WO2024225107A1

WO2024225107A1 - 含フッ素エーテル化合物、磁気記録媒体用潤滑剤および磁気記録媒体

Info

Publication number: WO2024225107A1
Application number: PCT/JP2024/015070
Authority: WO
Inventors: 優丹治; 康平嵯峨
Original assignee: 株式会社レゾナック
Priority date: 2023-04-28
Filing date: 2024-04-16
Publication date: 2024-10-31

Abstract

下記式で表される含フッ素エーテル化合物とする。Ｒ１－ＣＨ２－Ｒ２［－ＣＨ２－Ｒ３－ＣＨ２－Ｒ２］ｘ－ＣＨ２－Ｒ４（ｘは１～２。Ｒ２はパーフルオロポリエーテル鎖。Ｒ３は極性基を１個～４個有する２価の連結基。Ｒ１およびＲ４は極性基を１個～４個有し、炭素原子数が１～５０である末端基。Ｒ１およびＲ４のうち少なくとも一方は－Ｏ－Ｘ－ＣＨ（ＯＨ）－ＣＨ２ＯＨ（Ｘは、１個～２個の極性基および１個～３個のエーテル酸素原子の少なくとも１つを含んでもよい炭素原子数２～３０の２価の有機基。Ｘは、極性基およびエーテル酸素原子のいずれにも結合しない炭素原子を少なくとも１つ含む。））

Description

含フッ素エーテル化合物、磁気記録媒体用潤滑剤および磁気記録媒体

　本発明は、含フッ素エーテル化合物、磁気記録媒体用潤滑剤および磁気記録媒体に関する。
　本願は、２０２３年４月２８日に、日本に出願された特願２０２３－０７４９８２号に基づき優先権を主張し、その内容をここに援用する。

　磁気記録再生装置の記録密度を向上させるために、高記録密度に適した磁気記録媒体の開発が進められている。
　従来、磁気記録媒体として、基板上に記録層を形成し、記録層上にカーボンなどからなる保護層を形成したものがある。保護層は、記録層に記録された情報を保護するとともに、磁気ヘッドの摺動性を高める。しかし、記録層上に保護層を設けただけでは、磁気記録媒体の耐久性は十分に得られない。このため、一般に、保護層の表面に潤滑剤を塗布して潤滑層を形成している。

　磁気記録媒体の潤滑層を形成する際に用いられる潤滑剤としては、例えば、－ＣＦ_２－を含む繰り返し構造を有するフッ素系のポリマーの末端に、水酸基、アミノ基などの極性基を有する化合物を含有するものが提案されている。

　例えば、特許文献１および特許文献２には、グリセリン構造（－Ｏ－ＣＨ_２－ＣＨ（ＯＨ）－ＣＨ_２－Ｏ－）の両端にメチレン基（－ＣＨ_２－）が結合した２価の連結基を介して、２つのパーフルオロポリエーテル鎖が結合した骨格を有し、その両末端に、メチレン基を介して、極性基を有する末端基が結合している含フッ素エーテル化合物が開示されている。

　特許文献３および特許文献４には、メチレン基とメチレン基の水素原子の１つが水酸基で置換された基（－ＣＨ（ＯＨ）－）とを含み、水酸基を２つ有する２価の連結基を介して、２つのパーフルオロポリエーテル鎖が結合した骨格を有し、その両末端に、メチレン基を介して極性基を有する有機基である末端基が結合している含フッ素エーテル化合物が開示されている。

　特許文献５には、３つのパーフルオロポリエーテル鎖が、メチレン基とグリセリン構造を介して結合した骨格を有し、その両側に、メチレン基を介して極性基を有する末端基がそれぞれ結合されている含フッ素エーテル化合物が開示されている。

米国特許第１０５４０９９７号明細書（Ｂ）国際公開第２０２１／２５１３３５号（Ａ）特許第５７４３４３８号公報（Ｂ）特許第６８０４９８１号公報（Ｂ）国際公開第２０２２／２１５７２６号（Ａ）

　磁気記録再生装置の大容量化に向けて、高記録密度に適した磁気記録媒体の開発が進められている。近年、磁気記録媒体の記録密度向上に向けて、より一層、磁気ヘッドと磁気記録媒体の磁性層との距離を短くし、磁気スペーシング（浮上高さ）を低減することが要求されている。このため、磁気記録媒体における潤滑層の厚みをより薄くすることが求められている。

　しかし、一般的に潤滑層の厚みを薄くすると、磁気記録媒体の耐腐食性が低下する傾向がある。また、磁気ヘッドの浮上量を小さくすると、潤滑層中の含フッ素エーテル化合物が磁気ヘッドに付着するピックアップが発生する場合がある。

　本発明は、上記事情を鑑みてなされたものであり、優れた耐腐食性を有し、かつピックアップを抑制できる潤滑層を形成でき、磁気記録媒体用潤滑剤の材料として好適に用いることができる含フッ素エーテル化合物を提供することを目的とする。
　また、本発明は、本発明の含フッ素エーテル化合物を含み、耐腐食性が良好で、かつピックアップ抑制効果の高い潤滑層を形成できる磁気記録媒体用潤滑剤を提供することを目的とする。
　また、本発明は、本発明の含フッ素エーテル化合物を含む潤滑層を有する、耐腐食性が良好で、ピックアップ抑制効果の高い磁気記録媒体を提供することを目的とする。

　本発明は、以下の態様を含む。

［１］　下記式（１）で表されることを特徴とする、含フッ素エーテル化合物。
Ｒ^１－ＣＨ_２－Ｒ^２［－ＣＨ_２－Ｒ^３－ＣＨ_２－Ｒ^２］_ｘ－ＣＨ_２－Ｒ^４　　（１）
（式（１）中、ｘは１～２の整数を表す。Ｒ^２は、パーフルオロポリエーテル鎖である。（ｘ＋１）個のＲ^２は、一部または全部が同じであっても良いし、それぞれ異なっていても良い。Ｒ^３は、極性基を１個～４個有する２価の連結基である。ｘが２である場合、２つのＲ^３は同じであっても良いし、それぞれ異なっていても良い。Ｒ^１およびＲ^４は、極性基を１個～４個有し、炭素原子数が１～５０である末端基である。Ｒ^１およびＲ^４は、同じであっても良いし、それぞれ異なっていても良い。Ｒ^１およびＲ^４のうち少なくとも一方は、下記式（２）で表される末端基である。）
－Ｏ－Ｘ－ＣＨ（ＯＨ）－ＣＨ_２ＯＨ　　（２）
（式（２）中、Ｘは、１個～２個の極性基および１個～３個のエーテル酸素原子の少なくとも１つを含んでもよい炭素原子数２～３０の２価の有機基である。Ｘは、極性基およびエーテル酸素原子のいずれにも結合しない炭素原子を少なくとも１つ含む。）

［２］　前記式（２）で表される末端基は、下記式（２－１）～（２－７）のいずれかである、［１］に記載の含フッ素エーテル化合物。

（式（２－１）中、ａは１～８の整数を表す。ｂは１～７の整数を表す。）
（式（２－２）中、ｃは１～７の整数を表す。）
（式（２－３）中、ｄは１～６の整数を表す。）
（式（２－４）中、ｅは１～６の整数を表す。ｅ個のＲ^ａおよびＲ^ｂは、それぞれ独立に水素原子またはメチル基を表す。）
（式（２－５）中、ｆは１～６の整数を表す。）
（式（２－６）中、ｇは１～６の整数を表す。）
（式（２－７）中、ｇ２は１～６の整数を表す。）

［３］　前記式（１）中のＲ^１およびＲ^４は、それぞれ独立に前記式（２）で表される末端基である、［１］または［２］に記載の含フッ素エーテル化合物。

［４］　前記式（１）中のＲ^１およびＲ^４は同じである、［１］～［３］のいずれかに記載の含フッ素エーテル化合物。

［５］　前記式（１）中のＲ^１およびＲ^４の一方は前記式（２）で表される末端基であり、他方は下記式（３）で表され、式（２）には該当しない末端基である、［１］または［２］に記載の含フッ素エーテル化合物。

（式（３）中、ｌは１～３の整数を表す。ｌ個のｍは、それぞれ独立に１～６の整数を表す。ｌ個のｎは、それぞれ独立に１～６の整数を表す。１つの繰り返し単位において、ｍおよびｎの少なくとも一方は１である。Ｂは、極性基を１個のみ有してもよいアルキル基、炭素－炭素不飽和結合を含む有機基、または水素原子を表す。）

［６］　前記式（１）中のＲ^１およびＲ^４の一方は前記式（２）で表される末端基であり、他方は下記式（３－１）または（３－２）で表される末端基である、［１］、［２］または［５］に記載の含フッ素エーテル化合物。

（式（３－１）中、ｐは０～３の整数を表す。ｑは０～２の整数を表す。ｒは０～５の整数を表す。ｐとｒの合計値は１～５である。Ｄは、極性基、ビニル基、エチニル基、または置換基を有してもよいアリール基を表す。）
（式（３－２）中、ｓは０～２の整数を表す。ｔは１～５の整数を表す。）

［７］　前記式（１）中のｘ個のＲ^３がそれぞれ独立に、水酸基を１個～３個有し、隣接するメチレン基と結合する両方の端部に酸素原子を有する、炭素原子数が３～５０である２価の連結基である、［１］～［６］のいずれかに記載の含フッ素エーテル化合物。

［８］　前記式（１）中のｘ個のＲ^３がそれぞれ独立に、下記式（４－１）～（４－６）で表される連結基から選ばれるいずれか１種である、［１］～［７］のいずれかに記載の含フッ素エーテル化合物。

（式（４－１）中、ｕ１は０～６の整数を表し、ｕ２は０～６の整数を表す。ただしｕ１とｕ２の少なくとも一方は０である。式（４－１）の左側末端の酸素原子は、式（１）中のＲ^１側のメチレン基に結合し、右側末端の酸素原子は、式（１）中のＲ^４側のメチレン基に結合する。）
（式（４－２）中、ｖは１～２の整数を表す。式（４－２）の左側末端の酸素原子は、式（１）中のＲ^１側のメチレン基に結合し、右側末端の酸素原子は、式（１）中のＲ^４側のメチレン基に結合する。）
（式（４－３）中、ｗは０～６の整数を表す。式（４－３）の左側末端の酸素原子は、式（１）中のＲ^１側のメチレン基に結合し、右側末端の酸素原子は、式（１）中のＲ^４側のメチレン基に結合する。）
（式（４－４）中、ｘ１は０～５の整数を表し、ｘ２は０～５の整数を表す。ただしｘ１、ｘ２のうち少なくとも一方は１～５の整数である。式（４－４）の左側末端の酸素原子は、式（１）中のＲ^１側のメチレン基に結合し、右側末端の酸素原子は、式（１）中のＲ^４側のメチレン基に結合する。）
（式（４－５）中、ｙ１は１～５の整数を表し、ｙ２は１～５の整数を表す。式（４－５）の左側末端の酸素原子は、式（１）中のＲ^１側のメチレン基に結合し、右側末端の酸素原子は、式（１）中のＲ^４側のメチレン基に結合する。）
（式（４－６）中、ｚは１～６の整数を表す。ｚ個のＲ^ｃおよびＲ^ｄはそれぞれ独立に水素原子、フッ素原子またはメチル基を表す。式（４－６）の左側末端の酸素原子は、式（１）中のＲ^１側のメチレン基に結合し、右側末端の酸素原子は、式（１）中のＲ^４側のメチレン基に結合する。）

［９］　前記式（１）におけるＲ^１の有する極性基と、Ｒ^４の有する極性基と、ｘ個のＲ^３の有する極性基との合計数が６～１２である、［１］～［８］のいずれかに記載の含フッ素エーテル化合物。

［１０］　前記式（１）における（ｘ＋１）個のＲ^２が、それぞれ独立に、下記式（５）で表されるパーフルオロポリエーテル鎖である、［１］～［９］のいずれかに記載の含フッ素エーテル化合物。
　－（ＣＦ_２）_ｗ１－Ｏ－（ＣＦ_２Ｏ）_ｗ２－（ＣＦ_２ＣＦ_２Ｏ）_ｗ３－（ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２Ｏ）_ｗ４－（ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２Ｏ）_ｗ５－（ＣＦ_２）_ｗ６－　　（５）
（式（５）中、ｗ２、ｗ３、ｗ４、ｗ５は平均重合度を示し、それぞれ独立に０～２０を表す。ただし、ｗ２、ｗ３、ｗ４、ｗ５の全てが同時に０になることはない。ｗ１、ｗ６は、ＣＦ_２の数を表す平均値であり、それぞれ独立に１～３を表す。式（５）における繰り返し単位である（ＣＦ_２Ｏ）、（ＣＦ_２ＣＦ_２Ｏ）、（ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２Ｏ）、（ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２Ｏ）の配列順序には、特に制限はない。）

［１１］　前記式（１）における（ｘ＋１）個のＲ^２が、それぞれ独立に、下記式（５－１）～（５－４）で表されるパーフルオロポリエーテル鎖から選ばれるいずれか１種である、［１］～［１０］のいずれかに記載の含フッ素エーテル化合物。
　－ＣＦ_２－（ＯＣＦ_２ＣＦ_２）_ｈ－（ＯＣＦ_２）_ｉ－ＯＣＦ_２－　　（５－１）
（式（５－１）中、ｈおよびｉは平均重合度を示し、ｈは１～２０を表し、ｉは０～２０を表す。）
　－ＣＦ_２ＣＦ_２－（ＯＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２）_ｊ－ＯＣＦ_２ＣＦ_２－　　（５－２）
（式（５－２）中、ｊは平均重合度を示し、１～１５を表す。）
　－ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２－（ＯＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２）_ｋ－ＯＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２－　　（５－３）
（式（５－３）中、ｋは平均重合度を示し、１～１０を表す。）
　－（ＣＦ_２）_ｗ７－Ｏ－（ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２Ｏ）_ｗ８－（ＣＦ_２ＣＦ_２Ｏ）_ｗ９－（ＣＦ_２）_ｗ１０－　　（５－４）
（式（５－４）中、ｗ８、ｗ９は平均重合度を示し、それぞれ独立に１～２０を表す。ｗ７、ｗ１０は、ＣＦ_２の数を表す平均値であり、それぞれ独立に１～２を表す。）

［１２］　数平均分子量は５００～１００００の範囲内である、［１］～［１１］のいずれかに記載の含フッ素エーテル化合物。
［１３］　［１］～［１２］のいずれかに記載の含フッ素エーテル化合物を含むことを特徴とする磁気記録媒体用潤滑剤。

［１４］　基板上に、少なくとも磁性層と、保護層と、潤滑層とが順次設けられた磁気記録媒体であって、
　前記潤滑層は、［１］～［１２］のいずれかに記載の含フッ素エーテル化合物を含むことを特徴とする磁気記録媒体。
［１５］　前記潤滑層の平均膜厚は、０．５ｎｍ～２．０ｎｍである、［１４］に記載の磁気記録媒体。

　本発明の含フッ素エーテル化合物は、上記式（１）で表される化合物であるので、磁気記録媒体用潤滑剤の材料として好適である。
　本発明の磁気記録媒体用潤滑剤は、本発明の含フッ素エーテル化合物を含むため、耐腐食性が良好で、ピックアップ抑制効果の高い潤滑層を形成できる。

　本発明の磁気記録媒体は、本発明の含フッ素エーテル化合物を含む潤滑層を有する。このため、本発明の磁気記録媒体は、耐腐食性が良好で、ピックアップ抑制効果が高く、信頼性および耐久性に優れる。また、本発明の磁気記録媒体は、耐腐食性が良好で、ピックアップの抑制された潤滑層を有するため、潤滑層の厚みを薄くでき、磁気ヘッドの浮上量をより一層小さくできる。

本発明の磁気記録媒体の一実施形態を示した概略断面図である。

　本発明者らは、上記課題を解決するために、以下に示すように、鋭意検討した。
　従来、保護層の表面に塗布される磁気記録媒体用潤滑剤（以下、「潤滑剤」と略記する場合がある。）の材料として、水酸基などの極性基を有する含フッ素エーテル化合物が、好ましく用いられている。

　極性基を有する含フッ素エーテル化合物としては、鎖状構造の末端に、複数の極性基を有する末端基が配置されているものがある。また、含フッ素エーテル化合物として、複数のパーフルオロポリエーテル鎖を有し、隣接するパーフルオロポリエーテル鎖間に極性基を有する連結基が配置されているものがある。
　しかしながら、極性基を有する従来の含フッ素エーテル化合物を用いて、保護層上に厚みの薄い潤滑層を形成した場合、以下に示すように、耐腐食性が良好で、かつピックアップ抑制効果の高い潤滑層を実現することは困難であった。

　すなわち、含フッ素エーテル化合物中の極性基は、保護層上の活性点と結合して、潤滑層の保護層に対する密着性を向上させる。潤滑層の保護層に対する密着性が不足すると、保護層に対する潤滑層の被覆状態が不十分となり、腐食の原因となる水が保護層に取り込まれやすくなり、十分な耐腐食性が得られない。また、潤滑層の保護層に対する密着性が不足すると、保護層から浮き上がった潤滑層と磁気ヘッドとが衝突してピックアップが生じることがある。

　また、含フッ素エーテル化合物中の極性基は、保護層上の活性点と結合して保護層との相互作用に関与するだけでなく、分子内および分子間の相互作用にも関与する。含フッ素エーテル化合物同士の分子間相互作用に関与する極性基が不足すると、潤滑層中の含フッ素エーテル化合物が保護層上から磁気ヘッドに容易に移動しやすいものとなり、ピックアップが生じやすくなる。

　したがって、含フッ素エーテル化合物は、耐腐食性が良好で、ピックアップの抑制された潤滑層を形成できるように、保護層との相互作用に関与する極性基と、分子間の相互作用に関与する極性基とを十分に含む必要がある。しかし、含フッ素エーテル化合物中の極性基の数を多くすると、これを含む潤滑層の疎水性が低下するため、十分な耐腐食性が得られなくなる。

　そこで、本発明者らは、含フッ素エーテル化合物に含まれる極性基の極性の強さと、極性基の相互作用とに着目して鋭意検討を重ねた。その結果、含フッ素エーテル化合物中の極性基の少なくとも一部を、パーフルオロポリエーテル鎖の末端に配置された１，２－ジオール構造の水酸基とすればよいと考えた。この場合、以下に示すように、１，２－ジオール構造に含まれる水酸基に起因する疎水性の低下を抑制しつつ、保護層と相互作用できる水酸基と、分子間の相互作用に関与できる水酸基とを確保できる。

　１，２－ジオール構造（－ＣＨ（ＯＨ）－ＣＨ_２ＯＨ）は、水酸基の結合している炭素原子同士が結合しているため、水酸基間の距離が近く、水酸基同士の立体的反発および静電的な反発が起こりやすい。このことから、１，２－ジオール構造に含まれる２つの水酸基は、１，２－ジオール構造の結合している炭素原子に対して逆向きの配座となる。そのため、１，２－ジオール構造に含まれる２つの水酸基により生じる双極子モーメントが互いに打ち消しあい、含フッ素エーテル化合物分子全体の極性の上昇が抑制される。

　また、保護層上の活性点同士の距離は、１，２－ジオール構造に含まれる水酸基同士の距離と比較して、十分に大きい。しかも、１，２－ジオール構造に含まれる２つの水酸基は、１，２－ジオール構造の結合している炭素原子に対して逆向きの配座となっている。このため、１，２－ジオール構造に含まれる２つの水酸基が、同時に保護層に近接する方向となることはなく、２つの水酸基のうち、保護層上の活性点と相互作用できる水酸基は１つのみである。したがって、２つの水酸基のうち、もう一方の水酸基は、含フッ素エーテル化合物同士の分子間相互作用に関与できる。

　なお、従来、潤滑剤に使用される含フッ素エーテル化合物の構造は、保護層との密着性を向上させるために、化合物中のできるだけ多くの極性基が、保護層上の活性点と相互作用しやすい配置となるように検討されてきた。このため、水酸基の結合している炭素原子同士が結合していることによって、隣接する水酸基の向きが保護層上で逆向きの配座になる構造は避けられる傾向があった。
　しかし、本発明者らは、あえて含フッ素エーテル化合物中の極性基の一部を、１，２－ジオール構造の水酸基とすることにより、含フッ素エーテル化合物同士の分子間相互作用に関与できる極性基を確保した。その上で、必要に応じて保護層上の活性点と相互作用できる極性基の数を調整すればよいと考えた。

　さらに、本発明者らは、パーフルオロポリエーテル鎖の一方または両方の末端に１，２－ジオール構造を配置した含フッ素エーテル化合物において、これを含む潤滑層の耐腐食性を向上させるとともに、ピックアップを抑制すべく検討を重ねた。
　その結果、２つまたは３つのパーフルオロポリエーテル鎖を有し、隣接するパーフルオロポリエーテル鎖間に、極性基を１個～４個有する２価の連結基が配置された骨格を有し、骨格の両末端に、それぞれ極性基を１個～４個有する炭素原子数が１～５０である末端基が配置され、２つの末端基のうち少なくとも一方が、極性基およびエーテル酸素原子のいずれにも結合しない炭素原子を少なくとも１つ含み、１，２－ジオール構造を有する式（２）で表される末端基である含フッ素エーテル化合物とすればよいことを見出し、本発明を想到した。

　このような含フッ素エーテル化合物では、極性基の数が適正であって極性基の一部が、パーフルオロポリエーテル鎖の末端に配置された１，２－ジオール構造の水酸基であるので、極性基に起因する疎水性の低下を抑制しつつ、保護層と相互作用できる極性基と、分子間の相互作用に関与できる極性基とを十分に確保できる。

　しかも、少なくとも一方の末端に配置された式（２）で表される末端基が、極性基およびエーテル酸素原子のいずれにも結合しない炭素原子を少なくとも１つ含む。この炭素原子は、水との親和性が極めて低いため、含フッ素エーテル化合物分子と水との相互作用を強く妨げる。したがって、含フッ素エーテル化合物中に複数の極性基が含まれていても、十分な疎水性が得られる。また、上記の炭素原子は、運動が抑制されていることから、含フッ素エーテル化合物分子に適度な剛直性をもたらし、極性基同士の分子内相互作用を抑制して、極性基を含フッ素エーテル化合物同士の分子間相互作用に関与しやすくする。

　さらに、上記の含フッ素エーテル化合物では、２つまたは３つのパーフルオロポリエーテル鎖の間に、極性基を１個～４個有する２価の連結基が結合している。この２価の連結基は、パーフルオロポリエーテル鎖を挟んで隣接する末端基との間の距離も、パーフルオロポリエーテル鎖を３つ有する場合にパーフルオロポリエーテル鎖を挟んで隣接する他の２価の連結基との間の距離も、パーフルオロポリエーテル鎖によって適正とされている。したがって、２価の連結基の有する極性基は、隣接する末端基または隣接する他の２価の連結基の有する極性基によって、保護層との相互作用を阻害されにくく、保護層との相互作用に関与できる。

　このように上記の含フッ素エーテル化合物は、保護層との相互作用に関与する極性基数を確保しつつ、低極性を維持でき、十分な疎水性を有している。このため、これを含む潤滑剤は、腐食の原因となる水を取り込みにくく、耐腐食性に優れる。しかも、上記の含フッ素エーテル化合物は、保護層との相互作用にも分子内の相互作用にも関与しない極性基を容易に生じさせ、極性基が分子間相互作用を容易に形成する。このため、潤滑層中の含フッ素エーテル化合物が保護層上から磁気ヘッドに移動しにくいものとなり、ピックアップを抑制できる。

　これに対し、例えば、少なくとも一方の末端に配置された末端基が、極性基およびエーテル酸素原子のいずれにも結合しない炭素原子を含まず、含フッ素エーテル化合物が柔軟すぎるものである場合、含フッ素エーテル化合物中に含まれる極性基が分子内相互作用を形成しやすくなるため、極性基が分子間相互作用に関与しにくくなる。
　また、例えば、含フッ素エーテル化合物に含まれる複数の極性基が全て、隣接する極性基間の距離が十分に離れて配置されたものである場合、全ての極性基が保護層との相互作用に関与しやすいものとなり、極性基による含フッ素エーテル化合物同士の相互作用が十分に得られない。

　また、例えば、パーフルオロポリエーテル鎖が１つのみであって、隣接するパーフルオロポリエーテル鎖の間に極性基を有する２価の連結基が配置された構造を有していない場合、含フッ素エーテル化合物の鎖状構造の中央部が保護層に十分に吸着できない。このため、保護層に対する潤滑層の被覆状態が不十分となり、腐食の原因となる水が保護層に取り込まれやすく、十分な耐腐食性が得られない。また、潤滑層が保護層から浮き上がった状態となりやすく、保護層から浮き上がった潤滑層と磁気ヘッドとが衝突することによるピックアップが生じやすくなる。

　さらに、本発明者らは、上記の含フッ素エーテル化合物を含む潤滑剤を用いることにより、厚みを薄くしても、耐腐食性が良好で、ピックアップ抑制効果が高い潤滑層を形成できることを確認し、本発明を想到した。

　以下、本発明の含フッ素エーテル化合物、磁気記録媒体用潤滑剤および磁気記録媒体について詳細に説明する。なお、本発明は、以下に示す実施形態のみに限定されるものではない。

［含フッ素エーテル化合物］
　本実施形態の含フッ素エーテル化合物は、下記式（１）で表される。
Ｒ^１－ＣＨ_２－Ｒ^２［－ＣＨ_２－Ｒ^３－ＣＨ_２－Ｒ^２］_ｘ－ＣＨ_２－Ｒ^４　　（１）
（式（１）中、ｘは１～２の整数を表す。Ｒ^２は、パーフルオロポリエーテル鎖である。（ｘ＋１）個のＲ^２は、一部または全部が同じであっても良いし、それぞれ異なっていても良い。Ｒ^３は、極性基を１個～４個有する２価の連結基である。ｘが２である場合、２つのＲ^３は同じであっても良いし、それぞれ異なっていても良い。Ｒ^１およびＲ^４は、極性基を１個～４個有し、炭素原子数が１～５０である末端基である。Ｒ^１およびＲ^４は、同じであっても良いし、それぞれ異なっていても良い。Ｒ^１およびＲ^４のうち少なくとも一方は、下記式（２）で表される末端基である。）

－Ｏ－Ｘ－ＣＨ（ＯＨ）－ＣＨ_２ＯＨ　　（２）
（式（２）中、Ｘは、１個～２個の極性基および１個～３個のエーテル酸素原子の少なくとも１つを含んでもよい炭素原子数２～３０の２価の有機基である。Ｘは、極性基およびエーテル酸素原子のいずれにも結合しない炭素原子を少なくとも１つ含む。）

　本実施形態の含フッ素エーテル化合物は、式（１）で示されるように、Ｒ^３で示される２価の連結基と、Ｒ^２で示される２つまたは３つのパーフルオロポリエーテル鎖（以下、ＰＦＰＥ鎖と呼ぶことがある。）とが、メチレン基を介して連結された骨格を有する。骨格の一端には、メチレン基を介して、Ｒ^１で示される末端基が結合され、骨格の他端には、メチレン基を介して、Ｒ^４で示される末端基が結合されている。

　式（１）で表される含フッ素エーテル化合物において、ｘは１または２であり、Ｒ^２で示されるＰＦＰＥ鎖の数（ｘ＋１）は２つまたは３つである。このため、式（１）で表される含フッ素エーテル化合物では、ＰＦＰＥ鎖の数が１つである化合物とは異なり、隣接するＲ^２間に極性基を１個～４個有する２価の連結基であるＲ^３が配置されている。このことにより、式（１）で表される含フッ素エーテル化合物は、例えば、ＰＦＰＥ鎖の数が１つである化合物と比較して、保護層との密着性に優れ、磁気記録媒体の腐食およびピックアップが生じにくい潤滑層を形成できる。しかも、式（１）で表される含フッ素エーテル化合物は、ＰＦＰＥ鎖の数が４つ以上である化合物と比較して、分子が大きくなりすぎることが抑制され、自由に運動できる。このことから、式（１）で表される含フッ素エーテル化合物は、ＰＦＰＥ鎖の数が４つ以上である化合物と比較して、保護層上に濡れ広がりやすく、薄く均一な膜厚を有する潤滑層を形成できる。

　式（１）で表される含フッ素エーテル化合物におけるＲ^１、Ｒ^３およびＲ^４は、それぞれ極性基を１個～４個有する。Ｒ^１に含まれる極性基と、Ｒ^４に含まれる極性基と、ｘ個のＲ^３に含まれる極性基との合計数は、６～１２であることが好ましく、７～１０であることがより好ましく、７～８であることが最も好ましい。

　上記の極性基の合計数が６以上であると、含フッ素エーテル化合物の有する極性基と保護層との相互作用が、効果的に得られる。その結果、保護層との密着性の良好な潤滑層を形成できる含フッ素エーテル化合物となる。このため、よりピックアップ耐性に優れた潤滑層が得られる。また、上記の極性基の合計数が１２以下であると、含フッ素エーテル化合物の極性が高すぎて腐食の原因となる水を取り込むことを防止できる。よって、耐腐食性のより優れた潤滑層を形成できるものとなる。

（Ｒ^１およびＲ^４で示される末端基）
　Ｒ^１およびＲ^４は、極性基を１個～４個有し、炭素原子数が１～５０である末端基である。Ｒ^１およびＲ^４は、同じであっても良いし、それぞれ異なっていても良い。Ｒ^１およびＲ^４のうち少なくとも一方は、上記式（２）で表される末端基である。

　Ｒ^１およびＲ^４の一方が式（２）に該当しない末端基である場合、Ｒ^１およびＲ^４のうち式（２）に該当しない末端基に含まれる極性基の数は１個以上である。また、式（２）で表される末端基は、１，２－ジオール構造の有する２個の水酸基を少なくとも含むものであり、２個以上の極性基を有する。このため、式（１）で表される含フッ素エーテル化合物を含む潤滑剤を用いて保護層上に潤滑層を形成した場合、Ｒ^１およびＲ^４の一方が式（２）で表される末端基である場合でも、Ｒ^１およびＲ^４の両方が式（２）で表される末端基である場合でも、Ｒ^１およびＲ^４に含まれる極性基によって、保護層と相互作用できる極性基と、分子間の相互作用に関与できる極性基とが得られる。その結果、式（１）で表される含フッ素エーテル化合物を含む潤滑層は、耐腐食性が良好で、ピックアップ抑制効果の高いものとなる。

　Ｒ^１およびＲ^４の両方が式（２）で表される末端基である場合であっても、Ｒ^１およびＲ^４の一方が式（２）に該当しない末端基である場合であっても、Ｒ^１およびＲ^４に含まれる極性基の数は、それぞれ２個以上であることが好ましい。Ｒ^１およびＲ^４に含まれる極性基の数が、それぞれ２個以上であると、保護層と相互作用できる極性基、および分子間の相互作用に関与できる極性基の数が多くなるため、より一層、耐腐食性が良好で、ピックアップ抑制効果の高い潤滑層を形成できる含フッ素エーテル化合物となる。

　また、Ｒ^１およびＲ^４に含まれる極性基の数は、それぞれ４個以下である。このため、含フッ素エーテル化合物を含む潤滑層において、Ｒ^１およびＲ^４で表される末端基の有する極性基同士の凝集を効果的に抑制できる。したがって、含フッ素エーテル化合物が凝集して塊となり、潤滑層の平滑性が失われることを抑制でき、潤滑層と磁気ヘッドとが衝突することによるピックアップの発生を抑制できる。また、Ｒ^１およびＲ^４に含まれる極性基の数がそれぞれ４個以下であるので、Ｒ^１およびＲ^４中に、保護層上の活性点との相互作用、または潤滑層に存在する他の含フッ素エーテル化合物に含まれる極性基との相互作用に関与しない極性基が生じにくい。その結果、これらの相互作用に関与しない極性基がＲ^１およびＲ^４中に存在することによって、含フッ素エーテル化合物の親水性が高くなりすぎて、これを含む潤滑層を有する磁気記録媒体に、腐食の原因となる水が取り込まれることを防止できる。よって、Ｒ^１およびＲ^４に含まれる極性基の数が、それぞれ４個以下であると、耐腐食性およびピックアップ抑制効果の高い潤滑層を形成できる含フッ素エーテル化合物となる。Ｒ^１およびＲ^４に含まれる極性基の数は、それぞれ３個以下であることが好ましい。

　式（１）におけるＲ^１およびＲ^４の有する極性基の合計数は、３個以上であり、４個以上であることがより好ましい。上記の極性基の合計数が３個以上であるので、Ｒ^１およびＲ^４に含まれる極性基によって、保護層と相互作用できる極性基と、分子間の相互作用に関与できる極性基とが得られる。その結果、式（１）で表される含フッ素エーテル化合物を含む潤滑層は、保護層との密着性に優れ、耐腐食性が良好で、ピックアップ抑制効果の高いものとなる。式（１）におけるＲ^１およびＲ^４の有する極性基の合計数は、６個以下であることが好ましい。上記の極性基の合計数が６個以下であると、含フッ素エーテル化合物の極性が高すぎて、これを含む潤滑層を有する磁気記録媒体に、腐食の原因となる水が取り込まれることを、より効果的に防止できる。

　Ｒ^１およびＲ^４の一方が式（２）に該当しない末端基である場合の式（２）に該当しない末端基に含まれる極性基、および式（２）中のＸに含まれていてもよい極性基は、水酸基（－ＯＨ）、カルボキシ基（－ＣＯＯＨ）、ホルミル基（－（Ｃ＝Ｏ）Ｈ）、カルボニル基（－（Ｃ＝Ｏ）Ｒ^７；Ｒ^７は有機基である。）、スルホ基（－ＳＯ_３Ｈ）、シアノ基（－ＣＮ）、およびアミド結合を有する基（－ＮＲ^８ＣＯＲ^９または－ＣＯＮＲ^１０Ｒ^１１；Ｒ^８、Ｒ^９、Ｒ^１０およびＲ^１１は、それぞれ独立に水素原子または有機基である。）、アミノ基（－ＮＲ^１２Ｒ^１３；Ｒ^１２およびＲ^１３は、それぞれ独立に水素原子または有機基である。）からなる群から選ばれる少なくとも１種の極性基であることが好ましい。アミド結合を有する基としては、上記式に示されるように、アミド結合を構成する炭素原子において結合する基（例えば、カルボキサミド基（－Ｃ（＝Ｏ）ＮＨ_２））と、アミド結合を構成する窒素原子において結合する基（例えば、アセトアミド基（－ＮＨＣ（＝Ｏ）ＣＨ_３））の両方を含む。アミド結合を有する基において、前記Ｒ^８とＲ^９が互いに結合して環を形成してもよく、前記Ｒ^１０とＲ^１１が互いに結合して環を形成してもよい。アミド結合を有する基における前記Ｒ^８、Ｒ^９、Ｒ^１０およびＲ^１１は、それぞれ独立に水素原子、メチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基からなる群から選択されることが好ましい。
　本明細書における「極性基」には、ハロゲノ基（－Ｆ、－Ｃｌ、－Ｂｒなど）やエーテル結合（－Ｏ－）は含まれない。

　Ｒ^１およびＲ^４の一方が式（２）に該当しない末端基である場合の式（２）に該当しない末端基に含まれる極性基、および式（２）中のＸに含まれていてもよい極性基は、水酸基、シアノ基、およびアミド結合を有する基からなる群から選ばれる少なくとも１種の極性基を含むことが好ましい。水酸基、シアノ基、およびアミド結合を有する基は、化学的に安定であり、これらの極性基を有する含フッ素エーテル化合物を含む潤滑層が長期的に変質しないためである。また、水酸基、シアノ基、およびアミド結合を有する基は、酸性度が高すぎず、基板を腐食しにくいためである。

　Ｒ^１およびＲ^４の一方が式（２）に該当しない末端基である場合、式（２）に該当しない末端基は、少なくとも１つの水酸基を含むことが好ましい。含フッ素エーテル化合物の保護層に対する被覆状態がより均一となるためである。
　Ｒ^１およびＲ^４の一方が式（２）で表される末端基である場合でも、Ｒ^１およびＲ^４の両方が式（２）で表される末端基である場合でも、Ｒ^１の有する極性基と、Ｒ^４の有する極性基は、すべて水酸基であることがより好ましい。含フッ素エーテル化合物の保護層に対する被覆状態がより均一となるためである。

　Ｒ^１およびＲ^４の一方が式（２）に該当しない末端基である場合の式（２）に該当しない末端基に含まれる極性基、および式（２）中のＸに含まれていてもよい極性基は、一部または全部が同じであっても良いし、それぞれ異なっていても良い。
　また、Ｒ^１の有する極性基の数と、Ｒ^４の有する極性基の数は、同じであってもよいし、それぞれ異なっていてもよい。Ｒ^１の有する極性基の数と、Ｒ^４の有する極性基の数は、含フッ素エーテル化合物の保護層に対する被覆状態がより均一となり、より良好な密着性を有する潤滑層を形成できるものとなるため、同じであることが好ましい。

　Ｒ^１およびＲ^４の一方が式（２）に該当しない末端基である場合、Ｒ^１およびＲ^４のうち式（２）に該当しない末端基に含まれる炭素原子の数は１以上である。また、式（２）で表される末端基は、１，２－ジオール構造の有する２つの炭素原子と、Ｘの有する２以上の炭素原子を少なくとも含むものであり、合計４以上の炭素原子を有する。Ｒ^１およびＲ^４で表される末端基の炭素原子数が１以上であるので、末端基の疎水性が担保でき、腐食の原因となる水を潤滑層に誘引することを防止され、耐腐食性の良好な潤滑層を形成できるものとなる。Ｒ^１およびＲ^４の一方が式（２）に該当しない末端基である場合、Ｒ^１およびＲ^４のうち式（２）に該当しない末端基に含まれる炭素原子の数は、３以上であることが好ましく、４以上であることがより好ましい。

　Ｒ^１およびＲ^４の一方が式（２）に該当しない末端基である場合、Ｒ^１およびＲ^４のうち式（２）に該当しない末端基に含まれる炭素原子の数は５０以下である。また、式（２）で表される末端基は、１，２－ジオール構造の有する２つの炭素原子と、Ｘの有する３０以下の炭素原子を含むものであり、合計３２以下の炭素原子を有する。Ｒ^１およびＲ^４で表される末端基の炭素原子数がそれぞれ５０以下であるので、末端基が柔軟な構造となって、含フッ素エーテル化合物を含む潤滑層と保護層との密着性が良好となる。その結果、ピックアップを抑制できる潤滑層を形成できるものとなる。Ｒ^１およびＲ^４で表される末端基の炭素原子数は、それぞれ２０以下であることが好ましく、１５以下であることがより好ましい。

〔式（２）で表される末端基〕
　Ｒ^１およびＲ^４のうち少なくとも一方は、下記式（２）で表される末端基である。
－Ｏ－Ｘ－ＣＨ（ＯＨ）－ＣＨ_２ＯＨ　　（２）
（式（２）中、Ｘは、１個～２個の極性基および１個～３個のエーテル酸素原子の少なくとも１つを含んでもよい炭素原子数２～３０の２価の有機基である。Ｘは、極性基およびエーテル酸素原子のいずれにも結合しない炭素原子を少なくとも１つ含む。）

　式（２）で表される末端基は、Ｒ^２と結合しているメチレン基（－ＣＨ_２－）に結合される酸素原子を有する。式（２）で表される末端基の端部に配置された酸素原子は、その両側に結合される原子とエーテル結合（－Ｏ－）を形成する。このエーテル結合は、式（１）で表される含フッ素エーテル化合物に適度な柔軟性を付与し、式（２）で表される末端基の有する極性基と保護層との親和性を増大させる。このことにより、式（１）で表される含フッ素エーテル化合物は、保護層との密着性に優れる潤滑層を形成できる。

　式（２）で表される末端基は、１，２－ジオール構造を含むものであり、上述したように、１，２－ジオール構造に含まれる水酸基に起因する疎水性の低下を抑制しつつ、保護層と相互作用できる水酸基と、分子間の相互作用に関与できる水酸基とを確保できる。
　そのため、式（１）で表される含フッ素エーテル化合物を含む潤滑層は、水との親和性が低く、腐食の原因となる水を取り込みにくく、耐腐食性に優れる。しかも、保護層との相互作用に関与しない極性基が分子間相互作用を容易に形成するため、潤滑層中の含フッ素エーテル化合物が保護層上から磁気ヘッドに移動しにくく、ピックアップの抑制されたものとなる。

　式（２）で表される末端基中のＸは、極性基およびエーテル酸素原子のいずれにも結合しない炭素原子を少なくとも１つ含む。このため、式（１）で表される含フッ素エーテル化合物を含む潤滑層は、水との親和性が低いものとなる。さらに、上記の炭素原子は、含フッ素エーテル化合物分子に適度な剛直性をもたらし、極性基同士の分子内相互作用を抑制し、極性基を含フッ素エーテル化合物同士の分子間相互作用に関与しやすくする。したがって、式（２）で表される末端基中のＸに含まれる上記の炭素原子は、耐腐食性が良好で、ピックアップ抑制効果が高い潤滑層の形成に寄与する。

　一方、式（２）において－Ｏ－Ｘ－の代わりに、例えば－ＯＣＨ_２ＣＨ（ＯＨ）ＣＨ_２ＯＣＨ_２－が配置されている場合、この構造中の炭素原子は、すべて極性基またはエーテル酸素原子と結合している。このような含フッ素エーテル化合物を含む潤滑層は、式（１）で表される含フッ素エーテル化合物を含む潤滑層と比較して、水との親和性が高く、耐腐食性に劣るものであり、しかも分子間の相互作用に関与できる極性基が不足するため、ピックアップ耐性が劣るものとなる。

　式（２）においてＸで表される有機基は、炭素原子数が２以上であるので、適度な剛直性をもたらし、極性基同士の分子内相互作用を抑制して、極性基を含フッ素エーテル化合物同士の分子間相互作用に関与しやすくすると同時に、水との相互作用を妨げて、疎水性を向上させる。また、Ｘで表される有機基の炭素原子数が３０以下であるので、式（２）で表される末端基が嵩高くなりすぎて、含フッ素エーテル化合物に含まれる極性基の運動が妨げられ、極性基と保護層との相互作用が阻害されることを抑制できる。Ｘで表される有機基の炭素原子数は、２～１５であることが好ましく、３～１０であることがより好ましい。

　Ｘで表される有機基は、極性基およびエーテル酸素原子のいずれにも結合しない炭素原子を少なくとも１つ含む。極性基およびエーテル酸素原子のいずれにも結合しない炭素原子としては、例えば、極性基およびエーテル酸素原子のいずれにも結合しないメチレン基、メチン基、またはこれらがフッ素化された基の炭素原子が挙げられる。なお、上述のとおりフルオロ基は、前記極性基には含まれない。
　Ｘで表される有機基が、炭素原子を含む極性基（例えば、カルボキシ基、ホルミル基、カルボニル基、シアノ基、アミド結合を有する基）を有する場合、極性基に含まれる炭素原子は、「極性基およびエーテル酸素原子のいずれにも結合しない炭素原子」には含まないものとする。

　極性基およびエーテル酸素原子のいずれにも結合しない炭素原子の数は、１以上であればよく、例えば１～６とすることができ、１～４であってもよい。極性基およびエーテル酸素原子のいずれにも結合しない炭素原子の数が１以上であると、含フッ素エーテル化合物を含む潤滑層の疎水性が良好となる。また、極性基およびエーテル酸素原子のいずれにも結合しない炭素原子の数が６以下であると、極性基の数に対する炭素原子数の割合が適正となり、分子の極性が適切となるとともに、エーテル酸素原子の数に対する炭素原子数の割合が適正となり、分子の柔軟性が適切な含フッ素エーテル化合物となる。また、極性基およびエーテル酸素原子のいずれにも結合しない炭素原子を複数含む場合、極性基およびエーテル酸素原子のいずれにも結合しない炭素原子同士が結合されていてもよい。この場合、含フッ素エーテル化合物分子がより剛直となり、極性基同士の分子内相互作用が抑制されて、極性基が含フッ素エーテル化合物同士の分子間相互作用により一層関与しやすくなる。

　式（２）においてＸで表される有機基は、１個または２個の極性基を含んでいてもよい。式（２）においてＸで表される有機基が、１個または２個の極性基を含む場合、式（１）で表される含フッ素エーテル化合物の保護層に対する密着性が向上し、厚みを薄くしても十分な被覆状態が得られる潤滑層を形成しやすい。式（２）においてＸで表される有機基が、極性基を含む場合、極性基の数は１個であることが好ましい。式（１）で表される含フッ素エーテル化合物の親水性が高すぎて、腐食の原因となる水を誘起するのを抑制できるためである。

　式（２）中のＸで表される有機基が極性基を有する場合の極性基としては、上述したように、水酸基、シアノ基、およびアミド結合を有する基からなる群から選ばれる極性基であることが好ましい。

　式（２）においてＸで表される有機基は、１個～３個のエーテル結合を含んでいてもよい。式（２）においてＸで表される有機基が、エーテル結合を含む場合、エーテル結合を形成している酸素原子が、式（１）で表される含フッ素エーテル化合物に適度な柔軟性を付与し、極性基と保護層との親和性を増大させる。式（２）においてＸで表される有機基が、エーテル結合を含む場合、エーテル結合の数は１個または２個であることが好ましい。式（１）で表される含フッ素エーテル化合物が柔軟になりすぎて、分子内の相互作用に関与する極性基が発生しやすくなることを抑制するためである。

　式（２）においてＸで表される有機基は、部分的にフッ素化されていてもよい。式（２）においてＸで表される有機基が、部分的にフッ素化されている場合、Ｘで表される有機基がフッ素化されていない場合と比較して、式（２）においてＸで表される有機基の親水性が低下する。その結果、腐食の原因となる水が誘起されることを抑制でき、より耐腐食性の良好な潤滑層を形成できる含フッ素エーテル化合物となる。

　式（２）においてＸで表される有機基は、非環状の有機基であることが好ましい。Ｘで表される有機基が非環状である場合、Ｘが環状構造を有する有機基である場合と比較して、Ｘで表される有機基が嵩高くなりすぎない。このため、Ｘで表される有機基によって、含フッ素エーテル化合物に含まれる極性基の運動が妨げられ、極性基と保護層との相互作用が阻害されることを抑制できる。非環状の有機基は、直鎖であってもよく、分岐していてもよい。

　式（２）においてＸで表される有機基は、不飽和炭素－炭素結合を含まないことが好ましい。Ｘで表される有機基が不飽和炭素－炭素結合を含まない場合、Ｘが不飽和炭素－炭素結合を含む場合と比較して、Ｘで表される有機基に含まれる分子の配向が制限されて、含フッ素エーテル化合物に含まれる極性基の運動が妨げられ、極性基と保護層との相互作用が阻害されることを抑制できる。

　式（２）で表される末端基は、より具体的には、下記式（２－１）～（２－７）のいずれかで表される末端基であることが好ましい。

（式（２－１）中、ａは１～８の整数を表す。ｂは１～７の整数を表す。）
（式（２－２）中、ｃは１～７の整数を表す。）
（式（２－３）中、ｄは１～６の整数を表す。）
（式（２－４）中、ｅは１～６の整数を表す。ｅ個のＲ^ａおよびＲ^ｂはそれぞれ独立に水素原子またはメチル基を表す。）
（式（２－５）中、ｆは１～６の整数を表す。）
（式（２－６）中、ｇは１～６の整数を表す。）
（式（２－７）中、ｇ２は１～６の整数を表す。）

　式（２－１）で表される末端基は、式（２）における－Ｘ－が－ＣＨ_２－ＣＨ（ＯＨ）－（ＣＨ_２）_ａ－Ｏ－（ＣＨ_２）_ｂ－ＣＨ_２－であるものである。ａは１～８の整数を表し、ｂは１～７の整数を表す。

　式（２－１）で表される末端基は、式（２）の末端に配置された１，２－ジオール構造（－ＣＨ（ＯＨ）－ＣＨ_２ＯＨ）と、式（２）中のＸに含まれるエーテル結合を形成しているエーテル酸素原子との間に、ｂ＋１個のメチレン基が結合してなる連結基を有する。この連結基は、極性基およびエーテル酸素原子のいずれにも結合しない炭素原子をｂ個有する。このため、式（２－１）で表される末端基は、ｂ＋１個のメチレン基からなる連結基に起因する適度な剛直性を有し、式（２－１）で表される末端基の有する水酸基が分子内相互作用を形成することを抑制できる。

　式（２－１）中のｂが１以上であるため、式（２－１）で表される末端基が、極性基およびエーテル酸素原子のいずれにも結合しない炭素原子を有するものとなり、十分な疎水性が得られるものとなる。また、ｂが７以下であるため、式（２－１）で表される末端基が嵩高くなりすぎて、式（２－１）で表される末端基の有する水酸基の運動が妨げられ、保護層との相互作用が阻害されることを抑制できる。ｂは１～５であることが好ましく、１～３であることがより好ましい。

　また、式（２－１）で表される末端基は、パーフルオロポリエーテル鎖側の二級水酸基の結合している炭素原子と、エーテル結合を形成しているエーテル酸素原子との間に、ａ個のメチレン基が結合してなる連結基を有する。式（２－１）中のａが１以上であるため、式（２－１）で表される末端基は十分な疎水性を有する。また、ａが８以下であるため、式（２－１）で表される末端基が嵩高くなりすぎて、式（２－１）で表される末端基の有する水酸基の運動が妨げられ、保護層との相互作用が阻害されることを抑制できる。ａは１～６であることが好ましく、１～４であることがより好ましい。

　式（２－１）で表される末端基は、ａとｂの和が９以下であることが好ましい。ａとｂの和が９以下であると、式（２－１）で表される末端基が嵩高くなりすぎて、式（２－１）で表される末端基の有する水酸基の運動が妨げられ、保護層との相互作用が阻害されることを効果的に抑制できる。ａとｂの和は６以下であることがより好ましい。

　また、式（２－１）で表される末端基は、式（２）中のＸがエーテル結合を含むため、適度な運動性を有する。このため、式（２－１）中の１，２－ジオール構造の有する２つの水酸基のうち、一方の水酸基のみが保護層と相互作用した際に、もう一方の水酸基が他の含フッ素エーテル化合物中の極性基とより相互作用しやすいものとなる。よって、式（２－１）中の水酸基は、分子間相互作用を容易に形成できる。このことから、式（２－１）で表される末端基を有する含フッ素エーテル化合物を含む潤滑層は、保護層上から磁気ヘッドに移動しにくく、ピックアップの抑制されたものとなる。

　式（２－２）で表される末端基は、式（２）における－Ｘ－が－ＣＨ_２－ＣＨ（ＯＨ）－ＣＨ_２－（ＣＨ_２）_ｃ－Ｏ－ＣＨ_２－であるものである。ｃは１～７の整数を表す。
　式（２－２）で表される末端基は、パーフルオロポリエーテル鎖側の二級水酸基の結合している炭素原子と、式（２）中のＸに含まれるエーテル結合を形成しているエーテル酸素原子との間に、ｃ＋１個のメチレン基が結合してなる連結基を有する。この連結基は、極性基およびエーテル酸素原子のいずれにも結合しない炭素原子をｃ個有する。このため、式（２－２）で表される末端基は、ｃ＋１個のメチレン基からなる連結基に起因する適度な剛直性を有し、式（２－２）で表される末端基の有する水酸基が分子内相互作用を形成することを抑制できる。

　また、式（２－２）中のｃが１以上であるため、式（２－２）で表される末端基が、極性基およびエーテル酸素原子のいずれにも結合しない炭素原子を有し、十分な疎水性が得られるものとなる。また、ｃが７以下であるため、式（２－２）で表される末端基が嵩高くなりすぎて、式（２－２）で表される末端基の有する水酸基の運動が妨げられ、保護層との相互作用が阻害されることを抑制できる。ｃは１～５であることが好ましく、１～３であることがより好ましい。

　また、式（２－２）で表される末端基は、式（２）中のＸがエーテル結合を含むものであり、エーテル結合を形成しているエーテル酸素原子が、１，２－ジオール構造（－ＣＨ（ＯＨ）－ＣＨ_２ＯＨ）の結合している炭素原子と結合しているため、高い運動性を有する。このため、式（２－２）中の１，２－ジオール構造の有する２つの水酸基のうち、一方の水酸基のみが保護層と相互作用しやすく、かつ、もう一方の水酸基が他の含フッ素エーテル化合物中の極性基と相互作用しやすいものとなる。よって、式（２－２）中の水酸基は、分子間相互作用を容易に形成できる。このことから、式（２－２）で表される末端基を有する含フッ素エーテル化合物を含む潤滑層は、保護層上から磁気ヘッドに移動しにくく、ピックアップの抑制されたものとなる。

　式（２－３）で表される末端基は、式（２）における－Ｘ－が－ＣＨ_２－ＣＨ（ＯＨ）－（ＣＨ_２）_ｄ－であるものである。ｄは１～６の整数を表す。
　式（２－３）で表される末端基は、１，２－ジオール構造（－ＣＨ（ＯＨ）－ＣＨ_２ＯＨ）と、式（２）中のＸに含まれる二級水酸基の結合している炭素原子との間に、ｄ個のメチレン基が結合してなる連結基を有する。この連結基は、極性基およびエーテル酸素原子のいずれにも結合しない炭素原子をｄ個有する。このため、式（２－３）で表される末端基は、ｄ個のメチレン基からなる連結基に起因する適度な剛直性を有し、式（２－３）で表される末端基の有する水酸基が分子内相互作用を形成することを抑制できる。

　式（２－３）中のｄが１以上であるため、式（２－３）で表される末端基が、極性基およびエーテル酸素原子のいずれにも結合しない炭素原子を有するものとなり、十分な疎水性が得られるものとなる。また、ｄが６以下であるため、式（２－３）で表される末端基が嵩高くなりすぎて、式（２－３）で表される末端基の有する水酸基の運動が妨げられ、保護層との相互作用が阻害されることを抑制できる。ｄは１～４であることが好ましく、２～４であることがより好ましい。

　また、式（２－３）で表される末端基は、式（２）におけるＸが、親水性部位であるエーテル結合を含まない。そのため、式（２－３）で表される末端基は、水との親和性が低く、疎水性が良好である。このことから、式（２－３）で表される末端基を有する含フッ素エーテル化合物は、より一層、腐食の原因となる水を取り込みにくく、耐腐食性のより良好な潤滑層を形成できるものとなる。

　式（２－４）で表される末端基は、式（２）における－Ｘ－が－ＣＨ_２－ＣＨ（ＯＨ）－ＣＨ_２－Ｏ－ＣＨ_２－（ＣＲ^ａＲ^ｂ）_ｅ－ＣＨ_２－Ｏ－ＣＨ_２－であるものである。ｅは１～６の整数を表し、ｅ個のＲ^ａおよびＲ^ｂはそれぞれ独立に水素原子またはメチル基を表す。すなわち、式（２－４）で表される末端基におけるｅ個の（－ＣＲ^ａＲ^ｂ－）はそれぞれ、－ＣＨ_２－、－ＣＨ（ＣＨ_３）－、－Ｃ（ＣＨ_３）_２－のいずれであってもよい。

　式（２－４）で表される末端基は、式（２）中のＸがエーテル結合を２つ含むものであって、２つのエーテル結合を形成している酸素原子間に、極性基およびエーテル酸素原子のいずれにも結合しない炭素原子を少なくともｅ個有する基（－ＣＲ^ａＲ^ｂ－）を含む連結基を有する。

　式（２－４）中のｅが１以上であるため、式（２－４）で表される末端基が、極性基およびエーテル酸素原子のいずれにも結合しない炭素原子を有するものとなり、十分な疎水性が得られるものとなる。また、ｅが６以下であるため、式（２－４）で表される末端基が嵩高くなりすぎて、式（２－４）で表される末端基の有する水酸基の運動が妨げられ、保護層との相互作用が阻害されることを抑制できる。ｅは１～４であることが好ましく、１～２であることがより好ましい。

　式（２－４）で表される末端基における式（２）中のＸが、２つのエーテル結合を形成している酸素原子間に直鎖構造の連結基を有する（言い換えるとｅ個のＲ^ａおよびＲ^ｂが全て水素原子である）場合、上記酸素原子間に分岐を有する構造の連結基を有する（言い換えるとｅ個のＲ^ａおよびＲ^ｂのうち、１つ以上がメチル基である）場合と比較して、式（２－４）で表される末端基が嵩高くなりすぎて、式（２－４）で表される末端基の有する水酸基の運動が妨げられることを抑制できる。そのため、式（２－４）で表される末端基における式（２）中のＸが、２つのエーテル結合を形成している酸素原子間に直鎖構造の連結基を有する場合、式（２－４）中の１，２－ジオール構造の有する２つの水酸基のうち、一方の水酸基のみが保護層と相互作用しやすく、かつ、もう一方の水酸基が他の含フッ素エーテル化合物中の極性基と相互作用しやすいものとなる。よって、式（２－４）中の水酸基は、分子間相互作用を容易に形成できる。このことから、式（２－４）で表される末端基を有する含フッ素エーテル化合物を含む潤滑層は、保護層上から磁気ヘッドに移動しにくく、ピックアップが抑制されたものとなる。

　式（２－４）で表される末端基における式（２）中のＸが、２つのエーテル結合を形成している酸素原子間に分岐を有する構造の連結基を有する場合（すなわち－ＣＨ（ＣＨ_３）－および／または－Ｃ（ＣＨ_３）_２－を含む場合）、Ｘが適度に剛直なものとなる。そのため、式（２－４）で表される末端基の有する水酸基同士が分子内相互作用を形成することを効果的に抑制でき、式（２－４）中の水酸基は、分子間相互作用を容易に形成できる。このことから、式（２－４）で表される末端基を有する含フッ素エーテル化合物を含む潤滑層は、保護層上から磁気ヘッドに移動しにくく、ピックアップ耐性の優れたものとなる。

　式（２－５）で表される末端基は、式（２）における－Ｘ－が－ＣＨ_２－ＣＨ（ＯＨ）－ＣＨ_２－Ｏ－ＣＨ_２－（ＣＦ_２）_ｆ－ＣＨ_２－Ｏ－ＣＨ_２－であるものである。ｆは１～６の整数を表す。
　式（２－５）で表される末端基は、式（２）中のＸがエーテル結合を２つ含むものであって、２つのエーテル結合を形成している酸素原子間に、極性基およびエーテル酸素原子のいずれにも結合しない炭素原子をｆ個有する連結基を有する。

　式（２－５）で表される末端基は、炭素原子数１～６の直鎖のパーフルオロアルキレン鎖（－（ＣＦ_２）_ｆ－）を含む。炭素原子数１～６の直鎖のパーフルオロアルキレン鎖は、疎水性に優れ、含フッ素エーテル化合物を含む潤滑層の水との親和性を低下させる。

　式（２－５）で表される末端基は、２つのエーテル結合を形成している酸素原子間に、炭素原子数１～６の直鎖のパーフルオロアルキレン鎖を含む飽和炭化水素基（式（２－５）における－ＣＨ_２－（ＣＦ_２）_ｆ－ＣＨ_２－）からなる連結基を有する。このため、含フッ素エーテル化合物分子全体の極性が低いものとなり、良好な疎水性を有する潤滑層を形成できるものとなる。その結果、式（２－５）で表される末端基を有する含フッ素エーテル化合物を含む潤滑層は、腐食の原因となる水との親和性が低く、水を取り込みにくく、より一層、耐腐食性の良好なものとなる。

　式（２－５）中のｆが１以上であるため、式（２－５）で表される末端基が、極性基およびエーテル酸素原子のいずれにも結合しない炭素原子を有するものとなり、十分な疎水性が得られるとともに、適度に剛直なものとなり、式（２－５）で表される末端基の有する水酸基同士が分子内相互作用を形成することを抑制できる。また、ｆが６以下であるため、式（２－５）で表される末端基が嵩高くなりすぎて、式（２－５）で表される末端基の有する水酸基の運動が妨げられ、保護層との相互作用が阻害されることを抑制できる。ｆは１～４であることが好ましく、２～４であることがより好ましい。

　式（２－６）で表される末端基は、式（２）における－Ｘ－が－（ＣＨ_２）_ｇ－ＣＨ_２－であるものである。ｇは１～６の整数を表す。
　式（２－６）で表される末端基は、１，２－ジオール構造（－ＣＨ（ＯＨ）－ＣＨ_２ＯＨ）と、結合端部のエーテル酸素原子との間に、ｇ＋１個のメチレン基が結合してなる連結基を有する。この連結基を有することにより、式（２－６）で表される末端基は、極性基およびエーテル酸素原子のいずれにも結合しない炭素原子をｇ個有する。このため、式（２－６）で表される末端基は、ｇ＋１個のメチレン基からなる連結基に起因する適度な剛直性を有し、式（２－６）で表される末端基の有する水酸基が分子内相互作用を形成することを抑制できる。

　式（２－６）中のｇが１以上であるため、式（２－６）で表される末端基が、極性基およびエーテル酸素原子のいずれにも結合しない炭素原子を有するものとなり、適度に剛直なものとなり、１，２－ジオール構造の有する水酸基が分子内相互作用を形成することを抑制できる。また、式（２－６）中のｇが６以下であるため、式（２－６）で表される末端基が嵩高くなりすぎて、１，２－ジオール構造の有する水酸基の運動が妨げられ、保護層との相互作用が阻害されることを抑制できる。ｇは１～５であることが好ましく、１～３であることがより好ましい。

　また、式（２－６）で表される末端基は、式（２）におけるＸが、親水性部位である極性基およびエーテル結合を含まない。そのため、式（２－６）で表される末端基は、水との親和性が低く、疎水性が良好である。このことから、式（２－６）で表される末端基を有する含フッ素エーテル化合物は、より一層、腐食の原因となる水を取り込みにくく、耐腐食性のより良好な潤滑層を形成できるものとなる。

　式（２－７）で表される末端基は、式（２）におけるＸで表される有機基が－（ＣＨ_２）_ｇ２－ＣＨ_２－ＣＨ（ＯＨ）－ＣＨ_２－Ｏ－ＣＨ_２－である。ｇ２は１～６の整数を表す。
　式（２－７）で表される末端基は、末端部分にグリセリン構造（－Ｏ－ＣＨ_２－ＣＨ（ＯＨ）－ＣＨ_２ＯＨ）を有する。グリセリン構造は高い運動性を有するため、末端部分の２つの水酸基のうち一方の水酸基が保護層と相互作用した際に、他方の水酸基が分子間で他の含フッ素エーテル化合物中の極性基と相互作用しやすくなる。したがって、式（１）で表される含フッ素エーテル化合物中の極性基が分子間相互作用をより容易に形成できる。これにより、式（１）で表される含フッ素エーテル化合物を含む潤滑剤は、保護層上から磁気ヘッドに移動しにくく、ピックアップ耐性の優れたものとなる。

　式（２－７）中のｇ２が１以上であるため、式（２－７）は適度に剛直になり、１，２－ジオール構造の有する水酸基が分子内相互作用を形成しにくくなる。また、式（２－７）中のｇ２が６以下であるため、式（２－７）で表される末端基が嵩高くなりすぎず、水酸基の運動が妨げられて保護層との相互作用が阻害されることを抑制できる。ｇ２は１～５であることが好ましく、１～３であることがより好ましい。

　式（１）中のＲ^１およびＲ^４は、それぞれ独立に式（２）で表される末端基であってもよいし、Ｒ^１とＲ^４のうち一方のみが式（２）で表される末端基であってもよい。
　また、式（１）で表される含フッ素エーテル化合物において、Ｒ^１とＲ^４とは、同じであってもよいし、異なっていても良い。Ｒ^１とＲ^４は、同じであることが好ましい。これは、容易に効率よく製造できる含フッ素エーテル化合物となるためである。
　なお、「Ｒ^１とＲ^４が同じ」とは、Ｒ^１に含まれる原子とＲ^４に含まれる原子とが、－ＣＨ_２－Ｒ^２［－ＣＨ_２－Ｒ^３－ＣＨ_２－Ｒ^２］_ｘ－ＣＨ_２－に対して対称配置されていることを意味する。

　式（１）で表される含フッ素エーテル化合物において、Ｒ^１とＲ^４とが異なっている場合、Ｒ^１およびＲ^４がいずれも式（２）で表される末端基であってもよいし、Ｒ^１とＲ^４のうち一方のみが式（２）で表される末端基であり、もう一方が式（２）には該当しない末端基であってもよい。式（２）には該当しない末端基は、上述のように、極性基を１個～４個有し、炭素原子数が１～５０である末端基であればよい。

〔式（３）で表される末端基〕
　Ｒ^１とＲ^４のうち一方が式（２）で表される末端基であり、他方が式（２）には該当しない末端基である場合、他方は下記式（３）で表され、式（２）には該当しない末端基であることが好ましい。

（式（３）中、ｌは１～３の整数を表す。ｌ個のｍはそれぞれ独立に、１～６の整数を表す。ｌ個のｎはそれぞれ独立に、１～６の整数を表す。１つの繰り返し単位において、ｍおよびｎの少なくとも一方は１である。Ｂは、極性基を１つのみ有してもよいアルキル基、炭素－炭素不飽和結合を含む有機基、または水素原子を表す。）

　式（３）で表される末端基は、Ｒ^２と結合しているメチレン基（－ＣＨ_２－）に結合される酸素原子を有する。式（３）で表される末端基の端部に配置された酸素原子は、その両側に結合される原子とエーテル結合（－Ｏ－）を形成する。このエーテル結合は、式（１）で表される含フッ素エーテル化合物に適度な柔軟性を付与し、式（３）で表される末端基の有する極性基と保護層との親和性を増大させる。このことにより、式（１）で表される含フッ素エーテル化合物は、保護層との密着性に優れる潤滑層を形成できる。

　式（３）中のｌは１～３の整数であり、１～２の整数であることが好ましく、１であることが最も好ましい。式（３）中のｌが３以下であると、式（３）で表される末端基の水酸基が多すぎることによって、腐食の原因となる水が潤滑層に誘引されることを防止でき、耐腐食性の良好な潤滑層が得られる。
　式（３）中のｌが２または３である場合、２または３個の繰り返し単位（－（ＣＨ_２）_ｍ－ＣＨ（ＯＨ）－（ＣＨ_２）_ｎ－Ｏ－）中のｍとｎの組み合わせは、それぞれ異なっていてもよいし、一部または全部が同じであってもよい。

　式（３）中におけるｌ個のｍはそれぞれ独立して１～６の整数を表し、ｌ個のｎはそれぞれ独立して１～６の整数を表す。
　式（３）中の１つの繰り返し単位（－（ＣＨ_２）_ｍ－ＣＨ（ＯＨ）－（ＣＨ_２）_ｎ－Ｏ－）において、ｍおよびｎの少なくとも一方は１である。これは、水酸基が結合している炭素原子とエーテル酸素原子との間のアルキレン基の炭素原子数が多すぎることによって、繰り返し単位中の水酸基の運動性が低下することがないためである。
　式（３）中のｌ個のｍはそれぞれ独立して１～４の整数であることが好ましい。また、ｌ個のｎはそれぞれ独立して１～４の整数であることが好ましい。

　式（３）中のＢは、極性基を１つのみ有してもよいアルキル基、炭素－炭素不飽和結合を含む有機基、または水素原子を表す。
　式（３）中のＢが極性基を有しないアルキル基である場合、Ｂとして具体的には、メチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基、ペンチル基、へキシル基などが挙げられる。

　式（３）中のＢが極性基を有するアルキル基である場合、その極性基は、式（２）に該当しない末端基に含まれる極性基の好ましい例として挙げたものであることが好ましい。上記の極性基の中でも、水酸基、シアノ基、およびアミド結合を有する基からなる群から選ばれる極性基であることがより好ましい。

　式（３）中のＢが極性基を有するアルキル基である場合、Ｂとしては、２－ヒドロキシエチル基、３－ヒドロキシプロピル基、４－ヒドロキシブチル基、５－ヒドロキシペンチル基、６－ヒドロキシヘキシル基、２－アミノエチル基、３－アミノプロピル基、１－カルボキシメチル基、２－カルボキシエチル基、３－カルボキシプロピル基、１－カルボニルメチル基、２－カルボニルエチル基、３－カルボニルプロピル基、１－アセチルメチル基、２－アセチルエチル基、３－アセチルプロピル基、２－スルホエチル基、３－スルホプロピル基、１－シアノメチル基、２－シアノエチル基、３－シアノプロピル基、４－シアノブチル基、２－アセトアミドエチル基、３－アセトアミドプロピル基、４－アセトアミドブチル基、１－カルボキサミドメチル基、２－カルボキサミドエチル基、３－カルボキサミドプロピル基、４－カルボキサミドブチル基などが挙げられる。

　上記の極性基を有するアルキル基の中でも、２－ヒドロキシエチル基、３－ヒドロキシプロピル基、４－ヒドロキシブチル基、５－ヒドロキシペンチル基、６－ヒドロキシヘキシル基、１－シアノメチル基、２－シアノエチル基、３－シアノプロピル基、２－アセトアミドエチル基、１－カルボキサミドメチル基、２－カルボキサミドエチル基、３－カルボキサミドプロピル基のいずれかであることが好ましく、２－ヒドロキシエチル基、３－ヒドロキシプロピル基、２－シアノエチル基、３－シアノプロピル基、２－アセトアミドエチル基、１－カルボキサミドメチル基のいずれかであることがより好ましい。

　式（３）中のＢが炭素－炭素不飽和結合を含む有機基である場合、Ｂとしては、芳香族炭化水素、不飽和複素環、アルケニル基、アルキニル基から選択される少なくとも１つを含む有機基などが挙げられる。

　式（３）中のＢが炭素－炭素不飽和結合を含む有機基である場合、Ｂとしては、フェニル基、メトキシフェニル基、フッ化フェニル基、アセトアミドフェニル基、カルボキサミドフェニル基、シアノフェニル基、ナフチル基、フェネチル基、メトキシフェネチル基、フッ化フェネチル基、ベンジル基、メトキシベンジル基、ナフチルメチル基、メトキシナフチル基、ピロリル基、ピラゾリル基、メチルピラゾリルメチル基、イミダゾリル基、フリル基、フルフリル基、オキサゾリル基、イソオキサゾリル基、チエニル基、チエニルエチル基、チアゾリル基、メチルチアゾリルエチル基、イソチアゾリル基、ピリジル基、ピリミジニル基、ピリダジニル基、ピラジニル基、インドリニル基、ベンゾフラニル基、ベンゾチエニル基、ベンゾイミダゾリル基、ベンゾオキサゾリル基、ベンゾチアゾリル基、ベンゾピラゾリル基、ベンゾイソオキサゾリル基、ベンゾイソチアゾリル基、キノリル基、イソキノリル基、キナゾリニル基、キノキサリニル基、フタラジニル基、シンノリニル基、ビニル基、アリル基、ブテニル基、プロピニル基、プロパルギル基、ブチニル基、メチルブチニル基、ペンチニル基、メチルペンチニル基、ヘキシニル基などが挙げられる。

　上記の炭素－炭素不飽和結合を含む有機基の中でも、フェニル基、メトキシフェニル基、アセトアミドフェニル基、カルボキサミドフェニル基、シアノフェニル基、ナフチル基、フェネチル基、メトキシフェネチル基、フッ化フェネチル基、チエニルエチル基、アリル基、ブテニル基、プロパルギル基のいずれかであることが好ましく、特に、フェニル基、メトキシフェニル基、カルボキサミドフェニル基、アリル基、ブテニル基のいずれかであることがより好ましい。十分な疎水性を有し、かつ嵩高くなりすぎず、式（３）中の水酸基の運動が妨げられて、保護層との相互作用が阻害されることを抑制できるためである。

　式（３）中のＢが水素原子である場合、Ｂは式（３）中の酸素原子とともに、水酸基を形成する。

　Ｒ^１およびＲ^４の一方が式（３）で表される末端基である場合、式（３－１）または（３－２）で表される末端基であることがより好ましい。

（式（３－１）中、ｐは０～３の整数を表し、ｑは０～２の整数を表し、ｒは０～５の整数を表す。ｐとｒの合計値は１～５である。Ｄは、極性基、ビニル基、エチニル基、または置換基を有してもよいアリール基を表す。）
（式（３－２）中、ｓは０～２の整数を表す。ｔは１～５の整数を表す。）

　式（３－１）および（３－２）で表される末端基に含まれる各極性基は、それぞれ異なる炭素原子に結合している。式（３－１）および（３－２）において、極性基の結合している炭素原子同士は、極性基の結合していない炭素原子を含む連結基を介して結合している。このことから、Ｒ^１またはＲ^４が式（３－１）または（３－２）で表される末端基である式（１）で表される含フッ素エーテル化合物では、式（３－１）または（３－２）中の極性基の結合していない炭素原子を含む連結基によって、式（３－１）または（３－２）中の末端極性基と、末端極性基に隣接する水酸基のいずれも保護層へ密着できる配向となることができる。このため、保護層との強い相互作用が得られる。

　Ｒ^１またはＲ^４が式（３－１）または式（３－２）で表される末端基である場合には、末端基内の極性基同士が凝集しにくく、保護層との相互作用が生じやすい。このことから、Ｒ^１またはＲ^４が式（３－１）または式（３－２）で表される末端基である場合には、極性基の結合する炭素原子同士が直接結合している末端基が配置されている場合と比較して、含フッ素エーテル化合物中の末端部分が浮き上がりにくく、保護層との密着性が低下しにくい。

　式（３－１）で表される末端基においては、末端に配置された極性基、ビニル基、エチニル基、または置換基を有してもよいアリール基から選ばれるＤが結合している炭素原子と、末端に配置されたＤに隣接する水酸基が結合している炭素原子との間の連結基が、エーテル結合を形成している酸素原子を含む。式（３－１）中のｐは０～３の整数を表し、ｑは０～２の整数を表し、ｒは０～５の整数を表し、ｐとｒの合計値は１～５である。したがって、上記連結基は、極性基の結合していない炭素原子を含む２～７原子からなる直鎖状の構造を有する。

　式（３－１）で表される末端基では、上記連結基がエーテル結合を形成している酸素原子を含み、極性基の結合していない炭素原子を含む２原子以上の原子からなる直鎖状の構造であるので、Ｄと、Ｄに隣接する水酸基との間の距離が適切である。このため、分子内でＤと、Ｄに隣接する水酸基とが相互作用することを抑制でき、式（３－１）で表される末端基中の極性基が効率よく保護層へ密着できる。また、上記連結基が２原子以上の原子からなる直鎖状の構造であるため、エーテル結合を形成している酸素原子を含むものであっても、良好な疎水性を有する含フッ素エーテル化合物となる。また、上記連結基が２原子以上の原子からなる直鎖状の構造であるため、エーテル結合を形成している酸素原子を含むものであっても、分子の運動性が適切であり、分子内凝集が起こりにくく、保護層との優れた密着性を有する。

　式（３－１）で表される末端基では、上記連結基がエーテル結合を形成している酸素原子を含み、極性基の結合していない炭素原子を含む７原子以下の原子からなる直鎖状の構造であるため、連結基の疎水性が高すぎることにより、含フッ素エーテル化合物を含む潤滑層と保護層との密着性に支障を来すことがない。
　これらのことから、連結基が、極性基の結合していない炭素原子を含む２～７原子からなる直鎖状の構造である、式（３－１）で表される末端基を有する含フッ素エーテル化合物を含む潤滑層は、保護層との密着性に優れるものであり、高い耐腐食性を示し、かつピックアップ抑制効果の高いものとなる。

　式（３－１）において、ｐとｒの合計値は１～５であり、１～３であることが好ましい。式（３－１）において、極性基の結合している炭素原子間に配置された連結基に含まれる炭素原子は、近接する極性基同士の分子内相互作用が、極性基と保護層との相互作用に優先して生じることを防ぎ、式（３－１）中の極性基と保護層との密着性を向上させる。一方で、上記連結基に含まれる炭素原子数が多すぎると、式（３－１）で示される末端基の柔軟性が低下して、保護層上を均一に被覆することが難しくなることがある。式（３－１）で表される末端基では、ｐとｒの合計値が５以下であるので、式（３－１）の主鎖部分のアルキレン鎖が長すぎないものとなる。したがって、剛直なアルキレン鎖が長いことによって、末端部分の柔軟性が低下し、保護層との相互作用が弱まって末端部分が浮き上がることを防止できる。ｐは０または１であることが好ましく、０であることがより好ましい。ｒは１または２であることが好ましく、１であることがより好ましい。

　式（３－１）中のＤは極性基、ビニル基、エチニル基、または置換基を有してもよいアリール基を表す。Ｄが極性基である場合、Ｄは式（２）に該当しない末端基に含まれる極性基の好ましい例として挙げたものであることが好ましい。上記の極性基の中でも、水酸基、シアノ基、およびアミド結合を有する基からなる群から選ばれる極性基であることがより好ましい。Ｄが置換基を有してもよいアリール基である場合、上述した式（３）中のＢが炭素－炭素不飽和結合を含む有機基である場合に使用できる有機基に含まれる、置換基を有してもよいアリール基を用いることができる。

　式（３－１）において、ｑは０～２の整数を表す。式（３－１）中の極性基の数は、Ｄが極性基である場合はｑ＋２個であり、Ｄがビニル基またはエチニル基である場合はｑ＋１個である。上述したように、Ｒ^１およびＲ^４に含まれる極性基の数は、それぞれ２個以上３個以下であることが好ましい。したがって、式（３－１）中のｑは、Ｄが極性基である場合は０または１であることが好ましく、Ｄがビニル基またはエチニル基である場合は１または２であることが好ましい。Ｄが置換基を有してもよいアリール基である場合、式（３－１）中の極性基の数が２個または３個となるようにｑを選択することが好ましい。

　式（３－２）で表される末端基は、末端水酸基が結合する炭素原子と、末端水酸基に隣接する水酸基が結合する炭素原子との間の連結基が酸素原子を含まない。このことにより、分子内相互作用が小さく、分子内凝集が起こりにくくなるため、保護層との優れた密着性を有する。式（３－２）中のｔは１～５の整数を表す。したがって、上記連結基は、水酸基の結合していない炭素原子を含む１～５原子からなる直鎖状の構造を有する。

　式（３－２）に含まれる上記連結基は、水酸基の結合していない炭素原子を含む１原子以上の原子からなる直鎖状の構造であるため、末端水酸基と、末端水酸基に隣接する水酸基との間の距離が適切であり、分子内凝集が起こりにくく、良好な疎水性を有する。
　また、式（３－２）に含まれる上記連結基がエーテル結合を形成している酸素原子を含まず、水酸基の結合していない炭素原子を含む５原子以下の原子からなる直鎖状の構造であるため、連結基の疎水性が高すぎて、保護層との密着性に支障を来すことがないし、連結基が嵩高くなりすぎて水酸基の運動を妨げる影響も小さい。

　また、式（３－２）において、極性基の結合している炭素原子間に配置された連結基に含まれる炭素原子数が多すぎると、式（３－２）で示される末端基の柔軟性が低下して、保護層の全面を均一に被覆することが難しくなることがある。式（３－２）で表される末端基では、ｔが５以下であるので、式（３－２）の主鎖部分のアルキレン鎖が長すぎないものとなる。したがって、剛直なアルキレン鎖が長いことによって、末端部分の柔軟性が低下し、末端水酸基と保護層との相互作用が低下することを防止できる。

　これらのことから、上記連結基が、エーテル結合を形成している酸素原子を含まず、水酸基の結合していない炭素原子を含む１～５原子からなる直鎖状の構造を有する含フッ素エーテル化合物を含む潤滑層は、保護層との密着性に優れるものであり、高い耐腐食性を示し、かつピックアップ抑制効果の高いものとなる。
　式（３－２）中のｔは１または２であることが好ましく、１であることがより好ましい。

　式（３－２）において、ｓは０～２の整数を表す。式（３－２）中の極性基の数はｓ＋２個であり、上述したように、Ｒ^１およびＲ^４に含まれる極性基の数は、それぞれ２個以上３個以下であることが好ましい。したがって、式（３－２）中のｓは、０または１であることが好ましい。

（Ｒ^３で示される２価の連結基）
　式（１）で表される含フッ素エーテル化合物において、ｘ個のＲ^３は、極性基を１個～４個有する２価の連結基である。Ｒ^３は、隣接するＰＦＰＥ鎖の間にメチレン基を介して配置されている。このことにより、Ｒ^３は、含フッ素エーテル化合物を保護層に密着させる。その結果、本実施形態の含フッ素エーテル化合物を含む潤滑剤では、厚みの薄い潤滑層を十分な被覆率で形成できる。

　式（１）中、ｘが２である場合、２つのＲ^３は、同じであっても良いし、それぞれ異なっていても良く、同じであることが好ましい。２つのＲ^３が同じであると、含フッ素エーテル化合物の保護層に対する被覆状態がより均一となり、より良好な密着性を有する潤滑層を形成できる。また、２つのＲ^３が同じであると、含フッ素エーテル化合物を容易に効率よく製造できる。

　本明細書において、ｘが２である場合に「２つのＲ^３が同じである」とは、２つのＲ^３に含まれる原子が、分子の鎖状構造中央に配置されたＲ^２に対して、対称配置されていることを意味する。

　式（１）におけるｘ個のＲ^３は、それぞれ１個以上の極性基を含む。このため、含フッ素エーテル化合物を含む潤滑剤を用いて保護層上に潤滑層を形成した場合、潤滑層と保護層との間に好適な相互作用が発生する。よって、式（１）で表される含フッ素エーテル化合物は、保護層との密着性に優れ、ピックアップ抑制効果の高い潤滑層を形成できる。

　また、Ｒ^３に含まれる極性基の数が４個以下であるので、含フッ素エーテル化合物を含む潤滑層において、含フッ素エーテル化合物の極性が高すぎて、含フッ素エーテル化合物が凝集して塊となり、潤滑層の平滑性が失われることを抑制できる。このため、潤滑層と磁気ヘッドとが衝突することによるピックアップの発生を抑制できる。また、Ｒ^３に含まれる極性基の数が４個以下であると、含フッ素エーテル化合物の親水性が高くなりすぎて、磁気記録媒体に腐食の原因となる水が取り込まれることを防止できる。その結果、耐腐食性の高い潤滑層を形成できる含フッ素エーテル化合物となる。Ｒ^３に含まれる極性基の数は、３個以下であることが好ましい。

　Ｒ^３に含まれる極性基は、水酸基（－ＯＨ）、カルボキシ基（－ＣＯＯＨ）、ホルミル基（－（Ｃ＝Ｏ）Ｈ）、カルボニル基（－（Ｃ＝Ｏ）Ｒ^７；Ｒ^７は有機基である。）、スルホ基（－ＳＯ_３Ｈ）、シアノ基（－ＣＮ）、およびアミド結合を有する基（－ＮＲ^８ＣＯＲ^９または－ＣＯＮＲ^１０Ｒ^１１；Ｒ^８、Ｒ^９、Ｒ^１０およびＲ^１１は、それぞれ独立に水素原子または有機基である。）、アミノ基（－ＮＲ^１２Ｒ^１３；Ｒ^１２およびＲ^１３は、それぞれ独立に水素原子または有機基である。）からなる群から選ばれる少なくとも１種の極性基であることが好ましい。アミド結合を有する基としては、上記式に示されるように、アミド結合を構成する炭素原子において結合する基（例えば、カルボキサミド基（－Ｃ（＝Ｏ）ＮＨ_２））と、アミド結合を構成する窒素原子において結合する基（例えば、アセトアミド基（－ＮＨＣ（＝Ｏ）ＣＨ_３））の両方を含む。アミド結合を有する基において、前記Ｒ^８とＲ^９が互いに結合して環を形成してもよく、前記Ｒ^１０とＲ^１１が互いに結合して環を形成してもよい。アミド結合を有する基における前記Ｒ^８、Ｒ^９、Ｒ^１０およびＲ^１１は、それぞれ独立に水素原子、メチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基からなる群から選択されることが好ましい。

　Ｒ^３は、それぞれ独立に、水酸基、シアノ基、およびアミド結合を有する基からなる群から選ばれる少なくとも１種の極性基を含むことが好ましい。水酸基、シアノ基、およびアミド結合を有する基は、化学的に安定であり、これらの極性基を有する含フッ素エーテル化合物を含む潤滑層が長期的に変質しないためである。また、水酸基、シアノ基、およびアミド結合を有する基は、酸性度が高すぎず、基板を腐食しにくいためである。

　式（１）におけるｘ個のＲ^３がそれぞれ有する１個～４個の極性基は、一部または全部が同じであっても良いし、それぞれ異なっていても良い。
　式（１）におけるｘ個のＲ^３は、それぞれ少なくとも１つの水酸基を含むことが好ましく、ｘ個のＲ^３の有する極性基が、すべて水酸基であることがより好ましい。含フッ素エーテル化合物の保護層に対する被覆状態がより均一となるためである。

　式（１）におけるｘ個のＲ^３は、それぞれ炭素原子数１～５０の連結基であることが好ましく、炭素原子数３～５０の連結基であることがより好ましく、炭素原子数３～２０の連結基であることがさらに好ましく、炭素原子数４～１５の連結基であることが最も好ましい。Ｒ^３で表される連結基の炭素原子数が１以上であると、連結基の疎水性が担保できるため、腐食の原因となる水を潤滑層に誘引することを防止でき、耐腐食性の良好な潤滑層を形成できる。Ｒ^３で表される連結基の炭素原子数が５０以下であると、連結基が柔軟な構造となって、含フッ素エーテル化合物を含む潤滑層と保護層との密着性が良好となる。その結果、ピックアップを抑制できる潤滑層が得られる。

　式（１）におけるｘ個のＲ^３は、それぞれ両端部に酸素原子が配置されている２価の連結基であることが好ましい。この場合、Ｒ^３で示される２価の連結基の両端部に配置された酸素原子は、Ｒ^３の両側に配置されるメチレン基（－ＣＨ_２－）と、エーテル結合（－Ｏ－）を形成する。これらのエーテル結合は、式（１）で表される含フッ素エーテル化合物に適度な柔軟性を付与し、Ｒ^３で示される２価の連結基の有する極性基と保護層との親和性を増大させる。

　式（１）におけるｘ個のＲ^３は、それぞれ独立に、水酸基を１個～３個有し、隣接するメチレン基と結合する両方の端部に酸素原子を有する、炭素原子数３～５０の２価の連結基であることがより好ましい。
　より具体的には、ｘ個のＲ^３は、それぞれ独立に、下記式（４－１）～（４－６）で表される連結基から選ばれるいずれか１種であることが好ましい。

　式（４－１）で示される連結基は、グリセリン構造（－ＯＣＨ_２ＣＨ（ＯＨ）ＣＨ_２Ｏ－）、またはグリセリン構造中に１～６つのメチレン基を増加させた構造を有する。したがって、式（４－１）で示される連結基に含まれる水酸基は、１つのみであり、連結基の極性が低く保たれる。その結果、磁気記録媒体の腐食の原因となる水が侵入することを効果的に阻害でき、磁気記録媒体の腐食抑制効果の高い潤滑層を形成できるものとなる。

　式（４－１）中、ｕ１とｕ２の少なくとも一方が０であるため、式（１）で表される含フッ素エーテル化合物が柔軟性に優れるものとなり、含フッ素エーテル化合物の保護層に対する被覆状態がより均一となる。ｕ１とｕ２の一方のみが０である場合、ｕ１とｕ２のうち０でない方の値は１～６であり、１～４であることが好ましく、１～３であることがより好ましい。連結基が剛直になりすぎず、より良好な密着性を有し、ピックアップ耐性に優れた潤滑層を形成できるためである。

　また、式（４－１）において、ｕ１とｕ２の一方のみが０である場合、二級水酸基の結合している炭素原子と、両端に配置されているエーテル結合を形成しているエーテル酸素原子との間に、極性基およびエーテル酸素原子のいずれにも結合しない炭素原子をｕ１個またはｕ２個有するものとなる。このため、ｕ１個またはｕ２個のメチレン基に起因する優れた疎水性を有し、より一層、耐腐食性の良好な潤滑層を形成できる含フッ素エーテル化合物となる。

　式（４－２）で示される連結基は、グリセリン構造（－ＯＣＨ_２ＣＨ（ＯＨ）ＣＨ_２Ｏ－）が２～３個連結した構造である。グリセリン構造は、連結基に柔軟性を付与するものであるため、式（４－２）で示される連結基は極めて柔軟である。その結果、式（１）で表される含フッ素エーテル化合物は、より良好な密着性を有し、よりピックアップ耐性に優れた潤滑層を形成できるものとなる。
　式（４－２）中、ｖは１～２の整数を表し、１であることが好ましい。ｖが２以下であると、式（１）で表される含フッ素エーテル化合物の極性が低く保たれ、より耐腐食性に優れた潤滑層を形成できる。

　式（４－３）で示される連結基は、水酸基の結合している炭素原子同士が、直接結合した構造、またはエーテル結合を含まない炭素原子数１～６のアルキレン基を介して結合した構造を有する。このため、式（４－３）で示される連結基は、例えば、水酸基の結合している炭素原子同士が、エーテル結合を形成している酸素原子とアルキレン基とを介して結合した構造を有する連結基と比較して、極性が低く保たれる。その結果、磁気記録媒体の腐食の原因となる水が侵入することを効果的に阻害でき、磁気記録媒体の腐食抑制効果が高い潤滑層を形成できる。

　式（４－３）中、ｗは０～６の整数を表し、０～４であることが好ましい。ｗが６以下であると、式（４－３）で示される連結基が剛直になりすぎることがなく、より良好な密着性を有し、ピックアップ耐性に優れた潤滑層を形成できる含フッ素エーテル化合物となる。

　また、式（４－３）において、ｗが１以上である場合、二級水酸基の結合している２つの炭素原子の間に、極性基およびエーテル酸素原子のいずれにも結合しない炭素原子をｗ個有するものとなる。このため、ｗ個のメチレン基に起因する優れた疎水性を有し、より一層、耐腐食性の良好な潤滑層を形成できる含フッ素エーテル化合物となる。ｗが１以上である場合、ｗは２～４であることが好ましい。

　式（４－４）で示される連結基は、水酸基の結合している炭素原子同士が、エーテル結合を形成している酸素原子を含む４原子以上の直鎖の連結鎖を介して結合している構造を有する。式（４－４）で示される連結基を有する含フッ素エーテル化合物は、式（４－４）中の２つの水酸基間の距離が十分に保たれたものであるため、水酸基の分子内相互作用が抑制され、保護層に対して良好な吸着能を有する潤滑層を形成できる。したがって、式（１）で表される含フッ素エーテル化合物を含む潤滑層は、より良好な密着性を有し、より一層、ピックアップ耐性に優れるものとなる。

　式（４－４）中、ｘ１およびｘ２は、それぞれ独立に０～５の整数を表し、ｘ１およびｘ２のうち、少なくとも一方は１～５の整数である。式（４－４）で示される連結基は、ｘ１、ｘ２の合計値が１以上であるため、含フッ素エーテル化合物の疎水性が良好となり、これを含む潤滑層が、腐食の原因となる水を取り込みにくく、良好な耐腐食性を有するものとなる。ｘ１およびｘ２は、それぞれ独立に３以下の整数であることが好ましい。連結基が剛直になりすぎず、より良好な密着性を有し、ピックアップ耐性に優れた潤滑層を形成できるためである。また、ｘ１、ｘ２の合計値は、４以下であることが好ましい。式（４－４）で表される連結基に適度な柔軟性を付与するため、ｘ１およびｘ２の一方が０であることが好ましい。

　式（４－５）で示される連結基は、３つの水酸基を有し、隣接する水酸基の結合している炭素原子同士が、それぞれエーテル結合を形成している酸素原子を含む４原子以上の直鎖の連結鎖を介して結合している構造を有する。
　式（４－５）で示される連結基を有する含フッ素エーテル化合物は、式（４－５）で示される連結基が３つの水酸基を有するため、水酸基と保護層との相互作用が形成されやすく、保護層に対する密着性の良好な潤滑層を形成できるものとなる。さらに、式（４－５）で示される連結基を有する含フッ素エーテル化合物は、式（４－５）中の３つの水酸基の隣接する水酸基間の距離が十分に保たれたものであるため、水酸基の分子内相互作用が抑制され、保護層に対して良好な吸着能を有する潤滑層を形成できる。したがって、式（１）で表される含フッ素エーテル化合物を含む潤滑層は、より良好な密着性を有し、より一層、ピックアップ耐性に優れるものとなる。

　式（４－５）中、ｙ１およびｙ２は、それぞれ独立に１～５の整数を表す。式（４－５）で示される連結基は、ｙ１、ｙ２がいずれも１以上であるため、含フッ素エーテル化合物の疎水性が良好となり、これを含む潤滑層が、腐食の原因となる水を取り込みにくく、良好な耐腐食性を有するものとなる。式（４－５）で表される連結基に適度な柔軟性を付与するため、ｙ１およびｙ２は、それぞれ独立に１～３であることが好ましく、いずれも１であることが最も好ましい。また、含フッ素エーテル化合物の保護層に対する被覆状態がより均一となるため、ｙ１とｙ２が同じであることが好ましい。

　式（４－６）で示される連結基は、水酸基の結合している炭素原子同士が、２つのエーテル結合を含む７原子以上の直鎖の連結鎖を介して結合している構造である。式（４－６）で示される連結基では、２つの水酸基間の距離が十分に保たれるため、分子内相互作用が抑制されたものとなる。したがって、式（４－６）で示される連結基は、保護層に対して良好な吸着能を有する。その結果、式（４－６）で示される連結基を有する含フッ素エーテル化合物は、より良好な密着性を有し、ピックアップ耐性に優れた潤滑層を形成できる。

　式（４－６）中、ｚは１～６の整数を表す。式（４－６）で表される連結基に適度な柔軟性を付与するため、ｚは４以下であることが好ましい。また、式（４－６）で表される連結基に十分な疎水性を付与するため、ｚは２以上であることが好ましい。
　式（４－６）におけるｚ個のＲ^ｃおよびＲ^ｄは、それぞれ独立に水素原子、フッ素原子またはメチル基を表す。製造が容易になるため、ｚ個の（－ＣＲ^ｃＲ^ｄ－）はそれぞれ、－ＣＨ_２－、－ＣＨ（ＣＨ_３）－、－Ｃ（ＣＨ_３）_２－、－ＣＦ_２－のいずれかであることが好ましい。

　ｚ個の（－ＣＲ^ｃＲ^ｄ－）が、１つまたは複数の－ＣＨ_２－のみである場合、例えば、－ＣＨ（ＣＨ_３）－および／または－Ｃ（ＣＨ_３）_２－を含む場合と比較して、式（４－６）で示される連結基が柔軟になるため、好ましい。
　また、ｚ個の（－ＣＲ^ｃＲ^ｄ－）の少なくとも一部が、－ＣＨ（ＣＨ_３）－および／または－Ｃ（ＣＨ_３）_２－を含む場合、ｚ個の（－ＣＲ^ｃＲ^ｄ－）が全て－ＣＨ_２－である場合と比較して、適度に嵩高いものとなり、式（４－６）で示される連結基の有する水酸基同士の分子内相互作用を効果的に抑制でき、好ましい。
　また、ｚ個の（－ＣＲ^ｃＲ^ｄ－）が、１つまたは複数の－ＣＦ_２－を含む場合、式（４－６）で示される連結基の水との親和性が低下して、より一層、腐食の原因となる水を取り込みにくくなるため、好ましい。

（Ｒ^２で示されるＰＦＰＥ鎖）
　式（１）で表される含フッ素エーテル化合物において、（ｘ＋１）個のＲ^２は、それぞれ独立にパーフルオロポリエーテル鎖（以下、「ＰＦＰＥ鎖」という場合がある。）である。Ｒ^２で示されるＰＦＰＥ鎖は、本実施形態の含フッ素エーテル化合物を含む潤滑剤を保護層上に塗布して潤滑層を形成した場合に、保護層の表面を被覆するとともに、潤滑層に潤滑性を付与して磁気ヘッドと保護層との摩擦力を低減させる。Ｒ^２で示されるＰＦＰＥ鎖は、含フッ素エーテル化合物を含む潤滑剤に求められる性能等に応じて適宜選択される。

　式（１）で表される含フッ素エーテル化合物において、（ｘ＋１）個のＲ^２は、一部または全部が同じであってもよいし、それぞれ異なっていても良い。（ｘ＋１）個のＲ^２は全て同じであることが好ましい。これは、含フッ素エーテル化合物の保護層に対する被覆状態が均一となり、より良好な密着性を有する潤滑層となるためである。（ｘ＋１）個のＲ^２のうち２つ以上のＲ^２が同じであるとは、（ｘ＋１）個のＲ^２のうち、ＰＦＰＥ鎖の繰り返し単位の構造が同じＲ^２が２つ以上含まれていることを意味する。同じＲ^２には、繰り返し単位の構造が同じであって平均重合度が異なるものも含まれる。

　Ｒ^２で示されるＰＦＰＥ鎖としては、パーフルオロアルキレンオキシドの重合体または共重合体からなるものなどが挙げられる。パーフルオロアルキレンオキシドとしては、例えば、パーフルオロメチレンオキシド、パーフルオロエチレンオキシド、パーフルオロ－ｎ－プロピレンオキシド、パーフルオロイソプロピレンオキシド、パーフルオロブチレンオキシドなどが挙げられる。

　式（１）における（ｘ＋１）個のＲ^２は、それぞれ独立に、例えば、パーフルオロアルキレンオキシドの重合体または共重合体に由来する下記式（５）で表されるＰＦＰＥ鎖であることが好ましい。
　－（ＣＦ_２）_ｗ１－Ｏ－（ＣＦ_２Ｏ）_ｗ２－（ＣＦ_２ＣＦ_２Ｏ）_ｗ３－（ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２Ｏ）_ｗ４－（ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２Ｏ）_ｗ５－（ＣＦ_２）_ｗ６－　　　（５）
（式（５）中、ｗ２、ｗ３、ｗ４、ｗ５は平均重合度を示し、それぞれ独立に０～２０を表す。ただし、ｗ２、ｗ３、ｗ４、ｗ５の全てが同時に０になることはない。ｗ１、ｗ６は、ＣＦ_２の数を表す平均値であり、それぞれ独立に１～３を表す。式（５）における繰り返し単位である（ＣＦ_２Ｏ）、（ＣＦ_２ＣＦ_２Ｏ）、（ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２Ｏ）、（ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２Ｏ）の配列順序には、特に制限はない。）

　式（５）中、ｗ２、ｗ３、ｗ４、ｗ５は平均重合度を示し、それぞれ独立に０～２０を表し、０～１５であることが好ましく、０～１０であることがより好ましい。
　式（５）中、ｗ１、ｗ６は、ＣＦ_２の数を示す平均値であり、それぞれ独立に１～３を表す。ｗ１、ｗ６は、式（５）で表されるＰＦＰＥ鎖において、鎖状構造の端部に配置されている繰り返し単位の構造などに応じて決定される。
　式（５）における（ＣＦ_２Ｏ）、（ＣＦ_２ＣＦ_２Ｏ）、（ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２Ｏ）、（ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２Ｏ）は、繰り返し単位である。式（５）における繰り返し単位の配列順序には、特に制限はない。また、式（５）における繰り返し単位の種類の数にも、特に制限はない。

　式（１）における（ｘ＋１）個のＲ^２は、それぞれ独立に、下記式（５－１）～（５－４）で表されるＰＦＰＥ鎖から選ばれるいずれか１種であることが好ましい。
　（ｘ＋１）個のＲ^２が、それぞれ独立に式（５－１）～（５－４）で表されるＰＦＰＥ鎖から選ばれるいずれか１種であると、良好な潤滑性を有する潤滑層が得られる含フッ素エーテル化合物となる。また、（ｘ＋１）個のＲ^２が、それぞれ独立に式（５－１）～（５－４）で表されるＰＦＰＥ鎖から選ばれるいずれか１種である場合、ＰＦＰＥ鎖中の炭素原子数に対する酸素原子数（エーテル結合（－Ｏ－）数）の割合が適正である。このため、適度な硬さを有する含フッ素エーテル化合物となる。よって、保護層上に塗布された含フッ素エーテル化合物が、保護層上で凝集しにくく、より一層厚みの薄い潤滑層を十分な被覆率で形成できる。また、（ｘ＋１）個のＲ^２が、それぞれ独立に式（５－１）～（５－４）で表されるＰＦＰＥ鎖から選ばれるいずれか１種である含フッ素エーテル化合物を含む潤滑層は、より緻密なものとなり、より一層ピックアップを抑制でき、好ましい。

　－ＣＦ_２－（ＯＣＦ_２ＣＦ_２）_ｈ－（ＯＣＦ_２）_ｉ－ＯＣＦ_２－　　（５－１）
（式（５－１）中、ｈおよびｉは平均重合度を示し、ｈは１～２０を表し、ｉは０～２０を表す。）
　－ＣＦ_２ＣＦ_２－（ＯＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２）_ｊ－ＯＣＦ_２ＣＦ_２－　　（５－２）
（式（５－２）中、ｊは平均重合度を示し、１～１５を表す。）
　－ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２－（ＯＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２）_ｋ－ＯＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２－　　（５－３）
（式（５－３）中、ｋは平均重合度を示し、１～１０を表す。）
　－（ＣＦ_２）_ｗ７－Ｏ－（ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２Ｏ）_ｗ８－（ＣＦ_２ＣＦ_２Ｏ）_ｗ９－（ＣＦ_２）_ｗ１０－　　（５－４）
（式（５－４）中、ｗ８、ｗ９は平均重合度を示し、それぞれ独立に１～２０を表す。ｗ７、ｗ１０は、ＣＦ_２の数を表す平均値であり、それぞれ独立に１～２を表す。）

　式（５－１）において、繰り返し単位である（ＯＣＦ_２ＣＦ_２）と（ＯＣＦ_２）との配列順序に、特に制限はない。式（５－１）において、（ＯＣＦ_２ＣＦ_２）の数ｈと（ＯＣＦ_２）の数ｉは同じであってもよいし、異なっていてもよい。式（５－１）で表されるＰＦＰＥ鎖は、（ＯＣＦ_２ＣＦ_２）の重合体であってもよい。また、式（５－１）で表されるＰＦＰＥ鎖は、（ＯＣＦ_２ＣＦ_２）と（ＯＣＦ_２）とからなるランダム共重合体、ブロック共重合体、交互共重合体のいずれかであってもよい。

　式（５－１）～（５－３）においては、平均重合度を示すｈが１～２０、ｉが０～２０、ｊが１～１５、ｋが１～１０であるので、良好な潤滑性を有する潤滑層が得られる含フッ素エーテル化合物となる。また、式（５－１）～（５－３）においては、平均重合度を示すｈ、ｉが２０以下、ｊが１５以下、ｋが１０以下であるので、含フッ素エーテル化合物の粘度が高くなりすぎず、これを含む潤滑剤が塗布しやすいものとなり、好ましい。平均重合度を示すｈ、ｉ、ｊ、ｋは、保護層上に濡れ広がりやすく、均一な膜厚を有する潤滑層が得られやすい含フッ素エーテル化合物となるため、１～１０であることが好ましく、１．５～８であることがより好ましく、２～７であることがさらに好ましい。

　式（５－４）において、繰り返し単位である（ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２Ｏ）と（ＣＦ_２ＣＦ_２Ｏ）との配列順序には、特に制限はない。式（５－４）において、平均重合度を示す（ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２Ｏ）の数ｗ８と（ＣＦ_２ＣＦ_２Ｏ）の数ｗ９は同じであってもよいし、異なっていてもよい。式（５－４）は、モノマー単位（ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２Ｏ）と（ＣＦ_２ＣＦ_２Ｏ）とからなるランダム共重合体、ブロック共重合体、交互共重合体のいずれかを含むものであってもよい。

　式（５－４）において、平均重合度を示すｗ８およびｗ９は、それぞれ独立に１～２０であり、１～１５であることが好ましく、さらに１～１０であることが好ましい。
　式（５－４）におけるｗ７およびｗ１０は、ＣＦ_２の数を示す平均値であり、それぞれ独立に１～２を表す。ｗ７およびｗ１０は、式（５－４）で表されるＰＦＰＥ鎖において、鎖状構造の端部に配置されている繰り返し単位の構造などに応じて決定される。

　式（１）で表される含フッ素エーテル化合物は、具体的には、下記式（ＡＡ）～（ＡＴ）、（ＢＡ）～（ＢＬ）、（ＣＡ）～（ＣＦ）、（ＤＡ）～（ＤＨ）で表されるいずれかの化合物であることが好ましい。
　式（１）で表される含フッ素エーテル化合物が、下記式（ＡＡ）～（ＡＴ）、（ＢＡ）～（ＢＬ）、（ＣＡ）～（ＣＦ）、（ＤＡ）～（ＤＨ）で表されるいずれかの化合物である場合、原料が入手しやすく、しかも、厚みが薄くても、耐腐食性がより一層良好で、ピックアップ抑制効果の高い潤滑層を形成できる。

　下記式（ＡＡ）～（ＡＴ）、（ＢＡ）～（ＢＬ）、（ＣＡ）～（ＣＦ）、（ＤＡ）～（ＤＨ）で表される化合物において、ＰＦＰＥ鎖を表すＲｆ_１、Ｒｆ_２、Ｒｆ_３は、それぞれ下記の構造である。すなわち、下記式（ＡＡ）～（ＡＴ）、（ＢＡ）～（ＢＪ）、（ＣＡ）～（ＣＦ）、（ＤＡ）、（ＤＢ）で表される化合物において、Ｒｆ_１は、上記式（５－１）で表されるＰＦＰＥ鎖である。下記式（ＢＫ）、（ＤＣ）～（ＤＨ）で表される化合物において、Ｒｆ_２は、上記式（５－２）で表されるＰＦＰＥ鎖である。下記式（ＢＬ）で表される化合物において、Ｒｆ_３は、上記式（５－３）で表されるＰＦＰＥ鎖である。なお、式（ＡＡ）～（ＡＴ）、（ＢＡ）～（ＢＬ）、（ＣＡ）～（ＣＦ）、（ＤＡ）～（ＤＨ）中のＰＦＰＥ鎖を表すＲｆ_１におけるｈおよびｉ、Ｒｆ_２におけるｊ、Ｒｆ_３におけるｋは、平均重合度を示す値であるため、必ずしも整数になるとは限らない。

　下記式（ＡＡ）～（ＡＮ）で表される化合物は、式（１）におけるｘが１である。Ｒ^１およびＲ^４が同じで、上記式（２－１）～（２－６）のいずれかで表される末端基である。２つのＲ^２が同じで、上記式（５－１）で表されるＰＦＰＥ鎖である。Ｒ^３が上記式（４－１）で表される連結基である。

　下記式（ＡＯ）～（ＡＴ）で表される化合物は、式（１）におけるｘが１である。Ｒ^１が上記式（２－１）で表される末端基であり、Ｒ^４が上記式（３－１）、式（３－２）、式（３－１）および式（３－２）には該当しない式（３）のいずれかで表される末端基である。２つのＲ^２が同じで、上記式（５－１）で表されるＰＦＰＥ鎖である。Ｒ^３が上記式（４－１）で表される連結基である。

　下記式（ＢＡ）～（ＢＪ）で表される化合物は、式（１）におけるｘが１である。Ｒ^１およびＲ^４が同じで、上記式（２－１）で表される末端基である。２つのＲ^２が同じで、上記式（５－１）で表されるＰＦＰＥ鎖である。Ｒ^３が上記式（４－１）～（４－６）のいずれかで表される連結基である。

　下記式（ＢＫ）、（ＢＬ）で表される化合物は、式（１）におけるｘが１である。Ｒ^１およびＲ^４が同じで、上記式（２－１）で表される末端基である。２つのＲ^２が同じで、上記式（５－２）または（５－３）で表されるＰＦＰＥ鎖である。Ｒ^３が上記式（４－１）で表される連結基である。

　下記式（ＣＡ）～（ＣＤ）で表される化合物は、式（１）におけるｘが２である。Ｒ^１およびＲ^４が同じで、上記式（２－１）～（２－４）のいずれかで表される末端基である。３つのＲ^２が同じで、上記式（５－１）で表されるＰＦＰＥ鎖である。２つのＲ^３が同じで、上記式（４－１）で表される連結基である。

　下記式（ＣＥ）～（ＣＦ）で表される化合物は、式（１）におけるｘが２である。Ｒ^１およびＲ^４が同じで、上記式（２－１）で表される末端基である。３つのＲ^２が同じで、上記式（５－１）で表されるＰＦＰＥ鎖である。２つのＲ^３が同じで、上記式（４－２）または（４－３）で表される連結基である。

（式（ＡＡ）中の２つのＲｆ_１において、ｈ、ｉは平均重合度を示し、ｈは１～２０を表し、ｉは０～２０を表す。２つのＲｆ_１におけるｈ、ｉは、同じであってもよく、異なっていてもよい。）
（式（ＡＢ）中の２つのＲｆ_１において、ｈ、ｉは平均重合度を示し、ｈは１～２０を表し、ｉは０～２０を表す。２つのＲｆ_１におけるｈ、ｉは、同じであってもよく、異なっていてもよい。）
（式（ＡＣ）中の２つのＲｆ_１において、ｈ、ｉは平均重合度を示し、ｈは１～２０を表し、ｉは０～２０を表す。２つのＲｆ_１におけるｈ、ｉは、同じであってもよく、異なっていてもよい。）
（式（ＡＤ）中の２つのＲｆ_１において、ｈ、ｉは平均重合度を示し、ｈは１～２０を表し、ｉは０～２０を表す。２つのＲｆ_１におけるｈ、ｉは、同じであってもよく、異なっていてもよい。）
（式（ＡＥ）中の２つのＲｆ_１において、ｈ、ｉは平均重合度を示し、ｈは１～２０を表し、ｉは０～２０を表す。２つのＲｆ_１におけるｈ、ｉは、同じであってもよく、異なっていてもよい。）

（式（ＡＦ）中の２つのＲｆ_１において、ｈ、ｉは平均重合度を示し、ｈは１～２０を表し、ｉは０～２０を表す。２つのＲｆ_１におけるｈ、ｉは、同じであってもよく、異なっていてもよい。）
（式（ＡＧ）中の２つのＲｆ_１において、ｈ、ｉは平均重合度を示し、ｈは１～２０を表し、ｉは０～２０を表す。２つのＲｆ_１におけるｈ、ｉは、同じであってもよく、異なっていてもよい。）
（式（ＡＨ）中の２つのＲｆ_１において、ｈ、ｉは平均重合度を示し、ｈは１～２０を表し、ｉは０～２０を表す。２つのＲｆ_１におけるｈ、ｉは、同じであってもよく、異なっていてもよい。）
（式（ＡＩ）中の２つのＲｆ_１において、ｈ、ｉは平均重合度を示し、ｈは１～２０を表し、ｉは０～２０を表す。２つのＲｆ_１におけるｈ、ｉは、同じであってもよく、異なっていてもよい。）
（式（ＡＪ）中の２つのＲｆ_１において、ｈ、ｉは平均重合度を示し、ｈは１～２０を表し、ｉは０～２０を表す。２つのＲｆ_１におけるｈ、ｉは、同じであってもよく、異なっていてもよい。）

（式（ＡＫ）中の２つのＲｆ_１において、ｈ、ｉは平均重合度を示し、ｈは１～２０を表し、ｉは０～２０を表す。２つのＲｆ_１におけるｈ、ｉは、同じであってもよく、異なっていてもよい。）
（式（ＡＬ）中の２つのＲｆ_１において、ｈ、ｉは平均重合度を示し、ｈは１～２０を表し、ｉは０～２０を表す。２つのＲｆ_１におけるｈ、ｉは、同じであってもよく、異なっていてもよい。）
（式（ＡＭ）中の２つのＲｆ_１において、ｈ、ｉは平均重合度を示し、ｈは１～２０を表し、ｉは０～２０を表す。２つのＲｆ_１におけるｈ、ｉは、同じであってもよく、異なっていてもよい。）
（式（ＡＮ）中の２つのＲｆ_１において、ｈ、ｉは平均重合度を示し、ｈは１～２０を表し、ｉは０～２０を表す。２つのＲｆ_１におけるｈ、ｉは、同じであってもよく、異なっていてもよい。）
（式（ＡＯ）中の２つのＲｆ_１において、ｈ、ｉは平均重合度を示し、ｈは１～２０を表し、ｉは０～２０を表す。２つのＲｆ_１におけるｈ、ｉは、同じであってもよく、異なっていてもよい。）

（式（ＡＰ）中の２つのＲｆ_１において、ｈ、ｉは平均重合度を示し、ｈは１～２０を表し、ｉは０～２０を表す。２つのＲｆ_１におけるｈ、ｉは、同じであってもよく、異なっていてもよい。）
（式（ＡＱ）中の２つのＲｆ_１において、ｈ、ｉは平均重合度を示し、ｈは１～２０を表し、ｉは０～２０を表す。２つのＲｆ_１におけるｈ、ｉは、同じであってもよく、異なっていてもよい。）
（式（ＡＲ）中の２つのＲｆ_１において、ｈ、ｉは平均重合度を示し、ｈは１～２０を表し、ｉは０～２０を表す。２つのＲｆ_１におけるｈ、ｉは、同じであってもよく、異なっていてもよい。）
（式（ＡＳ）中の２つのＲｆ_１において、ｈ、ｉは平均重合度を示し、ｈは１～２０を表し、ｉは０～２０を表す。２つのＲｆ_１におけるｈ、ｉは、同じであってもよく、異なっていてもよい。）
（式（ＡＴ）中の２つのＲｆ_１において、ｈ、ｉは平均重合度を示し、ｈは１～２０を表し、ｉは０～２０を表す。２つのＲｆ_１におけるｈ、ｉは、同じであってもよく、異なっていてもよい。）

（式（ＢＡ）中の２つのＲｆ_１において、ｈ、ｉは平均重合度を示し、ｈは１～２０を表し、ｉは０～２０を表す。２つのＲｆ_１におけるｈ、ｉは、同じであってもよく、異なっていてもよい。）
（式（ＢＢ）中の２つのＲｆ_１において、ｈ、ｉは平均重合度を示し、ｈは１～２０を表し、ｉは０～２０を表す。２つのＲｆ_１におけるｈ、ｉは、同じであってもよく、異なっていてもよい。）
（式（ＢＣ）中の２つのＲｆ_１において、ｈ、ｉは平均重合度を示し、ｈは１～２０を表し、ｉは０～２０を表す。２つのＲｆ_１におけるｈ、ｉは、同じであってもよく、異なっていてもよい。）
（式（ＢＤ）中の２つのＲｆ_１において、ｈ、ｉは平均重合度を示し、ｈは１～２０を表し、ｉは０～２０を表す。２つのＲｆ_１におけるｈ、ｉは、同じであってもよく、異なっていてもよい。）
（式（ＢＥ）中の２つのＲｆ_１において、ｈ、ｉは平均重合度を示し、ｈは１～２０を表し、ｉは０～２０を表す。２つのＲｆ_１におけるｈ、ｉは、同じであってもよく、異なっていてもよい。）

（式（ＢＦ）中の２つのＲｆ_１において、ｈ、ｉは平均重合度を示し、ｈは１～２０を表し、ｉは０～２０を表す。２つのＲｆ_１におけるｈ、ｉは、同じであってもよく、異なっていてもよい。）
（式（ＢＧ）中の２つのＲｆ_１において、ｈ、ｉは平均重合度を示し、ｈは１～２０を表し、ｉは０～２０を表す。２つのＲｆ_１におけるｈ、ｉは、同じであってもよく、異なっていてもよい。）
（式（ＢＨ）中の２つのＲｆ_１において、ｈ、ｉは平均重合度を示し、ｈは１～２０を表し、ｉは０～２０を表す。２つのＲｆ_１におけるｈ、ｉは、同じであってもよく、異なっていてもよい。）
（式（ＢＩ）中の２つのＲｆ_１において、ｈ、ｉは平均重合度を示し、ｈは１～２０を表し、ｉは０～２０を表す。２つのＲｆ_１におけるｈ、ｉは、同じであってもよく、異なっていてもよい。）
（式（ＢＪ）中の２つのＲｆ_１において、ｈ、ｉは平均重合度を示し、ｈは１～２０を表し、ｉは０～２０を表す。２つのＲｆ_１におけるｈ、ｉは、同じであってもよく、異なっていてもよい。）

（式（ＢＫ）中の２つのＲｆ_２において、ｊは平均重合度を示し、１～１５を表す。２つのＲｆ_２におけるｊは、同じであってもよく、異なっていてもよい。）
（式（ＢＬ）中の２つのＲｆ_３において、ｋは平均重合度を示し、１～１０を表す。２つのＲｆ_３におけるｋは、同じであってもよく、異なっていてもよい。）
（式（ＣＡ）中の３つのＲｆ_１において、ｈ、ｉは平均重合度を示し、ｈは１～２０を表し、ｉは０～２０を表す。３つのＲｆ_１におけるｈ、ｉは、それぞれ異なっていてもよいし、一部または全部が同じであってもよい。）
（式（ＣＢ）中の３つのＲｆ_１において、ｈ、ｉは平均重合度を示し、ｈは１～２０を表し、ｉは０～２０を表す。３つのＲｆ_１におけるｈ、ｉは、それぞれ異なっていてもよいし、一部または全部が同じであってもよい。）
（式（ＣＣ）中の３つのＲｆ_１において、ｈ、ｉは平均重合度を示し、ｈは１～２０を表し、ｉは０～２０を表す。３つのＲｆ_１におけるｈ、ｉは、それぞれ異なっていてもよいし、一部または全部が同じであってもよい。）

（式（ＣＤ）中の３つのＲｆ_１において、ｈ、ｉは平均重合度を示し、ｈは１～２０を表し、ｉは０～２０を表す。３つのＲｆ_１におけるｈ、ｉは、それぞれ異なっていてもよいし、一部または全部が同じであってもよい。）
（式（ＣＥ）中の３つのＲｆ_１において、ｈ、ｉは平均重合度を示し、ｈは１～２０を表し、ｉは０～２０を表す。３つのＲｆ_１におけるｈ、ｉは、それぞれ異なっていてもよいし、一部または全部が同じであってもよい。）
（式（ＣＦ）中の３つのＲｆ_１において、ｈ、ｉは平均重合度を示し、ｈは１～２０を表し、ｉは０～２０を表す。３つのＲｆ_１におけるｈ、ｉは、それぞれ異なっていてもよいし、一部または全部が同じであってもよい。）

　下記式（ＤＡ）～（ＤＧ）で表される化合物は、式（１）におけるｘが１である。Ｒ^１およびＲ^４が同じで、上記式（２－１）、（２－２）、（２－６）、（２－７）のいずれかで表される末端基である。２つのＲ^２が同じで、上記式（５－１）または（５－２）で表されるＰＦＰＥ鎖である。Ｒ^３が上記式（４－１）または（４－４）で表される連結基である。
　下記式（ＤＨ）で表される化合物は、式（１）におけるｘが２である。Ｒ^１およびＲ^４が同じで、上記式（２－２）で表される末端基である。３つのＲ^２が同じで、上記式（５－２）で表されるＰＦＰＥ鎖である。２つのＲ^３が同じで、上記式（４－１）で表される連結基である。

（式（ＤＡ）中の２つのＲｆ_１において、ｈ、ｉは平均重合度を示し、ｈは１～２０を表し、ｉは０を表す。２つのＲｆ_１におけるｈは、同じであってもよく、異なっていてもよい。）
（式（ＤＢ）中の２つのＲｆ_１において、ｈ、ｉは平均重合度を示し、ｈは１～２０を表し、ｉは０を表す。２つのＲｆ_１におけるｈは、同じであってもよく、異なっていてもよい。）
（式（ＤＣ）中の２つのＲｆ_２において、ｊは平均重合度を示し、１～１５を表す。２つのＲｆ_２におけるｊは、同じであってもよく、異なっていてもよい。）
（式（ＤＤ）中の２つのＲｆ_２において、ｊは平均重合度を示し、１～１５を表す。２つのＲｆ_２におけるｊは、同じであってもよく、異なっていてもよい。）
（式（ＤＥ）中の２つのＲｆ_２において、ｊは平均重合度を示し、１～１５を表す。２つのＲｆ_２におけるｊは、同じであってもよく、異なっていてもよい。）
（式（ＤＦ）中の２つのＲｆ_２において、ｊは平均重合度を示し、１～１５を表す。２つのＲｆ_２におけるｊは、同じであってもよく、異なっていてもよい。）
（式（ＤＧ）中の２つのＲｆ_２において、ｊは平均重合度を示し、１～１５を表す。２つのＲｆ_２におけるｊは、同じであってもよく、異なっていてもよい。）
（式（ＤＨ）中の３つのＲｆ_２において、ｊは平均重合度を示し、１～１５を表す。３つのＲｆ_２におけるｊは、それぞれ異なっていてもよいし、一部または全部が同じであってもよい。）

　本実施形態の含フッ素エーテル化合物は、数平均分子量（Ｍｎ）が５００～１００００の範囲内であることが好ましく、５００～５０００の範囲内であることがより好ましく、１０００～３０００の範囲内であることが特に好ましい。数平均分子量が５００以上であると、本実施形態の含フッ素エーテル化合物を含む潤滑剤からなる潤滑層が優れた耐熱性を有するものとなる。含フッ素エーテル化合物の数平均分子量は、１０００以上であることがより好ましい。また、数平均分子量が１００００以下であると、含フッ素エーテル化合物の粘度が適正なものとなり、これを含む潤滑剤を塗布することによって、容易に厚みの薄い潤滑層を形成できる。含フッ素エーテル化合物の数平均分子量は、潤滑剤に適用した場合に扱いやすい粘度となるため、５０００以下であることが好ましい。

　含フッ素エーテル化合物の数平均分子量（Ｍｎ）は、ブルカー・バイオスピン社製ＡＶＡＮＣＥＩＩＩ４００による^１Ｈ－ＮＭＲおよび^１９Ｆ－ＮＭＲによって測定された値である。具体的には、^１９Ｆ－ＮＭＲによって測定された積分値よりＰＦＰＥ鎖の繰り返し単位数を算出し、数平均分子量を求める。ＮＭＲ（核磁気共鳴）の測定においては、試料をヘキサフルオロベンゼン／ｄ－アセトン（４／１ｖ／ｖ）溶媒へ希釈して測定する。^１９Ｆ－ＮＭＲケミカルシフトの基準は、ヘキサフルオロベンゼンのピークを－１６４．７ｐｐｍとする。^１Ｈ－ＮＭＲケミカルシフトの基準は、アセトンのピークを２．２ｐｐｍとする。

　本実施形態の含フッ素エーテル化合物は、適当な方法で分子量分画することにより、分子量分散度（重量平均分子量（Ｍｗ）／数平均分子量（Ｍｎ）比）を１．３以下とすることが好ましい。
　本実施形態において、分子量分画する方法としては、特に制限されないが、例えば、シリカゲルカラムクロマトグラフィー法、ゲルパーミエーションクロマトグラフィー（ＧＰＣ）法などによる分子量分画、超臨界抽出法による分子量分画等を用いることができる。

「製造方法」
　本実施形態の含フッ素エーテル化合物の製造方法は、特に限定されるものではなく、従来公知の製造方法を用いて製造できる。本実施形態の含フッ素エーテル化合物は、例えば、以下に示す製造方法を用いて製造できる。

［第１製造方法（ｘが１である場合）］
（Ｒ^１とＲ^４とが同じであり、２つのＲ^２が同じである場合）
　式（１）におけるＲ^２に対応するパーフルオロポリエーテル鎖の両末端に、それぞれヒドロキシメチル基（－ＣＨ_２ＯＨ）が配置されたフッ素系化合物を用意する。

　次いで、前記フッ素系化合物の片方の末端に配置されたヒドロキシメチル基の水酸基と、式（１）におけるＲ^１に対応する基（＝Ｒ^４に対応する基）を有するエポキシ化合物（第１原料化合物）とを反応させる（第一反応）。このことにより、Ｒ^２に対応するパーフルオロポリエーテル鎖の片方の末端に、Ｒ^１に対応する基（＝Ｒ^４に対応する基）を有する中間体化合物１が得られる。

　上記フッ素系化合物と上記第１原料化合物とを反応させる場合、上記第１原料化合物の有する水酸基を適切な保護基を用いて保護してから、上記フッ素系化合物と反応させても良い。
　１，２－ジオール構造の有する２つの水酸基が保護されている第１原料化合物であって、式（１）におけるＲ^１に対応する基（＝Ｒ^４に対応する基）を有するエポキシ化合物としては、例えば、下記式（６－１）～（６－１６）で表される化合物などを用いることができる。
　上記第１原料化合物として、エポキシ化合物に代えて、式（１）におけるＲ^１に対応する基（＝Ｒ^４に対応する基）と脱離基を有する化合物（以下、単に「脱離基を有する化合物」と呼ぶ場合がある。）を用いてもよい。脱離基を有する化合物としては、下記式（６－２４）及び（６－２５）で表される化合物などを用いることができる。式（６－２４）及び（６－２５）において、Ｔｓはトシル基を表す。式（６－２５）において、ＭＯＭはメトキシメチル基を表す。

　第１原料化合物の一例である式（６－１）で表されるエポキシ化合物は、例えば、下記式（７－１）に示す方法を用いて製造できる。すなわち、Ｒ^１（＝Ｒ^４）の式（２）におけるＸの一部（Ｘ´）とそれに結合した１，２－ジオール構造（－Ｘ´－ＣＨ（ＯＨ）－ＣＨ_２ＯＨ）に相当する部分を有するアルコール化合物と、式（２）におけるＸの一部に対応する部分とエポキシ基を有するハロゲン化合物である式（８－１）で示されるエピブロモヒドリンとを反応させる方法を用いて製造できる。式（７－１）に示すように、アルコール化合物として、１，２－ジオール構造の有する２つの水酸基が適切に保護されているものを用いてもよい。

　また、第１原料化合物の他の例である式（６－５）で表されるエポキシ化合物は、例えば、下記式（７－２）に示す方法を用いて製造できる。すなわち、式（２）におけるＸの一部に対応する部分とビニル基を有するアルコール化合物である３－ブテン－１－オールと、Ｒ^１（＝Ｒ^４）の式（２）におけるＸの一部（Ｘ´）とそれに結合した１，２－ジオール構造（－Ｘ´－ＣＨ（ＯＨ）－ＣＨ_２ＯＨ）に相当する部分を有するハロゲン化合物（本実施形態では、ソルケタールの水酸基を臭素化したハロゲン化合物）とを反応させる。その後、得られた化合物にｍ－クロロ過安息香酸（ｍＣＰＢＡ）を作用させて酸化する方法を用いて製造できる。式（７－２）に示すように、ハロゲン化合物として、１，２－ジオール構造の有する２つの水酸基が適切に保護されているものを用いてもよい。

　また、第１原料化合物の他の例である式（６－１０）で表されるエポキシ化合物は、例えば、下記式（７－３）に示す方法を用いて製造できる。すなわち、式（２）におけるＸの一部に対応する部分を有するジオール化合物に対し、Ｒ^１（＝Ｒ^４）の式（２）におけるＸの一部（Ｘ´）とそれに結合した１，２－ジオール構造（－Ｘ´－ＣＨ（ＯＨ）－ＣＨ_２ＯＨ）に相当する部分を有するハロゲン化合物（本実施形態では、ソルケタールの水酸基を臭素化したハロゲン化合物）を反応させる。その後、得られたアルコール化合物と、式（２）におけるＸの一部に対応する部分とエポキシ基を有するハロゲン化合物である式（８－１）で示されるエピブロモヒドリンとを反応させる方法を用いて製造できる。式（７－３）に示すように、ハロゲン化合物として、式（７－２）に示す方法において使用するハロゲン化合物と同様に、１，２－ジオール構造の有する２つの水酸基が適切に保護されているものを用いてもよい。

　第１原料化合物であるＲ^１に対応する基（＝Ｒ^４に対応する基）を有するエポキシ化合物（または脱離基を有する化合物）は、市販品を購入して使用してもよい。

　その後、上述した第一反応において生じた中間体化合物１の片方の末端に配置されたヒドロキシメチル基の水酸基と、式（１）におけるＲ^３に対応する部分の一端にエポキシ基を有し、他端にハロゲンが結合している化合物、または式（１）におけるＲ^３に対応する部分の両末端にエポキシ基を有する化合物（第２原料化合物）とを反応させる（第二反応）。

　第２原料化合物である、式（１）におけるＲ^３に対応する部分の一端にエポキシ基を有し、他端にハロゲンが結合している化合物、または式（１）におけるＲ^３に対応する部分の両末端にエポキシ基を有する化合物としては、例えば、下記式（８－１）～（８－１２）で表される化合物などを用いることができる。下記式（８－７）中のＴＨＰは、テトラヒドロピラニル基を表す。

　第２原料化合物は、例えば、以下に示す方法を用いて製造できる。すなわち、Ｒ^３で表される連結基の一部に対応するジオールと、２倍モル量のエピブロモヒドリンとを反応させる方法を用いて製造できる。
　例えば、第２原料化合物の一例である式（８－８）で表される化合物を製造する場合、下記式（９－１）に示すように、１，４－ブタンジオールと、２倍モル量の式（８－１）で示されるエピブロモヒドリンとを反応させる方法を用いて製造できる。

　第２原料化合物は、以下に示す方法を用いて製造してもよい。すなわち、Ｒ^３で表される連結基の一部に対応するエポキシ基を有するハロゲン化合物と、Ｒ^３で表される連結基の一部に対応するアルケニル基を有するアルコールとを付加反応させる。このとき、ハロゲン化合物の２倍モル量の、アルケニル基を有するアルコールを、ハロゲン化合物に対して反応させる。その後、得られた化合物を、ｍ－クロロ過安息香酸（ｍＣＰＢＡ）を作用させて酸化させる方法を用いて製造できる。付加反応により得られた化合物を、ｍ－クロロ過安息香酸（ｍＣＰＢＡ）を作用させて酸化させる前に、付加反応により生じた水酸基を公知の方法により保護してもよい。

　例えば、第２原料化合物の他の例である式（８－７）で表される化合物は、下記式（９－２）に示すように、式（８－１）で示されるエピブロモヒドリンと、その２倍モル量の３－ブテン－１－オールとを付加反応させた後、付加反応により生じた水酸基を、ジヒドロピラン（ＤＨＰ）を用いて保護し、ｍ－クロロ過安息香酸（ｍＣＰＢＡ）を作用させて酸化させる方法を用いて製造できる。下記式（９－２）中におけるＴＨＰはテトラヒドロピラニル基を表す。

　上記の第二反応の後に得られた化合物が、保護基を用いて保護された水酸基を有している場合、公知の方法を用いて、脱保護反応を行う。以上の工程を行うことにより、式（１）におけるｘが１であって、Ｒ^１とＲ^４とが同じであり、２つのＲ^２が同じである含フッ素エーテル化合物を製造できる。

［第２製造方法（ｘが１である場合）］
（Ｒ^１とＲ^４とが異なる、および／または、２つのＲ^２が異なる場合）
　まず、Ｒ^１側のＲ^２に対応するパーフルオロポリエーテル鎖の両末端にそれぞれヒドロキシメチル基が配置されたフッ素系化合物の、片方の末端の水酸基と、Ｒ^１に対応する基を有するエポキシ化合物（または脱離基を有する化合物）を反応させて、中間体化合物１ａを得る（第一反応）。
　Ｒ^１に対応する基を有するエポキシ化合物（または脱離基を有する化合物）としては、例えば、上述した第１原料化合物から選ばれるいずれかの化合物などを用いることができる。

　次に、Ｒ^４側のＲ^２に対応するパーフルオロポリエーテル鎖の両末端にそれぞれヒドロキシメチル基が配置されたフッ素系化合物の、片方の末端の水酸基と、Ｒ^４に対応する基を有するエポキシ化合物（または脱離基を有する化合物）を反応させて、中間体化合物１ｂを得る（第二反応）。
　第２製造方法において、Ｒ^１とＲ^４とが同じである（すなわち、Ｒ^１およびＲ^４が式（２）で表される同じ末端基である）含フッ素エーテル化合物を製造する場合には、Ｒ^４に対応する基を有するエポキシ化合物（または脱離基を有する化合物）として、Ｒ^１に対応する基を有するエポキシ化合物（または脱離基を有する化合物）と同じ化合物を用いる。

　第２製造方法において、Ｒ^１とＲ^４とが異なり、Ｒ^１およびＲ^４がいずれも式（２）で表される末端基である含フッ素エーテル化合物を製造する場合には、Ｒ^４に対応する基を有するエポキシ化合物（または脱離基を有する化合物）として、例えば、上述した第１原料化合物から選ばれるいずれかの化合物であって、Ｒ^１に対応する基を有するエポキシ化合物（または脱離基を有する化合物）とは異なる化合物を用いることができる。

　また、第２製造方法において、Ｒ^１とＲ^４とが異なり、Ｒ^１が式（２）で表される末端基であって、Ｒ^４が式（２）に該当しない末端基である（Ｒ^１とＲ^４の一方のみが式（２）で表される末端基である）含フッ素エーテル化合物を製造する場合には、Ｒ^４に対応する基を有するエポキシ化合物として、反応後に得られる中間体化合物１ｂのＲ^４に対応する部分が、式（２）の一部に該当しないものとなるエポキシ化合物（第３原料化合物）を用いる。
　第３原料化合物としては、例えば、下記式（６－１７）～（６－２３）で表されるエポキシ化合物を用いることができる。式（６－１７）、（６－１８）、（６－２１）～（６－２３）において、ＴＨＰはテトラヒドロピラニル基を表す。

　次に、第一反応で得た中間体化合物１ａと、上述した第２原料化合物から選ばれるいずれかの化合物とを反応させる。このことにより、Ｒ^１側のＲ^２に対応するパーフルオロポリエーテル鎖の一方の末端にＲ^１に対応する基を有し、他方の末端にＲ^３に対応するエポキシ基を有する中間体化合物２ａを製造する（第三反応）。

　なお、第三反応において、第２原料化合物に代えて、式（１）におけるＲ^３に対応する部分の一端にエポキシ基を有し、他端にアルケニル基が結合している化合物を使用し、生成した化合物の有する二重結合を酸化させて、エポキシ基を有する中間体化合物２ａを製造してもよい。
　続いて、第二反応で得た中間体化合物１ｂと、第三反応で得た中間体化合物２ａとを反応させる（第四反応）。

　上記の第四反応の後に得られた化合物が、保護基を用いて保護された水酸基を有している場合、公知の方法を用いて、脱保護反応を行う。以上の工程を行うことにより、式（１）におけるｘが１であって、Ｒ^１とＲ^４とが異なる、および／または、２つのＲ^２が異なる含フッ素エーテル化合物を製造できる。

［第３製造方法（ｘが２である場合）］
（Ｒ^１とＲ^４が同じであり、２つのＲ^３が同じであり、Ｒ^１側のＲ^２とＲ^４側のＲ^２が同じである場合）
　まず、第１製造方法と同様にして、Ｒ^１側およびＲ^４側のＲ^２に対応するパーフルオロポリエーテル鎖の片方の末端に、Ｒ^１に対応する基（＝Ｒ^４に対応する基）を有する中間体化合物１を得る（第一反応）。

　次いで、式（１）における分子中央のＲ^２に対応するパーフルオロポリエーテル鎖の両末端に、それぞれヒドロキシメチル基（－ＣＨ_２ＯＨ）が配置されたフッ素系化合物を用意する。次いで、前記フッ素系化合物の両末端に配置されたヒドロキシメチル基の水酸基と、上述した第２原料化合物から選ばれるいずれかの化合物とを反応させる。このことにより、分子中央のＲ^２に対応するパーフルオロポリエーテル鎖の両末端にＲ^３に対応するエポキシ基を有する中間体化合物３ａを得る（第二反応）。

　なお、第二反応おいて、第２原料化合物に代えて、式（１）におけるＲ^３に対応する部分の一端にエポキシ基を有し、他端にアルケニル基が結合している化合物を使用し、生成した化合物の有する二重結合を酸化させて、両末端にエポキシ基を有する中間体化合物３ａを製造してもよい。
　その後、第一反応で得た中間体化合物１の片方の末端に配置されたヒドロキシメチル基の水酸基と、前記中間体化合物３ａの両末端に配置されたエポキシ基とを反応させる（第三反応）。

　上記の第三反応の後に得られた化合物が、保護基を用いて保護された水酸基を有している場合、公知の方法を用いて、脱保護反応を行う。以上の工程を行うことにより、式（１）におけるｘが２であって、Ｒ^１とＲ^４が同じであり、２つのＲ^３が同じであり、Ｒ^１側のＲ^２とＲ^４側のＲ^２が同じである含フッ素エーテル化合物を製造できる。

［第４製造方法（ｘが２である場合）］
（Ｒ^１側のＲ^３とＲ^４側のＲ^３とが同じであり、Ｒ^１とＲ^４とが異なる、および／または、Ｒ^１側のＲ^２とＲ^４側のＲ^２が異なる場合）
　第３製造方法の第一反応において、中間体化合物１の代わりに、第２製造方法における中間体化合物１ａと、中間体化合物１ｂとを得る。ついで、第３製造方法の第二反応と同様にして、中間体化合物３ａを得る。そして、中間体化合物３ａの両末端に配置されたエポキシ基に対して、それぞれ中間体化合物１ａと中間体化合物１ｂを順次反応させる。

　以上の工程の後に得られた化合物が、保護基を用いて保護された水酸基を有している場合、公知の方法を用いて、脱保護反応を行う。以上の工程を行うことにより、式（１）におけるｘが２であって、Ｒ^１側のＲ^３とＲ^４側のＲ^３とが同じであり、Ｒ^１とＲ^４とが異なる、および／または、Ｒ^１側のＲ^２とＲ^４側のＲ^２が異なる含フッ素エーテル化合物を製造できる。

［第５製造方法（ｘが２である場合）］
（Ｒ^１側のＲ^３とＲ^４側のＲ^３とが異なり、Ｒ^１とＲ^４とが同じであり、Ｒ^１側のＲ^２とＲ^４側のＲ^２が同じである場合）
　第３製造方法の第二反応において、式（１）における分子中央のＲ^２に対応するパーフルオロポリエーテル鎖の両末端に、それぞれヒドロキシメチル基（－ＣＨ_２ＯＨ）が配置されたフッ素系化合物と、上述した第２原料化合物から選ばれるＲ^１側のＲ^３に対応する部分を有するいずれかの１種の化合物とを反応させる。そして、得られた化合物と、上述した第２原料化合物から選ばれるＲ^４側のＲ^３に対応する部分を有するいずれかの１種の化合物とを反応させ、中間体化合物３ｂを得る。
　その後、中間体化合物３ａに代えて、中間体化合物３ｂを用いること以外は、第３製造方法と同様にして、第三反応を実施する。

　上記の第三反応の後に得られた化合物が、保護基を用いて保護された水酸基を有している場合、公知の方法を用いて、脱保護反応を行う。以上の工程を行うことにより、式（１）におけるｘが２であって、Ｒ^１側のＲ^３とＲ^４側のＲ^３とが異なり、Ｒ^１とＲ^４とが同じであり、Ｒ^１側のＲ^２とＲ^４側のＲ^２が同じである含フッ素エーテル化合物を製造できる。

　式（１）におけるｘが２であって、分子中央のＲ^２に対応するパーフルオロポリエーテル鎖が、Ｒ^１側のＲ^２および／またはＲ^４側のＲ^２と同じである含フッ素エーテル化合物、および異なる含フッ素エーテル化合物は、上述した第３製造方法～第５製造方法において使用する、分子中央のＲ^２に対応するパーフルオロポリエーテル鎖を有するフッ素系化合物の種類を適宜選択することにより製造できる。
　したがって、式（１）におけるｘが２である含フッ素エーテル化合物を製造する第３製造方法～第５製造方法において使用する、分子中央のＲ^２に対応するパーフルオロポリエーテル鎖を有するフッ素系化合物は、他のＲ^２に対応するパーフルオロポリエーテル鎖を有するフッ素系化合物と同じであっても良いし、異なっていても良い。

　また、本実施形態の含フッ素エーテル化合物の製造方法は、上述した第１製造方法～第５製造方法に限定されるものではなく、例えば、以下の方法を用いてもよい。
　式（１）におけるＲ^２に対応するパーフルオロポリエーテル鎖（ｘが２の場合は、Ｒ^１側のＲ^２および／またはＲ^４側のＲ^２に対応するパーフルオロポリエーテル鎖）の両末端に、それぞれヒドロキシメチル基（－ＣＨ_２ＯＨ）が配置されたフッ素系化合物を用意する。

　次いで、上記フッ素系化合物の片方の末端に配置されたヒドロキシメチル基の水酸基と、末端にビニル基を有するハロゲン化合物とを反応させる。これにより、パーフルオロポリエーテル鎖を含む鎖状構造の片末端に、ビニル基を有する中間体化合物１ｃを得る。
　その後、第１製造方法～第５製造方法における中間体化合物１、中間体化合物１ａ、または中間体化合物１ｂの代わりに、中間体化合物１ｃを用いて、第１製造方法～第５製造方法の最終反応まで行う。このことにより、パーフルオロポリエーテル鎖を含む鎖状構造の片末端もしくは両末端に、ビニル基を有する化合物を得る。

　続いて、得られた化合物の片末端もしくは両末端のビニル基を酸化することで、パーフルオロポリエーテル鎖を含む鎖状構造の片末端もしくは両末端に、エポキシ基を有する化合物を得る。その後、得られた化合物の片末端もしくは両末端に配置されたエポキシ基の開環反応を行うことにより、エポキシ基を１，２－ジオールに変換する。
　以上の工程を行うことによっても、式（１）で表される含フッ素エーテル化合物を製造できる。

［磁気記録媒体用潤滑剤］
　本実施形態の磁気記録媒体用潤滑剤は、上記式（１）で表される含フッ素エーテル化合物を含む。
　本実施形態の潤滑剤は、上記式（１）で表される含フッ素エーテル化合物を含むことによる特性を損なわない範囲内であれば、潤滑剤の材料として使用されている公知の材料を、必要に応じて混合して用いることができる。

　公知の材料の具体例としては、例えば、ＦＯＭＢＬＩＮ（登録商標）　ＺＤＩＡＣ、ＦＯＭＢＬＩＮ　ＺＤＥＡＬ、ＦＯＭＢＬＩＮ　ＡＭ－２００１（以上Ｓｏｌｖａｙ　Ｓｏｌｅｘｉｓ社製）、Ｍｏｒｅｓｃｏ　Ａ２０Ｈ（Ｍｏｒｅｓｃｏ社製）等が挙げられる。本実施形態の潤滑剤と混合して用いる公知の材料は、数平均分子量が１０００～１００００であることが好ましい。

　本実施形態の潤滑剤が、上記式（１）で表される含フッ素エーテル化合物の他の材料を含む場合、本実施形態の潤滑剤中の上記式（１）で表される含フッ素エーテル化合物の含有量は、７０質量％以上であることが好ましく、９０質量％以上であることがより好ましく、９５質量％以上であることがさらに好ましい。

　本実施形態の潤滑剤は、上記式（１）で表される含フッ素エーテル化合物を含むため、優れた耐腐食性を有し、かつピックアップ抑制効果の高い潤滑層を形成できる。

［磁気記録媒体］
　本実施形態の磁気記録媒体は、基板上に、少なくとも磁性層と、保護層と、潤滑層とが順次設けられたものである。
　本実施形態の磁気記録媒体では、基板と磁性層との間に、必要に応じて１層または２層以上の下地層を設けることができる。また、下地層と基板との間に、付着層および軟磁性層の少なくとも一方を設けることもできる。

　図１は、本発明の磁気記録媒体の一実施形態を示す概略断面図である。
　本実施形態の磁気記録媒体１０は、基板１１上に、付着層１２と、軟磁性層１３と、第１下地層１４と、第２下地層１５と、磁性層１６と、保護層１７と、潤滑層１８とが順次設けられた構造をなしている。

「基板」
　基板１１としては、例えば、ＡｌもしくはＡｌ合金などの金属または合金材料からなる基体上に、ＮｉＰまたはＮｉＰ合金からなる膜が形成された非磁性基板等を用いることができる。
　また、基板１１としては、ガラス、セラミックス、シリコン、シリコンカーバイド、カーボン、樹脂などの非金属材料からなる非磁性基板を用いてもよいし、これらの非金属材料からなる基体上にＮｉＰまたはＮｉＰ合金の膜を形成した非磁性基板を用いてもよい。

「付着層」
　付着層１２は、基板１１と、付着層１２上に設けられる軟磁性層１３とを接して配置した場合に生じる、基板１１の腐食の進行を防止する。
　付着層１２の材料は、例えば、Ｃｒ、Ｃｒ合金、Ｔｉ、Ｔｉ合金、ＣｒＴｉ、ＮｉＡｌ、ＡｌＲｕ合金等から適宜選択できる。付着層１２は、例えば、スパッタリング法により形成できる。

「軟磁性層」
　軟磁性層１３は、第１軟磁性膜と、Ｒｕ膜からなる中間層と、第２軟磁性膜とが順に積層された構造を有していることが好ましい。すなわち、軟磁性層１３は、２層の軟磁性膜の間にＲｕ膜からなる中間層を挟み込むことによって、中間層の上下の軟磁性膜がアンチ・フェロ・カップリング（ＡＦＣ）結合した構造を有していることが好ましい。

　第１軟磁性膜および第２軟磁性膜の材料としては、ＣｏＺｒＴａ合金、ＣｏＦｅ合金などが挙げられる。
　第１軟磁性膜および第２軟磁性膜に使用されるＣｏＦｅ合金には、Ｚｒ、Ｔａ、Ｎｂの何れかを添加することが好ましい。これにより、第１軟磁性膜および第２軟磁性膜の非晶質化が促進される。その結果、第１下地層（シード層）の配向性を向上させることが可能になるとともに、磁気ヘッドの浮上量を低減することが可能となる。
　軟磁性層１３は、例えば、スパッタリング法により形成できる。

「第１下地層」
　第１下地層１４は、その上に設けられる第２下地層１５および磁性層１６の配向および結晶サイズを制御する層である。
　第１下地層１４としては、例えば、Ｃｒ層、Ｔａ層、Ｒｕ層、あるいはＣｒＭｏ合金層、ＣｏＷ合金層、ＣｒＷ合金層、ＣｒＶ合金層、ＣｒＴｉ合金層などからなるものが挙げられる。
　第１下地層１４は、例えば、スパッタリング法により形成できる。

「第２下地層」
　第２下地層１５は、磁性層１６の配向が良好になるように制御する層である。第２下地層１５は、ＲｕまたはＲｕ合金からなる層であることが好ましい。
　第２下地層１５は、１層からなる層であってもよいし、複数層から構成されていてもよい。第２下地層１５が複数層からなる場合、全ての層が同じ材料から構成されていてもよいし、少なくとも一層が異なる材料から構成されていてもよい。
　第２下地層１５は、例えば、スパッタリング法により形成できる。

「磁性層」
　磁性層１６は、磁化容易軸が基板面に対して垂直または水平方向を向いた磁性膜からなる。磁性層１６は、ＣｏとＰｔとを含む層である。磁性層１６は、ＳＮＲ特性を改善するために、酸化物、Ｃｒ、Ｂ、Ｃｕ、Ｔａ、Ｚｒ等を含む層であってもよい。
　磁性層１６に含有される酸化物としては、ＳｉＯ_２、ＳｉＯ、Ｃｒ_２Ｏ_３、ＣｏＯ、Ｔａ_２Ｏ_３、ＴｉＯ_２等が挙げられる。

　磁性層１６は、１層から構成されていてもよいし、組成の異なる材料からなる複数の磁性層から構成されていてもよい。
　例えば、磁性層１６が、下から順に積層された第１磁性層と第２磁性層と第３磁性層の３層からなる場合、第１磁性層は、Ｃｏ、Ｃｒ、Ｐｔを含み、さらに酸化物を含んだ材料からなるグラニュラー構造であることが好ましい。第１磁性層に含有される酸化物としては、例えば、Ｃｒ、Ｓｉ、Ｔａ、Ａｌ、Ｔｉ、Ｍｇ、Ｃｏ等の酸化物を用いることが好ましい。その中でも、特に、ＴｉＯ_２、Ｃｒ_２Ｏ_３、ＳｉＯ_２等を好適に用いることができる。また、第１磁性層は、酸化物を２種類以上添加した複合酸化物からなることが好ましい。その中でも、特に、Ｃｒ_２Ｏ_３－ＳｉＯ_２、Ｃｒ_２Ｏ_３－ＴｉＯ_２、ＳｉＯ_２－ＴｉＯ_２等を好適に用いることができる。第１磁性層は、Ｃｏ、Ｃｒ、Ｐｔ、酸化物の他に、Ｂ、Ｔａ、Ｍｏ、Ｃｕ、Ｎｄ、Ｗ、Ｎｂ、Ｓｍ、Ｔｂ、Ｒｕ、Ｒｅの中から選ばれる１種類以上の元素を含むことができる。

　第２磁性層には、第１磁性層と同様の材料を用いることができる。第２磁性層は、グラニュラー構造であることが好ましい。
　第３磁性層は、Ｃｏ、Ｃｒ、Ｐｔを含み、酸化物を含まない材料からなる非グラニュラー構造であることが好ましい。第３磁性層は、Ｃｏ、Ｃｒ、Ｐｔの他に、Ｂ、Ｔａ、Ｍｏ、Ｃｕ、Ｎｄ、Ｗ、Ｎｂ、Ｓｍ、Ｔｂ、Ｒｕ、Ｒｅ、Ｍｎの中から選ばれる１種類以上の元素を含むことができる。

　磁性層１６が複数の磁性層で形成されている場合、隣接する磁性層の間には、非磁性層を設けることが好ましい。磁性層１６が、第１磁性層と第２磁性層と第３磁性層の３層からなる場合、第１磁性層と第２磁性層との間と、第２磁性層と第３磁性層との間に、非磁性層を設けることが好ましい。

　磁性層１６の隣接する磁性層間に設けられる非磁性層は、例えば、Ｒｕ、Ｒｕ合金、ＣｏＣｒ合金、ＣｏＣｒＸ１合金（Ｘ１は、Ｐｔ、Ｔａ、Ｚｒ、Ｒｅ、Ｒｕ、Ｃｕ、Ｎｂ、Ｎｉ、Ｍｎ、Ｇｅ、Ｓｉ、Ｏ、Ｎ、Ｗ、Ｍｏ、Ｔｉ、Ｖ、Ｂの中から選ばれる１種または２種以上の元素を表す。）等を好適に用いることができる。

　磁性層１６の隣接する磁性層間に設けられる非磁性層には、酸化物、金属窒化物、または金属炭化物を含んだ合金材料を使用することが好ましい。具体的には、酸化物として、例えば、ＳｉＯ_２、Ａｌ_２Ｏ_３、Ｔａ_２Ｏ_５、Ｃｒ_２Ｏ_３、ＭｇＯ、Ｙ_２Ｏ_３、ＴｉＯ_２等を用いることができる。金属窒化物として、例えば、ＡｌＮ、Ｓｉ_３Ｎ_４、ＴａＮ、ＣｒＮ等を用いることができる。金属炭化物として、例えば、ＴａＣ、ＢＣ、ＳｉＣ等を用いることができる。
　非磁性層は、例えば、スパッタリング法により形成できる。

　磁性層１６は、より高い記録密度を実現するために、磁化容易軸が基板面に対して垂直方向を向いた垂直磁気記録の磁性層であることが好ましい。磁性層１６は、面内磁気記録の磁性層であってもよい。
　磁性層１６は、蒸着法、イオンビームスパッタ法、マグネトロンスパッタ法等、従来公知のいかなる方法によって形成してもよい。磁性層１６は、通常、スパッタリング法により形成される。

「保護層」
　保護層１７は、磁性層１６を保護する。保護層１７は、１層から構成されていてもよいし、複数層から構成されていてもよい。保護層１７の材料としては、炭素、窒素を含む炭素、炭化ケイ素などが挙げられる。保護層１７としては、炭素系保護層を好ましく用いることができ、特にアモルファス炭素保護層が好ましい。保護層１７が炭素系保護層であると、潤滑層１８中の含フッ素エーテル化合物に含まれる極性基（特に水酸基）との相互作用が一層高まるため、好ましい。

　炭素系保護層と潤滑層１８との付着力は、炭素系保護層を水素化炭素および／または窒素化炭素とし、炭素系保護層中の水素含有量および／または窒素含有量を調節することにより制御可能である。炭素系保護層中の水素含有量は、水素前方散乱法（ＨＦＳ）で測定したときに３原子％～２０原子％であることが好ましい。また、炭素系保護層中の窒素含有量は、Ｘ線光電子分光分析法（ＸＰＳ）で測定したときに、４原子％～１５原子％であることが好ましい。

　炭素系保護層に含まれる水素および／または窒素は、炭素系保護層全体に均一に含有される必要はない。炭素系保護層は、例えば、保護層１７の潤滑層１８側に窒素を含有させ、保護層１７の磁性層１６側に水素を含有させた組成傾斜層とすることが好適である。この場合、磁性層１６および潤滑層１８と、炭素系保護層との付着力が、より一層向上する。

　保護層１７の膜厚は、１ｎｍ～７ｎｍであることが好ましい。保護層１７の膜厚が１ｎｍ以上であると、保護層１７としての性能が充分に得られる。保護層１７の膜厚が７ｎｍ以下であると、保護層１７の薄膜化の観点から好ましい。

　保護層１７の成膜方法としては、炭素を含むターゲット材を用いるスパッタ法、エチレンやトルエン等の炭化水素原料を用いるＣＶＤ（化学蒸着法）法、ＩＢＤ（イオンビーム蒸着）法等を用いることができる。
　保護層１７として炭素系保護層を形成する場合、例えば、ＤＣマグネトロンスパッタリング法により成膜できる。特に、保護層１７として炭素系保護層を形成する場合、プラズマＣＶＤ法により、アモルファス炭素保護層を成膜することが好ましい。プラズマＣＶＤ法により成膜したアモルファス炭素保護層は、表面が均一で、粗さが小さいものとなる。

「潤滑層」
　潤滑層１８は、磁気記録媒体１０の汚染を防止する。また、潤滑層１８は、磁気記録媒体１０上を摺動する磁気記録再生装置の磁気ヘッドの摩擦力を低減させて、磁気記録媒体１０の耐久性を向上させる。
　潤滑層１８は、図１に示すように、保護層１７上に接して形成されている。潤滑層１８は、保護層１７上に上述した実施形態の磁気記録媒体用潤滑剤を塗布することにより形成されたものである。したがって、潤滑層１８は、上述の含フッ素エーテル化合物を含む。

　潤滑層１８は、潤滑層１８の下に配置されている保護層１７が、炭素系保護層である場合、特に、保護層１７と高い結合力で結合される。その結果、潤滑層１８の厚みが薄くても、高い被覆率で保護層１７の表面が被覆された磁気記録媒体１０が得られやすくなり、磁気記録媒体１０の表面の汚染を効果的に防止できる。

　潤滑層１８の平均膜厚は、０．５ｎｍ（５Å）～２．０ｎｍ（２０Å）であることが好ましく、０．５ｎｍ（５Å）～１．２ｎｍ（１２Å）であることがより好ましい。潤滑層１８の平均膜厚が０．５ｎｍ以上であると、潤滑層１８がアイランド状または網目状とならずに均一の膜厚で形成される。そのため、潤滑層１８によって、保護層１７の表面を高い被覆率で被覆できる。また、潤滑層１８の平均膜厚を２．０ｎｍ以下にすることで、潤滑層１８を充分に薄膜化でき、磁気ヘッドの浮上量を充分に小さくできる。

「潤滑層の形成方法」
　潤滑層１８を形成する方法としては、例えば、基板１１上に保護層１７までの各層が形成された製造途中の磁気記録媒体を用意し、保護層１７上に潤滑層形成用溶液を塗布し、乾燥させる方法が挙げられる。

　潤滑層形成用溶液は、上述の実施形態の磁気記録媒体用潤滑剤を必要に応じて、溶媒に分散溶解させ、塗布方法に適した粘度および濃度とすることにより得られる。
　潤滑層形成用溶液に用いられる溶媒としては、例えば、バートレル（登録商標）ＸＦ（商品名、三井デュポンフロロケミカル社製）、および／またはアサヒクリン（登録商標）ＡＥ－３０００（商品名、ＡＧＣ社製）等のフッ素系溶媒等が挙げられる。

　潤滑層形成用溶液の塗布方法は、特に限定されないが、例えば、スピンコート法、スプレイ法、ペーパーコート法、ディップ法等が挙げられる。
　ディップ法を用いる場合、例えば、以下に示す方法を用いることができる。まず、ディップコート装置の浸漬槽に入れられた潤滑層形成用溶液中に、保護層１７までの各層が形成された基板１１を浸漬する。次いで、浸漬槽から基板１１を所定の速度で引き上げる。このことにより、潤滑層形成用溶液を基板１１の保護層１７上の表面に塗布する。
　ディップ法を用いることで、潤滑層形成用溶液を保護層１７の表面に均一に塗布することができ、保護層１７上に均一な膜厚で潤滑層１８を形成できる。

　本実施形態においては、潤滑層１８を形成した基板１１に熱処理を施すことが好ましい。熱処理を施すことにより、潤滑層１８と保護層１７との密着性が向上し、潤滑層１８と保護層１７との付着力が向上する。
　熱処理温度は１００℃～１８０℃とすることが好ましく、１００℃～１６０℃とすることがより好ましい。熱処理温度が１００℃以上であると、潤滑層１８と保護層１７との密着性を向上させる効果が充分に得られる。また、熱処理温度を１８０℃以下にすることで、熱処理による潤滑層１８の熱分解を防止できる。熱処理時間は、熱処理温度に応じて適宜調整でき、１０分～１２０分とすることが好ましい。

　本実施形態においては、潤滑層１８の保護層１７に対する付着力をより一層向上させるために、熱処理前もしくは熱処理後の潤滑層１８に、紫外線（ＵＶ）を照射する処理を行ってもよい。

　本実施形態の磁気記録媒体１０は、基板１１上に、少なくとも磁性層１６と、保護層１７と、潤滑層１８とが順次設けられたものである。本実施形態の磁気記録媒体１０では、保護層１７上に接して上述の含フッ素エーテル化合物を含む潤滑層１８が形成されている。この潤滑層１８は、膜厚が薄くても、耐腐食性が良好で、ピックアップ抑制効果が高い。よって、本実施形態の磁気記録媒体１０は、信頼性、特に耐腐食性とピックアップ抑制、および耐久性に優れる。このことから、本実施形態の磁気記録媒体１０は、磁気スペーシング低減に寄与することができ、磁気ヘッド浮上量を低く（例えば、１０ｎｍ以下）でき、用途の多様化に伴う厳しい環境下であっても、長期に亘って安定して動作する。したがって、本実施形態の磁気記録媒体１０は、特にＬＵＬ（Ｌｏａｄ　Ｕｎｌｏａｄ）方式の磁気ディスク装置に搭載される磁気ディスクとして好適である。

　以下、実施例および比較例により本発明をさらに具体的に説明する。なお、本発明は、以下の実施例のみに限定されない。

［実施例１］
　以下に示す方法により、上記式（ＡＡ）で表される化合物を得た。
　窒素ガス雰囲気下で１００ｍＬナスフラスコにＨＯＣＨ_２ＣＦ_２Ｏ（ＣＦ_２ＣＦ_２Ｏ）_ｈ（ＣＦ_２Ｏ）_ｉＣＦ_２ＣＨ_２ＯＨ（式中の平均重合度を示すｈは４．５であり、平均重合度を示すｉは４．５である。）で表される化合物（数平均分子量１０００、分子量分布１．１）１２．５ｇと、上記式（６－１）で表される化合物（第１原料化合物）２．７０ｇと、ｔ－ブタノール１２ｍＬとを仕込み、室温で均一になるまで撹拌し、混合物とした。この混合物にカリウムｔｅｒｔ－ブトキシド１．１０ｇを加え、７０℃で１６時間撹拌して反応させた。

　式（６－１）で表される化合物は、式（７－１）に示す方法を用いて製造した。すなわち、１，２，４－ブタントリオールの１，２－ジオール部位を、アセトンを用いて保護した。その後、得られた化合物の水酸基と式（８－１）で示されるエピブロモヒドリンとを反応させることにより合成した。

　反応後に得られた反応生成物を２５℃に冷却し、水１００ｍＬを入れた分液漏斗に移し、酢酸エチル１００ｍＬで３回抽出した。有機層を水洗し、無水硫酸ナトリウムによって脱水した。乾燥剤を濾別した後、濾液を濃縮し、残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーにて精製し、中間体化合物１として下記式（１０－１）で示される化合物７．２１ｇを得た。

（式（１０－１）中のＲｆ_１は、上記式（５－１）で表されるＰＦＰＥ鎖である。Ｒｆ_１において、平均重合度を示すｈは４．５を表し、平均重合度を示すｉは４．５を表す。）

　次に、窒素ガス雰囲気下で１００ｍＬナスフラスコに、上記で得られた中間体化合物１である式（１０－１）で示される化合物７．２１ｇと、式（８－１）で示されるエピブロモヒドリン（第２原料化合物）０．５５ｇと、ｔ－ブタノール１０ｍＬとを仕込み、室温で均一になるまで撹拌した。この均一の液にカリウムｔｅｒｔ－ブトキシドを０．７２ｇ加え、７０℃で２３時間撹拌して反応させた。

　反応後に得られた反応液を室温に戻し、１０％塩化水素・メタノール溶液（塩化水素－メタノール試薬（５－１０％）東京化成工業株式会社製）１０ｇを加え、室温で４時間撹拌した。その後、反応液を飽和重曹水２５ｍＬが入った分液漏斗に少しずつ移し、酢酸エチル５０ｍＬで２回抽出した。有機層を食塩水２５ｍＬ、飽和重曹水２５ｍＬ、食塩水２５ｍＬの順で洗浄し、無水硫酸ナトリウムによる脱水を行った。乾燥剤を濾別後、濾液を濃縮し、残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーにて精製して、化合物（ＡＡ）（式（ＡＡ）中の２つのＲｆ_１は、上記式（５－１）で表されるＰＦＰＥ鎖である。２つのＲｆ_１において、平均重合度を示すｈは４．５を表し、平均重合度を示すｉは４．５を表す。）を３．５８ｇ得た。

　得られた化合物（ＡＡ）の^１Ｈ－ＮＭＲおよび^１９Ｆ－ＮＭＲ測定を行い、以下の結果により構造を同定した。
^１Ｈ－ＮＭＲ（ａｃｅｔｏｎｅ－Ｄ_６）：δ［ｐｐｍ］＝１．６５－１．８５（４Ｈ）、３．４０－３．８５（３２Ｈ）、３．８５－４．１０（８Ｈ）
^１９Ｆ－ＮＭＲ（ａｃｅｔｏｎｅ－Ｄ_６）：δ［ｐｐｍ］＝－５５．５～－５１．５（１８Ｆ）、－７８．５（４Ｆ）、－８０．５（４Ｆ）、－９１．０～－８８．５（３６Ｆ）

［実施例２］
　以下に示す方法により、上記式（ＡＢ）で表される化合物を得た。
　式（６－１）で表される化合物の代わりに、式（６－２）で表される化合物（第１原料化合物）を用いたこと以外は実施例１と同様な操作を行い、化合物（ＡＢ）（式（ＡＢ）中の２つのＲｆ_１は、上記式（５－１）で表されるＰＦＰＥ鎖である。２つのＲｆ_１において、平均重合度を示すｈは４．５を表し、平均重合度を示すｉは４．５を表す。）を３．６１ｇ得た。

　式（６－２）で表される化合物は、１，２，６－ヘキサントリオールの１，２－ジオール部位を、アセトンを用いて保護した後、６位の水酸基とエピブロモヒドリンとを反応させることにより合成した。

　得られた化合物（ＡＢ）の^１Ｈ－ＮＭＲおよび^１９Ｆ－ＮＭＲ測定を行い、以下の結果により構造を同定した。
^１Ｈ－ＮＭＲ（ａｃｅｔｏｎｅ－Ｄ_６）：δ［ｐｐｍ］＝１．４０－１．８５（１２Ｈ）、３．４０－３．８５（３２Ｈ）、３．８５－４．１０（８Ｈ）
^１９Ｆ－ＮＭＲ（ａｃｅｔｏｎｅ－Ｄ_６）：δ［ｐｐｍ］＝－５５．５～－５１．５（１８Ｆ）、－７８．５（４Ｆ）、－８０．５（４Ｆ）、－９１．０～－８８．５（３６Ｆ）

［実施例３］
　以下に示す方法により、上記式（ＡＣ）で表される化合物を得た。
　式（６－１）で表される化合物の代わりに、式（６－４）で表される化合物（第１原料化合物）を用いたこと以外は実施例１と同様な操作を行い、化合物（ＡＣ）（式（ＡＣ）中の２つのＲｆ_１は、上記式（５－１）で表されるＰＦＰＥ鎖である。２つのＲｆ_１において、平均重合度を示すｈは４．５を表し、平均重合度を示すｉは４．５を表す。）を３．５３ｇ得た。

　式（６－４）で表される化合物は、以下に示す方法により製造した。すなわち、１，２，４－ブタントリオールの１，２－ジオール部位を、アセトンを用いて保護した。その後、４位の水酸基を臭素化し、３－ブテン－１－オールと反応させた。このことによって得られた化合物のビニル基を、ｍＣＰＢＡ（ｍ－クロロ過安息香酸）を用いて酸化した。以上の工程により、式（６－４）で表される化合物を合成した。

　得られた化合物（ＡＣ）の^１Ｈ－ＮＭＲおよび^１９Ｆ－ＮＭＲ測定を行い、以下の結果により構造を同定した。
^１Ｈ－ＮＭＲ（ａｃｅｔｏｎｅ－Ｄ_６）：δ［ｐｐｍ］＝１．６５－１．８５（８Ｈ）、３．４０－３．８５（３２Ｈ）、３．８５－４．１０（８Ｈ）
^１９Ｆ－ＮＭＲ（ａｃｅｔｏｎｅ－Ｄ_６）：δ［ｐｐｍ］＝－５５．５～－５１．５（１８Ｆ）、－７８．５（４Ｆ）、－８０．５（４Ｆ）、－９１．０～－８８．５（３６Ｆ）

［実施例４］
　以下に示す方法により、上記式（ＡＤ）で表される化合物を得た。
　式（６－１）で表される化合物の代わりに、式（６－５）で表される化合物（第１原料化合物）を用いたこと以外は実施例１と同様な操作を行い、化合物（ＡＤ）（式（ＡＤ）中の２つのＲｆ_１は、上記式（５－１）で表されるＰＦＰＥ鎖である。２つのＲｆ_１において、平均重合度を示すｈは４．５を表し、平均重合度を示すｉは４．５を表す。）を３．６７ｇ得た。

　式（６－５）で表される化合物は、式（７－２）に示す方法を用いて製造した。すなわち、３－ブテン－１－オールと、ソルケタール（２，２－ジメチル－１，３－ジオキソラン－４－メタノール）の水酸基を臭素化したハロゲン化合物とを反応させ、得られた化合物のビニル基を、ｍＣＰＢＡを用いて酸化することにより合成した。

　得られた化合物（ＡＤ）の^１Ｈ－ＮＭＲおよび^１９Ｆ－ＮＭＲ測定を行い、以下の結果により構造を同定した。
^１Ｈ－ＮＭＲ（ａｃｅｔｏｎｅ－Ｄ_６）：δ［ｐｐｍ］＝１．６５－１．８５（４Ｈ）、３．４０－３．８５（３２Ｈ）、３．８５－４．１０（８Ｈ）
^１９Ｆ－ＮＭＲ（ａｃｅｔｏｎｅ－Ｄ_６）：δ［ｐｐｍ］＝－５５．５～－５１．５（１８Ｆ）、－７８．５（４Ｆ）、－８０．５（４Ｆ）、－９１．０～－８８．５（３６Ｆ）

［実施例５］
　以下に示す方法により、上記式（ＡＥ）で表される化合物を得た。
　式（６－１）で表される化合物の代わりに、式（６－６）で表される化合物（第１原料化合物）を用いたこと以外は実施例１と同様な操作を行い、化合物（ＡＥ）（式（ＡＥ）中の２つのＲｆ_１は、上記式（５－１）で表されるＰＦＰＥ鎖である。２つのＲｆ_１において、平均重合度を示すｈは４．５を表し、平均重合度を示すｉは４．５を表す。）を３．５２ｇ得た。

　式（６－６）で表される化合物は、５－ヘキセン－１－オールと、ソルケタールの水酸基を臭素化したハロゲン化合物とを反応させ、得られた化合物のビニル基を、ｍＣＰＢＡを用いて酸化することにより合成した。

　得られた化合物（ＡＥ）の^１Ｈ－ＮＭＲおよび^１９Ｆ－ＮＭＲ測定を行い、以下の結果により構造を同定した。
^１Ｈ－ＮＭＲ（ａｃｅｔｏｎｅ－Ｄ_６）：δ［ｐｐｍ］＝１．４０－１．８５（１２Ｈ）、３．４０－３．８５（３２Ｈ）、３．８５－４．１０（８Ｈ）
^１９Ｆ－ＮＭＲ（ａｃｅｔｏｎｅ－Ｄ_６）：δ［ｐｐｍ］＝－５５．５～－５１．５（１８Ｆ）、－７８．５（４Ｆ）、－８０．５（４Ｆ）、－９１．０～－８８．５（３６Ｆ）

［実施例６］
　以下に示す方法により、上記式（ＡＦ）で表される化合物を得た。
　式（６－１）で表される化合物の代わりに、式（６－８）で表される化合物（第１原料化合物）を用いたこと以外は実施例１と同様な操作を行い、化合物（ＡＦ）（式（ＡＦ）中の２つのＲｆ_１は、上記式（５－１）で表されるＰＦＰＥ鎖である。２つのＲｆ_１において、平均重合度を示すｈは４．５を表し、平均重合度を示すｉは４．５を表す。）を３．４３ｇ得た。

　式（６－８）で表される化合物は、以下に示す方法により製造した。すなわち、１，２－エポキシ－５－ヘキセンのエポキシ基を、希硫酸を用いて開環した。生成した化合物の１，２－ジオール部位を、アセトンを用いて保護した。その後、得られた化合物のビニル基を、ｍＣＰＢＡを用いて酸化することにより合成した。

　得られた化合物（ＡＦ）の^１Ｈ－ＮＭＲおよび^１９Ｆ－ＮＭＲ測定を行い、以下の結果により構造を同定した。
^１Ｈ－ＮＭＲ（ａｃｅｔｏｎｅ－Ｄ_６）：δ［ｐｐｍ］＝１．６５－１．８５（８Ｈ）、３．４０－３．８５（２４Ｈ）、３．８５－４．１０（８Ｈ）
^１９Ｆ－ＮＭＲ（ａｃｅｔｏｎｅ－Ｄ_６）：δ［ｐｐｍ］＝－５５．５～－５１．５（１８Ｆ）、－７８．５（４Ｆ）、－８０．５（４Ｆ）、－９１．０～－８８．５（３６Ｆ）

［実施例７］
　以下に示す方法により、上記式（ＡＧ）で表される化合物を得た。
　式（６－１）で表される化合物の代わりに、式（６－９）で表される化合物（第１原料化合物）を用いたこと以外は実施例１と同様な操作を行い、化合物（ＡＧ）（式（ＡＧ）中の２つのＲｆ_１は、上記式（５－１）で表されるＰＦＰＥ鎖である。２つのＲｆ_１において、平均重合度を示すｈは４．５を表し、平均重合度を示すｉは４．５を表す。）を３．１５ｇ得た。

　式（６－９）で表される化合物は、以下に示す方法により製造した。すなわち、１，７－オクタジエンの片方のビニル基を、ｍＣＰＢＡを用いて酸化した。これにより生じたエポキシ基を、希硫酸を用いて開環した。生成した化合物の１，２－ジオール部位を、アセトンを用いて保護した。その後、得られた化合物のビニル基を、ｍＣＰＢＡを用いて酸化することにより合成した。

　得られた化合物（ＡＧ）の^１Ｈ－ＮＭＲおよび^１９Ｆ－ＮＭＲ測定を行い、以下の結果により構造を同定した。
^１Ｈ－ＮＭＲ（ａｃｅｔｏｎｅ－Ｄ_６）：δ［ｐｐｍ］＝１．４０－１．８５（１６Ｈ）、３．４０－３．８５（２４Ｈ）、３．８５－４．１０（８Ｈ）
^１９Ｆ－ＮＭＲ（ａｃｅｔｏｎｅ－Ｄ_６）：δ［ｐｐｍ］＝－５５．５～－５１．５（１８Ｆ）、－７８．５（４Ｆ）、－８０．５（４Ｆ）、－９１．０～－８８．５（３６Ｆ）

［実施例８］
　以下に示す方法により、上記式（ＡＨ）で表される化合物を得た。
　式（６－１）で表される化合物の代わりに、式（６－１０）で表される化合物（第１原料化合物）を用いたこと以外は実施例１と同様な操作を行い、化合物（ＡＨ）（式（ＡＨ）中の２つのＲｆ_１は、上記式（５－１）で表されるＰＦＰＥ鎖である。２つのＲｆ_１において、平均重合度を示すｈは４．５を表し、平均重合度を示すｉは４．５を表す。）を３．９１ｇ得た。

　式（６－１０）で表される化合物は、式（７－３）に示す方法を用いて製造した。すなわち、１，３－プロパンジオールの片方の水酸基と、ソルケタールの水酸基を臭素化したハロゲン化合物とを反応させた。その後、生成したアルコール化合物の水酸基と、式（８－１）で示されるエピブロモヒドリンとを反応させることにより合成した。

　得られた化合物（ＡＨ）の^１Ｈ－ＮＭＲおよび^１９Ｆ－ＮＭＲ測定を行い、以下の結果により構造を同定した。
^１Ｈ－ＮＭＲ（ａｃｅｔｏｎｅ－Ｄ_６）：δ［ｐｐｍ］＝１．６５－１．８５（４Ｈ）、３．４０－３．８５（４０Ｈ）、３．８５－４．１０（８Ｈ）
^１９Ｆ－ＮＭＲ（ａｃｅｔｏｎｅ－Ｄ_６）：δ［ｐｐｍ］＝－５５．５～－５１．５（１８Ｆ）、－７８．５（４Ｆ）、－８０．５（４Ｆ）、－９１．０～－８８．５（３６Ｆ）

［実施例９］
　以下に示す方法により、上記式（ＡＩ）で表される化合物を得た。
　式（６－１）で表される化合物の代わりに、式（６－１１）で表される化合物（第１原料化合物）を用いたこと以外は実施例１と同様な操作を行い、化合物（ＡＩ）（式（ＡＩ）中の２つのＲｆ_１は、上記式（５－１）で表されるＰＦＰＥ鎖である。２つのＲｆ_１において、平均重合度を示すｈは４．５を表し、平均重合度を示すｉは４．５を表す。）を３．７２ｇ得た。

　式（６－１１）で表される化合物は、以下に示す方法により製造した。すなわち、２，２－ジメチル－１，３－プロパンジオールの片方の水酸基と、ソルケタールの水酸基を臭素化したハロゲン化合物とを反応させた。その後、生成したアルコール化合物の水酸基と、エピブロモヒドリンとを反応させることにより合成した。

　得られた化合物（ＡＩ）の^１Ｈ－ＮＭＲおよび^１９Ｆ－ＮＭＲ測定を行い、以下の結果により構造を同定した。
^１Ｈ－ＮＭＲ（ａｃｅｔｏｎｅ－Ｄ_６）：δ［ｐｐｍ］＝１．２０－１．２５（１２Ｈ）、３．４０－３．８５（４０Ｈ）、３．８５－４．１０（８Ｈ）
^１９Ｆ－ＮＭＲ（ａｃｅｔｏｎｅ－Ｄ_６）：δ［ｐｐｍ］＝－５５．５～－５１．５（１８Ｆ）、－７８．５（４Ｆ）、－８０．５（４Ｆ）、－９１．０～－８８．５（３６Ｆ）

［実施例１０］
　以下に示す方法により、上記式（ＡＪ）で表される化合物を得た。
　式（６－１）で表される化合物の代わりに、式（６－１２）で表される化合物（第１原料化合物）を用いたこと以外は実施例１と同様な操作を行い、化合物（ＡＪ）（式（ＡＪ）中の２つのＲｆ_１は、上記式（５－１）で表されるＰＦＰＥ鎖である。２つのＲｆ_１において、平均重合度を示すｈは４．５を表し、平均重合度を示すｉは４．５を表す。）を３．４３ｇ得た。

　式（６－１２）で表される化合物は、以下に示す方法により製造した。すなわち、１，４－ブタンジオールの片方の水酸基と、ソルケタールの水酸基を臭素化したハロゲン化合物とを反応させた。その後、生成したアルコール化合物の水酸基と、エピブロモヒドリンとを反応させることにより合成した。

　得られた化合物（ＡＪ）の^１Ｈ－ＮＭＲおよび^１９Ｆ－ＮＭＲ測定を行い、以下の結果により構造を同定した。
^１Ｈ－ＮＭＲ（ａｃｅｔｏｎｅ－Ｄ_６）：δ［ｐｐｍ］＝１．６５－１．８５（８Ｈ）、３．４０－３．８５（４０Ｈ）、３．８５－４．１０（８Ｈ）
^１９Ｆ－ＮＭＲ（ａｃｅｔｏｎｅ－Ｄ_６）：δ［ｐｐｍ］＝－５５．５～－５１．５（１８Ｆ）、－７８．５（４Ｆ）、－８０．５（４Ｆ）、－９１．０～－８８．５（３６Ｆ）

［実施例１１］
　以下に示す方法により、上記式（ＡＫ）で表される化合物を得た。
　式（６－１）で表される化合物の代わりに、式（６－１３）で表される化合物（第１原料化合物）を用いたこと以外は実施例１と同様な操作を行い、化合物（ＡＫ）（式（ＡＫ）中の２つのＲｆ_１は、上記式（５－１）で表されるＰＦＰＥ鎖である。２つのＲｆ_１において、平均重合度を示すｈは４．５を表し、平均重合度を示すｉは４．５を表す。）を３．６１ｇ得た。

　式（６－１３）で表される化合物は、以下に示す方法により製造した。すなわち、２，３－ジメチル－１，４－ブタンジオールの片方の水酸基と、ソルケタールの水酸基を臭素化したハロゲン化合物とを反応させた。その後、生成したアルコール化合物の水酸基と、エピブロモヒドリンとを反応させることにより合成した。

　得られた化合物（ＡＫ）の^１Ｈ－ＮＭＲおよび^１９Ｆ－ＮＭＲ測定を行い、以下の結果により構造を同定した。
^１Ｈ－ＮＭＲ（ａｃｅｔｏｎｅ－Ｄ_６）：δ［ｐｐｍ］＝１．２０－１．２５（１２Ｈ）、１．６５－１．８５（４Ｈ）、３．４０－３．８５（４０Ｈ）、３．８５－４．１０（８Ｈ）
^１９Ｆ－ＮＭＲ（ａｃｅｔｏｎｅ－Ｄ_６）：δ［ｐｐｍ］＝－５５．５～－５１．５（１８Ｆ）、－７８．５（４Ｆ）、－８０．５（４Ｆ）、－９１．０～－８８．５（３６Ｆ）

［実施例１２］
　以下に示す方法により、上記式（ＡＬ）で表される化合物を得た。
　式（６－１）で表される化合物の代わりに、式（６－１５）で表される化合物（第１原料化合物）を用いたこと以外は実施例１と同様な操作を行い、化合物（ＡＬ）（式（ＡＬ）中の２つのＲｆ_１は、上記式（５－１）で表されるＰＦＰＥ鎖である。２つのＲｆ_１において、平均重合度を示すｈは４．５を表し、平均重合度を示すｉは４．５を表す。）を４．２１ｇ得た。

　式（６－１５）で表される化合物は、以下に示す方法により製造した。すなわち、２，２，３，３－テトラフルオロ－１，４－ブタンジオールの片方の水酸基と、ソルケタールの水酸基を臭素化したハロゲン化合物とを反応させた。その後、生成したアルコール化合物の水酸基と、エピブロモヒドリンとを反応させることにより合成した。

　得られた化合物（ＡＬ）の^１Ｈ－ＮＭＲおよび^１９Ｆ－ＮＭＲ測定を行い、以下の結果により構造を同定した。
^１Ｈ－ＮＭＲ（ａｃｅｔｏｎｅ－Ｄ_６）：δ［ｐｐｍ］＝３．４０－３．８５（３２Ｈ）、３．８５－４．１０（１６Ｈ）
^１９Ｆ－ＮＭＲ（ａｃｅｔｏｎｅ－Ｄ_６）：δ［ｐｐｍ］＝－５５．５～－５１．５（１８Ｆ）、－７８．５（４Ｆ）、－８０．５（４Ｆ）、－９１．０～－８８．５（３６Ｆ）、－１２８．５～１３０．０（８Ｆ）

［実施例１３］
　以下に示す方法により、上記式（ＡＭ）で表される化合物を得た。
　窒素ガス雰囲気下で１００ｍＬナスフラスコにＨＯＣＨ_２ＣＦ_２Ｏ（ＣＦ_２ＣＦ_２Ｏ）_ｈ（ＣＦ_２Ｏ）_ｉＣＦ_２ＣＨ_２ＯＨ（式中の平均重合度を示すｈは４．５であり、平均重合度を示すｉは４．５である。）で表される化合物（数平均分子量１０００、分子量分布１．１）１５ｇと、１－ブロモ－４－ペンテン４．５０ｇと、Ｎ，Ｎ－ジメチルホルムアミド３０ｍＬとを仕込み、室温で均一になるまで撹拌し、混合物とした。この混合物に水素化ナトリウム（純度６０％、ミネラルオイル含）１．２０ｇを加え、７０℃で１６時間撹拌して反応させた。

　反応後に得られた反応生成物を２５℃に冷却し、水５０ｍＬを入れた分液漏斗に移し、酢酸エチル１００ｍＬで３回抽出した。有機層を水洗し、無水硫酸ナトリウムによって脱水した。乾燥剤を濾別した後、濾液を濃縮し、残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーにて精製し、中間体化合物１ｃとして下記式（１０－２）で示される化合物６．８１ｇを得た。

（式（１０－２）中のＲｆ_１は、上記式（５－１）で表されるＰＦＰＥ鎖である。Ｒｆ_１において、平均重合度を示すｈは４．５を表し、平均重合度を示すｉは４．５を表す。）

　次に、窒素ガス雰囲気下で１００ｍＬナスフラスコに、上記で得られた中間体化合物１ｃである式（１０－２）で示される化合物６．８１ｇと、エピブロモヒドリン０．５８ｇと、ｔ－ブタノール１０ｍＬとを仕込み、室温で均一になるまで撹拌した。この均一の液にカリウムｔｅｒｔ－ブトキシドを０．７６ｇ加え、７０℃で２３時間撹拌して反応させた。

　反応後に得られた反応生成物を２５℃に冷却し、水５０ｍＬを入れた分液漏斗に移し、酢酸エチル１００ｍＬで３回抽出した。有機層を水洗し、無水硫酸ナトリウムによって脱水した。乾燥剤を濾別した後、濾液を濃縮し、残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーにて精製し、中間体化合物として下記式（１０－３）で示される化合物４．８５ｇを得た。

（式（１０－３）中の２つのＲｆ_１は、上記式（５－１）で表されるＰＦＰＥ鎖である。２つのＲｆ_１において、平均重合度を示すｈは４．５を表し、平均重合度を示すｉは４．５を表す。）

　続いて、窒素ガス雰囲気下で１００ｍＬナスフラスコに、上記で得られた中間体化合物である式（１０－３）で示される化合物４．８５ｇと、塩化メチレン２０ｍＬと、ｍＣＰＢＡ（純度７３％、含水）２．４５ｇとを仕込み、室温で１６時間撹拌して反応させた。
　反応後に得られた反応液に亜硫酸ナトリウム２．５０ｇの水溶液５０ｍＬを加えて過剰のｍＣＰＢＡを失活させた。生じた固体を濾別した後、分液漏斗に移し、塩化メチレン１００ｍＬで３回抽出した。有機層を水洗し、無水硫酸ナトリウムによって脱水した。乾燥剤を濾別した後、濾液を濃縮し、残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーにて精製し、中間体化合物として下記式（１０－４）で示される化合物４．１４ｇを得た。

（式（１０－４）中の２つのＲｆ_１は、上記式（５－１）で表されるＰＦＰＥ鎖である。２つのＲｆ_１において、平均重合度を示すｈは４．５を表し、平均重合度を示すｉは４．５を表す。）

　続いて、窒素ガス雰囲気下で１００ｍＬナスフラスコに、上記で得られた中間体化合物である式（１０－４）で示される化合物４．１４ｇと、アセトン２０ｍＬと、１０％希硫酸２０ｍＬとを仕込み、室温で１６時間撹拌して反応させた。

　反応後に得られた反応液に飽和重曹水２０ｍＬを加えて中和し、生じた固体を濾別した。その後、分液漏斗に移し、酢酸エチル１００ｍＬで３回抽出した。有機層を水洗し、無水硫酸ナトリウムによって脱水した。乾燥剤を濾別した後、濾液を濃縮し、残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーにて精製して、化合物（ＡＭ）（式（ＡＭ）中の２つのＲｆ_１は、上記式（５－１）で表されるＰＦＰＥ鎖である。２つのＲｆ_１において、平均重合度を示すｈは４．５を表し、平均重合度を示すｉは４．５を表す。）を３．６３ｇ得た。

　得られた化合物（ＡＭ）の^１Ｈ－ＮＭＲおよび^１９Ｆ－ＮＭＲ測定を行い、以下の結果により構造を同定した。
^１Ｈ－ＮＭＲ（ａｃｅｔｏｎｅ－Ｄ_６）：δ［ｐｐｍ］＝１．６５－１．８５（８Ｈ）、３．４０－３．８５（２０Ｈ）、３．８５－４．１０（８Ｈ）
^１９Ｆ－ＮＭＲ（ａｃｅｔｏｎｅ－Ｄ_６）：δ［ｐｐｍ］＝－５５．５～－５１．５（１８Ｆ）、－７８．５（４Ｆ）、－８０．５（４Ｆ）、－９１．０～－８８．５（３６Ｆ）

［実施例１４］
　以下に示す方法により、上記式（ＡＮ）で表される化合物を得た。
（第一反応）
　実施例１の第一反応と同様な操作を行い、中間体化合物１ａとして上記式（１０－１）で示される化合物７．２５ｇを得た。

（第二反応）
　式（６－１）で表される化合物の代わりに、式（６－５）で表される化合物（第１原料化合物）を用いたこと以外は実施例１の第一反応と同様な操作を行い、中間体化合物１ｂとして下記式（１０－５）で示される化合物７．１９ｇを得た。

（式（１０－５）中のＲｆ_１は、上記式（５－１）で表されるＰＦＰＥ鎖である。Ｒｆ_１において、平均重合度を示すｈは４．５を表し、平均重合度を示すｉは４．５を表す。）

　続いて、窒素ガス雰囲気下で１００ｍＬナスフラスコに、上記で得られた中間体化合物１ａである式（１０－１）で示される化合物７．２５ｇと、式（８－１）で示されるエピブロモヒドリン（第２原料化合物）４．５０ｇと、Ｎ，Ｎ－ジメチルホルムアミド３０ｍＬとを仕込み、室温で均一になるまで撹拌し、混合物とした。この混合物に水素化ナトリウム（純度６０％、ミネラルオイル含）０．２５ｇを加え、室温で１６時間撹拌して反応させた。

　反応後に得られた反応生成物を２５℃に冷却し、水５０ｍＬを入れた分液漏斗に移し、酢酸エチル１００ｍＬで３回抽出した。有機層を水洗し、無水硫酸ナトリウムによって脱水した。乾燥剤を濾別した後、濾液を濃縮し、残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーにて精製し、中間体化合物２ａとして下記式（１０－６）で示される化合物４．８１ｇを得た。

（式（１０－６）中のＲｆ_１は、上記式（５－１）で表されるＰＦＰＥ鎖である。Ｒｆ_１において、平均重合度を示すｈは４．５を表し、平均重合度を示すｉは４．５を表す。）

　続いて、窒素ガス雰囲気下で１００ｍＬナスフラスコに、上記で得られた中間体化合物２ａである式（１０－６）で示される化合物４．８１ｇと、中間体化合物１ｂである式（１０－５）で示される化合物７．１９ｇと、ｔ－ブタノール２０ｍＬとを仕込み、室温で均一になるまで撹拌し、混合物とした。この混合物にカリウムｔｅｒｔ－ブトキシド０．６１ｇを加え、７０℃で１６時間撹拌して反応させた。

　反応後に得られた反応液を室温に戻し、１０％塩化水素・メタノール溶液（塩化水素－メタノール試薬（５－１０％）東京化成工業株式会社製）５０ｇを加え、室温で４時間撹拌した。その後、反応液を飽和重曹水１００ｍＬが入った分液漏斗に少しずつ移し、酢酸エチル２００ｍＬで２回抽出した。有機層を食塩水１００ｍＬ、飽和重曹水１００ｍＬ、食塩水１００ｍＬの順で洗浄し、無水硫酸ナトリウムによる脱水を行った。乾燥剤を濾別後、濾液を濃縮し、残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーにて精製して、化合物（ＡＮ）（式（ＡＮ）中のＲｆ_１は、上記式（５－１）で表されるＰＦＰＥ鎖である。Ｒｆ_１において、平均重合度を示すｈは４．５を表し、平均重合度を示すｉは４．５を表す。）を４．２１ｇ得た。

　得られた化合物（ＡＮ）の^１Ｈ－ＮＭＲおよび^１９Ｆ－ＮＭＲ測定を行い、以下の結果により構造を同定した。
^１Ｈ－ＮＭＲ（ａｃｅｔｏｎｅ－Ｄ_６）：δ［ｐｐｍ］＝１．６５－１．８５（４Ｈ）、３．４０－３．８５（３２Ｈ）、３．８５－４．１０（８Ｈ）
^１９Ｆ－ＮＭＲ（ａｃｅｔｏｎｅ－Ｄ_６）：δ［ｐｐｍ］＝－５５．５～－５１．５（１８Ｆ）、－７８．５（４Ｆ）、－８０．５（４Ｆ）、－９１．０～－８８．５（３６Ｆ）

［実施例１５］
　以下に示す方法により、上記式（ＡＯ）で表される化合物を得た。
　式（６－５）で表される化合物の代わりに、式（６－１７）で表される化合物（第３原料化合物）を用いたこと以外は実施例１４と同様な操作を行い、化合物（ＡＯ）（式（ＡＯ）中の２つのＲｆ_１は、上記式（５－１）で表されるＰＦＰＥ鎖である。２つのＲｆ_１において、平均重合度を示すｈは４．５を表し、平均重合度を示すｉは４．５を表す。）を３．５１ｇ得た。

　式（６－１７）で表される化合物は、エチレングリコールモノアリルエーテルの水酸基を、ジヒドロピランを用いて保護した後、ビニル基をｍＣＰＢＡで酸化することにより合成した。

　得られた化合物（ＡＯ）の^１Ｈ－ＮＭＲおよび^１９Ｆ－ＮＭＲ測定を行い、以下の結果により構造を同定した。
^１Ｈ－ＮＭＲ（ａｃｅｔｏｎｅ－Ｄ_６）：δ［ｐｐｍ］＝１．６５－１．８５（２Ｈ）、３．４０－３．８５（３０Ｈ）、３．８５－４．１０（８Ｈ）
^１９Ｆ－ＮＭＲ（ａｃｅｔｏｎｅ－Ｄ_６）：δ［ｐｐｍ］＝－５５．５～－５１．５（１８Ｆ）、－７８．５（４Ｆ）、－８０．５（４Ｆ）、－９１．０～－８８．５（３６Ｆ）

［実施例１６］
　以下に示す方法により、上記式（ＡＰ）で表される化合物を得た。
　式（６－５）で表される化合物の代わりに、式（６－１８）で表される化合物（第３原料化合物）を用いたこと以外は実施例１４と同様な操作を行い、化合物（ＡＰ）（式（ＡＰ）中の２つのＲｆ_１は、上記式（５－１）で表されるＰＦＰＥ鎖である。２つのＲｆ_１において、平均重合度を示すｈは４．５を表し、平均重合度を示すｉは４．５を表す。）を３．６６ｇ得た。

　式（６－１８）で表される化合物は、以下に示す方法により製造した。すなわち、エピクロロヒドリンとその２倍モル量の３－ブテン－１－オールとを反応させた。その後、この反応により生じた水酸基を、ジヒドロピランを用いて保護し、一方のビニル基をｍＣＰＢＡで酸化することにより合成した。

　得られた化合物（ＡＰ）の^１Ｈ－ＮＭＲおよび^１９Ｆ－ＮＭＲ測定を行い、以下の結果により構造を同定した。
^１Ｈ－ＮＭＲ（ａｃｅｔｏｎｅ－Ｄ_６）：δ［ｐｐｍ］＝１．６５－１．８５（４Ｈ）、３．４０－３．８５（３３Ｈ）、３．８５－４．１０（８Ｈ）、５．２０－５．８０（３Ｈ）
^１９Ｆ－ＮＭＲ（ａｃｅｔｏｎｅ－Ｄ_６）：δ［ｐｐｍ］＝－５５．５～－５１．５（１８Ｆ）、－７８．５（４Ｆ）、－８０．５（４Ｆ）、－９１．０～－８８．５（３６Ｆ）

［実施例１７］
　以下に示す方法により、上記式（ＡＱ）で表される化合物を得た。
　式（６－５）で表される化合物の代わりに、式（６－１９）で表される化合物（第３原料化合物）を用いたこと以外は実施例１４と同様な操作を行い、化合物（ＡＱ）（式（ＡＱ）中の２つのＲｆ_１は、上記式（５－１）で表されるＰＦＰＥ鎖である。２つのＲｆ_１において、平均重合度を示すｈは４．５を表し、平均重合度を示すｉは４．５を表す。）を３．４２ｇ得た。

　式（６－１９）で表される化合物は、２－アセトアミドエタノールの水酸基とエピブロモヒドリンとを反応させることにより合成した。

　得られた化合物（ＡＱ）の^１Ｈ－ＮＭＲおよび^１９Ｆ－ＮＭＲ測定を行い、以下の結果により構造を同定した。
^１Ｈ－ＮＭＲ（ａｃｅｔｏｎｅ－Ｄ_６）：δ［ｐｐｍ］＝１．６５－１．８５（２Ｈ）、１．９０（３Ｈ）、３．４０－３．８５（２９Ｈ）、３．８５－４．１０（８Ｈ）、６．７０－６．８０（１Ｈ）
^１９Ｆ－ＮＭＲ（ａｃｅｔｏｎｅ－Ｄ_６）：δ［ｐｐｍ］＝－５５．５～－５１．５（１８Ｆ）、－７８．５（４Ｆ）、－８０．５（４Ｆ）、－９１．０～－８８．５（３６Ｆ）

［実施例１８］
　以下に示す方法により、上記式（ＡＲ）で表される化合物を得た。
　式（６－５）で表される化合物の代わりに、式（６－２０）で表される化合物（第３原料化合物）を用いたこと以外は実施例１４と同様な操作を行い、化合物（ＡＲ）（式（ＡＲ）中の２つのＲｆ_１は、上記式（５－１）で表されるＰＦＰＥ鎖である。２つのＲｆ_１において、平均重合度を示すｈは４．５を表し、平均重合度を示すｉは４．５を表す。）を３．７８ｇ得た。

　式（６－２０）で表される化合物は、３－シアノプロパノールの水酸基とエピブロモヒドリンとを反応させることにより合成した。

　得られた化合物（ＡＲ）の^１Ｈ－ＮＭＲおよび^１９Ｆ－ＮＭＲ測定を行い、以下の結果により構造を同定した。
^１Ｈ－ＮＭＲ（ａｃｅｔｏｎｅ－Ｄ_６）：δ［ｐｐｍ］＝１．６５－１．８５（４Ｈ）、１．９０－２．００（２Ｈ）、３．４０－３．８５（２７Ｈ）、３．８５－４．１０（８Ｈ）
^１９Ｆ－ＮＭＲ（ａｃｅｔｏｎｅ－Ｄ_６）：δ［ｐｐｍ］＝－５５．５～－５１．５（１８Ｆ）、－７８．５（４Ｆ）、－８０．５（４Ｆ）、－９１．０～－８８．５（３６Ｆ）

［実施例１９］
　以下に示す方法により、上記式（ＡＳ）で表される化合物を得た。
　式（６－５）で表される化合物の代わりに、式（６－２１）で表される化合物（第３原料化合物）を用いたこと以外は実施例１４と同様な操作を行い、化合物（ＡＳ）（式（ＡＳ）中の２つのＲｆ_１は、上記式（５－１）で表されるＰＦＰＥ鎖である。２つのＲｆ_１において、平均重合度を示すｈは４．５を表し、平均重合度を示すｉは４．５を表す。）を３．４４ｇ得た。

　式（６－２１）で表される化合物は、３－ブテン－１－オールの水酸基を、ジヒドロピランを用いて保護した後、ビニル基をｍＣＰＢＡで酸化することにより合成した。

　得られた化合物（ＡＳ）の^１Ｈ－ＮＭＲおよび^１９Ｆ－ＮＭＲ測定を行い、以下の結果により構造を同定した。
^１Ｈ－ＮＭＲ（ａｃｅｔｏｎｅ－Ｄ_６）：δ［ｐｐｍ］＝１．６５－１．８５（４Ｈ）、３．４０－３．８５（２６Ｈ）、３．８５－４．１０（８Ｈ）
^１９Ｆ－ＮＭＲ（ａｃｅｔｏｎｅ－Ｄ_６）：δ［ｐｐｍ］＝－５５．５～－５１．５（１８Ｆ）、－７８．５（４Ｆ）、－８０．５（４Ｆ）、－９１．０～－８８．５（３６Ｆ）

［実施例２０］
　以下に示す方法により、上記式（ＡＴ）で表される化合物を得た。
　式（６－５）で表される化合物の代わりに、式（６－２２）で表される化合物（第３原料化合物）を用いたこと以外は実施例１４と同様な操作を行い、化合物（ＡＴ）（式（ＡＴ）中の２つのＲｆ_１は、上記式（５－１）で表されるＰＦＰＥ鎖である。２つのＲｆ_１において、平均重合度を示すｈは４．５を表し、平均重合度を示すｉは４．５を表す。）を３．３２ｇ得た。

　式（６－２２）で表される化合物は、３－アリルオキシ－１，２－プロパンジオールの２つの水酸基を、ジヒドロピランを用いて保護した後、ビニル基をｍＣＰＢＡで酸化することにより合成した。

　得られた化合物（ＡＴ）の^１Ｈ－ＮＭＲおよび^１９Ｆ－ＮＭＲ測定を行い、以下の結果により構造を同定した。
^１Ｈ－ＮＭＲ（ａｃｅｔｏｎｅ－Ｄ_６）：δ［ｐｐｍ］＝１．６５－１．８５（２Ｈ）、３．４０－３．８５（３２Ｈ）、３．８５－４．１０（８Ｈ）
^１９Ｆ－ＮＭＲ（ａｃｅｔｏｎｅ－Ｄ_６）：δ［ｐｐｍ］＝－５５．５～－５１．５（１８Ｆ）、－７８．５（４Ｆ）、－８０．５（４Ｆ）、－９１．０～－８８．５（３６Ｆ）

［実施例２１］
　以下に示す方法により、上記式（ＢＡ）で表される化合物を得た。
　エピブロモヒドリンの代わりに、式（８－２）で表される化合物（第２原料化合物）を用いたこと以外は実施例１と同様な操作を行い、化合物（ＢＡ）（式（ＢＡ）中の２つのＲｆ_１は、上記式（５－１）で表されるＰＦＰＥ鎖である。２つのＲｆ_１において、平均重合度を示すｈは４．５を表し、平均重合度を示すｉは４．５を表す。）を３．２１ｇ得た。

　得られた化合物（ＢＡ）の^１Ｈ－ＮＭＲおよび^１９Ｆ－ＮＭＲ測定を行い、以下の結果により構造を同定した。
^１Ｈ－ＮＭＲ（ａｃｅｔｏｎｅ－Ｄ_６）：δ［ｐｐｍ］＝１．６５－１．８５（６Ｈ）、３．４０－３．８５（３２Ｈ）、３．８５－４．１０（８Ｈ）
^１９Ｆ－ＮＭＲ（ａｃｅｔｏｎｅ－Ｄ_６）：δ［ｐｐｍ］＝－５５．５～－５１．５（１８Ｆ）、－７８．５（４Ｆ）、－８０．５（４Ｆ）、－９１．０～－８８．５（３６Ｆ）

［実施例２２］
　以下に示す方法により、上記式（ＢＢ）で表される化合物を得た。
　エピブロモヒドリンの代わりに、式（８－３）で表される化合物（第２原料化合物）を用いたこと以外は実施例１と同様な操作を行い、化合物（ＢＢ）（式（ＢＢ）中の２つのＲｆ_１は、上記式（５－１）で表されるＰＦＰＥ鎖である。２つのＲｆ_１において、平均重合度を示すｈは４．５を表し、平均重合度を示すｉは４．５を表す。）を２．９６ｇ得た。

　得られた化合物（ＢＢ）の^１Ｈ－ＮＭＲおよび^１９Ｆ－ＮＭＲ測定を行い、以下の結果により構造を同定した。
^１Ｈ－ＮＭＲ（ａｃｅｔｏｎｅ－Ｄ_６）：δ［ｐｐｍ］＝１．６５－１．８５（４Ｈ）、３．４０－３．８５（３８Ｈ）、３．８５－４．１０（８Ｈ）
^１９Ｆ－ＮＭＲ（ａｃｅｔｏｎｅ－Ｄ_６）：δ［ｐｐｍ］＝－５５．５～－５１．５（１８Ｆ）、－７８．５（４Ｆ）、－８０．５（４Ｆ）、－９１．０～－８８．５（３６Ｆ）

［実施例２３］
　以下に示す方法により、上記式（ＢＣ）で表される化合物を得た。
　エピブロモヒドリンの代わりに、式（８－４）で表される化合物（第２原料化合物）を用いたこと以外は実施例１と同様な操作を行い、化合物（ＢＣ）（式（ＢＣ）中の２つのＲｆ_１は、上記式（５－１）で表されるＰＦＰＥ鎖である。２つのＲｆ_１において、平均重合度を示すｈは４．５を表し、平均重合度を示すｉは４．５を表す。）を３．０４ｇ得た。

　得られた化合物（ＢＣ）の^１Ｈ－ＮＭＲおよび^１９Ｆ－ＮＭＲ測定を行い、以下の結果により構造を同定した。
^１Ｈ－ＮＭＲ（ａｃｅｔｏｎｅ－Ｄ_６）：δ［ｐｐｍ］＝１．６５－１．８５（４Ｈ）、３．４０－３．８５（３４Ｈ）、３．８５－４．１０（８Ｈ）
^１９Ｆ－ＮＭＲ（ａｃｅｔｏｎｅ－Ｄ_６）：δ［ｐｐｍ］＝－５５．５～－５１．５（１８Ｆ）、－７８．５（４Ｆ）、－８０．５（４Ｆ）、－９１．０～－８８．５（３６Ｆ）

［実施例２４］
　以下に示す方法により、上記式（ＢＤ）で表される化合物を得た。
　エピブロモヒドリンの代わりに、式（８－５）で表される化合物（第２原料化合物）を用いたこと以外は実施例１と同様な操作を行い、化合物（ＢＤ）（式（ＢＤ）中の２つのＲｆ_１は、上記式（５－１）で表されるＰＦＰＥ鎖である。２つのＲｆ_１において、平均重合度を示すｈは４．５を表し、平均重合度を示すｉは４．５を表す。）を３．４３ｇ得た。

　得られた化合物（ＢＤ）の^１Ｈ－ＮＭＲおよび^１９Ｆ－ＮＭＲ測定を行い、以下の結果により構造を同定した。
^１Ｈ－ＮＭＲ（ａｃｅｔｏｎｅ－Ｄ_６）：δ［ｐｐｍ］＝１．６５－１．８５（８Ｈ）、３．４０－３．８５（３４Ｈ）、３．８５－４．１０（８Ｈ）
^１９Ｆ－ＮＭＲ（ａｃｅｔｏｎｅ－Ｄ_６）：δ［ｐｐｍ］＝－５５．５～－５１．５（１８Ｆ）、－７８．５（４Ｆ）、－８０．５（４Ｆ）、－９１．０～－８８．５（３６Ｆ）

［実施例２５］
　以下に示す方法により、上記式（ＢＥ）で表される化合物を得た。
　エピブロモヒドリンの代わりに、式（８－６）で表される化合物（第２原料化合物）を用いたこと以外は実施例１と同様な操作を行い、化合物（ＢＥ）（式（ＢＥ）中の２つのＲｆ_１は、上記式（５－１）で表されるＰＦＰＥ鎖である。２つのＲｆ_１において、平均重合度を示すｈは４．５を表し、平均重合度を示すｉは４．５を表す。）を３．６１ｇ得た。

　式（８－６）で表される化合物は、３－ブテン－１－オールとエピブロモヒドリンとを反応させた後、ビニル基をｍＣＰＢＡで酸化することにより合成した。

　得られた化合物（ＢＥ）の^１Ｈ－ＮＭＲおよび^１９Ｆ－ＮＭＲ測定を行い、以下の結果により構造を同定した。
^１Ｈ－ＮＭＲ（ａｃｅｔｏｎｅ－Ｄ_６）：δ［ｐｐｍ］＝１．６５－１．８５（６Ｈ）、３．４０－３．８５（３８Ｈ）、３．８５－４．１０（８Ｈ）
^１９Ｆ－ＮＭＲ（ａｃｅｔｏｎｅ－Ｄ_６）：δ［ｐｐｍ］＝－５５．５～－５１．５（１８Ｆ）、－７８．５（４Ｆ）、－８０．５（４Ｆ）、－９１．０～－８８．５（３６Ｆ）

［実施例２６］
　以下に示す方法により、上記式（ＢＦ）で表される化合物を得た。
　エピブロモヒドリンの代わりに、式（８－７）で表される化合物（第２原料化合物）を用いたこと以外は実施例１と同様な操作を行い、化合物（ＢＦ）（式（ＢＦ）中の２つのＲｆ_１は、上記式（５－１）で表されるＰＦＰＥ鎖である。２つのＲｆ_１において、平均重合度を示すｈは４．５を表し、平均重合度を示すｉは４．５を表す。）を３．２０ｇ得た。

　式（８－７）で表される化合物は、式（９－２）に示す方法を用いて製造した。すなわち、式（８－１）で示されるエピブロモヒドリンと、その２倍モル量の３－ブテン－１－オールを反応させた後、生じた水酸基を、ジヒドロピランを用いて保護し、両末端のビニル基をｍＣＰＢＡで酸化することにより合成した。

　得られた化合物（ＢＦ）の^１Ｈ－ＮＭＲおよび^１９Ｆ－ＮＭＲ測定を行い、以下の結果により構造を同定した。
^１Ｈ－ＮＭＲ（ａｃｅｔｏｎｅ－Ｄ_６）：δ［ｐｐｍ］＝１．６５－１．８５（８Ｈ）、３．４０－３．８５（４４Ｈ）、３．８５－４．１０（８Ｈ）
^１９Ｆ－ＮＭＲ（ａｃｅｔｏｎｅ－Ｄ_６）：δ［ｐｐｍ］＝－５５．５～－５１．５（１８Ｆ）、－７８．５（４Ｆ）、－８０．５（４Ｆ）、－９１．０～－８８．５（３６Ｆ）

［実施例２７］
　以下に示す方法により、上記式（ＢＧ）で表される化合物を得た。
　エピブロモヒドリンの代わりに、式（８－８）で表される化合物（第２原料化合物）を用いたこと以外は実施例１と同様な操作を行い、化合物（ＢＧ）（式（ＢＧ）中の２つのＲｆ_１は、上記式（５－１）で表されるＰＦＰＥ鎖である。２つのＲｆ_１において、平均重合度を示すｈは４．５を表し、平均重合度を示すｉは４．５を表す。）を３．４１ｇ得た。

　なお、式（８－８）で表される化合物は、式（９－１）に示す方法を用いて製造した。すなわち、１，４－ブタンジオールと、その２倍モル量の式（８－１）で示されるエピブロモヒドリンとを反応させることにより合成した。

　得られた化合物（ＢＧ）の^１Ｈ－ＮＭＲおよび^１９Ｆ－ＮＭＲ測定を行い、以下の結果により構造を同定した。
^１Ｈ－ＮＭＲ（ａｃｅｔｏｎｅ－Ｄ_６）：δ［ｐｐｍ］＝１．６５－１．８５（８Ｈ）、３．４０－３．８５（４２Ｈ）、３．８５－４．１０（８Ｈ）
^１９Ｆ－ＮＭＲ（ａｃｅｔｏｎｅ－Ｄ_６）：δ［ｐｐｍ］＝－５５．５～－５１．５（１８Ｆ）、－７８．５（４Ｆ）、－８０．５（４Ｆ）、－９１．０～－８８．５（３６Ｆ）

［実施例２８］
　以下に示す方法により、上記式（ＢＨ）で表される化合物を得た。
　エピブロモヒドリンの代わりに、式（８－９）で表される化合物（第２原料化合物）を用いたこと以外は実施例１と同様な操作を行い、化合物（ＢＨ）（式（ＢＨ）中の２つのＲｆ_１は、上記式（５－１）で表されるＰＦＰＥ鎖である。２つのＲｆ_１において、平均重合度を示すｈは４．５を表し、平均重合度を示すｉは４．５を表す。）を３．３７ｇ得た。

　式（８－９）で表される化合物は、２，２－ジメチル－１，３－プロパンジオールと、その２倍モル量のエピブロモヒドリンとを反応させることにより合成した。

　得られた化合物（ＢＨ）の^１Ｈ－ＮＭＲおよび^１９Ｆ－ＮＭＲ測定を行い、以下の結果により構造を同定した。
^１Ｈ－ＮＭＲ（ａｃｅｔｏｎｅ－Ｄ_６）：δ［ｐｐｍ］＝１．２０－１．２５（６Ｈ）、１．６５－１．８５（４Ｈ）、３．４０－３．８５（４２Ｈ）、３．８５－４．１０（８Ｈ）
^１９Ｆ－ＮＭＲ（ａｃｅｔｏｎｅ－Ｄ_６）：δ［ｐｐｍ］＝－５５．５～－５１．５（１８Ｆ）、－７８．５（４Ｆ）、－８０．５（４Ｆ）、－９１．０～－８８．５（３６Ｆ）

［実施例２９］
　以下に示す方法により、上記式（ＢＩ）で表される化合物を得た。
　エピブロモヒドリンの代わりに、式（８－１０）で表される化合物（第２原料化合物）を用いたこと以外は実施例１と同様な操作を行い、化合物（ＢＩ）（式（ＢＩ）中の２つのＲｆ_１は、上記式（５－１）で表されるＰＦＰＥ鎖である。２つのＲｆ_１において、平均重合度を示すｈは４．５を表し、平均重合度を示すｉは４．５を表す。）を３．５８ｇ得た。
　式（８－１０）で表される化合物は、２，３－ジメチル－１，４－ブタンジオールと、その２倍モル量のエピブロモヒドリンとを反応させることにより合成した。

　得られた化合物（ＢＩ）の^１Ｈ－ＮＭＲおよび^１９Ｆ－ＮＭＲ測定を行い、以下の結果により構造を同定した。
^１Ｈ－ＮＭＲ（ａｃｅｔｏｎｅ－Ｄ_６）：δ［ｐｐｍ］＝１．２０－１．２５（６Ｈ）、１．６５－１．８５（６Ｈ）、３．４０－３．８５（４２Ｈ）、３．８５－４．１０（８Ｈ）
^１９Ｆ－ＮＭＲ（ａｃｅｔｏｎｅ－Ｄ_６）：δ［ｐｐｍ］＝－５５．５～－５１．５（１８Ｆ）、－７８．５（４Ｆ）、－８０．５（４Ｆ）、－９１．０～－８８．５（３６Ｆ）

［実施例３０］
　以下に示す方法により、上記式（ＢＪ）で表される化合物を得た。
　エピブロモヒドリンの代わりに、式（８－１１）で表される化合物（第２原料化合物）を用いたこと以外は実施例１と同様な操作を行い、化合物（ＢＪ）（式（ＢＪ）中の２つのＲｆ_１は、上記式（５－１）で表されるＰＦＰＥ鎖である。２つのＲｆ_１において、平均重合度を示すｈは４．５を表し、平均重合度を示すｉは４．５を表す。）を３．９７ｇ得た。
　式（８－１１）で表される化合物は、２，２，３，３－テトラフルオロ－１，４－ブタンジオールと、その２倍モル量のエピブロモヒドリンとを反応させることにより合成した。

　得られた化合物（ＢＪ）の^１Ｈ－ＮＭＲおよび^１９Ｆ－ＮＭＲ測定を行い、以下の結果により構造を同定した。
^１Ｈ－ＮＭＲ（ａｃｅｔｏｎｅ－Ｄ_６）：δ［ｐｐｍ］＝１．６５－１．８５（４Ｈ）、３．４０－３．８５（３８Ｈ）、３．８５－４．１０（１２Ｈ）
^１９Ｆ－ＮＭＲ（ａｃｅｔｏｎｅ－Ｄ_６）：δ［ｐｐｍ］＝－５５．５～－５１．５（１８Ｆ）、－７８．５（４Ｆ）、－８０．５（４Ｆ）、－９１．０～－８８．５（３６Ｆ）、－１２８．５～１３０．０（４Ｆ）

［実施例３１］
　以下に示す方法により、上記式（ＢＫ）で表される化合物を得た。
　ＨＯＣＨ_２ＣＦ_２Ｏ（ＣＦ_２ＣＦ_２Ｏ）_ｈ（ＣＦ_２Ｏ）_ｉＣＦ_２ＣＨ_２ＯＨで表される化合物の代わりに、ＨＯＣＨ_２ＣＦ_２ＣＦ_２Ｏ（ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２Ｏ）_ｊＣＦ_２ＣＦ_２ＣＨ_２ＯＨ（式中の平均重合度を示すｊは４．５である。）で表される化合物（数平均分子量１０００、分子量分布１．１）を用いたこと以外は実施例１と同様な操作を行い、化合物（ＢＫ）（式（ＢＫ）中の２つのＲｆ_２は、上記式（５－２）で表されるＰＦＰＥ鎖である。２つのＲｆ_２において、平均重合度を示すｊは４．５を表す。）を３．４８ｇ得た。

　得られた化合物（ＢＫ）の^１Ｈ－ＮＭＲおよび^１９Ｆ－ＮＭＲ測定を行い、以下の結果により構造を同定した。
^１Ｈ－ＮＭＲ（ａｃｅｔｏｎｅ－Ｄ_６）：δ［ｐｐｍ］＝１．６５－１．８５（４Ｈ）、３．４０－３．８５（３２Ｈ）、３．８５－４．１０（４Ｈ）
^１９Ｆ－ＮＭＲ（ａｃｅｔｏｎｅ－Ｄ_６）：δ［ｐｐｍ］＝－８４．０～－８３．０（３６Ｆ）、－８６．４（８Ｆ）、－１２４．３（８Ｆ）、－１３０．０～－１２９．０（１８Ｆ）

［実施例３２］
　以下に示す方法により、上記式（ＢＬ）で表される化合物を得た。
　ＨＯＣＨ_２ＣＦ_２Ｏ（ＣＦ_２ＣＦ_２Ｏ）_ｈ（ＣＦ_２Ｏ）_ｉＣＦ_２ＣＨ_２ＯＨで表される化合物の代わりに、ＨＯＣＨ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２Ｏ（ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２Ｏ）_ｋＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＨ_２ＯＨ（式中の平均重合度を示すｋは３．０である。）で表される化合物（数平均分子量１０００、分子量分布１．１）を用いたこと以外は実施例１と同様な操作を行い、化合物（ＢＬ）（式（ＢＬ）中のＲｆ_３は、上記式（５－３）で表されるＰＦＰＥ鎖である。Ｒｆ_３において、平均重合度を示すｋは３．０を表す。）を３．３８ｇ得た。

　得られた化合物（ＢＬ）の^１Ｈ－ＮＭＲおよび^１９Ｆ－ＮＭＲ測定を行い、以下の結果により構造を同定した。
^１Ｈ－ＮＭＲ（ａｃｅｔｏｎｅ－Ｄ_６）：δ［ｐｐｍ］＝１．６５－１．８５（４Ｈ）、３．４０－３．８５（３２Ｈ）、３．８５－４．１０（４Ｈ）
^１９Ｆ－ＮＭＲ（ａｃｅｔｏｎｅ－Ｄ_６）：δ［ｐｐｍ］＝－８４．０～－８３．０（３２Ｆ）、－１２２．５（８Ｆ）、－１２６．０（２４Ｆ）、－１２９．０～－１２８．０（８Ｆ）

［実施例３３］
　以下に示す方法により、上記式（ＣＡ）で表される化合物を得た。
　ＨＯＣＨ_２ＣＦ_２Ｏ（ＣＦ_２ＣＦ_２Ｏ）_ｈ（ＣＦ_２Ｏ）_ｉＣＦ_２ＣＨ_２ＯＨ（式中の平均重合度を示すｈは４．５であり、平均重合度を示すｉは４．５である。）で表される化合物（数平均分子量１０００、分子量分布１．１）と、エピブロモヒドリン（第２原料化合物）とを反応させて、中間体化合物３ａとして下記式（１０－７）で表される化合物を得た。

（式（１０－７）中のＲｆ_１は、上記式（５－１）で表されるＰＦＰＥ鎖である。Ｒｆ_１において、平均重合度を示すｈは４．５を表し、平均重合度を示すｉは４，５を表す。）

　続いて、実施例１における式（１０－１）で表される化合物とエピブロモヒドリンとの反応において、エピブロモヒドリンの代わりに中間体化合物３ａである式（１０－７）で表される化合物を用いたこと以外は実施例１と同様な操作を行い、化合物（ＣＡ）（式（ＣＡ）中の３つのＲｆ_１は、上記式（５－１）で表されるＰＦＰＥ鎖である。３つのＲｆ_１において、平均重合度を示すｈは４．５を表し、平均重合度を示すｉは４．５を表す。）を４．７５ｇ得た。

　得られた化合物（ＣＡ）の^１Ｈ－ＮＭＲおよび^１９Ｆ－ＮＭＲ測定を行い、以下の結果により構造を同定した。
^１Ｈ－ＮＭＲ（ａｃｅｔｏｎｅ－Ｄ_６）：δ［ｐｐｍ］＝１．６５－１．８５（４Ｈ）、３．４０－３．８５（３８Ｈ）、３．８５－４．１０（１２Ｈ）
^１９Ｆ－ＮＭＲ（ａｃｅｔｏｎｅ－Ｄ_６）：δ［ｐｐｍ］＝－５５．５～－５１．５（２７Ｆ）、－７８．５（６Ｆ）、－８０．５（６Ｆ）、－９１．０～－８８．５（５４Ｆ）

［実施例３４］
　以下に示す方法により、上記式（ＣＢ）で表される化合物を得た。
　実施例１において式（１０－１）で表される化合物を製造する際に、式（６－１）で表される化合物の代わりに、式（６－５）で表される化合物（第１原料化合物）を用いたこと以外は実施例３３と同様な操作を行い、化合物（ＣＢ）（式（ＣＢ）中の３つのＲｆ_１は、上記式（５－１）で表されるＰＦＰＥ鎖である。３つのＲｆ_１において、平均重合度を示すｈは４．５を表し、平均重合度を示すｉは４．５を表す。）を４．５１ｇ得た。

　得られた化合物（ＣＢ）の^１Ｈ－ＮＭＲおよび^１９Ｆ－ＮＭＲ測定を行い、以下の結果により構造を同定した。
^１Ｈ－ＮＭＲ（ａｃｅｔｏｎｅ－Ｄ_６）：δ［ｐｐｍ］＝１．６５－１．８５（４Ｈ）、３．４０－３．８５（３８Ｈ）、３．８５－４．１０（１２Ｈ）
^１９Ｆ－ＮＭＲ（ａｃｅｔｏｎｅ－Ｄ_６）：δ［ｐｐｍ］＝－５５．５～－５１．５（２７Ｆ）、－７８．５（６Ｆ）、－８０．５（６Ｆ）、－９１．０～－８８．５（５４Ｆ）

［実施例３５］
　以下に示す方法により、上記式（ＣＣ）で表される化合物を得た。
　実施例１において式（１０－１）で表される化合物を製造する際に、式（６－１）で表される化合物の代わりに、式（６－８）で表される化合物（第１原料化合物）を用いたこと以外は実施例３３と同様な操作を行い、化合物（ＣＣ）（式（ＣＣ）中の３つのＲｆ_１は、上記式（５－１）で表されるＰＦＰＥ鎖である。３つのＲｆ_１において、平均重合度を示すｈは４．５を表し、平均重合度を示すｉは４．５を表す。）を４．１５ｇ得た。

　得られた化合物（ＣＣ）の^１Ｈ－ＮＭＲおよび^１９Ｆ－ＮＭＲ測定を行い、以下の結果により構造を同定した。
^１Ｈ－ＮＭＲ（ａｃｅｔｏｎｅ－Ｄ_６）：δ［ｐｐｍ］＝１．６５－１．８５（１２Ｈ）、３．４０－３．８５（３０Ｈ）、３．８５－４．１０（１２Ｈ）
^１９Ｆ－ＮＭＲ（ａｃｅｔｏｎｅ－Ｄ_６）：δ［ｐｐｍ］＝－５５．５～－５１．５（２７Ｆ）、－７８．５（６Ｆ）、－８０．５（６Ｆ）、－９１．０～－８８．５（５４Ｆ）

［実施例３６］
　以下に示す方法により、上記式（ＣＤ）で表される化合物を得た。
　実施例１において式（１０－１）で表される化合物を製造する際に、式（６－１）で表される化合物の代わりに、式（６－１０）で表される化合物（第１原料化合物）を用いたこと以外は実施例３３と同様な操作を行い、化合物（ＣＤ）（式（ＣＤ）中の３つのＲｆ_１は、上記式（５－１）で表されるＰＦＰＥ鎖である。３つのＲｆ_１において、平均重合度を示すｈは４．５を表し、平均重合度を示すｉは４．５を表す。）を４．３６ｇ得た。　　　
　得られた化合物（ＣＤ）の^１Ｈ－ＮＭＲおよび^１９Ｆ－ＮＭＲ測定を行い、以下の結果により構造を同定した。
^１Ｈ－ＮＭＲ（ａｃｅｔｏｎｅ－Ｄ_６）：δ［ｐｐｍ］＝１．６５－１．８５（８Ｈ）、３．４０－３．８５（４６Ｈ）、３．８５－４．１０（１２Ｈ）
^１９Ｆ－ＮＭＲ（ａｃｅｔｏｎｅ－Ｄ_６）：δ［ｐｐｍ］＝－５５．５～－５１．５（２７Ｆ）、－７８．５（６Ｆ）、－８０．５（６Ｆ）、－９１．０～－８８．５（５４Ｆ）

［実施例３７］
　以下に示す方法により、上記式（ＣＥ）で表される化合物を得た。
　ＨＯＣＨ_２ＣＦ_２Ｏ（ＣＦ_２ＣＦ_２Ｏ）_ｈ（ＣＦ_２Ｏ）_ｉＣＦ_２ＣＨ_２ＯＨ（式中の平均重合度を示すｈは４．５であり、平均重合度を示すｉは４．５である。）で表される化合物（数平均分子量１０００、分子量分布１．１）と、アリルグリシジルエーテルを反応させた。反応により生成した化合物の水酸基を、ジヒドロピランを用いて保護した後、化合物の有する二重結合をｍＣＰＢＡで酸化することにより、中間体化合物３ａとして下記式（１０－８）で表される化合物を得た。

（式（１０－８）中のＲｆ_１は、上記式（５－１）で表されるＰＦＰＥ鎖である。Ｒｆ_１において、平均重合度を示すｈは４．５を表し、平均重合度を示すｉは４．５を表す。ＴＨＰはテトラヒドロピラニル基を表す。）

　続いて、実施例１における式（１０－１）で表される化合物とエピブロモヒドリンとの反応において、エピブロモヒドリンの代わりに中間体化合物３ａである式（１０－８）で表される化合物を用いたこと以外は実施例１と同様な操作を行い、化合物（ＣＥ）（式（ＣＥ）中の３つのＲｆ_１は、上記式（５－１）で表されるＰＦＰＥ鎖である。３つのＲｆ_１において、平均重合度を示すｈは４．５を表し、平均重合度を示すｉは４．５を表す。）を４．５６ｇ得た。

　得られた化合物（ＣＥ）の^１Ｈ－ＮＭＲおよび^１９Ｆ－ＮＭＲ測定を行い、以下の結果により構造を同定した。
^１Ｈ－ＮＭＲ（ａｃｅｔｏｎｅ－Ｄ_６）：δ［ｐｐｍ］＝１．６５－１．８５（４Ｈ）、３．４０－３．８５（５０Ｈ）、３．８５－４．１０（１２Ｈ）
^１９Ｆ－ＮＭＲ（ａｃｅｔｏｎｅ－Ｄ_６）：δ［ｐｐｍ］＝－５５．５～－５１．５（２７Ｆ）、－７８．５（６Ｆ）、－８０．５（６Ｆ）、－９１．０～－８８．５（５４Ｆ）

［実施例３８］
　以下に示す方法により、上記式（ＣＦ）で表される化合物を得た。
　アリルグリシジルエーテルの代わりに、１，２－エポキシ－５－ヘキセンを用いたこと以外は実施例３７と同様な操作を行い、化合物（ＣＦ）（式（ＣＦ）中の３つのＲｆ_１は、上記式（５－１）で表されるＰＦＰＥ鎖である。３つのＲｆ_１において、平均重合度を示すｈは４．５を表し、平均重合度を示すｉは４．５を表す。）を３．８７ｇ得た。

　得られた化合物（ＣＦ）の^１Ｈ－ＮＭＲおよび^１９Ｆ－ＮＭＲ測定を行い、以下の結果により構造を同定した。
^１Ｈ－ＮＭＲ（ａｃｅｔｏｎｅ－Ｄ_６）：δ［ｐｐｍ］＝１．６５－１．８５（１２Ｈ）、３．４０－３．８５（４２Ｈ）、３．８５－４．１０（１２Ｈ）
^１９Ｆ－ＮＭＲ（ａｃｅｔｏｎｅ－Ｄ_６）：δ［ｐｐｍ］＝－５５．５～－５１．５（２７Ｆ）、－７８．５（６Ｆ）、－８０．５（６Ｆ）、－９１．０～－８８．５（５４Ｆ）

［実施例３９］
　以下に示す方法により、上記式（ＤＡ）で表される化合物を得た。
　ＨＯＣＨ_２ＣＦ_２Ｏ（ＣＦ_２ＣＦ_２Ｏ）_ｈ（ＣＦ_２Ｏ）_ｉＣＦ_２ＣＨ_２ＯＨ（式中の平均重合度を示すｈは４．５であり、平均重合度を示すｉは４．５である。）で表される化合物の代わりに、ＨＯＣＨ_２ＣＦ_２Ｏ（ＣＦ_２ＣＦ_２Ｏ）_ｈ（ＣＦ_２Ｏ）_ｉＣＦ_２ＣＨ_２ＯＨ（式中の平均重合度を示すｈは７．０であり、平均重合度を示すｉは０である。）で表される化合物を用いたこと以外は実施例１と同様な操作を行い、化合物（ＤＡ）（式（ＤＡ）中の２つのＲｆ_１は、上記式（５－１）で表されるＰＦＰＥ鎖である。２つのＲｆ_１において、平均重合度を示すｈは７．０を表し、平均重合度を示すｉは０を表す。）を３．３１ｇ得た。
　得られた化合物（ＤＡ）の^１Ｈ－ＮＭＲおよび^１９Ｆ－ＮＭＲ測定を行い、以下の結果により構造を同定した。
^１Ｈ－ＮＭＲ（ａｃｅｔｏｎｅ－Ｄ_６）：δ［ｐｐｍ］＝１．６５－１．８５（４Ｈ）、３．４０－３．８５（３２Ｈ）、３．８５－４．１０（８Ｈ）
^１９Ｆ－ＮＭＲ（ａｃｅｔｏｎｅ－Ｄ_６）：δ［ｐｐｍ］＝－７８．５（８Ｆ）、－９１．０～－８８．５（５６Ｆ）

［実施例４０］
　以下に示す方法により、上記式（ＤＢ）で表される化合物を得た。
　式（６－１）で表される化合物の代わりに、式（６－５）で表される化合物を用いたこと以外は実施例３９と同様な操作を行い、化合物（ＤＢ）（式（ＤＢ）中の２つのＲｆ_１は、上記式（５－１）で表されるＰＦＰＥ鎖である。２つのＲｆ_１において、平均重合度を示すｈは７．０を表し、平均重合度を示すｉは０を表す。）を３．８１ｇ得た。
　得られた化合物（ＤＢ）の^１Ｈ－ＮＭＲおよび^１９Ｆ－ＮＭＲ測定を行い、以下の結果により構造を同定した。
^１Ｈ－ＮＭＲ（ａｃｅｔｏｎｅ－Ｄ_６）：δ［ｐｐｍ］＝１．６５－１．８５（４Ｈ）、３．４０－３．８５（３２Ｈ）、３．８５－４．１０（８Ｈ）
^１９Ｆ－ＮＭＲ（ａｃｅｔｏｎｅ－Ｄ_６）：δ［ｐｐｍ］＝－７８．５（８Ｆ）、－９１．０～－８８．５（５６Ｆ）

［実施例４１］
　以下に示す方法により、上記式（ＤＣ）で表される化合物を得た。
　式（６－１）で表される化合物の代わりに、式（６－５）で表される化合物を用いたこと以外は実施例３１と同様な操作を行い、化合物（ＤＣ）（式（ＤＣ）中の２つのＲｆ_２は、上記式（５－２）で表されるＰＦＰＥ鎖である。２つのＲｆ_２において、平均重合度を示すｊは４．５を表す。）を３．６１ｇ得た。
　得られた化合物（ＤＣ）の^１Ｈ－ＮＭＲおよび^１９Ｆ－ＮＭＲ測定を行い、以下の結果により構造を同定した。
^１Ｈ－ＮＭＲ（ａｃｅｔｏｎｅ－Ｄ_６）：δ［ｐｐｍ］＝１．６５－１．８５（４Ｈ）、３．４０－３．８５（３２Ｈ）、３．８５－４．１０（４Ｈ）
^１９Ｆ－ＮＭＲ（ａｃｅｔｏｎｅ－Ｄ_６）：δ［ｐｐｍ］＝－８４．０～－８３．０（３６Ｆ）、－８６．４（８Ｆ）、－１２４．３（８Ｆ）、－１３０．０～－１２９．０（１８Ｆ）

［実施例４２］
　以下に示す方法により、上記式（ＤＤ）で表される化合物を得た。
　エピブロモヒドリンの代わりに、式（８－６）で表される化合物（第２原料化合物）を用いたこと以外は実施例４１と同様な操作を行い、化合物（ＤＤ）（式（ＤＤ）中の２つのＲｆ_２は、上記式（５－２）で表されるＰＦＰＥ鎖である。２つのＲｆ_２において、平均重合度を示すｊは４．５を表す。）を３．４２ｇ得た。
　得られた化合物（ＤＤ）の^１Ｈ－ＮＭＲおよび^１９Ｆ－ＮＭＲ測定を行い、以下の結果により構造を同定した。
^１Ｈ－ＮＭＲ（ａｃｅｔｏｎｅ－Ｄ_６）：δ［ｐｐｍ］＝１．６５－１．８５（６Ｈ）、３．４０－３．８５（３８Ｈ）、３．８５－４．１０（８Ｈ）
^１９Ｆ－ＮＭＲ（ａｃｅｔｏｎｅ－Ｄ_６）：δ［ｐｐｍ］＝－８４．０～－８３．０（３６Ｆ）、－８６．４（８Ｆ）、－１２４．３（８Ｆ）、－１３０．０～－１２９．０（１８Ｆ）

［実施例４３］
　以下に示す方法により、上記式（ＤＥ）で表される化合物を得た。
　エピブロモヒドリンの代わりに、式（８－１２）で表される化合物（第２原料化合物）を用いたこと以外は実施例４１と同様な操作を行い、化合物（ＤＥ）（式（ＤＥ）中の２つのＲｆ_２は、上記式（５－２）で表されるＰＦＰＥ鎖である。２つのＲｆ_２において、平均重合度を示すｊは４．５を表す。）を３．７１ｇ得た。
　式（８－１２）で表される化合物は、５－ヘキセン－１－オールとエピブロモヒドリンとを反応させた後、ビニル基をｍＣＰＢＡで酸化することにより合成した。
　得られた化合物（ＤＥ）の^１Ｈ－ＮＭＲおよび^１９Ｆ－ＮＭＲ測定を行い、以下の結果により構造を同定した。
^１Ｈ－ＮＭＲ（ａｃｅｔｏｎｅ－Ｄ_６）：δ［ｐｐｍ］＝１．６５－１．８５（１０Ｈ）、３．４０－３．８５（３８Ｈ）、３．８５－４．１０（８Ｈ）
^１９Ｆ－ＮＭＲ（ａｃｅｔｏｎｅ－Ｄ_６）：δ［ｐｐｍ］＝－８４．０～－８３．０（３６Ｆ）、－８６．４（８Ｆ）、－１２４．３（８Ｆ）、－１３０．０～－１２９．０（１８Ｆ）

［実施例４４］
　以下に示す方法により、上記式（ＤＦ）で表される化合物を得た。
　窒素ガス雰囲気下で１００ｍＬナスフラスコにＨＯＣＨ_２ＣＦ_２ＣＦ_２Ｏ（ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２Ｏ）_ｊＣＦ_２ＣＦ_２ＣＨ_２ＯＨ（式中の平均重合度を示すｊは４．５である。）で表される化合物（数平均分子量１０００、分子量分布１．１）１２ｇと、上記式（６－２４）で表される化合物１．８１ｇと、Ｎ，Ｎ－ジメチルホルムアミド２０ｍＬとを仕込み、室温で均一になるまで撹拌し、混合物とした。この混合物に炭酸セシウム５．５１ｇを加え、５０℃で１６時間撹拌して反応させた。
　式（６－２４）で表される化合物は、１，２，６－ヘキサントリオールの１，２－ジオール部位をアセトンにより保護した後、６位の水酸基と塩化パラトルエンスルホニルとを反応させることにより合成した。
　反応後に得られた反応生成物を２５℃に冷却し、水１００ｍＬを入れた分液漏斗に移し、酢酸エチル１００ｍＬで３回抽出した。有機層を水洗し、無水硫酸ナトリウムによって脱水した。乾燥剤を濾別した後、濾液を濃縮し、残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーにて精製し、中間体化合物１として下記式（１０－９）で示される化合物６．０４ｇを得た。

（式（１０－９）中のＲｆ_２は、上記式（５－２）で表されるＰＦＰＥ鎖である。Ｒｆ_２において、平均重合度を示すｊは４．５を表す。）
　次に、窒素ガス雰囲気下で１００ｍＬナスフラスコに、上記で得られた中間体化合物１である式（１０－９）で示される化合物６．０４ｇと、式（８－１２）で示される化合物（第２原料化合物）０．４５ｇと、ｔ－ブタノール１０ｍＬとを仕込み、室温で均一になるまで撹拌した。この均一の液にカリウムｔｅｒｔ－ブトキシドを０．７２ｇ加え、７０℃で２３時間撹拌して反応させた。
　反応後に得られた反応液を室温に戻し、１０％塩化水素・メタノール溶液（塩化水素－メタノール試薬（５－１０％）東京化成工業株式会社製）１０ｇを加え、室温で４時間撹拌した。その後、反応液を飽和重曹水２５ｍＬが入った分液漏斗に少しずつ移し、酢酸エチル５０ｍＬで２回抽出した。有機層を食塩水２５ｍＬ、飽和重曹水２５ｍＬ、食塩水２５ｍＬの順で洗浄し、無水硫酸ナトリウムによる脱水を行った。乾燥剤を濾別後、濾液を濃縮し、残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーにて精製して、化合物（ＤＦ）（式（ＤＦ）中の２つのＲｆ_２は、上記式（５－２）で表されるＰＦＰＥ鎖である。２つのＲｆ_２において、平均重合度を示すｊは４．５を表す。）を３．３１ｇ得た。
　得られた化合物（ＤＦ）の^１Ｈ－ＮＭＲおよび^１９Ｆ－ＮＭＲ測定を行い、以下の結果により構造を同定した。
^１Ｈ－ＮＭＲ（ａｃｅｔｏｎｅ－Ｄ_６）：δ［ｐｐｍ］＝１．６５－１．８５（１８Ｈ）、３．４０－３．８５（２６Ｈ）、３．８５－４．１０（８Ｈ）
^１９Ｆ－ＮＭＲ（ａｃｅｔｏｎｅ－Ｄ_６）：δ［ｐｐｍ］＝－８４．０～－８３．０（３６Ｆ）、－８６．４（８Ｆ）、－１２４．３（８Ｆ）、－１３０．０～－１２９．０（１８Ｆ）

［実施例４５］
　以下に示す方法により、上記式（ＤＧ）で表される化合物を得た。
　式（８－１２）で表される化合物の代わりに、上記式（８－１）で表されるエピブロモヒドリンを用い、式（６－２４）で表される化合物の代わりに、式（６－２５）で表される化合物を用いたこと以外は実施例４４と同様な操作を行い、化合物（ＤＧ）（式（ＤＧ）中の２つのＲｆ_２は、上記式（５－２）で表されるＰＦＰＥ鎖である。２つのＲｆ_２において、平均重合度を示すｊは４．５を表す。）を３．３６ｇ得た。
　式（６－２５）で表される化合物は、以下の方法により合成した。まず、５－ヘキセン－１－オールの水酸基を、ジヒドロピランを用いて保護した後、ｍ－クロロ過安息香酸でアルケニル基を酸化した。その後、得られた化合物にソルケタールを反応させ、生成した化合物の有する２級水酸基を、クロロメチルメチルエーテルを用いて保護した。得られた下記式（６－２５Ａ）で表される化合物に酸を作用させてＴＨＰ基を選択的に脱保護したのち、１級水酸基を塩化パラトルエンスルホニルと反応させ、式（６－２５）で表される化合物を得た。
　ＴＨＰ基の選択的な脱保護は、式（６－２５Ａ）で表される化合物９．０９ｇ（２４．２ｍｍｏｌ）と、２－プロパノール４０ｇとアセトン４０ｇとを混合してなる混合溶媒とを混合してなる混合物に、酸触媒であるｐ－トルエンスルホン酸ピリジニウム１．２１ｇ（４．８３ｍｍｏｌ）を加え、空気雰囲気中、反応温度５５℃で７時間撹拌することで行った。

　得られた化合物（ＤＧ）の^１Ｈ－ＮＭＲおよび^１９Ｆ－ＮＭＲ測定を行い、以下の結果により構造を同定した。
^１Ｈ－ＮＭＲ（ａｃｅｔｏｎｅ－Ｄ_６）：δ［ｐｐｍ］＝１．６５－１．８５（１２Ｈ）、３．４０－３．８５（３２Ｈ）、３．８５－４．１０（８Ｈ）
^１９Ｆ－ＮＭＲ（ａｃｅｔｏｎｅ－Ｄ_６）：δ［ｐｐｍ］＝－８４．０～－８３．０（３６Ｆ）、－８６．４（８Ｆ）、－１２４．３（８Ｆ）、－１３０．０～－１２９．０（１８Ｆ）

［実施例４６］
　以下に示す方法により、上記式（ＤＨ）で表される化合物を得た。
　ＨＯＣＨ_２ＣＦ_２Ｏ（ＣＦ_２ＣＦ_２Ｏ）_ｈ（ＣＦ_２Ｏ）_ｉＣＦ_２ＣＨ_２ＯＨで表される化合物の代わりに、ＨＯＣＨ_２ＣＦ_２ＣＦ_２Ｏ（ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２Ｏ）_ｊＣＦ_２ＣＦ_２ＣＨ_２ＯＨ（式中の平均重合度を示すｊは４．５である。）で表される化合物（数平均分子量１０００、分子量分布１．１）を用いたこと以外は実施例３４と同様な操作を行い、化合物（ＤＨ）（式（ＤＨ）中の３つのＲｆ_２は、上記式（５－２）で表されるＰＦＰＥ鎖である。３つのＲｆ_２において、平均重合度を示すｊは４．５を表す。）を３．２１ｇ得た。
　得られた化合物（ＤＨ）の^１Ｈ－ＮＭＲおよび^１９Ｆ－ＮＭＲ測定を行い、以下の結果により構造を同定した。
^１Ｈ－ＮＭＲ（ａｃｅｔｏｎｅ－Ｄ_６）：δ［ｐｐｍ］＝１．６５－１．８５（４Ｈ）、３．４０－３．８５（３８Ｈ）、３．８５－４．１０（１２Ｈ）
^１９Ｆ－ＮＭＲ（ａｃｅｔｏｎｅ－Ｄ_６）：δ［ｐｐｍ］＝－８４．０～－８３．０（５４Ｆ）、－８６．４（１２Ｆ）、－１２４．３（１２Ｆ）、－１３０．０～－１２９．０（２７Ｆ）

　このようにして得られた実施例１～４６の化合物（ＡＡ）～（ＡＴ）、（ＢＡ）～（ＢＬ）、（ＣＡ）～（ＣＦ）、（ＤＡ）～（ＤＨ）を、それぞれ式（１）に当てはめたときのｘ、Ｒ^１、Ｒ^２、Ｒ^３、Ｒ^４の構造を表１～表３に示す。

［比較例１］
　下記式（ＺＡ）で表される化合物を、特許文献１に記載の方法で合成した。

（式（ＺＡ）中の２つのＲｆ_１は、上記式（５－１）で表されるＰＦＰＥ鎖である。２つのＲｆ_１において、平均重合度を示すｈは７．０を表し、平均重合度を示すｉは０を表す。）

［比較例２］
　下記式（ＺＢ）で表される化合物を、特許文献２に記載の方法で合成した。

（式（ＺＢ）中の２つのＲｆ_１は、上記式（５－１）で表されるＰＦＰＥ鎖である。２つのＲｆ_１において、平均重合度を示すｈは４．５を表し、平均重合度を示すｉは４．５を表す。）

［比較例３］
　下記式（ＺＣ）で表される化合物を、特許文献３に記載の方法で合成した。

（式（ＺＣ）中の２つのＲｆ_１は、上記式（５－１）で表されるＰＦＰＥ鎖である。２つのＲｆ_１において、平均重合度を示すｈは４．５を表し、平均重合度を示すｉは４．５を表す。）

［比較例４］
　下記式（ＺＤ）で表される化合物を、特許文献４に記載の方法で合成した。

（式（ＺＤ）中の２つのＲｆ_２は、上記式（５－２）で表されるＰＦＰＥ鎖である。２つのＲｆ_２において、平均重合度を示すｊは４．５を表す。）

［比較例５］
　下記式（ＺＥ）で表される化合物を、特許文献５に記載の方法で合成した。

（式（ＺＥ）中の３つのＲｆ_１は、上記式（５－１）で表されるＰＦＰＥ鎖である。３つのＲｆ_１において、平均重合度を示すｈは４．５を表し、平均重合度を示すｉは４．５を表す。）

　このようにして得られた実施例１～４６および比較例１～５の化合物の数平均分子量（Ｍｎ）を、上記の方法により測定した。その結果を表４～表６に示す。

　次に、以下に示す方法により、実施例１～４６および比較例１～５で得られた化合物を用いて潤滑層形成用溶液を調製した。そして、得られた潤滑層形成用溶液を用いて、以下に示す方法により、磁気記録媒体の潤滑層を形成し、実施例１～４６および比較例１～５の磁気記録媒体を得た。

「潤滑層形成用溶液」
　実施例１～４６および比較例１～５で得られた含フッ素エーテル化合物を、それぞれフッ素系溶媒であるバートレル（登録商標）ＸＦ（商品名、三井デュポンフロロケミカル社製）に溶解し、保護層上に塗布した時の膜厚が９．０Å～９．５ÅになるようにバートレルＸＦで希釈し、潤滑層形成用溶液とした。

「磁気記録媒体」
　直径６５ｍｍの基板上に、付着層と軟磁性層と第１下地層と第２下地層と磁性層と保護層とを順次設けた磁気記録媒体を用意した。保護層は、炭素からなるものとした。
　保護層までの各層の形成された磁気記録媒体の保護層上に、実施例１～４６および比較例１～５の潤滑層形成用溶液を、ディップ法により塗布した。なお、ディップ法は、浸漬速度１０ｍｍ／ｓｅｃ、浸漬時間３０ｓｅｃ、引き上げ速度１．２ｍｍ／ｓｅｃの条件で行った。

　その後、潤滑層形成用溶液を塗布した磁気記録媒体を恒温槽に入れ、潤滑層形成用溶液中の溶媒を除去して保護層と潤滑層との密着性を向上させる熱処理を、１２０℃で１０分間行うことにより保護層上に潤滑層を形成し、磁気記録媒体を得た。

（膜厚測定）
　このようにして得られた実施例１～４６および比較例１～５の磁気記録媒体の有する潤滑層の膜厚を、フーリエ変換赤外分光光度計（ＦＴ－ＩＲ、商品名：Ｎｉｃｏｌｅｔ　ｉＳ５０、Ｔｈｅｒｍｏ　Ｆｉｓｈｅｒ　Ｓｃｉｅｎｔｉｆｉｃ社製）を用いて測定した。その結果を表４～表６に示す。

　次に、実施例１～４６および比較例１～５の磁気記録媒体に対して、以下に示す耐腐食性試験およびピックアップ特性試験を行った。その結果を表４～表６に示す。

［耐腐食性試験］
　磁気記録媒体を温度８５℃、相対湿度９０％の条件下に４８時間曝露した。その後、磁気記録媒体上の表面に生じた直径５μｍ以上のコロージョンスポットの数を、光学表面分析装置（ケーエルエー・テンコール株式会社製Ｃａｎｄｅｌａ７１４０）を用いて数え、以下の評価基準に基づいて評価した。

「耐腐食性の評価基準」
Ａ＋：コロージョンスポット数１００箇所未満
Ａ：コロージョンスポット数１００箇所以上、３００箇所未満
Ｂ：コロージョンスポット数３００箇所以上、５００箇所未満
Ｃ：コロージョンスポット数５００箇所以上、１０００箇所未満
Ｄ：コロージョンスポット数１０００箇所以上

［ピックアップ特性試験］
　スピンスタンドに磁気記録媒体および磁気ヘッドを装着し、常温減圧下（約２５０ｔｏｒｒ）で回転させて、１０分間磁気ヘッドを定点浮上させた。その後、磁気ヘッドの磁気記録媒体と相対する面（潤滑層の表面）を、ＥＳＣＡ（Ｅｌｅｃｔｒｏｎ　Ｓｐｅｃｔｒｏｓｃｏｐｙ　ｆｏｒ　Ｃｈｅｍｉｃａｌ　Ａｎａｌｙｓｉｓ）分析装置を用いて分析した。ＥＳＣＡ分析装置を用いた分析により得られたフッ素由来のピークの強度（信号強度（ａ.ｕ.））から、磁気ヘッドへの潤滑剤の付着量を以下に示す評価基準により評価した。

「ピックアップ特性の評価基準」
Ａ＋：信号強度１２０未満（ほとんど付着がない）
Ａ：信号強度１２０以上１８０未満（付着量が非常に少ない）
Ｂ：信号強度１８０以上３００未満（付着量が少ない）
Ｃ：信号強度３００以上１０００未満（付着量が多い）
Ｄ：信号強度１０００以上（付着量が非常に多い）

［総合評価］
　耐腐食性試験およびピックアップ特性試験の結果から、以下の基準に基づき総合評価を行った。
「総合評価基準」
Ａ：耐腐食性試験の評価およびピックアップ特性試験の評価の両方がＡ＋またはＡ
Ｂ：耐腐食性試験の評価およびピックアップ特性試験の評価の一方がＢ、もう一方がＡ＋、Ａ、またはＢ
Ｃ：耐腐食性試験の評価およびピックアップ特性試験の評価の一方がＣ、もう一方がＡ＋、Ａ、Ｂ、またはＣ
Ｄ：耐腐食性試験の評価およびピックアップ特性試験の評価の少なくとも一方がＤ

　表４～表６に示すように、パーフルオロポリエーテル鎖の末端に配置されたＲ^１およびＲ^４の少なくとも一方が、式（２－１）～（２－７）のいずれかで表される末端基である式（１）で表される含フッ素エーテル化合物（ＡＡ）～（ＡＴ）、（ＢＡ）～（ＢＬ）、（ＣＡ）～（ＣＦ）、（ＤＡ）～（ＤＨ）を用いた実施例１～４６の磁気記録媒体は、すべて耐腐食性試験およびピックアップ特性試験の評価がＡ＋、Ａ、Ｂのいずれかであり、総合評価がＡまたはＢであった。このことから、実施例１～４６の磁気記録媒体の潤滑層は、耐腐食性が良好であり、ピックアップ抑制効果が高いことが確認できた。

　特に、式（１）中のＲ^３が式（４－１）で表される連結基でｕ１およびｕ２が０であって、Ｒ^１およびＲ^４が式（２－３）、（２－５）、（２－６）、（２－７）で表される末端基である化合物（ＡＦ）、（ＡＧ）、（ＡＬ）、（ＡＭ）、（ＣＣ）、（ＤＧ）を用いた実施例６、７、１２、１３、３５、４５では、耐腐食性試験の評価がＡ＋であり、良好な結果を示した。このことから、式（２－３）、（２－５）、（２－６）、（２－７）で表される末端基を有する含フッ素エーテル化合物は、より耐腐食性の高い潤滑層を形成できることが確認できた。

　また、式（１）中のＲ^３が式（４－１）で表される連結基でｕ１およびｕ２が０であって、Ｒ^１およびＲ^４が式（２－１）、（２－２）、（２－４）で表される末端基である化合物（ＡＡ）～（ＡＥ）、（ＡＨ）～（ＡＫ）、（ＢＫ）、（ＢＬ）、（ＣＡ）、（ＣＢ）、（ＣＤ）、（ＤＡ）～（ＤＣ）、（ＤＨ）を用いた実施例１～５、８～１１、３１～３４、３６、３９～４１、４６では、ピックアップ特性試験の評価がＡ＋であり、良好な結果を示した。このことから、式（２－１）、（２－２）、（２－４）で表される末端基を有する含フッ素エーテル化合物は、ピックアップ耐性のより優れた潤滑層を形成できることが確認できた。

　また、Ｒ^１およびＲ^４が式（２－１）で表される末端基でａが１でｂが１である場合、Ｒ^３が式（４－１）で表される連結基でｕ１が０でｕ２が１である化合物（ＢＡ）、およびＲ^３が式（４－３）で表される連結基でｗが４である化合物（ＢＤ）、ｗが２である化合物（ＣＦ）を用いた実施例２１、２４、３８において、耐腐食性試験の評価がＡ＋となり、良好な結果を示した。
　この効果は、式（４－１）、（４－３）で表される連結基が、水酸基の数が２以下であって、連結基の両末端以外にエーテル結合を有さず、極性基およびエーテル酸素原子のいずれにも結合しない炭素原子を含むことから、より優れた疎水性を有する潤滑層が形成されたことによるものであると推察される。

　これに対し、表６に示すように、化合物（ＺＡ）～（ＺＥ）を用いた比較例１～５では、耐腐食性試験およびピックアップ特性試験のすべての評価がＢ、Ｃ、Ｄのいずれかであり、総合評価はＣ、Ｄのいずれかであった。

　より詳細には、比較例１で使用した化合物（ＺＡ）、および比較例３で使用した化合物（ＺＣ）は、両末端に１，２－ジオール構造が配置されているものの、末端基が極性基およびエーテル酸素原子のいずれにも結合しない炭素原子を含まない。このため、化合物（ＺＡ）、（ＺＣ）を用いた潤滑層では、疎水性が十分に得られず、腐食の原因である水を取り込みやすいものとなり、比較例１および比較例３における耐腐食性試験の結果がＤになったものと考えられる。

　比較例２で使用した化合物（ＺＢ）および比較例５で使用した化合物（ＺＥ）は、両末端基にそれぞれ含まれる２つの水酸基間に、極性基およびエーテル酸素原子のいずれにも結合しない炭素原子が含まれているものであり、１，２－ジオール構造を有さない。このため、化合物（ＺＢ）および（ＺＥ）では、全ての水酸基が隣接する水酸基と十分に離れて配置されており、全ての水酸基が保護層と相互作用しやすいものとされている。その結果、含フッ素エーテル化合物の分子間相互作用が小さく、潤滑層に磁気ヘッドが衝突した際に、潤滑層が保護層上から磁気ヘッドに移動しやすいものとなり、比較例２および比較例５のピックアップ特性試験の評価がＣになったものと考えられる。

　比較例４で使用した化合物（ＺＤ）は、両末端に１，２－ジオール構造が配置されているものの、末端基が極性基およびエーテル酸素原子のいずれにも結合しない炭素原子を含まない。このため、化合物（ＺＤ）では、末端基が極性基およびエーテル酸素原子のいずれにも結合しない炭素原子を含むことに由来する適度な剛直性が得られず、１，２－ジオール構造を構成する２つの水酸基が分子内で相互作用しやすい。その結果、化合物（ＺＤ）を用いた潤滑層では、化合物中の水酸基が分子間で相互作用しにくく、潤滑層に磁気ヘッドが衝突した際に、潤滑層が保護層上から磁気ヘッドに移動しやすいものとなり、比較例４のピックアップ特性試験の評価がＤになったものと考えられる。

　本発明の含フッ素エーテル化合物を含む磁気記録媒体用潤滑剤を用いることにより、厚みが薄くても、耐腐食性が良好で、ピックアップ抑制効果の高い潤滑層を形成できる。

　１０　　磁気記録媒体
　１１　　基板
　１２　　付着層
　１３　　軟磁性層
　１４　　第１下地層
　１５　　第２下地層
　１６　　磁性層
　１７　　保護層
　１８　　潤滑層

Claims

　下記式（１）で表されることを特徴とする、含フッ素エーテル化合物。
Ｒ^１－ＣＨ_２－Ｒ^２［－ＣＨ_２－Ｒ^３－ＣＨ_２－Ｒ^２］_ｘ－ＣＨ_２－Ｒ^４　　（１）
（式（１）中、ｘは１～２の整数を表す。Ｒ^２は、パーフルオロポリエーテル鎖である。（ｘ＋１）個のＲ^２は、一部または全部が同じであっても良いし、それぞれ異なっていても良い。Ｒ^３は、極性基を１個～４個有する２価の連結基である。ｘが２である場合、２つのＲ^３は同じであっても良いし、それぞれ異なっていても良い。Ｒ^１およびＲ^４は、極性基を１個～４個有し、炭素原子数が１～５０である末端基である。Ｒ^１およびＲ^４は、同じであっても良いし、それぞれ異なっていても良い。Ｒ^１およびＲ^４のうち少なくとも一方は、下記式（２）で表される末端基である。）
－Ｏ－Ｘ－ＣＨ（ＯＨ）－ＣＨ_２ＯＨ　　（２）
（式（２）中、Ｘは、１個～２個の極性基および１個～３個のエーテル酸素原子の少なくとも１つを含んでもよい炭素原子数２～３０の２価の有機基である。Ｘは、極性基およびエーテル酸素原子のいずれにも結合しない炭素原子を少なくとも１つ含む。）
　前記式（２）で表される末端基は、下記式（２－１）～（２－７）のいずれかである、請求項１に記載の含フッ素エーテル化合物。

（式（２－１）中、ａは１～８の整数を表す。ｂは１～７の整数を表す。）
（式（２－２）中、ｃは１～７の整数を表す。）
（式（２－３）中、ｄは１～６の整数を表す。）
（式（２－４）中、ｅは１～６の整数を表す。ｅ個のＲ^ａおよびＲ^ｂは、それぞれ独立に水素原子またはメチル基を表す。）
（式（２－５）中、ｆは１～６の整数を表す。）
（式（２－６）中、ｇは１～６の整数を表す。）
（式（２－７）中、ｇ２は１～６の整数を表す。）
　前記式（１）中のＲ^１およびＲ^４は、それぞれ独立に前記式（２）で表される末端基である、請求項１または２に記載の含フッ素エーテル化合物。
　前記式（１）中のＲ^１およびＲ^４は同じである、請求項１または２に記載の含フッ素エーテル化合物。
　前記式（１）中のＲ^１およびＲ^４の一方は前記式（２）で表される末端基であり、他方は下記式（３）で表され、式（２）には該当しない末端基である、請求項１または２に記載の含フッ素エーテル化合物。

（式（３）中、ｌは１～３の整数を表す。ｌ個のｍは、それぞれ独立に１～６の整数を表す。ｌ個のｎは、それぞれ独立に１～６の整数を表す。１つの繰り返し単位において、ｍおよびｎの少なくとも一方は１である。Ｂは、極性基を１個のみ有してもよいアルキル基、炭素－炭素不飽和結合を含む有機基、または水素原子を表す。）
　前記式（１）中のＲ^１およびＲ^４の一方は前記式（２）で表される末端基であり、他方は下記式（３－１）または（３－２）で表される末端基である、請求項１または２に記載の含フッ素エーテル化合物。

（式（３－１）中、ｐは０～３の整数を表す。ｑは０～２の整数を表す。ｒは０～５の整数を表す。ｐとｒの合計値は１～５である。Ｄは、極性基、ビニル基、エチニル基、または置換基を有してもよいアリール基を表す。）
（式（３－２）中、ｓは０～２の整数を表す。ｔは１～５の整数を表す。）
　前記式（１）中のｘ個のＲ^３がそれぞれ独立に、水酸基を１個～３個有し、隣接するメチレン基と結合する両方の端部に酸素原子を有する、炭素原子数が３～５０である２価の連結基である、請求項１または２に記載の含フッ素エーテル化合物。
　前記式（１）中のｘ個のＲ^３がそれぞれ独立に、下記式（４－１）～（４－６）で表される連結基から選ばれるいずれか１種である、請求項１または２に記載の含フッ素エーテル化合物。

（式（４－１）中、ｕ１は０～６の整数を表し、ｕ２は０～６の整数を表す。ただしｕ１とｕ２の少なくとも一方は０である。式（４－１）の左側末端の酸素原子は、式（１）中のＲ^１側のメチレン基に結合し、右側末端の酸素原子は、式（１）中のＲ^４側のメチレン基に結合する。）
（式（４－２）中、ｖは１～２の整数を表す。式（４－２）の左側末端の酸素原子は、式（１）中のＲ^１側のメチレン基に結合し、右側末端の酸素原子は、式（１）中のＲ^４側のメチレン基に結合する。）
（式（４－３）中、ｗは０～６の整数を表す。式（４－３）の左側末端の酸素原子は、式（１）中のＲ^１側のメチレン基に結合し、右側末端の酸素原子は、式（１）中のＲ^４側のメチレン基に結合する。）
（式（４－４）中、ｘ１は０～５の整数を表し、ｘ２は０～５の整数を表す。ただしｘ１、ｘ２のうち少なくとも一方は１～５の整数である。式（４－４）の左側末端の酸素原子は、式（１）中のＲ^１側のメチレン基に結合し、右側末端の酸素原子は、式（１）中のＲ^４側のメチレン基に結合する。）
（式（４－５）中、ｙ１は１～５の整数を表し、ｙ２は１～５の整数を表す。式（４－５）の左側末端の酸素原子は、式（１）中のＲ^１側のメチレン基に結合し、右側末端の酸素原子は、式（１）中のＲ^４側のメチレン基に結合する。）
（式（４－６）中、ｚは１～６の整数を表す。ｚ個のＲ^ｃおよびＲ^ｄはそれぞれ独立に水素原子、フッ素原子またはメチル基を表す。式（４－６）の左側末端の酸素原子は、式（１）中のＲ^１側のメチレン基に結合し、右側末端の酸素原子は、式（１）中のＲ^４側のメチレン基に結合する。）
　前記式（１）におけるＲ^１の有する極性基と、Ｒ^４の有する極性基と、ｘ個のＲ^３の有する極性基との合計数が６～１２である、請求項１または２に記載の含フッ素エーテル化合物。
　前記式（１）における（ｘ＋１）個のＲ^２が、それぞれ独立に、下記式（５）で表されるパーフルオロポリエーテル鎖である、請求項１または２に記載の含フッ素エーテル化合物。
　－（ＣＦ_２）_ｗ１－Ｏ－（ＣＦ_２Ｏ）_ｗ２－（ＣＦ_２ＣＦ_２Ｏ）_ｗ３－（ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２Ｏ）_ｗ４－（ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２Ｏ）_ｗ５－（ＣＦ_２）_ｗ６－　　（５）
（式（５）中、ｗ２、ｗ３、ｗ４、ｗ５は平均重合度を示し、それぞれ独立に０～２０を表す。ただし、ｗ２、ｗ３、ｗ４、ｗ５の全てが同時に０になることはない。ｗ１、ｗ６は、ＣＦ_２の数を表す平均値であり、それぞれ独立に１～３を表す。式（５）における繰り返し単位である（ＣＦ_２Ｏ）、（ＣＦ_２ＣＦ_２Ｏ）、（ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２Ｏ）、（ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２Ｏ）の配列順序には、特に制限はない。）
　前記式（１）における（ｘ＋１）個のＲ^２が、それぞれ独立に、下記式（５－１）～（５－４）で表されるパーフルオロポリエーテル鎖から選ばれるいずれか１種である、請求項１または２に記載の含フッ素エーテル化合物。
　－ＣＦ_２－（ＯＣＦ_２ＣＦ_２）_ｈ－（ＯＣＦ_２）_ｉ－ＯＣＦ_２－　　（５－１）
（式（５－１）中、ｈおよびｉは平均重合度を示し、ｈは１～２０を表し、ｉは０～２０を表す。）
　－ＣＦ_２ＣＦ_２－（ＯＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２）_ｊ－ＯＣＦ_２ＣＦ_２－　　（５－２）
（式（５－２）中、ｊは平均重合度を示し、１～１５を表す。）
　－ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２－（ＯＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２）_ｋ－ＯＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２－　　（５－３）
（式（５－３）中、ｋは平均重合度を示し、１～１０を表す。）
　－（ＣＦ_２）_ｗ７－Ｏ－（ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２Ｏ）_ｗ８－（ＣＦ_２ＣＦ_２Ｏ）_ｗ９－（ＣＦ_２）_ｗ１０－　　（５－４）
（式（５－４）中、ｗ８、ｗ９は平均重合度を示し、それぞれ独立に１～２０を表す。ｗ７、ｗ１０は、ＣＦ_２の数を表す平均値であり、それぞれ独立に１～２を表す。）
　数平均分子量は５００～１００００の範囲内である、請求項１または２に記載の含フッ素エーテル化合物。
　請求項１または２に記載の含フッ素エーテル化合物を含むことを特徴とする磁気記録媒体用潤滑剤。
　基板上に、少なくとも磁性層と、保護層と、潤滑層とが順次設けられた磁気記録媒体であって、
　前記潤滑層は、請求項１または２に記載の含フッ素エーテル化合物を含むことを特徴とする磁気記録媒体。
　前記潤滑層の平均膜厚は、０．５ｎｍ～２．０ｎｍである、請求項１４に記載の磁気記録媒体。