树脂层的组合物根据需要可含有聚合引发剂。

作为聚合引发剂，能够利用公知的聚合引发剂。关于聚合引发剂，例如能够参考日本特开2013-043382号公报的段落0037。聚合引发剂优选为组合物中所含的固化性化合物的总量的0.1摩尔％以上，更优选为0.5～2摩尔％。并且，在除了挥发性有机溶剂以外的组合物中，以质量％计优选包含0.1～10质量％，更优选包含0.2～8质量％。

＜硅烷偶联剂＞

用于形成阻隔性树脂层的组合物根据需要可含有硅烷偶联剂。

由包含硅烷偶联剂的组合物所形成的阻隔性树脂层通过硅烷偶联剂而与功能层层叠体11的端面的粘附性变得牢固，因此能够获得优异的耐久性。

作为硅烷偶联剂，能够毫无限制地使用公知的硅烷偶联剂。作为从粘附性的观点考虑而优选的硅烷偶联剂，能够列举日本特开2013-43382号公报中记载的由下述通式(1)表示的硅烷偶联剂。

[化1]

(通式(1)中，R₁～R₆分别独立地为取代或未取代的烷基或芳基。其中，R₁～R₆中的至少一个为含自由基聚合性的碳-碳双键的取代基。)

关于R₁～R₆，除了为含自由基聚合性的碳-碳双键的取代基的情况以外，优选为未取代的烷基或未取代的芳基。作为烷基优选为碳原子数1～6的烷基，更优选为甲基。作为芳基优选为苯基。R₁～R₆尤其优选为甲基。

优选R₁～R₆中的至少一个具有含自由基聚合性的碳-碳双键的取代基，R₁～R₆的2个为含自由基聚合性的碳-碳双键的取代基。另外，尤其优选R₁～R₃中具有含自由基聚合性的碳-碳双键的取代基的个数为1个，R₄～R₆中具有含自由基聚合性的碳-碳双键的取代基的基团个数为1个。

由通式⑴表示的硅烷偶联剂包含2个以上的自由基聚合性的碳-碳双键的取代基中，各自的取代基可以相同，也可以不同，优选为相同。

含自由基聚合性的碳-碳双键的取代基，优选为由-X-Y表示。在此，X为单键、碳原子数1～6的亚烷基、亚芳基，优选为单键、亚甲基、亚乙基、亚丙基、亚苯基。Y为自由基聚合性的碳-碳双键基，优选为丙烯酰氧基、甲基丙烯酰氧基、丙烯酰基氨基、甲基丙烯酰基氨基、乙烯基、丙烯基、乙烯氧基、乙烯基磺酰基，更优选为(甲基)丙烯酰氧基。

并且，R₁～R₆也可具有除了含自由基聚合性的含碳-碳双键的取代基以外的取代基。作为取代基的例，可列举：烷基(例如，甲基、乙基、异丙基、叔丁基、正辛基、正癸基、正十六烷基、环丙基、环戊基、环己基等)、芳基(例如，苯基、萘基等)、卤素原子(例如，氟、氯、溴、碘)、酰基(例如，乙酰基、苯甲酰基、甲酰基、新戊酰基等)、酰氧基(例如，乙酰氧基、丙烯酰氧基、甲基丙稀酰氧基等)、烷氧基羰基(例如，甲氧基羰基、乙氧基羰基等)、芳氧基羰基(例如，苯氧基羰基等)、磺酰基(例如，甲磺酰基、苯磺酰基等)等。

从进一步提高与相邻层的粘附性的观点考虑，在涂布液中，优选以1～30质量％的范围包含硅烷偶联剂，更优选为3～30质量％，进一步优选为5～25质量％。

另外，即使在将这种阻隔性树脂层用作屏蔽层的结构中，如图1所示，也可制成具有基底层18的2层结构的端面密封层16a。

即，本发明的层叠膜10a也能够适当地利用具有有机层作为基底层18且具有阻隔性树脂层作为屏蔽层20的端面密封层16a。

以下，参考图5A～图5D的示意图，对本发明的层叠膜的制造方法的一例进行说明。

另外，将图1所示的层叠膜10a作为代表例来进行以下制造方法的说明，但其他结构的层叠膜也能够根据该制造方法来制造。

首先，准备多张功能层层叠体11，该功能层层叠体11具有光学功能层12及层叠于该光学功能层12的两个主表面的2个阻气层14。

如前所述，关于功能层层叠体11，作为一例能够通过下述步骤来制作：制备将量子点、成为基质的树脂及溶剂混合而成的聚合性组合物，并将该聚合性组合物涂布于阻气层14上，接着，在聚合性组合物上层叠阻气层14，通过紫外线的照射等使聚合性组合物固化而形成光学功能层12。

另外，功能层层叠体11可以由一片一片制作的所谓单片式的方法来制作，或者沿长边方向输送长条的阻气层14，并且在该阻气层14上涂布聚合性组合物，并在该聚合性组合物上层叠阻气层14，使聚合性组合物固化，从而也可由连续地制作功能层层叠体11的所谓卷对卷(Roll to Roll)的方式来制作。在以下说明中，将“卷对卷”也称为“RtoR”。

若如此制作功能层层叠体11，则通过层叠多张功能层层叠体而制作层叠物50(参考图5A)。

对层叠物50中的功能层层叠体11的张数没有特别限定，根据形成基底层18A的装置的大小、功能层层叠体11的厚度等来适当地设定即可，但优选为500张～4000张左右。

在此，通过进行功能层层叠体11的切割方法或切割条件的选择、层叠物50的端面即功能层层叠体11的端面的处理中的一个以上，如图5A所示，能够将层叠物50的功能层层叠体11的端面的表面粗糙度Ra设为0.1～2μm。

作为控制功能层层叠体11的端面的表面粗糙度的方法，例如例示：通过如激光切割那样在端面上没有出现划痕的方法切割层叠物50的端面的方法、用切割工具切割之后，对层叠物50的端面进行切削处理、抛光处理、熔融处理的方法。

作为具体的一例，例示利用切片机(例如，YAMATO KOHKI INDUSTRIAL CO.,LTD.制造，RitoratomuREM-710等)切削层叠物50的端面，并控制表面粗糙度Ra的方法。更具体而言，切片机的切削刃碰到层叠物50的角度、即刀片的行进方向与刀片面所成的角度越接近正交，平坦性越增加。切削刃碰到层叠物50的角度优选为70°～110°，更优选为80～100°，进一步优选为85°～95°的范围。

按照惯例，将刀片的行进方向的正交方向与刀片面所成的角度称为“刃角”。

除此以外，通过适当地控制由切削去除的去除部分的宽度(切割深度)也能够控制表面粗糙度Ra。切割深度优选为1～20μm，更优选为5～15μm。

推断基于这种切削条件的表面粗糙度的变化的原因在于，伴随当切削刃碰到层叠物50时产生的切割面的变形和扭曲而引起的切削们的摆动。因此，优选根据所应用的层叠体的硬度或脆性/粘性的平衡来确定适当条件。

并且，通过进行研磨处理，还能够进一步减小表面粗糙度Ra。研磨处理中能够使用用于导光板的镜面处理的市售的刨工装置等。

切削时产生的切屑或研磨处理时产生的研磨碎屑成为随后的端面密封层16a溅射工序或电镀工序中的不良情况的原因，所以优选切削后尽量尽快去除。

作为去除切屑或研磨碎屑的工序，例示基于空气喷吹或浸入清洗液的状态下的超声波清洗、粘合片贴合及剥离的方法、擦拭方法等。

如此，若将层叠物50的端面即功能层层叠体11的端面设为所期望的表面粗糙度Ra，则如图5B所示，在层叠物50的端面形成成为基底层18的基底层18A。基底层18A的形成材料，如前所述例示选自包括铝、钛、铬、铜及镍的组中的至少一种或它们的至少一种的合金。

并且，如前所述，作为基底层18A的形成方法，可适用溅射法、真空蒸镀法、离子镀法、非电解镀及等离子体CVD法中的任一方法。

另外，对形成基底层18A时的、溅射法、真空蒸镀法、离子镀法、非电解镀或等离子体CVD法中的处理方法、处理条件等没有特别限定，根据形成材料等以以往公知的处理方法、处理条件形成基底层18A即可。

并且，在除功能层层叠体11的端面以外的区域、即未形成基底层18A的区域通过公知的方法进行遮蔽处理等，从而仅在功能层层叠体11的端面形成基底层18A即可。

接着，如图5C所示，在切割面形成有基底层18A的层叠物52的基底层18A上形成成为屏蔽层20的屏蔽层20A。屏蔽层20的形成材料，如前所述例示选自包括铝、钛、铬、镍、锡、铜、银及金的组中的至少一种或包含它们的至少一种的合金。

如前所述，作为屏蔽层20A的形成方法优选为电镀。

对形成屏蔽层20A时的电镀处理的处理方法、处理条件没有特别限定，根据形成材料等，通过公知的处理方法、处理条件形成屏蔽层20A即可。

接着，如图5D所示，按功能层层叠体11来分离形成有屏蔽层20A的层叠物54，从而能够获得在端面形成有端面密封层16a的功能层层叠体11、即层叠膜10a。

作为从层叠物54分离层叠膜10a的方法没有特别限定，例示如下方法等：通过对形成有屏蔽层20A的层叠物54施加弯曲、扭曲等向与表面水平的方向的外力来剪切的方法；向功能层层叠体11的界面插入例如刀具等尖锐的尖端的方法等。

从防止端面密封层16a的剥离、缺失或龟裂的产生等观点考虑，优选通过基于外力的剪切来分离层叠膜10a。

该制造方法，在重叠有多个功能层层叠体11的状态下，能够调节功能层层叠体11的端面的表面粗糙度Ra，并且在形成端面密封层16a的各层时，在重叠有多张功能层层叠体11的状态下，能够形成端面密封层16a的各层，因此能够总括制作多个层叠膜10a，并能够提高生产率。

在以上例中，作为一例，对具有2层结构的端面密封层16a的层叠膜10a的制造方法进行了说明，当端面密封层为3层以上时，在基底层18的形成工序与屏蔽层20的形成工序之间进一步实施金属层等的形成工序即可。

并且，当为如图4所示那样的1层结构的端面密封层16c时，同样地在层叠物50的端面形成如阻隔性树脂层那样的端面密封层16c，如图5D所示，将各层叠膜10c分离即可。

另外，当端面密封层包括金属层时，为了抑制金属层生锈，可进行防锈处理等。

以上，对本发明的层叠膜进行了详细地说明，但是本发明并不限定于上述实施例，只要在不脱离本发明的宗旨的范围内，可进行各种改良和变更也无妨。

实施例

以下，举出本发明的具体实施例，对本发明进行进一步详细说明。需要说明的是，本发明并不限定于以下记载的实施例，以下的实施例中示出的材料、用量、比例、处理内容、处理步骤等，只要不脱离本发明的宗旨，就能够适当变更。

＜阻气层14的制作＞

作为阻气层14制作了图2所示的在阻气支撑体30上依次形成有有机层34、无机层36及有机层38的阻气膜。

＜＜阻气支撑体30＞＞

作为阻气层30，使用了聚对苯二甲酸乙二酯膜(PET膜，Toyobo Co.,Ltd.制造，商品名：COSMOSHINE A4300，厚度50μmm，宽度1000mm、长度100m)。

＜＜有机层34的形成＞＞

在该阻气支撑体30的一个主表面形成有机层34。

首先，以如下方式制备了用于形成有机层34的聚合性组合物。

准备TMPTA(三羟甲基丙烷三丙烯酸酯，Daicel-Cytec Company,Ltd.制造)及光聚合引发剂(Lamberti S.p.A制造，ESACUREKTO46)，以TMPTA:光聚合引发剂的质量比例成为95:5的方式进行称量，将它们溶解于甲基乙基酮，从而调节了固体成分浓度为15质量％的聚合性组合物。

使用该聚合性组合物，通过利用RtoR以涂布法进行成膜的通常的成膜装置，在阻气支撑体30的一面形成了有机层34。

首先，利用模涂布机，使用RtoR涂布于阻气支撑体30。使涂布之后的阻气支撑体30在50℃的干燥区通过3分钟之后照射紫外线(累计照射量约为600mJ/cm²)，由此使聚合性组合物固化，从而形成了有机层34。

在刚固化之后的平整辊中，作为保护膜，贴附聚乙烯膜(PE膜，Sun A.Kaken Co.,Ltd.制造，PAC2－30－T)，传送并卷取。所形成的有机层34的厚度为1μm。

＜＜无机层36的形成＞＞

接着，使用利用RtoR的CVD装置，在有机层34的表面形成了无机层36(氮化硅(SiN)层)。

具体而言，通过进料机送出在阻气支撑体30上形成有机层34且该有机层34上贴付有保护膜的层叠体，在无机层的成膜之前的最后的膜面接触辊通过之后，剥离保护膜，在已暴露的有机层34上，通过等离子体CVD形成了无机层36。

原料气体使用了硅烷气体(SiH₄)、氨气(NH₃)、氮气(N₂)及氢气(H₂)。关于气体的供给量，硅烷气体为160sccm、氨气为370sccm、氮气为240sccm、氢气为590sccm。并且，成膜压力为40Pa。等离子体激发功率以频率13.56MHz计为2.5kW。

所形成的无机层36的厚度为50nm。

＜＜有机层38的形成＞＞

接着，在所形成的无机层36的表面形成了有机层38。

首先，制备了用于形成有机层38的聚合性组合物。具体而言，将含氨基甲酸酯鍵丙烯聚合物(Taisei Fine Chemical Co.,Ltd.制造，ACRIT 8BR500，重均分子量250,000)与光聚合引发剂(BASF公司制造，Irgacure 184)以质量比率计成为95:5的方式进行称量，使它们溶解于甲基乙基酮，从而制备了固体成分浓度为15质量％的聚合性组合物。

利用该聚合性组合物，通过利用RtoR以涂布法进行成膜的通常的成膜装置，在无机层36的表面形成了有机层38。

首先，利用模涂布机，将已制备的聚合性组合物涂布于无机层36的表面，使其在100℃的干燥区通过3分钟，从而形成了有机层38。所形成的有机层34的厚度为1μm。

另外，在刚干燥组合物之后的平整辊中，作为保护膜，在有机层38的表面贴附与之前相同的聚乙烯膜之后进行了卷取。

以如上方式，制作了在阻气支撑体30上依次层叠有有机层34、无机层36及有机层38的阻气层14。

通过APIMS法测定了所制作的阻气层14的氧渗透率，结果温度25℃、湿度60％RH下的氧渗透率为1×10^-3cc/(m²·天·大气压)。

＜功能层层叠体11的制作＞

准备了2个如前述那样制作的阻气层14。

从一个阻气层14剥离保护膜之后，在阻气层14的有机层38上涂布用于形成光学功能层12的聚合性组合物来形成了涂膜。另外，从另一个阻气层14剥离保护膜之后，使有机层38朝向涂膜而将阻气层14层叠于涂膜。

如此，制作利用2个阻气层夹持用于形成光学功能层12的聚合性组合物而成的层叠体之后，在氮气气氛下，进行UV照射而使涂膜固化形成了光学功能层12。由此，制作了在光学功能层12的两个面层叠有阻气层14的层叠体。

另外，用于形成光学功能层12的聚合性组合物的组成为如下。

＜＜聚合性组合物的组成＞＞

·量子点1的甲苯分散液(发光极大：520nm)10质量份

·量子点2的甲苯分散液(发光极大：630nm)1质量份

·丙烯酸月桂基酯2.4质量份

·1,9-壬二醇二丙烯酸酯0.54质量份

·光聚合引发剂(BASF公司制造，Irgacure 819)0.003质量份

作为量子点1、2，使用了具有下述核壳结构(InP/ZnS)的纳米结晶。

·量子点1：INP530－10(NN-LABS,LLC制造)

·量子点2：INP620－10(NN-LABS,LLC制造)

光学功能层形成用聚合性组合物的粘度为50mPa·s。

＜＜片材加工＞＞

将在光学功能层12的两面层叠有阻气层14的层叠体使用刀尖角度17°的汤姆逊刀片冲切成片状，从而获得了A4尺寸的功能层层叠体11。

[实施例1]

使用这种功能层层叠体11，以如下的方式，制作了如图3所示的具有3层结构的端面密封层16b的层叠膜10b。

＜端面的表面粗糙度Ra的调节＞

层叠1000个所制作的功能层层叠体11而制成层叠物之后，使用切片机(YAMATOKOHKI INDUSTRIAL CO,.LTD.制，LITTORUM REM-710)，在刃角0°、切削深度10μm的条件下对层叠物的4个端面即功能层层叠体11的4个端面进行切削，从而调节了端面的表面粗糙度Ra(参考图5A)。

通过基于光干渉方式的非接触表面形状计测装置(MitsubishiChemicalSystems,inc.制、Vertscan2.0)测定了层叠物的端面即功能层层叠体11的端面的表面粗糙度Ra。

其结果，层叠物的端面的表面粗糙度Ra为0.6μm。

＜端面密封层16b的形成＞

＜＜第1基底层的形成＞＞

使用通常的溅射装置，在处理了端面的层叠物的端面形成了钛制第1基底层(参考图5B)。作为靶，使用了钛，作为放电气体使用了氩气。成膜压力设为0.5Pa，成膜输出设为400W。

成膜的膜厚为10nm。

＜＜第2基底层18b的形成＞＞

接着，将靶材从钛改变成铜，除此以外，以与第1基底层的形成相同的方式在第1基底层上形成了膜厚75nm的第2基底层。

＜＜屏蔽层20的形成＞＞

另外，以如下方式，在第2基底层上形成了屏蔽层。

首先，利用纯水对形成有第1基底层及第2基底层的层叠物进行水洗，在填满有市售的表面活性剂的浴槽中浸渍20秒钟而进行了脱脂。接着，进行水洗之后，在5％硫酸水溶液中浸渍5秒钟而进行酸活性处理，再次进行了水洗。

将经水洗的层叠物固定于挂钩模，利用测试仪确认接通之后，在5％硝酸水溶液中浸渍10秒钟而进行酸活性处理，在硫酸铜浴中以电流密度3.0A/dm²、5分钟的条件进行电解电镀处理，从而在第2层上形成了金属镀层即最表层。之后，经过水洗、防锈处理，利用空气去除了剩余的水分，从而获得了在端面形成有3层金属层的层叠物。

＜＜分离工序＞＞

接着，获得了以下层叠膜10b，即在端面形成有3层金属层的层叠物，通过基于向与功能层层叠体11的表面水平的方向的外力的剪切，按每一个功能层层叠体11分离而，在功能层层叠体11的端面具有包含钛的第1基底层18a、包含铜的第2基底层18b及包含由铜的屏蔽层20这3层结构的端面密封层16b。

任意选择10片层叠膜10b，以任意切割线切割各层叠膜10b，并进行切片机切削而整理切割面之后，使用光学显微镜测定了暴露于切割面的端面密封层16b的厚度。其结果，任一测定点，端面密封层16b的厚度均为3μm。

[实施例2及实施例3]

改变了用于形成屏蔽层20的电镀处理的时间，除此以外，以与实施例1相同的方式制作了层叠膜10b。

以与实施例1相同的方式测定了端面密封层16b的厚度的结果为5μm(实施例2)及1μm(实施例3)。

[实施例4]

功能层层叠体11的制作中，代替YAMATO KOHKI INDUSTRIALCO,.LTD.制的LITTORUM REM-710，使用MEGAROTECHNICA CO.,LTD.制的端面处理装置MCPL-300而进行端面的表面粗糙度Ra的调节，除此以外，以与实施例1相同的方式制作了层叠膜10b。

以与实施例1相同的方式测定了层叠物即功能层层叠体11的端面的表面粗糙度Ra的结果，端面的表面粗糙度Ra为0.1μm。

[实施例5及实施例6]

改变用于形成屏蔽层20的电镀处理的时间，除此以外，以与实施例4相同的方式制作了层叠膜10b。

以与实施例1相同的方式测定了端面密封层16b的厚度的结果为5μm(实施例5)及1μm(实施例6)。

[实施例7]

功能层层叠体11的制作中，将端面的表面粗糙度Ra的调节的条件从刃角0°、切削深度10μm改变成刃角0°、切削深度20μm，除此以外，以与实施例1相同的方式制作了层叠膜10b。

以与实施例1相同的方式测定了层叠物即功能层层叠体11的端面的表面粗糙度Ra的结果，端面的表面粗糙度Ra为1.7μm。

[实施例8及实施例9]

改变用于形成屏蔽层20的电镀处理的时间，除此以外，以与实施例7相同的方式制作了层叠膜10b。

以与实施例1相同的方式测定了端面密封层16b的厚度的结果为5μm(实施例8)及1μm(实施例9)。

[实施例10]

将端面密封层设为具有包含有机层的基底层18及包含无机层的屏蔽层20的2层结构的端面密封层16a来代替具有钛制第1基底层18a、铜制第2基底层及铜制屏蔽层20的3层结构的端面密封层16b，除此以外，以与实施例1相同的方式制作了如图1所示的层叠膜10a。

基底层18及屏蔽层20的形成为如下。

＜基底层18(有机层)的形成＞

制备了固体成分具有以下组成的组合物。另外，组成为将整个固体成分设为100质量份时的质量份。

·2液固化型环氧化合物的主剂(聚合性化合物、亲水度logP＝3.8、Henkel JapanLtd.,制造，LOCTITE E－30CL的主剂)66.7质量份

·2液固化型环氧化合物的固化剂(Henkel Japan Ltd.,制造，LOCTITE E－30CL的固化剂)33.3质量份

将该组合物涂布于层叠物的端面的整个面，在80℃下干燥10分钟并使其固化，由此形成了基底层18。

基底层18的厚度为0.95μm。

＜屏蔽层20(无机层)的形成＞

使用间歇式等离子体CVD装置，在基底层18上形成了无机层(氮化硅(SiN)层)作为屏蔽层20。

无机层的形成中，作为原料气体，使用了硅烷气体(流量160sccm)、氨气(流量370sccm)、氢气(流量590sccm)及氮气(流量240sccm)。电源使用了频率13.56MHz的高频电源。制膜压力设为40Pa。

即形成的屏蔽层20的厚度为50nm。

以与实施例1相同的方式测定了端面密封层16b的厚度的结果，端面密封层16a的厚度为1μm。

[实施例11及实施例12]

改变了用于形成基底层18的涂膜的膜厚，除此以外，以与实施例10相同的方式制作了层叠膜10a。

以与实施例1相同的方式测定了端面密封层16b的厚度的结果为2μm(实施例11)及5μm(实施例12)。

[实施例13]

功能层层叠体11的制作中，以与实施例4相同的方式进行了端面的表面粗糙度Ra的调节，除此以外，以与实施例10相同的方式制作了层叠膜10a。

[实施例14及实施例15]

改变了用于形成基底层18的涂膜的膜厚，除此以外，以与实施例13相同的方式制作了层叠膜10a。

以与实施例1相同的方式测定了端面密封层16b的厚度的结果为2μm(实施例14)及5μm(实施例15)。

[实施例16]

功能层层叠体11的制作中，以与实施例7相同的方式进行了端面的表面粗糙度Ra的调节，除此以外，以与实施例10相同的方式制作了层叠膜10a。

[实施例17及实施例18]

改变了用于形成基底层18的涂膜的膜厚，除此以外，以与实施例16相同的方式制作了层叠膜10a。

以与实施例1相同的方式测定了端面密封层16b的厚度的结果为2μm(实施例17)及5μm(实施例18)。

[比较例1及比较例2]

改变了用于形成屏蔽层20的电镀处理的时间，除此以外，以与实施例1相同的方式制作了层叠膜。

以与实施例1相同的方式测定了端面密封层16b的厚度的结果为0.2μm(比较例1)及10μm(比较例2)。

[比较例3及比较例4]

改变了用于形成屏蔽层20的电镀处理的时间，除此以外，以与实施例4相同的方式制作了层叠膜。

以与实施例1相同的方式测定了端面密封层16b的厚度的结果为0.2μm(比较例3)及10μm(比较例4)。

[比较例5及比较例6]

改变了用于形成屏蔽层20的电镀处理的时间，除此以外，以与实施例7相同的方式制作了层叠膜。

以与实施例1相同的方式测定了端面密封层16b的厚度的结果为0.2μm(比较例5)及10μm(比较例6)。

[比较例7]

将在光学功能层12的两面层叠有阻气层14的层叠体切割成A4尺寸的片材加工中，代替基于汤姆逊刃的冲切，使用激光切割，并且在功能层层叠体11的制作中，未进行端面的表面粗糙度Ra的调节，除此以外，以与实施例1相同的方式制作了层叠膜。

以与实施例1相同的方式测定了层叠物即功能层层叠体11的端面的表面粗糙度Ra的结果，端面的表面粗糙度Ra为0.05μm。

[比较例8]

将在光学功能层12的两面层叠有阻气层14的层叠体切割成A4尺寸的片材加工中，代替基于汤姆逊刃的冲切，使用切绘机(GRAPHTECCorporation.制，FC-4200)，并且在功能层层叠体11的制作中，未进行端面的表面粗糙度Ra的调节，除此以外，以与实施例1相同的方式制作了层叠膜。

以与实施例1相同的方式测定了层叠物即功能层层叠体11的端面的表面粗糙度Ra的结果，端面的表面粗糙度Ra大于10μm。

[比较例9]

仅将端面密封层设为以与实施例10中的基底层(有机层)的形成相同的方式形成的有机层，除此以外，以与实施例4相同的方式制作了层叠膜。

以与实施例1相同的方式测定了端面密封层的厚度的结果为20μm。

[比较例10]

在功能层层叠体11的制作中，以与实施例1相同的方式进行了端面的表面粗糙度Ra的调节，除此以外，以与比较例9相同的方式制作了层叠膜。

[比较例11]

以与比较例8相同的方式进行片材加工，并且在功能层层叠体11的制作中，未进行层叠物的端面的表面粗糙度Ra的调节，除此以外，以与比较例9相同的方式制作了层叠膜。

[比较例12]

仅将端面密封层设为以与实施例10中的屏蔽层20(无机层(氮化硅层))的形成相同的方式形成的无机层，除此以外，以与实施例4相同的方式制作了层叠膜。

[比较例13]

功能层层叠体11的制作中，以与实施例1相同的方式进行了端面的表面粗糙度Ra的调节，除此以外，以与比较例12相同的方式制作了层叠膜。

[比较例14]

以与比较例8相同的方式进行片材加工，并且在功能层层叠体11的制作中，未进行端面的表面粗糙度Ra的调节，除此以外，以与比较例12相同的方式制作了层叠膜。

[比较例15]

以与比较例8相同的方式进行片材加工，并且在功能层层叠体11的制作中，未进行端面的表面粗糙度Ra的调节，除此以外，以与实施例10相同的方式制作了层叠膜。

[比较例16]

以与比较例8相同的方式进行片材加工，并且在功能层层叠体11的制作中，未进行端面的表面粗糙度Ra的调节，除此以外，以与实施例11相同的方式制作了层叠膜。

[比较例17]

以与比较例8相同的方式进行片材加工，并且在功能层层叠体11的制作中，未进行端面的表面粗糙度Ra的调节，除此以外，以与实施例12相同的方式制作了层叠膜。

[参考例]

仅将端面密封层设为以与实施例10中的基底层(有机层)的形成相同的方式形成的有机层，除此以外，以与实施例1相同的方式制作了层叠膜。

以与实施例1相同的方式测定了端面密封层的厚度的结果为60μm。

[评价]

关于如此制作的层叠膜，对端面密封性能及端面密封层的粘附性进行了评价。

＜端面密封性能的评价＞

由以下的顺序测定了层叠膜的初始亮度(Y0)。

分解市售的压片末端(Amazon.com,Inc.制、Kindle(登录商标)Fire HDX 7”)，提取了背光单元。在取出的背光单元的导光板上放置层叠膜，在其之上叠放方向正交的2片三棱镜片材。使用相对于导光板的面设置于垂直方向740mm的位置的亮度仪(TOPCONCORPORATION制，SR3)测定了从蓝色光源发射，透射层叠膜及2片三棱镜片材的光的亮度，并设为层叠膜的亮度。

接着，向保持为60℃相对湿度90％的恒温槽投入层叠膜，保管了1000小时。1000小时之后，取出层叠膜，以与上述相同的顺序，测定了高温高湿试验后的亮度(Y1)。

如下述式那样，计算出相对于初始的亮度值(Y0)的、高温高湿试验后的亮度(Y1)的变化率(ΔY)，并设为亮度变化的指标，由以下的基准进行了评价。

ΔY[％]＝(Y0-Y1)/Y0×100

若评价结果为C以上，则能够判断为高温高湿试验后，端部的发光效率也可良好地维持。

A：ΔY≤5％

B：5％＜ΔY＜10％

C：10％≤ΔY＜15％

D：15％≤ΔY

＜粘附性的评价(擦拭试验)＞

经由以底表面20mm×20mm×高度10mm切取的橡皮(Tombow铅笔公司制、MONO)，在擦拭试验机的顶端固定分离工序前的1000片功能层层叠体11的层叠物的端部密封层上表面，以100g/cm²的荷载从垂直地上方按压。

在温度25℃、相对湿度60RH％的条件下，以行程长3.5cm、擦拭速度1.8cm/s往复200次。关于擦拭方向在与功能层层叠体的主面并行的方向上进行。结束擦拭试验之后，利用显微镜观察了经擦拭的整个区域的端部密封层的破损程度。关于粘附性的程度，从基于擦拭的损伤的大小及频率，以下述6个阶段进行了评价。若为评价A及B，则可以说具有充分的粘附性。

A：即使非常仔细观察，在端部密封层也无法确认到损伤及剥离

B：若仔细观察，则在端部密封层的表面稍微确认到损伤，并且能够确认损伤的部位在擦拭区域中为5个以内

C：满足在端部密封层表面具有明显的损伤及若仔细观察则在端部密封层的表面能够稍微确认到损伤并且能够确认损伤的部位在擦拭区域中为6个以上中的至少一个

D：端部密封层剥离且具有暴露有功能层层叠体的端面的部位

E：经擦拭的整个区域中暴露有功能层层叠体的端面

将结果示于下述表中，

[表1]

另外，上述表中，关于“※1”，在进行擦拭试验之前的状态下，能够由显微镜观察确认到功能层层叠体的端面的暴露，因此未实施粘附性的评价。

并且，关于“※2”，无法肉眼观察氮化硅层的有无，因此未实施粘附性的评价。

如上述表1所示那样，本发明的层叠膜中，相对于比较例的层叠膜，端面密封层为非常狭窄的范围的同时，氧/水充分被充分地隔断而抑制量子点的劣化，并且即使在严酷的操作条件下，也能够实现端面密封层未损伤/脱离的端部密封结构。

由以上结果可明确本发明的效果。

工业实用性

能够适用于LCD等各种光学用途。

符号说明

10a、10b、10c-层叠膜，11-功能层层叠体，12-光学功能层，14-阻气层(阻气膜)，16a、16b、16c-端面密封层，18-基底层，18a、18A-第1基底层，18b-第2基底层，20、20A-屏蔽层，30-阻气支撑体，32-阻隔层，34、38-有机层，36-无机层，50-层叠物，52-形成有基底层的层叠物，54-形成有屏蔽层的层叠物。

Claims (8)

1.一种层叠膜，其特征在于，具有：

功能层层叠体，其具有光学功能层及层叠于所述光学功能层的至少一个主表面的阻气层；及

端面密封层，覆盖所述功能层层叠体的端面的至少一部分而形成，

并且，所述功能层层叠体的端面的、所述端面密封层的形成区域中的表面粗糙度Ra为0.1～2μm，所述端面密封层的厚度为1～5μm。

2.根据权利要求1所述的层叠膜，其中，

所述端面密封层是覆盖所述功能层层叠体的端面的整个面而形成。

3.根据权利要求1或2所述的层叠膜，其中，

所述端面密封层具有选自包括树脂层、金属层、金属氧化物层、金属氮化物层、金属碳化物层及金属碳氮化物层的组中的至少一层。

4.根据权利要求1～3中任一项所述的层叠膜，其中，

所述端面密封层具有层叠多层而成的层叠结构。

5.根据权利要求4所述的层叠膜，其中，

所述端面密封层具有多个金属层。

6.根据权利要求5所述的层叠膜，其中，

所述端面密封层具有金属镀层及设置于所述金属镀层与所述功能层层叠体的端面之间的金属层。

7.根据权利要求6所述的层叠膜，其具有多层设置于所述金属镀层与功能层层叠体的端面之间的金属层。

8.根据权利要求4所述的层叠膜，其中，

所述端面密封层具有：选自包括金属氧化物层、金属氮化物层、金属碳化物层及金属碳氮化物层的组中的至少一层无机化合物层；及设置于所述无机化合物层与所述功能层层叠体的端面之间的树脂层。