WO2019066306A1 - 화합물, 이를 포함하는 코팅 조성물, 이를 이용한 유기 발광 소자 및 이의 제조방법 - Google Patents
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- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 title claims abstract description 138
- 239000008199 coating composition Substances 0.000 title claims abstract description 54
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 title abstract description 19
- 239000010410 layer Substances 0.000 claims description 117
- 125000004432 carbon atom Chemical group C* 0.000 claims description 100
- 125000003118 aryl group Chemical group 0.000 claims description 92
- 125000000217 alkyl group Chemical group 0.000 claims description 61
- 239000000463 material Substances 0.000 claims description 54
- 229910052739 hydrogen Inorganic materials 0.000 claims description 41
- 239000001257 hydrogen Substances 0.000 claims description 41
- UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N Hydrogen Chemical compound [H][H] UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 37
- 238000000034 method Methods 0.000 claims description 37
- 239000011368 organic material Substances 0.000 claims description 28
- 125000000623 heterocyclic group Chemical group 0.000 claims description 27
- 239000012044 organic layer Substances 0.000 claims description 25
- 125000001072 heteroaryl group Chemical group 0.000 claims description 22
- 125000001424 substituent group Chemical group 0.000 claims description 22
- UFHFLCQGNIYNRP-VVKOMZTBSA-N Dideuterium Chemical compound [2H][2H] UFHFLCQGNIYNRP-VVKOMZTBSA-N 0.000 claims description 18
- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims description 18
- 238000004132 cross linking Methods 0.000 claims description 16
- 125000000753 cycloalkyl group Chemical group 0.000 claims description 14
- 125000000524 functional group Chemical group 0.000 claims description 13
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 claims description 13
- 125000005264 aryl amine group Chemical group 0.000 claims description 12
- 229940125904 compound 1 Drugs 0.000 claims description 12
- 125000003545 alkoxy group Chemical group 0.000 claims description 10
- 229940126214 compound 3 Drugs 0.000 claims description 9
- 239000000126 substance Substances 0.000 claims description 9
- 125000003342 alkenyl group Chemical group 0.000 claims description 8
- 229940125782 compound 2 Drugs 0.000 claims description 8
- 125000003808 silyl group Chemical group [H][Si]([H])([H])[*] 0.000 claims description 8
- ZOXJGFHDIHLPTG-UHFFFAOYSA-N Boron Chemical group [B] ZOXJGFHDIHLPTG-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 7
- 125000005843 halogen group Chemical group 0.000 claims description 6
- 125000004435 hydrogen atom Chemical group [H]* 0.000 claims description 5
- 125000002560 nitrile group Chemical group 0.000 claims description 5
- 238000000576 coating method Methods 0.000 claims description 3
- ASGMFNBUXDJWJJ-JLCFBVMHSA-N (1R,3R)-3-[[3-bromo-1-[4-(5-methyl-1,3,4-thiadiazol-2-yl)phenyl]pyrazolo[3,4-d]pyrimidin-6-yl]amino]-N,1-dimethylcyclopentane-1-carboxamide Chemical compound BrC1=NN(C2=NC(=NC=C21)N[C@H]1C[C@@](CC1)(C(=O)NC)C)C1=CC=C(C=C1)C=1SC(=NN=1)C ASGMFNBUXDJWJJ-JLCFBVMHSA-N 0.000 claims description 2
- UAOUIVVJBYDFKD-XKCDOFEDSA-N (1R,9R,10S,11R,12R,15S,18S,21R)-10,11,21-trihydroxy-8,8-dimethyl-14-methylidene-4-(prop-2-enylamino)-20-oxa-5-thia-3-azahexacyclo[9.7.2.112,15.01,9.02,6.012,18]henicosa-2(6),3-dien-13-one Chemical compound C([C@@H]1[C@@H](O)[C@@]23C(C1=C)=O)C[C@H]2[C@]12C(N=C(NCC=C)S4)=C4CC(C)(C)[C@H]1[C@H](O)[C@]3(O)OC2 UAOUIVVJBYDFKD-XKCDOFEDSA-N 0.000 claims description 2
- AOSZTAHDEDLTLQ-AZKQZHLXSA-N (1S,2S,4R,8S,9S,11S,12R,13S,19S)-6-[(3-chlorophenyl)methyl]-12,19-difluoro-11-hydroxy-8-(2-hydroxyacetyl)-9,13-dimethyl-6-azapentacyclo[10.8.0.02,9.04,8.013,18]icosa-14,17-dien-16-one Chemical compound C([C@@H]1C[C@H]2[C@H]3[C@]([C@]4(C=CC(=O)C=C4[C@@H](F)C3)C)(F)[C@@H](O)C[C@@]2([C@@]1(C1)C(=O)CO)C)N1CC1=CC=CC(Cl)=C1 AOSZTAHDEDLTLQ-AZKQZHLXSA-N 0.000 claims description 2
- ABJSOROVZZKJGI-OCYUSGCXSA-N (1r,2r,4r)-2-(4-bromophenyl)-n-[(4-chlorophenyl)-(2-fluoropyridin-4-yl)methyl]-4-morpholin-4-ylcyclohexane-1-carboxamide Chemical compound C1=NC(F)=CC(C(NC(=O)[C@H]2[C@@H](C[C@@H](CC2)N2CCOCC2)C=2C=CC(Br)=CC=2)C=2C=CC(Cl)=CC=2)=C1 ABJSOROVZZKJGI-OCYUSGCXSA-N 0.000 claims description 2
- SZUVGFMDDVSKSI-WIFOCOSTSA-N (1s,2s,3s,5r)-1-(carboxymethyl)-3,5-bis[(4-phenoxyphenyl)methyl-propylcarbamoyl]cyclopentane-1,2-dicarboxylic acid Chemical compound O=C([C@@H]1[C@@H]([C@](CC(O)=O)([C@H](C(=O)N(CCC)CC=2C=CC(OC=3C=CC=CC=3)=CC=2)C1)C(O)=O)C(O)=O)N(CCC)CC(C=C1)=CC=C1OC1=CC=CC=C1 SZUVGFMDDVSKSI-WIFOCOSTSA-N 0.000 claims description 2
- GHYOCDFICYLMRF-UTIIJYGPSA-N (2S,3R)-N-[(2S)-3-(cyclopenten-1-yl)-1-[(2R)-2-methyloxiran-2-yl]-1-oxopropan-2-yl]-3-hydroxy-3-(4-methoxyphenyl)-2-[[(2S)-2-[(2-morpholin-4-ylacetyl)amino]propanoyl]amino]propanamide Chemical compound C1(=CCCC1)C[C@@H](C(=O)[C@@]1(OC1)C)NC([C@H]([C@@H](C1=CC=C(C=C1)OC)O)NC([C@H](C)NC(CN1CCOCC1)=O)=O)=O GHYOCDFICYLMRF-UTIIJYGPSA-N 0.000 claims description 2
- GCTFTMWXZFLTRR-GFCCVEGCSA-N (2r)-2-amino-n-[3-(difluoromethoxy)-4-(1,3-oxazol-5-yl)phenyl]-4-methylpentanamide Chemical compound FC(F)OC1=CC(NC(=O)[C@H](N)CC(C)C)=CC=C1C1=CN=CO1 GCTFTMWXZFLTRR-GFCCVEGCSA-N 0.000 claims description 2
- IUSARDYWEPUTPN-OZBXUNDUSA-N (2r)-n-[(2s,3r)-4-[[(4s)-6-(2,2-dimethylpropyl)spiro[3,4-dihydropyrano[2,3-b]pyridine-2,1'-cyclobutane]-4-yl]amino]-3-hydroxy-1-[3-(1,3-thiazol-2-yl)phenyl]butan-2-yl]-2-methoxypropanamide Chemical compound C([C@H](NC(=O)[C@@H](C)OC)[C@H](O)CN[C@@H]1C2=CC(CC(C)(C)C)=CN=C2OC2(CCC2)C1)C(C=1)=CC=CC=1C1=NC=CS1 IUSARDYWEPUTPN-OZBXUNDUSA-N 0.000 claims description 2
- YJLIKUSWRSEPSM-WGQQHEPDSA-N (2r,3r,4s,5r)-2-[6-amino-8-[(4-phenylphenyl)methylamino]purin-9-yl]-5-(hydroxymethyl)oxolane-3,4-diol Chemical compound C=1C=C(C=2C=CC=CC=2)C=CC=1CNC1=NC=2C(N)=NC=NC=2N1[C@@H]1O[C@H](CO)[C@@H](O)[C@H]1O YJLIKUSWRSEPSM-WGQQHEPDSA-N 0.000 claims description 2
- VIJSPAIQWVPKQZ-BLECARSGSA-N (2s)-2-[[(2s)-2-[[(2s)-2-[[(2s)-2-[[(2s)-2-[[(2s)-2-acetamido-5-(diaminomethylideneamino)pentanoyl]amino]-4-methylpentanoyl]amino]-4,4-dimethylpentanoyl]amino]-4-methylpentanoyl]amino]propanoyl]amino]-5-(diaminomethylideneamino)pentanoic acid Chemical compound NC(=N)NCCC[C@@H](C(O)=O)NC(=O)[C@H](C)NC(=O)[C@H](CC(C)C)NC(=O)[C@H](CC(C)(C)C)NC(=O)[C@H](CC(C)C)NC(=O)[C@H](CCCNC(N)=N)NC(C)=O VIJSPAIQWVPKQZ-BLECARSGSA-N 0.000 claims description 2
- WWTBZEKOSBFBEM-SPWPXUSOSA-N (2s)-2-[[2-benzyl-3-[hydroxy-[(1r)-2-phenyl-1-(phenylmethoxycarbonylamino)ethyl]phosphoryl]propanoyl]amino]-3-(1h-indol-3-yl)propanoic acid Chemical compound N([C@@H](CC=1C2=CC=CC=C2NC=1)C(=O)O)C(=O)C(CP(O)(=O)[C@H](CC=1C=CC=CC=1)NC(=O)OCC=1C=CC=CC=1)CC1=CC=CC=C1 WWTBZEKOSBFBEM-SPWPXUSOSA-N 0.000 claims description 2
- STBLNCCBQMHSRC-BATDWUPUSA-N (2s)-n-[(3s,4s)-5-acetyl-7-cyano-4-methyl-1-[(2-methylnaphthalen-1-yl)methyl]-2-oxo-3,4-dihydro-1,5-benzodiazepin-3-yl]-2-(methylamino)propanamide Chemical compound O=C1[C@@H](NC(=O)[C@H](C)NC)[C@H](C)N(C(C)=O)C2=CC(C#N)=CC=C2N1CC1=C(C)C=CC2=CC=CC=C12 STBLNCCBQMHSRC-BATDWUPUSA-N 0.000 claims description 2
- QFLWZFQWSBQYPS-AWRAUJHKSA-N (3S)-3-[[(2S)-2-[[(2S)-2-[5-[(3aS,6aR)-2-oxo-1,3,3a,4,6,6a-hexahydrothieno[3,4-d]imidazol-4-yl]pentanoylamino]-3-methylbutanoyl]amino]-3-(4-hydroxyphenyl)propanoyl]amino]-4-[1-bis(4-chlorophenoxy)phosphorylbutylamino]-4-oxobutanoic acid Chemical compound CCCC(NC(=O)[C@H](CC(O)=O)NC(=O)[C@H](Cc1ccc(O)cc1)NC(=O)[C@@H](NC(=O)CCCCC1SC[C@@H]2NC(=O)N[C@H]12)C(C)C)P(=O)(Oc1ccc(Cl)cc1)Oc1ccc(Cl)cc1 QFLWZFQWSBQYPS-AWRAUJHKSA-N 0.000 claims description 2
- IWZSHWBGHQBIML-ZGGLMWTQSA-N (3S,8S,10R,13S,14S,17S)-17-isoquinolin-7-yl-N,N,10,13-tetramethyl-2,3,4,7,8,9,11,12,14,15,16,17-dodecahydro-1H-cyclopenta[a]phenanthren-3-amine Chemical compound CN(C)[C@H]1CC[C@]2(C)C3CC[C@@]4(C)[C@@H](CC[C@@H]4c4ccc5ccncc5c4)[C@@H]3CC=C2C1 IWZSHWBGHQBIML-ZGGLMWTQSA-N 0.000 claims description 2
- UDQTXCHQKHIQMH-KYGLGHNPSA-N (3ar,5s,6s,7r,7ar)-5-(difluoromethyl)-2-(ethylamino)-5,6,7,7a-tetrahydro-3ah-pyrano[3,2-d][1,3]thiazole-6,7-diol Chemical compound S1C(NCC)=N[C@H]2[C@@H]1O[C@H](C(F)F)[C@@H](O)[C@@H]2O UDQTXCHQKHIQMH-KYGLGHNPSA-N 0.000 claims description 2
- OOKAZRDERJMRCJ-KOUAFAAESA-N (3r)-7-[(1s,2s,4ar,6s,8s)-2,6-dimethyl-8-[(2s)-2-methylbutanoyl]oxy-1,2,4a,5,6,7,8,8a-octahydronaphthalen-1-yl]-3-hydroxy-5-oxoheptanoic acid Chemical compound C1=C[C@H](C)[C@H](CCC(=O)C[C@@H](O)CC(O)=O)C2[C@@H](OC(=O)[C@@H](C)CC)C[C@@H](C)C[C@@H]21 OOKAZRDERJMRCJ-KOUAFAAESA-N 0.000 claims description 2
- HUWSZNZAROKDRZ-RRLWZMAJSA-N (3r,4r)-3-azaniumyl-5-[[(2s,3r)-1-[(2s)-2,3-dicarboxypyrrolidin-1-yl]-3-methyl-1-oxopentan-2-yl]amino]-5-oxo-4-sulfanylpentane-1-sulfonate Chemical compound OS(=O)(=O)CC[C@@H](N)[C@@H](S)C(=O)N[C@@H]([C@H](C)CC)C(=O)N1CCC(C(O)=O)[C@H]1C(O)=O HUWSZNZAROKDRZ-RRLWZMAJSA-N 0.000 claims description 2
- MPDDTAJMJCESGV-CTUHWIOQSA-M (3r,5r)-7-[2-(4-fluorophenyl)-5-[methyl-[(1r)-1-phenylethyl]carbamoyl]-4-propan-2-ylpyrazol-3-yl]-3,5-dihydroxyheptanoate Chemical compound C1([C@@H](C)N(C)C(=O)C2=NN(C(CC[C@@H](O)C[C@@H](O)CC([O-])=O)=C2C(C)C)C=2C=CC(F)=CC=2)=CC=CC=C1 MPDDTAJMJCESGV-CTUHWIOQSA-M 0.000 claims description 2
- OMBVEVHRIQULKW-DNQXCXABSA-M (3r,5r)-7-[3-(4-fluorophenyl)-8-oxo-7-phenyl-1-propan-2-yl-5,6-dihydro-4h-pyrrolo[2,3-c]azepin-2-yl]-3,5-dihydroxyheptanoate Chemical compound O=C1C=2N(C(C)C)C(CC[C@@H](O)C[C@@H](O)CC([O-])=O)=C(C=3C=CC(F)=CC=3)C=2CCCN1C1=CC=CC=C1 OMBVEVHRIQULKW-DNQXCXABSA-M 0.000 claims description 2
- YQOLEILXOBUDMU-KRWDZBQOSA-N (4R)-5-[(6-bromo-3-methyl-2-pyrrolidin-1-ylquinoline-4-carbonyl)amino]-4-(2-chlorophenyl)pentanoic acid Chemical compound CC1=C(C2=C(C=CC(=C2)Br)N=C1N3CCCC3)C(=O)NC[C@H](CCC(=O)O)C4=CC=CC=C4Cl YQOLEILXOBUDMU-KRWDZBQOSA-N 0.000 claims description 2
- STPKWKPURVSAJF-LJEWAXOPSA-N (4r,5r)-5-[4-[[4-(1-aza-4-azoniabicyclo[2.2.2]octan-4-ylmethyl)phenyl]methoxy]phenyl]-3,3-dibutyl-7-(dimethylamino)-1,1-dioxo-4,5-dihydro-2h-1$l^{6}-benzothiepin-4-ol Chemical compound O[C@H]1C(CCCC)(CCCC)CS(=O)(=O)C2=CC=C(N(C)C)C=C2[C@H]1C(C=C1)=CC=C1OCC(C=C1)=CC=C1C[N+]1(CC2)CCN2CC1 STPKWKPURVSAJF-LJEWAXOPSA-N 0.000 claims description 2
- DEVSOMFAQLZNKR-RJRFIUFISA-N (z)-3-[3-[3,5-bis(trifluoromethyl)phenyl]-1,2,4-triazol-1-yl]-n'-pyrazin-2-ylprop-2-enehydrazide Chemical compound FC(F)(F)C1=CC(C(F)(F)F)=CC(C2=NN(\C=C/C(=O)NNC=3N=CC=NC=3)C=N2)=C1 DEVSOMFAQLZNKR-RJRFIUFISA-N 0.000 claims description 2
- KKHFRAFPESRGGD-UHFFFAOYSA-N 1,3-dimethyl-7-[3-(n-methylanilino)propyl]purine-2,6-dione Chemical compound C1=NC=2N(C)C(=O)N(C)C(=O)C=2N1CCCN(C)C1=CC=CC=C1 KKHFRAFPESRGGD-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- KQZLRWGGWXJPOS-NLFPWZOASA-N 1-[(1R)-1-(2,4-dichlorophenyl)ethyl]-6-[(4S,5R)-4-[(2S)-2-(hydroxymethyl)pyrrolidin-1-yl]-5-methylcyclohexen-1-yl]pyrazolo[3,4-b]pyrazine-3-carbonitrile Chemical compound ClC1=C(C=CC(=C1)Cl)[C@@H](C)N1N=C(C=2C1=NC(=CN=2)C1=CC[C@@H]([C@@H](C1)C)N1[C@@H](CCC1)CO)C#N KQZLRWGGWXJPOS-NLFPWZOASA-N 0.000 claims description 2
- WZZBNLYBHUDSHF-DHLKQENFSA-N 1-[(3s,4s)-4-[8-(2-chloro-4-pyrimidin-2-yloxyphenyl)-7-fluoro-2-methylimidazo[4,5-c]quinolin-1-yl]-3-fluoropiperidin-1-yl]-2-hydroxyethanone Chemical compound CC1=NC2=CN=C3C=C(F)C(C=4C(=CC(OC=5N=CC=CN=5)=CC=4)Cl)=CC3=C2N1[C@H]1CCN(C(=O)CO)C[C@@H]1F WZZBNLYBHUDSHF-DHLKQENFSA-N 0.000 claims description 2
- ONBQEOIKXPHGMB-VBSBHUPXSA-N 1-[2-[(2s,3r,4s,5r)-3,4-dihydroxy-5-(hydroxymethyl)oxolan-2-yl]oxy-4,6-dihydroxyphenyl]-3-(4-hydroxyphenyl)propan-1-one Chemical compound O[C@@H]1[C@H](O)[C@@H](CO)O[C@H]1OC1=CC(O)=CC(O)=C1C(=O)CCC1=CC=C(O)C=C1 ONBQEOIKXPHGMB-VBSBHUPXSA-N 0.000 claims description 2
- UNILWMWFPHPYOR-KXEYIPSPSA-M 1-[6-[2-[3-[3-[3-[2-[2-[3-[[2-[2-[[(2r)-1-[[2-[[(2r)-1-[3-[2-[2-[3-[[2-(2-amino-2-oxoethoxy)acetyl]amino]propoxy]ethoxy]ethoxy]propylamino]-3-hydroxy-1-oxopropan-2-yl]amino]-2-oxoethyl]amino]-3-[(2r)-2,3-di(hexadecanoyloxy)propyl]sulfanyl-1-oxopropan-2-yl Chemical compound O=C1C(SCCC(=O)NCCCOCCOCCOCCCNC(=O)COCC(=O)N[C@@H](CSC[C@@H](COC(=O)CCCCCCCCCCCCCCC)OC(=O)CCCCCCCCCCCCCCC)C(=O)NCC(=O)N[C@H](CO)C(=O)NCCCOCCOCCOCCCNC(=O)COCC(N)=O)CC(=O)N1CCNC(=O)CCCCCN\1C2=CC=C(S([O-])(=O)=O)C=C2CC/1=C/C=C/C=C/C1=[N+](CC)C2=CC=C(S([O-])(=O)=O)C=C2C1 UNILWMWFPHPYOR-KXEYIPSPSA-M 0.000 claims description 2
- WGFNXGPBPIJYLI-UHFFFAOYSA-N 2,6-difluoro-3-[(3-fluorophenyl)sulfonylamino]-n-(3-methoxy-1h-pyrazolo[3,4-b]pyridin-5-yl)benzamide Chemical compound C1=C2C(OC)=NNC2=NC=C1NC(=O)C(C=1F)=C(F)C=CC=1NS(=O)(=O)C1=CC=CC(F)=C1 WGFNXGPBPIJYLI-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- FQMZXMVHHKXGTM-UHFFFAOYSA-N 2-(1-adamantyl)-n-[2-[2-(2-hydroxyethylamino)ethylamino]quinolin-5-yl]acetamide Chemical compound C1C(C2)CC(C3)CC2CC13CC(=O)NC1=CC=CC2=NC(NCCNCCO)=CC=C21 FQMZXMVHHKXGTM-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- VCUXVXLUOHDHKK-UHFFFAOYSA-N 2-(2-aminopyrimidin-4-yl)-4-(2-chloro-4-methoxyphenyl)-1,3-thiazole-5-carboxamide Chemical compound ClC1=CC(OC)=CC=C1C1=C(C(N)=O)SC(C=2N=C(N)N=CC=2)=N1 VCUXVXLUOHDHKK-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- QEBYEVQKHRUYPE-UHFFFAOYSA-N 2-(2-chlorophenyl)-5-[(1-methylpyrazol-3-yl)methyl]-4-[[methyl(pyridin-3-ylmethyl)amino]methyl]-1h-pyrazolo[4,3-c]pyridine-3,6-dione Chemical compound C1=CN(C)N=C1CN1C(=O)C=C2NN(C=3C(=CC=CC=3)Cl)C(=O)C2=C1CN(C)CC1=CC=CN=C1 QEBYEVQKHRUYPE-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- PYRKKGOKRMZEIT-UHFFFAOYSA-N 2-[6-(2-cyclopropylethoxy)-9-(2-hydroxy-2-methylpropyl)-1h-phenanthro[9,10-d]imidazol-2-yl]-5-fluorobenzene-1,3-dicarbonitrile Chemical compound C1=C2C3=CC(CC(C)(O)C)=CC=C3C=3NC(C=4C(=CC(F)=CC=4C#N)C#N)=NC=3C2=CC=C1OCCC1CC1 PYRKKGOKRMZEIT-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- FMKGJQHNYMWDFJ-CVEARBPZSA-N 2-[[4-(2,2-difluoropropoxy)pyrimidin-5-yl]methylamino]-4-[[(1R,4S)-4-hydroxy-3,3-dimethylcyclohexyl]amino]pyrimidine-5-carbonitrile Chemical compound FC(COC1=NC=NC=C1CNC1=NC=C(C(=N1)N[C@H]1CC([C@H](CC1)O)(C)C)C#N)(C)F FMKGJQHNYMWDFJ-CVEARBPZSA-N 0.000 claims description 2
- VVCMGAUPZIKYTH-VGHSCWAPSA-N 2-acetyloxybenzoic acid;[(2s,3r)-4-(dimethylamino)-3-methyl-1,2-diphenylbutan-2-yl] propanoate;1,3,7-trimethylpurine-2,6-dione Chemical compound CC(=O)OC1=CC=CC=C1C(O)=O.CN1C(=O)N(C)C(=O)C2=C1N=CN2C.C([C@](OC(=O)CC)([C@H](C)CN(C)C)C=1C=CC=CC=1)C1=CC=CC=C1 VVCMGAUPZIKYTH-VGHSCWAPSA-N 0.000 claims description 2
- YSUIQYOGTINQIN-UZFYAQMZSA-N 2-amino-9-[(1S,6R,8R,9S,10R,15R,17R,18R)-8-(6-aminopurin-9-yl)-9,18-difluoro-3,12-dihydroxy-3,12-bis(sulfanylidene)-2,4,7,11,13,16-hexaoxa-3lambda5,12lambda5-diphosphatricyclo[13.2.1.06,10]octadecan-17-yl]-1H-purin-6-one Chemical compound NC1=NC2=C(N=CN2[C@@H]2O[C@@H]3COP(S)(=O)O[C@@H]4[C@@H](COP(S)(=O)O[C@@H]2[C@@H]3F)O[C@H]([C@H]4F)N2C=NC3=C2N=CN=C3N)C(=O)N1 YSUIQYOGTINQIN-UZFYAQMZSA-N 0.000 claims description 2
- TVTJUIAKQFIXCE-HUKYDQBMSA-N 2-amino-9-[(2R,3S,4S,5R)-4-fluoro-3-hydroxy-5-(hydroxymethyl)oxolan-2-yl]-7-prop-2-ynyl-1H-purine-6,8-dione Chemical compound NC=1NC(C=2N(C(N(C=2N=1)[C@@H]1O[C@@H]([C@H]([C@H]1O)F)CO)=O)CC#C)=O TVTJUIAKQFIXCE-HUKYDQBMSA-N 0.000 claims description 2
- NPRYCHLHHVWLQZ-TURQNECASA-N 2-amino-9-[(2R,3S,4S,5R)-4-fluoro-3-hydroxy-5-(hydroxymethyl)oxolan-2-yl]-7-prop-2-ynylpurin-8-one Chemical compound NC1=NC=C2N(C(N(C2=N1)[C@@H]1O[C@@H]([C@H]([C@H]1O)F)CO)=O)CC#C NPRYCHLHHVWLQZ-TURQNECASA-N 0.000 claims description 2
- LFOIDLOIBZFWDO-UHFFFAOYSA-N 2-methoxy-6-[6-methoxy-4-[(3-phenylmethoxyphenyl)methoxy]-1-benzofuran-2-yl]imidazo[2,1-b][1,3,4]thiadiazole Chemical compound N1=C2SC(OC)=NN2C=C1C(OC1=CC(OC)=C2)=CC1=C2OCC(C=1)=CC=CC=1OCC1=CC=CC=C1 LFOIDLOIBZFWDO-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- DFRAKBCRUYUFNT-UHFFFAOYSA-N 3,8-dicyclohexyl-2,4,7,9-tetrahydro-[1,3]oxazino[5,6-h][1,3]benzoxazine Chemical compound C1CCCCC1N1CC(C=CC2=C3OCN(C2)C2CCCCC2)=C3OC1 DFRAKBCRUYUFNT-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- QBWKPGNFQQJGFY-QLFBSQMISA-N 3-[(1r)-1-[(2r,6s)-2,6-dimethylmorpholin-4-yl]ethyl]-n-[6-methyl-3-(1h-pyrazol-4-yl)imidazo[1,2-a]pyrazin-8-yl]-1,2-thiazol-5-amine Chemical compound N1([C@H](C)C2=NSC(NC=3C4=NC=C(N4C=C(C)N=3)C3=CNN=C3)=C2)C[C@H](C)O[C@H](C)C1 QBWKPGNFQQJGFY-QLFBSQMISA-N 0.000 claims description 2
- WFOVEDJTASPCIR-UHFFFAOYSA-N 3-[(4-methyl-5-pyridin-4-yl-1,2,4-triazol-3-yl)methylamino]-n-[[2-(trifluoromethyl)phenyl]methyl]benzamide Chemical compound N=1N=C(C=2C=CN=CC=2)N(C)C=1CNC(C=1)=CC=CC=1C(=O)NCC1=CC=CC=C1C(F)(F)F WFOVEDJTASPCIR-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- WYFCZWSWFGJODV-MIANJLSGSA-N 4-[[(1s)-2-[(e)-3-[3-chloro-2-fluoro-6-(tetrazol-1-yl)phenyl]prop-2-enoyl]-5-(4-methyl-2-oxopiperazin-1-yl)-3,4-dihydro-1h-isoquinoline-1-carbonyl]amino]benzoic acid Chemical compound O=C1CN(C)CCN1C1=CC=CC2=C1CCN(C(=O)\C=C\C=1C(=CC=C(Cl)C=1F)N1N=NN=C1)[C@@H]2C(=O)NC1=CC=C(C(O)=O)C=C1 WYFCZWSWFGJODV-MIANJLSGSA-N 0.000 claims description 2
- MPMKMQHJHDHPBE-RUZDIDTESA-N 4-[[(2r)-1-(1-benzothiophene-3-carbonyl)-2-methylazetidine-2-carbonyl]-[(3-chlorophenyl)methyl]amino]butanoic acid Chemical compound O=C([C@@]1(N(CC1)C(=O)C=1C2=CC=CC=C2SC=1)C)N(CCCC(O)=O)CC1=CC=CC(Cl)=C1 MPMKMQHJHDHPBE-RUZDIDTESA-N 0.000 claims description 2
- VKLKXFOZNHEBSW-UHFFFAOYSA-N 5-[[3-[(4-morpholin-4-ylbenzoyl)amino]phenyl]methoxy]pyridine-3-carboxamide Chemical compound O1CCN(CC1)C1=CC=C(C(=O)NC=2C=C(COC=3C=NC=C(C(=O)N)C=3)C=CC=2)C=C1 VKLKXFOZNHEBSW-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- XFJBGINZIMNZBW-CRAIPNDOSA-N 5-chloro-2-[4-[(1r,2s)-2-[2-(5-methylsulfonylpyridin-2-yl)oxyethyl]cyclopropyl]piperidin-1-yl]pyrimidine Chemical compound N1=CC(S(=O)(=O)C)=CC=C1OCC[C@H]1[C@@H](C2CCN(CC2)C=2N=CC(Cl)=CN=2)C1 XFJBGINZIMNZBW-CRAIPNDOSA-N 0.000 claims description 2
- RSIWALKZYXPAGW-NSHDSACASA-N 6-(3-fluorophenyl)-3-methyl-7-[(1s)-1-(7h-purin-6-ylamino)ethyl]-[1,3]thiazolo[3,2-a]pyrimidin-5-one Chemical compound C=1([C@@H](NC=2C=3N=CNC=3N=CN=2)C)N=C2SC=C(C)N2C(=O)C=1C1=CC=CC(F)=C1 RSIWALKZYXPAGW-NSHDSACASA-N 0.000 claims description 2
- GDUANFXPOZTYKS-UHFFFAOYSA-N 6-bromo-8-[(2,6-difluoro-4-methoxybenzoyl)amino]-4-oxochromene-2-carboxylic acid Chemical compound FC1=CC(OC)=CC(F)=C1C(=O)NC1=CC(Br)=CC2=C1OC(C(O)=O)=CC2=O GDUANFXPOZTYKS-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- XASOHFCUIQARJT-UHFFFAOYSA-N 8-methoxy-6-[7-(2-morpholin-4-ylethoxy)imidazo[1,2-a]pyridin-3-yl]-2-(2,2,2-trifluoroethyl)-3,4-dihydroisoquinolin-1-one Chemical compound C(N1C(=O)C2=C(OC)C=C(C=3N4C(=NC=3)C=C(C=C4)OCCN3CCOCC3)C=C2CC1)C(F)(F)F XASOHFCUIQARJT-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- IRBAWVGZNJIROV-SFHVURJKSA-N 9-(2-cyclopropylethynyl)-2-[[(2s)-1,4-dioxan-2-yl]methoxy]-6,7-dihydropyrimido[6,1-a]isoquinolin-4-one Chemical compound C1=C2C3=CC=C(C#CC4CC4)C=C3CCN2C(=O)N=C1OC[C@@H]1COCCO1 IRBAWVGZNJIROV-SFHVURJKSA-N 0.000 claims description 2
- JQUCWIWWWKZNCS-LESHARBVSA-N C(C1=CC=CC=C1)(=O)NC=1SC[C@H]2[C@@](N1)(CO[C@H](C2)C)C=2SC=C(N2)NC(=O)C2=NC=C(C=C2)OC(F)F Chemical compound C(C1=CC=CC=C1)(=O)NC=1SC[C@H]2[C@@](N1)(CO[C@H](C2)C)C=2SC=C(N2)NC(=O)C2=NC=C(C=C2)OC(F)F JQUCWIWWWKZNCS-LESHARBVSA-N 0.000 claims description 2
- UHNRLQRZRNKOKU-UHFFFAOYSA-N CCN(CC1=NC2=C(N1)C1=CC=C(C=C1N=C2N)C1=NNC=C1)C(C)=O Chemical compound CCN(CC1=NC2=C(N1)C1=CC=C(C=C1N=C2N)C1=NNC=C1)C(C)=O UHNRLQRZRNKOKU-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- PKMUHQIDVVOXHQ-HXUWFJFHSA-N C[C@H](C1=CC(C2=CC=C(CNC3CCCC3)S2)=CC=C1)NC(C1=C(C)C=CC(NC2CNC2)=C1)=O Chemical compound C[C@H](C1=CC(C2=CC=C(CNC3CCCC3)S2)=CC=C1)NC(C1=C(C)C=CC(NC2CNC2)=C1)=O PKMUHQIDVVOXHQ-HXUWFJFHSA-N 0.000 claims description 2
- 229940126657 Compound 17 Drugs 0.000 claims description 2
- 229940126639 Compound 33 Drugs 0.000 claims description 2
- 229940127007 Compound 39 Drugs 0.000 claims description 2
- LVDRREOUMKACNJ-BKMJKUGQSA-N N-[(2R,3S)-2-(4-chlorophenyl)-1-(1,4-dimethyl-2-oxoquinolin-7-yl)-6-oxopiperidin-3-yl]-2-methylpropane-1-sulfonamide Chemical compound CC(C)CS(=O)(=O)N[C@H]1CCC(=O)N([C@@H]1c1ccc(Cl)cc1)c1ccc2c(C)cc(=O)n(C)c2c1 LVDRREOUMKACNJ-BKMJKUGQSA-N 0.000 claims description 2
- AVYVHIKSFXVDBG-UHFFFAOYSA-N N-benzyl-N-hydroxy-2,2-dimethylbutanamide Chemical compound C(C1=CC=CC=C1)N(C(C(CC)(C)C)=O)O AVYVHIKSFXVDBG-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- POFVJRKJJBFPII-UHFFFAOYSA-N N-cyclopentyl-5-[2-[[5-[(4-ethylpiperazin-1-yl)methyl]pyridin-2-yl]amino]-5-fluoropyrimidin-4-yl]-4-methyl-1,3-thiazol-2-amine Chemical compound C1(CCCC1)NC=1SC(=C(N=1)C)C1=NC(=NC=C1F)NC1=NC=C(C=C1)CN1CCN(CC1)CC POFVJRKJJBFPII-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- OPFJDXRVMFKJJO-ZHHKINOHSA-N N-{[3-(2-benzamido-4-methyl-1,3-thiazol-5-yl)-pyrazol-5-yl]carbonyl}-G-dR-G-dD-dD-dD-NH2 Chemical compound S1C(C=2NN=C(C=2)C(=O)NCC(=O)N[C@H](CCCN=C(N)N)C(=O)NCC(=O)N[C@H](CC(O)=O)C(=O)N[C@H](CC(O)=O)C(=O)N[C@H](CC(O)=O)C(N)=O)=C(C)N=C1NC(=O)C1=CC=CC=C1 OPFJDXRVMFKJJO-ZHHKINOHSA-N 0.000 claims description 2
- QOVYHDHLFPKQQG-NDEPHWFRSA-N N[C@@H](CCC(=O)N1CCC(CC1)NC1=C2C=CC=CC2=NC(NCC2=CN(CCCNCCCNC3CCCCC3)N=N2)=N1)C(O)=O Chemical compound N[C@@H](CCC(=O)N1CCC(CC1)NC1=C2C=CC=CC2=NC(NCC2=CN(CCCNCCCNC3CCCCC3)N=N2)=N1)C(O)=O QOVYHDHLFPKQQG-NDEPHWFRSA-N 0.000 claims description 2
- LJOOWESTVASNOG-UFJKPHDISA-N [(1s,3r,4ar,7s,8s,8as)-3-hydroxy-8-[2-[(4r)-4-hydroxy-6-oxooxan-2-yl]ethyl]-7-methyl-1,2,3,4,4a,7,8,8a-octahydronaphthalen-1-yl] (2s)-2-methylbutanoate Chemical compound C([C@H]1[C@@H](C)C=C[C@H]2C[C@@H](O)C[C@@H]([C@H]12)OC(=O)[C@@H](C)CC)CC1C[C@@H](O)CC(=O)O1 LJOOWESTVASNOG-UFJKPHDISA-N 0.000 claims description 2
- SPXSEZMVRJLHQG-XMMPIXPASA-N [(2R)-1-[[4-[(3-phenylmethoxyphenoxy)methyl]phenyl]methyl]pyrrolidin-2-yl]methanol Chemical compound C(C1=CC=CC=C1)OC=1C=C(OCC2=CC=C(CN3[C@H](CCC3)CO)C=C2)C=CC=1 SPXSEZMVRJLHQG-XMMPIXPASA-N 0.000 claims description 2
- LNUFLCYMSVYYNW-ZPJMAFJPSA-N [(2r,3r,4s,5r,6r)-2-[(2r,3r,4s,5r,6r)-6-[(2r,3r,4s,5r,6r)-6-[(2r,3r,4s,5r,6r)-6-[[(3s,5s,8r,9s,10s,13r,14s,17r)-10,13-dimethyl-17-[(2r)-6-methylheptan-2-yl]-2,3,4,5,6,7,8,9,11,12,14,15,16,17-tetradecahydro-1h-cyclopenta[a]phenanthren-3-yl]oxy]-4,5-disulfo Chemical compound O([C@@H]1[C@@H](COS(O)(=O)=O)O[C@@H]([C@@H]([C@H]1OS(O)(=O)=O)OS(O)(=O)=O)O[C@@H]1[C@@H](COS(O)(=O)=O)O[C@@H]([C@@H]([C@H]1OS(O)(=O)=O)OS(O)(=O)=O)O[C@@H]1[C@@H](COS(O)(=O)=O)O[C@H]([C@@H]([C@H]1OS(O)(=O)=O)OS(O)(=O)=O)O[C@@H]1C[C@@H]2CC[C@H]3[C@@H]4CC[C@@H]([C@]4(CC[C@@H]3[C@@]2(C)CC1)C)[C@H](C)CCCC(C)C)[C@H]1O[C@H](COS(O)(=O)=O)[C@@H](OS(O)(=O)=O)[C@H](OS(O)(=O)=O)[C@H]1OS(O)(=O)=O LNUFLCYMSVYYNW-ZPJMAFJPSA-N 0.000 claims description 2
- PSLUFJFHTBIXMW-WYEYVKMPSA-N [(3r,4ar,5s,6s,6as,10s,10ar,10bs)-3-ethenyl-10,10b-dihydroxy-3,4a,7,7,10a-pentamethyl-1-oxo-6-(2-pyridin-2-ylethylcarbamoyloxy)-5,6,6a,8,9,10-hexahydro-2h-benzo[f]chromen-5-yl] acetate Chemical compound O([C@@H]1[C@@H]([C@]2(O[C@](C)(CC(=O)[C@]2(O)[C@@]2(C)[C@@H](O)CCC(C)(C)[C@@H]21)C=C)C)OC(=O)C)C(=O)NCCC1=CC=CC=N1 PSLUFJFHTBIXMW-WYEYVKMPSA-N 0.000 claims description 2
- SMNRFWMNPDABKZ-WVALLCKVSA-N [[(2R,3S,4R,5S)-5-(2,6-dioxo-3H-pyridin-3-yl)-3,4-dihydroxyoxolan-2-yl]methoxy-hydroxyphosphoryl] [[[(2R,3S,4S,5R,6R)-4-fluoro-3,5-dihydroxy-6-(hydroxymethyl)oxan-2-yl]oxy-hydroxyphosphoryl]oxy-hydroxyphosphoryl] hydrogen phosphate Chemical compound OC[C@H]1O[C@H](OP(O)(=O)OP(O)(=O)OP(O)(=O)OP(O)(=O)OC[C@H]2O[C@H]([C@H](O)[C@@H]2O)C2C=CC(=O)NC2=O)[C@H](O)[C@@H](F)[C@@H]1O SMNRFWMNPDABKZ-WVALLCKVSA-N 0.000 claims description 2
- QBYJBZPUGVGKQQ-SJJAEHHWSA-N aldrin Chemical compound C1[C@H]2C=C[C@@H]1[C@H]1[C@@](C3(Cl)Cl)(Cl)C(Cl)=C(Cl)[C@@]3(Cl)[C@H]12 QBYJBZPUGVGKQQ-SJJAEHHWSA-N 0.000 claims description 2
- XRWSZZJLZRKHHD-WVWIJVSJSA-N asunaprevir Chemical compound O=C([C@@H]1C[C@H](CN1C(=O)[C@@H](NC(=O)OC(C)(C)C)C(C)(C)C)OC1=NC=C(C2=CC=C(Cl)C=C21)OC)N[C@]1(C(=O)NS(=O)(=O)C2CC2)C[C@H]1C=C XRWSZZJLZRKHHD-WVWIJVSJSA-N 0.000 claims description 2
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 claims description 2
- 229940125773 compound 10 Drugs 0.000 claims description 2
- 229940125797 compound 12 Drugs 0.000 claims description 2
- 229940126543 compound 14 Drugs 0.000 claims description 2
- 229940125758 compound 15 Drugs 0.000 claims description 2
- 229940126142 compound 16 Drugs 0.000 claims description 2
- 229940125810 compound 20 Drugs 0.000 claims description 2
- 229940126086 compound 21 Drugs 0.000 claims description 2
- 229940126208 compound 22 Drugs 0.000 claims description 2
- 229940125833 compound 23 Drugs 0.000 claims description 2
- 229940125961 compound 24 Drugs 0.000 claims description 2
- 229940125846 compound 25 Drugs 0.000 claims description 2
- 229940125851 compound 27 Drugs 0.000 claims description 2
- 229940127204 compound 29 Drugs 0.000 claims description 2
- 229940125877 compound 31 Drugs 0.000 claims description 2
- 229940125878 compound 36 Drugs 0.000 claims description 2
- 229940125807 compound 37 Drugs 0.000 claims description 2
- 229940127573 compound 38 Drugs 0.000 claims description 2
- 229940126540 compound 41 Drugs 0.000 claims description 2
- 229940125936 compound 42 Drugs 0.000 claims description 2
- 229940125844 compound 46 Drugs 0.000 claims description 2
- 229940127271 compound 49 Drugs 0.000 claims description 2
- 229940125898 compound 5 Drugs 0.000 claims description 2
- 229940126545 compound 53 Drugs 0.000 claims description 2
- 229940127113 compound 57 Drugs 0.000 claims description 2
- 229940125900 compound 59 Drugs 0.000 claims description 2
- 229940126179 compound 72 Drugs 0.000 claims description 2
- BJXYHBKEQFQVES-NWDGAFQWSA-N enpatoran Chemical compound N[C@H]1CN(C[C@H](C1)C(F)(F)F)C1=C2C=CC=NC2=C(C=C1)C#N BJXYHBKEQFQVES-NWDGAFQWSA-N 0.000 claims description 2
- GWNFQAKCJYEJEW-UHFFFAOYSA-N ethyl 3-[8-[[4-methyl-5-[(3-methyl-4-oxophthalazin-1-yl)methyl]-1,2,4-triazol-3-yl]sulfanyl]octanoylamino]benzoate Chemical compound CCOC(=O)C1=CC(NC(=O)CCCCCCCSC2=NN=C(CC3=NN(C)C(=O)C4=CC=CC=C34)N2C)=CC=C1 GWNFQAKCJYEJEW-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- JAXFJECJQZDFJS-XHEPKHHKSA-N gtpl8555 Chemical compound OC(=O)C[C@H](N)C(=O)N[C@@H](CCC(O)=O)C(=O)N[C@@H](C(C)C)C(=O)N[C@@H](C(C)C)C(=O)N1CCC[C@@H]1C(=O)N[C@H](B1O[C@@]2(C)[C@H]3C[C@H](C3(C)C)C[C@H]2O1)CCC1=CC=C(F)C=C1 JAXFJECJQZDFJS-XHEPKHHKSA-N 0.000 claims description 2
- ZLVXBBHTMQJRSX-VMGNSXQWSA-N jdtic Chemical compound C1([C@]2(C)CCN(C[C@@H]2C)C[C@H](C(C)C)NC(=O)[C@@H]2NCC3=CC(O)=CC=C3C2)=CC=CC(O)=C1 ZLVXBBHTMQJRSX-VMGNSXQWSA-N 0.000 claims description 2
- ZBELDPMWYXDLNY-UHFFFAOYSA-N methyl 9-(4-bromo-2-fluoroanilino)-[1,3]thiazolo[5,4-f]quinazoline-2-carboximidate Chemical compound C12=C3SC(C(=N)OC)=NC3=CC=C2N=CN=C1NC1=CC=C(Br)C=C1F ZBELDPMWYXDLNY-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- YGBMCLDVRUGXOV-UHFFFAOYSA-N n-[6-[6-chloro-5-[(4-fluorophenyl)sulfonylamino]pyridin-3-yl]-1,3-benzothiazol-2-yl]acetamide Chemical compound C1=C2SC(NC(=O)C)=NC2=CC=C1C(C=1)=CN=C(Cl)C=1NS(=O)(=O)C1=CC=C(F)C=C1 YGBMCLDVRUGXOV-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- IOMMMLWIABWRKL-WUTDNEBXSA-N nazartinib Chemical compound C1N(C(=O)/C=C/CN(C)C)CCCC[C@H]1N1C2=C(Cl)C=CC=C2N=C1NC(=O)C1=CC=NC(C)=C1 IOMMMLWIABWRKL-WUTDNEBXSA-N 0.000 claims description 2
- PIDFDZJZLOTZTM-KHVQSSSXSA-N ombitasvir Chemical compound COC(=O)N[C@@H](C(C)C)C(=O)N1CCC[C@H]1C(=O)NC1=CC=C([C@H]2N([C@@H](CC2)C=2C=CC(NC(=O)[C@H]3N(CCC3)C(=O)[C@@H](NC(=O)OC)C(C)C)=CC=2)C=2C=CC(=CC=2)C(C)(C)C)C=C1 PIDFDZJZLOTZTM-KHVQSSSXSA-N 0.000 claims description 2
- 238000004528 spin coating Methods 0.000 claims description 2
- GLGNXYJARSMNGJ-VKTIVEEGSA-N (1s,2s,3r,4r)-3-[[5-chloro-2-[(1-ethyl-6-methoxy-2-oxo-4,5-dihydro-3h-1-benzazepin-7-yl)amino]pyrimidin-4-yl]amino]bicyclo[2.2.1]hept-5-ene-2-carboxamide Chemical compound CCN1C(=O)CCCC2=C(OC)C(NC=3N=C(C(=CN=3)Cl)N[C@H]3[C@H]([C@@]4([H])C[C@@]3(C=C4)[H])C(N)=O)=CC=C21 GLGNXYJARSMNGJ-VKTIVEEGSA-N 0.000 claims 1
- VUEGYUOUAAVYAS-JGGQBBKZSA-N (6ar,9s,10ar)-9-(dimethylsulfamoylamino)-7-methyl-6,6a,8,9,10,10a-hexahydro-4h-indolo[4,3-fg]quinoline Chemical compound C1=CC([C@H]2C[C@@H](CN(C)[C@@H]2C2)NS(=O)(=O)N(C)C)=C3C2=CNC3=C1 VUEGYUOUAAVYAS-JGGQBBKZSA-N 0.000 claims 1
- MHSLDASSAFCCDO-UHFFFAOYSA-N 1-(5-tert-butyl-2-methylpyrazol-3-yl)-3-(4-pyridin-4-yloxyphenyl)urea Chemical compound CN1N=C(C(C)(C)C)C=C1NC(=O)NC(C=C1)=CC=C1OC1=CC=NC=C1 MHSLDASSAFCCDO-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 1
- PNUZDKCDAWUEGK-CYZMBNFOSA-N Sitafloxacin Chemical compound C([C@H]1N)N(C=2C(=C3C(C(C(C(O)=O)=CN3[C@H]3[C@H](C3)F)=O)=CC=2F)Cl)CC11CC1 PNUZDKCDAWUEGK-CYZMBNFOSA-N 0.000 claims 1
- KGNDCEVUMONOKF-UGPLYTSKSA-N benzyl n-[(2r)-1-[(2s,4r)-2-[[(2s)-6-amino-1-(1,3-benzoxazol-2-yl)-1,1-dihydroxyhexan-2-yl]carbamoyl]-4-[(4-methylphenyl)methoxy]pyrrolidin-1-yl]-1-oxo-4-phenylbutan-2-yl]carbamate Chemical compound C1=CC(C)=CC=C1CO[C@H]1CN(C(=O)[C@@H](CCC=2C=CC=CC=2)NC(=O)OCC=2C=CC=CC=2)[C@H](C(=O)N[C@@H](CCCCN)C(O)(O)C=2OC3=CC=CC=C3N=2)C1 KGNDCEVUMONOKF-UGPLYTSKSA-N 0.000 claims 1
- FDBYIYFVSAHJLY-UHFFFAOYSA-N resmetirom Chemical compound N1C(=O)C(C(C)C)=CC(OC=2C(=CC(=CC=2Cl)N2C(NC(=O)C(C#N)=N2)=O)Cl)=N1 FDBYIYFVSAHJLY-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 1
- YMWUJEATGCHHMB-UHFFFAOYSA-N Dichloromethane Chemical compound ClCCl YMWUJEATGCHHMB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 51
- -1 triethylsilyl Chemical group 0.000 description 48
- XEKOWRVHYACXOJ-UHFFFAOYSA-N Ethyl acetate Chemical compound CCOC(C)=O XEKOWRVHYACXOJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 42
- 125000002496 methyl group Chemical group [H]C([H])([H])* 0.000 description 42
- YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N Toluene Chemical compound CC1=CC=CC=C1 YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 41
- 125000001997 phenyl group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C(*)C([H])=C1[H] 0.000 description 38
- 230000000052 comparative effect Effects 0.000 description 31
- WYURNTSHIVDZCO-UHFFFAOYSA-N Tetrahydrofuran Chemical compound C1CCOC1 WYURNTSHIVDZCO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 28
- 125000001495 ethyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 28
- 125000000484 butyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 25
- 125000001436 propyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 25
- 125000004051 hexyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 24
- 239000002904 solvent Substances 0.000 description 24
- 239000000543 intermediate Substances 0.000 description 23
- VLKZOEOYAKHREP-UHFFFAOYSA-N n-Hexane Chemical compound CCCCCC VLKZOEOYAKHREP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 23
- 239000000243 solution Substances 0.000 description 23
- 125000001449 isopropyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])(*)C([H])([H])[H] 0.000 description 21
- 125000000999 tert-butyl group Chemical group [H]C([H])([H])C(*)(C([H])([H])[H])C([H])([H])[H] 0.000 description 21
- 125000001147 pentyl group Chemical group C(CCCC)* 0.000 description 20
- ZMXDDKWLCZADIW-UHFFFAOYSA-N N,N-Dimethylformamide Chemical compound CN(C)C=O ZMXDDKWLCZADIW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 18
- 0 CCC=C(/C=S/C)C(*1)=C*2=C1C(CCCC1)C1*2(*c1cc(C=C)ccc1)*1*=CC=CC1 Chemical compound CCC=C(/C=S/C)C(*1)=C*2=C1C(CCCC1)C1*2(*c1cc(C=C)ccc1)*1*=CC=CC1 0.000 description 17
- 230000008569 process Effects 0.000 description 17
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 16
- 125000006267 biphenyl group Chemical group 0.000 description 15
- VZSRBBMJRBPUNF-UHFFFAOYSA-N 2-(2,3-dihydro-1H-inden-2-ylamino)-N-[3-oxo-3-(2,4,6,7-tetrahydrotriazolo[4,5-c]pyridin-5-yl)propyl]pyrimidine-5-carboxamide Chemical compound C1C(CC2=CC=CC=C12)NC1=NC=C(C=N1)C(=O)NCCC(N1CC2=C(CC1)NN=N2)=O VZSRBBMJRBPUNF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 14
- LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N Ethanol Chemical compound CCO LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 14
- NIHNNTQXNPWCJQ-UHFFFAOYSA-N fluorene Chemical compound C1=CC=C2CC3=CC=CC=C3C2=C1 NIHNNTQXNPWCJQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 14
- 125000003983 fluorenyl group Chemical group C1(=CC=CC=2C3=CC=CC=C3CC12)* 0.000 description 14
- 238000002347 injection Methods 0.000 description 14
- 239000007924 injection Substances 0.000 description 14
- 230000014759 maintenance of location Effects 0.000 description 14
- YLQBMQCUIZJEEH-UHFFFAOYSA-N tetrahydrofuran Natural products C=1C=COC=1 YLQBMQCUIZJEEH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 14
- 125000000609 carbazolyl group Chemical group C1(=CC=CC=2C3=CC=CC=C3NC12)* 0.000 description 13
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 12
- 239000010409 thin film Substances 0.000 description 12
- 238000003786 synthesis reaction Methods 0.000 description 11
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Chemical compound O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 11
- HUMNYLRZRPPJDN-UHFFFAOYSA-N benzaldehyde Chemical compound O=CC1=CC=CC=C1 HUMNYLRZRPPJDN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 10
- NOJDQJYQJQZCGS-UHFFFAOYSA-N 2-bromo-9-phenyl-9h-fluorene Chemical compound C=1C(Br)=CC=C(C2=CC=CC=C22)C=1C2C1=CC=CC=C1 NOJDQJYQJQZCGS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 9
- 239000012528 membrane Substances 0.000 description 9
- 239000003960 organic solvent Substances 0.000 description 9
- 238000002360 preparation method Methods 0.000 description 9
- UJOBWOGCFQCDNV-UHFFFAOYSA-N 9H-carbazole Chemical compound C1=CC=C2C3=CC=CC=C3NC2=C1 UJOBWOGCFQCDNV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 8
- CSCPPACGZOOCGX-UHFFFAOYSA-N Acetone Chemical compound CC(C)=O CSCPPACGZOOCGX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 8
- JHIVVAPYMSGYDF-UHFFFAOYSA-N cyclohexanone Chemical compound O=C1CCCCC1 JHIVVAPYMSGYDF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 8
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 8
- 125000001624 naphthyl group Chemical group 0.000 description 8
- 239000000047 product Substances 0.000 description 8
- 238000000746 purification Methods 0.000 description 8
- FPGGTKZVZWFYPV-UHFFFAOYSA-M tetrabutylammonium fluoride Chemical compound [F-].CCCC[N+](CCCC)(CCCC)CCCC FPGGTKZVZWFYPV-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 8
- 230000032258 transport Effects 0.000 description 8
- 229910052799 carbon Inorganic materials 0.000 description 7
- 238000000151 deposition Methods 0.000 description 7
- 239000010408 film Substances 0.000 description 7
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 7
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 7
- 239000011259 mixed solution Substances 0.000 description 7
- 239000012299 nitrogen atmosphere Substances 0.000 description 7
- IAZDPXIOMUYVGZ-UHFFFAOYSA-N Dimethylsulphoxide Chemical compound CS(C)=O IAZDPXIOMUYVGZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N Methanol Chemical compound OC OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N Silicium dioxide Chemical compound O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- HEMHJVSKTPXQMS-UHFFFAOYSA-M Sodium hydroxide Chemical compound [OH-].[Na+] HEMHJVSKTPXQMS-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 6
- 150000004982 aromatic amines Chemical class 0.000 description 6
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 6
- 230000005525 hole transport Effects 0.000 description 6
- 150000002894 organic compounds Chemical class 0.000 description 6
- 229920000642 polymer Polymers 0.000 description 6
- YJTKZCDBKVTVBY-UHFFFAOYSA-N 1,3-Diphenylbenzene Chemical group C1=CC=CC=C1C1=CC=CC(C=2C=CC=CC=2)=C1 YJTKZCDBKVTVBY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- CWFALOFIVBAZFV-UHFFFAOYSA-N 4-(6-bromohexoxy)benzaldehyde Chemical compound BrCCCCCCOC1=CC=C(C=O)C=C1 CWFALOFIVBAZFV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- KFZMGEQAYNKOFK-UHFFFAOYSA-N Isopropanol Chemical compound CC(C)O KFZMGEQAYNKOFK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 229910052782 aluminium Inorganic materials 0.000 description 5
- XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N aluminium Chemical compound [Al] XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 239000010406 cathode material Substances 0.000 description 5
- 239000000460 chlorine Substances 0.000 description 5
- 239000012153 distilled water Substances 0.000 description 5
- 238000004770 highest occupied molecular orbital Methods 0.000 description 5
- 238000005259 measurement Methods 0.000 description 5
- 125000002950 monocyclic group Chemical group 0.000 description 5
- 125000003367 polycyclic group Chemical group 0.000 description 5
- 238000003756 stirring Methods 0.000 description 5
- 238000010626 work up procedure Methods 0.000 description 5
- KCMFMNTWOBRZKY-UHFFFAOYSA-N 1-bromo-9-(4-ethenylphenyl)-9-phenylfluorene Chemical compound BrC1=CC=CC=2C3=CC=CC=C3C(C1=2)(C1=CC=C(C=C1)C=C)C1=CC=CC=C1 KCMFMNTWOBRZKY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- YWYZCXNQMZOYHM-UHFFFAOYSA-N 4-bromofluoren-9-one Chemical compound O=C1C2=CC=CC=C2C2=C1C=CC=C2Br YWYZCXNQMZOYHM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- FUGYGGDSWSUORM-UHFFFAOYSA-N C=Cc(cc1)ccc1O Chemical compound C=Cc(cc1)ccc1O FUGYGGDSWSUORM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- CSNNHWWHGAXBCP-UHFFFAOYSA-L Magnesium sulfate Chemical compound [Mg+2].[O-][S+2]([O-])([O-])[O-] CSNNHWWHGAXBCP-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 4
- AFCARXCZXQIEQB-UHFFFAOYSA-N N-[3-oxo-3-(2,4,6,7-tetrahydrotriazolo[4,5-c]pyridin-5-yl)propyl]-2-[[3-(trifluoromethoxy)phenyl]methylamino]pyrimidine-5-carboxamide Chemical compound O=C(CCNC(=O)C=1C=NC(=NC=1)NCC1=CC(=CC=C1)OC(F)(F)F)N1CC2=C(CC1)NN=N2 AFCARXCZXQIEQB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- PCLIMKBDDGJMGD-UHFFFAOYSA-N N-bromosuccinimide Chemical compound BrN1C(=O)CCC1=O PCLIMKBDDGJMGD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- XLOMVQKBTHCTTD-UHFFFAOYSA-N Zinc monoxide Chemical compound [Zn]=O XLOMVQKBTHCTTD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- ABRVLXLNVJHDRQ-UHFFFAOYSA-N [2-pyridin-3-yl-6-(trifluoromethyl)pyridin-4-yl]methanamine Chemical compound FC(C1=CC(=CC(=N1)C=1C=NC=CC=1)CN)(F)F ABRVLXLNVJHDRQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 230000002378 acidificating effect Effects 0.000 description 4
- 239000010405 anode material Substances 0.000 description 4
- 239000004927 clay Substances 0.000 description 4
- 230000008021 deposition Effects 0.000 description 4
- 239000002019 doping agent Substances 0.000 description 4
- 239000003480 eluent Substances 0.000 description 4
- 229910052763 palladium Inorganic materials 0.000 description 4
- QNGNSVIICDLXHT-UHFFFAOYSA-N para-ethylbenzaldehyde Natural products CCC1=CC=C(C=O)C=C1 QNGNSVIICDLXHT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 238000007639 printing Methods 0.000 description 4
- 238000010992 reflux Methods 0.000 description 4
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 description 4
- 239000007787 solid Substances 0.000 description 4
- OISVCGZHLKNMSJ-UHFFFAOYSA-N 2,6-dimethylpyridine Chemical compound CC1=CC=CC(C)=N1 OISVCGZHLKNMSJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- ZWEHNKRNPOVVGH-UHFFFAOYSA-N 2-Butanone Chemical compound CCC(C)=O ZWEHNKRNPOVVGH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- UHOVQNZJYSORNB-UHFFFAOYSA-N Benzene Chemical compound C1=CC=CC=C1 UHOVQNZJYSORNB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- RTZKZFJDLAIYFH-UHFFFAOYSA-N Diethyl ether Chemical compound CCOCC RTZKZFJDLAIYFH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- LYCAIKOWRPUZTN-UHFFFAOYSA-N Ethylene glycol Chemical compound OCCO LYCAIKOWRPUZTN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- IMNFDUFMRHMDMM-UHFFFAOYSA-N N-Heptane Chemical compound CCCCCCC IMNFDUFMRHMDMM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- DNIAPMSPPWPWGF-UHFFFAOYSA-N Propylene glycol Chemical compound CC(O)CO DNIAPMSPPWPWGF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- BQCADISMDOOEFD-UHFFFAOYSA-N Silver Chemical compound [Ag] BQCADISMDOOEFD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 229910045601 alloy Inorganic materials 0.000 description 3
- 239000000956 alloy Substances 0.000 description 3
- 125000001769 aryl amino group Chemical group 0.000 description 3
- IOJUPLGTWVMSFF-UHFFFAOYSA-N benzothiazole Chemical group C1=CC=C2SC=NC2=C1 IOJUPLGTWVMSFF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 230000000903 blocking effect Effects 0.000 description 3
- 229920001940 conductive polymer Polymers 0.000 description 3
- 238000005137 deposition process Methods 0.000 description 3
- TXCDCPKCNAJMEE-UHFFFAOYSA-N dibenzofuran Chemical group C1=CC=C2C3=CC=CC=C3OC2=C1 TXCDCPKCNAJMEE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- IYYZUPMFVPLQIF-ALWQSETLSA-N dibenzothiophene Chemical group C1=CC=CC=2[34S]C3=C(C=21)C=CC=C3 IYYZUPMFVPLQIF-ALWQSETLSA-N 0.000 description 3
- 238000000113 differential scanning calorimetry Methods 0.000 description 3
- RAXXELZNTBOGNW-UHFFFAOYSA-N imidazole Natural products C1=CNC=N1 RAXXELZNTBOGNW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 239000007791 liquid phase Substances 0.000 description 3
- 239000000178 monomer Substances 0.000 description 3
- AICOOMRHRUFYCM-ZRRPKQBOSA-N oxazine, 1 Chemical compound C([C@@H]1[C@H](C(C[C@]2(C)[C@@H]([C@H](C)N(C)C)[C@H](O)C[C@]21C)=O)CC1=CC2)C[C@H]1[C@@]1(C)[C@H]2N=C(C(C)C)OC1 AICOOMRHRUFYCM-ZRRPKQBOSA-N 0.000 description 3
- 229910052709 silver Inorganic materials 0.000 description 3
- 239000004332 silver Substances 0.000 description 3
- 238000012360 testing method Methods 0.000 description 3
- CXWXQJXEFPUFDZ-UHFFFAOYSA-N tetralin Chemical compound C1=CC=C2CCCCC2=C1 CXWXQJXEFPUFDZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 125000004568 thiomorpholinyl group Chemical group 0.000 description 3
- 238000002211 ultraviolet spectrum Methods 0.000 description 3
- UWRZIZXBOLBCON-VOTSOKGWSA-N (e)-2-phenylethenamine Chemical class N\C=C\C1=CC=CC=C1 UWRZIZXBOLBCON-VOTSOKGWSA-N 0.000 description 2
- UBOXGVDOUJQMTN-UHFFFAOYSA-N 1,1,2-trichloroethane Chemical compound ClCC(Cl)Cl UBOXGVDOUJQMTN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- UGUHFDPGDQDVGX-UHFFFAOYSA-N 1,2,3-thiadiazole Chemical group C1=CSN=N1 UGUHFDPGDQDVGX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- FYGHSUNMUKGBRK-UHFFFAOYSA-N 1,2,3-trimethylbenzene Chemical compound CC1=CC=CC(C)=C1C FYGHSUNMUKGBRK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- RFFLAFLAYFXFSW-UHFFFAOYSA-N 1,2-dichlorobenzene Chemical compound ClC1=CC=CC=C1Cl RFFLAFLAYFXFSW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- RYHBNJHYFVUHQT-UHFFFAOYSA-N 1,4-Dioxane Chemical compound C1COCCO1 RYHBNJHYFVUHQT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- ZZHIDJWUJRKHGX-UHFFFAOYSA-N 1,4-bis(chloromethyl)benzene Chemical compound ClCC1=CC=C(CCl)C=C1 ZZHIDJWUJRKHGX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 125000004973 1-butenyl group Chemical group C(=CCC)* 0.000 description 2
- NJRNORJLPQYHHY-UHFFFAOYSA-N 2-bromo-9-phenylfluoren-9-ol Chemical compound C12=CC=CC=C2C2=CC=C(Br)C=C2C1(O)C1=CC=CC=C1 NJRNORJLPQYHHY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- YLZOPXRUQYQQID-UHFFFAOYSA-N 3-(2,4,6,7-tetrahydrotriazolo[4,5-c]pyridin-5-yl)-1-[4-[2-[[3-(trifluoromethoxy)phenyl]methylamino]pyrimidin-5-yl]piperazin-1-yl]propan-1-one Chemical compound N1N=NC=2CN(CCC=21)CCC(=O)N1CCN(CC1)C=1C=NC(=NC=1)NCC1=CC(=CC=C1)OC(F)(F)F YLZOPXRUQYQQID-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- QENGPZGAWFQWCZ-UHFFFAOYSA-N 3-Methylthiophene Chemical compound CC=1C=CSC=1 QENGPZGAWFQWCZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 125000003860 C1-C20 alkoxy group Chemical group 0.000 description 2
- QEUMERQGAOGYBC-UHFFFAOYSA-N C=Cc(cc1)ccc1OCCCCCCC1(c2cc(-c(cc3)ccc3N(c(cc3)ccc3-c(cc3c4c5cccc4)ccc3[n]5-c(cc3)ccc3O)c3cccc4c3cccc4)ccc2-c2ccccc12)c1ccccc1 Chemical compound C=Cc(cc1)ccc1OCCCCCCC1(c2cc(-c(cc3)ccc3N(c(cc3)ccc3-c(cc3c4c5cccc4)ccc3[n]5-c(cc3)ccc3O)c3cccc4c3cccc4)ccc2-c2ccccc12)c1ccccc1 QEUMERQGAOGYBC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- OYPRJOBELJOOCE-UHFFFAOYSA-N Calcium Chemical compound [Ca] OYPRJOBELJOOCE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- HEDRZPFGACZZDS-UHFFFAOYSA-N Chloroform Chemical compound ClC(Cl)Cl HEDRZPFGACZZDS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- XDTMQSROBMDMFD-UHFFFAOYSA-N Cyclohexane Chemical compound C1CCCCC1 XDTMQSROBMDMFD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- PEDCQBHIVMGVHV-UHFFFAOYSA-N Glycerine Chemical compound OCC(O)CO PEDCQBHIVMGVHV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- WHXSMMKQMYFTQS-UHFFFAOYSA-N Lithium Chemical compound [Li] WHXSMMKQMYFTQS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- AFVFQIVMOAPDHO-UHFFFAOYSA-N Methanesulfonic acid Chemical compound CS(O)(=O)=O AFVFQIVMOAPDHO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- SECXISVLQFMRJM-UHFFFAOYSA-N N-Methylpyrrolidone Chemical compound CN1CCCC1=O SECXISVLQFMRJM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000005481 NMR spectroscopy Methods 0.000 description 2
- OFBQJSOFQDEBGM-UHFFFAOYSA-N Pentane Chemical compound CCCCC OFBQJSOFQDEBGM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- YTPLMLYBLZKORZ-UHFFFAOYSA-N Thiophene Chemical compound C=1C=CSC=1 YTPLMLYBLZKORZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- DTQVDTLACAAQTR-UHFFFAOYSA-N Trifluoroacetic acid Chemical compound OC(=O)C(F)(F)F DTQVDTLACAAQTR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000007983 Tris buffer Substances 0.000 description 2
- HCHKCACWOHOZIP-UHFFFAOYSA-N Zinc Chemical compound [Zn] HCHKCACWOHOZIP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- DGEZNRSVGBDHLK-UHFFFAOYSA-N [1,10]phenanthroline Chemical group C1=CN=C2C3=NC=CC=C3C=CC2=C1 DGEZNRSVGBDHLK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- YRKCREAYFQTBPV-UHFFFAOYSA-N acetylacetone Chemical compound CC(=O)CC(C)=O YRKCREAYFQTBPV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- MWPLVEDNUUSJAV-UHFFFAOYSA-N anthracene Chemical compound C1=CC=CC2=CC3=CC=CC=C3C=C21 MWPLVEDNUUSJAV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 125000003609 aryl vinyl group Chemical group 0.000 description 2
- 229910052788 barium Inorganic materials 0.000 description 2
- DSAJWYNOEDNPEQ-UHFFFAOYSA-N barium atom Chemical compound [Ba] DSAJWYNOEDNPEQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910052791 calcium Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000011575 calcium Substances 0.000 description 2
- MVPPADPHJFYWMZ-UHFFFAOYSA-N chlorobenzene Chemical compound ClC1=CC=CC=C1 MVPPADPHJFYWMZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- WDECIBYCCFPHNR-UHFFFAOYSA-N chrysene Chemical compound C1=CC=CC2=CC=C3C4=CC=CC=C4C=CC3=C21 WDECIBYCCFPHNR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000013078 crystal Substances 0.000 description 2
- 125000004122 cyclic group Chemical group 0.000 description 2
- DIOQZVSQGTUSAI-UHFFFAOYSA-N decane Chemical compound CCCCCCCCCC DIOQZVSQGTUSAI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000003599 detergent Substances 0.000 description 2
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 2
- 239000000539 dimer Substances 0.000 description 2
- DMBHHRLKUKUOEG-UHFFFAOYSA-N diphenylamine Chemical compound C=1C=CC=CC=1NC1=CC=CC=C1 DMBHHRLKUKUOEG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 150000002219 fluoranthenes Chemical class 0.000 description 2
- YLQWCDOCJODRMT-UHFFFAOYSA-N fluoren-9-one Chemical compound C1=CC=C2C(=O)C3=CC=CC=C3C2=C1 YLQWCDOCJODRMT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 2
- 125000004857 imidazopyridinyl group Chemical group N1C(=NC2=C1C=CC=N2)* 0.000 description 2
- 238000007654 immersion Methods 0.000 description 2
- 238000007641 inkjet printing Methods 0.000 description 2
- HJOVHMDZYOCNQW-UHFFFAOYSA-N isophorone Chemical compound CC1=CC(=O)CC(C)(C)C1 HJOVHMDZYOCNQW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 125000005647 linker group Chemical group 0.000 description 2
- 229910052744 lithium Inorganic materials 0.000 description 2
- 229910052943 magnesium sulfate Inorganic materials 0.000 description 2
- 235000019341 magnesium sulphate Nutrition 0.000 description 2
- 229910044991 metal oxide Inorganic materials 0.000 description 2
- 150000004706 metal oxides Chemical class 0.000 description 2
- 150000002739 metals Chemical class 0.000 description 2
- VNWKTOKETHGBQD-UHFFFAOYSA-N methane Chemical compound C VNWKTOKETHGBQD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- UAEPNZWRGJTJPN-UHFFFAOYSA-N methylcyclohexane Chemical compound CC1CCCCC1 UAEPNZWRGJTJPN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000013508 migration Methods 0.000 description 2
- 230000005012 migration Effects 0.000 description 2
- 238000012544 monitoring process Methods 0.000 description 2
- 230000004899 motility Effects 0.000 description 2
- BKIMMITUMNQMOS-UHFFFAOYSA-N nonane Chemical compound CCCCCCCCC BKIMMITUMNQMOS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- TVMXDCGIABBOFY-UHFFFAOYSA-N octane Chemical compound CCCCCCCC TVMXDCGIABBOFY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910052760 oxygen Inorganic materials 0.000 description 2
- 238000005240 physical vapour deposition Methods 0.000 description 2
- BASFCYQUMIYNBI-UHFFFAOYSA-N platinum Chemical compound [Pt] BASFCYQUMIYNBI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229920000553 poly(phenylenevinylene) Polymers 0.000 description 2
- 229920000767 polyaniline Polymers 0.000 description 2
- BWHMMNNQKKPAPP-UHFFFAOYSA-L potassium carbonate Chemical compound [K+].[K+].[O-]C([O-])=O BWHMMNNQKKPAPP-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 2
- LPNYRYFBWFDTMA-UHFFFAOYSA-N potassium tert-butoxide Chemical compound [K+].CC(C)(C)[O-] LPNYRYFBWFDTMA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000002244 precipitate Substances 0.000 description 2
- BBEAQIROQSPTKN-UHFFFAOYSA-N pyrene Chemical compound C1=CC=C2C=CC3=CC=CC4=CC=C1C2=C43 BBEAQIROQSPTKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000000741 silica gel Substances 0.000 description 2
- 229910002027 silica gel Inorganic materials 0.000 description 2
- MFRIHAYPQRLWNB-UHFFFAOYSA-N sodium tert-butoxide Chemical compound [Na+].CC(C)(C)[O-] MFRIHAYPQRLWNB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- AQRLNPVMDITEJU-UHFFFAOYSA-N triethylsilane Chemical compound CC[SiH](CC)CC AQRLNPVMDITEJU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 125000006617 triphenylamine group Chemical group 0.000 description 2
- 238000005406 washing Methods 0.000 description 2
- 229910052725 zinc Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000011701 zinc Substances 0.000 description 2
- 239000011787 zinc oxide Substances 0.000 description 2
- FNHHVPPSBFQMEL-KQHDFZBMSA-N (3S)-5-N-[(1S,5R)-3-hydroxy-6-bicyclo[3.1.0]hexanyl]-7-N,3-dimethyl-3-phenyl-2H-1-benzofuran-5,7-dicarboxamide Chemical compound CNC(=O)c1cc(cc2c1OC[C@@]2(C)c1ccccc1)C(=O)NC1[C@H]2CC(O)C[C@@H]12 FNHHVPPSBFQMEL-KQHDFZBMSA-N 0.000 description 1
- KZPYGQFFRCFCPP-UHFFFAOYSA-N 1,1'-bis(diphenylphosphino)ferrocene Chemical compound [Fe+2].C1=CC=C[C-]1P(C=1C=CC=CC=1)C1=CC=CC=C1.C1=CC=C[C-]1P(C=1C=CC=CC=1)C1=CC=CC=C1 KZPYGQFFRCFCPP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WSLDOOZREJYCGB-UHFFFAOYSA-N 1,2-Dichloroethane Chemical compound ClCCCl WSLDOOZREJYCGB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BCMCBBGGLRIHSE-UHFFFAOYSA-N 1,3-benzoxazole Chemical compound C1=CC=C2OC=NC2=C1 BCMCBBGGLRIHSE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000000355 1,3-benzoxazolyl group Chemical group O1C(=NC2=C1C=CC=C2)* 0.000 description 1
- SGRHVVLXEBNBDV-UHFFFAOYSA-N 1,6-dibromohexane Chemical compound BrCCCCCCBr SGRHVVLXEBNBDV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QXOGPTXQGKQSJT-UHFFFAOYSA-N 1-amino-4-[4-(3,4-dimethylphenyl)sulfanylanilino]-9,10-dioxoanthracene-2-sulfonic acid Chemical compound Cc1ccc(Sc2ccc(Nc3cc(c(N)c4C(=O)c5ccccc5C(=O)c34)S(O)(=O)=O)cc2)cc1C QXOGPTXQGKQSJT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FCEHBMOGCRZNNI-UHFFFAOYSA-N 1-benzothiophene Chemical group C1=CC=C2SC=CC2=C1 FCEHBMOGCRZNNI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BFSNEBVTOODGHZ-UHFFFAOYSA-N 1-bromo-4-(diethoxymethyl)benzene Chemical compound CCOC(OCC)C1=CC=C(Br)C=C1 BFSNEBVTOODGHZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RUFPHBVGCFYCNW-UHFFFAOYSA-N 1-naphthylamine Chemical compound C1=CC=C2C(N)=CC=CC2=C1 RUFPHBVGCFYCNW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000006023 1-pentenyl group Chemical group 0.000 description 1
- 125000006017 1-propenyl group Chemical group 0.000 description 1
- XHLHPRDBBAGVEG-UHFFFAOYSA-N 1-tetralone Chemical compound C1=CC=C2C(=O)CCCC2=C1 XHLHPRDBBAGVEG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- MYKQKWIPLZEVOW-UHFFFAOYSA-N 11h-benzo[a]carbazole Chemical group C1=CC2=CC=CC=C2C2=C1C1=CC=CC=C1N2 MYKQKWIPLZEVOW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XNWFRZJHXBZDAG-UHFFFAOYSA-N 2-METHOXYETHANOL Chemical compound COCCO XNWFRZJHXBZDAG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WFSMVVDJSNMRAR-UHFFFAOYSA-N 2-[2-(2-ethoxyethoxy)ethoxy]ethanol Chemical compound CCOCCOCCOCCO WFSMVVDJSNMRAR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000004974 2-butenyl group Chemical group C(C=CC)* 0.000 description 1
- POAOYUHQDCAZBD-UHFFFAOYSA-N 2-butoxyethanol Chemical compound CCCCOCCO POAOYUHQDCAZBD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZNQVEEAIQZEUHB-UHFFFAOYSA-N 2-ethoxyethanol Chemical compound CCOCCO ZNQVEEAIQZEUHB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SVONRAPFKPVNKG-UHFFFAOYSA-N 2-ethoxyethyl acetate Chemical compound CCOCCOC(C)=O SVONRAPFKPVNKG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XWKFPIODWVPXLX-UHFFFAOYSA-N 2-methyl-5-methylpyridine Natural products CC1=CC=C(C)N=C1 XWKFPIODWVPXLX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WONYVCKUEUULQN-UHFFFAOYSA-N 2-methyl-n-(2-methylphenyl)aniline Chemical compound CC1=CC=CC=C1NC1=CC=CC=C1C WONYVCKUEUULQN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JTMODJXOTWYBOZ-UHFFFAOYSA-N 2-methyl-n-phenylaniline Chemical compound CC1=CC=CC=C1NC1=CC=CC=C1 JTMODJXOTWYBOZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LGDKJMXNVIFAHE-UHFFFAOYSA-N 2-oxodecanal Chemical compound CCCCCCCCC(=O)C=O LGDKJMXNVIFAHE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000006024 2-pentenyl group Chemical group 0.000 description 1
- 125000006607 3,3-dimethylbutyloxy group Chemical group 0.000 description 1
- DMEVMYSQZPJFOK-UHFFFAOYSA-N 3,4,5,6,9,10-hexazatetracyclo[12.4.0.02,7.08,13]octadeca-1(18),2(7),3,5,8(13),9,11,14,16-nonaene Chemical group N1=NN=C2C3=CC=CC=C3C3=CC=NN=C3C2=N1 DMEVMYSQZPJFOK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000004975 3-butenyl group Chemical group C(CC=C)* 0.000 description 1
- JJYPMNFTHPTTDI-UHFFFAOYSA-N 3-methylaniline Chemical compound CC1=CC=CC(N)=C1 JJYPMNFTHPTTDI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PMWOFIVNSBKMRQ-UHFFFAOYSA-N 3h-imidazo[4,5-k]phenanthridine Chemical group C1=CC=C2C3=C(NC=N4)C4=CC=C3C=NC2=C1 PMWOFIVNSBKMRQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FDRNXKXKFNHNCA-UHFFFAOYSA-N 4-(4-anilinophenyl)-n-phenylaniline Chemical compound C=1C=C(C=2C=CC(NC=3C=CC=CC=3)=CC=2)C=CC=1NC1=CC=CC=C1 FDRNXKXKFNHNCA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DDTHMESPCBONDT-UHFFFAOYSA-N 4-(4-oxocyclohexa-2,5-dien-1-ylidene)cyclohexa-2,5-dien-1-one Chemical compound C1=CC(=O)C=CC1=C1C=CC(=O)C=C1 DDTHMESPCBONDT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BBVCHZKUFOGFOC-UHFFFAOYSA-N 4-[6-(2-bromo-9-phenylfluoren-9-yl)hexoxy]benzaldehyde Chemical compound Brc1ccc2-c3ccccc3C(CCCCCCOc3ccc(C=O)cc3)(c2c1)c1ccccc1 BBVCHZKUFOGFOC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000004920 4-methyl-2-pentyl group Chemical group CC(CC(C)*)C 0.000 description 1
- MQFYUZCANYLWEI-UHFFFAOYSA-N 4-methylnaphthalen-1-amine Chemical compound C1=CC=C2C(C)=CC=C(N)C2=C1 MQFYUZCANYLWEI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HCCNBKFJYUWLEX-UHFFFAOYSA-N 7-(6-methoxypyridin-3-yl)-1-(2-propoxyethyl)-3-(pyrazin-2-ylmethylamino)pyrido[3,4-b]pyrazin-2-one Chemical compound O=C1N(CCOCCC)C2=CC(C=3C=NC(OC)=CC=3)=NC=C2N=C1NCC1=CN=CC=N1 HCCNBKFJYUWLEX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BGEVROQFKHXUQA-UHFFFAOYSA-N 71012-25-4 Chemical group C12=CC=CC=C2C2=CC=CC=C2C2=C1C1=CC=CC=C1N2 BGEVROQFKHXUQA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZCYVEMRRCGMTRW-UHFFFAOYSA-N 7553-56-2 Chemical compound [I] ZCYVEMRRCGMTRW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000005725 8-Hydroxyquinoline Substances 0.000 description 1
- PAYRUJLWNCNPSJ-UHFFFAOYSA-N Aniline Chemical compound NC1=CC=CC=C1 PAYRUJLWNCNPSJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WKBOTKDWSSQWDR-UHFFFAOYSA-N Bromine atom Chemical compound [Br] WKBOTKDWSSQWDR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DKPFZGUDAPQIHT-UHFFFAOYSA-N Butyl acetate Natural products CCCCOC(C)=O DKPFZGUDAPQIHT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ISMDILRWKSYCOD-GNKBHMEESA-N C(C1=CC=CC=C1)[C@@H]1NC(OCCCCCCCCCCCNC([C@@H](NC(C[C@@H]1O)=O)C(C)C)=O)=O Chemical compound C(C1=CC=CC=C1)[C@@H]1NC(OCCCCCCCCCCCNC([C@@H](NC(C[C@@H]1O)=O)C(C)C)=O)=O ISMDILRWKSYCOD-GNKBHMEESA-N 0.000 description 1
- RKPPHBJIJYHCHW-UHFFFAOYSA-N C1=CC2=CN=C3C=CC=CC3=C2C2=C1C(N=CN1)=C1C=C2 Chemical group C1=CC2=CN=C3C=CC=CC3=C2C2=C1C(N=CN1)=C1C=C2 RKPPHBJIJYHCHW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OJRUSAPKCPIVBY-KQYNXXCUSA-N C1=NC2=C(N=C(N=C2N1[C@H]3[C@@H]([C@@H]([C@H](O3)COP(=O)(CP(=O)(O)O)O)O)O)I)N Chemical compound C1=NC2=C(N=C(N=C2N1[C@H]3[C@@H]([C@@H]([C@H](O3)COP(=O)(CP(=O)(O)O)O)O)O)I)N OJRUSAPKCPIVBY-KQYNXXCUSA-N 0.000 description 1
- BDDYDKROHVIYPX-ODEQYEIHSA-N C=Cc(cc1)ccc1OCC[C@@]1(c2cc(N(c(cc3)ccc3-c3ccc4[nH]c5ccccc5c4c3)c3cccc4c3cccc4)ccc2-c2ccccc12)c1ccccc1 Chemical compound C=Cc(cc1)ccc1OCC[C@@]1(c2cc(N(c(cc3)ccc3-c3ccc4[nH]c5ccccc5c4c3)c3cccc4c3cccc4)ccc2-c2ccccc12)c1ccccc1 BDDYDKROHVIYPX-ODEQYEIHSA-N 0.000 description 1
- BJRGDFBCVDROOY-UHFFFAOYSA-N CC1(C)c(cc(cc2)Nc(cc3)cc(c4c5cccc4)c3[n]5-c3ccc(COCc4ccc(COCc(cc5)ccc5-[n](c(cccc5)c5c5c6)c5ccc6N(c5ccc6-c7ccccc7C(C)(C)c6c5)c(cc5)cc(C6(CCCCCCOc7ccc(C=C)cc7)c7ccccc7)c5-c5c6cccc5)cc4)cc3)c2-c2ccccc12 Chemical compound CC1(C)c(cc(cc2)Nc(cc3)cc(c4c5cccc4)c3[n]5-c3ccc(COCc4ccc(COCc(cc5)ccc5-[n](c(cccc5)c5c5c6)c5ccc6N(c5ccc6-c7ccccc7C(C)(C)c6c5)c(cc5)cc(C6(CCCCCCOc7ccc(C=C)cc7)c7ccccc7)c5-c5c6cccc5)cc4)cc3)c2-c2ccccc12 BJRGDFBCVDROOY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KCBAMQOKOLXLOX-BSZYMOERSA-N CC1=C(SC=N1)C2=CC=C(C=C2)[C@H](C)NC(=O)[C@@H]3C[C@H](CN3C(=O)[C@H](C(C)(C)C)NC(=O)CCCCCCCCCCNCCCONC(=O)C4=C(C(=C(C=C4)F)F)NC5=C(C=C(C=C5)I)F)O Chemical compound CC1=C(SC=N1)C2=CC=C(C=C2)[C@H](C)NC(=O)[C@@H]3C[C@H](CN3C(=O)[C@H](C(C)(C)C)NC(=O)CCCCCCCCCCNCCCONC(=O)C4=C(C(=C(C=C4)F)F)NC5=C(C=C(C=C5)I)F)O KCBAMQOKOLXLOX-BSZYMOERSA-N 0.000 description 1
- GCPZUKVATYPKLF-UHFFFAOYSA-N CCC1(c(cc(cc2)-c(cc3)ccc3N(c(cc3)ccc3-c(cc3)cc(c4ccccc44)c3[n]4-c3ccc(CO)cc3)c3cccc(C)c3)c2C2=C1CCC=C2)c1ccccc1 Chemical compound CCC1(c(cc(cc2)-c(cc3)ccc3N(c(cc3)ccc3-c(cc3)cc(c4ccccc44)c3[n]4-c3ccc(CO)cc3)c3cccc(C)c3)c2C2=C1CCC=C2)c1ccccc1 GCPZUKVATYPKLF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WHEXAAUYUTWICX-UHFFFAOYSA-N CCC1(c2cc(N(C3c(cccc4)c4C=CC3C)c(cc3)ccc3-c(cc3)cc(c4c5cccc4)c3[n]5-c3ccc(C)cc3)ccc2-c2ccccc12)c1ccccc1 Chemical compound CCC1(c2cc(N(C3c(cccc4)c4C=CC3C)c(cc3)ccc3-c(cc3)cc(c4c5cccc4)c3[n]5-c3ccc(C)cc3)ccc2-c2ccccc12)c1ccccc1 WHEXAAUYUTWICX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YMWSHWCDUJAOQF-UHFFFAOYSA-N Cc(cc1)ccc1-[n]1c(ccc(C(C=C2)=CCC2Nc2cc(C)ccc2)c2)c2c2c1cccc2 Chemical compound Cc(cc1)ccc1-[n]1c(ccc(C(C=C2)=CCC2Nc2cc(C)ccc2)c2)c2c2c1cccc2 YMWSHWCDUJAOQF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- URLKBWYHVLBVBO-UHFFFAOYSA-N Cc1ccc(C)cc1 Chemical compound Cc1ccc(C)cc1 URLKBWYHVLBVBO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KMTDMTZBNYGUNX-UHFFFAOYSA-N Cc1ccc(CO)cc1 Chemical compound Cc1ccc(CO)cc1 KMTDMTZBNYGUNX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZAMOUSCENKQFHK-UHFFFAOYSA-N Chlorine atom Chemical compound [Cl] ZAMOUSCENKQFHK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VYZAMTAEIAYCRO-UHFFFAOYSA-N Chromium Chemical compound [Cr] VYZAMTAEIAYCRO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N Copper Chemical compound [Cu] RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000004971 Cross linker Substances 0.000 description 1
- XTHFKEDIFFGKHM-UHFFFAOYSA-N Dimethoxyethane Chemical compound COCCOC XTHFKEDIFFGKHM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PXGOKWXKJXAPGV-UHFFFAOYSA-N Fluorine Chemical compound FF PXGOKWXKJXAPGV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052688 Gadolinium Inorganic materials 0.000 description 1
- GYHNNYVSQQEPJS-UHFFFAOYSA-N Gallium Chemical compound [Ga] GYHNNYVSQQEPJS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DGAQECJNVWCQMB-PUAWFVPOSA-M Ilexoside XXIX Chemical compound C[C@@H]1CC[C@@]2(CC[C@@]3(C(=CC[C@H]4[C@]3(CC[C@@H]5[C@@]4(CC[C@@H](C5(C)C)OS(=O)(=O)[O-])C)C)[C@@H]2[C@]1(C)O)C)C(=O)O[C@H]6[C@@H]([C@H]([C@@H]([C@H](O6)CO)O)O)O.[Na+] DGAQECJNVWCQMB-PUAWFVPOSA-M 0.000 description 1
- FYYHWMGAXLPEAU-UHFFFAOYSA-N Magnesium Chemical compound [Mg] FYYHWMGAXLPEAU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XQVWYOYUZDUNRW-UHFFFAOYSA-N N-Phenyl-1-naphthylamine Chemical compound C=1C=CC2=CC=CC=C2C=1NC1=CC=CC=C1 XQVWYOYUZDUNRW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CTQNGGLPUBDAKN-UHFFFAOYSA-N O-Xylene Chemical compound CC1=CC=CC=C1C CTQNGGLPUBDAKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZCQWOFVYLHDMMC-UHFFFAOYSA-N Oxazole Chemical compound C1=COC=N1 ZCQWOFVYLHDMMC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YXLXNENXOJSQEI-UHFFFAOYSA-L Oxine-copper Chemical compound [Cu+2].C1=CN=C2C([O-])=CC=CC2=C1.C1=CN=C2C([O-])=CC=CC2=C1 YXLXNENXOJSQEI-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- 101150003085 Pdcl gene Proteins 0.000 description 1
- ZLMJMSJWJFRBEC-UHFFFAOYSA-N Potassium Chemical compound [K] ZLMJMSJWJFRBEC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NRCMAYZCPIVABH-UHFFFAOYSA-N Quinacridone Chemical compound N1C2=CC=CC=C2C(=O)C2=C1C=C1C(=O)C3=CC=CC=C3NC1=C2 NRCMAYZCPIVABH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052772 Samarium Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910006404 SnO 2 Inorganic materials 0.000 description 1
- FZWLAAWBMGSTSO-UHFFFAOYSA-N Thiazole Chemical group C1=CSC=N1 FZWLAAWBMGSTSO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ATJFFYVFTNAWJD-UHFFFAOYSA-N Tin Chemical compound [Sn] ATJFFYVFTNAWJD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RTAQQCXQSZGOHL-UHFFFAOYSA-N Titanium Chemical compound [Ti] RTAQQCXQSZGOHL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052769 Ytterbium Inorganic materials 0.000 description 1
- ZEEBGORNQSEQBE-UHFFFAOYSA-N [2-(3-phenylphenoxy)-6-(trifluoromethyl)pyridin-4-yl]methanamine Chemical compound C1(=CC(=CC=C1)OC1=NC(=CC(=C1)CN)C(F)(F)F)C1=CC=CC=C1 ZEEBGORNQSEQBE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000002253 acid Substances 0.000 description 1
- 238000004220 aggregation Methods 0.000 description 1
- 230000002776 aggregation Effects 0.000 description 1
- 239000005456 alcohol based solvent Substances 0.000 description 1
- 150000001298 alcohols Chemical class 0.000 description 1
- 150000001338 aliphatic hydrocarbons Chemical class 0.000 description 1
- AZDRQVAHHNSJOQ-UHFFFAOYSA-N alumane Chemical class [AlH3] AZDRQVAHHNSJOQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000001408 amides Chemical class 0.000 description 1
- YUENFNPLGJCNRB-UHFFFAOYSA-N anthracen-1-amine Chemical compound C1=CC=C2C=C3C(N)=CC=CC3=CC2=C1 YUENFNPLGJCNRB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000001454 anthracenes Chemical class 0.000 description 1
- 125000002178 anthracenyl group Chemical group C1(=CC=CC2=CC3=CC=CC=C3C=C12)* 0.000 description 1
- PYKYMHQGRFAEBM-UHFFFAOYSA-N anthraquinone Natural products CCC(=O)c1c(O)c2C(=O)C3C(C=CC=C3O)C(=O)c2cc1CC(=O)OC PYKYMHQGRFAEBM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000004056 anthraquinones Chemical class 0.000 description 1
- 150000004945 aromatic hydrocarbons Chemical class 0.000 description 1
- 125000000732 arylene group Chemical group 0.000 description 1
- QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N atomic oxygen Chemical compound [O] QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000008901 benefit Effects 0.000 description 1
- 150000001556 benzimidazoles Chemical class 0.000 description 1
- 125000003785 benzimidazolyl group Chemical group N1=C(NC2=C1C=CC=C2)* 0.000 description 1
- 125000000499 benzofuranyl group Chemical group O1C(=CC2=C1C=CC=C2)* 0.000 description 1
- 125000000051 benzyloxy group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C(C([H])=C1[H])C([H])([H])O* 0.000 description 1
- 229910052790 beryllium Inorganic materials 0.000 description 1
- ATBAMAFKBVZNFJ-UHFFFAOYSA-N beryllium atom Chemical compound [Be] ATBAMAFKBVZNFJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000004305 biphenyl Substances 0.000 description 1
- DMVOXQPQNTYEKQ-UHFFFAOYSA-N biphenyl-4-amine Chemical compound C1=CC(N)=CC=C1C1=CC=CC=C1 DMVOXQPQNTYEKQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UFVXQDWNSAGPHN-UHFFFAOYSA-K bis[(2-methylquinolin-8-yl)oxy]-(4-phenylphenoxy)alumane Chemical compound [Al+3].C1=CC=C([O-])C2=NC(C)=CC=C21.C1=CC=C([O-])C2=NC(C)=CC=C21.C1=CC([O-])=CC=C1C1=CC=CC=C1 UFVXQDWNSAGPHN-UHFFFAOYSA-K 0.000 description 1
- 229920001400 block copolymer Polymers 0.000 description 1
- 150000001638 boron Chemical class 0.000 description 1
- 239000012267 brine Substances 0.000 description 1
- GDTBXPJZTBHREO-UHFFFAOYSA-N bromine Substances BrBr GDTBXPJZTBHREO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052794 bromium Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052792 caesium Inorganic materials 0.000 description 1
- TVFDJXOCXUVLDH-UHFFFAOYSA-N caesium atom Chemical compound [Cs] TVFDJXOCXUVLDH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000001716 carbazoles Chemical class 0.000 description 1
- 150000001721 carbon Chemical group 0.000 description 1
- CREMABGTGYGIQB-UHFFFAOYSA-N carbon carbon Chemical group C.C CREMABGTGYGIQB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000011203 carbon fibre reinforced carbon Substances 0.000 description 1
- 239000003795 chemical substances by application Substances 0.000 description 1
- 229910052801 chlorine Inorganic materials 0.000 description 1
- XOYLJNJLGBYDTH-UHFFFAOYSA-M chlorogallium Chemical compound [Ga]Cl XOYLJNJLGBYDTH-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 229910052804 chromium Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011651 chromium Substances 0.000 description 1
- 239000012459 cleaning agent Substances 0.000 description 1
- 238000012790 confirmation Methods 0.000 description 1
- 150000004696 coordination complex Chemical class 0.000 description 1
- 229910052802 copper Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010949 copper Substances 0.000 description 1
- 229920006037 cross link polymer Polymers 0.000 description 1
- 125000001995 cyclobutyl group Chemical group [H]C1([H])C([H])([H])C([H])(*)C1([H])[H] 0.000 description 1
- 125000000582 cycloheptyl group Chemical group [H]C1([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])(*)C([H])([H])C1([H])[H] 0.000 description 1
- HPXRVTGHNJAIIH-UHFFFAOYSA-N cyclohexanol Chemical compound OC1CCCCC1 HPXRVTGHNJAIIH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000000113 cyclohexyl group Chemical group [H]C1([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])(*)C([H])([H])C1([H])[H] 0.000 description 1
- 125000000640 cyclooctyl group Chemical group [H]C1([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])(*)C([H])([H])C([H])([H])C1([H])[H] 0.000 description 1
- 125000001511 cyclopentyl group Chemical group [H]C1([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])(*)C1([H])[H] 0.000 description 1
- 125000001559 cyclopropyl group Chemical group [H]C1([H])C([H])([H])C1([H])* 0.000 description 1
- 238000000354 decomposition reaction Methods 0.000 description 1
- 230000002950 deficient Effects 0.000 description 1
- 238000013461 design Methods 0.000 description 1
- 238000011161 development Methods 0.000 description 1
- 125000005266 diarylamine group Chemical group 0.000 description 1
- 150000004826 dibenzofurans Chemical class 0.000 description 1
- 125000005509 dibenzothiophenyl group Chemical group 0.000 description 1
- 229960004132 diethyl ether Drugs 0.000 description 1
- 125000000597 dioxinyl group Chemical group 0.000 description 1
- 230000008034 disappearance Effects 0.000 description 1
- 238000004090 dissolution Methods 0.000 description 1
- 239000003759 ester based solvent Substances 0.000 description 1
- 239000004210 ether based solvent Substances 0.000 description 1
- KLKFAASOGCDTDT-UHFFFAOYSA-N ethoxymethoxyethane Chemical compound CCOCOCC KLKFAASOGCDTDT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000001704 evaporation Methods 0.000 description 1
- 230000008020 evaporation Effects 0.000 description 1
- 238000002474 experimental method Methods 0.000 description 1
- 239000012065 filter cake Substances 0.000 description 1
- 239000012467 final product Substances 0.000 description 1
- GVEPBJHOBDJJJI-UHFFFAOYSA-N fluoranthrene Natural products C1=CC(C2=CC=CC=C22)=C3C2=CC=CC3=C1 GVEPBJHOBDJJJI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052731 fluorine Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011737 fluorine Substances 0.000 description 1
- 150000002240 furans Chemical class 0.000 description 1
- 125000002541 furyl group Chemical group 0.000 description 1
- UIWYJDYFSGRHKR-UHFFFAOYSA-N gadolinium atom Chemical compound [Gd] UIWYJDYFSGRHKR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052733 gallium Inorganic materials 0.000 description 1
- 235000011187 glycerol Nutrition 0.000 description 1
- PCHJSUWPFVWCPO-UHFFFAOYSA-N gold Chemical compound [Au] PCHJSUWPFVWCPO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052737 gold Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010931 gold Substances 0.000 description 1
- 230000005283 ground state Effects 0.000 description 1
- 125000003187 heptyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- 125000005549 heteroarylene group Chemical group 0.000 description 1
- 150000002391 heterocyclic compounds Chemical class 0.000 description 1
- FUZZWVXGSFPDMH-UHFFFAOYSA-M hexanoate Chemical compound CCCCCC([O-])=O FUZZWVXGSFPDMH-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 239000012456 homogeneous solution Substances 0.000 description 1
- 239000005457 ice water Substances 0.000 description 1
- 125000002883 imidazolyl group Chemical group 0.000 description 1
- WUNJCKOTXFSWBK-UHFFFAOYSA-N indeno[2,1-a]carbazole Chemical group C1=CC=C2C=C3C4=NC5=CC=CC=C5C4=CC=C3C2=C1 WUNJCKOTXFSWBK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052738 indium Inorganic materials 0.000 description 1
- APFVFJFRJDLVQX-UHFFFAOYSA-N indium atom Chemical compound [In] APFVFJFRJDLVQX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910003437 indium oxide Inorganic materials 0.000 description 1
- PJXISJQVUVHSOJ-UHFFFAOYSA-N indium(iii) oxide Chemical compound [O-2].[O-2].[O-2].[In+3].[In+3] PJXISJQVUVHSOJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- AMGQUBHHOARCQH-UHFFFAOYSA-N indium;oxotin Chemical compound [In].[Sn]=O AMGQUBHHOARCQH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000003387 indolinyl group Chemical group N1(CCC2=CC=CC=C12)* 0.000 description 1
- 125000003406 indolizinyl group Chemical group C=1(C=CN2C=CC=CC12)* 0.000 description 1
- VVVPGLRKXQSQSZ-UHFFFAOYSA-N indolo[3,2-c]carbazole Chemical group C1=CC=CC2=NC3=C4C5=CC=CC=C5N=C4C=CC3=C21 VVVPGLRKXQSQSZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000001041 indolyl group Chemical group 0.000 description 1
- 230000009878 intermolecular interaction Effects 0.000 description 1
- 229910052740 iodine Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011630 iodine Substances 0.000 description 1
- 229910052741 iridium Inorganic materials 0.000 description 1
- GKOZUEZYRPOHIO-UHFFFAOYSA-N iridium atom Chemical compound [Ir] GKOZUEZYRPOHIO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000000959 isobutyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])(C([H])([H])[H])C([H])([H])* 0.000 description 1
- 125000004491 isohexyl group Chemical group C(CCC(C)C)* 0.000 description 1
- 125000000555 isopropenyl group Chemical group [H]\C([H])=C(\*)C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- 125000001786 isothiazolyl group Chemical group 0.000 description 1
- 125000000842 isoxazolyl group Chemical group 0.000 description 1
- 239000005453 ketone based solvent Substances 0.000 description 1
- 238000010030 laminating Methods 0.000 description 1
- 239000011133 lead Substances 0.000 description 1
- 238000004020 luminiscence type Methods 0.000 description 1
- 229910052749 magnesium Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011777 magnesium Substances 0.000 description 1
- AUHZEENZYGFFBQ-UHFFFAOYSA-N mesitylene Substances CC1=CC(C)=CC(C)=C1 AUHZEENZYGFFBQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000001827 mesitylenyl group Chemical group [H]C1=C(C(*)=C(C([H])=C1C([H])([H])[H])C([H])([H])[H])C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- 229940098779 methanesulfonic acid Drugs 0.000 description 1
- GYNNXHKOJHMOHS-UHFFFAOYSA-N methyl-cycloheptane Natural products CC1CCCCCC1 GYNNXHKOJHMOHS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- MHQIMVYNMHGQSF-UHFFFAOYSA-N methylphosphanium;bromide Chemical compound [Br-].[PH3+]C MHQIMVYNMHGQSF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000002156 mixing Methods 0.000 description 1
- WTEWXIOJLNVYBZ-UHFFFAOYSA-N n-[4-[4-(4-ethenyl-n-naphthalen-1-ylanilino)phenyl]phenyl]-n-(4-ethenylphenyl)naphthalen-1-amine Chemical compound C1=CC(C=C)=CC=C1N(C=1C2=CC=CC=C2C=CC=1)C1=CC=C(C=2C=CC(=CC=2)N(C=2C=CC(C=C)=CC=2)C=2C3=CC=CC=C3C=CC=2)C=C1 WTEWXIOJLNVYBZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000006610 n-decyloxy group Chemical group 0.000 description 1
- 125000001298 n-hexoxy group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])O* 0.000 description 1
- 125000006608 n-octyloxy group Chemical group 0.000 description 1
- 150000002790 naphthalenes Chemical class 0.000 description 1
- QJGQUHMNIGDVPM-UHFFFAOYSA-N nitrogen group Chemical group [N] QJGQUHMNIGDVPM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000007645 offset printing Methods 0.000 description 1
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 description 1
- WCPAKWJPBJAGKN-UHFFFAOYSA-N oxadiazole Chemical compound C1=CON=N1 WCPAKWJPBJAGKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000004866 oxadiazoles Chemical class 0.000 description 1
- 125000002971 oxazolyl group Chemical group 0.000 description 1
- 239000001301 oxygen Substances 0.000 description 1
- 229960003540 oxyquinoline Drugs 0.000 description 1
- 150000002964 pentacenes Chemical class 0.000 description 1
- CSHWQDPOILHKBI-UHFFFAOYSA-N perylene Chemical compound C1=CC(C2=CC=CC=3C2=C2C=CC=3)=C3C2=CC=CC3=C1 CSHWQDPOILHKBI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FVDOBFPYBSDRKH-UHFFFAOYSA-N perylene-3,4,9,10-tetracarboxylic acid Chemical compound C=12C3=CC=C(C(O)=O)C2=C(C(O)=O)C=CC=1C1=CC=C(C(O)=O)C2=C1C3=CC=C2C(=O)O FVDOBFPYBSDRKH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000002080 perylenyl group Chemical group C1(=CC=C2C=CC=C3C4=CC=CC5=CC=CC(C1=C23)=C45)* 0.000 description 1
- 150000002987 phenanthrenes Chemical class 0.000 description 1
- 125000001792 phenanthrenyl group Chemical group C1(=CC=CC=2C3=CC=CC=C3C=CC12)* 0.000 description 1
- 125000004934 phenanthridinyl group Chemical group C1(=CC=CC2=NC=C3C=CC=CC3=C12)* 0.000 description 1
- 150000005041 phenanthrolines Chemical class 0.000 description 1
- 125000001791 phenazinyl group Chemical group C1(=CC=CC2=NC3=CC=CC=C3N=C12)* 0.000 description 1
- 125000001484 phenothiazinyl group Chemical group C1(=CC=CC=2SC3=CC=CC=C3NC12)* 0.000 description 1
- 125000001644 phenoxazinyl group Chemical group C1(=CC=CC=2OC3=CC=CC=C3NC12)* 0.000 description 1
- XPPWLXNXHSNMKC-UHFFFAOYSA-N phenylboron Chemical group [B]C1=CC=CC=C1 XPPWLXNXHSNMKC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ANRQGKOBLBYXFM-UHFFFAOYSA-M phenylmagnesium bromide Chemical compound Br[Mg]C1=CC=CC=C1 ANRQGKOBLBYXFM-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 229910052698 phosphorus Inorganic materials 0.000 description 1
- 125000004592 phthalazinyl group Chemical group C1(=NN=CC2=CC=CC=C12)* 0.000 description 1
- 229910052697 platinum Inorganic materials 0.000 description 1
- 229920002098 polyfluorene Polymers 0.000 description 1
- 229920000128 polypyrrole Polymers 0.000 description 1
- 229920000123 polythiophene Polymers 0.000 description 1
- 150000004032 porphyrins Chemical class 0.000 description 1
- 229910052700 potassium Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011591 potassium Substances 0.000 description 1
- SCVFZCLFOSHCOH-UHFFFAOYSA-M potassium acetate Chemical compound [K+].CC([O-])=O SCVFZCLFOSHCOH-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 229910000027 potassium carbonate Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000000843 powder Substances 0.000 description 1
- 238000011165 process development Methods 0.000 description 1
- BDERNNFJNOPAEC-UHFFFAOYSA-N propan-1-ol Chemical compound CCCO BDERNNFJNOPAEC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LVTJOONKWUXEFR-FZRMHRINSA-N protoneodioscin Natural products O(C[C@@H](CC[C@]1(O)[C@H](C)[C@@H]2[C@]3(C)[C@H]([C@H]4[C@@H]([C@]5(C)C(=CC4)C[C@@H](O[C@@H]4[C@H](O[C@H]6[C@@H](O)[C@@H](O)[C@@H](O)[C@H](C)O6)[C@@H](O)[C@H](O[C@H]6[C@@H](O)[C@@H](O)[C@@H](O)[C@H](C)O6)[C@H](CO)O4)CC5)CC3)C[C@@H]2O1)C)[C@H]1[C@H](O)[C@H](O)[C@H](O)[C@@H](CO)O1 LVTJOONKWUXEFR-FZRMHRINSA-N 0.000 description 1
- 125000004309 pyranyl group Chemical group O1C(C=CC=C1)* 0.000 description 1
- 125000003373 pyrazinyl group Chemical group 0.000 description 1
- 125000003226 pyrazolyl group Chemical group 0.000 description 1
- 150000003220 pyrenes Chemical class 0.000 description 1
- 125000001725 pyrenyl group Chemical group 0.000 description 1
- 125000002098 pyridazinyl group Chemical group 0.000 description 1
- 125000004076 pyridyl group Chemical group 0.000 description 1
- 229940083082 pyrimidine derivative acting on arteriolar smooth muscle Drugs 0.000 description 1
- 150000003230 pyrimidines Chemical class 0.000 description 1
- 125000000714 pyrimidinyl group Chemical group 0.000 description 1
- 125000000168 pyrrolyl group Chemical group 0.000 description 1
- MCJGNVYPOGVAJF-UHFFFAOYSA-N quinolin-8-ol Chemical compound C1=CN=C2C(O)=CC=CC2=C1 MCJGNVYPOGVAJF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000003254 radicals Chemical class 0.000 description 1
- 239000011541 reaction mixture Substances 0.000 description 1
- 238000001953 recrystallisation Methods 0.000 description 1
- YYMBJDOZVAITBP-UHFFFAOYSA-N rubrene Chemical compound C1=CC=CC=C1C(C1=C(C=2C=CC=CC=2)C2=CC=CC=C2C(C=2C=CC=CC=2)=C11)=C(C=CC=C2)C2=C1C1=CC=CC=C1 YYMBJDOZVAITBP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KZUNJOHGWZRPMI-UHFFFAOYSA-N samarium atom Chemical compound [Sm] KZUNJOHGWZRPMI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000007650 screen-printing Methods 0.000 description 1
- 229910052711 selenium Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052710 silicon Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000002356 single layer Substances 0.000 description 1
- 238000002791 soaking Methods 0.000 description 1
- 229910052708 sodium Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011734 sodium Substances 0.000 description 1
- HPALAKNZSZLMCH-UHFFFAOYSA-M sodium;chloride;hydrate Chemical compound O.[Na+].[Cl-] HPALAKNZSZLMCH-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 150000003413 spiro compounds Chemical class 0.000 description 1
- 125000003003 spiro group Chemical group 0.000 description 1
- 238000004544 sputter deposition Methods 0.000 description 1
- 238000003860 storage Methods 0.000 description 1
- 125000003011 styrenyl group Chemical group [H]\C(*)=C(/[H])C1=C([H])C([H])=C([H])C([H])=C1[H] 0.000 description 1
- 125000005504 styryl group Chemical group 0.000 description 1
- 150000005846 sugar alcohols Polymers 0.000 description 1
- 150000003462 sulfoxides Chemical class 0.000 description 1
- 229910052717 sulfur Inorganic materials 0.000 description 1
- 229940042055 systemic antimycotics triazole derivative Drugs 0.000 description 1
- JLBRGNFGBDNNSF-UHFFFAOYSA-N tert-butyl(dimethyl)borane Chemical group CB(C)C(C)(C)C JLBRGNFGBDNNSF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ILMRJRBKQSSXGY-UHFFFAOYSA-N tert-butyl(dimethyl)silicon Chemical group C[Si](C)C(C)(C)C ILMRJRBKQSSXGY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000005247 tetrazinyl group Chemical group N1=NN=NC(=C1)* 0.000 description 1
- 125000003831 tetrazolyl group Chemical group 0.000 description 1
- 125000004305 thiazinyl group Chemical group S1NC(=CC=C1)* 0.000 description 1
- 125000001984 thiazolidinyl group Chemical group 0.000 description 1
- 125000001544 thienyl group Chemical group 0.000 description 1
- 229930192474 thiophene Natural products 0.000 description 1
- IBBLKSWSCDAPIF-UHFFFAOYSA-N thiopyran Chemical compound S1C=CC=C=C1 IBBLKSWSCDAPIF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000005033 thiopyranyl group Chemical group 0.000 description 1
- 229910052718 tin Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011135 tin Substances 0.000 description 1
- 229910052719 titanium Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010936 titanium Substances 0.000 description 1
- 238000010023 transfer printing Methods 0.000 description 1
- LHJCZOXMCGQVDQ-UHFFFAOYSA-N tri(propan-2-yl)silyl trifluoromethanesulfonate Chemical compound CC(C)[Si](C(C)C)(C(C)C)OS(=O)(=O)C(F)(F)F LHJCZOXMCGQVDQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- TVIVIEFSHFOWTE-UHFFFAOYSA-K tri(quinolin-8-yloxy)alumane Chemical compound [Al+3].C1=CN=C2C([O-])=CC=CC2=C1.C1=CN=C2C([O-])=CC=CC2=C1.C1=CN=C2C([O-])=CC=CC2=C1 TVIVIEFSHFOWTE-UHFFFAOYSA-K 0.000 description 1
- KWQNQSDKCINQQP-UHFFFAOYSA-K tri(quinolin-8-yloxy)gallane Chemical compound C1=CN=C2C(O[Ga](OC=3C4=NC=CC=C4C=CC=3)OC=3C4=NC=CC=C4C=CC=3)=CC=CC2=C1 KWQNQSDKCINQQP-UHFFFAOYSA-K 0.000 description 1
- 125000005259 triarylamine group Chemical group 0.000 description 1
- 125000004306 triazinyl group Chemical group 0.000 description 1
- 150000003852 triazoles Chemical class 0.000 description 1
- LALRXNPLTWZJIJ-UHFFFAOYSA-N triethylborane Chemical group CCB(CC)CC LALRXNPLTWZJIJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WXRGABKACDFXMG-UHFFFAOYSA-N trimethylborane Chemical group CB(C)C WXRGABKACDFXMG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000000026 trimethylsilyl group Chemical group [H]C([H])([H])[Si]([*])(C([H])([H])[H])C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- MXSVLWZRHLXFKH-UHFFFAOYSA-N triphenylborane Chemical group C1=CC=CC=C1B(C=1C=CC=CC=1)C1=CC=CC=C1 MXSVLWZRHLXFKH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000009281 ultraviolet germicidal irradiation Methods 0.000 description 1
- 238000007738 vacuum evaporation Methods 0.000 description 1
- 229910052720 vanadium Inorganic materials 0.000 description 1
- GPPXJZIENCGNKB-UHFFFAOYSA-N vanadium Chemical compound [V]#[V] GPPXJZIENCGNKB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000000391 vinyl group Chemical group [H]C([*])=C([H])[H] 0.000 description 1
- 239000008096 xylene Substances 0.000 description 1
- NAWDYIZEMPQZHO-UHFFFAOYSA-N ytterbium Chemical compound [Yb] NAWDYIZEMPQZHO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052727 yttrium Inorganic materials 0.000 description 1
- VWQVUPCCIRVNHF-UHFFFAOYSA-N yttrium atom Chemical compound [Y] VWQVUPCCIRVNHF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YVTHLONGBIQYBO-UHFFFAOYSA-N zinc indium(3+) oxygen(2-) Chemical compound [O--].[Zn++].[In+3] YVTHLONGBIQYBO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HTPBWAPZAJWXKY-UHFFFAOYSA-L zinc;quinolin-8-olate Chemical compound [Zn+2].C1=CN=C2C([O-])=CC=CC2=C1.C1=CN=C2C([O-])=CC=CC2=C1 HTPBWAPZAJWXKY-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
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Definitions
- the present invention relates to a compound, a coating composition comprising the compound, an organic light emitting device formed using the coating composition, and a method of manufacturing the same.
- the organic light emission phenomenon is one example in which current is converted into visible light by an internal process of a specific organic molecule.
- the principle of organic luminescence phenomenon is as follows. When an organic layer is positioned between the anode and the cathode, electrons and holes are injected into the organic layer from the cathode and the anode, respectively, when an electric current is applied between the two electrodes. Electrons and holes injected into the organic layer are recombined to form an exciton, and the exciton falls back to the ground state to emit light.
- An organic light emitting device using such a principle may be generally composed of an organic material layer including a cathode, an anode and an organic material layer disposed therebetween, for example, a hole injecting layer, a hole transporting layer, a light emitting layer, and an electron transporting layer.
- a deposition process has been mainly used for manufacturing an organic light emitting device.
- a material loss is generated much when the organic light emitting device is manufactured by a deposition process.
- a technique of manufacturing a device through a solution process which can increase production efficiency due to low material loss
- development of a material that can be used in a solution process is required.
- Materials used in organic light emitting devices for solution processes should have the following properties.
- the material used in the solution process should have excellent coatability so that a thin film of uniform thickness can be formed without forming holes or aggregation when forming the thin film.
- the layers of the solution process must be resistant to the solvents and materials used in the process of forming the other layers.
- a solution crosslinked polymer is formed on the substrate through heat treatment or UV irradiation after application of the solution, so as to have sufficient resistance to the solvent and the substance used in the next process, or to have resistance to the solvent itself Materials that can be used should be used.
- an arylamine monomolecule used in an organic light emitting device does not have resistance to the solvent of the next process itself. Therefore, an arylamine monomolecular compound having a curing unit introduced therein for use in an organic light emitting device for solution process Development is required.
- R 1 to R 3 and R 5 to R 7 are the same or different from each other, and each independently hydrogen; heavy hydrogen; A halogen group; A nitrile group; Silyl group; Boron group; A substituted or unsubstituted alkyl group; A substituted or unsubstituted cycloalkyl group; A substituted or unsubstituted alkoxy group; A substituted or unsubstituted alkenyl group; A substituted or unsubstituted aryl group; Or a substituted or unsubstituted heterocyclic group,
- R4 and R8 are the same or different and are each independently a functional group capable of crosslinking by heat or light
- Ar1 and Ar2 are the same or different from each other, and each independently hydrogen; heavy hydrogen; A substituted or unsubstituted alkyl group; A substituted or unsubstituted cycloalkyl group; A substituted or unsubstituted aryl group; Or a substituted or unsubstituted heterocyclic group,
- L1 and L2 are the same or different from each other and are each independently a direct bond; A substituted or unsubstituted divalent alkyl group; A substituted or unsubstituted divalent aryl group; Or a substituted or unsubstituted divalent heteroaryl group,
- L11 and L12 are the same or different and are each independently a direct bond; Or a substituted or unsubstituted divalent aryl group,
- L is a substituted or unsubstituted divalent or trivalent aryl group; A substituted or unsubstituted divalent or trivalent heteroaryl group; Or a substituted or unsubstituted divalent or trivalent arylamine group,
- n1 and m2 are each an integer of 0 to 12,
- n1 and n5 are each an integer of 0 to 5
- n2 and n6 are each an integer of 0 to 4,
- n3 and n7 are each an integer of 0 to 3
- p1 and p2 are each an integer of 1 to 4,
- n1 to n3, n5 to n7, p1 and p2 are each 2 or more, the substituents in the parentheses are the same or different from each other,
- the present disclosure provides coating compositions comprising such compounds.
- the disclosure also relates to a light emitting device comprising: a first electrode; A second electrode; And one or more organic layers disposed between the first electrode and the second electrode, wherein at least one of the organic layers includes a cured product of the coating composition, And is in a cured state by heat treatment or light treatment.
- the present disclosure provides a method of manufacturing a semiconductor device, comprising: preparing a substrate; Forming a first electrode on the substrate; Forming at least one organic layer on the first electrode; And forming a second electrode on the organic material layer, wherein the forming the organic material layer includes forming one or more organic material layers using the coating composition. do.
- the compound according to one embodiment of the present invention can be subjected to a solution process and can be used as a material for an organic material layer of an organic light emitting device and can provide a low driving voltage, a high luminous efficiency and a high lifetime
- the organic compound layer containing the compound may provide an organic light emitting device having resistance to a solvent and a material used in a process of forming another layer.
- the compound according to one embodiment of the present invention has a fluorene structure and an aryl group directly bonded to the 9-carbon of the fluorene, and an alkyl group as a linker between the curable group and the fluorene interfere with the intermolecular interaction, And it is advantageous in that the curing temperature can be lowered by increasing the motility of the curable group or reducing the steric hindrance around the curable group due to the alkyl group in a straight chain form.
- FIG 1 shows an example of an organic light emitting device according to an embodiment of the present invention.
- FIG. 2 is a graph showing an MS graph of Compound 1.
- FIG. 3 is a graph showing a DSC measurement graph of Compound 1.
- Example 4 is a diagram showing the results of the membrane retention test of Example 1-1.
- FIG. 6 is a diagram showing the results of the membrane retention test of Comparative Example 1-2.
- An embodiment of the present invention provides a compound represented by the following formula (1).
- R 1 to R 3 and R 5 to R 7 are the same or different from each other, and each independently hydrogen; heavy hydrogen; A halogen group; A nitrile group; Silyl group; Boron group; A substituted or unsubstituted alkyl group; A substituted or unsubstituted cycloalkyl group; A substituted or unsubstituted alkoxy group; A substituted or unsubstituted alkenyl group; A substituted or unsubstituted aryl group; Or a substituted or unsubstituted heterocyclic group,
- R4 and R8 are the same or different and are each independently a functional group capable of crosslinking by heat or light
- Ar1 and Ar2 are the same or different from each other, and each independently hydrogen; heavy hydrogen; A substituted or unsubstituted alkyl group; A substituted or unsubstituted cycloalkyl group; A substituted or unsubstituted aryl group; Or a substituted or unsubstituted heterocyclic group,
- L1 and L2 are the same or different from each other and are each independently a direct bond; A substituted or unsubstituted divalent alkyl group; A substituted or unsubstituted divalent aryl group; Or a substituted or unsubstituted divalent heteroaryl group,
- L11 and L12 are the same or different and are each independently a direct bond; Or a substituted or unsubstituted divalent aryl group,
- L is a substituted or unsubstituted divalent or trivalent aryl group; A substituted or unsubstituted divalent or trivalent heteroaryl group; Or a substituted or unsubstituted divalent or trivalent arylamine group,
- n1 and m2 are each an integer of 0 to 12,
- n1 and n5 are each an integer of 0 to 5
- n2 and n6 are each an integer of 0 to 4,
- n3 and n7 are each an integer of 0 to 3
- p1 and p2 are each an integer of 1 to 4,
- n1 to n3, n5 to n7, p1 and p2 are each 2 or more, the substituents in the parentheses are the same or different from each other,
- the compound according to one embodiment of the present invention has excellent solubility due to the aryl group and the alkyl group directly bonded to the 9-carbon atom of the fluorene, and the proper distance due to the linker between the fluorene and the curable group is maintained,
- the present invention provides an organic light emitting device which is excellent in resistance to solvents, and has excellent efficiency and device characteristics because it increases the mobility of the curing group or reduces the steric hindrance around the curing group.
- a member when a member is located on another member, it includes not only the case where the member is in contact with the other member but also the case where another member exists between the two members.
- the compound of formula (1) is preferably a compound having solubility in a suitable organic solvent.
- the organic light emitting device can be manufactured by the solution coating method, and the device can be made larger.
- " functional group capable of crosslinking by heat or light " may mean a reactive substituent which causes crosslinking between the compounds by exposure to heat and / or light.
- the crosslinking can be produced by heat treatment or light irradiation, and connecting the radicals generated by decomposition of the carbon-carbon multiple bond, cyclic structure.
- Quot refers to a moiety bonded to another substituent or bond.
- " substituted " means that the hydrogen atom bonded to the carbon atom of the compound is replaced with another substituent, and the substituted position is not limited as long as the substituent is a substitutable position, When two or more substituents are substituted, two or more substituents may be the same as or different from each other.
- substituted or unsubstituted A halogen group; A nitrile group; Silyl group; Boron group; An alkyl group; A cycloalkyl group; An alkoxy group; An alkenyl group; An aryl group; And a heterocyclic group, or a substituted or unsubstituted one in which at least two of the above-exemplified substituents are connected to each other.
- " a substituent to which at least two substituents are connected " may be a biphenyl group. That is, the biphenyl group may be an aryl group, and may be interpreted as a substituent in which two phenyl groups are connected.
- the halogen group is fluorine (F), chlorine (Cl), bromine (Br) or iodine (I).
- the silyl group may be represented by the formula of -SiR a R b R c , wherein R a , R b and R c are each hydrogen; A substituted or unsubstituted alkyl group; Or a substituted or unsubstituted aryl group.
- the silyl group specifically includes, but not limited to, trimethylsilyl, triethylsilyl, t-butyldimethylsilyl, vinyldimethylsilyl, propyldimethylsilyl, triphenylsilyl, diphenylsilyl and phenylsilyl groups. Do not.
- the boron group may be represented by the formula of -BR d R e , wherein R d and R e are each hydrogen; A substituted or unsubstituted alkyl group; Or a substituted or unsubstituted aryl group.
- the boron group specifically includes, but is not limited to, a trimethylboron group, a triethylboron group, a t-butyldimethylboron group, a triphenylboron group, and a phenylboron group.
- the alkyl group may be linear or branched, and the number of carbon atoms is not particularly limited, but may be 1 to 60. According to one embodiment, the alkyl group may have 1 to 30 carbon atoms. According to another embodiment, the alkyl group has 1 to 10 carbon atoms.
- alkyl group examples include a methyl group, an ethyl group, a propyl group, an isopropyl group, a butyl group, an isobutyl group, a tert-butyl group, Methylpentyl, 4-methyl-2-pentyl, hexyl, isohexyl, 4-methylhexyl, 5-methylpentyl, Methylhexyl group, heptyl group, and the like, but are not limited thereto.
- the cycloalkyl group is not particularly limited, but may have 3 to 60 carbon atoms. According to one embodiment, the cycloalkyl group has 3 to 40 carbon atoms. According to another embodiment, the cycloalkyl group has 3 to 20 carbon atoms.
- cycloalkyl group examples include a cyclopropyl group, a cyclobutyl group, a cyclopentyl group, a 3-methylcyclopentyl group, a 2,3-dimethylcyclopentyl group, a cyclohexyl group, a 3-methylcyclohexyl group, But are not limited to, a hexyl group, a 2,3-dimethylcyclohexyl group, a 3,4,5-trimethylcyclohexyl group, a 4-tert-butylcyclohexyl group, a cycloheptyl group and a cyclooctyl group.
- the alkoxy group may be linear, branched or cyclic.
- the number of carbon atoms of the alkoxy group is not particularly limited, and may be 1 to 20 carbon atoms.
- Specific examples of the alkoxy group include methoxy, ethoxy, n-propoxy, isopropoxy, i-propoxy, n-butoxy, isobutoxy, N-pentyloxy group, n-hexyloxy group, 3,3-dimethylbutyloxy group, 2-ethylbutyloxy group, n-octyloxy group, n- -Decyloxy group, benzyloxy group, p-methylbenzyloxy group, and the like, but is not limited thereto.
- the alkenyl group may be linear or branched, and the number of carbon atoms is not particularly limited, but may be 2 to 30, and according to one embodiment, the alkenyl group may have 2 to 20 carbon atoms.
- Specific examples of the alkenyl group include a vinyl group, a 1-propenyl group, an isopropenyl group, a 1-butenyl group, a 2-butenyl group, a 3-butenyl group, a 1-pentenyl group, a 2-pentenyl group, A 2-phenylvinyl-1-yl group, a 2,2-diphenylvinyl-1-yl group, a 2-methylvinyl group, a 2-methylvinyl group, a 1-butenyl group, (Diphenyl-1-yl) vinyl-1-yl group, stilbenyl group, styrenyl group and the like, It is not limited.
- examples of the arylamine group include a substituted or unsubstituted monoarylamine group, a substituted or unsubstituted diarylamine group, or a substituted or unsubstituted triarylamine group.
- the aryl group in the arylamine group may be a monocyclic aryl group or a polycyclic aryl group.
- the arylamine group having at least two aryl groups may contain a monocyclic aryl group, a polycyclic aryl group, or a monocyclic aryl group and a polycyclic aryl group at the same time.
- the aryl group in the arylamine group may be selected from the examples of the aryl group described above.
- arylamine group examples include phenylamine, naphthylamine, biphenylamine, anthracenylamine, 3-methylphenylamine, 4-methyl-naphthylamine, 2-methyl- But are not limited to, cenylamine, diphenylamine, phenylnaphthylamine, ditolylamine, phenyltolylamine, carbazole and triphenylamine groups.
- the aryl group is not particularly limited, but may have 6 to 60 carbon atoms, and may be a monocyclic aryl group or a polycyclic aryl group. According to one embodiment, the aryl group has 6 to 30 carbon atoms. According to one embodiment, the aryl group has 6 to 20 carbon atoms.
- the aryl group may be a phenyl group, a biphenyl group, a terphenyl group or the like as the monocyclic aryl group, but is not limited thereto.
- polycyclic aryl group examples include, but are not limited to, a naphthyl group, an anthracenyl group, a phenanthrenyl group, a pyrenyl group, a perylenyl group, a triphenyl group, a klycenyl group and a fluorenyl group.
- a fluorenyl group may be substituted, and two substituents may be bonded to each other to form a spiro structure.
- the heterocyclic group is a heterocyclic group and is a heterocyclic group containing at least one of N, O, P, S, Si and Se, and the number of carbon atoms is not particularly limited, but may be 2 to 60 carbon atoms. According to one embodiment, the number of carbon atoms of the heterocyclic group is 2 to 30. According to another embodiment, the number of carbon atoms of the heterocyclic group is 2 to 20.
- heterocyclic group examples include a pyridyl group, a pyrrolyl group, a pyrimidyl group, a pyridazinyl group, a furanyl group, a thiophenyl group, an imidazole group, a pyrazole group, an oxazole group, an isoxazole group, a thiazole group, A thiadiazole group, a thiadiazole group, a tetrazolyl group, a pyranyl group, a thiopyranyl group, a pyrazinyl group, an oxazinyl group, a thiazinyl group, a dioxinyl group, a triazinyl group, a tetrazinyl group, A phenanthridinyl group, a diazanaphthalenyl group, a triazinylidene group, an indole group, a thioph
- heterocyclic group in the present specification, the description of the aforementioned heterocyclic group can be applied, except that the heteroaryl group is aromatic.
- L11 and L12 are the same or different from each other, and are each independently a direct bond; Or a substituted or unsubstituted divalent aryl group having 6 to 60 carbon atoms.
- L11 and L12 are the same or different and are each independently a direct bond; Or a substituted or unsubstituted divalent aryl group having 6 to 30 carbon atoms.
- L11 and L12 are the same or different and are each independently a direct bond; A substituted or unsubstituted divalent phenyl group; Or a substituted or unsubstituted divalent biphenyl group.
- L11 and L12 are the same or different and are each independently a direct bond; Or a divalent phenyl group.
- L11 and L12 are direct bonds.
- L11 and L12 are bivalent phenyl groups.
- L1 and L2 are the same or different and are each independently a direct bond; A substituted or unsubstituted divalent alkyl group having 1 to 60 carbon atoms; A substituted or unsubstituted divalent aryl group having 6 to 60 carbon atoms; Or a substituted or unsubstituted divalent heteroaryl group having 2 to 60 carbon atoms.
- L1 and L2 are the same or different and are each independently a direct bond; A substituted or unsubstituted divalent alkyl group having 1 to 30 carbon atoms; A substituted or unsubstituted divalent aryl group having 6 to 30 carbon atoms; Or a substituted or unsubstituted divalent heteroaryl group having 2 to 30 carbon atoms.
- L1 and L2 are the same or different and are each independently a direct bond; A substituted or unsubstituted divalent methyl group; A substituted or unsubstituted divalent ethyl group; A substituted or unsubstituted divalent phenyl group; A substituted or unsubstituted divalent biphenyl group; A substituted or unsubstituted divalent terphenyl group; A substituted or unsubstituted divalent naphthyl group; A substituted or unsubstituted divalent fluorenyl group; A substituted or unsubstituted divalent dibenzofurane group; A substituted or unsubstituted divalent dibenzothiophene group; Or a substituted or unsubstituted divalent carbazole group.
- L1 and L2 are the same or different and are each independently a direct bond; A substituted or unsubstituted bivalent methyl group; A substituted or unsubstituted divalent phenyl group; Or a substituted or unsubstituted divalent carbazole group.
- L1 and L2 are the same or different and are each independently a direct bond; A divalent methyl group; A divalent phenyl group; Or a divalent carbazole group.
- p1 and p2 are integers of 1 to 4, respectively.
- p1 and p2 are 3 or 4.
- the formula (1) may be represented by the following formula (2).
- R1 to R8, n1 to n3, n5 to n7, Ar1, Ar2, L, L11, L12q, m1 and m2 are as defined in Formula 1,
- L3 to L10 are the same or different and are each independently a direct bond; A substituted or unsubstituted divalent alkyl group; A substituted or unsubstituted divalent aryl group; Or a substituted or unsubstituted divalent heteroaryl group.
- L3 to L10 are the same or different from each other and are each independently a direct bond; A substituted or unsubstituted divalent alkyl group having 1 to 60 carbon atoms; A substituted or unsubstituted divalent aryl group having 6 to 60 carbon atoms; Or a substituted or unsubstituted divalent heteroaryl group having 2 to 60 carbon atoms.
- L3 to L10 are the same or different and are each independently a direct bond; A substituted or unsubstituted divalent alkyl group having 1 to 30 carbon atoms; A substituted or unsubstituted divalent aryl group having 6 to 30 carbon atoms; Or a substituted or unsubstituted divalent heteroaryl group having 2 to 30 carbon atoms.
- L3 to L10 are the same or different and are each independently a direct bond; A substituted or unsubstituted divalent methyl group; A substituted or unsubstituted divalent ethyl group; A substituted or unsubstituted divalent phenyl group; A substituted or unsubstituted divalent biphenyl group; A substituted or unsubstituted divalent terphenyl group; A substituted or unsubstituted divalent naphthyl group; A substituted or unsubstituted divalent fluorenyl group; A substituted or unsubstituted divalent dibenzofurane group; A substituted or unsubstituted divalent dibenzothiophene group; Or a substituted or unsubstituted divalent carbazole group.
- L3 to L10 are the same or different and are each independently a direct bond; A substituted or unsubstituted divalent methyl group; A substituted or unsubstituted divalent phenyl group; Or a substituted or unsubstituted divalent carbazole group.
- L3 to L10 are the same or different and are each independently a direct bond; A divalent methyl group; A divalent phenyl group; Or a divalent carbazole group.
- L3 and L10 are direct bonds
- L4 and L9 are divalent divalent carbazole groups
- L5 and L8 are bivalent phenyl groups
- L6 and L7 are divalent methyl groups.
- L3, L5, L8 and L10 are the same or different and each independently a substituted or unsubstituted divalent phenyl group
- L4 and L9 are the same or different
- L6 and L7 are the same or different and are each independently a substituted or unsubstituted divalent methyl group.
- L3, L5, L8 and L10 are bivalent phenyl groups
- L4 and L9 are divalent carbazole groups
- L6 and L7 are divalent methyl groups.
- Ar1 and Ar2 are the same or different and each independently hydrogen; heavy hydrogen; A substituted or unsubstituted aryl group; Or a substituted or unsubstituted heterocyclic group.
- Ar1 and Ar2 are the same or different and each independently hydrogen; heavy hydrogen; A substituted or unsubstituted aryl group having 6 to 60 carbon atoms; Or a substituted or unsubstituted heterocyclic group having 2 to 60 carbon atoms.
- Ar1 and Ar2 are the same or different and are each independently selected from the group consisting of hydrogen; heavy hydrogen; A substituted or unsubstituted C6 to C30 aryl; Or a substituted or unsubstituted heterocyclic group having 2 to 30 carbon atoms.
- Ar1 and Ar2 are the same or different and each independently hydrogen; heavy hydrogen; An aryl group having 6 to 30 carbon atoms which is substituted or unsubstituted with at least one member selected from the group consisting of an alkyl group having 1 to 20 carbon atoms and an aryl group having 6 to 30 carbon atoms; Or a heterocyclic group having 2 to 30 carbon atoms which is unsubstituted or substituted with at least one group selected from the group consisting of an alkyl group having 1 to 20 carbon atoms and an aryl group having 6 to 30 carbon atoms.
- Ar1 and Ar2 are the same or different and are each independently selected from the group consisting of hydrogen; heavy hydrogen; An aryl group having 6 to 30 carbon atoms, which is substituted or unsubstituted with at least one member selected from the group consisting of methyl, ethyl, propyl, isopropyl, butyl, tert-butyl, pentyl, hexyl and phenyl; Or a heterocyclic group having 2 to 30 carbon atoms which is substituted or unsubstituted with at least one member selected from the group consisting of methyl, ethyl, propyl, isopropyl, butyl, tert-butyl, pentyl,
- Ar1 and Ar2 are the same or different and each independently represents a phenyl group substituted or unsubstituted with at least one member selected from the group consisting of an alkyl group having 1 to 20 carbon atoms and an aryl group having 6 to 30 carbon atoms; A biphenyl group substituted or unsubstituted with at least one member selected from the group consisting of an alkyl group having 1 to 20 carbon atoms and an aryl group having 6 to 30 carbon atoms; A substituted or unsubstituted naphthyl group selected from the group consisting of an alkyl group having 1 to 20 carbon atoms and an aryl group having 6 to 30 carbon atoms; A substituted or unsubstituted fluorenyl group selected from the group consisting of an alkyl group having 1 to 20 carbon atoms and an aryl group having 6 to 30 carbon atoms; Or a carbazol group substituted or unsubstituted with at least one member selected from the group consisting
- Ar1 and Ar2 may be the same or different and each independently represents a methyl group, an ethyl group, a propyl group, an isopropyl group, a butyl group, a tert-butyl group, a pentyl group, A phenyl group substituted or unsubstituted with at least one member selected from the group consisting of A biphenyl group substituted or unsubstituted with at least one member selected from the group consisting of methyl, ethyl, propyl, isopropyl, butyl, tert-butyl, pentyl, hexyl and phenyl; A naphthyl group substituted or unsubstituted with at least one member selected from the group consisting of methyl, ethyl, propyl, isopropyl, butyl, tert-butyl, pentyl, hexyl and phenyl; A substituted or
- q is 1 or 2.
- L is a substituted or unsubstituted divalent or trivalent aryl group; A substituted or unsubstituted divalent or trivalent heteroaryl group; Or a substituted or unsubstituted divalent or trivalent arylamine group.
- L is a substituted or unsubstituted divalent aryl group; A substituted or unsubstituted divalent heteroaryl group; Or a substituted or unsubstituted divalent arylamine group.
- L is a substituted or unsubstituted divalent aryl group having 6 to 60 carbon atoms; Or a substituted or unsubstituted divalent heteroaryl group having 2 to 60 carbon atoms.
- L is a substituted or unsubstituted divalent aryl group having 6 to 30 carbon atoms; Or a substituted or unsubstituted divalent heteroaryl group having 2 to 30 carbon atoms.
- L is a substituted or unsubstituted divalent aryl group having 6 to 30 carbon atoms.
- L is a substituted or unsubstituted divalent phenyl group; A substituted or unsubstituted divalent biphenyl group; Or a substituted or unsubstituted divalent fluorenyl group.
- L is a divalent phenyl group substituted or unsubstituted with an alkyl group having 1 to 10 carbon atoms; A divalent biphenyl group substituted or unsubstituted with an alkyl group having 1 to 10 carbon atoms; Or a divalent fluorenyl group substituted or unsubstituted with an alkyl group having 1 to 10 carbon atoms.
- L is a divalent phenyl group substituted or unsubstituted with a methyl group or a hexyl group; A divalent biphenyl group substituted or unsubstituted with a methyl group or a hexyl group; Or a bivalent fluorenyl group substituted or unsubstituted with a methyl group or a hexyl group.
- L is a divalent phenyl group; A divalent 9,9-dimethylfluorenyl group; Or a divalent 9,9-dihexylfluorenyl group.
- L is a substituted or unsubstituted trivalent aryl group; A substituted or unsubstituted trivalent heteroaryl group; Or a substituted or unsubstituted trivalent arylamine group.
- L is a substituted or unsubstituted trivalent aryl group having 6 to 60 carbon atoms; Or a substituted or unsubstituted trivalent arylamine group.
- L is a substituted or unsubstituted trivalent phenyl group; Or a substituted or unsubstituted trivalent triphenylamine group.
- L may be any of the following structures.
- W1 and W2 are the same or different and each independently hydrogen; Or a substituted or unsubstituted alkyl group,
- the structures may be further substituted.
- W1 and W2 are the same or different from each other, and each independently hydrogen; Or a substituted or unsubstituted alkyl group having 1 to 20 carbon atoms.
- W1 and W2 are the same or different and each independently hydrogen; Or a substituted or unsubstituted alkyl group having 1 to 10 carbon atoms.
- W1 and W2 are the same or different and each independently represents a substituted or unsubstituted methyl group; A substituted or unsubstituted ethyl group; A substituted or unsubstituted propyl group; A substituted or unsubstituted butyl group; A substituted or unsubstituted pentyl group; Or a substituted or unsubstituted hexyl group.
- W1 and W2 are the same or different from each other and are each independently a methyl group; An ethyl group; Propyl group; Butyl group; Pentyl group; Or a hexyl group.
- W1 and W2 are methyl groups.
- W1 and W2 are hexyl groups.
- the formula (1) may be represented by any one of the following formulas (3) to (6).
- R1 to R8, m1, m2, n1 to n3, n5 to n7, L1, L2, L11, L12, p1, p2, Ar1 and Ar2 are as defined in Formula 1,
- L13 is a direct bond; Or a substituted or unsubstituted divalent aryl group,
- L21 is a direct bond; A substituted or unsubstituted divalent alkyl group; A substituted or unsubstituted divalent aryl group; Or a substituted or unsubstituted divalent heteroaryl group,
- Ar21 is hydrogen; heavy hydrogen; A substituted or unsubstituted alkyl group; A substituted or unsubstituted cycloalkyl group; A substituted or unsubstituted aryl group; Or a substituted or unsubstituted heterocyclic group,
- R51, R61 and R71 are the same or different from each other, and each independently hydrogen; heavy hydrogen; A halogen group; A nitrile group; Silyl group; Boron group; A substituted or unsubstituted alkyl group; A substituted or unsubstituted cycloalkyl group; A substituted or unsubstituted alkoxy group; A substituted or unsubstituted alkenyl group; A substituted or unsubstituted aryl group; Or a substituted or unsubstituted heterocyclic group,
- R 81 is a functional group capable of crosslinking by heat or light
- n21 is an integer of 0 to 12
- p21 is an integer of 1 to 4,
- n51 is an integer of 0 to 5
- n61 is an integer of 0 to 4,
- n71 is an integer of 0 to 3
- W ' and W " are the same or different and each independently hydrogen; Or a substituted or unsubstituted alkyl group having 1 to 20 carbon atoms.
- W ' and W " are the same or different and each independently hydrogen; Or a substituted or unsubstituted alkyl group having 1 to 10 carbon atoms.
- W ' and W " are the same or different and are each independently a substituted or unsubstituted methyl group; A substituted or unsubstituted ethyl group; A substituted or unsubstituted propyl group; A substituted or unsubstituted butyl group; A substituted or unsubstituted pentyl group; Or a substituted or unsubstituted hexyl group.
- W ' and W " are the same or different and are each independently a methyl group; An ethyl group; Propyl group; Butyl group; Pentyl group; Or a hexyl group.
- W ' and W " are methyl groups.
- W ' and W " are hexyl groups.
- L13 is a direct bond; Or a substituted or unsubstituted divalent aryl group having 6 to 60 carbon atoms.
- L13 is a direct bond; Or a substituted or unsubstituted divalent aryl group having 6 to 30 carbon atoms.
- L13 is a direct bond; A substituted or unsubstituted divalent phenyl group; Or a substituted or unsubstituted divalent biphenyl group.
- L13 is a direct bond; Or a divalent phenyl group.
- L21 is a direct bond; A substituted or unsubstituted divalent alkyl group having 1 to 20 carbon atoms; A substituted or unsubstituted divalent aryl group having 6 to 60 carbon atoms; Or a substituted or unsubstituted divalent heteroaryl group having 2 to 60 carbon atoms.
- L21 is a direct bond; A substituted or unsubstituted divalent alkyl group having 1 to 10 carbon atoms; A substituted or unsubstituted divalent aryl group having 6 to 30 carbon atoms; Or a substituted or unsubstituted divalent heteroaryl group having 2 to 30 carbon atoms.
- L21 is a direct bond; A substituted or unsubstituted divalent methyl group; A substituted or unsubstituted divalent ethyl group; A substituted or unsubstituted divalent phenyl group; A substituted or unsubstituted divalent biphenyl group; A substituted or unsubstituted divalent terphenyl group; A substituted or unsubstituted divalent naphthyl group; A substituted or unsubstituted divalent fluorenyl group; A substituted or unsubstituted divalent dibenzofurane group; A substituted or unsubstituted divalent dibenzothiophene group; Or a substituted or unsubstituted divalent carbazole group.
- L21 is a direct bond; A substituted or unsubstituted divalent methyl group; A substituted or unsubstituted divalent phenyl group; Or a substituted or unsubstituted divalent carbazole group.
- L21 is a direct bond; A divalent methyl group; A divalent phenyl group; Or a divalent carbazole group.
- p21 is an integer of 1 to 4.
- p21 is 3 or 4.
- Ar21 are the same or different from each other and each independently hydrogen; heavy hydrogen; A substituted or unsubstituted aryl group; Or a substituted or unsubstituted heterocyclic group.
- Ar21 are the same or different and each independently hydrogen; heavy hydrogen; A substituted or unsubstituted aryl group having 6 to 60 carbon atoms; Or a substituted or unsubstituted heterocyclic group having 2 to 60 carbon atoms.
- Ar21 is the same or different and is independently selected from the group consisting of hydrogen; heavy hydrogen; A substituted or unsubstituted C6 to C30 aryl; Or a substituted or unsubstituted heterocyclic group having 2 to 30 carbon atoms.
- Ar21 are the same or different and each independently hydrogen; heavy hydrogen; An aryl group having 6 to 30 carbon atoms which is substituted or unsubstituted with at least one member selected from the group consisting of an alkyl group having 1 to 20 carbon atoms and an aryl group having 6 to 30 carbon atoms; Or a heterocyclic group having 2 to 30 carbon atoms which is unsubstituted or substituted with at least one group selected from the group consisting of an alkyl group having 1 to 20 carbon atoms and an aryl group having 6 to 30 carbon atoms.
- Ar21 is the same or different and is independently selected from the group consisting of hydrogen; heavy hydrogen; An aryl group having 6 to 30 carbon atoms, which is substituted or unsubstituted with at least one member selected from the group consisting of methyl, ethyl, propyl, isopropyl, butyl, tert-butyl, pentyl, hexyl and phenyl; Or a heterocyclic group having 2 to 30 carbon atoms which is substituted or unsubstituted with at least one member selected from the group consisting of methyl, ethyl, propyl, isopropyl, butyl, tert-butyl, pentyl,
- Ar21 is a phenyl group which is the same or different from each other and is independently substituted or unsubstituted from the group consisting of an alkyl group having 1 to 20 carbon atoms and an aryl group having 6 to 30 carbon atoms;
- Ar 21 is the same or different from each other and each independently represents a group consisting of methyl, ethyl, propyl, isopropyl, butyl, tert-butyl, pentyl, A substituted or unsubstituted phenyl group;
- a biphenyl group substituted or unsubstituted with at least one member selected from the group consisting of methyl, ethyl, propyl, isopropyl, butyl, tert-butyl, pentyl, hexyl and phenyl;
- a naphthyl group substituted or unsubstituted with at least one member selected from the group consisting of methyl, ethyl, propyl, isopropyl, butyl, tert-butyl, pentyl, hexyl and phenyl;
- a substituted or unsubstituted fluorenyl group selected from the group consisting of a methyl
- n1 and m2 are integers of 0 to 12, respectively.
- m1 and m2 are integers of 0 to 6, respectively.
- n1 and m2 are each an integer of 1 to 6 and m1 and m2 are each an integer of 1 to 6, thereby maintaining a proper distance between the fluorene and the curing agent, To reduce the steric hindrance and lower the hardening point.
- m1 and m2 are 2 or 6.
- m21 is an integer of 0 to 12.
- m21 is an integer from 0 to 6.
- m21 is 2 or 6.
- R1 to R3 and R5 to R7 are the same or different from each other, and each independently hydrogen; A substituted or unsubstituted alkyl group; Or a substituted or unsubstituted alkoxy group.
- R 1 to R 3 and R 5 to R 7 are the same or different and each independently hydrogen; A substituted or unsubstituted alkyl group having 1 to 20 carbon atoms; Or a substituted or unsubstituted C1-C20 alkoxy group.
- R 1 to R 3 and R 5 to R 7 are the same or different and each independently hydrogen; Or a substituted or unsubstituted alkyl group having 1 to 20 carbon atoms.
- R 1 to R 3 and R 5 to R 7 are the same or different and each independently hydrogen; A substituted or unsubstituted methyl group; A substituted or unsubstituted ethyl group; A substituted or unsubstituted propyl group; A substituted or unsubstituted isopropyl group; A substituted or unsubstituted butyl group; Or a substituted or unsubstituted tert-butyl group.
- R 1 to R 3 and R 5 to R 7 are the same or different and each independently hydrogen; Methyl group; An ethyl group; Propyl group; Isopropyl group; Butyl group; Or a tert-butyl group.
- R 1 to R 3 and R 5 to R 7 are hydrogen.
- R51, R61 and R71 are the same or different from each other, and each independently hydrogen; A substituted or unsubstituted alkyl group; Or a substituted or unsubstituted alkoxy group.
- R51, R61 and R71 are the same or different from each other, and each independently hydrogen; A substituted or unsubstituted alkyl group having 1 to 20 carbon atoms; Or a substituted or unsubstituted C1-C20 alkoxy group.
- R51, R61 and R71 are the same or different and each independently hydrogen; Or a substituted or unsubstituted alkyl group having 1 to 20 carbon atoms.
- R51, R61 and R71 are the same or different from each other, and each independently hydrogen; A substituted or unsubstituted methyl group; A substituted or unsubstituted ethyl group; A substituted or unsubstituted propyl group; A substituted or unsubstituted isopropyl group; A substituted or unsubstituted butyl group; Or a substituted or unsubstituted tert-butyl group.
- R51, R61 and R71 are the same or different and each independently hydrogen; Methyl group; An ethyl group; Propyl group; Isopropyl group; Butyl group; Or a tert-butyl group.
- R51, R61 and R71 are hydrogen.
- n1 to n3, n5 to n7, n51, n61 and n71 are each 0 or 1.
- R4 and R8 are the same or different, and each independently is a functional group capable of crosslinking by heat or light.
- R 81 is a functional group capable of crosslinking by heat or light.
- the functional groups capable of crosslinking by heat or light may be any of the following structures.
- X1 is hydrogen; Or a substituted or unsubstituted alkyl group having 1 to 6 carbon atoms.
- X1 is hydrogen; A substituted or unsubstituted methyl group; A substituted or unsubstituted ethyl group; A substituted or unsubstituted propyl group; A substituted or unsubstituted isopropyl group; A substituted or unsubstituted butyl group; A substituted or unsubstituted tert-butyl group; A substituted or unsubstituted pentyl group; Or a substituted or unsubstituted hexyl group.
- X1 is hydrogen; Methyl group; An ethyl group; Propyl group; Isopropyl group; Butyl group; tert-butyl group; Pentyl group; Or a hexyl group.
- Formula 1 may be represented by any one of the following Compounds 1 to 126.
- the compound according to one embodiment of the present specification can be produced by a production method described below.
- the compound of Formula 1 may be prepared by the method described in the general production process of Formula 1 below.
- Substituent groups may be attached by methods known in the art, and the type, position or number of substituent groups may be varied according to techniques known in the art.
- a coating composition comprising a compound of formula 1 as described above.
- the coating composition comprises the compound of Formula 1 and a solvent.
- the coating composition may further include one or two compounds selected from the group consisting of a compound in which a functional group capable of crosslinking by heat or light is introduced into the molecule, and a polymer compound.
- the coating composition may further include a compound into which a functional group capable of crosslinking by heat or light is introduced into the molecule.
- the coating composition further contains a compound having a functional group capable of crosslinking by heat or light in the molecule, the degree of curing of the coating composition can be further increased.
- the molecular weight of a compound into which a functional group capable of crosslinking by heat or light is introduced into the molecule is 100 g / mol to 3,000 g / mol.
- the coating composition may further comprise a polymer compound.
- the coating composition further comprises a polymer compound the ink property of the coating composition can be enhanced. That is, the coating composition further comprising the polymer compound may provide a suitable viscosity for coating or ink jetting.
- the molecular weight of the polymer compound is 10,000 g / mol to 200,000 g / mol.
- the coating composition may be in a liquid phase.
- the "liquid phase” means that the liquid phase is at normal temperature and pressure.
- the solvent includes, for example, chlorinated solvents such as chloroform, methylene chloride, 1,2-dichloroethane, 1,1,2-trichloroethane, chlorobenzene and o-dichlorobenzene; Ether solvents such as tetrahydrofuran and dioxane; Aromatic hydrocarbon solvents such as toluene, xylene, trimethylbenzene and mesitylene; Aliphatic hydrocarbon solvents such as cyclohexane, methylcyclohexane, n-pentane, n-hexane, n-heptane, n-octane, n-nonane and n-decane; Ketone solvents such as acetone, methyl ethyl ketone, cyclohexanone, isophorone, tetralone, decalone, and acetylacetone; Ester solvents such as e
- the solvents may be used alone or in combination of two or more solvents.
- the coating composition further comprises no p-doping material.
- the coating composition further comprises a p-doping material.
- the p-doped material means a material that has a p-type semiconductor property as a host material.
- p semiconductor property means a property of injecting or transporting holes at a highest occupied molecular orbital (HOMO) energy level, that is, a material having a high conductivity of holes.
- HOMO highest occupied molecular orbital
- the p-doped material may be represented by the following formula (A) or (B), but is not limited thereto.
- the p-doping material may be a material that has p-semiconductor properties, and one or two or more materials may be used.
- the content of the p-doped material is 0 wt% to 50 wt% based on the compound of the formula (1).
- the content of the p-doped material comprises 0 to 30% by weight based on the total solids content of the coating composition. In one embodiment of the present disclosure, the content of the p-doped material preferably comprises 1 to 30% by weight based on the total solid content of the coating composition, and in another embodiment, the p-doped material More preferably 10 to 30% by weight based on the total solids content of the coating composition.
- the viscosity of the coating composition is from 2 cP to 15 cP.
- the present disclosure also provides an organic light emitting device formed using the coating composition.
- the organic material layer including the cured product of the coating composition is a hole transporting layer or a hole injecting layer.
- the organic layer including the cured product of the coating composition is an electron transport layer or an electron injection layer.
- the organic layer comprising the cured product of the coating composition is a light emitting layer.
- the organic compound layer including the cured product of the coating composition is a light emitting layer, and the light emitting layer includes the compound of Formula 1 as a host of the light emitting layer.
- the organic compound layer containing the coating composition is a light emitting layer, and the light emitting layer contains the compound of Formula 1 as a dopant of the light emitting layer.
- the organic light emitting element is a hole injection layer, a hole transport layer, An electron transport layer, an electron injection layer, an electron blocking layer, and a hole blocking layer.
- the first electrode is an anode and the second electrode is a cathode.
- the first electrode is a cathode and the second electrode is an anode.
- the organic light emitting device may be a normal type organic light emitting device in which an anode, one or more organic compound layers, and a cathode are sequentially stacked on a substrate.
- the organic light emitting device may be an inverted type organic light emitting device in which a cathode, at least one organic layer, and an anode are sequentially stacked on a substrate.
- the organic material layer of the organic light emitting device of the present invention may have a single layer structure, but may have a multilayer structure in which two or more organic material layers are stacked.
- the organic light emitting device of the present invention may have a structure including a hole injecting layer, a hole transporting layer, a light emitting layer, an electron transporting layer, and an electron injecting layer as an organic material layer.
- the structure of the organic light emitting device is not limited thereto and may include a smaller number of organic layers.
- FIG. 1 For example, the structure of an organic light emitting device according to one embodiment of the present specification is illustrated in FIG. 1
- FIG. 1 shows an organic light emitting device in which an anode 201, a hole injecting layer 301, a hole transporting layer 401, a light emitting layer 501, an electron transporting layer 601 and a cathode 701 are sequentially stacked on a substrate 101 Are illustrated.
- FIG. 1 illustrates an organic light emitting device and is not limited thereto.
- the organic layers may be formed of the same material or different materials.
- the organic light emitting device of the present invention can be manufactured by materials and methods known in the art, except that at least one layer of the organic material layer is formed using a coating composition comprising the compound of Formula 1 above.
- the organic light emitting device of the present specification can be manufactured by sequentially laminating an anode, an organic layer, and a cathode on a substrate.
- a metal or a metal oxide having conductivity or an alloy thereof is deposited on the substrate by a PVD (physical vapor deposition) method such as sputtering or e-beam evaporation to form an anode
- PVD physical vapor deposition
- an organic material layer including a hole injecting layer, a hole transporting layer, a light emitting layer and an electron transporting layer thereon through a deposition or solution process, and depositing a material usable as a cathode thereon.
- an organic light emitting device can be formed by sequentially depositing a cathode material, an organic material layer, and an anode material on a substrate.
- the present disclosure also provides a method of manufacturing an organic light emitting device formed using the coating composition.
- a method comprising: preparing a substrate; Forming a first electrode on the substrate; Forming at least one organic layer on the first electrode; And forming a second electrode on the organic material layer, wherein forming the organic material layer includes forming at least one organic material layer using the coating composition.
- the step of forming one or more organic layers using the coating composition uses a spin coating method.
- the step of forming one or more organic layers using the coating composition uses a printing method.
- the printing method includes, but is not limited to, ink jet printing, nozzle printing, offset printing, transfer printing, or screen printing.
- the coating composition according to one embodiment of the present invention has a structural characteristic and is suitable for a solution process
- the coating composition can be formed by a printing method, so that there is an economical effect in time and cost in manufacturing a device.
- the heat-treating step may be performed through heat treatment, and the heat-treating temperature in the heat-treating step is 80 ° C to 250 ° C.
- the heat treatment may be performed in the second step at 100 ° C to 250 ° C.
- the first step may be performed at a temperature of 80 ° C to 150 ° C
- the second step may be performed at a temperature of 120 ° C to 200 ° C.
- the heat treatment time in the heat treatment step may be from 1 minute to 2 hours, and may be from 1 minute to 1 hour according to one embodiment. In another embodiment, 1 hour.
- the step of heat-treating may be conducted in air or under a nitrogen atmosphere.
- the organic compound layer formed using the coating composition includes the heat treatment or the light treatment step
- the organic compound layer including a structure in which a plurality of the compounds included in the coating composition form a crosslink to form a thin film may be provided.
- the organic compound layer formed using the coating composition includes the heat treatment or the light treatment step
- the organic compound layer including a structure in which a plurality of the compounds included in the coating composition form a crosslink to form a thin film may be provided.
- another layer is laminated on the surface of the organic material layer formed using the coating composition, it can be prevented that it is dissolved, morphologically affected or decomposed by the solvent.
- the organic material layer formed using the coating composition is formed by including the heat treatment or the light treatment step, the resistance to the solvent is increased, so that the multilayer can be formed by repeating the solution deposition and crosslinking method, Life characteristics can be increased.
- anode material a material having a large work function is preferably used so that injection of holes into the organic material layer is smooth.
- the anode material that can be used in the present invention include metals such as vanadium, chromium, copper, zinc, and gold, or alloys thereof; Metal oxides such as zinc oxide, indium oxide, indium tin oxide (ITO), and indium zinc oxide (IZO); ZnO: Al or SnO 2: a combination of a metal and an oxide such as Sb; Conductive polymers such as poly (3-methylthiophene), poly [3,4- (ethylene-1,2-dioxy) thiophene] (PEDOT), polypyrrole and polyaniline.
- metals such as vanadium, chromium, copper, zinc, and gold, or alloys thereof.
- Metal oxides such as zinc oxide, indium oxide, indium tin oxide (ITO), and indium zinc oxide (IZO)
- ZnO Al or SnO 2: a combination of a
- the cathode material is preferably a material having a small work function to facilitate electron injection into the organic material layer.
- Specific examples of the cathode material include metals such as barium, magnesium, calcium, sodium, potassium, titanium, indium, yttrium, lithium, gadolinium, aluminum, silver, tin and lead or alloys thereof; Layer structure materials such as LiF / Al or LiO 2 / Al, but are not limited thereto.
- the hole injecting layer is a layer for injecting holes from the electrode.
- the hole injecting layer has a hole injecting effect for hole injecting effect on the anode, a hole injecting effect for the light emitting layer or the light emitting material due to its ability to transport holes to the hole injecting material,
- a compound which prevents the migration of excitons to the electron injecting layer or the electron injecting material and is also excellent in the thin film forming ability is preferable. It is preferable that the highest occupied molecular orbital (HOMO) of the hole injecting material be between the work function of the anode material and the HOMO of the surrounding organic layer.
- HOMO highest occupied molecular orbital
- the hole injecting material include metal porphyrin, oligothiophene, arylamine-based organic materials, hexanitrile hexaazatriphenylene-based organic materials, quinacridone-based organic materials, and perylene- , Anthraquinone, polyaniline and polythiophene-based conductive polymers, but the present invention is not limited thereto.
- the hole transport layer is a layer that transports holes from the hole injection layer to the light emitting layer and transports holes from the anode or the hole injection layer to the light emitting layer as the hole transport material.
- the material is suitable. Specific examples include arylamine-based organic materials, conductive polymers, and block copolymers having a conjugated portion and a non-conjugated portion together, but are not limited thereto.
- the light emitting material is preferably a material capable of emitting light in the visible light region by transporting and receiving holes and electrons from the hole transporting layer and the electron transporting layer, respectively, and having good quantum efficiency for fluorescence or phosphorescence.
- Specific examples include 8-hydroxy-quinoline aluminum complex (Alq 3 ); Carbazole-based compounds; Dimerized styryl compounds; BAlq; 10-hydroxybenzoquinoline-metal compounds; Compounds of the benzoxazole, benzothiazole and benzimidazole series; Polymers of poly (p-phenylenevinylene) (PPV) series; Spiro compounds; Polyfluorene, rubrene, and the like, but are not limited thereto.
- the light emitting layer may include a host material and a dopant material.
- the host material is a condensed aromatic ring derivative or a heterocyclic compound.
- Specific examples of the condensed aromatic ring derivatives include anthracene derivatives, pyrene derivatives, naphthalene derivatives, pentacene derivatives, phenanthrene compounds, and fluoranthene compounds.
- Examples of the heterocycle-containing compounds include carbazole derivatives, dibenzofuran derivatives, Furan compounds, pyrimidine derivatives, and the like, but are not limited thereto.
- Examples of the dopant material include aromatic amine derivatives, styrylamine compounds, boron complexes, fluoranthene compounds, and metal complexes.
- Specific examples of the aromatic amine derivatives include condensed aromatic ring derivatives having substituted or unsubstituted arylamino groups, and examples thereof include pyrene, anthracene, chrysene, and peripherrhene having an arylamino group.
- styrylamine compound examples include substituted or unsubstituted Wherein at least one aryl vinyl group is substituted with at least one aryl vinyl group, and at least one substituent selected from the group consisting of an aryl group, a silyl group, an alkyl group, a cycloalkyl group and an arylamino group is substituted or unsubstituted. Specific examples thereof include, but are not limited to, styrylamine, styryldiamine, styryltriamine, styryltetraamine, and the like.
- the metal complex examples include iridium complex, platinum complex, and the like, but are not limited thereto.
- the electron transporting layer is a layer that receives electrons from the electron injection layer and transports electrons to the light emitting layer.
- the electron transporting material is a material capable of transferring electrons from the cathode well to the light emitting layer. Do. Specific examples include an Al complex of 8-hydroxyquinoline; Complexes containing Alq 3 ; Organic radical compounds; Hydroxyflavone-metal complexes, and the like, but are not limited thereto.
- the electron transporting layer can be used with any desired cathode material as used according to the prior art.
- an example of a suitable cathode material is a conventional material having a low work function followed by an aluminum layer or a silver layer. Specifically cesium, barium, calcium, ytterbium and samarium, in each case followed by an aluminum layer or a silver layer.
- the electron injection layer is a layer for injecting electrons from an electrode and has an ability to transport electrons and has an electron injection effect from the cathode, an excellent electron injection effect on the light emitting layer or the light emitting material, A compound which prevents migration to a layer and is excellent in a thin film forming ability is preferable.
- Specific examples thereof include fluorenone, anthraquinodimethane, diphenoquinone, thiopyran dioxide, oxazole, oxadiazole, triazole, imidazole, perylenetetracarboxylic acid, preorenylidene methane, A complex compound and a nitrogen-containing five-membered ring derivative, but are not limited thereto.
- Examples of the metal complex compound include 8-hydroxyquinolinato lithium, bis (8-hydroxyquinolinato) zinc, bis (8-hydroxyquinolinato) copper, bis (8- Tris (8-hydroxyquinolinato) aluminum, tris (2-methyl-8-hydroxyquinolinato) aluminum, tris (8- hydroxyquinolinato) gallium, bis (10- Quinolinato) beryllium, bis (10-hydroxybenzo [h] quinolinato) zinc, bis (2-methyl-8- quinolinato) chlorogallium, bis (2-methyl-8-quinolinato) (2-naphtholato) gallium, and the like, But is not limited thereto.
- the hole blocking layer is a layer which prevents the cathode from reaching the hole, and can be generally formed under the same conditions as the hole injecting layer. Specific examples thereof include, but are not limited to, oxadiazole derivatives, triazole derivatives, phenanthroline derivatives, BCP, aluminum complexes and the like.
- the organic light emitting device according to the present invention may be of a top emission type, a back emission type, or a both-side emission type, depending on the material used.
- N-bromosuccinimide (NBS, 1 eq.) was added and stirred together. When the reaction is completed after 2 hours, ethanol is poured and precipitated to obtain intermediate 2. (Yield: 90%).
- MS graphs of the compound 1 are shown in FIG. 2, and DSC (differential scanning calorimetry) measurement graphs are shown in FIG.
- Compound 2-2 is dissolved in anhydrous DMF. Add NaH first and stir, then add 1,4-bis (chloromethyl) benzene (1 eq.). After stirring at room temperature, TLC monitoring showed that the reaction proceeded with monomer and dimer. After termination of the reaction, H 2 O was poured and the precipitate was filtered. After sufficiently washing with H 2 O and ethanol, column purification was further carried out. The eluent was extracted with DCM to remove the comparative compound 2 (0.5 g, quantitative yield) after removing the major spots with a DCM / Hex (1: 1) mixed solution.
- Fluoren-9-yl) benzaldehyde (12) [4- (2-Bromo-9-hydroxy-9H- Benzaldehyde (12)]: 1-Bromo-4- (diethoxymethyl) benzene (13.2 ml, 64.9 mmol) was dissolved in tetrahydrofuran and cooled to -78 ° C. N-BuLi (2.5 M in hexane, 24 ml, 60 mmol) was added thereto, and the mixture was stirred at -78 ° C for 30 minutes. Bromo-9H-fluoren-9-one] (10 g, 38.6 mmol) was added in one portion and stirred overnight.
- Bromo-9-phenyl-9- (4-vinylphenyl) -9H-fluorene (14) was prepared in the same manner as in [ Synthesis: Potassium tert-butoxide (1.553 g, 13.7 mmol) was added to THF at 0 ° C and CH 3 BrPPh 3 (4.89 g, 13.7 mmol) Lt; / RTI > The reaction was quenched with water and extracted with ethyl acetate [EA]. The collected organic solution was dried with MgSO 4 (magnesium sulfate), filtered, and the organic solvent was removed with a vacuum rotary evaporator. The residue was subjected to column purification to obtain 2.8 g (yield 97%) of Intermediate 14.
- a thin film was prepared in the same manner as in Example 1-1 except that the following Comparative Compound 2 was used instead of the Compound 1 in Example 1-1.
- a thin film was prepared using the following Comparative Compound 3 instead of Compound 1 in Example 1-1.
- the film retention ratios of the thin films prepared in Example 1-1 and Comparative Examples 1-1 to 1-2 were measured.
- the film retention was measured by measuring the UV spectrum of the film without any treatment, measuring the UV spectrum after immersing in toluene for 10 minutes, and comparing the? Max values.
- Table 1 shows measured values of membrane retention ratios of Example 1-1 and Comparative Examples 1-1 to 1-2.
- Fig. 4 shows the results of Example 1-1
- Fig. 5 shows Comparative Examples 1-1
- the vertical axis indicates optical density (OD).
- the film retention rate was calculated by the following formula.
- Film retention (%) lambda max value after soaking in toluene / lambda max value before immersion in toluene X 100
- the material of the hole transporting layer in the solution process is dissolved in a solvent used in the formation of the adjacent layers in the production of the light emitting device, a design is required to avoid the dissolution of the material in the solvent.
- the material of the hole transporting layer has a crosslinking group, and it is preferably crosslinked and insolubilized at the heat treatment temperature range of the hole transporting layer (process temperature of 80 to 220 ⁇ ).
- process temperature 80 to 220 ⁇
- the glass substrate coated with ITO at a thickness of 1,500 ⁇ was immersed in distilled water containing detergent and washed with ultrasonic waves.
- a detergent a product of Fisher Co. was used, and as distilled water, distilled water which was filtered by a secondary filter with a filter of Millipore Co. was used.
- the ITO was washed for 30 minutes and then washed twice with distilled water and ultrasonically cleaned for 10 minutes. After the distilled water was washed, it was ultrasonically washed with a solvent of isopropyl alcohol, acetone, and methanol, dried, and then transported to a plasma cleaner. Further, the substrate was cleaned using oxygen plasma for 5 minutes, and then the substrate was transported by a vacuum evaporator.
- a solution of Compound 1 dissolved in toluene was spin-coated on the hole injection layer thus formed and cured on a hot plate at 200 ° C. for 30 minutes to form a hole transport layer having a thickness of 200 ⁇ .
- the following compound C was dissolved in toluene on the thus-formed hole transport layer, spin-coated, and heat-treated at 180 ° C for 30 minutes to form a light emitting layer having a thickness of 550 ⁇ .
- the base pressure is introduced into the vacuum evaporation apparatus 2X10 - when it is less than 5 Pa, by depositing as a LiF (10 ⁇ ), Al (1,000 ⁇ ) in turn was prepared organic light emitting device.
- the deposition rate of LiF was 0.01 to 0.05 nm / s, and the deposition rate of materials other than LiF was 0.1 to 0.5 nm / s.
- Example 2-1 An organic light emitting device was fabricated in the same manner as in Example 2-1, except that the following Comparative Compound 2 was used instead of Compound 1 in Example 2-1.
- An organic light emitting device was prepared in the same manner as in Example 2-1 except that the following Comparative Compound 3 was used instead of Compound 2 in Example 2-1.
- Example 2-1 and Comparative Example 2-1 the organic light emitting device prepared in 2-2, at a current density of 10mA / cm 2 were measured drive voltage and luminous efficiency, the initial luminance at a current density of 10mA / cm 2 And the time T (95) at which the contrast was 95% was measured.
- the results are shown in Table 2 below.
- the organic light emitting device manufactured in Example 2-1 had lower driving voltage than the organic light emitting devices manufactured in Comparative Examples 2-1 to 2-2, and had excellent efficiency and excellent brightness
- the film retention rate of Comparative Examples 2-1 and 2-2 is very low, it can be confirmed that the film is not maintained until the T95 is measured after the initial luminance measurement.
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Abstract
본 명세서는 화학식 1의 화합물, 상기 화학식 1의 화합물을 포함하는 코팅 조성물, 이를 이용한 유기 발광 소자 및 이의 제조 방법에 관한 것이다.
Description
본 명세서는 2017년 9월 29일 한국 특허청에 출원된 한국 특허 출원 제10-2017-0127207호의 출원일 이익을 주장하며, 그 내용 전부는 본 명세서에 포함된다.
본 명세서는 화합물, 상기 화합물을 포함하는 코팅 조성물, 상기 코팅 조성물을 이용하여 형성된 유기 발광 소자 및 이의 제조 방법에 관한 것이다.
유기 발광 현상은 특정 유기 분자의 내부 프로세스에 의하여 전류가 가시광으로 전환되는 예의 하나이다. 유기 발광 현상의 원리는 다음과 같다. 애노드와 캐소드 사이에 유기물 층을 위치시켰을 때 두 전극 사이에 전류를 걸어주게 되면 캐소드와 애노드로부터 각각 전자와 정공이 유기물 층으로 주입된다. 유기물 층으로 주입된 전자와 정공은 재결합하여 엑시톤(exciton)을 형성하고, 이 엑시톤이 다시 바닥 상태로 떨어지면서 빛이 나게 된다. 이러한 원리를 이용하는 유기 발광 소자는 일반적으로 캐소드와 애노드 및 그 사이에 위치한 유기물층, 예컨대 정공주입층, 정공수송층, 발광층, 전자수송층을 포함하는 유기물 층으로 구성될 수 있다.
종래에는 유기 발광 소자를 제조하기 위하여 증착 공정을 주로 사용해 왔다. 그러나, 증착 공정으로 유기 발광 소자의 제조 시, 재료의 손실이 많이 발생한다는 문제점이 있어, 이를 해결하기 위하여, 재료의 손실이 적어 생산 효율을 증대 시킬 수 있는 용액 공정을 통하여 소자를 제조하는 기술이 개발되고 있으며, 용액 공정 시 사용될 수 있는 물질의 개발이 요구되고 있다.
용액 공정용 유기 발광 소자에서 사용되는 물질은 다음과 같은 성질을 가져야 한다.
첫째로, 저장 가능한 균질한 용액을 형성할 수 있어야 한다. 상용화된 증착 공정용 물질의 경우 결정성이 좋아서 용액에 잘 녹지 않거나 용액을 형성하더라도 결정이 쉽게 잡히기 때문에 저장기간에 따라 용액의 농도 구배가 달라지거나 불량 소자를 형성할 가능성이 크다.
둘째로, 용액 공정에 사용되는 물질은 박막 형성시, 구멍이나 뭉침 현상이 발생하지 않고 균일한 두께의 박막을 형성할 수 있도록 코팅성이 우수해야 한다.
셋째로, 용액공정이 이루어지는 층들은 다른 층을 형성하는 공정에서 사용되는 용매 및 물질에 대한 내성이 있어야 한다. 이를 위하여 경화기를 도입함으로써 용액 도포 후 열처리 혹은 UV 조사를 통하여 기판 위에서 자체적으로 가교 결합된 고분자를 형성하여 다음 공정에 사용되는 용매 및 물질에 대하여 충분한 내성을 가지도록 하거나 자체적으로 용매에 대하여 내성을 가질 수 있는 물질이 사용되어야 한다. 일반적으로 유기 발광 소자에서 사용되는 아릴 아민계 단분자의 경우 자체적으로 다음 공정의 용매에 내성을 가지는 경우가 없으므로, 용액 공정용 유기 발광 소자에 사용할 수 있도록 경화기가 도입된 아릴 아민계 단분자 화합물의 개발이 요구 된다.
본 명세서는 용액 공정용 유기 발광 소자에서 사용 가능한 화합물 및 이를 포함하는 유기 발광 소자를 제공하는 것이 목적이다.
하기 화학식 1로 표시되는 화합물을 제공한다.
[화학식 1]
상기 화학식 1에 있어서,
R1 내지 R3 및 R5 내지 R7은 서로 같거나 상이하고, 각각 독립적으로 수소; 중수소; 할로겐기; 니트릴기; 실릴기; 붕소기; 치환 또는 비치환된 알킬기; 치환 또는 비치환된 시클로알킬기; 치환 또는 비치환된 알콕시기; 치환 또는 비치환된 알케닐기; 치환 또는 비치환된 아릴기; 또는 치환 또는 비치환된 헤테로고리기이고,
R4 및 R8은 서로 같거나 상이하고, 각각 독립적으로 열 또는 광에 의하여 가교 가능한 작용기이며,
Ar1 및 Ar2는 서로 같거나 상이하고, 각각 독립적으로 수소; 중수소; 치환 또는 비치환된 알킬기; 치환 또는 비치환된 시클로알킬기; 치환 또는 비치환된 아릴기; 또는 치환 또는 비치환된 헤테로고리기이고,
L1 및 L2는 서로 같거나 상이하고, 각각 독립적으로 직접결합; 치환 또는 비치환된 2가의 알킬기; 치환 또는 비치환된 2가의 아릴기; 또는 치환 또는 비치환된 2가의 헤테로아릴기이며,
L11 및 L12는 서로 같거나 상이하고, 각각 독립적으로 직접결합; 또는 치환 또는 비치환된 2가의 아릴기이고,
L은 치환 또는 비치환된 2가 또는 3가의 아릴기; 치환 또는 비치환된 2가 또는 3가의 헤테로아릴기; 또는 치환 또는 비치환된 2가 또는 3가의 아릴아민기이며,
m1 및 m2는 각각 0 내지 12의 정수이고,
n1 및 n5는 각각 0 내지 5의 정수이며,
n2 및 n6은 각각 0 내지 4의 정수이고,
n3 및 n7은 각각 0 내지 3의 정수이며,
p1 및 p2는 각각 1 내지 4의 정수이고,
q는 1 또는 2이며,
n1 내지 n3, n5 내지 n7, p1 및 p2가 각각 2 이상인 경우, 괄호 내의 치환기는 서로 같거나 상이하며,
q가 2인 경우, 괄호 내의 치환기는 서로 같거나 상이하다.
본 명세서는 상기 화합물을 포함하는 코팅 조성물을 제공한다.
본 명세서는 또한, 제1 전극; 제2 전극; 및 상기 제1 전극과 상기 제2 전극 사이에 구비되는 1층 이상의 유기물층을 포함하고, 상기 유기물층 중 1층 이상은 상기 코팅 조성물의 경화물을 포함하며, 상기 코팅 조성물의 경화물은 상기 코팅 조성물이 열처리 또는 광처리에 의하여 경화된 상태인 것인 유기 발광 소자를 제공한다.
마지막으로, 본 명세서는 기판을 준비하는 단계; 상기 기판 상에 제1 전극을 형성하는 단계; 상기 제1 전극 상에 1층 이상의 유기물층을 형성하는 단계; 및 상기 유기물층 상에 제2 전극을 형성하는 단계를 포함하고, 상기 유기물층을 형성하는 단계는 상기 코팅 조성물을 이용하여 1층 이상의 유기물층을 형성하는 단계를 포함하는 것인 유기 발광 소자의 제조 방법을 제공한다.
본 발명의 일 실시상태에 따른 화합물은 용액 공정이 가능하여, 소자의 대면적화가 가능하고, 유기 발광 소자의 유기물층의 재료로 사용될 수 있으며, 낮은 구동전압, 높은 발광효율 및 높은 수명 특성을 제공할 뿐만 아니라, 상기 화합물을 포함하는 유기물층은 다른 층을 형성하는 공정에서 사용되는 용매 및 물질에 대한 내성을 갖는 유기 발광 소자를 제공할 수 있다.
또한, 본 발명의 일 실시상태에 따른 화합물은 플루오렌 구조 및 플루오렌의 9번 탄소에 직접 결합한 아릴기 및 경화성기와 플루오렌 사이에 링커인 알킬기가 분자간의 상호작용을 방해하여 유리 전이 온도 및 녹는점을 조절할 수 있으며, 직쇄 형태의 알킬기로 인하여, 경화성기의 운동성을 증가시키거나 경화성기 주위의 입체장애를 감소시킴으로써, 경화 온도를 낮출 수 있다는 이점이 있다.
도 1은 본 명세서의 일 실시상태에 따른 유기 발광 소자의 예를 도시한 것이다.
도 2는 화합물 1의 MS 그래프를 나타낸 도이다.
도 3은 화합물 1의 DSC 측정 그래프를 나타낸 도이다.
도 4는 실시예 1-1의 막 유지율 테스트 결과를 나타낸 도이다.
도 5는 비교예 1-1의 막 유지율 테스트 결과를 나타낸 도이다.
도 6은 비교예 1-2의 막 유지율 테스트 결과를 나타낸 도이다.
101: 기판
201: 애노드
301: 정공주입층
401: 정공수송층
501: 발광층
601: 전자수송층
701: 캐소드
이하, 본 명세서를 상세히 설명한다.
본 명세서의 일 실시상태는 하기 화학식 1로 표시되는 화합물을 제공한다.
[화학식 1]
상기 화학식 1에 있어서,
R1 내지 R3 및 R5 내지 R7은 서로 같거나 상이하고, 각각 독립적으로 수소; 중수소; 할로겐기; 니트릴기; 실릴기; 붕소기; 치환 또는 비치환된 알킬기; 치환 또는 비치환된 시클로알킬기; 치환 또는 비치환된 알콕시기; 치환 또는 비치환된 알케닐기; 치환 또는 비치환된 아릴기; 또는 치환 또는 비치환된 헤테로고리기이고,
R4 및 R8은 서로 같거나 상이하고, 각각 독립적으로 열 또는 광에 의하여 가교 가능한 작용기이며,
Ar1 및 Ar2는 서로 같거나 상이하고, 각각 독립적으로 수소; 중수소; 치환 또는 비치환된 알킬기; 치환 또는 비치환된 시클로알킬기; 치환 또는 비치환된 아릴기; 또는 치환 또는 비치환된 헤테로고리기이고,
L1 및 L2는 서로 같거나 상이하고, 각각 독립적으로 직접결합; 치환 또는 비치환된 2가의 알킬기; 치환 또는 비치환된 2가의 아릴기; 또는 치환 또는 비치환된 2가의 헤테로아릴기이며,
L11 및 L12는 서로 같거나 상이하고, 각각 독립적으로 직접결합; 또는 치환 또는 비치환된 2가의 아릴기이고,
L은 치환 또는 비치환된 2가 또는 3가의 아릴기; 치환 또는 비치환된 2가 또는 3가의 헤테로아릴기; 또는 치환 또는 비치환된 2가 또는 3가의 아릴아민기이며,
m1 및 m2는 각각 0 내지 12의 정수이고,
n1 및 n5는 각각 0 내지 5의 정수이며,
n2 및 n6은 각각 0 내지 4의 정수이고,
n3 및 n7은 각각 0 내지 3의 정수이며,
p1 및 p2는 각각 1 내지 4의 정수이고,
q는 1 또는 2이며,
n1 내지 n3, n5 내지 n7, p1 및 p2가 각각 2 이상인 경우, 괄호 내의 치환기는 서로 같거나 상이하며,
q가 2인 경우, 괄호 내의 치환기는 서로 같거나 상이하다.
본 발명의 일 실시상태에 따른 화합물은 플루오렌의 9번 탄소에 직접 결합한 아릴기 및 알킬기로 인해 우수한 용해도를 가지며, 플루오렌과 경화성기 사이에 링커(linker)로 인한 적절한 거리가 유지됨에 따라, 경화성기의 운동성을 증가시키거나 경화성기 주위의 입체장애를 감소시킴으로써, 경화반응에 도움이 되므로, 용매에 대한 내성이 우수하며, 효율 및 소자의 특성이 우수한 유기 발광 소자를 제공한다.
본 명세서에 있어서, 어떤 부재가 다른 부재 “상에” 위치하고 있다고 할 때, 이는 어떤 부재가 다른 부재에 접해 있는 경우뿐 아니라 두 부재 사이에 또 다른 부재가 존재하는 경우도 포함한다.
본 명세서에 있어서, 어떤 부분이 어떤 구성요소를 “포함”한다고 할 때, 이는 특별히 반대되는 기재가 없는 한 다른 구성요소를 제외하는 것이 아니라 다른 구성 요소를 더 포함할 수 있는 것을 의미한다.
본 명세서의 일 실시상태는 상기 화학식 1의 화합물은 적당한 유기용매에 대해 용해성을 갖는 화합물들이 바람직하다.
또한, 본 명세서의 일 실시상태에 따른 화합물의 경우, 용액 도포법에 의하여 유기 발광 소자를 제조할 수 있어 소자의 대면적화가 가능할 수 있다.
본 명세서에서 “열 또는 광에 의하여 가교 가능한 작용기”란 열 및 또는 광에 노출시킴으로써, 화합물 간에 가교를 시키는 반응성 치환기를 의미할 수 있다. 가교는 열처리 또는 광조사에 의하여, 탄소-탄소 다중결합, 환형 구조가 분해되면서 생성된 라디칼이 연결되면서 생성될 수 있다.
이하, 본 명세서의 치환기를 상세하게 설명한다.
본 명세서에 있어서, 상기 “치환”이라는 용어는 화합물의 탄소 원자에 결합된 수소 원자가 다른 치환기로 바뀌는 것을 의미하며, 치환되는 위치는 수소 원자가 치환되는 위치 즉, 치환기가 치환 가능한 위치라면 한정하지 않으며, 2 이상 치환되는 경우, 2 이상의 치환기는 서로 동일하거나 상이할 수 있다.
본 명세서에서 “치환 또는 비치환된”이라는 용어는 중수소; 할로겐기; 니트릴기; 실릴기; 붕소기; 알킬기; 시클로알킬기; 알콕시기; 알케닐기; 아릴기; 및 헤테로고리기로 이루어진 군에서 선택된 1개 이상의 치환기로 치환 또는 비치환되거나, 상기 예시된 치환기 중 2 이상의 치환기가 연결된 치환 또는 비치환된 것을 의미한다. 예컨대, "2 이상의 치환기가 연결된 치환기"는 바이페닐기일 수 있다. 즉, 바이페닐기는 아릴기일 수도 있고, 2개의 페닐기가 연결된 치환기로 해석될 수 있다.
본 명세서에 있어서, 할로겐기는 불소(F), 염소(Cl), 브롬(Br) 또는 요오드(I)이다.
본 명세서에 있어서, 실릴기는 -SiRaRbRc의 화학식으로 표시될 수 있고, 상기 Ra, Rb 및 Rc는 각각 수소; 치환 또는 비치환된 알킬기; 또는 치환 또는 비치환된 아릴기일 수 있다. 상기 실릴기는 구체적으로 트리메틸실릴기, 트리에틸실릴기, t-부틸디메틸실릴기, 비닐디메틸실릴기, 프로필디메틸실릴기, 트리페닐실릴기, 디페닐실릴기, 페닐실릴기 등이 있으나 이에 한정되지 않는다.
본 명세서에 있어서, 붕소기는 -BRdRe의 화학식으로 표시될 수 있고, 상기 Rd 및 Re는 각각 수소; 치환 또는 비치환된 알킬기; 또는 치환 또는 비치환된 아릴기일 수 있다. 상기 붕소기는 구체적으로 트리메틸붕소기, 트리에틸붕소기, t-부틸디메틸붕소기, 트리페닐붕소기, 페닐붕소기 등이 있으나 이에 한정되지 않는다.
본 명세서에 있어서, 상기 알킬기는 직쇄 또는 분지쇄일 수 있고, 탄소수는 특별히 한정되지 않으나 1 내지 60일 수 있고, 일 실시상태에 따르면, 상기 알킬기의 탄소수는 1 내지 30일 수 있다. 또 하나의 실시상태에 따르면, 상기 알킬기의 탄소수는 1 내지 10이다. 상기 알킬기의 구체적인 예로는 메틸기, 에틸기, 프로필기, 이소프로필기, 부틸기, 이소부틸기, tert-부틸기, sec-부틸기, 1-메틸-부틸기, 1-에틸-부틸기, 펜틸기, 이소펜틸기, 네오펜틸기, tert-펜틸기, 1-메틸펜틸기, 2-메틸펜틸기, 4-메틸-2-펜틸기, 헥실기, 이소헥실기, 4-메틸헥실기, 5-메틸헥실기, 헵틸기 등이 있으나, 이들에 한정되지 않는다.
본 명세서에 있어서, 시클로알킬기는 특별히 한정되지 않으나, 탄소수 3 내지 60일 수 있고, 일 실시상태에 따르면, 상기 시클로알킬기의 탄소수는 3 내지 40이다. 또 하나의 일 실시상태에 따르면, 상기 시클로알킬기의 탄소수는 3 내지 20이다. 상기 시클로알킬기의 구체적인 예로는 시클로프로필기, 시클로부틸기, 시클로펜틸기, 3-메틸시클로펜틸기, 2,3-디메틸시클로펜틸기, 시클로헥실기, 3-메틸시클로헥실기, 4-메틸시클로헥실기, 2,3-디메틸시클로헥실기, 3,4,5-트리메틸시클로헥실기, 4-tert-부틸시클로헥실기, 시클로헵틸기, 시클로옥틸기 등이 있으나, 이에 한정되는 것은 아니다.
본 명세서에 있어서, 상기 알콕시기는 직쇄, 분지쇄 또는 고리쇄일 수 있다. 상기 알콕시기의 탄소수는 특별히 한정되지 않으나, 탄소수 1 내지 20일 수 있다. 상기 알콕시기의 구체적인 예로는 메톡시기, 에톡시기, n-프로폭시기, 이소프로폭시기, i-프로필옥시기, n-부톡시기, 이소부톡시기, tert-부톡시기, sec-부톡시기, n-펜틸옥시기, 네오펜틸옥시기, 이소펜틸옥시기, n-헥실옥시기, 3,3-디메틸부틸옥시기, 2-에틸부틸옥시기, n-옥틸옥시기, n-노닐옥시기, n-데실옥시기, 벤질옥시기, p-메틸벤질옥시기 등이 될 수 있으나, 이에 한정되는 것은 아니다.
본 명세서에 있어서, 상기 알케닐기는 직쇄 또는 분지쇄일 수 있고, 탄소수는 특별히 한정되지 않으나, 2 내지 30일 수 있고, 일 실시상태에 따르면, 상기 알케닐기의 탄소수는 2 내지 20일 수 있다. 상기 알케닐기의 구체적인 예로는 비닐기, 1-프로페닐기, 이소프로페닐기, 1-부테닐기, 2-부테닐기, 3-부테닐기, 1-펜테닐기, 2-펜테닐기, 3-펜테닐기, 3-메틸-1-부테닐기, 1,3-부타디에닐기, 알릴기, 1-페닐비닐-1-일기, 2-페닐비닐-1-일기, 2,2-디페닐비닐-1-일기, 2-페닐-2-(나프틸-1-일)비닐-1-일기, 2,2-비스(디페닐-1-일)비닐-1-일기, 스틸베닐기, 스티레닐기 등이 있으나 이들에 한정되지 않는다.
본 명세서에 있어서, 아릴아민기의 예로는 치환 또는 비치환된 모노아릴아민기, 치환 또는 비치환된 디아릴아민기, 또는 치환 또는 비치환된 트리아릴아민기가 있다. 상기 아릴아민기 중의 아릴기는 단환식 아릴기일 수 있고, 다환식 아릴기일 수 있다. 상기 아릴기가 2 이상을 포함하는 아릴아민기는 단환식 아릴기, 다환식 아릴기, 또는 단환식 아릴기와 다환식 아릴기를 동시에 포함할 수 있다. 예컨대, 상기 아릴아민기 중의 아릴기는 전술한 아릴기의 예시 중에서 선택될 수 있다. 아릴아민기의 구체적인 예로는 페닐아민, 나프틸아민, 비페닐아민, 안트라세닐아민, 3-메틸-페닐아민, 4-메틸-나프틸아민, 2-메틸-비페닐아민, 9-메틸-안트라세닐아민, 디페닐 아민기, 페닐 나프틸 아민기, 디톨릴 아민기, 페닐 톨릴 아민기, 카바졸 및 트리페닐 아민기 등이 있으나, 이에 한정되는 것은 아니다.
본 명세서에 있어서, 상기 아릴기는 특별히 한정되지 않으나 탄소수 6 내지 60일 수 있으며, 단환식 아릴기 또는 다환식 아릴기일 수 있다. 일 실시상태에 따르면, 상기 아릴기의 탄소수는 6 내지 30이다. 일 실시상태에 따르면, 상기 아릴기의 탄소수는 6 내지 20이다. 상기 아릴기가 단환식 아릴기로는 페닐기, 바이페닐기, 터페닐기 등이 될 수 있으나, 이에 한정되는 것은 아니다. 상기 다환식 아릴기로는 나프틸기, 안트라세닐기, 페난트레닐기, 파이레닐기, 페릴레닐기, 트리페닐기, 크라이세닐기, 플루오레닐기 등이 될 수 있으나, 이에 한정되는 것은 아니다.
본 명세서에 있어서, 플루오레닐기는 치환될 수 있고, 치환기 2개가 서로 결합하여 스피로 구조를 형성할 수 있다.
상기 플루오레닐기가 치환되는 경우, , 등의 스피로플루오레닐기, (9,9-디메틸플루오레닐기), 및 (9,9-디페닐플루오레닐기) 등의 치환된 플루오레닐기가 될 수 있다. 다만, 이에 한정되는 것은 아니다.
본 명세서에 있어서, 헤테로고리기는 이종원자로 N, O, P, S, Si 및 Se 중 1개 이상을 포함하는 헤테로고리기로서, 탄소수는 특별히 한정되지 않으나 탄소수 2 내지 60일 수 있다. 일 실시상태에 따르면, 상기 헤테로고리기의 탄소수는 2 내지 30이다. 또 하나의 일 실시상태에 따르면, 상기 헤테로고리기의 탄소수는 2 내지 20이다. 헤테로고리기의 예로는 예로는 피리딜기, 피롤기, 피리미딜기, 피리다지닐기, 퓨라닐기, 티오페닐기, 이미다졸기, 피라졸기, 옥사졸기, 이소옥사졸기, 티아졸기, 이소티아졸기, 트리아졸기, 옥사디아졸기, 티아디아졸기, 디티아졸기, 테트라졸기, 피라닐기, 티오피라닐기, 피라지닐기, 옥사지닐기, 티아지닐기, 디옥시닐기, 트리아지닐기, 테트라지닐기, 퀴놀리닐기, 이소퀴놀리닐기, 퀴놀릴기, 퀴나졸리닐기, 퀴녹살리닐기, 나프티리디닐기, 아크리딜기, 크산테닐기, 페난트리디닐기, 디아자나프탈레닐기, 트리아자인데닐기, 인돌기, 인돌리닐기, 인돌리지닐기, 프탈라지닐기, 피리도 피리미디닐기, 피리도 피라지닐기, 피라지노 피라지닐기, 벤조티아졸기, 벤즈옥사졸기, 벤즈이미다졸기, 벤조티오펜기, 벤조퓨라닐기, 디벤조티오페닐기, 디벤조퓨라닐기, 카바졸기, 벤조카바졸기, 디벤조카바졸기, 인돌로카바졸기, 인데노카바졸기, 페나지닐기, 이미다조피리딘기, 페녹사지닐기, 페난트리딘기, 페난트롤린(phenanthroline)기, 페노티아진(phenothiazine)기, 이미다조피리딘기, 이미다조페난트리딘기. 벤조이미다조퀴나졸린기, 또는 벤조이미다조페난트리딘기 등이 있으나, 이들에만 한정되는 것은 아니다.
본 명세서에 있어서, 헤테로아릴기는 방향족인 것을 제외하고는 전술한 헤테로 고리기에 관한 설명이 적용될 수 있다.
본 명세서에 있어서, 상기 아릴렌기는 2가기인 것을 제외하고는, 전술한 아릴기에 관한 설명이 적용된다.
본 명세서에 있어서, 상기 헤테로아릴렌기는 2가기인 것을 제외하고는, 전술한 헤테로아릴기에 관한 설명이 적용된다.
본 명세서의 일 실시상태에 있어서, 상기 L11 및 L12는 서로 같거나 상이하고, 각각 독립적으로 직접결합; 또는 치환 또는 비치환된 탄소수 6 내지 60의 2가의 아릴기이다.
또 하나의 일 실시상태에 따르면, 상기 L11 및 L12는 서로 같거나 상이하고, 각각 독립적으로 직접결합; 또는 치환 또는 비치환된 탄소수 6 내지 30의 2가의 아릴기이다.
또 하나의 일 실시상태에 있어서, 상기 L11 및 L12는 서로 같거나 상이하고, 각각 독립적으로 직접결합; 치환 또는 비치환된 2가의 페닐기; 또는 치환 또는 비치환된 2가의 바이페닐기이다.
또 하나의 일 실시상태에 있어서, 상기 L11 및 L12는 서로 같거나 상이하고, 각각 독립적으로 직접결합; 또는 2가의 페닐기이다.
본 명세서의 일 실시상태에 따르면, 상기 L11 및 L12는 직접결합이다.
본 명세서의 일 실시상태에 따르면, 상기 L11 및 L12는 2가의 페닐기이다.
본 명세서의 일 실시상태에 따르면, 상기 L1 및 L2는 서로 같거나 상이하고, 각각 독립적으로 직접결합; 치환 또는 비치환된 탄소수 1 내지 60의 2가의 알킬기; 치환 또는 비치환된 탄소수 6 내지 60의 2가의 아릴기; 또는 치환 또는 비치환된 탄소수 2 내지 60의 2가의 헤테로아릴기이다.
또 하나의 일 실시상태에 있어서, 상기 L1 및 L2는 서로 같거나 상이하고, 각각 독립적으로 직접결합; 치환 또는 비치환된 탄소수 1 내지 30의 2가의 알킬기; 치환 또는 비치환된 탄소수 6 내지 30의 2가의 아릴기; 또는 치환 또는 비치환된 탄소수 2 내지 30의 2가의 헤테로아릴기이다.
또 하나의 일 실시상태에 따르면, 상기 L1 및 L2는 서로 같거나 상이하고, 각각 독립적으로 직접결합; 치환 또는 비치환된 2가의 메틸기; 치환 또는 비치환된 2가의 에틸기; 치환 또는 비치환된 2가의 페닐기; 치환 또는 비치환된 2가의 바이페닐기; 치환 또는 비치환된 2가의 터페닐기; 치환 또는 비치환된 2가의 나프틸기; 치환 또는 비치환된 2가의 플루오레닐기; 치환 또는 비치환된 2가의 디벤조퓨란기; 치환 또는 비치환된 2가의 디벤조티오펜기; 또는 치환 또는 비치환된 2가의 카바졸기이다.
또 하나의 일 실시상태에 따르면, 상기 L1 및 L2는 서로 같거나 상이하고, 각각 독립적으로 직접결합; 치환 또는 비치화된 2가의 메틸기; 치환 또는 비치환된 2가의 페닐기; 또는 치환 또는 비치환된 2가의 카바졸기이다.
또 하나의 일 실시상태에 있어서, 상기 L1 및 L2는 서로 같거나 상이하고, 각각 독립적으로 직접결합; 2가의 메틸기; 2가의 페닐기; 또는 2가의 카바졸기이다.
본 명세서의 일 실시상태에 따르면, 상기 p1 및 p2는 각각 1 내지 4의 정수이다.
또 하나의 일 실시상태에 따르면, 상기 p1 및 p2는 3 또는 4이다.
본 명세서의 일 실시상태에 따르면, 상기 화학식 1은 하기 화학식 2로 표시될 수 있다.
[화학식 2]
상기 화학식 2에 있어서,
R1 내지 R8, n1 내지 n3, n5 내지 n7, Ar1, Ar2, L, L11, L12 q, m1 및 m2는 상기 화학식 1에서 정의한 바와 같고,
L3 내지 L10은 서로 같거나 상이하고, 각각 독립적으로 직접결합; 치환 또는 비치환된 2가의 알킬기; 치환 또는 비치환된 2가의 아릴기; 또는 치환 또는 비치환된 2가의 헤테로아릴기이다.
본 명세서의 일 실시상태에 따르면, 상기 L3 내지 L10은 서로 같거나 상이하고, 각각 독립적으로 직접결합; 치환 또는 비치환된 탄소수 1 내지 60의 2가의 알킬기; 치환 또는 비치환된 탄소수 6 내지 60의 2가의 아릴기; 또는 치환 또는 비치환된 탄소수 2 내지 60의 2가의 헤테로아릴기이다.
또 하나의 일 실시상태에 따르면, 상기 L3 내지 L10은 서로 같거나 상이하고, 각각 독립적으로 직접결합; 치환 또는 비치환된 탄소수 1 내지 30의 2가의 알킬기; 치환 또는 비치환된 탄소수 6 내지 30의 2가의 아릴기; 또는 치환 또는 비치환된 탄소수 2 내지 30의 2가의 헤테로아릴기이다.
또 하나의 일 실시상태에 있어서, 상기 L3 내지 L10은 서로 같거나 상이하고, 각각 독립적으로 직접결합; 치환 또는 비치환된 2가의 메틸기; 치환 또는 비치환된 2가의 에틸기; 치환 또는 비치환된 2가의 페닐기; 치환 또는 비치환된 2가의 바이페닐기; 치환 또는 비치환된 2가의 터페닐기; 치환 또는 비치환된 2가의 나프틸기; 치환 또는 비치환된 2가의 플루오레닐기; 치환 또는 비치환된 2가의 디벤조퓨란기; 치환 또는 비치환된 2가의 디벤조티오펜기; 또는 치환 또는 비치환된 2가의 카바졸기이다.
또 하나의 일 실시상태에 따르면, 상기 L3 내지 L10은 서로 같거나 상이하고, 각각 독립적으로 직접결합; 치환 또는 비치환된 2가의 메틸기; 치환 또는 비치환된 2가의 페닐기; 또는 치환 또는 비치환된 2가의 카바졸기이다.
또 하나의 일 실시상태에 있어서, 상기 L3 내지 L10은 서로 같거나 상이하고, 각각 독립적으로 직접결합; 2가의 메틸기; 2가의 페닐기; 또는 2가의 카바졸기이다.
본 명세서의 일 실시상태에 있어서, 상기 L3 및 L10은 직접결합이고, L4 및 L9는 2가의 2가의 카바졸기이며, L5 및 L8은 2가의 페닐기이고, L6 및 L7은 2가의 메틸기이다.
본 명세서의 일 실시상태에 따르면, 상기 L3, L5, L8 및 L10은 서로 같거나 상이하고, 각각 독립적으로 치환 또는 비치환된 2가의 페닐기이고, L4 및 L9는 서로 같거나 상이하고, 각각 독립적으로 치환 또는 비치환된 2가의 카바졸기이며, L6 및 L7은 서로 같거나 상이하고, 각각 독립적으로 치환 또는 비치환된 2가의 메틸기이다.
또 하나의 일 실시상태에 따르면, 상기 L3, L5, L8 및 L10은 2가의 페닐기이고, L4 및 L9는 2가의 카바졸기이며, L6 및 L7은 2가의 메틸기이다.
본 명세서의 일 실시상태에 있어서, 상기 Ar1 및 Ar2는 서로 같거나 상이하고, 각각 독립적으로 수소; 중수소; 치환 또는 비치환된 아릴기; 또는 치환 또는 비치환된 헤테로고리기이다.
또 하나의 일 실시상태에 따르면, 상기 Ar1 및 Ar2는 서로 같거나 상이하고, 각각 독립적으로 수소; 중수소; 치환 또는 비치환된 탄소수 6 내지 60의 아릴기; 또는 치환 또는 비치환된 탄소수 2 내지 60의 헤테로고리기이다.
또 하나의 일 실시상태에 있어서, 상기 Ar1 및 Ar2는 서로 같거나 상이하고, 각각 독립적으로 수소; 중수소; 치환 또는 비치환된 탄소수 6 내지 30의 아릴기; 또는 치환 또는 비치환된 탄소수 2 내지 30의 헤테로고리기이다.
또 하나의 일 실시상태에 따르면, 상기 Ar1 및 Ar2는 서로 같거나 상이하고, 각각 독립적으로 수소; 중수소; 탄소수 1 내지 20의 알킬기 및 탄소수 6 내지 30의 아릴기로 이루어진 군으로부터 선택된 1 이상으로 치환 또는 비치환된 탄소수 6 내지 30의 아릴기; 또는 탄소수 1 내지 20의 알킬기 및 탄소수 6 내지 30의 아릴기로 이루어진 군으로부터 선택된 1 이상으로 치환 또는 비치환된 탄소수 2 내지 30의 헤테로고리기이다.
또 하나의 일 실시상태에 있어서, 상기 Ar1 및 Ar2는 서로 같거나 상이하고, 각각 독립적으로 수소; 중수소; 메틸기, 에틸기, 프로필기, 이소프로필기, 부틸기, tert-부틸기, 펜틸기, 헥실기 및 페닐기로 이루어진 군으로부터 선택된 1이상으로 치환 또는 비치환된 탄소수 6 내지 30의 아릴기; 또는 메틸기, 에틸기, 프로필기, 이소프로필기, 부틸기, tert-부틸기, 펜틸기, 헥실기 및 페닐기로 이루어진 군으로부터 선택된 1이상으로 치환 또는 비치환된 탄소수 2 내지 30의 헤테로고리기이다.
또 하나의 일 실시상태에 따르면, 상기 Ar1 및 Ar2는 서로 같거나 상이하고, 각각 독립적으로 1 내지 20의 알킬기 및 탄소수 6 내지 30의 아릴기로 이루어진 군으로부터 선택된 1 이상으로 치환 또는 비치환된 페닐기; 1 내지 20의 알킬기 및 탄소수 6 내지 30의 아릴기로 이루어진 군으로부터 선택된 1 이상으로 치환 또는 비치환된 바이페닐기; 1 내지 20의 알킬기 및 탄소수 6 내지 30의 아릴기로 이루어진 군으로부터 선택된 1 이상으로 치환 또는 비치환된 나프틸기; 1 내지 20의 알킬기 및 탄소수 6 내지 30의 아릴기로 이루어진 군으로부터 선택된 1 이상으로 치환 또는 비치환된 플루오레닐기; 또는 1 내지 20의 알킬기 및 탄소수 6 내지 30의 아릴기로 이루어진 군으로부터 선택된 1 이상으로 치환 또는 비치환된 카바졸기이다.
또 하나의 일 실시상태에 따르면, 상기 Ar1 및 Ar2는 서로 같거나 상이하고, 각각 독립적으로 메틸기, 에틸기, 프로필기, 이소프로필기, 부틸기, tert-부틸기, 펜틸기, 헥실기 및 페닐기로 이루어진 군으로부터 선택된 1이상으로 치환 또는 비치환된 페닐기; 메틸기, 에틸기, 프로필기, 이소프로필기, 부틸기, tert-부틸기, 펜틸기, 헥실기 및 페닐기로 이루어진 군으로부터 선택된 1이상으로 치환 또는 비치환된 바이페닐기; 메틸기, 에틸기, 프로필기, 이소프로필기, 부틸기, tert-부틸기, 펜틸기, 헥실기 및 페닐기로 이루어진 군으로부터 선택된 1이상으로 치환 또는 비치환된 나프틸기; 메틸기, 에틸기, 프로필기, 이소프로필기, 부틸기, tert-부틸기, 펜틸기, 헥실기 및 페닐기로 이루어진 군으로부터 선택된 1이상으로 치환 또는 비치환된 플루오레닐기; 또는 메틸기, 에틸기, 프로필기, 이소프로필기, 부틸기, tert-부틸기, 펜틸기, 헥실기 및 페닐기로 이루어진 군으로부터 선택된 1이상으로 치환 또는 비치환된 카바졸기이다.
본 명세서의 일 실시상태에 따르면, 상기 q는 1 또는 2이다.
본 명세서의 일 실시상태에 따르면, 상기 L은 치환 또는 비치환된 2가 또는 3가의 아릴기; 치환 또는 비치환된 2가 또는 3가의 헤테로아릴기; 또는 치환 또는 비치환된 2가 또는 3가의 아릴아민기이다.
본 명세서의 일 실시상태에 있어서, 상기 q가 1인 경우, 상기 L은 치환 또는 비치환된 2가의 아릴기; 치환 또는 비치환된 2가의 헤테로아릴기; 또는 치환 또는 비치환된 2가의 아릴아민기이다.
또 하나의 일 실시상태에 따르면, 상기 q가 1인 경우, 상기 L은 치환 또는 비치환된 탄소수 6 내지 60의 2가의 아릴기; 또는 치환 또는 비치환된 탄소수 2 내지 60의 2가의 헤테로아릴기이다.
또 하나의 일 실시상태에 있어서, 상기 q가 1인 경우, 상기 L은 치환 또는 비치환된 탄소수 6 내지 30의 2가의 아릴기; 또는 치환 또는 비치환된 탄소수 2 내지 30의 2가의 헤테로아릴기이다.
또 하나의 일 실시상태에 따르면, 상기 q가 1인 경우, 상기 L은 치환 또는 비치환된 탄소수 6 내지 30의 2가의 아릴기이다.
또 하나의 일 실시상태에 따르면, 상기 q가 1인 경우, 상기 L은 치환 또는 비치환된 2가의 페닐기; 치환 또는 비치환된 2가의 바이페닐기; 또는 치환 또는 비치환된 2가의 플루오레닐기이다.
또 하나의 일 실시상태에 있어서, 상기 q가 1인 경우, 상기 L은 탄소수 1 내지 10의 알킬기로 치환 또는 비치환된 2가의 페닐기; 탄소수 1 내지 10의 알킬기로 치환 또는 비치환된 2가의 바이페닐기; 또는 탄소수 1 내지 10의 알킬기로 치환 또는 비치환된 2가의 플루오레닐기이다.
또 하나의 일 실시상태에 따르면, 상기 q가 1인 경우, 상기 L은 메틸기 또는 헥실기로 치환 또는 비치환된 2가의 페닐기; 메틸기 또는 헥실기로 치환 또는 비치환된 2가의 바이페닐기; 또는 메틸기 또는 헥실기로 치환 또는 비치환된 2가의 플루오레닐기이다.
또 하나의 일 실시상태에 있어서, 상기 q가 1인 경우, 상기 L은 2가의 페닐기; 2가의 9,9-디메틸플루오레닐기; 또는 2가의 9,9-디헥실플루오레닐기이다.
본 명세서의 일 실시상태에 있어서, 상기 q가 2인 경우, 상기 L은 치환 또는 비치환된 3가의 아릴기; 치환 또는 비치환된 3가의 헤테로아릴기; 또는 치환 또는 비치환된 3가의 아릴아민기이다.
또 하나의 일 실시상태에 따르면, 상기 q가 2인 경우, 상기 L은 치환 또는 비치환된 탄소수 6 내지 60의 3가의 아릴기; 또는 치환 또는 비치환된 3가의 아릴아민기이다.
또 하나의 일 실시상태에 따르면, 상기 q가 2인 경우, 상기 L은 치환 또는 비치환된 3가의 페닐기; 또는 치환 또는 비치환된 3가의 트리페닐아민기이다.
본 명세서의 일 실시상태에 따르면, 상기 L은 하기 구조들 중 어느 하나일 수 있다.
상기 구조들에 있어서,
W1 및 W2는 서로 같거나 상이하고, 각각 독립적으로 수소; 또는 치환 또는 비치환된 알킬기이며,
상기 구조들은 추가로 치환될 수 있다.
본 명세서의 일 실시상태에 따르면, 상기 W1 및 W2는 서로 같거나 상이하고, 각각 독립적으로 수소; 또는 치환 또는 비치환된 탄소수 1 내지 20의 알킬기이다.
또 하나의 일 실시상태에 따르면, 상기 W1 및 W2는 서로 같거나 상이하고, 각각 독립적으로 수소; 또는 치환 또는 비치환된 탄소수 1 내지 10의 알킬기이다.
또 하나의 일 실시상태에 있어서, 상기 W1 및 W2는 서로 같거나 상이하고, 각각 독립적으로 치환 또는 비치환된 메틸기; 치환 또는 비치환된 에틸기; 치환 또는 비치환된 프로필기; 치환 또는 비치환된 부틸기; 치환 또는 비치환된 펜틸기; 또는 치환 또는 비치환된 헥실기이다.
또 하나의 일 실시상태에 따르면, 상기 W1 및 W2는 서로 같거나 상이하고, 각각 독립적으로 메틸기; 에틸기; 프로필기; 부틸기; 펜틸기; 또는 헥실기이다.
또 하나의 일 실시상태에 있어서, 상기 W1 및 W2는 메틸기이다.
또 하나의 일 실시상태에 따르면, 상기 W1 및 W2는 헥실기이다.
본 명세서의 일 실시상태에 따르면, 상기 화학식 1은 하기 화학식 3 내지 화학식 6 중 어느 하나로 표시될 수 있다.
[화학식 3]
[화학식 4]
[화학식 5]
[화학식 6]
상기 화학식 3 내지 6에 있어서,
R1 내지 R8, m1, m2, n1 내지 n3, n5 내지 n7, L1, L2, L11, L12, p1, p2, Ar1 및 Ar2는 상기 화학식 1에서 정의한 바와 같고,
L13은 직접결합; 또는 치환 또는 비치환된 2가의 아릴기이고,
L21은 직접결합; 치환 또는 비치환된 2가의 알킬기; 치환 또는 비치환된 2가의 아릴기; 또는 치환 또는 비치환된 2가의 헤테로아릴기이며,
Ar21은 수소; 중수소; 치환 또는 비치환된 알킬기; 치환 또는 비치환된 시클로알킬기; 치환 또는 비치환된 아릴기; 또는 치환 또는 비치환된 헤테로고리기이고,
R51, R61 및 R71은 서로 같거나 상이하고, 각각 독립적으로 수소; 중수소; 할로겐기; 니트릴기; 실릴기; 붕소기; 치환 또는 비치환된 알킬기; 치환 또는 비치환된 시클로알킬기; 치환 또는 비치환된 알콕시기; 치환 또는 비치환된 알케닐기; 치환 또는 비치환된 아릴기; 또는 치환 또는 비치환된 헤테로고리기이며,
R81은 열 또는 광에 의하여 가교 가능한 작용기이고,
m21은 0 내지 12의 정수이며,
p21은 1 내지 4의 정수이고,
n51은 0 내지 5의 정수이며,
n61은 0 내지 4의 정수이고,
n71은 0 내지 3의 정수이며,
p21, n51, n61 및 n71이 각각 2 이상인 경우, 괄호 내의 치환기는 서로 같거나 상이하다.
본 명세서의 일 실시상태에 따르면, 상기 W' 및 W”는 서로 같거나 상이하고, 각각 독립적으로 수소; 또는 치환 또는 비치환된 탄소수 1 내지 20의 알킬기이다.
또 하나의 일 실시상태에 따르면, 상기 W' 및 W”는 서로 같거나 상이하고, 각각 독립적으로 수소; 또는 치환 또는 비치환된 탄소수 1 내지 10의 알킬기이다.
또 하나의 일 실시상태에 있어서, 상기 W' 및 W”는 서로 같거나 상이하고, 각각 독립적으로 치환 또는 비치환된 메틸기; 치환 또는 비치환된 에틸기; 치환 또는 비치환된 프로필기; 치환 또는 비치환된 부틸기; 치환 또는 비치환된 펜틸기; 또는 치환 또는 비치환된 헥실기이다.
또 하나의 일 실시상태에 따르면, 상기 W' 및 W”는 서로 같거나 상이하고, 각각 독립적으로 메틸기; 에틸기; 프로필기; 부틸기; 펜틸기; 또는 헥실기이다.
또 하나의 일 실시상태에 있어서, 상기 W' 및 W”는 메틸기이다.
또 하나의 일 실시상태에 따르면, 상기 W' 및 W”는 헥실기이다.
본 명세서의 일 실시상태에 있어서, 상기 L13은 직접결합; 또는 치환 또는 비치환된 탄소수 6 내지 60의 2가의 아릴기이다.
또 하나의 일 실시상태에 따르면, 상기 L13은 직접결합; 또는 치환 또는 비치환된 탄소수 6 내지 30의 2가의 아릴기이다.
또 하나의 일 실시상태에 있어서, 상기 L13은 직접결합; 치환 또는 비치환된 2가의 페닐기; 또는 치환 또는 비치환된 2가의 바이페닐기이다.
또 하나의 일 실시상태에 있어서, 상기 L13은 직접결합; 또는 2가의 페닐기이다.
본 명세서의 일 실시상태에 따르면, 상기 L21은 직접결합; 치환 또는 비치환된 탄소수 1 내지 20의 2가의 알킬기; 치환 또는 비치환된 탄소수 6 내지 60의 2가의 아릴기; 또는 치환 또는 비치환된 탄소수 2 내지 60의 2가의 헤테로아릴기이다.
또 하나의 일 실시상태에 따르면, 상기 L21은 직접결합; 치환 또는 비치환된 탄소수 1 내지 10의 2가의 알킬기; 치환 또는 비치환된 탄소수 6 내지 30의 2가의 아릴기; 또는 치환 또는 비치환된 탄소수 2 내지 30의 2가의 헤테로아릴기이다.
또 하나의 일 실시상태에 따르면, 상기 L21은 직접결합; 치환 또는 비치환된 2가의 메틸기; 치환 또는 비치환된 2가의 에틸기; 치환 또는 비치환된 2가의 페닐기; 치환 또는 비치환된 2가의 바이페닐기; 치환 또는 비치환된 2가의 터페닐기; 치환 또는 비치환된 2가의 나프틸기; 치환 또는 비치환된 2가의 플루오레닐기; 치환 또는 비치환된 2가의 디벤조퓨란기; 치환 또는 비치환된 2가의 디벤조티오펜기; 또는 치환 또는 비치환된 2가의 카바졸기이다.
또 하나의 일 실시상태에 따르면, 상기 L21은 직접결합; 치환 또는 비치환된 2가의 메틸기; 치환 또는 비치환된 2가의 페닐기; 또는 치환 또는 비치환된 2가의 카바졸기이다.
또 하나의 일 실시상태에 있어서, 상기 L21은 직접결합; 2가의 메틸기; 2가의 페닐기; 또는 2가의 카바졸기이다.
본 명세서의 일 실시상태에 따르면, 상기 p21은 1 내지 4의 정수이다.
또 하나의 일 실시상태에 따르면, 상기 p21은 3 또는 4이다.
본 명세서의 일 실시상태에 있어서, 상기 Ar21은 서로 같거나 상이하고, 각각 독립적으로 수소; 중수소; 치환 또는 비치환된 아릴기; 또는 치환 또는 비치환된 헤테로고리기이다.
또 하나의 일 실시상태에 따르면, 상기 Ar21은 서로 같거나 상이하고, 각각 독립적으로 수소; 중수소; 치환 또는 비치환된 탄소수 6 내지 60의 아릴기; 또는 치환 또는 비치환된 탄소수 2 내지 60의 헤테로고리기이다.
또 하나의 일 실시상태에 있어서, 상기 Ar21은 서로 같거나 상이하고, 각각 독립적으로 수소; 중수소; 치환 또는 비치환된 탄소수 6 내지 30의 아릴기; 또는 치환 또는 비치환된 탄소수 2 내지 30의 헤테로고리기이다.
또 하나의 일 실시상태에 따르면, 상기 Ar21은 서로 같거나 상이하고, 각각 독립적으로 수소; 중수소; 탄소수 1 내지 20의 알킬기 및 탄소수 6 내지 30의 아릴기로 이루어진 군으로부터 선택된 1 이상으로 치환 또는 비치환된 탄소수 6 내지 30의 아릴기; 또는 탄소수 1 내지 20의 알킬기 및 탄소수 6 내지 30의 아릴기로 이루어진 군으로부터 선택된 1 이상으로 치환 또는 비치환된 탄소수 2 내지 30의 헤테로고리기이다.
또 하나의 일 실시상태에 있어서, 상기 Ar21은 서로 같거나 상이하고, 각각 독립적으로 수소; 중수소; 메틸기, 에틸기, 프로필기, 이소프로필기, 부틸기, tert-부틸기, 펜틸기, 헥실기 및 페닐기로 이루어진 군으로부터 선택된 1이상으로 치환 또는 비치환된 탄소수 6 내지 30의 아릴기; 또는 메틸기, 에틸기, 프로필기, 이소프로필기, 부틸기, tert-부틸기, 펜틸기, 헥실기 및 페닐기로 이루어진 군으로부터 선택된 1이상으로 치환 또는 비치환된 탄소수 2 내지 30의 헤테로고리기이다.
또 하나의 일 실시상태에 따르면, 상기 Ar21은 서로 같거나 상이하고, 각각 독립적으로 1 내지 20의 알킬기 및 탄소수 6 내지 30의 아릴기로 이루어진 군으로부터 선택된 1 이상으로 치환 또는 비치환된 페닐기; 1 내지 20의 알킬기 및 탄소수 6 내지 30의 아릴기로 이루어진 군으로부터 선택된 1 이상으로 치환 또는 비치환된 바이페닐기; 1 내지 20의 알킬기 및 탄소수 6 내지 30의 아릴기로 이루어진 군으로부터 선택된 1 이상으로 치환 또는 비치환된 나프틸기; 1 내지 20의 알킬기 및 탄소수 6 내지 30의 아릴기로 이루어진 군으로부터 선택된 1 이상으로 치환 또는 비치환된 플루오레닐기; 또는 1 내지 20의 알킬기 및 탄소수 6 내지 30의 아릴기로 이루어진 군으로부터 선택된 1 이상으로 치환 또는 비치환된 카바졸기이다.
또 하나의 일 실시상태에 따르면, 상기 Ar21은 서로 같거나 상이하고, 각각 독립적으로 메틸기, 에틸기, 프로필기, 이소프로필기, 부틸기, tert-부틸기, 펜틸기, 헥실기 및 페닐기로 이루어진 군으로부터 선택된 1이상으로 치환 또는 비치환된 페닐기; 메틸기, 에틸기, 프로필기, 이소프로필기, 부틸기, tert-부틸기, 펜틸기, 헥실기 및 페닐기로 이루어진 군으로부터 선택된 1이상으로 치환 또는 비치환된 바이페닐기; 메틸기, 에틸기, 프로필기, 이소프로필기, 부틸기, tert-부틸기, 펜틸기, 헥실기 및 페닐기로 이루어진 군으로부터 선택된 1이상으로 치환 또는 비치환된 나프틸기; 메틸기, 에틸기, 프로필기, 이소프로필기, 부틸기, tert-부틸기, 펜틸기, 헥실기 및 페닐기로 이루어진 군으로부터 선택된 1이상으로 치환 또는 비치환된 플루오레닐기; 또는 메틸기, 에틸기, 프로필기, 이소프로필기, 부틸기, tert-부틸기, 펜틸기, 헥실기 및 페닐기로 이루어진 군으로부터 선택된 1이상으로 치환 또는 비치환된 카바졸기이다.
본 명세서의 일 실시상태에 있어서, 상기 m1 및 m2는 각각 0 내지 12의 정수이다.
또 하나의 일 실시상태에 따르면, 상기 m1 및 m2는 각각 0 내지 6의 정수이다.
또 하나의 일 실시상태에 있어서, 상기 m1 및 m2는 각각 1 내지 6의 정수이며, 상기 m1 및 m2가 각각 1 내지 6의 정수임에 따라, 플루오렌과 경화기 사이에 적절한 거리를 유지함으로써, 경화기 주변의 입체장애를 감소시켜 경화점을 낮춰준다.
본 명세서의 일 실시상태에 따르면, 상기 m1 및 m2는 2 또는 6이다.
본 명세서의 일 실시상태에 있어서, 상기 m21은 0 내지 12의 정수이다.
또 하나의 일 실시상태에 따르면, 상기 m21은 0 내지 6의 정수이다.
본 명세서의 일 실시상태에 따르면, 상기 m21은 2 또는 6이다.
본 명세서의 일 실시상태에 있어서, 상기 R1 내지 R3 및 R5 내지 R7은 서로 같거나 상이하고, 각각 독립적으로 수소; 치환 또는 비치환된 알킬기; 또는 치환 또는 비치환된 알콕시기이다.
또 하나의 일 실시상태에 따르면, 상기 R1 내지 R3 및 R5 내지 R7은 서로 같거나 상이하고, 각각 독립적으로 수소; 치환 또는 비치환된 탄소수 1 내지 20의 알킬기; 또는 치환 또는 비치환된 탄소수 1 내지 20의 알콕시기이다.
또 하나의 일 실시상태에 있어서, 상기 R1 내지 R3 및 R5 내지 R7은 서로 같거나 상이하고, 각각 독립적으로 수소; 또는 치환 또는 비치환된 탄소수 1 내지 20의 알킬기이다.
또 하나의 일 실시상태에 따르면, 상기 R1 내지 R3 및 R5 내지 R7은 서로 같거나 상이하고, 각각 독립적으로 수소; 치환 또는 비치환된 메틸기; 치환 또는 비치환된 에틸기; 치환 또는 비치환된 프로필기; 치환 또는 비치환된 이소프로필기; 치환 또는 비치환된 부틸기; 또는 치환 또는 비치환된 tert-부틸기이다.
또 하나의 일 실시상태에 있어서, 상기 R1 내지 R3 및 R5 내지 R7은 서로 같거나 상이하고, 각각 독립적으로 수소; 메틸기; 에틸기; 프로필기; 이소프로필기; 부틸기; 또는 tert-부틸기이다.
또 하나의 일 실시상태에 있어서, 상기 R1 내지 R3 및 R5 내지 R7은 수소이다.
본 명세서의 일 실시상태에 있어서, 상기 R51, R61 및 R71은 서로 같거나 상이하고, 각각 독립적으로 수소; 치환 또는 비치환된 알킬기; 또는 치환 또는 비치환된 알콕시기이다.
또 하나의 일 실시상태에 따르면, 상기 R51, R61 및 R71은 서로 같거나 상이하고, 각각 독립적으로 수소; 치환 또는 비치환된 탄소수 1 내지 20의 알킬기; 또는 치환 또는 비치환된 탄소수 1 내지 20의 알콕시기이다.
또 하나의 일 실시상태에 있어서, 상기 R51, R61 및 R71은 서로 같거나 상이하고, 각각 독립적으로 수소; 또는 치환 또는 비치환된 탄소수 1 내지 20의 알킬기이다.
또 하나의 일 실시상태에 따르면, 상기 R51, R61 및 R71은 서로 같거나 상이하고, 각각 독립적으로 수소; 치환 또는 비치환된 메틸기; 치환 또는 비치환된 에틸기; 치환 또는 비치환된 프로필기; 치환 또는 비치환된 이소프로필기; 치환 또는 비치환된 부틸기; 또는 치환 또는 비치환된 tert-부틸기이다.
또 하나의 일 실시상태에 있어서, 상기 R51, R61 및 R71은 서로 같거나 상이하고, 각각 독립적으로 수소; 메틸기; 에틸기; 프로필기; 이소프로필기; 부틸기; 또는 tert-부틸기이다.
또 하나의 일 실시상태에 있어서, 상기 R51, R61 및 R71은 수소이다.
본 명세서의 일 실시상태에 따르면, 상기 n1 내지 n3, n5 내지 n7, n51, n61 및 n71은 각각 0 또는 1이다.
본 명세서의 일 실시상태에 따르면, 상기 R4 및 R8은 서로 같거나 상이하고, 각각 독립적으로 열 또는 광에 의하여 가교 가능한 작용기이다.
또 하나의 일 실시상태에 따르면, 상기 R81은 열 또는 광에 의하여 가교 가능한 작용기이다.
본 명세서의 일 실시상태에 있어서, 상기 열 또는 광에 의하여 가교 가능한 작용기는 하기 구조 중 어느 하나일 수 있다.
상기 구조에 있어서,
X1은 수소; 또는 치환 또는 비치환된 탄소수 1 내지 6의 알킬기이다.
본 명세서의 일 실시상태에 따르면, 상기 X1은 수소; 치환 또는 비치환된 메틸기; 치환 또는 비치환된 에틸기; 치환 또는 비치환된 프로필기; 치환 또는 비치환된 이소프로필기; 치환 또는 비치환된 부틸기; 치환 또는 비치환된 tert-부틸기; 치환 또는 비치환된 펜틸기; 또는 치환 또는 비치환된 헥실기이다.
또 하나의 일 실시상태에 따르면, 상기 X1은 수소; 메틸기; 에틸기; 프로필기; 이소프로필기; 부틸기; tert-부틸기; 펜틸기; 또는 헥실기이다.
본 명세서의 일 실시상태에 따르면, 상기 화학식 1은 하기 화합물 1 내지 126 중 어느 하나로 표시될 수 있다.
[화합물 1]
[화합물 2]
[화합물 3]
[화합물 4]
[화합물 5]
[화합물 6]
[화합물 7]
[화합물 8]
[화합물 9]
[화합물 10]
[화합물 11]
[화합물 12]
[화합물 13]
[화합물 14]
[화합물 15]
[화합물 16]
[화합물 17]
[화합물 18]
[화합물 19]
[화합물 20]
[화합물 21]
[화합물 22]
[화합물 23]
[화합물 24]
[화합물 25]
[화합물 26]
[화합물 27]
[화합물 28]
[화합물 29]
[화합물 30]
[화합물 31]
[화합물 32]
[화합물 33]
[화합물 34]
[화합물 35]
[화합물 36]
[화합물 37]
[화합물 38]
[화합물 39]
[화합물 40]
[화합물 41]
[화합물 42]
[화합물 43]
[화합물 44]
[화합물 45]
[화합물 46]
[화합물 47]
[화합물 48]
[화합물 49]
[화합물 50]
[화합물 51]
[화합물 52]
[화합물 53]
[화합물 54]
[화합물 55]
[화합물 56]
[화합물 57]
[화합물 58]
[화합물 59]
[화합물 60]
[화합물 61]
[화합물 62]
[화합물 63]
[화합물 64]
[화합물 65]
[화합물 66]
[화합물 67]
[화합물 68]
[화합물 69]
[화합물 70]
[화합물 71]
[화합물 72]
[화합물 73]
[화합물 74]
[화합물 75]
[화합물 76]
[화합물 77]
[화합물 78]
[화합물 79]
[화합물 80]
[화합물 81]
[화합물 82]
[화합물 83]
[화합물 84]
[화합물 85]
[화합물 86]
[화합물 87]
[화합물 88]
[화합물 89]
[화합물 90]
[화합물 91]
[화합물 92]
[화합물 93]
[화합물 94]
[화합물 95]
[화합물 96]
[화합물 97]
[화합물 98]
[화합물 99]
[화합물 100]
[화합물 101]
[화합물 102]
[화합물 103]
[화합물 104]
[화합물 105]
[화합물 106]
[화합물 107]
[화합물 108]
[화합물 109]
[화합물 110]
[화합물 111]
[화합물 112]
[화합물 113]
[화합물 114]
[화합물 115]
[화합물 116]
[화합물 117]
[화합물 118]
[화합물 119]
[화합물 120]
[화합물 121]
[화합물 122]
[화합물 123]
[화합물 124]
[화합물 125]
[화합물 126]
본 명세서의 일 실시상태에 따른 화합물은 후술하는 제조방법으로 제조될 수 있다.
예컨대 상기 화학식 1의 화합물은 하기 화학식 1의 일반적인 제조방법에 기재한 방법으로 제조될 수 있다. 치환기는 당 기술분야에 알려져 있는 방법에 의하여 결합될 수 있으며, 치환기의 종류, 위치 또는 개수는 당 기술분야에 알려져 있는 기술에 따라 변경될 수 있다.
<화학식 1의 일반적인 제조방법>
본 명세서의 일 실시상태에 있어서, 전술한 화학식 1의 화합물을 포함하는 코팅 조성물을 제공한다.
본 명세서의 일 실시상태에 있어서, 상기 코팅 조성물은 상기 화학식 1의 화합물 및 용매를 포함한다.
본 명세서의 일 실시상태에 있어서, 상기 코팅 조성물은 분자 내에 열 또는 광에 의하여 가교 가능한 작용기가 도입된 화합물 및 고분자 화합물로 이루어진 군에서 선택되는 1 종 또는 2 종의 화합물을 더 포함할 수 있다.
본 명세서의 일 실시상태에 있어서, 상기 코팅 조성물은 분자 내에 열 또는 광에 의하여 가교 가능한 작용기가 도입된 화합물을 더 포함할 수 있다. 상기 코팅 조성물이 분자 내에 열 또는 광에 의하여 가교 가능한 작용기가 도입된 화합물을 더 포함하는 경우에는 코팅 조성물의 경화도를 더 높일 수 있다.
본 명세서의 일 실시상태에 있어서, 분자 내에 열 또는 광에 의하여 가교 가능한 작용기가 도입된 화합물의 분자량은 100 g/mol 내지 3,000 g/mol이다.
본 명세서의 일 실시상태에 있어서, 상기 코팅 조성물은 고분자 화합물을 더 포함할 수 있다. 상기 코팅 조성물이 고분자 화합물을 더 포함하는 경우에는 코팅 조성물의 잉크 특성을 높일 수 있다. 즉, 상기 고분자 화합물을 더 포함하는 코팅 조성물은 코팅 또는 잉크젯 하기 적당한 점도를 제공할 수 있다.
본 명세서의 일 실시상태에 있어서, 상기 고분자 화합물의 분자량은 10,000 g/mol 내지 200,000 g/mol이다.
본 명세서의 일 실시상태에 있어서, 상기 코팅 조성물은 액상일 수 있다. 상기 "액상"은 상온 및 상압에서 액체 상태인 것을 의미한다.
본 명세서의 일 실시상태에 있어서, 상기 용매는 예컨대, 클로로포름, 염화메틸렌, 1,2-디클로로에탄, 1,1,2-트리클로로에탄, 클로로벤젠, o-디클로로벤젠 등의 염소계 용매; 테트라히드로푸란, 디옥산 등의 에테르계 용매; 톨루엔, 크실렌, 트리메틸벤젠, 메시틸렌 등의 방향족 탄화수소계 용매; 시클로헥산, 메틸시클로헥산, n-펜탄, n-헥산, n-헵탄, n-옥탄, n-노난, n-데칸 등의 지방족 탄화수소계 용매; 아세톤, 메틸에틸케톤, 시클로헥사논, 이소포론(Isophorone), 테트랄론(Tetralone), 데칼론(Decalone), 아세틸아세톤(Acetylacetone) 등의 케톤계 용매; 아세트산에틸, 아세트산부틸, 에틸셀로솔브아세테이트 등의 에스테르계 용매; 에틸렌글리콜, 에틸렌글리콜모노부틸에테르, 에틸렌글리콜모노에틸에테르, 에틸렌글리콜모노메틸에테르, 디메톡시에탄, 프로필렌글리콜, 디에톡시메탄, 트리에틸렌글리콜모노에틸에테르, 글리세린, 1,2-헥산디올 등의 다가 알코올 및 그의 유도체; 메탄올, 에탄올, 프로판올, 이소프로판올, 시클로헥산올 등의 알코올계 용매; 디메틸술폭시드 등의 술폭시드계 용매; 및 N-메틸-2-피롤리돈, N,N-디메틸포름아미드 등의 아미드계 용매; 테트랄린 등의 용매가 예시되나, 본원 발명의 일 실시상태에 따른 화학식 1의 화합물을 용해 또는 분산시킬 수 있는 용매면 족하고, 이들을 한정하지 않는다.
또 하나의 실시상태에 있어서, 상기 용매는 1 종 단독으로 사용하거나, 또는 2 종 이상의 용매를 혼합하여 사용할 수 있다.
본 명세서의 일 실시상태에 있어서, 상기 코팅 조성물은 p 도핑 물질을 더 포함하지 않는다.
본 명세서의 일 실시상태에 있어서, 상기 코팅 조성물은 p 도핑 물질을 더 포함한다.
본 명세서에서 상기 p 도핑 물질이란, 호스트 물질을 p 반도체 특성을 갖도록 하는 물질을 의미한다. p 반도체 특성이란 HOMO(highest occupied molecular orbital) 에너지 준위로 정공을 주입받거나 수송하는 특성 즉, 정공의 전도도가 큰 물질의 특성을 의미한다.
본 명세서의 일 실시상태에 있어서, 상기 p 도핑 물질은 하기 화학식 A 또는 B로 표시될 수 있으나, 이를 한정하지 않는다.
[화학식 A]
[화학식 B]
본 명세서에서 상기 p 도핑 물질은 p 반도체 특성을 갖도록 하는 물질이면 족하고, 1종 또는 2 종 이상을 사용할 수 있으며, 이의 종류를 한정하지 않는다.
본 명세서의 일 실시상태에 있어서, 상기 p 도핑 물질의 함량은 상기 화학식 1의 화합물을 기준으로 0 중량% 내지 50 중량%이다.
본 명세서의 일 실시상태에 있어서, 상기 p 도핑 물질의 함량은 상기 코팅 조성물의 전체 고형분 함량을 기준으로 0 내지 30 중량%를 포함한다. 본 명세서의 일 실시상태에 있어서, 상기 p 도핑 물질의 함량은 상기 코팅 조성물의 전체 고형분 함량을 기준으로 1 내지 30 중량%를 포함하는 것이 바람직하며, 또 하나의 실시상태에 있어서, 상기 p 도핑 물질의 함량은 상기 코팅 조성물의 전체 고형분 함량을 기준으로 10 내지 30 중량%를 포함하는 것이 더욱 바람직하다.
또 하나의 실시상태에 있어서, 상기 코팅 조성물의 점도는 2 cP 내지 15 cP이다.
상기 점도를 만족하는 경우 소제 제조에 용이하다.
본 명세서는 또한, 상기 코팅 조성물을 이용하여 형성된 유기 발광 소자를 제공한다.
본 명세서의 일 실시상태에 있어서, 제1 전극; 제2 전극; 및 상기 제1 전극과 상기 제2 전극 사이에 구비되는 1층 이상의 유기물층을 포함하고, 상기 유기물층 중 1층 이상은 상기 코팅 조성물의 경화물을 포함하며, 상기 코팅 조성물의 경화물은 상기 코팅 조성물이 열처리 또는 광처리에 의하여 경화된 상태이다.
본 명세서의 일 실시상태에 있어서, 상기 코팅 조성물의 경화물을 포함하는 유기물층은 정공수송층 또는 정공주입층이다.
본 명세서의 일 실시상태에 있어서, 상기 코팅 조성물의 경화물을 포함하는 유기물층은 전자수송층 또는 전자주입층이다.
또 다른 실시상태에 있어서, 상기 코팅 조성물의 경화물을 포함하는 유기물층은 발광층이다.
또 하나의 실시상태에 있어서, 상기 코팅 조성물 경화물을 포함하는 유기물층은 발광층이고, 상기 발광층은 상기 화학식 1의 화합물을 발광층의 호스트로서 포함한다.
또 하나의 실시상태에 있어서, 상기 코팅 조성물을 포함하는 유기물층은 발광층이고, 상기 발광층은 상기 화학식 1의 화합물을 발광층의 도펀트로서 포함한다.
본 명세서의 일 실시상태에 있어서, 상기 유기 발광 소자는 정공주입층, 정공수송층. 전자수송층, 전자주입층, 전자저지층 및 정공저지층으로 이루어진 군에서 선택되는 1층 또는 2층 이상을 더 포함한다.
본 명세서의 일 실시상태에 있어서, 상기 제1 전극은 애노드이고, 제2 전극은 캐소드이다.
또 하나의 일 실시상태에 따르면, 상기 제1 전극은 캐소드이고, 제2 전극은 애노드이다.
또 하나의 실시상태에 있어서, 유기 발광 소자는 기판 상에 애노드, 1층 이상의 유기물층 및 캐소드가 순차적으로 적층된 구조(normal type)의 유기 발광 소자일 수 있다.
또 하나의 실시상태에 있어서, 유기 발광 소자는 기판 상에 캐소드, 1층 이상의 유기물층 및 애노드가 순차적으로 적층된 역방향 구조(inverted type)의 유기 발광 소자일 수 있다.
본 명세서의 유기 발광 소자의 유기물층은 단층 구조로 이루어질 수도 있으나, 2층 이상의 유기물층이 적층된 다층 구조로 이루어질 수 있다. 예컨대, 본 발명의 유기 발광 소자는 유기물층으로서 정공주입층, 정공수송층, 발광층, 전자수송층, 전자주입층 등을 포함하는 구조를 가질 수 있다. 그러나 유기 발광 소자의 구조는 이에 한정되지 않고 더 적은 수의 유기층을 포함할 수 있다.
예컨대, 본 명세서의 일 실시상태에 따른 유기 발광 소자의 구조는 도 1에 예시되어 있다.
도 1에는 기판(101) 상에 애노드(201), 정공주입층(301), 정공수송층(401), 발광층(501), 전자수송층(601) 및 캐소드(701)가 순차적으로 적층된 유기 발광 소자의 구조가 예시되어 있다.
상기 도 1은 유기 발광 소자를 예시한 것이며 이에 한정되지 않는다.
상기 유기 발광 소자가 복수개의 유기물층을 포함하는 경우, 상기 유기물층은 동일한 물질 또는 다른 물질로 형성될 수 있다.
본 명세서의 유기 발광 소자는 유기물층 중 1층 이상이 상기 화학식 1의 화합물을 포함하는 코팅 조성물을 이용하여 형성하는 것을 제외하고는 당 기술분야에 알려져 있는 재료와 방법으로 제조될 수 있다.
예컨대, 본 명세서의 유기 발광 소자는 기판 상에 애노드, 유기물층 및 캐소드를 순차적으로 적층시킴으로써 제조할 수 있다. 이 때 스퍼터링법(sputtering)이나 전자빔 증발법(e-beam evaporation)과 같은 PVD(physical Vapor Deposition)방법을 이용하여, 기판 상에 금속 또는 전도성을 가지는 금속 산화물 또는 이들의 합금을 증착시켜 애노드를 형성하고, 그 위에 정공 주입층, 정공 수송층, 발광층 및 전자 수송층을 포함하는 유기물층을 증착 또는 용액 공정을 통하여 형성한 후, 그 위에 캐소드로 사용할 수 있는 물질을 증착시킴으로써 제조될 수 있다. 이와 같은 방법 외에도, 기판 상에 캐소드 물질부터 유기물층, 애노드 물질을 차례로 증착시켜 유기 발광 소자를 만들 수 있다.
본 명세서는 또한, 상기 코팅 조성물을 이용하여 형성된 유기 발광 소자의 제조 방법을 제공한다.
구체적으로 본 명세서의 일 실시상태에 있어서, 기판을 준비하는 단계; 상기 기판 상에 제1 전극을 형성하는 단계; 상기 제1 전극 상에 1층 이상의 유기물층을 형성하는 단계; 및 상기 유기물층 상에 제2 전극을 형성하는 단계를 포함하고, 상기 유기물층을 형성하는 단계는 상기 코팅 조성물을 이용하여 1층 이상의 유기물층을 형성하는 단계를 포함한다.
본 명세서의 일 실시상태에 있어서, 상기 코팅 조성물을 이용하여 1층 이상의 유기물층을 형성하는 단계는 스핀 코팅 방법을 이용한다.
또 다른 실시상태에 있어서, 상기 코팅 조성물을 이용하여 1층 이상의 유기물층을 형성하는 단계는 인쇄법을 이용한다.
본 명세서의 상태에 있어서, 상기 인쇄법은 예컨대, 잉크젯 프린팅, 노즐 프린팅, 오프셋 프린팅, 전사 프린팅 또는 스크린 프린팅 등이 있으나, 이를 한정하지 않는다.
본 명세서의 일 실시상태에 따른 코팅 조성물은 구조적인 특성으로 용액 공정이 적합하여 인쇄법에 의하여 형성될 수 있으므로 소자의 제조 시에 시간 및 비용적으로 경제적인 효과가 있다.
본 명세서의 일 실시상태에 있어서, 상기 열처리하는 단계는 열처리를 통하여 행해질 수 있으며, 열처리하는 단계에서의 열처리 온도는 80 ℃ 내지 250 ℃이고, 일 실시상태에 따르면 상기 열처리하는 단계는 2 단계에 거쳐서 진행될 수 있으며, 1 단계로 80 ℃ 내지 250 ℃에서 열처리 진행 후, 2 단계로 100 ℃ 내지 250 ℃에서 열처리가 진행될 수 있다. 또 하나의 일 실시상태에 따르면, 상기 1 단계는 80 ℃ 내지 150 ℃에서 열처리가 진행되며, 2 단계는 120 ℃ 내지 200 ℃에서 열처리가 진행 될 수 있다.
또 하나의 실시상태에 있어서, 상기 열처리하는 단계에서의 열처리 시간은 1분 내지 2시간이고, 일 실시상태에 따르면 1분 내지 1시간일 수 있으며, 또 하나의 일 실시상태에 있어서, 30분 내지 1시간일 수 있다.
또 하나의 일 실시상태에 따르면, 상기 열처리하는 단계는 공기 중 또는 질소 분위기 하에서 진행될 수 있다.
상기 코팅 조성물을 이용하여 형성된 유기물층을 형성하는 단계에서 상기 열처리 또는 광처리 단계를 포함하는 경우에는 코팅 조성물에 포함된 복수 개의 상기 화합물이 가교를 형성하여 박막화된 구조가 포함된 유기물층을 제공할 수 있다. 이 경우, 상기 코팅 조성물을 이용하여 형성된 유기물층의 표면 위에 다른 층을 적층할 시, 용매에 의하여 용해되거나, 형태학적으로 영향을 받거나 분해되는 것을 방지할 수 있다.
따라서, 상기 코팅 조성물을 이용하여 형성된 유기물층이 열처리 또는 광처리 단계를 포함하여 형성된 경우에는 용매에 대한 저항성이 증가하여 용액 증착 및 가교 방법을 반복 수행하여 다층을 형성할 수 있으며, 안정성이 증가하여 소자의 수명 특성을 증가시킬 수 있다.
상기 애노드 물질로는 통상 유기물층으로 정공 주입이 원활할 수 있도록 일함수가 큰 물질이 바람직하다. 본 발명에서 사용될 수 있는 애노드 물질의 구체적인 예로는 바나듐, 크롬, 구리, 아연, 금과 같은 금속 또는 이들의 합금; 아연 산화물, 인듐 산화물, 인듐주석 산화물(ITO), 인듐아연 산화물(IZO)과 같은 금속 산화물; ZnO:Al 또는 SnO2 : Sb와 같은 금속과 산화물의 조합; 폴리(3-메틸티오펜), 폴리[3,4-(에틸렌-1,2-디옥시)티오펜](PEDOT), 폴리피롤 및 폴리아닐린과 같은 전도성 고분자 등이 있으나, 이들에만 한정되는 것은 아니다.
상기 캐소드 물질로는 통상 유기물층으로 전자 주입이 용이하도록 일함수가 작은 물질인 것이 바람직하다. 캐소드 물질의 구체적인 예로는 바륨, 마그네슘, 칼슘, 나트륨, 칼륨, 티타늄, 인듐, 이트륨, 리튬, 가돌리늄, 알루미늄, 은, 주석 및 납과 같은 금속 또는 이들의 합금; LiF/Al 또는 LiO2/Al과 같은 다층 구조 물질 등이 있으나, 이들에만 한정되는 것은 아니다.
상기 정공 주입층은 전극으로부터 정공을 주입하는 층으로, 정공 주입 물질로는 정공을 수송하는 능력을 가져 애노드에서의 정공 주입효과, 발광층 또는 발광재료에 대하여 우수한 정공 주입 효과를 갖고, 발광층에서 생성된 여기자의 전자주입층 또는 전자주입재료에의 이동을 방지하며, 또한, 박막 형성 능력이 우수한 화합물이 바람직하다. 정공 주입 물질의 HOMO(highest occupied molecular orbital)가 애노드 물질의 일함수와 주변 유기물층의 HOMO 사이인 것이 바람직하다. 정공 주입 물질의 구체적인 예로는 금속 포피린(porphyrin), 올리고티오펜, 아릴아민 계열의 유기물, 헥사니트릴헥사아자트리페닐렌 계열의 유기물, 퀴나크리돈(quinacridone)계열의 유기물, 페릴렌(perylene) 계열의 유기물, 안트라퀴논 및 폴리아닐린과 폴리티오펜 계열의 전도성 고분자 등이 있으나, 이들에만 한정 되는 것은 아니다.
상기 정공수송층은 정공주입층으로부터 정공을 수취하여 발광층까지 정공을 수송하는 층으로, 정공 수송 물질로는 애노드나 정공 주입층으로부터 정공을 수송 받아 발광층으로 옮겨줄 수 있는 물질로 정공에 대한 이동성이 큰 물질이 적합하다. 구체적인 예로는 아릴아민 계열의 유기물, 전도성 고분자, 및 공액 부분과 비공액 부분이 함께 있는 블록 공중합체 등이 있으나, 이들에만 한정되는 것은 아니다.
상기 발광 물질로는 정공 수송층과 전자 수송층으로부터 정공과 전자를 각각 수송받아 결합시킴으로써 가시광선 영역의 빛을 낼 수 있는 물질로서, 형광이나 인광에 대한 양자 효율이 좋은 물질이 바람직하다. 구체적인 예로는 8-히드록시-퀴놀린 알루미늄 착물(Alq3); 카르바졸 계열 화합물; 이량체화 스티릴(dimerized styryl) 화합물; BAlq; 10-히드록시벤조 퀴놀린-금속 화합물; 벤족사졸, 벤즈티아졸 및 벤즈이미다졸 계열의 화합물; 폴리(p-페닐렌비닐렌)(PPV) 계열의 고분자; 스피로(spiro) 화합물; 폴리플루오렌, 루브렌 등이 있으나, 이들에만 한정되는 것은 아니다.
상기 발광층은 호스트 재료 및 도펀트 재료를 포함할 수 있다. 호스트 재료는 축합 방향족환 유도체 또는 헤테로환 함유 화합물 등이 있다. 구체적으로 축합방향족환 유도체로는 안트라센 유도체, 피렌 유도체, 나프탈렌 유도체, 펜타센 유도체, 페난트렌 화합물, 플루오란텐 화합물 등이 있고, 헤테로환 함유 화합물로는 카바졸 유도체, 디벤조퓨란 유도체, 래더형 퓨란 화합물, 피리미딘 유도체 등이 있으나, 이에 한정되지 않는다.
도펀트 재료로는 방향족 아민 유도체, 스트릴아민 화합물, 붕소 착체, 플루오란텐 화합물, 금속 착체 등이 있다. 구체적으로 방향족 아민 유도체로는 치환 또는 비치환된 아릴아미노기를 갖는 축합 방향족환 유도체로서, 아릴아미노기를 갖는 피렌, 안트라센, 크리센, 페리플란텐 등이 있으며, 스티릴아민 화합물로는 치환 또는 비치환된 아릴아민에 적어도 1개의 아릴비닐기가 치환되어 있는 화합물로, 아릴기, 실릴기, 알킬기, 시클로알킬기 및 아릴아미노기로 이루어진 군에서 1 또는 2이상 선택되는 치환기가 치환 또는 비치환된다. 구체적으로 스티릴아민, 스티릴디아민, 스티릴트리아민, 스티릴테트라아민 등이 있으나, 이에 한정되지 않는다. 또한, 금속 착체로는 이리듐 착체, 백금 착체 등이 있으나, 이에 한정되지 않는다.
상기 전자 수송층은 전자주입층으로부터 전자를 수취하여 발광층까지 전자를 수송하는 층으로 전자 수송 물질로는 캐소드로부터 전자를 잘 주입 받아 발광층으로 옮겨줄 수 있는 물질로서, 전자에 대한 이동성이 큰 물질이 적합하다. 구체적인 예로는 8-히드록시퀴놀린의 Al착물; Alq3를 포함한 착물; 유기 라디칼 화합물; 히드록시플라본-금속 착물 등이 있으나, 이들에만 한정되는 것은 아니다. 전자 수송층은 종래기술에 따라 사용된 바와 같이 임의의 원하는 캐소드 물질과 함께 사용할 수 있다. 특히, 적절한 캐소드 물질의 예는 낮은 일함수를 가지고 알루미늄층 또는 실버층이 뒤따르는 통상적인 물질이다. 구체적으로 세슘, 바륨, 칼슘, 이테르븀 및 사마륨이고, 각 경우 알루미늄 층 또는 실버층이 뒤따른다.
상기 전자주입층은 전극으로부터 전자를 주입하는 층으로, 전자를 수송하는 능력을 갖고, 캐소드로부터의 전자주입 효과, 발광층 또는 발광 재료에 대하여 우수한 전자주입 효과를 가지며, 발광층에서 생성된 여기자의 정공 주입층에의 이동을 방지하고, 또한, 박막형성능력이 우수한 화합물이 바람직하다. 구체적으로는 플루오레논, 안트라퀴노다이메탄, 다이페노퀴논, 티오피란 다이옥사이드, 옥사졸, 옥사다이아졸, 트리아졸, 이미다졸, 페릴렌테트라카복실산, 프레오레닐리덴 메탄, 안트론 등과 그들의 유도체, 금속 착체 화합물 및 함질소 5원환 유도체 등이 있으나, 이에 한정되지 않는다.
상기 금속 착체 화합물로서는 8-하이드록시퀴놀리나토 리튬, 비스(8-하이드록시퀴놀리나토)아연, 비스(8-하이드록시퀴놀리나토)구리, 비스(8-하이드록시퀴놀리나토)망간, 트리스(8-하이드록시퀴놀리나토)알루미늄, 트리스(2-메틸-8-하이드록시퀴놀리나토)알루미늄, 트리스(8-하이드록시퀴놀리나토)갈륨, 비스(10-하이드록시벤조[h]퀴놀리나토)베릴륨, 비스(10-하이드록시벤조[h]퀴놀리나토)아연, 비스(2-메틸-8-퀴놀리나토)클로로갈륨, 비스(2-메틸-8-퀴놀리나토)(o-크레졸라토)갈륨, 비스(2-메틸-8-퀴놀리나토)(1-나프톨라토)알루미늄, 비스(2-메틸-8-퀴놀리나토)(2-나프톨라토)갈륨 등이 있으나, 이에 한정되지 않는다.
상기 정공저지층은 정공의 캐소드 도달을 저지하는 층으로, 일반적으로 정공주입층과 동일한 조건으로 형성될 수 있다. 구체적으로 옥사디아졸 유도체나 트리아졸 유도체, 페난트롤린 유도체, BCP, 알루미늄 착물 (aluminum complex) 등이 있으나, 이에 한정되지 않는다.
본 명세서에 따른 유기 발광 소자는 사용되는 재료에 따라 전면 발광형, 후면 발광형 또는 양면 발광형일 수 있다.
이하, 본 명세서를 구체적으로 설명하기 위해 실시예를 들어 상세하게 설명하기로 한다. 그러나, 본 명세서에 따른 실시예들은 여러 가지 다른 형태로 변형될 수 있으며, 본 명세서의 범위가 아래에서 기술하는 실시예들에 한정되는 것으로 해석되지 않는다. 본 명세서의 실시예들은 당업계에서 평균적인 지식을 가진 자에게 본 명세서를 보다 완전하게 설명하기 위해 제공되는 것이다.
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제조예
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제조예
1. 화합물 1의 제조
1) 중간체 1의 제조
1-1 (1eq.)를 테트라하이드로퓨란[THF]/에탄올 혼합물(mixture)(2:1)에 녹인 후, 0℃ 이하에서 NaBH4(1eq.)를 함께 교반시킨다. 0℃에서 NH4Cl로 퀜칭(quenching) 시킨 후, brine/EA(에틸 아세테이트)로 워크-업(work-up)하였다. 정제는 에탄올(ethanol)을 사용하여 온도차 재결정을 하였고 흰색 파우더(1-2)를 얻었다. 0℃ 에서 0.1M의 다이클로로메테인(DCM)을 넣고, TIPS-OTf(1.2eq.)를 넣는다. 2,6-루티딘(2,6-lutidine)(2eq.)을 넣은 후, 1-2 (1eq.)을 넣고 0℃에서 15분 정도 교반시킨 후, 상온으로 올린다. 디클로로메탄(DCM)/H2O로 워크-업(work-up)한다. 정제는 컬럼(column)을 사용하여 분리하였고, 헥산/DCM (20:1) 혼합용액을 사용하여 1-3을 얻었다. 1-3 (1eq.), KOAc (6eq.), (BPin)2 (2eq.)을 넣고 다이옥산(dioxane)을 넣는다. 80℃로 유지시켜 놓은 후, PdCl2(dppf) (0.06eq.) 를 넣고 N2 분위기에서 밤새 환류(overnight reflux)시켰다. 에틸아세테이트(EA)/H2O로 워크-업(work-up)하고 산성백토와 MgSO4를 넣어 30분 정도 교반시킨 뒤 셀라이트/실리카 패드(celite/silca pad)를 통과시켰다. 정제는 컬럼(column)을 사용하여 분리하였고 이때 용리액(eluent)은 EA/헥산(1:50) 혼합용액을 사용하여 중간체 1을 4.2g 수득하였다.
2) 중간체 2의 제조
상온에서 2-1(1eq.)을 디메틸포름아마이드(DMF)에 녹인 후 N-브로모숙신이미드(NBS, 1eq.)를 넣고 함께 교반시킨다. 2시간 후 반응이 완결되면 에탄올을 부어 침전시켜 중간체 2를 얻는다. (수율: 90%)
3) 중간체 3의 제조
2-브로모-9-페닐-9H-플루오렌-9-올(3-2)[2-bromo-9-phenyl-9H-fluoren-9-ol(3-2)]의 합성 : 2-브로모-9H-플루오렌-9-온(1)[2-bromo-9H-fluoren-9-one(1)](5g, 19.3mmol)을 무수테트라하이드로퓨란(THF)에 녹인 용액이 담긴 플라스크를 얼음물 배쓰[bath]에 넣었다. 페닐마그네슘브로마이드(Phenylmagnesiumbromide)(3M in THF, 9.65ml, 29.0mmol)를 넣고 0℃에서 20분간 교반시켰다. NH4Cl(aq) 로 반응을 중지시키고, 디에틸에터[diethylether(Et2O)]로 추출하였다. MgSO4를 사용하여 유기층을 건조시키고 진공회전농축기를 사용하여 유기용매를 제거하였다. 잔여물을 컬럼정제하여 중간체 3-2를 6.5g(quantitive yield) 얻었다.
2-브로모-9-페닐-9H-플루오렌(3)[2-bromo-9-phenyl-9H-fluorene(3)]의 합성 : 2 (3.6g, 10.6mmol)를 다이클로로메테인[DCM]에 녹인 후 트리에틸실란[triethylsilane](2.6ml, 16.1mmol)과 트리플루오로아세틱엑시드[trifluoroacetic acid] 1.3ml를 넣고 실온에서 밤새 교반하였다. 박층 확인을 통해 2가 사라짐을 확인하고 실리카 겔[silica gel]을 넣고 진공회전농축기로 유기용매를 제거하였다. 생성물이 흡착된 실리카 겔[silica gel]을 가지고 컬럼정제하여 중간체 3을 3.26g (수율 95%) 얻었다.
4) 중간체 4의 합성
4-((6-브로모헥실)옥시)벤즈알데하이드(4)[4-((6-bromohexyl)oxy)benzaldehyde(4)]의 합성 : 4-하이드록시벤즈알데하이드[4-hydroxybenzaldehyde](6.1g, 50mmol), 포타슘 카보네이트[potassium carbonate](10g, 75mmol) 그리고 1,6-디브로모헥산[1,6-dibromohexane](15ml, 100mmol)을 아세톤[acetone]에 녹인 후 3시간 동안 환류[reflux] 하였다. 반응물을 필터[filter]한 후, 진공회전농축기로 유기용매를 제거하였다. 컬럼정제로 중간체 4를 9.9g (수율 69%) 얻었다.
5) 중간체 5 및 6의 합성
4-((6-(2-브로모-9-페닐-9H-플루오렌-9-일)헥실)옥시)벤즈알데하이드(5) [4-((6-(2-bromo-9-phenyl-9H-fluoren-9-yl)hexyl)oxy)benzaldehyde(5)]의 합성 : 중간체 3 (3.7g, 11.5mmol)과 중간체 4 (3g, 10.5mmol)를 디메틸설폭사이드(DMSO) 20ml에 50℃ 오일배쓰[oilbath]에서 녹였다. 50wt% NaOH(aq) 0.5ml를 넣고 밤새 교반한 뒤 다시 50wt% NaOH(aq) 0.5ml 넣고 2시간 더 교반하였다. 물 400ml에 반응물을 넣고 친점시킨 뒤 필터[filter]하였다. 필터[Filter]로 얻어진 고체를 다시 에탄올 100ml에 넣고 10분정도 교반 시킨 뒤 다시 필터[filter]하였다. 필터 케이크[Filter cake]를 진공오븐에서 건조시켜 중간체 5를 4.48g (수율 81%) 얻었다.
2-브로모-9-페닐-9-(6-(4-비닐페녹시)헥실)-9H-플루오렌(6) [2-bromo-9-phenyl-9-(6-(4-vinylphenoxy)hexyl)-9H-fluorene(6)]의 합성 : 메틸포스포늄브로마이드[Methylphosphoniumbromide] (5.1g, 14.3mmol)이 담긴 플라스크를 얼음물에 담근 뒤 무수 테트라하이드로퓨란[THF] 100ml를 넣어주었다. KOtBu(1.6g, 14.3mmol) 을 넣고 30분간 교반하였다. 4-((6-(2-브로모-9-페닐-9H-플루오렌-9-일)헥실)옥시)벤즈알데하이드 [4-((6-(2-bromo-9-phenyl-9H-fluoren-9-yl)hexyl)oxy)benzaldehyde] (3g, 5.7mmol)을 무수 THF에 녹여 반응플라스크에 넣어주고 다시 1시간동안 교반시켰다. 물을 넣어주어 반응을 중지시키고 다이클로로메테인[DCM]으로 추출하였다. MgSO4로 유기용매를 건조시키고 필터한 후, 진공회전농축기로 유기용매를 제거하였다. 잔여물을 컬럼정제하여 중간체 6을 2.63g (수율 88%) 얻었다.
6) 화합물 1의 제조
(1) 화합물 1-1의 제조
중간체 1(1.1eq.), 중간체 2(1eq.), K2CO3(3eq.)를 둥근플라스크에 넣고, 탈가스[degassing]한 THF/H2O를 넣는다. 80℃로 유지시켜 놓은 후, Pd(PPh3)4 (0.1eq.) 를 넣고 N2 분위기에서 밤새 환류[overnight reflux]시켰다. EA/H2O로 work-up하고 산성백토와 MgSO4를 넣어 30분 정도 교반시킨 뒤 셀라이트/실리카 패드(celite/silca pad)를 통과시켰다. 정제는 컬럼[column]을 사용하여 분리하였고 이때 용리액[eluent]은 에틸아세테이트[EA]/Hexane(1:20) 혼합용액을 사용하였다. 화합물 1-1을 1.05g 수득하였다.
(2) 화합물 1의 제조
화합물 1-1 (1eq.), 중간체 6 (1.1eq), NaOtBu (3eq.)를 둥근플라스크에 넣고, 톨루엔에 녹인다. 90℃로 유지시켜 놓은 후, Pd(PtBu3)2 (0.2eq.) 를 넣고 N2 분위기에서 환류시켰다. 5시간 뒤, 반응이 종결되었고 DCM/H2O로 work-up하고 산성백토와 MgSO4를 넣어 30분 정도 교반시킨 뒤 셀라이트/실리카 패드[celite/silca pad]를 통과시켜서 화합물 1-2를 얻는다. 화합물 1-2를 THF 5mL에 녹인 후, 테트라부틸암모늄 불화물[TBAF] 1mL를 천천히 떨어드린다. EA/Hexane(1:3) 혼합용액을 사용하여 flash 컬럼으로 정제하여 화합물 1-3을 얻었다. (2.3g)
화합물 1-3을 무수 디메틸포름아마이드[DMF]로 녹인다. NaH를 먼저 넣고 교반을 시킨 후, 1,4-비스(클로로메틸)벤젠 [1,4-bis(chloromethyl)benzene] (1eq.)을 넣었다. 상온에서 교반을 시키며 얇은 막 크로마토그래피 모니터링(TLC monitoring)을 통해 단량체와 이량체로 반응이 진행되는 것을 확인하였다. 반응 종결 후, H2O를 부은 후 침전물을 필터하였다. 물[H2O]과 에탄올로 충분히 워싱(washing)한 후, 추가로 컬럼 정제를 진행하였다. 용리액[Eluent]은 DCM/Hex(1:1) 혼합용액으로 메이저(major) 기준 윗 지점[spots]을 제거한 후 DCM으로 내려서 화합물 1을 분리하였다. 최종물질은 분자량이 2020.63으로 순도 98%를 얻었고 0.6g을 얻었다.
상기 화합물 1의 MS 그래프를 하기 도 2에 나타내었으며, DSC(시차주사열량계) 측정 그래프를 하기 도 3에 나타내었다.
제조예
2. 비교 화합물 2
(1) 화합물 2-2의 제조
화합물 1-1 (1eq.), 중간체 3 (1.1eq), NaOtBu (3eq.)를 둥근플라스크에 넣고, 톨루엔에 녹인다. 90℃로 유지시켜 놓은 후, Pd(PtBu3)2 (0.2eq.) 를 넣고 N2 분위기에서 환류[reflux]시켰다. 5시간 뒤, 반응이 종결되었고 DCM/H2O로 워크-업(work-up)하고 산성백토와 MgSO4를 넣어 30분 정도 교반시킨 뒤 셀라이트/실리카 패드[celite/silca pad]를 통과시켜서 화합물 2-1을 얻는다. 화합물 2-1를 THF 5mL에 녹인 후, TBAF(테트라부틸암모늄 불화물) 1mL를 천천히 떨어드린다. EA/Hexane(1:3) 혼합용액을 사용하여 플래쉬(flash) 컬럼으로 정제하여 화합물 2-2를 얻었다. (2.6g)
(2) 비교 화합물 2의 제조
화합물 2-2를 무수 DMF로 녹인다. NaH를 먼저 넣고 교반을 시킨 후, 1,4-비스(클로로메틸)벤젠 [1,4-bis(chloromethyl)benzene] (1eq.)를 넣는다. 상온에서 교반을 시키며 TLC monitoring을 통해 단량체와 이량체로 반응이 진행되는 것을 확인하였다. 반응 종결 후, H2O를 부은 후 침전물을 필터하였다. H2O와 에탄올로 충분히 세척한 후, 추가로 컬럼 정제를 진행하였다. 용리액[Eluent]은 DCM/Hex(1:1) 혼합용액으로 메이저(major) 기준 윗 지점(spots)을 제거한 후 DCM으로 내려서 비교 화합물 2를 분리하였다(0.5g, quantitive yield)
제조예
3. 비교 화합물 3
(1) 중간체 14의 합성
4-(2-브로모-9-하이드록시-9H-플루오렌-9-일)벤즈알데하이드(12) [4-(2-브로모-9-하이드록시-9H-플루오렌-9-일)벤즈알데하이드(12)] 의 합성: 1-브로모-4-(다이에톡시메틸)벤젠(13.2ml, 64.9mmol)을 테트라하이드로퓨란[tetrahydrofuran]에 녹이고 -78℃로 낮췄다. N-BuLi(2.5M in hexane, 24ml, 60mmol)를 넣고, 30분동안 -78℃에서 교반하였다. 2-브로모-9H-플루오렌-9-온 [2-Bromo-9H-fluoren-9-one](10g, 38.6mmol)을 한번에 넣고 밤새 교반하였다. 1N HCl(aq)로 반응을 종결시킨후, 에틸 아세테이트[ethyl acetate]로 추출하였다. 모은 유기용액을 MgSO4(magnesium sulfate)를 사용하여 건조시키고 필터한 후, 유기용매를 진공회전농축기로 제거하였다. 잔여물을 컬럼정제한 후 재결정(toluene/hexane)하여 중간체 12를 13g (수율 55%) 얻었다.
4-(2-브로모-9-페닐-9H-플루오렌-9-일)벤즈알데하이드(13) [4-(2-bromo-9-phenyl-9H-fluoren-9-yl)benzaldehyde(13)] 의 합성: 12 (4.5g, 12.3mmol)에 140ml의 벤젠[benzene]을 넣고 메탄 술폰산[methan sulfonic acid] (400㎕, 6.16mmol)을 넣은 후 dean-stark 기구를 사용해 환류하였다. Sat'd NaHCO3(aq)로 산을 중화시킨 후 컬럼정제하여 중간체 13을 2.73g (수율 52%) 얻었다.
2-브로모-9-페닐-9-(4-비닐페닐)-9H-플루오렌(14) [2-bromo-9-phenyl-9-(4-vinylphenyl)-9H-fluorene(14)] 의 합성: (2.9g, 6.82mmol)과 CH3BrPPh3(4.89g, 13.7mmol)을 THF에 넣고 포타슘 t-부톡사이드[potassium tert-butoxide](1.553g, 13.7mmol)을 0℃에서 넣고 1시간 교반시켰다. 물로 반응을 중단시키고 에틸 아세테이트[EA]로 추출하였다. 모은 유기용액에 MgSO4(magnesium sulfate)를 넣어 건조시키고 필터한 후, 유기용매를 진공회전농축기로 제거하였다. 잔여물을 컬럼정제하여 중간체 14를 2.8g (수율 97%) 얻었다.
(2) 비교 화합물 3의 합성
비교 화합물 3 의 합성: 중간체 14 (1.58g, 3.74mmol), N4,N4'-디페닐-[1,1'-비페닐]-4,4'-디아민 [N4,N4'-diphenyl-[1,1'-biphenyl]-4,4'-diamine](572mg. 1.7mmol), 그리고 소듐 t-부톡사이드[sodium tert-butoxide](980mg, 10.2mmol)가 든 플라스크에 톨루엔[Toluene]을 넣고 질소로 bubbling 하였다. 반응물이 든 플라스크를 90℃의 오일배쓰 [oil bath]에 담근 뒤, Pd(PtBu3)2(43mg, 0.085mmol)를 넣고 24시간 돌려주었다. 물을 넣어 반응을 중지시키고 디클로로메탄[dichloromethane(DCM)]으로 추출한 뒤 MgSO4로 유기층을 건조하였다. 유기 용매를 진공회전농축기를 사용하여 제거한 후, 잔여물을 컬럼정제하여 비교 화합물 3을 950mg (수율 55%) 얻었다.
비교 화합물 3의 NMR 측정 값: 1H NMR (500 MHz, CD2Cl2) δ 7.71 (d, 2H), 7.65 (d, 2H), 7.42 (d, 4H), 7.35 (d, 4H), 7.27 - 7.20 (m, 18H), 7.17 - 7.13 (m, 4H), 7.11 - 7.06 (m, 14H), 7.03 (t, 2H), 6.70 - 6.64 (dd, 2H), 5.69 (d, 2H), 5.19 (d, 2H)
<
실험예
>
실험예
1.
막유지율
실험
(1) 막의 제조
실시예
1-1
상기 화합물 1 20mg을 사이클로헥사논(cyclohexanone) 1ml에 용해시켰다. 얻어진 용액을 유리기판 위에 1200rpm으로 1분 동안 스핀 코팅하고, 질소분위기 하에서 80℃에서 2분, 200℃에서 30분 동안 열처리한 후 상온에서 식혀 박막을 제조하였다
비교예
1-1
상기 실시예 1-1에서 화합물 1 대신 하기 비교 화합물 2를 사용한 것을 제외하고는 상기 실시예 1-1과 같이 박막을 제조하였다.
비교예
1-2
상기 실시예 1-1에서 화합물 1 대신 하기 비교 화합물 3을 사용하여 박막을 제조하였다.
(2) 막 유지율 측정
상기 실시예 1-1 및 비교예 1-1 내지 1-2에서 제작한 박막의 막 유지율을 측정하였다. 상기 막 유지율은 어떠한 처리 없이 박막의 UV spectrum을 측정하고, 톨루엔(toluene)에 10분간 담근 후 UV spectrum을 측정하여, λmax 값을 비교하여 측정하였다. 하기 표 1에 실시예 1-1 및 비교예 1-1 내지 1-2의 막 유지율 측정 값을 기재하였으며, 하기 도 4는 실시예 1-1의, 도 5는 비교예 1-1, 도 6은 비교예 1-2의 톨루엔에 담구기 전/후의 UV spectrum 측정 그래프를 나타내었다. 도 4 내지 6에서 세로축은 optical density(OD)를 의미한다. 막 유지율을 하기 식으로 계산하였다.
막유지율(%) = 톨루엔에 담가둔 후 λmax 값 / 톨루엔에 담구기 전 λmax 값 X 100
막유지율 (%) | |
실시예 1-1 | 99 |
비교예 1-1 | 0 |
비교예 1-2 | 12 |
용액 공정에서 정공 수송층의 재료는 발광 소자의 제작에 있어서 각각 인접하는 층 형성시에 사용되는 용매에 용해할 경우, 상기 용매에 상기 재료가 용해되는 것을 회피하기 위한 설계가 필요하다. 이를 위해서는 정공수송층의 재료가 가교기를 가지는 것이 바람직하며 정공수송층의 열처리 온도 범위 (80 내지 220℃ 의 공정온도)에서 가교되어 불용화되는 것이 바람직하다. 상기 표 1에서 실시예 1-1 의 경우 가교기를 가지지 않은 비교예 1-1 와 비교하여 200℃에서 충분히 가교되어 막을 유지함을 알 수 있다. 플루오렌(Fluorene)에 직접붙은 경화기를 가지는 비교 화합물 3의 경우 박막유지가 되지 않았지만(도 6, 박막 유지율 12%(toluene), 3%(cyclohexanone)) 플루오렌 단량체(Fluorene moiety)와 경화기 사이에 적절한 스페이스를 둔 화합물 1의 경우 용매에 뛰어난 내성을 가졌다(도 4, 박막 유지율 99%(toluene, cyclohexanone)). 경화기 주변의 입체장애를 줄여주며 경화기 자체의 운동성을 증가시키는 것이 경화반응에 도움이 됨을 알 수 있다.
실험예
2. 유기 발광 소자 제조
실시예
2-1.
ITO가 1,500Å의 두께로 박막 코팅된 유리 기판을 세제를 녹인 증류수에 넣고 초음파로 세척하였다. 이 때, 세제로는 피셔사 (Fisher Co.) 제품을 사용하였으며, 증류수로는 밀러포어사 (Millipore Co.) 제품의 필터로 2차로 걸러진 증류수를 사용하였다. ITO를 30분간 세척한 후 증류수로 2회 반복하여 초음파 세척을 10분간 진행하였다. 증류수 세척이 끝난 후, 이소프로필알코올, 아세톤, 메탄올의 용제로 초음파 세척을 하고 건조시킨 후 플라즈마 세정기로 수송시켰다. 또한, 산소 플라즈마를 이용하여 상기 기판을 5분간 세정한 후 진공증착기로 기판을 수송시켰다.
이렇게 준비된 ITO 투명 전극 위에 VNPB와 p-dopant (하기 화학식 6)의 비율을 무게비 0.8:0.2로 혼합한 조성물을 스핀코팅하고 질소 분위기 하에 핫플레이트에서 220℃, 30분 조건으로 경화시켜 400Å 두께의 정공 주입층을 형성하였다.
이렇게 형성한 정공 주입층 위에 상기 화합물 1을 톨루엔에 녹인 용액을 스핀코팅하고 핫플레이트에서 200℃, 30분 조건으로 경화시켜 200Å 두께의 정공 수송층을 형성하였다.
이렇게 형성한 정공 수송층 위에 하기 화합물 C를 톨루엔(toluene)에 녹여 스핀코팅하고 180℃에서 30분 열처리하여 550Å 두께의 발광층을 형성하였다.
이것을 진공 증착 장치 내에 도입하고, 베이스 압력이 2X10-
5 Pa 이하가 되었을 때, LiF (10Å), Al (1,000Å)을 차례대로 증착하여 유기 발광 소자를 제조하였다. 상기 과정에서 LiF의 증착속도는 0.01 내지 0.05nm/s, LiF 외의 물질의 증착속도는 0.1 내지 0.5nm/s를 유지하였다.
비교예
2-1
상기 실시예 2-1에서 화합물 1 대신 하기 비교 화합물 2를 사용한 것을 제외하고는 상기 실시예 2-1과 같은 방법으로 유기 발광 소자를 제작하였다.
비교예
2-2
상기 실시예 2-1에서 화합물 2 대신 하기 비교 화합물 3을 사용한 것을 제외하고는 상기 실시예 2-1과 같은 방법으로 유기 발광 소자를 제작하였다.
상기 실시예 2-1 및 비교예 2-1, 2-2에서 제조한 유기 발광 소자를 10mA/cm2의 전류 밀도에서 구동 전압과 발광 효율을 측정하였고, 10mA/cm2의 전류 밀도에서 초기 휘도 대비 95%가 되는 시간 T(95)을 측정하였다. 그 결과를 하기 표 2에 나타내었다.
전압 (V) | 전류밀도 (mA/cm2) | 전압효율 (Cd/A) | 전력 효율 (lm/W) | 양자효율 (%) | 휘도 (Cd/m2) | CIEx | CIEy | T95 | |
실시예 2-1 | 4.71 | 10 | 3.86 | 2.60 | 4.07 | 378.0 | 0.137 | 0.105 | 47.3 |
비교예 2-1 | 11.48 | 10 | 2.05 | 0.56 | 1.74 | 0.156 | 0.143 | 0.132 | - |
비교예 2-2 | 10.4 | 10 | 2.15 | 0.65 | 2.34 | 215 | 0.141 | 0.129 | - |
상기 표 2에 기재된 바와 같이, 본원 실시예 2-1 에서 제조된 유기 발광 소자가 비교예 2-1 내지 2-2에서 제조된 유기 발광 소자에 비해 구동 전압이 낮으며, 효율, 휘도가 우수할 뿐만 아니라, 상기 표 1에서 확인한 바와 같이, 비교예 2-1 및 2-2는 막유지율이 매우 낮으므로 초기 휘도 측정 후, T95를 측정하기까지 막이 유지되지 않는 것을 확인할 수 있다.
Claims (11)
- 하기 화학식 1로 표시되는 화합물:[화학식 1]상기 화학식 1에 있어서,R1 내지 R3 및 R5 내지 R7은 서로 같거나 상이하고, 각각 독립적으로 수소; 중수소; 할로겐기; 니트릴기; 실릴기; 붕소기; 치환 또는 비치환된 알킬기; 치환 또는 비치환된 시클로알킬기; 치환 또는 비치환된 알콕시기; 치환 또는 비치환된 알케닐기; 치환 또는 비치환된 아릴기; 또는 치환 또는 비치환된 헤테로고리기이고,R4 및 R8은 서로 같거나 상이하고, 각각 독립적으로 열 또는 광에 의하여 가교 가능한 작용기이며,Ar1 및 Ar2는 서로 같거나 상이하고, 각각 독립적으로 수소; 중수소; 치환 또는 비치환된 알킬기; 치환 또는 비치환된 시클로알킬기; 치환 또는 비치환된 아릴기; 또는 치환 또는 비치환된 헤테로고리기이고,L1 및 L2는 서로 같거나 상이하고, 각각 독립적으로 직접결합; 치환 또는 비치환된 2가의 알킬기; 치환 또는 비치환된 2가의 아릴기; 또는 치환 또는 비치환된 2가의 헤테로아릴기이며,L11 및 L12는 서로 같거나 상이하고, 각각 독립적으로 직접결합; 또는 치환 또는 비치환된 2가의 아릴기이고,L은 치환 또는 비치환된 2가 또는 3가의 아릴기; 치환 또는 비치환된 2가 또는 3가의 헤테로아릴기; 또는 치환 또는 비치환된 2가 또는 3가의 아릴아민기이며,m1 및 m2는 각각 0 내지 12의 정수이고,n1 및 n5는 각각 0 내지 5의 정수이며,n2 및 n6은 각각 0 내지 4의 정수이고,n3 및 n7은 각각 0 내지 3의 정수이며,p1 및 p2는 각각 1 내지 4의 정수이고,q는 1 또는 2이며,n1 내지 n3, n5 내지 n7, p1 및 p2가 각각 2 이상인 경우, 괄호 내의 치환기는 서로 같거나 상이하며,q가 2인 경우, 괄호 내의 치환기는 서로 같거나 상이하다.
- 청구항 1에 있어서,상기 화학식 1은 하기 화합물 1 내지 126 중 선택되는 어느 하나인 것인 화합물:[화합물 1][화합물 2][화합물 3][화합물 4][화합물 5][화합물 6][화합물 7][화합물 8][화합물 9][화합물 10][화합물 11][화합물 12][화합물 13][화합물 14][화합물 15][화합물 16][화합물 17][화합물 18][화합물 19][화합물 20][화합물 21][화합물 22][화합물 23][화합물 24][화합물 25][화합물 26][화합물 27][화합물 28][화합물 29][화합물 30][화합물 31][화합물 32][화합물 33][화합물 34][화합물 35][화합물 36][화합물 37][화합물 38][화합물 39][화합물 40][화합물 41][화합물 42][화합물 43][화합물 44][화합물 45][화합물 46][화합물 47][화합물 48][화합물 49][화합물 50][화합물 51][화합물 52][화합물 53][화합물 54][화합물 55][화합물 56][화합물 57][화합물 58][화합물 59][화합물 60][화합물 61][화합물 62][화합물 63][화합물 64][화합물 65][화합물 66][화합물 67][화합물 68][화합물 69][화합물 70][화합물 71][화합물 72][화합물 73][화합물 74][화합물 75][화합물 76][화합물 77][화합물 78][화합물 79][화합물 80][화합물 81][화합물 82][화합물 83][화합물 84][화합물 85][화합물 86][화합물 87][화합물 88][화합물 89][화합물 90][화합물 91][화합물 92][화합물 93][화합물 94][화합물 95][화합물 96][화합물 97][화합물 98][화합물 99][화합물 100][화합물 101][화합물 102][화합물 103][화합물 104][화합물 105][화합물 106][화합물 107][화합물 108][화합물 109][화합물 110][화합물 111][화합물 112][화합물 113][화합물 114][화합물 115][화합물 116][화합물 117][화합물 118][화합물 119][화합물 120][화합물 121][화합물 122][화합물 123][화합물 124][화합물 125][화합물 126]
- 청구항 1 내지 4 중 어느 한 항에 따른 화합물을 포함하는 코팅 조성물.
- 청구항 5에 있어서, 상기 코팅 조성물은 p 도핑 물질을 더 포함하는 것인 코팅 조성물.
- 제1 전극;제2 전극; 및상기 제1 전극과 상기 제2 전극 사이에 구비되는 1층 이상의 유기물층을 포함하고,상기 유기물층 중 1층 이상은 청구항 5의 코팅 조성물의 경화물을 포함하며,상기 코팅 조성물의 경화물은 상기 코팅 조성물이 열처리 또는 광처리에 의하여 경화된 상태인 것인 유기 발광 소자.
- 청구항 7에 있어서,상기 코팅 조성물의 경화물을 포함하는 유기물층은 정공수송층 또는 정공주입층인 것인 유기 발광 소자.
- 기판을 준비하는 단계;상기 기판 상에 제1 전극을 형성하는 단계;상기 제1 전극 상에 1층 이상의 유기물층을 형성하는 단계; 및상기 유기물층 상에 제2 전극을 형성하는 단계를 포함하고,상기 유기물층을 형성하는 단계는 청구항 5의 코팅 조성물을 이용하여 1층 이상의 유기물층을 형성하는 단계를 포함하는 것인 유기 발광 소자의 제조 방법.
- 청구항 9에 있어서,상기 코팅 조성물을 이용하여 1층 이상의 유기물층을 형성하는 단계는 스핀 코팅 방법을 이용하는 것인 유기 발광 소자의 제조 방법.
- 청구항 9에 있어서,상기 코팅 조성물을 이용하여 1층 이상의 유기물층을 형성하는 단계는상기 제1 전극 상에 상기 코팅 조성물을 코팅하는 단계; 및상기 코팅된 코팅 조성물을 열처리 또는 광처리하는 단계를 포함하는 것인 유기 발광 소자의 제조 방법.
Priority Applications (3)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2019543346A JP6910696B2 (ja) | 2017-09-29 | 2018-09-11 | 化合物、これを含むコーティング組成物、これを用いた有機発光素子およびその製造方法 |
US16/484,233 US11127904B2 (en) | 2017-09-29 | 2018-09-11 | Compound, coating composition comprising same, organic light emitting device using same, and manufacturing method thereof |
CN201880011789.7A CN110291067B (zh) | 2017-09-29 | 2018-09-11 | 化合物、包含其的涂覆组合物、使用其的有机发光器件及其制造方法 |
Applications Claiming Priority (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
KR10-2017-0127207 | 2017-09-29 | ||
KR1020170127207A KR102170386B1 (ko) | 2017-09-29 | 2017-09-29 | 화합물, 이를 포함하는 코팅 조성물, 이를 이용한 유기 발광 소자 및 이의 제조방법 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
WO2019066306A1 true WO2019066306A1 (ko) | 2019-04-04 |
Family
ID=65901755
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
PCT/KR2018/010611 WO2019066306A1 (ko) | 2017-09-29 | 2018-09-11 | 화합물, 이를 포함하는 코팅 조성물, 이를 이용한 유기 발광 소자 및 이의 제조방법 |
Country Status (6)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US11127904B2 (ko) |
JP (1) | JP6910696B2 (ko) |
KR (1) | KR102170386B1 (ko) |
CN (1) | CN110291067B (ko) |
TW (1) | TWI678361B (ko) |
WO (1) | WO2019066306A1 (ko) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US11502256B2 (en) | 2018-05-23 | 2022-11-15 | Lg Chem, Ltd. | Compound, coating composition comprising same, and organic light emitting diode |
Families Citing this family (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
KR102378694B1 (ko) * | 2019-06-28 | 2022-03-25 | 주식회사 엘지화학 | 중합체, 이를 포함하는 코팅 조성물 및 이를 이용한 유기 발광 소자 |
CN113372762B (zh) * | 2021-04-27 | 2023-02-28 | 广东粤港澳大湾区黄埔材料研究院 | 墨水及其制备方法和空穴传输层的制备方法 |
Citations (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN102329411A (zh) * | 2011-07-25 | 2012-01-25 | 华南理工大学 | 含可交联基团的水醇溶共轭聚合物材料及其应用 |
KR20140132562A (ko) * | 2013-05-08 | 2014-11-18 | 덕산하이메탈(주) | 유기전기 소자용 화합물, 이를 이용한 유기전기소자 및 그 전자 장치 |
KR20160041124A (ko) * | 2014-10-06 | 2016-04-18 | 덕산네오룩스 주식회사 | 유기전기 소자용 화합물, 이를 이용한 유기전기소자 및 그 전자 장치 |
US20170174835A1 (en) * | 2015-12-18 | 2017-06-22 | Elite Electronic Material (Kunshan) Co., Ltd. | Fluorenylidene-diphenol-containing polyphenylene oxide |
WO2017107117A1 (en) * | 2015-12-24 | 2017-06-29 | Dow Global Technologies Llc | Polymeric layer and organic electronic device comprising same. |
Family Cites Families (10)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
KR20070033947A (ko) | 2004-07-14 | 2007-03-27 | 이데미쓰 고산 가부시키가이샤 | 방향족 아민 유도체 및 그것을 이용한 유기 전기발광 소자 |
KR20090114716A (ko) | 2008-04-30 | 2009-11-04 | 덕산하이메탈(주) | 정공수송층 물질 및 이를 포함하는 유기 전계발광 소자 |
JP5709752B2 (ja) | 2009-08-19 | 2015-04-30 | 出光興産株式会社 | 芳香族アミン誘導体及びそれを用いた有機エレクトロルミネッセンス素子 |
KR20120011445A (ko) | 2010-07-29 | 2012-02-08 | 롬엔드하스전자재료코리아유한회사 | 신규한 유기 발광 화합물 및 이를 포함하는 유기 전계 발광 소자 |
CN103666455A (zh) | 2013-12-03 | 2014-03-26 | 方圆环球光电技术盐城有限公司 | 一种新颖螺芴氧杂蒽类有机发光材料及其制备 |
KR102117603B1 (ko) * | 2014-02-10 | 2020-06-01 | 덕산네오룩스 주식회사 | 유기전기소자용 화합물, 이를 이용한 유기전기소자 및 그 전자 장치 |
KR102479149B1 (ko) | 2014-07-21 | 2022-12-19 | 메르크 파텐트 게엠베하 | 전자 소자용 재료 |
KR102285381B1 (ko) | 2014-10-22 | 2021-08-04 | 삼성디스플레이 주식회사 | 화합물 및 이를 포함한 유기 발광 소자 |
KR101755986B1 (ko) | 2016-02-23 | 2017-07-07 | 주식회사 엘지화학 | 헤테로고리 화합물 및 이를 포함하는 유기 발광 소자 |
CN105884830B (zh) | 2016-05-11 | 2018-06-19 | 中节能万润股份有限公司 | 一种双极性oled磷光主体材料以及包含该材料的发光器件 |
-
2017
- 2017-09-29 KR KR1020170127207A patent/KR102170386B1/ko active IP Right Grant
-
2018
- 2018-09-11 US US16/484,233 patent/US11127904B2/en active Active
- 2018-09-11 JP JP2019543346A patent/JP6910696B2/ja active Active
- 2018-09-11 WO PCT/KR2018/010611 patent/WO2019066306A1/ko active Application Filing
- 2018-09-11 CN CN201880011789.7A patent/CN110291067B/zh active Active
- 2018-09-21 TW TW107133529A patent/TWI678361B/zh active
Patent Citations (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN102329411A (zh) * | 2011-07-25 | 2012-01-25 | 华南理工大学 | 含可交联基团的水醇溶共轭聚合物材料及其应用 |
KR20140132562A (ko) * | 2013-05-08 | 2014-11-18 | 덕산하이메탈(주) | 유기전기 소자용 화합물, 이를 이용한 유기전기소자 및 그 전자 장치 |
KR20160041124A (ko) * | 2014-10-06 | 2016-04-18 | 덕산네오룩스 주식회사 | 유기전기 소자용 화합물, 이를 이용한 유기전기소자 및 그 전자 장치 |
US20170174835A1 (en) * | 2015-12-18 | 2017-06-22 | Elite Electronic Material (Kunshan) Co., Ltd. | Fluorenylidene-diphenol-containing polyphenylene oxide |
WO2017107117A1 (en) * | 2015-12-24 | 2017-06-29 | Dow Global Technologies Llc | Polymeric layer and organic electronic device comprising same. |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US11502256B2 (en) | 2018-05-23 | 2022-11-15 | Lg Chem, Ltd. | Compound, coating composition comprising same, and organic light emitting diode |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
TW201920103A (zh) | 2019-06-01 |
KR20190037651A (ko) | 2019-04-08 |
US11127904B2 (en) | 2021-09-21 |
TWI678361B (zh) | 2019-12-01 |
CN110291067B (zh) | 2023-01-17 |
US20200052220A1 (en) | 2020-02-13 |
CN110291067A (zh) | 2019-09-27 |
JP6910696B2 (ja) | 2021-07-28 |
KR102170386B1 (ko) | 2020-10-27 |
JP2020508295A (ja) | 2020-03-19 |
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Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
121 | Ep: the epo has been informed by wipo that ep was designated in this application |
Ref document number: 18862734 Country of ref document: EP Kind code of ref document: A1 |
|
ENP | Entry into the national phase |
Ref document number: 2019543346 Country of ref document: JP Kind code of ref document: A |
|
NENP | Non-entry into the national phase |
Ref country code: DE |
|
122 | Ep: pct application non-entry in european phase |
Ref document number: 18862734 Country of ref document: EP Kind code of ref document: A1 |