[go: up one dir, main page]
More Web Proxy on the site http://driver.im/

WO2017134168A1 - Leuchte und verfahren zum herstellen einer leuchte - Google Patents

Leuchte und verfahren zum herstellen einer leuchte Download PDF

Info

Publication number
WO2017134168A1
WO2017134168A1 PCT/EP2017/052259 EP2017052259W WO2017134168A1 WO 2017134168 A1 WO2017134168 A1 WO 2017134168A1 EP 2017052259 W EP2017052259 W EP 2017052259W WO 2017134168 A1 WO2017134168 A1 WO 2017134168A1
Authority
WO
WIPO (PCT)
Prior art keywords
light
luminaire
substrate
forming
exit side
Prior art date
Application number
PCT/EP2017/052259
Other languages
English (en)
French (fr)
Inventor
Thomas Wehlus
Daniel Riedel
Original Assignee
Osram Oled Gmbh
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Osram Oled Gmbh filed Critical Osram Oled Gmbh
Publication of WO2017134168A1 publication Critical patent/WO2017134168A1/de

Links

Classifications

    • F—MECHANICAL ENGINEERING; LIGHTING; HEATING; WEAPONS; BLASTING
    • F21—LIGHTING
    • F21V—FUNCTIONAL FEATURES OR DETAILS OF LIGHTING DEVICES OR SYSTEMS THEREOF; STRUCTURAL COMBINATIONS OF LIGHTING DEVICES WITH OTHER ARTICLES, NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • F21V11/00—Screens not covered by groups F21V1/00, F21V3/00, F21V7/00 or F21V9/00
    • F21V11/08—Screens not covered by groups F21V1/00, F21V3/00, F21V7/00 or F21V9/00 using diaphragms containing one or more apertures
    • F21V11/14—Screens not covered by groups F21V1/00, F21V3/00, F21V7/00 or F21V9/00 using diaphragms containing one or more apertures with many small apertures
    • F—MECHANICAL ENGINEERING; LIGHTING; HEATING; WEAPONS; BLASTING
    • F21—LIGHTING
    • F21V—FUNCTIONAL FEATURES OR DETAILS OF LIGHTING DEVICES OR SYSTEMS THEREOF; STRUCTURAL COMBINATIONS OF LIGHTING DEVICES WITH OTHER ARTICLES, NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • F21V11/00—Screens not covered by groups F21V1/00, F21V3/00, F21V7/00 or F21V9/00
    • F21V11/02—Screens not covered by groups F21V1/00, F21V3/00, F21V7/00 or F21V9/00 using parallel laminae or strips, e.g. of Venetian-blind type
    • F—MECHANICAL ENGINEERING; LIGHTING; HEATING; WEAPONS; BLASTING
    • F21—LIGHTING
    • F21V—FUNCTIONAL FEATURES OR DETAILS OF LIGHTING DEVICES OR SYSTEMS THEREOF; STRUCTURAL COMBINATIONS OF LIGHTING DEVICES WITH OTHER ARTICLES, NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • F21V11/00—Screens not covered by groups F21V1/00, F21V3/00, F21V7/00 or F21V9/00
    • F21V11/06—Screens not covered by groups F21V1/00, F21V3/00, F21V7/00 or F21V9/00 using crossed laminae or strips, e.g. grid-shaped louvers; using lattices or honeycombs
    • H—ELECTRICITY
    • H10—SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H10K—ORGANIC ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES
    • H10K59/00—Integrated devices, or assemblies of multiple devices, comprising at least one organic light-emitting element covered by group H10K50/00
    • H10K59/80—Constructional details
    • H10K59/875—Arrangements for extracting light from the devices
    • H10K59/878—Arrangements for extracting light from the devices comprising reflective means
    • F—MECHANICAL ENGINEERING; LIGHTING; HEATING; WEAPONS; BLASTING
    • F21—LIGHTING
    • F21W—INDEXING SCHEME ASSOCIATED WITH SUBCLASSES F21K, F21L, F21S and F21V, RELATING TO USES OR APPLICATIONS OF LIGHTING DEVICES OR SYSTEMS
    • F21W2131/00—Use or application of lighting devices or systems not provided for in codes F21W2102/00-F21W2121/00
    • F21W2131/40—Lighting for industrial, commercial, recreational or military use
    • F21W2131/402—Lighting for industrial, commercial, recreational or military use for working places

Definitions

  • the invention relates to a luminaire and to a method for producing a luminaire.
  • Area light sources such as organic light emitting diodes
  • Organic light-emitting diodes are area light sources that are approximately Lambertian emitters. That is, the light emitting diodes radiate approximately with a cos 2 ⁇ - characteristic, where ⁇ denotes the emission angle. Thus, organic light emitting diodes also emit a significant amount of radiation at angles nearly parallel to an emitting surface.
  • the lighting conditions for example for office space, are normalized and regulated. For example, at angles above 60 °, a luminance must not exceed 1500 nits. This limits the operating luminance of a Lambertian luminaire with an organic light-emitting diode to ma. 1500 nits. In other words, a light source, for example for office lighting, must be glare-free to large emission angles.
  • beam-forming films For glare of surface light sources, for example, beam-forming films, (Jungbecker) plates or macroscopic elements such as sheets and reflectors are known.
  • a beam-forming film is placed on the organic light-emitting diode and provided with a light-scattering layer.
  • Such solutions usually lead to significant light losses.
  • Plates and sheets require a complex production and often limit the size of the design of the light sources and can also affect the aesthetics undesirable.
  • Typical emission angles ⁇ are, for example:
  • An object of the invention is to provide a luminaire with one and a method for producing the same, which has a higher efficiency in the antiglare state.
  • the object is achieved according to one aspect of the invention by a luminaire.
  • the luminaire has a translucent substrate with a debindering structure.
  • the Entblendurigs für has a light entrance side and a light entrance side opposite light exit side.
  • the luminaire furthermore has a translucent, first electrode layer, which is formed on or above the light entry side of the substrate.
  • the luminaire furthermore has an organically functional layer structure designed to emit light, which is formed on or above the light-permeable, first electrode layer.
  • the luminaire furthermore has a second electrode layer formed on or above the organic functional layer structure.
  • the anti-glare structure has a plurality of light-conducting structures which extend between the light entry side and the light exit side and connect these optically to one another.
  • the light-conducting structures each have a 1 permeable core structure and the core structure surrounding, light-reflecting sheath structure.
  • the Mante1 structure may be an interface, for example a high-reflectance or totalreflecting interface for light above a given angle of incidence.
  • the cladding structure may be a diffusely or specularly reflecting layer or layer sequence, for example a metallic coating or a Bragg mirror. This makes it possible to form the light-conducting structures with a non-linear course between the light entrance side and the light exit side and thus to increase the intensity of the light in a predetermined range of failure or outcoupling angles from the luminaire. This can increase the efficiency of the luminaire.
  • the i i cht meetingsden structures on the light entrance side on a first S irnization and on the light exit side on a second end face, wherein the total area of the end faces of the light exit side is greater than the total area of the end faces of the light entry side.
  • the total area of the surfaces of the light exit side is at least approximately 30% greater than the total area of the end faces of the light exit side
  • the substrate on the light exit side and / or the light entry side on a substantially closed and / or flat surface.
  • the light exit side has a substantially planar surface.
  • the substrate has a substantially closed surface on the light exit side.
  • the substrate has a substantially closed surface on the light side.
  • the first electrode layer is formed directly on the light entry side of the anti-glare structure.
  • the Entblendungsstruk ur is designed such that light with a Ausfailswinkel of a maximum of about 60 0 is emitted from the light exit side.
  • the luminaire is designed as a surface light source for general lighting, for example as an office luminaire.
  • the object is achieved according to a further aspect of the invention by a method for the manufacture len a luminaire.
  • the method comprises forming a translucent substrate having a de-glare structure.
  • the debinder structure has a light entrance side and a light exit side opposite to the light entrance side
  • the method further comprises forming a translucent, first electrode layer on or above the light entry side of the substrate.
  • the method comprises forming an organic functional layer structure for emitting light, on or above the light-transmissive, first electrode layer.
  • the method comprises forming a second electrode layer on or above the organically functional layer structure.
  • the forming of the anti-glare structure comprises forming the substrate with a plurality of holes.
  • the plurality of holes extend from the light entrance side toward the light exit side.
  • forming the debonding structure comprises forming a plurality of holes in the substrate.
  • the plurality of holes extend from the light entrance side toward the light exit side.
  • the forming of the anti-glare structure comprises a mirroring of the plurality of holes in the substrate.
  • Blinding structure further comprises filling the plurality of holes with a translucent material. Furthermore, the method can analogously have features of the luminaire and vice versa.
  • Figure 1 is a schematic cross-sectional view of a lamp according to various aspects
  • Figure 2 is a schematic cross-sectional view of a
  • Figure 3A is a table
  • Figure 3B is a schematic cross-sectional view of
  • Figure 4 is a schematic plan view of a substrate according to various embodiments.
  • Figure 5A, B are schematic cross-sectional views of a
  • FIGS. 6A, B show flowcharts of methods for
  • connection As used herein, the terms “connected,” “connected,” and “coupled” are used to describe both direct and indirect connection, direct or indirect connection, and direct or indirect coupling.
  • connection As used herein, the terms “connected,” “connected,” and “coupled” are used to describe both direct and indirect connection, direct or indirect connection, and direct or indirect coupling.
  • identical or similar elements are provided with identical reference numerals, as appropriate.
  • a luminaire can have one, two or more optoelectronic components.
  • Assembly also have one, two or more electronic components.
  • An electronic component can, for example, an active and / or a passive component on iron.
  • An active electronic component can have, for example, a computing, control and / or regulating unit and / or a transistor.
  • a passive electronic component may, for example, a capacitor, a resistor, a diode or a coil on iron.
  • An optoelectronic component can be an electromagnetic
  • An electromagnetic radiation-absorbing component can be, for example, a solar cell or a photodetector.
  • a component emitting electromagnetic radiation may be a semiconductor component emitting electromagnetic radiation and / or an electromagnetic component Radiation emitting diode to be formed as an organic electromagnetic radiation emitting diode, as a electromagnetic radiation emitting transistor or as an organic electromagnetic radiation emitting transistor.
  • the radiation may, for example, be light in the visible range, UV light and / or infrared light.
  • the electromagnetic radiation emitting device may be formed, for example, as a light emitting diode (LED) as an organic light emitting diode (OLED), as a light emitting transistor or as an organic light emitting transistor.
  • the light emitting device may be part of an integrated circuit in various embodiments. Furthermore, a plurality of light-emitting components may be provided, for example, accommodated in a common housing, FIG. 1 shows a schematic cross-sectional view of a lamp 100 according to various embodiments.
  • Luminaire 100 is designed for example as a surface light source for general lighting, for example as an office lamp 100,
  • the luminaire 100 has a light-transmitting substrate 102 with a glare-shielding structure 130.
  • the anti-glare structure 130 has a light entrance side 118 and a light exit side 120 opposite the light entry side 118.
  • the light entrance side 118 refers to the side of the substrate 102 to which light (illustrated as arrow 140 in FIG. 1) generated in the luminaire 100 is incident on the substrate 102.
  • the light exit side 120 is to be understood as the side of the substrate 102 from which the light 140 generated in the luminaire 100 is radiated into the luminaire-external environment, for example a room to be illuminated. is decoupled.
  • the light entrance side 118 and the light exit side 120 may, for example, be regarded as end faces of a cylindrical or frusto-conical structure or have their end faces.
  • a shell structure is arranged, which will be described in more detail below.
  • This shell structure and / or one or both end faces can have a non - rotat ionssymmetrische form, alternative ", instead of the frustoconical or cylindrical structure may be formed also other symmetrical shape whose end faces the light input side 118 and the light output side 120 and comprise, as Example is called the form of a parallelepiped.
  • the anti-glare structure 130 is formed such that
  • Light 140 with a predetermined maximum angle of reflection for example, a maximum of about 60 °, with a predetermined maximum intensity from the light exit side 120 is emissive (in FIG. 1, the arrow is illustrated with an angle of 0 °), This can be prevented For example, persons in the illuminated space at an angle of incidence, which is greater than the predetermined, maximum angle of emergence and compared to a conventional light fixture without glare structure described above, of the light emitted by the lamp
  • Angle of error which is smaller than the predetermined angle, is increased.
  • the debonding structure 130 for example by means of a channeling of the light which is coupled into the light-conducting structures 130 from the light entry side 118.
  • the light-conducting structures 132 have a first end face on the light entry side 118 and a second end face on the light exit side 120, wherein the total area of the end faces of the light exit side 120 is greater than the total area of the end faces of the light entry side 118 End surfaces of the light exit side 120 is at least about 30% larger than the total area of the end faces of the light entrance side 118. This allows the intensity of the light that he un sited an angle from the Lichtaustrit s Design 120 from the lamp 100 is smaller than 1500 nits , This prevents observers from being blinded by the light 140 of the lamp 100 under such a viewing angle.
  • the debonding structure 130 has, for example, a plurality of light.
  • Lei end structures 132 which extend between the light entrance side 118 and the light exit side 120 and these optically connect together.
  • the plurality of light-emitting structures 132 are embedded in a matrix 112, respectively. arranged therein.
  • the light-conducting structures 132 each have, for example, a light-transmissive core structure 114 and one of the core structures.
  • the shell structure 116 j edoch a non-linear course from the light entrance side 118 toward Lichtaustrit sseite 120, for example, a concave profile, a convex curve, a curved course, a course with one or more kinks and / or steps, and a combination of such courses, beispielswei se arranged in sections successively or superimposed.
  • the substrate 102 has, for example, on the light exit side 120 and / or the Lxchteinhoffsseite 118 has a substantially closed and / or planar surface.
  • the light exit side 120 has a substantially planar surface.
  • the substrate 102 has a substantially closed surface on the light exit side 120.
  • the substrate 102 has a substantially closed surface on the light entry side 118,
  • the luminaire 100 also has an active region 110.
  • the active region is an electrically and / or optically active region.
  • the active region is, for example, the region of the luminaire 100 in which electrical current flows for operation of the luminaire 100 and / or in which electromagnetic radiation is generated or absorbed.
  • the active area 110 has a translucent first one
  • Electrode layer 104 formed on or above the light entrance side 118 of the substrate 102 ,.
  • the first electrode layer 104 is formed, for example, directly on the light entry side 118 of the anti-glare structure 130 or the substrate 102.
  • the active region 110 further has an organic functional layer structure 106 formed for emitting light 140, which is formed on or above the light-transmissive, first electrode layer 104. In other words, in the organic functional layer structure 106, the emissive light 140 becomes the
  • Luminaire 100 generated.
  • the active region 110 furthermore has a second electrode layer 108 formed on or above the organically functional layer structure 106.
  • FIG. 2 shows a schematic cross-sectional view of a luminaire 100 according to various embodiments.
  • luminaire 100 may essentially correspond to the luminaire illustrated in FIG. 1, wherein further aspects of luminaire 100 are illustrated in FIG.
  • the luminaire 100 has the substrate 102 described above.
  • the substrate 102 is at least partially transient or transparent, for example at least the light-conducting structures of the anti-glare structure.
  • the substrate 102 may be, for example, plastic, metal,
  • the matrix may comprise or be formed from a metal.
  • the substrate 102 may include or be formed from a plastic film or laminate having one or more plastic films.
  • the substrate 102 may be mechanically rigid or mechanically flexible.
  • the active region On the substrate 102, the active region is formed.
  • the active region has the first electrode layer 104, which has a first contact section 16, a second contact section 18 and a first electrode 20.
  • the first electrode layer 104 may also be a part of the substrate 104.
  • Between the substrate 102 and the first electrode layer 104 may be a first, not shown, barrier layer, for example a first
  • the matrix 112 of the substrate 102 comprises or is formed of a metal.
  • the substrate 102 is formed as a metal foil or a metal sheet, and the photoconductive structures 132 are formed therein as holes.
  • the matrix 112 comprises or is formed from a non-metallic glass.
  • a non-metallic glass is, for example, an inorganic glass or an organic glass.
  • the plurality of photoconductive structures 132 are embedded in the matrix 112, for example, by forming the structures in the matrix.
  • the optical structures 132 are formed as holes in a matrix 112.
  • the optical fibers are non-conductive
  • Structures 132 are formed as metal-coated holes in the substrate 102.
  • the photoconductive structures 132 are formed in the substrate 102 as metal-coated holes filled with a transparent material.
  • the substrate 102 has a plurality of openings on the light exit side 120, and in each case one opening of the plurality of openings is connected to a respective light-conducting structure of the plurality of light-conducting structures 132.
  • the luminaire 100 further comprises a translucent planarization layer.
  • the first electrode 20 is electrically insulated from the first contact portion 16 by means of an electrical insulation barrier 21.
  • the second contact portion 18 is electrically coupled to the first electrode 20.
  • the first electrode 20 may be formed as an anode or as a cathode.
  • the first electrode 20 is designed to be translucent or transparent.
  • the first electrode 20 comprises an electrically conductive material, for example metal and / or a conductive conductive oxide (TCO) or a layer stack of several layers comprising metals or TCOs.
  • the first electrode 20 may comprise a layer stack of a combination of a layer of a metal on a layer of a TCO, or vice versa.
  • An example is a layer of silver on one Indium TM tin oxide layer (ITO) is applied (Ag on ITO) or ITO-Ag ITO multi-layers.
  • the first electrode 20 may alternatively or additionally comprise said materials; Networks of metallic anodic wires and particles, for example of Ag, networks of carbon nanotubes, graphene particles and layers and / or networks of semiconducting nanowires.
  • the organic functional layer structure 106 is arranged to emit light.
  • Layer structure 106 may include, for example, one, two, or more sublayers.
  • the organic functional layer structure 106 may comprise a hole injection layer, a hole transport layer, an emitter layer, an electron transport layer and / or an electron injection layer.
  • Hole injection layer serves to reduce the band gap between first electrode 20 and hole transport layer.
  • the hole conductivity is larger than the electron conductivity.
  • the hole transport layer serves to transport the holes.
  • Electron transport layer the electron conductivity is greater than the hole conductivity.
  • the electron transport layer serves to transport the electrons.
  • the electron injection layer serves to reduce the band gap between the second electrode and the electron transport layer.
  • the organic functional layer structure 106 may include a "two or more functional layers structure units each having the above-mentioned sub-layers and / or other intermediate layers.
  • the second electrode layer 108 is formed, which may also be referred to as second electrode 108.
  • the second electrode 108 is electrically coupled to the first contact portion 16.
  • the second electrode 108 may be made according to any one of Embodiments of the first electrode 20 may be formed, wherein the first electrode 20 and the second electrode 108 may be formed the same or different.
  • the first electrode 20 serves, for example, as the anode or cathode of the active region.
  • the second electrode 108 serves as a cathode or anode of the active region corresponding to the first electrode,
  • a getter structure (not shown) may be arranged on or above the active area.
  • the getter layer can be translucent, transparent or opaque.
  • the getter layer may include or be formed of a material that absorbs and binds substances that are detrimental to the active area.
  • an encapsulation layer 24 of the active region is formed, which encapsulates the active region.
  • the encapsulation layer 24 may serve as a second barrier layer, for example as a second barrier layer
  • Encapsulation layer 24 may also be referred to as thin-layer encapsulation.
  • the encapsulation layer 24 forms a barrier to chemical contaminants or atmospheric agents, in particular to water (moisture) and oxygen.
  • the encapsulation layer 24 may be formed as a single layer, a layer stack or a layer structure.
  • the encapsulation layer 24 may include or be formed from: aluminum oxide, zinc oxide, zirconium oxide, titanium oxide, hafnium oxide, tantalum oxide, lanthanium oxide, silicon oxide, silicon nitride,
  • the first barrier layer on the substrate 102 corresponding to a configuration of
  • Encapsulation layer 24 may be formed. In the encapsulation layer 24 are above the first
  • Encapsulation layer 24 a first contact region 32 is exposed and in the second recess of the encapsulation layer 24, a second contact region 34 is exposed.
  • the first contact region 32 serves to electrically contact the first contact section 16, and the second contact region 34 serves to electrically contact the second contact section 18.
  • An adhesive layer 36 is formed over the encapsulation layer 24.
  • the adhesive medium layer 36 has, for example, an adhesive, for example an adhesive, for example a laminating adhesive, a lacquer and / or a resin.
  • the adhesive layer 36 may comprise, for example, particles which scatter electromagnetic radiation, for example light-scattering particles.
  • a cover body 38 is formed over the adhesive layer 36.
  • the adhesive layer 36 serves to attach the cover body 38 to the encapsulation layer 24.
  • the cover body 38 has, for example, plastic, glass and / or metal.
  • the covering body 38 may essentially be formed from glass and have a thin metal layer, for example a metal foil, and / or a graphite layer, for example a graphite laminate, on the glass body.
  • the cover body 38 serves to protect the conventional optoelectronic component 1, for example against mechanical forces from the outside. Further, the cover body 38 may serve for distributing and / or dissipating heat generated in the conventional optoelectronic component 1.
  • the glass of the covering body 38 can serve as protection against external influences and the metal layer of the covering body - 13 -
  • FIG. 3A shows a table
  • FIG. 3B is a schematic cross-sectional view for illustrating a
  • the luminaire 100 can essentially correspond to an embodiment described above.
  • the photoconductive structure 132 is over an emitting surface
  • the Lichtaustri tsflache 120 of the substrate may be planar and planar.
  • the light exit surface 120 is arched, for example in the form of an opti Fixed lens.
  • the interface of the photoconductive structures 132 to the matrix is reflective of the light conducted in the light-conducting structure that is emissive of the active region.
  • the cladding structure is the interface between the material of the core structure and the matrix.
  • the sheath structure is a mirror structure, for example a metallic coating or a Bragg mirror.
  • a metallic coating may have a high reflectivity for the emit light of the active region, for example a reflectivity greater than about 90%, for example greater than about 95%, for example greater than about 97%.
  • the metallic coating comprises silver or aluminum.
  • a photoconductive structure 132 overhangs the respective emission area 118 of the active area on the light exit surface 120 (in one direction by the amount of the dimension of the overlap slurry 320 - the length of 118).
  • the light-conducting structures have a non-linear course from the light entry surface or emission surface 118 to the light exit slit 120.
  • the light-conducting structures have a kink or a curvature in the. Course through the substrate and are, for example, concave and / or convex shaped.
  • the diameter of the light-emitting structures increases continuously in the direction of the light-emitting surface emitting surface 118.
  • the light-conducting structures 132 seen in cross-section, each have two straight line sections which are separated by a bend.
  • FIG. 3A shows a table 11 e for different angles of incidence theta or ⁇ of the light conducted in the light-conducting structures on the interface between substrate and air, ie the angle of incidence of the light on the emission surface 118 or light exit 118 (3), an angle of incidence i in a range of 0 ° to ma imal of 34.73 ° is required for a photoconductive structure having a refractive index of 1.52 in order for the light to have a maximum angle of 60 ° and thus to Luminous 100 is glare-free for office applications. It is achieved by the light-conducting structures 132 of the transmission structure that the light 100 is glare-free for emission angles above a glare angle ⁇ . Furthermore, different overlap slurries 320 and heights 310 of the light conducting structures are shown in the table in FIG. are also illustrated in FIG.3B in the cross-sectional view.
  • the size of the radiation surface 120 and the height 310 of the optical structures 132 depend on the size and shape of the corresponding emission surface 118.
  • the maximum height 310 of the light-conducting structures 132 results from the overlap width D:
  • the glare angle cc is for example given by the Bestiramungs divide the lamp 100, for example, 60 ° in an office room lighting.
  • the height 310 of the photoconductive structures is approximately equal to the thickness of the substrate. It can be seen from the table of FIG. 3A that for different heights of the photoconductive structures, i. For example, for different thicknesses of substrates, given overlap widths 320 may result. Essentially, there is no light from the luminaire 100
  • the cells each have a maximum height 310 and a non-linear, for example concave, edge.
  • the maximum height 310 may be the same for all photoconductive structures or may vary.
  • the reflective mantle structure of the photoconductive structures causes the optically active area of the luminaire, that is, the entire optically active area of the light exit side 120 to be enlarged to the entire optically active area of the light entrance side 118, for example, by 30% to 35 %, as shown in (1) or (2).
  • the determination of the height 310 of the light-conducting structures is thus required.
  • the height 310 can be calculated by (4) if the angle of light ⁇ is known.
  • the overlap width 320 may be set to give typical thicknesses of glass substrates for the height 310 of the photoconductive structures, ie, the height 310 may be adjusted using the overlap width 320.
  • FIG. shows a schematic plan view of a substrate according to various embodiments. Illustrated is the anti-glare structure with light-guiding structures 132 in a mat 112.
  • the anti-glare structure in various embodiments, has light-conducting structures 132 with a circular cross-section, which are arranged in a lattice-like manner.
  • the luminaire for which the substrate illustrated in FIG. 4 belongs can essentially correspond to an exemplary embodiment described above.
  • the Lich conductive structures can also be referred to as pixels.
  • the respective Lich conductive structures 132 may have the same radius or diameter and may be arranged regularly to each other.
  • the matri 112 is formed or arranged and connects the conductive structures 132 with each other.
  • the the matrix. 112 is illustratively an optically inactive blank surface over which no light from the underlying active region can be emitted.
  • the photoconductive structures 132 may be arranged to each other such that a current distribution structure of the active region is substantially covered, for example, in an arrangement according to a closest packing. In this way, it is possible, for example, to cover 33% of the surface of the luminaire with the current distribution structure and through the deconstruction structure. For example, luminaires with a size of 50 x 50 cm 2 can be produced and de-fused with the anti-glare structure.
  • the photoconductive structures 132 may have a square cross-section.
  • the photoconductive structures 132 may be arranged in a hexagonal or polygonal configuration.
  • the light-guiding structures 132 or pixels can be arranged with a smaller variation than for example in a square or circular arrangement.
  • the current distribution structure may also be hexagonal, so that a hexagonal arrangement covers the current distribution structure without forming larger, optically inactive empty areas.
  • the light-conducting structures 132 may have further basic patterns or polygons.
  • the Lich conductive structures 132 may have a triangular, square, oval or pentagonal cross section in plan view.
  • the cross-sectional shape of the photoconductive structures 132 may be different across the grid and may also describe different geometric figures. In this way, there is a greater freedom in the design of the lamp.
  • the lamp may have a curved Lichtaustrittstlache and the Iicht missionsden structures could tsform in their Querschni and / or their arrangement to each other adapted to this curvature, for example, to visually enhance or compensate.
  • 1 icht is differently trained and / or arranged.
  • Structures are presented an information For example, a pictogram, ideogram, symbol, lettering, image or the like.
  • FIG. 5A, B show a schematic cross-sectional views of a substrate according to various embodiments.
  • exemplary beam paths of different angles are shown to the horizontal, the Entblendungsfunktion the light conductive structures 132 illustrate (502: 22 °; 504: 37 °; 506; 30 °; 508; 41 0; 510; 34 ° ⁇ .
  • FIG. 5A shows a light-emitting structure with a linear progression from the light entry surface to the light exit surface.
  • the light-emitting structure i FIG. 5B at the same height has a kink in the course of the light entry surface to the light exit surface and thus a non-linear course.
  • the Abstrahlt pool 118 and the height 310 are set as described above.
  • the luminaire to which the light-conducting structure illustrated in FIGS. 5A, B belongs can substantially correspond to an embodiment described above.
  • the reflective edge of the light-guiding structure 132 is formed in cross-section by a single straight line section. This results in the radiation, starting from a point at a corner of the emission surface 118, an emission limit angle of 30 °, By specular reflection on the reflective edge of the photoconductive structure but also beams 502 with a much smaller angle, for example, 22 °, emitted as illustrated in FIG. 5B. This can be reduced by the kink in the reflective edge of the Iicht meetden structure.
  • the non-linear course of the light-emitting structures thus causes an increase in the intensity of the light with an angle below the predetermined maximum angle, for example, 60 0 , is emissive.
  • the light-conducting structures may each have fundamentally different courses from the light entrance surface to the light exit surface. However, the number of possible progressions is limited by the height 310 and the overlap width 320 of the light-conducting structures.
  • FIGS. 6A, B show flowcharts of a method 600 for producing a luminaire according to various
  • the luminaire may essentially correspond to an embodiment described above.
  • the method comprises forming 602 a translucent substrate having a de-glare structure.
  • the anti-glare structure has a Lichteintri11sseite and a de light entry side opposite light exit side.
  • the method 600 further comprises forming 604 a translucent, first electrode layer on or above the light entry side of the substrate. Furthermore, the method 600 includes forming 606 an organic functional layer structure for emitting light, on or above the light-transmissive, first electrode layer. Furthermore, the method 600 comprises forming 608 a second electrode layer on or above the organic radioactive layer structure.
  • forming the anti-glare structure comprises forming 614 the substrate having a plurality of holes 622.
  • the plurality of holes 622 extend from the light entrance side toward
  • a substrate 102 as Matrix 112 or provided from a matrix material 612.
  • holes 622 are formed in the matrix, for example by means of a laser ablation, a CNC milling machine or a particle beam method, for example a water jet cutting.
  • forming the debonding structure includes forming 614 a plurality of holes 622 in the substrate.
  • the plurality of holes 622 also extend from the light entrance side toward the light exit side.
  • the matrix 112 is already forming a hole-outside iron, for example by means of an injection molding, a 3D printing.
  • the holes 622 are, as described above, formed with a non-inearen course between the light entrance side and the light exit side.
  • the holes 622 in the matrix 112 of the substrate 102 may already have a non-conductive structure or structure.
  • a translucent planarization structure is applied to the light entrance side and thus closes the openings of the holes 622 and / or forms a substantially planar surface so that the active area of the luminaire can be formed over the openings of the holes .
  • the translucent structure may be, for example, a foil, disc or plate of a non-metallic, organic or inorganic glass.
  • forming the anti-glare structure includes forming 616 a mirror structure 624 on the surface of the matrix. 112 in the holes, ie the walls of the holes are mirrored. As a result, for example, the sheath structure of the light-conducting structures is formed.
  • the light reflective sheath structure 116 is reflective to at least one wavelength range of the emissive light of the luminaire. Additionally or alternatively, the light-reflecting sheath structure 116 is designed to be diffusely reflecting for at least one wavelength range of the emissable light of the luminaire.
  • the mirror structure 624 has, for example, a metal layer, for example, the walls of the holes are mirrored. Alternatively or additionally, the mirror structure 624 has, for example, a Bragg reflector, for example, at least two dielectric layers with different ones are formed on the walls
  • forming the anti-glare structure further includes filling 618 the plurality of holes 622 with a translucent material 626.
  • the translucent material 626 is translucent, i. optically conductive, for at least a portion of the light emitted by the lamp light.
  • the translucent material 626 is a non-metallic, organic or organic glass, for example a polymer or a metal oxide ceramic.
  • Example 1 is a luminaire comprising: a translucent substrate having a defogging structure, the antiglare structure having a light entrance side and a light entrance side opposite
  • Example 2 the luminaire of Example 1 optionally comprises the antiglare structure having a plurality of photoconductive structures extending between the
  • Light entrance side and the light exit side extend and connect these optically with each other.
  • the luminaire of Example 1 optionally has the fact that the light-conducting structures each have a translucent core structure and a light-reflecting sheath structure surrounding the core structure.
  • Example 4 the luminaire of Example 2 or 3 optionally has the cladding structure having a non-linear course from the light entrance side to the light exit side,
  • the luminaire of one of examples 2 to 4 optionally has the fact that the light-conducting structures have a first end face on the light entry side and have a second end face on the light exit side, wherein the total area of the end faces of
  • Light exit side is greater than the total area of the end faces of the light entrance side.
  • Example 6 the luminaire of Example 5 optionally has the total area of the end faces of the
  • Light exit side is at least about 30% larger than the total area of the end faces of the light entrance side.
  • Example 7 the luminaire of one of Examples 1 to 6 optionally has the substrate having a substantially closed and / or planar surface on the light exit side and / or the light entry side.
  • Example 8 the luminaire of any one of Examples 1 to 6 optionally includes the first electrode layer directly on the first electrode layer
  • Example 9 Light entry side of the anti-glare structure is formed.
  • the luminaire of any one of Examples 1 to 8 optionally includes that the anti-glare structure is formed such that light having a projection angle of at most approximately 60 ° is emitted from the light exit side.
  • Example 10 the luminaire of one of Examples 1 to 9 optionally has the luminaire as a surface light source for general illumination, in particular as an office luminaire.
  • Example 11 is a method of manufacturing a luminaire. The method comprises: forming a substrate having a glare-deficient structure, the glare-reduction structure having a light entry side and a light exit side opposite the light entry side; Forming a translucent, first electrode layer on or above the light input side of the substrate; Forming an organic functional layer structure for emitting light, onto or over the translucent first electrode layer; and forming a second electrode layer or over the organic functional layer structure.
  • Example 12 the method of Example 11 optionally includes forming the deblast structure to form the substrate having a plurality of holes, the plurality of holes extending from the light entrance side toward the light exit side.
  • the method of Example 11 optionally includes forming the debonding structure including forming a plurality of holes in the substrate, wherein the several holes from the light entrance side to the light exit side. extend.
  • Example 14 the process of any of Examples 11 to
  • the forming the deblast structure includes a lobe of the plurality of holes in the substrate.
  • Example 15 the process of any of Examples 11 to
  • that forming the anti-glare structure further comprises filling the plurality of holes with a light-transmissive material.
  • the luminaire may have a plurality of active regions arranged on or above a common substrate.
  • the multiple active areas may be arranged in a common encapsulation structure.
  • the multiple active areas may be the same or different, for example emit light of different color valence.

Landscapes

  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • General Engineering & Computer Science (AREA)
  • Electroluminescent Light Sources (AREA)

Abstract

In verschiedenen Ausführungsbeispielen wird eine Leuchte bereitgestellt, Die Leuchte weist ein lichtdurchlässiges Substrat mit einer Entblendungsstruktur auf, wobei die Entblendungsstruktur eine Lichteintrittsseite und eine der Lichteintrittsseite gegenüberliegende Lichtaustrittsseite aufweist; eine lichtdurchlässige, erste Elektrodenschicht, die auf oder über der Lichteintrittsseite des Substrates ausgebildet ist; eine zum Emittieren, von Licht ausgebildete organisch funktionelle Schichtenstruktur, die auf oder über der lichtdurchlässigen, ersten Elektrodenschicht ausgebildet ist; und eine auf oder über der organisch funktionellen Schichtenstruktur ausgebildete zweite Elektrodenschicht.

Description

LEUCHTE UND VERFAHREN ZUM HERSTELLEN EINER LEUCHTE
BESCHREIBUNG Die Erfindung betrifft eine Leuchte und ein Verfahren zum Herstellen einer Leuchte.
Flächenlichtquellen wie organische Leuchtdioden emittieren
Licht in einen weiten Raumwinkel von bis zu 180° hinein. Oft ist jedoch eine definierte Strahlfuhrung erwünscht, um die Lichtquelle zu entblenden oder um Objekte gezielter zu beleuchten.
Bei organischen Leuchtdioden handelt es sich um Flächenlichtquellen, die näherungsweise Lambert' sehe Emitter sind. Das heißt, die Leuchtdioden strahlen näherungsweise mit einer cos2 Θ - Charakteristik ab, wobei Θ den Emissionswinkel bezeichnet. Somit wird von organischen Leuchtdioden auch ein signifikanter Strahlungsanteil bei Winkeln nahezu parallel zu einer Emissionsfläche emittiert. Andererseits sind die Beleuchtungsbedingungen, beispielsweise für Büroräume, normiert und geregelt. So darf beispielsweise bei Winkeln oberhalb von 60° eine Leuchtdichte nicht oberhalb von 1500 nits liegen. Dies limitiert die Betriebsleuchtdichte einer lambertschen Leuchte mit einer organischen Leuchtdiode auf ma . 1500 nits. Mit anderen Worten muss eine Lichtquelle, etwa für eine Bürobeleuchtung, zu großen Emissionswinkeln hin entblendet sein. Zur En blendung von Flächenlichtquellen sind beispielsweise Strahlformungsfolien, (Jungbecker) Platten oder makroskopische Elemente wie Bleche und Reflektoren bekannt. Beispielsweise werden bei herkömmlichen organischen Leuchtdioden eine Strahlformungsfolie auf die organische Leuchtdiode aufgelegt und mit einer lichtstreuenden Schicht versehen. Solche Lösungen führen meist zu signifikanten Lichtverlusten. Beispielsweise führt die Entblendung einer organischen Leuchtdiode mit einer- Strahlformungsfolie von 80 % Ref lektivität zu einem Effizienzverlust von ca. 25 % . Platten und Bleche bedürfen einer aufwendigen Hersteilung und schränken oftmals durch ihre Größe das Design der Lichtquellen ein und können zudem die Ästhetik unerwünscht beeinflussen.
Ein weiteres Problem bei effizienter Entblendung liegt in der Entendueerhaltung . Eine Verminderung des Entendue ohne Se lbs be1 eutung der Quelle ist stets mit einem Verlust von Licht verbunden. Entendue wird bei rotationssymmetrischer Emission durch den Zusammenhang
Figure imgf000004_0001
beschrieben, wobei n den Brechungsindex der Schicht ist (im Folgenden n = 1) , in der das Licht aktuell geführt wird; Θ den Emissionswinkel und A die Emissionsfläche bezeichnen. Typische Emissionswinkel Θ sind beispielsweise:
- Θ = 15°, für einen Spot mit 30° Durchmesser,
- Θ = 90°, für eine Lambert/ sehe OLED, und
- Θ = 60°, für eine entblendete OLED mit einem Entblendungswinkel α und = Θ.
Um eine Leuchte ohne Verlust entblenden zu können, ist es notwendig , das Entendue gemäß dem obenstehenden Zusammenhang zu erhalten. Für eine Lambert ' sehe OLED mit einer Emissionsfläche A von 100 cm2 ergibt sich ein Entendue von 707 cm2 sr. Für eine Entblendung auf 60° sollte die Fläche A entsprechend auf ~ 134 cm2 erhöht werden, um in etwa denselben Entendue-Wert zu erreichen.
Alternativ kann die Flächenänderung über folgende Formel berechnet werden:
Figure imgf000004_0002
Aus einer Änderung von Θ = 90° zu Θ = 60 ° ist ersichtlich, dass die Flächenänderung einer Zunahme um 33 % entspricht , um eine Entblendung einer Leuchte mit einer organischen
Leuchtdiode zu erreichen,
Allgemein gilt, dass Licht , welches aus einem optisch dichteren Medium austritt (hier Medium 1 mit Brechungsindex ni, beispielsweise ni = 1,52} und z.B. in Luft übergeht (hier Medium 2 mit Brechungsindex n2 = 1) vom Lot weggebrochen wird .
Dabei gilt für den Ausfallswinkel
(3) cx2 = aresin (ni/n2*sin ti) wobei ι der Einfallswinkel in dem Medium 1 auf die Grenzfläche zwischen Medium 1 und Medium 2 ist.
Es ist somit erforderlich das von der Leuchte emittierte Licht innerhalb des Mediums 2 auf einen kleineren Winkel einzuschränken, damit sich das Licht außerhalb des Mediums 2 mit einem vorgegebenen Winkel, beispielsweise maximal 60 ° , ausbreiten kann. Zur Entblendung einer Leuchte kann es beispielsweise erforderlich sein, das emittierbare Licht der Leuchte auf einen Winkelbereich des Ausfallswinkels von 0° bis 60° zum Lot zu beschränken. Aus (3) ergibt sich somit ein Winkelbereich für den Einf llswinkel auf die Grenzfläche von Medium 2 zu Medium 1, beispielsweise Glas zu Luft, von 0 ° bis 34, 73 0.
Eine Aufgabe der Erfindung ist es eine Leuchte mit einem und ein Verfahren zum Herstellen derselben bereitzustellen, die eine höhere Effizienz im entblendeten Zustand aufweist.
Die Aufgabe wird gemäß einem Aspekt der Erfindung gelöst durch eine Leuchte. Die Leuchte weist ein lichtdurchlässiges Substrat mit einer Entbiendungsstruktur auf . Die Entblendurigsstruktur weist eine Lichteintrittsseite und eine der Lichteintrittsseite gegenüberliegende Lichtaustrittsseite auf. Die Leuchte weist weiterhin eine lichtdurchlässige, erste Elektrodenschi ch auf, die auf oder über der Lichteintrittsseite des Substrates ausgebildet . Die Leuchte weist weiterhin eine zum Emittieren von Licht ausgebildete organisch funktionelle Schichtenstruktur auf, die auf oder über der lichtdurchlässigen, ersten Elektrodenschicht ausgebildet. Die Leuchte weist weiterhin eine auf oder über der organisch f nktionellen Schichtenstruktur ausgebildete zweite Elektrodenschicht auf.
Dies ermöglicht es, eine entblendete Leuchte mit einer planen Lichtaustrittsfläche bereitzustellen. Zudem kann somit eine sehr effiziente Entblendung mit einer Effizienz von mehr als 95 % realisiert werden. Weiterhin kann bei der entblendeten Leuchte eine geringere Bauelementehöhe realisiert werden.
Gemäß einer Weiterbildung weist die Entblendungsstruktur mehrere lichtleitende Strukturen auf, die sich zwischen der Lichteintrittsseite und der Lichtaustrittsseite erstrecken und diese miteinander optisch verbinden.
Dies ermöglicht es, dass von der aktiven Struktur emittierbar durch vorgegebene Bereiche in dem Substrat durch das Substrat zu leiten und die Eigenschaften der licht leitenden Strukturen bzw. Bereich gezielt einzustellen .
Gemäß einer Wei terbi 1dung weisen die licht leitenden Strukturen jeweils eine 1 ichtdurchlässige Kern- Struktur und eine die Kern- Struktur umgebende , lichtreflektierende Mantel - Struktur auf .
Dies ermöglicht eine Lichtlei tung durch die 1 i chtleitenden Strukturen ähnlich einem Wellenleiter . Die Mante1 - Struktu kann eine Grenzfläche , beispielsweise ine hochreflektierende oder totalref 1 ektierende Grenzfläche für Licht oberhalb eines vorgegebenen Einfallswinkels sein. Alternativ oder zusätzlich kann die Mantelstruktur eine diffus oder spekular reflektierende Schicht oder Schichtenfolge sein, beispielsweise eine metallische Beschichtung oder ein Bragg Spiegel. Dies ermöglicht es, die lichtleitenden Strukturen mit einem nicht-linearen Verlauf zwischen der Lichteintrittsseite und der Lichtaustrittsseite auszubilden und somit die Intensität des Lichts in einem vorgegebenen Bereich an Ausfalls™ bzw. Auskoppelwinkeln aus der Leuchte zu erhöhen. Dadurch kann die Effizienz der Leuchte erhöht werden.
Gemäß einer Weiterbildung weist die Mantel -Struktur von der
Lichteintrittsseite zur Lichtaustrittsseite einen nichtlinearen Verlauf auf .
Dies ermöglicht es, die Intensität des Lichts in einem vorgegebenen Bereich an Ausfalls- bzw. Auskoppel inkeIn aus der Leuchte zu erhöhen . Dadurch kann die Ef izienz der Leuchte erhöht werden .
Gemäß einer Weiterbildung weisen die i i chtleitenden Strukturen auf der Lichteintrittsseite eine erste S irnfläche auf und auf der Lichtaustrittsseite eine zweite Stirnfläche auf , wobei die Gesamtfläche der Stirnflächen der Lichtaustrittsseite größer ist als die Gesamtfläche der Stirnflächen der Lichteintrittsseite .
Dies ermöglicht es den Entendue- Wert zu erhalten . Weiterhin kann dadurch die Intensität des Lichts oberhalb eines vorgegebenen AusfallsWinkels aus der Leuchte zu reduzieren, d.h. die Leuchte zu entblenden .
Gemäß einer Weiterbi1dung ist die Gesamtfläche der Sti rnflächen der Lichtaustrittsseite mindestens ungefähr 30% größer ist als die Gesamtfläche der Stirnflächen der
Lichteintrittsseite . Dies ermöglicht es die Leuchte für Büroanwendungen zu entblenden .
Gemäß einer Wei erbildung weist das Substrat auf der Lichtaustrittsseite und/oder der Lichteintrittsseite eine im Wesentlichen geschlossene und/oder plane Oberfläche auf . Beispielsweise weis die Lichtaustrittsseite eine im Wesentlichen plane Oberfläche auf . Alternativ oder zusätzlich weist das Substrat auf der Lichtaustrittsseite eine im Wesentlichen geschlossene Oberf läche auf . Alternativ oder zusätzlich weist das Substrat auf der Lichtein ittsseite eine im Wesentlichen geschlossene Oberfläche auf .
Dies ermöglicht es die Leuchte mit einer hochwertig erscheinenden und/oder leicht zu reinigenden Oberfläche auszubilden .
Gemäß einer Weiterbildung ist die erste Elektrodenschicht direkt auf de Lichteintrittsseite der Entblendungsstruktur ausgebildet .
Gemäß einer Weiterbildung ist die Entblendungsstruk ur derart ausgebildet , dass Licht mit einem Ausfailswinkel von maximal ungefähr 60 0 aus der Lichtaustrittsseite emittierbar ist .
Dies ermöglicht es die Leuchte für Büroanwendungen ohne zusätzliche Entblendungsstruktur zu verwenden .
Gemäß einer Weiterbi1dung wird die Leuchte als eine Flächenlichtquelle zur Allgemeinbeleuchtung ausgebildet , beispielsweise, als eine Büroleuchte .
Die Aufgabe wird gemäß einem weiteren Aspekt der Erfindung gelöst durch ein Verfahren zum Herstel len einer Leuchte . Das Verfahren weist ein Bilden eines lichtdurchlässigen Substrats mit einer Entblendungsstruktur auf . Die Entb1endungsstruktur weist e ne Lichteintrittsseite und eine der Lichteintrittsseite gegenüberl iegende Lichtaustri tsseite auf, Das Verfahren weist ferner ein Bilden einer lichtdurchlässigen, ersten Elektrodenschicht auf oder über der Lichteintrittsseite des Substrates auf. Weiterhin weist das Verfahren ein Bilden einer organisch funktionellen Schichtenstruktur zum Emittieren von Licht, auf oder über der lichtdurchlässigen, ersten Elektrodenschicht auf. Weiterhin weist das Verfahren ein Bilden einer zweiten Elektrodenschicht auf oder über der organisch funktionellen Schichtenstruktur auf.
Gemäß einer Weiterbildung des Verfahrens weist das Bilden der Entblendungsstruktur ein Bilden des Substrats mit mehreren Löchern auf . Die mehreren Löcher erstrecken sich von der Lichteintrittsseite hin zur Lichtaustrittsseite .
In einem alternativen Ausführungsbeispiel des Verfahrens weist das Bilden der Entb1endungsstruktur ein Bilden von mehreren Löchern in dem Substrat auf. Die mehreren Löcher erstrecken sich von der Lichteintrittsseite hin zur Lichtaustrittsseite.
Gemäß einer Weiterbildung des Verfahrens weist das Bilden der Entblendungsstruktur ein Verspiegeln der mehreren Löcher in dem Substrat auf .
Gemäß einer Weiterbildung des Verfahrens weist das Bilden der
Entblendungsstruktur ferner ein Füllen der mehreren Löcher mit einem lichtdurchlässigen Material auf. Ferner kann das Verfahren sinngemäß Merkmale der Leuchte aufweisen und umgekehrt .
Ausführungsbeispiele der Erfindung sind in den Figuren dargestellt und werden im Folgenden näher erläutert.
Es zeigen; Figur 1 eine schematische Querschnittsansicht einer Leuchte gemäß verschiedenen
Ausführungsbeispielen ; Figur 2 eine schematische Querschnittsansicht einer
Leuchte gemäß verschiedenen
Äusführungsbeispielen,
Figur 3A eine Tabelle und
Figur 3B eine schematische Querschnittsansicht zur
Veranschaulichung einer Entblendungsstruktur einer Leuchte gemäß verschiedenen
Ausführungsbeispieien;
Figur 4 eine schematische Aufsicht auf ein Substrat gemäß verschiedenen Ausführungsbeispielen;
Figur 5A, B schematische Querschnittsansichten auf ein
Substrat gemäß verschiedenen Ausführungsbeispieien ; und
Figur 6A, B zeigen Ablaufdiagramme von Verfahren zum
Herstellen einer Leuchte gemäß verschiedenen Ausführungsbeispielen .
In der folgenden ausführlichen Beschreibung wird au die beigefügten Zeichnungen Bezug genommen, die Teil dieser Beschreibung bilden und in denen ur Veranschaulichung spezifische Ausführungsbeispiele gezeigt sind, in denen die E findung ausgeübt werden kann . In dieser Hinsicht wird Richtungsterminologie wie etwa „oben" , „unten" , „vorne" , „hinten" , „vorderes" , „hinteres" , usw. mit Bezug auf die Orientierung der beschriebenen Figu (en) verwendet . Da Komponenten von Ausführungsbeispielen in einer Anzahl verschiedener Orientierungen positioniert werden können, dient die Richtungsterminologie zur Veranschau1ichung und ist auf keinerlei Weise einschränkend . Es versteht sich, dass andere Ausführungsbeispiele benutzt und strukturelle oder logische Änderungen vorgenommen werden können, ohne von dem Schutzumf ng der vorliegenden Erfindung abzuweichen. Es versteht sich, dass die Merkmale der hierin beschriebenen verschiedenen Ausführungsbeispiele miteinander kombiniert werden können» sofern nicht spezifisch anders angegeben, Die folgende ausführliche Beschreibung ist deshalb nicht in einschränkendem. Sinne aufzufassen, und der Schutzumfang der vorliegenden Erfindung wird durch die angefügten Ansprüche definiert .
Im Rahmen dieser Beschreibung werden die Begriffe "verbunden", "angeschlossen" sowie "gekoppelt" verwendet zum Beschreiben sowohl einer direkten als auch einer indirekten Verbindung, eines direkten oder indirekten Anschlusses sowie einer direkten oder indirekten Kopplung . In den Figuren werden identische ode ähnliche Elemente mit identischen Bezugszeichen versehen, soweit dies zweckmäßig ist.
Eine Leuchte kann ein, zwei oder mehr optoelektronische Bauelemente aufweisen. Optional kann eine optoelektronische
Baugruppe auch ein, zwei oder mehr elektronische Bauelemente aufweisen . Ein elektronisches Bauelement kann beispielsweise ein aktives und/oder ein passives Bauelement auf eisen . Ein ak ives elektronisches Bauelement kann beispielsweise eine Rechen- , Steuer- und/oder Regeleinheit und/oder einen Transistor aufweisen. Ein passives elektronisches Bauelement kann beispielsweise einen Kondensator, einen Widerstand, eine Diode oder eine Spule auf eisen . Ein optoelektronisches Bauelement kann ein elektromagnetische
Strahlung emittierendes Bauelement oder ein elektromagnetische Strahlung absorbierendes Bauelement sein. Ein elektromagnetische S rahlung absorbierendes Bauelement kann beispielsweise eine Solarzelle oder ein Fotodetektor sein . Ein elektromagnetische Strahlung emittierendes Bauelement kann in verschiedenen Ausführungsbeispielen ein e1ektromagnetische Strahlung emittierendes Halbleiter- Bauelement sein und oder als eine elektromagnetische Strahlung emittierende Diode, als eine organische elektromagnetische Strahlung emittierende Diode, als ein elektromagnetische Strahlung emittierender Transistor oder als ein organischer elektromagnetische Strahlung emittierender Transistor ausgebildet sein. Die Strahlung kann beispielsweise Licht im sichtbaren Bereich, UV-Licht und/oder Infrarot-Licht sein. In diesem Zusammenhang kann das elektromagnetische Strahlung emittierende Bauelement beispielsweise als Licht emittierende Diode (light emitting diode, LED) als organische Licht emittierende Diode (organic light emitting diode, OLED) , als Licht emittierender Transistor oder als organischer Licht emittierender Transistor ausgebildet sein. Das Licht emittierende Bauelement kann in verschiedenen Ausführungsbeispielen Teil einer integrierten Schaltung sein. Weiterhin kann eine Mehrzahl von Licht emittierenden Bauelementen vorgesehen sein, beispielsweise untergebracht in einem geraeinsamen Gehäuse , FIG.1 zeigt eine schematische Querschnittsansicht einer Leuchte 100 gemäß verschiedenen Ausführungsbei spielen . Die
Leuchte 100 ist beispielsweise als eine Flächenlichtquelle zur Allgemeinbeleuchtung ausgebildet, beispielsweise als eine Büroleuchte 100,
Die Leuchte 100 weist ein lichtdurchlässiges Substrat 102 mit einer Entblendungsstruktur 130 auf .
Die Entblendungsstruktur 130 weist eine Lichteintrittsseite 118 und eine de Lichteintrittsseite 118 gegenüberliegende Lichtaustrittsseite 120 auf . Die Lichteintrittsseite 118 bezieht sich auf die Seite des Substrates 102 , auf die Licht (in FIG.1 als Pfeil 140 veranschaulicht) , das in der Leuchte 100 erzeugt wird, auf das Substrat 102 einfällt . Entsprechend ist die Lichtaustrittseite 120 als die Seite des Substrates 102 zu verstehen, von der das in der Leuchte 100 erzeugt Licht 140 in die Leuchten-externe Umgebung , beispielsweise einen zu beleuchtende Raum, abgestrahlt wird bzw. ausgekoppelt wird. Die Lichteintrittsseite 118 und Lichtaustrittsseite 120 können beispielsweis als Stirnflächen einer zylinderförmigen oder kegelstumpfförmigen Struktur aufgefasst werden bzw. deren Stirnflächen aufweisen. Zwischen den Stirnflächen ist ähnlich einem Zylinder eine Mantel- Struktur angeordnet, die unten noch ausführlicher beschrieben wird. Diese Mantelstruktur und/oder eine oder beide Stirnflächen können eine nicht - rotat ionssymmetrische Form, Alternativ kann» anstelle der kegelstumpfförmigen oder zylinderförmigen Struktur, auch eine andere symmetrische Form ausgebildet sein, deren Stirnflächen die Lichteintrittsseite 118 und die Lichtaustrittsseite 120 sind bzw. aufweisen, als Beispiel sei die Form eines Parallelepipeds genannt. Die Entblendungsstruktur 130 ist derart ausgebildet, dass
Licht 140 mit einem vorgegebenen, maximalen Ausfallswinkel , beispielsweise maximal ungefähr 60 °, mit einer vorgegebenen, maximalen Intensität aus der Lichtaustrittsseite 120 emittierbar ist (in FIG.l ist der Pfeil mit einem Ausfallswinkel von 0° veranschaulicht) , Dadurch kann verhindert werden, das beispielsweise Personen in dem beleuchteten Raum in einem Einfallswinkel, de größer ist als der vorgegebene, maximale Ausfallswinkel und im Vergleich zu einer oben beschriebenen, herkömmlichen Leuchte ohne Entblendungsstruktur , von dem emittierbaren Licht der Leuchte
100 geblendet werden. Dies wird beispielsweise erreicht, indem, die Intensität des Lichts 140, dass in einem Winkel oberhalb des vorgegebenen Ausfallswinkels ausgekoppelt wird, auf eine Intensität kleiner 1500 nits reduziert wird, beispielsweise indem die Intensität des Lichts, das mit einem
Ausfallwinkel, der kleiner ist als der vorgegebene Winkel, erhöht wird. Dies wird in verschiedenen Ausführungsbeispielen mittels der Entb1endungsstruktur 130 ermöglicht, beispielsweise mittels einer Kanalisierung des Lichts, das von der Lichteintrittsseite 118 in die lichtleitenden Strukturen 130 eingekoppelt wird. In einem Ausführungsbeispiel weisen die lichtleitenden Strukturen 132 auf der Lichteintrittsseite 118 eine erste Stirnfläche auf und auf der Lichtaustrittsseite 120 eine zweite Stirnfläche auf, wobei die Gesamtfläche der Stirnflächen der Lichtaustrittsseite 120 größer ist als die Gesamtfläche der Stirnflächen der Lichteintrittsseite 118. Beispielsweise ist die Gesamtfläche der Stirnflächen der Lichtaustrittsseite 120 mindestens ungefähr 30% größer ist als die Gesamtfläche der Stirnflächen der Lichteintrittsseite 118. Dies ermöglicht , dass die Intensität des Lichts , dass un er einem Winkel aus der Lichtaustrit sfläche 120 aus der Leuchte 100 ausgekoppelt wird, kleiner ist als 1500 nits . Dadurch wird verhindert , dass Betrachter unter einem derartigen Betrachtungswinkel durch das Licht 140 der Leuchte 100 geblendet werden .
Die Entb1endungsstruktur 130 weist beispielsweise mehrere licht. lei ende Strukturen 132 auf , die sich zwischen der Lichteintrittsseite 118 und der Lichtaustrittsseite 120 erstrecken und diese miteinander optisch verbinden .
Die mehreren lichtlei enden Strukturen 132 sind in einer Matrix 112 eingebettet bzw . darin angeordnet . Die lichtleitenden Strukturen 132 weisen beispielsweise jeweils eine lichtdurchlässige Kern-Struktur 114 und eine die Kern-
Struktur 114 umgebende , lichtreflek ierende Mantel - Struktur 116 auf . In FIG., 1 ist die Mantel - Struktur 116 zur einfacheren Darstellung des zugrundeliegenden Konzepts mit. einem linearen Verlauf zwischen der Lichteintrittsfläche 118 und der Lichtaustrittsfläche 120 veranschaulicht . In verschiedenen
Ausführungsbeispielen weist die Mantel -Struktur 116 j edoch einen nicht- linearen Verlauf von der Lichteintrittsseite 118 hin zur Lichtaustrit sseite 120 auf , beispielsweise einen konkaven Verlauf , einen konvexen Verlauf , einen gekrümmten Verlauf , einen Verlauf mit einem oder mehreren Knicken und/oder Stufen, sowie eine Kombination derartiger Verläufe, beispielswei se Abschnittsweise nacheinander angeordnet oder überlagert . Das Substrat 102 weist beispielsweise auf der Lichtaustrittsseite 120 und/oder der Lxchteintrittsseite 118 eine im Wesentlichen geschlossene und/oder plane Oberfläche auf . Beispielsweise weist die Lichtaustrittsseite 120 eine im Wesentlichen plane Oberfläche auf. Alternativ oder zusätzlich weist das Substrat 102 auf der Lichtaustrittsseite 120 eine im Wesentlichen geschlossene Oberfläche auf. Alternativ oder zusätzlich weist das Substrat 102 auf der Lichteintrittsseite 118 eine im Wesentlichen geschlossene Oberfläche auf,
Die Leuchte 100 weist weiterhin einen aktiven Bereich 110 auf. Der aktive Bereich ist ein elektrisch und/oder optisch aktiver Bereich. Der aktive Bereich ist beispielsweise der Bereich der Leuchte 100, in dem elektrischer Strom zum Betrieb der Leuchte 100 fließt und/oder in dem elektromagnetische Strahlung erzeugt oder absorbiert wird.
Der aktive Bereich 110 weist eine lichtdurchlässige , erste
Elektrodenschicht 104 auf, die auf oder über der Lichteintrittsseite 118 des Substrates 102 ausgebildet,. Die erste Elektrodenschicht 104 ist beispielsweise direkt auf der Lichteintrittsseite 118 der Entblendungsstruktur 130 bzw. dem Substrat 102 ausgebildet. Der aktive Bereich 110 weist weiterhin eine zum Emittieren von Licht 140 ausgebildete organisch funktionelle Schichtenstruktur 106 auf, die auf oder über der lichtdurchlässigen, ersten Elektrodenschicht 104 ausgebildet. Mit anderen Worten, in der organisch funktionellen Schichtenstruktur 106 wird das emittierbare Licht 140 der
Leuchte 100 erzeugt.
Der aktive Bereich 110 weist weiterhin eine auf oder über der organisch funktionellen Schichtenstruktur 106 ausgebildete zweite Elektrodenschicht 108 auf.
FIG.2 zeigt eine schematische Querschnittsansicht einer Leuchte 100 gemäß verschiedenen Au führungsbeis ie1 en . Die in FIG.2 veranschaulicht Leuchte 100 kann im Wesentlich der in FIG.l veranschaulichten Leuchte entsprechen, wobei in FIG.2 weitere Aspekte der Leuchte 100 veranschaulicht sind. Die Leuchte 100 weist das oben beschriebene Substrat 102 auf.
Das Substrat 102 ist wenigstens teilweise transiuzent oder transparent ausgebildet, beispielsweise wenigstens die lichtleitenden Strukturen der Entblendungsstruktur. Das Substrat 102 kann beispielsweise Kunststoff , Metall,
Glas, Quarz und/oder ein Halbleitermaterial aufweisen oder daraus gebildet sein, beispielsweise kann die Matrix ein Metall aufweisen oder daraus gebildet sein. Ferner kann das Substrat 102 eine Kunststofffolie oder ein Laminat mit einer oder mit mehreren Kunststofffolien aufweisen oder daraus gebildet sein. Das Substrat 102 kann mechanisch rigide oder mechanisch flexibel ausgebildet sein.
Äuf dem Substrat 102 ist der aktive Bereich ausgebildet. Der aktive Bereich weist die erste Elektrodenschicht 104 auf, die einen ersten Kontaktabschnitt 16, einen zweiten Kontaktabschnitt 18 und eine erste Elektrode 20 aufweist. Die erste Elektrodenschicht 104 kann auch ein Teil des Substrates 104 sein. Zwischen dem Substrat 102 und der ersten Elektrodenschicht 104 kann eine erste nicht dargestellte Barriereschicht, beispielsweise eine erste
Barrieredünnschicht , ausgebildet sein .
Beispielsweise weist die Matrix 112 des Substrats 102 ein Metall auf oder ist daraus gebildet. In einem Ausführungsbeispiel ist das Substrat 102 als eine Metallfolie oder ein Metallblech ausgebildet und die lichtleitenden Strukturen 132 sind darin als Löcher ausgebildet. In einem anderen Ausführungsbeispiel weist die Matrix 112 ein nicht - metallisches Glas auf oder ist daraus gebildet. Ein nichtmetallische Glas ist beispielsweise ein anorganisches Glas oder ein organisches Glas. Die mehreren lichtleitenden Strukturen 132 sind in der Matrix 112 eingebettet, beispielsweise indem die Iicht.lei enden Strukturen in der Matrix ausgebildet werden. Alternativ sind die Iichtlei enden Strukturen 132 als Löcher in einer Matrix 112 ausgebildet, In einem Ausführungsbeispiel sind die 1 ichtleitenden
Strukturen 132 als metallbeschichtete Löcher in dem Substrat 102 ausgebildet.
In einem Ausführungsbeispiel sind die lichtleitenden Strukturen 132 als mit einem lichtdurchlässigen Material gefüllte, metallbeschichtete Löcher in dem Substrat 102 ausgebildet .
In einem Ausführungsbeispiel weist das Substrat 102 auf der Lichtaustrittsseite 120 mehrere Öffnungen auf, und jeweils eine Öffnung der mehreren Öffnungen ist mit jeweils einer lichtleitenden Struktur der mehreren lichtleitenden Strukturen 132 verbunden .
In einem Ausführungsbeispiel weist die Leuchte 100 ferner eine lichtdurchlässige Planarisierungsschicht auf . Die
Planarisierungsschicht ist zwischen der Lichteintrittsseite 118 und der lichtdurchlässigen, ersten Elektrodenschicht 104 angeordnet . Die erste Elektrode 20 ist von dem ersten Kontaktabschnitt 16 mittels einer elektrischen Isolierungsbarriere 21 elektrisch isoliert. Der zweite Kontaktabschnitt 18 ist mit der ersten Elektrode 20 elektrisch gekoppelt. Die erste Elektrode 20 kann als Anode oder als Kathode ausgebildet sein. Die erste Elektrode 20 ist transluzent oder transparent ausgebildet sein. Die erste Elektrode 20 weist ein elektrisch leitfähiges Material auf , beispielsweise Metall und/oder ein leitfähiges transparentes Oxid {transparent conductive oxide, TCO) oder einen Schichtenstapel mehrerer Schichten, die Metalle oder TCOs aufweisen. Die erste Elektrode 20 kann beispielsweise einen Schichtenstapel einer Kombination einer Schicht eines Metalls auf einer Schicht eines TCOs aufweisen, oder umgekehrt. Ein Beispiel ist eine Silberschicht, die auf einer Indium™Zinn-Oxid-Schicht (ITO) aufgebracht ist (Ag auf ITO) oder ITO-Ag- ITO MultiSchichten. Die erste Elektrode 20 kann alternativ oder zusätzlich zu den genannten Materialien aufweisen; Netzwerke aus metallischen anodrähten und teiichen, beispielsweise aus Ag, Metzwerke aus Kohlenstoff - Nanoröhren , Graphen- eilchen und -Schichten und/oder Netzwerke aus halbleitenden Nanodrähte .
Über der ersten Elektrode 20 ist die organisch funktionelle Schichtenstruktur 106 ausgebildet , die zu einem Emittieren von Licht eingerichtet ist. Die organische f nk ionelle
Schichtenstruktur 106 kann beispielsweise eine, zwei oder mehr Teilschichten aufweisen. Beispielsweise kann die organische funktionelle Schichtenstruktur 106 eine Lochinjektionsschicht, eine Lochtransportschicht, eine Emitterschicht , eine Elektronentransportschicht und/oder eine Elektroneninjektionsschicht aufweisen. Die
Lochinjektionsschicht dient zum Reduzieren der Bandlücke zwischen erster Elektrode 20 und Lochtransportschicht. Bei der Lochtransportschicht ist die Lochleitfähigkeit größer als die Elektronenleitfähigkeit. Die Lochtransportschicht dient zum Transportieren der Löcher. Bei der
Elektronentransportschicht ist die Elektronenleitfähigkeit größer als die Lochleitfähigkeit. Die Elektronentransportschicht dient zum Transportieren der Elektronen. Die Elektroneninjektionsschicht dient zum Reduzieren der Bandlücke zwischen zweiter Elektrode und Elektronentransportschicht. Ferner kann die organische funktionelle Schichtenstruktur 106 ein» zwei oder mehr funktionelle Schichtenstruktur-Einheiten, die jeweils die genannten Teilschichten und/oder weitere Zwischenschichten aufweisen.
Über der organischen funktionellen Schichtenstruktur 106 ist die zweite Elektrodenschicht 108 ausgebildet, die auch als zweite Elektrode 108 bezeichnet werden kann. Die zweite Elektrode 108 ist elektrisch mit dem ersten Kontaktabschnitt 16 gekoppelt. Die zweite Elektrode 108 kann gemäß einer der Ausgestaltungen der ersten Elektrode 20 ausgebildet sein, wobei die erste Elektrode 20 und die zweite Elektrode 108 gleich oder unterschiedlich ausgebildet sein können. Die erste Elektrode 20 dient beispielsweise als Anode oder Kathode des aktiven Bereichs. Die zweite Elektrode 108 dient korrespondierend zu der ersten Elektrode als Kathode bzw. Anode des aktiven Bereichs,
Auf oder über dem aktiven Bereich kann eine Getter- Struktur (nicht dargestellt) angeordnet sein. Die Getter- Schicht kann transluzent, transparent oder opak ausgebildet sein. Die Getter-Schicht kann ein Material aufweisen oder daraus gebildet sein, das Stoffe , die schädlich für den aktiven Bereich sind, absorbiert und bindet .
Über der zweiten Elektrode 108 und teilweise übe dem ersten Kontaktabschnitt 16 und teilweise über dem zweiten Kontakt bschnitt 18 ist eine Verkapselungsschicht 24 des aktiven Bereichs ausgebildet, die den aktiven Bereich verkapsel . Die Verkapselungsschicht 24 kann als zweite Barriereschicht , beispielsweise als zweite
Barrieredünnschich , ausgebildet sein . Die
Verkapselungsschicht 24 kann auch als Dünnschichtverkapselung bezeichnet werden . Die Verkapselungsschicht 24 bildet eine Barriere gegenüber chemischen Verunreinigungen bzw. atmosphärischen Stoffen, insbesondere gegenüber Wasser (Feuchtigkeit) und Sauerstoff . Die Verkapselungsschicht 24 kann als eine einzelne Schich , ein Schichtstapel oder eine Schichtstruktur ausgebildet sein . Die Verkapselungsschicht 24 kann aufweisen oder daraus gebildet sein : A1uminiumoxid, Zinkoxid, Zirkoniumoxid, Titanoxid, Hafniumoxid, Tantaloxid, Lanthaniumoxid, Siliziumoxid, Siliziumnitrid,
Siliziumoxinitrid, Indiumzinnoxid, Indiumzinkoxid, Aluminium- dotiertes Zinkoxid, Poly (p -phenylenterephthalamid) , Nylon 66, sowie Mischungen und Legierungen derselben. Gegebenenfalls kann die erste Barriereschicht auf dem Substrat 102 korrespondierend zu einer Ausgestaltung der
Verkapselungsschicht 24 ausgebildet sein. In der Verkapselungsschicht 24 sind über dem ersten
Kontaktabschnit t 16 eine erste Ausnehmung der Verkapselungsschicht 24 und über dem zweiten Kontaktabschnitt 18 eine zweite Ausnehmung der Verkapselungsschicht 24 ausgebildet. In der ersten Ausnehmung der
Verkapselungsschicht 24 ist ein erster Kontaktbereich 32 freigelegt und in der zweiten Ausnehmung der Verkapselungsschicht 24 ist ein zweiter Kontaktbereich 34 freigelegt. Der erste Kontaktbereich 32 dient zum elektrischen Kontaktieren des ersten Kontaktabschnitts 16 und der zweite Kontaktbereich 34 dient zum elektrischen Kontaktieren des zweiten Kontaktabschnitts 18. über der Verkapselungsschicht 24 ist eine Haftmittelschicht 36 ausgebildet . Die Haftmi ttelschicht 36 weist beispielsweise ein Haftmittel, beispielsweise einen Klebstoff, beispielsweise einen Laminierklebstoff , einen Lack und/oder ein Harz auf. Die Haftmittelschicht 36 kann beispielsweise Partikel aufweisen, die elektromagnetische Strahlung streuen, beispielsweise lichtstreuende Partikel .
Über der Haftmittelschicht 36 ist ein Abdeckkörper 38 ausgebildet. Die Haftmittelschicht 36 dient zum Befestigen des Abdeckkörpers 38 an der Verkapselungsschicht 24. Der Abdeckkörper 38 weist beispielsweise Kunststoff, Glas und/oder Metall auf. Beispielsweise kann der Abdeckkörper 38 im Wesentlichen aus Glas gebildet sein und eine dünne Metalischicht, beispielsweise eine Metallfolie, und/oder eine Graphitschicht, beispielsweise ein Graphitlaminat , auf dem Glaskörper aufweisen. Der Abdeckkörper 38 dient zum Schützen des herkömmlichen optoelektronischen Bauelements 1, beispielsweise vor mechanischen Krafteinwirkungen von außen. Ferner kann der Abdeckkörper 38 zum Verteilen und/oder Abführen von Hitze dienen, die in dem herkömmlichen optoelektronischen Bauelement 1 erzeugt wird. Beispielsweise kann das Glas des Abdeckkörpers 38 als Schutz vor äußeren Einwirkungen dienen und die Metallschicht des Abdeckkörpers - 13 -
38 kann zum Verteilen und/oder Abführen der beim Betrieb des herkömmlichen optoelektronischen Bauelements 1 entstehenden Wärme dienen, FIG. 3A zeigt eine Tabelle und FIG. 3B eine schematische Querschnittsansicht zur Veranschaulichung einer
Entb1endungsst uktur einer Leuchte gemäß verschiedenen Ausführungsbeispielen. Die Leuchte 100 kann im Wesentlichen einem oben beschriebenen Ausführungsbeispiel entsprechen.
Die lichtleitende Struktur 132 ist über einer Emissionsfläche
118 des aktiven Bereiches ausgebildet.
Die Lichtaustri tsflache 120 des Substrates kann planar und eben geformt sein. Alternativ ist die Lichtaustrittsfläche 120 gewölbt ausgebildet , beispielsweise in Form einer optisehen Linse.
Durch mehrere in der Entblendungsstruktur angeordnete lichtleitende Strukturen 132 ergeben sich auf diese Weise mehrere Lichtaustrittsflächen, die in Summe die effektive Emissionsfläche der Leuchte 100 bestimmen.
Die Grenzfläche der lichtleitenden Strukturen 132 zur Matrix, d.h. die oben beschriebene Mantel -Struktur, ist reflektierend für das in der licht leitenden Struktur geleitete Licht , das von dem aktiven Bereich emittierbar ist. Die Mantel -Struktur ist beispielsweise die Grenzfläche zwischen dem Material der Kern-Struktur und der Matrix. Alternativ ist die Mantel - Struktur eine Spiegelstruktur, beispielsweise eine metallische Beschichtung oder ein Bragg-Spiegel . Eine metallische Beschichtung kann eine hohe Reflektivität für das emit ierbare Licht des aktiven Bereiches aufweisen, beispielsweise eine Reflektivität größer als ungefähr 90 % , beispielsweise größer als ungefähr 95 %, beispielsweise größer als ungefähr 97 %. Beispielsweise weist die metallische Beschichtung Silber oder Aluminium auf. In Draufsicht gesehen überragt eine lichtleitende Struktur 132 die jeweilige Emissionsfläche 118 des aktiven Bereiches auf der Lichtaustrittsfläche 120 {in eine Richtung um den Betrag der Abmessung der Überlapp -Brei e 320 - der Länge von 118) .
In verschiedenen Ausführungsbe lspielen weisen die lichtleitenden Strukturen einen nicht -linearen Verlauf von der Lichteintrittsfläche bzw. Emissionsfläche 118 zur Lichtaustrittstlache 120 auf . Beispielsweise weisen die lichtleitenden Strukturen einen Knick oder eine Krümmung im. Verlauf durch das Substrat auf und sind, beispielsweise, konkav und/oder konvex geformt . Bei konkav geformten, Iichtleitenden Strukturen 132 vergrößert sich der Durchmesser der licht1ei tenden Strukturen kontinuierlich in Richtung der Lichtaustrittsfläche Emissionsfläche 118. Alterna iv weisen die lichtleitende Strukturen 132 , im Querschnitt gesehen, je zwei Geradenabschnitte auf , die durch einen Knick voneinander getrennt sind .
In FIG.3A ist eine Tabe11 e gezeigt für unterschiedliche Einfallswinkel theta bzw. Θ des in den lichtleitenden Strukturen geleiteten Lichts auf die Grenzfläche zwischen Substrat und Luft, d.h. der Einfallswinkel des Lichts auf die Emissionsfläche 118 bzw. Lichtaustri 11sf lache 118. Wie oben mit (3) beschrieben wurde , ist ein Einfallswinkel i einem Bereich von 0 ° bis ma imal 34,73 ° er orderlich bei einer lichtleitenden Struktur mit einem Brechungsindex von 1,52 damit das Licht ei en maximale Aus allswinkel von 60 ° aufweist und somit die Leucht 100 für Büroanwendungen entblendet ist . Durch die lichtleitenden Strukturen 132 der En b1endungsstruktur wird erreicht , dass für Emissionswinkel oberhalb eines Entblendungswinkels α die Leuchte 100 entblendet ist . Weiterhin sind unterschiedliche Überlapp -Brei en 320 und Höhen 310 der Iicht leitenden Strukturen in der Tabelle in Fig,3A gezeigt , die. auch in FIG.3B in der Querschnittsansicht veranschaulicht sind.
Um eine hohe Effizienz und geringe Bauteilhöhe zu erlangen , hängen die Größe der Abstrahltlache 120 und die Höhe 310 der Iichtlei enden Strukturen 132 von der Größe und der Form der korrespondierenden Emissionsfläche 118 ab .
Die maximale Höhe 310 der lichtleitenden Strukturen 132 ergibt sich aus der Überlap -Breite D:
(4) C = D- tan(90° - ff)
Der Entblendungswinkel cc ist beispielsweise vorgegeben durch den Bestiramungszweck der Leuchte 100, beispielsweise 60 ° bei einer Büroraumbeleuchtung .
In verschiedenen Ausführungsbeispie1en entspricht die Höhe 310 der lichtleitenden Strukturen ungefähr der Dicke des Substrates . Aus der Tabelle der FIG.3Ä ist ersichtlich, dass sich für unterschiedliche Höhen der lichtleitenden Strukturen, d.h. für beispielsweise unterschiedlich Dicke Substrate, vorgegebene Überlapp -Breiten 320 ergeben können, Es tritt im Wesentlichen kein Licht aus der Leuchte 100 mit
Winkeln größer als der Entblendungswinkel , der sich relativ zu einem Lot der Emissionsfläche aus der Leuchte 100 heraus bemisst. Dies wird zum einen dadurch erreicht, dass die Zellen jeweils eine maximale Höhe 310 und einen nicht- linearen, beispielsweise konkav verlaufenden, Rand aufweisen. Die maximale Höhe 310 kann für alle lichtleitenden Strukturen gleich sein oder variieren. Mit anderen Worten, die reflektierende Mantel -Struktur der lichtleitenden Strukturen bewirkt, dass die optisch aktive Fläche der Leuchte, dass heißt die gesamte optisch aktive Fläche der Lichtaustrittsseite 120 zur gesamten optisch aktiven Fläche der Lichteintrittsseite 118, vergrößert wird, beispielsweise um 30 % bis 35 % , wie aus (1) bzw. (2) gezeigt ist. Zur Entblendung ist somit lediglich die Bestimmung der Höhe 310 der lichtleitenden Strukturen erforderlich. Die Höhe 310 lässt sich mittels (4) berechnen, wenn der Lichtwinkel Θ bekannt ist . Die Überlap -Breite 320 kann beispielsweise so eingestellt werden, dass sich für di Höhe 310 der lichtleitenden Strukturen typische Dicken von Glassubstraten ergeben, d.h. die Höhe 310 kann mittels der Überlapp-Breite 320 eingestellt v/erden .
FIG. zeigt eine schematische Aufsicht auf ein Substrat gemäß verschiedenen Ausführungsbeispielen . Veranschaulicht ist die Entblendungsstruktur mit Iichtleitenden Strukturen 132 in einer Mat ix 112. Die Entblendungsstruktur weist in verschiedenen Ausführungsbeispielen lichtleitende Strukturen 132 mit einem kreisförmigen Querschnitt , die gitterförmig angeordnet sind . Die Leuchte zu de das in FIG.4 veranschaulichte Substrat gehört , kann im Wesentlichen einem oben beschriebenen Ausführungsbeispiel entsprechen .
Die lich leitenden Strukturen können auch als Pixel bezeichnet werden.
Die jeweiligen Lich leitende Strukturen 132 können denselben Radius bzw. Durchmesser aufweisen und können regelmäßig zueinander angeordnet sein.
Zwischen den einzelnen 1ich11eitenden Strukturen 132 ist die Matri 112 ausgebildet bzw. angeordnet und verbindet die 1ich11eitenden Strukturen 132 miteinander . Die die Matrix. 112 ist anschaulich eine optisch inaktive Leerfläche , über die kein Lich des darunter liegenden aktiven Bereiches emittiert werden kann . Die lichtleitenden Strukturen 132 können derart zueinander angeordnet sein, dass eine Stroraverteilungsstruktur des aktiven Bereiches im Wesentlichen bedeckt ist, beispielsweise in einer Anordnung gemäß einer dichtesten Packung. Auf diese Weise ist es beispielsweise möglich, 33 % der Oberfläche der Leuchte mit der Stromverteilungsstruktur und durch die Entb1endungsstruktur zu bedecken . So lassen sich beispielsweise Leuchten mit einer Größe von 50 x 50 cm2 fertigen und mit der Entblendungsstruktur entblenden .
Alternativ können die lichtleitende Strukturen 132 einen quadratischen Querschnitt aufweisen . Al ernativ können die lichtleitende Strukturen 132 in einer hexagonalen oder polygonalen Anordnung angeordnet sein . In einer hexagonalen Anordnung können die 1icht1eitenden Strukturen 132 bzw. Pixel mit einer geringeren Variation als beispielsweise in einer quadratischen oder kreisförmigen Anordnung angeordnet werden. Beispielsweise kann Stromverteilungsstruktur ebenfalls hexagonal ausgestaltet sein, so dass eine hexagonale Anordnung die St omverteilungsstruktur bedeckt , ohne dabei größere, optisch inaktive Leerflächen zu bilden .
Weiterhin können die lichtleitenden Strukturen 132 weitere Grundmuster oder Polygone aufweisen. Beispielsweise können die lich leitenden Strukturen 132 einen dreieckigen, quadratischen, ovalen oder pentagonalen Querschnitt in Aufsicht aufweisen. Ferner kann die Querschnittsform der lichtleitenden Strukturen 132 über das Gitter hinweg unterschiedlich sein und auch unterschiedliche geometrische Figuren beschreibt . Auf diese Weise ergibt sich eine größere Freiheit im Design der Leuchte . Ferner kann die Leuchte eine gewölbt Lichtaustrittstlache aufweisen und die Iichtleitenden Strukturen könne in ihrer Querschni tsform und/oder ihrer Anordnung zueinander an diese Wölbung angepasst werden, beispielsweise um diese optisch zu verstärken oder auszugleichen. Weiterhin kann mit unterschiedlich ausgebildeter und/oder angeordneter , 1 ichtleitender
Strukturen eine Information dargestellt werden, beispielsweise ein Piktogramm, Ideogramm, Symbol, Schriftzug, Bild oder ähnliches .
FIG . 5A, B zeigen eine schematische Querschnittsansichten auf ein Substrat gemäß verschiedenen Ausführungsbeispielen. In FIG.5 sind beispielhafte Strahlengänge für unterschiedliche Winkel zur Horizontalen dargestellt, die die Entblendungsfunktion der licht leitenden Strukturen 132 veranschaulichen (502: 22°; 504: 37°; 506; 30°; 508; 41 0 ; 510 ; 34 °} .
In FIG.5A ist eine lichtemittierende Struktur mi einem linearen Verlauf von der Lichteintrittsfläche zu der Lichtaustrittsfläche gezeigt . Im Unterschied dazu weist die lichtemittierende Struktur i FIG.5B bei gleicher Höhe einen Knick im Verlauf von der Lichteintrittsfläche zu der Lichtaustrittsfläche und somit einen nicht- linearen Verlauf auf . Die Abstrahlt lache 118 sowie die Höhe 310 sind wie oben beschrieben eingestellt . Die Leuchte zu die das in FIG .5A, B veranschaulichte lichtleitende Struktur gehört , kann im Wesentlichen einem oben beschriebenen Ausführungsbeispiei entsprechen.
Es ist anhand des Strahlenganges 506 (30 ° zur Horizontalen bzw. 60 ° zum Lot) zu erkennen, dass der reflektierende Rand der licht leitenden S ruktur 132 im Querschnitt gesehen durch einen einzigen Geradenabschni t gebildet ist . Hierdurch ergibt sich für die Strahlung, ausgehend von einem Punkt an einer Ecke der Emissionsfläche 118, ein Emissionsgrenzwinke1 von 30°, Durch spekulare Reflexion an dem reflektierenden Rand der lichtleitenden Struktur können jedoch auch Strahlen 502 mit deutlich kleinerem Winkel , beispielsweise von 22°, emittiert werden, wie in FIG.5B veranschauli cht ist . Dies kann durch den Knick im reflektierenden Rand der Iichtleitenden Struktur vermindert werden.
Der nicht- lineare Verlauf der lichtemittierenden Strukturen bewirkt somi eine Erhöhung der Intensität des Lichts , das mit einem Winkel unterhalb des vorgegebenen, maximalen Winkels , beispielsweise 60 0 , emittierbar ist .
Die lichtleitenden Strukturen können jeweils grundlegend unterschiedliche Verläufe von der Lichteintrittsfläche zu der Lichtaustrittsfläche aufweisen, Die Anzahl möglicher Verläufe wird jedoch durch die Höhe 310 und die Überlap -Breite 320 der Iichtleitenden Strukturen eingeschränkt . FIG .6A, B zeigen Ablaufdiagramme eines Verfahrens 600 zum Herstellen einer Leuchte gemäß verschiedenen
Ausführungsbeispielen. Die Leuchte kann im Wesentlichen einem oben beschriebenen Ausführungsbeispiel entsprechen . Das Verfahren weist ein Bilden 602 eines lichtdurchlässigen Substrates mit einer Entblendungsstruktur auf . Die Entblendungsstruktur weist eine Lichteintri11sseite und eine de Lichteintrittsseite gegenüberliegende Lichtaustrittsseite auf .
Das Verfahren 600 weist ferner ein Bilden 604 einer lichtdurchlässigen, ersten Elektrodenschicht auf oder über der Lichteintrittsseite des Substrates auf . Weiterhin weist das Ve fahren 600 ein Bilden 606 einer organisch f nktionellen Schichtenstruktur zum Emittieren von Licht , auf oder über de lichtdurchlässigen, ersten Elektrodenschicht auf . Weiterhin weist das Verfahren 600 ein Bilden 608 einer zweiten Elektrodenschicht auf oder über der organisch funk ionellen Schichtenstruktur auf .
In verschiedenen Ausführungsbei spielen des Verfahrens 600 weist das Bilden der Entblendungsstruktur ein Bilden 614 des Substrates mit mehreren Löchern 622 auf . Die mehreren Löcher 622 erstrecken sich von der Lichteintrittsseite hin zur
Lichtaustrittsseite, Dazu wird zun chst, ein Substrat 102 als Matrix 112 bzw. aus einem Matrixmaterial bereitgestellt 612. In einem weiteren Prozessschritt 614 werden Löcher 622 in der Matrix ausgebildet, beispielsweise mittels einer Laser- Ablation, einer CNC-Fräse oder eines Partikel - Strahl - Verfahrens, beispielsweise einem Wasserstrahlschneiden.
In einem alternativen Ausführungsbeispiel des Verfahrens 600 weist das Bilden der Entb1endungsstruktur ein Bilden 614 von mehreren Löchern 622 in dem Substrat auf . Die mehreren Löcher 622 erstrecken sich ebenfalls von der Lichteintrittsseite hin zur Lichtaustrittsseite . Mit anderen Worte : Das Substrat 102 bzw . die Matrix 112 wi d bereits Löcher-au eisend ausgebilde , beis ielsweise mittels eines Spritzgusses , eines 3D-Druckens .
Die Löcher 622 werden, wie oben bereits beschrieben, mit einem nicht- inearen Verlauf zwischen der Lichteintrittsseite und der Lichtaustrittsseite ausgebildet . Die Löcher 622 in der Matrix 112 des Substrates 102 können bereits eine 1 ichtleitende Struktur bzw . eine Entblendungsstruktur sein, beispielsweise für den Falls , dass auf der Lichteintri11sseite eine lichtdurchlässige Planarisierungsstruktur aufgebracht wird und somit die Öffnungen der Löcher 622 verschließt und/oder eine im Wesentlichen plane Oberfläche ausbildet , sodass über den Öffnungen der Löcher der aktive Bereich der Leuchte ausgebildet werden kann . Die lichtdurchlässige Struktur kann beis ielsweise eine Folie, Scheibe oder Platte sein aus einem nicht-metallischen, organischen ode anorganischen Glas . Das von der Leuchte emittierbare Licht kann an der Wand, das heißt an der Mantel -Struktur der 1 ichtleitenden Struktur, wie oben beschrieben reflektiert werden . In einem Ausführungsbeispiel des Verfahrens 600 weist das Bilden der Entblendungsstruktur ein Bilden 616 einer Spiegelstruktur 624 auf der Oberfläche der Matrix. 112 in den Löchern auf , d.h. die Wände der Löcher werden verspiegelt . Dadurch wird beispielsweise die Mantel -Struktur der lichtleitenden Strukturen ausgebildet.
In einem Ausführungsbeispiel ist die lichtref laktierende Mantel -Struktur 116 spiegelnd reflektierend für wenigstens einen Wellenlängenbereich des emittierbaren Lichts der Leuchte ausgebildet. Zusätzlich oder alternativ ist die lichtreflektierende Mantel -Struktur 116 diffus reflektierend für wenigstens einen Wellenlängenbereich des emittierbaren Lichts der Leuchte ausgebildet.
Die Spiegelstruktur 624 weist beispielsweise eine Metallschicht auf, beispielsweise werden die Wände der Löcher verspiegelt. Alternativ oder zusätzlich weist die Spiegelstruktur 624 beispielsweise einen Bragg-- Spiegel auf, beispielsweise werden auf den Wänden wenigstens zwei dielektrische Schichten mit unterschiedliche
BrechungsIndizes ausgebildet. In einem Ausführungsbeis iel des Verfahrens 600 weist das Bilden der Entblendungsstruktur ferner ein Füllen 618 der mehreren Löcher 622 mit einem lichtdurchlässigen Material 626 auf. Das lichtdurchlässige Material 626 ist lichtdurchlässig, d.h. optisch leitend, für wenigstens einen Teil des von der Leuchte emittierbaren Lichts. Das lichtdurchlässige Material 626 ist ein nicht-metallisches, organisches oder organisches Glas, beispielsweise ein Polymer oder eine Metalioxid- Keramik. Beispiel 1 ist eine Leuchte aufweisend: ein lichtdurchlässiges Substrat mit einer Entblendungsstruktur , wobei die Entblendungsstruktur eine Lichteintrittsseite und eine der Lichteintrittsseite gegenüberliegende
Lichtaustrittsseite aufweist; eine lichtdurchlässige, erste Elektrodenschicht, die auf oder über der Lichteintrittsseite des Substrates ausgebildet ist; eine zum. Emittieren von Licht ausgebildete organisch funktionelle Schichtenstruktur, die auf oder über der lichtdurchlässigen, ersten Elektrodenschicht ausgebildet ist; und eine auf oder über der organisch funktionellen Schichtenstruktur ausgebildete zweite Elektrodenschicht , In Beispiel 2 weist die Leuchte des Beispiels 1 optional auf, dass die Entblendungs struktur mehrere lichtleitende Strukturen aufweist, die sich zwischen der
Lichteintrittsseite und der Lichtaustrittsseite erstrecken und diese miteinander optisch verbinden.
In Beispiel 3 weist die Leuchte des Beispiels 1 optional auf , dass die lichtleitenden Strukturen jeweils eine lichtdurchlässige Kern- Struktur und eine die Kern-Struktur umgebende, lichtreflektierende Mantel -Struktur aufweisen.
In Beispiel 4 weist die Leuchte des Beispiels 2 oder 3 optional auf, dass die Mantel -Struktur von der Lichteintrittsseite zur Lichtaustrittsseite einen nichtlinearen Verlauf aufweist,
In Bei spiel 5 weist die Leuchte eines der Beispiel 2 bis 4 optional auf, dass die Iichtleitenden Strukturen auf der Lichteintrittsseite eine erste Stirnfläche aufweisen und auf der Lichtaustrittsseite eine zweite Stirnfläche aufweisen, wobei die Gesamtfläche der Stirnflächen der
Lichtaustrittsseite größer ist als die Gesamtfläche der Stirnflächen der Lichteintrittsseite.
In Beispiel 6 weist die Leuchte des Beispiels 5 optional auf, dass die Gesamtfläche der Stirnflächen der
Lichtaustrittsseite mindestens ungefähr 30% größer ist als die Gesamtfläche der Stirnflächen der Lichteintrittsseite.
In Beispiel 7 weist die Leuchte eines der Beispiele 1 bis 6 optional auf, dass das Substrat auf der Lichtaustrittsseite und/oder der Lichteintrittsseite eine im Wesentlichen geschlossene und/oder plane Oberfläche aufweist. In Beispiel 8 weist die Leuchte eines der Beispiele 1 bis 6 optional auf , dass die erste Elektrodenschicht direkt auf der
Lichteintrittsseite der Entblendungsstruktur ausgebildet ist. In Beispiel 9 weist die Leuchte eines der Beispiele 1 bis 8 optional auf, dass die Entblendungsstruktur derart ausgebildet ist, dass Licht mit einem Ausfallswinkel von maximal ungefähr 60 ° aus der Lichtaustrittsseite emittierbar ist.
I Beispiel 10 weist die Leuchte eines der Beispiele 1 bis 9 optional auf , dass die Leuchte als eine Flächenlichtquelle zur Allgemeinbeleuchtung ausgebildet ist , insbesondere, als eine Büroleuchte .
Beispiel 11 ist ein Verfahren zum Herstellen einer Leuchte . Das Ver ahren aufweisend : Bilden eines lic tdu chlässigen Substrats mit einer Entblendungsstruktur, wobei die Entblendungsstruktur eine Lichteintrittsseite und eine der Lichteintrittssei e gegenüberliegende Lichtaustrittsseite aufweist ; Bilden einer lichtdurchlässigen, ersten Elektrodenschicht auf oder über der Lichtein ri tsseite des Substrates ; Bilden einer organisch funktionellen Schichtenstruktur zum Emittieren von Licht , auf oder über der lichtdurchlässigen, ersten Elektrodenschich ; und Bilden einer zweiten Elektrodenschicht auf oder übe der organisch funktionellen Schichtenstruktu .
In Beispiel 12 weist das Verfahren des Beispiels 11 optional auf , dass das Bilden der Entblendungsstruktur ein Bilden des Substrats mit mehreren Löchern aufweist, wobei sich die mehreren Löcher von der Lichteintrittsseite zur Lichtaustri tsseite hin erstrecken . In Beispiel 13 weist das Verfahre des Beispiels 11 optional auf, dass das Bilden der Entb1endungsstruktur ein Bilden von mehreren Löchern in dem Substrat aufweist , wobei sich die mehreren Löcher von der Lichteintrittsseite zur Lichtaustrittsseite hin. erstrecken.
In Beispiel 14 weist das Verfahren eines der Beispiele 11 bis
13 optional auf, dass das Bilden der Entblendungsstruktur ein Verspiegein der mehreren Löcher in dem Substrat aufweist.
In Beispiel 15 weist das Verfahren eines der Beispiele 11 bis
14 optional auf, dass das Bilden der Entblendungsstruktur ferner ein Füllen de mehreren Löcher mit einem lichtdurchlässigen Material aufweist .
Die Erfindung ist nicht auf die angegebenen Ausführungsbeispiele beschränkt . Beispielsweise kann, die Leuchte mehrere aktive Bereiche auf oder über einem gemeinsamen Substrat angeordnet aufweisen . Die mehrere ak iven Bereiche können in einer gemeinsamen Verkapseiungsstruktur angeordnet sein . Die mehrere aktiven Bereiche können gleich oder unterschiedlich sein, beispielsweise Licht unterschiedlicher Farbvalenz emittieren .
BEZUGSZEICHENLISTE
100 Leuchte
102 Substrat
104 erste Elektrodenschicht
106 organisch funktionelle Schichtenstruktur
108 zweite Elektrodenschicht
110 aktiver Bereich
112 Matrix.
114 Kern-Struktur
116 Mantel -Struktur
118 Lichteintrittsseite
120 Lichtaustrittsfläche
130 Entblendumgsstruktur
132 Iichtleitende Struktur
140 Licht
16 erster Kontaktabschnitt
18 zweiter Kontaktabschnitt
20 erste Elektrode
21 elektrische Isolierungsbarriere
24 Verkapselungsschicht
32 erster Kon aktbereich
34 zweiter Kontaktbereich
36 Haftmittelschicht
38 Abdeckkörper
300 Tabelle
310 Höhe
320 Überlapp- Breite
502 , 504 , 506 , 508, 510 Strahlengänge
600 Verfahren
602, 604 , 606, 608 , 612 , 614 , 616, 618 Verfahrensschritte
622 Loch
624 Spiegelstruktur/Mantel-Struktur
626 lichtleitendes Material/Kern- Struktur

Claims

Patentansprüche
Leuchte (100) aufweisend;
ein lichtdurchlässiges Substrat {102} mit einer
Entblendungsstruktur (130) , wobei die
Entblendungsstruktur (130} eine Lichteintrittsseite {118} und eine der Lichteintrittsseite (118)
gegenüberliegende Lichtaustrittsseite (120) auf eist ; eine lichtdurchlässige, erste Elektrodenschicht (104) , die auf oder über der Lichteintrittsseite (118) des Substrates (102) ausgebildet ist;
eine zum Emittieren von Licht ausgebildete organisch funktionelle Schichtenstruktur (106) , die auf oder über der lichtdurchlässigen, ersten Elektrodenschicht ( 104) ausgebildet ist; und
eine auf oder über der organisch funktionellen
Schichtenstruktur (106) ausgebildete zweite
Elektrodenschicht (108) ,
wobei die Entblendungsstruktur (130) mehrere
lichtleitende Strukturen aufweist, die sich zwischen der Lichteintrittsseite (118) und der Lichtaustrittsseite (120) erstrecken und diese miteinander optisch
verbinden ,
wobei die licht leitenden Strukturen auf der
Lichteint itt sseite (118) eine erste Stirnfläche
auf eisen und auf der Lichtaustrittsseite eine zweite Stirnfläche aufweisen, wobei die Gesamtfläche der
Stirnflächen der Lichtaust ittsseite größer ist als die Gesamtfläche de Stirnflächen der Lichteintrittsseite (118) .
Leuchte (100) gemäß Anspruch 1 ,
wobei die lichtleitenden Strukturen jeweils eine
lichtdurchlässige Kern- Struktur (114) und eine die Kern- Struktur (114) umgebende , 1 icht.ref 1ekt ierende Mantel - St uktur (116) aufweisen. Leuchte (100) gemäß einem der Ansprüche 1 oder 2, wobei die Mantel -Struktur (116) von der
Lichteintri tsseite (118) zur Lichtaustrittsseite einen nicht -linearen Verlauf aufweist.
Leuchte (100) gemäß einem der Ansprüche 1 bis 3,
wobei die Gesamtfläche der Stirnflächen der
Lichtaustrittsseite (120) mindestens ungefähr 30% größer ist als die Gesamtfläche der Stirnflächen der
Lichteintrittssei e ( 118 ) .
Leuchte (100) gemäß einem der Ansprüche 1 bis 4»
wobei das Substrat (102) auf der Lichtaustrittsseite (120) und/oder der Lich ein rittsseite (118) eine im Wesentlichen geschlossene und/oder plane Oberfläche aufweist .
Leuchte (100) gemäß einem der Ansprüche 1 bis 5, wobei die erste Elektrodenschicht (104 ) direkt auf der Lichteintrittsseite (118) der Entblendungsstruktur (130) ausgebildet ist .
Leuchte (100) gemäß einem der Ansprüche 1 bis 6 , wobei die Entblendungsstruktur (130) derart ausgebildet ist , dass Licht mit einem Ausfal lswinkel von maximal ungefähr 60 ° aus der Lichtaustrittsseite (120)
emittierbar ist .
Leuchte (100) gemäß einem der Ansprüche 1 bis 7, wobei die Leuchte (100) als eine Flächenlichtquelle zur Allgemeinbeleuchtung ausgebildet ist, insbesondere als eine Büroleuchte .
Verfahren zum Herstellen einer Leuchte (100) , das
Verfahren aufweisend :
• Bilden eines lichtdurchlässigen Substrats (102) mit einer Entbiendungsstruktur (130) , wobei die
Entblendungsstruktur ( 130 ) eine Lichteintrittsseite (118) und eine der Lichteintrittsseite (118)
gegenüberliegende Lichtaustrittsseite (120) aufweist
• Bilden einer lichtdurchlässigen, ersten
Elektrodenschicht (104) auf oder über der
Lichteintrittsseite (118) des Substrates (102) ;
• Bilden einer organisch funktionellen
Schichtenstruktur (106) zum Emittieren von Licht, auf oder über der lichtdurchlässigen, ersten
Elektrodenschicht (104) ? und
· Bilden einer zweiten Elektrodenschicht (108) auf oder über der organisch funktionellen Schichtenstruktur (106) .
Verfahren gemäß Anspruch 9,
wobei das Bilden der Entblendungsstruktur (130) ein Bilden des Substrats (102) mit mehreren Löchern
aufweist, wobei sich die mehreren Löcher von der
Lichteintrittsseite ( 118) zur Lichtaustrittsseite (120) hin erstrecke .
Verfahren gemäß Anspruch 9 ,
wobei das Bilden der Entblendungsstruktur (130) ein Bilden von mehrere Löchern in dem Substrat (102) aufweist, wobei sich die mehreren Löcher von der
Lichteintrittsseite ( 118 ) zu Lichtaustrittsseite (120) hin erstrecke .
12. Verfahren gemäß einem der Ansprüche 9 bis 11 ,
wobei das Bilden der Entblendungsstruktur (130) ein Verspiegeln der mehreren Löcher in dem Substrat (102) aufweist .
13. Verfahren gemäß einem der Ansprüche 9 bis 12 ,
wobei das Bilden der Entb1endungsstruktur (130) ferner ein Füllen der mehreren Löcher mit e nem
lichtdurchlässigen Material auf eist .
PCT/EP2017/052259 2016-02-03 2017-02-02 Leuchte und verfahren zum herstellen einer leuchte WO2017134168A1 (de)

Applications Claiming Priority (2)

Application Number Priority Date Filing Date Title
DE102016101872.4 2016-02-03
DE102016101872.4A DE102016101872A1 (de) 2016-02-03 2016-02-03 Leuchte und Verfahren zum Herstellen einer Leuchte

Publications (1)

Publication Number Publication Date
WO2017134168A1 true WO2017134168A1 (de) 2017-08-10

Family

ID=57960452

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
PCT/EP2017/052259 WO2017134168A1 (de) 2016-02-03 2017-02-02 Leuchte und verfahren zum herstellen einer leuchte

Country Status (2)

Country Link
DE (1) DE102016101872A1 (de)
WO (1) WO2017134168A1 (de)

Families Citing this family (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE102017114369A1 (de) * 2017-06-28 2019-01-03 Osram Opto Semiconductors Gmbh Optoelektronisches Bauelement

Citations (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2003001611A1 (en) * 2001-06-25 2003-01-03 Koninklijke Philips Electronics N.V. Substrate for an electroluminescent display device and method of manufacturing said substrate
WO2004102064A1 (de) * 2003-05-15 2004-11-25 Lucea Ag Lichtquelle
EP1763081A2 (de) * 2005-09-12 2007-03-14 Kabushiki Kaisha Toyoda Jidoshokki Flächenlichtquelle
EP1843081A2 (de) * 2006-04-03 2007-10-10 Nimbus Design GmbH Leuchte, insbesondere Raumleuchte
WO2008122907A2 (en) * 2007-04-04 2008-10-16 Philips Intellectual Property & Standards Gmbh Light emitting device
WO2013041137A1 (de) * 2011-09-21 2013-03-28 Fraunhofer-Gesellschaft zur Förderung der angewandten Forschung e.V. Reflektiver strahlformer zum erzeugen einer gewünschten abstrahlcharakteristik aus einer abstrahlcharakteristik einer flächenlichtquelle

Family Cites Families (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP6290888B2 (ja) * 2012-08-22 2018-03-07 スリーエム イノベイティブ プロパティズ カンパニー 透明ｏｌｅｄ光抽出器
WO2016077309A2 (en) * 2014-11-12 2016-05-19 Corning Incorporated Contrast enhancement sheet and display device comprising the same
US9250508B1 (en) * 2014-11-17 2016-02-02 Google Inc. Rear projection screen with pin-hole concentrator array
DE102014117775A1 (de) * 2014-12-03 2016-06-09 Osram Oled Gmbh Organisches lichtemittierendes Bauelement mit einer lichtbeeinflussenden Schichtenstruktur und Verfahren zum Herstellen einer lichtbeeinflussenden Schichtenstruktur

Patent Citations (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2003001611A1 (en) * 2001-06-25 2003-01-03 Koninklijke Philips Electronics N.V. Substrate for an electroluminescent display device and method of manufacturing said substrate
WO2004102064A1 (de) * 2003-05-15 2004-11-25 Lucea Ag Lichtquelle
EP1763081A2 (de) * 2005-09-12 2007-03-14 Kabushiki Kaisha Toyoda Jidoshokki Flächenlichtquelle
EP1843081A2 (de) * 2006-04-03 2007-10-10 Nimbus Design GmbH Leuchte, insbesondere Raumleuchte
WO2008122907A2 (en) * 2007-04-04 2008-10-16 Philips Intellectual Property & Standards Gmbh Light emitting device
WO2013041137A1 (de) * 2011-09-21 2013-03-28 Fraunhofer-Gesellschaft zur Förderung der angewandten Forschung e.V. Reflektiver strahlformer zum erzeugen einer gewünschten abstrahlcharakteristik aus einer abstrahlcharakteristik einer flächenlichtquelle

Also Published As

Publication number Publication date
DE102016101872A1 (de) 2017-08-03

Similar Documents

Publication Publication Date Title
EP2130072B1 (de) Anordnung mit einem halbleiterchip und einer lichtleiterschicht
DE102016122901A1 (de) Optoelektronisches Bauelement und Verfahren zum Herstellen eines optoelektronischen Bauelements
DE102012200084B4 (de) Strahlungsemittierendes organisches bauteil
WO2009074127A2 (de) Lichtemittierende vorrichtung
DE202010017509U1 (de) Lichtemittierende Vorrichtung und Beleuchtungssystem
DE112013001392T5 (de) Organisches Elektrolumineszenzelement
DE102008051012B4 (de) Lichtemittierende Vorrichtung und Verfahren zum Herstellen
DE102015100253B4 (de) Licht emittierende Vorrichtung
WO2017134168A1 (de) Leuchte und verfahren zum herstellen einer leuchte
DE112014003447B4 (de) Strahlungsemittierende Vorrichtung
DE102013106985A1 (de) Optoelektronische Bauelementevorrichtung und Verfahren zum Herstellen einer optoelektronischen Bauelementevorrichtung
WO2015067612A1 (de) Optoelektronisches bauelement, optoelektronische anordnung, verfahren zum herstellen eines optischen elements und verfahren zum herstellen eines optoelektronischen bauelements
DE102008031531A1 (de) Organisches strahlungsemittierendes Bauelement und Verfahren zur Herstellung eines organischen strahlungsemittierenden Bauelements
DE102013102967A1 (de) Beleuchtungsmodul mit Lichtleitkörper und Verfahren zum Herstellen eines Beleuchtungsmoduls
DE102012202041B4 (de) Strahlungsemittierende Vorrichtung
DE102016108681A1 (de) Optoelektronisches Bauelement und Verfahren zum Herstellen eines optoelektronischen Bauelements
EP3104668B1 (de) Frontplatte für el-element und beleuchtungsvorrichtung
DE102014119538A1 (de) Optoelektronische Baugruppe und Verfahren zum Herstellen einer optoelektronischen Baugruppe
WO2016146630A1 (de) Optoelektronisches bauelement und verfahren zum herstellen eines optoelektronischen bauelements
WO2016042042A1 (de) Optoelektronische baugruppe und verfahren zum herstellen einer optoelektronischen baugruppe
WO2016087548A1 (de) Organisches lichtemittierendes bauelement mit einer lichtbeeinflussenden schichtenstruktur und verfahren zum herstellen einer lichtbeeinflussenden schichtenstruktur
WO2017076667A1 (de) Optoelektronisches bauelement und verfahren zum herstellen eines optoelektronischen bauelements
DE102014106549B4 (de) Organisches Licht emittierendes Bauelement
WO2013075937A1 (de) Strahlungsemittierendes organisches bauteil
DE112022001498T5 (de) Lichtemittierende vorrichtung und oberflächenlichtquelle

Legal Events

Date Code Title Description
121 Ep: the epo has been informed by wipo that ep was designated in this application

Ref document number: 17702867

Country of ref document: EP

Kind code of ref document: A1

NENP Non-entry into the national phase

Ref country code: DE

122 Ep: pct application non-entry in european phase

Ref document number: 17702867

Country of ref document: EP

Kind code of ref document: A1