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CN104894534B - 气相沉积设备 - Google Patents

气相沉积设备 Download PDF

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CN104894534B
CN104894534B CN201510364626.5A CN201510364626A CN104894534B CN 104894534 B CN104894534 B CN 104894534B CN 201510364626 A CN201510364626 A CN 201510364626A CN 104894534 B CN104894534 B CN 104894534B
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clamping
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Abstract

本发明涉及显示器制备技术领域，公开了一种气相沉积设备，提高了设备的使用方便性，减少了背板上阴影效应的现象的发生。气相沉积设备，包括：真空腔室，位于真空腔室内的背板、位于背板上方的金属掩膜以及用于支撑背板的基座，金属掩膜上设有抗等离子体涂布层，还包括：位于基座两个相对侧的夹持机构，每个夹持机构用于夹持金属掩膜的一端以将金属掩膜拉开，且用于夹持同一金属掩膜的两个夹持机构之间的距离可调；对位系统，用于控制每个夹持机构以设定拉力拉开金属掩膜，还用于分别控制每个夹持机构移动以将金属掩膜贴合在背板的设定位置上。

Description

气相沉积设备
技术领域
本发明涉及显示器制备技术领域，特别涉及一种气相沉积设备。
背景技术
现有的气相沉积设备因需要避免在背板涂胶区发生成膜现象，需配合使用金属掩膜遮罩在背板与等离子体产生源之间，主要方法为将金属掩膜焊接在不锈钢框架上，再放置到气相沉积设备内使用，但使用铁镍合金的金属掩膜会与真空腔室内的氟离子反应，因此会影响到金属掩膜的使用寿命，现有的做法为将金属掩膜焊接在不锈钢框架上后，一起镀上一层抗等离子体的图布层，再放置到气相沉积设备内使用，但不锈钢框架容易产生形变，容易在背板上产生阴影效应，且不同尺寸的金属掩膜需要配合使用不同尺寸的金属框架，增加了气相沉积设备使用的繁琐性。
发明内容
本发明提供了一种气相沉积设备，提高了设备的使用方便性，减少背板上阴影效应的现象的发生。
为达到上述目的，本发明提供以下技术方案：
本发明提供了一种气相沉积设备，包括：真空腔室，位于所述真空腔室内的背板、位于背板上方的金属掩膜以及用于支撑所述背板的基座，所述金属掩膜上设有抗等离子体涂布层，还包括：
位于所述基座两个相对侧的夹持机构，每个夹持机构用于夹持所述金属掩膜的一端以将所述金属掩膜拉开，且用于夹持同一金属掩膜的两个夹持机构之间的距离可调；
对位系统，用于控制每个夹持机构以设定拉力拉开所述金属掩膜，还用于分别控制每个夹持机构移动以将所述金属掩膜贴合在所述背板的设定位置上。
本发明提供的气相沉积设备，通过设置夹持机构和对位系统，可以省去现有技术中的不锈钢框架，节省不锈钢框架的生产成本以及运输成本，同时可以避免因不锈钢框架变形造成背板上形成阴影的现象的发生；本发明提供的气相沉积设备通过夹持机构便可实现将金属掩膜拉开，且将两个夹持机构之间的距离设置为可调的，可以使得夹持机构能够夹持不同尺寸的金属掩膜，进而可以使得气相沉积设备可以对不同尺寸的背板进行金属掩膜的贴附。
所以，本发明提供的气相沉积设备，提高了设备的使用方便性，减少了背板上阴影效应的现象的发生。
在一些可选的实施方式中，所述对位系统包括：
采集装置，用于采集所述背板上的第一对位标识图像信息和所述金属掩膜上的第二对位标识图像信息；
与每个夹持机构一一对应的搬送装置，所述搬送装置用于带动与其对应的夹持机构沿第一设定方向、第二设定方向以及第三设定方向移动，其中所述第一设定方向和第二设定方向与水平面平行，且第一设定方向和第二设定方向垂直，所述第三设定方向与水平面垂直；
与所述采集装置和每个搬送装置信号连接的控制装置，所述控制装置根据接收到的第一对位标识图像信息和第二对位标识图像信息、以及所述设定拉力分别控制每个搬送装置工作。搬送装置可以在三个方向上移动金属掩膜，使得金属掩膜与背板较好的定位，另外以设定的拉力控制夹持机构，可以避免金属掩膜被扯断损坏的现象的发生。
在一些可选的实施方式中，所述搬送装置包括：
底座；
传动杆，所述传动杆的一端与所述底座固定连接，所述传动杆的另一端与一夹持机构固定连接；
安装于所述底座、驱动所述底座沿所述第一设定方向移动的第一运动机构；
安装于所述底座、驱动所述底座沿所述第二设定方向移动的第二运动机构；
安装于所述底座、驱动所述底座沿所述第三设定方向移动的第三运动机构。
在一些可选的实施方式中，所述夹持机构包括：平行设置的第一夹板和第二夹板，所述第一夹板与所述传动杆的另一端固定连接，所述第一夹板和所述第二夹板之间通过卡口和卡扣连接。便于夹持金属掩膜。
在一些可选的实施方式中，所述金属掩膜上设有与所述卡扣配合的通孔。便于定位金属掩膜在夹持机构内的位置。
在一些可选的实施方式中，所述搬送装置还包括：与所述控制装置信号连接的压力传感器，用于检测所述传动杆所受的压力信息，所述控制装置根据所述压力信息控制所述底座在第三设定方向上的移动量。搬送装置沿第三设定方向将金属掩膜压合至接触背板，压力传感器根据检测的压力信息，可以调节金属掩膜沿第三方向的移动量，使得金属掩膜均匀的与背板接触，避免金属掩膜一侧接触到背板，另一侧没有接触到背板的现象的发生。
在一些可选的实施方式中，所述底座、第一运动机构、第二运动机构以及第三运动机构位于所述真空腔室外，所述传动杆的一端伸入所述真空腔室，所述传动杆的另一端位于所述真空腔室外、且通过波纹管与所述真空腔室的外壁密封连接。这样的设计，可以是使得底座、第一运动机构、第二运动机构以及第三运动机构不占用真空腔室的内部空间，同时又可以实现带动夹持机构移动的目的，另外通过波纹管达到使真空腔室处于密封的状态。
在一些可选的实施方式中，所述第一运动机构为第一伸缩缸，所述第一伸缩缸的缸体相对所述真空腔室固定，所述第一伸缩缸的伸缩杆的伸缩方向与所述第一设定方向平行；和/或；
所述第二运动机构为第二伸缩缸，所述第二伸缩缸的缸体相对所述真空腔室固定，所述第二伸缩缸的伸缩杆的伸缩方向与所述第二设定方向平行；和/或；
所述第三运动机构为第三伸缩缸，所述第三伸缩缸的缸体相对所述真空腔室固定，所述第三伸缩缸的伸缩杆的伸缩方向与所述第三设定方向平行。
在一些可选的实施方式中，所述第一运动机构包括：与所述底座传动连接的第一螺纹丝杠，所述第一螺纹丝杠的轴线与所述第一设定方向平行；与所述真空腔室相对固定、且与所述第一螺纹丝杠的一端传动连接的第一驱动电机；和/或，
所述第二运动机构包括：与所述底座传动连接的第二螺纹丝杠，所述第二螺纹丝杠的轴线与所述第二设定方向平行；与所述真空腔室相对固定、且与所述第二螺纹丝杠的一端传动连接的第二驱动电机；和/或，
所述第三运动机构包括：与所述底座传动连接的第三螺纹丝杠，所述第三螺纹丝杠的轴线与所述第三设定方向平行；与所述真空腔室相对固定、且与所述第三螺纹丝杠的一端传动连接的第三驱动电机。
在一些可选的实施方式中，所述采集装置为电荷耦合元件镜头。
附图说明
图1为本发明实施例提供的第一种气相沉积设备的部分结构示意图；
图2为本发明实施例提供的第二种气相沉积设备的部分结构示意图；
图3为本发明实施例提供的第三种气相沉积设备的部分结构示意图；
图4为本发明实施例提供的第四种气相沉积设备的部分结构示意图；
图5为本发明实施例提供的气相沉积设备中的搬送装置的部分结构示意图；
图6为金属掩模板未均匀接触到背板上的示意图。
附图标记：
1-真空腔室 2-背板
3-金属掩膜 4-基座
5-夹持机构 51-第一夹板
52-第二夹板 53-卡扣
6-对位系统 61-采集装置
62-搬送装置 621-底座
622-传动杆 623-第一运动机构
624-第二运动机构 625-第三运动机构
626-压力传感器 63-控制装置
7-波纹管
具体实施方式
下面将结合本发明实施例中的附图，对本发明实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例仅仅是本发明一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本发明中的实施例，本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本发明专利保护的范围。
如图1所示，图1为本发明实施例提供的第一种气相沉积设备的部分结构示意图；本发明提供的气相沉积设备，包括：真空腔室1，位于真空腔室1内的背板2、位于背板2上方的金属掩膜3以及用于支撑背板2的基座4，金属掩膜3上设有抗等离子体涂布层，还包括：
位于基座4两个相对侧的夹持机构5，每个夹持机构5用于夹持金属掩膜3的一端以将金属掩膜3拉开，且用于夹持同一金属掩膜3的两个夹持机构5之间的距离可调；
对位系统6，用于控制每个夹持机构5以设定拉力拉开金属掩膜3，还用于分别控制每个夹持机构5移动以将金属掩膜3贴合在背板2的设定位置上。
本发明提供的气相沉积设备，通过设置夹持机构5和对位系统6，可以省去现有技术中的不锈钢框架，节省不锈钢框架的生产成本以及运输成本，同时可以避免因不锈钢框架变形造成背板上形成阴影的现象的发生；本发明提供的气相沉积设备通过夹持机构5便可实现将金属掩膜3拉开，且将两个夹持机构5之间的距离设置为可调的，可以使得夹持机构5能够夹持不同尺寸的金属掩膜3，进而可以使得气相沉积设备可以对不同尺寸的背板2进行金属掩膜3的贴附。
所以，本发明提供的气相沉积设备，提高了设备的使用方便性，减少了背板上阴影效应的现象的发生。
上述气相沉积设备中的夹持机构的数量可以根据金属掩膜的数量而定，可以四个夹持机构夹持一张金属掩膜，也可以三个或者两个夹持机构夹持一张金属掩膜，现有技术中金属掩膜一般为长方形，故较佳的，四个夹持机构夹持一张金属掩膜，即每个夹持机构夹持金属掩膜的一个边，以便金属掩膜产生形变。
上述对位系统6的具体结构可以有多种，一种具体实施方式中，如图2所示，图2为本发明实施例提供的第二种气相沉积设备的部分结构示意图；对位系统6包括：
采集装置61，用于采集背板2上的第一对位标识图像信息和金属掩膜上的第二对位标识图像信息；
与每个夹持机构5一一对应的搬送装置62，搬送装置62用于带动与其对应的夹持机构5沿第一设定方向、第二设定方向以及第三设定方向移动，其中第一设定方向和第二设定方向与水平面平行，且第一设定方向和第二设定方向垂直，第三设定方向与水平面垂直；
与采集装置61和每个搬送装置62信号连接的控制装置63，控制装置63根据接收到的第一对位标识图像信息和第二对位标识图像信息、以及设定拉力分别控制每个搬送装置工作。搬送装置可以在三个方向上移动金属掩膜，使得金属掩膜与背板较好的定位，另外以设定的拉力控制夹持机构，可以避免金属掩膜被扯断损坏的现象的发生。上述第一对位标识图像信息和第二对位标识图像信息、以及设定拉力，本领域技术人员可以根据经验设定。
如图3所示，图3为本发明实施例提供的第三中气相沉积设备的结构示意图，根据需要，搬送装置可以驱动夹持机构5带动金属掩膜3移动到背板1上需要的位置处，图中金属掩膜3的数量为多个。
进一步的，如图4和图5所示，其中：图4为本发明实施例提供的第四种气相沉积设备的部分结构示意图；图5为本发明实施例提供的气相沉积设备中的搬送装置的部分结构示意图。搬送装置62包括：
底座621；
传动杆622，传动杆622的一端与底座621固定连接，传动杆622的另一端与一夹持机构5固定连接；
安装于底座621、驱动底座621沿第一设定方向移动(如图5中所示的箭头a方向)的第一运动机构623；
安装于底座621、驱动底座621沿第二设定方向(如图5中所示的箭头b方向)移动的第二运动机构624；
安装于底座621、驱动底座621沿第三设定方向(如图5中所示的箭头c方向)移动的第三运动机构625。
为了便于夹持金属掩膜3，夹持机构5包括：平行设置的第一夹板51和第二夹板52，第一夹板51与传动杆622的另一端固定连接，第一夹板51和第二夹板52之间通过卡口和卡扣53连接。卡口可以设置于第一夹板51上，卡扣设置在第二夹板52上，或者卡口设置于第二夹板52上，卡扣设置于第一夹板51上。
更进一步的，金属掩膜上设有与卡扣配合的通孔。便于定位金属掩膜在夹持机构内的位置。
一种较佳的实施方式中，如图2所示，搬送装置62还包括：与控制装置63信号连接的压力传感器626，用于检测传动杆622所受的压力信息，控制装置根据压力信息控制底座621在第三设定方向上的移动量。搬送装置沿第三设定方向将金属掩膜压合至接触背板，压力传感器根据检测的压力信息，可以调节金属掩膜沿第三方向的移动量，使得金属掩膜均匀的与背板接触，避免金属掩膜一侧接触到背板，金属掩膜的另一侧没有接触到背板的现象的发生。
如图6所示，图6为金属掩模板未均匀接触到背板上的示意图，如图所示，金属掩模板左侧未接触到背板上，此时控制装置可以通过左侧的压力传感器反馈的压力信息，控制对应的搬送装置沿第三方向向下移动夹持机构，进而可以使得金属掩模板接触到背板。
一种优选的实施方式中，底座621、第一运动机构、第二运动机构以及第三运动机构位于真空腔室外，传动杆622的一端伸入真空腔室1，传动杆622的另一端位于真空腔室1外、且通过波纹管7与真空腔室1的外壁密封连接。这样的设计，可以是使得底座621、第一运动机构、第二运动机构以及第三运动机构不占用真空腔室1的内部空间，同时又可以实现带动夹持机构移动的目的，另外通过波纹管7达到使真空腔室1处于密封的状态。
上述第一运动机构、第二运动机构以及第三运动机构的具体结构可以有多种：
可选的，第一运动机构为第一伸缩缸，第一伸缩缸的缸体相对真空腔室固定，第一伸缩缸的伸缩杆的伸缩方向与第一设定方向平行；和/或；
第二运动机构为第二伸缩缸，第二伸缩缸的缸体相对真空腔室固定，第二伸缩缸的伸缩杆的伸缩方向与第二设定方向平行；和/或；
第三运动机构为第三伸缩缸，第三伸缩缸的缸体相对真空腔室固定，第三伸缩缸的伸缩杆的伸缩方向与第三设定方向平行。即第一运动机构、第二运动机构以及第三运动机构可以同时均为伸缩缸，也可以至少一个或至少两个为伸缩缸，伸缩缸可以为油缸，也可以为气缸。
可选的，第一运动机构包括：与底座传动连接的第一螺纹丝杠，第一螺纹丝杠的轴线与第一设定方向平行；与真空腔室相对固定、且与第一螺纹丝杠的一端传动连接的第一驱动电机；和/或，
第二运动机构包括：与底座传动连接的第二螺纹丝杠，第二螺纹丝杠的轴线与第二设定方向平行；与真空腔室相对固定、且与第二螺纹丝杠的一端传动连接的第二驱动电机；和/或，
第三运动机构包括：与底座传动连接的第三螺纹丝杠，第三螺纹丝杠的轴线与第三设定方向平行；与真空腔室相对固定、且与第三螺纹丝杠的一端传动连接的第三驱动电机。即第一运动机构、第二运动机构以及第三运动机构可以同时均包含：驱动电机和螺纹丝杠，也可以至少一个或至少两个包含：驱动电机和螺纹丝杠。
可选的，上述采集装置为电荷耦合元件镜头。电荷耦合元件镜头是一种半导体器件，能够把光学影像转化为数字信号。
显然，本领域的技术人员可以对本发明进行各种改动和变型而不脱离本发明的精神和范围。这样，倘若本发明的这些修改和变型属于本发明权利要求及其等同技术的范围之内，则本发明也意图包含这些改动和变型在内。

Claims (7)

1.一种气相沉积设备，包括：真空腔室，位于所述真空腔室内的背板、位于背板上方的金属掩膜以及用于支撑所述背板的基座，所述金属掩膜上设有抗等离子体涂布层，其特征在于，还包括：
位于所述基座两个相对侧的夹持机构，每个夹持机构用于夹持所述金属掩膜的一端以将所述金属掩膜拉开，且用于夹持同一金属掩膜的两个夹持机构之间的距离可调；
对位系统，用于控制每个夹持机构以设定拉力拉开所述金属掩膜，还用于分别控制每个夹持机构移动以将所述金属掩膜贴合在所述背板的设定位置上；
所述对位系统包括：
采集装置，用于采集所述背板上的第一对位标识图像信息和所述金属掩膜上的第二对位标识图像信息；
与每个夹持机构一一对应的搬送装置，所述搬送装置用于带动与其对应的夹持机构沿第一设定方向、第二设定方向以及第三设定方向移动，其中所述第一设定方向和第二设定方向与水平面平行，且第一设定方向和第二设定方向垂直，所述第三设定方向与水平面垂直；
与所述采集装置和每个搬送装置信号连接的控制装置，所述控制装置根据接收到的第一对位标识图像信息和第二对位标识图像信息、以及所述设定拉力分别控制每个搬送装置工作；
所述搬送装置包括：
底座；
传动杆，所述传动杆的一端与所述底座固定连接，所述传动杆的另一端与一夹持机构固定连接；
安装于所述底座、驱动所述底座沿所述第一设定方向移动的第一运动机构；
安装于所述底座、驱动所述底座沿所述第二设定方向移动的第二运动机构；
安装于所述底座、驱动所述底座沿所述第三设定方向移动的第三运动机构；
所述搬送装置还包括：与所述控制装置信号连接的压力传感器，用于检测所述传动杆所受的压力信息，所述控制装置根据所述压力信息控制所述底座在第三设定方向上的移动量。
2.根据权利要求1所述的气相沉积设备，其特征在于，所述夹持机构包括：平行设置的第一夹板和第二夹板，所述第一夹板与所述传动杆的另一端固定连接，所述第一夹板和所述第二夹板之间通过卡口和卡扣连接。
3.根据权利要求2所述的气相沉积设备，其特征在于，所述金属掩膜上设有与所述卡扣配合的通孔。
4.根据权利要求1～3任一项所述的气相沉积设备，其特征在于，所述底座、第一运动机构、第二运动机构以及第三运动机构位于所述真空腔室外，所述传动杆的一端伸入所述真空腔室，所述传动杆的另一端位于所述真空腔室外、且通过波纹管与所述真空腔室的外壁密封连接。
5.根据权利要求4所述的气相沉积设备，其特征在于，所述第一运动机构为第一伸缩缸，所述第一伸缩缸的缸体相对所述真空腔室固定，所述第一伸缩缸的伸缩杆的伸缩方向与所述第一设定方向平行；和/或；
所述第二运动机构为第二伸缩缸，所述第二伸缩缸的缸体相对所述真空腔室固定，所述第二伸缩缸的伸缩杆的伸缩方向与所述第二设定方向平行；和/或；
所述第三运动机构为第三伸缩缸，所述第三伸缩缸的缸体相对所述真空腔室固定，所述第三伸缩缸的伸缩杆的伸缩方向与所述第三设定方向平行。
6.根据权利要求5所述的气相沉积设备，其特征在于，所述第一运动机构包括：与所述底座传动连接的第一螺纹丝杠，所述第一螺纹丝杠的轴线与所述第一设定方向平行；与所述真空腔室相对固定、且与所述第一螺纹丝杠的一端传动连接的第一驱动电机；和/或，
所述第二运动机构包括：与所述底座传动连接的第二螺纹丝杠，所述第二螺纹丝杠的轴线与所述第二设定方向平行；与所述真空腔室相对固定、且与所述第二螺纹丝杠的一端传动连接的第二驱动电机；和/或，
所述第三运动机构包括：与所述底座传动连接的第三螺纹丝杠，所述第三螺纹丝杠的轴线与所述第三设定方向平行；与所述真空腔室相对固定、且与所述第三螺纹丝杠的一端传动连接的第三驱动电机。
7.根据权利要求4所述的气相沉积设备，其特征在于，所述采集装置为电荷耦合元件镜头。
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