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WO2018062449A1 - カルボン酸塩又はスルホン酸塩、及び、界面活性剤 - Google Patents

カルボン酸塩又はスルホン酸塩、及び、界面活性剤 Download PDF

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WO2018062449A1
WO2018062449A1 PCT/JP2017/035371 JP2017035371W WO2018062449A1 WO 2018062449 A1 WO2018062449 A1 WO 2018062449A1 JP 2017035371 W JP2017035371 W JP 2017035371W WO 2018062449 A1 WO2018062449 A1 WO 2018062449A1
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WO
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group
carbon atoms
compound
formula
alkyl group
Prior art date
Application number
PCT/JP2017/035371
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English (en)
French (fr)
Inventor
昌弘 東
米田　聡
昭佳 山内
寿美 石原
洋介 岸川
青山　博一
Original Assignee
ダイキン工業株式会社
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
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Publication date
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    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C07—ORGANIC CHEMISTRY
    • C07C—ACYCLIC OR CARBOCYCLIC COMPOUNDS
    • C07C59/00—Compounds having carboxyl groups bound to acyclic carbon atoms and containing any of the groups OH, O—metal, —CHO, keto, ether, groups, groups, or groups
    • C07C59/185—Saturated compounds having only one carboxyl group and containing keto groups
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C07—ORGANIC CHEMISTRY
    • C07C—ACYCLIC OR CARBOCYCLIC COMPOUNDS
    • C07C303/00—Preparation of esters or amides of sulfuric acids; Preparation of sulfonic acids or of their esters, halides, anhydrides or amides
    • C07C303/26—Preparation of esters or amides of sulfuric acids; Preparation of sulfonic acids or of their esters, halides, anhydrides or amides of esters of sulfonic acids
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
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    • C09K23/00—Use of substances as emulsifying, wetting, dispersing, or foam-producing agents
    • C09K23/02—Alkyl sulfonates or sulfuric acid ester salts derived from monohydric alcohols
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    • C11—ANIMAL OR VEGETABLE OILS, FATS, FATTY SUBSTANCES OR WAXES; FATTY ACIDS THEREFROM; DETERGENTS; CANDLES
    • C11D—DETERGENT COMPOSITIONS; USE OF SINGLE SUBSTANCES AS DETERGENTS; SOAP OR SOAP-MAKING; RESIN SOAPS; RECOVERY OF GLYCEROL
    • C11D1/00—Detergent compositions based essentially on surface-active compounds; Use of these compounds as a detergent
    • C11D1/02—Anionic compounds
    • C11D1/12—Sulfonic acids or sulfuric acid esters; Salts thereof
    • C11D1/123—Sulfonic acids or sulfuric acid esters; Salts thereof derived from carboxylic acids, e.g. sulfosuccinates

Definitions

  • the compound of the present invention is a compound exhibiting a surface activity, and can be suitably used as an anionic surfactant or an aqueous dispersant.
  • the “substituent” means a substitutable group.
  • substitutable group examples include an aliphatic group, an aromatic group, a heterocyclic group, an acyl group, an acyloxy group, an acylamino group, an aliphatic oxy group, an aromatic oxy group, a heterocyclic oxy group, and an aliphatic oxycarbonyl group.
  • the carbamoyl group may have an aliphatic group, an aromatic group, a heterocyclic group, or the like.
  • Examples of the carbamoyl group include an unsubstituted carbamoyl group, an alkylcarbamoyl group having 2 to 9 carbon atoms, preferably an unsubstituted carbamoyl group, an alkylcarbamoyl group having 2 to 5 carbon atoms, such as an N-methylcarbamoyl group, N, N-dimethylcarbamoyl group, N-phenylcarbamoyl group and the like can be mentioned.
  • the aromatic sulfonyl group has a hydroxy group, an aliphatic group, an aliphatic oxy group, a carbamoyl group, an aliphatic oxycarbonyl group, an aliphatic thio group, an amino group, an aliphatic amino group, an acylamino group, a carbamoylamino group, and the like. You may do it.
  • the aromatic sulfonyl group include arylsulfonyl groups having 6 to 10 carbon atoms in total, such as benzenesulfonyl.
  • the aromatic amino group and the heterocyclic amino group are an aliphatic group, an aliphatic oxy group, a halogen atom, a carbamoyl group, a heterocyclic group condensed with the aryl group, an aliphatic oxycarbonyl group, preferably total carbon.
  • the carbamoylamino group may have an aliphatic group, an aryl group, a heterocyclic group, or the like.
  • Examples of the carbamoylamino group include a carbamoylamino group, an alkylcarbamoylamino group having 2 to 9 carbon atoms in total, a dialkylcarbamoylamino group having 3 to 10 carbon atoms in total, an arylcarbamoylamino group having 7 to 13 carbon atoms in total, Heterocyclic carbamoylamino group having 3 to 12 carbon atoms, preferably carbamoylamino group, alkylcarbamoylamino group having 2 to 7 carbon atoms, dialkylcarbamoylamino group having 3 to 6 carbon atoms, total carbon atom number 7-11 arylcarbamoylamino group, heterocyclic carbamoylamino group having 3 to 10 carbon atoms in total, such as carbam
  • the alkyl group as R 1 may have a substituent.
  • substituents that the alkyl group as R 1 may have include a halogen atom, a linear or branched alkyl group having 1 to 10 carbon atoms, or a cyclic alkyl group having 3 to 10 carbon atoms, A hydroxy group is preferred, and a methyl group and an ethyl group are particularly preferred.
  • n11 is preferably an integer of 0 to 5, more preferably an integer of 0 to 3, and still more preferably an integer of 1 to 3.
  • R 12 is an alkylene group having 0 to 3 carbon atoms.
  • the carbon number is preferably 1 to 3.
  • the alkylene group as R 12 may be linear or branched.
  • the alkylene group as R 12 preferably does not contain a carbonyl group.
  • R 12 is more preferably an ethylene group (—C 2 H 4 —) or a propylene group (—C 3 H 6 —).
  • the alkylene group as R 12 may have a hydrogen atom bonded to a carbon atom substituted by a functional group, for example, a hydroxy group (—OH) or a monovalent organic group containing an ester bond. However, it is preferably not substituted by any functional group.
  • Examples of the monovalent organic group containing an ester bond include groups represented by the formula: —O—C ( ⁇ O) —R 104 (wherein R 104 is an alkyl group).
  • R 104 is an alkyl group.
  • R 12 75% or less of the hydrogen atoms bonded to the carbon atom may be substituted with a halogen atom, 50% or less may be substituted with a halogen atom, and 25% or less is halogen.
  • it may be substituted by an atom, it is preferably a non-halogenated alkylene group which does not contain a halogen atom such as a fluorine atom or a chlorine atom.
  • Examples of the compound include the following compounds.
  • A is as described above.
  • the compounds of the present invention have the formula: (Wherein R 3 is as described above, E is a leaving group), lithium, and the formula: R 201 3 Si—Cl (wherein R 201 is independently Is an alkyl group or an aryl group) and is reacted with a chlorosilane compound represented by the formula: (Wherein R 3 , R 201 and E are as described above) (11) to obtain the compound (11) represented by: Compound (11) and the formula: (Wherein R 1 is a single bond or a divalent linking group as described above, and R 21 is reacted with the olefin represented by the formula: (Wherein R 1 , R 21 , R 3 and E are as described above) (12) to obtain the compound (12) By removing the leaving group of compound (12), the formula: (Wherein R 1 , R 21 and R 3 are as described above) (13) to obtain compound (13), Compound (13) is oxidized to give the formula: (Wherein R 1 , R 21 and R 3 are as described above)
  • step (11) it is preferable that lithium and the chlorosilane compound are reacted in advance to obtain a siloxylithium compound, and then the siloxylithium compound and the compound (10) are reacted to obtain the compound (11).
  • the pressure of the reaction between lithium and the chlorosilane compound in the step (11) is preferably 0.1 to 5 MPa, more preferably 0.1 to 1 MPa.
  • the pressure for the reaction between the siloxylithium compound and the compound (10) in the step (11) is preferably from 0.1 to 5 MPa, more preferably from 0.1 to 1 MPa.
  • the reaction ratio between the compound (11) and the olefin is 0.5% of the olefin with respect to 1 mol of the compound (11) in consideration of improvement in yield and reduction of waste. It is preferably ⁇ 10 mol, more preferably 0.5 to 5.0 mol, further preferably 1 to 2 mol, and particularly preferably 1 to 1.1 mol.
  • the reaction in step (12) can be carried out in a solvent in the presence of a thiazolium salt and a base.
  • an organic solvent is preferable, an aprotic polar solvent is more preferable, and alcohol or ether is still more preferable.
  • the oxidation in step (23) can be carried out in a solvent in the presence of sodium chlorite.
  • the reaction temperature in the step (31) is preferably ⁇ 100 to ⁇ 40 ° C., more preferably ⁇ 80 to ⁇ 50 ° C. Further, ⁇ 100 to 100 ° C. is preferable, and ⁇ 80 to 50 ° C. is more preferable.
  • Alcohol and water can be used as the solvent.
  • a disodium hydrogen phosphate solution may be used as a buffer.
  • the reaction in the step (52) is preferably carried out in the presence of an acid.
  • the acid include acetic acid, hydrochloric acid, p-toluenesulfone and the like, and among them, acetic acid is preferable.
  • the reaction temperature in the step (52) is preferably ⁇ 78 to 150 ° C., more preferably 0 to 100 ° C., further preferably 20 to 100 ° C., and particularly preferably 40 to 100 ° C.
  • the reaction time in the step (52) is preferably from 0.1 to 72 hours, more preferably from 1 to 48 hours, still more preferably from 4 to 8 hours.
  • the furan ring is opened by heating the compound (52) in the presence of an acid.
  • the reaction temperature in the step (53) is preferably ⁇ 78 to 150 ° C., more preferably 0 to 100 ° C., further preferably 50 to 100 ° C., and particularly preferably 70 to 100 ° C.
  • the reaction pressure in the step (53) is preferably from 0.1 to 5 MPa, more preferably from 0.1 to 1 MPa.
  • the reaction time in the step (53) is preferably 0.1 to 72 hours, more preferably 1 to 48 hours, still more preferably 1 to 12 hours.
  • the oxidation in step (54) can be carried out in a solvent in the presence of sodium chlorite.
  • the compounds of the present invention also have the formula: (.
  • R 1 is as above, R 21 represents a single bond or a divalent linking group) and alkene represented by the formula: (Wherein Y 61 is an alkyl ester group) is reacted with an alkyne represented by the formula: (Wherein R 1 , R 21 and Y 61 are as described above) (61) to obtain the compound (61) represented by:
  • the compound (61) is allowed to act with an alkali and then with an acid to give the formula: (Wherein R 1 and R 21 are as described above), a step (62) for obtaining a compound (62) represented by:
  • Compound (62) is contacted with an alkali to give the formula: (Wherein R 1 , R 21 and X are as described above) (63) to obtain the compound (63)
  • R 21 is preferably a single bond or a linear or branched alkylene group having 1 or more carbon atoms.
  • the amount of the metal catalyst used in the step (61) is preferably 0.00001 to 0.4 mol, preferably 0.00005 to 0.4 mol with respect to 1 mol of the alkene in consideration of improvement in yield and reduction of waste.
  • 0.1 mol is more preferable, 0.01 to 0.4 mol is still more preferable, and 0.05 to 0.1 mol is particularly preferable.
  • the reaction temperature in the step (61) is preferably 20 to 160 ° C., more preferably 40 to 140 ° C.
  • the reaction pressure in the step (61) is preferably from 0.1 to 5 MPa, more preferably from 0.1 to 1 MPa.
  • the reaction time in the step (61) is preferably 0.1 to 72 hours, more preferably 1 to 48 hours, still more preferably 4 to 8 hours.
  • the reaction ratio between the compound (61) and the alkali is 0.5 to 0.5% with respect to 1 mol of the compound (61) in consideration of improvement in yield and reduction of waste. It is preferably 10 mol, more preferably 0.6 to 5.0 mol, further preferably 0.6 to 2 mol, particularly preferably 0.8 to 1.1 mol. .
  • the reaction pressure in the step (62) is preferably from 0.1 to 5 MPa, more preferably from 0.1 to 1 MPa.
  • the purity of the obtained compound may be increased by distilling off the solvent, performing distillation, purification or the like.
  • 4,7,10,13-Tetraoxotetradecanoic acid was added to aqueous ammonia, and water was distilled off to obtain ammonium 4,7,10,13-tetraoxotetradecanoate.

Landscapes

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Abstract

複数のカルボニル基を有する新規なカルボン酸塩又はスルホン酸塩、及び、界面活性剤を提供する。 式：Ｒ１－Ｃ（＝Ｏ）－Ｒ２－Ｃ（＝Ｏ）－Ｒ３－Ａ （式中、Ｒ１は、炭素数１以上の直鎖状若しくは分岐鎖状のアルキル基又は炭素数３以上の環状のアルキル基であり、炭素原子に結合した水素原子がヒドロキシ基又はエステル結合を含む１価の有機基により置換されていてもよく、炭素数が２以上の場合はカルボニル基を含んでもよく、炭素数が３以上の場合は１価又は２価の複素環を含んでも環を巻いていてもよい。Ｒ２及びＲ３は、独立に、単結合又は２価の連結基である。Ｒ１、Ｒ２及びＲ３は、炭素数が合計で５以上である。Ａは、－ＣＯＯＸ又は－ＳＯ３Ｘ（Ｘは、Ｈ、金属原子、ＮＲ４ ４、置換基を有していてもよいイミダゾリウム、置換基を有していてもよいピリジニウム又は置換基を有していてもよいホスホニウムであり、Ｒ４はＨ又は有機基であり、同一でも異なっていてもよい。）である。Ｒ１、Ｒ２及びＲ３は、いずれか２つがお互いに結合して、環を形成してもよい。）で示されることを特徴とする化合物である。

Description

カルボン酸塩又はスルホン酸塩、及び、界面活性剤
本発明は、カルボン酸塩又はスルホン酸塩、及び、界面活性剤に関する。
特許文献１には、下記一般式〔Ａ〕で表される化合物を含有することを特徴とするハロゲン化銀写真感光材料用処理剤組成物が記載されている。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000003
 〔式中、Ｒは水素原子または水酸基を表し、Ａ１～Ａ４は各々－ＣＨ２ＯＨ、－ＣＯＯＭ１又は－ＰＯ３Ｍ２Ｍ３を表し、Ｍ１～Ｍ３は各々水素原子、アルカリ金属又はその他のカチオンを表す。ｎは１又は２の整数を表す。〕
特開２００３－５３２９号公報
本発明は、複数のカルボニル基を有する新規なカルボン酸塩又はスルホン酸塩、及び、界面活性剤を提供することを目的とする。
本発明は、下記式：
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000004
 （式中、Ｒ１は、炭素数１以上の直鎖状若しくは分岐鎖状のアルキル基又は炭素数３以上の環状のアルキル基であり、炭素原子に結合した水素原子がヒドロキシ基又はエステル結合を含む１価の有機基により置換されていてもよく、炭素数が２以上の場合はカルボニル基を含んでもよく、炭素数が３以上の場合は１価又は２価の複素環を含んでも環を巻いていてもよい。Ｒ２及びＲ３は、独立に、単結合又は２価の連結基である。Ｒ１、Ｒ２及びＲ３は、炭素数が合計で５以上である。Ａは、－ＣＯＯＸ又は－ＳＯ３Ｘ（Ｘは、Ｈ、金属原子、ＮＲ４ ４、置換基を有していてもよいイミダゾリウム、置換基を有していてもよいピリジニウム又は置換基を有していてもよいホスホニウムであり、Ｒ４はＨ又は有機基であり、同一でも異なっていてもよい。）である。Ｒ１、Ｒ２及びＲ３は、いずれか２つがお互いに結合して、環を形成してもよい。）で示されることを特徴とする化合物である。
上記式中、Ｒ２及びＲ３は、独立に、単結合又は炭素数１以上の直鎖状若しくは分岐鎖状のアルキレン基又は炭素数３以上の環状のアルキレン基であることが好ましく、炭素原子に結合した水素原子がヒドロキシ基又はエステル結合を含む１価の有機基により置換されていてもよい。
上記式中、Ｒ１は、カルボニル基を含まない炭素数１～８の直鎖状若しくは分岐鎖状のアルキル基、カルボニル基を含まない炭素数３～８の環状のアルキル基、１～１０個のカルボニル基を含む炭素数２～４５の直鎖状若しくは分岐鎖状のアルキル基、カルボニル基を含む炭素数３～４５の環状のアルキル基、又は、炭素数が３～４５の１価若しくは２価の複素環を含むアルキル基であることが好ましい。
上記式中、Ｒ１は、下記式：
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000005
 （式中、ｎ１１は０～１０の整数であり、Ｒ１１は炭素数１～５の直鎖状若しくは分岐鎖状のアルキル基又は炭素数３～５の環状のアルキル基であり、Ｒ１２は炭素数０～３のアルキレン基である。ｎ１１が２～１０の整数である場合、Ｒ１２は各々同じであっても異なっていてもよい。）で示される基であることが好ましい。
上記式中、Ｒ２及びＲ３は、独立に、カルボニル基を含まない炭素数１以上の直鎖状又は分岐鎖状のアルキレン基であることが好ましい。
上記式中、Ｒ２及びＲ３は、独立に、カルボニル基を含まない炭素数１～３の直鎖状又は分岐鎖状のアルキレン基であることが好ましい。
上記式中、ＸがＮＨ４であることが更に好ましい。
本発明は、上述の化合物を含む界面活性剤でもある。
本発明は、上述の化合物を含む水系分散剤でもある。
本発明の化合物は、界面活性作用を示す化合物であり、アニオン性界面活性剤や水系分散剤として好適に利用可能である。
以下、本発明を具体的に説明する。
本明細書中、特に断りのない限り、「有機基」は、１個以上の炭素原子を含有する基、又は有機化合物から１個の水素原子を除去して形成される基を意味する。
当該「有機基」の例は、
１個以上の置換基を有していてもよいアルキル基、
１個以上の置換基を有していてもよいアルケニル基、
１個以上の置換基を有していてもよいアルキニル基、
１個以上の置換基を有していてもよいシクロアルキル基、
１個以上の置換基を有していてもよいシクロアルケニル基、
１個以上の置換基を有していてもよいシクロアルカジエニル基、
１個以上の置換基を有していてもよいアリール基、
１個以上の置換基を有していてもよいアラルキル基、
１個以上の置換基を有していてもよい非芳香族複素環基、
１個以上の置換基を有していてもよいヘテロアリール基、
シアノ基、
ホルミル基、
ＲａＯ－、
ＲａＣＯ－、
ＲａＳＯ２－、
ＲａＣＯＯ－、
ＲａＮＲａＣＯ－、
ＲａＣＯＮＲａ－、
ＲａＳＯ２ＮＲａ－、
ＲａＮＲａＳＯ２－、
ＲａＯＣＯ－、及び
ＲａＯＳＯ２－
（これらの式中、Ｒａは、独立して、
１個以上の置換基を有していてもよいアルキル基、
１個以上の置換基を有していてもよいアルケニル基、
１個以上の置換基を有していてもよいアルキニル基、
１個以上の置換基を有していてもよいシクロアルキル基、
１個以上の置換基を有していてもよいシクロアルケニル基、
１個以上の置換基を有していてもよいシクロアルカジエニル基、
１個以上の置換基を有していてもよいアリール基、
１個以上の置換基を有していてもよいアラルキル基、
１個以上の置換基を有していてもよい非芳香族複素環基、又は
１個以上の置換基を有していてもよいヘテロアリール基である）
を包含する。
上記有機基としては、１個以上の置換基を有していてもよいアルキル基が好ましい。
また、本明細書中、特に断りのない限り、「置換基」は、置換可能な基を意味する。当該「置換基」の例は、脂肪族基、芳香族基、ヘテロ環基、アシル基、アシルオキシ基、アシルアミノ基、脂肪族オキシ基、芳香族オキシ基、ヘテロ環オキシ基、脂肪族オキシカルボニル基、芳香族オキシカルボニル基、ヘテロ環オキシカルボニル基、カルバモイル基、脂肪族スルホニル基、芳香族スルホニル基、ヘテロ環スルホニル基、脂肪族スルホニルオキシ基、芳香族スルホニルオキシ基、ヘテロ環スルホニルオキシ基、スルファモイル基、脂肪族スルホンアミド基、芳香族スルホンアミド基、ヘテロ環スルホンアミド基、アミノ基、脂肪族アミノ基、芳香族アミノ基、ヘテロ環アミノ基、脂肪族オキシカルボニルアミノ基、芳香族オキシカルボニルアミノ基、ヘテロ環オキシカルボニルアミノ基、脂肪族スルフィニル基、芳香族スルフィニル基、脂肪族チオ基、芳香族チオ基、ヒドロキシ基、シアノ基、スルホ基、カルボキシ基、脂肪族オキシアミノ基、芳香族オキシアミノ基、カルバモイルアミノ基、スルファモイルアミノ基、ハロゲン原子、スルファモイル、及び、ジ芳香族オキシホスフィニル基を包含する。
上記脂肪族基は、飽和であっても不飽和であってもよく、また、ヒドロキシ基、脂肪族オキシ基、カルバモイル基、脂肪族オキシカルボニル基、脂肪族チオ基、アミノ基、脂肪族アミノ基、アシルアミノ基、カルバモイルアミノ基等を有していてもよい。上記脂肪族基としては、総炭素原子数１～８、好ましくは１～４のアルキル基、例えば、メチル基、エチル基、ビニル基、シクロヘキシル基、カルバモイルメチル基等が挙げられる。
上記芳香族基は、例えば、ニトロ基、ハロゲン原子、脂肪族オキシ基、カルバモイル基、脂肪族オキシカルボニル基、脂肪族チオ基、アミノ基、脂肪族アミノ基、アシルアミノ基、カルバモイルアミノ基等を有していてもよい。上記芳香族基としては、炭素数６～１２、好ましくは総炭素原子数６～１０のアリール基、例えば、フェニル基、４－ニトロフェニル基、４－アセチルアミノフェニル基、４－メタンスルホニルフェニル基等が挙げられる。
上記ヘテロ環基は、ハロゲン原子、ヒドロキシ基、脂肪族オキシ基、カルバモイル基、脂肪族オキシカルボニル基、脂肪族チオ基、アミノ基、脂肪族アミノ基、アシルアミノ基、カルバモイルアミノ基等を有していてもよい。上記ヘテロ環基としては、総炭素原子数２～１２、好ましくは２～１０の５～６員へテロ環、例えば２－テトラヒドロフリル基、２－ピリミジル基等が挙げられる。
上記アシル基は、脂肪族カルボニル基、アリールカルボニル基、ヘテロ環カルボニル基、ヒドロキシ基、ハロゲン原子、芳香族基、脂肪族オキシ基、カルバモイル基、脂肪族オキシカルボニル基、脂肪族チオ基、アミノ基、脂肪族アミノ基、アシルアミノ基、カルバモイルアミノ基等を有していてもよい。上記アシル基としては、総炭素原子数２～８、好ましくは２～４のアシル基、例えばアセチル基、プロパノイル基、ベンゾイル基、３－ピリジンカルボニル基等が挙げられる。
上記アシルアミノ基は、脂肪族基、芳香族基、ヘテロ環基等を有していてもよく、例えば、アセチルアミノ基、ベンゾイルアミノ基、２－ピリジンカルボニルアミノ基、プロパノイルアミノ基等を有していてもよい。上記アシルアミノ基としては、総炭素原子数２～１２、好ましくは２～８のアシルアミノ基、総炭素原子数２～８のアルキルカルボニルアミノ基、例えばアセチルアミノ基、ベンゾイルアミノ基、２－ピリジンカルボニルアミノ基、プロパノイルアミノ基等が挙げられる。
上記脂肪族オキシカルボニル基は、飽和であっても不飽和であってもよく、また、ヒドロキシ基、脂肪族オキシ基、カルバモイル基、脂肪族オキシカルボニル基、脂肪族チオ基、アミノ基、脂肪族アミノ基、アシルアミノ基、カルバモイルアミノ基等を有していてもよい。上記脂肪族オキシカルボニル基としては、総炭素原子数２～８、好ましくは２～４のアルコキシカルボニル基、例えばメトキシカルボニル、エトキシカルボニル、（ｔ）－ブトキシカルボニル基等が挙げられる。
上記カルバモイル基は、脂肪族基、芳香族基、へテロ環基等を有していてもよい。上記カルバモイル基としては、無置換のカルバモイル基、総炭素数２～９のアルキルカルバモイル基、好ましくは無置換のカルバモイル基、総炭素原子数２～５のアルキルカルバモイル基、例えばＮ－メチルカルバモイル基、Ｎ，Ｎ－ジメチルカルバモイル基、Ｎ－フェニルカルバモイル基等が挙げられる。
上記脂肪族スルホニル基は、飽和であっても不飽和であってもよく、また、ヒドロキシ基、芳香族基、脂肪族オキシ基、カルバモイル基、脂肪族オキシカルボニル基、脂肪族チオ基、アミノ基、脂肪族アミノ基、アシルアミノ基、カルバモイルアミノ基等を有していてもよい。上記脂肪族スルホニル基としては、総炭素原子数１～６、好ましくは総炭素原子数１～４のアルキルスルホニル基、例えばメタンスルホニル等が挙げられる。
上記芳香族スルホニル基は、ヒドロキシ基、脂肪族基、脂肪族オキシ基、カルバモイル基、脂肪族オキシカルボニル基、脂肪族チオ基、アミノ基、脂肪族アミノ基、アシルアミノ基、カルバモイルアミノ基等を有していてもよい。上記芳香族スルホニル基としては、総炭素原子数６～１０のアリールスルホニル基、例えばベンゼンスルホニル等が挙げられる。
上記アミノ基は、脂肪族基、芳香族基、ヘテロ環基等を有していてもよい。
上記アシルアミノ基は、例えば、アセチルアミノ基、ベンゾイルアミノ基、２－ピリジンカルボニルアミノ基、プロパノイルアミノ基等を有していてもよい。上記アシルアミノ基としては、総炭素原子数２～１２、好ましくは総炭素原子数２～８のアシルアミノ基、より好ましくは総炭素原子数２～８のアルキルカルボニルアミノ基、例えばアセチルアミノ基、ベンゾイルアミノ基、２－ピリジンカルボニルアミノ基、プロパノイルアミノ基等が挙げられる。
上記脂肪族スルホンアミド基、芳香族スルホンアミド基、ヘテロ環スルホンアミド基は、例えば、メタンスルホンアミド基、ベンゼンスルホンアミド基、２－ピリジンスルホンアミド基等であってもよい。
上記スルファモイル基は、脂肪族基、芳香族基、ヘテロ環基等を有していてもよい。上記スルファモイル基としては、スルファモイル基、総炭素原子数１～９のアルキルスルファモイル基、総炭素原子数２～１０のジアルキルスルファモイル基、総炭素原子数７～１３のアリールスルファモイル基、総炭素原子数２～１２のヘテロ環スルファモイル基、より好ましくはスルファモイル基、総炭素原子数１～７のアルキルスルファモイル基、総炭素原子数３～６のジアルキルスルファモイル基、総炭素原子数６～１１のアリールスルファモイル基、総炭素原子数２～１０のヘテロ環スルファモイル基、例えば、スルファモイル基、メチルスルファモイル基、Ｎ，Ｎ－ジメチルスルファモイル基、フェニルスルファモイル基、４－ピリジンスルファモイル基等が挙げられる。
上記脂肪族オキシ基は、飽和であっても不飽和であってもよく、また、メトキシ基、エトキシ基、ｉ－プロピルオキシ基、シクロヘキシルオキシ基、メトキシエトキシ基等を有していてもよい。上記脂肪族オキシ基としては、総炭素原子数１～８、好ましくは１～６のアルコキシ基、例えばメトキシ基、エトキシ基、ｉ－プロピルオキシ基、シクロヘキシルオキシ基、メトキシエトキシ基等が挙げられる。
上記芳香族アミノ基、へテロ環アミノ基は、脂肪族基、脂肪族オキシ基、ハロゲン原子、カルバモイル基、該アリール基と縮環したへテロ環基、脂肪族オキシカルボニル基、好ましくは総炭素原子数１～４の脂肪族基、総炭素原子数１～４の脂肪族オキシ基、ハロゲン原子、総炭素原子数１～４のカルバモイル基、ニトロ基、総炭素原子数２～４の脂肪族オキシカルボニル基を有していてもよい。
上記脂肪族チオ基は、飽和であっても不飽和であってもよく、また、総炭素原子数１～８、より好ましくは総炭素原子数１～６のアルキルチオ基、例えばメチルチオ基、エチルチオ基、カルバモイルメチルチオ基、ｔ－ブチルチオ基等が挙げられる。
上記カルバモイルアミノ基は、脂肪族基、アリール基、ヘテロ環基等を有していてもよい。上記カルバモイルアミノ基としては、カルバモイルアミノ基、総炭素原子数２～９のアルキルカルバモイルアミノ基、総炭素原子数３～１０のジアルキルカルバモイルアミノ基、総炭素原子数７～１３のアリールカルバモイルアミノ基、総炭素原子数３～１２のヘテロ環カルバモイルアミノ基、好ましくはカルバモイルアミノ基、総炭素原子数２～７のアルキルカルバモイルアミノ基、総炭素原子数３～６のジアルキルカルバモイルアミノ基、総炭素原子数７～１１のアリールカルバモイルアミノ基、総炭素原子数３～１０のヘテロ環カルバモイルアミノ基、例えば、カルバモイルアミノ基、メチルカルバモイルアミノ基、Ｎ，Ｎ－ジメチルカルバモイルアミノ基、フェニルカルバモイルアミノ、４－ピリジンカルバモイルアミノ基等が挙げられる。
本発明は、下記式：
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000006
 で示されることを特徴とする化合物である。
式中、Ｒ１は、炭素数１以上の直鎖状若しくは分岐鎖状のアルキル基又は炭素数３以上の環状のアルキル基である。
上記アルキル基は、炭素数が３以上の場合、２つの炭素原子間にカルボニル基（－Ｃ（＝Ｏ）－）を含んでもよい。また、上記アルキル基は、炭素数が２以上の場合、上記アルキル基の末端に上記カルボニル基を含むこともできる。すなわち、ＣＨ３－Ｃ（＝Ｏ）－で示されるアセチル基等のアシル基も、上記アルキル基に含まれる。
また、上記アルキル基は、炭素数が３以上の場合は１価又は２価の複素環を含むこともできるし、環を巻くこともできる。上記複素環としては、不飽和複素環が好ましく、含酸素不飽和複素環がより好ましく、例えば、フラン環等が挙げられる。Ｒ１において、２価の複素環が２つの炭素原子間に挿入されていてもよいし、２価の複素環が末端に位置して－Ｃ（＝Ｏ）－と結合してもよいし、１価の複素環が上記アルキル基の末端に位置してもよい。
なお、本明細書において、上記アルキル基の「炭素数」には、カルボニル基を構成する炭素原子の数及び上記複素環を構成する炭素原子の数も含めるものとする。例えば、ＣＨ３－Ｃ（＝Ｏ）－ＣＨ２－で示される基は炭素数が３であり、ＣＨ３－Ｃ（＝Ｏ）－Ｃ２Ｈ４－Ｃ（＝Ｏ）－Ｃ２Ｈ４－で示される基は炭素数が７であり、ＣＨ３－Ｃ（＝Ｏ）－で示される基は炭素数が２である。
Ｒ１としての上記アルキル基は、置換基を有してもよい。Ｒ１としての上記アルキル基が有してもよい上記置換基としては、ハロゲン原子、炭素数１～１０の直鎖状若しくは分岐鎖状のアルキル基又は炭素数３～１０の環状のアルキル基、ヒドロキシ基が好ましく、メチル基、エチル基が特に好ましい。
上記アルキル基は、また、炭素原子に結合した水素原子が官能基により置換されていてもよく、例えば、ヒドロキシ基（－ＯＨ）又はエステル結合を含む１価の有機基により置換されていてもよいが、如何なる官能基によっても置換されていないことが好ましい。
上記エステル結合を含む１価の有機基としては、式：－Ｏ－Ｃ（＝Ｏ）－Ｒ１０１（式中、Ｒ１０１はアルキル基）で示される基が挙げられる。
式中、Ｒ２及びＲ３は、独立に、単結合又は２価の連結基である。
Ｒ２及びＲ３は、独立に、単結合又は炭素数１以上の直鎖状若しくは分岐鎖状のアルキレン基又は炭素数３以上の環状のアルキレン基であることが好ましい。
Ｒ２及びＲ３を構成する上記アルキレン基は、カルボニル基を含まないことが好ましい。
上記アルキレン基は、炭素原子に結合した水素原子が官能基により置換されていてもよく、例えば、ヒドロキシ基（－ＯＨ）又はエステル結合を含む１価の有機基により置換されていてもよいが、如何なる官能基によっても置換されていないことが好ましい。
上記エステル結合を含む１価の有機基としては、式：－Ｏ－Ｃ（＝Ｏ）－Ｒ１０２（式中、Ｒ１０２はアルキル基）で示される基が挙げられる。
上記アルキレン基は、炭素原子に結合した水素原子の７５％以下がハロゲン原子により置換されていてもよく、５０％以下がハロゲン原子により置換されていてもよく、２５％以下がハロゲン原子により置換されていてもよいが、フッ素原子、塩素原子等のハロゲン原子を含まない非ハロゲン化アルキレン基であることが好ましい。
Ｒ１、Ｒ２及びＲ３は、炭素数が合計で５以上である。合計の炭素数としては、７以上が好ましく、９以上がより好ましく、２０以下が好ましく、１８以下がより好ましく、１５以下が更に好ましい。
Ｒ１、Ｒ２及びＲ３は、いずれか２つがお互いに結合して、環を形成してもよい。
式中、Ａは、－ＣＯＯＸ又は－ＳＯ３Ｘ（Ｘは、Ｈ、金属原子、ＮＲ４ ４、置換基を有していてもよいイミダゾリウム、置換基を有していてもよいピリジニウム又は置換基を有していてもよいホスホニウムであり、Ｒ４はＨ又は有機基である。４つのＲ４は、同一でも異なっていてもよい。）である。本発明の化合物は、カルボン酸塩又はスルホン酸塩であることが好ましい。
上記金属原子としては、アルカリ金属（１族）、アルカリ土類金属（２族）等が挙げられ、Ｎａ、Ｋ又はＬｉが好ましい。
Ｒ４としては、Ｈ又は炭素数１～１０の有機基が好ましく、Ｈ又は炭素数１～４の有機基がより好ましい。上記金属原子としては、アルカリ金属（１族）、アルカリ土類金属（２族）等が挙げられ、Ｎａ、Ｋ又はＬｉが好ましい。
Ｘとしては、Ｈ、金属原子又はＮＲ４ ４が好ましく、Ｈ、アルカリ金属（１族）、アルカリ土類金属（２族）又はＮＲ４ ４がより好ましく、Ｈ、Ｎａ、Ｋ、Ｌｉ又はＮＨ４が更に好ましく、Ｎａ、Ｋ又はＮＨ４が更により好ましく、Ｎａ又はＮＨ４が特に好ましく、ＮＨ４が最も好ましい。
式中、Ｒ１としては、カルボニル基を含まない炭素数１～８の直鎖状若しくは分岐鎖状のアルキル基、カルボニル基を含まない炭素数３～８の環状のアルキル基、１～１０個のカルボニル基を含む炭素数２～４５の直鎖状若しくは分岐鎖状のアルキル基、カルボニル基を含む炭素数３～４５の環状のアルキル基、又は、炭素数が３～４５の１価若しくは２価の複素環を含むアルキル基が好ましい。
また、Ｒ１としては、下記式：
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000007
 （式中、ｎ１１は０～１０の整数であり、Ｒ１１は炭素数１～５の直鎖状若しくは分岐鎖状のアルキル基又は炭素数３～５の環状のアルキル基であり、Ｒ１２は炭素数０～３のアルキレン基である。ｎ１１が２～１０の整数である場合、Ｒ１２は各々同じであっても異なっていてもよい。）で示される基がより好ましい。
ｎ１１としては、０～５の整数が好ましく、０～３の整数がより好ましく、１～３の整数が更に好ましい。
Ｒ１１としての上記アルキル基は、カルボニル基を含まないことが好ましい。
Ｒ１１としての上記アルキル基は、炭素原子に結合した水素原子が官能基により置換されていてもよく、例えば、ヒドロキシ基（－ＯＨ）又はエステル結合を含む１価の有機基により置換されていてもよいが、如何なる官能基によっても置換されていないことが好ましい。
上記エステル結合を含む１価の有機基としては、式：－Ｏ－Ｃ（＝Ｏ）－Ｒ１０３（式中、Ｒ１０３はアルキル基）で示される基が挙げられる。
Ｒ１１としての上記アルキル基は、炭素原子に結合した水素原子の７５％以下がハロゲン原子により置換されていてもよく、５０％以下がハロゲン原子により置換されていてもよく、２５％以下がハロゲン原子により置換されていてもよいが、フッ素原子、塩素原子等のハロゲン原子を含まない非ハロゲン化アルキル基であることが好ましい。Ｒ１１のアルキル基の炭素数は、１～２０であってよく、１～１５が好ましく、１～１２がより好ましく、１～１０が更に好ましく、１～８が更により好ましく、１～６が殊更好ましく、１～３が尚更に好ましく、１又は２が特に好ましく、１が最も好ましい。また、上記Ｒ１１のアルキル基は、１級炭素、２級炭素、３級炭素のみで構成されていることが好ましく、１級炭素、２級炭素で構成されるのが特に好ましい。すなわち、Ｒ１１としては、メチル基、エチル基、ｎ－プロピル基、イソプロピル基が好ましく、特にメチル基が最も好ましい。
Ｒ１１としては、置換基を有してもよい炭素数１～１０の直鎖状若しくは分岐鎖状のアルキル基又は置換基を有してもよい炭素数３～１０の環状のアルキル基が好ましく、カルボニル基を含まない炭素数１～１０の直鎖状若しくは分岐鎖状のアルキル基又はカルボニル基を含まない炭素数３～１０の環状のアルキル基がより好ましく、置換基を有さない炭素数１～１０の直鎖状又は分岐鎖状のアルキル基が更に好ましく、置換基を有さない炭素数１～３の直鎖状又は分岐鎖状のアルキル基が更により好ましく、メチル基（－ＣＨ３）又はエチル基（－Ｃ２Ｈ５）が特に好ましく、メチル基（－ＣＨ３）が最も好ましい。
Ｒ１２は炭素数０～３のアルキレン基である。上記炭素数は１～３が好ましい。
Ｒ１２としての上記アルキレン基は、直鎖状又は分岐鎖状であってよい。
Ｒ１２としての上記アルキレン基は、カルボニル基を含まないことが好ましい。Ｒ１２としては、エチレン基（－Ｃ２Ｈ４－）又はプロピレン基（－Ｃ３Ｈ６－）がより好ましい。
Ｒ１２としての上記アルキレン基は、炭素原子に結合した水素原子が官能基により置換されていてもよく、例えば、ヒドロキシ基（－ＯＨ）又はエステル結合を含む１価の有機基により置換されていてもよいが、如何なる官能基によっても置換されていないことが好ましい。
上記エステル結合を含む１価の有機基としては、式：－Ｏ－Ｃ（＝Ｏ）－Ｒ１０４（式中、Ｒ１０４はアルキル基）で示される基が挙げられる。
Ｒ１２としての上記アルキレン基は、炭素原子に結合した水素原子の７５％以下がハロゲン原子により置換されていてもよく、５０％以下がハロゲン原子により置換されていてもよく、２５％以下がハロゲン原子により置換されていてもよいが、フッ素原子、塩素原子等のハロゲン原子を含まない非ハロゲン化アルキレン基であることが好ましい。
Ｒ２及びＲ３としては、独立に、カルボニル基を含まない炭素数１以上の直鎖状又は分岐鎖状のアルキレン基が好ましく、カルボニル基を含まない炭素数１～３の直鎖状又は分岐鎖状のアルキレン基がより好ましく、エチレン基（－Ｃ２Ｈ４－）又はプロピレン基（－Ｃ３Ｈ６－）が更に好ましい。
上記化合物としては、次の化合物が例示できる。各式中、Ａは上述のとおりである。
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000008
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000009
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000010
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000011
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000012
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000013
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000014
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000015
本発明の化合物は、式：
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000016
 （式中、Ｒ３は上述のとおり、Ｅは脱離基である。）で示される化合物（１０）と、リチウム、及び、式：Ｒ２０１ ３Ｓｉ－Ｃｌ（式中、Ｒ２０１は、独立に、アルキル基又はアリール基である。）で示されるクロロシラン化合物とを反応させて、式：
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000017
 （式中、Ｒ３、Ｒ２０１及びＥは上述のとおりである。）で示される化合物（１１）を得る工程（１１）、
化合物（１１）と、式：
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000018
 （式中、Ｒ１は上述のとおり、Ｒ２１は単結合又は２価の連結基である。）で示されるオレフィンとを反応させて、式：
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000019
 （式中、Ｒ１、Ｒ２１、Ｒ３及びＥは上述のとおりである。）で示される化合物（１２）を得る工程（１２）、
化合物（１２）が有する脱離基を脱離させて、式：
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000020
 （式中、Ｒ１、Ｒ２１及びＲ３は上述のとおりである。）で示される化合物（１３）を得る工程（１３）、
化合物（１３）を酸化させて、式：
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000021
 （式中、Ｒ１、Ｒ２１及びＲ３は上述のとおりである。）で示される化合物（１４）を得る工程（１４）、及び
化合物（１４）を、アルカリと接触させて、式：
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000022
 （式中、Ｒ１、Ｒ２１、Ｒ３及びＸは上述のとおりである。）で示される化合物（１５）を得る工程（１５）、
を含む製造方法により、好適に製造できる。
Ｒ１にフラン環を含む場合は、例えば酸によりフラン環を開環しジカルボニル誘導体に変換してもよい。酸としては酢酸、塩酸、ｐ－トルエンスルホン等があげられ、中でも酢酸が好ましい。
工程（１１）では、リチウム及び上記クロロシラン化合物を予め反応させて、シロキシリチウム化合物を得た後、上記シロキシリチウム化合物と化合物（１０）とを反応させて、化合物（１１）を得ることが好ましい。
Ｅは脱離基を表す。上記脱離基としては、ｔｅｒｔ－ブチルジメチルシリル（ＴＢＳ）基、トリエチルシリル（ＴＥＳ）基、トリイソプロピルシリル（ＴＩＰＳ）基、ｔｅｒｔ－ブチルジフェニルシリル（ＴＢＤＰＳ）基、ベンジル（Ｂｎ）基等が挙げられる。
Ｒ２１としては、単結合又は炭素数１以上の直鎖状若しくは分岐鎖状のアルキレン基が好ましい。
上記クロロシラン化合物としては、例えば、
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000023
 が挙げられる。
工程（１１）におけるいずれの反応も、溶媒中で実施することができる。上記溶媒としては、有機溶媒が好ましく、非プロトン性極性溶媒がより好ましく、エーテルが更に好ましい。上記エーテルとしては、エチルメチルエーテル、ジエチルエーテル、モノグライム（エチレングリコールジメチルエーテル）、ジグライム（ジエチレングリコールジメチルエーテル）、トリグライム（トリエチレングリコールジメチルエーテル）、テトラヒドロフラン、テトラグライム（テトラエチレングリコールジメチルエーテル）、クラウンエーテル（１５－クラウン－５，１８－クラウン－６）等が挙げられ、なかでも、テトラヒドロフラン、ジエチルエーテルが好ましい。
工程（１１）におけるリチウム及び上記クロロシラン化合物の反応の温度としては、－７８～１５０℃が好ましく、－７８～１００℃がより好ましく、０～１００℃が更に好ましく、１０～４０℃が特に好ましい。
工程（１１）における上記シロキシリチウム化合物と化合物（１０）との反応の温度としては、－１００～０℃が好ましく、－８０～－５０℃がより好ましい。また、－１００～１００℃が好ましく、－８０～５０℃がより好ましい。
工程（１１）におけるリチウム及び上記クロロシラン化合物の反応の圧力としては、０．１～５ＭＰａが好ましく、０．１～１ＭＰａがより好ましい。
工程（１１）における上記シロキシリチウム化合物と化合物（１０）との反応の圧力としては、０．１～５ＭＰａが好ましく、０．１～１ＭＰａがより好ましい。
工程（１１）におけるリチウム及び上記クロロシラン化合物の反応の時間としては、０．１～７２時間が好ましく、１～４８時間がより好ましく、６～１０時間が更に好ましい。
工程（１１）における上記シロキシリチウム化合物と化合物（１０）との反応の時間としては、０．１～７２時間が好ましく、１～４８時間がより好ましく、１～２時間が更に好ましい。
工程（１２）において、化合物（１１）と上記オレフィンとの反応割合としては、収率の向上及び廃棄物の減少を考慮して、化合物（１１）１モルに対して、上記オレフィンが０．５～１０モルであることが好ましく、０．５～５．０モルであることがより好ましく、１～２モルであることが更に好ましく、１～１．１モルであることが特に好ましい。
工程（１２）における反応は、チアゾリウム塩及び塩基の存在下、溶媒中で実施できる。
上記チアゾリウム塩としては、３－エチル－５－（２－ヒドロキシエチル）－４－メチルチアゾリウムブロミド、３－ベンジル－５－（２－ヒドロキシエチル）－４－メチルチアゾリウムクロリド等が挙げられる。
上記塩基としては、１，８－ジアザビシクロ［５．４．０］－７－ウンデセン、トリエチルアミン等が挙げられる。
上記溶媒としては、有機溶媒が好ましく、非プロトン性極性溶媒がより好ましく、アルコール又はエーテルが更に好ましい。
上記アルコールとしては、メタノール、エタノール、１－プロパノール、イソプロパノール等が挙げられる。
上記エーテルとしては、エチルメチルエーテル、ジエチルエーテル、モノグライム（エチレングリコールジメチルエーテル）、ジグライム（ジエチレングリコールジメチルエーテル）、トリグライム（トリエチレングリコールジメチルエーテル）、テトラヒドロフラン、テトラグライム（テトラエチレングリコールジメチルエーテル）、クラウンエーテル（１５－クラウン－５，１８－クラウン－６）等が挙げられ、なかでも、テトラヒドロフラン、ジエチルエーテルが好ましい。
工程（１２）における反応の温度としては、－７８～１５０℃が好ましく、０～１００℃がより好ましく、４０～６０℃が更に好ましく、５０～５５℃が特に好ましい。
工程（１２）における反応の圧力としては、０．１～５ＭＰａが好ましく、０．１～１ＭＰａがより好ましい。
工程（１２）における反応の時間としては、０．１～７２時間が好ましく、１～４８時間がより好ましく、６～１０時間が更に好ましい。
工程（１３）における脱離基の脱離反応は、フッ化物イオンや酸を使用することにより、実施できる。脱離基を脱離させる方法としては、例えば、フッ酸を用いる方法、ピリジン・ｎＨＦやトリエチルアミン・ｎＨＦのようなフッ化水素のアミン錯体を用いる方法、フッ化セシウム、フッ化カリウム、ホウフッ化リチウム（ＬｉＢＦ４）、フッ化アンモニウムのような無機塩を用いる方法、テトラブチルアンモニウムフルオリド（ＴＢＡＦ）のような有機塩を用いる方法が挙げられる。
工程（１３）における脱離基の脱離反応は、極性溶媒中で実施できる。上記溶媒としては、有機溶媒が好ましく、非プロトン性極性溶媒がより好ましく、エーテルが更に好ましい。
上記エーテルとしては、エチルメチルエーテル、ジエチルエーテル、モノグライム（エチレングリコールジメチルエーテル）、ジグライム（ジエチレングリコールジメチルエーテル）、トリグライム（トリエチレングリコールジメチルエーテル）、テトラヒドロフラン、テトラグライム（テトラエチレングリコールジメチルエーテル）、クラウンエーテル（１５－クラウン－５，１８－クラウン－６）等が挙げられ、なかでも、テトラヒドロフラン、ジエチルエーテルが好ましい。
工程（１３）における反応の温度としては、－７８～１５０℃が好ましく、０～１００℃がより好ましく、０～４０℃が更に好ましく、０～２０℃が特に好ましい。
工程（１３）における反応の圧力としては、０．１～５ＭＰａが好ましく、０．１～１ＭＰａがより好ましい。
工程（１３）における反応の時間としては、０．１～７２時間が好ましく、１～４８時間がより好ましく、３～８時間が更に好ましい。
工程（１４）における酸化は、亜塩素酸ナトリウムの存在下に、溶媒中で実施できる。
上記溶媒としては、メタノール、エタノール、１－プロパノール、イソプロパノール、１－ブタノール、ｔｅｒｔ－ブチルアルコール等のアルコール及び水が使用できる。緩衝液として、リン酸水素二ナトリウム溶液を使用してもよい。
工程（１５）で使用するアルカリとしては、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、水酸化リチウム、アンモニア等が挙げられ、アンモニアの水溶液を使用することが好ましい。
各工程の終了後、溶媒を留去したり、蒸留、精製等を実施したりして、得られる化合物の純度を高めてもよい。
本発明の化合物は、また、式：
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000024
 （式中、Ｒ３は上述のとおり、Ｒ２２は１価の有機基、Ｅは脱離基である。）で示されるケトンと、式：
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000025
 （式中、Ｒ１は上述のとおり、Ｒ２３は１価の有機基である。）で示されるカルボン酸エステルとを反応させて、式：
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000026
 （式中、Ｒ１、Ｒ３及びＥは上述のとおり、Ｒ２４は単結合又は２価の連結基である。）で示される化合物（２１）を得る工程（２１）、
化合物（２１）が有する脱離基を脱離させて、式：
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000027
 （式中、Ｒ１、Ｒ２４及びＲ３は上述のとおりである。）で示される化合物（２２）を得る工程（２２）、
化合物（２２）を酸化させて、式：
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000028
 （式中、Ｒ１、Ｒ２４及びＲ３は上述のとおりである。）で示される化合物（２３）を得る工程（２３）、及び
化合物（２３）を、アルカリと接触させて、式：
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000029
 （式中、Ｒ１、Ｒ２４、Ｒ３及びＸは上述のとおりである。）で示される化合物（２４）を得る工程（２４）、
を含む製造方法により、好適に製造できる。
Ｒ１にフラン環を含む場合は、例えば酸によりフラン環を開環しジカルボニル誘導体に変換してもよい。酸としては酢酸、塩酸、ｐ－トルエンスルホン等があげられ、中でも酢酸が好ましい。
Ｅは脱離基を表す。上記脱離基としては、ｔｅｒｔ－ブチルジメチルシリル（ＴＢＳ）基、トリエチルシリル（ＴＥＳ）基、トリイソプロピルシリル（ＴＩＰＳ）基、ｔｅｒｔ－ブチルジフェニルシリル（ＴＢＤＰＳ）基、ベンジル（Ｂｎ）基等が挙げられる。
Ｒ２２としては、炭素数１以上の直鎖状又は分岐鎖状のアルキル基が好ましく、メチル基がより好ましい。
Ｒ２３としては、炭素数１以上の直鎖状又は分岐鎖状のアルキル基が好ましく、メチル基がより好ましい。
Ｒ２４としては、炭素数１以上の直鎖状又は分岐鎖状のアルキレン基が好ましく、メチレン基（－ＣＨ２－）がより好ましい。
工程（２１）における反応は、塩基の存在下、溶媒中で実施できる。
上記塩基としては、ナトリウムアミド、水素化ナトリウム、ナトリウムメトキシド、ナトリウムエトキシド等が挙げられる。
上記溶媒としては、有機溶媒が好ましく、非プロトン性極性溶媒がより好ましく、アルコール、エーテルが更に好ましい。
上記アルコールとしては、メタノール、エタノール、１－プロパノール、イソプロパノール等が挙げられる。
上記エーテルとしては、エチルメチルエーテル、ジエチルエーテル、モノグライム（エチレングリコールジメチルエーテル）、ジグライム（ジエチレングリコールジメチルエーテル）、トリグライム（トリエチレングリコールジメチルエーテル）、テトラヒドロフラン、テトラグライム（テトラエチレングリコールジメチルエーテル）、クラウンエーテル（１５－クラウン－５，１８－クラウン－６）等が挙げられ、なかでも、テトラヒドロフラン、ジエチルエーテルが好ましい。
工程（２１）における反応の温度としては、－７８～１５０℃が好ましく、０～１００℃がより好ましく、０～４０℃が更に好ましく、０～２０℃が特に好ましい。
工程（２１）における反応の圧力としては、０．１～５ＭＰａが好ましく、０．１～１ＭＰａがより好ましい。
工程（２１）における反応の時間としては、０．１～７２時間が好ましく、１～４８時間がより好ましく、３～８時間が更に好ましい。
工程（２２）における脱離基の脱離反応は、フッ化物イオンや酸を使用することにより、実施できる。脱離基の脱離させる方法としては、例えば、フッ酸を用いる方法、ピリジン・ｎＨＦやトリエチルアミン・ｎＨＦのようなフッ化水素のアミン錯体を用いる方法、フッ化セシウム、フッ化カリウム、ホウフッ化リチウム（ＬｉＢＦ４）、フッ化アンモニウムのような無機塩を用いる方法、テトラブチルアンモニウムフルオリド（ＴＢＡＦ）のような有機塩を用いる方法が挙げられる。
工程（２２）における脱離基の脱離反応は、溶媒中で実施できる。上記溶媒としては、有機溶媒が好ましく、非プロトン性極性溶媒がより好ましく、エーテルが更に好ましい。
上記エーテルとしては、エチルメチルエーテル、ジエチルエーテル、モノグライム（エチレングリコールジメチルエーテル）、ジグライム（ジエチレングリコールジメチルエーテル）、トリグライム（トリエチレングリコールジメチルエーテル）、テトラヒドロフラン、テトラグライム（テトラエチレングリコールジメチルエーテル）、クラウンエーテル（１５－クラウン－５，１８－クラウン－６）等が挙げられ、なかでも、テトラヒドロフラン、ジエチルエーテルが好ましい。
工程（２２）における反応の温度としては、－７８～１５０℃が好ましく、０～１００℃がより好ましく、０～４０℃が更に好ましく、０～２０℃が特に好ましい。
工程（２２）における反応の圧力としては、０．１～５ＭＰａが好ましく、０．１～１ＭＰａがより好ましい。
工程（２２）における反応の時間としては、０．１～７２時間が好ましく、１～４８時間がより好ましく、３～８時間が更に好ましい。
工程（２３）における酸化は、亜塩素酸ナトリウムの存在下に、溶媒中で実施できる。
上記溶媒としては、アルコール及び水が使用できる。緩衝液として、リン酸水素二ナトリウム溶液を使用してもよい。
工程（２４）で使用するアルカリとしては、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、水酸化リチウム、アンモニア等が挙げられ、アンモニアの水溶液を使用することが好ましい。
各工程の終了後、溶媒を留去したり、蒸留、精製等を実施したりして、得られる化合物の純度を高めてもよい。
本発明の化合物は、また、式：Ｙ－Ｒ３－ＣＨ２－ＯＥ
（式中、Ｒ３は上述のとおり、Ｙはハロゲン原子、Ｅは脱離基である。）で示されるハロゲン化アルキルと、式：
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000030
 （式中、Ｒ１は上述のとおりである。）で示されるリチウムアセチリドとを反応させて、式：
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000031
 （式中、Ｒ１、Ｒ３及びＥは上述のとおりである。）で示される化合物（３１）を得る工程（３１）、
化合物（３１）を酸化して、式
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000032
 （式中、Ｒ１、Ｒ３及びＥは上述のとおりである。）で示される化合物（３２）を得る工程（３２）、
化合物（３２）が有する脱離基を脱離させて、式：
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000033
 （式中、Ｒ１及びＲ３は上述のとおりである。）で示される化合物（３３）を得る工程（３３）、
化合物（３３）を酸化させて、式：
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000034
 （式中、Ｒ１及びＲ３は上述のとおりである。）で示される化合物（３４）を得る工程（３４）、及び
化合物（３４）を、アルカリと接触させて、式：
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000035
 （式中、Ｒ１、Ｒ３及びＸは上述のとおりである。）で示される化合物（３５）を得る工程（３５）、
を含む製造方法により、好適に製造できる。
Ｒ１にフラン環を含む場合は、例えば酸によりフラン環を開環しジカルボニル誘導体に変換してもよい。酸としては酢酸、塩酸、ｐ－トルエンスルホン等があげられ、中でも酢酸が好ましい。
Ｅは脱離基を表す。上記脱離基としては、ｔｅｒｔ－ブチルジメチルシリル（ＴＢＳ）基、トリエチルシリル（ＴＥＳ）基、トリイソプロピルシリル（ＴＩＰＳ）基、ｔｅｒｔ－ブチルジフェニルシリル（ＴＢＤＰＳ）基、ベンジル（Ｂｎ）基等が挙げられる。
工程（３１）において、上記ハロゲン化アルキルと上記リチウムアセチリドとの反応割合としては、収率の向上及び廃棄物の減少を考慮して、上記ハロゲン化アルキル１モルに対して、上記リチウムアセチリドが０．５～１０モルであることが好ましく、０．６～５．０モルであることがより好ましく、１～２モルであることが更に好ましく、１～１．２モルであることが特に好ましい。
工程（３１）における反応は、溶媒中で実施できる。上記溶媒としては、ヘキサンが好ましい。
工程（３１）における反応の温度としては、－１００～－４０℃が好ましく、－８０～－５０℃がより好ましい。また、－１００～１００℃が好ましく、－８０～５０℃がより好ましい。
工程（３１）における反応の圧力としては、０．１～５ＭＰａが好ましく、０．１～１ＭＰａがより好ましい。
工程（３１）における反応の時間としては、０．１～７２時間が好ましく、１～４８時間がより好ましく、６～１０時間が更に好ましい。
工程（３２）における酸化は、［（Ｃｎ＊）ＲｕＩＩＩ（ＣＦ３ＣＯ２）３］・Ｈ２Ｏ（式中、Ｃｎ＊は１，４，７－トリメチルー１，４，７－トリアザビシクロノナンを表す）を、（ＮＨ４）２Ｃｅ（ＮＯ３）６及びトリフルオロ酢酸で処理した後、過塩素酸ナトリウムを添加することにより生じる錯体を使用して、ニトリル系溶媒中で実施できる。
酸化終了後に、アルカリにより中和し、エーテル等の有機溶媒を使用して化合物（３２）を抽出してもよい。
工程（３２）における反応の温度としては、－７８～１５０℃が好ましく、０～１００℃がより好ましく、３０～１００℃が更に好ましく、４０～９０℃が特に好ましい。
工程（３２）における反応の圧力としては、０．１～５ＭＰａが好ましく、０．１～１ＭＰａがより好ましい。
工程（３２）における反応の時間としては、０．１～７２時間が好ましく、１～４８時間がより好ましく、３～８時間が更に好ましい。
工程（３３）における脱離基の脱離反応は、フッ化物イオンや酸を使用することにより、実施できる。脱離基の脱離させる方法としては、例えば、フッ酸を用いる方法、ピリジン・ｎＨＦやトリエチルアミン・ｎＨＦのようなフッ化水素のアミン錯体を用いる方法、フッ化セシウム、フッ化カリウム、ホウフッ化リチウム（ＬｉＢＦ４）、フッ化アンモニウムのような無機塩を用いる方法、テトラブチルアンモニウムフルオリド（ＴＢＡＦ）のような有機塩を用いる方法が挙げられる。
工程（３３）における脱離基の脱離反応は、溶媒中で実施できる。上記溶媒としては、有機溶媒が好ましく、非プロトン性極性溶媒がより好ましく、エーテルが更に好ましい。
上記エーテルとしては、エチルメチルエーテル、ジエチルエーテル、モノグライム（エチレングリコールジメチルエーテル）、ジグライム（ジエチレングリコールジメチルエーテル）、トリグライム（トリエチレングリコールジメチルエーテル）、テトラヒドロフラン、テトラグライム（テトラエチレングリコールジメチルエーテル）、クラウンエーテル（１５－クラウン－５，１８－クラウン－６）等が挙げられ、なかでも、テトラヒドロフラン、ジエチルエーテルが好ましい。
工程（３３）における反応の温度としては、－７８～１５０℃が好ましく、０～１００℃がより好ましく、０～４０℃が更に好ましく、０～２０℃が特に好ましい。
工程（３３）における反応の圧力としては、０．１～５ＭＰａが好ましく、０．１～１ＭＰａがより好ましい。
工程（３３）における反応の時間としては、０．１～７２時間が好ましく、１～４８時間がより好ましく、３～８時間が更に好ましい。
工程（３４）における酸化は、亜塩素酸ナトリウムの存在下に、溶媒中で実施できる。
上記溶媒としては、アルコール及び水が使用できる。緩衝液として、リン酸水素二ナトリウム溶液を使用してもよい。
工程（３５）で使用するアルカリとしては、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、水酸化リチウム、アンモニア等が挙げられ、アンモニアの水溶液を使用することが好ましい。
各工程の終了後、溶媒を留去したり、蒸留、精製等を実施したりして、得られる化合物の純度を高めてもよい。
本発明の化合物は、また、式：
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000036
 で示されるジビニルケトンと、式：
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000037
 で示される２－メチルフランとを反応させて、式：
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000038
 で示される化合物（５１）を得る工程（５１）、
化合物（５１）と式：
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000039
 で示されるフランとを反応させて、式：
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000040
 で示される化合
物（５２）を得る工程（５２）、
化合物（５２）を酸の存在下で加熱することにより、式：
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000041
 で示される化合物（５３）を得る工程（５３）、
化合物（５３）を酸化させて、式：
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000042
 で示される化合物（５４）を得る工程（５４）、及び、
化合物（５４）をアルカリと接触させて、式：
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000043
 （式中、Ｘは上述のとおりである。）で示される化合物（５５）を得る工程（５５）、
を含む製造方法により、好適に製造できる。
工程（５１）において、ジビニルケトンと２－メチルフランとの反応割合としては、収率の向上及び廃棄物の減少を考慮して、ジビニルケトン１モルに対して、２－メチルフランが０．５～１０モルであることが好ましく、０．６～５．０モルであることがより好ましく、０．５～１モルであることが更に好ましく、０．６～０．９モルであることが特に好ましい。
工程（５１）における反応は、酸の存在下に実施することが好ましい。上記酸としては、酢酸、塩酸、ｐ－トルエンスルホン酸等があげられ、なかでも、酢酸が好ましい。
工程（５１）における上記酸の使用量は、収率の向上及び廃棄物の減少を考慮して、ジビニルケトン１モルに対して、０．１～２モルが好ましく、０．１～１モルがより好ましい。
工程（５１）における反応は、極性溶媒中で実施できる。上記溶媒としては、水、アセトニトリルが好ましい。
工程（５１）における反応の温度としては、－７８～１５０℃が好ましく、０～１００℃がより好ましく、２０～１００℃が更に好ましく、４０～１００℃が特に好ましい。
工程（５１）における反応の圧力としては、０．１～５ＭＰａが好ましく、０．１～１ＭＰａがより好ましい。
工程（５１）における反応の時間としては、０．１～７２時間が好ましく、１～４８時間がより好ましく、４～８時間が更に好ましい。
工程（５２）において、化合物（５１）とフランとの反応割合としては、収率の向上及び廃棄物の減少を考慮して、化合物（５１）１モルに対してフランが０．５～１０モルであることが好ましく、０．６～５．０モルであることがより好ましく、１～２モルであることが更に好ましく、１～１．１モルであることが特に好ましい。
工程（５２）における反応は、酸の存在下に実施することが好ましい。上記酸としては、酢酸、塩酸、ｐ－トルエンスルホン等があげられ、なかでも、酢酸が好ましい。
工程（５２）における上記酸の使用量は、収率の向上及び廃棄物の減少を考慮して、化合物（５１）１モルに対して、０．１～２モルが好ましく、０．１～１モルがより好ましい。
工程（５２）における反応は、極性溶媒中で実施できる。上記溶媒としては、水が好ましい。
工程（５２）における反応の温度としては、－７８～１５０℃が好ましく、０～１００℃がより好ましく、２０～１００℃が更に好ましく、４０～１００℃が特に好ましい。
工程（５２）における反応の圧力としては、０．１～５ＭＰａが好ましく、０．１～１ＭＰａがより好ましい。
工程（５２）における反応の時間としては、０．１～７２時間が好ましく、１～４８時間がより好ましく、４～８時間が更に好ましい。
工程（５３）では、化合物（５２）を酸の存在下で加熱することにより、フラン環を開環させる。
上記酸としては、塩酸、硫酸が好ましい。
工程（５３）における反応は、極性溶媒中で実施できる。上記溶媒としては、水が好ましい。
工程（５３）における反応の温度としては、－７８～１５０℃が好ましく、０～１００℃がより好ましく、５０～１００℃が更に好ましく、７０～１００℃が特に好ましい。
工程（５３）における反応の圧力としては、０．１～５ＭＰａが好ましく、０．１～１ＭＰａがより好ましい。
工程（５３）における反応の時間としては、０．１～７２時間が好ましく、１～４８時間がより好ましく、１～１２時間が更に好ましい。
工程（５４）における酸化は、亜塩素酸ナトリウムの存在下に、溶媒中で実施できる。
上記溶媒としては、ｔｅｒｔ－ブチルアルコール及び水が使用できる。緩衝液として、リン酸水素二ナトリウム溶液を使用してもよい。
工程（５５）で使用するアルカリとしては、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、水酸化リチウム、アンモニア等が挙げられ、アンモニアの水溶液を使用することが好ましい。
各工程の終了後、溶媒を留去したり、蒸留、精製等を実施したりして、得られる化合物の純度を高めてもよい。
本発明の化合物は、また、式：
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000044
 （式中、Ｒ１は上述のとおり、Ｒ２１は単結合又は２価の連結基である。）で示されるアルケンと、式：
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000045
 （式中、Ｙ６１はアルキルエステル基である。）で示されるアルキンとを反応させて、式：
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000046
 （式中、Ｒ１、Ｒ２１及びＹ６１は上述のとおりである。）で示される化合物（６１）を得る工程（６１）、
化合物（６１）に、アルカリを作用させたのちに酸を作用させて、式：
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000047
 （式中、Ｒ１及びＲ２１は上述のとおりである。）で示される化合物（６２）を得る工程（６２）、及び、
化合物（６２）をアルカリと接触させて、式：
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000048
 （式中、Ｒ１、Ｒ２１及びＸは上述のとおりである。）で示される化合物（６３）を得る工程（６３）、
を含む製造方法により、好適に製造できる。
Ｒ１にフラン環を含む場合は、例えば酸によりフラン環を開環しジカルボニル誘導体に変換してもよい。酸としては酢酸、塩酸、ｐ－トルエンスルホン等があげられ、中でも酢酸が好ましい。
Ｒ２１としては、単結合又は炭素数１以上の直鎖状若しくは分岐鎖状のアルキレン基が好ましい。
工程（６１）において、上記アルケンと上記アルキンとの反応割合としては、収率の向上及び廃棄物の減少を考慮して、上記アルキン１モルに対して、上記アルケンが０．５～２モルであることが好ましく、０．６～１．２モルであることがより好ましい。また、０．５～１０モルであることが好ましく、０．６～５．０モルであることがより好ましい。
工程（６１）における反応は、金属触媒存在下に実施することが好ましい。上記金属としては、ルテニウム等があげられる。
工程（６１）における上記金属触媒の使用量は、収率の向上及び廃棄物の減少を考慮して、上記アルケン１モルに対して、０．００００１～０．４モルが好ましく、０．００００５～０．１モルがより好ましく、０．０１～０．４モルが更に好ましく、０．０５～０．１モルが特に好ましい。
工程（６１）における反応は、極性溶媒中で実施できる。上記溶媒としては、水、アセトニトリル、ジメチルアセトアミド、ジメチルホルムアミドが好ましい。
工程（６１）における反応の温度としては、２０～１６０℃が好ましく、４０～１４０℃がより好ましい。
工程（６１）における反応の圧力としては、０．１～５ＭＰａが好ましく、０．１～１ＭＰａがより好ましい。
工程（６１）における反応の時間としては、０．１～７２時間が好ましく、１～４８時間がより好ましく、４～８時間が更に好ましい。
工程（６２）において、化合物（６１）と上記アルカリとの反応割合としては、収率の向上及び廃棄物の減少を考慮して、化合物（６１）１モルに対して上記アルカリが０．５～１０モルであることが好ましく、０．６～５．０モルであることがより好ましく、０．６～２モルであることが更に好ましく、０．８～１．１モルであることが特に好ましい。
工程（６２）における上記酸の使用量は、収率の向上及び廃棄物の減少を考慮して、化合物（６１）１モルに対して、１．０～２０．０モルが好ましく、１．０～１０．０モルがより好ましい。
工程（６２）における反応は、極性溶媒中で実施できる。上記溶媒としては、水が好ましい。
工程（６２）における反応の温度としては、０～１００℃が好ましく、２０～１００℃がより好ましい。
工程（６２）における反応の圧力としては、０．１～５ＭＰａが好ましく、０．１～１ＭＰａがより好ましい。
工程（６２）における反応の時間としては、０．１～７２時間が好ましく、１～４８時間がより好ましく、４～８時間が更に好ましい。
工程（６３）で使用するアルカリとしては、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、水酸化リチウム、アンモニア等が挙げられ、アンモニアの水溶液を使用することが好ましい。
各工程の終了後、溶媒を留去したり、蒸留、精製等を実施したりして、得られる化合物の純度を高めてもよい。
つぎに本発明を実施例をあげて説明するが、本発明はかかる実施例のみに限定されるものではない。
実施例の各数値は以下の方法により測定した。
実施例１
リチウム（２．０ｇ）、ジメチルフェニルクロロシラン（８．４ｇ）、テトラヒドロフラン（１２０ｍＬ）混合物を室温下、６時間撹拌した。反応液に４－（ｔｅｒｔブチルジメチルシロキシ）－１－モルホリノブタン－１－オン（１０ｇ）を加え、－７８℃で２時間撹拌した。反応液に飽和塩化アンモニウム水溶液（３００ｍＬ）を加え、酢酸エチルで抽出し、硫酸ナトリウムで乾燥し、減圧下に溶媒を留去した。残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーにより精製して、４－（ｔｅｒｔ－ブチルジメチルシロキシ）－１－（ジメチル（フェニル）シリル）ブタン－１－オン（６．４ｇ）を得た。
１Ｈ－ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３）　δｐｐｍ：－０．０１（ｓ，６Ｈ）、０．４９（ｓ，６Ｈ）、０．８５（ｓ，９Ｈ）、１．６１－１．７１（ｍ，２Ｈ）、２．６６（Ｊ＝７．０，ｔ，２Ｈ）、３．５１（Ｊ＝６．２，ｔ，２Ｈ）、７．３８－７．４０（ｍ，３Ｈ），７．５３－７．５７（ｍ，２Ｈ）
４－（ｔｅｒｔ－ブチルジメチルシロキシ）－１－（ジメチル（フェニル）シリル）ブタン－１－オン（６．４ｇ）、１－オクテン－３－オン（２．４１ｇ）、３－エチル－５－（２－ヒドロキシエチル）－４－メチルチアゾリウムブロミド（１．４２ｇ）、１，８－ジアザビシクロ［５．４．０］－７－ウンデセン（０．８６ｇ）、イソプロパノール（３．１７ｇ）、テトラヒドロフラン（１１．５ｍＬ）混合物を７５℃下８時間撹拌した。反応液を減圧下に溶媒を留去し、残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーにより精製して、１－ｔｅｒｔ－ブチルジメチルシロキシドデカン－４，７－ジオン（４．０ｇ）を得た。
１Ｈ－ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３）　δｐｐｍ：０．０２（ｓ，６Ｈ）、０．８８（ｓ，１２Ｈ）、１．２２－１．３１（ｍ，４Ｈ）、１．５１－１．５９（ｍ，２Ｈ）、１．７２－１．８３（ｍ，２Ｈ）、２．４３（Ｊ＝７．６，ｔ，２Ｈ）、２．５５（Ｊ＝７．６，ｔ，２Ｈ），２．６７（ｓ，４Ｈ）、３．５９（Ｊ＝５．９，ｔ，２Ｈ）
１－ｔｅｒｔ－ブチルジメチルシロキシドデカン－４，７－ジオン（１．９ｇ）、テトラブチルアンモニウムフルオリド　１Ｍテトラヒドロフラン溶液（１５ｍＬ）、テトラヒドロフラン（１７．５ｍＬ）の混合物を０℃下２時間撹拌した。反応液に飽和塩化アンモニウム溶液（１００ｍＬ）を加え、酢酸エチルで抽出し、硫酸ナトリウムで乾燥し、減圧下に溶媒を留去した。残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーにより精製して、１－ヒドロキシドデカン－４，７－ジオン（２．０ｇ）を得た。
１Ｈ－ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３）　δｐｐｍ：０．８９（ｓ，３Ｈ）、１．２４－１．３３（ｍ，４Ｈ）、１．５２－１．５８（ｍ，２Ｈ）、１．８１－１．９０（ｍ，２Ｈ）、２．４５（Ｊ＝７．６，ｔ，２Ｈ）、２．６３（Ｊ＝７．０，ｔ，２Ｈ），２．７６（ｓ，４Ｈ）、３．６５（Ｊ＝５．９，ｔ，２Ｈ）
２，２，６，６－テトラメチルピペリジン－１－オキシル、１－ヒドロキシドデカン－４，７－ジオン、臭化カリウム、次亜塩素酸ナトリウム、炭酸水素ナトリウム、炭酸ナトリウム、ジクロロメタンの混合物を２５℃の温度下で１時間撹拌した。反応後、メタノールを加えて、水相をジクロロメタン（５０ｍＬ）で３回抽出し、飽和食塩水で洗浄して有機相を乾燥することで４，７－ジオキソドデカナールを得た。
４，７－ジオキソドデカナール、２－メチル－２－ブテン、ｔＢｕＯＨ、水、Ｎａ２ＨＰＯ４溶液、ＮａＣｌＯ２の混合溶液を２５℃で１時間撹拌した。混合溶液に食塩水を加え、クロロホルムで４回抽出した。有機相を硫酸ナトリウムで乾燥し、濃縮後残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（ヘキサン：酢酸エチル）により精製して、４，７－ジオキソドデカン酸を得た。
４，７－ジオキソドデカン酸を３０％アンモニア水に加えて、水を留去して、４，７－ジオキソドデカン酸アンモニウムを得た。
実施例２
ジビニルケトン（７．４ｇ）、２－メチルフラン（８．０ｇ）、酢酸（６ｍＬ）、水（６０ｍＬ）を４０℃で４時間撹拌した。反応溶液を飽和炭酸水素ナトリウム溶液に加え、酢酸エチルで抽出し、硫酸ナトリウムで乾燥し、減圧下に溶媒を留去した。残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（ヘキサン：酢酸エチル＝２５：１）により精製して、１－（５－メチル－２－フラニル）－３－ブテン－２－オン（７．４ｇ）を得た。
１Ｈ－ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３）　δｐｐｍ：５．８８（ｄｄ，Ｊ＝１７．４，１０．６，２Ｈ）、６．３２（ｄｄ，Ｊ＝１７．４，１．３，２Ｈ）、５．８８（ｄｄ，Ｊ＝１０．６，１．３，２Ｈ）
１－（５－メチル－２－フラニル）－３－ブテン－２－オン（１．０ｇ）、フラン（４ｇ）、酢酸（０．４ｍＬ）、水（４ｍＬ）を１００℃で２４時間撹拌した。反応溶液を飽和炭酸水素ナトリウム溶液に加え、酢酸エチルで抽出し、硫酸ナトリウムで乾燥し、減圧下に溶媒を留去した。残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（ヘキサン：酢酸エチル＝２５：１）により精製して、１－（フラン－２－ニル）－５－（５－メチルフラン－２－ニル）ペンタン－３－オン（０．５ｇ）を得た。
９－（５－メチルフラン－２－ニル）－４，７－ジオキソノニル）硫酸酸ナトリウム、水、１Ｍ塩酸の混合物を１００℃の条件下で１時間撹拌した。反応液に１０％ＮａＨＣＯ３水溶液を加えて中和し、酢酸エチルで抽出し、硫酸ナトリウムで乾燥し、減圧下に溶媒を留去した。残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（ヘキサン：酢酸エチル＝１：１）により精製して、４，７，１０，１３－テトラオキソテトラデカナールを得た。
４，７，１０，１３－テトラオキソテトラデカナール、２－メチル－２－ブテン、ｔＢｕＯＨ、水、Ｎａ２ＨＰＯ４溶液、ＮａＣｌＯ２の混合溶液を２５℃で１時間撹拌した。混合溶液に食塩水を加え、クロロホルムで４回抽出した。有機相を硫酸ナトリウムで乾燥し、濃縮後残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（ヘキサン：酢酸エチル）により精製して、４，７，１０，１３－テトラオキソテトラデカン酸を得た。
４，７，１０，１３－テトラオキソテトラデカン酸をアンモニア水に加えて、水を留去して、４，７，１０，１３－テトラオキソテトラデカン酸アンモニウムを得た。
実験例
実施例１及び２で得られた化合物を表１に記載の濃度になるように水に溶解させ、表面張力を測定した。上記表面張力は、２０℃で、ウィルヘルミー法により測定した。結果を表１に示す。
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000049
本発明の化合物は、好適に水の表面張力を低下させることができる。
本発明の化合物は、界面活性剤として好適に使用できる。
本発明の化合物は、界面促進剤（特に、塗料、ラッカー、又は接着剤等における界面促進剤）として好適に使用できる。
本発明の化合物は、また例えば、粘性低下剤として好適に使用できる。
本発明の化合物は、また例えば、分散剤、特に水系分散剤として好適に使用できる。
本発明の化合物は、また例えば、乳化剤として好適に使用できる。
 

Claims (9)

  1. 下記式：
    Figure JPOXMLDOC01-appb-C000001
     （式中、Ｒ１は、炭素数１以上の直鎖状若しくは分岐鎖状のアルキル基又は炭素数３以上の環状のアルキル基であり、炭素原子に結合した水素原子がヒドロキシ基又はエステル結合を含む１価の有機基により置換されていてもよく、炭素数が２以上の場合はカルボニル基を含んでもよく、炭素数が３以上の場合は１価又は２価の複素環を含んでも環を巻いていてもよい。Ｒ２及びＲ３は、独立に、単結合又は２価の連結基である。Ｒ１、Ｒ２及びＲ３は、炭素数が合計で５以上である。Ａは、－ＣＯＯＸ又は－ＳＯ３Ｘ（Ｘは、Ｈ、金属原子、ＮＲ４ ４、置換基を有していてもよいイミダゾリウム、置換基を有していてもよいピリジニウム又は置換基を有していてもよいホスホニウムであり、Ｒ４はＨ又は有機基であり、同一でも異なっていてもよい。）である。Ｒ１、Ｒ２及びＲ３は、いずれか２つがお互いに結合して、環を形成してもよい。）
    で示されることを特徴とする化合物。
  2. 前記式中、Ｒ２及びＲ３は、独立に、単結合又は炭素数１以上の直鎖状若しくは分岐鎖状のアルキレン基又は炭素数３以上の環状のアルキレン基であり、炭素原子に結合した水素原子がヒドロキシ基又はエステル結合を含む１価の有機基により置換されていてもよい請求項１記載の化合物。
  3. 前記式中、Ｒ１は、カルボニル基を含まない炭素数１～８の直鎖状若しくは分岐鎖状のアルキル基、カルボニル基を含まない炭素数３～８の環状のアルキル基、１～１０個のカルボニル基を含む炭素数２～４５の直鎖状若しくは分岐鎖状のアルキル基、カルボニル基を含む炭素数３～４５の環状のアルキル基、又は、炭素数が３～４５の１価若しくは２価の複素環を含むアルキル基である請求項１又は２記載の化合物。
  4. 前記式中、Ｒ１は、下記式：
    Figure JPOXMLDOC01-appb-C000002
     （式中、ｎ１１は０～１０の整数であり、Ｒ１１は炭素数１～５の直鎖状若しくは分岐鎖状のアルキル基又は炭素数３～５の環状のアルキル基であり、Ｒ１２は炭素数０～３のアルキレン基である。ｎ１１が２～１０の整数である場合、Ｒ１２は各々同じであっても異なっていてもよい。）で示される基である請求項１、２又は３記載の化合物。
  5. 前記式中、Ｒ２及びＲ３は、独立に、カルボニル基を含まない炭素数１以上の直鎖状又は分岐鎖状のアルキレン基である請求項１、２、３又は４記載の化合物。
  6. 前記式中、Ｒ２及びＲ３は、独立に、カルボニル基を含まない炭素数１～３の直鎖状又は分岐鎖状のアルキレン基である請求項１、２、３、４又は５記載の化合物。
  7. 前記式中、ＸがＮＨ４である請求項１、２、３、４、５又は６記載の化合物。
  8. 請求項１、２、３、４、５、６又は７記載の化合物を含む界面活性剤。
  9. 請求項１、２、３、４、５、６又は７記載の化合物を含む水系分散剤。
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Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2021010443A1 (ja) 2019-07-16 2021-01-21 ダイキン工業株式会社 含フッ素エラストマーの製造方法および組成物
JP2022132529A (ja) * 2017-03-31 2022-09-08 ダイキン工業株式会社 フルオロポリマーの製造方法、重合用界面活性剤及び界面活性剤の使用
WO2022196804A1 (ja) 2021-03-18 2022-09-22 ダイキン工業株式会社 フッ素樹脂の製造方法、フッ素樹脂および水性分散液

Families Citing this family (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2018062449A1 (ja) 2016-09-30 2018-04-05 ダイキン工業株式会社 カルボン酸塩又はスルホン酸塩、及び、界面活性剤
WO2018181898A1 (ja) * 2017-03-31 2018-10-04 ダイキン工業株式会社 フルオロポリマーの製造方法、重合用界面活性剤及び界面活性剤の使用
CN110446695A (zh) 2017-03-31 2019-11-12 大金工业株式会社 烷基硫酸酯或其盐
CN111533655B (zh) * 2020-05-31 2022-09-02 广东工业大学 一种长碳链酮基二羧酸酯的制备方法

Citations (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS3824871B1 (ja) * 1961-03-29 1963-11-22
JP2005325035A (ja) * 2004-05-12 2005-11-24 Nippon Shokubai Co Ltd 分子状酸素を酸化剤に用いたカルボニル化合物の製造方法

Family Cites Families (22)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US2781372A (en) 1956-02-10 1957-02-12 Hans S Mannheimer Detergent sulphonic acid and sulphate salts of certain amphoteric detergents
US2781353A (en) 1956-03-26 1957-02-12 John J Mccabe Jr Imidazoline derivatives and process
US3412116A (en) * 1965-11-01 1968-11-19 Akad Wissenschaften Ddr Method of producing gamma-keto acids
GB1081234A (en) * 1966-03-14 1967-08-31 Akad Wissenschaften Ddr Process for the production of keto carboxylic acids
FR2046949B1 (ja) 1969-06-20 1973-01-12 Colgate Palmolive Co
US3654326A (en) * 1970-07-22 1972-04-04 Hoffmann La Roche 5 9-dioxodecanoic acids and methods for their preparation
US4179392A (en) * 1970-12-21 1979-12-18 Mobil Oil Corporation Biodegradable hard water detergents
DE2740854A1 (de) 1977-09-10 1979-03-29 Troponwerke Gmbh & Co Kg Neue substituierte 3-indolacetoxyalkansulfonsaeuresalze, verfahren zu ihrer herstellung und ihre anwendung als arzneimittel
US5025104A (en) * 1989-09-28 1991-06-18 Atochem North America, Inc. 2,4-pentanedione-1-sulfonic acid and method for preparing the same
GB9302130D0 (en) * 1993-02-03 1993-03-24 Unilever Plc Cleasing composition
US5630999A (en) * 1993-06-16 1997-05-20 Colgate Palmolive Company Oral composition containing anionic surfactants having reduced adverse reaction to oral tissue
JP3426413B2 (ja) 1995-05-11 2003-07-14 カネボウ株式会社 化粧料
JP2001172669A (ja) 1999-12-21 2001-06-26 Lion Corp 洗浄剤組成物
JP3824871B2 (ja) * 2001-02-19 2006-09-20 三菱電機株式会社 自動利得制御装置および復調器
JP2003005329A (ja) 2001-06-21 2003-01-08 Konica Corp ハロゲン化銀写真感光材料用の処理剤組成物、発色現像液、漂白液、漂白定着液、安定液、定着液、アンプリファイアー液及び黒白現像液
DE102008010663A1 (de) 2008-02-22 2009-08-27 Leibniz-Institut Für Neue Materialien Gemeinnützige Gmbh Alkalimetall und/oder Erdalkalimetall dotierte Titanoxid-Nano-Partikel sowie Verfahren zu deren Herstellung
US20140039031A1 (en) 2011-02-23 2014-02-06 Dispersol Technologies. LLC Pharmaceutical formulations of acetyl-11-keto-b-boswellic acid, diindolylmethane, and curcumin for pharmaceutical applications
CN103492542B (zh) 2011-04-13 2016-05-25 Elc管理公司 适用于个人护理组合物的温和型阴离子表面活性剂
CN103432091A (zh) * 2013-09-13 2013-12-11 钟术光 一种性能改善的片剂及其制备方法
CN103451666A (zh) * 2013-09-16 2013-12-18 杨震宇 一种金属清洗剂
WO2015072814A1 (ko) 2013-11-18 2015-05-21 주식회사 엘지화학 폴리알킬렌 카보네이트 수지의 제조 방법
WO2018062449A1 (ja) 2016-09-30 2018-04-05 ダイキン工業株式会社 カルボン酸塩又はスルホン酸塩、及び、界面活性剤

Patent Citations (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS3824871B1 (ja) * 1961-03-29 1963-11-22
JP2005325035A (ja) * 2004-05-12 2005-11-24 Nippon Shokubai Co Ltd 分子状酸素を酸化剤に用いたカルボニル化合物の製造方法

Non-Patent Citations (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Title
AHMED, S. M. ET AL.: "Oxymercuration-jones oxidation of beta-and gamma-hydroxyolefinic acids", JOURNAL OF THE AMERICAN OIL CHEMISTS' SOCIETY, vol. 65, no. 5, 1988, pages 774, 775, XP009514062, ISSN: 0003-021X, DOI: 10.1007/BF02542529 *
BREUSCH, F. L. ET AL.: "Synthesis of gamma, zeta-diketo fatty acids", REV. FACULTE SCI., vol. 13, 1948, pages 51 - 56 *
BUCHTA, E. ET AL.: "Über die Darstellung langkettiger Carbonsäuren unter Verwendung von Vinyl‐[ω‐alkoxycarbonyl‐alkyl]‐ketonen, VIII. Dioxo‐, Trioxo‐ und Tetraoxo‐margarinsäuren mit 1.4‐ständigen Oxo‐Gruppen und Margarinsäure", JUSTUS LIEBIGS ANNALEN DER CHEMIE, vol. 698, 1966, pages 93 - 100, XP055500861, ISSN: 0075-4617 *
DATABASE CAplus [o] AMERICAN CHEMICAL SOCIETY; 14 December 2017 (2017-12-14), retrieved from STN Database accession no. 1948:27421 *

Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2022132529A (ja) * 2017-03-31 2022-09-08 ダイキン工業株式会社 フルオロポリマーの製造方法、重合用界面活性剤及び界面活性剤の使用
WO2021010443A1 (ja) 2019-07-16 2021-01-21 ダイキン工業株式会社 含フッ素エラストマーの製造方法および組成物
WO2022196804A1 (ja) 2021-03-18 2022-09-22 ダイキン工業株式会社 フッ素樹脂の製造方法、フッ素樹脂および水性分散液

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