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CN107357076A - 透反式液晶显示装置及其制作方法 - Google Patents

透反式液晶显示装置及其制作方法 Download PDF

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CN107357076A
CN107357076A CN201710703207.9A CN201710703207A CN107357076A CN 107357076 A CN107357076 A CN 107357076A CN 201710703207 A CN201710703207 A CN 201710703207A CN 107357076 A CN107357076 A CN 107357076A
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CN
China
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reflecting
black matrix
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CN201710703207.9A
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柳铭岗
林永伦
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Shenzhen China Star Optoelectronics Semiconductor Display Technology Co Ltd
Original Assignee
Shenzhen China Star Optoelectronics Semiconductor Display Technology Co Ltd
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Abstract

本发明提供一种透反式液晶显示装置及其制作方法。该透反式液晶显示装置采用COA及BPS设计，在BPS遮光层的黑色矩阵上设置多个第一凸起，将反射电极设置于BPS遮光层的黑色矩阵上覆盖多个第一凸起而使其上表面形成多个凸面，且使反射电极与像素电极相连接，使装置在对应反射电极的区域形成反射区，而对应像素电极的区域形成透射区，能够在外在光强度较大时提升显示画面的亮度，反射区与透射区的液晶盒厚可通过控制黑色矩阵的厚度进行控制，无需引入额外的绝缘层，结构简单，同时反射区并不占用透射区的面积，不会影响装置的透过率，并且反射区的出光均匀性大大增强，显示品质高。

Description

透反式液晶显示装置及其制作方法
技术领域
本发明涉及液晶显示技术领域，尤其涉及一种透反式液晶显示装置及其制作方法。
背景技术
随着显示技术的发展，液晶显示器(Liquid Crystal Display，LCD)等平面显示装置因具有高画质、省电、机身薄及应用范围广等优点，而被广泛的应用于手机、电视、个人数字助理、数字相机、笔记本电脑、台式计算机等各种消费性电子产品，成为显示装置中的主流。
目前市场上液晶显示器以光源需求大略分为三类，透射式液晶显示器、反射式液晶显示器及透反式液晶显示器。其中，透射式的液晶显示器以液晶面板背面的背光模组作为光源，背光模组发出的光线穿过阵列基板透明的像素电极进行画面显示，透射式液晶显示器适合使用在弱光源的环境中，如在室内使用，而在室外使用时，当外在光源过于强大时，会使背光源的强度受到外在光的干扰，而使得眼睛看显示器时会因此而觉得面板过亮而不清楚，影响到影像品质。而且长期使用背光源，使电量的消耗非常大，而小尺寸的显示器通常使用电池供电，所以容易出现很快没电的情况。
反射式液晶显示器主要是以前光源或者外界自然光作为光源，其阵列基板上设有用金属或者其他具有良好反射特性材料制作的反射电极，通过反射电极反射前光源或者外界自然光的光线实现画面显示，反射式液晶显示器则适合用于外在光源强大的地方，通过反射自然光进行显示能够降低显示器的能耗，但在光源弱的地方，会出现光强度不足的现象，影响影像品质。
透反式液晶显示面板则可视为透射式与反射式液晶显示面板的结合，在阵列基板上既设置有反射区，又设置有透射区，可以同时利用背光源以及前光源或者外界光源以进行显示。在光线较暗的环境下，主要靠透射模式，也就是利用液晶显示器自身的背光源发光使液晶显示面板显示图像，在阳光下等光线充足的情况下，主要靠反射模式，即利用液晶显示面板内的反射电极将外部的自然光反射出去，以此作为光源显示图像，因此透反式液晶显示器适用于各种光线强度的外部环境，尤其具有优秀的户外可视性能，并且背光源的亮度不需要很高，具有功耗低的特点。
请参阅图1，为现有的一种透反式液晶显示装置的结构示意图，该透反式液晶显示装置包括相对设置的上基板100’与下基板200’、及设于上基板100’与下基板200’之间的液晶层300’，其中，所述上基板100’为彩膜基板，具有公共电极110’，所述下基板200’包括阵列基板210’、设于阵列基板210’上的绝缘层220’、及设于所述绝缘层220’上的反射电极230’，所述下基板200’具有反射区201’及透射区202’，绝缘层220’及反射电极230’均与反射区201’对应，阵列基板210’在透射区202’设有像素电极211’，液晶层300’中与反射区201’对应区域的厚度为与透射区202’对应区域的厚度的二分之一。该透反式液晶显示装置虽然能够进行透反显示，然而由于反射区201’的存在，严重的影响了液晶显示装置的透过率，同时需要通过控制绝缘层220’的厚度来实现液晶层300’在反射区201’的厚度为在透射区202’的厚度的二分之一，制程复杂难以实现，同时反射区201’出光的均匀性较差。
发明内容
本发明的目的在于提供一种透反式液晶显示装置，能够在外在光强度较大时提升显示画面的亮度，透过率高，无需引入额外的绝缘层，结构简单，且反射区的出光均匀。
本发明的目的还在于提供一种透反式液晶显示装置的制作方法，制得的透反式液晶显示装置，能够在外在光强度较大时提升显示画面的亮度，透过率高，且反射区的出光均匀，操作简单。
为实现上述目的，本发明首先提供一种透反式液晶显示装置，包括：相对设置的上基板与下基板、及设于上基板与下基板之间的液晶层；
所述下基板包括第一衬底、设于第一衬底上的TFT阵列层、设于TFT阵列层上的色阻层、覆盖色阻层的平坦层、设于平坦层上的BPS遮光层、设于平坦层上的像素电极、及设于BPS遮光层上的反射电极；
所述BPS遮光层包括黑色矩阵、设于黑色矩阵上且间隔设置的主隔垫物及辅助隔垫物，所述黑色矩阵上在除主隔垫物及辅助隔垫物所在区域以外的区域具有多个第一凸起；所述反射电极设于所述黑色矩阵上且覆盖多个第一凸起而在其上表面形成多个凸面，所述反射电极与像素电极相连接；
所述液晶层对应反射电极的区域的厚度为对应像素电极的区域的厚度的二分之一。
所述平坦层上具有多个第二凸起，使黑色矩阵上对应多个第二凸起形成多个第一凸起。
所述透反式液晶显示装置还包括设于上基板远离下基板一侧的上偏光片、及设于下基板远离上基板一侧的下偏光片、及分别设于上基板与上偏光片之间、下基板与下偏光片之间的两个四分之一波片；
所述上偏光片的光轴与下偏光片的光轴相平行；
所述透反式液晶显示装置还包括设于下偏光片远离下基板一侧的背光模组。
所述上基板包括第二衬底、及设于第二衬底靠近下基板一侧上的公共电极。
所述反射电极的材料为铝或银。
本发明还提供一种透反式液晶显示装置的制作方法，包括如下步骤：
步骤S1、提供第一衬底，在第一衬底上依次形成TFT阵列层及色阻层；
步骤S2、在色阻层上形成平坦层；
步骤S3、在平坦层上涂布BPS材料层，利用一第一光罩对BPS材料层进行光刻制程，形成BPS遮光层；
所述BPS遮光层包括黑色矩阵、设于黑色矩阵上且间隔设置的主隔垫物及辅助隔垫物；所述黑色矩阵上在除主隔垫物及辅助隔垫物所在区域以外的区域具有多个第一凸起；
步骤S4、在平坦层上形成像素电极，在黑色矩阵上形成覆盖多个第一凸起的反射电极，所述反射电极上表面对应多个第一凸起形成多个凸面，所述像素电极与反射电极相连，得到下基板；
步骤S5、提供上基板，将所述下基板与上基板对组，在上基板与下基板之间设置液晶层；
所述液晶层对应反射电极的区域的厚度为对应像素电极的区域的厚度的二分之一。
所述第一光罩为半色调光罩或灰阶光罩。
所述步骤S2具体包括：
步骤S21、在色阻层上涂布有机材料层；
步骤S22、利用一第二光罩对所述有机材料层进行曝光及显影，在有机材料层上形成多个有机材料图案，每一有机材料图案均包括堆叠的第一有机块及第二有机块，第一有机块的尺寸大于第二有机块的尺寸；
步骤S23、对多个有机材料图案进行烘烤再成型，形成具有多个第二凸起的平坦层；
所述步骤S3在平坦层上形成BPS遮光层后，黑色矩阵上对应多个第二凸起形成多个第一凸起。
所述步骤S3具体包括：
步骤S31、在平坦层上涂布BPS材料层；
步骤S32、利用第一光罩对BPS材料层进行曝光显影，形成黑色矩阵、及设于黑色矩阵上的主隔垫物及辅助隔垫物，同时在黑色矩阵上除主隔垫物及辅助隔垫物所在区域以外的区域形成多个黑色光阻图案，每一黑色光阻图案均包括堆叠的第一黑色光阻块及第二黑色光阻块，第一黑色光阻块的尺寸大于第二黑色光阻块的尺寸；
步骤S33、对多个黑色光阻图案进行烘烤再成型，在黑色矩阵上形成多个第一凸起。
所述透反式液晶显示装置的制作方法还包括：
步骤S6、在上基板远离下基板一侧设置上偏光片，在下基板远离上基板一侧设置下偏光片，在上基板与上偏光片之间、下基板与下偏光片之间分别设置四分之一波片，在下偏光片远离下基板一侧设置背光模组，得到液晶显示装置；
所述上基板包括第二衬底、及设于第二衬底上的公共电极，所述步骤S5中将所述下基板具有像素电极的一侧与所述上基板具有公共电极的一侧对组。
本发明的有益效果：本发明提供的一种透反式液晶显示装置，采用COA及BPS设计，在BPS遮光层的黑色矩阵上设置多个第一凸起，将反射电极设置于BPS遮光层的黑色矩阵上覆盖多个第一凸起而使其上表面形成多个凸面，且使反射电极与像素电极相连接，使装置在对应反射电极的区域形成反射区，而对应像素电极的区域形成透射区，能够在外在光强度较大时提升显示画面的亮度，反射区与透射区的液晶盒厚可通过控制黑色矩阵的厚度进行控制，无需引入额外的绝缘层，结构简单，同时反射区并不占用透射区的面积，不会影响装置的透过率，并且反射区的出光均匀性大大增强，显示品质高。本发明提供的一种透反式液晶显示装置的制作方法，制得的透反式液晶显示装置，能够在外在光强度较大时提升显示画面的亮度，透过率高，且反射区的出光均匀，操作简单。
附图说明
为了能更进一步了解本发明的特征以及技术内容，请参阅以下有关本发明的详细说明与附图，然而附图仅提供参考与说明用，并非用来对本发明加以限制。
附图中，
图1为现有的一种透反式液晶显示装置的剖视示意图；
图2为本发明的透反式液晶显示装置第一实施例的剖视示意图；
图3为本发明的透反式液晶显示装置第二实施例的剖视示意图；
图4为本发明的透反式液晶显示装置的色阻层及BPS遮光层的俯视示意图；
图5为本发明的透反式液晶显示装置的制作方法的流程图；
图6为本发明的透反式液晶显示装置的制作方法的步骤S1的示意图；
图7为本发明的透反式液晶显示装置的制作方法第一实施例的步骤S2的示意图；
图8为本发明的透反式液晶显示装置的制作方法第一实施例的步骤S3的示意图；
图9至11为本发明的透反式液晶显示装置的制作方法第一实施例的步骤S3形成第一凸起的示意图；
图12为本发明的透反式液晶显示装置的制作方法第一实施例的步骤S4的示意图；
图13为本发明的透反式液晶显示装置的制作方法第一实施例的步骤S5的示意图；
图14为本发明的透反式液晶显示装置的制作方法第二实施例的步骤S2的示意图；
图15至17为本发明的透反式液晶显示装置的制作方法第二实施例的步骤S2形成第二凸起的示意图；
图18为本发明的透反式液晶显示装置的制作方法第二实施例的步骤S3的示意图；
图19为本发明的透反式液晶显示装置的制作方法第二实施例的步骤S4的示意图；
图20为本发明的透反式液晶显示装置的制作方法第二实施例的步骤S5的示意图。
具体实施方式
为更进一步阐述本发明所采取的技术手段及其效果，以下结合本发明的优选实施例及其附图进行详细描述。
本发明提供一种透反式液晶显示装置，应用将彩色滤光层直接制备在的阵列基板上(Color Filter on Array，COA)的技术、及利用黑色光阻隔垫物(Black Photo Spacer，BPS)材料通过一道制程同时制得黑色矩阵和主、辅助隔垫物的技术，请参阅图2，为本发明的透反式液晶显示装置的第一实施例，本发明的透反式液晶显示装置包括：相对设置的上基板100与下基板200、设于上基板100与下基板200之间的液晶层300、设于上基板100远离下基板200一侧的上偏光片400、设于下基板200远离上基板100一侧的下偏光片500、设于下偏光片500远离下基板200一侧的背光模组600、及分别设于上基板100与上偏光片400之间、下基板200与下偏光片500之间的两个四分之一波片700。
其中，所述下基板200包括第一衬底210、设于第一衬底210上的TFT阵列层220、设于TFT阵列层220上的色阻层230、覆盖色阻层230的平坦层240、设于平坦层240上的BPS遮光层250、设于平坦层240上的像素电极260、及设于BPS遮光层250上的反射电极270。
值得注意的是，请结合图2及图4，所述BPS遮光层250包括黑色矩阵251、设于黑色矩阵251上且间隔设置的主隔垫物252及辅助隔垫物253，所述黑色矩阵251上在除主隔垫物252及辅助隔垫物253所在区域以外的区域具有多个第一凸起2511；所述反射电极270设于所述黑色矩阵251上且覆盖多个第一凸起2511而在其上表面形成多个凸面，所述反射电极270与像素电极260相连接；
所述液晶层300对应反射电极270的区域的厚度为对应像素电极260的区域的厚度的二分之一。
具体地，所述上偏光片400的光轴与下偏光片500的光轴相平行，也即本发明的透反式液晶显示装置在不施加电压时为常黑态。
具体地，所述上基板100包括第二衬底110、及设于第二衬底110靠近下基板200一侧上的公共电极120。
需要说明的是，本发明的透反式液晶显示装置，采用BPS设计，在BPS遮光层250的黑色矩阵251上设置多个第一凸起2511，将反射电极270设置在黑色矩阵251上且覆盖多个第一凸起2511，并使反射电极270与像素电极260相连接，从而在对应反射电极270的区域形成反射区，在对应像素电极260的区域形成透射区，且像素电极260与上基板100间的距离为反射电极270与上基板100间距离的两倍，使透射区与反射区的光程差相同，在不施加电压的情况下，透射区为暗态，由于反射区的光程差与透射区相同，因而反射区也为暗态，当向公共电极120与像素电极260之间施加电压使透射区为亮态时，由于像素电极260与反射电极270相连，透射区与反射区内的液晶偏转角度同步，反射区也为亮态，提升了画面的显示亮度，且外在光强度越大，反射区的亮度越高，画面显示亮度越高，并且，通过在黑色矩阵251上设置第一凸起2511，使反射电极270形成在黑色矩阵251上之后，反射电极270的上表面对应多个第一凸起2511形成多个凸面，当外部光线从上基板100一侧入射透反式液晶显示装置后，光线在射入反射电极270的上表面后，反射电极270的多个凸面能够对其进行散射后使其射出透反式液晶显示装置，能够大大增强反射区的出光均匀性，显示品质显著提高，同时，通过控制形成BPS遮光层250的工艺参数，可以很容易地控制黑色矩阵251与平坦层240之间的段差、以及黑色矩阵251与主隔垫物252之间的段差，使形成在平坦层240上的像素电极260与上基板100间的距离为形成在黑色矩阵251上的反射电极270与上基板100间距离的两倍，相比于现有技术，无需引入额外的绝缘层，结构简单，制程难度低，且反射区设置于黑色矩阵251上，并不会占用透射区的面积，不影响装置的透过率。
具体地，请参阅图2，在本发明的第一实施例中，所述平坦层240的上表面平坦，结合图8至图11，黑色矩阵251上的第一凸起2511的制作方法为：利用一第一光罩对BPS材料层250’进行曝光显影，形成黑色矩阵251、及设于黑色矩阵251上的主隔垫物252及辅助隔垫物253，同时在黑色矩阵251上除主隔垫物252及辅助隔垫物253所在区域以外的区域形成多个黑色光阻图案251’，每一黑色光阻图案251’均包括堆叠的第一黑色光阻块2511’及第二黑色光阻块2512’，第一黑色光阻块2511’的尺寸大于第二黑色光阻块2512’的尺寸，之后对多个黑色光阻图案251’进行烘烤再成型，在黑色矩阵251上形成多个第一凸起2511。
具体地，该第一光罩可为半色调光罩或灰阶光罩。具体地，所述第一光罩具有间隔的第一透光区及第二透光区、位于第一透光区及第二透光区外的第三透光区、及位于第三透光区外的遮光区，第一透光区的透光率大于第二透光区的透光率，第二透光区的透光率大于第三透光区的透光率，利用该第一光罩对BPS材料层250’曝光显影后，对应第一透光区形成主隔垫物252，对应第二透光区形成辅助隔垫物253，对应第一、第二、第三透光区形成黑色矩阵251。具体地，在本发明的第一实施例中，所述第三透光区包括第一子透光区、位于第一子透光区外的第二子透光区、及位于第二子透光区外的第三子透光区，第一子透光区的透光率大于第二子透光区，第二子透光区的透光率大于第三子透光区，从而利用该第一光罩对BPS材料层250’曝光显影后，对应第一子透光区形成第二黑色光阻块2512’，对应第一、第二子透光区形成第一黑色光阻块2511’。
具体地，请参阅图4，所述色阻层230包括阵列排布的多个色阻单元231，所述黑色矩阵251遮挡相邻两行色阻单元231的交界处。
具体地，所述反射电极270的材料可以为铝、银、或其他具有高反射率的导电材料。
请参阅图3，为本发明的透反式液晶显示装置的第二实施例的结构示意图，该第二实施例与上述第一实施例的区别在于，所述平坦层240上具有多个第二凸起241，从而使在平坦层240上形成BPS遮光层250后，黑色矩阵251上对应多个第二凸起241形成多个第一凸起2511，因而无需在形成主、辅助隔垫物252、253的同时在黑色矩阵250上形成黑色光阻图案251’，结合图15至图17，平坦层240上的第二凸起241的制作方法为：利用一第二光罩对形成于色阻层230上的有机材料层240’进行曝光显影，在有机材料层240’上形成多个有机材料图案241’，每一有机材料图案241’均包括堆叠的第一有机块2411’及第二有机块2412’，第一有机块2411’的尺寸大于第二有机块2412’的尺寸，之后对多个有机材料图案241’进行烘烤再成型，形成具有多个第二凸起241的平坦层240。
具体地，该第二光罩为半色调光罩。具体地，所述第二光罩包括第四透光区、位于第四透光区外的第五透光区、及位于第五透光区外的第六透光区，当所述有机材料层240’的材料为正性光阻材料时，第四透光区的透光率小于第五透光区，第五透光区的透光率小于第六透光区，从而利用该第二光罩对有机材料层240’曝光显影后，对应第四透光区形成第二有机块2412’，对应第四、第五透光区形成第一有机块2411’；当所述有机材料层240’的材料为负性光阻材料时，第四透光区的透光率大于第五透光区，第五透光区的透光率大于第六透光区，从而利用该第二光罩对有机材料层240’曝光显影后，对应第四透光区形成第二有机块2412’，对应第四、第五透光区形成第一有机块2411’。相较于第一实施例，该第二实施例用于形成BPS遮光层250的第一光罩中的第三区域采用同一透光率即可，成本较低，制程简单。
请参阅图5，基于同一发明构思，本发明还提供一种透反式液晶显示装置的制作方法，请参阅图6至图13，本发明的透反式液晶显示装置的制作方法的第一实施例包括如下步骤：
步骤S1、请参阅图6，提供第一衬底210，在第一衬底210上依次形成TFT阵列层220及色阻层230。
具体地，请参阅图4，所述色阻层230包括阵列排布的多个色阻单元231。
步骤S2、请参阅图7，在色阻层230上形成平坦层240。
具体地，在本发明的第一实施例中，所述平坦层240上表面平坦。
步骤S3、请参阅图8，在平坦层240上涂布BPS材料层250’，利用一第一光罩对BPS材料层250’进行光刻制程，形成BPS遮光层250；
所述BPS遮光层250包括黑色矩阵251、设于黑色矩阵251上且间隔设置的主隔垫物252及辅助隔垫物253；所述黑色矩阵251上在除主隔垫物252及辅助隔垫物253所在区域以外的区域具有多个第一凸起2511。
具体地，所述黑色矩阵251覆盖相邻两行色阻单元231的交界处。
具体地，在本发明的第一实施例中，所述步骤S3具体包括：
步骤S31、请参阅图9，在平坦层240上涂布BPS材料层250’。
步骤S32、利用第一光罩对BPS材料层250’进行曝光显影，形成黑色矩阵251、及设于黑色矩阵251上的主隔垫物252及辅助隔垫物253，请参阅图10，同时在黑色矩阵251上除主隔垫物252及辅助隔垫物253所在区域以外的区域形成多个黑色光阻图案251’，每一黑色光阻图案251’均包括堆叠的第一黑色光阻块2511’及第二黑色光阻块2512’，第一黑色光阻块2511’的尺寸大于第二黑色光阻块2512’的尺寸。
具体地，该第一光罩可为半色调光罩或灰阶光罩。具体地，所述第一光罩具有间隔的第一透光区及第二透光区、位于第一透光区及第二透光区外的第三透光区、及位于第三透光区外的遮光区，第一透光区的透光率大于第二透光区的透光率，第二透光区的透光率大于第三透光区的透光率，利用该第一光罩对BPS材料层250’曝光显影后，对应第一透光区形成主隔垫物252，对应第二透光区形成辅助隔垫物253，对应第一、第二、第三透光区形成黑色矩阵251。具体地，在本发明的第一实施例中，所述第三透光区包括第一子透光区、位于第一子透光区外的第二子透光区、及位于第二子透光区外的第三子透光区，第一子透光区的透光率大于第二子透光区，第二子透光区的透光率大于第三子透光区，从而利用该第一光罩对BPS材料层250’曝光显影后，对应第一子透光区形成第二黑色光阻块2512’，对应第一、第二子透光区形成第一黑色光阻块2511’。
步骤S33、请参阅图11，对多个黑色光阻图案251’进行烘烤再成型，在黑色矩阵251上形成多个第一凸起2511。
步骤S4、请参阅图12，在平坦层240上形成像素电极260，在黑色矩阵251上形成覆盖多个第一凸起2511的反射电极270，所述反射电极270上表面对应多个第一凸起2511形成多个凸面，所述像素电极260与反射电极270相连，得到下基板200。
具体地，所述反射电极270的材料可以为铝、银、或其他具有高反射率的导电材料。
步骤S5、请参阅图13，提供上基板100，将所述下基板200与上基板100对组，在上基板100与下基板200之间设置液晶层300；
所述液晶层300与反射电极270对应区域的厚度为与像素电极260对应区域的厚度的二分之一。
具体地，所述上基板100包括第二衬底110、及设于第二衬底110上的公共电极120，所述步骤S5中将所述下基板200具有像素电极260的一侧与所述上基板100具有公共电极120的一侧对组。
步骤S6、在上基板100远离下基板200一侧设置上偏光片400，在下基板200远离上基板100一侧设置下偏光片500，在上基板100与上偏光片400之间、下基板200与下偏光片500之间分别设置四分之一波片700，在下偏光片500远离下基板200一侧设置背光模组600，得到如图2所示的液晶显示装置。
需要说明的是，本发明在BPS遮光层250的黑色矩阵251上设置多个第一凸起2511，将反射电极270设置在黑色矩阵251上且覆盖多个第一凸起2511，并使反射电极270与像素电极260相连接，从而在对应反射电极270的区域形成反射区，在对应像素电极260的区域形成透射区，且像素电极260与上基板100间的距离为反射电极270与上基板100间距离的两倍，使透射区与反射区的光程差相同，在不施加电压的情况下，透射区为暗态，由于反射区的光程差与透射区相同，因而反射区也为暗态，当向公共电极120与像素电极260之间施加电压使透射区为亮态时，由于像素电极260与反射电极270相连，透射区与反射区内的液晶偏转角度同步，反射区也为亮态，提升了画面的显示亮度，且外在光强度越大，反射区的亮度越高，画面显示亮度越高，并且，通过在黑色矩阵251上设置第一凸起2511，使反射电极270形成在黑色矩阵251上之后，反射电极270的上表面对应多个第一凸起2511形成多个凸面，当外部光线从上基板100一侧入射透反式液晶显示装置后，光线在射入反射电极270的上表面后，反射电极270的多个凸面能够对其进行散射后使其射出透反式液晶显示装置，能够大大增强反射区的出光均匀性，显示品质显著提高，同时，通过控制形成BPS遮光层250的工艺参数，可以很容易地控制黑色矩阵251与平坦层240之间的段差、以及黑色矩阵251与主隔垫物252之间的段差，使形成在平坦层240上的像素电极260与上基板100间的距离为形成在黑色矩阵251上的反射电极270与上基板100间距离的两倍，相比于现有技术，无需引入额外的绝缘层，结构简单，制程难度低，且反射区设置于黑色矩阵251上，并不会占用透射区的面积，不影响装置的透过率。
请参阅图6、及图14至图20，为本发明的透反式液晶显示装置的制作方法的第二实施例，该第二实施例与上述第一实施例的区别在于：
所述步骤S2具体包括：
步骤S21、请参阅图15，在色阻层230上涂布有机材料层240’；
步骤S22、利用一第二光罩对所述有机材料层240’进行曝光及显影，在有机材料层240’上形成多个有机材料图案241’，每一有机材料图案241’均包括堆叠的第一有机块2411’及第二有机块2412’，第一有机块2411’的尺寸大于第二有机块2412’的尺寸；
步骤S23、对多个有机材料图案241’进行烘烤再成型，形成具有多个第二凸起241的平坦层240；
所述步骤S3提供的第一光罩的第三透光区内的透光率相同，从而请参阅图18，所述步骤S3在平坦层240上形成BPS遮光层250后，黑色矩阵251上对应多个第二凸起241形成多个第一凸起2511。相较于第一实施例，该第二实施例用于形成BPS遮光层250的第一光罩中的第三透光区采用同一透光率即可，成本较低，制程简单。
具体地，该第二光罩为半色调光罩。具体地，所述第二光罩包括第四透光区、位于第四透光区外的第五透光区、及位于第五透光区外的第六透光区，当所述有机材料层240’的材料为正性光阻材料时，第四透光区的透光率小于第五透光区，第五透光区的透光率小于第六透光区，从而利用该第二光罩对有机材料层240’曝光显影后，对应第四透光区形成第二有机块2412’，对应第四、第五透光区形成第一有机块2411’；当所述有机材料层240’的材料为负性光阻材料时，第四透光区的透光率大于第五透光区，第五透光区的透光率大于第六透光区，从而利用该第二光罩对有机材料层240’曝光显影后，对应第四透光区形成第二有机块2412’，对应第四、第五透光区形成第一有机块2411’。
综上所述，本发明的透反式液晶显示装置，采用COA及BPS设计，在BPS遮光层的黑色矩阵上设置多个第一凸起，将反射电极设置于BPS遮光层的黑色矩阵上覆盖多个第一凸起而使其上表面形成多个凸面，且使反射电极与像素电极相连接，使装置在对应反射电极的区域形成反射区，而对应像素电极的区域形成透射区，能够在外在光强度较大时提升显示画面的亮度，反射区与透射区的液晶盒厚可通过控制黑色矩阵的厚度进行控制，无需引入额外的绝缘层，结构简单，同时反射区并不占用透射区的面积，不会影响装置的透过率，并且反射区的出光均匀性大大增强，显示品质高。本发明的透反式液晶显示装置的制作方法，制得的透反式液晶显示装置，能够在外在光强度较大时提升显示画面的亮度，透过率高，且反射区的出光均匀，操作简单。
以上所述，对于本领域的普通技术人员来说，可以根据本发明的技术方案和技术构思作出其他各种相应的改变和变形，而所有这些改变和变形都应属于本发明后附的权利要求的保护范围。

Claims (10)

1.一种透反式液晶显示装置，其特征在于，包括：相对设置的上基板(100)与下基板(200)、及设于上基板(100)与下基板(200)之间的液晶层(300)；
所述下基板(200)包括第一衬底(210)、设于第一衬底(210)上的TFT阵列层(220)、设于TFT阵列层(220)上的色阻层(230)、覆盖色阻层(230)的平坦层(240)、设于平坦层(240)上的BPS遮光层(250)、设于平坦层(240)上的像素电极(260)、及设于BPS遮光层(250)上的反射电极(270)；
所述BPS遮光层(250)包括黑色矩阵(251)、设于黑色矩阵(251)上且间隔设置的主隔垫物(252)及辅助隔垫物(253)，所述黑色矩阵(251)上在除主隔垫物(252)及辅助隔垫物(253)所在区域以外的区域具有多个第一凸起(2511)；所述反射电极(270)设于所述黑色矩阵(251)上且覆盖多个第一凸起(2511)而在其上表面形成多个凸面，所述反射电极(270)与像素电极(260)相连接；
所述液晶层(300)对应反射电极(270)的区域的厚度为对应像素电极(260)的区域的厚度的二分之一。
2.如权利要求1所述的透反式液晶显示装置，其特征在于，所述平坦层(240)上具有多个第二凸起(241)，使黑色矩阵(251)上对应多个第二凸起(241)形成多个第一凸起(2511)。
3.如权利要求1所述的透反式液晶显示装置，其特征在于，还包括设于上基板(100)远离下基板(200)一侧的上偏光片(400)、设于下基板(200)远离上基板(100)一侧的下偏光片(500)、及分别设于上基板(100)与上偏光片(400)之间、下基板(200)与下偏光片(500)之间的两个四分之一波片(700)；
所述上偏光片(400)的光轴与下偏光片(500)的光轴相平行；
所述透反式液晶显示装置还包括设于下偏光片(500)远离下基板(200)一侧的背光模组(600)。
4.如权利要求1所述的透反式液晶显示装置，其特征在于，所述上基板(100)包括第二衬底(110)、及设于第二衬底(110)靠近下基板(200)一侧上的公共电极(120)。
5.如权利要求1所述的透反式液晶显示装置，其特征在于，所述反射电极(270)的材料为铝或银。
6.一种透反式液晶显示装置的制作方法，其特征在于，包括如下步骤：
步骤S1、提供第一衬底(210)，在第一衬底(210)上依次形成TFT阵列层(220)及色阻层(230)；
步骤S2、在色阻层(230)上形成平坦层(240)；
步骤S3、在平坦层(240)上涂布BPS材料层(250’)，利用一第一光罩对BPS材料层(250’)进行光刻制程，形成BPS遮光层(250)；
所述BPS遮光层(250)包括黑色矩阵(251)、设于黑色矩阵(251)上且间隔设置的主隔垫物(252)及辅助隔垫物(253)；所述黑色矩阵(251)上在除主隔垫物(252)及辅助隔垫物(253)所在区域以外的区域具有多个第一凸起(2511)；
步骤S4、在平坦层(240)上形成像素电极(260)，在黑色矩阵(251)上形成覆盖多个第一凸起(2511)的反射电极(270)，所述反射电极(270)上表面对应多个第一凸起(2511)形成多个凸面，所述像素电极(260)与反射电极(270)相连，得到下基板(200)；
步骤S5、提供上基板(100)，将所述下基板(200)与上基板(100)对组，在上基板(100)与下基板(200)之间设置液晶层(300)；
所述液晶层(300)对应反射电极(270)的区域的厚度为对应像素电极(260)的区域的厚度的二分之一。
7.如权利要求6所述的透反式液晶显示装置的制作方法，其特征在于，所述第一光罩为半色调光罩或灰阶光罩。
8.如权利要求6所述的透反式液晶显示装置的制作方法，其特征在于，
所述步骤S2具体包括：
步骤S21、在色阻层(230)上涂布有机材料层(240’)；
步骤S22、利用一第二光罩对所述有机材料层(240’)进行曝光及显影，在有机材料层(240’)上形成多个有机材料图案(241’)，每一有机材料图案(241’)均包括堆叠的第一有机块(2411’)及第二有机块(2412’)，第一有机块(2411’)的尺寸大于第二有机块(2412’)的尺寸；
步骤S23、对多个有机材料图案(241’)进行烘烤再成型，形成具有多个第二凸起(241)的平坦层(240)；
所述步骤S3在平坦层(240)上形成BPS遮光层(250)后，黑色矩阵(251)上对应多个第二凸起(241)形成多个第一凸起(2511)。
9.如权利要求7所述的透反式液晶显示装置的制作方法，其特征在于，所述步骤S3具体包括：
步骤S31、在平坦层(240)上涂布BPS材料层(250’)；
步骤S32、利用第一光罩对BPS材料层(250’)进行曝光显影，形成黑色矩阵(251)、及设于黑色矩阵(251)上的主隔垫物(252)及辅助隔垫物(253)，同时在黑色矩阵(251)上除主隔垫物(252)及辅助隔垫物(253)所在区域以外的区域形成多个黑色光阻图案(251’)，每一黑色光阻图案(251’)均包括堆叠的第一黑色光阻块(2511’)及第二黑色光阻块(2512’)，第一黑色光阻块(2511’)的尺寸大于第二黑色光阻块(2512’)的尺寸；
步骤S33、对多个黑色光阻图案(251’)进行烘烤再成型，在黑色矩阵(251)上形成多个第一凸起(2511)。
10.如权利要求6所述的透反式液晶显示装置的制作方法，其特征在于，还包括：
步骤S6、在上基板(100)远离下基板(200)一侧设置上偏光片(400)，在下基板(200)远离上基板(100)一侧设置下偏光片(500)，在上基板(100)与上偏光片(400)之间、下基板(200)与下偏光片(500)之间分别设置四分之一波片(700)，在下偏光片(500)远离下基板(200)一侧设置背光模组(600)，得到液晶显示装置；
所述上基板(100)包括第二衬底(110)、及设于第二衬底(110)上的公共电极(120)，所述步骤S5中将所述下基板(200)具有像素电极(260)的一侧与所述上基板(100)具有公共电极(120)的一侧对组。
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