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WO2024189925A1 - レーザ装置、レーザ装置の制御方法、及び電子デバイスの製造方法 - Google Patents

レーザ装置、レーザ装置の制御方法、及び電子デバイスの製造方法 Download PDF

Info

Publication number
WO2024189925A1
WO2024189925A1 PCT/JP2023/010462 JP2023010462W WO2024189925A1 WO 2024189925 A1 WO2024189925 A1 WO 2024189925A1 JP 2023010462 W JP2023010462 W JP 2023010462W WO 2024189925 A1 WO2024189925 A1 WO 2024189925A1
Authority
WO
WIPO (PCT)
Prior art keywords
laser
laser device
control value
rotation
laser light
Prior art date
Application number
PCT/JP2023/010462
Other languages
English (en)
French (fr)
Inventor
一喜 永井
陽一 佐々木
Original Assignee
ギガフォトン株式会社
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by ギガフォトン株式会社 filed Critical ギガフォトン株式会社
Priority to PCT/JP2023/010462 priority Critical patent/WO2024189925A1/ja
Publication of WO2024189925A1 publication Critical patent/WO2024189925A1/ja

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Classifications

    • H—ELECTRICITY
    • H01—ELECTRIC ELEMENTS
    • H01S—DEVICES USING THE PROCESS OF LIGHT AMPLIFICATION BY STIMULATED EMISSION OF RADIATION [LASER] TO AMPLIFY OR GENERATE LIGHT; DEVICES USING STIMULATED EMISSION OF ELECTROMAGNETIC RADIATION IN WAVE RANGES OTHER THAN OPTICAL
    • H01S3/00—Lasers, i.e. devices using stimulated emission of electromagnetic radiation in the infrared, visible or ultraviolet wave range
    • H—ELECTRICITY
    • H01—ELECTRIC ELEMENTS
    • H01S—DEVICES USING THE PROCESS OF LIGHT AMPLIFICATION BY STIMULATED EMISSION OF RADIATION [LASER] TO AMPLIFY OR GENERATE LIGHT; DEVICES USING STIMULATED EMISSION OF ELECTROMAGNETIC RADIATION IN WAVE RANGES OTHER THAN OPTICAL
    • H01S3/00—Lasers, i.e. devices using stimulated emission of electromagnetic radiation in the infrared, visible or ultraviolet wave range
    • H01S3/02—Constructional details
    • H01S3/03—Constructional details of gas laser discharge tubes
    • H01S3/036—Means for obtaining or maintaining the desired gas pressure within the tube, e.g. by gettering, replenishing; Means for circulating the gas, e.g. for equalising the pressure within the tube
    • H—ELECTRICITY
    • H01—ELECTRIC ELEMENTS
    • H01S—DEVICES USING THE PROCESS OF LIGHT AMPLIFICATION BY STIMULATED EMISSION OF RADIATION [LASER] TO AMPLIFY OR GENERATE LIGHT; DEVICES USING STIMULATED EMISSION OF ELECTROMAGNETIC RADIATION IN WAVE RANGES OTHER THAN OPTICAL
    • H01S3/00—Lasers, i.e. devices using stimulated emission of electromagnetic radiation in the infrared, visible or ultraviolet wave range
    • H01S3/02—Constructional details
    • H01S3/03—Constructional details of gas laser discharge tubes
    • H01S3/038—Electrodes, e.g. special shape, configuration or composition
    • H—ELECTRICITY
    • H01—ELECTRIC ELEMENTS
    • H01S—DEVICES USING THE PROCESS OF LIGHT AMPLIFICATION BY STIMULATED EMISSION OF RADIATION [LASER] TO AMPLIFY OR GENERATE LIGHT; DEVICES USING STIMULATED EMISSION OF ELECTROMAGNETIC RADIATION IN WAVE RANGES OTHER THAN OPTICAL
    • H01S3/00—Lasers, i.e. devices using stimulated emission of electromagnetic radiation in the infrared, visible or ultraviolet wave range
    • H01S3/10—Controlling the intensity, frequency, phase, polarisation or direction of the emitted radiation, e.g. switching, gating, modulating or demodulating
    • H01S3/13—Stabilisation of laser output parameters, e.g. frequency or amplitude
    • H01S3/131—Stabilisation of laser output parameters, e.g. frequency or amplitude by controlling the active medium, e.g. by controlling the processes or apparatus for excitation
    • H01S3/134—Stabilisation of laser output parameters, e.g. frequency or amplitude by controlling the active medium, e.g. by controlling the processes or apparatus for excitation in gas lasers

Definitions

  • the present disclosure relates to a laser device, a method for controlling a laser device, and a method for manufacturing an electronic device.
  • gas laser devices used for exposure include KrF excimer laser devices that output laser light with a wavelength of approximately 248 nm, and ArF excimer laser devices that output laser light with a wavelength of approximately 193 nm.
  • the spectral linewidth of the natural oscillation light of KrF excimer laser devices and ArF excimer laser devices is wide, at 350 to 400 pm. Therefore, if a projection lens is made of a material that transmits ultraviolet light, such as KrF and ArF laser light, chromatic aberration may occur. As a result, the resolution may decrease. Therefore, it is necessary to narrow the spectral linewidth of the laser light output from the gas laser device to a level where chromatic aberration can be ignored. For this reason, a line narrowing module (LNM) containing a narrowing element (such as an etalon or grating) may be provided inside the laser resonator of the gas laser device to narrow the spectral linewidth.
  • LNM line narrowing module
  • a gas laser device in which the spectral linewidth is narrowed is called a narrow-line gas laser device.
  • a laser device includes a laser chamber, a pair of discharge electrodes disposed within the laser chamber, a fan disposed within the laser chamber and flowing laser gas within the laser chamber between the pair of discharge electrodes, a rotation detector that detects the rotation of the fan, an adjuster that adjusts the laser light characteristics of the pulsed laser light generated in the laser chamber, and a processor that corrects a control value of the adjuster based on the repetition frequency of the pulsed laser light and a detection signal from the rotation detector, and controls the adjuster with the corrected control value.
  • a method for controlling a laser device includes, in a laser device including a laser chamber, a pair of discharge electrodes disposed within the laser chamber, a fan disposed within the laser chamber and flowing laser gas within the laser chamber between the pair of discharge electrodes, a rotation detector that detects rotation of the fan, and an adjuster that adjusts the laser light characteristics of the pulsed laser light generated in the laser chamber, the method includes correcting a control value of the adjuster based on the repetition frequency of the pulsed laser light and a detection signal from the rotation detector, and controlling the adjuster with the corrected control value.
  • a method for manufacturing an electronic device includes generating pulsed laser light using a laser apparatus including a laser chamber, a pair of discharge electrodes disposed in the laser chamber, a fan disposed in the laser chamber and flowing laser gas in the laser chamber between the pair of discharge electrodes, a rotation detector that detects rotation of the fan, an adjuster that adjusts the laser light characteristics of the pulsed laser light generated in the laser chamber, and a processor that corrects a control value of the adjuster based on the repetition frequency of the pulsed laser light and a detection signal from the rotation detector and controls the adjuster with the corrected control value, outputting the pulsed laser light to an exposure apparatus, and exposing the pulsed laser light onto a photosensitive substrate in the exposure apparatus to manufacture an electronic device.
  • FIG. 1 is a schematic diagram showing the configuration of a laser device according to a comparative example.
  • FIG. 2 is a schematic diagram showing a configuration of a part of a laser device according to a comparative example, as viewed in the ⁇ V direction.
  • FIG. 3 is a schematic diagram showing a configuration of a part of a laser device according to a comparative example when viewed in the ⁇ Z direction.
  • FIG. 4 shows a schematic configuration of a rotation detector.
  • FIG. 5 shows the disk and protrusions as viewed in the Z direction.
  • FIG. 6 is a waveform diagram showing an example of a detection signal output from the rotation detector.
  • FIG. 1 is a schematic diagram showing the configuration of a laser device according to a comparative example.
  • FIG. 2 is a schematic diagram showing a configuration of a part of a laser device according to a comparative example, as viewed in the ⁇ V direction.
  • FIG. 3 is a schematic diagram showing a configuration of a part of
  • FIG. 7 is a flowchart showing a control procedure of the laser light characteristics in the comparative example.
  • FIG. 8 is a graph showing time-series data of laser light characteristics in the comparative example.
  • FIG. 9 is a graph showing time-series data of laser light characteristics in the comparative example.
  • FIG. 10 is a graph showing the results of fast Fourier transform of the time series data of the laser light characteristics shown in FIG.
  • FIG. 11 is a diagram for explaining an acoustic wave generated inside the laser chamber.
  • FIG. 12 is a schematic diagram showing the configuration of the laser device according to the first embodiment.
  • FIG. 13 is a graph showing the fluctuation component Bfi1(t) of the laser light characteristics in the first embodiment.
  • FIG. 14 shows a first example of data stored in the parameter storage device in the first embodiment.
  • FIG. 15 shows a second example of data stored in the parameter storage device in the first embodiment.
  • FIG. 16 is a flowchart showing a control procedure for laser light characteristics in the first embodiment.
  • FIG. 17 is a flowchart showing the details of the process of calculating the control value SVb1 N+1 of the N+1th pulse.
  • FIG. 18 is a graph showing time-series data of laser light characteristics generated using the corrected control value SVb1 N+1 in the first embodiment.
  • FIG. 19 shows the equations and variables that are substituted when controlling the pulse energy, wavelength, or spectral linewidth as the laser light characteristics.
  • FIG. 20 is a graph showing the difference between the time-series data of the laser light characteristics and the fluctuation component Bfi1(t).
  • FIG. 21 is a graph showing the fluctuation component Bfi2(t) in the second embodiment.
  • FIG. 22 shows a first example of data stored in the parameter storage device in the second embodiment.
  • FIG. 23 shows a second example of data stored in the parameter storage device in the second embodiment.
  • FIG. 24 is a flowchart showing a control procedure for laser light characteristics in the second embodiment.
  • FIG. 25 is a flowchart showing details of the process of calculating the control value SVb2 N+1 of the N+1th pulse.
  • FIG. 26 is a graph showing time-series data of laser light characteristics generated using the corrected control value SVb2 N+1 in the second embodiment.
  • FIG. 27 shows the equations and variables that are substituted when controlling the pulse energy, wavelength, or spectral linewidth as laser light characteristics.
  • FIG. 28 shows a schematic configuration of an exposure device connected to a laser device.
  • Fig. 1 shows a schematic configuration of a laser apparatus 1 according to a comparative example.
  • the comparative example of the present disclosure is a form that the applicant recognizes as being known only by the applicant, and is not a publicly known example that the applicant acknowledges.
  • the laser apparatus 1 is a discharge excitation type gas laser apparatus capable of outputting a pulsed laser beam to an exposure apparatus 100.
  • the exposure apparatus 100 includes an exposure control processor 110.
  • the laser device 1 includes a laser chamber 10, a pair of discharge electrodes 11a and 11b, a power supply 13, a line narrowing module 14, a spectral adjuster 15, a monitor module 17, and a laser control processor 30.
  • the line narrowing module 14 and the spectral adjuster 15 constitute an optical resonator.
  • the laser chamber 10 is disposed in the optical path of the optical resonator.
  • the laser control processor 30 is a processing device including a memory 38 in which a control program is stored, and a CPU (central processing unit) 39 that executes the control program.
  • the laser control processor 30 is specially configured or programmed to execute various processes included in the present disclosure.
  • the laser control processor 30 corresponds to the processor in the present disclosure.
  • the direction of travel of the pulsed laser light output from the spectrum adjuster 15 is the Z direction.
  • the discharge direction between the discharge electrodes 11a and 11b is the V direction or the -V direction.
  • the Z direction and the V direction are mutually perpendicular, and the direction perpendicular to both of these is the H direction or the -H direction.
  • Figure 1 shows the configuration of the laser device 1 as viewed in the -H direction.
  • FIG. 2 shows a partial configuration of the laser device 1 according to the comparative example when viewed in the -V direction
  • FIG. 3 shows a partial configuration of the laser device 1 according to the comparative example when viewed in the -Z direction.
  • the laser chamber 10 contains discharge electrodes 11a and 11b, a cross-flow fan 21, and a heat exchanger 23. In FIG. 2, only the discharge electrode 11a is shown as the internal configuration of the laser chamber 10. Windows 10a and 10b are provided at both ends of the laser chamber 10.
  • the laser chamber 10 is filled with a laser gas containing, for example, argon gas or krypton gas as a rare gas, fluorine gas as a halogen gas, and neon gas as a buffer gas.
  • a laser gas containing fluorine gas and a buffer gas may be filled.
  • the electrical insulator 29 supports the discharge electrode 11a.
  • a plurality of conductive parts 29a are embedded in the electrical insulator 29. Each of the conductive parts 29a is electrically connected to the discharge electrode 11a.
  • the power supply device 13 includes a charger (not shown), and is connected to the discharge electrode 11a via the conductive parts 29a.
  • a return plate 10c is disposed inside the laser chamber 10.
  • the discharge electrode 11b is supported by the return plate 10c.
  • the discharge electrode 11b is electrically connected to ground potential via the return plate 10c and a conductive member of the laser chamber 10.
  • the return plate 10c has gaps on the back and front sides of the paper in FIG. 1 for the passage of laser gas.
  • the crossflow fan 21 includes a plurality of blades 21b arranged around a rotation axis Ax.
  • One end of the rotation axis Ax is supported by a bearing 10e and connected to a rotation detector 21a arranged outside the laser chamber 10.
  • the other end of the rotation axis Ax is supported by a bearing 10f and connected to a motor 22 arranged outside the laser chamber 10.
  • the crossflow fan 21 corresponds to the fan in this disclosure.
  • FIG. 4 shows a schematic configuration of the rotation detector 21a.
  • the rotation detector 21a is disposed inside a housing fixed to the bearing 10e, and includes a disk 21c supported on one end of the rotation axis Ax, and an eddy current sensor 21e fixed to the bearing 10e via the housing.
  • the disk 21c is made of metal, and includes a protrusion 21d.
  • FIG. 5 shows the disk 21c and the protrusion 21d as viewed in the Z direction.
  • the disk 21c and the protrusion 21d rotate together with the rotation axis Ax.
  • the eddy current sensor 21e generates a first pulse magnetic field.
  • an eddy current is generated inside the protrusion 21d due to the first pulse magnetic field.
  • the eddy current sensor 21e detects a second pulse magnetic field generated by the eddy current, and outputs a detection signal SIG.
  • a capacitance type sensor may be used instead of the eddy current sensor 21e.
  • FIG. 6 is a waveform diagram showing an example of the detection signal SIG output from the rotation detector 21a.
  • One pulse of the detection signal SIG is output each time the rotation axis Ax rotates once.
  • the repetition frequency of the detection signal SIG matches the rotation frequency fk of the crossflow fan 21, and the period of the detection signal SIG is 1/fk.
  • the detection signal SIG is sent to the laser control processor 30.
  • the line narrowing module 14 includes a plurality of prisms 14a and 14b and a grating 14c.
  • the prisms 14a and 14b are arranged in this order in the optical path of the light emitted from the window 10a.
  • the surfaces of the prisms 14a and 14b where the light enters and exits are both parallel to the V direction.
  • the prism 14b is supported by a rotating stage 14d.
  • the rotating stage 14d includes a driver (not shown).
  • the grating 14c is arranged in the optical path of the light transmitted through the prisms 14a and 14b.
  • the direction of the grooves of the grating 14c is parallel to the V direction.
  • the spectral conditioner 15 includes a cylindrical plano-concave lens 15a and a cylindrical plano-convex lens 15b.
  • the cylindrical plano-concave lens 15a is located between the laser chamber 10 and the cylindrical plano-convex lens 15b.
  • the convex surface of the cylindrical plano-convex lens 15b and the concave surface of the cylindrical plano-concave lens 15a face each other, and each has a focal axis parallel to the V direction.
  • the flat surface located opposite the convex surface of the cylindrical plano-convex lens 15b is coated with a partially reflective film.
  • the cylindrical plano-concave lens 15a is supported by a linear stage 15d.
  • the linear stage 15d includes a driver (not shown).
  • the monitor module 17 includes beam splitters 17a and 17b, an energy sensor 17c, and a beam monitor 17d.
  • the beam splitter 17a is located in the optical path of the pulsed laser light output from the spectrum adjuster 15.
  • the beam splitter 17a is configured to transmit a portion of the pulsed laser light toward the exposure device 100 with high transmittance and to reflect the other portion.
  • the beam splitter 17b is located in the optical path of the pulsed laser light reflected by the beam splitter 17a.
  • the energy sensor 17c is located in the optical path of the pulsed laser light reflected by the beam splitter 17b.
  • the beam monitor 17d is located in the optical path of the pulsed laser light transmitted through the beam splitter 17b, and includes an etalon spectrometer (not shown).
  • the monitor module 17 corresponds to the laser light detector in this disclosure.
  • the laser control processor 30 receives setting data for the target values Et, ⁇ t, and ⁇ t of the pulse energy E, wavelength ⁇ , and spectral linewidth ⁇ , respectively, from the exposure control processor 110, as well as a light emission trigger signal.
  • the laser control processor 30 transmits setting data for the charging voltage to the charger included in the power supply device 13 based on the setting data for the target value Et of the pulse energy E.
  • the laser control processor 30 also transmits a trigger signal to the power supply device 13 based on the light emission trigger signal.
  • the power supply unit 13 When the power supply unit 13 receives a trigger signal from the laser control processor 30, it generates a pulsed high voltage from the electrical energy stored in the charger and applies this high voltage between the discharge electrodes 11a and 11b.
  • the light generated inside the laser chamber 10 is emitted to the outside of the laser chamber 10 through the windows 10a and 10b.
  • the light emitted from the window 10a of the laser chamber 10 has its beam width in the H direction expanded by the prisms 14a and 14b, and enters the grating 14c.
  • grating 14c Light incident on grating 14c is reflected by the multiple grooves of grating 14c and diffracted in a direction according to the wavelength of the light.
  • the wavelength of the diffracted light incident on prism 14b from grating 14c is selected.
  • Prisms 14b and 14a reduce the beam width in the H direction of the diffracted light incident from grating 14c, and return the light to laser chamber 10 via window 10a.
  • the cylindrical plano-convex lens 15b included in the spectral adjuster 15 transmits and outputs a portion of the light emitted from the window 10b of the laser chamber 10, and reflects the other portion back into the laser chamber 10.
  • the light emitted from the laser chamber 10 travels back and forth between the line narrowing module 14 and the spectrum adjuster 15, and is amplified each time it passes through the discharge space between the discharge electrodes 11a and 11b.
  • This light is narrowed in line each time it is turned back by the line narrowing module 14.
  • the light thus oscillated and narrowed in line is output from the spectrum adjuster 15 as pulsed laser light.
  • the laser control processor 30 transmits a control signal for the rotation angle of the prism 14b to the rotation stage 14d included in the line narrowing module 14 based on the setting data for the target value ⁇ t of the wavelength ⁇ .
  • the rotation stage 14d rotates the prism 14b around an axis parallel to the V direction in accordance with the control signal. By rotating the prism 14b, the selected wavelength of the line narrowing module 14 is adjusted, and the wavelength ⁇ of the pulsed laser light is adjusted.
  • the wavelength ⁇ of the pulsed laser light is, for example, the central wavelength.
  • the laser control processor 30 transmits a control signal for the position of the cylindrical plano-concave lens 15a to the linear stage 15d included in the spectral adjuster 15 based on the setting data for the target value ⁇ t of the spectral linewidth ⁇ .
  • the linear stage 15d moves the cylindrical plano-concave lens 15a along the optical path between the laser chamber 10 and the cylindrical plano-convex lens 15b in accordance with the control signal. This changes the wavefront of the light traveling from the spectral adjuster 15 to the line narrowing module 14. The change in wavefront adjusts the spectral waveform and spectral linewidth ⁇ of the pulsed laser light.
  • the energy sensor 17c detects the pulse energy E of the pulsed laser light and outputs data on the pulse energy E to the laser control processor 30.
  • the data on the pulse energy E is used to feedback control the setting data for the charging voltage that the laser control processor 30 sends to the power supply device 13.
  • the etalon spectrometer included in the beam monitor 17d acquires the waveform of the interference fringes of the pulsed laser light, and outputs the waveform data of the interference fringes to the laser control processor 30.
  • the laser control processor 30 calculates the wavelength ⁇ of the pulsed laser light from the position of the interference fringes, and calculates the spectral linewidth ⁇ of the pulsed laser light from a portion of the waveform of the interference fringes that corresponds to the free spectral range.
  • the calculation result of the wavelength ⁇ is used by the laser control processor 30 to feedback control the rotation angle of the prism 14b, and the calculation result of the spectral linewidth ⁇ is used by the laser control processor 30 to feedback control the position of the cylindrical plano-concave lens 15a.
  • the laser control processor 30 sends a control signal to the motor 22 to rotate the cross-flow fan 21.
  • the motor 22 rotates the cross-flow fan 21
  • the laser gas flows and circulates inside the laser chamber 10 as shown by arrow A in FIG. 3.
  • the discharge products generated by the discharge between the discharge electrodes 11a and 11b are removed from the discharge space by the flow of laser gas before the next discharge, and the discharge space and its vicinity become less susceptible to discharge, so that the discharge can be stabilized.
  • the rotation detector 21a detects the rotation of the cross-flow fan 21 and outputs the signal to the laser control processor 30.
  • the heat exchanger 23 exhausts the thermal energy of the laser gas, which has become hot due to the discharge, to the outside of the laser chamber 10.
  • the laser control processor 30 performs the following processing to feedback control the laser light characteristic B.
  • the laser control processor 30 sets the pulse number N of the pulsed laser light to 1.
  • the laser control processor 30 sets the control value SVbN of the Nth pulse to an initial value. If the laser light characteristic B is the pulse energy E, the control value SVb is a charging voltage set in the power supply device 13. If the laser light characteristic B is the wavelength ⁇ , the control value SVb is the attitude angle of the prism 14b rotated by the rotating stage 14d. If the laser light characteristic B is the spectral line width ⁇ , the control value SVb is the position of the cylindrical plano-concave lens 15a moved by the linear stage 15d. When a pulse number such as Nth is specified, a subscript is added, such as the control value SVbN .
  • the initial value is a value that is predetermined, for example, corresponding to the target value Bt of the laser light characteristic B.
  • the laser control processor 30 sends a trigger signal to the power supply device 13 so that the laser oscillates and one pulse of pulsed laser light is output.
  • the laser control processor 30 measures the laser light characteristic BnN of the Nth pulse.
  • the laser control processor 30 calculates the control value SVb N+1 of the N+1th pulse according to the following Equation 1.
  • SVb N+1 -Gb ⁇ (Bn N -Bt) ⁇ Kb+SVb N ...(Formula 1)
  • Gb is the control gain
  • Bt is the target value of the laser light characteristic B
  • Kb is a proportional constant indicating the ratio of the change in the control value SVb to the change in the laser light characteristic B.
  • the laser control processor 30 sets the control value SVbN +1 of the N+1th pulse to the calculated value and sends it to the corresponding adjuster. If the laser light characteristic B is the pulse energy E, the adjuster is the power supply 13. If the laser light characteristic B is the wavelength ⁇ , the adjuster is the rotary stage 14d. If the laser light characteristic B is the spectral linewidth ⁇ , the adjuster is the linear stage 15d.
  • the laser control processor 30 adds 1 to the pulse number N of the pulsed laser light to update the value of N.
  • the laser control processor 30 determines whether or not to end the control of laser light characteristic B. For example, when the output of pulsed laser light with a constant repetition frequency f is stopped, the control of laser light characteristic B is ended. When the control of laser light characteristic B is to be ended (S100: YES), the laser control processor 30 ends the processing of this flowchart. When the control of laser light characteristic B is not to be ended (S100: NO), the laser control processor 30 returns the processing to S40.
  • FIGS. 8 and 9 are graphs showing time series data of the laser light characteristic B in the comparative example.
  • the pulse energy E is controlled.
  • the time series data is acquired from the monitor module 17.
  • the repetition frequency f of the pulse laser light is 6000 Hz
  • the repetition frequency f is 1000 Hz.
  • the target value Et of the pulse energy E is 10.0 mJ. Even if the pulse energy E is feedback-controlled by the process shown in FIG. 7, the pulse energy E may fluctuate and deviate from the target value Et as shown in FIG. 8 and FIG. 9.
  • the manner in which the pulse energy E fluctuates may differ depending on the repetition frequency f. As shown in FIG. 9, the fluctuation of the pulse energy E may have periodicity. If the pulse energy E fluctuates, the exposure performance of the exposure apparatus 100 may vary, and the quality of the semiconductor device may become unstable.
  • Some of the embodiments described below relate to further stabilizing the laser light characteristic B, such as the pulse energy E, and bringing it closer to the target value Bt.
  • Fig. 10 is a graph showing the result of fast Fourier transform of the time series data of the laser beam characteristic B shown in Fig. 9. From Fig. 10, it is found that the time series data of the laser beam characteristic B shown in Fig. 9 contains a lot of two frequency components of 66 Hz and 88 Hz.
  • the first frequency component 66 Hz shown in FIG. 10 was almost equal to the rotation frequency fk of the cross-flow fan 21.
  • the vibration is transmitted to various optical elements included in the laser device 1, and the alignment of the optical elements may change in synchronization with the vibration. Therefore, it was speculated that the 66 Hz frequency component included in the fluctuation of the laser light characteristic B is caused by the occurrence of vibration in the laser device 1 in synchronization with the rotation of the cross-flow fan 21.
  • the laser light characteristic B is not limited to the pulse energy E, and may include, for example, a fluctuation in the wavelength ⁇ due to a change in the alignment of the prisms 14a and 14b, or a fluctuation in the spectral line width ⁇ due to a change in the alignment of the cylindrical plano-concave lens 15a.
  • the laser light characteristic B is feedforward controlled based on not only the repetition frequency f but also the detection signal SIG indicating the rotation of the crossflow fan 21. Also, in the first embodiment, the laser light characteristic B is feedforward controlled using the rotation frequency fk.
  • the product of the rotation frequency fk of the crossflow fan 21 and the number of blades 21b is defined as the blade frequency fa.
  • the rotation frequency fk is 66 Hz
  • the number of blades 21b is 44.
  • the blade frequency fa is 2904 Hz
  • the observed frequency when the frequency component of 2904 Hz is sampled at 1000 Hz, which is the repetition frequency f of the pulsed laser light, is calculated to be 96 Hz.
  • the second frequency component, 88 Hz shown in Fig. 10 does not completely match 96 Hz, it is considered to correspond to the observed frequency of the blade frequency fa when quantization error is taken into consideration.
  • FIG. 11 is a diagram for explaining the acoustic waves W1 and W2 generated inside the laser chamber 10.
  • FIG. 11 corresponds to FIG. 3 in which the arrow A indicating the gas flow is omitted and instead acoustic waves W1 and W2 are illustrated.
  • a discharge with a repetition frequency f occurs in the discharge space between the discharge electrodes 11a and 11b, and in synchronization with this discharge, compressional waves of the gas are generated by excitation and heating of the gas in the discharge space.
  • the compressional waves generated in the discharge space propagate through the space inside the laser chamber 10. This compressional wave is sometimes called acoustic wave W1.
  • Acoustic wave W1 is reflected when it hits a component inside the laser chamber 10.
  • the acoustic wave W2 reflected by the blade 21b may be affected by the blade frequency fa.
  • the acoustic wave W2 reaches the discharge space, the density of the laser gas in the discharge space changes, so the pulse energy E may fluctuate. Therefore, it was speculated that the 88 Hz frequency component contained in the fluctuation of the laser light characteristic B is caused by the acoustic wave W2 reflected by the blade 21b. If the density of the laser gas in the discharge space changes, the refractive index distribution in the discharge space also changes, so that not only the pulse energy E but also the wavelength ⁇ and the spectral line width ⁇ may fluctuate as the laser light characteristic B.
  • the blade frequency fa is used to feedforward control the laser light characteristic B.
  • Fig. 12 shows a schematic configuration of the laser device 1a according to the first embodiment.
  • the laser device 1a includes a parameter storage device 37a.
  • the parameter storage device 37a is configured to be accessible by the laser control processor 30, and stores parameters to be described with reference to Figs. 13 to 15.
  • the parameter storage device 37a may be included in the internal memory 38 of the laser control processor 30.
  • Fig. 13 is a graph showing the fluctuation component Bfi1(t) of laser light characteristic B in the first embodiment.
  • Fig. 13 shows the time series data of laser light characteristic B shown in Fig. 9 again, and also shows the detection signal SIG indicating the rotation of the cross flow fan 21 and the fluctuation component Bfi1(t) calculated in the first embodiment.
  • the detection signal SIG is output from the rotation detector 21a at a period of 1/fk (see Fig. 6).
  • the fluctuating component Bfi1(t) is a periodic function having a period of 1/fk, which is the same as the period of the detection signal SIG, and the periodic function is, for example, a sine function.
  • the fluctuating component Bfi1(t) corresponds to the first periodic function in this disclosure, and 1/fk corresponds to the first period in this disclosure.
  • the fluctuating component Bfi1(t) is obtained by fitting a sine curve with a period of 1/fk to the time series data of the laser light characteristic B.
  • the initial phase of the sine curve is given by the phase shift ⁇ kb1 of the sine curve with respect to the detection signal SIG.
  • the amplitude Akb1 of the sine curve may be obtained from the intensity corresponding to the rotation frequency fk of the crossflow fan 21.
  • Akb1 corresponds to the first amplitude in this disclosure.
  • the fluctuation component Bfi1(t) is given by the following equation.
  • Bfi1(t) Akb1 ⁇ sin(2 ⁇ fk ⁇ t ⁇ kb1)
  • Figure 13 shows the fluctuating component Bfi1(t) fitted to the time series data. However, the position on the horizontal axis where the value of the fluctuating component Bfi1(t) is 0 is aligned with the position of 10 mJ, which is the target value Et of the pulse energy E.
  • the fluctuating component Bfi1(t) fluctuates in synchronization with the rotation of the crossflow fan 21.
  • control value SVbN+1 (see FIG. 7) of the N+1th pulse obtained in the comparative example is corrected by feedforward control using the fluctuation component Bfi1(t) to calculate a corrected control value SVb1N +1 .
  • This makes it possible to control the laser beam characteristic B so as to offset the fluctuation and suppress deviation from the target value Bt.
  • FIG. 14 shows a first example of data stored in the parameter storage device 37a in the first embodiment.
  • the parameter storage device 37a stores data including a correspondence between the repetition frequency f and parameters including the amplitude Akb1, the rotation frequency fk, and the phase shift ⁇ kb1.
  • the corresponding parameters can be obtained by searching the parameter storage device 37a using the repetition frequency f.
  • the rotation frequency fk of the cross flow fan 21 may be the same value fk1 regardless of the repetition frequency f.
  • the phase shift ⁇ kb1 may also be the same value regardless of the repetition frequency f.
  • FIG. 15 shows a second example of data stored in the parameter storage device 37a in the first embodiment.
  • the rotation frequency fk of the crossflow fan 21 may be changeable, for example, to reduce power consumption, and different fluctuation components Bfi1(t) may be used according to the change in the rotation frequency fk.
  • the parameter storage device 37a may store data including the correspondence between the combination of the repetition frequency f and the rotation frequency fk and parameters including the amplitude Akb1 and the phase shift ⁇ kb1.
  • the corresponding parameters can be obtained by searching the parameter storage device 37a using the repetition frequency f and the rotation frequency fk.
  • the rotation frequency fk is also one of the parameters.
  • the rotation frequency fk is set, for example, in the range of 30 Hz to 95 Hz, and is preferably 63 Hz, 66 Hz, or 75 Hz.
  • the laser control processor 30 performs feedforward control based on the repetition frequency f and the detection signal SIG, in addition to the feedback control in the comparative example (see FIG. 7), by the following process.
  • the laser control processor 30 starts a timer when it receives the detection signal SIG.
  • the time tN is read from the timer, and in S71a, the time tN+1 is calculated, thereby performing control based on the timing of the detection signal SIG.
  • the timer may be reset and started each time the detection signal SIG is received.
  • S20, S30a, and S40 are almost the same as S20, S30, and S40, respectively, described with reference to Fig. 7.
  • the control value is designated as SVb1N in order to distinguish it from the control value SVbN in the comparative example.
  • the laser control processor 30 reads the time tN when the Nth pulse is emitted from the timer.
  • the time tN corresponds to the first time in this disclosure.
  • the laser control processor 30 calculates a control value SVb1 N+1 for the N+1th pulse as follows, instead of the control value SVb N+1 for the N+1th pulse described with reference to FIG.
  • FIG. 17 is a flow chart showing details of the process for calculating the control value SVb1 N+1 of the N+1th pulse.
  • the process shown in FIG. 17 corresponds to the subroutine of S70a in FIG.
  • the laser control processor 30 calculates the time tN+1 at which the Nth pulse is generated.
  • the time tN+1 is calculated by adding the reciprocal 1/f of the repetition frequency f to the time tN at which the Nth pulse is generated.
  • the time tN+1 corresponds to the second time in this disclosure.
  • the laser control processor 30 acquires the parameters of the fluctuation component Bfi1(t) based on the repetition frequency f.
  • the parameters of the fluctuation component Bfi1(t) include the amplitude Akb1, the rotation frequency fk, and the phase shift ⁇ kb1 stored in the parameter storage device 37a.
  • the laser control processor 30 calculates the control value SVb1 N+1 of the N+1th pulse according to the following Equation 2.
  • SVb1 N+1 -[Gb ⁇ (Bn N -Bt)+gb1 ⁇ Bfi1(t N+1 )-Bfi1(t N ) ⁇ ] ⁇ Kb+SVb1 N ...
  • gb1 is the control gain.
  • Equation 2 corresponds to the result of subtracting gb1 ⁇ Bfi1( tN+1 ) ⁇ Bfi1( tN ) ⁇ Kb from the right side of Equation 1 in the comparative example.
  • the control value SVbN+1 of the Nth pulse is calculated based on the difference between the laser light characteristic BnN of the Nth pulse and the target value Bt, so the control value SVbN +1 already includes the first value Bfi1( tN ) of the fluctuation component corresponding to the time tN of the Nth pulse.
  • the control value SVbN+ 1 in the comparative example is corrected using the difference between the second value Bfi1( tN+1 ) of the fluctuation component corresponding to the time tN + 1 of the Nth pulse and the first value Bfi1( tN ) of the fluctuation component corresponding to the time tN of the Nth pulse.
  • the laser control processor 30 ends the processing of this flowchart and returns to the processing shown in FIG. 16.
  • the laser device 1a includes a laser chamber 10, a pair of discharge electrodes 11a and 11b, a cross-flow fan 21, a rotation detector 21a, a power supply device 13, an adjuster such as a rotation stage 14d and a linear stage 15d, and a laser control processor 30.
  • the discharge electrodes 11a and 11b are disposed in the laser chamber 10.
  • the cross-flow fan 21 is disposed in the laser chamber 10, and causes the laser gas in the laser chamber 10 to flow between the discharge electrodes 11a and 11b.
  • the rotation detector 21a detects the rotation of the cross-flow fan 21.
  • the adjuster adjusts the laser light characteristic B of the pulsed laser light generated in the laser chamber 10.
  • the laser control processor 30 corrects the control value SVb N+1 of the adjuster based on the repetition frequency f of the pulsed laser light and the detection signal SIG of the rotation detector 21a, and controls the adjuster with the corrected control value SVb1 N+1 .
  • FIG. 18 is a graph showing time series data of laser light characteristic B generated using the corrected control value SVb1N +1 in the first embodiment.
  • the pulse energy E is controlled as the laser light characteristic B.
  • FIG. 18 almost coincides with the difference (see FIG. 20) between the time series data of the laser light characteristic B and the fluctuation component Bfi1(t) in the comparative example.
  • the repetition frequency f of the pulse laser light is 1000 Hz
  • the target value Et of the pulse energy E is 10.0 mJ.
  • the fluctuation width of the pulse energy E is smaller, and the accuracy of the control of the laser light characteristic B is improved.
  • the laser control processor 30 corrects the control value SVb N+1 so as to suppress deviation of the laser light characteristic B from the target value Bt.
  • the laser apparatus 1a includes a monitor module 17 that measures the laser light characteristic B.
  • the laser control processor 30 corrects the control value SVbN+1, which is set so that the laser light characteristic BnN + 1 of the ( N+ 1)th pulse after the Nth pulse approaches the target value Bt by feedback control based on the difference between the laser light characteristic BnN of the Nth pulse of the pulsed laser light and the target value Bt, by feedforward control based on the repetition frequency f and the detection signal SIG.
  • the laser control processor 30 calculates the fluctuation component Bfi1(t) of the laser light characteristic B that fluctuates in synchronization with the rotation of the crossflow fan 21, and corrects the control value SVbN+1 using the fluctuation component Bfi1(t).
  • the laser control processor 30 corrects the control value SVbN+1 based on the difference between the first value Bfi1( tN ) of the fluctuation component corresponding to the time tN when the Nth pulse is laser oscillated and the second value Bfi1( tN+1 ) of the fluctuation component corresponding to the time tN +1 when the N+1th pulse is laser oscillated.
  • control value SVbN+1 by feedback control based on the difference between the target value Bt of the laser light characteristic B of the Nth pulse can be accurately corrected by feedforward control using the difference between the fluctuation component Bfi1( tN ) corresponding to the Nth pulse and the fluctuation component Bfi1( tN+1 ) corresponding to the N+1th pulse.
  • the laser control processor 30 obtains the time t N by measurement, and obtains the time t N+1 by calculation based on the time t N and the repetition frequency f.
  • the time t N is actually measured and the time t N+1 is calculated using the measured time t N , so that correction based on the difference between the fluctuation components Bfi1(t N ) and Bfi1(t N+1 ) can be performed with high accuracy.
  • times tN and tN +1 are elapsed times based on the time when the detection signal SIG is received.
  • the laser control processor 30 corrects the control value SVb N+1 using the fluctuation component Bfi1(t), which is a periodic function whose period is the inverse of the rotation frequency fk of the crossflow fan 21 .
  • the laser device 1a includes a monitor module 17 that measures the laser light characteristic B.
  • the laser control processor 30 acquires time series data of the laser light characteristic B from the monitor module 17 and fits a sine curve to the time series data to obtain the fluctuation component Bfi1(t).
  • the fluctuation component Bfi1(t) can be obtained with high accuracy.
  • the fluctuation component Bfi1(t) can be obtained, for example, during adjustment after the laser device 1a is assembled.
  • the laser control processor 30 performs Fourier analysis on the time series data to obtain the amplitude Akb1 of a sine curve from the intensity corresponding to the rotation frequency fk, and fits a sine curve having the amplitude Akb1 to the time series data.
  • the amplitude Akb1 of the sine curve is calculated from Fourier analysis of the time series data, so the fluctuation component Bfi1(t) can be calculated with high accuracy.
  • the laser control processor 30 is configured to be able to access data including a correspondence between the repetition frequency f and parameters for correcting the control value SVb N+1 .
  • the laser control processor 30 searches the data using the repetition frequency f and uses the parameters acquired to correct the control value SVb N+1 .
  • the parameters for correcting the control value SVb N+1 can be quickly obtained.
  • the laser control processor 30 is configured to be able to access data including the correspondence between the repetition frequency f, the rotation frequency fk of the crossflow fan 21, and parameters for correcting the control value SVb N+1 .
  • the laser control processor 30 searches data using the repetition frequency f and the rotation frequency fk, and uses the parameters acquired to correct the control value SVb N+1 .
  • the first embodiment is similar to the comparative example.
  • the pulse energy E is controlled as the laser beam characteristic B.
  • a fluctuation component Efi1(t) of the pulse energy E given by the following equation is used instead of the fluctuation component Bfi1(t).
  • Efi1(t) Ake1 ⁇ sin(2 ⁇ fk ⁇ t ⁇ ke1)
  • Ake1 is the amplitude of the fluctuation component Efi1(t).
  • a control value SVe1 N+1 given by the following formula is used instead of the control value SVb1 N+ 1 of the N+1th pulse.
  • SVe1 N+1 -[Ge ⁇ (En N -Et)+ge1 ⁇ Efi1(t N+1 )-Efi1(t N ) ⁇ ] ⁇ Ke+SVe1 N
  • Ge is the control gain of the feedback control of the pulse energy E.
  • ⁇ En N is the pulse energy E of the Nth pulse.
  • Et is the target value of the pulse energy E.
  • ⁇ ge1 is the control gain of the feedforward control of the pulse energy E using the rotation frequency fk.
  • Efi1( tN+1 ) and Efi1( tN ) are the values of the fluctuation component Efi1(t) of the pulse energy E corresponding to times tN+1 and tN , respectively.
  • Ke is a proportionality constant that indicates the ratio of the change in the control value SVe1 to the change in the pulse energy E.
  • the first modified example is similar to the first embodiment.
  • the wavelength ⁇ is controlled as the laser light characteristic B.
  • a fluctuation component ⁇ fi1(t) of the wavelength ⁇ given by the following equation is used instead of the fluctuation component Bfi1(t).
  • ⁇ fi1(t) Ak ⁇ 1 ⁇ sin(2 ⁇ fk ⁇ t ⁇ k ⁇ 1)
  • Ak ⁇ 1 is the amplitude of the fluctuation component ⁇ fi1(t).
  • a control value SV ⁇ 1 N+1 given by the following formula is used instead of the control value SVb1 N+ 1 of the N+1th pulse.
  • SV ⁇ 1 N+1 -[G ⁇ ( ⁇ n N ⁇ t)+g ⁇ 1 ⁇ fi1(t N+1 ) ⁇ fi1(t N ) ⁇ ] ⁇ K ⁇ +SV ⁇ 1 N
  • G ⁇ is the control gain of the feedback control of the wavelength ⁇ .
  • ⁇ n N is the wavelength ⁇ of the Nth pulse.
  • ⁇ ⁇ t is the target value of the wavelength ⁇ .
  • g ⁇ 1 is the control gain of the feedforward control of the wavelength ⁇ using the rotation frequency fk.
  • ⁇ fi1( tN+1 ) and ⁇ fi1( tN ) are the values of the fluctuation component ⁇ fi1(t) of the wavelength ⁇ corresponding to times tN+1 and tN , respectively.
  • K ⁇ is a proportionality constant that indicates the ratio of the change in the control value SV ⁇ 1 to the change in the wavelength ⁇ .
  • the second modified example is similar to the first embodiment.
  • the spectral linewidth ⁇ is controlled as the laser light characteristic B.
  • a fluctuation component ⁇ fi1(t) of the spectral linewidth ⁇ given by the following equation is used instead of the fluctuation component Bfi1(t).
  • ⁇ fi1(t) Ak ⁇ 1 ⁇ sin(2 ⁇ fk ⁇ t ⁇ k ⁇ 1)
  • Ak ⁇ 1 is the amplitude of the fluctuation component ⁇ fi1(t).
  • a control value SV ⁇ 1 N+1 given by the following equation is used instead of the control value SVb1 N +1 of the N+1th pulse.
  • SV ⁇ 1 N+1 -[G ⁇ ( ⁇ n N ⁇ t)+g ⁇ 1 ⁇ fi1(t N+1 ) ⁇ fi1(t N ) ⁇ ] ⁇ K ⁇ +SV ⁇ 1 N
  • G ⁇ is the control gain of the feedback control of the spectral linewidth ⁇ .
  • ⁇ n N is the spectral linewidth ⁇ of the Nth pulse.
  • - ⁇ t is the target value of the spectral linewidth ⁇ .
  • g ⁇ 1 is a control gain of the feedforward control of the spectral linewidth ⁇ using the rotation frequency fk.
  • ⁇ fi1(t N+1 ) and ⁇ fi1(t N ) are the values of the fluctuation component ⁇ fi1(t) of the spectral linewidth ⁇ corresponding to times t N+1 and t N , respectively.
  • K ⁇ is a proportionality constant that indicates the ratio of the change in the control value SV ⁇ 1 to the change in the spectral linewidth ⁇ .
  • the third modified example is similar to the first embodiment.
  • the fourth modification two or more of the pulse energy E, the wavelength ⁇ , and the spectral linewidth ⁇ are controlled as the laser light characteristic B.
  • the variables shown in FIG. 19 are used to control each laser light characteristic B.
  • the control of each laser light characteristic B may be independent of each other.
  • the repetition frequency f, the rotation frequency fk, and the detection signal SIG may be common between different laser light characteristics B.
  • common values can be used for the phase shifts ⁇ kb1, ⁇ ke1, ⁇ k ⁇ 1, and ⁇ k ⁇ 1 between different laser light characteristics B.
  • the laser light characteristic B includes a first characteristic, which is one of the pulse energy E, the wavelength ⁇ , and the spectral linewidth ⁇ , and a second characteristic, which is the other one.
  • the adjuster includes a first adjuster that adjusts the first characteristic, and a second adjuster that adjusts the second characteristic. If the first characteristic is the pulse energy E, the first adjuster is the power supply device 13, and the second characteristic is the wavelength ⁇ or the spectral linewidth ⁇ . If the second characteristic is the wavelength ⁇ , the second adjuster is the rotary stage 14d, and if the second characteristic is the spectral linewidth ⁇ , the second adjuster is the linear stage 15d.
  • the laser control processor 30 corrects both the first control value SVb N+1 of the first adjuster and the second control value SVb N+1 of the second adjuster based on the repetition frequency f and the detection signal SIG, and controls the first and second adjusters.
  • the fourth variant is similar to the first embodiment.
  • Fig. 20 is a graph showing the difference between the time series data of the laser light characteristic B and the fluctuation component Bfi1(t). Fig. 20 was obtained by subtracting the fluctuation component Efi1( tN ) of the pulse energy E corresponding to the time tN of each pulse from the time series data of the pulse energy E in the comparative example (see Fig. 9).
  • FIG. 21 is a graph showing the fluctuation component Bfi2(t) in the second embodiment.
  • FIG. 21 shows an enlarged view of the inside of the encircled line XXI in FIG. 20, and also shows the detection signal SIG indicating the rotation of the crossflow fan 21, and the fluctuation component Bfi2(t) calculated in the second embodiment.
  • the detection signal SIG is output from the rotation detector 21a with a period of 1/fk (see FIG. 6).
  • the fluctuating component Bfi2(t) is a periodic function with a period 1/fa, which is the inverse of the blade frequency fa, given by the product of the rotational frequency fk of the crossflow fan 21 and the number of blades 21b, and the periodic function is, for example, a sine function.
  • the period 1/fa of the fluctuating component Bfi2(t) is shorter than the period 1/fk of the fluctuating component Bfi1(t).
  • the fluctuating component Bfi2(t) corresponds to the second periodic function in this disclosure, and 1/fa corresponds to the second period in this disclosure.
  • the fluctuating component Bfi2(t) is obtained by fitting a sine curve with a period 1/fa to the difference between the time series data of the laser light characteristic B and the fluctuating component Bfi1(t).
  • the initial phase of the sine curve is given by the phase shift ⁇ kb2 of the sine curve with respect to the detection signal SIG.
  • the amplitude Akb2 of the sine curve may be obtained from the intensity corresponding to the observed frequency when the frequency component of the blade frequency fa is sampled at the repetition frequency f.
  • Akb2 corresponds to the second amplitude in this disclosure.
  • the fluctuation component Bfi2(t) is given by the following equation.
  • Bfi2(t) Akb2 ⁇ sin(2 ⁇ fa ⁇ t ⁇ kb2)
  • FIG. 21 shows the fluctuation component Bfi2(t) fitted to the difference between the time series data and the fluctuation component Bfi1(t). However, the position on the horizontal axis where the value of the fluctuation component Bfi2(t) is 0 is aligned with the position of 10 mJ, which is the target value Et of the pulse energy E.
  • the fluctuation component Bfi2(t) fluctuates in synchronization with the rotation of the crossflow fan 21.
  • control value SVbN+1 (see FIG. 7) of the N+1th pulse obtained in the comparative example is corrected by feedforward control using the fluctuation components Bfi1(t) and Bfi2(t) to calculate a corrected control value SVb2N +1 .
  • This makes it possible to control the laser beam characteristic B so as to offset the fluctuation and suppress deviation from the target value Bt.
  • FIG. 22 shows a first example of data stored in the parameter storage device 37a in the second embodiment.
  • the parameter storage device 37a stores data including a correspondence between the repetition frequency f and parameters including the amplitude Akb2, the blade frequency fa, and the phase shift ⁇ kb2.
  • the blade frequency fa may be the same value fa1 regardless of the repetition frequency f.
  • the phase shift ⁇ kb2 may also be the same value regardless of the repetition frequency f.
  • the rotation frequency fk of the crossflow fan 21 may be made variable, and different fluctuation components Bfi2(t) may be used according to the accompanying change in the blade frequency fa.
  • the parameter storage device 37a may store data including the correspondence between the combination of the repetition frequency f and the blade frequency fa and parameters including the amplitude Akb2 and the phase shift ⁇ kb2.
  • the corresponding parameters can be obtained by searching the parameter storage device 37a using the repetition frequency f and the blade frequency fa.
  • the blade frequency fa is also one of the parameters.
  • the blade frequency fa is set, for example, in the range of 1300 Hz to 4200 Hz, and is preferably 2772 Hz, 2904 Hz, or 3300 Hz.
  • FIG. 24 is a flowchart showing a control procedure of laser light characteristic B in the second embodiment.
  • the process shown in Fig. 24 is almost the same as that of the first embodiment described with reference to Fig. 16, except for the process of calculating the control value SVb2N +1 of the N+1th pulse in S70b. Note that in S30b, S70b, and S80b, the signs of the control values are SVb2N and SVb2N+1 to distinguish them from the control values SVb1N and SVb1N +1 in the first embodiment.
  • FIG. 25 is a flow chart showing details of the process for calculating the control value SVb2N +1 of the N+1th pulse.
  • the process shown in FIG. 25 corresponds to the subroutine of S70b in FIG.
  • S71a The processing of S71a is the same as that of the first embodiment described with reference to FIG. 17.
  • the laser control processor 30 acquires parameters of the fluctuation components Bfi1(t) and Bfi2(t) based on the repetition frequency f.
  • the parameters of the fluctuation component Bfi1(t) include the amplitude Akb1, the rotation frequency fk, and the phase shift ⁇ kb1 shown in FIG. 14 or FIG. 15.
  • the parameters of the fluctuation component Bfi2(t) include the amplitude Akb2, the blade frequency fa, and the phase shift ⁇ kb2 shown in FIG. 22 or FIG. 23.
  • the laser control processor 30 calculates the control value SVb2 N+1 of the N+1th pulse according to the following Equation 3.
  • SVb2 N+1 -[Gb ⁇ (Bn N ⁇ Bt)+gb1 ⁇ Bfi1(t N+1 ) ⁇ Bfi1(t N ) ⁇ +gb2 ⁇ Bfi2(t N+1 ) ⁇ Bfi2(t N ) ⁇ ] ⁇ Kb+SVb2 N ...(Formula 3)
  • gb2 is the control gain.
  • Equation 3 corresponds to the result of subtracting [gb1 ⁇ Bfi1( tN+1 )-Bfi1( tN ) ⁇ +gb2 ⁇ Bfi2( tN+1 )-Bfi2( tN ) ⁇ ] ⁇ Kb from the right hand side of equation 1 in the comparative example.
  • the control value SVbN+1 of the Nth pulse is calculated based on the difference between the laser light characteristic BnN of the Nth pulse and the target value Bt, so that the control value SVbN + 1 already includes the first values Bfi1( tN ) and Bfi2( tN ) of the fluctuation components corresponding to the time tN of the Nth pulse.
  • the control value SVbN+1 in the comparative example is corrected using the difference between the second value Bfi1( tN+1 ) of the fluctuation component corresponding to the time tN +1 of the N+1 pulse and the first value Bfi1( tN ) of the fluctuation component corresponding to the time tN of the Nth pulse, and the difference between the second value Bfi2( tN+1 ) of the fluctuation component corresponding to the time tN +1 of the N+1 pulse and the first value Bfi2( tN ) of the fluctuation component corresponding to the time tN of the Nth pulse.
  • the laser control processor 30 ends the processing of this flowchart and returns to the processing shown in FIG. 24.
  • the cross flow fan 21 includes a plurality of blades 21 b arranged around the rotation axis Ax.
  • the laser control processor 30 corrects the control value SVb N+1 by using a fluctuation component Bfi2(t) that is a periodic function having a period that is the reciprocal of a blade frequency fa, which is given by the product of the rotation frequency fk of the cross flow fan 21 and the number of blades 21 b.
  • FIG. 26 is a graph showing time series data of laser light characteristic B generated using the corrected control value SVb2N+1 in the second embodiment.
  • the pulse energy E is controlled as the laser light characteristic B.
  • FIG. 26 is almost identical to the difference between the time series data of the laser light characteristic B in the comparative example and the sum of the fluctuation components Bfi1(t) and Bfi2(t).
  • the repetition frequency f of the pulse laser light is 1000 Hz
  • the target value Et of the pulse energy E is 10.0 mJ.
  • the fluctuation range of the pulse energy E is smaller and is stabilized near the target value Et.
  • the feedforward control is not limited to using both the fluctuating components Bfi1(t) and Bfi2(t), and may use only the fluctuating component Bfi2(t).
  • the fluctuation of the laser light characteristic B of the pulsed laser light is approximately equal to the difference between the time series data of the laser light characteristic B in the comparative example and the fluctuating component Bfi2(t).
  • the laser control processor 30 corrects the control value SVbN+1 using a fluctuation component Bfi1(t) which is a periodic function having a period 1/fk and synchronized with the rotation of the cross flow fan 21, and a fluctuation component Bfi2(t) which is a periodic function having a period 1/fa which is shorter than the period 1 / fk and synchronized with the rotation of the cross flow fan 21.
  • the control value SVbN+1 can be corrected with high accuracy even when the fluctuation of the laser light characteristic B includes two frequency components.
  • the cross flow fan 21 includes a plurality of blades 21 b arranged around the rotation axis Ax.
  • the laser control processor 30 corrects the control value SVb N+1 using a fluctuation component Bfi1(t) that is a periodic function having a period equal to the reciprocal of the rotation frequency fk of the cross flow fan 21 and a fluctuation component Bfi2(t) that is a periodic function having a period equal to the reciprocal of the blade frequency fa given by the product of the rotation frequency fk and the number of blades 21 b .
  • the laser device 1a includes a monitor module 17 that measures the laser light characteristic B.
  • the laser control processor 30 acquires time series data of the laser light characteristic B from the monitor module 17.
  • the laser control processor 30 fits a first sine curve to the time series data to obtain the fluctuation component Bfi1(t), and fits a second sine curve to the difference between the time series data and the fluctuation component Bfi1(t) to obtain the fluctuation component Bfi2(t).
  • the fluctuation component Bfi2(t) can be obtained with high accuracy, excluding the correction due to the fluctuation component Bfi1(t).
  • the laser control processor 30 performs Fourier analysis on the time series data to determine the amplitude Akb1 of the first sine curve from the first intensity corresponding to the rotation frequency fk, and determines the amplitude Akb2 of the second sine curve from the second intensity corresponding to the observed frequency when the frequency component of the blade frequency fa is sampled at the repetition frequency f.
  • the laser control processor 30 fits a first sine curve having an amplitude Akb1 to the time series data, and fits a second sine curve having an amplitude Akb2 to the difference between the time series data and the fluctuation component Bfi1(t).
  • the amplitudes Akb1 and Akb2 of the sine curves are obtained from Fourier analysis of the time series data, so the fluctuation components Bfi1(t) and Bfi2(t) can be obtained with high accuracy.
  • the second embodiment is similar to the first embodiment.
  • the pulse energy E is controlled as the laser beam characteristic B.
  • a fluctuation component Efi2(t) of the pulse energy E given by the following equation is used instead of the fluctuation component Bfi2(t).
  • Efi2(t) Ake2 ⁇ sin(2 ⁇ fa ⁇ t ⁇ ke2)
  • Ake2 is the amplitude of the fluctuation component Efi2(t).
  • the control value SVe2 N+1 When controlling the pulse energy E as the laser light characteristic B, the control value SVe2 N+1 given by the following equation is used instead of the control value SVb2 N+ 1 of the N+1th pulse.
  • SVe2 N+ 1 - [ Ge
  • the meaning of each variable is as follows: ⁇ ge2 is the control gain of the feedforward control of the pulse energy E using the blade frequency fa.
  • Efi2( tN+1 ) and Efi2( tN ) are the values of the fluctuation component Efi2(t) of the pulse energy E corresponding to times tN+1 and tN , respectively.
  • the first modified example is similar to the second embodiment.
  • the wavelength ⁇ is controlled as the laser light characteristic B.
  • the fluctuation component ⁇ fi2(t) of the wavelength ⁇ given by the following equation is used instead of the fluctuation component Bfi2(t).
  • ⁇ fi2(t) Ak ⁇ 2 ⁇ sin(2 ⁇ fa ⁇ t ⁇ k ⁇ 2)
  • Ak ⁇ 2 is the amplitude of the fluctuation component ⁇ fi2(t).
  • the control value SV ⁇ 2 N+1 given by the following equation is used instead of the control value SVb2 N+ 1 of the N+1th pulse.
  • SV ⁇ 2 N+ 1 - [ G ⁇
  • the meaning of each variable is as follows: g ⁇ 2 is the control gain of the feedforward control of the wavelength ⁇ using the blade frequency fa.
  • ⁇ fi2(t N+1 ) and ⁇ fi2(t N ) are the values of the fluctuation component ⁇ fi2(t) of the wavelength ⁇ corresponding to times t N+1 and t N , respectively.
  • the second modified example is similar to the second embodiment.
  • the spectral linewidth ⁇ is controlled as the laser light characteristic B.
  • a fluctuation component ⁇ fi2(t) of the spectral linewidth ⁇ given by the following equation is used instead of the fluctuation component Bfi2(t).
  • ⁇ fi2(t) Ak ⁇ 2 ⁇ sin(2 ⁇ fa ⁇ t ⁇ k ⁇ 2)
  • Ak ⁇ 2 is the amplitude of the fluctuation component ⁇ fi2(t).
  • a control value SV ⁇ 2 N +1 given by the following equation is used instead of the control value SVb2 N +1 of the N+1th pulse.
  • SV ⁇ 2 N+1 -[G ⁇ ( ⁇ n N ⁇ t)+g ⁇ 1 ⁇ fi1(t N+1 ) ⁇ fi1(t N ) ⁇ +g ⁇ 2 ⁇ fi2(t N+1 ) ⁇ fi2(t N ) ⁇ ] ⁇ K ⁇ +SV ⁇ 2 N
  • g ⁇ 2 is the control gain of the feedforward control of the spectral linewidth ⁇ using the blade frequency fa.
  • ⁇ fi2(t N+1 ) and ⁇ fi2(t N ) are the values of the fluctuation component ⁇ fi2(t) of the spectral linewidth ⁇ corresponding to times t N+1 and t N , respectively.
  • the third modified example is similar to the second embodiment.
  • the fourth modification two or more of the pulse energy E, the wavelength ⁇ , and the spectral linewidth ⁇ are controlled as the laser light characteristic B.
  • the variables shown in FIG. 19 and FIG. 27 are used to control each of the laser light characteristics B.
  • the control of each of the laser light characteristics B may be independent of each other.
  • the repetition frequency f, the rotation frequency fk, the blade frequency fa, and the detection signal SIG may be common between different laser light characteristics B.
  • the phase shifts ⁇ kb1, ⁇ ke1, ⁇ k ⁇ 1, ⁇ k ⁇ 1, ⁇ kb2, ⁇ ke2, ⁇ k ⁇ 2, and ⁇ k ⁇ 2 can use common values between different laser light characteristics B.
  • the fourth variant is similar to the second embodiment.
  • the laser device 1a generates a pulsed laser beam and outputs it to the exposure device 100.
  • the exposure apparatus 100 includes an illumination optical system 40 and a projection optical system 41.
  • the illumination optical system 40 illuminates the reticle pattern of a reticle (not shown) placed on a reticle stage RT with pulsed laser light incident from the laser device 1a.
  • the projection optical system 41 reduces and projects the pulsed laser light that has passed through the reticle, forming an image on a workpiece (not shown) placed on a workpiece table WT.
  • the workpiece is a photosensitive substrate such as a semiconductor wafer coated with photoresist.
  • the exposure apparatus 100 exposes the workpiece to pulsed laser light reflecting the reticle pattern by synchronously moving the reticle stage RT and the workpiece table WT in parallel. After the reticle pattern is transferred to the semiconductor wafer by the exposure process described above, electronic devices can be manufactured through multiple processes.

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Abstract

レーザ装置は、レーザチャンバと、レーザチャンバ内に配置された一対の放電電極と、レーザチャンバ内に配置され、一対の放電電極の間にレーザチャンバ内のレーザガスを流すファンと、ファンの回転を検出する回転検出器と、レーザチャンバで生成されるパルスレーザ光のレーザ光特性を調整する調整器と、パルスレーザ光の繰り返し周波数と回転検出器の検出信号とに基づいて、調整器の制御値を補正し、補正された制御値で調整器を制御するプロセッサと、を備える。

Description

レーザ装置、レーザ装置の制御方法、及び電子デバイスの製造方法
　本開示は、レーザ装置、レーザ装置の制御方法、及び電子デバイスの製造方法に関する。
　近年、半導体露光装置においては、半導体集積回路の微細化及び高集積化につれて、解像力の向上が要請されている。このため、露光用光源から放出される光の短波長化が進められている。例えば、露光用のガスレーザ装置としては、波長約２４８ｎｍのレーザ光を出力するＫｒＦエキシマレーザ装置、ならびに波長約１９３ｎｍのレーザ光を出力するＡｒＦエキシマレーザ装置が用いられる。
　ＫｒＦエキシマレーザ装置及びＡｒＦエキシマレーザ装置の自然発振光のスペクトル線幅は、３５０～４００ｐｍと広い。そのため、ＫｒＦ及びＡｒＦレーザ光のような紫外線を透過させる材料で投影レンズを構成すると、色収差が発生してしまう場合がある。その結果、解像力が低下し得る。そこで、ガスレーザ装置から出力されるレーザ光のスペクトル線幅を、色収差が無視できる程度となるまで狭帯域化する必要がある。そのため、ガスレーザ装置のレーザ共振器内には、スペクトル線幅を狭帯域化するために、狭帯域化素子（エタロンやグレーティング等）を含む狭帯域化モジュール（Line Narrowing Module：ＬＮＭ）が備えられる場合がある。スペクトル線幅が狭帯域化されるガスレーザ装置を狭帯域化ガスレーザ装置という。
特開２００６－１１４６８９号公報 特開２００３－２１８４３２号公報
概要
　本開示の１つの観点に係るレーザ装置は、レーザチャンバと、レーザチャンバ内に配置された一対の放電電極と、レーザチャンバ内に配置され、一対の放電電極の間にレーザチャンバ内のレーザガスを流すファンと、ファンの回転を検出する回転検出器と、レーザチャンバで生成されるパルスレーザ光のレーザ光特性を調整する調整器と、パルスレーザ光の繰り返し周波数と回転検出器の検出信号とに基づいて、調整器の制御値を補正し、補正された制御値で調整器を制御するプロセッサと、を備える。
　本開示の１つの観点に係るレーザ装置の制御方法は、レーザチャンバと、レーザチャンバ内に配置された一対の放電電極と、レーザチャンバ内に配置され、一対の放電電極の間にレーザチャンバ内のレーザガスを流すファンと、ファンの回転を検出する回転検出器と、レーザチャンバで生成されるパルスレーザ光のレーザ光特性を調整する調整器と、を備えるレーザ装置において、パルスレーザ光の繰り返し周波数と回転検出器の検出信号とに基づいて、調整器の制御値を補正し、補正された制御値で調整器を制御することを含む。
　本開示の１つの観点に係る電子デバイスの製造方法は、レーザチャンバと、レーザチャンバ内に配置された一対の放電電極と、レーザチャンバ内に配置され、一対の放電電極の間にレーザチャンバ内のレーザガスを流すファンと、ファンの回転を検出する回転検出器と、レーザチャンバで生成されるパルスレーザ光のレーザ光特性を調整する調整器と、パルスレーザ光の繰り返し周波数と回転検出器の検出信号とに基づいて、調整器の制御値を補正し、補正された制御値で調整器を制御するプロセッサと、を備えるレーザ装置によってパルスレーザ光を生成し、パルスレーザ光を露光装置に出力し、電子デバイスを製造するために、露光装置内で感光基板上にパルスレーザ光を露光することを含む。
　本開示のいくつかの実施形態を、単なる例として、添付の図面を参照して以下に説明する。
図１は、比較例に係るレーザ装置の構成を模式的に示す。 図２は、－Ｖ方向に見た比較例に係るレーザ装置の一部の構成を模式的に示す。 図３は、－Ｚ方向に見た比較例に係るレーザ装置の一部の構成を模式的に示す。 図４は、回転検出器の構成を模式的に示す。 図５は、Ｚ方向に見たディスク及び突起部を示す。 図６は、回転検出器から出力される検出信号の例を示す波形図である。 図７は、比較例におけるレーザ光特性の制御手順を示すフローチャートである。 図８は、比較例におけるレーザ光特性の時系列データを示すグラフである。 図９は、比較例におけるレーザ光特性の時系列データを示すグラフである。 図１０は、図９に示されるレーザ光特性の時系列データを高速フーリエ変換した結果を示すグラフである。 図１１は、レーザチャンバの内部で発生する音響波を説明するための図である。 図１２は、第１の実施形態に係るレーザ装置の構成を模式的に示す。 図１３は、第１の実施形態におけるレーザ光特性の変動成分Ｂｆｉ１（ｔ）を示すグラフである。 図１４は、第１の実施形態においてパラメータ記憶装置に記憶されるデータの第１の例を示す。 図１５は、第１の実施形態においてパラメータ記憶装置に記憶されるデータの第２の例を示す。 図１６は、第１の実施形態におけるレーザ光特性の制御手順を示すフローチャートである。 図１７は、Ｎ＋１番のパルスの制御値ＳＶｂ１Ｎ＋１を計算する処理の詳細を示すフローチャートである。 図１８は、第１の実施形態において補正された制御値ＳＶｂ１Ｎ＋１を用いて生成されたレーザ光特性の時系列データを示すグラフである。 図１９は、レーザ光特性として、パルスエネルギー、波長、又はスペクトル線幅を制御する場合に置き換えられる式及び変数を示す。 図２０は、レーザ光特性の時系列データと変動成分Ｂｆｉ１（ｔ）との差分を示すグラフである。 図２１は、第２の実施形態における変動成分Ｂｆｉ２（ｔ）を示すグラフである。 図２２は、第２の実施形態においてパラメータ記憶装置に記憶されるデータの第１の例を示す。 図２３は、第２の実施形態においてパラメータ記憶装置に記憶されるデータの第２の例を示す。 図２４は、第２の実施形態におけるレーザ光特性の制御手順を示すフローチャートである。 図２５は、Ｎ＋１番のパルスの制御値ＳＶｂ２Ｎ＋１を計算する処理の詳細を示すフローチャートである。 図２６は、第２の実施形態において補正された制御値ＳＶｂ２Ｎ＋１を用いて生成されたレーザ光特性の時系列データを示すグラフである。 図２７は、レーザ光特性として、パルスエネルギー、波長、又はスペクトル線幅を制御する場合に置き換えられる式及び変数を示す。 図２８は、レーザ装置に接続された露光装置の構成を概略的に示す。
実施形態
＜内容＞
１．比較例
　１．１　レーザ装置１の構成
　１．２　動作
　１．３　レーザ光特性Ｂの制御
　１．４　比較例の課題
２．変動原因の推定
　２．１　回転周波数ｆｋとの関係
　２．２　ブレード周波数ｆａとの関係
３．繰り返し周波数ｆ及び検出信号ＳＩＧに基づくフィードフォワード制御
　３．１　構成
　３．２　変動成分Ｂｆｉ１（ｔ）の計算
　３．３　レーザ光特性Ｂの制御
　３．４　作用
４．第１の実施形態の変形例
　４．１　第１の変形例
　４．２　第２の変形例
　４．３　第３の変形例
　４．４　第４の変形例
　４．５　第４の変形例の作用
５．ブレード周波数ｆａを用いたフィードフォワード制御
　５．１　変動成分Ｂｆｉ２（ｔ）の計算
　５．２　レーザ光特性Ｂの制御
　５．３　作用
６．第２の実施形態の変形例
　６．１　第１の変形例
　６．２　第２の変形例
　６．３　第３の変形例
　６．４　第４の変形例
７．その他
　以下、本開示の実施形態について、図面を参照しながら詳しく説明する。以下に説明される実施形態は、本開示のいくつかの例を示すものであって、本開示の内容を限定するものではない。また、各実施形態で説明される構成及び動作の全てが本開示の構成及び動作として必須であるとは限らない。なお、同一の構成要素には同一の参照符号を付して、重複する説明を省略する。
１．比較例
　１．１　レーザ装置１の構成
　図１は、比較例に係るレーザ装置１の構成を模式的に示す。本開示の比較例とは、出願人のみによって知られていると出願人が認識している形態であって、出願人が自認している公知例ではない。レーザ装置１は露光装置１００にパルスレーザ光を出力可能な放電励起式のガスレーザ装置である。露光装置１００は露光制御プロセッサ１１０を含む。
　レーザ装置１は、レーザチャンバ１０と、一対の放電電極１１ａ及び１１ｂと、電源装置１３と、狭帯域化モジュール１４と、スペクトル調整器１５と、モニタモジュール１７と、レーザ制御プロセッサ３０と、を含む。狭帯域化モジュール１４とスペクトル調整器１５とが、光共振器を構成する。レーザチャンバ１０は、光共振器の光路に配置されている。レーザ制御プロセッサ３０は、制御プログラムが記憶されたメモリ３８と、制御プログラムを実行するＣＰＵ（central processing unit）３９と、を含む処理装置である。レーザ制御プロセッサ３０は本開示に含まれる各種処理を実行するために特別に構成又はプログラムされている。レーザ制御プロセッサ３０は本開示におけるプロセッサに相当する。
　スペクトル調整器１５から出力されるパルスレーザ光の進行方向をＺ方向とする。放電電極１１ａ及び１１ｂの間の放電方向をＶ方向又は－Ｖ方向とする。Ｚ方向とＶ方向とは互いに垂直な方向であり、これらの両方に垂直な方向をＨ方向又は－Ｈ方向とする。図１においては、－Ｈ方向に見たレーザ装置１の構成が示されている。
　図２は、－Ｖ方向に見た比較例に係るレーザ装置１の一部の構成を示し、図３は、－Ｚ方向に見た比較例に係るレーザ装置１の一部の構成を示す。
　レーザチャンバ１０は、放電電極１１ａ及び１１ｂと、クロスフローファン２１と、熱交換器２３と、を収容している。図２においてはレーザチャンバ１０の内部の構成として放電電極１１ａのみ示されている。レーザチャンバ１０の両端にはウインドウ１０ａ及び１０ｂが設けられている。
　レーザチャンバ１０には、例えばレアガスとしてアルゴンガス又はクリプトンガス、ハロゲンガスとしてフッ素ガス、バッファガスとしてネオンガス等を含むレーザガスが封入される。あるいは、フッ素ガス及びバッファガスを含むレーザガスが封入されてもよい。
　レーザチャンバ１０の一部に開口が形成され、この開口が電気絶縁部２９によって塞がれている。電気絶縁部２９は放電電極１１ａを支持している。電気絶縁部２９には、複数の導電部２９ａが埋め込まれている。導電部２９ａの各々は放電電極１１ａに電気的に接続されている。電源装置１３は、図示しない充電器を含み、導電部２９ａを介して放電電極１１ａに接続されている。
　レーザチャンバ１０の内部にはリターンプレート１０ｃが配置されている。放電電極１１ｂはリターンプレート１０ｃに支持されている。放電電極１１ｂはリターンプレート１０ｃ及びレーザチャンバ１０の導電性部材を介して接地電位に電気的に接続されている。図３に示されるように、リターンプレート１０ｃは、図１の紙面の奥行側と手前側とに、レーザガスが通過するための隙間を有している。
　クロスフローファン２１は、回転軸Ａｘの周りに配置された複数のブレード２１ｂを含む。回転軸Ａｘの一端は、軸受１０ｅに支持され、レーザチャンバ１０の外部に配置された回転検出器２１ａに接続されている。回転軸Ａｘの他端は、軸受１０ｆに支持され、レーザチャンバ１０の外部に配置されたモータ２２に接続されている。クロスフローファン２１は本開示におけるファンに相当する。
　図４は、回転検出器２１ａの構成を模式的に示す。回転検出器２１ａは、軸受１０ｅに固定された筐体の内部に配置されており、回転軸Ａｘの一端に支持されたディスク２１ｃと、筐体を介して軸受１０ｅに固定された渦電流センサ２１ｅと、を含む。ディスク２１ｃは金属製であり、突起部２１ｄを含む。
　図５は、Ｚ方向に見たディスク２１ｃ及び突起部２１ｄを示す。ディスク２１ｃ及び突起部２１ｄが回転軸Ａｘとともに回転する。渦電流センサ２１ｅは第１のパルス磁場を発生させる。突起部２１ｄが渦電流センサ２１ｅの付近を通過するとき、第１のパルス磁場による渦電流が突起部２１ｄの内部で発生する。渦電流センサ２１ｅは、渦電流によって発生する第２のパルス磁場を検出し、検出信号ＳＩＧを出力する。渦電流センサ２１ｅの代わりに静電容量式のセンサが用いられてもよい。
　図６は、回転検出器２１ａから出力される検出信号ＳＩＧの例を示す波形図である。回転軸Ａｘが１回転する度に１パルスの検出信号ＳＩＧが出力される。検出信号ＳＩＧの繰り返し周波数はクロスフローファン２１の回転周波数ｆｋと一致し、検出信号ＳＩＧの周期は１／ｆｋである。検出信号ＳＩＧはレーザ制御プロセッサ３０に送信される。
　図１及び図２を再び参照し、狭帯域化モジュール１４は、複数のプリズム１４ａ及び１４ｂとグレーティング１４ｃとを含む。プリズム１４ａ及び１４ｂは、ウインドウ１０ａから出射した光の光路にこの順で配置されている。光が入出射するプリズム１４ａ及び１４ｂの表面はいずれもＶ方向に平行である。プリズム１４ｂは、回転ステージ１４ｄに支持されている。回転ステージ１４ｄは図示しないドライバを含む。グレーティング１４ｃは、プリズム１４ａ及び１４ｂを透過した光の光路に配置されている。グレーティング１４ｃの溝の方向は、Ｖ方向に平行である。
　スペクトル調整器１５は、シリンドリカル平凹レンズ１５ａ及びシリンドリカル平凸レンズ１５ｂを含む。レーザチャンバ１０とシリンドリカル平凸レンズ１５ｂとの間に、シリンドリカル平凹レンズ１５ａが位置する。シリンドリカル平凸レンズ１５ｂの凸面とシリンドリカル平凹レンズ１５ａの凹面とは互いに向かい合っており、それぞれＶ方向に平行な焦点軸を有する。シリンドリカル平凸レンズ１５ｂの凸面の反対側に位置する平らな面は、部分反射膜でコーティングされている。シリンドリカル平凹レンズ１５ａは、リニアステージ１５ｄに支持されている。リニアステージ１５ｄは図示しないドライバを含む。
　モニタモジュール１７は、ビームスプリッタ１７ａ及び１７ｂと、エネルギーセンサ１７ｃと、ビームモニタ１７ｄと、を含む。ビームスプリッタ１７ａは、スペクトル調整器１５から出力されたパルスレーザ光の光路に位置する。ビームスプリッタ１７ａは、パルスレーザ光の一部を露光装置１００に向けて高い透過率で透過させるとともに、他の一部を反射するように構成されている。ビームスプリッタ１７ｂは、ビームスプリッタ１７ａによって反射されたパルスレーザ光の光路に位置する。エネルギーセンサ１７ｃは、ビームスプリッタ１７ｂによって反射されたパルスレーザ光の光路に位置する。ビームモニタ１７ｄは、ビームスプリッタ１７ｂを透過したパルスレーザ光の光路に位置し、図示しないエタロン分光器を含む。モニタモジュール１７は本開示におけるレーザ光検出器に相当する。
　１．２　動作
　レーザ制御プロセッサ３０は、露光制御プロセッサ１１０から、パルスエネルギーＥ、波長λ、及びスペクトル線幅Δλのそれぞれの目標値Ｅｔ、λｔ、及びΔλｔの設定データと、発光トリガ信号と、を受信する。
　レーザ制御プロセッサ３０は、パルスエネルギーＥの目標値Ｅｔの設定データに基づいて、電源装置１３に含まれる充電器に充電電圧の設定データを送信する。また、レーザ制御プロセッサ３０は、発光トリガ信号に基づいて、電源装置１３にトリガ信号を送信する。
　電源装置１３は、レーザ制御プロセッサ３０からトリガ信号を受信すると、充電器に充電された電気エネルギーからパルス状の高電圧を生成し、この高電圧を放電電極１１ａ及び１１ｂの間に印加する。
　放電電極１１ａ及び１１ｂの間に高電圧が印加されると、放電電極１１ａ及び１１ｂの間に放電が起こる。この放電のエネルギーにより、レーザチャンバ１０内のレーザ媒質が励起されて高エネルギー準位に移行する。励起されたレーザ媒質が、その後低エネルギー準位に移行するとき、そのエネルギー準位差に応じた波長の光を放出する。
　レーザチャンバ１０内で発生した光は、ウインドウ１０ａ及び１０ｂを介してレーザチャンバ１０の外部に出射する。レーザチャンバ１０のウインドウ１０ａから出射した光は、Ｈ方向のビーム幅をプリズム１４ａ及び１４ｂによって拡大させられて、グレーティング１４ｃに入射する。
　グレーティング１４ｃに入射した光は、グレーティング１４ｃの複数の溝によって反射されるとともに、光の波長に応じた方向に回折させられる。グレーティング１４ｃに入射した光の入射角と、所望波長の回折光の回折角と、を一致させることで、グレーティング１４ｃからプリズム１４ｂに入射する回折光の波長が選択される。プリズム１４ｂ及び１４ａは、グレーティング１４ｃから入射した回折光のＨ方向のビーム幅を縮小させるとともに、その光を、ウインドウ１０ａを介して、レーザチャンバ１０に戻す。
　スペクトル調整器１５に含まれるシリンドリカル平凸レンズ１５ｂは、レーザチャンバ１０のウインドウ１０ｂから出射した光のうちの一部を透過させて出力し、他の一部を反射してレーザチャンバ１０内に戻す。
　このようにして、レーザチャンバ１０から出射した光は、狭帯域化モジュール１４とスペクトル調整器１５との間で往復し、放電電極１１ａ及び１１ｂの間の放電空間を通過する度に増幅される。この光は、狭帯域化モジュール１４で折り返される度に狭帯域化される。こうしてレーザ発振し狭帯域化された光が、スペクトル調整器１５からパルスレーザ光として出力される。
　レーザ制御プロセッサ３０は、波長λの目標値λｔの設定データに基づいて、狭帯域化モジュール１４に含まれる回転ステージ１４ｄにプリズム１４ｂの回転角度の制御信号を送信する。回転ステージ１４ｄは、制御信号に従ってプリズム１４ｂをＶ方向に平行な軸周りに回転させる。プリズム１４ｂを回転させることにより狭帯域化モジュール１４の選択波長が調整され、パルスレーザ光の波長λが調整される。パルスレーザ光の波長λとは例えば中心波長である。
　レーザ制御プロセッサ３０は、スペクトル線幅Δλの目標値Δλｔの設定データに基づいて、スペクトル調整器１５に含まれるリニアステージ１５ｄにシリンドリカル平凹レンズ１５ａの位置の制御信号を送信する。リニアステージ１５ｄは、制御信号に従ってシリンドリカル平凹レンズ１５ａをレーザチャンバ１０とシリンドリカル平凸レンズ１５ｂとの間の光路に沿って移動させる。これにより、スペクトル調整器１５から狭帯域化モジュール１４へ向かう光の波面が変化する。波面が変化することにより、パルスレーザ光のスペクトル波形及びスペクトル線幅Δλが調整される。
　エネルギーセンサ１７ｃは、パルスレーザ光のパルスエネルギーＥを検出し、パルスエネルギーＥのデータをレーザ制御プロセッサ３０に出力する。パルスエネルギーＥのデータは、レーザ制御プロセッサ３０が電源装置１３に送信する充電電圧の設定データをフィードバック制御するのに用いられる。
　ビームモニタ１７ｄに含まれるエタロン分光器は、パルスレーザ光の干渉縞の波形を取得し、干渉縞の波形データをレーザ制御プロセッサ３０に出力する。レーザ制御プロセッサ３０は干渉縞の位置からパルスレーザ光の波長λを計算し、干渉縞の波形のうちのフリースペクトラルレンジに相当する一部分の波形からパルスレーザ光のスペクトル線幅Δλを計算する。波長λの計算結果は、レーザ制御プロセッサ３０がプリズム１４ｂの回転角度をフィードバック制御するのに用いられ、スペクトル線幅Δλの計算結果は、レーザ制御プロセッサ３０がシリンドリカル平凹レンズ１５ａの位置をフィードバック制御するのに用いられる。
　レーザ制御プロセッサ３０は、クロスフローファン２１を回転させるためにモータ２２に制御信号を送信する。モータ２２がクロスフローファン２１を回転させると、図３に矢印Ａで示されるようにレーザガスが流れてレーザチャンバ１０の内部で循環する。放電電極１１ａ及び１１ｂの間の放電によって生成された放電生成物は、次の放電の時までにレーザガスの流れによって放電空間から除去され、放電空間及びその近傍は放電生成物の少ない状態となるので、放電が安定化し得る。回転検出器２１ａは、クロスフローファン２１の回転を検出してレーザ制御プロセッサ３０に出力する。熱交換器２３は、放電によって高温となったレーザガスの熱エネルギーをレーザチャンバ１０の外部に排出する。
　１．３　レーザ光特性Ｂの制御
　図７は、比較例におけるレーザ光特性Ｂの制御手順を示すフローチャートである。レーザ光特性Ｂは、例えば、パルスエネルギーＥ、波長λ、及びスペクトル線幅Δλのいずれかである。レーザ制御プロセッサ３０は、以下の処理を行うことによりレーザ光特性Ｂをフィードバック制御する。
　Ｓ２０において、レーザ制御プロセッサ３０は、パルスレーザ光のパルス番号Ｎを１にセットする。
　Ｓ３０において、レーザ制御プロセッサ３０は、Ｎ番のパルスの制御値ＳＶｂＮを初期値にセットする。レーザ光特性ＢがパルスエネルギーＥであれば、制御値ＳＶｂは電源装置１３に設定される充電電圧である。レーザ光特性Ｂが波長λであれば、制御値ＳＶｂは回転ステージ１４ｄによって回転するプリズム１４ｂの姿勢角である。レーザ光特性Ｂがスペクトル線幅Δλであれば、制御値ＳＶｂはリニアステージ１５ｄによって移動するシリンドリカル平凹レンズ１５ａの位置である。Ｎ番などのパルス番号が特定されるときは制御値ＳＶｂＮのように添え字が付与される。初期値は、例えばレーザ光特性Ｂの目標値Ｂｔに対応して、予め定められた値である。
　Ｓ４０において、レーザ制御プロセッサ３０は、レーザ発振してパルスレーザ光が１パルス出力されるように、電源装置１３にトリガ信号を送信する。
　Ｓ６０において、レーザ制御プロセッサ３０は、Ｎ番のパルスのレーザ光特性ＢｎＮを計測する。
　Ｓ７０において、レーザ制御プロセッサ３０は、Ｎ＋１番のパルスの制御値ＳＶｂＮ＋１を以下の式１により計算する。
　　　ＳＶｂＮ＋１＝－Ｇｂ×（ＢｎＮ－Ｂｔ）×Ｋｂ＋ＳＶｂＮ　・・・（式１）
ここで、Ｇｂは制御ゲインであり、Ｂｔはレーザ光特性Ｂの目標値であり、Ｋｂはレーザ光特性Ｂの変化量に対する制御値ＳＶｂの変化量の比を示す比例定数である。Ｎ番のパルスのレーザ光特性ＢｎＮと目標値Ｂｔとの差に基づいてＮ＋１番のパルスの制御値ＳＶｂＮ＋１を計算することで、Ｎ＋１番のパルスのレーザ光特性ＢｎＮ＋１が目標値Ｂｔに近づくようにフィードバック制御される。比較例で求められる制御値ＳＶｂＮ＋１は本開示において補正される前の制御値に相当する。Ｎ番のパルスは本開示における第１のパルスに相当し、Ｎ＋１番のパルスは本開示における第２のパルスに相当する。
　Ｓ８０において、レーザ制御プロセッサ３０は、Ｎ＋１番のパルスの制御値ＳＶｂＮ＋１を計算された値にセットし、対応する調整器に送信する。レーザ光特性ＢがパルスエネルギーＥであれば、調整器は電源装置１３である。レーザ光特性Ｂが波長λであれば、調整器は回転ステージ１４ｄである。レーザ光特性Ｂがスペクトル線幅Δλであれば、調整器はリニアステージ１５ｄである。
　Ｓ９０において、レーザ制御プロセッサ３０は、パルスレーザ光のパルス番号Ｎに１を加算してＮの値を更新する。
　Ｓ１００において、レーザ制御プロセッサ３０は、レーザ光特性Ｂの制御を終了するか否かを判定する。例えば、一定の繰り返し周波数ｆによるパルスレーザ光の出力を休止する場合に、レーザ光特性Ｂの制御を終了する。レーザ光特性Ｂの制御を終了する場合（Ｓ１００：ＹＥＳ）、レーザ制御プロセッサ３０は本フローチャートの処理を終了する。レーザ光特性Ｂの制御を終了しない場合（Ｓ１００：ＮＯ）、レーザ制御プロセッサ３０はＳ４０に処理を戻す。
　１．４　比較例の課題
　図８及び図９は、比較例におけるレーザ光特性Ｂの時系列データを示すグラフである。レーザ光特性Ｂとして、パルスエネルギーＥが制御されている。時系列データはモニタモジュール１７から取得される。図８においてはパルスレーザ光の繰り返し周波数ｆが６０００Ｈｚであり、図９においては繰り返し周波数ｆが１０００Ｈｚである。図８及び図９のいずれにおいてもパルスエネルギーＥの目標値Ｅｔは１０．０ｍＪである。図７に示される処理によりパルスエネルギーＥをフィードバック制御しても、図８及び図９に示されるようにパルスエネルギーＥが変動して目標値Ｅｔからずれることがある。また、図８及び図９を比較すると、パルスエネルギーＥの変動の様子は繰り返し周波数ｆによって異なる場合があることがわかる。図９に示されるように、パルスエネルギーＥの変動は周期性を有する場合がある。パルスエネルギーＥが変動すると、露光装置１００における露光性能にばらつきが生じ、半導体デバイスの品質が不安定となるおそれがある。
　以下に説明するいくつかの実施形態は、パルスエネルギーＥなどのレーザ光特性Ｂをより安定化させ、目標値Ｂｔに近づけることに関連している。
２．変動原因の推定
　図１０は、図９に示されるレーザ光特性Ｂの時系列データを高速フーリエ変換した結果を示すグラフである。図１０から、図９に示されるレーザ光特性Ｂの時系列データは、６６Ｈｚ及び８８Ｈｚの２つの周波数成分を多く含むことがわかった。
　２．１　回転周波数ｆｋとの関係
　図１０に示される１つめの周波数成分である６６Ｈｚは、クロスフローファン２１の回転周波数ｆｋとほぼ一致していた。クロスフローファン２１の回転によってレーザ装置１に振動が生じると、レーザ装置１に含まれる各種の光学素子に振動が伝わり、その振動に同期して光学素子のアライメントが変化する可能性がある。そこで、レーザ光特性Ｂの変動に含まれる６６Ｈｚの周波数成分は、クロスフローファン２１の回転に同期した振動がレーザ装置１に生じていることに起因するものと推測された。なお、レーザ光特性ＢとしてはパルスエネルギーＥだけでなく、例えば、プリズム１４ａ及び１４ｂのアライメントの変化により波長λが変動したり、シリンドリカル平凹レンズ１５ａのアライメントの変化によりスペクトル線幅Δλが変動したりする可能性もある。
　第１の実施形態においては、繰り返し周波数ｆだけでなく、クロスフローファン２１の回転を示す検出信号ＳＩＧに基づいて、レーザ光特性Ｂをフィードフォワード制御する。また、第１の実施形態においては、回転周波数ｆｋを用いて、レーザ光特性Ｂをフィードフォワード制御する。
　２．２　ブレード周波数ｆａとの関係
　クロスフローファン２１の回転周波数ｆｋとブレード２１ｂの数との積をブレード周波数ｆａとする。比較例において回転周波数ｆｋは６６Ｈｚであり、ブレード２１ｂの数は４４枚である。このとき、ブレード周波数ｆａは２９０４Ｈｚであり、２９０４Ｈｚの周波数成分をパルスレーザ光の繰り返し周波数ｆである１０００Ｈｚでサンプリングしたときの観測周波数は、計算上９６Ｈｚとなる。図１０に示される２つめの周波数成分である８８Ｈｚは、９６Ｈｚと完全には一致していないが、量子化誤差を考えるとブレード周波数ｆａの観測周波数に対応するものと考えられる。
　図１１は、レーザチャンバ１０の内部で発生する音響波Ｗ１及びＷ２を説明するための図である。図１１は、図３においてガス流れを示す矢印Ａを省略した代わりに音響波Ｗ１及びＷ２を図示したものに相当する。放電電極１１ａ及び１１ｂの間の放電空間では繰り返し周波数ｆの放電が発生しており、その放電に同期して、放電空間内のガスの励起及び加熱によってガスの粗密波が発生する。放電空間で生じた粗密波はレーザチャンバ１０内の空間を伝播する。この粗密波を音響波Ｗ１ということがある。音響波Ｗ１はレーザチャンバ１０内の構成要素に当たって反射される。
　音響波Ｗ１がクロスフローファン２１のブレード２１ｂに当たった場合、ブレード２１ｂによって反射された音響波Ｗ２は、ブレード周波数ｆａの影響を受ける可能性がある。音響波Ｗ２が放電空間に達すると、放電空間におけるレーザガスの粗密が変化するので、パルスエネルギーＥが変動する可能性がある。そこで、レーザ光特性Ｂの変動に含まれる８８Ｈｚの周波数成分は、ブレード２１ｂによって反射された音響波Ｗ２に起因するものと推測された。なお、放電空間におけるレーザガスの粗密が変化すれば、放電空間の屈折率分布も変化するので、レーザ光特性ＢとしてはパルスエネルギーＥだけでなく、波長λやスペクトル線幅Δλが変動する可能性もある。
　第２の実施形態においては、ブレード周波数ｆａを用いて、レーザ光特性Ｂをフィードフォワード制御する。
３．繰り返し周波数ｆ及び検出信号ＳＩＧに基づくフィードフォワード制御
　３．１　構成
　図１２は、第１の実施形態に係るレーザ装置１ａの構成を模式的に示す。レーザ装置１ａは、パラメータ記憶装置３７ａを含む。パラメータ記憶装置３７ａは、レーザ制御プロセッサ３０によってアクセス可能に構成され、図１３～図１５を参照しながら説明するパラメータを記憶している。パラメータ記憶装置３７ａは、レーザ制御プロセッサ３０の内部のメモリ３８に含まれるものでもよい。
　３．２　変動成分Ｂｆｉ１（ｔ）の計算
　図１３は、第１の実施形態におけるレーザ光特性Ｂの変動成分Ｂｆｉ１（ｔ）を示すグラフである。図１３は図９に示されるレーザ光特性Ｂの時系列データを再掲するとともに、クロスフローファン２１の回転を示す検出信号ＳＩＧと、第１の実施形態で計算される変動成分Ｂｆｉ１（ｔ）とを示している。検出信号ＳＩＧは、回転検出器２１ａから１／ｆｋの周期で出力される（図６参照）。
　変動成分Ｂｆｉ１（ｔ）は、検出信号ＳＩＧの周期と同一の１／ｆｋの周期を有する周期関数であり、周期関数は例えば正弦関数である。変動成分Ｂｆｉ１（ｔ）は本開示における第１の周期関数に相当し、１／ｆｋは本開示における第１の周期に相当する。変動成分Ｂｆｉ１（ｔ）は、レーザ光特性Ｂの時系列データに周期１／ｆｋの正弦曲線をフィッティングして求められる。正弦曲線の初期位相は、検出信号ＳＩＧに対する正弦曲線の位相のずれΔｋｂ１で与えられる。図１０を参照しながら説明したように時系列データのフーリエ解析の結果が得られている場合、正弦曲線の振幅Ａｋｂ１は、クロスフローファン２１の回転周波数ｆｋに対応する強度から求められてもよい。Ａｋｂ１は本開示における第１の振幅に相当する。
　以上のようにして周期１／ｆｋ、位相のずれΔｋｂ１、及び振幅Ａｋｂ１が求められれば、変動成分Ｂｆｉ１（ｔ）は以下の式で与えられる。
　　　Ｂｆｉ１（ｔ）＝Ａｋｂ１×ｓｉｎ（２×π×ｆｋ×ｔ－Δｋｂ１）
　図１３に、時系列データにフィッティングされた変動成分Ｂｆｉ１（ｔ）が示されている。但し、パルスエネルギーＥの目標値Ｅｔである１０ｍＪの位置に、変動成分Ｂｆｉ１（ｔ）の値が０となる横軸の位置を合わせている。変動成分Ｂｆｉ１（ｔ）はクロスフローファン２１の回転と同期して変動する。
　第１の実施形態においては、比較例で求められるＮ＋１番のパルスの制御値ＳＶｂＮ＋１（図７参照）を、変動成分Ｂｆｉ１（ｔ）を用いたフィードフォワード制御によって補正することにより、補正された制御値ＳＶｂ１Ｎ＋１を計算する。これにより、レーザ光特性Ｂの変動を相殺して目標値Ｂｔからのずれを抑制するような制御が可能となる。
　図１４は、第１の実施形態においてパラメータ記憶装置３７ａに記憶されるデータの第１の例を示す。図８及び図９を参照しながら説明したように、パルスレーザ光の繰り返し周波数ｆが異なればレーザ光特性Ｂが異なることがあるので、パルスレーザ光の繰り返し周波数ｆごとに異なる変動成分Ｂｆｉ１（ｔ）が用いられる。そこで、パラメータ記憶装置３７ａには、繰り返し周波数ｆと、振幅Ａｋｂ１、回転周波数ｆｋ、及び位相のずれΔｋｂ１を含むパラメータと、の対応関係を含むデータが記憶される。繰り返し周波数ｆを用いてパラメータ記憶装置３７ａを検索することにより、対応するパラメータを取得することができる。但し、クロスフローファン２１の回転周波数ｆｋは、繰り返し周波数ｆに依存せず互いに同じ値ｆｋ１であってもよい。また位相のずれΔｋｂ１も、繰り返し周波数ｆに依存せず互いに同じ値であってもよい。
　図１５は、第１の実施形態においてパラメータ記憶装置３７ａに記憶されるデータの第２の例を示す。クロスフローファン２１の回転周波数ｆｋを、例えば消費電力の低減を目的として変更可能とし、回転周波数ｆｋの変化に応じて異なる変動成分Ｂｆｉ１（ｔ）が用いられるようにしてもよい。そこで、パラメータ記憶装置３７ａには、繰り返し周波数ｆ及び回転周波数ｆｋの組合せと、振幅Ａｋｂ１及び位相のずれΔｋｂ１を含むパラメータと、の対応関係を含むデータが記憶されてもよい。繰り返し周波数ｆ及び回転周波数ｆｋを用いてパラメータ記憶装置３７ａを検索することにより、対応するパラメータを取得することができる。第２の例において、回転周波数ｆｋはパラメータの１つでもある。回転周波数ｆｋは、例えば３０Ｈｚ以上９５Ｈｚ以下の範囲で設定され、好ましくは、６３Ｈｚ、６６Ｈｚ、又は７５Ｈｚである。
　３．３　レーザ光特性Ｂの制御
　図１６は、第１の実施形態におけるレーザ光特性Ｂの制御手順を示すフローチャートである。レーザ制御プロセッサ３０は、以下の処理により、比較例におけるフィードバック制御（図７参照）に加えて、繰り返し周波数ｆと検出信号ＳＩＧとに基づくフィードフォワード制御を行う。
　Ｓ１０ａにおいて、レーザ制御プロセッサ３０は、検出信号ＳＩＧを受信した時にタイマーをスタートさせる。後述するＳ５０ａにおいて時刻ｔＮをタイマーから読み込み、Ｓ７１ａにおいて時刻ｔＮ＋１を計算することで、検出信号ＳＩＧのタイミングを基準とした制御が行われる。ここではＳ１０ａでスタートさせたタイマーを本フローチャートの途中でリセットせずにタイマーのカウントを続ける場合について説明したが、本開示はこれに限定されない。検出信号ＳＩＧを受信するごとに、タイマーをリセット及びスタートさせるようにしてもよい。
　Ｓ２０、Ｓ３０ａ、及びＳ４０の処理は、それぞれ図７を参照しながら説明したＳ２０、Ｓ３０、及びＳ４０とほぼ同様である。なお、Ｓ３０ａにおいては、比較例における制御値ＳＶｂＮと区別するために、制御値の符号をＳＶｂ１Ｎとしている。
　Ｓ５０ａにおいて、レーザ制御プロセッサ３０は、Ｎ番のパルスを発振した時刻ｔＮをタイマーから読み込む。時刻ｔＮは本開示における第１の時刻に相当する。
　Ｓ６０の処理は、図７を参照しながら説明したものと同様である。
　Ｓ７０ａにおいて、レーザ制御プロセッサ３０は、図７を参照しながら説明したＮ＋１番のパルスの制御値ＳＶｂＮ＋１の代わりに、Ｎ＋１番のパルスの制御値ＳＶｂ１Ｎ＋１を以下のようにして計算する。
　図１７は、Ｎ＋１番のパルスの制御値ＳＶｂ１Ｎ＋１を計算する処理の詳細を示すフローチャートである。図１７に示される処理は、図１６のＳ７０ａのサブルーチンに相当する。
　Ｓ７１ａにおいて、レーザ制御プロセッサ３０は、Ｎ＋１番のパルスを発振する時刻ｔＮ＋１を計算する。時刻ｔＮ＋１は、Ｎ番のパルスを発振した時刻ｔＮに繰り返し周波数ｆの逆数１／ｆを加算することで計算される。時刻ｔＮ＋１は本開示における第２の時刻に相当する。
　Ｓ７２ａにおいて、レーザ制御プロセッサ３０は、繰り返し周波数ｆに基づいて変動成分Ｂｆｉ１（ｔ）のパラメータを取得する。変動成分Ｂｆｉ１（ｔ）のパラメータは、パラメータ記憶装置３７ａに記憶された振幅Ａｋｂ１、回転周波数ｆｋ、及び位相のずれΔｋｂ１を含む。
　Ｓ７３ａにおいて、レーザ制御プロセッサ３０は、Ｎ＋１番のパルスの制御値ＳＶｂ１Ｎ＋１を以下の式２により計算する。
　　　ＳＶｂ１Ｎ＋１＝－［Ｇｂ×（ＢｎＮ－Ｂｔ）＋ｇｂ１×｛Ｂｆｉ１（ｔＮ＋１）－Ｂｆｉ１（ｔＮ）｝］×Ｋｂ＋ＳＶｂ１Ｎ　・・・（式２）
ここで、ｇｂ１は制御ゲインである。
　式２は、比較例における式１の右辺からｇｂ１×｛Ｂｆｉ１（ｔＮ＋１）－Ｂｆｉ１（ｔＮ）｝×Ｋｂを減算したものに対応する。比較例においてはＮ番のパルスのレーザ光特性ＢｎＮと目標値Ｂｔとの差に基づいてＮ＋１番のパルスの制御値ＳＶｂＮ＋１を計算しているので、制御値ＳＶｂＮ＋１にはすでにＮ番のパルスの時刻ｔＮに対応する変動成分の第１の値Ｂｆｉ１（ｔＮ）が盛り込まれている。そこで、第１の実施形態においては、Ｎ＋１番のパルスの時刻ｔＮ＋１に対応する変動成分の第２の値Ｂｆｉ１（ｔＮ＋１）とＮ番のパルスの時刻ｔＮに対応する変動成分の第１の値Ｂｆｉ１（ｔＮ）との差を用いて、比較例における制御値ＳＶｂＮ＋１を補正している。
　Ｓ７３ａの後、レーザ制御プロセッサ３０は本フローチャートの処理を終了し、図１６に示される処理に戻る。
　図１６を再び参照する。Ｓ８０ａ、Ｓ９０、及びＳ１００の処理は、それぞれ図７を参照しながら説明したＳ８０、Ｓ９０、及びＳ１００とほぼ同様である。なお、Ｓ８０ａにおいては、比較例における制御値ＳＶｂＮ＋１と区別するために、制御値の符号をＳＶｂ１Ｎ＋１としている。
　３．４　作用
　（１）第１の実施形態に係るレーザ装置１ａは、レーザチャンバ１０と、一対の放電電極１１ａ及び１１ｂと、クロスフローファン２１と、回転検出器２１ａと、電源装置１３、回転ステージ１４ｄ、リニアステージ１５ｄ等の調整器と、レーザ制御プロセッサ３０と、を備える。放電電極１１ａ及び１１ｂはレーザチャンバ１０内に配置される。クロスフローファン２１はレーザチャンバ１０内に配置され、放電電極１１ａ及び１１ｂの間にレーザチャンバ１０内のレーザガスを流す。回転検出器２１ａはクロスフローファン２１の回転を検出する。調整器は、レーザチャンバ１０で生成されるパルスレーザ光のレーザ光特性Ｂを調整する。レーザ制御プロセッサ３０は、パルスレーザ光の繰り返し周波数ｆと回転検出器２１ａの検出信号ＳＩＧとに基づいて、調整器の制御値ＳＶｂＮ＋１を補正し、補正された制御値ＳＶｂ１Ｎ＋１で調整器を制御する。
　これによれば、繰り返し周波数ｆとクロスフローファン２１の回転の影響を受けるレーザ光特性Ｂの変動をキャンセルするように制御値ＳＶｂＮ＋１を補正でき、レーザ光特性Ｂを精度よく制御し得る。
　図１８は、第１の実施形態において補正された制御値ＳＶｂ１Ｎ＋１を用いて生成されたレーザ光特性Ｂの時系列データを示すグラフである。レーザ光特性Ｂとして、パルスエネルギーＥが制御されている。図１８は、比較例におけるレーザ光特性Ｂの時系列データと変動成分Ｂｆｉ１（ｔ）との差分（図２０参照）にほぼ一致する。パルスレーザ光の繰り返し周波数ｆは１０００Ｈｚであり、パルスエネルギーＥの目標値Ｅｔは１０．０ｍＪである。図９に示される比較例と比べて、パルスエネルギーＥの変動の幅が小さくなり、レーザ光特性Ｂの制御の精度が向上している。
　（２）第１の実施形態によれば、レーザ制御プロセッサ３０は、レーザ光特性Ｂの目標値Ｂｔからのずれを抑制するように制御値ＳＶｂＮ＋１を補正する。
　これによれば、目標値Ｂｔからのずれを抑制することでレーザ光特性Ｂを安定化し得る。
　（３）第１の実施形態によれば、レーザ装置１ａはレーザ光特性Ｂを計測するモニタモジュール１７を備える。レーザ制御プロセッサ３０は、パルスレーザ光のＮ番のパルスのレーザ光特性ＢｎＮの目標値Ｂｔとの差に基づくフィードバック制御によってＮ番のパルスの後のＮ＋１番のパルスのレーザ光特性ＢｎＮ＋１が目標値Ｂｔに近づくように設定される制御値ＳＶｂＮ＋１を、繰り返し周波数ｆと検出信号ＳＩＧとに基づくフィードフォワード制御によって補正する。
　これによれば、フィードバック制御にフィードフォワード制御を組み合わせることで、レーザ光特性Ｂを精度よく制御し得る。
　（４）第１の実施形態によれば、レーザ制御プロセッサ３０は、クロスフローファン２１の回転と同期して変動するレーザ光特性Ｂの変動成分Ｂｆｉ１（ｔ）を算出し、変動成分Ｂｆｉ１（ｔ）を用いて、制御値ＳＶｂＮ＋１を補正する。
　これによれば、クロスフローファン２１の回転と同期する変動成分Ｂｆｉ１（ｔ）を用いることで、クロスフローファン２１の回転に起因するレーザ光特性Ｂの変動を抑制し得る。
　（５）第１の実施形態によれば、レーザ制御プロセッサ３０は、Ｎ番のパルスをレーザ発振した時刻ｔＮに対応する変動成分の第１の値Ｂｆｉ１（ｔＮ）と、Ｎ＋１番のパルスをレーザ発振する時刻ｔＮ＋１に対応する変動成分の第２の値Ｂｆｉ１（ｔＮ＋１）と、の差に基づいて、制御値ＳＶｂＮ＋１を補正する。
　これによれば、Ｎ番のパルスのレーザ光特性Ｂの目標値Ｂｔとの差に基づくフィードバック制御による制御値ＳＶｂＮ＋１を、Ｎ番のパルスに対応する変動成分Ｂｆｉ１（ｔＮ）及びＮ＋１番のパルスに対応する変動成分Ｂｆｉ１（ｔＮ＋１）の差を用いたフィードフォワード制御によって、精度よく補正し得る。
　（６）第１の実施形態によれば、レーザ制御プロセッサ３０は、時刻ｔＮを計測によって取得し、時刻ｔＮ＋１を、時刻ｔＮと繰り返し周波数ｆとに基づく計算によって取得する。
　これによれば、時刻ｔＮを実際に計測し、計測した時刻ｔＮを用いて時刻ｔＮ＋１を計算するので、変動成分Ｂｆｉ１（ｔＮ）及びＢｆｉ１（ｔＮ＋１）の差に基づく補正を精度よく行い得る。
　（７）第１の実施形態によれば、時刻ｔＮ及びｔＮ＋１は検出信号ＳＩＧを受信した時を基準とした経過時間である。
　これによれば、検出信号ＳＩＧを受信した時を基準とすることで、クロスフローファン２１の回転と同期した変動成分Ｂｆｉ１（ｔ）を用いた補正を精度よく行い得る。
　（８）第１の実施形態によれば、レーザ制御プロセッサ３０は、クロスフローファン２１の回転周波数ｆｋの逆数を周期とする周期関数である変動成分Ｂｆｉ１（ｔ）を用いて、制御値ＳＶｂＮ＋１を補正する。
　回転周波数ｆｋの逆数を周期とする周期関数を用いることで、クロスフローファン２１の回転による振動に起因したレーザ光特性Ｂの周期的な変動を精度よく抑制し得る。
　（９）第１の実施形態によれば、レーザ装置１ａはレーザ光特性Ｂを計測するモニタモジュール１７を備える。レーザ制御プロセッサ３０は、モニタモジュール１７からレーザ光特性Ｂの時系列データを取得し、時系列データに正弦曲線をフィッティングして変動成分Ｂｆｉ１（ｔ）を求める。
　これによれば、実際に計測した時系列データを用いることで、変動成分Ｂｆｉ１（ｔ）を精度よく求めることができる。変動成分Ｂｆｉ１（ｔ）は、例えば、レーザ装置１ａを組み立てた後の調整のときに求められる。
　（１０）第１の実施形態によれば、レーザ制御プロセッサ３０は、時系列データをフーリエ解析して回転周波数ｆｋに対応する強度から正弦曲線の振幅Ａｋｂ１を求め、時系列データに振幅Ａｋｂ１を有する正弦曲線をフィッティングする。
　これによれば、時系列データのフーリエ解析から正弦曲線の振幅Ａｋｂ１を求めるので、変動成分Ｂｆｉ１（ｔ）を精度よく求めることができる。
　（１１）第１の実施形態によれば、レーザ制御プロセッサ３０は、繰り返し周波数ｆと、制御値ＳＶｂＮ＋１を補正するためのパラメータと、の対応関係を含むデータにアクセス可能に構成される。レーザ制御プロセッサ３０は、繰り返し周波数ｆを用いてデータを検索して取得したパラメータを用いて、制御値ＳＶｂＮ＋１を補正する。
　これによれば、予め作成されたデータを用いることにより、制御値ＳＶｂＮ＋１を補正するためのパラメータを迅速に取得し得る。
　（１２）第１の実施形態によれば、レーザ制御プロセッサ３０は、繰り返し周波数ｆと、クロスフローファン２１の回転周波数ｆｋと、制御値ＳＶｂＮ＋１を補正するためのパラメータと、の対応関係を含むデータにアクセス可能に構成される。レーザ制御プロセッサ３０は、繰り返し周波数ｆと回転周波数ｆｋとを用いてデータを検索して取得したパラメータを用いて、制御値ＳＶｂＮ＋１を補正する。
　これによれば、繰り返し周波数ｆと回転周波数ｆｋとの両方に基づいてパラメータを取得することにより、きめ細かな補正をし得る。
　その他の点については、第１の実施形態は比較例と同様である。
４．第１の実施形態の変形例
　図１９は、レーザ光特性Ｂとして、パルスエネルギーＥ、波長λ、又はスペクトル線幅Δλを制御する場合に置き換えられる式及び変数を示す。
　４．１　第１の変形例
　第１の変形例においては、レーザ光特性ＢとしてパルスエネルギーＥを制御する。この場合、変動成分Ｂｆｉ１（ｔ）の代わりに、以下の式で与えられるパルスエネルギーＥの変動成分Ｅｆｉ１（ｔ）が用いられる。
　　　Ｅｆｉ１（ｔ）＝Ａｋｅ１×ｓｉｎ（２×π×ｆｋ×ｔ－Δｋｅ１）
ここで、Ａｋｅ１は変動成分Ｅｆｉ１（ｔ）の振幅である。
　レーザ光特性ＢとしてパルスエネルギーＥを制御する場合、Ｎ＋１番のパルスの制御値ＳＶｂ１Ｎ＋１の代わりに、以下の式で与えられる制御値ＳＶｅ１Ｎ＋１が用いられる。
　　　ＳＶｅ１Ｎ＋１＝－［Ｇｅ×（ＥｎＮ－Ｅｔ）＋ｇｅ１×｛Ｅｆｉ１（ｔＮ＋１）－Ｅｆｉ１（ｔＮ）｝］×Ｋｅ＋ＳＶｅ１Ｎ
ここで、各変数の意味は以下の通りである。
・ＧｅはパルスエネルギーＥのフィードバック制御の制御ゲインである。
・ＥｎＮはＮ番のパルスのパルスエネルギーＥである。
・ＥｔはパルスエネルギーＥの目標値である。
・ｇｅ１は回転周波数ｆｋを用いたパルスエネルギーＥのフィードフォワード制御の制御ゲインである。
・Ｅｆｉ１（ｔＮ＋１）及びＥｆｉ１（ｔＮ）は、それぞれ時刻ｔＮ＋１及びｔＮに対応するパルスエネルギーＥの変動成分Ｅｆｉ１（ｔ）の値である。
・ＫｅはパルスエネルギーＥの変化量に対する制御値ＳＶｅ１の変化量の比を示す比例定数である。
　その他の点については、第１の変形例は第１の実施形態と同様である。
　４．２　第２の変形例
　第２の変形例においては、レーザ光特性Ｂとして波長λを制御する。この場合、変動成分Ｂｆｉ１（ｔ）の代わりに、以下の式で与えられる波長λの変動成分λｆｉ１（ｔ）が用いられる。
　　　λｆｉ１（ｔ）＝Ａｋλ１×ｓｉｎ（２×π×ｆｋ×ｔ－Δｋλ１）
ここで、Ａｋλ１は変動成分λｆｉ１（ｔ）の振幅である。
　レーザ光特性Ｂとして波長λを制御する場合、Ｎ＋１番のパルスの制御値ＳＶｂ１Ｎ＋１の代わりに、以下の式で与えられる制御値ＳＶλ１Ｎ＋１が用いられる。
　　　ＳＶλ１Ｎ＋１＝－［Ｇλ×（λｎＮ－λｔ）＋ｇλ１×｛λｆｉ１（ｔＮ＋１）－λｆｉ１（ｔＮ）｝］×Ｋλ＋ＳＶλ１Ｎ
ここで、各変数の意味は以下の通りである。
・Ｇλは波長λのフィードバック制御の制御ゲインである。
・λｎＮはＮ番のパルスの波長λである。
・λｔは波長λの目標値である。
・ｇλ１は回転周波数ｆｋを用いた波長λのフィードフォワード制御の制御ゲインである。
・λｆｉ１（ｔＮ＋１）及びλｆｉ１（ｔＮ）は、それぞれ時刻ｔＮ＋１及びｔＮに対応する波長λの変動成分λｆｉ１（ｔ）の値である。
・Ｋλは波長λの変化量に対する制御値ＳＶλ１の変化量の比を示す比例定数である。
　その他の点については、第２の変形例は第１の実施形態と同様である。
　４．３　第３の変形例
　第３の変形例においては、レーザ光特性Ｂとしてスペクトル線幅Δλを制御する。この場合、変動成分Ｂｆｉ１（ｔ）の代わりに、以下の式で与えられるスペクトル線幅Δλの変動成分Δλｆｉ１（ｔ）が用いられる。
　　　Δλｆｉ１（ｔ）＝ＡｋΔλ１×ｓｉｎ（２×π×ｆｋ×ｔ－ΔｋΔλ１）
ここで、ＡｋΔλ１は変動成分Δλｆｉ１（ｔ）の振幅である。
　レーザ光特性Ｂとしてスペクトル線幅Δλを制御する場合、Ｎ＋１番のパルスの制御値ＳＶｂ１Ｎ＋１の代わりに、以下の式で与えられる制御値ＳＶΔλ１Ｎ＋１が用いられる。
　　　ＳＶΔλ１Ｎ＋１＝－［ＧΔλ×（ΔλｎＮ－Δλｔ）＋ｇΔλ１×｛Δλｆｉ１（ｔＮ＋１）－Δλｆｉ１（ｔＮ）｝］×ＫΔλ＋ＳＶΔλ１Ｎ
ここで、各変数の意味は以下の通りである。
・ＧΔλはスペクトル線幅Δλのフィードバック制御の制御ゲインである。
・ΔλｎＮはＮ番のパルスのスペクトル線幅Δλである。
・Δλｔはスペクトル線幅Δλの目標値である。
・ｇΔλ１は回転周波数ｆｋを用いたスペクトル線幅Δλのフィードフォワード制御の制御ゲインである。
・Δλｆｉ１（ｔＮ＋１）及びΔλｆｉ１（ｔＮ）は、それぞれ時刻ｔＮ＋１及びｔＮに対応するスペクトル線幅Δλの変動成分Δλｆｉ１（ｔ）の値である。
・ＫΔλはスペクトル線幅Δλの変化量に対する制御値ＳＶΔλ１の変化量の比を示す比例定数である。
　その他の点については、第３の変形例は第１の実施形態と同様である。
　４．４　第４の変形例
　第４の変形例においては、レーザ光特性ＢとしてパルスエネルギーＥ、波長λ、及びスペクトル線幅Δλのうちの２つ以上を制御する。この場合、それぞれのレーザ光特性Ｂの制御に、図１９に示される変数が用いられる。それぞれのレーザ光特性Ｂの制御は互いに独立した制御であってもよい。但し、繰り返し周波数ｆ、回転周波数ｆｋ、及び検出信号ＳＩＧは、異なるレーザ光特性Ｂの間で共通でよい。位相のずれΔｋｂ１、Δｋｅ１、Δｋλ１、及びΔｋΔλ１も、異なるレーザ光特性Ｂの間で共通の値を使用できる場合があり得る。
　４．５　第４の変形例の作用
　（１３）第４の変形例によれば、レーザ光特性Ｂは、パルスエネルギーＥ、波長λ、及びスペクトル線幅Δλのうちの１つである第１特性と、他の１つである第２特性と、を含む。調整器は、第１特性を調整する第１調整器と、第２特性を調整する第２調整器と、を含む。第１特性がパルスエネルギーＥであれば、第１調整器は電源装置１３であり、第２特性は波長λ又はスペクトル線幅Δλである。第２特性が波長λであれば、第２調整器は回転ステージ１４ｄであり、第２特性がスペクトル線幅Δλであれば、第２調整器はリニアステージ１５ｄである。レーザ制御プロセッサ３０は、繰り返し周波数ｆと検出信号ＳＩＧとに基づいて、第１調整器の第１の制御値ＳＶｂＮ＋１と第２調整器の第２の制御値ＳＶｂＮ＋１との両方を補正し、第１及び第２調整器を制御する。
　これによれば、繰り返し周波数ｆと検出信号ＳＩＧとに基づく制御を、複数のレーザ光特性Ｂに適用することで、レーザ光特性Ｂの変動を効率的に抑制し得る。
　その他の点については、第４の変形例は第１の実施形態と同様である。
５．ブレード周波数ｆａを用いたフィードフォワード制御
　以下に第２の実施形態について説明する。第２の実施形態におけるレーザ装置１ａの構成は図１２を参照しながら説明した第１の実施形態と同様である。
　５．１　変動成分Ｂｆｉ２（ｔ）の計算
　図２０は、レーザ光特性Ｂの時系列データと変動成分Ｂｆｉ１（ｔ）との差分を示すグラフである。図２０は、比較例におけるパルスエネルギーＥの時系列データ（図９参照）から、各パルスの時刻ｔＮに対応するパルスエネルギーＥの変動成分Ｅｆｉ１（ｔＮ）を減算することで得られたものである。
　図２１は、第２の実施形態における変動成分Ｂｆｉ２（ｔ）を示すグラフである。図２１は図２０の囲み線ＸＸＩの内部を拡大して示すとともに、クロスフローファン２１の回転を示す検出信号ＳＩＧと、第２の実施形態で計算される変動成分Ｂｆｉ２（ｔ）とを示している。検出信号ＳＩＧは、回転検出器２１ａから１／ｆｋの周期で出力される（図６参照）。
　変動成分Ｂｆｉ２（ｔ）は、クロスフローファン２１の回転周波数ｆｋとブレード２１ｂの数との積で与えられるブレード周波数ｆａの逆数１／ｆａを周期とする周期関数であり、周期関数は例えば正弦関数である。変動成分Ｂｆｉ２（ｔ）の周期１／ｆａは変動成分Ｂｆｉ１（ｔ）の周期１／ｆｋよりも短い。変動成分Ｂｆｉ２（ｔ）は本開示における第２の周期関数に相当し、１／ｆａは本開示における第２の周期に相当する。変動成分Ｂｆｉ２（ｔ）は、レーザ光特性Ｂの時系列データと変動成分Ｂｆｉ１（ｔ）との差分に周期１／ｆａの正弦曲線をフィッティングして求められる。正弦曲線の初期位相は、検出信号ＳＩＧに対する正弦曲線の位相のずれΔｋｂ２で与えられる。図１０を参照しながら説明したように時系列データのフーリエ解析の結果が得られている場合、正弦曲線の振幅Ａｋｂ２は、ブレード周波数ｆａの周波数成分を繰り返し周波数ｆでサンプリングしたときの観測周波数に対応する強度から求められてもよい。Ａｋｂ２は本開示における第２の振幅に相当する。
　以上のようにして周期１／ｆａ、位相のずれΔｋｂ２、及び振幅Ａｋｂ２が求められれば、変動成分Ｂｆｉ２（ｔ）は以下の式で与えられる。
　　　Ｂｆｉ２（ｔ）＝Ａｋｂ２×ｓｉｎ（２×π×ｆａ×ｔ－Δｋｂ２）
　図２１に、時系列データと変動成分Ｂｆｉ１（ｔ）との差分にフィッティングされた変動成分Ｂｆｉ２（ｔ）が示されている。但し、パルスエネルギーＥの目標値Ｅｔである１０ｍＪの位置に、変動成分Ｂｆｉ２（ｔ）の値が０となる横軸の位置を合わせている。変動成分Ｂｆｉ２（ｔ）はクロスフローファン２１の回転と同期して変動する。
　第２の実施形態においては、比較例で求められるＮ＋１番のパルスの制御値ＳＶｂＮ＋１（図７参照）を、変動成分Ｂｆｉ１（ｔ）及びＢｆｉ２（ｔ）を用いたフィードフォワード制御によって補正することにより、補正された制御値ＳＶｂ２Ｎ＋１を計算する。これにより、レーザ光特性Ｂの変動を相殺して目標値Ｂｔからのずれを抑制するような制御が可能となる。
　図２２は、第２の実施形態においてパラメータ記憶装置３７ａに記憶されるデータの第１の例を示す。図８及び図９を参照しながら説明したように、パルスレーザ光の繰り返し周波数ｆが異なればレーザ光特性Ｂが異なることがあるので、パルスレーザ光の繰り返し周波数ｆごとに異なる変動成分Ｂｆｉ２（ｔ）が用いられる。そこで、パラメータ記憶装置３７ａには、繰り返し周波数ｆと、振幅Ａｋｂ２、ブレード周波数ｆａ、及び位相のずれΔｋｂ２を含むパラメータと、の対応関係を含むデータが記憶される。繰り返し周波数ｆを用いてパラメータ記憶装置３７ａを検索することにより、対応するパラメータを取得することができる。但し、ブレード周波数ｆａは、繰り返し周波数ｆに依存せず互いに同じ値ｆａ１であってもよい。また位相のずれΔｋｂ２も、繰り返し周波数ｆに依存せず互いに同じ値であってもよい。
　図２３は、第２の実施形態においてパラメータ記憶装置３７ａに記憶されるデータの第２の例を示す。クロスフローファン２１の回転周波数ｆｋを変更可能とし、それに伴うブレード周波数ｆａの変化に応じて異なる変動成分Ｂｆｉ２（ｔ）が用いられるようにしてもよい。そこで、パラメータ記憶装置３７ａには、繰り返し周波数ｆ及びブレード周波数ｆａの組合せと、振幅Ａｋｂ２及び位相のずれΔｋｂ２を含むパラメータと、の対応関係を含むデータが記憶されてもよい。繰り返し周波数ｆ及びブレード周波数ｆａを用いてパラメータ記憶装置３７ａを検索することにより、対応するパラメータを取得することができる。第２の例において、ブレード周波数ｆａはパラメータの１つでもある。ブレード周波数ｆａは、例えば１３００Ｈｚ以上４２００Ｈｚ以下の範囲で設定され、好ましくは、２７７２Ｈｚ、２９０４Ｈｚ、又は３３００Ｈｚである。
　５．２　レーザ光特性Ｂの制御
　図２４は、第２の実施形態におけるレーザ光特性Ｂの制御手順を示すフローチャートである。図２４に示される処理は、Ｓ７０ｂにおいてＮ＋１番のパルスの制御値ＳＶｂ２Ｎ＋１を計算する処理以外は、図１６を参照しながら説明した第１の実施形態とほぼ同様である。なお、Ｓ３０ｂ、Ｓ７０ｂ、及びＳ８０ｂにおいては、第１の実施形態における制御値ＳＶｂ１Ｎ及びＳＶｂ１Ｎ＋１と区別するために、制御値の符号をＳＶｂ２Ｎ及びＳＶｂ２Ｎ＋１としている。
　図２５は、Ｎ＋１番のパルスの制御値ＳＶｂ２Ｎ＋１を計算する処理の詳細を示すフローチャートである。図２５に示される処理は、図２４のＳ７０ｂのサブルーチンに相当する。
　Ｓ７１ａの処理は、図１７を参照しながら説明した第１の実施形態と同様である。
　Ｓ７２ｂにおいて、レーザ制御プロセッサ３０は、繰り返し周波数ｆに基づいて変動成分Ｂｆｉ１（ｔ）及びＢｆｉ２（ｔ）のパラメータを取得する。変動成分Ｂｆｉ１（ｔ）のパラメータは、図１４又は図１５に示される振幅Ａｋｂ１、回転周波数ｆｋ、及び位相のずれΔｋｂ１を含む。変動成分Ｂｆｉ２（ｔ）のパラメータは、図２２又は図２３に示される振幅Ａｋｂ２、ブレード周波数ｆａ、及び位相のずれΔｋｂ２を含む。
　Ｓ７３ｂにおいて、レーザ制御プロセッサ３０は、Ｎ＋１番のパルスの制御値ＳＶｂ２Ｎ＋１を以下の式３により計算する。
　　　ＳＶｂ２Ｎ＋１＝－［Ｇｂ×（ＢｎＮ－Ｂｔ）＋ｇｂ１×｛Ｂｆｉ１（ｔＮ＋１）－Ｂｆｉ１（ｔＮ）｝＋ｇｂ２×｛Ｂｆｉ２（ｔＮ＋１）－Ｂｆｉ２（ｔＮ）｝］×Ｋｂ＋ＳＶｂ２Ｎ　・・・（式３）
ここで、ｇｂ２は制御ゲインである。
　式３は、比較例における式１の右辺から［ｇｂ１×｛Ｂｆｉ１（ｔＮ＋１）－Ｂｆｉ１（ｔＮ）｝＋ｇｂ２×｛Ｂｆｉ２（ｔＮ＋１）－Ｂｆｉ２（ｔＮ）｝］×Ｋｂを減算したものに対応する。比較例においてはＮ番のパルスのレーザ光特性ＢｎＮと目標値Ｂｔとの差に基づいてＮ＋１番のパルスの制御値ＳＶｂＮ＋１を計算しているので、制御値ＳＶｂＮ＋１にはすでにＮ番のパルスの時刻ｔＮに対応する変動成分の第１の値Ｂｆｉ１（ｔＮ）及びＢｆｉ２（ｔＮ）が盛り込まれている。そこで、第２の実施形態においては、Ｎ＋１番のパルスの時刻ｔＮ＋１に対応する変動成分の第２の値Ｂｆｉ１（ｔＮ＋１）とＮ番のパルスの時刻ｔＮに対応する変動成分の第１の値Ｂｆｉ１（ｔＮ）との差、及びＮ＋１番のパルスの時刻ｔＮ＋１に対応する変動成分の第２の値Ｂｆｉ２（ｔＮ＋１）とＮ番のパルスの時刻ｔＮに対応する変動成分の第１の値Ｂｆｉ２（ｔＮ）との差を用いて、比較例における制御値ＳＶｂＮ＋１を補正している。
　Ｓ７３ｂの後、レーザ制御プロセッサ３０は本フローチャートの処理を終了し、図２４に示される処理に戻る。
　５．３　作用
　（１４）第２の実施形態によれば、クロスフローファン２１は、回転軸Ａｘの周りに配置された複数のブレード２１ｂを含む。レーザ制御プロセッサ３０は、クロスフローファン２１の回転周波数ｆｋとブレード２１ｂの数との積で与えられるブレード周波数ｆａの逆数を周期とする周期関数である変動成分Ｂｆｉ２（ｔ）を用いて、制御値ＳＶｂＮ＋１を補正する。
　これによれば、クロスフローファン２１の回転周波数ｆｋとブレード２１ｂの数との積を用いることで、ブレード２１ｂで反射された音響波Ｗ２の影響を考慮した補正をし得る。
　図２６は、第２の実施形態において補正された制御値ＳＶｂ２Ｎ＋１を用いて生成されたレーザ光特性Ｂの時系列データを示すグラフである。レーザ光特性Ｂとして、パルスエネルギーＥが制御されている。図２６は、比較例におけるレーザ光特性Ｂの時系列データと、変動成分Ｂｆｉ１（ｔ）及びＢｆｉ２（ｔ）の和と、の差分にほぼ一致する。パルスレーザ光の繰り返し周波数ｆは１０００Ｈｚであり、パルスエネルギーＥの目標値Ｅｔは１０．０ｍＪである。図１８に示される第１の実施形態と比べて、パルスエネルギーＥの変動の幅が小さくなり、目標値Ｅｔの近くで安定化している。
　フィードフォワード制御は、変動成分Ｂｆｉ１（ｔ）及びＢｆｉ２（ｔ）の両方を用いるものに限られず、変動成分Ｂｆｉ２（ｔ）のみを用いるものでもよい。変動成分Ｂｆｉ２（ｔ）のみを用いた場合、パルスレーザ光のレーザ光特性Ｂの変動は、比較例におけるレーザ光特性Ｂの時系列データと変動成分Ｂｆｉ２（ｔ）との差分にほぼ一致する。
　（１５）第２の実施形態によれば、レーザ制御プロセッサ３０は、周期１／ｆｋを有しクロスフローファン２１の回転と同期する周期関数である変動成分Ｂｆｉ１（ｔ）と、周期１／ｆｋよりも短い周期１／ｆａを有しクロスフローファン２１の回転と同期する周期関数である変動成分Ｂｆｉ２（ｔ）と、を用いて、制御値ＳＶｂＮ＋１を補正する。
　これによれば、周期の異なる変動成分Ｂｆｉ１（ｔ）及びＢｆｉ２（ｔ）を用いることで、レーザ光特性Ｂの変動が２つの周波数成分を含む場合でも精度よく制御値ＳＶｂＮ＋１を補正し得る。
　（１６）第２の実施形態によれば、クロスフローファン２１は、回転軸Ａｘの周りに配置された複数のブレード２１ｂを含む。レーザ制御プロセッサ３０は、クロスフローファン２１の回転周波数ｆｋの逆数を周期とする周期関数である変動成分Ｂｆｉ１（ｔ）と、回転周波数ｆｋとブレード２１ｂの数との積で与えられるブレード周波数ｆａの逆数を周期とする周期関数である変動成分Ｂｆｉ２（ｔ）と、を用いて、制御値ＳＶｂＮ＋１を補正する。
　これによれば、クロスフローファン２１の回転による振動と、ブレード２１ｂで反射された音響波Ｗ２と、の両方の影響を考慮した補正をし得る。
　（１７）第２の実施形態によれば、レーザ装置１ａはレーザ光特性Ｂを計測するモニタモジュール１７を備える。レーザ制御プロセッサ３０は、モニタモジュール１７からレーザ光特性Ｂの時系列データを取得する。レーザ制御プロセッサ３０は、時系列データに第１の正弦曲線をフィッティングして変動成分Ｂｆｉ１（ｔ）を求め、時系列データと変動成分Ｂｆｉ１（ｔ）との差分に第２の正弦曲線をフィッティングして変動成分Ｂｆｉ２（ｔ）を求める。
　これによれば、時系列データと変動成分Ｂｆｉ１（ｔ）との差分を用いることで、変動成分Ｂｆｉ１（ｔ）による補正分を除いて、変動成分Ｂｆｉ２（ｔ）を精度よく求め得る。
　（１８）第２の実施形態によれば、レーザ制御プロセッサ３０は、時系列データをフーリエ解析して、回転周波数ｆｋに対応する第１の強度から第１の正弦曲線の振幅Ａｋｂ１を求め、ブレード周波数ｆａの周波数成分を繰り返し周波数ｆでサンプリングしたときの観測周波数に対応する第２の強度から第２の正弦曲線の振幅Ａｋｂ２を求める。レーザ制御プロセッサ３０は、時系列データに振幅Ａｋｂ１を有する第１の正弦曲線をフィッティングし、時系列データと変動成分Ｂｆｉ１（ｔ）との差分に振幅Ａｋｂ２を有する第２の正弦曲線をフィッティングする。
　これによれば、時系列データのフーリエ解析から正弦曲線の振幅Ａｋｂ１及びＡｋｂ２を求めるので、変動成分Ｂｆｉ１（ｔ）及びＢｆｉ２（ｔ）を精度よく求めることができる。
　その他の点については、第２の実施形態は第１の実施形態と同様である。
６．第２の実施形態の変形例
　図２７は、レーザ光特性Ｂとして、パルスエネルギーＥ、波長λ、又はスペクトル線幅Δλを制御する場合に置き換えられる式及び変数を示す。
　６．１　第１の変形例
　第１の変形例においては、レーザ光特性ＢとしてパルスエネルギーＥを制御する。この場合、変動成分Ｂｆｉ２（ｔ）の代わりに、以下の式で与えられるパルスエネルギーＥの変動成分Ｅｆｉ２（ｔ）が用いられる。
　　　Ｅｆｉ２（ｔ）＝Ａｋｅ２×ｓｉｎ（２×π×ｆａ×ｔ－Δｋｅ２）
ここで、Ａｋｅ２は変動成分Ｅｆｉ２（ｔ）の振幅である。
　レーザ光特性ＢとしてパルスエネルギーＥを制御する場合、Ｎ＋１番のパルスの制御値ＳＶｂ２Ｎ＋１の代わりに、以下の式で与えられる制御値ＳＶｅ２Ｎ＋１が用いられる。
　　　ＳＶｅ２Ｎ＋１＝－［Ｇｅ×（ＥｎＮ－Ｅｔ）＋ｇｅ１×｛Ｅｆｉ１（ｔＮ＋１）－Ｅｆｉ１（ｔＮ）｝＋ｇｅ２×｛Ｅｆｉ２（ｔＮ＋１）－Ｅｆｉ２（ｔＮ）｝］×Ｋｅ＋ＳＶｅ２Ｎ
ここで、各変数の意味は以下の通りである。
・ｇｅ２はブレード周波数ｆａを用いたパルスエネルギーＥのフィードフォワード制御の制御ゲインである。
・Ｅｆｉ２（ｔＮ＋１）及びＥｆｉ２（ｔＮ）は、それぞれ時刻ｔＮ＋１及びｔＮに対応するパルスエネルギーＥの変動成分Ｅｆｉ２（ｔ）の値である。
　その他の点については、第１の変形例は第２の実施形態と同様である。
　６．２　第２の変形例
　第２の変形例においては、レーザ光特性Ｂとして波長λを制御する。この場合、変動成分Ｂｆｉ２（ｔ）の代わりに、以下の式で与えられる波長λの変動成分λｆｉ２（ｔ）が用いられる。
　　　λｆｉ２（ｔ）＝Ａｋλ２×ｓｉｎ（２×π×ｆａ×ｔ－Δｋλ２）
ここで、Ａｋλ２は変動成分λｆｉ２（ｔ）の振幅である。
　レーザ光特性Ｂとして波長λを制御する場合、Ｎ＋１番のパルスの制御値ＳＶｂ２Ｎ＋１の代わりに、以下の式で与えられる制御値ＳＶλ２Ｎ＋１が用いられる。
　　　ＳＶλ２Ｎ＋１＝－［Ｇλ×（λｎＮ－λｔ）＋ｇλ１×｛λｆｉ１（ｔＮ＋１）－λｆｉ１（ｔＮ）｝＋ｇλ２×｛λｆｉ２（ｔＮ＋１）－λｆｉ２（ｔＮ）｝］×Ｋλ＋ＳＶλ２Ｎ
ここで、各変数の意味は以下の通りである。
・ｇλ２はブレード周波数ｆａを用いた波長λのフィードフォワード制御の制御ゲインである。
・λｆｉ２（ｔＮ＋１）及びλｆｉ２（ｔＮ）は、それぞれ時刻ｔＮ＋１及びｔＮに対応する波長λの変動成分λｆｉ２（ｔ）の値である。
　その他の点については、第２の変形例は第２の実施形態と同様である。
　６．３　第３の変形例
　第３の変形例においては、レーザ光特性Ｂとしてスペクトル線幅Δλを制御する。この場合、変動成分Ｂｆｉ２（ｔ）の代わりに、以下の式で与えられるスペクトル線幅Δλの変動成分Δλｆｉ２（ｔ）が用いられる。
　　　Δλｆｉ２（ｔ）＝ＡｋΔλ２×ｓｉｎ（２×π×ｆａ×ｔ－ΔｋΔλ２）
ここで、ＡｋΔλ２は変動成分Δλｆｉ２（ｔ）の振幅である。
　レーザ光特性Ｂとしてスペクトル線幅Δλを制御する場合、Ｎ＋１番のパルスの制御値ＳＶｂ２Ｎ＋１の代わりに、以下の式で与えられる制御値ＳＶΔλ２Ｎ＋１が用いられる。
　　　ＳＶΔλ２Ｎ＋１＝－［ＧΔλ×（ΔλｎＮ－Δλｔ）＋ｇΔλ１×｛Δλｆｉ１（ｔＮ＋１）－Δλｆｉ１（ｔＮ）｝＋ｇΔλ２×｛Δλｆｉ２（ｔＮ＋１）－Δλｆｉ２（ｔＮ）｝］×ＫΔλ＋ＳＶΔλ２Ｎ
ここで、各変数の意味は以下の通りである。
・ｇΔλ２はブレード周波数ｆａを用いたスペクトル線幅Δλのフィードフォワード制御の制御ゲインである。
・Δλｆｉ２（ｔＮ＋１）及びΔλｆｉ２（ｔＮ）は、それぞれ時刻ｔＮ＋１及びｔＮに対応するスペクトル線幅Δλの変動成分Δλｆｉ２（ｔ）の値である。
　その他の点については、第３の変形例は第２の実施形態と同様である。
　６．４　第４の変形例
　第４の変形例においては、レーザ光特性ＢとしてパルスエネルギーＥ、波長λ、及びスペクトル線幅Δλのうちの２つ以上を制御する。この場合、それぞれのレーザ光特性Ｂの制御に図１９及び図２７に示される変数が用いられる。それぞれのレーザ光特性Ｂの制御は互いに独立した制御であってもよい。但し、繰り返し周波数ｆ、回転周波数ｆｋ、ブレード周波数ｆａ、及び検出信号ＳＩＧは異なるレーザ光特性Ｂの間で共通でよい。位相のずれΔｋｂ１、Δｋｅ１、Δｋλ１、ΔｋΔλ１、Δｋｂ２、Δｋｅ２、Δｋλ２、及び及びΔｋΔλ２も、異なるレーザ光特性Ｂの間で共通の値を使用できる場合があり得る。
　その他の点については、第４の変形例は第２の実施形態と同様である。
７．その他
　図２８は、レーザ装置１ａに接続された露光装置１００の構成を概略的に示す。レーザ装置１ａはパルスレーザ光を生成して露光装置１００に出力する。
　図２８において、露光装置１００は、照明光学系４０と投影光学系４１とを含む。照明光学系４０は、レーザ装置１ａから入射したパルスレーザ光によって、レチクルステージＲＴ上に配置された図示しないレチクルのレチクルパターンを照明する。投影光学系４１は、レチクルを透過したパルスレーザ光を、縮小投影してワークピーステーブルＷＴ上に配置された図示しないワークピースに結像させる。ワークピースはフォトレジストが塗布された半導体ウエハ等の感光基板である。露光装置１００は、レチクルステージＲＴとワークピーステーブルＷＴとを同期して平行移動させることにより、レチクルパターンを反映したパルスレーザ光をワークピースに露光する。以上のような露光工程によって半導体ウエハにレチクルパターンを転写後、複数の工程を経ることで電子デバイスを製造することができる。
　上記の説明は、制限ではなく単なる例示を意図している。従って、特許請求の範囲を逸脱することなく本開示の実施形態に変更を加えることができることは、当業者には明らかである。また、本開示の実施形態を組み合わせて使用することも当業者には明らかである。
　本明細書及び特許請求の範囲全体で使用される用語は、明記が無い限り「限定的でない」用語と解釈されるべきである。例えば、「含む」又は「含まれる」という用語は、「記載されたもの以外の構成要素の存在を除外しない」と解釈されるべきである。「有する」という用語は、「有するものとして記載されたものに限定されない」と解釈されるべきである。また、不定冠詞「１つの」は、「少なくとも１つ」又は「１又はそれ以上」を意味すると解釈されるべきである。また、「Ａ、Ｂ及びＣの少なくとも１つ」という用語は、「Ａ」「Ｂ」「Ｃ」「Ａ＋Ｂ」「Ａ＋Ｃ」「Ｂ＋Ｃ」又は「Ａ＋Ｂ＋Ｃ」と解釈されるべきである。さらに、それらと「Ａ」「Ｂ」「Ｃ」以外のものとの組み合わせも含むと解釈されるべきである。

Claims (20)

  1. 　レーザチャンバと、
    　前記レーザチャンバ内に配置された一対の放電電極と、
    　前記レーザチャンバ内に配置され、前記一対の放電電極の間に前記レーザチャンバ内のレーザガスを流すファンと、
    　前記ファンの回転を検出する回転検出器と、
    　前記レーザチャンバで生成されるパルスレーザ光のレーザ光特性を調整する調整器と、
    　前記パルスレーザ光の繰り返し周波数と前記回転検出器の検出信号とに基づいて、前記調整器の制御値を補正し、補正された前記制御値で前記調整器を制御するプロセッサと、
    を備えるレーザ装置。
  2. 　請求項１に記載のレーザ装置であって、
    　前記プロセッサは、前記レーザ光特性の目標値からのずれを抑制するように前記制御値を補正する、
    レーザ装置。
  3. 　請求項１に記載のレーザ装置であって、
    　前記レーザ光特性を計測するレーザ光検出器をさらに備え、
    　前記プロセッサは、前記パルスレーザ光の第１のパルスの前記レーザ光特性の目標値との差に基づくフィードバック制御によって前記第１のパルスの後の第２のパルスの前記レーザ光特性が前記目標値に近づくように設定される前記制御値を、前記繰り返し周波数と前記検出信号とに基づくフィードフォワード制御によって補正する、
    レーザ装置。
  4. 　請求項３に記載のレーザ装置であって、
    　前記プロセッサは、前記ファンの回転と同期して変動する前記レーザ光特性の変動成分を算出し、前記変動成分を用いて、前記制御値を補正する、
    レーザ装置。
  5. 　請求項４に記載のレーザ装置であって、
    　前記プロセッサは、前記第１のパルスをレーザ発振した第１の時刻に対応する前記変動成分の第１の値と、前記第２のパルスをレーザ発振する第２の時刻に対応する前記変動成分の第２の値と、の差に基づいて、前記制御値を補正する、
    レーザ装置。
  6. 　請求項５に記載のレーザ装置であって、
    　前記プロセッサは、前記第１の時刻を計測によって取得し、前記第２の時刻を前記第１の時刻と前記繰り返し周波数とに基づく計算によって取得する、
    レーザ装置。
  7. 　請求項５に記載のレーザ装置であって、
    　前記第１及び第２の時刻は前記検出信号を受信した時を基準とした経過時間である、
    レーザ装置。
  8. 　請求項１に記載のレーザ装置であって、
    　前記プロセッサは、前記ファンの回転周波数の逆数を周期とする周期関数を用いて、前記制御値を補正する、
    レーザ装置。
  9. 　請求項８に記載のレーザ装置であって、
    　前記レーザ光特性を計測するレーザ光検出器をさらに備え、
    　前記プロセッサは、
    　　前記レーザ光検出器から前記レーザ光特性の時系列データを取得し、
    　　前記時系列データに正弦曲線をフィッティングして前記周期関数を求める、
    レーザ装置。
  10. 　請求項９に記載のレーザ装置であって、
    　前記プロセッサは、
    　　前記時系列データをフーリエ解析して前記回転周波数に対応する強度から前記正弦曲線の振幅を求め、
    　　前記時系列データに前記振幅を有する前記正弦曲線をフィッティングする、
    レーザ装置。
  11. 　請求項１に記載のレーザ装置であって、
    　前記プロセッサは、
    　　前記繰り返し周波数と、前記制御値を補正するためのパラメータと、の対応関係を含むデータにアクセス可能に構成され、
    　　前記繰り返し周波数を用いて前記データを検索して取得した前記パラメータを用いて、前記制御値を補正する、
    レーザ装置。
  12. 　請求項１に記載のレーザ装置であって、
    　前記プロセッサは、
    　　前記繰り返し周波数と、前記ファンの回転周波数と、前記制御値を補正するためのパラメータと、の対応関係を含むデータにアクセス可能に構成され、
    　　前記繰り返し周波数と前記回転周波数とを用いて前記データを検索して取得した前記パラメータを用いて、前記制御値を補正する、
    レーザ装置。
  13. 　請求項１に記載のレーザ装置であって、
    　前記レーザ光特性は、パルスエネルギー、波長、及びスペクトル線幅のうちの１つである第１特性と、他の１つである第２特性と、を含み、
    　前記調整器は、前記第１特性を調整する第１調整器と、前記第２特性を調整する第２調整器と、を含み、
    　前記プロセッサは、前記繰り返し周波数と前記検出信号とに基づいて、前記第１調整器の第１の制御値と前記第２調整器の第２の制御値との両方を補正し、前記第１及び第２調整器を制御する、
    レーザ装置。
  14. 　請求項１に記載のレーザ装置であって、
    　前記ファンは、回転軸の周りに配置された複数のブレードを含み、
    　前記プロセッサは、前記ファンの回転周波数と前記ブレードの数との積で与えられるブレード周波数の逆数を周期とする周期関数を用いて、前記制御値を補正する、
    レーザ装置。
  15. 　請求項１に記載のレーザ装置であって、
    　前記プロセッサは、第１の周期を有し前記ファンの回転と同期する第１の周期関数と、前記第１の周期よりも短い第２の周期を有し前記ファンの回転と同期する第２の周期関数と、を用いて、前記制御値を補正する、
    レーザ装置。
  16. 　請求項１に記載のレーザ装置であって、
    　前記ファンは、回転軸の周りに配置された複数のブレードを含み、
    　前記プロセッサは、前記ファンの回転周波数の逆数を周期とする第１の周期関数と、前記回転周波数と前記ブレードの数との積で与えられるブレード周波数の逆数を周期とする第２の周期関数と、を用いて、前記制御値を補正する、
    レーザ装置。
  17. 　請求項１６に記載のレーザ装置であって、
    　前記レーザ光特性を計測するレーザ光検出器をさらに備え、
    　前記プロセッサは、
    　　前記レーザ光検出器から前記レーザ光特性の時系列データを取得し、
    　　前記時系列データに第１の正弦曲線をフィッティングして前記第１の周期関数を求め、
    　　前記時系列データと前記第１の周期関数との差分に第２の正弦曲線をフィッティングして前記第２の周期関数を求める、
    レーザ装置。
  18. 　請求項１７に記載のレーザ装置であって、
    　前記プロセッサは、
    　　前記時系列データをフーリエ解析して、前記回転周波数に対応する第１の強度から前記第１の正弦曲線の第１の振幅を求め、前記ブレード周波数の周波数成分を前記繰り返し周波数でサンプリングしたときの観測周波数に対応する第２の強度から前記第２の正弦曲線の第２の振幅を求め、
    　　前記時系列データに前記第１の振幅を有する前記第１の正弦曲線をフィッティングし、
    　　前記差分に前記第２の振幅を有する前記第２の正弦曲線をフィッティングする、
    レーザ装置。
  19. 　レーザチャンバと、
    　前記レーザチャンバ内に配置された一対の放電電極と、
    　前記レーザチャンバ内に配置され、前記一対の放電電極の間に前記レーザチャンバ内のレーザガスを流すファンと、
    　前記ファンの回転を検出する回転検出器と、
    　前記レーザチャンバで生成されるパルスレーザ光のレーザ光特性を調整する調整器と、
    を備えるレーザ装置において、
    　前記パルスレーザ光の繰り返し周波数と前記回転検出器の検出信号とに基づいて、前記調整器の制御値を補正し、
    　補正された前記制御値で前記調整器を制御する
    ことを含むレーザ装置の制御方法。
  20. 　電子デバイスの製造方法であって、
    　レーザチャンバと、
    　前記レーザチャンバ内に配置された一対の放電電極と、
    　前記レーザチャンバ内に配置され、前記一対の放電電極の間に前記レーザチャンバ内のレーザガスを流すファンと、
    　前記ファンの回転を検出する回転検出器と、
    　前記レーザチャンバで生成されるパルスレーザ光のレーザ光特性を調整する調整器と、
    　前記パルスレーザ光の繰り返し周波数と前記回転検出器の検出信号とに基づいて、前記調整器の制御値を補正し、補正された前記制御値で前記調整器を制御するプロセッサと、
    を備えるレーザ装置によって前記パルスレーザ光を生成し、
    　前記パルスレーザ光を露光装置に出力し、
    　前記電子デバイスを製造するために、前記露光装置内で感光基板上に前記パルスレーザ光を露光する
    ことを含む電子デバイスの製造方法。
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