CN104819682A - 感应型位置测量设备 - Google Patents

Abstract

一种感应型位置测量设备包括标尺和传感器。该标尺包括：轨道，其具有沿着测量基准线按等间隔设置的用以控制感应电流的流动的多个控制图案；以及第一边缘部和第二边缘部，其位于测量基准线的两侧。该传感器被设置成能够沿着测量基准线与标尺相对地进行移动，以检测感应电流。该标尺还包括限制图案，这些限制图案至少设置在轨道和第一边缘部之间或者轨道和第二边缘部之间，并且用于限制感应电流的流动。

Description

感应型位置测量设备

技术领域

本发明涉及通过利用感应电流来测量位置的感应型位置测量设备。

背景技术

将用于检测通过电磁感应所产生的感应电流并且测量位置的感应型位置测量设备应用于用于以高精度测量位置的线性编码器和旋转编码器等。感应型位置测量设备与光学位置测量设备相比，具有即使在灰尘环境中也可以以高精度进行位置测量并且可以使结构简化的优点。

感应型位置测量设备包括被配置成沿着测量基准线能够相对移动的传感器和标尺。在标尺上形成有充当线圈的图案。感应型位置测量设备通过使用传感器来检测流经标尺上的图案的感应电流，并且进行用以基于所检测到的信号来获得传感器相对于标尺的位置的算术运算。

日本特开平11-223505公开了在标尺上设置有周期性地配置的导体闭环、并且利用传感器中的布线来检测流经这些导体闭环的感应电流的感应型位置测量设备。此外，日本特开2004-003975公开了在标尺中设置有开口、并且通过利用传感器感测在该开口的周围流动的感应电流来检测位置的感应型位置测量设备。为了在标尺中设置开口，周期性地冲切或者通过蚀刻去除作为导电性板材的基材的一部分。

图10A和图10B是例示传统标尺的示意平面图。图10A例示包括一行轨道T的标尺2H。图10B例示包括三行轨道T1～T3的标尺2I。顺便提及，在本申请中，将与测量基准线ML平行的轴称为X轴。将与X轴垂直且与标尺的主表面平行的轴称为Y轴。将与X轴和Y轴垂直的轴称为Z轴。

在图10A所示的标尺2H的轨道T上，在沿着X轴的方向上按等间隔设置多个控制图案21。在如标尺2H那样、控制图案21的第一边缘部251侧的形状不同于该控制图案的第二边缘部252侧的形状的情况下，在控制图案21的周围流动的感应电流i1和i1’之间发生路线差。

此外，在图10B所示的标尺2I中，并列设置有多个轨道T1～T3。在轨道T1上在沿着X轴的方向上按周期λ1设置多个控制图案211。在轨道T2上在沿着X轴的方向上按周期λ2设置多个控制图案212。在轨道T3上在沿着X轴的方向上按周期λ3设置多个控制图案213。周期λ1、λ2和λ3彼此不同。

在标尺2I中，例如，沿着轨道T1上的控制图案211流动的感应电流i1主要分布在变为最短路线的控制图案211的周围。然而，感应电流自由地流经标尺2I的整体。因此，感应电流i1的一部分在邻近轨道T2上的控制图案212的周围流动(参见感应电流i2)。

在如图10A和10B所示、使用设置有开口的标尺2H和2I的情况下，标尺上所产生的感应电流可以自由地流经标尺的整个区域。如果如图10A所示的标尺2H那样、在第一边缘部251侧的端面上存在诸如凹形状或凸形状等的不均匀部分的情况下，感应电流i1和i1’的路线受到影响。除非针对各个控制图案21、感应电流稳定地流动，否则在传感器所进行的检测中发生误差，由此产生了妨碍高精度位置测量的问题。

此外，在图10B所示的标尺2I中，通过从感应电流i1分支出的感应电流i2产生了具有轨道T2上的控制图案212的周期λ2的磁场，并且位置测量的特性受到影响。

在如标尺2I上那样并列设置有多个轨道T1～T3的情况下，原理上期望使轨道T1～T3分别独立并且使轨道T1～T3完全绝缘。然而，在这种情况下，需要制造分别与轨道T1～T3相对应的多个标尺并且将这些标尺一起贴合在绝缘性的支撑基板上。这样产生了由于贴合到一起时的位置偏差而导致质量下降并且成本增加的问题。

发明内容

本发明的目的是提供一种能够检测流经形成有周期图案的标尺的感应电流、并且能够进行精度高的位置测量的感应型位置测量设备。

根据本发明的一种感应型位置测量设备，包括：标尺，其包括轨道、第一边缘部和第二边缘部，所述轨道包括沿着测量基准线按等间隔设置的用以控制感应电流的流动的多个控制图案，所述第一边缘部和所述第二边缘部位于所述测量基准线的两侧；以及传感器，其被设置成能够沿着所述测量基准线与所述标尺相对地进行移动，以检测所述感应电流，其中，所述标尺还包括至少设置在所述轨道和所述第一边缘部之间或者所述轨道和所述第二边缘部之间、并且用于限制所述感应电流的流动的限制图案。

根据这种结构，设置了限制图案。结果，可以引入试图自由地流入控制图案和限制图案之间的间隔的感应电流并且使该感应电流的流动路线稳定。因此，使分别针对多个控制图案的感应电流的流动变均匀。换句话说，由于设置了这些限制图案，因此感应电流的流动方式受到标尺的边缘部的形状的影响变小，并且针对每多个控制图案产生稳定的感应电流。结果，可以进行精度高的位置检测。

在根据本发明的感应型位置测量设备中，期望所述限制图案设置在所述轨道和所述第一边缘部之间以及所述轨道和所述第二边缘部之间。

根据这种结构，使控制图案所控制的感应电流的流动路线在标尺的第一边缘部侧和第二边缘部侧这两侧稳定。结果，感应电流的流动方式受到标尺的第一边缘部和第二边缘部这两者的形状的影响变小。因此，可以进行精度高的位置检测。

在根据本发明的感应型位置测量设备中，期望多个所述限制图案的周期等于多个所述控制图案的周期。

根据这种结构，多个控制图案所产生的感应电流的周期没有被多个限制图案的周期干扰。结果，实现了限制图案所引起的对感应电流的限制的均匀化。

在根据本发明的感应型位置测量设备中，期望所述轨道包括：第一轨道，其包括沿着所述测量基准线按第一周期所设置的多个第一控制图案；以及第二轨道，其与所述第一轨道并列设置，并且所述第二轨道包括沿着所述测量基准线按与所述第一周期不同的第二周期所设置的多个第二控制图案，以及所述限制图案至少设置在所述第一轨道和所述第一边缘部之间、所述第一轨道和所述第二轨道之间、或者所述第二轨道和所述第二边缘部之间。

根据这种结构，利用限制图案使包括多个轨道的标尺内的各轨道中的感应电流的路线稳定。结果，感应电流的流动方式受到标尺的边缘部或邻近轨道上的图案的影响变小。因此，针对每多个控制图案产生稳定的感应电流，并且可以以高精度检测传感器相对于标尺的位置。

在根据本发明的感应型位置测量设备中，期望所述感应型位置测量设备是绝对式感应型位置测量设备，其中所述绝对式感应型位置测量设备用于基于所述第一轨道上的感应电流的检测结果和所述第二轨道上的感应电流的检测结果，来求出所述传感器相对于所述测量基准线的绝对位置，所述限制图案包括设置在所述第一轨道和所述第二轨道之间的中间限制图案，以及多个所述中间限制图案的周期等于所述第一轨道和所述第二轨道中对位置检测的分辨率施加的影响较大的轨道上的控制图案的周期。

根据这种结构，利用第一轨道和第二轨道之间所设置的中间限制图案来使第一轨道和第二轨道中的至少一个轨道上的感应电流的流动路线稳定。此外，由于多个中间限制图案的周期等于对位置检测的分辨率施加的影响较大的轨道上的控制图案的周期，因此可以防止绝对位置的测量时的分辨率下降。

附图说明

图1是例示根据实施例的感应型位置测量设备的结构的示意斜视图；

图2A和2B是例示本实施例中所应用的标尺的示意平面图；

图3A～3D是例示限制图案的形状和位置的示意平面图；

图4A和4B是例示应用于本实施例的另一变形例的标尺的示意平面图；

图5A和5B是例示限制图案的形状和位置的示意平面图；

图6是例示应用于第二实施例的标尺的示意平面图；

图7是例示应用于第二实施例的标尺的变形例的示意平面图；

图8是例示另一标尺的示例的示意斜视图；

图9A和9B是例示控制图案和限制图案的其它形式的示意斜视图；以及

图10A和10B是例示传统标尺的示意平面图。

具体实施方式

以下将参考附图来说明本发明的实施例。顺便提及，在本申请的说明书和附图中，利用相同的附图标记来表示与前面参考附图所述的元件相同的元件，并且将适当地省略针对这些元件的详细说明。

第一实施例

图1是例示根据本实施例的感应型位置测量设备的结构的示意斜视图。

图2A和2B是例示本实施例中所应用的标尺的示意平面图。

如图1所示，感应型位置测量设备100包括传感器1和标尺2。标尺2包括沿着测量基准线ML延伸的轨道T以及位于测量基准线ML两侧的第一边缘部251和第二边缘部252。

在沿与X轴平行的方向延伸的细长状标尺2的情况下，第一边缘部251和第二边缘部252是包括沿长边方向延伸的侧面的部分。轨道T设置在第一边缘部251和第二边缘部252之间。

在使用感应电流的感应型位置测量设备100中，通过对导电性板材进行加工(例如，冲切或蚀刻)来形成标尺2。作为导电性板材，例如，使用铜或不锈钢。在这种情况下，利用导电性板材自身来维持标尺2的机械强度。

在标尺2的轨道T上设置多个控制图案21。多个控制图案21是沿着测量基准线ML按等间隔设置的。控制图案21是用于控制流经标尺2的感应电流的流动的图案。控制图案21例如是孔图案。在控制图案21是孔图案的情况下，感应电流流经控制图案21的孔的周围。顺便提及，控制图案21可以是低阻抗图案。低阻抗图案是控制图案21的一部分的电气阻抗与其它部分相比变低的图案。在控制图案21是低阻抗图案的情况下，感应电流在控制图案21内流动。

传感器1被设置成能够沿着测量基准线ML与标尺2相对地进行移动。在传感器1中设置有：检测单元(未示出)，用于检测流经标尺2的感应电流；以及驱动线圈(未示出)，用于使AC(交流)电流流动。耦合至驱动线圈所产生的变化磁场的感应电流沿着与传感器1相对的控制图案21流动。传感器1中的检测单元检测沿着与传感器1相对的控制图案21流动的感应电流。

控制单元3连接至传感器1。控制单元3向传感器1中的驱动线圈供给AC电流。另外，控制单元3接收基于传感器1中的检测单元所检测到的感应电流的信号，并且进行用以获得传感器1相对于测量基准线ML的位置的算术运算。

感应型位置测量设备100基于传感器1所检测到的感应电流的信息来检测传感器1相对于标尺2的位置。换句话说，传感器1顺次通过按等间距排列的多个控制图案21，结果传感器1所检测到的感应电流的大小周期性地改变。控制单元3可以基于从传感器1输出的感应电流的检测信号的周期变化，来进行用以获得传感器1相对于测量基准线ML的位置的算术运算。

在根据本实施例的感应型位置测量设备100中，在标尺2上设置限制图案22。限制图案22设置在两侧、即设置在轨道T和第一边缘部251之间以及轨道T和第二边缘部252之间。限制图案22是限制流经标尺2的感应电流的流动方式的图案。

如图2A所示，标尺2上所设置的限制图案22例如是孔图案。在与Z轴平行的方向上所观看的各限制图案22的面积小于在与Z轴平行的方向上所观看的各控制图案21的面积。由于设置了这些限制图案22，因此对在各控制图案21的周围流动的感应电流i1的流动方式进行了限制。换句话说，控制图案21的周围流动的感应电流i1中的试图沿第一边缘部251和第二边缘部252的方向流动的部分变得难以流动到限制图案22的外侧。结果，感应电流i1以被引入控制图案21和限制图案22之间的方式流动。因此，使得根据各控制图案21的感应电流i1的流动方式稳定。

期望限制图案22被设置成与多个控制图案21各自相对应。另外，期望多个限制图案22是按与平行于X轴的多个控制图案21的周期λ相同的周期而设置的。结果，限制图案22所产生的磁场分布的周期与控制图案21所产生的磁场分布的周期一致，并且实现了磁场分布的均匀化。结果，提高了传感器1所进行的感应电流i1的检测的精度。

顺便提及，期望使控制图案21和第一边缘部251侧上的限制图案22之间的间隔等于控制图案21和第二边缘部252侧上的限制图案22之间的间隔。结果，在控制图案21的第一边缘部251侧和第二边缘部252侧上实现了磁场分布的进一步均匀化。

即使在第一边缘部251的端面上存在诸如凹形状或凸形状等的不均匀部分，通过使用设置有这种限制图案22的标尺2，感应电流i1的路线受到第一边缘部251的形状的影响也变小。

另外，在标尺2中，在控制图案21的第二边缘部252侧上也设置限制图案22。即使在控制图案21的第一边缘部251侧的形状不同于控制图案21的第二边缘部252侧的形状的情况下，也抑制了控制图案21的周围流动的感应电流i1的路线之间的差异。结果，使控制图案21所产生的磁场分布在第一边缘部251侧和第二边缘部252侧之间变均匀，结果提高了传感器1所进行的感应电流i1的检测的精度。

第一实施例的变形例

图2B示出应用于本实施例的变形例的标尺2B。在标尺2B中，在轨道T和第一边缘部251之间设置限制图案22。在轨道T和第二边缘部252之间没有设置限制图案22。

在标尺2B中，以这种方式在轨道T和第一边缘部251之间设置限制图案22。即使在第一边缘部251侧的端面上存在诸如凹形状或凸形状等的不均匀部分，由于感应电流i1的路线被限制图案22遮断，因此感应电流i1的路线受到第一边缘部251侧的形状的影响也变小。

同样在标尺2B中，期望以与图2A所示的标尺2相同的方式在多个控制图案21各自和第一边缘部251之间设置限制图案22。另外，期望多个限制图案22是按与平行于X轴的多个控制图案21的周期λ相同的周期所设置的。结果，限制图案22所产生的磁场分布的周期与控制图案21所产生的磁场分布的周期一致，结果实现了磁场分布的均匀化。结果，提高了传感器1所进行的感应电流i1的检测的精度。

顺便提及，在根据本变形例的标尺2B中，在轨道T和第一边缘部251之间或者在轨道T和第二边缘部252之间设置限制图案22就足够了。换句话说，尽管没有示出，但可以使用在轨道T和第二边缘部252之间设置限制图案22、而在轨道T和第一边缘部251之间没有设置限制图案22的结构。即使在这种情况下在第二边缘部252的端面上存在诸如凹形状或凸形状等的不均匀部分，由于感应电流i1的路线被限制图案22遮断，因此感应电流i1的路线受到第二边缘部252侧的形状的影响也变小。

图3A～3D是例示限制图案的形状和位置的示意平面图。在图3A～3D的任何图中，例示出一个控制图案21和一个限制图案22之间的关系。然而，这同样适用于其它的控制图案21和其它的限制图案22之间的关系。

在图3A～3C所示的示例中，控制图案21的平行于Y轴的中心轴y1与限制图案22的平行于Y轴的中心轴y2一致。其中，图3A示出限制图案22在平行于X轴的方向上的长度与控制图案21在平行于X轴的方向上的长度大致相等的示例。顺便提及，在本实施例中，“大致”意味着容许制造上的误差。图3B示出限制图案22在平行于X轴的方向上的长度比控制图案21在平行于X轴的方向上的长度短的示例。图3C示出限制图案22在平行于X轴的方向上的长度比控制图案21在平行于X轴的方向上的长度长的示例。

图3D示出控制图案21的中心轴y1与限制图案22的中心轴y2不一致的示例。换句话说，在该示例中，限制图案22的中心轴y2以相对于控制图案21的中心轴y1存在偏移的方式进行配置。

在任何示例中，根据控制图案21的周围的磁场分布来适当地选择限制图案22的大小和位置。顺便提及，在控制图案21的第一边缘部251侧和第二边缘部252侧这两者上设置限制图案22的情况下，两侧上的限制图案22的与Y轴平行的中心轴可以彼此一致、或者可以彼此不一致。

第一实施例的其它变形例

图4A和4B是例示应用于本实施例的其它变形例的标尺的示意平面图。

在图4A所示的标尺2C中，在轨道T和第一边缘部251之间设置限制图案22。在图4B所示的标尺2D中，在轨道T和第一边缘部251之间以及在轨道T和第二边缘部252之间都设置限制图案22。在标尺2C和标尺2D这两者中，在从与Y平行的方向观看的情况下，控制图案21和限制图案22没有重叠。

在标尺2C中，以这种方式在轨道T和第一边缘部251之间设置限制图案22。即使在第一边缘部251侧的端面上存在诸如凹形状或凸形状等的不均匀部分，由于感应电流i1的路线被限制图案22遮断，因此感应电流i1的路线受到第一边缘部251侧的形状的影响也变小。

此外，即使在控制图案21的第一边缘部251侧的形状不同于控制图案21的第二边缘部252侧的形状的情况下，在标尺D中也抑制了控制图案21周围流动的感应电流i1之间的路线的差异。结果，使控制图案21所产生的磁场分布在第一边缘部251侧和第二边缘部252侧之间变得均匀，结果提高了传感器1所进行的感应电流i1的检测的精度。

图5A和5B是例示限制图案22的形状和位置的示意平面图。图5A示出在两个邻近控制图案21在与X轴平行的方向上的中央位置设置限制图案22的示例。换句话说，在利用y11和y12来表示两个邻近控制图案21的与Y轴平行的中心轴、并且利用y21来表示限制图案22的与Y轴平行的中心轴的情况下，在与X轴平行的方向上，中心轴y11和中心轴y21之间的距离x1大致等于中心轴y12和中心轴y21之间的距离x2。

图5B示出限制图案22被设置成偏向两个邻近控制图案21中的任一控制图案的示例。在图5B所示的示例中，在与X轴平行的方向上，中心轴y11和中心轴y21之间的距离x1比中心轴y12和中心轴y21之间的距离x2短。在这两个示例中，根据控制图案21周围的磁场分布来适当地进行选择。

第二实施例

现在将说明第二实施例。

第二实施例是用于测量传感器1相对于测量基准线ML的绝对位置的绝对式感应型位置测量设备。

图6是例示应用于第二实施例的标尺的示意平面图。

在图6所示的标尺2E中，并列设置有多个轨道T1～T3。通过使用标尺2E，可以将使用多个轨道T1～T3所进行的感应电流的检测的结果进行合成，并且测量传感器1相对于测量基准线ML的绝对位置。顺便提及，轨道T1是与其它的轨道T2和T3相比、对位置检测的分辨率施加的影响更大的轨道。

在标尺2E中，在轨道T1上沿与X轴平行的方向按周期λ1设置多个控制图案211。在轨道T2上沿与X轴平行的方向按周期λ2设置多个控制图案212。在轨道T3上沿与X轴平行的方向按周期λ3设置多个控制图案213。周期λ1、λ2和λ3彼此不同。

在标尺2E中，在第一边缘部251和离第一边缘部251最近的轨道T1之间设置限制图案221。期望限制图案221分别设置在多个控制图案211和第一边缘部251之间。另外，期望多个限制图案221是沿与X轴平行的方向按与多个控制图案211的周期λ1相同的周期λ所设置的。

此外，在标尺2E中，设置有限制图案(中间限制图案)222。限制图案222设置在轨道T1和轨道T2之间。换句话说，限制图案222设置在轨道T1的控制图案211的在平行于Y轴的方向上与限制图案221相对的位置。

期望限制图案222分别设置在多个控制图案211和轨道T2之间。另外，期望多个限制图案222是以与限制图案221相同的方式沿平行于X轴的方向按与多个控制图案211的周期λ相同的周期所设置的。

此外，期望在与Y轴平行的方向上，控制图案211和限制图案221之间的间隔与控制图案211和限制图案222之间的间隔大致相等。

在标尺2E中，在与Y轴平行的方向上，在控制图案21的两侧设置限制图案221和222。结果，感应电流i1受到第一边缘部251侧的形状和邻近轨道T2的影响变小，并且实现了感应电流i1的均匀化。

具体地，即使在第一边缘部251的端面上存在诸如凹形状或凸形状等的不均匀部分，由于感应电流i1的路线被限制图案221遮断，因此感应电流i1的路线受到第一边缘部251侧的形状的影响也变小。

另外，由于轨道T1和轨道T2之间所设置的限制图案222，可以抑制轨道T1上的控制图案211周围流动的感应电流i1泄漏至邻近轨道T2。结果，使多个控制图案211各自所产生的磁场分布变均匀，并且提高了传感器1所进行的感应电流i1的检测的精度。

关于限制图案221在与X轴平行的方向上的长度L相对于两个邻近限制图案221之间的间隔S的比率，随着长度L变长，遮断感应电流i1的路线的效果变高。另一方面，随着长度L变长，标尺2E的机械强度变低。因此，从遮断感应电流i1的路线的效果和机械强度的观点出发，适当地设置长度L相对于间隔S的比率。

图7是示出应用于第二实施例的标尺的变形例的示意平面图。

在图7所示的标尺2F中，在离第一边缘部251最近的轨道T1和第一边缘部251之间设置限制图案221。在标尺2F中，不同于图6所示的标尺2E，没有设置限制图案(中间限制图案)222。

在标尺2F中，在轨道T1和第一边缘部251之间设置限制图案221。即使在第一边缘部251的端面上存在诸如凹形状或凸形状等的不均匀部分，由于感应电流i1的路线被限制图案221遮断，因此感应电流i1的路线受到第一边缘部251侧的形状的影响也变小。

顺便提及，在图6所示的标尺2E中，说明了针对轨道T1上的控制图案211设置限制图案221和222的示例。然而，可以针对其它的轨道T2和T3上的控制图案212和213分别设置相似的限制图案221和222。在这种情况下，两个邻近轨道之间所设置的限制图案222可以由这两个轨道兼用。在限制图案222由这两个轨道兼用的情况下，期望如下：根据对位置检测的分辨率施加的影响大的轨道T上的控制图案的周期、或者根据期望使磁场分布变得更均匀的轨道上的控制图案的周期，来设置限制图案222的周期。

此外，在图6和7分别所示的标尺2E和2F中，可以在所有的轨道T1～T3上的各个控制图案211、212和213的两侧上分别设置限制图案221和222。

此外，在图6和7分别所示的标尺2E和2F中，已经说明了在与Y轴平行的方向上观看的情况下、控制图案211与限制图案221和222重叠的示例。然而，如图4A和4B以及图5A和5B所示，在与Y轴平行的方向上观看的情况下，可以使控制图案211与限制图案221和222不重叠。

其它变形例

在上述实施例中，作为标尺2、2A～2F，已经例示了通过对导电性板材进行冲切或蚀刻所加工得到的带状标尺。然而，如图8的示意斜视图所示，可以在绝缘性基板(例如，玻璃基板)20的表面上形成标尺2G。通过利用铜箔覆盖基板20的表面、然后通过蚀刻等进行开口，来形成标尺2G上的控制图案21和限制图案22。

此外，在上述实施例中，已经主要说明了控制图案21和限制图案22是孔图案的示例。然而，控制图案21和限制图案22可以并非孔图案。

图9A和9B是例示控制图案和限制图案的其它形式的示意斜视图。

图9A所示的控制图案21和限制图案22被形成为相对于标尺2的材料表面呈凸型。图9B所示的控制图案21和限制图案22被形成为相对于标尺2的材料表面呈凹形。这样，在标尺2中以如下方式设置控制图案21和限制图案22就足够了：相对于其它部分，在与感应电流有关的阻抗方面有所不同。

此外，与Z轴平行的方向观看的情况下的控制图案21和限制图案22的形状不限于所示形状，而且还可以采用除正方形和矩形以外的诸如多边形、圆形、椭圆形或长圆形等的合适形状。

此外，在上述实施例中，已经说明了使多个限制图案22的周期与多个控制图案21的周期一致的示例。然而，这些周期也可以彼此不一致。

在根据实施例的感应型位置测量设备100中，形成有周期图案的标尺上的感应电流的流动受到标尺的边缘部或邻近图案的影响变小，并且可以进行精度高的位置测量。

已经说明了实施例和各种示例。然而，本发明不限于这些示例。例如，在本领域技术人员针对以上所述的实施例或各种示例适当地进行组件的添加或删除或者设计改变、或者适当地组合实施例或各种示例的特征的情况下，只要这些结果没有背离本发明的精神，这些结果就包括在本发明的范围内。

产生上的可利用性

本发明可以用于线性编码器以外的旋转编码器。此外，本发明可以应用于绝对型和增量型这两种编码器。

Claims (6)

1.一种感应型位置测量设备，包括：

标尺，其包括轨道、第一边缘部和第二边缘部，所述轨道包括沿着测量基准线按等间隔设置的用以控制感应电流的流动的多个控制图案，所述第一边缘部和所述第二边缘部位于所述测量基准线的两侧；以及

传感器，其被设置成能够沿着所述测量基准线与所述标尺相对地进行移动，以检测所述感应电流，

其中，所述标尺还包括至少设置在所述轨道和所述第一边缘部之间或者所述轨道和所述第二边缘部之间、并且用于限制所述感应电流的流动的限制图案。

2.根据权利要求1所述的感应型位置测量设备，其中，所述限制图案设置在所述轨道和所述第一边缘部之间以及所述轨道和所述第二边缘部之间。

3.根据权利要求1所述的感应型位置测量设备，其中，多个所述限制图案的周期等于多个所述控制图案的周期。

4.根据权利要求2所述的感应型位置测量设备，其中，多个所述限制图案的周期等于多个所述控制图案的周期。

5.根据权利要求1所述的感应型位置测量设备，其中，

所述轨道包括：

第一轨道，其包括沿着所述测量基准线按第一周期所设置的多个第一控制图案；以及

第二轨道，其与所述第一轨道并列设置，并且所述第二轨道包括沿着所述测量基准线按与所述第一周期不同的第二周期所设置的多个第二控制图案，以及

所述限制图案至少设置在所述第一轨道和所述第一边缘部之间、所述第一轨道和所述第二轨道之间、或者所述第二轨道和所述第二边缘部之间。

6.根据权利要求5所述的感应型位置测量设备，其中，

所述感应型位置测量设备是绝对式感应型位置测量设备，其中所述绝对式感应型位置测量设备用于基于所述第一轨道上的感应电流的检测结果和所述第二轨道上的感应电流的检测结果，来求出所述传感器相对于所述测量基准线的绝对位置，

所述限制图案包括设置在所述第一轨道和所述第二轨道之间的中间限制图案，以及

多个所述中间限制图案的周期等于所述第一轨道和所述第二轨道中对位置检测的分辨率施加的影响较大的轨道上的控制图案的周期。