WO2019021559A1 - レーザービーム照射装置及びレーザービーム照射システム - Google Patents
レーザービーム照射装置及びレーザービーム照射システム Download PDFInfo
- Publication number
- WO2019021559A1 WO2019021559A1 PCT/JP2018/016832 JP2018016832W WO2019021559A1 WO 2019021559 A1 WO2019021559 A1 WO 2019021559A1 JP 2018016832 W JP2018016832 W JP 2018016832W WO 2019021559 A1 WO2019021559 A1 WO 2019021559A1
- Authority
- WO
- WIPO (PCT)
- Prior art keywords
- laser
- laser beam
- optical system
- light sources
- emitted
- Prior art date
Links
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 claims abstract description 246
- 238000007493 shaping process Methods 0.000 claims description 26
- 239000013307 optical fiber Substances 0.000 claims description 19
- 230000008878 coupling Effects 0.000 claims description 18
- 238000010168 coupling process Methods 0.000 claims description 18
- 238000005859 coupling reaction Methods 0.000 claims description 18
- 239000000835 fiber Substances 0.000 claims description 10
- 230000003321 amplification Effects 0.000 claims description 4
- 238000003199 nucleic acid amplification method Methods 0.000 claims description 4
- 230000005855 radiation Effects 0.000 claims 1
- 238000000034 method Methods 0.000 description 14
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 10
- 238000009826 distribution Methods 0.000 description 7
- 230000003595 spectral effect Effects 0.000 description 5
- 230000005484 gravity Effects 0.000 description 4
- 230000004048 modification Effects 0.000 description 4
- 238000012986 modification Methods 0.000 description 4
- 239000007787 solid Substances 0.000 description 4
- 230000006872 improvement Effects 0.000 description 3
- 230000001629 suppression Effects 0.000 description 3
- 230000001678 irradiating effect Effects 0.000 description 2
- 230000007246 mechanism Effects 0.000 description 2
- 230000009022 nonlinear effect Effects 0.000 description 2
- 230000008901 benefit Effects 0.000 description 1
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 1
- 239000002131 composite material Substances 0.000 description 1
- 230000007423 decrease Effects 0.000 description 1
- 230000004927 fusion Effects 0.000 description 1
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 1
- 230000000644 propagated effect Effects 0.000 description 1
- 230000001902 propagating effect Effects 0.000 description 1
- 230000009467 reduction Effects 0.000 description 1
- 238000013341 scale-up Methods 0.000 description 1
- 238000003786 synthesis reaction Methods 0.000 description 1
Images
Classifications
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01S—DEVICES USING THE PROCESS OF LIGHT AMPLIFICATION BY STIMULATED EMISSION OF RADIATION [LASER] TO AMPLIFY OR GENERATE LIGHT; DEVICES USING STIMULATED EMISSION OF ELECTROMAGNETIC RADIATION IN WAVE RANGES OTHER THAN OPTICAL
- H01S3/00—Lasers, i.e. devices using stimulated emission of electromagnetic radiation in the infrared, visible or ultraviolet wave range
- H01S3/005—Optical devices external to the laser cavity, specially adapted for lasers, e.g. for homogenisation of the beam or for manipulating laser pulses, e.g. pulse shaping
-
- G—PHYSICS
- G02—OPTICS
- G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
- G02B27/00—Optical systems or apparatus not provided for by any of the groups G02B1/00 - G02B26/00, G02B30/00
- G02B27/10—Beam splitting or combining systems
- G02B27/106—Beam splitting or combining systems for splitting or combining a plurality of identical beams or images, e.g. image replication
-
- G—PHYSICS
- G02—OPTICS
- G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
- G02B27/00—Optical systems or apparatus not provided for by any of the groups G02B1/00 - G02B26/00, G02B30/00
- G02B27/10—Beam splitting or combining systems
- G02B27/12—Beam splitting or combining systems operating by refraction only
- G02B27/123—The splitting element being a lens or a system of lenses, including arrays and surfaces with refractive power
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01S—DEVICES USING THE PROCESS OF LIGHT AMPLIFICATION BY STIMULATED EMISSION OF RADIATION [LASER] TO AMPLIFY OR GENERATE LIGHT; DEVICES USING STIMULATED EMISSION OF ELECTROMAGNETIC RADIATION IN WAVE RANGES OTHER THAN OPTICAL
- H01S3/00—Lasers, i.e. devices using stimulated emission of electromagnetic radiation in the infrared, visible or ultraviolet wave range
- H01S3/10—Controlling the intensity, frequency, phase, polarisation or direction of the emitted radiation, e.g. switching, gating, modulating or demodulating
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01S—DEVICES USING THE PROCESS OF LIGHT AMPLIFICATION BY STIMULATED EMISSION OF RADIATION [LASER] TO AMPLIFY OR GENERATE LIGHT; DEVICES USING STIMULATED EMISSION OF ELECTROMAGNETIC RADIATION IN WAVE RANGES OTHER THAN OPTICAL
- H01S3/00—Lasers, i.e. devices using stimulated emission of electromagnetic radiation in the infrared, visible or ultraviolet wave range
- H01S3/23—Arrangements of two or more lasers not provided for in groups H01S3/02 - H01S3/22, e.g. tandem arrangements of separate active media
- H01S3/2375—Hybrid lasers
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01S—DEVICES USING THE PROCESS OF LIGHT AMPLIFICATION BY STIMULATED EMISSION OF RADIATION [LASER] TO AMPLIFY OR GENERATE LIGHT; DEVICES USING STIMULATED EMISSION OF ELECTROMAGNETIC RADIATION IN WAVE RANGES OTHER THAN OPTICAL
- H01S3/00—Lasers, i.e. devices using stimulated emission of electromagnetic radiation in the infrared, visible or ultraviolet wave range
- H01S3/23—Arrangements of two or more lasers not provided for in groups H01S3/02 - H01S3/22, e.g. tandem arrangements of separate active media
- H01S3/2383—Parallel arrangements
-
- G—PHYSICS
- G02—OPTICS
- G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
- G02B6/00—Light guides; Structural details of arrangements comprising light guides and other optical elements, e.g. couplings
- G02B6/24—Coupling light guides
- G02B6/26—Optical coupling means
- G02B6/32—Optical coupling means having lens focusing means positioned between opposed fibre ends
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01S—DEVICES USING THE PROCESS OF LIGHT AMPLIFICATION BY STIMULATED EMISSION OF RADIATION [LASER] TO AMPLIFY OR GENERATE LIGHT; DEVICES USING STIMULATED EMISSION OF ELECTROMAGNETIC RADIATION IN WAVE RANGES OTHER THAN OPTICAL
- H01S3/00—Lasers, i.e. devices using stimulated emission of electromagnetic radiation in the infrared, visible or ultraviolet wave range
- H01S3/05—Construction or shape of optical resonators; Accommodation of active medium therein; Shape of active medium
- H01S3/06—Construction or shape of active medium
- H01S3/063—Waveguide lasers, i.e. whereby the dimensions of the waveguide are of the order of the light wavelength
- H01S3/067—Fibre lasers
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01S—DEVICES USING THE PROCESS OF LIGHT AMPLIFICATION BY STIMULATED EMISSION OF RADIATION [LASER] TO AMPLIFY OR GENERATE LIGHT; DEVICES USING STIMULATED EMISSION OF ELECTROMAGNETIC RADIATION IN WAVE RANGES OTHER THAN OPTICAL
- H01S3/00—Lasers, i.e. devices using stimulated emission of electromagnetic radiation in the infrared, visible or ultraviolet wave range
- H01S3/23—Arrangements of two or more lasers not provided for in groups H01S3/02 - H01S3/22, e.g. tandem arrangements of separate active media
- H01S3/2308—Amplifier arrangements, e.g. MOPA
Definitions
- the present invention relates to a laser beam irradiation apparatus and a laser beam irradiation system, and in particular, a laser beam irradiation apparatus and laser beam irradiation configured to irradiate a target with a high-power laser beam obtained by combining a plurality of laser beams. About the system.
- One of the techniques for obtaining a high power laser beam is a technique for combining a plurality of laser beams generated separately.
- the method of combining a plurality of laser beams can be roughly classified into two.
- the first method is a method of combining a plurality of laser beams on a target.
- multiple laser beams are emitted from the different positions at slightly different angles to illuminate the target and are focused to the same point set on the target.
- the number of laser beams is in a trade-off relationship with the beam diameter of each laser beam and the physical size of the irradiator. Higher power can be obtained by increasing the number of emitted laser beams, while keeping the beam diameter the physical size of the irradiator (for example, a lens barrel that accommodates the optical system (lens barrel The diameter of) increases and the weight increases.
- the increase in weight of the irradiation device may increase the manufacturing cost and may cause problems in designing the mechanical drive mechanism of the irradiation device (e.g., the drive mechanism of the lens barrel).
- increasing the number of laser beams emitted while maintaining the physical size of the irradiator reduces the beam diameter of each laser beam, which leads to a reduction in the ability to collect light, i.e. It causes the problem of an increase in focal spot diameter.
- the second method is a method of combining a plurality of laser beams inside the irradiation apparatus.
- the diameter of each laser beam can be made as large as the diameter of the lens barrel.
- Spectral coupling is known as a method of coupling a plurality of laser beams inside an irradiation apparatus.
- Spectral coupling is a technique of combining a plurality of laser beams using a diffractive optical element such as a diffraction grating.
- a series of laser beams with slightly different emission angles are generated by entering laser beams with slightly different central wavelengths into a diffractive optical element having wavelength dependency on the reflection angle and refraction angle, and further, the emission angles of The difference is used to coaxially couple the series of laser beams in the exit optics.
- a technique for obtaining a high power laser beam by spectral coupling is disclosed, for example, in Japanese Patent Application Laid-Open No. 2015-72955.
- One of the problems of spectral coupling is that diffractive optical elements used for spectral coupling are generally difficult to scale up while maintaining high laser power. This means that the number of laser beams and the output are limited. In addition, in order to increase the number of laser beams, it is necessary to narrow the line width of each laser beam sufficiently, which is generally in a trade-off relationship with high power.
- an object of the present invention is to provide a technique for combining a plurality of laser beams to obtain a high-power combined laser beam.
- the laser beam irradiation apparatus has a plurality of laser light sources each emitting a first laser beam, and an incident surface on which the first laser beam is incident, to the incident first laser beam. And a focusing optical system for performing an optical operation to emit a second laser beam corresponding to each of the first laser beams.
- the plurality of laser light sources are configured to emit the first laser beam from different positions so that the beam diameter of the first laser beam spreads toward the incident surface of the focusing optical system.
- Each of the first laser beams emitted by the plurality of laser light sources overlaps at least one other laser beam of the first laser beams emitted by the plurality of laser light sources on the incident surface of the focusing optical system.
- the condensing optical system is a beam of the second laser beam on a target plane which is a plane set to be perpendicular to the optical axis of the condensing optical system for all the second laser beams emitted from the condensing optical system.
- the diameter is minimized and the distance from the center of the second laser beam at the target surface to the optical axis is less than the radius of the beam at half the beam diameter at the target surface of each of the second laser beams. It is configured to be small.
- Each of the first laser beams emitted by the plurality of laser light sources preferably overlaps all other laser beams of the first laser beam emitted by the plurality of laser light sources on the incident surface of the focusing optical system.
- each of the plurality of laser light sources is provided with a phase control device that controls the phase of the first laser beam emitted by each.
- the phase control device may control the phase of the first laser beam such that the phase of the second laser beam at the exit surface of the focusing optical system is the same.
- the laser beam irradiation apparatus may further include a beam shaping optical system that shapes the shape of the wavefront of the first laser beam.
- the laser beam irradiation device when each of the plurality of laser light sources includes a phase control device that controls the phase of the first laser beam emitted by each of the plurality of laser light sources, the laser beam irradiation device includes a plurality of first laser beams emitted from the plurality of laser light sources.
- a plurality of beam shaping optical systems for shaping the shape of the wavefront of one laser beam may be provided.
- each of the plurality of laser light sources comprises an optical fiber for emitting the first laser beam from one end
- the laser beam irradiator may further comprise coupling optics.
- the coupling optical element is joined to the optical fibers of the plurality of laser light sources, and configured to guide the first laser beam emitted from the optical fibers to the incident surface of the condensing optical system.
- the laser beam irradiator comprises a plurality of laser light sources, each emitting a first laser beam, and an incident surface on which the first laser beam is incident, for the incident first laser beam.
- Optical operation is performed to provide collimating optical systems respectively corresponding to the first laser beam and emitting a plurality of second laser beams that are parallel light.
- the plurality of laser light sources are configured to emit the first laser beam from different positions so that the beam diameter of the first laser beam spreads toward the incident surface of the collimating optical system.
- Each of the first laser beams emitted by the plurality of laser light sources overlaps at least one other laser beam of the first laser beams emitted by the plurality of laser light sources on the incident surface of the collimating optical system.
- the collimating optical system has a distance from the center of each of the plurality of second laser beams to the optical axis of the collimating optical system smaller than a beam radius which is half the diameter of each of the plurality of second laser beams. It is configured to be
- the laser beam irradiation apparatus further includes a plurality of second laser beams emitted from the collimating optical system, and performs laser amplification on the plurality of second laser beams to generate a laser beam after amplification. May be included. Such an arrangement is particularly useful when each of the plurality of laser light sources comprises a fiber laser.
- a laser beam delivery system comprises a plurality of laser beam delivery devices and focusing optics.
- Each of the plurality of laser beam irradiation devices has a plurality of laser light sources each emitting a first laser beam, and an incident surface on which the first laser beam is incident, and is optical with respect to the incident first laser beam An operation is performed, and collimated optical systems corresponding to the first laser beams and emitting a plurality of second laser beams which are parallel lights are provided.
- the plurality of laser light sources are configured to emit the first laser beam from different positions so that the beam diameter of the first laser beam spreads toward the incident surface of the collimating optical system.
- the collimating optical system has a distance from the center of each of the plurality of second laser beams to the optical axis of the collimating optical system smaller than a beam radius which is half the diameter of each of the plurality of second laser beams. It is configured to be A combined beam composed of a plurality of second laser beams emitted from each of the plurality of laser beam irradiation devices is incident on the incident surface of the focusing optical system.
- the focusing optical system is configured to optically manipulate the incident combined beam to emit a third laser beam corresponding to each of the combined beam.
- the condensing optical system is a beam of the third laser beam on a target plane which is a plane set to be perpendicular to the optical axis of the condensing optical system for all the third laser beams emitted from the condensing optical system.
- the diameter is minimized and the distance from the center of the third laser beam to the optical axis in the plane is smaller than the beam radius which is half the beam diameter at the respective target planes of the third laser beam Is configured as.
- a laser beam delivery system comprises a plurality of laser beam delivery devices and first collimating optics.
- Each of the plurality of laser beam irradiation devices has a plurality of laser light sources each emitting a first laser beam, and an incident surface on which the first laser beam is incident, and is optical with respect to the incident first laser beam An operation is performed, and a second collimating optical system corresponding to each of the first laser beams and emitting a plurality of parallel second laser beams is provided.
- the plurality of laser light sources are configured to emit the first laser beam from different positions so that the beam diameter of the first laser beam expands toward the incident surface of the second collimating optical system.
- the second collimating optical system is a beam whose distance from the center of each of the plurality of second laser beams to the optical axis of the second collimating optical system is a half of the diameter of each of the plurality of second laser beams. It is configured to be smaller than the radius.
- a combined beam composed of a plurality of second laser beams emitted from each of the plurality of laser beam irradiation devices is incident on the incident surface of the first collimating optical system.
- the first collimating optical system is configured to perform an optical operation on the combined beam to emit a third laser beam corresponding to the combined beam and being parallel light.
- FIG. 1 is a diagram conceptually showing the configuration of the laser beam irradiation apparatus of the first embodiment.
- FIG. 2A shows the beam shape of a laser beam generated by a focusing optical system from a laser beam emitted from a laser light source.
- FIG. 2B shows the beam shape of the laser beam generated by the focusing optical system from the laser beam emitted from the laser light source.
- FIG. 2C shows the beam shape of the laser beam generated by the focusing optical system from the laser beam emitted from the laser light source.
- FIG. 3 is a figure which shows notionally the structure of the laser beam irradiation apparatus of 2nd Embodiment.
- FIG. 4 is a figure which shows notionally the structure of the laser beam irradiation apparatus of 3rd Embodiment.
- FIG. 5 is a figure which shows notionally the structure of the modification of the laser beam irradiation apparatus of 3rd Embodiment.
- FIG. 6 is a view conceptually showing the configuration of another modification of the laser beam irradiation apparatus of the third embodiment.
- FIG. 7 is a diagram conceptually showing the configuration of the laser beam irradiation apparatus of the fourth embodiment.
- FIG. 8 is a view conceptually showing the configuration of a modification of the laser beam irradiation apparatus of the fourth embodiment.
- FIG. 9 is a diagram conceptually showing the configuration of the laser beam irradiation apparatus of the fifth embodiment.
- FIG. 10 is a view showing an example of the intensity distribution of each laser beam on the exit surface of the collimating optical system in the fifth embodiment.
- FIG. 10 is a view showing an example of the intensity distribution of each laser beam on the exit surface of the collimating optical system in the fifth embodiment.
- FIG. 11A is a laser beam irradiation system in which a plurality of laser beam irradiation devices according to the fifth embodiment are provided, and a combined laser beam generated by each of the laser beam irradiation devices is further coupled using a condensing optical system.
- FIG. 11B shows a laser beam irradiation system in which a plurality of laser beam irradiation devices according to the fifth embodiment are provided, and a combined laser beam generated by each of the laser beam irradiation devices is further coupled using collimating optics. It is a figure which shows a structure notionally.
- FIG. 12 is a diagram conceptually showing the configuration of the laser beam irradiation apparatus of the sixth embodiment.
- FIG. 1 is a figure which shows notionally the structure of the laser beam irradiation apparatus 100 of 1st Embodiment.
- the laser beam irradiation apparatus 100 includes a plurality of laser light sources 10 and a focusing optical system 20.
- the laser light source 10 and the focusing optical system 20 are accommodated in a lens barrel 30.
- subscripts are attached when the plurality of laser light sources 10 are distinguished.
- Three laser light sources 10 1 to 10 3 are shown in FIG. However, the number of laser light sources 10 is not limited to three, and more laser light sources 10 may be provided.
- each of the laser light sources 10 emits a laser beam 11.
- each of the laser light sources 10 includes the laser device 12 and the optical fiber 13.
- a laser beam generated by the laser device 12 is incident on one end of the optical fiber 13 and emitted as a laser beam 11 from the other end.
- the laser beams 11 emitted from the laser light sources 10 1 to 10 3 may be described as laser beams 11 1 to 11 3 , respectively.
- the laser light source 10 emits the laser beam 11 from different positions in the Y-axis direction.
- the laser beam 11 emitted from the laser light source 10 is incident on the incident surface 20 a of the condensing optical system 20.
- the condensing optical system 20 performs an optical operation on the laser beam 11 incident on the incident surface 20a to generate a laser beam 21, and emits the generated laser beam 21 from the emission surface 20b.
- the optical operation performed by the condensing optical system 20 includes an operation of condensing each laser beam 21.
- a laser beam 21 emitted from the laser beam 11 1-11 is generated from the 3 exit surface 20b, respectively, may be described as the laser beam 21 1-21 3.
- the condensing optical system 20 is disposed so that the optical axis 22 thereof is parallel to the Z-axis direction.
- the laser beam 21 emitted from the emission surface 20b of the condensing optical system 20 is superimposed and irradiated on a desired target.
- each of the laser light sources 10 is configured to emit the laser beam 11 so that the beam diameter of the laser beam 11 expands toward the incident surface 20 a of the focusing optical system 20.
- the laser beam is naturally emitted so as to have a spread angle.
- the beam diameter of the laser beam 11 emitted from the optical fiber 13 may be expanded toward the incident surface 20 a of the focusing optical system 20.
- an optical element such as a lens may be bonded to the optical fiber 13, whereby the beam diameter of the laser beam 11 emitted from the optical fiber 13 may be expanded toward the incident surface 20 a of the condensing optical system 20.
- the laser light source 10 is disposed such that the laser beam 11 emitted from each laser light source 10 overlaps at least one laser beam 11 of the laser beams 11 emitted from the other laser light sources 10 at the incident surface 20a. Be done.
- Such a configuration is useful to generate a high power synthetic laser beam while suppressing the increase in the physical size of the laser beam irradiator 100.
- the laser light sources 10 emitted from the respective laser light sources 10 emit the other laser light sources 10 at the incident surface 20 a. It is preferably arranged to overlap all of the laser beam 11.
- the condensing optical system 20 is configured as follows. First, when the laser beam 11 having a beam shape having a circular symmetry with respect to the optical axis 22 is incident on the incident surface 20a, the condensing optical system 20 is generated from the laser beam 11 and is emitted to the emission surface 20b.
- the beam shape of the laser beam 21 emitted from the light source 22 is configured to be circularly symmetrical with respect to the optical axis 22.
- any laser beam 21 emitted from the exit surface 20b is a beam at the target surface 40, which is a plane set to be perpendicular to the optical axis 22 of the focusing optical system 20.
- the diameter (spot diameter) is configured to be minimum.
- the target surface 40 is parallel to the XY plane.
- the focusing optical system 20 is configured to focus each laser beam 21 on the target surface 40.
- the condensing optical system 20 may be configured such that the position of the target surface 40 is variable in the direction parallel to the optical axis 22.
- the focusing optical system 20 has a distance from the center of each laser beam 21 at the target surface 40 to the optical axis 22 to be half of the beam diameter at the target surface 40 of each laser beam 21. It is configured to be smaller than the beam radius which is 1.
- the beam diameter at the target surface 40 is defined as D86 width (diameter of a circle including 86% of beam power centered on the center of gravity of the beam profile).
- the position of the center of each laser beam 21 on the target surface 40 is defined as the position of the center of gravity of the beam profile of each laser beam 21 on the target surface 40.
- FIGS. 2A to 2C are diagrams showing beam shapes of the respective laser beams 21 in the present embodiment.
- Figure 2A shows a laser beam 21 first beam shape generated by the condensing optical system 20 from the laser beam 11 1 emitted from the laser light source 10 1.
- the laser beam 21 1 the beam diameter is minimized at the target surface 40.
- the distance d 1 between the laser beam 21 1 of the center 23 1 and the optical axis 22 in the target surface 40, the laser beam 21 1 at the target surface 40 the beam radius r 1 i.e., the laser beam 21 1 in the target surface 40 Smaller than half the beam diameter. That is, the following formula (1): d 1 ⁇ r 1 (1) Is established.
- Laser beam 11 2 emitted from the laser light source 10 because it has circular symmetry beam shape with respect to the optical axis 22 of the focusing optical system 20, laser beam 21 emitted from the converging optical system 20 2 also have a beam shape that is circularly symmetric with respect to the optical axis 22.
- the laser beam 21 2 As shown in FIG. 2B, the laser beam 21 2, like the laser beam 21 1, the beam diameter is minimized at the target surface 40.
- the center 23 2 of the laser beam 21 2 in the target surface 40 is located on the optical axis 22, the distance d 2 between the center 23 2 and the optical axis 22 of the laser beam 21 2 is zero.
- laser beam 21 2 (2) d 2 ⁇ r 2 (2) Is established.
- r 2 is a laser beam 21 and second beam radius at the target plane 40 (i.e., one-half of the beam diameter of the laser beam 21 2 in the target surface 40).
- Figure 2C shows a laser beam 21 3 beam shape generated by the condensing optical system 20 from the laser beam 11 3 emitted from the laser light source 10 3.
- the laser beam 21 3 the beam diameter is minimized at the target surface 40.
- the distance d 3 between the center 23 3 and the optical axis 22 of the laser beam 21 3 at the target surface 40, the laser beam 21 3 at the target surface 40 the beam radius r 3 i.e., the laser beam 21 3 in the target surface 40 Smaller than half the beam diameter. That is, the following equation (3): d 3 ⁇ r 3 (3) Is established.
- each laser beam 21 For each laser beam 21, the condition that the distance from the center of each laser beam 21 at the target surface 40 to the optical axis 22 is smaller than the beam radius at the target surface 40 maintains the coupling of the laser beam 21 at the target surface 40. belongs to.
- the positions of the beam centers on the target surface 40 of the laser beam 21 emitted from the emission surface 20b may be different from each other.
- each laser beam 21 is another laser beam at the target plane 40 Overlapping all 21 and beam combination is maintained.
- the laser light source 10 emits at least one of the laser beams 11 emitted from the other laser light sources 10 at the incident surface 20 a. It is arranged to overlap the laser beam 11. This makes it possible to generate a high-power combined laser beam while suppressing an increase in the physical size of the laser beam irradiation apparatus 100.
- the number of laser beams 11 is three or more, the laser beams 11 emitted from the respective laser light sources 10 are incident on the incident surface 20 a from the viewpoint of suppression of increase in physical size and generation of a high output combined laser beam.
- all other laser light sources 10 overlap the laser beam 11 emitted.
- each of the laser light sources 10 emits the laser beam 11 so that the beam diameter of the laser beam 11 spreads toward the incident surface 20 a of the condensing optical system 20 Is configured. For this reason, the beam diameter of each laser beam 21 in the output surface 20b of the condensing optical system 20 is large. This means that the focused spot diameter on the target surface 40 of each laser beam 21 can be reduced. This is effective in improving the light collecting ability.
- the combination of laser beams can be realized without using a special optical element such as a diffractive optical element.
- the laser beam irradiation apparatus 100 according to the present embodiment generates a high-power synthetic laser beam while achieving suppression of an increase in physical size and improvement of a light collecting ability without using a special optical element. Can.
- FIG. 3 is a figure which shows notionally the structure of 100 A of laser beam irradiation apparatuses of 2nd Embodiment.
- the laser beam irradiation apparatus 100A of the second embodiment has a configuration similar to that of the laser beam irradiation apparatus 100 of the first embodiment, but each of the laser light sources 10 has the phase of the laser beam 11 emitted from each of them.
- the laser beam irradiation apparatus 100 is different from the laser beam irradiation apparatus 100 according to the first embodiment in that a phase control device 14 to control is provided. In the present embodiment, the phase control device 14 is inserted into the optical fiber 13 of each laser light source 10.
- the phase control device 14 controls the phase of the laser beam 11 incident on the focusing optical system 20, whereby the laser beam 21 emitted from the focusing optical system 20.
- the shape of the wave front of can be controlled to the shape optimal for propagation. This is effective in improving the light collecting ability.
- the phase of the laser beam 11 emitted from the laser light source 10 by the phase control device 14, the phase of the laser beam 21 at the emission surface 20 b of the focusing optical system 20 may be matched. Thereby, aperture synthesis can be realized, and the light collecting ability can be improved.
- FIG. 4 is a figure which shows notionally the structure of laser beam irradiation apparatus 100B of 3rd Embodiment.
- the laser beam irradiation apparatus 100B of the third embodiment has a configuration similar to that of the laser beam irradiation apparatus 100 of the first embodiment, but the shape of the wavefront of the laser beam 11 emitted from each of the laser light sources 10 is shaped It differs from the laser beam irradiation apparatus 100 of the first embodiment in that the beam shaping optical system 15 is provided.
- the beam shaping optical system 15 is connected to an output end of the optical fiber 13 of each of the laser light sources 10 from which the laser beam 11 is emitted.
- the beam shaping optical system 15 for example, a concave lens, a convex lens or another optical element may be used.
- the shape of the wavefront of the laser beam 11 emitted from each of the laser light sources 10 is shaped by the beam shaping optical system 15, whereby the wavefront of the laser beam 21 emitted from the condensing optical system 20 is formed.
- the shape can be controlled to an optimal shape for propagation. This is effective in improving the light collecting ability.
- FIG. 4 shows a configuration in which each of the laser light sources 10 is provided with the beam shaping optical system 15, common beam shaping for a plurality of laser light sources 10 as shown in FIG.
- An optical system 16 may be provided.
- the beam shaping optical system 16 shapes the shape of the wavefront of the laser beam 11 emitted from each of the laser light sources 10, thereby propagating the shape of the wavefront of the laser beam 21 emitted from the condensing optical system 20. Control to the optimal shape.
- the beam shaping optical system 15 may be provided to the laser beam irradiation apparatus 100B of the second embodiment provided with the phase control device.
- the phase since the phase is controlled with respect to each of the laser beams 11 incident on the respective beam shaping optical systems 15, the light is emitted from the condensing optical system 20 while simplifying the configuration of the beam shaping optical system 15.
- the shape of the wavefront of the laser beam 21 can be controlled to a shape optimal for propagation.
- FIG. 7 is a figure which shows notionally the structure of 100 C of laser beam irradiation apparatuses of 4th Embodiment.
- the laser beam irradiation apparatus 100C according to the fourth embodiment has a configuration similar to that of the laser beam irradiation apparatus 100 according to the first embodiment, but the laser light source 10 and the incident surface 20a of the focusing optical system 20 are combined optics. It differs from the laser beam irradiation apparatus 100 of the first embodiment in that it is coupled by an element 17.
- the coupling optical element 17 is joined to the output end of the optical fiber 13 of each laser light source 10 from which the laser beam 11 is emitted.
- the coupling optical element 17 for example, a taper lens is exemplified.
- the coupling optics 17 may be bonded to the optical fiber 13 by fusion bonding.
- the coupling optical element 17 is configured to guide the laser beam 11 emitted from the optical fiber 13 of each laser light source 10 to the incident surface 20 a of the focusing optical system 20.
- the coupling optical element 17 is coupled to the output end of the optical fiber 13, whereby the alignment of the optical fiber 13 can be facilitated.
- the coupling optical element 17 may have a function of shaping the shape of the wavefront of the laser beam 11 emitted from each of the laser light sources 10. This is useful for controlling the shape of the wavefront of the laser beam 21 emitted from the focusing optical system 20 to a shape optimum for propagation.
- each of the laser light sources 10 may be provided with a phase control device 14 that controls the phase of the laser beam 11 emitted from each of the laser light sources 10.
- a phase control device 14 that controls the phase of the laser beam 11 emitted from each of the laser light sources 10.
- FIG. 9 is a diagram conceptually showing the configuration of the laser beam irradiation apparatus 100D of the fifth embodiment.
- the condensing optical system 20 is used, but in the fifth embodiment, collimated optics that generates a laser beam 51 that is a parallel light from each laser beam 11 instead of the condensing optical system 20 System 50 is used.
- the laser light source 10 and the collimating optical system 50 are accommodated in a lens barrel 30.
- the configuration of the laser beam irradiation apparatus 100D of the present embodiment will be described in detail.
- Each of the laser light sources 10 emits a laser beam 11.
- the laser beam 11 emitted from the laser light source 10 is incident on the incident surface 50 a of the collimating optical system 50.
- each of the laser light sources 10 is configured to emit the laser beam 11 so that the beam diameter of the laser beam 11 expands toward the incident surface 50 a of the collimating optical system 50.
- the laser light source 10 is such that the laser beam 11 emitted from each laser light source 10 overlaps at least one laser beam 11 of the laser beams 11 emitted from the other laser light sources 10 at the incident surface 50a. Will be placed.
- Such a configuration is useful to generate a high power synthetic laser beam while suppressing the increase in the physical size of the laser beam irradiation apparatus 100D.
- the laser light sources 10 when the number of the laser light sources 10 is three or more, the laser light sources 10 emit the laser beams 11 emitted from the respective laser light sources 10 at the incident surface 50a. Preferably, they are arranged so as to overlap all of the eleven.
- the collimating optical system 50 performs a predetermined optical operation on the laser beam 11 incident on the incident surface 50a to generate the laser beam 51, and emits the generated laser beam 51 from the emission surface 50b.
- the collimating optical system 50 is configured such that each laser beam 51 emitted from the emission surface 50 b is parallel light.
- the collimating optical system 50 is generated from the laser beam 11 and emitted from the emission surface 50b
- the beam shape of the laser beam 51 is circularly symmetrical with respect to the optical axis 52.
- a laser beam 51 emitted from the laser beam 11 1-11 is generated from the 3 exit surface 50b, respectively, may be described as a laser beam 51 1-51 3.
- the collimating optical system 50 is disposed such that the optical axis 52 is parallel to the Z-axis direction.
- the laser beams 51 emitted from the emission surface 50b of the collimating optical system 50 are irradiated on a desired target while overlapping each other. That is, the laser beams 51 emitted from the output surface 50b of the collimating optical system 50 are combined to form a combined beam 53 to be irradiated to the target.
- FIG. 10 is a view showing an example of the intensity distribution of each laser beam on the emission surface 50b of the collimating optical system 50 in the fifth embodiment.
- the intensity distribution of the combined laser beam obtained by combining the laser beams 51 on the emission surface 50 b is the sum of the intensity distributions of the respective laser beams 51.
- the laser beam 11 incident on the incident surface 50a is a Gaussian beam and hence the laser beam 51 emitted from the emission surface 50b is a Gaussian beam
- the intensity distribution of the combined laser beam has a Gaussian distribution with a slightly broadened skirt become.
- the laser beam 51 is propagated along the optical axis 52 while maintaining the intensity distribution of each laser beam 51 on the emission surface 50b.
- the distance between the center of the laser beam 51 and the optical axis 52 of each of the laser light source 10 and the collimating optical system 50 for each of the laser beams 51 emitted from the emission surface 50 b is each laser It is arranged to be smaller than the beam radius which is a half of the beam diameter (that is, the spot diameter) of the beam 51.
- the beam diameter is defined as D86 width (diameter of a circle including 86% of beam power centering on the center of gravity of beam profile), and the center of each laser beam 51 is defined.
- the position is defined as the position of the center of gravity of the beam profile of each laser beam 51 in a plane perpendicular to the optical axis 52.
- each laser beam 51 overlaps the other laser beam 51 and beam combination is maintained.
- FIG. 9 shows a configuration in which the focusing optical system 20 of the laser beam irradiation apparatus 100 according to the first embodiment is replaced with a collimating optical system 50, the laser beams according to the second to fourth embodiments are illustrated.
- the condensing optical system 20 of the irradiation devices 100A to 100C may be replaced by a collimating optical system 50.
- FIG. 11A is a diagram conceptually showing an example of the configuration of the laser beam irradiation system 200A having such a configuration.
- the laser beam irradiation system 200A illustrated in FIG. 11A includes two laser beam irradiation devices 100D.
- two laser beam irradiation devices 100D thereinafter, in order to distinguish the two laser beam irradiation device 100D together, one of the laser beam irradiation apparatus 100D is described as the laser beam irradiation apparatus 100D 1, the other laser beam irradiation apparatus 100D and a laser beam irradiation device 100D 2 May be described.
- Each of the two laser beam irradiation devices 100D emits a combined beam 53 from the collimating optical system 50.
- the collimating optics 50 of the laser beam irradiation apparatus 100D 1 describes a collimating optical system 50 1, it may be described a combined beam 53 emitted from the collimating optical system 50 1 and a synthetic beam 53 1.
- the collimating optics 50 of the laser beam irradiation apparatus 100D 2 describes the collimating optical system 50 2, it may be described a combined beam 53 emitted from the collimating optical system 50 2 and the combined beam 53 2.
- the combined beams 53 1 and 53 2 emitted from the laser beam irradiation devices 100 D 1 and 100 D 2 are combined by the beam shaping optical element 54 and the focusing optical system 60.
- the beam shaping optics 54 shapes the combined beam 53 1, 53 2 of the wavefront shape emitted from each of the laser beam irradiation apparatus 100D 1, 100D 2.
- the combined beams 53 1 and 53 2 emitted from the beam shaping optical element 54 are incident on the incident surface 60 a of the condensing optical system 60.
- the beam shaping optical element 54 is configured such that the beam diameter of the combined beam 53 1 53 2 emitted from the beam shaping optical element 54 increases toward the incident surface 60 a.
- Condensing optical system 60 generates a laser beam 61 1, 61 2 performs optical operation on the combined beam 53 1, 53 2 which are incident on the incident surface 60a, generated laser beam 61 1, 61 2 Are emitted from the exit surface 60b.
- optical operations performed by the condensing optical system 20 includes an operation for converging the respective laser beams 61 1, 61 2.
- the condensing optical system 60 is disposed such that the optical axis 62 is parallel to the Z-axis direction. Laser beam 61 emitted from the emission surface 60b of the light condensing optical system 60 1, 61 2 is irradiated superimposed on the desired target.
- the target plane is a plane defined to be perpendicular to the optical axis 62 of the focusing optical system 60, and in the present embodiment, the target plane is parallel to the XY plane.
- the target surface is defined so as to pass through the target.
- the focusing optical system 60 has a beam diameter (i.e., a diameter) at the target plane, which is a plane set so that both of the laser beams 61 1 and 61 2 are perpendicular to the optical axis 62 of the focusing optical system 60. spot diameter) is minimized, and the distance from the laser beam 61 1, 61 2 of the center of the target surface to the optical axis 62, the beam diameter at each laser beam 61 1, 61 2 of the target surface It is configured to be smaller than a half of the beam radius. As described in the first embodiment, such a configuration, the binding of the laser beam 61 1, 61 2 in the target surface is maintained.
- a beam diameter i.e., a diameter
- the laser beam delivery system 200A of the configuration of FIG. 11A can combine multiple laser beams while maintaining focusing capability and can easily generate high power composite laser beams.
- FIG. 11B is a diagram schematically showing an example of the configuration of the laser beam irradiation system 200B having such a configuration.
- the laser beam irradiation system 200B illustrated in FIG. 11B has a configuration similar to that of the laser beam irradiation system 200A illustrated in FIG. 11A, but a collimating optical system 70 is provided instead of the condensing optical system 60. There is a difference in points.
- the combined beams 53 1 and 53 2 emitted from the beam shaping optical element 54 are incident on the incident surface 70 a of the collimating optical system 70.
- the beam shaping optical element 54 is configured such that the beam diameter of the combined beam 53 1 53 2 emitted from the beam shaping optical element 54 increases toward the incident surface 70 a.
- the collimating optical system 70 generates laser beams 71 1 and 71 2 which are parallel light beams from the combined beams 53 1 and 53 2 incident on the incident surface 70 a, and generates the generated laser beams 71 1 and 71 2 from the emission surface 70 b. I will emit.
- the collimating optical system 70 is disposed such that the optical axis 72 thereof is parallel to the Z-axis direction.
- the laser beams 71 1 and 71 2 emitted from the emission surface 70 b of the collimating optical system 70 are irradiated on a desired target while overlapping each other.
- the laser beams 71 1 and 71 2 emitted from the emission surface 70 b of the collimating optical system 70 are synthesized to form a synthesized beam to be irradiated to the target.
- a laser beam irradiation apparatus 100D, a beam shaping optical element 54, the collimating optical system 70, for each of the laser beams 71 1, 71 2 which is emitted from the emission surface 70b, the light from the center of the laser beam 71 1, 71 2 distance to the shaft 72, the laser beams 71 1, 71 2 of the beam diameter (i.e., spot diameter) are arranged to be smaller than the beam radius is one-half of.
- the laser beam delivery system 200B of the configuration of FIG. 11B can combine multiple laser beams to easily generate a combined laser beam with high power and beam diameter.
- FIG. 12 is a diagram conceptually showing the configuration of the laser beam irradiation apparatus 100E of the sixth embodiment.
- the laser beam irradiation apparatus 100E of the sixth embodiment has a configuration similar to that of the laser beam irradiation apparatus 100D (see FIG. 9) of the fifth embodiment, but additionally includes a solid-state laser amplifier 80. It differs in the point.
- the solid-state laser amplifier 80 performs laser amplification on the laser beam 51 emitted from the emission surface 50 b of the collimating optical system 50 to generate an amplified laser beam 81.
- the configuration of the laser beam irradiation apparatus 100E of the sixth embodiment is suitable for generating a high output laser beam while suppressing the number of laser light sources 10 included in the laser beam irradiation apparatus 100E.
- the laser beam irradiation apparatus 100E of the present embodiment is particularly effective when using a fiber laser as the laser device 12 of the laser light source 10, in particular, a fiber laser that generates pulse light or generates laser light with a narrow line width. It is. Fiber lasers are more efficient in the low power region compared to solid state lasers, while the maximum allowed pulse energy is small. On the other hand, solid-state lasers have a large maximum allowable pulse energy. In addition, although the fiber laser has a narrow line width, the non-linear effect appears remarkably and the upper limit of the output decreases, but the solid-state laser hardly exhibits the non-linear effect, and both a narrow line width and a high output are possible.
- a configuration in which laser light generated by the fiber laser is amplified by the solid laser is preferable.
- the laser beam irradiation apparatus 100E of the present embodiment by using a fiber laser as the laser device 12 of the laser light source 10, a plurality of laser beams generated by the fiber laser are combined and further amplified by the solid laser amplifier 80. realizable.
Landscapes
- Physics & Mathematics (AREA)
- Electromagnetism (AREA)
- Optics & Photonics (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Plasma & Fusion (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Laser Beam Processing (AREA)
- Optical Couplings Of Light Guides (AREA)
- Lasers (AREA)
Abstract
レーザービーム照射装置が、それぞれが第1レーザービームを出射する複数のレーザー光源と、第1レーザービームが入射される入射面を有し、第1レーザービームにそれぞれに対応する第2レーザービームを出射する集光光学系とを具備する。複数のレーザー光源は、第1レーザービームのビーム径が該入射面に向けて広がるように第1レーザービームを出射するように構成されている。第1レーザービームのそれぞれは、集光光学系の入射面において、他の少なくとも一のレーザービームに重なり合っている。集光光学系は、第2レーザービームのいずれについても、ビーム径が目標面において最小になり、且つ、該目標面における第2レーザービームの中心から光軸までの距離が、第2レーザービームのそれぞれのビーム半径よりも小さくなるように構成されている。複数のレーザービームを結合して高出力の合成レーザービームを得る。
Description
本発明は、レーザービーム照射装置及びレーザービーム照射システムに関し、特に、複数のレーザービームを結合して得られる高出力のレーザービームを目標に照射するように構成されたレーザービーム照射装置及びレーザービーム照射システムに関する。
高出力のレーザービームを得る手法の一つは、別々に発生された複数のレーザービームを結合する手法である。複数のレーザービームを結合する手法は、概略的には、2つに分類することができる。
第1手法は、複数のレーザービームを目標上で結合する手法である。この手法においては、複数のレーザービームが、別々の位置から僅かに異なる角度で出射されて目標に照射され、目標の上に設定された同一点に集光される。この手法を採用する場合、レーザービームの数が、各レーザービームのビーム径(beam diameter)及び照射装置の物理的なサイズに対してトレードオフの関係にある。出射されるレーザービームの数を増大させると高出力を得ることができるが、その一方で、ビーム径を保ったままだと照射装置の物理的サイズ(例えば、光学系を収容する鏡筒(lens barrel)の径)が増大し、重量が増大する。照射装置の重量の増大は、製造コストを増加させ、更に、照射装置の機械的駆動機構(例えば、鏡筒の駆動機構)の設計を困難にするという問題を生じさせ得る。一方で、照射装置の物理的サイズを維持しながら出射されるレーザービームの数を増大させると、各レーザービームのビーム径が小さくなり、これは、集光能力の低下、即ち、目標における集光スポット径(focal spot diameter)の増大という問題を生じさせる。
第2手法は、複数のレーザービームを照射装置の内部で結合させる手法である。この手法においては、全てのレーザービームが鏡筒から同軸で出射されるので、各レーザービームの径を鏡筒の径と同じ程度まで大きくできる。
複数のレーザービームを照射装置の内部で結合させる手法としては、スペクトル結合が知られている。スペクトル結合とは、回折格子等の回折光学素子を用いて複数のレーザービームを結合する技術である。反射角や屈折角に波長依存性を有する回折光学素子に、中心波長が僅かに異なるレーザービームを入射することで出射角がわずかに相違する一連のレーザービームが生成され、更に、その出射角の相違を利用して出射光学系において当該一連のレーザービームが同軸に結合される。スペクトル結合により高出力のレーザービームを得る技術は、例えば、特開2015-72955号公報に開示されている。
スペクトル結合の問題の一つは、スペクトル結合に用いられる回折光学素子は、一般に、高いレーザー耐力を保ったまま大型化することが困難であるということである。これは、レーザービームの本数と出力に制約があることを意味している。加えて、レーザービームの数を増大するためには各レーザービームの線幅を十分に狭くする必要があり、これは、一般には、高出力とは相反する関係にある。
以上に議論されているように、複数のレーザービームを結合して高出力の合成レーザービームを得る技術には、改良の余地がある。
したがって、本発明の課題は、複数のレーザービームを結合して高出力の合成レーザービームを得る技術を提供することにある。本発明の他の目的及び新規な特徴は、以下の開示から当業者には理解されるであろう。
本発明の一実施形態では、レーザービーム照射装置が、それぞれが第1レーザービームを出射する複数のレーザー光源と、第1レーザービームが入射される入射面を有し、入射した第1レーザービームに対して光学的操作を行って第1レーザービームにそれぞれに対応する第2レーザービームを出射する集光光学系とを具備する。複数のレーザー光源は、第1レーザービームのビーム径が集光光学系の入射面に向けて広がるように、互いに異なる位置から第1レーザービームを出射するように構成されている。複数のレーザー光源が出射する第1レーザービームのそれぞれは、集光光学系の入射面において、複数のレーザー光源が出射する第1レーザービームのうちの他の少なくとも一のレーザービームに重なり合っている。
集光光学系は、集光光学系から出射された第2レーザービームの全てについて、集光光学系の光軸に垂直であるように設定された平面である目標面において第2レーザービームのビーム径が最小になり、且つ、該目標面における第2レーザービームの中心から光軸までの距離が、第2レーザービームのそれぞれの該目標面におけるビーム径の2分の1であるビーム半径よりも小さくなるように構成されている。
複数のレーザー光源が出射する第1レーザービームのそれぞれは、集光光学系の入射面において、複数のレーザー光源が出射する第1レーザービームの他のレーザービームの全てに重なり合っていることが好ましい。
一実施形態では、複数のレーザー光源のそれぞれは、それぞれが出射する第1レーザービームの位相を制御する位相制御装置を備えている。この場合、位相制御装置は、集光光学系の出射面における第2レーザービームの位相が同一であるように、第1レーザービームの位相を制御してもよい。
一実施形態では、当該レーザービーム照射装置が、更に、第1レーザービームの波面の形状を整形するビーム整形光学系を具備してもよい。また、複数のレーザー光源のそれぞれが、それぞれが出射する第1レーザービームの位相を制御する位相制御装置を備えている場合、当該レーザービーム照射装置は、複数のレーザー光源から出射される複数の第1レーザービームの波面の形状をそれぞれに整形する複数のビーム整形光学系を具備していてもよい。
一実施形態では、複数のレーザー光源のそれぞれが、第1レーザービームを一端から出射する光ファイバーを備えており、また、当該レーザービーム照射装置が、更に、結合光学素子を具備していてもよい。結合光学素子は、複数のレーザー光源の光ファイバーに接合され、光ファイバーから出射された第1レーザービームを集光光学系の入射面に導くように構成されている。
他の実施形態では、レーザービーム照射装置が、それぞれが第1レーザービームを出射する複数のレーザー光源と、第1レーザービームが入射される入射面を有し、入射した第1レーザービームに対して光学的操作を行って、第1レーザービームにそれぞれに対応し、平行光である複数の第2レーザービームを出射するコリメート光学系とを具備する。複数のレーザー光源は、第1レーザービームのビーム径がコリメート光学系の入射面に向けて広がるように、互いに異なる位置から第1レーザービームを出射するように構成されている。複数のレーザー光源が出射する第1レーザービームのそれぞれは、コリメート光学系の入射面において、複数のレーザー光源が出射する第1レーザービームのうちの他の少なくとも一のレーザービームに重なり合っている。コリメート光学系は、複数の第2レーザービームのそれぞれの中心からコリメート光学系の光軸までの距離が、複数の第2レーザービームのそれぞれのビーム径の2分の1であるビーム半径よりも小さくなるように構成されている。
当該レーザービーム照射装置は、更に、コリメート光学系から出射される複数の第2レーザービームが入射され、複数の第2レーザービームに対してレーザー増幅を行って増幅後レーザービームを生成する固体レーザー増幅器を具備してもよい。このような構成は、複数のレーザー光源のそれぞれが、ファイバーレーザーを含む場合に特に有用である。
更に他の実施形態では、レーザービーム照射システムが、複数のレーザービーム照射装置と、集光光学系とを具備する。複数のレーザービーム照射装置のそれぞれは、それぞれが第1レーザービームを出射する複数のレーザー光源と、第1レーザービームが入射される入射面を有し、入射した第1レーザービームに対して光学的操作を行って、第1レーザービームにそれぞれに対応し、平行光である複数の第2レーザービームを出射するコリメート光学系とを具備する。複数のレーザー光源は、第1レーザービームのビーム径がコリメート光学系の入射面に向けて広がるように、互いに異なる位置から第1レーザービームを出射するように構成されている。複数のレーザー光源が出射する第1レーザービームのそれぞれは、コリメート光学系の入射面において、複数のレーザー光源が出射する第1レーザービームのうちの他の少なくとも一のレーザービームに重なり合っている。コリメート光学系は、複数の第2レーザービームのそれぞれの中心からコリメート光学系の光軸までの距離が、複数の第2レーザービームのそれぞれのビーム径の2分の1であるビーム半径よりも小さくなるように構成されている。複数のレーザービーム照射装置のそれぞれから出射される複数の第2レーザービームで構成される合成ビームは、集光光学系の入射面に入射される。集光光学系は、入射された合成ビームに対して光学的操作を行って合成ビームにそれぞれに対応する第3レーザービームを出射するように構成されている。集光光学系は、集光光学系から出射された第3レーザービームの全てについて、集光光学系の光軸に垂直であるように設定された平面である目標面において第3レーザービームのビーム径が最小になり、且つ、該平面における第3レーザービームの中心から光軸までの距離が、第3レーザービームのそれぞれの目標面におけるビーム径の2分の1であるビーム半径よりも小さくなるように構成されている。
更に他の実施形態では、レーザービーム照射システムが、複数のレーザービーム照射装置と、第1コリメート光学系とを具備する。複数のレーザービーム照射装置のそれぞれは、それぞれが第1レーザービームを出射する複数のレーザー光源と、第1レーザービームが入射される入射面を有し、入射した第1レーザービームに対して光学的操作を行って、第1レーザービームにそれぞれに対応し、平行光である複数の第2レーザービームを出射する第2コリメート光学系とを具備する。複数のレーザー光源は、第1レーザービームのビーム径が第2コリメート光学系の入射面に向けて広がるように、互いに異なる位置から第1レーザービームを出射するように構成されている。複数のレーザー光源が出射する第1レーザービームのそれぞれは、第2コリメート光学系の入射面において、複数のレーザー光源が出射する第1レーザービームのうちの他の少なくとも一のレーザービームに重なり合っている。第2コリメート光学系は、複数の第2レーザービームのそれぞれの中心から第2コリメート光学系の光軸までの距離が、複数の第2レーザービームのそれぞれのビーム径の2分の1であるビーム半径よりも小さくなるように構成されている。複数のレーザービーム照射装置のそれぞれから出射される複数の第2レーザービームで構成される合成ビームは、第1コリメート光学系の入射面に入射される。第1コリメート光学系は、合成ビームに対して光学的操作を行って、合成ビームにそれぞれに対応し、且つ、平行光である第3レーザービームを出射するように構成されている。
本発明によれば、複数のレーザービームを結合して高出力の合成レーザービームを得る技術を提供することができる。
以下、添付図面を参照しながら本発明の実施形態を説明する。添付図面において、同一の構成要素は、同一の参照符号で参照される。また、同一の複数の構成要素を互いに区別するために、添字が付されることがある。また、以下の説明においては、方向を規定するために、XYZ直交座標系が導入される。
[第1実施形態]
図1は、第1実施形態のレーザービーム照射装置100の構成を概念的に示す図である。レーザービーム照射装置100は、複数のレーザー光源10と、集光光学系20とを備えている。レーザー光源10と集光光学系20とは、鏡筒30に収容されている。なお、以下の記載においては、該複数のレーザー光源10を区別する場合、添字を添付する。図1には、3つのレーザー光源101~103が図示されている。ただし、レーザー光源10の数は3に限定されず、より多くのレーザー光源10が設けられ得る。
図1は、第1実施形態のレーザービーム照射装置100の構成を概念的に示す図である。レーザービーム照射装置100は、複数のレーザー光源10と、集光光学系20とを備えている。レーザー光源10と集光光学系20とは、鏡筒30に収容されている。なお、以下の記載においては、該複数のレーザー光源10を区別する場合、添字を添付する。図1には、3つのレーザー光源101~103が図示されている。ただし、レーザー光源10の数は3に限定されず、より多くのレーザー光源10が設けられ得る。
レーザー光源10のそれぞれは、レーザービーム11を出射する。詳細には、本実施形態では、レーザー光源10のそれぞれが、レーザー装置12と光ファイバー13とを備えている。レーザー装置12によって発生されたレーザー光が光ファイバー13の一端に入射され、他端からレーザービーム11として出射される。以下では、レーザー光源101~103から出射されるレーザービーム11を、それぞれ、レーザービーム111~113と記載することがある。本実施形態では、レーザー光源10は、Y軸方向において異なる位置からレーザービーム11を出射する。レーザー光源10から出射されたレーザービーム11は、集光光学系20の入射面20aに入射される。
集光光学系20は、入射面20aに入射されるレーザービーム11に対して、光学的操作を行ってレーザービーム21を生成し、生成したレーザービーム21を出射面20bから出射する。ここで、集光光学系20によって行われる光学的操作は、各レーザービーム21を集光する操作を含んでいる。以下では、レーザービーム111~113から生成されて出射面20bから出射されるレーザービーム21を、それぞれ、レーザービーム211~213と記載することがある。本実施形態では、集光光学系20は、その光軸22がZ軸方向に平行になるように配置されている。集光光学系20の出射面20bから出射されたレーザービーム21が、所望の目標に重ねて照射される。
本実施形態のレーザービーム照射装置100では、レーザー光源10のそれぞれが、レーザービーム11のビーム径が集光光学系20の入射面20aに向けて広がるようにレーザービーム11を出射するように構成されている。一般に、レーザービームが光ファイバーから出射される場合、該レーザービームは、自然に、拡がり角を有するように出射される。一実施形態では、この現象を利用して、光ファイバー13から出射されるレーザービーム11のビーム径が集光光学系20の入射面20aに向けて広げられてもよい。また、光ファイバー13にレンズ等の光学素子が接合され、これにより、光ファイバー13から出射されるレーザービーム11のビーム径が集光光学系20の入射面20aに向けて広げられてもよい。
加えて、レーザー光源10は、各レーザー光源10が出射するレーザービーム11が入射面20aにおいて他のレーザー光源10が出射するレーザービーム11のうちの少なくとも一のレーザービーム11に重なり合っているように配置される。このような構成は、レーザービーム照射装置100の物理的サイズの増大を抑制しながら、高出力の合成レーザービームを生成するために有用である。このような目的の下では、レーザー光源10の数が3以上である場合には、レーザー光源10は、各レーザー光源10が出射するレーザービーム11が入射面20aにおいて他のレーザー光源10が出射するレーザービーム11の全てに重なり合っているように配置されることが好ましい。
また、集光光学系20は、下記のように構成されている。まず、集光光学系20は、光軸22に対して円対称(circular symmetry)のビーム形状を有するレーザービーム11が入射面20aに入射された場合、該レーザービーム11から生成されて出射面20bから出射されるレーザービーム21のビーム形状が光軸22に対して円対称であるように構成されている。
更に、集光光学系20は、出射面20bから出射されるレーザービーム21のいずれもが、集光光学系20の光軸22に垂直であるように設定された平面である目標面40においてビーム径(スポット径)が最小になるように構成されている。本実施形態では、目標面40は、XY平面に平行である。レーザービーム21を目標に照射する場合、目標面40は、当該目標を通過するように設定される。これは、集光光学系20が、各レーザービーム21を目標面40に集光するように構成されていることを意味している。集光光学系20は、目標面40の位置が、光軸22に平行な方向において可変であるように構成されてもよい。
加えて、集光光学系20は、各レーザービーム21について、目標面40における各レーザービーム21の中心から光軸22までの距離が、各レーザービーム21の目標面40におけるビーム径の2分の1であるビーム半径よりも小さくなるように構成されている。本実施形態では、目標面40におけるビーム径は、D86幅(D86 width)(ビームプロファイルの重心を中心として、ビームパワーの86%が含まれる円の直径)として定義される。また、本実施形態では、目標面40における各レーザービーム21の中心の位置は、目標面40における各レーザービーム21のビームプロファイルの重心の位置として定義される。図2A乃至図2Cは、本実施形態における各レーザービーム21のビーム形状を示す図である。
図2Aは、レーザー光源101から出射されたレーザービーム111から集光光学系20によって生成されるレーザービーム211のビーム形状を示している。図2Aに図示されているように、レーザービーム211は、目標面40においてビーム径が最小になる。また、目標面40におけるレーザービーム211の中心231と光軸22との距離d1が、目標面40におけるレーザービーム211のビーム半径r1(即ち、目標面40におけるレーザービーム211のビーム径の2分の1)よりも小さい。即ち、下記式(1):
d1<r1 ・・・(1)
が成立する。
d1<r1 ・・・(1)
が成立する。
図2Bは、レーザー光源102から出射されたレーザービーム112から集光光学系20によって生成されるレーザービーム212のビーム形状を示している。レーザー光源102から出射されるレーザービーム112は、集光光学系20の光軸22に対して円対称なビーム形状を有しているので、集光光学系20から出射されるレーザービーム212も、光軸22に対して円対称なビーム形状を有している。
図2Bに図示されているように、レーザービーム212も、レーザービーム211と同様に、目標面40においてビーム径が最小になる。また、目標面40におけるレーザービーム212の中心232は、光軸22の上に位置しており、レーザービーム212の中心232と光軸22との距離d2は、ゼロである。レーザービーム212についても、下記式(2):
d2<r2 ・・・(2)
が成立する。ここで、r2は、目標面40におけるレーザービーム212のビーム半径(即ち、目標面40におけるレーザービーム212のビーム径の2分の1)である。
d2<r2 ・・・(2)
が成立する。ここで、r2は、目標面40におけるレーザービーム212のビーム半径(即ち、目標面40におけるレーザービーム212のビーム径の2分の1)である。
図2Cは、レーザー光源103から出射されたレーザービーム113から集光光学系20によって生成されるレーザービーム213のビーム形状を示している。図2Cに図示されているように、レーザービーム213も、目標面40においてビーム径が最小になる。また、目標面40におけるレーザービーム213の中心233と光軸22との距離d3が、目標面40におけるレーザービーム213のビーム半径r3(即ち、目標面40におけるレーザービーム213のビーム径の2分の1)よりも小さい。即ち、下記式(3):
d3<r3 ・・・(3)
が成立する。
d3<r3 ・・・(3)
が成立する。
各レーザービーム21について、目標面40における各レーザービーム21の中心から光軸22までの距離が目標面40におけるビーム半径よりも小さいという条件は、目標面40におけるレーザービーム21の結合を維持するためのものである。本実施形態では、レーザービーム11が入射面20aにおいて異なる位置に入射されるので、出射面20bから出射されるレーザービーム21の目標面40におけるビーム中心の位置が、互いに相違し得る。しかしながら、目標面40における各レーザービーム21の中心から光軸22までの距離が、各レーザービーム21の目標面40におけるビーム半径よりも小さければ、各レーザービーム21は目標面40において他のレーザービーム21の全てに重なり合い、ビーム結合が維持される。
本実施形態のこのような構成によれば、レーザービーム照射装置100の物理的サイズの増大の抑制と集光能力の向上とを実現しながら、高出力の合成レーザービームを目標に照射することが可能になる。
詳細には、本実施形態では、レーザー光源10は、各レーザー光源10が出射するレーザービーム11が、入射面20aにおいて、他のレーザー光源10が出射するレーザービーム11のうちの他の少なくとも一のレーザービーム11に重なり合っているように配置される。これにより、レーザービーム照射装置100の物理的サイズの増大を抑制しながら、高出力の合成レーザービームを生成することができる。レーザービーム11の数が3以上である場合、物理的サイズの増大の抑制と高出力の合成レーザービームの生成の観点からは、各レーザー光源10が出射するレーザービーム11が、入射面20aにおいて、他の全てのレーザー光源10が出射するレーザービーム11に重なっていることが好ましい。
加えて、本実施形態のレーザービーム照射装置100では、レーザー光源10のそれぞれが、レーザービーム11のビーム径が集光光学系20の入射面20aに向けて広がるようにレーザービーム11を出射するように構成されている。このため、集光光学系20の出射面20bにおける各レーザービーム21のビーム径が大きい。これは、各レーザービーム21の目標面40における集光スポット径を小さくできることを意味している。これは、集光能力の向上に有効である。
本実施形態のレーザービーム照射装置100では、例えば回折光学素子のような特殊な光学素子を用いずにレーザービームの結合を実現できることにも留意されたい。本実施形態のレーザービーム照射装置100は、特殊な光学素子を用いなくても、物理的サイズの増大の抑制と集光能力の向上とを実現しながら、高出力の合成レーザービームを生成することができる。
[第2実施形態]
図3は、第2実施形態のレーザービーム照射装置100Aの構成を概念的に示す図である。第2実施形態のレーザービーム照射装置100Aは、第1実施形態のレーザービーム照射装置100と類似した構成となっているが、レーザー光源10のそれぞれが、それぞれから出射されるレーザービーム11の位相を制御する位相制御装置14を備えている点で第1実施形態のレーザービーム照射装置100と相違している。本実施形態では、位相制御装置14は、各レーザー光源10の光ファイバー13に挿入されている。
図3は、第2実施形態のレーザービーム照射装置100Aの構成を概念的に示す図である。第2実施形態のレーザービーム照射装置100Aは、第1実施形態のレーザービーム照射装置100と類似した構成となっているが、レーザー光源10のそれぞれが、それぞれから出射されるレーザービーム11の位相を制御する位相制御装置14を備えている点で第1実施形態のレーザービーム照射装置100と相違している。本実施形態では、位相制御装置14は、各レーザー光源10の光ファイバー13に挿入されている。
第2実施形態のレーザービーム照射装置100Aでは、位相制御装置14によって集光光学系20に入射されるレーザービーム11の位相が制御され、これにより、集光光学系20から出射されるレーザービーム21の波面の形状を、伝搬に最適な形状に制御することができる。これは、集光能力の向上に有効である。例えば、位相制御装置14によってレーザー光源10から出射されるレーザービーム11の位相を制御することにより、集光光学系20の出射面20bにおけるレーザービーム21の位相が一致されてもよい。これにより、開口合成が実現され、集光能力を向上させることができる。
[第3実施形態]
図4は、第3実施形態のレーザービーム照射装置100Bの構成を概念的に示す図である。第3実施形態のレーザービーム照射装置100Bは、第1実施形態のレーザービーム照射装置100と類似した構成となっているが、レーザー光源10のそれぞれから出射されるレーザービーム11の波面の形状を整形するビーム整形光学系15を備えている点で第1実施形態のレーザービーム照射装置100と相違している。本実施形態では、ビーム整形光学系15は、各レーザー光源10の光ファイバー13の、レーザービーム11が出射される出射端に接続されている。ビーム整形光学系15としては、例えば、凹レンズ、凸レンズその他の光学要素が使用され得る。
図4は、第3実施形態のレーザービーム照射装置100Bの構成を概念的に示す図である。第3実施形態のレーザービーム照射装置100Bは、第1実施形態のレーザービーム照射装置100と類似した構成となっているが、レーザー光源10のそれぞれから出射されるレーザービーム11の波面の形状を整形するビーム整形光学系15を備えている点で第1実施形態のレーザービーム照射装置100と相違している。本実施形態では、ビーム整形光学系15は、各レーザー光源10の光ファイバー13の、レーザービーム11が出射される出射端に接続されている。ビーム整形光学系15としては、例えば、凹レンズ、凸レンズその他の光学要素が使用され得る。
第3実施形態では、レーザー光源10のそれぞれから出射されるレーザービーム11の波面の形状がビーム整形光学系15によって成形され、これにより、集光光学系20から出射されるレーザービーム21の波面の形状を、伝搬に最適な形状に制御することができる。これは、集光能力の向上に有効である。
なお、図4では、レーザー光源10のそれぞれが、ビーム整形光学系15を備えている構成が図示されているが、図5に図示されているように、複数のレーザー光源10について共通のビーム整形光学系16が設けられてもよい。ビーム整形光学系16は、レーザー光源10のそれぞれから出射されるレーザービーム11の波面の形状を整形し、これにより、集光光学系20から出射されるレーザービーム21の波面の形状を、伝搬に最適な形状に制御する。
また、図6に図示されているように、位相制御装置14を備えている第2実施形態のレーザービーム照射装置100Bにビーム整形光学系15(又は16)が設けられてもよい。この場合、ビーム整形光学系15のそれぞれに入射されるレーザービーム11のそれぞれに対して位相が制御されるので、ビーム整形光学系15の構成を単純化しながら、集光光学系20から出射されるレーザービーム21の波面の形状を、伝搬に最適な形状に制御することができる。
[第4実施形態]
図7は、第4実施形態のレーザービーム照射装置100Cの構成を概念的に示す図である。第4実施形態のレーザービーム照射装置100Cは、第1実施形態のレーザービーム照射装置100と類似した構成となっているが、レーザー光源10と集光光学系20の入射面20aとが、結合光学素子17によって結合されている点で、第1実施形態のレーザービーム照射装置100と相違している。本実施形態では、結合光学素子17は、各レーザー光源10の光ファイバー13の、レーザービーム11が出射される出射端に接合されている。結合光学素子17としては、例えば、テーパレンズが例示される。結合光学素子17は、融着によって光ファイバー13に接合されてもよい。結合光学素子17は、各レーザー光源10の光ファイバー13から出射されたレーザービーム11を集光光学系20の入射面20aに導くように構成されている。
図7は、第4実施形態のレーザービーム照射装置100Cの構成を概念的に示す図である。第4実施形態のレーザービーム照射装置100Cは、第1実施形態のレーザービーム照射装置100と類似した構成となっているが、レーザー光源10と集光光学系20の入射面20aとが、結合光学素子17によって結合されている点で、第1実施形態のレーザービーム照射装置100と相違している。本実施形態では、結合光学素子17は、各レーザー光源10の光ファイバー13の、レーザービーム11が出射される出射端に接合されている。結合光学素子17としては、例えば、テーパレンズが例示される。結合光学素子17は、融着によって光ファイバー13に接合されてもよい。結合光学素子17は、各レーザー光源10の光ファイバー13から出射されたレーザービーム11を集光光学系20の入射面20aに導くように構成されている。
本実施形態では、光ファイバー13の出力端に結合光学素子17が結合されていることにより、光ファイバー13のアライメントを容易化することができる。なお、結合光学素子17に、レーザー光源10のそれぞれから出射されるレーザービーム11の波面の形状を整形する機能を持たせてもよい。これは、集光光学系20から出射されるレーザービーム21の波面の形状を、伝搬に最適な形状に制御するために有用である。
なお、本実施形態でも、図8に図示されているように、レーザー光源10のそれぞれが、それぞれから出射されるレーザービーム11の位相を制御する位相制御装置14を備えていてもよい。これにより、集光光学系20から出射されるレーザービーム21の波面の形状を、伝搬に最適な形状に制御することができる。
[第5実施形態]
図9は、第5実施形態のレーザービーム照射装置100Dの構成を概念的に示す図である。上述の実施形態では、集光光学系20が用いられているが、第5実施形態では、集光光学系20の代わりに、各レーザービーム11から平行光であるレーザービーム51を生成するコリメート光学系50が用いられる。レーザー光源10とコリメート光学系50とは、鏡筒30に収容されている。以下、本実施形態のレーザービーム照射装置100Dの構成を詳細に説明する。
図9は、第5実施形態のレーザービーム照射装置100Dの構成を概念的に示す図である。上述の実施形態では、集光光学系20が用いられているが、第5実施形態では、集光光学系20の代わりに、各レーザービーム11から平行光であるレーザービーム51を生成するコリメート光学系50が用いられる。レーザー光源10とコリメート光学系50とは、鏡筒30に収容されている。以下、本実施形態のレーザービーム照射装置100Dの構成を詳細に説明する。
レーザー光源10のそれぞれは、レーザービーム11を出射する。レーザー光源10から出射されたレーザービーム11は、コリメート光学系50の入射面50aに入射される。第1乃至第4実施形態と同様に、レーザー光源10のそれぞれは、レーザービーム11のビーム径がコリメート光学系50の入射面50aに向けて広がるようにレーザービーム11を出射するように構成されている。加えて、レーザー光源10は、各レーザー光源10が出射するレーザービーム11が、入射面50aにおいて、他のレーザー光源10が出射するレーザービーム11のうちの少なくとも一のレーザービーム11に重なり合っているように配置される。このような構成は、レーザービーム照射装置100Dの物理的サイズの増大を抑制しながら、高出力の合成レーザービームを生成するために有用である。この目的の下では、レーザー光源10の数が3以上である場合には、レーザー光源10は、各レーザー光源10が出射するレーザービーム11が入射面50aにおいて他のレーザー光源10が出射するレーザービーム11の全てに重なり合っているように配置されることが好ましい。
コリメート光学系50は、入射面50aに入射されるレーザービーム11に対して所定の光学的操作を行ってレーザービーム51を生成し、生成したレーザービーム51を出射面50bから出射する。ここで、コリメート光学系50は、出射面50bから出射される各レーザービーム51が平行光であるように構成される。コリメート光学系50は、光軸52に対して円対称(circular symmetry)のビーム形状を有するレーザービーム11が入射面50aに入射された場合、該レーザービーム11から生成されて出射面50bから出射されるレーザービーム51のビーム形状が光軸52に対して円対称であるように構成されている。
以下では、レーザービーム111~113から生成されて出射面50bから出射されるレーザービーム51を、それぞれ、レーザービーム511~513と記載することがある。本実施形態では、コリメート光学系50は、その光軸52がZ軸方向に平行になるように配置されている。コリメート光学系50の出射面50bから出射されたレーザービーム51は、互いに重なりながら所望の目標に照射される。即ち、コリメート光学系50の出射面50bから出射されたレーザービーム51が合成されて、目標に照射すべき合成ビーム53が形成される。
図10は、第5実施形態における、コリメート光学系50の出射面50b上における各レーザービームの強度分布の一例を示す図である。出射面50bの上では、レーザービーム51が合成されて得られる合成レーザービームの強度分布は、各レーザービーム51の強度分布を足し合わせたものとなる。入射面50aに入射されるレーザービーム11がガウシアンビームであり、よって、出射面50bから出射されるレーザービーム51がガウシアンビームである場合、合成レーザービームの強度分布は、裾がやや広がったガウシアン分布になる。第5実施形態では、出射面50b上における各レーザービーム51の強度分布が保たれたまま光軸52に沿ってレーザービーム51が伝搬される。
また、第5実施形態においては、レーザー光源10とコリメート光学系50とが、出射面50bから出射されるレーザービーム51のそれぞれについて、レーザービーム51の中心から光軸52までの距離が、各レーザービーム51のビーム径(即ち、スポット径)の2分の1であるビーム半径よりも小さくなるように配置されている。なお、本実施形態においても、ビーム径は、D86幅(D86 width)(ビームプロファイルの重心を中心として、ビームパワーの86%が含まれる円の直径)として定義され、各レーザービーム51の中心の位置は、光軸52に垂直な面における各レーザービーム51のビームプロファイルの重心の位置として定義される。これにより、目標におけるレーザービーム51の結合を維持することができる。本実施形態においても、レーザービーム11が入射面50aにおいて異なる位置に入射されるので、出射面50bから出射されるレーザービーム51のビーム中心の位置が、互いに相違し得る。しかしながら、各レーザービーム51の中心から光軸52までの距離が、各レーザービーム51のビーム半径よりも小さければ、各レーザービーム51は他のレーザービーム51に重なり合い、ビーム結合が維持される。
なお、図9には、第1実施形態のレーザービーム照射装置100の集光光学系20がコリメート光学系50に置換された構成が図示されているが、第2乃至第4実施形態のレーザービーム照射装置100A~100Cの集光光学系20がコリメート光学系50に置換されてもよい。
本実施形態のレーザービーム照射装置100Dが複数設けられ、それぞれのレーザービーム照射装置100Dによって生成された合成レーザービームが、集光光学系を用いて更に結合されてもよい。図11Aは、このような構成のレーザービーム照射システム200Aの構成の一例を概念的に示す図である。
図11Aに図示されたレーザービーム照射システム200Aは、2つのレーザービーム照射装置100Dを備えている。以下では、2つのレーザービーム照射装置100Dを互いに区別するために、一方のレーザービーム照射装置100Dをレーザービーム照射装置100D1と記載し、他方のレーザービーム照射装置100Dをレーザービーム照射装置100D2と記載することがある。
2つのレーザービーム照射装置100Dのそれぞれは、コリメート光学系50から、合成ビーム53を出射する。以下において、レーザービーム照射装置100D1のコリメート光学系50をコリメート光学系501と記載し、コリメート光学系501から出射される合成ビーム53を合成ビーム531と記載することがある。同様に、レーザービーム照射装置100D2のコリメート光学系50をコリメート光学系502と記載し、コリメート光学系502から出射される合成ビーム53を合成ビーム532と記載することがある。
レーザービーム照射装置100D1、100D2から出射された合成ビーム531、532は、ビーム整形光学素子54及び集光光学系60によって結合される。詳細には、ビーム整形光学素子54は、レーザービーム照射装置100D1、100D2からのそれぞれから出射される合成ビーム531、532の波面の形状を整形する。ビーム整形光学素子54から出射された合成ビーム531、532は、集光光学系60の入射面60aに入射される。ビーム整形光学素子54は、ビーム整形光学素子54から出射される合成ビーム531、532のビーム径が入射面60aに向けて増大するように構成されている。
集光光学系60は、入射面60aに入射される合成ビーム531、532に対して光学的操作を行ってレーザービーム611、612を生成し、生成したレーザービーム611、612を出射面60bから出射する。ここで、集光光学系20によって行われる光学的操作は、各レーザービーム611、612を集光する操作を含んでいる。本実施形態では、集光光学系60は、その光軸62がZ軸方向に平行になるように配置されている。集光光学系60の出射面60bから出射されたレーザービーム611、612が、所望の目標に重ねて照射される。
第1実施形態において用いられる集光光学系20と同様に、集光光学系60は、出射面60bから出射されるレーザービーム611、612のいずれもが、共通の目標面においてビームウェストを持つ(即ち、スポット径が最小になる)ように構成されている。ここで、当該目標面は、集光光学系60の光軸62に垂直であるように規定された平面であり、本実施形態では、当該目標面は、XY平面に平行である。レーザービーム611、612を目標に照射する場合、当該目標面は、当該目標を通過するように規定される。
加えて、集光光学系60は、レーザービーム611、612のいずれもが、集光光学系60の光軸62に垂直であるように設定された平面である目標面においてビーム径(即ち、スポット径)が最小になり、且つ、当該目標面における各レーザービーム611、612の中心から光軸62までの距離が、各レーザービーム611、612の当該目標面におけるビーム径の2分の1であるビーム半径よりも小さくなるように構成されている。第1実施形態で説明されているように、このような構成により、目標面におけるレーザービーム611、612の結合が維持される。
図11Aの構成のレーザービーム照射システム200Aは、集光能力を維持しながら、多数のレーザービームを結合することができ、大きな出力の合成レーザービームを容易に生成することができる。
また、本実施形態のレーザービーム照射装置100Dが複数設けられ、それぞれのレーザービーム照射装置100Dによって生成された合成レーザービームが、コリメート光学系を用いて更に結合されてもよい。図11Bは、このような構成のレーザービーム照射システム200Bの構成の一例を概念的に示す図である。
図11Bに図示されたレーザービーム照射システム200Bは、図11Aに図示されたレーザービーム照射システム200Aと類似した構成を有しているが、集光光学系60の代わりにコリメート光学系70が設けられる点で相違している。ビーム整形光学素子54から出射された合成ビーム531、532は、コリメート光学系70の入射面70aに入射される。ビーム整形光学素子54は、ビーム整形光学素子54から出射される合成ビーム531、532のビーム径が入射面70aに向けて増大するように構成されている。
コリメート光学系70は、入射面70aに入射される合成ビーム531、532から平行光であるレーザービーム711、712を生成し、生成したレーザービーム711、712を出射面70bから出射する。本実施形態では、コリメート光学系70は、その光軸72がZ軸方向に平行になるように配置されている。コリメート光学系70の出射面70bから出射されたレーザービーム711、712は、互いに重なりながら所望の目標に照射される。即ち、コリメート光学系70の出射面70bから出射されたレーザービーム711、712が合成されて、目標に照射すべき合成ビームが形成される。レーザービーム照射装置100Dと、ビーム整形光学素子54と、コリメート光学系70とは、出射面70bから出射されるレーザービーム711、712のそれぞれについて、レーザービーム711、712の中心から光軸72までの距離が、各レーザービーム711、712のビーム径(即ち、スポット径)の2分の1であるビーム半径よりも小さくなるように配置されている。
図11Bの構成のレーザービーム照射システム200Bは、多数のレーザービームを結合して、大きな出力及びビーム径を有する合成レーザービームを容易に生成することができる。
(第6の実施形態)
図12は、第6の実施形態のレーザービーム照射装置100Eの構成を概念的に示す図である。第6の実施形態のレーザービーム照射装置100Eは、第5実施形態のレーザービーム照射装置100D(図9参照)と類似した構成を有しているが、固体レーザー増幅器80を追加的に備えている点で相違する。固体レーザー増幅器80は、コリメート光学系50の出射面50bから出射されるレーザービーム51に対してレーザー増幅を行って増幅後レーザービーム81を生成する。第6の実施形態のレーザービーム照射装置100Eの構成は、レーザービーム照射装置100Eに含まれるレーザー光源10の数を抑制しながら高出力のレーザービームを生成するために好適である。
図12は、第6の実施形態のレーザービーム照射装置100Eの構成を概念的に示す図である。第6の実施形態のレーザービーム照射装置100Eは、第5実施形態のレーザービーム照射装置100D(図9参照)と類似した構成を有しているが、固体レーザー増幅器80を追加的に備えている点で相違する。固体レーザー増幅器80は、コリメート光学系50の出射面50bから出射されるレーザービーム51に対してレーザー増幅を行って増幅後レーザービーム81を生成する。第6の実施形態のレーザービーム照射装置100Eの構成は、レーザービーム照射装置100Eに含まれるレーザー光源10の数を抑制しながら高出力のレーザービームを生成するために好適である。
本実施形態のレーザービーム照射装置100Eは、特に、レーザー光源10のレーザー装置12としてファイバーレーザー、特に、パルス光を発生する、又は狭線幅のレーザー光を発生するファイバーレーザーを用いる場合に特に有効である。ファイバーレーザーは、低出力の領域では固体レーザーと比較して効率が高いが、その一方で、許容されるパルスエネルギーの最大値が小さい。一方、固体レーザーは、許容されるパルスエネルギーの最大値が大きい。また、ファイバーレーザーは、線幅が狭いと非線形効果が顕著に表れ、出力の上限が低下するが、固体レーザーは、非線形効果が表れにくく、狭線幅と高出力の両立が可能である。このようなファイバーレーザー及び固体レーザーの特性を生かすためには、ファイバーレーザーによって生成したレーザー光を固体レーザーで増幅する構成が好適である。本実施形態のレーザービーム照射装置100Eでは、レーザー光源10のレーザー装置12としてファイバーレーザーを用いることで、ファイバーレーザーによって生成した複数のレーザー光を結合し、更に、固体レーザー増幅器80で増幅する構成を実現できる。
以上には、本発明の実施形態が具体的に記述されているが、本発明は、上記の実施形態に限定されない。本発明が種々の変更と共に実施され得ることは、当業者には理解されよう。また、上記の実施形態は、技術的な矛盾がない限り組み合わせて実施され得ることにも留意されたい。
なお、本願は、2017年7月27日に出願された日本特許出願2017-145402号に基づいており、それにより条約上の優先権を主張する。その開示の全てを引用によりここに組み込む。
Claims (12)
- それぞれが第1レーザービームを出射する複数のレーザー光源と、
前記第1レーザービームが入射される入射面を有し、入射した前記第1レーザービームに対して光学的操作を行って前記第1レーザービームにそれぞれに対応する第2レーザービームを出射する集光光学系と
を具備し、
複数のレーザー光源は、前記第1レーザービームのビーム径が前記集光光学系の前記入射面に向けて広がるように、互いに異なる位置から前記第1レーザービームを出射するように構成され、
前記複数のレーザー光源が出射する前記第1レーザービームのそれぞれは、前記集光光学系の前記入射面において、前記複数のレーザー光源が出射する前記第1レーザービームのうちの他の少なくとも一のレーザービームに重なり合っており、
前記集光光学系は、前記集光光学系から出射された前記第2レーザービームの全てについて、前記集光光学系の光軸に垂直であるように設定された平面である目標面において前記第2レーザービームのビーム径が最小になり、且つ、前記目標面における前記第2レーザービームの中心から前記光軸までの距離が、前記第2レーザービームのそれぞれの前記目標面におけるビーム径の2分の1であるビーム半径よりも小さくなるように構成されている
レーザービーム照射装置。 - 請求項1に記載のレーザービーム照射装置であって、
前記複数のレーザー光源が出射する前記第1レーザービームのそれぞれは、前記集光光学系の前記入射面において、前記複数のレーザー光源が出射する前記第1レーザービームの他のレーザービームの全てに重なり合っている
レーザービーム照射装置。 - 請求項1又は2に記載のレーザービーム照射装置であって、
前記複数のレーザー光源のそれぞれは、それぞれが出射する前記第1レーザービームの位相を制御する位相制御装置を備えている
レーザービーム照射装置。 - 請求項3に記載のレーザービーム照射装置であって、
前記集光光学系は、前記第2レーザービームが出射される出射面を有しており、
前記位相制御装置は、前記集光光学系の前記出射面における前記第2レーザービームの位相が同一であるように、前記第1レーザービームの位相を制御する
レーザービーム照射装置。 - 請求項1又は2に記載のレーザービーム照射装置であって、
更に、前記第1レーザービームの波面の形状を整形するビーム整形光学系を具備する
レーザービーム照射装置。 - 請求項3又は4に記載のレーザービーム照射装置であって、
更に、
前記複数のレーザー光源から出射される複数の前記第1レーザービームの波面の形状をそれぞれに整形する複数のビーム整形光学系を具備する
レーザービーム照射装置。 - 請求項1乃至6のいずれかに記載のレーザービーム照射装置であって、
更に、結合光学素子を具備し、
前記複数のレーザー光源のそれぞれは、前記第1レーザービームを一端から出射する光ファイバーを備えており、
前記結合光学素子は、前記複数のレーザー光源の前記光ファイバーに接合され、前記光ファイバーから出射された前記第1レーザービームを前記集光光学系の前記入射面に導くように構成された
レーザービーム照射装置。 - それぞれが第1レーザービームを出射する複数のレーザー光源と、
前記第1レーザービームが入射される入射面を有し、入射した前記第1レーザービームに対して光学的操作を行って、前記第1レーザービームにそれぞれに対応し、平行光である複数の第2レーザービームを出射するコリメート光学系と
を具備し、
複数のレーザー光源は、前記第1レーザービームのビーム径が前記入射面に向けて広がるように、互いに異なる位置から前記第1レーザービームを出射するように構成され、
前記複数のレーザー光源が出射する前記第1レーザービームのそれぞれは、前記コリメート光学系の前記入射面において、前記複数のレーザー光源が出射する前記第1レーザービームのうちの他の少なくとも一のレーザービームに重なり合っており、
前記コリメート光学系は、前記複数の第2レーザービームのそれぞれの中心から前記コリメート光学系の光軸までの距離が、前記複数の第2レーザービームのそれぞれのビーム径の2分の1であるビーム半径よりも小さくなるように構成されている
レーザービーム照射装置。 - 請求項8に記載のレーザービーム照射装置であって、
更に、
前記コリメート光学系から出射される前記複数の第2レーザービームが入射され、前記複数の第2レーザービームに対してレーザー増幅を行って増幅後レーザービームを生成する固体レーザー増幅器
を具備する
レーザービーム照射装置。 - 請求項9に記載のレーザービーム照射装置であって、
前記複数のレーザー光源のそれぞれは、ファイバーレーザーを含む
レーザービーム照射装置。 - 複数のレーザービーム照射装置と、
集光光学系と
を具備し、
前記複数のレーザービーム照射装置のそれぞれは、
それぞれが第1レーザービームを出射する複数のレーザー光源と、
前記第1レーザービームが入射される入射面を有し、入射した前記第1レーザービームに対して光学的操作を行って、前記第1レーザービームにそれぞれに対応し、平行光である複数の第2レーザービームを出射するコリメート光学系と
を具備し、
複数のレーザー光源は、前記第1レーザービームのビーム径が前記コリメート光学系の前記入射面に向けて広がるように、互いに異なる位置から前記第1レーザービームを出射するように構成され、
前記複数のレーザー光源が出射する前記第1レーザービームのそれぞれは、前記コリメート光学系の前記入射面において、前記複数のレーザー光源が出射する前記第1レーザービームのうちの他の少なくとも一のレーザービームに重なり合っており、
前記コリメート光学系は、前記複数の第2レーザービームのそれぞれの中心から前記コリメート光学系の光軸までの距離が、前記複数の第2レーザービームのそれぞれのビーム径の2分の1であるビーム半径よりも小さくなるように構成され、
前記複数のレーザービーム照射装置のそれぞれから出射される前記複数の第2レーザービームで構成される合成ビームが、前記集光光学系の入射面に入射され、
前記集光光学系は、前記合成ビームに対して光学的操作を行って前記合成ビームにそれぞれに対応する第3レーザービームを出射するように構成され、
前記集光光学系は、前記集光光学系から出射された前記第3レーザービームの全てについて、前記集光光学系の光軸に垂直であるように設定された平面である目標面において前記第3レーザービームのビーム径が最小になり、且つ、前記目標面における前記第3レーザービームの中心から前記光軸までの距離が、前記第3レーザービームのそれぞれの前記目標面におけるビーム径の2分の1であるビーム半径よりも小さくなるように構成されている
レーザービーム照射システム。 - 複数のレーザービーム照射装置と、
第1コリメート光学系と
を具備し、
前記複数のレーザービーム照射装置のそれぞれは、
それぞれが第1レーザービームを出射する複数のレーザー光源と、
前記第1レーザービームが入射される入射面を有し、入射した前記第1レーザービームに対して光学的操作を行って、前記第1レーザービームにそれぞれに対応し、平行光である複数の第2レーザービームを出射する第2コリメート光学系と
を具備し、
複数のレーザー光源は、前記第1レーザービームのビーム径が前記第2コリメート光学系の前記入射面に向けて広がるように、互いに異なる位置から前記第1レーザービームを出射するように構成され、
前記複数のレーザー光源が出射する前記第1レーザービームのそれぞれは、前記第2コリメート光学系の前記入射面において、前記複数のレーザー光源が出射する前記第1レーザービームのうちの他の少なくとも一のレーザービームに重なり合っており、
前記第2コリメート光学系は、前記複数の第2レーザービームのそれぞれの中心から前記第2コリメート光学系の光軸までの距離が、前記複数の第2レーザービームのそれぞれのビーム径の2分の1であるビーム半径よりも小さくなるように構成され、
前記複数のレーザービーム照射装置のそれぞれから出射される前記複数の第2レーザービームで構成される合成ビームが、前記第1コリメート光学系の入射面に入射され、
前記第1コリメート光学系は、前記合成ビームに対して光学的操作を行って、前記合成ビームにそれぞれに対応し、且つ、平行光である第3レーザービームを出射するように構成されている
レーザービーム照射システム。
Priority Applications (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
EP18839219.5A EP3641080A4 (en) | 2017-07-27 | 2018-04-25 | LASER BEAM IRRADIATION DEVICE AND SYSTEM |
US16/629,113 US11387618B2 (en) | 2017-07-27 | 2018-04-25 | Laser beam irradiation apparatus and laser beam irradiation system |
Applications Claiming Priority (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2017145402A JP6923158B2 (ja) | 2017-07-27 | 2017-07-27 | レーザービーム照射装置及びレーザービーム照射システム |
JP2017-145402 | 2017-07-27 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
WO2019021559A1 true WO2019021559A1 (ja) | 2019-01-31 |
Family
ID=65041170
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
PCT/JP2018/016832 WO2019021559A1 (ja) | 2017-07-27 | 2018-04-25 | レーザービーム照射装置及びレーザービーム照射システム |
Country Status (4)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US11387618B2 (ja) |
EP (1) | EP3641080A4 (ja) |
JP (1) | JP6923158B2 (ja) |
WO (1) | WO2019021559A1 (ja) |
Citations (13)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US5566196A (en) * | 1994-10-27 | 1996-10-15 | Sdl, Inc. | Multiple core fiber laser and optical amplifier |
JPH1123878A (ja) * | 1997-06-30 | 1999-01-29 | Hoya Corp | レーザ装置及びレーザ加工装置 |
US5966391A (en) * | 1997-06-27 | 1999-10-12 | Mcdonnell Douglas Corporation | Long cavity laser system including frequency doubling long cavity fiber optic laser system |
JP2000126886A (ja) * | 1998-10-27 | 2000-05-09 | Hitachi Ltd | レーザ光照射装置 |
JP2001068794A (ja) * | 1999-08-26 | 2001-03-16 | Victor Co Of Japan Ltd | 半導体レーザ装置 |
JP2003290965A (ja) * | 2002-04-08 | 2003-10-14 | Nippon Steel Corp | レーザ加工装置 |
JP2004184437A (ja) * | 2002-11-29 | 2004-07-02 | Toshiba Corp | 半導体レーザ装置、半導体レーザの制御方法、映像表示装置 |
JP2005294409A (ja) * | 2004-03-31 | 2005-10-20 | Mitsubishi Electric Corp | コヒーレント光結合装置 |
US20090275927A1 (en) * | 2008-02-01 | 2009-11-05 | Lumenis Ltd. | System and Method for Lasers in Surgical Applications |
JP2014192166A (ja) * | 2013-03-26 | 2014-10-06 | National Institutes Of Natural Sciences | 半導体レーザー励起固体レーザー装置を利用する車載式点火装置 |
JP2015072955A (ja) | 2013-10-02 | 2015-04-16 | パナソニック株式会社 | スペクトルビーム結合ファイバレーザ装置 |
JP2016033949A (ja) * | 2014-07-31 | 2016-03-10 | 株式会社トプコン | レーザ発光装置及びレーザ測量機 |
JP2017145402A (ja) | 2016-02-12 | 2017-08-24 | 東ソー株式会社 | 架橋エチレン−酢酸ビニル共重合体ケン化物、ホットメルト接着剤樹脂組成物、接着剤及びその成形体 |
Family Cites Families (18)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS4730288Y1 (ja) | 1969-08-16 | 1972-09-11 | ||
JPH1078530A (ja) * | 1996-09-05 | 1998-03-24 | Mitsubishi Electric Corp | 光結合装置 |
DE69840860D1 (de) | 1997-06-30 | 2009-07-16 | Hamamatsu Photonics Kk | Faserbündel und Faserlasergerät unter Verwendung des Faserbündels |
JPH1123867A (ja) | 1997-06-30 | 1999-01-29 | Hoya Corp | ファイババンドル及びファイババンドルの製造方法 |
DE19840926B4 (de) * | 1998-09-08 | 2013-07-11 | Hell Gravure Systems Gmbh & Co. Kg | Anordnung zur Materialbearbeitung mittels Laserstrahlen und deren Verwendung |
JP2001255491A (ja) * | 2000-03-10 | 2001-09-21 | Nippon Steel Techno Research Corp | レーザ集光光学系 |
JP3775250B2 (ja) * | 2001-07-12 | 2006-05-17 | セイコーエプソン株式会社 | レーザー加工方法及びレーザー加工装置 |
JP2006278491A (ja) * | 2005-03-28 | 2006-10-12 | Sony Corp | 照射装置 |
JP4814560B2 (ja) * | 2005-06-29 | 2011-11-16 | 住友重機械工業株式会社 | ビーム重ね合わせ装置及びレーザ加工方法 |
DE602006007617D1 (de) * | 2005-12-16 | 2009-08-13 | Univ Danmarks Tekniske | Lasersystem mit segmentiertem diodenlaser |
JP2008147428A (ja) * | 2006-12-11 | 2008-06-26 | Sumitomo Heavy Ind Ltd | レーザ照射装置、及び、レーザ照射方法 |
DE102008027231B4 (de) | 2008-06-06 | 2016-03-03 | Limo Patentverwaltung Gmbh & Co. Kg | Vorrichtung zur Strahlformung |
JP2011039493A (ja) * | 2009-07-13 | 2011-02-24 | Central Glass Co Ltd | 融着接続構造およびその構造を有する光導波路素子、これを用いる光源装置、および接続方法 |
US8693088B2 (en) * | 2010-03-16 | 2014-04-08 | Ofs Fitel, Llc | Multicore transmission and amplifier fibers and schemes for launching pump light to amplifier cores |
JP2011128634A (ja) * | 2011-01-19 | 2011-06-30 | Mitsubishi Electric Corp | 照明光学系および画像表示装置 |
US9102007B2 (en) | 2013-08-02 | 2015-08-11 | Rofin-Sinar Technologies Inc. | Method and apparatus for performing laser filamentation within transparent materials |
US10537965B2 (en) * | 2013-12-13 | 2020-01-21 | Applied Materials, Inc. | Fiber array line generator |
US10219863B2 (en) * | 2014-11-14 | 2019-03-05 | Boston Scientific Scimed, Inc. | Surgical laser systems and laser devices |
-
2017
- 2017-07-27 JP JP2017145402A patent/JP6923158B2/ja active Active
-
2018
- 2018-04-25 EP EP18839219.5A patent/EP3641080A4/en active Pending
- 2018-04-25 US US16/629,113 patent/US11387618B2/en active Active
- 2018-04-25 WO PCT/JP2018/016832 patent/WO2019021559A1/ja unknown
Patent Citations (13)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US5566196A (en) * | 1994-10-27 | 1996-10-15 | Sdl, Inc. | Multiple core fiber laser and optical amplifier |
US5966391A (en) * | 1997-06-27 | 1999-10-12 | Mcdonnell Douglas Corporation | Long cavity laser system including frequency doubling long cavity fiber optic laser system |
JPH1123878A (ja) * | 1997-06-30 | 1999-01-29 | Hoya Corp | レーザ装置及びレーザ加工装置 |
JP2000126886A (ja) * | 1998-10-27 | 2000-05-09 | Hitachi Ltd | レーザ光照射装置 |
JP2001068794A (ja) * | 1999-08-26 | 2001-03-16 | Victor Co Of Japan Ltd | 半導体レーザ装置 |
JP2003290965A (ja) * | 2002-04-08 | 2003-10-14 | Nippon Steel Corp | レーザ加工装置 |
JP2004184437A (ja) * | 2002-11-29 | 2004-07-02 | Toshiba Corp | 半導体レーザ装置、半導体レーザの制御方法、映像表示装置 |
JP2005294409A (ja) * | 2004-03-31 | 2005-10-20 | Mitsubishi Electric Corp | コヒーレント光結合装置 |
US20090275927A1 (en) * | 2008-02-01 | 2009-11-05 | Lumenis Ltd. | System and Method for Lasers in Surgical Applications |
JP2014192166A (ja) * | 2013-03-26 | 2014-10-06 | National Institutes Of Natural Sciences | 半導体レーザー励起固体レーザー装置を利用する車載式点火装置 |
JP2015072955A (ja) | 2013-10-02 | 2015-04-16 | パナソニック株式会社 | スペクトルビーム結合ファイバレーザ装置 |
JP2016033949A (ja) * | 2014-07-31 | 2016-03-10 | 株式会社トプコン | レーザ発光装置及びレーザ測量機 |
JP2017145402A (ja) | 2016-02-12 | 2017-08-24 | 東ソー株式会社 | 架橋エチレン−酢酸ビニル共重合体ケン化物、ホットメルト接着剤樹脂組成物、接着剤及びその成形体 |
Non-Patent Citations (1)
Title |
---|
See also references of EP3641080A4 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP6923158B2 (ja) | 2021-08-18 |
EP3641080A4 (en) | 2020-07-01 |
US20200227881A1 (en) | 2020-07-16 |
EP3641080A1 (en) | 2020-04-22 |
US11387618B2 (en) | 2022-07-12 |
JP2019029435A (ja) | 2019-02-21 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
US7680170B2 (en) | Coupling devices and methods for stacked laser emitter arrays | |
US11287574B2 (en) | Optical fiber bundle with beam overlapping mechanism | |
JP6551275B2 (ja) | レーザ加工装置、三次元造形装置、及びレーザ加工方法 | |
US8220965B2 (en) | Laser energy source device and method | |
JP2009523253A (ja) | ファイバに結合されたアレイから伝播されるターゲット強度分布を最適化する方法および装置 | |
WO2008155241A3 (de) | Vorrichtung zum bearbeiten eines werkstücks mittels eines laserstrahls | |
JP6585171B2 (ja) | 波長ビーム結合レーザシステムのための光学相互結合軽減システム | |
CN103199439A (zh) | 半导体激光装置 | |
JP6143940B2 (ja) | 線形強度分布を有するレーザビームを生成するための装置 | |
JP2009151311A (ja) | レーザビームを形成するための装置 | |
JP6744357B2 (ja) | レーザ発振器 | |
JP7398649B2 (ja) | レーザ加工装置およびレーザ加工方法 | |
WO2019021559A1 (ja) | レーザービーム照射装置及びレーザービーム照射システム | |
CN103887707B (zh) | 一种具有大功率高光束质量激光的半导体激光器 | |
CN213520687U (zh) | 一种半导体激光器 | |
JP4800177B2 (ja) | レーザ光照射装置およびレーザ光照射方法 | |
JP2019181534A (ja) | レーザ発振器及びそれを用いたレーザ加工装置 | |
US20160313516A1 (en) | Apparatus for combining outputs of fiber-lasers | |
KR101457516B1 (ko) | 광 분할 장치 | |
JP7015989B2 (ja) | 光伝送装置 | |
WO2021192730A1 (ja) | 光学装置、レーザ光出力システム、及びレーザ加工機 | |
JP2020068351A (ja) | レーザ加工装置 | |
JP2015531895A (ja) | 作業面におけるレーザビームの線形強度分布を発生させるための装置 | |
CN116135397A (zh) | 辐射聚焦模块与具有辐射聚焦模块的加工系统 | |
CN118106621A (zh) | 光纤输出混光式雷射系统 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
121 | Ep: the epo has been informed by wipo that ep was designated in this application |
Ref document number: 18839219 Country of ref document: EP Kind code of ref document: A1 |
|
NENP | Non-entry into the national phase |
Ref country code: DE |
|
ENP | Entry into the national phase |
Ref document number: 2018839219 Country of ref document: EP Effective date: 20200114 |