[go: up one dir, main page]
More Web Proxy on the site http://driver.im/

WO2023242060A1 - Verfahren zum heizen eines optischen elements sowie optisches system - Google Patents

Verfahren zum heizen eines optischen elements sowie optisches system Download PDF

Info

Publication number
WO2023242060A1
WO2023242060A1 PCT/EP2023/065477 EP2023065477W WO2023242060A1 WO 2023242060 A1 WO2023242060 A1 WO 2023242060A1 EP 2023065477 W EP2023065477 W EP 2023065477W WO 2023242060 A1 WO2023242060 A1 WO 2023242060A1
Authority
WO
WIPO (PCT)
Prior art keywords
optical
optical element
zct
aberration
optimization
Prior art date
Application number
PCT/EP2023/065477
Other languages
English (en)
French (fr)
Inventor
Malte Langenhorst
Werner Weiss
Fabian Letscher
Ruediger MACK
Lucas Teuber
André DIRAUF
Felix WAELDCHEN
Original Assignee
Carl Zeiss Smt Gmbh
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Carl Zeiss Smt Gmbh filed Critical Carl Zeiss Smt Gmbh
Publication of WO2023242060A1 publication Critical patent/WO2023242060A1/de

Links

Classifications

    • G—PHYSICS
    • G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/70—Microphotolithographic exposure; Apparatus therefor
    • G03F7/708—Construction of apparatus, e.g. environment aspects, hygiene aspects or materials
    • G03F7/70858—Environment aspects, e.g. pressure of beam-path gas, temperature
    • G03F7/70883—Environment aspects, e.g. pressure of beam-path gas, temperature of optical system
    • G03F7/70891—Temperature
    • G—PHYSICS
    • G02—OPTICS
    • G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
    • G02B27/00—Optical systems or apparatus not provided for by any of the groups G02B1/00 - G02B26/00, G02B30/00
    • G02B27/0025—Optical systems or apparatus not provided for by any of the groups G02B1/00 - G02B26/00, G02B30/00 for optical correction, e.g. distorsion, aberration
    • G02B27/0068—Optical systems or apparatus not provided for by any of the groups G02B1/00 - G02B26/00, G02B30/00 for optical correction, e.g. distorsion, aberration having means for controlling the degree of correction, e.g. using phase modulators, movable elements
    • G—PHYSICS
    • G02—OPTICS
    • G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
    • G02B5/00—Optical elements other than lenses
    • G02B5/08—Mirrors
    • G02B5/0891—Ultraviolet [UV] mirrors
    • G—PHYSICS
    • G02—OPTICS
    • G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
    • G02B7/00—Mountings, adjusting means, or light-tight connections, for optical elements
    • G02B7/18—Mountings, adjusting means, or light-tight connections, for optical elements for prisms; for mirrors
    • G02B7/181—Mountings, adjusting means, or light-tight connections, for optical elements for prisms; for mirrors with means for compensating for changes in temperature or for controlling the temperature; thermal stabilisation
    • G02B7/1815—Mountings, adjusting means, or light-tight connections, for optical elements for prisms; for mirrors with means for compensating for changes in temperature or for controlling the temperature; thermal stabilisation with cooling or heating systems
    • G—PHYSICS
    • G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/70—Microphotolithographic exposure; Apparatus therefor
    • G03F7/70216—Mask projection systems
    • G03F7/70233—Optical aspects of catoptric systems, i.e. comprising only reflective elements, e.g. extreme ultraviolet [EUV] projection systems
    • G—PHYSICS
    • G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/70—Microphotolithographic exposure; Apparatus therefor
    • G03F7/70216—Mask projection systems
    • G03F7/70258—Projection system adjustments, e.g. adjustments during exposure or alignment during assembly of projection system
    • G—PHYSICS
    • G02—OPTICS
    • G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
    • G02B17/00—Systems with reflecting surfaces, with or without refracting elements
    • G02B17/02—Catoptric systems, e.g. image erecting and reversing system
    • G02B17/06—Catoptric systems, e.g. image erecting and reversing system using mirrors only, i.e. having only one curved mirror
    • G02B17/0647—Catoptric systems, e.g. image erecting and reversing system using mirrors only, i.e. having only one curved mirror using more than three curved mirrors

Definitions

  • the invention relates to a method for heating an optical element in an optical system, in particular in a microlithographic projection exposure system, and to an optical system.
  • a problem that occurs in practice is that as a result of manufacturing fluctuations of the mirrors as well as a finite precision of assembly or adjustment processes to be carried out when assembling the projection exposure system, unavoidable optical aberrations result due to existing deviations from the ideal optical design.
  • optical aberrations also referred to as "cold aberrations”
  • one possible approach - in addition to the targeted actuation of the respective mirrors in their rigid body degrees of freedom - is to specifically heat the mirrors with a suitable heating profile using a (e.g. infrared radiation-based) heating arrangement in order to correct the optical cold aberrations with the thermally induced deformation.
  • the further problem arises that the approaches described above for correcting "cold aberrations" on the one hand and for avoiding, on the one hand, during operation of the optical system as a result of exposure to EUV or useful light in the respective mirror and the associated mirror reflections.
  • the deformations induced by mirror heating contain opposite or contradictory requirements in that - as indicated in the schematic diagram of FIG. 2 - the respective favorable or favored temperature ranges or setpoints differ from one another.
  • the invention relates to a method for heating an optical element in an optical system, in particular a microlithographic projection exposure system, wherein a heating power is introduced into the optical element using a thermal manipulator and wherein this heating power is based on a set of target values is set, wherein the setting of this set of target values for generating a thermally induced deformation is carried out as a function of a first optical aberration to be compensated, and wherein the setting of the set of target values takes additional account of the respective effect of the introduction of the heating power a second optical aberration occurs, which is caused by useful light striking the optical element during operation of the optical system.
  • set of target values is intended to express that the thermal manipulator may also specifically apply IR radiation to individual sectors by setting appropriate heating profiles (e.g. with the heating arrangement described in DE 10 2019 219 289 A1). can beat.
  • the “set of target values” for the heating power of the thermal manipulator may include a value for each of the sectors (in the manner of a vector with a plurality of components).
  • the invention includes in particular the principle, with regard to the basic problem explained at the beginning, of opposing or contradicting requirements on the temperature range favored for correcting cold aberrations on the one hand and on the one hand for compensating for the effects of the "mirror Heating" favored temperature range, on the other hand, when determining the suitable target value or set of target values for the heating power introduced into the optical element by a thermal manipulator, the aspects "correction of cold aberrations” and “compensation for the effect of mirror heating” are already both to include.
  • the inventive concept for correcting cold aberrations differs from conventional approaches that also use a thermal manipulator in particular in that when determining the setpoint or set of setpoints for the heating power introduced for correction, their effect on the compensation also provided is taken into account -
  • the influence of “mirror heating” is taken into account when the optical element is in use.
  • the set of target values is set using a merit function for wavefront errors caused by the optical element, this merit function being expanded by a term to take into account the effect of the introduction of the heating power on the second optical aberration .
  • the metric D provides a rule for weighting individual aspects (e.g. Zernike coefficients) of the aberrations and the condensation of the entire wavefront information to a single scalar value.
  • the term for taking into account the effect of introducing the heating power on the second optical aberration is determined by explicitly determining wavefront errors caused by useful light striking the optical element during operation of the optical system.
  • the term for taking into account the effect of introducing the heating power on the second optical aberration is determined by Explicit determination of the maximum in the temporal development of the wavefront errors caused by useful light hitting the optical element during operation of the optical system is determined.
  • the co-optimization can be represented as where and h* the result of the co-optimization, S the first optical aberration, Z(x) the dependence of the wavefront effect on the position and orientation of the optical elements x, f(h) the dependence of the wavefront effect on the through the thermal manipulator set heating power h and the maximum in the temporal development of the second called optical aberration.
  • the explicit determination or consideration of the maximum in the temporal development of the wavefront errors caused by useful light hitting the optical element during operation serves to ensure that "overshoots” also occur in the temporal development of the aberrations caused by "mirror heating”. be minimized.
  • this merit function only has to take the condition into account.
  • this merit function can also be expanded to include additional secondary conditions in order to ensure that individual specifications for the cold aberrations on the one hand and the aberrations resulting from “mirror heating” on the other hand are met.
  • the co-optimization according to the invention has already been carried out taking the thermal equilibrium state into account, but in which the maximum of the temporal development of the aberrations due to "mirror heating” does not fall on the thermal equilibrium state, the co-optimization allows taking this into account of the time maximum of the aberrations due to "mirror heating” an even better image quality of the projection lens.
  • a further development of the present invention deals with an additional optimization of the zero crossing or zero crossing temperature ZCT of the substrate of the optical element.
  • This zero-crossing temperature can be reproducibly set by the material manufacturer within certain limits based on specifications.
  • the co-optimization according to the invention can be further improved with regard to cold aberrations and mirror heating.
  • the average temperature set point in operation has so far been chosen close to the ZCT in order to generate the lowest possible mirror heating aberrations. In the context according to the invention, however, this set point generally no longer coincides with the ZCT because sufficient correction of the cold aberrations by thermal manipulators is only possible outside the ZCT.
  • the choice of an optimal ZCT in the context of the present invention is not trivial, and it is accordingly proposed in one embodiment of the invention that the co-optimization additionally takes into account the zero crossing temperature or ZCT (zero crossing temperature) of a substrate material optical element as a size to be optimized, whereby one optimized zero crossing temperature ZCT is determined as a specification for the design of the substrate material.
  • ZCT zero crossing temperature
  • the co-optimization with the ZCT as the parameter to be optimized is preferably carried out using a regulation that is dependent on a predetermined temperature setpoint h ref (ZCT). - or penalty terms P.
  • This penalty term describes the implicit consideration of MH aberrations in the optimization if basic knowledge for the quantification of MH aberrations is missing, for example if the intensity distribution on the optical element is not known, but the source power is.
  • a corresponding co-optimization rule (usually to be solved numerically) taking into account the ZCT as the parameter to be optimized can therefore be represented as: where x* are the optimal amplitudes of the rotational and translational manipulators, 7i* are the optimal amplitudes of the thermal manipulators and ZCT* is the optimal ZCT as a result of the co-optimization, S is the cold aberration, Z(x) is the dependence of the wavefront effect on the position and orientation of the optical elements x, f(h,ZCT) represent the wavefront-dependent correction of the same, P represents a regulation term depending on a predetermined set point h re f(ZCT) that is favorable for mirror heating and D represents a scalar metric.
  • the co-optimization taking into account the ZCT as the parameter to be optimized, taking into account the thermal equilibrium state (steady state) as part of the merit function can also be represented as: where x? the optimal amplitudes of the rotational and translational manipulators, h* the optimal amplitudes of the thermal manipulators and ZCT* the optimal ZCT as a result of the co-optimization, S the cold aberration, Z(x) the dependence of the wavefront effect on the position and orientation of the optical elements represent a scalar metric.
  • Equation (5) - (7) is preferably carried out by means of a nested optimization with an outer iteration loop or an outer loop in which sampling is carried out over a ZCT area, and with an inner iteration loop or with an inner loop, in which a co-optimization of cold and MH aberrations is carried out for each ZCT.
  • a determined optimized temperature set point for the optical element does not coincide with the ZCT of the substrate material of the optical element.
  • the optical element is heated in such a way that a local and/or temporal variation of a temperature distribution in the optical element is reduced.
  • the optical element is a mirror.
  • the first optical aberration is at least partially due to manufacturing or adjustment.
  • the optical system is configured to:
  • Figure 1 shows a schematic representation of the possible structure of a microlithographic projection exposure system designed for operation in EUV
  • Figure 2 is a diagram to explain a fundamental problem underlying the present invention
  • FIG. 1 shows a schematic representation of a projection exposure system 1 designed for operation in EUV, in which the invention can be implemented, for example.
  • the projection exposure system 1 has an illumination device 2 and a projection lens 10.
  • the illumination device 2 serves to illuminate an object field 5 in an object plane 6 with radiation from a radiation source 3 via illumination optics 4.
  • a reticle 7 arranged in the object field 5 is exposed here.
  • the reticle 7 is held by a reticle holder 8.
  • the reticle holder 8 can be displaced in particular in a scanning direction via a reticle displacement drive 9.
  • a Cartesian xyz coordinate system is shown in FIG. 1 for explanation purposes.
  • the x direction runs perpendicular to the drawing plane.
  • the y-direction is horizontal and the z-direction is vertical.
  • the scanning direction runs along the y-direction in FIG. 1.
  • the z direction runs perpendicular to the object plane 6.
  • the projection lens 10 is used to image the object field 5 into an image field 11 in an image plane 12.
  • a structure on the reticle 7 is imaged on a light-sensitive layer of a wafer 13 arranged in the area of the image field 11 in the image plane 12.
  • the Wafer 13 is held by a wafer holder 14.
  • the wafer holder 14 can be displaced in particular along the y direction via a wafer displacement drive 15.
  • the displacement, on the one hand, of the reticle 7 via the reticle displacement drive 9 and, on the other hand, of the wafer 13 via the wafer displacement drive 15 can take place synchronized with one another.
  • the radiation source 3 is an EUV radiation source.
  • the radiation source 3 emits in particular EUV radiation, which is also referred to below as useful radiation or illumination radiation.
  • the useful radiation in particular has a wavelength in the range between 5 nm and 30 nm.
  • the radiation source 3 can be, for example, a plasma source, a synchrotron-based radiation source or a free electron laser (FEL).
  • the illumination radiation 16, which emanates from the radiation source 3, is bundled by a collector 17 and propagates through an intermediate focus in an intermediate focus plane 18 into the illumination optics 4.
  • the illumination optics 4 has a deflection mirror 19 and one downstream of it in the beam path first facet mirror 20 (with schematically indicated facets 21) and a second facet mirror 22 (with schematically indicated facets 23).
  • the projection lens 10 has six mirrors M1 to M6. Alternatives with four, eight, ten, twelve or another number of mirrors Mi are also possible.
  • the penultimate mirror M5 and the last mirror M6 each have a passage opening for the illumination radiation 16.
  • the projection lens 10 is a double-obscured optic.
  • the projection lens 10 has an image-side numerical aperture, which can be larger than 0.3 only by way of example, and in particular also larger than 0.5, and in particular larger than 0.6.
  • the invention is not further restricted with regard to the manner in which heating power is introduced or the design of the heating arrangement used for this purpose.
  • the heating power can be introduced in a manner known per se via infrared radiators or also via electrodes which can be supplied with electrical voltage and are arranged on the optical element or mirror to be heated.
  • the invention is not further restricted with regard to the number of optical elements or mirrors to be heated, so that the setting according to the invention of target values of the heating power on the heating of only a single optical element or also on the heating of a plurality of optical elements can be applied.
  • FIG. 6 shows performance variables standardized to a maximum for a so-called to correction residual (cold aberration correction) with sector heaters (curve 100) and a mirror heating based on this (curve 102) for a mirror over different mean ZCT values.

Landscapes

  • Physics & Mathematics (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Optics & Photonics (AREA)
  • Health & Medical Sciences (AREA)
  • Toxicology (AREA)
  • Environmental & Geological Engineering (AREA)
  • Epidemiology (AREA)
  • Public Health (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Atmospheric Sciences (AREA)
  • Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
  • Lenses (AREA)
  • Exposure And Positioning Against Photoresist Photosensitive Materials (AREA)

Abstract

Die Erfindung betrifft ein Verfahren zum Heizen eines optischen Elements in einem optischen System, insbesondere in einer mikrolithographischen Projektionsbelichtungsanlage, sowie ein optisches System. Bei einem erfindungsgemäßen Verfahren wird in das optische Element eine Heizleistung unter Verwendung eines thermischen Manipulators eingebracht, wobei diese Heizleistung auf einen Satz von Sollwerten eingestellt wird, wobei die Einstellung dieses Satzes von Sollwerten zur Erzeugung einer thermisch induzierten Deformation in Abhängigkeit von einer zu kompensierenden ersten optischen Aberration erfolgt, und wobei das Einstellen des Satzes von Sollwerten unter zusätzlicher Berücksichtigung der jeweiligen Auswirkung des Einbringens der Heizleistung auf eine zweite optische Aberration erfolgt, welche durch im Betrieb des optischen Systems auf das optische Element treffendes Nutzlicht bewirkt wird. Hierzu wird vorzugsweise eine Co-Optimierung des thermisch induzierten Deformationsprofils durchgeführt, wobei optional auch die Nulldurchgangstemperatur ZCT des Substratmaterials in die Co-Optimierung als zu optimierender Parameter einbezogen werden kann.

Description

Verfahren zum Heizen eines optischen Elements sowie optisches System
Die vorliegende Anmeldung beansprucht die Priorität der deutschen Patentan- meldung DE 10 2022 114969.2, angemeldet am 14. Juni 2022. Der Inhalt dieser DE-Anmeldung wird durch Bezugnahme ("incorporation by reference") mit in den vorliegenden Anmeldungstext aufgenommen.
HINTERGRUND DER ERFINDUNG
Gebiet der Erfindung
Die Erfindung betrifft ein Verfahren zum Heizen eines optischen Elements in einem optischen System, insbesondere in einer mikrolithographischen Projektionsbelichtungsanlage, sowie ein optisches System.
Stand der Technik
Mikrolithographie wird zur Herstellung mikrostrukturierter Bauelemente, wie bei- spielsweise integrierter Schaltkreise oder LCD’s, angewendet. Der Mikrolitho- graphieprozess wird in einer sogenannten Projektionsbelichtungsanlage durch- geführt, welche eine Beleuchtungseinrichtung und ein Projektionsobjektiv auf- weist. Das Bild einer mittels der Beleuchtungseinrichtung beleuchteten Maske (= Retikel) wird hierbei mittels des Projektionsobjektivs auf ein mit einer licht- empfindlichen Schicht (Photoresist) beschichtetes und in der Bildebene des Pro- jektionsobjektivs angeordnetes Substrat (z.B. ein Siliziumwafer) projiziert, um die Maskenstruktur auf die lichtempfindliche Beschichtung des Substrats zu übertragen. In für den EUV-Bereich ausgelegten Projektionsobjektiven, d.h. bei Wellenlän- gen von z.B. etwa 13 nm oder etwa 7 nm, werden mangels Verfügbarkeit geeig- neter lichtdurchlässiger refraktiver Materialien Spiegel als optische Komponen- ten für den Abbildungsprozess verwendet.
Ein in der Praxis auftretendes Problem ist, dass infolge von Fertigungsschwan- kungen der Spiegel sowie auch einer endlichen Präzision von beim Zusammen- bau der Projektionsbelichtungsanlage durchzuführenden Montage- bzw. Justa- geprozessen unvermeidliche optische Aberrationen aufgrund vorhandener Ab- weichungen vom idealen Optikdesign resultieren. Zur Korrektur solcher (auch als "Kaltaberrationen" bezeichneten) optischen Aberrationen ist es - neben der gezielten Aktuierung der jeweiligen Spiegel in ihren Starrkörper-Freiheitsgraden - ein möglicher Ansatz, die Spiegel unter Verwendung einer (z.B. infrarotstrah- lungsbasierten) Heizanordnung gezielt mit einem geeigneten Heizprofil zu be- aufschlagen, um mit der so thermisch induzierten Deformation Korrektur der op- tischen Kaltaberrationen zu erreichen.
Ein weiteres in der Praxis auftretendes Problem ist, dass die EUV-Spiegel u.a. infolge Absorption der von der EUV-Lichtquelle emittierten Strahlung eine (auch als "Mirror Heating" bezeichnete) Erwärmung und eine damit einhergehende thermische Ausdehnung bzw. Deformation erfahren, welche wiederum eine Be- einträchtigung der Abbildungseigenschaften des optischen Systems zur Folge haben kann.
Zur Vermeidung von durch Wärmeeinträge in einen EUV-Spiegel verursachten Oberflächendeformationen und damit einhergehenden optischen Aberrationen ist es unter anderem bekannt, als Spiegelsubstratmaterial ein Material mit ultra- niedriger thermischer Expansion ("Ultra-Low-Expansion-Material"), z.B. ein un- ter der Bezeichnung ULE™ von der Firma Corning Inc. vertriebenes Titanium- Silicatglas, zu verwenden und in einem der optischen Wirkfläche nahen Bereich die sogenannte Nulldurchgangstemperatur (ZCT = "Zero-Crossing-Tempera- tur") einzustellen. Bei dieser Zero-Crossing-Temperatur, welche z.B. für ULE™ bei etwa iS- = 30°C liegt, weist der thermische Ausdehnungskoeffizient in seiner Temperaturabhängigkeit einen Nulldurchgang auf, in dessen Umgebung keine oder nur eine vernachlässigbare Abhängigkeit der thermischen Ausdehnung des Spiegelsubstratmaterials von auftretenden Temperaturvariationen gegeben ist. Des Weiteren kann durch Einsatz einer Heizanordnung (z.B. auf Basis von Infrarotstrahlung) in Phasen vergleichsweise geringer Absorption von EUV- Nutzstrahlung eine aktive Spiegelerwärmung erfolgen, wobei diese aktive Spiegelerwärmung mit steigender Absorption der EUV-Nutzstrahlung entspre- chend zurückgefahren wird.
Hierbei tritt nun in der Praxis das weitere Problem auf, dass die vorstehend be- schriebenen Ansätze zur Korrektur von "Kaltaberrationen" einerseits und zur Vermeidung von im Betrieb des optischen Systems infolge Beaufschlagung mit EUV- bzw. Nutzlicht im jeweiligen Spiegel und damit einhergehende Spiegeler- wärmung ("Mirror Heating") induzierten Deformationen andererseits insofern gegenläufige bzw. einander widersprechende Anforderungen beinhalten, als - wie in dem schematischen Diagramm von Fig. 2 angedeutet - die jeweils güns- tigen bzw. favorisierten Temperaturbereiche bzw. Sollwerte sich voneinander unterscheiden. So ist für die Vermeidung von durch EUV-Strahlung thermisch induzierten optischen Aberrationen im Betrieb des optischen Systems ein Tem- pe raturfenster im Bereich der o.g. Nulldurchgangstemperatur (= ZCT) wün- schenswert, in welchem die auftretenden thermisch induzierten Deformationen möglichst insensitiv auf lokale Temperaturvariationen an unterschiedlichen Spiegelpositionen sind. Dagegen ist für die angestrebte Korrekturwirkung hin- sichtlich der "Kaltaberrationen" eine Erwärmung des jeweiligen Spiegels in ei- nen Temperaturbereich erforderlich, in welchem der Spiegel in seiner Deforma- tion hinreichend sensitiv auf zusätzliche Wärmeeinstrahlung ist, wodurch jedoch wiederum die im Betrieb durch die Beaufschlagung mit EUV-Licht induzierten Aberrationen bzw. der Einfluss des o.g. "Mirror Heating" verstärkt werden.
Zum Stand der Technik wird lediglich beispielhaft auf DE 10 2019 219 289 A1 verwiesen. ZUSAMMENFASSUNG DER ERFINDUNG
Es ist eine Aufgabe der vorliegenden Erfindung, ein Verfahren zum Heizen eines optischen Elements, insbesondere in einer mikrolithographischen Projektionsbelichtungsanlage, sowie ein optisches System bereitzustellen, wel- che eine wirksame Vermeidung von durch Wärmeeinträge in dem optischen Ele- ment verursachten Oberflächendeformationen und damit einhergehenden opti- schen Aberrationen ermöglichen.
Diese Aufgabe wird durch das Verfahren bzw. das optische System gemäß den Merkmalen der nebengeordneten Patentansprüche gelöst.
Gemäß einem Aspekt betrifft die Erfindung ein Verfahren zum Heizen eines op- tischen Elements in einem optischen System, insbesondere einer mikrolithogra- phischen Projektionsbelichtungsanlage, wobei in das optische Element eine Heizleistung unter Verwendung eines thermischen Manipulators eingebracht wird und wobei diese Heizleistung auf einen Satz von Sollwerten eingestellt wird, wobei die Einstellung dieses Satzes von Sollwerten zur Erzeugung einer thermisch induzierten Deformation in Abhängigkeit von einer zu kompen- sierenden ersten optischen Aberration erfolgt, und wobei das Einstellen des Satzes von Sollwerten unter zusätzlicher Berück- sichtigung der jeweiligen Auswirkung des Einbringens der Heizleistung auf eine zweite optische Aberration erfolgt, welche durch im Betrieb des opti- schen Systems auf das optische Element treffendes Nutzlicht bewirkt wird.
Die Erfindung ist hinsichtlich der konkreten Ausgestaltung des thermischen Ma- nipulators, also der Art und Weise der Einbringung von Heizleistung in das op- tische Element, nicht weiter eingeschränkt. Lediglich beispielhaft kann etwa die Einbringung der Heizleistung in für sich bekannter Weise über Infrarot (IR)- Strahler erfolgen, wobei insbesondere auch einzelne Sektoren durch die Einstellung entsprechender Heizprofile mit IR-Strahlung beaufschlagt werden können. Hierzu kann z.B. eine in DE 10 2019 219 289 A1 beschriebene Heizanordnung verwendet werden. Alternativ kann die Einbringung der Heiz- leistung auch über mit elektrischer Spannung beaufschlagbare, an dem zu hei- zenden optischen Element bzw. Spiegel angeordnete Elektroden erfolgen.
Dabei soll durch die Formulierung "Satz von Sollwerten" zum Ausdruck kom- men, dass der thermische Manipulator gegebenenfalls auch gezielt einzelne Sektoren durch die Einstellung entsprechender Heizprofile mit IR-Strahlung (z.B. mit der in DE 10 2019 219 289 A1 beschriebenen Heizanordnung) beauf- schlagen kann. Insofern umfasst der "Satz von Sollwerten" für die Heizleistung des thermischen Manipulators gegebenenfalls jeweils einen Wert für jeden der Sektoren (nach Art eines Vektors mit einer Mehrzahl von Komponenten).
Gemäß einer Ausführungsform ist die erste optische Aberration wenigstens teil- weise fertigungs- oder justagebedingt. Des Weiteren kann die erste optische Aberration durch das optische Element selbst oder auch anderenorts im opti- schen System (z.B. durch ein anderes optisches Element) bewirkt werden.
Das Merkmal bzw. die Formulierung, wonach die Einstellung des Satzes von Sollwerten zur Erzeugung einer thermisch induzierten Deformation "in Abhän- gigkeit von einer zu kompensierenden ersten optischen Aberration" erfolgt, ist dabei so zu verstehen, dass auch Ausgestaltungen umfasst sind, in welchen die besagte erste (z.B. fertigungs- oder justagebedingte) Aberration nicht minimiert (also nicht möglichst vollständig korrigiert) wird, sondern gegebenenfalls gezielt auf eine gewünschte (Wellenfront-)Signatur des optischen Systems bzw. des Projektionsobjektivs der Projektionsbelichtungsanlage eingestellt wird.
Der Erfindung liegt insbesondere das Konzept zugrunde, die Einstellung einer über einen thermischen Manipulator in ein optisches Element zum Zwecke der Korrektur von z.B. fertigungs- oder justagebedingten optischen Aberrationen (sogenannten "Kaltaberrationen") eingebrachten Heizleistung bzw. die Festle- gung des entsprechenden Sollwertes bzw. Satzes von Sollwerten für eine Einstellung dieser Heizleistung nicht allein mit Blick auf diese Kaltaberrationen vorzunehmen, sondern bei der besagten Sollwert-Einstellung für die Heizleis- tung bereits die entsprechende Auswirkung auf die im eigentlichen Betrieb des optischen Elements bzw. des dieses Element aufweisenden optischen Systems infolge auftreffenden Nutzlichts erzeugte optische Aberration (d.h. den Einfluss auf die Auswirkungen des sogenannten "Mirror Heating") zu berücksichtigen.
Mit anderen Worten beinhaltet die Erfindung insbesondere das Prinzip, im Hin- blick auf die eingangs erläuterte Grundproblematik gegenläufiger bzw. einander widersprechender Anforderungen an den für eine Korrektur von Kaltaberratio- nen favorisierten Temperaturbereich einerseits und an den für eine Kompensa- tion der Auswirkungen des "Mirror Heating" favorisierten Temperaturbereich an- dererseits schon bei Festlegung des geeigneten Sollwerts bzw. Satzes von Soll- werten für die durch einen thermischen Manipulator in das optische Element eingebrachte Heizleistung die Aspekte "Korrektur von Kaltaberrationen" und "Kompensation der Auswirkung von Mirror Heating" bereits beide einzubeziehen.
Dabei unterscheidet sich das erfindungsgemäße Konzept zur Korrektur von Kaltaberrationen von herkömmlichen, ebenfalls einen thermischen Manipulator nutzenden Ansätzen insbesondere dadurch, dass bei Festlegung des Sollwer- tes bzw. Satzes von Sollwerten für die zur Korrektur eingebrachte Heizleistung bereits Rücksicht auf deren Auswirkung auf die ebenfalls gebotene Kompensa- tion des Einflusses von "Mirror Heating" im Nutzbetrieb des optischen Elements genommen wird.
In Ausführungsformen der Erfindung kann bei der Festlegung des Sollwertes bzw. Satzes von Sollwerten für die zur Korrektur eingebrachte Heizleistung auch eine gegebenenfalls im späteren Betrieb des optischen Systems abhängig von der EUV-Last erfolgende (Nach-)Regelung der Heizleistung genommen wer- den. Dies bedeutet insbesondere, dass z.B. der Unterschied zwischen der ein- gestellten Heizleistung von der Nulldurchgangstemperatur zu Betriebsbeginn - zugunsten einer noch weiter verbesserten Korrektur der Kaltaberrationen - vergleichsweise größer ausfallen kann, da es die im Betrieb hinzukommende (Nach-)Regelung hinsichtlich des Einflusses des "Mirror Heating" ermöglicht, transiente optische Aberrationen während des Betriebs des optischen Systems dennoch auf einem akzeptablen Niveau zu halten.
Gemäß einer Ausführungsform umfasst das Einstellen des Satzes von Sollwer- ten eine Co-Optimierung eines durch den thermischen Manipulator am opti- schen Element erzeugten Deformationsprofils im Hinblick sowohl auf die erste optische Aberration als auch auf die zweite optische Aberration.
Gemäß einer Ausführungsform erfolgt das Einstellen des Satzes von Sollwerten anhand einer Merit-Funktion für durch das optische Element bewirkte Wellen- frontfehler, wobei diese Merit-Funktion durch einen Term zur Berücksichtigung der Auswirkung des Einbringens der Heizleistung auf die zweite optische Aber- ration erweitert ist.
Hierbei wird das für sich bekannte Konzept der Minimierung einer Merit-Funktion zur Optimierung der über einen thermischen Manipulator in ein optisches Ele- ment eingebrachten Heizleistung dahingehend erweitert, dass mit einem geeig- neten Ansatz für diese Merit-Funktion deren Minimierung bereits die ge- wünschte Co-Optimierung des thermisch induzierten Deformationsprofils im Hinblick sowohl auf die erste optische Aberration (= "Kaltaberration") als auch auf die zweite optische Aberration (= "Mirror Heating") ergibt.
Gemäß einer Ausführungsform ist der Term zur Berücksichtigung der Auswir- kung des Einbringens der Heizleistung auf die zweite optische Aberration ein Regularisierungsterm, welcher ohne explizite Bestimmung von durch im Betrieb des optischen Systems auf das optische Element treffendes Nutzlicht bewirkten Wellenfrontfehlern allein aufgrund von Vorkenntnissen betreffend das thermi- sche Verhalten des optischen Elements im Betrieb des optischen Systems fest- gelegt wird. Das hier erfindungsgemäß verfolgte Konzept einer Regularisierung der Merit- Funktion bedeutet, dass von vorneherein durch Einführung eines Regularisie- rungsterms innerhalb des gesamten Lösungsraumes bestimmte Lösungen (beispielsweise Lösungen mit vergleichsweise geringer Heizleistung des ther- mischen Manipulators) gegenüber anderen Lösungen (z.B. solchen mit ver- gleichsweise hoher Heizleistung des thermischen Manipulators) bevorzugt wer- den. Der Regularisierungs-Ansatz zeichnet sich dabei weiter dadurch aus, dass mit dem entsprechenden Ansatz für die zu minimierende Merit-Funktion der Ein- fluss der zur Korrektur von Kaltaberrationen bewirkten thermischen Manipula- tion auf das "Mirror Heating" bzw. dessen Kompensation gering gehalten wer- den kann, ohne dass hierzu eine explizite Berechnung der besagten zweiten optischen Aberration bzw. eine Bestimmung des expliziten Einflusses hinsicht- lich "Mirror Heating" durchgeführt wird.
Gemäß einer Ausführungsform ist die Co-Optimierung darstellbar als:
Figure imgf000010_0001
wobei
Figure imgf000010_0002
das Ergebnis der Co-Optimierung, Z(x) die Abhängigkeit der Wellenfrontwirkung von der Position und Orientierung der optischen Elemente x, S die erste optische Aberration, die Abhängigkeit der Wellenfrontwirkung
Figure imgf000010_0003
von der durch den thermischen Manipulator eingestellten Heizleistung h, P ei- nen Regularisierungsterm und href einen vorgegebenen Referenz-Satz von Soll- werten für die Heizleistung bezeichnet.
Die Metrik D gibt eine Vorschrift zur Gewichtung einzelner Aspekte (z.B. Zernike-Koeffizienten) der Aberrationen und die Kondensation der gesamten Wellenfrontinformation auf einen einzelnen skalaren Wert.
Die Komponenten der vektoriellen Größen x können insbesondere die einzel- nen Amplituden der rotatorischen und translatorischen Manipulatoren des optischen Elements und h die jeweiligen Heizlasten der einzelnen thermischen Manipulatoren bzw. Sektoren bezeichnen, wobei die jeweils hinsichtlich beider Größen co-optimierten Ergebniswerte mit x^h* bezeichnet werden.
Gemäß einer anderen Ausführungsform wird der Term zur Berücksichtigung der Auswirkung des Einbringens der Heizleistung auf die zweite optische Aberration durch explizite Bestimmung von durch im Betrieb des optischen Systems auf das optische Element treffendes Nutzlicht bewirkten Wellenfrontfehlern ermit- telt.
Gemäß einer Ausführungsform ist die Co-Optimierung darstellbar als:
Figure imgf000011_0003
(2) wobei x? und h* das Ergebnis der Co-Optimierung, Z(x) die Abhängigkeit der Wellenfrontwirkung von der Position und Orientierung der optischen Elemente x, S die erste optische Aberration, f(h) die Abhängigkeit der Wellenfrontwirkung von der durch den thermischen Manipulator eingestellten Heizleistung h und G die zweite optische Aberration im thermalen Gleichgewichtszu-
Figure imgf000011_0001
stand bezeichnet.
Gemäß diesem Konzept werden - im Unterschied zur vorstehend beschriebe- nen Regularisierung - optische Aberrationen infolge "Mirror Heating" für be- stimmte Nutzerszenarien UCn, insbesondere die Aberrationen infolge "Mirror Heating" im thermalen Gleichgewichtszustand
Figure imgf000011_0002
explizit als Teil der
Merit-Funktion berücksichtigt. Dabei kann in der (zusätzlich zur Metrik D einge- führten) zweiten Metrik G eine unterschiedliche Gewichtung voneinander ver- schiedener Nutzerszenarien oder auch z.B. nur das hinsichtlich "Mirror Heating" am kritischsten einzuschätzende Nutzerszenario berücksichtigt werden. Die separate Verrechnung des Anfangszustands S + f(h) und der "Mirror Hea- ting"-Aberrationen mit der Metrik D dient hierbei dazu, auszu-
Figure imgf000012_0001
schließen, dass sich die Terme f(h) und G gegenseitig kompensie-
Figure imgf000012_0002
ren. Mit anderen Worten soll gewährleistet sein, dass das optische System bzw. Projektionsobjektiv zu Betriebsbeginn auch eine gute bzw. hinsichtlich ferti- gungs- oder justagebedingter Aberrationen möglichst korrigierte Wellenfront be- reitstellt.
In weiteren Ausführungsformen kann alternativ auch eine Merit-Funktion ver- wendet werden, über deren Minimierung der Endzustand optimiert wird, wobei dann der vorstehend genannte Ausschluss einer gegenseitigen Kompensation der Terme f(h) und G (zm ,ucn(h)) über zusätzliche Nebenbedingungen erreicht wird. Hierbei wird durch eine Menge M von Spezifikationen von bestimmten In- dikatoren (KPIt) ein geeigneter Ausgleich bzw. Kompromiss zwischen Kaltab- errationen einerseits und Aberrationen infolge "Mirror Heating" andererseits vor- gegeben, welcher bei Minimierung der Merit-Funktion einzuhalten ist:
Figure imgf000012_0003
mit
Figure imgf000012_0004
Gemäß einer Ausführungsform wird der Term zur Berücksichtigung der Auswir- kung des Einbringens der Heizleistung auf die zweite optische Aberration durch explizite Bestimmung des Maximums in der zeitlichen Entwicklung der durch im Betrieb des optischen Systems auf das optische Element treffendes Nutzlicht bewirkten Wellenfrontfehler ermittelt.
Gemäß einer Ausführungsform ist die Co-Optimierung darstellbar als
Figure imgf000013_0004
wobei
Figure imgf000013_0001
und h* das Ergebnis der Co-Optimierung, S die erste optische Aberra- tion, Z(x) die Abhängigkeit der Wellenfrontwirkung von der Position und Orien- tierung der optischen Elemente x, f(h) die Abhängigkeit der Wellenfrontwirkung von der durch den thermischen Manipulator eingestellten Heizleistung h und das Maximum in der zeitlichen Entwicklung der zweiten
Figure imgf000013_0002
optischen Aberration bezeichnet.
Die explizite Bestimmung bzw. Berücksichtigung des Maximums in der zeitli- chen Entwicklung der durch im Betrieb auf das optische Element treffendes Nutzlicht bewirkten Wellenfrontfehler dient dazu, sicherzustellen, dass auch "Überschwinger" in der zeitlichen Entwicklung der durch "Mirror Heating" be- dingten Aberrationen minimiert werden. Indem eine Co-Optimierung der Kaltab- errationen sowie der durch "Mirror Heating" bewirkten Aberrationen in dieser Weise unter Berücksichtigung des zeitlichen Maximums erfolgt, wird bereits si- chergestellt, dass das optische System bzw. Projektionsobjektiv bereits zu Be- triebsbeginn minimale Gesamtaberrationen aufweist.
Somit muss hier die Merit-Funktion nur den Zustand berücksichtigen.
Figure imgf000013_0003
Analog zur o.g. Ausführungsform kann auch diese Merit-Funktion um zusätzli- che Nebenbedingungen erweitert werden, um sicherzustellen, dass jeweils in- dividuelle Spezifikationen für die Kaltaberrationen einerseits und die Aberratio- nen infolge "Mirror Heating" andererseits eingehalten werden. Für Systeme, in denen die erfindungsgemäße Co-Optimierung bereits unter Berücksichtigung des thermischen Gleichgewichtszustandes vorgenommen wurde, bei denen je- doch das Maximum der zeitlichen Entwicklung der Aberrationen infolge "Mirror Heating" nicht auf den thermischen Gleichgewichtszustand fällt, ermöglicht die Co-Optimierung unter Berücksichtigung des zeitlichen Maximums der Aberrati- onen infolge "Mirror Heating" eine noch bessere Abbildungsqualität des Projek- tionsobjektivs.
Eine Weiterbildung der vorliegenden Erfindung beschäftigt sich mit einer zusätz- lichen Optimierung der Nulldurchgangs- oder Zero-Crossing-Temperatur ZCT des Substrats des optischen Elements.
Diese Zero-Crossing-Temperatur kann durch die Materialhersteller in gewissen Grenzen anhand von Vorgaben reproduzierbar eingestellt werden. Durch geeig- nete Wahl der ZCT lässt sich die erfindungsgemäße Co-Optimierung hinsicht- lich Kaltaberrationen und Mirrorheating weiter verbessern.
Zur Vermeidung von Mirrorheating-Effekten hat man bislang den mittleren Tem- peratur-Setpoint im Betrieb nahe der ZCT gewählt, um möglichst geringe Mir- rorheating-Aberrationen zu generieren. Im erfindungsgemäßen Kontext fällt die- ser Setpoint in der Regel jedoch nicht mehr mit der ZCT zusammen, weil erst außerhalb der ZCT eine hinreichende Korrektur der Kaltaberrationen durch ther- mische Manipulatoren möglich ist.
Daher ist die Wahl einer optimalen ZCT im Kontext der vorliegenden Erfindung nicht trivial, und es wird in einer Ausführungsform der Erfindung dementspre- chend vorgeschlagen, dass die Co-Optimierung zusätzlich die Nulldurchgangs- temperatur oder ZCT (Zero-Crossing-Temperatur) eines Substratmaterials des optischen Elements als zu optimierende Größe umfasst, wodurch eine optimierte Nulldurchgangstemperatur ZCT als Vorgabe für die Auslegung des Substratmaterials ermittelt wird.
Im Prinzip werden dazu die vorstehend beschriebenen Optimierungsstrategien jeweils um einen Parameter ZCT erweitert.
Um zu berücksichtigen, dass die ZCT nicht beliebig variiert werden soll und es generell bevorzugte Temperaturbetriebsbereiche gibt, erfolgt die Co-Optimie- rung mit der ZCT als zu optimierendem Parameter bevorzugt unter Verwendung eines von einem vorgegebenen Temperatur-Setpoint href (ZCT) abhängigen Regulierungs- oder Penaltyterms P.
Dieser Penalty-Term beschreibt die implizite Berücksichtigung von MH-Aberra- tionen in der Optimierung, falls grundlegende Kenntnisse für die Quantifizierung der MH-Aberrationen fehlen, falls beispielsweise die Intensitätsverteilung auf dem optischen Element nicht bekannt ist, aber dafür die Quellleistung.
Eine entsprechende (in der Regel numerisch zu lösende) Co-Optimierungsvor- schrift unter Berücksichtigung der ZCT als zu optimierendem Parameter ist so- mit darstellbar als:
Figure imgf000015_0001
wobei x* die optimalen Amplituden der rotatorischen und translatorischen Mani- pulatoren, 7i* die optimalen Amplituden der thermischen Manipulatoren und ZCT* die optimale ZCT als Ergebnis der Co-Optimierung, S die Kaltaberration, Z(x) die Abhängigkeit der Wellenfrontwirkung von der Position und Orientierung der optischen Elemente x, f(h,ZCT) die wellenfrontabhängige Korrektur dersel- ben, P einen Regulierungsterm abhängig von einem vorgegebenen und für das Mirror-Heating günstigen Setpoint href(ZCT) sowie D eine skalare Metrik dar- stellen. Analog zu der vorstehenden Gleichung (2) kann die Co-Optimierung unter Be- rücksichtigung der ZCT als zu optimierendem Parameter unter Berücksichti- gung des thermalen Gleichgewichtszustandes (Steady-State) als Teil der Merit- Funktion auch dargestellt werden als:
Figure imgf000016_0002
wobei x? die optimalen Amplituden der rotatorischen und translatorischen Mani- pulatoren, h* die optimalen Amplituden der thermischen Manipulatoren und ZCT* die optimale ZCT als Ergebnis der Co-Optimierung, S die Kaltaberration, Z(x) die Abhängigkeit der Wellenfrontwirkung von der Position und Orientierung der optischen Elemente x, ffizCT) die wellenfrontabhängige Korrektur dersel- ben, Z^ yc^h.ZCT) die Mirror-Heating-bedingte zweite optische Aberration im thermalen Gleichgewichtszustand nach Korrektur mittels Position und Orientie- rung der optischen Elemente, G eine Gewichtungsmetrik sowie D eine skalare Metrik darstellen.
Durch die separate Anwendung der Metrik D auf beide Terme wird vermieden, dass die Optimierung auf eine Kompensation der beiden Terme hinausläuft, was sicherstellt, dass die Optik auch zu Beginn des Betriebs eine gute Wellenfront aufweist. Alternativ ist - analog zu der obenstehenden Gleichung (4) auch eine Co-Optimierung unter Berücksichtigung der ZCT als zu optimierendem Parame- ter und unter Berücksichtigung des Maximums über die gesamte transiente Zeit- reihe darstellbar ist als:
Figure imgf000016_0001
wobei x? die optimalen Amplituden der rotatorischen und translatorischen Mani- pulatoren, h* die optimalen Amplituden der thermischen Manipulatoren und ZCT* die optimale ZCT als Ergebnis der Co-Optimierung, S die Kaltaberration, Z(x) die Abhängigkeit der Wellenfrontwirkung von der Position und Orientierung der optischen Elemente x, ffizCT) die wellenfrontabhängige Korrektur dersel- ben, ZUCn(h,ZCT) die Mirror-Heating-bedingte zweite optische Aberration nach transienter Korrektur mittels Position und Orientierung der optischen Elemente, G eine Gewichtungsmetrik sowie D eine skalare Metrik darstellen.
Die Gewichtungsmetrik G kondensiert den Mirror-Heating-Term in einen Skalar. Im Einzelnen hängt vom konkreten Mirror-Heating-Use-Cases ab.
Die numerische Lösung der Gleichungen (5) - (7) erfolgt bevorzugt im Wege einer verschachtelten Optimierung mit einer äußeren Iterationsschleife bzw. ei- nem äußeren Loop, bei dem über einen ZCT-Bereich gesampelt wird, und mit einer inneren Iterationsschleife bzw. mit einem inneren Loop, bei dem für jede ZCT eine Co-Optimierung von Kalt- und MH-Aberrationen durchgeführt wird.
Hinsichtlich der weiteren Einzelheiten wird auf die vorstehenden Ausführungen zu den Gleichungen (1 ) bis (4) verwiesen.
Bevorzugt ist im Rahmen der Erfindung wie bereits erwähnt vorgesehen, dass ein ermittelter optimierter Temperatur-Setpoint für das optische Element nicht mit der ZCT des Substratmaterials des optischen Elements zusammenfällt.
Gemäß einer Ausführungsform erfolgt das Heizen des optischen Elements der- art, dass eine örtliche und/oder zeitliche Variation einer Temperaturverteilung in dem optischen Element reduziert wird.
Gemäß einer Ausführungsform ist das optische Element ein Spiegel.
Gemäß einer Ausführungsform ist das optische Element für eine Arbeitswellen- länge von weniger als 400 nm, insbesondere weniger als 250 nm, weiter insbe- sondere weniger als 200 nm, ausgelegt. Gemäß einer Ausführungsform ist das optische Element für eine Arbeitswellen- länge von weniger als 30 nm, insbesondere weniger als 15 nm, ausgelegt.
Die Erfindung betrifft weiter auch ein optisches System, insbesondere einer mik- rolithographischen Projektionsbelichtungsanlage, mit wenigstens einem optischen Element, einem thermischen Manipulator zum Heizen dieses optischen Elements, einer Ansteuerungseinheit zur Einstellung der durch die Heizanordnung in das optische Element eingebrachten Heizleistung auf Basis eines Sat- zes von Sollwerten, und einem Sollwert-Generator zum Generieren des Satzes von Sollwerten zur Erzeugung einer thermisch induzierten Deformation, wobei der Satz von Sollwerten in Abhängigkeit von einer zu kompensierenden ersten optischen Aberration unter zusätzlicher Berücksichtigung der jeweiligen Auswirkung des Einbringens der Heizleistung auf eine zweite optische Aberration, welche durch im Betrieb des optischen Systems auf das op- tische Element treffendes Nutzlicht bewirkt wird, eingestellt wird.
Gemäß einer Ausführungsform ist die erste optische Aberration wenigstens teil- weise fertigungs- oder justagebedingt.
Gemäß einer weiteren Ausführungsform wird die ZCT eines Substrats des opti- schen Elements im Hinblick auf eine durch die thermischen Manipulatoren zu kompensierende Kaltaberration unter gleichzeitiger Minimierung von im Betrieb des optischen Systems auf das optische Element zu erwartenden Mirror-Hea- ting-Aberrationen, Co-optimiert, wie vorstehend bereits näher erläutert. Das op- tische Element wird dann bevorzugt unter Vorgabe der so Co-optimierten ZCT gefertigt.
Gemäß einer Ausführungsform ist das optische System dazu konfiguriert, ein
Verfahren mit den vorstehend beschriebenen Merkmalen durchzuführen. Zu Vorteilen und weiteren bevorzugten Ausgestaltungen des optischen Systems wird auf die o.g. Ausführungen im Zusammenhang mit dem erfindungsgemäßen Verfahren Bezug genommen.
Weitere Ausgestaltungen der Erfindung sind der Beschreibung sowie den Un- teransprüchen zu entnehmen.
Die Erfindung wird nachstehend anhand von in den beigefügten Abbildungen dargestellten Ausführungsbeispielen näher erläutert.
KURZE BESCHREIBUNG DER ZEICHNUNGEN
Es zeigen:
Figur 1 eine schematische Darstellung des möglichen Aufbaus einer für den Betrieb im EUV ausgelegten mikrolithographischen Projektions- belichtungsanlage;
Figur 2 ein Diagramm zur Erläuterung eines der vorliegenden Erfindung zu- grundeliegenden, prinzipiellen Problems;
Figuren 3-5 Diagramme zur Veranschaulichung der Wirkungsweise der vorlie- genden Erfindung; und
Figur 6 ein Diagramm zur Erläuterung einer ZCT-Co-Optimierung. DETAILLIERTE BESCHREIBUNG BEVORZUGTER
AUSFÜHRUNGSFORMEN
Fig. 1 zeigt eine schematische Darstellung einer für den Betrieb im EUV ausge- legten Projektionsbelichtungsanlage 1 , in der die Erfindung beispielsweise rea- lisierbar ist.
Gemäß Fig. 1 weist die Projektionsbelichtungsanlage 1 eine Beleuchtungsein- richtung 2 und ein Projektionsobjektiv 10 auf. Die Beleuchtungseinrichtung 2 dient dazu, ein Objektfeld 5 in einer Objektebene 6 mit Strahlung einer Strah- lungsquelle 3 über eine Beleuchtungsoptik 4 zu beleuchten. Belichtet wird hier- bei ein im Objektfeld 5 angeordnetes Retikel 7. Das Retikel 7 ist von einem Re- tikelhalter 8 gehalten. Der Retikelhalter 8 ist über einen Retikelverlagerungsan- trieb 9 insbesondere in einer Scanrichtung verlagerbar. In Fig. 1 ist zur Erläute- rung ein kartesisches xyz-Koordinatensystem eingezeichnet. Die x-Richtung verläuft senkrecht zur Zeichenebene hinein. Die y-Richtung verläuft horizontal und die z-Richtung verläuft vertikal. Die Scanrichtung verläuft in Fig. 1 längs der y-Richtung. Die z-Richtung verläuft senkrecht zur Objektebene 6.
Das Projektionsobjektiv 10 dient zur Abbildung des Objektfeldes 5 in ein Bild- feld 11 in einer Bildebene 12. Abgebildet wird eine Struktur auf dem Retikel 7 auf eine lichtempfindliche Schicht eines im Bereich des Bildfeldes 1 1 in der Bild- ebene 12 angeordneten Wafers 13. Der Wafer 13 wird von einem Waferhal- ter 14 gehalten. Der Waferhalter 14 ist über einen Waferverlagerungsantrieb 15 insbesondere längs der y-Richtung verlagerbar. Die Verlagerung einerseits des Retikels 7 über den Retikelverlagerungsantrieb 9 und andererseits des Wafers 13 über den Waferverlagerungsantrieb 15 kann synchronisiert zueinan- der erfolgen.
Bei der Strahlungsquelle 3 handelt es sich um eine EUV-Strahlungsquelle. Die Strahlungsquelle 3 emittiert insbesondere EUV-Strahlung, welche im Folgenden auch als Nutzstrahlung oder Beleuchtungsstrahlung bezeichnet wird. Die Nutz- strahlung hat insbesondere eine Wellenlänge im Bereich zwischen 5 nm und 30 nm. Bei der Strahlungsquelle 3 kann es sich zum Beispiel um eine Plasma- quelle, eine synchrotronbasierte Strahlungsquelle oder um einen Freie-Elektro- nen-Laser ("Free-Electron-Laser", FEL) handeln. Die Beleuchtungsstrah- lung 16, die von der Strahlungsquelle 3 ausgeht, wird von einem Kollektor 17 gebündelt und propagiert durch einen Zwischenfokus in einer Zwischenfokus- ebene 18 in die Beleuchtungsoptik 4. Die Beleuchtungsoptik 4 weist einen Um- lenkspiegel 19 und diesem im Strahlengang nachgeordnet einen ersten Facet- tenspiegel 20 (mit schematisch angedeuteten Facetten 21 ) und einen zweiten Facettenspiegel 22 (mit schematisch angedeuteten Facetten 23) auf.
Das Projektionsobjektiv 10 weist eine Mehrzahl von Spiegeln Mi (i= 1 , 2, ...) auf, welche gemäß ihrer Anordnung im Strahlengang der Projektionsbelichtungsan- lage 1 durchnummeriert sind. Bei dem in der Fig. 1 dargestellten Beispiel weist das Projektionsobjektiv 10 sechs Spiegel M1 bis M6 auf. Alternativen mit vier, acht, zehn, zwölf oder einer anderen Anzahl an Spiegeln Mi sind ebenso mög- lich. Der vorletzte Spiegel M5 und der letzte Spiegel M6 weisen jeweils eine Durchtrittsöffnung für die Beleuchtungsstrahlung 16 auf. Bei dem Projektions- objektiv 10 handelt es sich um eine doppelt obskurierte Optik. Das Projektions- objektiv 10 hat eine bildseitige numerische Apertur, die lediglich beispielhaft grö- ßer sein kann als 0.3, und insbesondere auch größer als 0.5, weiter insbeson- dere größer als 0.6, sein kann.
Im Betrieb der mikrolithographischen Projektionsbelichtungsanlage 1 wird die auf die optische Wirkfläche der Spiegel auftreffende elektromagnetische Strah- lung zum Teil absorbiert und führt wie eingangs erläutert zu einer Erwärmung und einer damit einhergehenden thermischen Ausdehnung bzw. Deformation, welche wiederum eine Beeinträchtigung der Abbildungseigenschaften des opti- schen Systems zur Folge haben kann. Über einen thermischen Manipulator in Form einer Heizanordnung kann nun wie eingangs beschrieben in Phasen ver- gleichsweise geringer Absorption von EUV-Nutzstrahlung jeweils eine aktive Spiegelerwärmung erfolgen, wobei diese aktive Spiegelerwärmung mit steigen- der Absorption der EUV-Nutzstrahlung entsprechend zurückgefahren wird. In Fig. 1 ist lediglich schematisch eine Heizanordnung eingezeichnet und mit "25" bezeichnet, wobei diese Heizanordnung 25 im Beispiel zur Einbringung ei- ner Heizleistung in den Spiegel M3 dient.
Dabei ist die Erfindung hinsichtlich der Art und Weise der Einbringung von Heiz- leistung bzw. Ausgestaltung der hierzu verwendeten Heizanordnung nicht wei- ter eingeschränkt. Lediglich beispielhaft kann etwa die Einbringung der Heizleis- tung in für sich bekannter Weise über Infrarot-Strahler oder auch über mit elektri- scher Spannung beaufschlagbare, an dem zu heizenden optischen Element bzw. Spiegel angeordnete Elektroden erfolgen.
Des Weiteren ist die Erfindung hinsichtlich der Anzahl der zu heizenden opti- schen Elemente bzw. Spiegel nicht weiter eingeschränkt, so dass die erfin- dungsgemäße Einstellung von Sollwerten der Heizleistung auf die Heizung le- diglich eines einzigen optischen Elements oder auch auf die Heizung einer Mehrzahl von optischen Elementen angewendet werden kann.
Erfindungsgemäß erfolgt nun im Hinblick auf die eingangs anhand von Fig. 2 erläuterte Grundproblematik von gegenläufigen bzw. einander widersprechen- der Anforderungen an den für eine Korrektur von Kaltaberrationen favorisierten T emperaturbereich einerseits und den für eine Kompensation der Auswirkungen des "Mirror Heating" favorisierten Temperaturbereich andererseits bereits bei Festlegung eines Satzes von Sollwerten für die durch einen thermischen Manipulator in das optische Element eingebrachte Heizleistung eine Einbezie- hung beider Aspekte "Korrektur von Kaltaberrationen" und "Kompensation von Mirror Heating". Dies wird wiederum erreicht, indem bei Einstellung der Heiz- leistung zusätzlich zur Korrektur der o.g. "Kaltaberrationen" bereits die entspre- chende Auswirkung auf die im eigentlichen Betrieb des optischen Elements bzw. des dieses Element aufweisenden optischen Systems infolge auftreffenden Nutzlichts erzeugte optische Aberration, insbesondere im Wege einer "Co-Opti- mierung" unter Minimierung einer geeigneten Merit-Funktion z.B. entsprechend den o.g. Ansätzen gemäß den Gleichungen (1 )-(4), berücksichtigt wird. Fig. 3-5 zeigen Diagramme zur Veranschaulichung der Wirkungsweise der vor- liegenden Erfindung. Dabei ist in Fig. 4 und Fig. 5 der transiente Verlauf bei- spielhafter Kenngrößen, die Teilaspekte der optischen Aberrationen und der Wellenfront beschreiben, nach Betriebsaufnahme unter EUV-Last dargestellt, und zwar zum Vergleich sowohl für den Fall ohne Anwendung der erfindungs- gemäßen Co-Optimierung (= durchgezogene Linie in Fig. 4 bzw. Fig. 5) als auch für den Fall mit Anwendung der erfindungsgemäßen Co-Optimierung (= gestri- chelte Linie in Fig. 4 bzw. Fig. 5). Aus Fig. 4 und Fig. 5 ist ersichtlich, dass infolge der erfindungsgemäßen Co-Optimierung bzw. des hierbei eingestellten Kom- promisses hinsichtlich der Korrektur der o.g. "Kaltaberrationen" sowie der Kom- pensation der Auswirkungen von "Mirror Heating" die Aberrationen infolge des "Mirror Heating" signifikant verringert werden können. Zugleich zeigt es sich gemäß dem Diagramm von Fig. 3, dass dieser Effekt ohne nennenswerte Beeinträchtigung bei der erreichten Korrektur der Kaltaberrationen erzielt wird.
Zur Veranschaulichung der optionalen ZCT-Optimierung zeigt das Diagramm in Fig. 6 auf ein Maximum normierte Performance-Größen für ein sog. to-Korrektur- Residuum (Kaltaberrationskorrektur) mit Sektorheizern (Kurve 100) und ein da- rauf beruhendes Mirrorheating (Kurve 102) für einen Spiegel über verschiedene mittlere ZCT-Werte.
In dieser Darstellung stellen niedrigere Performancewerte geringere Aberratio- nen dar; das angestrebte Ziel besteht somit in einer Minimierung der entspre- chenden Graphen.
Man sieht in diesem Beispiel - ohne Beschränkung der Allgemeinheit -, dass die gewünschte ZCT - nur unter Berücksichtigung des Aspekts des Mirror-Hea- tings - bei dem Minimum der Kurve 100 liegen würde.
Bisher hätte man diese ZCT plus ein gewisses Toleranzband gewählt (Be- reich 106 um die gestrichelte Linie). Die to-Korrektur funktioniert jedoch - wie ersichtlich - bei höheren ZCT-Werten besser.
Wenn man nun zum Beispiel o.B.d.A. die to-Korrektur mit einem Faktor 5 ge- wichtet - dies sind letztlich Priorisierungsannahmen -, ergibt sich eine überla- gerte Kurve 104 - berechnet anhand der Vorschrift 5 x to + 1 x MH - mit einem Minimum bei einem höheren Temperaturwert.
Daraus würde sich ein alternatives Toleranzband (Bereich 108) ergeben, das unter den gegebenen Randbedingungen die beste ZCT sowohl für to als auch für Mirrorheating liefern würde.
Durch Co-Optimierung der ZCT kann diese Soll-ZCT bestimmt und bei der Fer- tigung des optischen Elements berücksichtigt werden.
Wenn die Erfindung auch anhand spezieller Ausführungsformen beschrieben wurde, erschließen sich für den Fachmann zahlreiche Variationen und alterna- tive Ausführungsformen, z.B. durch Kombination und/oder Austausch von Merk- malen einzelner Ausführungsformen. Dementsprechend versteht es sich für den Fachmann, dass derartige Variationen und alternative Ausführungsformen von der vorliegenden Erfindung mit umfasst sind, und die Reichweite der Erfindung nur im Sinne der beigefügten Patentansprüche und deren Äquivalente be- schränkt ist.

Claims

Patentansprüche
1 . Verfahren zum Heizen eines optischen Elements in einem optischen Sys- tem, insbesondere einer mikrolithographischen Projektionsbelichtungs- anlage, wobei in das optische Element eine Heizleistung unter Verwen- dung eines thermischen Manipulators eingebracht wird und wobei diese Heizleistung auf einen Satz von Sollwerten eingestellt wird, wobei die Einstellung dieses Satzes von Sollwerten zur Erzeugung einer thermisch induzierten Deformation in Abhängigkeit von einer zu kompensierenden ersten optischen Aberration erfolgt, dadurch gekennzeichnet, dass das Einstellen des Satzes von Sollwerten unter zusätzlicher Berücksich- tigung der jeweiligen Auswirkung des Einbringens der Heizleistung auf eine zweite optische Aberration erfolgt, welche durch im Betrieb des op- tischen Systems auf das optische Element treffendes Nutzlicht bewirkt wird.
2. Verfahren nach Anspruch 1 , dadurch gekennzeichnet, dass die erste optische Aberration wenigstens teilweise fertigungs- oder justagebedingt ist.
3. Verfahren nach Anspruch 1 oder 2, dadurch gekennzeichnet, dass das Einstellen des Satzes von Sollwerten eine Co-Optimierung eines durch den thermischen Manipulator am optischen Element erzeugten Deforma- tionsprofils im Hinblick sowohl auf die erste optische Aberration als auch auf die zweite optische Aberration umfasst. Verfahren nach Anspruch 3, dadurch gekennzeichnet, dass das Einstel- len des Satzes von Sollwerten anhand einer Merit-Funktion für durch das optische Element bewirkte Wellenfrontfehler erfolgt, wobei diese Merit- Funktion durch einen Term zur Berücksichtigung der Auswirkung des Ein- bringens der Heizleistung auf die zweite optische Aberration erweitert ist. Verfahren nach Anspruch 4, dadurch gekennzeichnet, dass dieser Term ein Regularisierungsterm ist, welcher ohne explizite Bestimmung von durch im Betrieb des optischen Systems auf das optische Element tref- fendes Nutzlicht bewirkten Wellenfrontfehlern allein aufgrund von Vor- kenntnissen betreffend das thermische Verhalten des optischen Ele- ments im Betrieb des optischen Systems festgelegt wird. Verfahren nach einem der Ansprüche 3 bis 5, dadurch gekennzeichnet, dass die Co-Optimierung darstellbar ist als
Figure imgf000026_0001
wobei x* und h* das Ergebnis der Co-Optimierung, S die erste optische Aberration, Z(x) die Abhängigkeit der Wellenfrontwirkung von der Position und Orientierung der optischen Elemente x, f(h) die Abhängigkeit der Wellenfrontwirkung von der durch den thermischen Manipulator einge- stellten Heizleistung, P einen Regularisierungsterm, href einen vorgege- benen Referenz-Satz von Sollwerten für die Heizleistung, sowie D eine skalare Metrikfunktion bezeichnet. Verfahren nach Anspruch 4, dadurch gekennzeichnet, dass dieser Term durch explizite Bestimmung von durch im Betrieb des optischen Systems auf das optische Element treffendes Nutzlicht bewirkten Wellenfrontfeh- lern ermittelt wird. Verfahren nach Anspruch 7, dadurch gekennzeichnet, dass die Co-Optimierung darstellbar ist als
Figure imgf000027_0002
wobei x* und h* das Ergebnis der Co-Optimierung, S die erste optische Aberration, Z(x) die Abhängigkeit der Wellenfrontwirkung von der Position und Orientierung der optischen Elemente x, f(h) die Abhängigkeit der Wellenfrontwirkung von der durch den thermischen Manipulator einge- stellten Heizleistung die zweite optische Aberration
Figure imgf000027_0004
im thermalen Gleichgewichtszustand nach Korrektur mittels Position und Orientierung der optischen Elemente bezeichnet. Verfahren nach Anspruch 4, dadurch gekennzeichnet, dass dieser Term durch explizite Bestimmung des Maximums in der zeitlichen Entwicklung der im Betrieb des optischen Systems auf das optische Element treffen- des Nutzlicht bewirkten Wellenfrontfehler ermittelt wird. Verfahren nach Anspruch 9, dadurch gekennzeichnet, dass die Co-Optimierung darstellbar ist als
Figure imgf000027_0003
wobei x* und h* das Ergebnis der Co-Optimierung, S die erste optische Aberration, Z(x) die Abhängigkeit der Wellenfrontwirkung von der Position und Orientierung der optischen Elemente x, /(/i) die Abhängigkeit der Wellenfrontwirkung von der durch den thermischen Manipulator einge- stellten Heizleistung und das Maximum in der zeit-
Figure imgf000027_0001
lichen Entwicklung der zweiten optischen Aberration nach transienter Korrektur mittels Position und Orientierung der optischen Elemente be- zeichnet. 1 . Verfahren nach einem der Ansprüche 3 bis 10, dadurch gekennzeichnet, dass die Co-Optimierung zusätzlich die Nulldurchgangstemperatur oder ZCT (Zero-Crossing-Temperatur) eines Substratmaterials des optischen Elements als zu optimierende Größe umfasst, wodurch eine optimierte Nulldurchgangstemperatur ZCT als Vorgabe für die Auslegung des Sub- stratmaterials ermittelt wird. 2. Verfahren nach Anspruch 1 1 , dadurch gekennzeichnet, dass bei der Co- Optimierung mit der ZCT als zu optimierendem Parameter ein von einem vorgegebenen Temperatur-Setpoint abhängiger Regulie-
Figure imgf000028_0002
rungsterm P berücksichtigt wird. 3. Verfahren nach Anspruch 12, dadurch gekennzeichnet, dass die Co-Op- timierung unter Berücksichtigung der ZCT als zu optimierendem Parame- ter darstellbar ist als:
Figure imgf000028_0001
wobei x* die optimalen Amplituden der rotatorischen und translatorischen Manipulatoren, 7i* die optimalen Amplituden der thermischen Manipula- toren und ZCT* die optimale ZCT als Ergebnis der Co-Optimierung, S die Kaltaberration, Z(x) die Abhängigkeit der Wellenfrontwirkung von der Po- sition und Orientierung der optischen Elemente x, f(h,ZCT) die wellen- frontabhängige Korrektur derselben, P einen Regulierungsterm abhängig von einem vorgegebenen und für das Mirror-Heating günstigen Setpoint href(ZCT) sowie D eine skalare Metrik darstellen. Verfahren nach Anspruch 12, dadurch gekennzeichnet, dass die Co-Op- timierung unter Berücksichtigung der ZCT als zu optimierendem Parame- ter darstellbar ist als:
Figure imgf000029_0001
wobei x^ die optimalen Amplituden der rotatorischen und translatorischen Manipulatoren, h* die optimalen Amplituden der thermischen Manipulato- ren und ZCT* die optimale ZCT als Ergebnis der Co-Optimierung, S die Kaltaberration, Z(x) die Abhängigkeit der Wellenfrontwirkung von der Po- sition und Orientierung der optischen Elemente x, f(h,ZCT) die wellen- frontabhängige Korrektur derselben, Zoa UCn(h,ZCT>) die Mirror-Heating- bedingte zweite optische Aberration im thermalen Gleichgewichtszustand nach Korrektur mittels Position und Orientierung der optischen Elemente, G eine Gewichtungsmetrik sowie D eine skalare Metrik darstellen. Verfahren nach Anspruch 12, dadurch gekennzeichnet, dass die Co-Opti- mierung unter Berücksichtigung der ZCT als zu optimierendem Parameter darstellbar ist als:
Figure imgf000029_0002
wobei x^ die optimalen Amplituden der rotatorischen und translatorischen Manipulatoren, h* die optimalen Amplituden der thermischen Manipulato- ren und ZCT* die optimale ZCT als Ergebnis der Co-Optimierung, S die Kaltaberration, Z(x) die Abhängigkeit der Wellenfrontwirkung von der Po- sition und Orientierung der optischen Elemente x, f(h,ZCT) die wellen- frontabhängige Korrektur derselben, ZUCn(h,ZCT) die Mirror-Heating-be- dingte zweite optische Aberration nach transienter Korrektur mittels Position und Orientierung der optischen Elemente, G eine Gewichtungs- metrik sowie D eine skalare Metrik darstellen. Verfahren nach einem der vorhergehenden Ansprüche, dadurch gekenn- zeichnet, dass ein ermittelter optimierter Temperatur-Setpoint für das op- tische Element nicht mit der ZCT des Substratmaterials des optischen Elements zusammenfällt. Verfahren nach einem der vorhergehenden Ansprüche, dadurch gekenn- zeichnet, dass das Heizen des optischen Elements derart erfolgt, dass eine örtliche und/oder zeitliche Variation einer Temperaturverteilung in dem optischen Element reduziert wird. Verfahren nach einem der vorhergehenden Ansprüche, dadurch gekenn- zeichnet, dass das optische Element ein Spiegel ist. Verfahren nach einem der vorhergehenden Ansprüche, dadurch gekenn- zeichnet, dass das optische Element für eine Arbeitswellenlänge von we- niger als 400 nm, insbesondere weniger als 250 nm, weiter insbesondere weniger als 200 nm, ausgelegt ist. Verfahren nach einem der vorhergehenden Ansprüche, dadurch gekenn- zeichnet, dass das optische Element für eine Arbeitswellenlänge von we- niger als 30 nm, insbesondere weniger als 15 nm, ausgelegt ist. Optisches System, insbesondere einer mikrolithographischen Projekti- onsbelichtungsanlage, mit
• wenigstens einem optischen Element;
• einem thermischen Manipulator zum Heizen dieses optischen Ele- ments; einer Ansteuerungseinheit zur Einstellung der durch die Heizan- ordnung in das optische Element eingebrachten Heizleistung auf Basis eines Satzes von Sollwerten, und
• einem Sollwert-Generator zum Generieren des Satzes von Soll- werten zur Erzeugung einer thermisch induzierten Deformation, wobei der Satz von Sollwerten in Abhängigkeit von einer zu kom- pensierenden ersten optischen Aberration unter zusätzlicher Be- rücksichtigung der jeweiligen Auswirkung des Einbringens der Heizleistung auf eine zweite optische Aberration, welche durch im Betrieb des optischen Systems auf das optische Element treffen- des Nutzlicht bewirkt wird, eingestellt wird. Optisches System nach Anspruch 21 , dadurch gekennzeichnet, dass die erste optische Aberration wenigstens teilweise fertigungs- oder justage- bedingt ist. Optisches System nach Anspruch 21 oder 22, dadurch gekennzeichnet, dass die ZCT eines Substrats des optischen Elements im Hinblick auf eine durch die thermischen Manipulatoren zu kompensierende Kalt- aberration unter gleichzeitiger Minimierung von im Betrieb des optischen Systems auf das optische Element zu erwartenden Mirror-Heating-Aber- rationen Co-optimiert wird. Optisches System nach einem der Ansprüche 21 bis 23, dadurch gekenn- zeichnet, dass dieses dazu konfiguriert ist, ein Verfahren nach einem der Ansprüche 1 bis 20 durchzuführen.
PCT/EP2023/065477 2022-06-14 2023-06-09 Verfahren zum heizen eines optischen elements sowie optisches system WO2023242060A1 (de)

Applications Claiming Priority (2)

Application Number Priority Date Filing Date Title
DE102022114969.2 2022-06-14
DE102022114969.2A DE102022114969A1 (de) 2022-06-14 2022-06-14 Verfahren zum Heizen eines optischen Elements sowie optisches System

Publications (1)

Publication Number Publication Date
WO2023242060A1 true WO2023242060A1 (de) 2023-12-21

Family

ID=87036855

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
PCT/EP2023/065477 WO2023242060A1 (de) 2022-06-14 2023-06-09 Verfahren zum heizen eines optischen elements sowie optisches system

Country Status (2)

Country Link
DE (1) DE102022114969A1 (de)
WO (1) WO2023242060A1 (de)

Families Citing this family (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE102022114969A1 (de) 2022-06-14 2023-12-14 Carl Zeiss Smt Gmbh Verfahren zum Heizen eines optischen Elements sowie optisches System
DE102023209078A1 (de) 2023-09-19 2024-08-22 Carl Zeiss Smt Gmbh Verfahren zum Betreiben eines EUV-Spiegelsystems, EUV-Spiegelsystem, Projektionsobjektiv für eine mikrolithografische Projektionsbelichtungsanlage

Citations (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US20130250266A1 (en) * 2010-09-28 2013-09-26 Carl Zeiss Smt Gmbh Projection exposure apparatus with optimized adjustment possibility
US20190310555A1 (en) * 2010-07-30 2019-10-10 Carl Zeiss Smt Gmbh Euv exposure apparatus with reflective elements having reduced influence of temperature variation
US20200026195A1 (en) * 2017-03-30 2020-01-23 Carl Zeiss Smt Gmbh Mirror, in particular for a microlithographic projection exposure apparatus
KR20200144483A (ko) * 2019-06-18 2020-12-29 캐논 가부시끼가이샤 노광장치, 및 물품 제조방법
DE102019219289A1 (de) 2019-12-11 2021-06-17 Carl Zeiss Smt Gmbh Optisches System, sowie Heizanordnung und Verfahren zum Heizen eines optischen Elements in einem optischen System
DE102022114969A1 (de) 2022-06-14 2023-12-14 Carl Zeiss Smt Gmbh Verfahren zum Heizen eines optischen Elements sowie optisches System

Family Cites Families (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE102012212757A1 (de) 2012-07-20 2014-01-23 Carl Zeiss Smt Gmbh Verfahren zum betreiben einer mikrolithographischen projektionsbelichtungsanlage
CN116368436A (zh) 2020-11-11 2023-06-30 Asml荷兰有限公司 用于使光学元件热变形的方法和设备

Patent Citations (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US20190310555A1 (en) * 2010-07-30 2019-10-10 Carl Zeiss Smt Gmbh Euv exposure apparatus with reflective elements having reduced influence of temperature variation
US20130250266A1 (en) * 2010-09-28 2013-09-26 Carl Zeiss Smt Gmbh Projection exposure apparatus with optimized adjustment possibility
US20200026195A1 (en) * 2017-03-30 2020-01-23 Carl Zeiss Smt Gmbh Mirror, in particular for a microlithographic projection exposure apparatus
KR20200144483A (ko) * 2019-06-18 2020-12-29 캐논 가부시끼가이샤 노광장치, 및 물품 제조방법
DE102019219289A1 (de) 2019-12-11 2021-06-17 Carl Zeiss Smt Gmbh Optisches System, sowie Heizanordnung und Verfahren zum Heizen eines optischen Elements in einem optischen System
DE102022114969A1 (de) 2022-06-14 2023-12-14 Carl Zeiss Smt Gmbh Verfahren zum Heizen eines optischen Elements sowie optisches System

Also Published As

Publication number Publication date
DE102022114969A1 (de) 2023-12-14

Similar Documents

Publication Publication Date Title
EP1282011B1 (de) Reflektives Projektionsobjektiv für EUV-Photolithographie
DE102012202057B4 (de) Projektionsobjektiv für EUV-Mikrolithographie, Folienelement und Verfahren zur Herstellung eines Projektionsobjektivs mit Folienelement
WO2023242060A1 (de) Verfahren zum heizen eines optischen elements sowie optisches system
EP4073588A1 (de) Optisches system, sowie heizanordnung und verfahren zum heizen eines optischen elements in einem optischen system
DE102013204391B3 (de) Projektionsobjektiv mit Wellenfrontmanipulator
DE102014204171A1 (de) Optisches Element und optische Anordnung damit
DE102014218474A1 (de) Projektionsobjektiv, Projektionsbelichtungsanlage und Projektionsbelichtungsverfahren für die EUV-Mikrolithographie
DE102008007449A1 (de) Beleuchtungsoptik zur Beleuchtung eines Objektfeldes einer Projektionsbelichtungsanlage für die Mikrolithographie
DE102016203591A1 (de) Vorrichtung zum Verändern einer Oberflächenform eines optischen Elements mittels Elektronenbestrahlung
EP3100083B1 (de) Verfahren zum herstellen eines spiegelelements
DE102012207377A1 (de) Beleuchtungsoptik sowie optisches System für die EUV-Projektionslithographie
DE102014219755A1 (de) Reflektives optisches Element
DE102015209051B4 (de) Projektionsobjektiv mit Wellenfrontmanipulator sowie Projektionsbelichtungsverfahren und Projektionsbelichtungsanlage
DE102012212757A1 (de) Verfahren zum betreiben einer mikrolithographischen projektionsbelichtungsanlage
EP3286595B1 (de) Wellenfrontkorrekturelement zur verwendung in einem optischen system
DE102013215197A1 (de) Projektionsbelichtungsanlage mit temperierbaren optischen Elementen und Verfahren zum Betrieb einer derartigen Anlage
DE102016205617A1 (de) Projektionsbelichtungsverfahren und Projektionsbelichtungsanlage
DE102020201098A1 (de) Abbildende Optik
WO2024052260A1 (de) Heizanordnung, sowie optisches system und verfahren zum heizen eines optischen elements
DE102016205987A1 (de) Projektionsbelichtungsanlage mit mindestens einem Manipulator
WO2022156926A1 (de) Verfahren sowie vorrichtung zum bestimmen des erwärmungszustandes eines optischen elements in einem optischen system
DE102021200790A1 (de) Verfahren zum Betreiben eines optischen Systems, sowie Spiegel und optisches System
DE102021201258A1 (de) Verfahren zum Heizen eines optischen Elements in einer mikrolithographischen Projektionsbelichtungsanlage, sowie optisches System
WO2022161659A1 (de) Optisches system, sowie verfahren zum betreiben eines optischen systems
WO2023241849A1 (de) Verfahren zum heizen eines optischen elements sowie optisches system

Legal Events

Date Code Title Description
121 Ep: the epo has been informed by wipo that ep was designated in this application

Ref document number: 23734471

Country of ref document: EP

Kind code of ref document: A1