WO2016052625A1 - Backlight unit, liquid crystal display device, wavelength conversion member, and photocurable composition - Google Patents
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Images
Classifications
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- F—MECHANICAL ENGINEERING; LIGHTING; HEATING; WEAPONS; BLASTING
- F21—LIGHTING
- F21S—NON-PORTABLE LIGHTING DEVICES; SYSTEMS THEREOF; VEHICLE LIGHTING DEVICES SPECIALLY ADAPTED FOR VEHICLE EXTERIORS
- F21S2/00—Systems of lighting devices, not provided for in main groups F21S4/00 - F21S10/00 or F21S19/00, e.g. of modular construction
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L33/00—Semiconductor devices having potential barriers specially adapted for light emission; Processes or apparatus specially adapted for the manufacture or treatment thereof or of parts thereof; Details thereof
- H01L33/48—Semiconductor devices having potential barriers specially adapted for light emission; Processes or apparatus specially adapted for the manufacture or treatment thereof or of parts thereof; Details thereof characterised by the semiconductor body packages
- H01L33/50—Wavelength conversion elements
Definitions
- the light source is a blue light source. In another aspect, the light source is an ultraviolet light source.
- the photopolymerization initiator is an iodonium salt compound.
- an epoxy compound having a glycidyl group or the like is an aliphatic epoxy compound.
- alicyclic epoxy compounds are preferred in that the curability by light irradiation is good.
- the present inventors have found that the loss of light due to the absorption of light emitted from the light source by the epoxy matrix formed by photocuring using this alicyclic epoxy compound results in the above-described decrease in luminance. I came to think. Details are as follows. In a backlight unit including a wavelength conversion member, light emitted from a light source (hereinafter also referred to as “light derived from a light source”) enters the wavelength conversion layer, and at least part of the light strikes the quantum dots.
- a light source hereinafter also referred to as “light derived from a light source”
- a photocurable composition suitable for the production of the wavelength conversion member A photocurable composition comprising quantum dots excited by excitation light and emitting fluorescence, Including a quantum dot, a polymerizable compound containing at least an alicyclic epoxy compound, and a photopolymerization initiator,
- the photocurable composition wherein the ultraviolet light loss rate of the portion excluding the quantum dots of the photocured product obtained by curing the photocurable composition by light irradiation is 3% or less in terms of thickness of 60 ⁇ m, are also provided by the present invention.
- the position (contact position) where the first film 10 is wound around the backup roller 62 and the distance L1 to the lamination position P are preferably long, for example, 30 mm or more is preferable, and the upper limit is usually It is determined by the diameter of the backup roller 62 and the pass line.
- the second film 50 can be heated by the laminating roller 32 by using the laminating roller 32 as a heat roller.
- the heating chamber 34 and the heat roller are not essential and can be provided as necessary.
- laminated structure of support film / organic layer / inorganic layer laminated structure of support film / inorganic layer / organic layer, laminated structure of support film / organic layer / inorganic layer / organic layer (here, two layers In the organic layer, one or both of the thickness and the composition may be the same or different).
- Laminating a plurality of layers in this way can further enhance the barrier property, and on the other hand, the light transmittance of the wavelength conversion member tends to decrease as the number of layers to be laminated increases, which is favorable. It is desirable to increase the number of stacked layers as long as a sufficient light transmittance can be maintained.
- silicon nitride, silicon oxide, or silicon oxynitride is particularly preferable. This is because the inorganic layer made of these materials has a good adhesion to the organic layer, and thus the barrier property can be further enhanced.
- a method for forming the inorganic layer is not particularly limited, and various film forming methods that can evaporate or scatter the film forming material and deposit it on the deposition surface can be used.
- the organic layer can also be a cured layer obtained by curing a curable composition containing a (meth) acrylate polymer.
- the (meth) acrylate polymer is a polymer containing one or more (meth) acryloyl groups in one molecule.
- a (meth) acrylate polymer containing one or more urethane bonds in one molecule can be exemplified.
- a (meth) acrylate polymer containing one or more urethane bonds in one molecule is referred to as a urethane bond-containing (meth) acrylate polymer.
- the urethane bond-containing (meth) acrylate polymer may have a side chain other than the structural unit having a urethane bond.
- side chains include linear or branched alkyl groups.
- a linear alkyl group having 1 to 6 carbon atoms is preferable, an n-propyl group, an ethyl group, or a methyl group is more preferable, and a methyl group is further preferable.
- other side chains may include different structures. The same applies to structural units having a urethane bond.
- the acrylic equivalent of the urethane bond-containing (meth) acrylate polymer is preferably 500 or more, more preferably 600 or more, further preferably 7,000 or more, and the acrylic equivalent is 5,000 or less. Is preferably 3,000 or less, more preferably 2,000 or less.
- the weight average molecular weight in the present invention and the present specification refers to a weight average molecular weight obtained by converting a measured value by gel permeation chromatography (GPC) into polystyrene. As measurement conditions by GPC, for example, the following conditions can be employed. The weight average molecular weight described in Examples described later is a value measured under the following conditions.
- the backlight unit includes a light source together with at least the wavelength conversion member.
- a light source that emits blue light having a light emission center wavelength in a wavelength band of 430 nm to 480 nm blue light source
- the wavelength conversion layer may include at least quantum dots (A) that are excited by excitation light and emit red light, and quantum dots (B) that emit green light.
- A quantum dots
- B quantum dots
- white light can be embodied by blue light emitted from the light source and transmitted through the wavelength conversion member, and red light and green light emitted from the wavelength conversion member.
- FIG. 4 illustrates an example of a liquid crystal display device according to one embodiment of the present invention.
- the liquid crystal display device 51 shown in FIG. 4 has the backlight side polarizing plate 14 on the surface of the liquid crystal cell 21 on the backlight side.
- the backlight-side polarizing plate 14 may or may not include the polarizing plate protective film 11 on the backlight-side surface of the backlight-side polarizer 12, but it is preferably included.
- the backlight side polarizing plate 14 preferably has a configuration in which the polarizer 12 is sandwiched between two polarizing plate protective films 11 and 13.
- Examples 1 to 12 and Comparative Examples 1 to 6 were used for preparing model films obtained by removing the toluene dispersion of quantum dots 1 and the toluene dispersion of quantum dots 2 from the composition of the photocurable composition containing quantum dots.
- a composition was prepared, and a model film having a thickness of 60 ⁇ m was prepared by means 1 described above. Specifically, a model film was produced by the following method.
- Example 13 the composition for model film preparation which remove
- a release film Limirror # 50 manufactured by Toray Industries, Inc., 50 ⁇ m thick
- the blue light having the emission center wavelength was incident on the wavelength 450 nm which is the emission center wavelength of the blue light source, and the detected light intensity I at the wavelength 450 nm was measured at this time. Then, the transmitted light intensity I 0 at a wavelength of 450 nm was measured, and the blue light loss rate A of the model film having a thickness of 60 ⁇ m was measured by the above-described equation, and the blue color in the matrix of the wavelength conversion layer was determined from the obtained measurement values.
- the loss rate of light was evaluated according to the following evaluation criteria, and the results are shown in Tables 1 and 2.
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Abstract
One embodiment of the present invention relates to a backlight unit which comprises a light source and a wavelength conversion member that is positioned on the optical path of the light discharged from the light source, and wherein: the wavelength conversion member comprises a wavelength conversion layer that contains quantum dots in a matrix, said quantum dots producing fluorescence when excited by excitation light; the wavelength conversion layer is a photocured layer that is obtained by curing a photocurable composition by means of light irradiation; the photocurable composition contains the quantum dots, a polymerizable compound that contains at least an alicyclic epoxy compound, and a photopolymerization initiator; and the loss rate of the light discharged from the light source in the matrix of the wavelength conversion layer is 3% or less in terms of a thickness of 60 μm. Another embodiment of the present invention relates to a liquid crystal display device, a wavelength conversion member or a photocurable composition.
Description
本発明は、バックライトユニット、このバックライトユニットを含む液晶表示装置、波長変換部材、および光硬化性組成物に関する。
The present invention relates to a backlight unit, a liquid crystal display device including the backlight unit, a wavelength conversion member, and a photocurable composition.
液晶表示装置(以下、LCD(Liquid Crystal Display)とも言う)などのフラットパネルディスプレイは、消費電力が小さく、省スペースの画像表示装置として年々その用途が広がっている。液晶表示装置は、少なくともバックライトと液晶セルとから構成され、通常、更に、バックライト側偏光板、視認側偏光板などの部材が含まれる。
Flat panel displays such as liquid crystal display devices (hereinafter also referred to as LCD (Liquid Crystal Display)) consume less power and are increasingly used as space-saving image display devices year by year. The liquid crystal display device is composed of at least a backlight and a liquid crystal cell, and usually further includes members such as a backlight side polarizing plate and a viewing side polarizing plate.
フラットパネルディスプレイ市場では、LCD性能改善として、色再現性の向上が進行している。この点に関し、近年、発光材料として、量子ドット(Quantum Dot、QD、量子点とも呼ばれる。)が注目を集めている(特許文献1参照)。例えば、バックライトから量子ドットを含む波長変換部材に励起光が入射すると、量子ドットが励起され蛍光を発光する。ここで異なる発光特性を有する量子ドットを用いることで、赤色光、緑色光、および青色光を発光させて白色光を具現化することができる。量子ドットによる蛍光は半値幅が小さいため、得られる白色光は高輝度であり、しかも色再現性に優れる。このような量子ドットを用いた3波長光源化技術の進行により、色再現域は、NTSC(National Television System Committee)比72%から100%へと拡大している。
In the flat panel display market, color reproducibility is improving as LCD performance improvement. In this regard, in recent years, quantum dots (also referred to as quantum dots, QDs, or quantum dots) have attracted attention as light emitting materials (see Patent Document 1). For example, when excitation light enters the wavelength conversion member including quantum dots from the backlight, the quantum dots are excited and emit fluorescence. Here, by using quantum dots having different emission characteristics, white light can be realized by emitting red light, green light, and blue light. Since the fluorescence due to the quantum dots has a small half-value width, the white light obtained has high brightness and excellent color reproducibility. With the progress of the three-wavelength light source technology using such quantum dots, the color gamut has been expanded from 72% to 100% in NTSC (National Television System) ratio.
波長変換部材は、通常、少なくとも量子ドットをマトリックス中に含む波長変換層を有する。例えば特許文献1には、好ましいマトリックス材料としてエポキシが開示されている(特許文献1の段落0009等参照)。また特許文献1には、マトリックスは熱硬化により形成することが好ましいと記載されている(特許文献1の段落0091参照)。なお以下において、エポキシ化合物を含む重合性化合物の硬化により形成されたマトリックスを、エポキシマトリックスと記載する。
The wavelength conversion member usually has a wavelength conversion layer including at least quantum dots in the matrix. For example, Patent Document 1 discloses epoxy as a preferable matrix material (see paragraph 0009 of Patent Document 1). Patent Document 1 describes that the matrix is preferably formed by thermosetting (see paragraph 0091 of Patent Document 1). In the following, a matrix formed by curing a polymerizable compound containing an epoxy compound is referred to as an epoxy matrix.
一方、波長変換部材の生産性向上の観点からは、熱硬化と比べてマトリックスの硬化を短時間で行うことのできる光硬化が好ましい。そこで本発明者らが、波長変換部材を製造するにあたり、波長変換層のエポキシマトリックスを光硬化により形成することを試みたところ、量子ドットを含む波長変換部材の利点の1つは高輝度の白色光を得ることができる点であるにもかかわらず、製造される波長変換部材を組み込んだ液晶表示装置において、輝度が低下する現象が見られた。
On the other hand, from the viewpoint of improving the productivity of the wavelength conversion member, photocuring capable of curing the matrix in a short time compared to thermosetting is preferable. Therefore, when the present inventors tried to form the epoxy matrix of the wavelength conversion layer by photocuring in manufacturing the wavelength conversion member, one of the advantages of the wavelength conversion member including quantum dots is a high-intensity white color. In spite of the fact that light can be obtained, in the liquid crystal display device incorporating the manufactured wavelength conversion member, a phenomenon in which the luminance is reduced was observed.
そこで本発明の目的は、光硬化により形成されたエポキシマトリックス中に量子ドットを含む波長変換層を有する波長変換部材を備えた液晶表示装置において、輝度向上を達成することにある。
Therefore, an object of the present invention is to achieve an improvement in luminance in a liquid crystal display device having a wavelength conversion member having a wavelength conversion layer containing quantum dots in an epoxy matrix formed by photocuring.
本発明の一態様は、
光源と、光源から出射される光の光路上に位置する波長変換部材と、を含むバックライトユニットであって、
波長変換部材は、励起光により励起され蛍光を発光する量子ドットをマトリックス中に含む波長変換層を有し、
波長変換層は、光硬化性組成物を光照射により硬化させてなる光硬化層であり、
光硬化性組成物は、量子ドット、脂環式エポキシ化合物を少なくとも含む重合性化合物、および光重合開始剤を含み、
波長変換層のマトリックスにおける光源から出射される光の損失率は、厚み60μm換算で3%以下であるバックライトユニット、
に関する。 One embodiment of the present invention provides:
A backlight unit including a light source and a wavelength conversion member positioned on an optical path of light emitted from the light source,
The wavelength conversion member has a wavelength conversion layer containing quantum dots in a matrix that are excited by excitation light and emit fluorescence.
The wavelength conversion layer is a photocured layer obtained by curing a photocurable composition by light irradiation,
The photocurable composition includes a quantum dot, a polymerizable compound containing at least an alicyclic epoxy compound, and a photopolymerization initiator,
A backlight unit having a loss rate of light emitted from the light source in the matrix of the wavelength conversion layer of 3% or less in terms of a thickness of 60 μm;
About.
光源と、光源から出射される光の光路上に位置する波長変換部材と、を含むバックライトユニットであって、
波長変換部材は、励起光により励起され蛍光を発光する量子ドットをマトリックス中に含む波長変換層を有し、
波長変換層は、光硬化性組成物を光照射により硬化させてなる光硬化層であり、
光硬化性組成物は、量子ドット、脂環式エポキシ化合物を少なくとも含む重合性化合物、および光重合開始剤を含み、
波長変換層のマトリックスにおける光源から出射される光の損失率は、厚み60μm換算で3%以下であるバックライトユニット、
に関する。 One embodiment of the present invention provides:
A backlight unit including a light source and a wavelength conversion member positioned on an optical path of light emitted from the light source,
The wavelength conversion member has a wavelength conversion layer containing quantum dots in a matrix that are excited by excitation light and emit fluorescence.
The wavelength conversion layer is a photocured layer obtained by curing a photocurable composition by light irradiation,
The photocurable composition includes a quantum dot, a polymerizable compound containing at least an alicyclic epoxy compound, and a photopolymerization initiator,
A backlight unit having a loss rate of light emitted from the light source in the matrix of the wavelength conversion layer of 3% or less in terms of a thickness of 60 μm;
About.
波長変換層のマトリックスとは、波長変換層の量子ドットを除く部分をいい、少なくとも重合性化合物の重合体を含み、任意に添加される添加剤を含み得る部分である。マトリックスにおける光源から出射される光の損失率は、下記手段1~3のいずれかにより作製した測定用サンプルの光の損失率として求めるものとする。本発明では、下記手段1~3の少なくとも1つにより得られた測定用サンプルについて求められる値が3%以下である場合、マトリックスにおける光源から出射される光の損失率が、厚み60μm換算で3%以下であると判定するものとする。
The matrix of the wavelength conversion layer refers to a portion excluding the quantum dots of the wavelength conversion layer, and is a portion that contains at least a polymer of a polymerizable compound and may contain an additive that is optionally added. The loss rate of light emitted from the light source in the matrix is obtained as the light loss rate of the measurement sample prepared by any of the following means 1 to 3. In the present invention, when the value obtained for the measurement sample obtained by at least one of the following means 1 to 3 is 3% or less, the loss rate of light emitted from the light source in the matrix is 3 in terms of a thickness of 60 μm. % Or less.
(手段1:モデル膜で測定)
波長変換層(光硬化層)を形成する光硬化性組成物から、量子ドットまたは量子ドットとともに溶媒の少なくとも一部を除いた光硬化性組成物を用意する。この光硬化性組成物を離型フィルム(例えば東レ社製ルミラー#50、50μm厚)にワイヤーバーで塗布した後、その上にもう一枚の離型フィルムをラミネートし、大気下1200W/cmの空冷メタルハライドランプ(例えばアイグラフィックス社製)を用いて、紫外線を塗布面より2000mJ/cm2照射して硬化させる。こうして得られた硬化膜を、例えば2cm角に裁断したのち硬化膜の両面にある離型フィルムを剥離し、厚み60μmの樹脂層単膜(モデル膜)を得る。
こうして得られたモデル膜を、後述の方法による損失率測定に付す。得られた測定値を光源から出射される光の損失率とする。なおモデル膜としては厚み60μm以外のモデル膜を作製してもよい。この場合には、測定値を厚み60μmに換算した値、即ち、モデル膜の厚みをTμmとすると、「測定された損失率×(T/60)」で算出される値を、光源から出射される光の損失率とする。 (Means 1: measured with a model membrane)
A photocurable composition obtained by removing at least a part of a solvent together with quantum dots or quantum dots from a photocurable composition for forming a wavelength conversion layer (photocured layer) is prepared. After applying this photocurable composition to a release film (for example, Lumirror # 50 manufactured by Toray Industries, Inc., 50 μm thick) with a wire bar, another release film is laminated on the release film (at 1200 W / cm in the atmosphere). Using an air-cooled metal halide lamp (for example, manufactured by Eye Graphics Co., Ltd.), ultraviolet rays are irradiated from the coated surface to 2000 mJ / cm 2 and cured. The cured film thus obtained is cut into 2 cm square, for example, and then the release films on both sides of the cured film are peeled off to obtain a resin layer single film (model film) having a thickness of 60 μm.
The model film thus obtained is subjected to loss rate measurement by the method described later. The obtained measured value is defined as a loss rate of light emitted from the light source. A model film having a thickness other than 60 μm may be produced as the model film. In this case, when the measured value is converted to a thickness of 60 μm, that is, when the thickness of the model film is T μm, a value calculated by “measured loss rate × (T / 60)” is emitted from the light source. Loss rate of light.
波長変換層(光硬化層)を形成する光硬化性組成物から、量子ドットまたは量子ドットとともに溶媒の少なくとも一部を除いた光硬化性組成物を用意する。この光硬化性組成物を離型フィルム(例えば東レ社製ルミラー#50、50μm厚)にワイヤーバーで塗布した後、その上にもう一枚の離型フィルムをラミネートし、大気下1200W/cmの空冷メタルハライドランプ(例えばアイグラフィックス社製)を用いて、紫外線を塗布面より2000mJ/cm2照射して硬化させる。こうして得られた硬化膜を、例えば2cm角に裁断したのち硬化膜の両面にある離型フィルムを剥離し、厚み60μmの樹脂層単膜(モデル膜)を得る。
こうして得られたモデル膜を、後述の方法による損失率測定に付す。得られた測定値を光源から出射される光の損失率とする。なおモデル膜としては厚み60μm以外のモデル膜を作製してもよい。この場合には、測定値を厚み60μmに換算した値、即ち、モデル膜の厚みをTμmとすると、「測定された損失率×(T/60)」で算出される値を、光源から出射される光の損失率とする。 (Means 1: measured with a model membrane)
A photocurable composition obtained by removing at least a part of a solvent together with quantum dots or quantum dots from a photocurable composition for forming a wavelength conversion layer (photocured layer) is prepared. After applying this photocurable composition to a release film (for example, Lumirror # 50 manufactured by Toray Industries, Inc., 50 μm thick) with a wire bar, another release film is laminated on the release film (at 1200 W / cm in the atmosphere). Using an air-cooled metal halide lamp (for example, manufactured by Eye Graphics Co., Ltd.), ultraviolet rays are irradiated from the coated surface to 2000 mJ / cm 2 and cured. The cured film thus obtained is cut into 2 cm square, for example, and then the release films on both sides of the cured film are peeled off to obtain a resin layer single film (model film) having a thickness of 60 μm.
The model film thus obtained is subjected to loss rate measurement by the method described later. The obtained measured value is defined as a loss rate of light emitted from the light source. A model film having a thickness other than 60 μm may be produced as the model film. In this case, when the measured value is converted to a thickness of 60 μm, that is, when the thickness of the model film is T μm, a value calculated by “measured loss rate × (T / 60)” is emitted from the light source. Loss rate of light.
(手段2:酸素暴露により量子ドットを失活させた後に測定)
波長変換層を酸素雰囲気中、例えば大気中に、量子ドットが失活するまで暴露する。量子ドットが失活したことは、励起光を照射しても量子ドットが励起しなくなること、即ち蛍光が検出されなくなることにより確認することができる。なお評価対象の波長変換部材が波長変換層以外の層や部材を含む場合には、例えば市販の研磨シートで研磨するなどして波長変換層を露出させる。こうして得られた波長変換層サンプルを、例えば2cm角に裁断した後に後述の方法による損失率測定に付す。損失率測定に付すサンプルの厚みが60μmである場合には、得られた測定値を光源から出射される光の損失率とする。一方、損失率測定に付すサンプルの厚みが60μm以外の場合には、得られた測定値を厚み60μmに換算した値を、光源から出射される光の損失率とする。 (Means 2: Measured after inactivating quantum dots by exposure to oxygen)
The wavelength conversion layer is exposed in an oxygen atmosphere, for example, in the air until the quantum dots are deactivated. It can be confirmed that the quantum dot has been deactivated by the fact that the quantum dot is not excited even when the excitation light is irradiated, that is, the fluorescence is not detected. In addition, when the wavelength conversion member to be evaluated includes layers and members other than the wavelength conversion layer, the wavelength conversion layer is exposed, for example, by polishing with a commercially available polishing sheet. The wavelength conversion layer sample thus obtained is cut into a 2 cm square, for example, and then subjected to loss rate measurement by a method described later. When the thickness of the sample subjected to the loss rate measurement is 60 μm, the obtained measurement value is set as the loss rate of light emitted from the light source. On the other hand, when the thickness of the sample subjected to the loss rate measurement is other than 60 μm, the value obtained by converting the obtained measurement value to the thickness of 60 μm is set as the loss rate of the light emitted from the light source.
波長変換層を酸素雰囲気中、例えば大気中に、量子ドットが失活するまで暴露する。量子ドットが失活したことは、励起光を照射しても量子ドットが励起しなくなること、即ち蛍光が検出されなくなることにより確認することができる。なお評価対象の波長変換部材が波長変換層以外の層や部材を含む場合には、例えば市販の研磨シートで研磨するなどして波長変換層を露出させる。こうして得られた波長変換層サンプルを、例えば2cm角に裁断した後に後述の方法による損失率測定に付す。損失率測定に付すサンプルの厚みが60μmである場合には、得られた測定値を光源から出射される光の損失率とする。一方、損失率測定に付すサンプルの厚みが60μm以外の場合には、得られた測定値を厚み60μmに換算した値を、光源から出射される光の損失率とする。 (Means 2: Measured after inactivating quantum dots by exposure to oxygen)
The wavelength conversion layer is exposed in an oxygen atmosphere, for example, in the air until the quantum dots are deactivated. It can be confirmed that the quantum dot has been deactivated by the fact that the quantum dot is not excited even when the excitation light is irradiated, that is, the fluorescence is not detected. In addition, when the wavelength conversion member to be evaluated includes layers and members other than the wavelength conversion layer, the wavelength conversion layer is exposed, for example, by polishing with a commercially available polishing sheet. The wavelength conversion layer sample thus obtained is cut into a 2 cm square, for example, and then subjected to loss rate measurement by a method described later. When the thickness of the sample subjected to the loss rate measurement is 60 μm, the obtained measurement value is set as the loss rate of light emitted from the light source. On the other hand, when the thickness of the sample subjected to the loss rate measurement is other than 60 μm, the value obtained by converting the obtained measurement value to the thickness of 60 μm is set as the loss rate of the light emitted from the light source.
(手段3:波長変換層を組成解析し、解析された組成を有するモデル膜を作製し測定)
波長変換層の組成解析は、例えば赤外分光、NMR(Nuclear Magnetic Resonance)、ガスクロマトグラフィー等を用いる組成解析法により行うことができる。組成解析は、組成解析法に応じた処理を波長変換層に施して得られたサンプルを用いて行うことができる。そのようなサンプルとしては、例えば、波長変換層の一部を切り出して得られたサンプル、波長変換層のマトリックスを、マトリックスを溶解可能な溶媒に溶解して得られた溶液、等を挙げることができる。なお評価対象の波長変換部材が波長変換層以外の層や部材を含む場合には、例えば市販の研磨シートで研磨するなどして波長変換層を露出させる。そして上記組成解析により判明した波長変換層のマトリックスを形成するための光硬化性組成物を用意する。以降は手段1と同様にモデル膜を得る。 (Means 3: Analyzing the wavelength conversion layer and preparing and measuring a model film having the analyzed composition)
The composition analysis of the wavelength conversion layer can be performed by a composition analysis method using, for example, infrared spectroscopy, NMR (Nuclear Magnetic Resonance), gas chromatography or the like. The composition analysis can be performed using a sample obtained by performing treatment according to the composition analysis method on the wavelength conversion layer. Examples of such a sample include a sample obtained by cutting out a part of the wavelength conversion layer, a solution obtained by dissolving the matrix of the wavelength conversion layer in a solvent capable of dissolving the matrix, and the like. it can. In addition, when the wavelength conversion member to be evaluated includes layers and members other than the wavelength conversion layer, the wavelength conversion layer is exposed, for example, by polishing with a commercially available polishing sheet. And the photocurable composition for forming the matrix of the wavelength conversion layer which became clear by the said composition analysis is prepared. Thereafter, a model membrane is obtained in the same manner as in the first means.
波長変換層の組成解析は、例えば赤外分光、NMR(Nuclear Magnetic Resonance)、ガスクロマトグラフィー等を用いる組成解析法により行うことができる。組成解析は、組成解析法に応じた処理を波長変換層に施して得られたサンプルを用いて行うことができる。そのようなサンプルとしては、例えば、波長変換層の一部を切り出して得られたサンプル、波長変換層のマトリックスを、マトリックスを溶解可能な溶媒に溶解して得られた溶液、等を挙げることができる。なお評価対象の波長変換部材が波長変換層以外の層や部材を含む場合には、例えば市販の研磨シートで研磨するなどして波長変換層を露出させる。そして上記組成解析により判明した波長変換層のマトリックスを形成するための光硬化性組成物を用意する。以降は手段1と同様にモデル膜を得る。 (Means 3: Analyzing the wavelength conversion layer and preparing and measuring a model film having the analyzed composition)
The composition analysis of the wavelength conversion layer can be performed by a composition analysis method using, for example, infrared spectroscopy, NMR (Nuclear Magnetic Resonance), gas chromatography or the like. The composition analysis can be performed using a sample obtained by performing treatment according to the composition analysis method on the wavelength conversion layer. Examples of such a sample include a sample obtained by cutting out a part of the wavelength conversion layer, a solution obtained by dissolving the matrix of the wavelength conversion layer in a solvent capable of dissolving the matrix, and the like. it can. In addition, when the wavelength conversion member to be evaluated includes layers and members other than the wavelength conversion layer, the wavelength conversion layer is exposed, for example, by polishing with a commercially available polishing sheet. And the photocurable composition for forming the matrix of the wavelength conversion layer which became clear by the said composition analysis is prepared. Thereafter, a model membrane is obtained in the same manner as in the first means.
以上の手段1~3のいずれかにより作製した測定用サンプルにおける光源から出射される光の損失率は、積分球を用いた絶対発光量子収率測定法により、以下の手法により求めるものとする。
測定用サンプルを配置した積分球に光源から出射される光の発光中心波長の光を含む測定光を入射させて発光中心波長における検出光強度Iを測定する。例えば、発光中心波長が450nmの青色光を出射する光源については、波長450nmにおける検出光強度Iを測定する。
同じ測定光を、測定用サンプルを配置していない積分球に入射させて発光中心波長における検出光強度I0を測定する。
以上の測定値を求めて、次式により求められる損失率Aを、光源から出射される光の損失率とする。
A=(I0-I)/I0
また、青色光損失率とは、測定光として青色光を入射させて、上記方法により波長450nmにおける検出光強度を測定して求められる値とする。紫外光損失率とは、測定光として紫外光を入射させて、上記方法により波長400nmにおける検出光強度を測定して求められる値とする。
以上の測定を行う測定装置としては、積分球を用いた絶対発光量子収率測定法を実施可能な市販の装置を用いることができる。一例として、浜松ホトニクス社製絶対PL(フォトルミネッセンス)量子収率測定装置(C9920-02)を挙げることができ、後述の実施例では、この測定装置を用いた。 The loss rate of the light emitted from the light source in the measurement sample produced by any one of theabove means 1 to 3 is determined by the following method by the absolute luminescence quantum yield measurement method using an integrating sphere.
Measurement light including light having the emission center wavelength of light emitted from the light source is incident on the integrating sphere in which the measurement sample is arranged, and the detected light intensity I at the emission center wavelength is measured. For example, the detection light intensity I at a wavelength of 450 nm is measured for a light source that emits blue light with an emission center wavelength of 450 nm.
The same measurement light is incident on an integrating sphere on which no measurement sample is arranged, and the detected light intensity I 0 at the emission center wavelength is measured.
The above measured values are obtained, and the loss rate A obtained by the following equation is set as the loss rate of light emitted from the light source.
A = (I 0 -I) / I 0
The blue light loss rate is a value obtained by making blue light incident as measurement light and measuring the detection light intensity at a wavelength of 450 nm by the above method. The ultraviolet light loss rate is a value obtained by making ultraviolet light incident as measurement light and measuring the detected light intensity at a wavelength of 400 nm by the above method.
As a measuring apparatus for performing the above measurement, a commercially available apparatus capable of performing an absolute luminescence quantum yield measuring method using an integrating sphere can be used. As an example, an absolute PL (photoluminescence) quantum yield measuring device (C9920-02) manufactured by Hamamatsu Photonics can be mentioned, and this measuring device was used in Examples described later.
測定用サンプルを配置した積分球に光源から出射される光の発光中心波長の光を含む測定光を入射させて発光中心波長における検出光強度Iを測定する。例えば、発光中心波長が450nmの青色光を出射する光源については、波長450nmにおける検出光強度Iを測定する。
同じ測定光を、測定用サンプルを配置していない積分球に入射させて発光中心波長における検出光強度I0を測定する。
以上の測定値を求めて、次式により求められる損失率Aを、光源から出射される光の損失率とする。
A=(I0-I)/I0
また、青色光損失率とは、測定光として青色光を入射させて、上記方法により波長450nmにおける検出光強度を測定して求められる値とする。紫外光損失率とは、測定光として紫外光を入射させて、上記方法により波長400nmにおける検出光強度を測定して求められる値とする。
以上の測定を行う測定装置としては、積分球を用いた絶対発光量子収率測定法を実施可能な市販の装置を用いることができる。一例として、浜松ホトニクス社製絶対PL(フォトルミネッセンス)量子収率測定装置(C9920-02)を挙げることができ、後述の実施例では、この測定装置を用いた。 The loss rate of the light emitted from the light source in the measurement sample produced by any one of the
Measurement light including light having the emission center wavelength of light emitted from the light source is incident on the integrating sphere in which the measurement sample is arranged, and the detected light intensity I at the emission center wavelength is measured. For example, the detection light intensity I at a wavelength of 450 nm is measured for a light source that emits blue light with an emission center wavelength of 450 nm.
The same measurement light is incident on an integrating sphere on which no measurement sample is arranged, and the detected light intensity I 0 at the emission center wavelength is measured.
The above measured values are obtained, and the loss rate A obtained by the following equation is set as the loss rate of light emitted from the light source.
A = (I 0 -I) / I 0
The blue light loss rate is a value obtained by making blue light incident as measurement light and measuring the detection light intensity at a wavelength of 450 nm by the above method. The ultraviolet light loss rate is a value obtained by making ultraviolet light incident as measurement light and measuring the detected light intensity at a wavelength of 400 nm by the above method.
As a measuring apparatus for performing the above measurement, a commercially available apparatus capable of performing an absolute luminescence quantum yield measuring method using an integrating sphere can be used. As an example, an absolute PL (photoluminescence) quantum yield measuring device (C9920-02) manufactured by Hamamatsu Photonics can be mentioned, and this measuring device was used in Examples described later.
一態様では、光源は青色光源である。また他の一態様では、光源は紫外光源である。
In one aspect, the light source is a blue light source. In another aspect, the light source is an ultraviolet light source.
本発明の更なる態様は、上記バックライトユニットと、液晶セルと、を含む液晶表示装置に関する。
A further aspect of the present invention relates to a liquid crystal display device including the backlight unit and a liquid crystal cell.
本発明の更なる態様は、
励起光により励起され蛍光を発光する量子ドットをマトリックス中に含む波長変換層を有し、
波長変換層は、光硬化性組成物を光照射により硬化させてなる光硬化層であり、
光硬化性組成物は、量子ドット、脂環式エポキシ化合物を少なくとも含む重合性化合物、および光重合開始剤を含み、
波長変換層のマトリックスにおける青色光損失率は、厚み60μm換算で3%以下である波長変換部材、
に関する。 A further aspect of the invention provides:
It has a wavelength conversion layer containing quantum dots that are excited by excitation light and emit fluorescence, in a matrix,
The wavelength conversion layer is a photocured layer obtained by curing a photocurable composition by light irradiation,
The photocurable composition includes a quantum dot, a polymerizable compound containing at least an alicyclic epoxy compound, and a photopolymerization initiator,
The wavelength conversion member whose blue light loss rate in the matrix of the wavelength conversion layer is 3% or less in terms of thickness of 60 μm,
About.
励起光により励起され蛍光を発光する量子ドットをマトリックス中に含む波長変換層を有し、
波長変換層は、光硬化性組成物を光照射により硬化させてなる光硬化層であり、
光硬化性組成物は、量子ドット、脂環式エポキシ化合物を少なくとも含む重合性化合物、および光重合開始剤を含み、
波長変換層のマトリックスにおける青色光損失率は、厚み60μm換算で3%以下である波長変換部材、
に関する。 A further aspect of the invention provides:
It has a wavelength conversion layer containing quantum dots that are excited by excitation light and emit fluorescence, in a matrix,
The wavelength conversion layer is a photocured layer obtained by curing a photocurable composition by light irradiation,
The photocurable composition includes a quantum dot, a polymerizable compound containing at least an alicyclic epoxy compound, and a photopolymerization initiator,
The wavelength conversion member whose blue light loss rate in the matrix of the wavelength conversion layer is 3% or less in terms of thickness of 60 μm,
About.
本発明の更なる態様は、
励起光により励起され蛍光を発光する量子ドットをマトリックス中に含む波長変換層を有し、
波長変換層は、光硬化性組成物を光照射により硬化させてなる光硬化層であり、
光硬化性組成物は、量子ドット、脂環式エポキシ化合物を少なくとも含む重合性化合物、および光重合開始剤を含み、
波長変換層のマトリックスにおける紫外光損失率は、厚み60μm換算で3%以下である波長変換部材、
に関する。 A further aspect of the invention provides:
It has a wavelength conversion layer containing quantum dots that are excited by excitation light and emit fluorescence, in a matrix,
The wavelength conversion layer is a photocured layer obtained by curing a photocurable composition by light irradiation,
The photocurable composition includes a quantum dot, a polymerizable compound containing at least an alicyclic epoxy compound, and a photopolymerization initiator,
The wavelength conversion member whose ultraviolet light loss rate in the matrix of the wavelength conversion layer is 3% or less in terms ofthickness 60 μm,
About.
励起光により励起され蛍光を発光する量子ドットをマトリックス中に含む波長変換層を有し、
波長変換層は、光硬化性組成物を光照射により硬化させてなる光硬化層であり、
光硬化性組成物は、量子ドット、脂環式エポキシ化合物を少なくとも含む重合性化合物、および光重合開始剤を含み、
波長変換層のマトリックスにおける紫外光損失率は、厚み60μm換算で3%以下である波長変換部材、
に関する。 A further aspect of the invention provides:
It has a wavelength conversion layer containing quantum dots that are excited by excitation light and emit fluorescence, in a matrix,
The wavelength conversion layer is a photocured layer obtained by curing a photocurable composition by light irradiation,
The photocurable composition includes a quantum dot, a polymerizable compound containing at least an alicyclic epoxy compound, and a photopolymerization initiator,
The wavelength conversion member whose ultraviolet light loss rate in the matrix of the wavelength conversion layer is 3% or less in terms of
About.
本発明の更なる態様は、
励起光により励起され蛍光を発光する量子ドットを含む光硬化性組成物であって、
量子ドット、脂環式エポキシ化合物を少なくとも含む重合性化合物、および光重合開始剤を含み、
光硬化性組成物を光照射により硬化させて得られる光硬化体の量子ドットを除く部分の青色光損失率が、厚み60μm換算で3%以下である、光硬化性組成物、
に関する。 A further aspect of the invention provides:
A photocurable composition comprising quantum dots excited by excitation light and emitting fluorescence,
Including a quantum dot, a polymerizable compound containing at least an alicyclic epoxy compound, and a photopolymerization initiator,
A photocurable composition having a blue light loss rate of 3% or less in terms of a thickness of 60 μm, excluding quantum dots of a photocured product obtained by curing the photocurable composition by light irradiation,
About.
励起光により励起され蛍光を発光する量子ドットを含む光硬化性組成物であって、
量子ドット、脂環式エポキシ化合物を少なくとも含む重合性化合物、および光重合開始剤を含み、
光硬化性組成物を光照射により硬化させて得られる光硬化体の量子ドットを除く部分の青色光損失率が、厚み60μm換算で3%以下である、光硬化性組成物、
に関する。 A further aspect of the invention provides:
A photocurable composition comprising quantum dots excited by excitation light and emitting fluorescence,
Including a quantum dot, a polymerizable compound containing at least an alicyclic epoxy compound, and a photopolymerization initiator,
A photocurable composition having a blue light loss rate of 3% or less in terms of a thickness of 60 μm, excluding quantum dots of a photocured product obtained by curing the photocurable composition by light irradiation,
About.
上記の光硬化性組成物に関する青色光損失率については、
(1)先に記載した手段1により得られた測定用サンプル、
(2)量子ドットを含む光硬化性組成物を用いて手段1により得られた光硬化体を手段2にしたがい酸素暴露により失活させた測定用サンプル、
の少なくとも一方を用いて先に記載した手法により求められる値が3%以下である場合、上記光硬化体の量子ドットを除く部分の青色光損失率がマトリックスにおける光源から出射される光の損失率が、厚み60μm換算で3%以下であると判定するものとする。この点は、後述する光硬化性組成物に関する紫外光損失率についても、同様である。 For the blue light loss rate for the above photocurable composition,
(1) A measurement sample obtained bymeans 1 described above,
(2) A measurement sample in which the photocured product obtained bymeans 1 using a photocurable composition containing quantum dots is deactivated by oxygen exposure according to means 2,
When the value calculated | required by the method described above using at least one is 3% or less, the blue light loss rate of the part except the quantum dot of the said photocuring body is the loss rate of the light radiate | emitted from the light source in a matrix However, it shall be determined that it is 3% or less in terms ofthickness 60 μm. This also applies to the ultraviolet light loss rate related to the photocurable composition described later.
(1)先に記載した手段1により得られた測定用サンプル、
(2)量子ドットを含む光硬化性組成物を用いて手段1により得られた光硬化体を手段2にしたがい酸素暴露により失活させた測定用サンプル、
の少なくとも一方を用いて先に記載した手法により求められる値が3%以下である場合、上記光硬化体の量子ドットを除く部分の青色光損失率がマトリックスにおける光源から出射される光の損失率が、厚み60μm換算で3%以下であると判定するものとする。この点は、後述する光硬化性組成物に関する紫外光損失率についても、同様である。 For the blue light loss rate for the above photocurable composition,
(1) A measurement sample obtained by
(2) A measurement sample in which the photocured product obtained by
When the value calculated | required by the method described above using at least one is 3% or less, the blue light loss rate of the part except the quantum dot of the said photocuring body is the loss rate of the light radiate | emitted from the light source in a matrix However, it shall be determined that it is 3% or less in terms of
本発明の更なる態様は、
励起光により励起され蛍光を発光する量子ドットを含む波長変換層を有する波長変換部材の製造方法であって、
波長変換層は、量子ドットをマトリックス中に含み、かつマトリックスにおける青色光損失率は、厚み60μm換算で3%以下であり、
波長変換層を、上記光硬化性組成物を光照射により硬化させることによって形成することを含む波長変換部材の製造方法、
に関する。 A further aspect of the invention provides:
A method for producing a wavelength conversion member having a wavelength conversion layer including quantum dots that are excited by excitation light and emit fluorescence.
The wavelength conversion layer includes quantum dots in the matrix, and the blue light loss rate in the matrix is 3% or less in terms of a thickness of 60 μm,
A method for producing a wavelength conversion member comprising forming a wavelength conversion layer by curing the photocurable composition by light irradiation;
About.
励起光により励起され蛍光を発光する量子ドットを含む波長変換層を有する波長変換部材の製造方法であって、
波長変換層は、量子ドットをマトリックス中に含み、かつマトリックスにおける青色光損失率は、厚み60μm換算で3%以下であり、
波長変換層を、上記光硬化性組成物を光照射により硬化させることによって形成することを含む波長変換部材の製造方法、
に関する。 A further aspect of the invention provides:
A method for producing a wavelength conversion member having a wavelength conversion layer including quantum dots that are excited by excitation light and emit fluorescence.
The wavelength conversion layer includes quantum dots in the matrix, and the blue light loss rate in the matrix is 3% or less in terms of a thickness of 60 μm,
A method for producing a wavelength conversion member comprising forming a wavelength conversion layer by curing the photocurable composition by light irradiation;
About.
本発明の更なる態様は、
励起光により励起され蛍光を発光する量子ドットを含む光硬化性組成物であって、
量子ドット、脂環式エポキシ化合物を少なくとも含む重合性化合物、および光重合開始剤を含み、
光硬化性組成物を光照射により硬化させて得られる光硬化体の量子ドットを除く部分の紫外光損失率が、厚み60μm換算で3%以下である、光硬化性組成物、
に関する。 A further aspect of the invention provides:
A photocurable composition comprising quantum dots excited by excitation light and emitting fluorescence,
Including a quantum dot, a polymerizable compound containing at least an alicyclic epoxy compound, and a photopolymerization initiator,
The photocurable composition, wherein the ultraviolet light loss rate of the portion excluding the quantum dots of the photocured product obtained by curing the photocurable composition by light irradiation is 3% or less in terms of thickness of 60 μm,
About.
励起光により励起され蛍光を発光する量子ドットを含む光硬化性組成物であって、
量子ドット、脂環式エポキシ化合物を少なくとも含む重合性化合物、および光重合開始剤を含み、
光硬化性組成物を光照射により硬化させて得られる光硬化体の量子ドットを除く部分の紫外光損失率が、厚み60μm換算で3%以下である、光硬化性組成物、
に関する。 A further aspect of the invention provides:
A photocurable composition comprising quantum dots excited by excitation light and emitting fluorescence,
Including a quantum dot, a polymerizable compound containing at least an alicyclic epoxy compound, and a photopolymerization initiator,
The photocurable composition, wherein the ultraviolet light loss rate of the portion excluding the quantum dots of the photocured product obtained by curing the photocurable composition by light irradiation is 3% or less in terms of thickness of 60 μm,
About.
本発明の更なる態様は、
励起光により励起され蛍光を発光する量子ドットを含む波長変換層を有する波長変換部材の製造方法であって、
波長変換層は、量子ドットをマトリックス中に含み、かつマトリックスにおける紫外光損失率は、厚み60μm換算で3%以下であり、
波長変換層を、上記光硬化性組成物を光照射により硬化させることによって形成することを含む波長変換部材の製造方法、
に関する。 A further aspect of the invention provides:
A method for producing a wavelength conversion member having a wavelength conversion layer including quantum dots that are excited by excitation light and emit fluorescence.
The wavelength conversion layer includes quantum dots in the matrix, and the ultraviolet light loss rate in the matrix is 3% or less in terms of thickness of 60 μm,
A method for producing a wavelength conversion member comprising forming a wavelength conversion layer by curing the photocurable composition by light irradiation;
About.
励起光により励起され蛍光を発光する量子ドットを含む波長変換層を有する波長変換部材の製造方法であって、
波長変換層は、量子ドットをマトリックス中に含み、かつマトリックスにおける紫外光損失率は、厚み60μm換算で3%以下であり、
波長変換層を、上記光硬化性組成物を光照射により硬化させることによって形成することを含む波長変換部材の製造方法、
に関する。 A further aspect of the invention provides:
A method for producing a wavelength conversion member having a wavelength conversion layer including quantum dots that are excited by excitation light and emit fluorescence.
The wavelength conversion layer includes quantum dots in the matrix, and the ultraviolet light loss rate in the matrix is 3% or less in terms of thickness of 60 μm,
A method for producing a wavelength conversion member comprising forming a wavelength conversion layer by curing the photocurable composition by light irradiation;
About.
上記バックライトユニット、波長変換部材、光硬化性組成物に関し、一態様では、光重合開始剤は、ヨードニウム塩化合物である。
Regarding the backlight unit, the wavelength conversion member, and the photocurable composition, in one aspect, the photopolymerization initiator is an iodonium salt compound.
一態様では、ヨードニウム塩化合物は、アニオン部として、気相酸性度が240~290kcal/molの範囲であるアニオン部を含む。ここで「気相酸性度」とは、気相中での酸性度であり、IUPAC(International Union of Pure and Applied Chemistry)により酸解離に伴うギブズエネルギー変化と定義されている。気相酸性度は、公知の計算ソフトにより算出することができる。
In one embodiment, the iodonium salt compound includes an anion portion having a gas phase acidity in the range of 240 to 290 kcal / mol as the anion portion. Here, “gas phase acidity” is acidity in the gas phase, and is defined as a change in Gibbs energy accompanying acid dissociation by IUPAC (International Union of Pure Pure and Applied Chemistry). The gas phase acidity can be calculated by known calculation software.
一態様では、重合性化合物は、重合性化合物全量100質量部に対して脂環式エポキシ化合物を1~100質量部含む。
In one embodiment, the polymerizable compound contains 1 to 100 parts by mass of the alicyclic epoxy compound with respect to 100 parts by mass of the total amount of the polymerizable compound.
一態様では、重合性化合物は、(メタ)アクリレート化合物を更に含む。
In one aspect, the polymerizable compound further comprises a (meth) acrylate compound.
一態様では、(メタ)アクリレート化合物は、単官能(メタ)アクリレートを含む。
In one aspect, the (meth) acrylate compound includes monofunctional (meth) acrylate.
一態様では、波長変換層は、光散乱粒子を0.20体積%以上含む。
In one embodiment, the wavelength conversion layer contains 0.20% by volume or more of light scattering particles.
一態様では、光硬化性組成物は、光散乱粒子を固形分全量に対して体積基準で0.20体積%以上含む。なお固形分とは、溶媒を含む組成物については溶媒を除く部分をいい、溶媒を含まない組成物については組成物全体をいうものとする。
In one aspect, the photocurable composition contains light scattering particles in an amount of 0.20% by volume or more based on volume with respect to the total solid content. In addition, solid content means the part except a solvent about the composition containing a solvent, and shall mean the whole composition about the composition which does not contain a solvent.
ここで「光散乱粒子」とは、粒子サイズ0.10μm以上の粒子をいう。光の散乱は、層内の光学的不均一性によりもたらされる。粒子サイズが十分に小さな粒子は、この粒子が含まれていても層の光学的均一性が大きく低下することはないのに対し、粒子サイズ0.10μm以上の粒子は、層を光学的に不均一にし、これにより光の散乱をもたらすことができる粒子である。
本発明および本明細書における粒子サイズとは、走査型電子顕微鏡(Scanning Electron Microscope;SEM)により観察することによって求められる値とする。具体的には、波長変換層または光硬化性組成物を光照射により硬化させて得られた光硬化体の断面を倍率5000倍で撮影したのちに、得られた画像から一次粒子径を測定する。また、球形状ではない粒子については、長軸の長さと短軸の長さの平均値を求め、これを一次粒子径として採用する。こうして求められる一次粒子径を、上記の粒子の粒子サイズとする。また、光散乱粒子の平均粒子サイズとは、上記の撮影した画像において、粒子サイズ0.10μm以上の粒子のうち無作為に抽出した20個の粒子の粒子サイズの算術平均とする。なお後述の実施例で示す光散乱粒子の平均粒子サイズは、走査型電子顕微鏡として日立ハイテク社製S-3400Nを用いて波長変換層の断面を観察して測定することで得られた値である。 Here, “light scattering particles” refer to particles having a particle size of 0.10 μm or more. Light scattering is caused by optical inhomogeneities within the layer. A particle having a sufficiently small particle size does not significantly reduce the optical uniformity of the layer even if the particle is contained, whereas a particle having a particle size of 0.10 μm or more does not cause the layer to be optically defective. Particles that can be made uniform and thereby cause light scattering.
The particle size in the present invention and the present specification is a value determined by observing with a scanning electron microscope (SEM). Specifically, after photographing a cross section of a photocured material obtained by curing a wavelength conversion layer or a photocurable composition by light irradiation at a magnification of 5000 times, the primary particle diameter is measured from the obtained image. . For particles that are not spherical, the average value of the length of the major axis and the length of the minor axis is determined and used as the primary particle diameter. The primary particle diameter thus obtained is defined as the particle size of the above particles. The average particle size of the light scattering particles is the arithmetic average of the particle sizes of 20 particles randomly extracted from particles having a particle size of 0.10 μm or more in the captured image. The average particle size of the light scattering particles shown in the examples described later is a value obtained by observing and measuring the cross section of the wavelength conversion layer using S-3400N manufactured by Hitachi High-Tech as a scanning electron microscope. .
本発明および本明細書における粒子サイズとは、走査型電子顕微鏡(Scanning Electron Microscope;SEM)により観察することによって求められる値とする。具体的には、波長変換層または光硬化性組成物を光照射により硬化させて得られた光硬化体の断面を倍率5000倍で撮影したのちに、得られた画像から一次粒子径を測定する。また、球形状ではない粒子については、長軸の長さと短軸の長さの平均値を求め、これを一次粒子径として採用する。こうして求められる一次粒子径を、上記の粒子の粒子サイズとする。また、光散乱粒子の平均粒子サイズとは、上記の撮影した画像において、粒子サイズ0.10μm以上の粒子のうち無作為に抽出した20個の粒子の粒子サイズの算術平均とする。なお後述の実施例で示す光散乱粒子の平均粒子サイズは、走査型電子顕微鏡として日立ハイテク社製S-3400Nを用いて波長変換層の断面を観察して測定することで得られた値である。 Here, “light scattering particles” refer to particles having a particle size of 0.10 μm or more. Light scattering is caused by optical inhomogeneities within the layer. A particle having a sufficiently small particle size does not significantly reduce the optical uniformity of the layer even if the particle is contained, whereas a particle having a particle size of 0.10 μm or more does not cause the layer to be optically defective. Particles that can be made uniform and thereby cause light scattering.
The particle size in the present invention and the present specification is a value determined by observing with a scanning electron microscope (SEM). Specifically, after photographing a cross section of a photocured material obtained by curing a wavelength conversion layer or a photocurable composition by light irradiation at a magnification of 5000 times, the primary particle diameter is measured from the obtained image. . For particles that are not spherical, the average value of the length of the major axis and the length of the minor axis is determined and used as the primary particle diameter. The primary particle diameter thus obtained is defined as the particle size of the above particles. The average particle size of the light scattering particles is the arithmetic average of the particle sizes of 20 particles randomly extracted from particles having a particle size of 0.10 μm or more in the captured image. The average particle size of the light scattering particles shown in the examples described later is a value obtained by observing and measuring the cross section of the wavelength conversion layer using S-3400N manufactured by Hitachi High-Tech as a scanning electron microscope. .
本発明によれば、光硬化により形成されたエポキシマトリックス中に量子ドットを含む波長変換層を有する波長変換部材を備えた液晶表示装置であって、高輝度の画像を表示可能な液晶表示装置を提供することができる。更に本発明によれば、かかる液晶表示装置の提供を可能とする波長変換部材および波長変換部材の製造方法、ならびバックライトユニットも提供することができる。
According to the present invention, there is provided a liquid crystal display device including a wavelength conversion member having a wavelength conversion layer including quantum dots in an epoxy matrix formed by photocuring, and capable of displaying a high-luminance image. Can be provided. Furthermore, according to this invention, the manufacturing method of the wavelength conversion member which enables provision of this liquid crystal display device, a wavelength conversion member, and a backlight unit can also be provided.
以下の説明は、本発明の代表的な実施態様に基づいてなされることがあるが、本発明はそのような実施態様に限定されるものではない。なお、本発明および本明細書において「~」を用いて表される数値範囲は、「~」の前後に記載される数値を下限値および上限値として含む範囲を意味する。
本発明および本明細書中、ピークの「半値幅」とは、ピーク高さ1/2でのピークの幅のことを言う。また、430~480nmの波長帯域に発光中心波長を有する光を青色光と呼び、520~560nmの波長帯域に発光中心波長を有する光を緑色光と呼び、600~680nmの波長帯域に発光中心波長を有する光を赤色光と呼ぶ。また、紫外光とは、300nm~430nmの波長帯域に発光中心波長を有する光をいう。そして単一ピークの光として青色光を出射する光源を青色光源と呼び、単一ピークの光として紫外光を出射する光源を紫外光源と呼ぶ。ここで単一ピークの光を発光するとは、発光スペクトルに、白色光源のように2つ以上のピークが出現するのではなく、発光中心波長を発光極大とするピークが1つのみ存在することを意味する。
また、直交、等の角度に関する記載については、本発明が属する技術分野において許容される誤差の範囲を含むものとする。例えば、厳密な角度±10°未満の範囲内であることを意味し、厳密な角度との誤差は、5°以下であることが好ましく、3°以下であることがより好ましい。 The following description may be made based on representative embodiments of the present invention, but the present invention is not limited to such embodiments. In the present invention and the present specification, a numerical range expressed using “to” means a range including numerical values described before and after “to” as a lower limit value and an upper limit value.
In the present invention and the present specification, the “half width” of a peak refers to the width of the peak at a peak height of 1/2. The light having the emission center wavelength in the wavelength band of 430 to 480 nm is called blue light, the light having the emission center wavelength in the wavelength band of 520 to 560 nm is called green light, and the emission center wavelength in the wavelength band of 600 to 680 nm. The light having a color is called red light. Ultraviolet light refers to light having an emission center wavelength in the wavelength band of 300 nm to 430 nm. A light source that emits blue light as single peak light is called a blue light source, and a light source that emits ultraviolet light as single peak light is called an ultraviolet light source. Here, to emit light having a single peak means that in the emission spectrum, two or more peaks do not appear as in the case of a white light source, but there is only one peak having the emission center wavelength as an emission maximum. means.
Further, the description relating to an angle such as orthogonal is intended to include a range of errors allowed in the technical field to which the present invention belongs. For example, it means that the angle is within the range of strict angle ± 10 °, and the error from the strict angle is preferably 5 ° or less, and more preferably 3 ° or less.
本発明および本明細書中、ピークの「半値幅」とは、ピーク高さ1/2でのピークの幅のことを言う。また、430~480nmの波長帯域に発光中心波長を有する光を青色光と呼び、520~560nmの波長帯域に発光中心波長を有する光を緑色光と呼び、600~680nmの波長帯域に発光中心波長を有する光を赤色光と呼ぶ。また、紫外光とは、300nm~430nmの波長帯域に発光中心波長を有する光をいう。そして単一ピークの光として青色光を出射する光源を青色光源と呼び、単一ピークの光として紫外光を出射する光源を紫外光源と呼ぶ。ここで単一ピークの光を発光するとは、発光スペクトルに、白色光源のように2つ以上のピークが出現するのではなく、発光中心波長を発光極大とするピークが1つのみ存在することを意味する。
また、直交、等の角度に関する記載については、本発明が属する技術分野において許容される誤差の範囲を含むものとする。例えば、厳密な角度±10°未満の範囲内であることを意味し、厳密な角度との誤差は、5°以下であることが好ましく、3°以下であることがより好ましい。 The following description may be made based on representative embodiments of the present invention, but the present invention is not limited to such embodiments. In the present invention and the present specification, a numerical range expressed using “to” means a range including numerical values described before and after “to” as a lower limit value and an upper limit value.
In the present invention and the present specification, the “half width” of a peak refers to the width of the peak at a peak height of 1/2. The light having the emission center wavelength in the wavelength band of 430 to 480 nm is called blue light, the light having the emission center wavelength in the wavelength band of 520 to 560 nm is called green light, and the emission center wavelength in the wavelength band of 600 to 680 nm. The light having a color is called red light. Ultraviolet light refers to light having an emission center wavelength in the wavelength band of 300 nm to 430 nm. A light source that emits blue light as single peak light is called a blue light source, and a light source that emits ultraviolet light as single peak light is called an ultraviolet light source. Here, to emit light having a single peak means that in the emission spectrum, two or more peaks do not appear as in the case of a white light source, but there is only one peak having the emission center wavelength as an emission maximum. means.
Further, the description relating to an angle such as orthogonal is intended to include a range of errors allowed in the technical field to which the present invention belongs. For example, it means that the angle is within the range of strict angle ± 10 °, and the error from the strict angle is preferably 5 ° or less, and more preferably 3 ° or less.
[バックライトユニット、波長変換部材、光硬化性組成物、波長変換部材の製造方法]
本発明のバックライトユニットは、光源と、光源から出射される光の光路上に位置する波長変換部材と、を含むバックライトユニットであって、波長変換部材は、励起光により励起され蛍光を発光する量子ドットをマトリックス中に含む波長変換層を有し、波長変換層は、光硬化性組成物を光照射により硬化させてなる光硬化層であり、光硬化性組成物は、量子ドット、脂環式エポキシ化合物を少なくとも含む重合性化合物、および光重合開始剤を含み、波長変換層のマトリックスにおける光源から出射される光の損失率は、厚み60μm換算で3%以下であるバックライトユニットである。 [Backlight unit, wavelength conversion member, photocurable composition, wavelength conversion member manufacturing method]
The backlight unit of the present invention is a backlight unit including a light source and a wavelength conversion member positioned on an optical path of light emitted from the light source, and the wavelength conversion member emits fluorescence when excited by excitation light. A wavelength conversion layer including a quantum dot in a matrix, the wavelength conversion layer is a photocured layer obtained by curing a photocurable composition by light irradiation, and the photocurable composition includes a quantum dot, a fat The backlight unit includes a polymerizable compound including at least a cyclic epoxy compound and a photopolymerization initiator, and a loss rate of light emitted from a light source in a matrix of the wavelength conversion layer is 3% or less in terms of a thickness of 60 μm. .
本発明のバックライトユニットは、光源と、光源から出射される光の光路上に位置する波長変換部材と、を含むバックライトユニットであって、波長変換部材は、励起光により励起され蛍光を発光する量子ドットをマトリックス中に含む波長変換層を有し、波長変換層は、光硬化性組成物を光照射により硬化させてなる光硬化層であり、光硬化性組成物は、量子ドット、脂環式エポキシ化合物を少なくとも含む重合性化合物、および光重合開始剤を含み、波長変換層のマトリックスにおける光源から出射される光の損失率は、厚み60μm換算で3%以下であるバックライトユニットである。 [Backlight unit, wavelength conversion member, photocurable composition, wavelength conversion member manufacturing method]
The backlight unit of the present invention is a backlight unit including a light source and a wavelength conversion member positioned on an optical path of light emitted from the light source, and the wavelength conversion member emits fluorescence when excited by excitation light. A wavelength conversion layer including a quantum dot in a matrix, the wavelength conversion layer is a photocured layer obtained by curing a photocurable composition by light irradiation, and the photocurable composition includes a quantum dot, a fat The backlight unit includes a polymerizable compound including at least a cyclic epoxy compound and a photopolymerization initiator, and a loss rate of light emitted from a light source in a matrix of the wavelength conversion layer is 3% or less in terms of a thickness of 60 μm. .
本発明者らは、先に記載した目的を達成するために鋭意検討を重ねた結果、本発明のバックライトユニットを見出した。以下、この点について更に説明する。
本発明者らは、光硬化により形成したエポキシマトリックスを含む波長変換層を有する波長変換部材を備えた液晶表示装置における輝度低下の原因について検討を重ねる中で、原因は以下の点にあると考えるに至った。
エポキシマトリックスを形成するためのエポキシ化合物としては、脂環式エポキシ化合物と脂肪族エポキシ化合物が挙げられる。なお本発明および本明細書において、脂環式エポキシ化合物とは、エポキシ環と飽和炭化水素環が縮環した構造を有するエポキシ化合物をいい、例えばシクロアルケンから派生する形式のエポキシドである。これに対し、グリシジル基などを有するエポキシ化合物は脂肪族エポキシ化合物である。上記二種のエポキシ化合物の中では、光照射による硬化性が良好である点で、脂環式エポキシ化合物が好ましい。しかし本発明者らは、この脂環式エポキシ化合物を用いて光硬化により形成されたエポキシマトリックスが光源から出射された光を吸収することによる光の損失が、上記の輝度低下をもたらしていると考えるに至った。詳しくは、次の通りである。
波長変換部材を備えたバックライトユニットでは、光源から出射された光(以下、「光源由来の光」とも記載する。)が波長変換層に入射し、少なくとも一部が量子ドットに当たることにより量子ドットが励起され蛍光が発光される。また、バックライトユニットには、反射性を有する部材(プリズムシート、輝度向上膜等)が含まれることが多い。光源由来の光の一部は波長変換層を通過した後に、波長変換層よりも出射側に位置する反射性を有する部材により反射されて再び波長変換層に入射し(以下、そのような光を「戻り光」とも記載する。)、その一部が量子ドットに当たることによって量子ドットが励起されることによっても蛍光を得ることができる。更に、戻り光の一部は波長変換層を通過した後に光源側に存在する反射性を有する部材(例えば反射板等)により反射され再び波長変換層に入射することもある。このように、波長変換部材を備えたバックライトユニットでは、光源由来の光が反射を繰り返し波長変換層に入射することにより量子ドットが励起されて蛍光を得ることができる。このようなバックライトユニットにおいて光源由来の光が波長変換層のマトリックスに吸収されることは、吸収がわずかであっても量子ドットの発光効率を低下させてしまうと考えられる。本発明者らは、脂環式エポキシ化合物を用いて光硬化により形成されたエポキシマトリックスが上記のように量子ドットの発光効率を低下させてしまうことが、上述の輝度低下の原因であると考えるに至った。
そこで本発明者らは、例えば詳細を後述する各種手段により脂環式エポキシ化合物を用いて光硬化により形成されたエポキシマトリックスにおける光源由来の光の損失を低減させることによって、上記のバックライトユニットを完成させた。かかるバックライトユニットを組み込んだ液晶表示装置によれば、高輝度の画像を得ることができる。
ただし以上は本発明者らによる推察であって、本発明を何ら限定するものではない。 As a result of intensive studies to achieve the object described above, the present inventors have found the backlight unit of the present invention. Hereinafter, this point will be further described.
The present inventors consider that the cause is as follows, while repeatedly examining the cause of the luminance decrease in the liquid crystal display device including the wavelength conversion member having the wavelength conversion layer including the epoxy matrix formed by photocuring. It came to.
Examples of the epoxy compound for forming the epoxy matrix include an alicyclic epoxy compound and an aliphatic epoxy compound. In the present invention and this specification, an alicyclic epoxy compound refers to an epoxy compound having a structure in which an epoxy ring and a saturated hydrocarbon ring are condensed, and is an epoxide derived from a cycloalkene, for example. On the other hand, an epoxy compound having a glycidyl group or the like is an aliphatic epoxy compound. Of the above two types of epoxy compounds, alicyclic epoxy compounds are preferred in that the curability by light irradiation is good. However, the present inventors have found that the loss of light due to the absorption of light emitted from the light source by the epoxy matrix formed by photocuring using this alicyclic epoxy compound results in the above-described decrease in luminance. I came to think. Details are as follows.
In a backlight unit including a wavelength conversion member, light emitted from a light source (hereinafter also referred to as “light derived from a light source”) enters the wavelength conversion layer, and at least part of the light strikes the quantum dots. Is excited to emit fluorescence. The backlight unit often includes a reflective member (such as a prism sheet or a brightness enhancement film). After a part of the light from the light source passes through the wavelength conversion layer, it is reflected by a reflective member located on the emission side of the wavelength conversion layer and enters the wavelength conversion layer again (hereinafter, such light is referred to as light). It is also referred to as “return light.”) Fluorescence can also be obtained by excitation of the quantum dots when a part of them hits the quantum dots. Further, a part of the return light may be reflected by a reflective member (for example, a reflector) existing on the light source side after passing through the wavelength conversion layer, and may be incident on the wavelength conversion layer again. As described above, in the backlight unit including the wavelength conversion member, the light derived from the light source repeatedly reflects and enters the wavelength conversion layer, whereby the quantum dots are excited and fluorescence can be obtained. In such a backlight unit, the light derived from the light source is absorbed in the matrix of the wavelength conversion layer, which is considered to reduce the light emission efficiency of the quantum dots even if the absorption is slight. The present inventors consider that the epoxy matrix formed by photocuring using an alicyclic epoxy compound reduces the luminous efficiency of the quantum dots as described above, which is the cause of the above-described decrease in luminance. It came to.
Therefore, the present inventors reduced the loss of light derived from the light source in the epoxy matrix formed by photocuring using an alicyclic epoxy compound by various means described in detail later, for example, and thereby the backlight unit described above. Completed. According to the liquid crystal display device incorporating such a backlight unit, a high-luminance image can be obtained.
However, the above is an inference by the present inventors and does not limit the present invention.
本発明者らは、光硬化により形成したエポキシマトリックスを含む波長変換層を有する波長変換部材を備えた液晶表示装置における輝度低下の原因について検討を重ねる中で、原因は以下の点にあると考えるに至った。
エポキシマトリックスを形成するためのエポキシ化合物としては、脂環式エポキシ化合物と脂肪族エポキシ化合物が挙げられる。なお本発明および本明細書において、脂環式エポキシ化合物とは、エポキシ環と飽和炭化水素環が縮環した構造を有するエポキシ化合物をいい、例えばシクロアルケンから派生する形式のエポキシドである。これに対し、グリシジル基などを有するエポキシ化合物は脂肪族エポキシ化合物である。上記二種のエポキシ化合物の中では、光照射による硬化性が良好である点で、脂環式エポキシ化合物が好ましい。しかし本発明者らは、この脂環式エポキシ化合物を用いて光硬化により形成されたエポキシマトリックスが光源から出射された光を吸収することによる光の損失が、上記の輝度低下をもたらしていると考えるに至った。詳しくは、次の通りである。
波長変換部材を備えたバックライトユニットでは、光源から出射された光(以下、「光源由来の光」とも記載する。)が波長変換層に入射し、少なくとも一部が量子ドットに当たることにより量子ドットが励起され蛍光が発光される。また、バックライトユニットには、反射性を有する部材(プリズムシート、輝度向上膜等)が含まれることが多い。光源由来の光の一部は波長変換層を通過した後に、波長変換層よりも出射側に位置する反射性を有する部材により反射されて再び波長変換層に入射し(以下、そのような光を「戻り光」とも記載する。)、その一部が量子ドットに当たることによって量子ドットが励起されることによっても蛍光を得ることができる。更に、戻り光の一部は波長変換層を通過した後に光源側に存在する反射性を有する部材(例えば反射板等)により反射され再び波長変換層に入射することもある。このように、波長変換部材を備えたバックライトユニットでは、光源由来の光が反射を繰り返し波長変換層に入射することにより量子ドットが励起されて蛍光を得ることができる。このようなバックライトユニットにおいて光源由来の光が波長変換層のマトリックスに吸収されることは、吸収がわずかであっても量子ドットの発光効率を低下させてしまうと考えられる。本発明者らは、脂環式エポキシ化合物を用いて光硬化により形成されたエポキシマトリックスが上記のように量子ドットの発光効率を低下させてしまうことが、上述の輝度低下の原因であると考えるに至った。
そこで本発明者らは、例えば詳細を後述する各種手段により脂環式エポキシ化合物を用いて光硬化により形成されたエポキシマトリックスにおける光源由来の光の損失を低減させることによって、上記のバックライトユニットを完成させた。かかるバックライトユニットを組み込んだ液晶表示装置によれば、高輝度の画像を得ることができる。
ただし以上は本発明者らによる推察であって、本発明を何ら限定するものではない。 As a result of intensive studies to achieve the object described above, the present inventors have found the backlight unit of the present invention. Hereinafter, this point will be further described.
The present inventors consider that the cause is as follows, while repeatedly examining the cause of the luminance decrease in the liquid crystal display device including the wavelength conversion member having the wavelength conversion layer including the epoxy matrix formed by photocuring. It came to.
Examples of the epoxy compound for forming the epoxy matrix include an alicyclic epoxy compound and an aliphatic epoxy compound. In the present invention and this specification, an alicyclic epoxy compound refers to an epoxy compound having a structure in which an epoxy ring and a saturated hydrocarbon ring are condensed, and is an epoxide derived from a cycloalkene, for example. On the other hand, an epoxy compound having a glycidyl group or the like is an aliphatic epoxy compound. Of the above two types of epoxy compounds, alicyclic epoxy compounds are preferred in that the curability by light irradiation is good. However, the present inventors have found that the loss of light due to the absorption of light emitted from the light source by the epoxy matrix formed by photocuring using this alicyclic epoxy compound results in the above-described decrease in luminance. I came to think. Details are as follows.
In a backlight unit including a wavelength conversion member, light emitted from a light source (hereinafter also referred to as “light derived from a light source”) enters the wavelength conversion layer, and at least part of the light strikes the quantum dots. Is excited to emit fluorescence. The backlight unit often includes a reflective member (such as a prism sheet or a brightness enhancement film). After a part of the light from the light source passes through the wavelength conversion layer, it is reflected by a reflective member located on the emission side of the wavelength conversion layer and enters the wavelength conversion layer again (hereinafter, such light is referred to as light). It is also referred to as “return light.”) Fluorescence can also be obtained by excitation of the quantum dots when a part of them hits the quantum dots. Further, a part of the return light may be reflected by a reflective member (for example, a reflector) existing on the light source side after passing through the wavelength conversion layer, and may be incident on the wavelength conversion layer again. As described above, in the backlight unit including the wavelength conversion member, the light derived from the light source repeatedly reflects and enters the wavelength conversion layer, whereby the quantum dots are excited and fluorescence can be obtained. In such a backlight unit, the light derived from the light source is absorbed in the matrix of the wavelength conversion layer, which is considered to reduce the light emission efficiency of the quantum dots even if the absorption is slight. The present inventors consider that the epoxy matrix formed by photocuring using an alicyclic epoxy compound reduces the luminous efficiency of the quantum dots as described above, which is the cause of the above-described decrease in luminance. It came to.
Therefore, the present inventors reduced the loss of light derived from the light source in the epoxy matrix formed by photocuring using an alicyclic epoxy compound by various means described in detail later, for example, and thereby the backlight unit described above. Completed. According to the liquid crystal display device incorporating such a backlight unit, a high-luminance image can be obtained.
However, the above is an inference by the present inventors and does not limit the present invention.
更に、光源として青色光源を用いるバックライトユニットに好適な波長変換部材として、
励起光により励起され蛍光を発光する量子ドットをマトリックス中に含む波長変換層を有し、
波長変換層は、光硬化性組成物を光照射により硬化させてなる光硬化層であり、
光硬化性組成物は、量子ドット、脂環式エポキシ化合物を少なくとも含む重合性化合物、および光重合開始剤を含み、
波長変換層のマトリックスにおける青色光損失率は、厚み60μm換算で3%以下である波長変換部材、
も本発明により提供される。 Furthermore, as a wavelength conversion member suitable for a backlight unit using a blue light source as a light source,
It has a wavelength conversion layer containing quantum dots that are excited by excitation light and emit fluorescence, in a matrix,
The wavelength conversion layer is a photocured layer obtained by curing a photocurable composition by light irradiation,
The photocurable composition includes a quantum dot, a polymerizable compound containing at least an alicyclic epoxy compound, and a photopolymerization initiator,
The wavelength conversion member whose blue light loss rate in the matrix of the wavelength conversion layer is 3% or less in terms of thickness of 60 μm,
Are also provided by the present invention.
励起光により励起され蛍光を発光する量子ドットをマトリックス中に含む波長変換層を有し、
波長変換層は、光硬化性組成物を光照射により硬化させてなる光硬化層であり、
光硬化性組成物は、量子ドット、脂環式エポキシ化合物を少なくとも含む重合性化合物、および光重合開始剤を含み、
波長変換層のマトリックスにおける青色光損失率は、厚み60μm換算で3%以下である波長変換部材、
も本発明により提供される。 Furthermore, as a wavelength conversion member suitable for a backlight unit using a blue light source as a light source,
It has a wavelength conversion layer containing quantum dots that are excited by excitation light and emit fluorescence, in a matrix,
The wavelength conversion layer is a photocured layer obtained by curing a photocurable composition by light irradiation,
The photocurable composition includes a quantum dot, a polymerizable compound containing at least an alicyclic epoxy compound, and a photopolymerization initiator,
The wavelength conversion member whose blue light loss rate in the matrix of the wavelength conversion layer is 3% or less in terms of thickness of 60 μm,
Are also provided by the present invention.
更に、上記波長変換部材の製造のために好適な光硬化性組成物として、
励起光により励起され蛍光を発光する量子ドットを含む光硬化性組成物であって、
量子ドット、脂環式エポキシ化合物を少なくとも含む重合性化合物、および光重合開始剤を含み、
光硬化性組成物を光照射により硬化させて得られる光硬化体の量子ドットを除く部分の青色光損失率が、厚み60μm換算で3%以下である、光硬化性組成物、
も本発明により提供される。 Furthermore, as a photocurable composition suitable for the production of the wavelength conversion member,
A photocurable composition comprising quantum dots excited by excitation light and emitting fluorescence,
Including a quantum dot, a polymerizable compound containing at least an alicyclic epoxy compound, and a photopolymerization initiator,
A photocurable composition having a blue light loss rate of 3% or less in terms of a thickness of 60 μm, excluding quantum dots of a photocured product obtained by curing the photocurable composition by light irradiation,
Are also provided by the present invention.
励起光により励起され蛍光を発光する量子ドットを含む光硬化性組成物であって、
量子ドット、脂環式エポキシ化合物を少なくとも含む重合性化合物、および光重合開始剤を含み、
光硬化性組成物を光照射により硬化させて得られる光硬化体の量子ドットを除く部分の青色光損失率が、厚み60μm換算で3%以下である、光硬化性組成物、
も本発明により提供される。 Furthermore, as a photocurable composition suitable for the production of the wavelength conversion member,
A photocurable composition comprising quantum dots excited by excitation light and emitting fluorescence,
Including a quantum dot, a polymerizable compound containing at least an alicyclic epoxy compound, and a photopolymerization initiator,
A photocurable composition having a blue light loss rate of 3% or less in terms of a thickness of 60 μm, excluding quantum dots of a photocured product obtained by curing the photocurable composition by light irradiation,
Are also provided by the present invention.
更に、上記波長変換部材の製造方法として、
励起光により励起され蛍光を発光する量子ドットを含む波長変換層を有する波長変換部材の製造方法であって、
波長変換層は、量子ドットをマトリックス中に含み、かつマトリックスにおける青色光損失率は、厚み60μm換算で3%以下であり、
波長変換層を、上記光硬化性組成物を光照射により硬化させることによって形成することを含む波長変換部材の製造方法、
も本発明により提供される。 Furthermore, as a manufacturing method of the wavelength conversion member,
A method for producing a wavelength conversion member having a wavelength conversion layer including quantum dots that are excited by excitation light and emit fluorescence.
The wavelength conversion layer includes quantum dots in the matrix, and the blue light loss rate in the matrix is 3% or less in terms of a thickness of 60 μm,
A method for producing a wavelength conversion member comprising forming a wavelength conversion layer by curing the photocurable composition by light irradiation;
Are also provided by the present invention.
励起光により励起され蛍光を発光する量子ドットを含む波長変換層を有する波長変換部材の製造方法であって、
波長変換層は、量子ドットをマトリックス中に含み、かつマトリックスにおける青色光損失率は、厚み60μm換算で3%以下であり、
波長変換層を、上記光硬化性組成物を光照射により硬化させることによって形成することを含む波長変換部材の製造方法、
も本発明により提供される。 Furthermore, as a manufacturing method of the wavelength conversion member,
A method for producing a wavelength conversion member having a wavelength conversion layer including quantum dots that are excited by excitation light and emit fluorescence.
The wavelength conversion layer includes quantum dots in the matrix, and the blue light loss rate in the matrix is 3% or less in terms of a thickness of 60 μm,
A method for producing a wavelength conversion member comprising forming a wavelength conversion layer by curing the photocurable composition by light irradiation;
Are also provided by the present invention.
更に、光源として紫外光源を用いるバックライトユニットに好適な波長変換部材として、
励起光により励起され蛍光を発光する量子ドットをマトリックス中に含む波長変換層を有し、
波長変換層は、光硬化性組成物を光照射により硬化させてなる光硬化層であり、
光硬化性組成物は、量子ドット、脂環式エポキシ化合物を少なくとも含む重合性化合物、および光重合開始剤を含み、
波長変換層のマトリックスにおける紫外光損失率は、厚み60μm換算で3%以下である波長変換部材、
も本発明により提供される。 Furthermore, as a wavelength conversion member suitable for a backlight unit using an ultraviolet light source as a light source,
It has a wavelength conversion layer containing quantum dots that are excited by excitation light and emit fluorescence, in a matrix,
The wavelength conversion layer is a photocured layer obtained by curing a photocurable composition by light irradiation,
The photocurable composition includes a quantum dot, a polymerizable compound containing at least an alicyclic epoxy compound, and a photopolymerization initiator,
The wavelength conversion member whose ultraviolet light loss rate in the matrix of the wavelength conversion layer is 3% or less in terms ofthickness 60 μm,
Are also provided by the present invention.
励起光により励起され蛍光を発光する量子ドットをマトリックス中に含む波長変換層を有し、
波長変換層は、光硬化性組成物を光照射により硬化させてなる光硬化層であり、
光硬化性組成物は、量子ドット、脂環式エポキシ化合物を少なくとも含む重合性化合物、および光重合開始剤を含み、
波長変換層のマトリックスにおける紫外光損失率は、厚み60μm換算で3%以下である波長変換部材、
も本発明により提供される。 Furthermore, as a wavelength conversion member suitable for a backlight unit using an ultraviolet light source as a light source,
It has a wavelength conversion layer containing quantum dots that are excited by excitation light and emit fluorescence, in a matrix,
The wavelength conversion layer is a photocured layer obtained by curing a photocurable composition by light irradiation,
The photocurable composition includes a quantum dot, a polymerizable compound containing at least an alicyclic epoxy compound, and a photopolymerization initiator,
The wavelength conversion member whose ultraviolet light loss rate in the matrix of the wavelength conversion layer is 3% or less in terms of
Are also provided by the present invention.
更に、上記波長変換部材の製造のために好適な光硬化性組成物として、
励起光により励起され蛍光を発光する量子ドットを含む光硬化性組成物であって、
量子ドット、脂環式エポキシ化合物を少なくとも含む重合性化合物、および光重合開始剤を含み、
光硬化性組成物を光照射により硬化させて得られる光硬化体の量子ドットを除く部分の紫外光損失率が、厚み60μm換算で3%以下である、光硬化性組成物、
も本発明により提供される。 Furthermore, as a photocurable composition suitable for the production of the wavelength conversion member,
A photocurable composition comprising quantum dots excited by excitation light and emitting fluorescence,
Including a quantum dot, a polymerizable compound containing at least an alicyclic epoxy compound, and a photopolymerization initiator,
The photocurable composition, wherein the ultraviolet light loss rate of the portion excluding the quantum dots of the photocured product obtained by curing the photocurable composition by light irradiation is 3% or less in terms of thickness of 60 μm,
Are also provided by the present invention.
励起光により励起され蛍光を発光する量子ドットを含む光硬化性組成物であって、
量子ドット、脂環式エポキシ化合物を少なくとも含む重合性化合物、および光重合開始剤を含み、
光硬化性組成物を光照射により硬化させて得られる光硬化体の量子ドットを除く部分の紫外光損失率が、厚み60μm換算で3%以下である、光硬化性組成物、
も本発明により提供される。 Furthermore, as a photocurable composition suitable for the production of the wavelength conversion member,
A photocurable composition comprising quantum dots excited by excitation light and emitting fluorescence,
Including a quantum dot, a polymerizable compound containing at least an alicyclic epoxy compound, and a photopolymerization initiator,
The photocurable composition, wherein the ultraviolet light loss rate of the portion excluding the quantum dots of the photocured product obtained by curing the photocurable composition by light irradiation is 3% or less in terms of thickness of 60 μm,
Are also provided by the present invention.
更に、上記波長変換部材の製造方法として、
励起光により励起され蛍光を発光する量子ドットを含む波長変換層を有する波長変換部材の製造方法であって、
波長変換層は、量子ドットをマトリックス中に含み、かつマトリックスにおける紫外光損失率は、厚み60μm換算で3%以下であり、
波長変換層を、上記光硬化性組成物を光照射により硬化させることによって形成することを含む波長変換部材の製造方法、
も本発明により提供される。 Furthermore, as a manufacturing method of the wavelength conversion member,
A method for producing a wavelength conversion member having a wavelength conversion layer including quantum dots that are excited by excitation light and emit fluorescence.
The wavelength conversion layer includes quantum dots in the matrix, and the ultraviolet light loss rate in the matrix is 3% or less in terms of thickness of 60 μm,
A method for producing a wavelength conversion member comprising forming a wavelength conversion layer by curing the photocurable composition by light irradiation;
Are also provided by the present invention.
励起光により励起され蛍光を発光する量子ドットを含む波長変換層を有する波長変換部材の製造方法であって、
波長変換層は、量子ドットをマトリックス中に含み、かつマトリックスにおける紫外光損失率は、厚み60μm換算で3%以下であり、
波長変換層を、上記光硬化性組成物を光照射により硬化させることによって形成することを含む波長変換部材の製造方法、
も本発明により提供される。 Furthermore, as a manufacturing method of the wavelength conversion member,
A method for producing a wavelength conversion member having a wavelength conversion layer including quantum dots that are excited by excitation light and emit fluorescence.
The wavelength conversion layer includes quantum dots in the matrix, and the ultraviolet light loss rate in the matrix is 3% or less in terms of thickness of 60 μm,
A method for producing a wavelength conversion member comprising forming a wavelength conversion layer by curing the photocurable composition by light irradiation;
Are also provided by the present invention.
以下、上記バックライトユニット、波長変換部材、光硬化性組成物、および波長変換部材の製造方法について、更に詳細に説明する。
Hereinafter, the backlight unit, the wavelength conversion member, the photocurable composition, and the method for producing the wavelength conversion member will be described in more detail.
(波長変換部材の構成、配置例)
波長変換部材は、入射光の少なくとも一部の波長を変換して、入射光の波長と異なる波長の光を出射する機能を有していればよい。波長変換部材の形状は特に限定されるものではなく、シート状、バー状等の任意の形状であることができる。波長変換部材は、液晶表示装置のバックライトユニットの構成部材として使用することができる。 (Configuration of wavelength conversion member, arrangement example)
The wavelength conversion member should just have the function to convert the wavelength of at least one part of incident light, and to radiate | emit the light of a wavelength different from the wavelength of incident light. The shape of the wavelength conversion member is not particularly limited, and may be any shape such as a sheet shape or a bar shape. The wavelength conversion member can be used as a constituent member of the backlight unit of the liquid crystal display device.
波長変換部材は、入射光の少なくとも一部の波長を変換して、入射光の波長と異なる波長の光を出射する機能を有していればよい。波長変換部材の形状は特に限定されるものではなく、シート状、バー状等の任意の形状であることができる。波長変換部材は、液晶表示装置のバックライトユニットの構成部材として使用することができる。 (Configuration of wavelength conversion member, arrangement example)
The wavelength conversion member should just have the function to convert the wavelength of at least one part of incident light, and to radiate | emit the light of a wavelength different from the wavelength of incident light. The shape of the wavelength conversion member is not particularly limited, and may be any shape such as a sheet shape or a bar shape. The wavelength conversion member can be used as a constituent member of the backlight unit of the liquid crystal display device.
図1は、波長変換部材を含むバックライトユニット1の一例の説明図である。図1中、バックライトユニット1は、光源1Aと、面光源とするための導光板1Bを備える。図1(a)に示す例では、波長変換部材は、導光板から出射される光の経路上に配置されている。一方、図1(b)に示す例では、波長変換部材は、導光板と光源との間に配置されている。そして図1(a)に示す例では、導光板1Bから出射される光が、波長変換部材1Cに
入射する。
図1(a)に示す例では、導光板1Bのエッジ部に配置された光源1Aから出射される光2は青色光であり、導光板1Bの液晶セル(図示せず)側の面から液晶セルに向けて出射される。導光板1Bから出射された光(青色光2)の経路上に配置された波長変換部材1Cには、青色光2により励起され赤色光4を発光する量子ドット(A)と、青色光2により励起され緑色光3を発光する量子ドット(B)を、少なくとも含む。このようにしてバックライトユニット1からは、励起された緑色光3および赤色光4、ならびに波長変換部材1Cを透過した青色光2が出射される。こうして赤色光、緑色光、および青色光の光を発光させることで、白色光を具現化することができる。
図1(b)に示す例は、波長変換部材と導光板の配置が異なる点以外は、図1(a)に示す態様と同様である。図1(b)に示す例では、波長変換部材1Cから、励起された緑色光3および赤色光4、ならびに波長変換部材1Cを透過した青色光2が出射され導光板に入射し、面光源が実現される。 FIG. 1 is an explanatory diagram of an example of abacklight unit 1 including a wavelength conversion member. In FIG. 1, the backlight unit 1 includes a light source 1A and a light guide plate 1B for making a surface light source. In the example shown in FIG. 1A, the wavelength conversion member is disposed on the path of light emitted from the light guide plate. On the other hand, in the example shown in FIG. 1B, the wavelength conversion member is disposed between the light guide plate and the light source. And in the example shown to Fig.1 (a), the light radiate | emitted from the light-guide plate 1B injects into the wavelength conversion member 1C.
In the example shown in FIG. 1A, thelight 2 emitted from the light source 1A disposed at the edge portion of the light guide plate 1B is blue light, and the liquid crystal is applied from the surface on the liquid crystal cell (not shown) side of the light guide plate 1B. It is emitted toward the cell. The wavelength conversion member 1C disposed on the path of the light (blue light 2) emitted from the light guide plate 1B has quantum dots (A) that are excited by the blue light 2 and emit red light 4, and the blue light 2 It includes at least quantum dots (B) that are excited to emit green light 3. In this way, the backlight unit 1 emits the excited green light 3 and red light 4 and the blue light 2 transmitted through the wavelength conversion member 1C. Thus, white light can be realized by emitting red light, green light, and blue light.
The example shown in FIG. 1B is the same as the embodiment shown in FIG. 1A except that the arrangement of the wavelength conversion member and the light guide plate is different. In the example shown in FIG. 1B, the excitedgreen light 3 and red light 4 and the blue light 2 transmitted through the wavelength conversion member 1C are emitted from the wavelength conversion member 1C and enter the light guide plate, and the surface light source is Realized.
入射する。
図1(a)に示す例では、導光板1Bのエッジ部に配置された光源1Aから出射される光2は青色光であり、導光板1Bの液晶セル(図示せず)側の面から液晶セルに向けて出射される。導光板1Bから出射された光(青色光2)の経路上に配置された波長変換部材1Cには、青色光2により励起され赤色光4を発光する量子ドット(A)と、青色光2により励起され緑色光3を発光する量子ドット(B)を、少なくとも含む。このようにしてバックライトユニット1からは、励起された緑色光3および赤色光4、ならびに波長変換部材1Cを透過した青色光2が出射される。こうして赤色光、緑色光、および青色光の光を発光させることで、白色光を具現化することができる。
図1(b)に示す例は、波長変換部材と導光板の配置が異なる点以外は、図1(a)に示す態様と同様である。図1(b)に示す例では、波長変換部材1Cから、励起された緑色光3および赤色光4、ならびに波長変換部材1Cを透過した青色光2が出射され導光板に入射し、面光源が実現される。 FIG. 1 is an explanatory diagram of an example of a
In the example shown in FIG. 1A, the
The example shown in FIG. 1B is the same as the embodiment shown in FIG. 1A except that the arrangement of the wavelength conversion member and the light guide plate is different. In the example shown in FIG. 1B, the excited
(波長変換層)
波長変換部材は、少なくとも、量子ドットを含む波長変換層を有する。波長変換層は、量子ドットをマトリックス中に含む。マトリックスは重合体を含み、波長変換層は、量子ドットおよび重合性化合物を含む光硬化性組成物から形成することができる。上記波長変換部材では、波長変換層は、量子ドット、脂環式エポキシ化合物を少なくとも含む一種以上の重合性化合物および光重合開始剤を含む光硬化性組成物の光硬化層である。波長変換層の形状は特に限定されるものではなく、シート状、バー状等の任意の形状であることができる。 (Wavelength conversion layer)
The wavelength conversion member has at least a wavelength conversion layer including quantum dots. The wavelength conversion layer includes quantum dots in the matrix. The matrix includes a polymer, and the wavelength conversion layer can be formed from a photocurable composition including quantum dots and a polymerizable compound. In the wavelength conversion member, the wavelength conversion layer is a photocured layer of a photocurable composition including a quantum dot, one or more polymerizable compounds including at least an alicyclic epoxy compound, and a photopolymerization initiator. The shape of the wavelength conversion layer is not particularly limited, and may be any shape such as a sheet shape or a bar shape.
波長変換部材は、少なくとも、量子ドットを含む波長変換層を有する。波長変換層は、量子ドットをマトリックス中に含む。マトリックスは重合体を含み、波長変換層は、量子ドットおよび重合性化合物を含む光硬化性組成物から形成することができる。上記波長変換部材では、波長変換層は、量子ドット、脂環式エポキシ化合物を少なくとも含む一種以上の重合性化合物および光重合開始剤を含む光硬化性組成物の光硬化層である。波長変換層の形状は特に限定されるものではなく、シート状、バー状等の任意の形状であることができる。 (Wavelength conversion layer)
The wavelength conversion member has at least a wavelength conversion layer including quantum dots. The wavelength conversion layer includes quantum dots in the matrix. The matrix includes a polymer, and the wavelength conversion layer can be formed from a photocurable composition including quantum dots and a polymerizable compound. In the wavelength conversion member, the wavelength conversion layer is a photocured layer of a photocurable composition including a quantum dot, one or more polymerizable compounds including at least an alicyclic epoxy compound, and a photopolymerization initiator. The shape of the wavelength conversion layer is not particularly limited, and may be any shape such as a sheet shape or a bar shape.
量子ドットは、励起光により励起され蛍光を発光する。波長変換層は、少なくとも一種の量子ドットを含み、発光特性の異なる二種以上の量子ドットを含むこともできる。公知の量子ドットには、600nm~680nmの範囲の波長帯域に発光中心波長を有する量子ドット(A)、520nm~560nmの範囲の波長帯域に発光中心波長を有する量子ドット(B)、400nm~500nmの波長帯域に発光中心波長を有する量子ドット(C)がある。量子ドット(A)は、励起光により励起され赤色光を発光し、量子ドット(B)は緑色光を、量子ドット(C)は青色光を発光する。例えば、量子ドット(A)と量子ドット(B)を含む波長変換層へ励起光として青色光を入射させると、図1に示すように、量子ドット(A)により発光される赤色光、量子ドット(B)により発光される緑色光と、波長変換層を透過した青色光により、白色光を具現化することができる。または、量子ドット(A)、(B)、および(C)を含む波長変換層に励起光として紫外光を入射させることにより、量子ドット(A)により発光される赤色光、量子ドット(B)により発光される緑色光、および量子ドット(C)により発光される青色光により、白色光を具現化することができる。
Quantum dots are excited by excitation light to emit fluorescence. The wavelength conversion layer includes at least one kind of quantum dot and can also include two or more kinds of quantum dots having different light emission characteristics. Known quantum dots include a quantum dot (A) having an emission center wavelength in a wavelength band in the range of 600 nm to 680 nm (A), a quantum dot (B) having an emission center wavelength in a wavelength band in the range of 520 nm to 560 nm, and 400 nm to 500 nm. There is a quantum dot (C) having an emission center wavelength in the wavelength band. The quantum dots (A) are excited by excitation light to emit red light, the quantum dots (B) emit green light, and the quantum dots (C) emit blue light. For example, when blue light is incident as excitation light on a wavelength conversion layer including quantum dots (A) and quantum dots (B), red light emitted from the quantum dots (A) and quantum dots as shown in FIG. White light can be realized by the green light emitted by (B) and the blue light transmitted through the wavelength conversion layer. Alternatively, the red light emitted from the quantum dots (A) and the quantum dots (B) by making ultraviolet light incident on the wavelength conversion layer including the quantum dots (A), (B), and (C) as excitation light. White light can be realized by green light emitted by the blue light and blue light emitted by the quantum dots (C).
上記バックライトユニットに含まれる波長変換部材の波長変換層のマトリックスについて測定される光源から出射される光の損失率は、厚み60μm換算で3%以下である。波長変換層のマトリックスの上記損失率が3%以下であることにより、光源由来の光が波長変換層により損失することを抑制することができる。本発明者らは、この点が、上記バックライトユニットを備える液晶表示装置における輝度低下を抑制することに寄与すると推察している。上記損失率は、3%未満であることが好ましく、2%未満であることがより好ましく、1%未満であることが更に好ましい。上記損失率は、例えば0.01%以上であれば、低いほど好ましいため下限は特に限定されるものではない。なお上記損失率の測定方法は、先に記載した通りである。
The loss rate of light emitted from the light source measured for the matrix of the wavelength conversion layer of the wavelength conversion member included in the backlight unit is 3% or less in terms of thickness of 60 μm. When the loss rate of the matrix of the wavelength conversion layer is 3% or less, the light from the light source can be prevented from being lost by the wavelength conversion layer. The present inventors presume that this point contributes to suppressing luminance reduction in a liquid crystal display device including the backlight unit. The loss rate is preferably less than 3%, more preferably less than 2%, and still more preferably less than 1%. For example, if the loss rate is 0.01% or more, the lower the better, the lower limit is not particularly limited. The method for measuring the loss rate is as described above.
上記損失率は、バックライトユニットに含まれる光源が青色光源である場合には青色光の損失率である。また、光源が紫外光源である場合には、紫外光の損失率である。上記光の損失率は、例えば、波長変換層を形成するために用いる光硬化性組成物の処方により制御することができる。詳細は後述する。
The above loss rate is the loss rate of blue light when the light source included in the backlight unit is a blue light source. Further, when the light source is an ultraviolet light source, it is the loss rate of ultraviolet light. The light loss rate can be controlled, for example, by the formulation of the photocurable composition used to form the wavelength conversion layer. Details will be described later.
(量子ドット含有光硬化性組成物)
上記波長変換部材における波長変換層は、量子ドット含有光硬化性組成物を光照射により硬化させてなる光硬化層である。量子ドット含有光硬化性組成物(「光硬化性組成物」とも記載する。)は、量子ドット、脂環式エポキシ化合物を少なくとも含む一種以上の重合性化合物および光重合開始剤を含む。光硬化性組成物は、有機金属カップリング剤等の他の成分を含んでいてもよい。 (Quantum dot-containing photocurable composition)
The wavelength conversion layer in the said wavelength conversion member is a photocuring layer formed by hardening a quantum dot containing photocurable composition by light irradiation. The quantum dot-containing photocurable composition (also referred to as “photocurable composition”) includes quantum dots, one or more polymerizable compounds including at least an alicyclic epoxy compound, and a photopolymerization initiator. The photocurable composition may contain other components such as an organometallic coupling agent.
上記波長変換部材における波長変換層は、量子ドット含有光硬化性組成物を光照射により硬化させてなる光硬化層である。量子ドット含有光硬化性組成物(「光硬化性組成物」とも記載する。)は、量子ドット、脂環式エポキシ化合物を少なくとも含む一種以上の重合性化合物および光重合開始剤を含む。光硬化性組成物は、有機金属カップリング剤等の他の成分を含んでいてもよい。 (Quantum dot-containing photocurable composition)
The wavelength conversion layer in the said wavelength conversion member is a photocuring layer formed by hardening a quantum dot containing photocurable composition by light irradiation. The quantum dot-containing photocurable composition (also referred to as “photocurable composition”) includes quantum dots, one or more polymerizable compounds including at least an alicyclic epoxy compound, and a photopolymerization initiator. The photocurable composition may contain other components such as an organometallic coupling agent.
(量子ドット)
量子ドットとは、量子閉じ込め効果により離散的なエネルギー準位を取る蛍光体である。量子ドットの形状としては、球状、棒状、テトラポット型等の各種形状が挙げられる。なお棒状には、針状、円柱状、回転楕円体形状、多角柱状等の異方性のある形状が包含される。量子ドットの形状の確認方法は、特に制限はなく、例えば透過型電子顕微鏡を用いて確認することができる。棒状の量子ドットは、量子ロッド(Quantum Rod)とも呼ばれる。 (Quantum dot)
A quantum dot is a phosphor that takes discrete energy levels due to the quantum confinement effect. Examples of the shape of the quantum dot include various shapes such as a spherical shape, a rod shape, and a tetrapot type. The bar shape includes anisotropic shapes such as a needle shape, a cylindrical shape, a spheroid shape, and a polygonal column shape. There is no restriction | limiting in particular in the confirmation method of the shape of a quantum dot, For example, it can confirm using a transmission electron microscope. A rod-like quantum dot is also called a quantum rod.
量子ドットとは、量子閉じ込め効果により離散的なエネルギー準位を取る蛍光体である。量子ドットの形状としては、球状、棒状、テトラポット型等の各種形状が挙げられる。なお棒状には、針状、円柱状、回転楕円体形状、多角柱状等の異方性のある形状が包含される。量子ドットの形状の確認方法は、特に制限はなく、例えば透過型電子顕微鏡を用いて確認することができる。棒状の量子ドットは、量子ロッド(Quantum Rod)とも呼ばれる。 (Quantum dot)
A quantum dot is a phosphor that takes discrete energy levels due to the quantum confinement effect. Examples of the shape of the quantum dot include various shapes such as a spherical shape, a rod shape, and a tetrapot type. The bar shape includes anisotropic shapes such as a needle shape, a cylindrical shape, a spheroid shape, and a polygonal column shape. There is no restriction | limiting in particular in the confirmation method of the shape of a quantum dot, For example, it can confirm using a transmission electron microscope. A rod-like quantum dot is also called a quantum rod.
発光半値幅(FWHM;full width at half maximum)を狭くすることにより液晶表示装置の色再現域を拡大する観点からは、球形の量子ドットおよび棒状の量子ドット(すなわち、量子ロッド)からなる群から選ばれる量子ドットが好ましい。
From the viewpoint of expanding the color reproduction range of the liquid crystal display device by narrowing the full width at half maximum (FWHM), from the group consisting of spherical quantum dots and rod-like quantum dots (ie, quantum rods). The quantum dots chosen are preferred.
一方、波長変換層の薄層化の観点からは、波長変換層中の量子ドットの濃度を高めることが好ましい。この観点からは、棒状の量子ドット(即ち、量子ロッド)およびテトラポッド型の量子ドットからなる群から選ばれる量子ドットが好ましい。詳しくは、次の通りである。量子ロッドおよびテトラポッド型の量子ドットは、球状の量子ドットと比べて発光した光の再吸収(自己吸収ともいう)が小さいため、波長変換層における濃度を高めても発光量子収率の低下が小さい傾向がある。そのため、波長変換層における量子ドットの濃度を高めることにより、波長変換層の厚みを薄くすることができる。波長変換層を薄くすることは、脂環式エポキシ化合物を用いて光硬化により形成されたエポキシマトリックス量を低減することにつながり、これにより光源由来の光の損失を更に低減することができる。更に、波長変換層を薄くできることは、光硬化を行う場合に硬化性の改善にもつながるため、好ましい。
On the other hand, from the viewpoint of thinning the wavelength conversion layer, it is preferable to increase the concentration of quantum dots in the wavelength conversion layer. From this viewpoint, a quantum dot selected from the group consisting of rod-like quantum dots (that is, quantum rods) and tetrapod type quantum dots is preferable. Details are as follows. Quantum rods and tetrapod-type quantum dots have less reabsorption (also called self-absorption) of emitted light compared to spherical quantum dots, so even if the concentration in the wavelength conversion layer is increased, the emission quantum yield is reduced. There is a small tendency. Therefore, the thickness of the wavelength conversion layer can be reduced by increasing the concentration of quantum dots in the wavelength conversion layer. Thinning the wavelength conversion layer leads to a reduction in the amount of the epoxy matrix formed by photocuring using the alicyclic epoxy compound, thereby further reducing light loss from the light source. Furthermore, it is preferable that the wavelength conversion layer can be made thin because it leads to improvement in curability when photocuring is performed.
波長変換層に使用可能な量子ロッドとしては、特に制限はなく、例えば、米国特許7303628号、論文(Peng,X. G.; Manna, L.; Yang,W. D.; Wickham, j.; Scher,E.; Kadavanich,A.; Alivisatos,A. P. Nature 2000,404, 59-61)、論文(Manna,L.; Scher, E. C.; Alivisatos,A. P. j. Am. Chem.Soc. 2000, 122, 12700-12706)等に記載の量子ロッドを用いることができ、これらの文献の内容は本発明に組み込まれる。
The quantum rod that can be used in the wavelength conversion layer is not particularly limited. For example, US Pat. No. 7,303,628, paper (Peng, X. G .; Manna, L .; Yang, W. D .; Wickham, j. Scher, E .; Kadavanich, A .; Alivisatos, A. P. Nature 2000, 404, 59-61), paper (Manna, L .; Scher, E. C .; Alivitas, A. Chem. Soc. 2000, 122, 12700-12706) can be used, and the contents of these documents are incorporated in the present invention.
量子ロッドの平均長軸長(長軸長の平均値)は特に制限されないが、発光特性、発光効率等の点から、8~500nmの範囲であることが好ましく、10~160nmの範囲であることがより好ましい。上記平均長軸長は、任意に選択した20個以上の量子ロッドの長軸長を顕微鏡(例えば、透過型電子顕微鏡)にて測定して、それらを算術平均した値である。
また、量子ロッドの長軸とは、顕微鏡(例えば、透過型電子顕微鏡)観察して得られる量子ロッドの二次元像において、量子ロッドを横切る線分が最も長くなる線分のことをいう。短軸とは、長軸に直交し、かつ量子ロッドを横切る線分が最も長くなる線分のことをいう。
量子ロッドの平均短軸長(短軸長の平均値)は特に制限されないが、発光特性、発光効率等の点から、0.3~20nmの範囲であることが好ましく、1~10nmの範囲であることがより好ましい。上記平均短軸長は、任意に選択した20個以上の量子ロッドの短軸長を顕微鏡(例えば、透過型電子顕微鏡)にて測定して、それらを算術平均した値である。
量子ロッドのアスペクト比(量子ロッドの長軸長/量子ロッドの短軸長)は、発光特性がより優れる点、発光効率の低下が抑制される点等から、1.5以上が好ましく、3.0以上がより好ましい。上限は特に制限されないが、取り扱いやすさの点からは、20以下であることが好ましい。上記アスペクト比は平均値であり、任意に選択した20個以上の量子ロッドのアスペクト比を顕微鏡(例えば、透過型電子顕微鏡)にて測定して、それらを算術平均した値である。
なお上記方法により求められるアスペクト比が1.1以下の形状を球状、アスペクト比が1.1超の形状を、棒状と呼ぶ。 The average long axis length (average value of the long axis length) of the quantum rod is not particularly limited, but is preferably in the range of 8 to 500 nm from the viewpoint of light emission characteristics, light emission efficiency, and the like, and is in the range of 10 to 160 nm. Is more preferable. The average major axis length is a value obtained by measuring the major axis lengths of 20 or more arbitrarily selected quantum rods with a microscope (for example, a transmission electron microscope) and arithmetically averaging them.
Moreover, the long axis of a quantum rod means the line segment in which the line segment which crosses a quantum rod becomes the longest in the two-dimensional image of the quantum rod obtained by observing with a microscope (for example, transmission electron microscope). The short axis is a line segment that is orthogonal to the long axis and has the longest line segment that crosses the quantum rod.
The average minor axis length (average minor axis length) of the quantum rod is not particularly limited, but is preferably in the range of 0.3 to 20 nm from the viewpoint of light emission characteristics, light emission efficiency, and the like, and in the range of 1 to 10 nm. More preferably. The average minor axis length is a value obtained by measuring the minor axis lengths of 20 or more arbitrarily selected quantum rods with a microscope (for example, a transmission electron microscope) and arithmetically averaging them.
2. The aspect ratio of the quantum rod (the long axis length of the quantum rod / the short axis length of the quantum rod) is preferably 1.5 or more from the viewpoints of better light emission characteristics, suppression of a decrease in light emission efficiency, and the like. 0 or more is more preferable. The upper limit is not particularly limited, but is preferably 20 or less from the viewpoint of ease of handling. The aspect ratio is an average value, and the aspect ratio of 20 or more arbitrarily selected quantum rods is measured with a microscope (for example, a transmission electron microscope), and is an arithmetic average value thereof.
A shape having an aspect ratio of 1.1 or less obtained by the above method is called a spherical shape, and a shape having an aspect ratio of more than 1.1 is called a rod shape.
また、量子ロッドの長軸とは、顕微鏡(例えば、透過型電子顕微鏡)観察して得られる量子ロッドの二次元像において、量子ロッドを横切る線分が最も長くなる線分のことをいう。短軸とは、長軸に直交し、かつ量子ロッドを横切る線分が最も長くなる線分のことをいう。
量子ロッドの平均短軸長(短軸長の平均値)は特に制限されないが、発光特性、発光効率等の点から、0.3~20nmの範囲であることが好ましく、1~10nmの範囲であることがより好ましい。上記平均短軸長は、任意に選択した20個以上の量子ロッドの短軸長を顕微鏡(例えば、透過型電子顕微鏡)にて測定して、それらを算術平均した値である。
量子ロッドのアスペクト比(量子ロッドの長軸長/量子ロッドの短軸長)は、発光特性がより優れる点、発光効率の低下が抑制される点等から、1.5以上が好ましく、3.0以上がより好ましい。上限は特に制限されないが、取り扱いやすさの点からは、20以下であることが好ましい。上記アスペクト比は平均値であり、任意に選択した20個以上の量子ロッドのアスペクト比を顕微鏡(例えば、透過型電子顕微鏡)にて測定して、それらを算術平均した値である。
なお上記方法により求められるアスペクト比が1.1以下の形状を球状、アスペクト比が1.1超の形状を、棒状と呼ぶ。 The average long axis length (average value of the long axis length) of the quantum rod is not particularly limited, but is preferably in the range of 8 to 500 nm from the viewpoint of light emission characteristics, light emission efficiency, and the like, and is in the range of 10 to 160 nm. Is more preferable. The average major axis length is a value obtained by measuring the major axis lengths of 20 or more arbitrarily selected quantum rods with a microscope (for example, a transmission electron microscope) and arithmetically averaging them.
Moreover, the long axis of a quantum rod means the line segment in which the line segment which crosses a quantum rod becomes the longest in the two-dimensional image of the quantum rod obtained by observing with a microscope (for example, transmission electron microscope). The short axis is a line segment that is orthogonal to the long axis and has the longest line segment that crosses the quantum rod.
The average minor axis length (average minor axis length) of the quantum rod is not particularly limited, but is preferably in the range of 0.3 to 20 nm from the viewpoint of light emission characteristics, light emission efficiency, and the like, and in the range of 1 to 10 nm. More preferably. The average minor axis length is a value obtained by measuring the minor axis lengths of 20 or more arbitrarily selected quantum rods with a microscope (for example, a transmission electron microscope) and arithmetically averaging them.
2. The aspect ratio of the quantum rod (the long axis length of the quantum rod / the short axis length of the quantum rod) is preferably 1.5 or more from the viewpoints of better light emission characteristics, suppression of a decrease in light emission efficiency, and the like. 0 or more is more preferable. The upper limit is not particularly limited, but is preferably 20 or less from the viewpoint of ease of handling. The aspect ratio is an average value, and the aspect ratio of 20 or more arbitrarily selected quantum rods is measured with a microscope (for example, a transmission electron microscope), and is an arithmetic average value thereof.
A shape having an aspect ratio of 1.1 or less obtained by the above method is called a spherical shape, and a shape having an aspect ratio of more than 1.1 is called a rod shape.
各種形状の量子ドットの表面には、ルイス塩基性の配位性基を有する配位子が配位していてもよい。ルイス塩基性の配位性基としては、アミノ基、カルボキシ基、メルカプト基、ホスフィン基、およびホスフィンオキシド基、等を挙げることができる。配位子の具体例としては、ヘキシルアミン、デシルアミン、ヘキサデシルアミン、オクタデシルアミン、オレイルアミン、ミリスチルアミン、ラウリルアミン、オレイン酸、メルカプトプロピオン酸、トリオクチルホスフィン、およびトリオクチルホスフィンオキシド等を挙げることができる。なかでも、ヘキサデシルアミン、トリオクチルホスフィン、およびトリオクチルホスフィンオキシドが好ましく、トリオクチルホスフィンオキシドが特に好ましい。
A ligand having a Lewis basic coordinating group may be coordinated on the surface of the quantum dots of various shapes. Examples of Lewis basic coordinating groups include amino groups, carboxy groups, mercapto groups, phosphine groups, and phosphine oxide groups. Specific examples of the ligand include hexylamine, decylamine, hexadecylamine, octadecylamine, oleylamine, myristylamine, laurylamine, oleic acid, mercaptopropionic acid, trioctylphosphine, and trioctylphosphine oxide. it can. Of these, hexadecylamine, trioctylphosphine, and trioctylphosphine oxide are preferable, and trioctylphosphine oxide is particularly preferable.
量子ドットについては、上記の記載に加えて、例えば特開2012-169271号公報段落0060~0066を参照することができるが、ここに記載のものに限定されるものではない。量子ドットとしては、市販品を何ら制限なく用いることができる。量子ドットの発光波長は、通常、粒子の組成、サイズ、ならびに組成およびサイズにより調整することができる。
Regarding quantum dots, in addition to the above description, for example, JP 2012-169271 A paragraphs 0060 to 0066 can be referred to, but the quantum dots are not limited thereto. As the quantum dots, commercially available products can be used without any limitation. The emission wavelength of the quantum dots can usually be adjusted by the composition and size of the particles, and the composition and size.
量子ドットとしては、コアを構成する半導体をシェルを構成する半導体が被覆したコアシェル構造を有する半導体粒子(コア-シェル型の半導体粒子)が、発光効率の観点から好ましい。コアとしては、例えば、II-VI族半導体粒子、III-V族半導体粒子等の二種以上の原子を含む多元系半導体粒子等を用いることができる。これら半導体粒子は、一態様では、数nm~数十nm程度の粒子サイズを有するいわゆるナノ粒子であることができる。コアを構成し得る半導体の具体例としては、CdSe、CdTe、CdS、ZnS、ZnSe、ZnTe、InP、InAs、InGaP、CuInS2等が挙げられるが、これらに限定されない。中でも、CdSe、CdTe、InP、InGaP、CuInS2は、高効率で可視光を発光することができるため好ましい。一方、シェルを構成し得る半導体としては、CdS、ZnS、ZnO、GaAs、およびこれらの複合体を挙げることができるが、これらに限定されない。
As the quantum dots, semiconductor particles having a core-shell structure in which the semiconductor constituting the core is covered with the semiconductor constituting the shell (core-shell type semiconductor particles) are preferable from the viewpoint of light emission efficiency. As the core, for example, multi-component semiconductor particles containing two or more kinds of atoms such as II-VI group semiconductor particles and III-V group semiconductor particles can be used. In one embodiment, these semiconductor particles can be so-called nanoparticles having a particle size of about several nanometers to several tens of nanometers. Specific examples of the semiconductors may constitute a core, CdSe, CdTe, CdS, ZnS , ZnSe, ZnTe, InP, InAs, InGaP, but CuInS 2, etc., without limitation. Among these, CdSe, CdTe, InP, InGaP, and CuInS 2 are preferable because they can emit visible light with high efficiency. On the other hand, examples of the semiconductor that can constitute the shell include, but are not limited to, CdS, ZnS, ZnO, GaAs, and composites thereof.
量子ドットは、上記光硬化性組成物に粒子の状態で添加してもよく、溶媒に分散した分散液の状態で添加してもよい。分散液の状態で添加することが量子ドットの粒子の凝集を抑制する観点から好ましい。ここで使用される溶媒は、特に限定されるものではない。量子ドットは、光硬化性組成物の全量100質量部に対して、例えば0.01~10質量部程度添加することができる。
Quantum dots may be added to the photocurable composition in the form of particles, or may be added in the form of a dispersion dispersed in a solvent. The addition in the state of a dispersion is preferable from the viewpoint of suppressing the aggregation of the quantum dot particles. The solvent used here is not particularly limited. The quantum dots can be added in an amount of, for example, about 0.01 to 10 parts by mass with respect to 100 parts by mass of the total amount of the photocurable composition.
(脂環式エポキシ化合物)
上記光硬化性化合物は、重合性化合物として、脂環式エポキシ化合物を少なくとも含む。脂環式エポキシ化合物は、一種のみであってもよく、構造の異なる二種以上であってもよい。なお以下において、脂環式エポキシ化合物に関する含有量とは、構造の異なる二種以上の脂環式エポキシ化合物を用いる場合には、これらの合計含有量をいうものとする。この点は、他の成分についても、構造の異なる二種以上を用いる場合には同様とする。先に記載した通り、脂環式エポキシ化合物は、脂肪族エポキシ化合物と比べて光照射による硬化性が良好である。光硬化性に優れる重合性化合物を用いることは、生産性を向上させることに加え、光照射側と非照射側とで均一な物性を有する層を形成できる点でも有利である。これにより、波長変換層のカールの抑制や均一な品質の波長変換部材の提供も可能となる。なおエポキシ化合物は、一般に、光硬化時の硬化収縮が少ない傾向もある。この点は、変形が少なく平滑な波長変換層を形成するうえで有利である。 (Alicyclic epoxy compound)
The photocurable compound contains at least an alicyclic epoxy compound as a polymerizable compound. The alicyclic epoxy compound may be one kind or two or more kinds having different structures. In addition, below, content regarding an alicyclic epoxy compound shall mean these total content, when using 2 or more types of alicyclic epoxy compounds from which a structure differs. This also applies to other components when two or more types having different structures are used. As described above, the alicyclic epoxy compound has better curability by light irradiation than the aliphatic epoxy compound. The use of a polymerizable compound having excellent photocurability is advantageous in that, in addition to improving productivity, a layer having uniform physical properties can be formed on the light irradiation side and the non-irradiation side. As a result, curling of the wavelength conversion layer can be suppressed and a wavelength conversion member with uniform quality can be provided. In general, epoxy compounds also tend to have less cure shrinkage during photocuring. This is advantageous in forming a smooth wavelength conversion layer with little deformation.
上記光硬化性化合物は、重合性化合物として、脂環式エポキシ化合物を少なくとも含む。脂環式エポキシ化合物は、一種のみであってもよく、構造の異なる二種以上であってもよい。なお以下において、脂環式エポキシ化合物に関する含有量とは、構造の異なる二種以上の脂環式エポキシ化合物を用いる場合には、これらの合計含有量をいうものとする。この点は、他の成分についても、構造の異なる二種以上を用いる場合には同様とする。先に記載した通り、脂環式エポキシ化合物は、脂肪族エポキシ化合物と比べて光照射による硬化性が良好である。光硬化性に優れる重合性化合物を用いることは、生産性を向上させることに加え、光照射側と非照射側とで均一な物性を有する層を形成できる点でも有利である。これにより、波長変換層のカールの抑制や均一な品質の波長変換部材の提供も可能となる。なおエポキシ化合物は、一般に、光硬化時の硬化収縮が少ない傾向もある。この点は、変形が少なく平滑な波長変換層を形成するうえで有利である。 (Alicyclic epoxy compound)
The photocurable compound contains at least an alicyclic epoxy compound as a polymerizable compound. The alicyclic epoxy compound may be one kind or two or more kinds having different structures. In addition, below, content regarding an alicyclic epoxy compound shall mean these total content, when using 2 or more types of alicyclic epoxy compounds from which a structure differs. This also applies to other components when two or more types having different structures are used. As described above, the alicyclic epoxy compound has better curability by light irradiation than the aliphatic epoxy compound. The use of a polymerizable compound having excellent photocurability is advantageous in that, in addition to improving productivity, a layer having uniform physical properties can be formed on the light irradiation side and the non-irradiation side. As a result, curling of the wavelength conversion layer can be suppressed and a wavelength conversion member with uniform quality can be provided. In general, epoxy compounds also tend to have less cure shrinkage during photocuring. This is advantageous in forming a smooth wavelength conversion layer with little deformation.
脂環式エポキシ化合物は、少なくとも1つの脂環式エポキシ基を有する。ここで脂環式エポキシ基とは、エポキシ環と飽和炭化水素環との縮環を有する1価の置換基をいい、好ましくはエポキシ環とシクロアルカン環との縮環を有する1価の置換基である。より好ましい脂環式エポキシ化合物としては、エポキシ環とシクロヘキサン環が縮環した下記構造:
を1分子中に1つ以上有するものを挙げることができる。上記構造は、1分子中に2つ以上含まれていてもよく、好ましくは1分子中に1つまたは2つ含まれる。また、上記構造は、1つ以上の置換基を有していてもよい。置換基としては、アルキル基(例えば炭素数1~6のアルキル基)、水酸基、アルコキシ基(例えば炭素数1~6のアルコキシ基)、ハロゲン原子(例えばフッ素原子、塩素原子、臭素原子)、シアノ基、アミノ基、ニトロ基、アシル基、カルボキシル基等を挙げることができる。上記構造は、無置換であることが好ましい。
The alicyclic epoxy compound has at least one alicyclic epoxy group. Here, the alicyclic epoxy group means a monovalent substituent having a condensed ring of an epoxy ring and a saturated hydrocarbon ring, preferably a monovalent substituent having a condensed ring of an epoxy ring and a cycloalkane ring. It is. As a more preferable alicyclic epoxy compound, the following structure in which an epoxy ring and a cyclohexane ring are condensed:
There may be mentioned those having one or more per molecule. Two or more structures may be contained in one molecule, and preferably one or two in one molecule. In addition, the above structure may have one or more substituents. Examples of the substituent include alkyl groups (for example, alkyl groups having 1 to 6 carbon atoms), hydroxyl groups, alkoxy groups (for example, alkoxy groups having 1 to 6 carbon atoms), halogen atoms (for example, fluorine atoms, chlorine atoms, bromine atoms), cyano Group, amino group, nitro group, acyl group, carboxyl group and the like. The structure is preferably unsubstituted.
また、脂環式エポキシ化合物は、脂環式エポキシ基以外の重合性官能基を有していてもよい。重合性官能基とは、ラジカル重合、またはカチオン重合によって重合反応を起こすことができる官能基を指し、例えば(メタ)アクリロイル基を挙げることができる。なお脂環式エポキシ基とともに(メタ)アクリロイル基とを有する化合物は、脂環式エポキシ化合物として、後述する含有量を算出するものとする。
The alicyclic epoxy compound may have a polymerizable functional group other than the alicyclic epoxy group. The polymerizable functional group refers to a functional group capable of causing a polymerization reaction by radical polymerization or cationic polymerization, and examples thereof include a (meth) acryloyl group. In addition, the compound which has a (meth) acryloyl group with an alicyclic epoxy group shall calculate content mentioned later as an alicyclic epoxy compound.
脂環式エポキシ化合物として好適に使用できる市販品としては、ダイセル化学工業社のセロキサイド2000、セロキサイド2021P、セロキサイド3000、セロキサイド8000、サイクロマーM100、エポリードGT301、エポリードGT401、シグマアルドリッチ社製の4-ビニルシクロヘキセンジオキシド、日本テルペン化学社のD-リモネンオキサイド、新日本理化社のサンソサイザーE-PS等を挙げることができる。これらは、一種単独で、または二種以上組み合わせて用いることができる。中でも、波長変換層と隣接する層との密着性向上の観点からは、下記の脂環式エポキシ化合物A、Bが特に好ましい。脂環式エポキシ化合物Aは、市販品としてはダイセル化学工業社セロキサイド2021Pとして入手することができる。脂環式エポキシ化合物Bは、市販品としてはダイセル化学工業社サイクロマーM100として入手することができる。
Examples of commercially available products that can be suitably used as the alicyclic epoxy compound include Daicel Chemical Industries' Celoxide 2000, Celoxide 2021P, Celoxide 3000, Celoxide 8000, Cyclomer M100, Epolide GT301, Epolide GT401, and 4-vinyl manufactured by Sigma Aldrich. Examples thereof include cyclohexene dioxide, Nippon Terpene Chemical Co., Ltd. D-limonene oxide, Shin Nippon Chemical Co., Ltd. Sunsizer E-PS, and the like. These can be used individually by 1 type or in combination of 2 or more types. Among these, from the viewpoint of improving the adhesion between the wavelength conversion layer and the adjacent layer, the following alicyclic epoxy compounds A and B are particularly preferable. The alicyclic epoxy compound A can be obtained as Daicel Chemical Industries' Celoxide 2021P as a commercial product. The alicyclic epoxy compound B is commercially available as Daicel Chemical Industries, Ltd. Cyclomer M100.
また、脂環式エポキシ化合物は、公知の合成方法により製造することもできる。その合成方法は問わないが、例えば、丸善KK出版、第四版実験化学講座20有機合成II、213~、平成4年、Ed.by Alfred Hasfner,The chemistry of heterocyclic compounds-Small Ring Heterocycles part3 Oxiranes,John & Wiley and Sons,An Interscience Publication,New York,1985、吉村、接着、29巻12号、32、1985、吉村、接着、30巻5号、42、1986、吉村、接着、30巻7号、42、1986、特開平11-100378号公報、特許第2926262号公報などの文献を参考にして合成できる。
The alicyclic epoxy compound can also be produced by a known synthesis method. The synthesis method does not matter. For example, Maruzen KK Publishing, 4th edition Experimental Chemistry Lecture 20 Organic Synthesis II, 213-, 1992, Ed.by Alfred Hasfner, The chemistry of heterocyclic compounds-Small Ring Heterocycles part3 Oxiranes, John & Wiley and Sons, An Interscience Publication, New York, 1985, Yoshimura, Adhesion, Vol. 29, No. 12, 32, 1985, Yoshimura, Adhesion, Vol. 30, No. 5, 42, 1986, Yoshimura, Adhesion, Vol. 42, 1986, Japanese Patent Application Laid-Open No. 11-1000037, Japanese Patent No. 2926262 and the like.
脂環式エポキシ化合物は、上記の通り脂肪族エポキシ化合物と比べて光照射による硬化性に優れる重合性化合物である。ただし本発明者らは、脂環式エポキシ化合物が、光源由来の光の吸収の一因となっていると推察している。詳しくは、光照射により脂環式エポキシ化合物のエポキシ環が開環した開環体が酸化されて形成される生成物が、青色光等の光源由来の光の吸収の一因となっていることを推察している。そこで光源由来の光の吸収を抑制する手段の1つとしては、光硬化性組成物中の脂環式エポキシ化合物の含有量を低減することが挙げられる。光硬化性化合物における脂環式エポキシ化合物の含有量は、重合性化合物全量100質量部に対して100質量部でもよく、好ましくは90質量部以下であり、より好ましくは80質量部以下であり、更に好ましくは70質量部以下である。また、上記含有量は、例えば1質量部以上であり、脂環式エポキシ化合物を使用することにより良好な硬化性を得る観点から、10質量部以上であることが好ましく、20質量部以上であることがより好ましく、30質量部以上であることが更に好ましい。なお後述する有機金属カップリング剤の中には、脂環式エポキシ基を含むものもある。そのような脂環式エポキシ基含有有機金属含有カップリング剤も、脂環式エポキシ化合物の含有量の算出にあたっては脂環式エポキシ化合物に含めるものとする。また、そのような脂環式エポキシ基含有有機金属カップリング剤の光硬化性組成物における含有量は、脂環式エポキシ化合物全量100質量部に対して0.1~20質量部とすることが好ましく、0.5~20質量部とすることがより好ましい。
The alicyclic epoxy compound is a polymerizable compound that is excellent in curability by light irradiation as compared with the aliphatic epoxy compound as described above. However, the present inventors speculate that the alicyclic epoxy compound contributes to the absorption of light derived from the light source. Specifically, the product formed by oxidation of the ring-opened product in which the epoxy ring of the alicyclic epoxy compound is opened by light irradiation contributes to absorption of light derived from a light source such as blue light. I guess. Thus, one means for suppressing the absorption of light derived from the light source is to reduce the content of the alicyclic epoxy compound in the photocurable composition. The content of the alicyclic epoxy compound in the photocurable compound may be 100 parts by mass with respect to 100 parts by mass of the total amount of the polymerizable compound, preferably 90 parts by mass or less, more preferably 80 parts by mass or less, More preferably, it is 70 mass parts or less. Further, the content is, for example, 1 part by mass or more, and preferably 10 parts by mass or more, and 20 parts by mass or more from the viewpoint of obtaining good curability by using an alicyclic epoxy compound. More preferably, it is more preferably 30 parts by mass or more. Some organometallic coupling agents described later contain an alicyclic epoxy group. Such an alicyclic epoxy group-containing organometallic-containing coupling agent is also included in the alicyclic epoxy compound in calculating the content of the alicyclic epoxy compound. The content of such an alicyclic epoxy group-containing organometallic coupling agent in the photocurable composition is 0.1 to 20 parts by mass with respect to 100 parts by mass of the total amount of the alicyclic epoxy compound. Preferably, the content is 0.5 to 20 parts by mass.
(脂環式エポキシ化合物と併用可能な重合性化合物)
光硬化性化合物は、重合性化合物として、脂環式エポキシ化合物の一種以上に加えて、他の重合性化合物の一種以上を含んでもよい。他の重合性化合物としては、単官能(メタ)アクリレート化合物、多官能(メタ)アクリレート化合物等の(メタ)アクリレート化合物が好ましい。ここで、本発明および本明細書において、(メタ)アクリレート化合物または(メタ)アクリレートとは、(メタ)アクリロイル基を1分子中に1つ以上含む化合物をいうものとし、(メタ)アクリロイル基とは、アクリロイル基とメタリロイル基の一方または両方を示すために用いるものとする。また、(メタ)アクリレート化合物について単官能とは、1分子中に含まれる(メタ)アクリロイル基の数が1つであることをいい、多官能とは、1分子中に含まれる(メタ)アクリロイル基の数が2つ以上であることをいうものとする。本発明者らは、脂環式エポキシ化合物と(メタ)アクリレート化合物を併用することは、波長変換層のマトリックスの光源由来の光の吸収を抑制することに寄与すると推察している。詳しくは、次の通りである。本発明者らは、先に記載したように光源由来の光の吸収の一因として、脂環式エポキシ化合物のエポキシ基が開環した開環体の酸化を推察している。これに対し、(メタ)アクリレート化合物は、ラジカル重合性化合物であって、重合時に発生するラジカルの一部は反応系内の酸素と結合すると考えられる。これにより反応系内の酸素が低減される結果、上記の開環体の酸化が防止されることが、上述の吸収抑制に寄与するのではないかと本発明者らは考えている。ただし以上は本発明者らによる推察であって、本発明を何ら限定するものではない。 (Polymerizable compound that can be used in combination with alicyclic epoxy compounds)
The photocurable compound may contain one or more other polymerizable compounds in addition to one or more alicyclic epoxy compounds as the polymerizable compound. Other polymerizable compounds are preferably (meth) acrylate compounds such as monofunctional (meth) acrylate compounds and polyfunctional (meth) acrylate compounds. Here, in the present invention and the present specification, the (meth) acrylate compound or (meth) acrylate means a compound containing one or more (meth) acryloyl groups in one molecule, and (meth) acryloyl group and Is used to denote one or both of an acryloyl group and a methallyloyl group. In addition, regarding the (meth) acrylate compound, monofunctional means that the number of (meth) acryloyl groups contained in one molecule is one, and polyfunctional means (meth) acryloyl contained in one molecule. It shall be said that the number of groups is two or more. The present inventors presume that the combined use of an alicyclic epoxy compound and a (meth) acrylate compound contributes to suppressing the absorption of light derived from the light source of the wavelength conversion layer matrix. Details are as follows. As described above, the present inventors presume oxidation of a ring-opened product in which an epoxy group of an alicyclic epoxy compound is opened as a cause of absorption of light derived from a light source. On the other hand, the (meth) acrylate compound is a radical polymerizable compound, and it is considered that a part of the radical generated during polymerization is combined with oxygen in the reaction system. As a result of the reduction of oxygen in the reaction system, the present inventors consider that preventing the ring-opened body from being oxidized may contribute to the above-described absorption suppression. However, the above is an inference by the present inventors and does not limit the present invention.
光硬化性化合物は、重合性化合物として、脂環式エポキシ化合物の一種以上に加えて、他の重合性化合物の一種以上を含んでもよい。他の重合性化合物としては、単官能(メタ)アクリレート化合物、多官能(メタ)アクリレート化合物等の(メタ)アクリレート化合物が好ましい。ここで、本発明および本明細書において、(メタ)アクリレート化合物または(メタ)アクリレートとは、(メタ)アクリロイル基を1分子中に1つ以上含む化合物をいうものとし、(メタ)アクリロイル基とは、アクリロイル基とメタリロイル基の一方または両方を示すために用いるものとする。また、(メタ)アクリレート化合物について単官能とは、1分子中に含まれる(メタ)アクリロイル基の数が1つであることをいい、多官能とは、1分子中に含まれる(メタ)アクリロイル基の数が2つ以上であることをいうものとする。本発明者らは、脂環式エポキシ化合物と(メタ)アクリレート化合物を併用することは、波長変換層のマトリックスの光源由来の光の吸収を抑制することに寄与すると推察している。詳しくは、次の通りである。本発明者らは、先に記載したように光源由来の光の吸収の一因として、脂環式エポキシ化合物のエポキシ基が開環した開環体の酸化を推察している。これに対し、(メタ)アクリレート化合物は、ラジカル重合性化合物であって、重合時に発生するラジカルの一部は反応系内の酸素と結合すると考えられる。これにより反応系内の酸素が低減される結果、上記の開環体の酸化が防止されることが、上述の吸収抑制に寄与するのではないかと本発明者らは考えている。ただし以上は本発明者らによる推察であって、本発明を何ら限定するものではない。 (Polymerizable compound that can be used in combination with alicyclic epoxy compounds)
The photocurable compound may contain one or more other polymerizable compounds in addition to one or more alicyclic epoxy compounds as the polymerizable compound. Other polymerizable compounds are preferably (meth) acrylate compounds such as monofunctional (meth) acrylate compounds and polyfunctional (meth) acrylate compounds. Here, in the present invention and the present specification, the (meth) acrylate compound or (meth) acrylate means a compound containing one or more (meth) acryloyl groups in one molecule, and (meth) acryloyl group and Is used to denote one or both of an acryloyl group and a methallyloyl group. In addition, regarding the (meth) acrylate compound, monofunctional means that the number of (meth) acryloyl groups contained in one molecule is one, and polyfunctional means (meth) acryloyl contained in one molecule. It shall be said that the number of groups is two or more. The present inventors presume that the combined use of an alicyclic epoxy compound and a (meth) acrylate compound contributes to suppressing the absorption of light derived from the light source of the wavelength conversion layer matrix. Details are as follows. As described above, the present inventors presume oxidation of a ring-opened product in which an epoxy group of an alicyclic epoxy compound is opened as a cause of absorption of light derived from a light source. On the other hand, the (meth) acrylate compound is a radical polymerizable compound, and it is considered that a part of the radical generated during polymerization is combined with oxygen in the reaction system. As a result of the reduction of oxygen in the reaction system, the present inventors consider that preventing the ring-opened body from being oxidized may contribute to the above-described absorption suppression. However, the above is an inference by the present inventors and does not limit the present invention.
光硬化性組成物における(メタ)アクリレート化合物の含有量は、重合性化合物全量100質量部に対して0~99質量部とすることが好ましく、30~70質量部とすることがより好ましい。また、硬化収縮が少ないという点からは、(メタ)アクリレート化合物としては単官能(メタ)アクリレート化合物が好ましい。光硬化性組成物における単官能(メタ)アクリレート化合物の含有量は、重合性化合物全量100質量部に対して0~99質量部とすることが好ましく、30~70質量部とすることがより好ましい。なお後述する有機金属カップリング剤の中には、(メタ)アクリロイル基を含むものもある。そのような(メタ)アクリロイル基含有有機金属含有カップリング剤も、(メタ)アクリレート化合物の含有量の算出にあたっては(メタ)アクリレート化合物に含めるものとする。また、そのような(メタ)アクリロイル基含有有機金属カップリング剤の光硬化性組成物における含有量は、(メタ)アクリレート化合物全量100質量部に対して 0.1~20質量部とすることが好ましく、0.5~10質量部とすることがより好ましい。
The content of the (meth) acrylate compound in the photocurable composition is preferably 0 to 99 parts by mass, more preferably 30 to 70 parts by mass with respect to 100 parts by mass of the total amount of the polymerizable compounds. Moreover, from the point that there is little cure shrinkage, as a (meth) acrylate compound, a monofunctional (meth) acrylate compound is preferable. The content of the monofunctional (meth) acrylate compound in the photocurable composition is preferably 0 to 99 parts by mass, more preferably 30 to 70 parts by mass with respect to 100 parts by mass of the total amount of the polymerizable compounds. . Some organometallic coupling agents described later include a (meth) acryloyl group. Such a (meth) acryloyl group-containing organometallic-containing coupling agent is also included in the (meth) acrylate compound in calculating the content of the (meth) acrylate compound. In addition, the content of such a (meth) acryloyl group-containing organometallic coupling agent in the photocurable composition may be 0.1 to 20 parts by mass with respect to 100 parts by mass of the total amount of (meth) acrylate compounds. Preferably, the content is 0.5 to 10 parts by mass.
単官能(メタ)アクリレート化合物としては、アクリル酸およびメタクリル酸、それらの誘導体、より詳しくは、(メタ)アクリル酸の重合性不飽和結合((メタ)アクリロイル基)を分子内に1つ有する化合物を挙げることができる。それらの具体例として以下に化合物を挙げるが、本発明はこれに限定されるものではない。なお上記の(メタ)アクリル酸とは、アクリル酸およびメタクリル酸の一方または両方を示すものとする。
メチル(メタ)アクリレート、n-ブチル(メタ)アクリレート、イソブチル(メタ)アクリレート、2-エチルヘキシル(メタ)アクリレート、イソノニル(メタ)アクリレート、n-オクチル(メタ)アクリレート、ラウリル(メタ)アクリレート、ステアリル(メタ)アクリレート等のアルキル基の炭素数が1~30であるアルキル(メタ)アクリレート;ベンジル(メタ)アクリレート等のアラルキル基の炭素数が7~20であるアラルキル(メタ)アクリレート;ブトキシエチル(メタ)アクリレート等のアルコキシアルキル基の炭素数が2~30であるアルコキシアルキル(メタ)アクリレート;N,N-ジメチルアミノエチル(メタ)アクリレート等の(モノアルキルまたはジアルキル)アミノアルキル基の総炭素数が1~20であるアミノアルキル(メタ)アクリレート;ジエチレングリコールエチルエーテルの(メタ)アクリレート、トリエチレングリコールブチルエーテルの(メタ)アクリレート、テトラエチレングリコールモノメチルエーテルの(メタ)アクリレート、ヘキサエチレングリコールモノメチルエーテルの(メタ)アクリレート、オクタエチレングリコールのモノメチルエーテル(メタ)アクリレート、ノナエチレングリコールのモノメチルエーテル(メタ)アクリレート、ジプロピレングリコールのモノメチルエーテル(メタ)アクリレート、ヘプタプロピレングリコールのモノメチルエーテル(メタ)アクリレート、テトラエチレングリコールのモノエチルエーテル(メタ)アクリレート等のアルキレン鎖の炭素数が1~10で末端アルキルエーテルの炭素数が1~10のポリアルキレングリコールアルキルエーテルの(メタ)アクリレート;ヘキサエチレングリコールフェニルエーテルの(メタ)アクリレート等のアルキレン鎖の炭素数が1~30で末端アリールエーテルの炭素数が6~20のポリアルキレングリコールアリールエーテルの(メタ)アクリレート;シクロヘキシル(メタ)アクリレート、ジシクロペンタニル(メタ)アクリレート、イソボルニル(メタ)アクリレート、メチレンオキシド付加シクロデカトリエン(メタ)アクリレート等の脂環構造を有する総炭素数4~30の(メタ)アクリレート;ヘプタデカフロロデシル(メタ)アクリレート等の総炭素数4~30のフッ素化アルキル(メタ)アクリレート;2-ヒドロキシエチル(メタ)アクリレート、3-ヒドロキシプロピル(メタ)アクリレート、4-ヒドロキシブチル(メタ)アクリレート、トリエチレングリコールのモノ(メタ)アクリレート、テトラエチレングリコールモノ(メタ)アクリレート、ヘキサエチレングリコールモノ(メタ)アクリレート、オクタプロピレングリコールモノ(メタ)アクリレート、グリセロールのモノまたはジ(メタ)アクリレート等のヒドロキシ基を有する(メタ)アクリレート;グリシジル(メタ)アクリレート等のグリシジル基を有する(メタ)アクリレート;テトラエチレングリコールモノ(メタ)アクリレート、ヘキサエチレングリコールモノ(メタ)アクリレート、オクタプロピレングリコールモノ(メタ)アクリレート等のアルキレン鎖の炭素数が1~30のポリエチレングリコールモノ(メタ)アクリレート;(メタ)アクリルアミド、N,N-ジメチル(メタ)アクリルアミド、N-イソプロピル(メタ)アクリルアミド、2-ヒドロキシエチル(メタ)アクリルアミド、アクリロイルモルホリン等の(メタ)アクリルアミドなどが挙げられる。中でも波長変換層と隣接する層との密着性の観点からは、極性官能基を有する単官能(メタ)アクリレートが好ましい。好ましい極性官能基としては、ヒドロキシ基、フェニル基が挙げられる。具体的な化合物としては、ベンジルアクリレート、フェノキシエチルアクリレート、フェノキシジエチレングリコールアクリレート、1,4-シクロヘキサンジメタノールモノアクリレート、2-ヒドロキシ-3-フェノキシプロピルアクリレート、4―ヒドロキシブチルアクリレートが特に好ましい。 Monofunctional (meth) acrylate compounds include acrylic acid and methacrylic acid, derivatives thereof, and more specifically, compounds having one polymerizable unsaturated bond ((meth) acryloyl group) of (meth) acrylic acid in the molecule Can be mentioned. Specific examples thereof include the following compounds, but the present invention is not limited thereto. In addition, said (meth) acrylic acid shall show one or both of acrylic acid and methacrylic acid.
Methyl (meth) acrylate, n-butyl (meth) acrylate, isobutyl (meth) acrylate, 2-ethylhexyl (meth) acrylate, isononyl (meth) acrylate, n-octyl (meth) acrylate, lauryl (meth) acrylate, stearyl ( Alkyl (meth) acrylates having an alkyl group such as meth) acrylate having 1 to 30 carbon atoms; aralkyl (meth) acrylates having an aralkyl group such as benzyl (meth) acrylate having 7 to 20 carbon atoms; butoxyethyl (meth) ) An alkoxyalkyl (meth) acrylate having 2 to 30 carbon atoms of an alkoxyalkyl group such as acrylate; the total carbon number of a (monoalkyl or dialkyl) aminoalkyl group such as N, N-dimethylaminoethyl (meth) acrylate; 1-2 An aminoalkyl (meth) acrylate which is: (meth) acrylate of diethylene glycol ethyl ether, (meth) acrylate of triethylene glycol butyl ether, (meth) acrylate of tetraethylene glycol monomethyl ether, (meth) acrylate of hexaethylene glycol monomethyl ether, Octaethylene glycol monomethyl ether (meth) acrylate, nonaethylene glycol monomethyl ether (meth) acrylate, dipropylene glycol monomethyl ether (meth) acrylate, heptapropylene glycol monomethyl ether (meth) acrylate, tetraethylene glycol monoethyl Alkyl chain such as ether (meth) acrylate has 1 to 10 carbon atoms and terminal alkyl (Meth) acrylate of polyalkylene glycol alkyl ether having 1 to 10 carbon atoms in ether; alkylene chain such as (meth) acrylate of hexaethylene glycol phenyl ether having 1 to 30 carbon atoms and terminal aryl ether having 6 carbon atoms (Meth) acrylate of -20 polyalkylene glycol aryl ethers; cycloaliphatic structures such as cyclohexyl (meth) acrylate, dicyclopentanyl (meth) acrylate, isobornyl (meth) acrylate, and methylene oxide-added cyclodecatriene (meth) acrylate (Meth) acrylates having a total carbon number of 4 to 30; fluorinated alkyl (meth) acrylates having a total carbon number of 4 to 30 such as heptadecafluorodecyl (meth) acrylate; 2-hydroxyethyl (meth) acrylate, 3-hydroxypropyl (meth) acrylate, 4-hydroxybutyl (meth) acrylate, mono (meth) acrylate of triethylene glycol, tetraethylene glycol mono (meth) acrylate, hexaethylene glycol mono (meth) acrylate, octapropylene glycol mono (Meth) acrylate, (meth) acrylate having a hydroxyl group such as mono- or di (meth) acrylate of glycerol; (meth) acrylate having a glycidyl group such as glycidyl (meth) acrylate; tetraethylene glycol mono (meth) acrylate, Polyethylene glycol polymers having 1 to 30 carbon atoms in the alkylene chain such as hexaethylene glycol mono (meth) acrylate and octapropylene glycol mono (meth) acrylate (Meth) acrylate; (meth) acrylamide, N, N- dimethyl (meth) acrylamide, N- isopropyl (meth) acrylamide, 2-hydroxyethyl (meth) acrylamide, acryloyl morpholine (meth) acrylamide and the like. Among these, from the viewpoint of adhesion between the wavelength conversion layer and the adjacent layer, monofunctional (meth) acrylate having a polar functional group is preferable. Preferable polar functional groups include a hydroxy group and a phenyl group. As specific compounds, benzyl acrylate, phenoxyethyl acrylate, phenoxydiethylene glycol acrylate, 1,4-cyclohexanedimethanol monoacrylate, 2-hydroxy-3-phenoxypropyl acrylate, and 4-hydroxybutyl acrylate are particularly preferable.
メチル(メタ)アクリレート、n-ブチル(メタ)アクリレート、イソブチル(メタ)アクリレート、2-エチルヘキシル(メタ)アクリレート、イソノニル(メタ)アクリレート、n-オクチル(メタ)アクリレート、ラウリル(メタ)アクリレート、ステアリル(メタ)アクリレート等のアルキル基の炭素数が1~30であるアルキル(メタ)アクリレート;ベンジル(メタ)アクリレート等のアラルキル基の炭素数が7~20であるアラルキル(メタ)アクリレート;ブトキシエチル(メタ)アクリレート等のアルコキシアルキル基の炭素数が2~30であるアルコキシアルキル(メタ)アクリレート;N,N-ジメチルアミノエチル(メタ)アクリレート等の(モノアルキルまたはジアルキル)アミノアルキル基の総炭素数が1~20であるアミノアルキル(メタ)アクリレート;ジエチレングリコールエチルエーテルの(メタ)アクリレート、トリエチレングリコールブチルエーテルの(メタ)アクリレート、テトラエチレングリコールモノメチルエーテルの(メタ)アクリレート、ヘキサエチレングリコールモノメチルエーテルの(メタ)アクリレート、オクタエチレングリコールのモノメチルエーテル(メタ)アクリレート、ノナエチレングリコールのモノメチルエーテル(メタ)アクリレート、ジプロピレングリコールのモノメチルエーテル(メタ)アクリレート、ヘプタプロピレングリコールのモノメチルエーテル(メタ)アクリレート、テトラエチレングリコールのモノエチルエーテル(メタ)アクリレート等のアルキレン鎖の炭素数が1~10で末端アルキルエーテルの炭素数が1~10のポリアルキレングリコールアルキルエーテルの(メタ)アクリレート;ヘキサエチレングリコールフェニルエーテルの(メタ)アクリレート等のアルキレン鎖の炭素数が1~30で末端アリールエーテルの炭素数が6~20のポリアルキレングリコールアリールエーテルの(メタ)アクリレート;シクロヘキシル(メタ)アクリレート、ジシクロペンタニル(メタ)アクリレート、イソボルニル(メタ)アクリレート、メチレンオキシド付加シクロデカトリエン(メタ)アクリレート等の脂環構造を有する総炭素数4~30の(メタ)アクリレート;ヘプタデカフロロデシル(メタ)アクリレート等の総炭素数4~30のフッ素化アルキル(メタ)アクリレート;2-ヒドロキシエチル(メタ)アクリレート、3-ヒドロキシプロピル(メタ)アクリレート、4-ヒドロキシブチル(メタ)アクリレート、トリエチレングリコールのモノ(メタ)アクリレート、テトラエチレングリコールモノ(メタ)アクリレート、ヘキサエチレングリコールモノ(メタ)アクリレート、オクタプロピレングリコールモノ(メタ)アクリレート、グリセロールのモノまたはジ(メタ)アクリレート等のヒドロキシ基を有する(メタ)アクリレート;グリシジル(メタ)アクリレート等のグリシジル基を有する(メタ)アクリレート;テトラエチレングリコールモノ(メタ)アクリレート、ヘキサエチレングリコールモノ(メタ)アクリレート、オクタプロピレングリコールモノ(メタ)アクリレート等のアルキレン鎖の炭素数が1~30のポリエチレングリコールモノ(メタ)アクリレート;(メタ)アクリルアミド、N,N-ジメチル(メタ)アクリルアミド、N-イソプロピル(メタ)アクリルアミド、2-ヒドロキシエチル(メタ)アクリルアミド、アクリロイルモルホリン等の(メタ)アクリルアミドなどが挙げられる。中でも波長変換層と隣接する層との密着性の観点からは、極性官能基を有する単官能(メタ)アクリレートが好ましい。好ましい極性官能基としては、ヒドロキシ基、フェニル基が挙げられる。具体的な化合物としては、ベンジルアクリレート、フェノキシエチルアクリレート、フェノキシジエチレングリコールアクリレート、1,4-シクロヘキサンジメタノールモノアクリレート、2-ヒドロキシ-3-フェノキシプロピルアクリレート、4―ヒドロキシブチルアクリレートが特に好ましい。 Monofunctional (meth) acrylate compounds include acrylic acid and methacrylic acid, derivatives thereof, and more specifically, compounds having one polymerizable unsaturated bond ((meth) acryloyl group) of (meth) acrylic acid in the molecule Can be mentioned. Specific examples thereof include the following compounds, but the present invention is not limited thereto. In addition, said (meth) acrylic acid shall show one or both of acrylic acid and methacrylic acid.
Methyl (meth) acrylate, n-butyl (meth) acrylate, isobutyl (meth) acrylate, 2-ethylhexyl (meth) acrylate, isononyl (meth) acrylate, n-octyl (meth) acrylate, lauryl (meth) acrylate, stearyl ( Alkyl (meth) acrylates having an alkyl group such as meth) acrylate having 1 to 30 carbon atoms; aralkyl (meth) acrylates having an aralkyl group such as benzyl (meth) acrylate having 7 to 20 carbon atoms; butoxyethyl (meth) ) An alkoxyalkyl (meth) acrylate having 2 to 30 carbon atoms of an alkoxyalkyl group such as acrylate; the total carbon number of a (monoalkyl or dialkyl) aminoalkyl group such as N, N-dimethylaminoethyl (meth) acrylate; 1-2 An aminoalkyl (meth) acrylate which is: (meth) acrylate of diethylene glycol ethyl ether, (meth) acrylate of triethylene glycol butyl ether, (meth) acrylate of tetraethylene glycol monomethyl ether, (meth) acrylate of hexaethylene glycol monomethyl ether, Octaethylene glycol monomethyl ether (meth) acrylate, nonaethylene glycol monomethyl ether (meth) acrylate, dipropylene glycol monomethyl ether (meth) acrylate, heptapropylene glycol monomethyl ether (meth) acrylate, tetraethylene glycol monoethyl Alkyl chain such as ether (meth) acrylate has 1 to 10 carbon atoms and terminal alkyl (Meth) acrylate of polyalkylene glycol alkyl ether having 1 to 10 carbon atoms in ether; alkylene chain such as (meth) acrylate of hexaethylene glycol phenyl ether having 1 to 30 carbon atoms and terminal aryl ether having 6 carbon atoms (Meth) acrylate of -20 polyalkylene glycol aryl ethers; cycloaliphatic structures such as cyclohexyl (meth) acrylate, dicyclopentanyl (meth) acrylate, isobornyl (meth) acrylate, and methylene oxide-added cyclodecatriene (meth) acrylate (Meth) acrylates having a total carbon number of 4 to 30; fluorinated alkyl (meth) acrylates having a total carbon number of 4 to 30 such as heptadecafluorodecyl (meth) acrylate; 2-hydroxyethyl (meth) acrylate, 3-hydroxypropyl (meth) acrylate, 4-hydroxybutyl (meth) acrylate, mono (meth) acrylate of triethylene glycol, tetraethylene glycol mono (meth) acrylate, hexaethylene glycol mono (meth) acrylate, octapropylene glycol mono (Meth) acrylate, (meth) acrylate having a hydroxyl group such as mono- or di (meth) acrylate of glycerol; (meth) acrylate having a glycidyl group such as glycidyl (meth) acrylate; tetraethylene glycol mono (meth) acrylate, Polyethylene glycol polymers having 1 to 30 carbon atoms in the alkylene chain such as hexaethylene glycol mono (meth) acrylate and octapropylene glycol mono (meth) acrylate (Meth) acrylate; (meth) acrylamide, N, N- dimethyl (meth) acrylamide, N- isopropyl (meth) acrylamide, 2-hydroxyethyl (meth) acrylamide, acryloyl morpholine (meth) acrylamide and the like. Among these, from the viewpoint of adhesion between the wavelength conversion layer and the adjacent layer, monofunctional (meth) acrylate having a polar functional group is preferable. Preferable polar functional groups include a hydroxy group and a phenyl group. As specific compounds, benzyl acrylate, phenoxyethyl acrylate, phenoxydiethylene glycol acrylate, 1,4-cyclohexanedimethanol monoacrylate, 2-hydroxy-3-phenoxypropyl acrylate, and 4-hydroxybutyl acrylate are particularly preferable.
(光重合開始剤)
上記光硬化性組成物は、光照射による硬化を可能にするために一種以上の光重合開始剤を含む。光重合開始剤は、露光により分解してラジカル、酸、塩基などの開始種を発生させることができる化合物であり、この開始種により重合性化合物の重合反応を開始、促進させることができる化合物である。脂環式エポキシ化合物はカチオン重合可能な化合物であるため、上記光硬化性組成物は、光重合開始剤として光カチオン重合開始剤を一種または二種以上含むことが好ましい。また、脂環式エポキシ化合物はアニオン重合可能な化合物でもあるため、上記光硬化性組成物は、光重合開始剤として光アニオン重合開始剤を一種または二種以上含むことも好ましい。 (Photopolymerization initiator)
The photocurable composition contains one or more photopolymerization initiators in order to enable curing by light irradiation. A photopolymerization initiator is a compound that can be decomposed by exposure to generate radicals, acids, bases, and other starting species, and can be used to initiate and accelerate the polymerization reaction of a polymerizable compound. is there. Since the alicyclic epoxy compound is a compound capable of cationic polymerization, the photocurable composition preferably contains one or more photocationic polymerization initiators as a photopolymerization initiator. Moreover, since an alicyclic epoxy compound is also an anion polymerizable compound, it is also preferable that the said photocurable composition contains 1 type, or 2 or more types of photo anionic polymerization initiators as a photoinitiator.
上記光硬化性組成物は、光照射による硬化を可能にするために一種以上の光重合開始剤を含む。光重合開始剤は、露光により分解してラジカル、酸、塩基などの開始種を発生させることができる化合物であり、この開始種により重合性化合物の重合反応を開始、促進させることができる化合物である。脂環式エポキシ化合物はカチオン重合可能な化合物であるため、上記光硬化性組成物は、光重合開始剤として光カチオン重合開始剤を一種または二種以上含むことが好ましい。また、脂環式エポキシ化合物はアニオン重合可能な化合物でもあるため、上記光硬化性組成物は、光重合開始剤として光アニオン重合開始剤を一種または二種以上含むことも好ましい。 (Photopolymerization initiator)
The photocurable composition contains one or more photopolymerization initiators in order to enable curing by light irradiation. A photopolymerization initiator is a compound that can be decomposed by exposure to generate radicals, acids, bases, and other starting species, and can be used to initiate and accelerate the polymerization reaction of a polymerizable compound. is there. Since the alicyclic epoxy compound is a compound capable of cationic polymerization, the photocurable composition preferably contains one or more photocationic polymerization initiators as a photopolymerization initiator. Moreover, since an alicyclic epoxy compound is also an anion polymerizable compound, it is also preferable that the said photocurable composition contains 1 type, or 2 or more types of photo anionic polymerization initiators as a photoinitiator.
光カチオン重合開始剤については、例えば、特許4675719号公報段落0019~0024を参照できる。光カチオン重合開始剤は、光硬化性組成物に含まれる重合性化合物の全量の0.1モル%以上含まれることが好ましく、0.5~5モル%含まれることがより好ましい。適量の重合開始剤の使用は、硬化のための光照射量を低減すること、および波長変換層全体を均一に硬化することを可能にする観点から好ましい。
Regarding the photocationic polymerization initiator, reference can be made, for example, to paragraphs 0019 to 0024 of Japanese Patent No. 4675719. The photocationic polymerization initiator is preferably contained in an amount of 0.1 mol% or more, more preferably 0.5 to 5 mol% of the total amount of the polymerizable compounds contained in the photocurable composition. Use of an appropriate amount of the polymerization initiator is preferable from the viewpoint of reducing the amount of light irradiation for curing and uniformly curing the entire wavelength conversion layer.
好ましい光カチオン重合開始剤としては、ヨードニウム塩化合物、スルホニウム塩化合物、ピリジニウム塩化合物、ホスホニウム塩化合物を挙げることができる。これらの塩化合物に含まれるアニオン部(カウンターアニオン)としては、例えば、CH3SO3
-、C6H5SO3
-、CF3SO3
-、PF6
-、HSbF6
-、HB(C6F5)4
-を例示することができる。中でも、硬化速度の観点から、アニオン部の気相酸性度が240~290kcal/molの範囲にあるヨードニウム塩化合物、スルホニウム塩化合物、ピリジニウム塩化合物、ホスホニウム塩化合物が好ましい。気相酸性度の範囲としては、240~280kcal/molがより好ましく、240~270kcal/molの範囲が更に好ましい。
Preferred examples of the cationic photopolymerization initiator include iodonium salt compounds, sulfonium salt compounds, pyridinium salt compounds, and phosphonium salt compounds. Examples of the anion part (counter anion) contained in these salt compounds include CH 3 SO 3 − , C 6 H 5 SO 3 − , CF 3 SO 3 − , PF 6 − , HSbF 6 − , HB (C 6). F 5) 4 - can be exemplified. Among these, iodonium salt compounds, sulfonium salt compounds, pyridinium salt compounds, and phosphonium salt compounds having a gas phase acidity in the range of 240 to 290 kcal / mol from the viewpoint of curing speed are preferable. The range of gas phase acidity is more preferably 240 to 280 kcal / mol, and still more preferably 240 to 270 kcal / mol.
中でも、熱安定性に優れる観点から、ヨードニウム塩化合物、スルホニウム塩化合物が好ましく、波長変換層の光源由来の光の吸収を抑制する観点から、ヨードニウム塩化合物が特に好ましい。波長変換層が光源由来の光を吸収する一因として、光重合開始剤の分解物による吸収が考えられるが、ヨードニウム塩化合物はそのような吸収の一因となる分解物を生成し難いと本発明者らは推察している。ただし以上は本発明者らによる推察であって、本発明を何ら限定するものではない。
Among them, iodonium salt compounds and sulfonium salt compounds are preferable from the viewpoint of excellent thermal stability, and iodonium salt compounds are particularly preferable from the viewpoint of suppressing absorption of light derived from the light source of the wavelength conversion layer. One possible reason why the wavelength conversion layer absorbs light derived from the light source is absorption due to decomposition products of the photopolymerization initiator. However, iodonium salt compounds are difficult to generate decomposition products that contribute to such absorption. The inventors speculate. However, the above is an inference by the present inventors and does not limit the present invention.
ヨードニウム塩化合物とは、構造中にI+を含むカチオン部と任意の構造のアニオン部とにより形成される塩であって、電子供与性基を3つ以上有し、これら電子供与性基の少なくとも1つがアルコキシ基であるジアリールヨードニウム塩が更に好ましい。このようにジアリールヨードニウム塩に電子供与性基であるアルコキシ基を導入することで、経時での水や求核剤による分解や、熱による電子移動が抑制することができること等により、安定性が向上すると考えられる。このような構造を有するヨードニウム塩化合物の具体例としては、下記光カチオン重合開始剤(ヨードニウム塩化合物)A、Bを挙げることができる。また、気相酸性度が240~290kcal/molの範囲にあるアニオン部を有するヨードニウム塩化合物の具体例としては、下記光カチオン重合開始剤(ヨードニウム塩化合物)Cを挙げることができる。
The iodonium salt compound is a salt formed by a cation part including I + in the structure and an anion part having an arbitrary structure, and has three or more electron donating groups. More preferred are diaryliodonium salts, one of which is an alkoxy group. By introducing an alkoxy group, which is an electron donating group, into the diaryliodonium salt in this way, stability is improved due to the ability to suppress decomposition with water and nucleophiles over time and electron transfer due to heat. It is thought that. Specific examples of the iodonium salt compound having such a structure include the following photocationic polymerization initiators (iodonium salt compounds) A and B. Specific examples of the iodonium salt compound having an anion portion having a gas phase acidity in the range of 240 to 290 kcal / mol include the following photocationic polymerization initiator (iodonium salt compound) C.
なお波長変換層の光源由来の光の吸収は、ヨードニウム塩化合物の使用によらずに先に記載したように脂環式エポキシ化合物の含有量の低減、(メタ)アクリレート化合物の併用等の手段によって低減することも可能であるため、光硬化性化合物に添加可能な光カチオン重合開始剤は、ヨードニウム塩化合物に限定されるものではない。使用可能な光カチオン重合開始剤として、例えば以下の市販品の一種または二種以上の組み合わせを挙げることもできる:サンアプロ社製のCPI-110P(下記光カチオン重合開始剤D)、CPI-101A、CPI-110P、CPI-200K、和光純薬工業社製のWPI-113、WPI-116、WPI-124、WPI-169、WPI-170、ローディア社製のPI-2074、BASF社製のイルガキュア(登録商標)250、イルガキュア270、イルガキュア290(下記光カチオン重合開始剤E)。
In addition, absorption of light derived from the light source of the wavelength conversion layer is not performed by using an iodonium salt compound, but by means such as a reduction in the content of an alicyclic epoxy compound or a combined use of a (meth) acrylate compound as described above. Since it can also be reduced, the photocationic polymerization initiator that can be added to the photocurable compound is not limited to the iodonium salt compound. Examples of usable photocationic polymerization initiators include one or a combination of two or more of the following commercially available products: CPI-110P (photocationic polymerization initiator D below), CPI-101A, manufactured by Sun Apro CPI-110P, CPI-200K, WPI-113 manufactured by Wako Pure Chemical Industries, WPI-116, WPI-124, WPI-169, WPI-170, Rhodia PI-2074, BASF Irgacure (registered) Trademark) 250, Irgacure 270, Irgacure 290 (the following photocationic polymerization initiator E).
一方、光アニオン重合開始剤については、例えば、特開2013-235216号公報段落0039~0053を参照できる。光アニオン重合開始剤は、光硬化性組成物に含まれる重合性化合物の全量の0.5~50モル%含まれることが好ましく、1~40モル%含まれることがより好ましい。
On the other hand, as for the photoanion polymerization initiator, reference can be made to, for example, paragraphs 0039 to 0053 of JP2013-235216A. The photoanionic polymerization initiator is preferably contained in an amount of 0.5 to 50 mol%, more preferably 1 to 40 mol% of the total amount of the polymerizable compound contained in the photocurable composition.
また、光硬化性組成物がラジカル重合性化合物を含む場合には、光硬化性組成物は光ラジカル重合開始剤を一種または二種以上含んでもよい。光ラジカル開始剤については、例えば、特開2013-043382号公報段落0037、特開2011-159924号公報段落0040~0042を参照できる。光ラジカル重合開始剤の含有量は、光硬化性組成物に含まれる重合性化合物の全量の0.1モル%以上であることが好ましく、0.5~5モル%であることがより好ましい。
In addition, when the photocurable composition contains a radical polymerizable compound, the photocurable composition may contain one or more types of photo radical polymerization initiators. As for the photoradical initiator, reference can be made to, for example, paragraphs 0037 and 0042 of JP2013-043382A and paragraphs 0040 to 0042 of JP2011-159924A. The content of the photo radical polymerization initiator is preferably 0.1 mol% or more, more preferably 0.5 to 5 mol% of the total amount of the polymerizable compounds contained in the photocurable composition.
(有機金属カップリング剤)
光硬化性組成物は、波長変換層と隣接する層との密着性を改良するために有機金属カップリング剤を含んでいてもよい。なお有機金属カップリング剤とは、Si、Ti、Zr、Al、Sn等の金属原子を含み、加水分解性基と反応性官能基とを併せ持つ有機化合物である。加水分解性基としては、アルコキシ基(RO-)、アルキルカルボニルオキシ基(RCOO-)等を挙げることができ、反応性官能基としては、脂環式エポキシ基等のエポキシ基、(メタ)アクリロイル基、アミノ基、ビニル基、メルカプト基等が挙げられる。上記において、Rはアルキル基を表す。有機金属カップリング剤は、熱硬化反応を促進させる効果も持つため有効である。有機金属カップリング剤としては、例えば、シランカップリング剤、チタンカップリング剤、ジルコニウムカップリング剤、アルミニウムカップリング剤、スズカップリング剤等の各種カップリング剤を使用できる。これら有機金属カップリング剤は、波長変換層に隣接する層が、金属、金属酸化物、金属窒化物等の無機材料の層である場合や樹脂中にこれら無機材料を含む層である場合に密着改良効果が大きく、特に好ましい。 (Organic metal coupling agent)
The photocurable composition may contain an organometallic coupling agent in order to improve the adhesion between the wavelength conversion layer and the adjacent layer. The organometallic coupling agent is an organic compound containing a metal atom such as Si, Ti, Zr, Al, and Sn and having both a hydrolyzable group and a reactive functional group. Examples of hydrolyzable groups include alkoxy groups (RO-) and alkylcarbonyloxy groups (RCOO-). Reactive functional groups include epoxy groups such as alicyclic epoxy groups, and (meth) acryloyl. Group, amino group, vinyl group, mercapto group and the like. In the above, R represents an alkyl group. The organometallic coupling agent is effective because it also has the effect of promoting the thermosetting reaction. As the organometallic coupling agent, for example, various coupling agents such as a silane coupling agent, a titanium coupling agent, a zirconium coupling agent, an aluminum coupling agent, and a tin coupling agent can be used. These organometallic coupling agents are in close contact when the layer adjacent to the wavelength conversion layer is a layer of an inorganic material such as a metal, a metal oxide, or a metal nitride, or a layer containing these inorganic materials in a resin. The improvement effect is large and particularly preferable.
光硬化性組成物は、波長変換層と隣接する層との密着性を改良するために有機金属カップリング剤を含んでいてもよい。なお有機金属カップリング剤とは、Si、Ti、Zr、Al、Sn等の金属原子を含み、加水分解性基と反応性官能基とを併せ持つ有機化合物である。加水分解性基としては、アルコキシ基(RO-)、アルキルカルボニルオキシ基(RCOO-)等を挙げることができ、反応性官能基としては、脂環式エポキシ基等のエポキシ基、(メタ)アクリロイル基、アミノ基、ビニル基、メルカプト基等が挙げられる。上記において、Rはアルキル基を表す。有機金属カップリング剤は、熱硬化反応を促進させる効果も持つため有効である。有機金属カップリング剤としては、例えば、シランカップリング剤、チタンカップリング剤、ジルコニウムカップリング剤、アルミニウムカップリング剤、スズカップリング剤等の各種カップリング剤を使用できる。これら有機金属カップリング剤は、波長変換層に隣接する層が、金属、金属酸化物、金属窒化物等の無機材料の層である場合や樹脂中にこれら無機材料を含む層である場合に密着改良効果が大きく、特に好ましい。 (Organic metal coupling agent)
The photocurable composition may contain an organometallic coupling agent in order to improve the adhesion between the wavelength conversion layer and the adjacent layer. The organometallic coupling agent is an organic compound containing a metal atom such as Si, Ti, Zr, Al, and Sn and having both a hydrolyzable group and a reactive functional group. Examples of hydrolyzable groups include alkoxy groups (RO-) and alkylcarbonyloxy groups (RCOO-). Reactive functional groups include epoxy groups such as alicyclic epoxy groups, and (meth) acryloyl. Group, amino group, vinyl group, mercapto group and the like. In the above, R represents an alkyl group. The organometallic coupling agent is effective because it also has the effect of promoting the thermosetting reaction. As the organometallic coupling agent, for example, various coupling agents such as a silane coupling agent, a titanium coupling agent, a zirconium coupling agent, an aluminum coupling agent, and a tin coupling agent can be used. These organometallic coupling agents are in close contact when the layer adjacent to the wavelength conversion layer is a layer of an inorganic material such as a metal, a metal oxide, or a metal nitride, or a layer containing these inorganic materials in a resin. The improvement effect is large and particularly preferable.
光硬化性組成物に添加することのできるシランカップリング剤としては、例えば、ビニルトリクロロシラン、ビニルトリメトキシシラン、ビニルトリエトキシシラン、2-(3,4-エポキシシクロヘキシル)エチルトリメトキシシラン、3-グリシドキシプロピルトリメトキシシラン、2-(3,4-エポキシシクロヘキシル)エチルトリメトキシシラン、3-グリシドキシプロピルトリメトキシシラン、3-グリシドキシプロピルメチルジエトキシシラン、3-グリシドキシプロピルトリエトキシシラン、p-スチリルトリメトキシシラン、3-メタクリロキシプロピルメチルジメトキシシラン、3-メタクリロキシプロピルトリメトキシシラン、3-メタクリロキシプロピルメチルジエトキシシラン、3-メタクリロキシプロピルトリエトキシシラン、3-アクリロキシプロピルトリメトキシシラン、N-2-(アミノエチル)-3-アミノプロピルメチルジメトキシシラン、N-2-(アミノエチル)-3-アミノプロピルトリメトキシシラン、N-2-(アミノエチル)-3-アミノプロピルトリエトキシシラン、3-アミノプロピルトリメトキシシラン、3-アミノプロピルトリエトキシシラン、3-トリエトキシシリル-N-(1,3-ジメチル-ブチリデン)プロピルアミンとその部分加水分解物、3-トリメトキシシリル-N-(1,3-ジメチル-ブチリデン)プロピルアミンとその部分加水分解物、N-フェニル-3-アミノプロピルトリメトキシシラン、3-メルカプトプロピルメチルジメトキシシラン、3-メルカプトプロピルトリメトキシシラン、3-イソシアネートプロピルトリエトキシシランなどが挙げられる。なかでも、ビニル、エポキシ、(メタ)アクリロイルオキシ、アミノ、イソシアネート変性のシランカップリング剤が好ましく、特に好ましくは、(メタ)アクリロイルオキシ変性のシランカップリング剤である。これらは、1種単独で、または2種以上組み合わせて用いることができる。
Examples of the silane coupling agent that can be added to the photocurable composition include vinyltrichlorosilane, vinyltrimethoxysilane, vinyltriethoxysilane, 2- (3,4-epoxycyclohexyl) ethyltrimethoxysilane, 3 -Glycidoxypropyltrimethoxysilane, 2- (3,4-epoxycyclohexyl) ethyltrimethoxysilane, 3-glycidoxypropyltrimethoxysilane, 3-glycidoxypropylmethyldiethoxysilane, 3-glycidoxy Propyltriethoxysilane, p-styryltrimethoxysilane, 3-methacryloxypropylmethyldimethoxysilane, 3-methacryloxypropyltrimethoxysilane, 3-methacryloxypropylmethyldiethoxysilane, 3-methacryloxypropylto Ethoxysilane, 3-acryloxypropyltrimethoxysilane, N-2- (aminoethyl) -3-aminopropylmethyldimethoxysilane, N-2- (aminoethyl) -3-aminopropyltrimethoxysilane, N-2- (Aminoethyl) -3-aminopropyltriethoxysilane, 3-aminopropyltrimethoxysilane, 3-aminopropyltriethoxysilane, 3-triethoxysilyl-N- (1,3-dimethyl-butylidene) propylamine and its Partial hydrolyzate, 3-trimethoxysilyl-N- (1,3-dimethyl-butylidene) propylamine and its partial hydrolyzate, N-phenyl-3-aminopropyltrimethoxysilane, 3-mercaptopropylmethyldimethoxysilane , 3-mercaptopropyltrimethoxysilane, - an isocyanate propyl triethoxysilane and the like. Of these, vinyl, epoxy, (meth) acryloyloxy, amino, and isocyanate-modified silane coupling agents are preferable, and (meth) acryloyloxy-modified silane coupling agents are particularly preferable. These can be used alone or in combination of two or more.
好適に使用できるシランカップリング剤の市販品としては、信越化学工業社製のものを挙げることができる。例えば、信越化学工業社製KBM-502、KBM-503、KBM-5103、KBE-502、KBE-503、KBM-903、KBM-9103等が挙げられる。
Examples of commercially available silane coupling agents that can be suitably used include those manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd. Examples thereof include KBM-502, KBM-503, KBM-5103, KBE-502, KBE-503, KBM-903, and KBM-9103 manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.
また、シランカップリング剤としては、特開2013-43382号公報に記載の一般式(1)で表されるシランカップリング剤を挙げることができる。詳細については、特開2013-43382号公報段落0011~0016の記載を参照できる。
Further, examples of the silane coupling agent include a silane coupling agent represented by the general formula (1) described in JP2013-43382A. For details, reference can be made to the descriptions in paragraphs 0011 to 0016 of JP2013-43382A.
有機金属カップリング剤は、波長変換層と隣接する層との密着性をより一層向上する観点からは、光硬化性組成物中に、光硬化性組成物の総質量から量子ドットおよび溶媒の質量を除いた質量100質量部に対し0.1~20質量部の範囲で含まれることが好ましく、0.5~10質量部の範囲で含まれることがより好ましく、1~5質量部の範囲で含まれることが更に好ましい。
From the viewpoint of further improving the adhesion between the wavelength conversion layer and the adjacent layer, the organometallic coupling agent is incorporated into the photocurable composition from the total mass of the photocurable composition to the mass of the quantum dots and the solvent. Is preferably contained in the range of 0.1 to 20 parts by weight, more preferably in the range of 0.5 to 10 parts by weight, and in the range of 1 to 5 parts by weight. More preferably it is included.
(塩基発生剤)
一態様では、上記光硬化性組成物に、塩基発生剤を配合してもよい。塩基発生剤とは、加熱または光照射によって塩基を生成する化合物を意味する。例えば、塩基発生剤を含む光硬化性組成物を光照射することによって形成された波長変換層に熱を加えたり光を照射することにより、塩基発生剤から塩基を発生させることができる。一例として、例えば、太陽光や光源からの光が波長変換層に入射することにより、または任意に行われ得る波長変換部材の耐熱試験時等に外部から熱が加えられることにより、波長変換層において塩基発生剤から塩基を発生させることができる。ここで発生した塩基は、波長変換層に何らかの要因により酸が含まれる場合、酸を中和することができる。酸を中和することは、波長変換層の経時的な性能変化を防ぐことに寄与し得るため好ましい。一態様では、酸の発生要因としては、光カチオン重合開始剤存在下での重合反応(硬化反応)が挙げられる。したがって、光カチオン重合開始剤を含む光硬化性組成物に、塩基発生剤を配合することが好ましい。 (Base generator)
In one aspect, a base generator may be blended with the photocurable composition. The base generator means a compound that generates a base by heating or light irradiation. For example, the base can be generated from the base generator by applying heat or irradiating light to the wavelength conversion layer formed by irradiating the photocurable composition containing the base generator. As an example, in the wavelength conversion layer, for example, when sunlight or light from a light source is incident on the wavelength conversion layer, or heat is applied from the outside during a heat resistance test of a wavelength conversion member that can be arbitrarily performed, etc. A base can be generated from the base generator. The base generated here can neutralize the acid when the wavelength conversion layer contains an acid for some reason. It is preferable to neutralize the acid because it can contribute to preventing the change in performance of the wavelength conversion layer over time. In one aspect, the acid generation factor includes a polymerization reaction (curing reaction) in the presence of a photocationic polymerization initiator. Therefore, it is preferable to mix a base generator with a photocurable composition containing a photocationic polymerization initiator.
一態様では、上記光硬化性組成物に、塩基発生剤を配合してもよい。塩基発生剤とは、加熱または光照射によって塩基を生成する化合物を意味する。例えば、塩基発生剤を含む光硬化性組成物を光照射することによって形成された波長変換層に熱を加えたり光を照射することにより、塩基発生剤から塩基を発生させることができる。一例として、例えば、太陽光や光源からの光が波長変換層に入射することにより、または任意に行われ得る波長変換部材の耐熱試験時等に外部から熱が加えられることにより、波長変換層において塩基発生剤から塩基を発生させることができる。ここで発生した塩基は、波長変換層に何らかの要因により酸が含まれる場合、酸を中和することができる。酸を中和することは、波長変換層の経時的な性能変化を防ぐことに寄与し得るため好ましい。一態様では、酸の発生要因としては、光カチオン重合開始剤存在下での重合反応(硬化反応)が挙げられる。したがって、光カチオン重合開始剤を含む光硬化性組成物に、塩基発生剤を配合することが好ましい。 (Base generator)
In one aspect, a base generator may be blended with the photocurable composition. The base generator means a compound that generates a base by heating or light irradiation. For example, the base can be generated from the base generator by applying heat or irradiating light to the wavelength conversion layer formed by irradiating the photocurable composition containing the base generator. As an example, in the wavelength conversion layer, for example, when sunlight or light from a light source is incident on the wavelength conversion layer, or heat is applied from the outside during a heat resistance test of a wavelength conversion member that can be arbitrarily performed, etc. A base can be generated from the base generator. The base generated here can neutralize the acid when the wavelength conversion layer contains an acid for some reason. It is preferable to neutralize the acid because it can contribute to preventing the change in performance of the wavelength conversion layer over time. In one aspect, the acid generation factor includes a polymerization reaction (curing reaction) in the presence of a photocationic polymerization initiator. Therefore, it is preferable to mix a base generator with a photocurable composition containing a photocationic polymerization initiator.
塩基発生剤は、加熱または光照射によって塩基を生成する化合物であればよく、特に限定されるものではない。例えば、2-(4-ビフェニル)-2-プロピルカルバメート、1、1-ジメチル-2-シアノエチルカルバメート等のカルバメート誘導体、1,4-ジヒドロニコチンアミド等のジヒドロピリジン誘導体、ジシアンジアミド、有機塩や無機塩等の酸と塩基からなる塩等が、一般に塩基発生剤として知られており、上記光硬化性組成物にも好ましく用いることができる。中でも、酸と塩基からなる塩は、この塩を含む組成物の安定性に優れ、かつ比較的安価であることから、好ましい。またその中でも、重合性化合物との相溶性の観点から、酸とアミン化合物との塩が好ましく、有機酸とアミン化合物との有機塩がより好ましい。
The base generator is not particularly limited as long as it is a compound that generates a base by heating or light irradiation. For example, 2- (4-biphenyl) -2-propylcarbamate, carbamate derivatives such as 1,1-dimethyl-2-cyanoethylcarbamate, dihydropyridine derivatives such as 1,4-dihydronicotinamide, dicyandiamide, organic salts and inorganic salts A salt composed of an acid and a base is generally known as a base generator, and can be preferably used in the photocurable composition. Among them, a salt composed of an acid and a base is preferable because the composition containing the salt is excellent in stability and relatively inexpensive. Among these, from the viewpoint of compatibility with the polymerizable compound, a salt of an acid and an amine compound is preferable, and an organic salt of an organic acid and an amine compound is more preferable.
光硬化性組成物における塩基発生剤の含有量は、重合性化合物全量100質量部に対して、例えば0.01質量部以上、好ましくは 0.1質量部以上であり、また例えば20質量部以下、好ましくは10質量部以下、更に好ましくは2質量部以下である。
The content of the base generator in the photocurable composition is, for example, 0.01 parts by mass or more, preferably 0.1 parts by mass or more, and for example, 20 parts by mass or less with respect to 100 parts by mass of the total amount of the polymerizable compounds. , Preferably 10 parts by mass or less, more preferably 2 parts by mass or less.
(粘度調整剤)
光硬化性組成物は、必要に応じて粘度調整剤を含んでいてもよい。粘度調整剤は、粒径が5nm~300nmであるフィラーであることが好ましい。また、粘度調整剤はチキソトロピー剤であることも好ましい。なお本発明および本明細書中、チキソトロピー性とは、液状組成物において、せん断速度の増加に対して粘性を減じる性質を指し、チキソトロピー剤とは、それを液状組成物に含ませることによって、組成物にチキソトロピー性を付与する機能を有する素材のことを指す。チキソトロピー剤の具体例としては、ヒュームドシリカ、アルミナ、窒化珪素、二酸化チタン、炭酸カルシウム、酸化亜鉛、タルク、雲母、長石、カオリナイト(カオリンクレー)、パイロフィライト(ろう石クレー)、セリサイト(絹雲母)、ベントナイト、スメクタイト・バーミキュライト類(モンモリロナイト、バイデライト、ノントロナイト、サポナイトなど)、有機ベントナイト、有機スメクタイト等が挙げられる。
一態様では、光硬化性組成物は、粘度がせん断速度500s-1の時に3~100mPa・sであり、せん断速度1s-1の時に300mPa・s以上であることが好ましい。このように粘度調整するために、チキソトロピー剤を用いることが好ましい。また、光硬化性組成物の粘度がせん断速度500s-1の時に3~100mPa・sであり、せん断速度1s-1の時に300mPa・s以上であることが好ましい理由は、以下の通りである。
波長変換部材の製造方法の一例としては、後述するように、第1の基材に光硬化性組成物を塗布したのちに、光硬化性組成物の上に第2の基材を貼り付けてから、光硬化性組成物を硬化して波長変換層を形成する工程を含む製造方法を挙げることができる。上記製造方法では、第1の基材に光硬化性組成物を塗布する際に塗布スジが生じないように均一に塗布して塗膜の膜厚を均一にすることが望ましく、そのためには塗布性とレベリング性の観点から塗布液(光硬化性組成物)の粘度は低いことが好ましい。一方、第1の基材に塗布された塗布液の上に第2の基材を均一に貼り合せるためには貼り合せ時の圧力への抵抗力が高いことが好ましく、この点から高粘度の塗布液が好ましい。上記のせん断速度500s-1とは、第1の基材に塗布される塗布液に加わるせん断速度の代表値であり、せん断速度1s-1とは塗布液に第2の基材を貼り合せる直前に塗布液に加わるせん断速度の代表値である。なお、せん断速度1s-1とはあくまでも代表値に過ぎない。第1の基材に塗布された塗布液の上に第2の基材を貼り合せる際、第1の基材と第2の基材を同速度で搬送しつつ貼り合せるのであれば塗布液に加わるせん断速度はほぼ0s-1であり、実製造工程において塗布液に加わるせん断速度が1s-1に限定されるものではない。せん断速度500s-1も同様に代表値に過ぎず、実製造工程において塗布液に加わるせん断速度が500s-1に限定されるものではない。そして均一な塗布および貼り合せの観点から、光硬化性組成物の粘度を、第1の基材に塗布液を塗布する際に塗布液に加わるせん断速度の代表値500s-1の時に3~100mPa・sであり、第1の基材に塗布された塗布液上に第2の基材を貼り合せる直前に塗布液に加わるせん断速度の代表値1s-1の時に300mPa・s以上であるように調整することが好ましい。 (Viscosity modifier)
The photocurable composition may contain a viscosity modifier as necessary. The viscosity modifier is preferably a filler having a particle size of 5 nm to 300 nm. The viscosity modifier is also preferably a thixotropic agent. In the present invention and the present specification, thixotropic property refers to a property of reducing the viscosity with respect to an increase in shear rate in a liquid composition, and a thixotropic agent is a composition obtained by including it in the liquid composition. It refers to a material having a function of imparting thixotropy to an object. Specific examples of thixotropic agents include fumed silica, alumina, silicon nitride, titanium dioxide, calcium carbonate, zinc oxide, talc, mica, feldspar, kaolinite (kaolin clay), pyrophyllite (waxite clay), and sericite. (Sericite), bentonite, smectite vermiculites (montmorillonite, beidellite, nontronite, saponite, etc.), organic bentonite, organic smectite and the like.
In one embodiment, the photocurable composition has a viscosity of 3 to 100 mPa · s when the shear rate is 500 s −1 , and preferably 300 mPa · s or more when the shear rate is 1 s −1 . In order to adjust the viscosity in this way, it is preferable to use a thixotropic agent. The reason why the viscosity of the photocurable composition is preferably 3 to 100 mPa · s when the shear rate is 500 s −1 and preferably 300 mPa · s or more when the shear rate is 1 s −1 is as follows.
As an example of the manufacturing method of a wavelength conversion member, after apply | coating a photocurable composition to a 1st base material, a 2nd base material is affixed on a photocurable composition so that it may mention later. From the above, a production method including the step of curing the photocurable composition to form the wavelength conversion layer can be mentioned. In the above production method, it is desirable that the coating film is uniformly applied so that no coating stripes are formed when the photocurable composition is applied to the first substrate, and for this purpose, the coating film is made uniform. The viscosity of the coating liquid (photocurable composition) is preferably low from the viewpoints of properties and leveling properties. On the other hand, in order to uniformly bond the second substrate onto the coating solution applied to the first substrate, it is preferable that the resistance to pressure at the time of bonding is high. A coating solution is preferred. The shear rate of 500 s −1 is a representative value of the shear rate applied to the coating solution applied to the first substrate, and the shear rate of 1 s −1 is just before the second substrate is bonded to the coating solution. This is a representative value of the shear rate applied to the coating solution. The shear rate 1 s −1 is merely a representative value. When the second substrate is bonded onto the coating solution applied to the first substrate, the first substrate and the second substrate are bonded to each other while being transported at the same speed. The applied shear rate is approximately 0 s −1 , and the shear rate applied to the coating solution in the actual manufacturing process is not limited to 1 s −1 . Similarly, the shear rate of 500 s −1 is merely a representative value, and the shear rate applied to the coating solution in the actual manufacturing process is not limited to 500 s −1 . From the viewpoint of uniform application and bonding, the viscosity of the photocurable composition is 3 to 100 mPa when the representative value of the shear rate applied to the application liquid is 500 s -1 when the application liquid is applied to the first substrate. S, so that it is 300 mPa · s or more when the representative value of the shear rate applied to the coating solution is 1 s −1 immediately before the second substrate is bonded onto the coating solution applied to the first substrate. It is preferable to adjust.
光硬化性組成物は、必要に応じて粘度調整剤を含んでいてもよい。粘度調整剤は、粒径が5nm~300nmであるフィラーであることが好ましい。また、粘度調整剤はチキソトロピー剤であることも好ましい。なお本発明および本明細書中、チキソトロピー性とは、液状組成物において、せん断速度の増加に対して粘性を減じる性質を指し、チキソトロピー剤とは、それを液状組成物に含ませることによって、組成物にチキソトロピー性を付与する機能を有する素材のことを指す。チキソトロピー剤の具体例としては、ヒュームドシリカ、アルミナ、窒化珪素、二酸化チタン、炭酸カルシウム、酸化亜鉛、タルク、雲母、長石、カオリナイト(カオリンクレー)、パイロフィライト(ろう石クレー)、セリサイト(絹雲母)、ベントナイト、スメクタイト・バーミキュライト類(モンモリロナイト、バイデライト、ノントロナイト、サポナイトなど)、有機ベントナイト、有機スメクタイト等が挙げられる。
一態様では、光硬化性組成物は、粘度がせん断速度500s-1の時に3~100mPa・sであり、せん断速度1s-1の時に300mPa・s以上であることが好ましい。このように粘度調整するために、チキソトロピー剤を用いることが好ましい。また、光硬化性組成物の粘度がせん断速度500s-1の時に3~100mPa・sであり、せん断速度1s-1の時に300mPa・s以上であることが好ましい理由は、以下の通りである。
波長変換部材の製造方法の一例としては、後述するように、第1の基材に光硬化性組成物を塗布したのちに、光硬化性組成物の上に第2の基材を貼り付けてから、光硬化性組成物を硬化して波長変換層を形成する工程を含む製造方法を挙げることができる。上記製造方法では、第1の基材に光硬化性組成物を塗布する際に塗布スジが生じないように均一に塗布して塗膜の膜厚を均一にすることが望ましく、そのためには塗布性とレベリング性の観点から塗布液(光硬化性組成物)の粘度は低いことが好ましい。一方、第1の基材に塗布された塗布液の上に第2の基材を均一に貼り合せるためには貼り合せ時の圧力への抵抗力が高いことが好ましく、この点から高粘度の塗布液が好ましい。上記のせん断速度500s-1とは、第1の基材に塗布される塗布液に加わるせん断速度の代表値であり、せん断速度1s-1とは塗布液に第2の基材を貼り合せる直前に塗布液に加わるせん断速度の代表値である。なお、せん断速度1s-1とはあくまでも代表値に過ぎない。第1の基材に塗布された塗布液の上に第2の基材を貼り合せる際、第1の基材と第2の基材を同速度で搬送しつつ貼り合せるのであれば塗布液に加わるせん断速度はほぼ0s-1であり、実製造工程において塗布液に加わるせん断速度が1s-1に限定されるものではない。せん断速度500s-1も同様に代表値に過ぎず、実製造工程において塗布液に加わるせん断速度が500s-1に限定されるものではない。そして均一な塗布および貼り合せの観点から、光硬化性組成物の粘度を、第1の基材に塗布液を塗布する際に塗布液に加わるせん断速度の代表値500s-1の時に3~100mPa・sであり、第1の基材に塗布された塗布液上に第2の基材を貼り合せる直前に塗布液に加わるせん断速度の代表値1s-1の時に300mPa・s以上であるように調整することが好ましい。 (Viscosity modifier)
The photocurable composition may contain a viscosity modifier as necessary. The viscosity modifier is preferably a filler having a particle size of 5 nm to 300 nm. The viscosity modifier is also preferably a thixotropic agent. In the present invention and the present specification, thixotropic property refers to a property of reducing the viscosity with respect to an increase in shear rate in a liquid composition, and a thixotropic agent is a composition obtained by including it in the liquid composition. It refers to a material having a function of imparting thixotropy to an object. Specific examples of thixotropic agents include fumed silica, alumina, silicon nitride, titanium dioxide, calcium carbonate, zinc oxide, talc, mica, feldspar, kaolinite (kaolin clay), pyrophyllite (waxite clay), and sericite. (Sericite), bentonite, smectite vermiculites (montmorillonite, beidellite, nontronite, saponite, etc.), organic bentonite, organic smectite and the like.
In one embodiment, the photocurable composition has a viscosity of 3 to 100 mPa · s when the shear rate is 500 s −1 , and preferably 300 mPa · s or more when the shear rate is 1 s −1 . In order to adjust the viscosity in this way, it is preferable to use a thixotropic agent. The reason why the viscosity of the photocurable composition is preferably 3 to 100 mPa · s when the shear rate is 500 s −1 and preferably 300 mPa · s or more when the shear rate is 1 s −1 is as follows.
As an example of the manufacturing method of a wavelength conversion member, after apply | coating a photocurable composition to a 1st base material, a 2nd base material is affixed on a photocurable composition so that it may mention later. From the above, a production method including the step of curing the photocurable composition to form the wavelength conversion layer can be mentioned. In the above production method, it is desirable that the coating film is uniformly applied so that no coating stripes are formed when the photocurable composition is applied to the first substrate, and for this purpose, the coating film is made uniform. The viscosity of the coating liquid (photocurable composition) is preferably low from the viewpoints of properties and leveling properties. On the other hand, in order to uniformly bond the second substrate onto the coating solution applied to the first substrate, it is preferable that the resistance to pressure at the time of bonding is high. A coating solution is preferred. The shear rate of 500 s −1 is a representative value of the shear rate applied to the coating solution applied to the first substrate, and the shear rate of 1 s −1 is just before the second substrate is bonded to the coating solution. This is a representative value of the shear rate applied to the coating solution. The shear rate 1 s −1 is merely a representative value. When the second substrate is bonded onto the coating solution applied to the first substrate, the first substrate and the second substrate are bonded to each other while being transported at the same speed. The applied shear rate is approximately 0 s −1 , and the shear rate applied to the coating solution in the actual manufacturing process is not limited to 1 s −1 . Similarly, the shear rate of 500 s −1 is merely a representative value, and the shear rate applied to the coating solution in the actual manufacturing process is not limited to 500 s −1 . From the viewpoint of uniform application and bonding, the viscosity of the photocurable composition is 3 to 100 mPa when the representative value of the shear rate applied to the application liquid is 500 s -1 when the application liquid is applied to the first substrate. S, so that it is 300 mPa · s or more when the representative value of the shear rate applied to the coating solution is 1 s −1 immediately before the second substrate is bonded onto the coating solution applied to the first substrate. It is preferable to adjust.
(光散乱粒子)
一態様では、波長変換層は、光散乱粒子を含んでいてもよい。したがって、上記光硬化性組成物に光散乱粒子を添加してもよい。 (Light scattering particles)
In one aspect, the wavelength conversion layer may contain light scattering particles. Therefore, light scattering particles may be added to the photocurable composition.
一態様では、波長変換層は、光散乱粒子を含んでいてもよい。したがって、上記光硬化性組成物に光散乱粒子を添加してもよい。 (Light scattering particles)
In one aspect, the wavelength conversion layer may contain light scattering particles. Therefore, light scattering particles may be added to the photocurable composition.
先に記載した通り、光散乱粒子の粒子サイズは0.10μm以上である。光散乱粒子が波長変換層に含まれることは、輝度の更なる向上の観点から好ましい。光散乱効果の観点から、光散乱粒子の粒子サイズは0.10~15.0μmの範囲であることが好ましく、0.10~10.0μmの範囲であることがより好ましく、0.20~4.0μmであることが更に好ましい。また、より一層の輝度の向上や、視野角に対する輝度の分布を調整するために、粒子サイズの異なる二種以上の光散乱粒子を混合して用いてもよい。
As described above, the particle size of the light scattering particles is 0.10 μm or more. It is preferable from the viewpoint of further improving the brightness that the light scattering particles are contained in the wavelength conversion layer. From the viewpoint of the light scattering effect, the particle size of the light scattering particles is preferably in the range of 0.10 to 15.0 μm, more preferably in the range of 0.10 to 10.0 μm, and 0.20 to 4 More preferably, it is 0.0 μm. Further, in order to further improve the luminance and adjust the luminance distribution with respect to the viewing angle, two or more kinds of light scattering particles having different particle sizes may be mixed and used.
光散乱粒子は、有機粒子であってもよく、無機粒子であってもよく、有機無機複合粒子であってもよい。例えば有機粒子としては、合成樹脂粒子を挙げることができる。具体例としては、シリコーン樹脂粒子、アクリル樹脂粒子(ポリメチルメタクリレート(PMMA))、ナイロン樹脂粒子、スチレン樹脂粒子、ポリエチレン粒子、ウレタン樹脂粒子、ベンゾグアナミン粒子等が挙げられる。光散乱効果の観点からは、波長変換層のマトリックスにおいて光散乱粒子と他の部分との屈折率は異なることが好ましく、この点から好適な屈折率を有する粒子の入手容易性の観点からはシリコーン樹脂粒子、アクリル樹脂粒子が好ましい。また中空構造を有する粒子も使用できる。また、無機粒子としては、ダイヤモンド、酸化チタン、酸化ジルコニウム、酸化鉛、炭酸鉛、酸化亜鉛、硫化亜鉛、酸化アンチモン、酸化ケイ素、酸化アルミニウム等の粒子を用いることができ、好適な屈折率を有する粒子の入手容易性の観点からは酸化チタン、酸化アルミニウムが好ましい。
The light scattering particles may be organic particles, inorganic particles, or organic-inorganic composite particles. For example, as the organic particles, synthetic resin particles can be exemplified. Specific examples include silicone resin particles, acrylic resin particles (polymethyl methacrylate (PMMA)), nylon resin particles, styrene resin particles, polyethylene particles, urethane resin particles, benzoguanamine particles, and the like. From the viewpoint of the light scattering effect, it is preferable that the refractive index of the light scattering particles and other parts in the matrix of the wavelength conversion layer is different. From this point of view, the silicone is preferable from the viewpoint of availability of particles having a suitable refractive index. Resin particles and acrylic resin particles are preferred. Also, particles having a hollow structure can be used. Moreover, as inorganic particles, particles such as diamond, titanium oxide, zirconium oxide, lead oxide, lead carbonate, zinc oxide, zinc sulfide, antimony oxide, silicon oxide, and aluminum oxide can be used and have a suitable refractive index. From the viewpoint of availability of particles, titanium oxide and aluminum oxide are preferable.
光散乱粒子は、光散乱効果の観点およびこの粒子を含む波長変換層の脆性の観点から、波長変換層中に波長変換層全体を100体積%として体積基準で0.20体積%以上含まれることが好ましく、0.20体積%~50体積%含まれることがより好ましく、0.20体積%~30体積%含まれることが更に好ましく、0.20体積%~10体積%含まれることがいっそう好ましい。したがって、かかる波長変換層を得るために、光硬化性組成物として、光散乱粒子を組成物の固形分全量に対して体積基準で0.20体積%以上含む光硬化性組成物を用いることが好ましい。より好ましい範囲等は、上記と同様である。
From the viewpoint of the light scattering effect and the brittleness of the wavelength conversion layer containing this particle, the light scattering particles should be contained in the wavelength conversion layer in an amount of 0.20% by volume or more on a volume basis with the entire wavelength conversion layer being 100% by volume. Preferably 0.20% by volume to 50% by volume, more preferably 0.20% by volume to 30% by volume, and even more preferably 0.20% by volume to 10% by volume. . Therefore, in order to obtain such a wavelength conversion layer, a photocurable composition containing 0.20% by volume or more of light scattering particles on a volume basis with respect to the total solid content of the composition is used as the photocurable composition. preferable. More preferred ranges are the same as above.
更にマトリックスの光散乱粒子を除く部分の屈折率を調整するためには、光散乱粒子より粒子サイズが小さい粒子を、屈折率調整粒子として用いることができる。屈折率調整粒子の粒子サイズは、0.10μm未満である。
屈折率調整粒子としては、例えば、ダイヤモンド、酸化チタン、酸化ジルコニウム、酸化鉛、炭酸鉛、酸化亜鉛、硫化亜鉛、酸化アンチモン、酸化ケイ素、酸化アルミニウム等の粒子が挙げられる。中でも青色光や紫外光の吸収の少ない点で、酸化ジルコニウムや酸化ケイ素の粒子が好ましく、少量で屈折率を調整できることから、酸化ジルコニウムの粒子が好ましい。屈折率調整粒子は、屈折率の調整が可能な量を用いればよく、光散乱層における含有量は特に限定されるものではない。 Furthermore, in order to adjust the refractive index of the portion excluding the light scattering particles of the matrix, particles having a particle size smaller than that of the light scattering particles can be used as the refractive index adjusting particles. The particle size of the refractive index adjusting particles is less than 0.10 μm.
Examples of the refractive index adjusting particles include particles of diamond, titanium oxide, zirconium oxide, lead oxide, lead carbonate, zinc oxide, zinc sulfide, antimony oxide, silicon oxide, aluminum oxide, and the like. Among them, zirconium oxide and silicon oxide particles are preferable from the viewpoint of little absorption of blue light and ultraviolet light, and zirconium oxide particles are preferable because the refractive index can be adjusted with a small amount. The refractive index adjusting particles may be used in an amount capable of adjusting the refractive index, and the content in the light scattering layer is not particularly limited.
屈折率調整粒子としては、例えば、ダイヤモンド、酸化チタン、酸化ジルコニウム、酸化鉛、炭酸鉛、酸化亜鉛、硫化亜鉛、酸化アンチモン、酸化ケイ素、酸化アルミニウム等の粒子が挙げられる。中でも青色光や紫外光の吸収の少ない点で、酸化ジルコニウムや酸化ケイ素の粒子が好ましく、少量で屈折率を調整できることから、酸化ジルコニウムの粒子が好ましい。屈折率調整粒子は、屈折率の調整が可能な量を用いればよく、光散乱層における含有量は特に限定されるものではない。 Furthermore, in order to adjust the refractive index of the portion excluding the light scattering particles of the matrix, particles having a particle size smaller than that of the light scattering particles can be used as the refractive index adjusting particles. The particle size of the refractive index adjusting particles is less than 0.10 μm.
Examples of the refractive index adjusting particles include particles of diamond, titanium oxide, zirconium oxide, lead oxide, lead carbonate, zinc oxide, zinc sulfide, antimony oxide, silicon oxide, aluminum oxide, and the like. Among them, zirconium oxide and silicon oxide particles are preferable from the viewpoint of little absorption of blue light and ultraviolet light, and zirconium oxide particles are preferable because the refractive index can be adjusted with a small amount. The refractive index adjusting particles may be used in an amount capable of adjusting the refractive index, and the content in the light scattering layer is not particularly limited.
(溶媒)
上記光硬化性組成物は、必要に応じて溶媒を含んでいてもよい。この場合に使用される溶媒の種類および添加量は、特に限定されない。例えば溶媒として、有機溶媒を一種または二種以上混合して用いることができる。 (solvent)
The said photocurable composition may contain the solvent as needed. In this case, the type and amount of the solvent used are not particularly limited. For example, one or a mixture of two or more organic solvents can be used as the solvent.
上記光硬化性組成物は、必要に応じて溶媒を含んでいてもよい。この場合に使用される溶媒の種類および添加量は、特に限定されない。例えば溶媒として、有機溶媒を一種または二種以上混合して用いることができる。 (solvent)
The said photocurable composition may contain the solvent as needed. In this case, the type and amount of the solvent used are not particularly limited. For example, one or a mixture of two or more organic solvents can be used as the solvent.
(波長変換層の形成方法)
波長変換層は、光硬化性組成物を、基材またはバリアフィルム等の基材表面に塗布した後に光照射により硬化させ、形成することができる。
塗布方法としてはカーテンコーティング法、ディップコーティング法、スピンコーティング法、印刷コーティング法、スプレーコーティング法、スロットコーティング法、ロールコーティング法、スライドコーテティング法、ブレードコーティング法、グラビアコーティング法、ワイヤーバー法等の公知の塗布方法が挙げられる。
硬化条件は、使用する重合性化合物の種類や光硬化性組成物の組成に応じて、適宜設定することができる。また、光硬化性組成物が溶媒を含む組成物である場合には、硬化を行う前に、溶媒除去のために乾燥処理を施してもよい。 (Method for forming wavelength conversion layer)
The wavelength conversion layer can be formed by applying a photocurable composition to the surface of a substrate such as a substrate or a barrier film, and then curing the composition by light irradiation.
Application methods include curtain coating, dip coating, spin coating, print coating, spray coating, slot coating, roll coating, slide coating, blade coating, gravure coating, wire bar method, etc. A well-known coating method is mentioned.
Curing conditions can be appropriately set according to the type of polymerizable compound used and the composition of the photocurable composition. Moreover, when a photocurable composition is a composition containing a solvent, before hardening, you may give a drying process for solvent removal.
波長変換層は、光硬化性組成物を、基材またはバリアフィルム等の基材表面に塗布した後に光照射により硬化させ、形成することができる。
塗布方法としてはカーテンコーティング法、ディップコーティング法、スピンコーティング法、印刷コーティング法、スプレーコーティング法、スロットコーティング法、ロールコーティング法、スライドコーテティング法、ブレードコーティング法、グラビアコーティング法、ワイヤーバー法等の公知の塗布方法が挙げられる。
硬化条件は、使用する重合性化合物の種類や光硬化性組成物の組成に応じて、適宜設定することができる。また、光硬化性組成物が溶媒を含む組成物である場合には、硬化を行う前に、溶媒除去のために乾燥処理を施してもよい。 (Method for forming wavelength conversion layer)
The wavelength conversion layer can be formed by applying a photocurable composition to the surface of a substrate such as a substrate or a barrier film, and then curing the composition by light irradiation.
Application methods include curtain coating, dip coating, spin coating, print coating, spray coating, slot coating, roll coating, slide coating, blade coating, gravure coating, wire bar method, etc. A well-known coating method is mentioned.
Curing conditions can be appropriately set according to the type of polymerizable compound used and the composition of the photocurable composition. Moreover, when a photocurable composition is a composition containing a solvent, before hardening, you may give a drying process for solvent removal.
光硬化性組成物の硬化は、光硬化性組成物を2枚の基材間に挟持した状態で行ってもよい。かかる硬化処理を含む波長変換部材の製造工程の一態様を、図面を参照し以下に説明する。ただし、本発明は、下記態様に限定されるものではない。
The photocurable composition may be cured in a state where the photocurable composition is sandwiched between two substrates. One aspect of the manufacturing process of the wavelength conversion member including such a curing process will be described below with reference to the drawings. However, the present invention is not limited to the following embodiments.
図2は、波長変換部材の製造装置の一例の概略構成図であり、図3は、図2に示す製造装置の部分拡大図である。図2、3に示す製造装置を用いる波長変換部材の製造工程は、連続搬送される第1の基材(以下、「第1のフィルム」という。)の表面に光硬化性組成物を塗布し塗膜を形成する工程と、塗膜の上に、連続搬送される第2の基材(以下、「第2のフィルム」ともいう。)をラミネートし(重ねあわせ)、第1のフィルムと第2のフィルムとで塗膜を挟持する工程と、第1のフィルムと第2のフィルムとで塗膜を挟持した状態で、第1のフィルム、および第2のフィルムの何れかをバックアップローラに巻きかけて、連続搬送しながら光照射し、塗膜を重合硬化させて波長変換層(硬化層)を形成する工程とを少なくとも含む。第1のフィルム、第2のフィルムのいずれか一方として酸素や水分に対するバリア性を有するバリアフィルムを用いることにより、片面がバリアフィルムにより保護された波長変換部材を得ることができる。また、第1のフィルムおよび第2のフィルムとして、それぞれバリアフィルムを用いることにより、波長変換層の両面がバリアフィルムにより保護された波長変換部材を得ることができる。
FIG. 2 is a schematic configuration diagram of an example of a wavelength conversion member manufacturing apparatus, and FIG. 3 is a partial enlarged view of the manufacturing apparatus shown in FIG. The manufacturing process of the wavelength conversion member using the manufacturing apparatus shown in FIGS. 2 and 3 applies a photocurable composition to the surface of a first substrate (hereinafter referred to as “first film”) that is continuously conveyed. A step of forming a coating film, and a second substrate (hereinafter also referred to as “second film”) that is continuously conveyed are laminated (overlaid) on the coating film, and the first film and the first film In the state where the coating film is sandwiched between the film 2 and the coating film is sandwiched between the first film and the second film, either the first film or the second film is wound around the backup roller. And at least a step of forming a wavelength conversion layer (cured layer) by irradiating with light while continuously transporting and polymerizing and curing the coating film. By using a barrier film having a barrier property against oxygen or moisture as either the first film or the second film, a wavelength conversion member having one surface protected by the barrier film can be obtained. Moreover, the wavelength conversion member by which the both surfaces of the wavelength conversion layer were protected by the barrier film can be obtained by using a barrier film as a 1st film and a 2nd film, respectively.
より詳しくは、まず、図示しない送出機から第1のフィルム10が塗布部20へと連続搬送される。送出機から、例えば、第1のフィルム10が1~50m/分の搬送速度で送り出される。但し、この搬送速度に限定されない。送出される際、例えば、第1のフィルム10には、20~150N/mの張力、好ましくは30~100N/mの張力が加えられる。
More specifically, first, the first film 10 is continuously conveyed from the unillustrated transmitter to the coating unit 20. For example, the first film 10 is delivered from the delivery machine at a conveyance speed of 1 to 50 m / min. However, it is not limited to this conveyance speed. When delivered, for example, a tension of 20 to 150 N / m, preferably a tension of 30 to 100 N / m is applied to the first film 10. *
塗布部20では、連続搬送される第1のフィルム10の表面に光硬化性組成物(以下、「塗布液」とも記載する。)が塗布され、塗膜22(図3参照)が形成される。塗布部20では、例えば、ダイコーター24と、ダイコーター24に対向配置されたバックアップローラ26とが設置されている。第1のフィルム10の塗膜22の形成される表面と反対の表面をバックアップローラ26に巻きかけて、連続搬送される第1のフィルム10の表面にダイコーター24の吐出口から塗布液が塗布され、塗膜22が形成される。ここで塗膜22とは、第1のフィルム10上に塗布された硬化前の光硬化性組成物をいう。
In the coating unit 20, a photocurable composition (hereinafter also referred to as “coating liquid”) is applied to the surface of the first film 10 that is continuously conveyed, and a coating film 22 (see FIG. 3) is formed. . In the coating unit 20, for example, a die coater 24 and a backup roller 26 disposed to face the die coater 24 are installed. The surface opposite to the surface on which the coating film 22 of the first film 10 is formed is wound around the backup roller 26, and the coating liquid is applied from the discharge port of the die coater 24 onto the surface of the first film 10 that is continuously conveyed. As a result, the coating film 22 is formed. Here, the coating film 22 refers to a photocurable composition before curing applied on the first film 10.
本実施の形態では、塗布装置としてエクストルージョンコーティング法を適用したダイコーター24を示したが、これに限定されない。例えば、カーテンコーティング法、エクストルージョンコーティング法、ロッドコーティング法またはロールコーティング法等、種々の方法を適用した塗布装置を用いることができる。
In the present embodiment, the die coater 24 to which the extrusion coating method is applied is shown as the coating apparatus, but the present invention is not limited to this. For example, a coating apparatus to which various methods such as a curtain coating method, an extrusion coating method, a rod coating method, or a roll coating method are applied can be used.
塗布部20を通過し、その上に塗膜22が形成された第1のフィルム10は、ラミネート部30に連続搬送される。ラミネート部30では、塗膜22の上に、連続搬送される第2のフィルム50がラミネートされ、第1のフィルム10と第2のフィルム50とで塗膜22が挟持される。
The first film 10 having passed through the coating unit 20 and having the coating film 22 formed thereon is continuously conveyed to the laminating unit 30. In the laminating unit 30, the second film 50 that is continuously conveyed is laminated on the coating film 22, and the coating film 22 is sandwiched between the first film 10 and the second film 50.
ラミネート部30には、ラミネートローラ32と、ラミネートローラ32を囲う加熱チャンバー34とが設置されている。加熱チャンバー34には第1のフィルム10を通過させるための開口部36、および第2のフィルム50を通過させるための開口部38が設けられている。
The laminating unit 30 is provided with a laminating roller 32 and a heating chamber 34 surrounding the laminating roller 32. The heating chamber 34 is provided with an opening 36 for allowing the first film 10 to pass therethrough and an opening 38 for allowing the second film 50 to pass therethrough.
ラミネートローラ32に対向する位置には、バックアップローラ62が配置されている。塗膜22の形成された第1のフィルム10は、塗膜22の形成面と反対の表面がバックアップローラ62に巻きかけられ、ラミネート位置Pへと連続搬送される。ラミネート位置Pは第2のフィルム50と塗膜22との接触が開始する位置を意味する。第1のフィルム10はラミネート位置Pに到達する前にバックアップローラ62に巻きかけられることが好ましい。仮に第1のフィルム10にシワが発生した場合でも、バックアップローラ62によりシワがラミネート位置Pに達するまでに矯正され、除去できるからである。したがって、第1のフィルム10がバックアップローラ62に巻きかけられた位置(接触位置)と、ラミネート位置Pまでの距離L1は長いことが好ましく、例えば、30mm以上が好ましく、その上限値は、通常、バックアップローラ62の直径とパスラインとにより決定される。
A backup roller 62 is disposed at a position facing the laminating roller 32. The first film 10 on which the coating film 22 is formed is wound around the backup roller 62 on the surface opposite to the surface on which the coating film 22 is formed, and is continuously conveyed to the laminating position P. The laminating position P means a position where the contact between the second film 50 and the coating film 22 starts. The first film 10 is preferably wound around the backup roller 62 before reaching the laminating position P. This is because even if wrinkles occur in the first film 10, the wrinkles are corrected and removed by the backup roller 62 before reaching the laminate position P. Therefore, the position (contact position) where the first film 10 is wound around the backup roller 62 and the distance L1 to the lamination position P are preferably long, for example, 30 mm or more is preferable, and the upper limit is usually It is determined by the diameter of the backup roller 62 and the pass line.
本実施の形態では硬化部60で使用されるバックアップローラ62とラミネートローラ32とにより第2のフィルム50のラミネートが行われる。即ち、硬化部60で使用されるバックアップローラ62が、ラミネート部30で使用するローラとして兼用される。ただし、上記形態に限定されるものではなく、ラミネート部30に、バックアップローラ62と別に、ラミネート用のローラを設置し、バックアップローラ62を兼用しないようにすることもできる。
In the present embodiment, the second film 50 is laminated by the backup roller 62 and the laminating roller 32 used in the curing unit 60. That is, the backup roller 62 used in the curing unit 60 is also used as a roller used in the laminating unit 30. However, the present invention is not limited to the above form, and a laminating roller may be installed in the laminating unit 30 in addition to the backup roller 62 so that the backup roller 62 is not used.
硬化部60で使用されるバックアップローラ62をラミネート部30で使用することで、ローラの数を減らすことができる。また、バックアップローラ62は、第1のフィルム10に対するヒートローラとしても使用できる。
By using the backup roller 62 used in the curing unit 60 in the laminating unit 30, the number of rollers can be reduced. The backup roller 62 can also be used as a heat roller for the first film 10.
図示しない送出機から送出された第2のフィルム50は、ラミネートローラ32に巻きかけられ、ラミネートローラ32とバックアップローラ62との間に連続搬送される。第2のフィルム50は、ラミネート位置Pで、第1のフィルム10に形成された塗膜22の上にラミネートされる。これにより、第1のフィルム10と第2のフィルム50とにより塗膜22が挟持される。ラミネートとは、第2のフィルム50を塗膜22の上に重ねあわせ、積層することをいう。
The second film 50 sent from a sending machine (not shown) is wound around the laminating roller 32 and continuously conveyed between the laminating roller 32 and the backup roller 62. The second film 50 is laminated on the coating film 22 formed on the first film 10 at the laminating position P. Accordingly, the coating film 22 is sandwiched between the first film 10 and the second film 50. Lamination refers to laminating the second film 50 on the coating film 22.
ラミネートローラ32とバックアップローラ62との距離L2は、第1のフィルム10と、塗膜22を重合硬化させた波長変換層(硬化層)28と、第2のフィルム50と、の合計厚みの値以上であることが好ましい。また、L2は第1のフィルム10と塗膜22と第2のフィルム50との合計厚みに5mmを加えた長さ以下であることが好ましい。距離L2を合計厚みに5mmを加えた長さ以下にすることより、第2のフィルム50と塗膜22との間に泡が侵入することを防止することができる。ここでラミネートローラ32とバックアップローラ62との距離L2とは、ラミネートローラ32の外周面とバックアップローラ62の外周面との最短距離をいう。
The distance L2 between the laminating roller 32 and the backup roller 62 is a value of the total thickness of the first film 10, the wavelength conversion layer (cured layer) 28 obtained by polymerizing and curing the coating film 22, and the second film 50. The above is preferable. Moreover, it is preferable that L2 is below the length which added 5 mm to the total thickness of the 1st film 10, the coating film 22, and the 2nd film 50. FIG. By setting the distance L2 to be equal to or shorter than the total thickness plus 5 mm, it is possible to prevent bubbles from entering between the second film 50 and the coating film 22. Here, the distance L <b> 2 between the laminating roller 32 and the backup roller 62 refers to the shortest distance between the outer peripheral surface of the laminating roller 32 and the outer peripheral surface of the backup roller 62.
ラミネートローラ32とバックアップローラ62の回転精度は、ラジアル振れで0.05mm以下、好ましくは0.01mm以下である。ラジアル振れが小さいほど、塗膜22の厚み分布を小さくすることができる。
Rotational accuracy of the laminating roller 32 and the backup roller 62 is 0.05 mm or less, preferably 0.01 mm or less in radial runout. The smaller the radial runout, the smaller the thickness distribution of the coating film 22.
また、第1のフィルム10と第2のフィルム50とで塗膜22を挟持した後の熱変形を抑制するため、硬化部60のバックアップローラ62の温度と第1のフィルム10の温度との差、およびバックアップローラ62の温度と第2のフィルム50の温度との差は30℃以下であることが好ましく、より好ましくは15℃以下、最も好ましくは同じである。
Further, in order to suppress thermal deformation after the coating film 22 is sandwiched between the first film 10 and the second film 50, the difference between the temperature of the backup roller 62 of the curing unit 60 and the temperature of the first film 10. The difference between the temperature of the backup roller 62 and the temperature of the second film 50 is preferably 30 ° C. or less, more preferably 15 ° C. or less, and most preferably the same.
バックアップローラ62の温度との差を小さくするため、加熱チャンバー34が設けられている場合には、第1のフィルム10、および第2のフィルム50を加熱チャンバー34内で加熱することが好ましい。例えば、加熱チャンバー34には、図示しない熱風発生装置により熱風が供給され、第1のフィルム10、および第2のフィルム50を加熱することができる。
In order to reduce the difference from the temperature of the backup roller 62, when the heating chamber 34 is provided, it is preferable to heat the first film 10 and the second film 50 in the heating chamber 34. For example, hot air is supplied to the heating chamber 34 by a hot air generator (not shown), and the first film 10 and the second film 50 can be heated.
第1のフィルム10が、温度調整されたバックアップローラ62に巻きかけられることにより、バックアップローラ62によって第1のフィルム10を加熱してもよい。
The first film 10 may be heated by the backup roller 62 by being wound around the backup roller 62 whose temperature has been adjusted.
一方、第2のフィルム50については、ラミネートローラ32をヒートローラとすることにより、第2のフィルム50をラミネートローラ32で加熱することができる。
ただし、加熱チャンバー34、およびヒートローラは必須ではなく、必要に応じで設けることができる。 On the other hand, thesecond film 50 can be heated by the laminating roller 32 by using the laminating roller 32 as a heat roller.
However, theheating chamber 34 and the heat roller are not essential and can be provided as necessary.
ただし、加熱チャンバー34、およびヒートローラは必須ではなく、必要に応じで設けることができる。 On the other hand, the
However, the
次に、第1のフィルム10と第2のフィルム50とにより塗膜22が挟持された状態で、硬化部60に連続搬送される。硬化部60における硬化は光照射により行われる。
Next, the film 22 is continuously conveyed to the curing unit 60 in a state where the coating film 22 is sandwiched between the first film 10 and the second film 50. Curing in the curing unit 60 is performed by light irradiation.
バックアップローラ62と、バックアップローラ62に対向する位置には、光照射装置64が設けられている。バックアップローラ62と光照射装置64と間を、塗膜22を挟持した第1のフィルム10と第2のフィルム50とが連続搬送される。光照射装置により照射される光は、光硬化性組成物に含まれる重合性化合物の種類に応じて決定すればよく、一例としては、紫外線が挙げられる。紫外線を発生する光源として、例えば、低圧水銀灯、中圧水銀灯、高圧水銀灯、超高圧水銀灯、カーボンアーク灯、メタルハライドランプ、キセノンランプ等を用いることができる。光照射量は塗膜の重合硬化を進行させ得る範囲に設定すればよく、例えば、一例として100~10000mJ/cm2の照射量の紫外線を塗膜22に向けて照射することができる。
A light irradiation device 64 is provided at a position facing the backup roller 62 and the backup roller 62. The first film 10 and the second film 50 sandwiching the coating film 22 are continuously conveyed between the backup roller 62 and the light irradiation device 64. What is necessary is just to determine the light irradiated by a light irradiation apparatus according to the kind of polymeric compound contained in a photocurable composition, and an ultraviolet-ray is mentioned as an example. As a light source that generates ultraviolet rays, for example, a low-pressure mercury lamp, a medium-pressure mercury lamp, a high-pressure mercury lamp, an ultrahigh-pressure mercury lamp, a carbon arc lamp, a metal halide lamp, a xenon lamp, or the like can be used. The light irradiation amount may be set within a range in which the polymerization and curing of the coating film can proceed. For example, the coating film 22 can be irradiated with ultraviolet rays having an irradiation amount of 100 to 10,000 mJ / cm 2 .
硬化部60では、第1のフィルム10と第2のフィルム50とにより塗膜22を挟持した状態で、第1のフィルム10をバックアップローラ62に巻きかけて、連続搬送しながら光照射装置64から光照射を行い、塗膜22を硬化させて波長変換層(光硬化層)28を形成することができる。
In the curing unit 60, the first film 10 is wound around the backup roller 62 in a state where the coating film 22 is sandwiched between the first film 10 and the second film 50, and is continuously transported from the light irradiation device 64. The wavelength conversion layer (photocured layer) 28 can be formed by performing light irradiation to cure the coating film 22.
本実施の形態では、第1のフィルム10側をバックアップローラ62に巻きかけて、連続搬送したが、第2のフィルム50をバックアップローラ62に巻きかけて、連続搬送させることもできる。
In the present embodiment, the first film 10 side is wound around the backup roller 62 and continuously conveyed, but the second film 50 may be wound around the backup roller 62 and continuously conveyed.
バックアップローラ62に巻きかけるとは、第1のフィルム10および第2のフィルム50の何れかが、あるラップ角でバックアップローラ62の表面に接触している状態をいう。したがって、連続搬送される間、第1のフィルム10および第2のフィルム50はバックアップローラ62の回転と同期して移動する。バックアップローラ62へ巻きかけは、少なくとも紫外線が照射されている間であればよい。
“Wrapping around the backup roller 62” means a state in which one of the first film 10 and the second film 50 is in contact with the surface of the backup roller 62 at a certain wrap angle. Accordingly, the first film 10 and the second film 50 move in synchronization with the rotation of the backup roller 62 while being continuously conveyed. Winding around the backup roller 62 may be at least during the irradiation of ultraviolet rays.
バックアップローラ62は、円柱状の形状の本体と、本体の両端部に配置された回転軸とを備えている。バックアップローラ62の本体は、例えば、φ200~1000mmの直径を有している。バックアップローラ62の直径φについて制限はない。積層フィルムのカール変形と、設備コストと、回転精度とを考慮すると直径φ300~500mmであることが好ましい。バックアップローラ62の本体に温度調節器を取り付けることにより、バックアップローラ62の温度を調整することができる。
The backup roller 62 includes a cylindrical main body and rotating shafts arranged at both ends of the main body. The main body of the backup roller 62 has a diameter of φ200 to 1000 mm, for example. There is no restriction on the diameter φ of the backup roller 62. In consideration of curl deformation of the laminated film, equipment cost, and rotational accuracy, the diameter is preferably 300 to 500 mm. The temperature of the backup roller 62 can be adjusted by attaching a temperature controller to the main body of the backup roller 62.
バックアップローラ62の温度は、光照射時の発熱と、塗膜22の硬化効率と、第1のフィルム10と第2のフィルム50のバックアップローラ62上でのシワ変形の発生と、を考慮して、決定することができる。バックアップローラ62は、例えば、10~95℃の温度範囲に設定することが好ましく、15~85℃であることがより好ましい。ここでローラに関する温度とは、ローラの表面温度をいうものとする。
The temperature of the backup roller 62 takes into consideration the heat generation during light irradiation, the curing efficiency of the coating film 22, and the occurrence of wrinkle deformation on the backup roller 62 of the first film 10 and the second film 50. Can be determined. The backup roller 62 is preferably set to a temperature range of 10 to 95 ° C., for example, and more preferably 15 to 85 ° C. Here, the temperature related to the roller refers to the surface temperature of the roller.
ラミネート位置Pと光照射装置64との距離L3は、例えば30mm以上とすることができる。
The distance L3 between the laminate position P and the light irradiation device 64 can be set to 30 mm or more, for example.
光照射により塗膜22は硬化層28となり、第1のフィルム10と硬化層28と第2のフィルム50とを含む波長変換部材70が製造される。波長変換部材70は、剥離ローラ80によりバックアップローラ62から剥離される。波長変換部材70は、図示しない巻取機に連続搬送され、次いで巻取機により波長変換部材70はロール状に巻き取られる。
The coating film 22 becomes the cured layer 28 by light irradiation, and the wavelength conversion member 70 including the first film 10, the cured layer 28, and the second film 50 is manufactured. The wavelength conversion member 70 is peeled from the backup roller 62 by the peeling roller 80. The wavelength conversion member 70 is continuously conveyed to a winder (not shown), and then the wavelength conversion member 70 is wound into a roll by the winder.
以上、波長変換部材の製造工程の一態様について説明したが、本発明は上記態様に限定されるものではない。例えば、光硬化性組成物を基材またはバリアフィルムなどの基材上に塗布し、その上に更なる基材をラミネートすることなく、必要に応じて行われる乾燥処理の後、硬化を施すことにより波長変換層(光硬化層)を形成してもよい。形成された波長変換層には、無機層等の一層以上の他の層を、公知の方法により積層することもできる。
As mentioned above, although one aspect of the manufacturing process of the wavelength conversion member has been described, the present invention is not limited to the above aspect. For example, a photocurable composition is applied onto a substrate such as a substrate or a barrier film, and a curing is performed after a drying treatment as necessary without laminating a further substrate thereon. The wavelength conversion layer (photocured layer) may be formed by One or more other layers such as an inorganic layer may be laminated on the formed wavelength conversion layer by a known method.
波長変換層の厚みは、好ましくは1~500μmの範囲であり、より好ましくは10~250μmの範囲であり、さらに好ましくは30~150μmの範囲である。厚みが1μm以上であると、高い波長変換効果が得られるため、好ましい。また、厚みが500μm以下であると、バックライトユニットに組み込んだ場合に、バックライトユニットを薄くすることができるため、好ましい。
The thickness of the wavelength conversion layer is preferably in the range of 1 to 500 μm, more preferably in the range of 10 to 250 μm, and still more preferably in the range of 30 to 150 μm. A thickness of 1 μm or more is preferable because a high wavelength conversion effect can be obtained. Further, it is preferable that the thickness is 500 μm or less because the backlight unit can be thinned when incorporated in the backlight unit.
(基材)
波長変換部材は、強度向上、成膜の容易性等のため、基材を有していてもよい。基材は、波長変換層に隣接する層として含まれていてもよい。基材は、波長変換部材中に1つまたは2つ以上含まれていてもよく、波長変換部材は、基材、波長変換層、基材がこの順で積層された構造を有していてもよい。波長変換部材が2つ以上の基材を含む場合、かかる基材は同一であっても異なっていてもよい。基材は、可視光に対して透明であることが好ましい。ここで可視光に対して透明とは、可視光領域における光線透過率が、80%以上、好ましくは85%以上であることをいう。透明の尺度として用いられる光線透過率は、JIS-K7105に記載された方法、すなわち積分球式光線透過率測定装置を用いて全光線透過率および散乱光量を測定し、全光線透過率から拡散透過率を引いて算出することができる。 (Base material)
The wavelength conversion member may have a base material for strength improvement, film formation ease, and the like. The base material may be included as a layer adjacent to the wavelength conversion layer. One or two or more base materials may be included in the wavelength conversion member, and the wavelength conversion member may have a structure in which the base material, the wavelength conversion layer, and the base material are laminated in this order. Good. When the wavelength conversion member includes two or more base materials, the base materials may be the same or different. The substrate is preferably transparent to visible light. Here, being transparent to visible light means that the light transmittance in the visible light region is 80% or more, preferably 85% or more. The light transmittance used as a measure of transparency is measured by measuring the total light transmittance and the amount of scattered light using the method described in JIS-K7105, that is, using an integrating sphere light transmittance measuring device. It can be calculated by subtracting the rate.
波長変換部材は、強度向上、成膜の容易性等のため、基材を有していてもよい。基材は、波長変換層に隣接する層として含まれていてもよい。基材は、波長変換部材中に1つまたは2つ以上含まれていてもよく、波長変換部材は、基材、波長変換層、基材がこの順で積層された構造を有していてもよい。波長変換部材が2つ以上の基材を含む場合、かかる基材は同一であっても異なっていてもよい。基材は、可視光に対して透明であることが好ましい。ここで可視光に対して透明とは、可視光領域における光線透過率が、80%以上、好ましくは85%以上であることをいう。透明の尺度として用いられる光線透過率は、JIS-K7105に記載された方法、すなわち積分球式光線透過率測定装置を用いて全光線透過率および散乱光量を測定し、全光線透過率から拡散透過率を引いて算出することができる。 (Base material)
The wavelength conversion member may have a base material for strength improvement, film formation ease, and the like. The base material may be included as a layer adjacent to the wavelength conversion layer. One or two or more base materials may be included in the wavelength conversion member, and the wavelength conversion member may have a structure in which the base material, the wavelength conversion layer, and the base material are laminated in this order. Good. When the wavelength conversion member includes two or more base materials, the base materials may be the same or different. The substrate is preferably transparent to visible light. Here, being transparent to visible light means that the light transmittance in the visible light region is 80% or more, preferably 85% or more. The light transmittance used as a measure of transparency is measured by measuring the total light transmittance and the amount of scattered light using the method described in JIS-K7105, that is, using an integrating sphere light transmittance measuring device. It can be calculated by subtracting the rate.
基材の厚さは、ガスバリア性、耐衝撃性等の観点から、10μm~500μmの範囲内、中でも15~400μmの範囲内、特に20~300μmの範囲内であることが好ましい。
The thickness of the substrate is preferably in the range of 10 μm to 500 μm, more preferably in the range of 15 to 400 μm, and particularly in the range of 20 to 300 μm from the viewpoint of gas barrier properties, impact resistance and the like.
また、基材は、上述の第1のフィルムおよび第2のフィルムのいずれか、または双方として用いることもできる。
Further, the base material can be used as either or both of the first film and the second film described above.
基材は、バリアフィルムであることもできる。バリアフィルムは酸素分子を遮断するガスバリア機能を有するフィルムである。バリアフィルムが、水蒸気を遮断する機能を有していることも好ましい。
The base material can also be a barrier film. The barrier film is a film having a gas barrier function of blocking oxygen molecules. It is also preferable that the barrier film has a function of blocking water vapor.
バリアフィルムは、通常、少なくとも無機層を含んでいればよく、支持体フィルムおよび無機層を含むフィルムであってもよい。支持体フィルムについては、例えば、特開2007-290369号公報段落0046~0052、特開2005-096108号公報段落0040~0055を参照できる。バリアフィルムは、支持体フィルム上に少なくとも一層の無機層1層と少なくとも一層の有機層を含むバリア積層体を含むものであってもよい。一例として、支持体フィルム/有機層/無機層の積層構成、支持体フィルム/無機層/有機層の積層構成、支持体フィルム/有機層/無機層/有機層の積層構成(ここで二層の有機層は、厚さおよび組成の一方または両方が同一であっても異なっていてもよい)、等を挙げることができる。このように複数の層を積層することは、より一層バリア性を高めることができるため、他方、積層する層の数が増えるほど、波長変換部材の光透過率は低下する傾向があるため、良好な光透過率を維持し得る範囲で、積層数を増やすことが望ましい。具体的には、バリアフィルムは、酸素透過度が1cm3/(m2・day・atm)以下であることが好ましい。ここで、上記酸素透過度は、測定温度23℃、相対湿度90%の条件下で、酸素ガス透過率測定装置(MOCON社製OX-TRAN 2/20:商品名)を用いて測定した値である。また、バリアフィルムは、可視光領域における全光線透過率が80%以上であることが好ましい。可視光領域とは、380~780nmの波長領域をいうものとし、全光線透過率とは、可視光領域にわたる光透過率の平均値を示す。
バリアフィルムの酸素透過度は、より好ましくは、0.1cm3/(m2・day・atm)以下、より好ましくは、0.01cm3/(m2・day・atm)以下である。可視光領域における全光線透過率は、より好ましくは90%以上である。酸素透過度は低いほど好ましく、可視光領域における全光線透過率は高いほど好ましい。 The barrier film usually only needs to include at least an inorganic layer, and may be a film including a support film and an inorganic layer. Regarding the support film, for example, refer to paragraphs 0046 to 0052 of JP-A-2007-290369 and paragraphs 0040 to 0055 of JP-A-2005-096108. The barrier film may include a barrier laminate including at least one inorganic layer and at least one organic layer on the support film. As an example, laminated structure of support film / organic layer / inorganic layer, laminated structure of support film / inorganic layer / organic layer, laminated structure of support film / organic layer / inorganic layer / organic layer (here, two layers In the organic layer, one or both of the thickness and the composition may be the same or different). Laminating a plurality of layers in this way can further enhance the barrier property, and on the other hand, the light transmittance of the wavelength conversion member tends to decrease as the number of layers to be laminated increases, which is favorable. It is desirable to increase the number of stacked layers as long as a sufficient light transmittance can be maintained. Specifically, the barrier film preferably has an oxygen permeability of 1 cm 3 / (m 2 · day · atm) or less. Here, the oxygen permeability is a value measured using an oxygen gas permeability measuring apparatus (OX-TRAN 2/20: trade name, manufactured by MOCON) under the conditions of a measurement temperature of 23 ° C. and a relative humidity of 90%. is there. The barrier film preferably has a total light transmittance of 80% or more in the visible light region. The visible light region refers to a wavelength region of 380 to 780 nm, and the total light transmittance indicates an average value of light transmittance over the visible light region.
The oxygen permeability of the barrier film is more preferably 0.1 cm 3 / (m 2 · day · atm) or less, and more preferably 0.01 cm 3 / (m 2 · day · atm) or less. The total light transmittance in the visible light region is more preferably 90% or more. The lower the oxygen permeability, the better, and the higher the total light transmittance in the visible light region, the better.
バリアフィルムの酸素透過度は、より好ましくは、0.1cm3/(m2・day・atm)以下、より好ましくは、0.01cm3/(m2・day・atm)以下である。可視光領域における全光線透過率は、より好ましくは90%以上である。酸素透過度は低いほど好ましく、可視光領域における全光線透過率は高いほど好ましい。 The barrier film usually only needs to include at least an inorganic layer, and may be a film including a support film and an inorganic layer. Regarding the support film, for example, refer to paragraphs 0046 to 0052 of JP-A-2007-290369 and paragraphs 0040 to 0055 of JP-A-2005-096108. The barrier film may include a barrier laminate including at least one inorganic layer and at least one organic layer on the support film. As an example, laminated structure of support film / organic layer / inorganic layer, laminated structure of support film / inorganic layer / organic layer, laminated structure of support film / organic layer / inorganic layer / organic layer (here, two layers In the organic layer, one or both of the thickness and the composition may be the same or different). Laminating a plurality of layers in this way can further enhance the barrier property, and on the other hand, the light transmittance of the wavelength conversion member tends to decrease as the number of layers to be laminated increases, which is favorable. It is desirable to increase the number of stacked layers as long as a sufficient light transmittance can be maintained. Specifically, the barrier film preferably has an oxygen permeability of 1 cm 3 / (m 2 · day · atm) or less. Here, the oxygen permeability is a value measured using an oxygen gas permeability measuring apparatus (OX-
The oxygen permeability of the barrier film is more preferably 0.1 cm 3 / (m 2 · day · atm) or less, and more preferably 0.01 cm 3 / (m 2 · day · atm) or less. The total light transmittance in the visible light region is more preferably 90% or more. The lower the oxygen permeability, the better, and the higher the total light transmittance in the visible light region, the better.
―無機層-
「無機層」とは、無機材料を主成分とする層であり、好ましくは無機材料のみから形成される層である。これに対し、有機層とは、有機材料を主成分とする層であって、好ましくは有機材料が50質量%以上、更には80質量%以上、特に90質量%以上を占める層を言うものとする。
無機層を構成する無機材料としては、特に限定されるものではなく、例えば、金属、または無機酸化物、窒化物、酸化窒化物等の各種無機化合物を用いることができる。無機材料を構成する元素としては、ケイ素、アルミニウム、マグネシウム、チタン、スズ、インジウムおよびセリウムが好ましく、これらを一種または二種以上含んでいてもよい。無機化合物の具体例としては、酸化ケイ素、酸化窒化ケイ素、酸化アルミニウム、酸化マグネシウム、酸化チタン、酸化スズ、酸化インジウム合金、窒化ケイ素、窒化アルミニウム、窒化チタンを挙げることができる。また、無機層として、金属膜、例えば、アルミニウム膜、銀膜、錫膜、クロム膜、ニッケル膜、チタン膜を設けてもよい。 ―Inorganic layer―
The “inorganic layer” is a layer mainly composed of an inorganic material, and is preferably a layer formed only from an inorganic material. On the other hand, the organic layer is a layer mainly composed of an organic material, and preferably refers to a layer in which the organic material occupies 50% by mass or more, more preferably 80% by mass or more, and particularly 90% by mass or more. To do.
The inorganic material constituting the inorganic layer is not particularly limited, and for example, various inorganic compounds such as metals or inorganic oxides, nitrides, oxynitrides, and the like can be used. As an element constituting the inorganic material, silicon, aluminum, magnesium, titanium, tin, indium and cerium are preferable, and one or two or more of these may be included. Specific examples of the inorganic compound include silicon oxide, silicon oxynitride, aluminum oxide, magnesium oxide, titanium oxide, tin oxide, indium oxide alloy, silicon nitride, aluminum nitride, and titanium nitride. As the inorganic layer, a metal film such as an aluminum film, a silver film, a tin film, a chromium film, a nickel film, or a titanium film may be provided.
「無機層」とは、無機材料を主成分とする層であり、好ましくは無機材料のみから形成される層である。これに対し、有機層とは、有機材料を主成分とする層であって、好ましくは有機材料が50質量%以上、更には80質量%以上、特に90質量%以上を占める層を言うものとする。
無機層を構成する無機材料としては、特に限定されるものではなく、例えば、金属、または無機酸化物、窒化物、酸化窒化物等の各種無機化合物を用いることができる。無機材料を構成する元素としては、ケイ素、アルミニウム、マグネシウム、チタン、スズ、インジウムおよびセリウムが好ましく、これらを一種または二種以上含んでいてもよい。無機化合物の具体例としては、酸化ケイ素、酸化窒化ケイ素、酸化アルミニウム、酸化マグネシウム、酸化チタン、酸化スズ、酸化インジウム合金、窒化ケイ素、窒化アルミニウム、窒化チタンを挙げることができる。また、無機層として、金属膜、例えば、アルミニウム膜、銀膜、錫膜、クロム膜、ニッケル膜、チタン膜を設けてもよい。 ―Inorganic layer―
The “inorganic layer” is a layer mainly composed of an inorganic material, and is preferably a layer formed only from an inorganic material. On the other hand, the organic layer is a layer mainly composed of an organic material, and preferably refers to a layer in which the organic material occupies 50% by mass or more, more preferably 80% by mass or more, and particularly 90% by mass or more. To do.
The inorganic material constituting the inorganic layer is not particularly limited, and for example, various inorganic compounds such as metals or inorganic oxides, nitrides, oxynitrides, and the like can be used. As an element constituting the inorganic material, silicon, aluminum, magnesium, titanium, tin, indium and cerium are preferable, and one or two or more of these may be included. Specific examples of the inorganic compound include silicon oxide, silicon oxynitride, aluminum oxide, magnesium oxide, titanium oxide, tin oxide, indium oxide alloy, silicon nitride, aluminum nitride, and titanium nitride. As the inorganic layer, a metal film such as an aluminum film, a silver film, a tin film, a chromium film, a nickel film, or a titanium film may be provided.
上記の材料の中でも、窒化ケイ素、酸化ケイ素、または酸化窒化ケイ素が特に好ましい。これらの材料からなる無機層は、有機層との密着性が良好であることから、バリア性をより一層高くすることができるからである。
無機層の形成方法としては、特に限定されず、例えば成膜材料を蒸発ないし飛散させ被蒸着面に堆積させることができる各種成膜方法を用いることができる。 Among the above materials, silicon nitride, silicon oxide, or silicon oxynitride is particularly preferable. This is because the inorganic layer made of these materials has a good adhesion to the organic layer, and thus the barrier property can be further enhanced.
A method for forming the inorganic layer is not particularly limited, and various film forming methods that can evaporate or scatter the film forming material and deposit it on the deposition surface can be used.
無機層の形成方法としては、特に限定されず、例えば成膜材料を蒸発ないし飛散させ被蒸着面に堆積させることができる各種成膜方法を用いることができる。 Among the above materials, silicon nitride, silicon oxide, or silicon oxynitride is particularly preferable. This is because the inorganic layer made of these materials has a good adhesion to the organic layer, and thus the barrier property can be further enhanced.
A method for forming the inorganic layer is not particularly limited, and various film forming methods that can evaporate or scatter the film forming material and deposit it on the deposition surface can be used.
無機層の形成方法の例としては、無機酸化物、無機窒化物、無機酸化窒化物、金属等の無機材料を、加熱して蒸着させる真空蒸着法;無機材料を原料として用い、酸素ガスを導入することにより酸化させて蒸着させる酸化反応蒸着法;無機材料をターゲット原料として用い、アルゴンガス、酸素ガスを導入して、スパッタリングすることにより蒸着させるスパッタリング法;無機材料にプラズマガンで発生させたプラズマビームにより加熱させて蒸着させるイオンプレーティング法等の物理気相成長法(Physical Vapor Deposition法)、酸化ケイ素の蒸着膜を成膜させる場合は、有機ケイ素化合物を原料とするプラズマ化学気相成長法(Chemical Vapor Deposition法)等が挙げられる。蒸着は、支持体フィルム、波長変換層、有機層などを基板としてその表面に行えばよい。
Examples of the method for forming the inorganic layer include a vacuum evaporation method in which an inorganic material such as an inorganic oxide, an inorganic nitride, an inorganic oxynitride, or a metal is heated and evaporated; an inorganic material is used as a raw material, and oxygen gas is introduced. Oxidation reaction vapor deposition method for oxidizing and vapor deposition; sputtering method using inorganic material as target raw material, introducing argon gas and oxygen gas and performing sputtering; plasma generated on inorganic material with plasma gun Physical vapor deposition method (Physical Vapor Deposition method) such as ion plating method, which is heated by beam, and plasma chemical vapor deposition method using organosilicon compound as raw material when depositing silicon oxide vapor deposition film (Chemical Vapor Deposition method) and the like. Vapor deposition may be performed on the surface of a support film, a wavelength conversion layer, an organic layer or the like as a substrate.
無機層の厚さは、1nm~500nmであればよく、5nm~300nmであることが好ましく、特に10nm~150nmのであることが好ましい。隣接無機層の膜厚が、上述した範囲内であることにより、良好なバリア性を実現しつつ、無機層における反射を抑制することができ、光透過率がより高い波長変換部材を提供することができるからである。
The thickness of the inorganic layer may be 1 nm to 500 nm, preferably 5 nm to 300 nm, particularly preferably 10 nm to 150 nm. Providing a wavelength conversion member that can suppress reflection in the inorganic layer and achieve higher light transmittance while realizing good barrier properties by having the film thickness of the adjacent inorganic layer within the above-described range. Because you can.
波長変換部材には、一態様では、波長変換層の少なくとも一方の主表面が無機層と直接接していることが好ましい。波長変換層の両主表面に無機層が直接接していることも好ましい。また一態様では、波長変換層の少なくとも一方の主表面が有機層と直接接していることが好ましい。波長変換層の両主表面に有機層が直接接していることも好ましい。ここで「主表面」とは、波長変換部材使用時に視認側またはバックライト側に配置される波長変換層の表面(おもて面、裏面)をいう。他の層や部材についての主表面も、同様である。また、無機層と有機層との間、二層の無機層の間、または二層の有機層の間を、公知の接着層により貼り合わせてもよい。光透過率向上の観点からは、接着層は少ないほど好ましく、接着層が存在しないことがより好ましい。一態様では、無機層と有機層とが直接接していることが好ましい。
In one aspect, the wavelength conversion member preferably has at least one main surface of the wavelength conversion layer in direct contact with the inorganic layer. It is also preferred that the inorganic layer is in direct contact with both main surfaces of the wavelength conversion layer. In one embodiment, it is preferable that at least one main surface of the wavelength conversion layer is in direct contact with the organic layer. It is also preferred that the organic layer is in direct contact with both main surfaces of the wavelength conversion layer. Here, the “main surface” refers to the surface (front surface, back surface) of the wavelength conversion layer disposed on the viewing side or the backlight side when the wavelength conversion member is used. The same applies to the main surfaces of the other layers and members. Further, a known adhesive layer may be used to bond between the inorganic layer and the organic layer, between the two inorganic layers, or between the two organic layers. From the viewpoint of improving light transmittance, it is preferable that the number of adhesive layers is small, and it is more preferable that no adhesive layer is present. In one embodiment, the inorganic layer and the organic layer are preferably in direct contact.
-有機層-
有機層については、特開2007-290369号公報段落0020~0042、特開2005-096108号公報段落0074~0105を参照できる。なお有機層は、一態様では、カルドポリマーを含むことが好ましい。これにより、有機層と隣接する層との密着性、特に、無機層とも密着性が良好になり、より一層優れたガスバリア性を実現することができるからである。カルドポリマーの詳細については、上述の特開2005-096108号公報段落0085~0095を参照できる。有機層の膜厚は、0.05μm~10μmの範囲内であることが好ましく、中でも0.5~10μmの範囲内であることが好ましい。有機層がウェットコーティング法により形成される場合には、有機層の膜厚は、0.5~10μmの範囲内、中でも1μm~5μmの範囲内であることが好ましい。また、ドライコーティング法により形成される場合には、0.05μm~5μmの範囲内、中でも0.05μm~1μmの範囲内であることが好ましい。ウェットコーティング法またはドライコーティング法により形成される有機層の膜厚が上述した範囲内であることにより、無機層との密着性をより良好なものとすることができるからである。 -Organic layer-
Regarding the organic layer, reference can be made to paragraphs 0020 to 0042 of JP-A-2007-290369 and paragraphs 0074 to 0105 of JP-A-2005-096108. In addition, it is preferable that an organic layer contains a cardo polymer in one aspect | mode. Thereby, the adhesiveness between the organic layer and the adjacent layer, particularly the adhesiveness with the inorganic layer is improved, and a further excellent gas barrier property can be realized. For details of the cardo polymer, reference can be made to paragraphs 0085 to 0095 of JP-A-2005-096108 described above. The thickness of the organic layer is preferably in the range of 0.05 μm to 10 μm, and more preferably in the range of 0.5 to 10 μm. When the organic layer is formed by a wet coating method, the thickness of the organic layer is preferably in the range of 0.5 to 10 μm, and more preferably in the range of 1 to 5 μm. Further, when formed by a dry coating method, it is preferably in the range of 0.05 μm to 5 μm, and more preferably in the range of 0.05 μm to 1 μm. This is because when the film thickness of the organic layer formed by the wet coating method or the dry coating method is within the above-described range, the adhesion with the inorganic layer can be further improved.
有機層については、特開2007-290369号公報段落0020~0042、特開2005-096108号公報段落0074~0105を参照できる。なお有機層は、一態様では、カルドポリマーを含むことが好ましい。これにより、有機層と隣接する層との密着性、特に、無機層とも密着性が良好になり、より一層優れたガスバリア性を実現することができるからである。カルドポリマーの詳細については、上述の特開2005-096108号公報段落0085~0095を参照できる。有機層の膜厚は、0.05μm~10μmの範囲内であることが好ましく、中でも0.5~10μmの範囲内であることが好ましい。有機層がウェットコーティング法により形成される場合には、有機層の膜厚は、0.5~10μmの範囲内、中でも1μm~5μmの範囲内であることが好ましい。また、ドライコーティング法により形成される場合には、0.05μm~5μmの範囲内、中でも0.05μm~1μmの範囲内であることが好ましい。ウェットコーティング法またはドライコーティング法により形成される有機層の膜厚が上述した範囲内であることにより、無機層との密着性をより良好なものとすることができるからである。 -Organic layer-
Regarding the organic layer, reference can be made to paragraphs 0020 to 0042 of JP-A-2007-290369 and paragraphs 0074 to 0105 of JP-A-2005-096108. In addition, it is preferable that an organic layer contains a cardo polymer in one aspect | mode. Thereby, the adhesiveness between the organic layer and the adjacent layer, particularly the adhesiveness with the inorganic layer is improved, and a further excellent gas barrier property can be realized. For details of the cardo polymer, reference can be made to paragraphs 0085 to 0095 of JP-A-2005-096108 described above. The thickness of the organic layer is preferably in the range of 0.05 μm to 10 μm, and more preferably in the range of 0.5 to 10 μm. When the organic layer is formed by a wet coating method, the thickness of the organic layer is preferably in the range of 0.5 to 10 μm, and more preferably in the range of 1 to 5 μm. Further, when formed by a dry coating method, it is preferably in the range of 0.05 μm to 5 μm, and more preferably in the range of 0.05 μm to 1 μm. This is because when the film thickness of the organic layer formed by the wet coating method or the dry coating method is within the above-described range, the adhesion with the inorganic layer can be further improved.
なお本発明および本明細書において、ポリマーとは、同一または異なる2以上の化合物が重合反応により重合した重合体をいい、オリゴマーも包含する意味で用いるものとし、その分子量は特に限定されるものではない。また、ポリマーは、重合性基を有するポリマーであって、加熱、光照射等の重合性基の種類に応じた重合処理を施されることにより更に重合することができるものであってもよい。なお、先に記載した脂環式エポキシ化合物、単官能(メタ)アクリレート化合物、多官能(メタ)アクリレート化合物等の重合性化合物が、上記意味でのポリマーに該当するものであってもよい。
In the present invention and the present specification, the polymer means a polymer obtained by polymerizing two or more compounds which are the same or different by a polymerization reaction, and includes an oligomer, and its molecular weight is not particularly limited. Absent. The polymer may be a polymer having a polymerizable group, and may be further polymerized by being subjected to a polymerization treatment according to the type of the polymerizable group such as heating and light irradiation. In addition, polymerizable compounds such as the alicyclic epoxy compounds, monofunctional (meth) acrylate compounds, and polyfunctional (meth) acrylate compounds described above may correspond to the polymer in the above meaning.
また、有機層は、(メタ)アクリレートポリマーを含む硬化性組成物を硬化させてなる硬化層であることもできる。(メタ)アクリレートポリマーとは、(メタ)アクリロイル基を1分子中に1つ以上含むポリマーである。有機層形成に用いる(メタ)アクリレートポリマーの一例としては、ウレタン結合を1分子中に1つ以上含む(メタ)アクリレートポリマーを挙げることもできる。以下、ウレタン結合を1分子中に1つ以上含む(メタ)アクリレートポリマーを、ウレタン結合含有(メタ)アクリレートポリマーと記載する。バリア層が二層以上の有機層を含む場合、ウレタン結合含有(メタ)アクリレートポリマーを含む硬化性組成物を硬化させてなる硬化層と、他の有機層とが含まれていてもよい。一態様では、波長変換層の一方または両方の主表面と直接接する有機層は、ウレタン結合含有(メタ)アクリレートポリマーを含む硬化性組成物を硬化させてなる硬化層であることが好ましい。
The organic layer can also be a cured layer obtained by curing a curable composition containing a (meth) acrylate polymer. The (meth) acrylate polymer is a polymer containing one or more (meth) acryloyl groups in one molecule. As an example of the (meth) acrylate polymer used for forming the organic layer, a (meth) acrylate polymer containing one or more urethane bonds in one molecule can be exemplified. Hereinafter, a (meth) acrylate polymer containing one or more urethane bonds in one molecule is referred to as a urethane bond-containing (meth) acrylate polymer. When the barrier layer includes two or more organic layers, a cured layer obtained by curing a curable composition containing a urethane bond-containing (meth) acrylate polymer and other organic layers may be included. In one aspect, the organic layer in direct contact with one or both main surfaces of the wavelength conversion layer is preferably a cured layer formed by curing a curable composition containing a urethane bond-containing (meth) acrylate polymer.
ウレタン結合含有(メタ)アクリレートポリマーにおいて、一態様では、ウレタン結合を有する構造単位が、ポリマーの側鎖に導入されていることが好ましい。以下において、ウレタン結合を有する構造単位が導入される主鎖を、アクリル主鎖と記載する。
In the urethane bond-containing (meth) acrylate polymer, in one aspect, it is preferable that a structural unit having a urethane bond is introduced into a side chain of the polymer. Hereinafter, a main chain into which a structural unit having a urethane bond is introduced is referred to as an acrylic main chain.
また、ウレタン結合を有する側鎖の末端の少なくとも1つに、(メタ)アクリロイル基が含まれることも好ましい。ウレタン結合を有する側鎖のすべてに(メタ)アクリロイル基が含まれることがより好ましい。ここで末端に含まれる(メタ)アクリロイル基は、アクリロイル基であることが更に好ましい。
In addition, it is also preferable that a (meth) acryloyl group is contained in at least one end of the side chain having a urethane bond. It is more preferable that a (meth) acryloyl group is contained in all of the side chains having a urethane bond. Here, the (meth) acryloyl group contained at the terminal is more preferably an acryloyl group.
ウレタン結合含有(メタ)アクリレートポリマーは、一般にはグラフト共重合により得ることができるが、特に限定されるものではない。アクリル主鎖とウレタン結合を有する構造単位とは、直接結合していてもよく、連結基を介して結合していてもよい。連結基の一例としては、エチレンオキシド基、ポリエチレンオキシド基、プロピレンオキシド基、およびポリプロピレンオキシド基などが挙げられる。ウレタン結合含有(メタ)アクリレートポリマーは、ウレタン結合を有する構造単位が異なる連結基(直接結合を含む)を介して結合している側鎖を複数種含んでいてもよい。
The urethane bond-containing (meth) acrylate polymer can be generally obtained by graft copolymerization, but is not particularly limited. The acrylic main chain and the structural unit having a urethane bond may be directly bonded or may be bonded via a linking group. Examples of the linking group include an ethylene oxide group, a polyethylene oxide group, a propylene oxide group, and a polypropylene oxide group. The urethane bond-containing (meth) acrylate polymer may contain a plurality of side chains in which structural units having a urethane bond are bonded via different linking groups (including direct bonds).
ウレタン結合含有(メタ)アクリレートポリマーは、ウレタン結合を有する構造単位以外の他の側鎖を有していてもよい。他の側鎖の一例としては、直鎖または分岐のアルキル基が挙げられる。直鎖または分岐のアルキル基としては、炭素数1~6の直鎖アルキル基が好ましく、n-プロピル基、エチル基、またはメチル基がより好ましく、メチル基がさらに好ましい。また、他の側鎖は、異なる構造のものが含まれていてもよい。この点は、ウレタン結合を有する構造単位についても同様である。
The urethane bond-containing (meth) acrylate polymer may have a side chain other than the structural unit having a urethane bond. Examples of other side chains include linear or branched alkyl groups. As the linear or branched alkyl group, a linear alkyl group having 1 to 6 carbon atoms is preferable, an n-propyl group, an ethyl group, or a methyl group is more preferable, and a methyl group is further preferable. In addition, other side chains may include different structures. The same applies to structural units having a urethane bond.
ウレタン結合含有(メタ)アクリレートポリマーの1分子に含まれるウレタン結合および(メタ)アクリロイル基の数は、それぞれ1つ以上であり、2つ以上であることが好ましいが、特に限定されるものではない。ウレタン結合含有(メタ)アクリレートポリマーの分子量は、10,000以上であることが好ましく、12,000以上であることがより好ましく、15,000以上であることがさらに好ましい。また、ウレタン結合含有(メタ)アクリレートポリマーの重量平均分子量は、1,000,000以下であることが好ましく、500,000以下であることがより好ましく、300,000以下であることがさらに好ましい。ウレタン結合含有(メタ)アクリレートポリマーのアクリル当量は、500以上であることが好ましく、600以上であることがより好ましく、7,00以上であることが更に好ましく、また、アクリル当量が5,000以下であることが好ましく、3,000以下であることがより好ましく、2,000以下であることがさらに好ましい。本発明および本明細書における重量平均分子量とは、ゲル浸透クロマトグラフィー(GPC)による測定値をポリスチレン換算して求めた重量平均分子量をいうものとする。GPCによる測定条件としては、例えば以下の条件を採用することができる。後述の実施例に記載する重量平均分子量は、以下の条件によって測定された値である。
GPC装置:HLC-8120(東ソー社製):
カラム:TSK gel Multipore HXL-M(東ソー社製、7.8mmID(内径)×30.0cm)
溶離液:テトラヒドロフラン(THF)
また、アクリル当量とは、一分子中の(メタ)アクリロイル基の数で重量平均分子量を除して求められる値である。 The number of urethane bonds and (meth) acryloyl groups contained in one molecule of the urethane bond-containing (meth) acrylate polymer is 1 or more, preferably 2 or more, but is not particularly limited. . The molecular weight of the urethane bond-containing (meth) acrylate polymer is preferably 10,000 or more, more preferably 12,000 or more, and further preferably 15,000 or more. The weight average molecular weight of the urethane bond-containing (meth) acrylate polymer is preferably 1,000,000 or less, more preferably 500,000 or less, and further preferably 300,000 or less. The acrylic equivalent of the urethane bond-containing (meth) acrylate polymer is preferably 500 or more, more preferably 600 or more, further preferably 7,000 or more, and the acrylic equivalent is 5,000 or less. Is preferably 3,000 or less, more preferably 2,000 or less. The weight average molecular weight in the present invention and the present specification refers to a weight average molecular weight obtained by converting a measured value by gel permeation chromatography (GPC) into polystyrene. As measurement conditions by GPC, for example, the following conditions can be employed. The weight average molecular weight described in Examples described later is a value measured under the following conditions.
GPC device: HLC-8120 (manufactured by Tosoh Corporation):
Column: TSK gel Multipore HXL-M (Tosoh Corporation, 7.8 mm ID (inner diameter) × 30.0 cm)
Eluent: Tetrahydrofuran (THF)
The acrylic equivalent is a value obtained by dividing the weight average molecular weight by the number of (meth) acryloyl groups in one molecule.
GPC装置:HLC-8120(東ソー社製):
カラム:TSK gel Multipore HXL-M(東ソー社製、7.8mmID(内径)×30.0cm)
溶離液:テトラヒドロフラン(THF)
また、アクリル当量とは、一分子中の(メタ)アクリロイル基の数で重量平均分子量を除して求められる値である。 The number of urethane bonds and (meth) acryloyl groups contained in one molecule of the urethane bond-containing (meth) acrylate polymer is 1 or more, preferably 2 or more, but is not particularly limited. . The molecular weight of the urethane bond-containing (meth) acrylate polymer is preferably 10,000 or more, more preferably 12,000 or more, and further preferably 15,000 or more. The weight average molecular weight of the urethane bond-containing (meth) acrylate polymer is preferably 1,000,000 or less, more preferably 500,000 or less, and further preferably 300,000 or less. The acrylic equivalent of the urethane bond-containing (meth) acrylate polymer is preferably 500 or more, more preferably 600 or more, further preferably 7,000 or more, and the acrylic equivalent is 5,000 or less. Is preferably 3,000 or less, more preferably 2,000 or less. The weight average molecular weight in the present invention and the present specification refers to a weight average molecular weight obtained by converting a measured value by gel permeation chromatography (GPC) into polystyrene. As measurement conditions by GPC, for example, the following conditions can be employed. The weight average molecular weight described in Examples described later is a value measured under the following conditions.
GPC device: HLC-8120 (manufactured by Tosoh Corporation):
Column: TSK gel Multipore HXL-M (Tosoh Corporation, 7.8 mm ID (inner diameter) × 30.0 cm)
Eluent: Tetrahydrofuran (THF)
The acrylic equivalent is a value obtained by dividing the weight average molecular weight by the number of (meth) acryloyl groups in one molecule.
ウレタン結合含有(メタ)アクリレートポリマーとしては、公知の方法で合成したものを用いてもよく、市販品を用いてもよい。市販品としては、例えば大成ファインケミカル株式会社製のUV硬化型アクリルウレタンポリマー(8BRシリーズ)を挙げることができる。ウレタン結合含有(メタ)アクリレートポリマーは、有機層を形成するための硬化性組成物の固形分全量100質量%に対して5~90質量%含まれることが好ましく、10~80質量%含まれることがより好ましい。
As the urethane bond-containing (meth) acrylate polymer, one synthesized by a known method may be used, or a commercially available product may be used. Examples of commercially available products include UV curable acrylic urethane polymers (8BR series) manufactured by Taisei Fine Chemical Co., Ltd. The urethane bond-containing (meth) acrylate polymer is preferably contained in an amount of 5 to 90% by mass and preferably 10 to 80% by mass with respect to 100% by mass of the total solid content of the curable composition for forming the organic layer. Is more preferable.
有機層を形成するために用いる硬化性化合物において、ウレタン結合含有(メタ)アクリレートポリマーの一種以上と、他の重合性化合物との一種以上とを併用してもよい。他の重合性化合物としては、エチレン性不飽和結合を末端または側鎖に有する化合物が好ましい。エチレン性不飽和結合を末端または側鎖に有する化合物の例としては、(メタ)アクリレート化合物、アクリルアミド系化合物、スチレン系化合物、無水マレイン酸等が挙げられ、(メタ)アクリレート化合物が好ましく、アクリレート化合物がより好ましい。
(メタ)アクリレート化合物としては、(メタ)アクリレート、ポリエステル(メタ)アクリレート、エポキシ(メタ)アクリレート等が好ましい。(メタ)アクリレート化合物として具体的には、例えば特開2013-43382号公報の段落0024~0036または特開2013-43384号公報の段落0036~0048に記載の化合物を挙げることができる。
スチレン系化合物としては、スチレン、α-メチルスチレン、4-メチルスチレン、ジビニルベンゼン、4-ヒドロキシスチレン、4-カルボキシスチレン等が好ましい。 In the curable compound used to form the organic layer, one or more urethane bond-containing (meth) acrylate polymers may be used in combination with one or more other polymerizable compounds. As the other polymerizable compound, a compound having an ethylenically unsaturated bond at a terminal or a side chain is preferable. Examples of compounds having an ethylenically unsaturated bond at the terminal or side chain include (meth) acrylate compounds, acrylamide compounds, styrene compounds, maleic anhydride, etc., (meth) acrylate compounds are preferred, and acrylate compounds Is more preferable.
As the (meth) acrylate compound, (meth) acrylate, polyester (meth) acrylate, epoxy (meth) acrylate and the like are preferable. Specific examples of the (meth) acrylate compound include compounds described in paragraphs 0024 to 0036 of JP2013-43382A or paragraphs 0036 to 0048 of JP2013-43384A.
As the styrene compound, styrene, α-methylstyrene, 4-methylstyrene, divinylbenzene, 4-hydroxystyrene, 4-carboxystyrene and the like are preferable.
(メタ)アクリレート化合物としては、(メタ)アクリレート、ポリエステル(メタ)アクリレート、エポキシ(メタ)アクリレート等が好ましい。(メタ)アクリレート化合物として具体的には、例えば特開2013-43382号公報の段落0024~0036または特開2013-43384号公報の段落0036~0048に記載の化合物を挙げることができる。
スチレン系化合物としては、スチレン、α-メチルスチレン、4-メチルスチレン、ジビニルベンゼン、4-ヒドロキシスチレン、4-カルボキシスチレン等が好ましい。 In the curable compound used to form the organic layer, one or more urethane bond-containing (meth) acrylate polymers may be used in combination with one or more other polymerizable compounds. As the other polymerizable compound, a compound having an ethylenically unsaturated bond at a terminal or a side chain is preferable. Examples of compounds having an ethylenically unsaturated bond at the terminal or side chain include (meth) acrylate compounds, acrylamide compounds, styrene compounds, maleic anhydride, etc., (meth) acrylate compounds are preferred, and acrylate compounds Is more preferable.
As the (meth) acrylate compound, (meth) acrylate, polyester (meth) acrylate, epoxy (meth) acrylate and the like are preferable. Specific examples of the (meth) acrylate compound include compounds described in paragraphs 0024 to 0036 of JP2013-43382A or paragraphs 0036 to 0048 of JP2013-43384A.
As the styrene compound, styrene, α-methylstyrene, 4-methylstyrene, divinylbenzene, 4-hydroxystyrene, 4-carboxystyrene and the like are preferable.
有機層を形成するために用いる硬化性組成物は、一種以上の重合性化合物とともに、公知の添加剤を含むこともできる。そのような添加剤の一例としては、有機金属カップリング剤を挙げることができる。詳細については、前述の記載を参照できる。有機金属カップリング剤は、有機層を形成するために用いる硬化性組成物の固形分全量を100質量%とすると、0.1~30質量%が好ましく、1~20質量%がより好ましい。
The curable composition used for forming the organic layer may contain a known additive together with one or more polymerizable compounds. An example of such an additive is an organometallic coupling agent. For details, the above description can be referred to. The organometallic coupling agent is preferably 0.1 to 30% by mass, and more preferably 1 to 20% by mass, when the total solid content of the curable composition used for forming the organic layer is 100% by mass.
また、添加剤としては、重合開始剤を挙げることができる。重合開始剤を用いる場合、硬化性組成物における重合開始剤の含有量は、重合性化合物の合計量の0.1モル%以上であることが好ましく、0.5~5モル%であることがより好ましい。光重合開始剤の例としてはBASF社から市販されているイルガキュア(Irgacure)シリーズ(例えば、イルガキュア651、イルガキュア754、イルガキュア184、イルガキュア2959、イルガキュア907、イルガキュア369、イルガキュア379、イルガキュア819など)、ダロキュア(Darocure)シリーズ(例えば、ダロキュアTPO、ダロキュア1173など)、クオンタキュア(Quantacure)PDO、ランベルティ(Lamberti)社から市販されているエザキュア(Ezacure)シリーズ(例えば、エザキュアTZM、エザキュアTZT、エザキュアKTO46など)等が挙げられる。
Also, examples of the additive include a polymerization initiator. When a polymerization initiator is used, the content of the polymerization initiator in the curable composition is preferably 0.1 mol% or more, and preferably 0.5 to 5 mol% of the total amount of the polymerizable compounds. More preferred. Examples of photopolymerization initiators include Irgacure series (for example, Irgacure 651, Irgacure 754, Irgacure 184, Irgacure 2959, Irgacure 907, Irgacure 369, Irgacure 379, Irgacure 819, etc.), Darocur, etc., commercially available from BASF. (Darocure) series (for example, Darocur TPO, Darocur 1173, etc.), Quantacure PDO, Ezacure series (for example, Ezacure TZM, Ezacure TZT, Ezacure KTO 46, etc.) commercially available from Lamberti ) And the like.
有機層を形成するための硬化性組成物の硬化は、硬化性組成物に含まれる成分(重合性化合物や重合開始剤)の種類に応じた処理(光照射、加熱等)により行えばよい。硬化条件は特に限定されるものではなく、硬化性組成物に含まれる成分の種類や有機層の厚さ等に応じて設定すればよい。
Curing of the curable composition for forming the organic layer may be performed by treatment (light irradiation, heating, etc.) according to the type of components (polymerizable compound or polymerization initiator) contained in the curable composition. Curing conditions are not particularly limited, and may be set according to the type of components contained in the curable composition, the thickness of the organic layer, and the like.
無機層、有機層のその他詳細については、上述の特開2007-290369号公報、特開2005-096108号公報、更にUS2012/0113672A1の記載を参照できる。
As for other details of the inorganic layer and the organic layer, reference can be made to the descriptions in the above-mentioned JP-A No. 2007-290369, JP-A No. 2005-096108 and US 2012/0113672 A1.
[バックライトユニット]
波長変換部材はバックライトユニットの構成部材として使用することができる。バックライトユニットは、波長変換部材と光源とを少なくとも含む。 [Backlight unit]
The wavelength conversion member can be used as a constituent member of the backlight unit. The backlight unit includes at least a wavelength conversion member and a light source.
波長変換部材はバックライトユニットの構成部材として使用することができる。バックライトユニットは、波長変換部材と光源とを少なくとも含む。 [Backlight unit]
The wavelength conversion member can be used as a constituent member of the backlight unit. The backlight unit includes at least a wavelength conversion member and a light source.
(バックライトユニットの発光波長)
高輝度かつ高い色再現性の実現の観点からは、バックライトユニットとして、多波長光源化されたものを用いることが好ましい。例えば、430~480nmの波長帯域に発光中心波長を有し、半値幅が100nm以下である発光強度のピークを有する青色光と、520~560nmの波長帯域に発光中心波長を有し、半値幅が100nm以下である発光強度のピークを有する緑色光と、600~680nmの波長帯域に発光中心波長を有し、半値幅が100nm以下である発光強度のピークを有する赤色光とを発光することが好ましい。
より一層の輝度および色再現性の向上の観点から、バックライトユニットが発光する青色光の波長帯域は、440~475nmであることがより好ましい。
同様の観点から、バックライトユニットが発光する緑色光の波長帯域は、520~545nmであることがより好ましい。
また、同様の観点から、バックライトユニットが発光する赤色光の波長帯域は、610~640nmであることがより好ましい。 (Emission wavelength of backlight unit)
From the viewpoint of realizing high luminance and high color reproducibility, it is preferable to use a backlight unit that has been converted to a multi-wavelength light source. For example, blue light having an emission center wavelength in a wavelength band of 430 to 480 nm and a peak of emission intensity having a half width of 100 nm or less, and an emission center wavelength in a wavelength band of 520 to 560 nm, and a half width of It is preferable to emit green light having an emission intensity peak that is 100 nm or less and red light having an emission center wavelength in the wavelength band of 600 to 680 nm and having an emission intensity peak that is 100 nm or less. .
From the viewpoint of further improving luminance and color reproducibility, the wavelength band of blue light emitted from the backlight unit is more preferably 440 to 475 nm.
From the same viewpoint, the wavelength band of the green light emitted from the backlight unit is more preferably 520 to 545 nm.
From the same viewpoint, the wavelength band of red light emitted from the backlight unit is more preferably 610 to 640 nm.
高輝度かつ高い色再現性の実現の観点からは、バックライトユニットとして、多波長光源化されたものを用いることが好ましい。例えば、430~480nmの波長帯域に発光中心波長を有し、半値幅が100nm以下である発光強度のピークを有する青色光と、520~560nmの波長帯域に発光中心波長を有し、半値幅が100nm以下である発光強度のピークを有する緑色光と、600~680nmの波長帯域に発光中心波長を有し、半値幅が100nm以下である発光強度のピークを有する赤色光とを発光することが好ましい。
より一層の輝度および色再現性の向上の観点から、バックライトユニットが発光する青色光の波長帯域は、440~475nmであることがより好ましい。
同様の観点から、バックライトユニットが発光する緑色光の波長帯域は、520~545nmであることがより好ましい。
また、同様の観点から、バックライトユニットが発光する赤色光の波長帯域は、610~640nmであることがより好ましい。 (Emission wavelength of backlight unit)
From the viewpoint of realizing high luminance and high color reproducibility, it is preferable to use a backlight unit that has been converted to a multi-wavelength light source. For example, blue light having an emission center wavelength in a wavelength band of 430 to 480 nm and a peak of emission intensity having a half width of 100 nm or less, and an emission center wavelength in a wavelength band of 520 to 560 nm, and a half width of It is preferable to emit green light having an emission intensity peak that is 100 nm or less and red light having an emission center wavelength in the wavelength band of 600 to 680 nm and having an emission intensity peak that is 100 nm or less. .
From the viewpoint of further improving luminance and color reproducibility, the wavelength band of blue light emitted from the backlight unit is more preferably 440 to 475 nm.
From the same viewpoint, the wavelength band of the green light emitted from the backlight unit is more preferably 520 to 545 nm.
From the same viewpoint, the wavelength band of red light emitted from the backlight unit is more preferably 610 to 640 nm.
また同様の観点から、バックライトユニットが発光する青色光、緑色光および赤色光の各発光強度の半値幅は、いずれも80nm以下であることが好ましく、50nm以下であることがより好ましく、40nm以下であることがさらに好ましく、30nm以下であることが一層好ましい。これらの中でも、青色光の発光強度の半値幅が25nm以下であることが、特に好ましい。
From the same viewpoint, the half-value widths of the emission intensity of blue light, green light, and red light emitted from the backlight unit are all preferably 80 nm or less, more preferably 50 nm or less, and 40 nm or less. More preferably, it is more preferably 30 nm or less. Among these, it is particularly preferable that the half-value width of the emission intensity of blue light is 25 nm or less.
バックライトユニットは、少なくとも、上記波長変換部材とともに、光源を含む。一態様では、光源として、430nm~480nmの波長帯域に発光中心波長を有する青色光を発光するもの(青色光源)、例えば、青色光を発光する青色発光ダイオードを用いることができる。青色光を発光する光源を用いる場合、波長変換層には、少なくとも、励起光により励起され赤色光を発光する量子ドット(A)と、緑色光を発光する量子ドット(B)が含まれることが好ましい。これにより、光源から発光され波長変換部材を透過した青色光と、波長変換部材から発光される赤色光および緑色光により、白色光を具現化することができる。
または他の態様では、光源として、300nm~430nmの波長帯域に発光中心波長を有する紫外光を発光するもの(紫外光源)、例えば、紫外線発光ダイオードを用いることができる。この場合、波長変換層には、量子ドット(A)、(B)とともに、励起光により励起され青色光を発光する量子ドット(C)が含まれることが好ましい。これにより、波長変換部材から発光される赤色光、緑色光および青色光により、白色光を具現化することができる。
また他の態様では、発光ダイオードに替えてレーザー光源を使用することもできる。 The backlight unit includes a light source together with at least the wavelength conversion member. In one embodiment, a light source that emits blue light having a light emission center wavelength in a wavelength band of 430 nm to 480 nm (blue light source), for example, a blue light emitting diode that emits blue light can be used. When using a light source that emits blue light, the wavelength conversion layer may include at least quantum dots (A) that are excited by excitation light and emit red light, and quantum dots (B) that emit green light. preferable. Thereby, white light can be embodied by blue light emitted from the light source and transmitted through the wavelength conversion member, and red light and green light emitted from the wavelength conversion member.
Alternatively, in another aspect, a light source that emits ultraviolet light having an emission center wavelength in a wavelength band of 300 nm to 430 nm (ultraviolet light source), for example, an ultraviolet light emitting diode can be used. In this case, it is preferable that the wavelength conversion layer includes quantum dots (A) and (B) and quantum dots (C) that are excited by excitation light and emit blue light. Thereby, white light can be embodied by red light, green light, and blue light emitted from the wavelength conversion member.
In another embodiment, a laser light source can be used instead of the light emitting diode.
または他の態様では、光源として、300nm~430nmの波長帯域に発光中心波長を有する紫外光を発光するもの(紫外光源)、例えば、紫外線発光ダイオードを用いることができる。この場合、波長変換層には、量子ドット(A)、(B)とともに、励起光により励起され青色光を発光する量子ドット(C)が含まれることが好ましい。これにより、波長変換部材から発光される赤色光、緑色光および青色光により、白色光を具現化することができる。
また他の態様では、発光ダイオードに替えてレーザー光源を使用することもできる。 The backlight unit includes a light source together with at least the wavelength conversion member. In one embodiment, a light source that emits blue light having a light emission center wavelength in a wavelength band of 430 nm to 480 nm (blue light source), for example, a blue light emitting diode that emits blue light can be used. When using a light source that emits blue light, the wavelength conversion layer may include at least quantum dots (A) that are excited by excitation light and emit red light, and quantum dots (B) that emit green light. preferable. Thereby, white light can be embodied by blue light emitted from the light source and transmitted through the wavelength conversion member, and red light and green light emitted from the wavelength conversion member.
Alternatively, in another aspect, a light source that emits ultraviolet light having an emission center wavelength in a wavelength band of 300 nm to 430 nm (ultraviolet light source), for example, an ultraviolet light emitting diode can be used. In this case, it is preferable that the wavelength conversion layer includes quantum dots (A) and (B) and quantum dots (C) that are excited by excitation light and emit blue light. Thereby, white light can be embodied by red light, green light, and blue light emitted from the wavelength conversion member.
In another embodiment, a laser light source can be used instead of the light emitting diode.
(バックライトユニットの構成)
バックライトユニットは、例えば、導光板や反射板などを構成部材とするエッジライト方式のバックライトユニットであることができる。図1には、エッジライト方式のバックライトユニットの例を示した。導光板としては、公知のものを何ら制限なく使用することができる。ただし、バックライトユニットは、直下型方式であっても構わない。 (Configuration of backlight unit)
The backlight unit can be, for example, an edge light type backlight unit including a light guide plate, a reflection plate, or the like as a constituent member. FIG. 1 shows an example of an edge light type backlight unit. Any known light guide plate can be used without any limitation. However, the backlight unit may be a direct type.
バックライトユニットは、例えば、導光板や反射板などを構成部材とするエッジライト方式のバックライトユニットであることができる。図1には、エッジライト方式のバックライトユニットの例を示した。導光板としては、公知のものを何ら制限なく使用することができる。ただし、バックライトユニットは、直下型方式であっても構わない。 (Configuration of backlight unit)
The backlight unit can be, for example, an edge light type backlight unit including a light guide plate, a reflection plate, or the like as a constituent member. FIG. 1 shows an example of an edge light type backlight unit. Any known light guide plate can be used without any limitation. However, the backlight unit may be a direct type.
また、バックライトユニットは、光源の後部に、反射部材を備えることもできる。このような反射部材としては特に制限は無く、公知のものを用いることができ、特許3416302号、特許3363565号、特許4091978号、特許3448626号などに記載されており、これらの公報の内容は本発明に組み込まれる。
Also, the backlight unit can include a reflecting member at the rear of the light source. There is no restriction | limiting in particular as such a reflecting member, A well-known thing can be used, and it is described in patent 3416302, patent 3363565, patent 4091978, patent 3448626, etc., The content of these gazettes is this Incorporated into the invention.
バックライトユニットは、その他、公知の拡散板や拡散シート、プリズムシート(例えば、住友スリーエム社製BEFシリーズなど)、導光器を備えていることも好ましい。その他の部材についても、特許3416302号、特許3363565号、特許4091978号、特許3448626号などに記載されており、これらの公報の内容は本発明に組み込まれる。
The backlight unit preferably further includes a known diffusion plate, diffusion sheet, prism sheet (for example, BEF series manufactured by Sumitomo 3M Limited), and a light guide. Other members are also described in Japanese Patent No. 3416302, Japanese Patent No. 3363565, Japanese Patent No. 4091978, Japanese Patent No. 3448626, and the contents of these publications are incorporated in the present invention.
[液晶表示装置]
上述のバックライトユニットは液晶表示装置に応用することができる。液晶表示装置は上述のバックライトユニットと液晶セルとを少なくとも含む構成とすればよい。 [Liquid Crystal Display]
The above backlight unit can be applied to a liquid crystal display device. The liquid crystal display device may include at least the backlight unit and the liquid crystal cell.
上述のバックライトユニットは液晶表示装置に応用することができる。液晶表示装置は上述のバックライトユニットと液晶セルとを少なくとも含む構成とすればよい。 [Liquid Crystal Display]
The above backlight unit can be applied to a liquid crystal display device. The liquid crystal display device may include at least the backlight unit and the liquid crystal cell.
(液晶表示装置の構成)
液晶セルの駆動モードについては特に制限はなく、ツイステットネマチック(TN)、スーパーツイステットネマチック(STN)、バーティカルアライメント(VA)、インプレインスイッチング(IPS)、オプティカリーコンペンセイテットベンドセル(OCB)等の種々のモードを利用することができる。液晶セルは、VAモード、OCBモード、IPSモード、またはTNモードであることが好ましいが、これらに限定されるものではない。VAモードの液晶表示装置の構成としては、特開2008-262161号公報の図2に示す構成が一例として挙げられる。ただし、液晶表示装置の具体的構成には特に制限はなく、公知の構成を採用することができる。 (Configuration of liquid crystal display device)
The driving mode of the liquid crystal cell is not particularly limited, and is twisted nematic (TN), super twisted nematic (STN), vertical alignment (VA), in-plane switching (IPS), and optically compensated bend cell (OCB). Various modes such as can be used. The liquid crystal cell is preferably VA mode, OCB mode, IPS mode, or TN mode, but is not limited thereto. As an example of the configuration of the VA mode liquid crystal display device, the configuration shown in FIG. 2 of Japanese Patent Application Laid-Open No. 2008-262161 is given as an example. However, the specific configuration of the liquid crystal display device is not particularly limited, and a known configuration can be adopted.
液晶セルの駆動モードについては特に制限はなく、ツイステットネマチック(TN)、スーパーツイステットネマチック(STN)、バーティカルアライメント(VA)、インプレインスイッチング(IPS)、オプティカリーコンペンセイテットベンドセル(OCB)等の種々のモードを利用することができる。液晶セルは、VAモード、OCBモード、IPSモード、またはTNモードであることが好ましいが、これらに限定されるものではない。VAモードの液晶表示装置の構成としては、特開2008-262161号公報の図2に示す構成が一例として挙げられる。ただし、液晶表示装置の具体的構成には特に制限はなく、公知の構成を採用することができる。 (Configuration of liquid crystal display device)
The driving mode of the liquid crystal cell is not particularly limited, and is twisted nematic (TN), super twisted nematic (STN), vertical alignment (VA), in-plane switching (IPS), and optically compensated bend cell (OCB). Various modes such as can be used. The liquid crystal cell is preferably VA mode, OCB mode, IPS mode, or TN mode, but is not limited thereto. As an example of the configuration of the VA mode liquid crystal display device, the configuration shown in FIG. 2 of Japanese Patent Application Laid-Open No. 2008-262161 is given as an example. However, the specific configuration of the liquid crystal display device is not particularly limited, and a known configuration can be adopted.
液晶表示装置の一実施形態では、対向する少なくとも一方に電極を設けた基板間に液晶層を挟持した液晶セルを有し、この液晶セルは2枚の偏光板の間に配置して構成される。液晶表示装置は、上下基板間に液晶が封入された液晶セルを備え、電圧印加により液晶の配向状態を変化させて画像の表示を行う。さらに必要に応じて偏光板保護フィルムや光学補償を行う光学補償部材、接着層などの付随する機能層を有する。また、カラーフィルター基板、薄層トランジスタ基板、レンズフィルム、拡散シート、ハードコート層、反射防止層、低反射層、アンチグレア層等とともに(またはそれに替えて)、前方散乱層、プライマー層、帯電防止層、下塗り層等の表面層が配置されていてもよい。
In one embodiment of the liquid crystal display device, a liquid crystal cell having a liquid crystal layer sandwiched between substrates provided with electrodes on at least one of the opposite sides is provided, and the liquid crystal cell is arranged between two polarizing plates. The liquid crystal display device includes a liquid crystal cell in which liquid crystal is sealed between upper and lower substrates, and displays an image by changing the alignment state of the liquid crystal by applying a voltage. Furthermore, it has an accompanying functional layer such as a polarizing plate protective film, an optical compensation member that performs optical compensation, and an adhesive layer as necessary. Along with (or instead of) a color filter substrate, thin layer transistor substrate, lens film, diffusion sheet, hard coat layer, antireflection layer, low reflection layer, antiglare layer, etc., forward scattering layer, primer layer, antistatic layer Further, a surface layer such as an undercoat layer may be disposed.
図4に、本発明の一態様にかかる液晶表示装置の一例を示す。図4に示す液晶表示装置51は、液晶セル21のバックライト側の面にバックライト側偏光板14を有する。バックライト側偏光板14は、バックライト側偏光子12のバックライト側の表面に、偏光板保護フィルム11を含んでいても、含んでいなくてもよいが、含んでいることが好ましい。
バックライト側偏光板14は、偏光子12が、2枚の偏光板保護フィルム11および13で挟まれた構成であることが好ましい。
本明細書中、偏光子に対して液晶セルに近い側の偏光板保護フィルムをインナー側偏光板保護フィルムと言い、偏光子に対して液晶セルから遠い側の偏光板保護フィルムをアウター側偏光板保護フィルムと言う。図4に示す例では、偏光板保護フィルム13がインナー側偏光板保護フィルムであり、偏光板保護フィルム11がアウター側偏光板保護フィルムである。 FIG. 4 illustrates an example of a liquid crystal display device according to one embodiment of the present invention. The liquidcrystal display device 51 shown in FIG. 4 has the backlight side polarizing plate 14 on the surface of the liquid crystal cell 21 on the backlight side. The backlight-side polarizing plate 14 may or may not include the polarizing plate protective film 11 on the backlight-side surface of the backlight-side polarizer 12, but it is preferably included.
The backlightside polarizing plate 14 preferably has a configuration in which the polarizer 12 is sandwiched between two polarizing plate protective films 11 and 13.
In this specification, the polarizing plate protective film on the side closer to the liquid crystal cell with respect to the polarizer is referred to as the inner side polarizing plate protective film, and the polarizing plate protective film on the side farther from the liquid crystal cell with respect to the polarizer is referred to as the outer side polarizing plate. It is called a protective film. In the example shown in FIG. 4, the polarizing plateprotective film 13 is an inner side polarizing plate protective film, and the polarizing plate protective film 11 is an outer side polarizing plate protective film.
バックライト側偏光板14は、偏光子12が、2枚の偏光板保護フィルム11および13で挟まれた構成であることが好ましい。
本明細書中、偏光子に対して液晶セルに近い側の偏光板保護フィルムをインナー側偏光板保護フィルムと言い、偏光子に対して液晶セルから遠い側の偏光板保護フィルムをアウター側偏光板保護フィルムと言う。図4に示す例では、偏光板保護フィルム13がインナー側偏光板保護フィルムであり、偏光板保護フィルム11がアウター側偏光板保護フィルムである。 FIG. 4 illustrates an example of a liquid crystal display device according to one embodiment of the present invention. The liquid
The backlight
In this specification, the polarizing plate protective film on the side closer to the liquid crystal cell with respect to the polarizer is referred to as the inner side polarizing plate protective film, and the polarizing plate protective film on the side farther from the liquid crystal cell with respect to the polarizer is referred to as the outer side polarizing plate. It is called a protective film. In the example shown in FIG. 4, the polarizing plate
バックライト側偏光板は、液晶セル側のインナー側偏光板保護フィルムとして、位相差フィルムを有していてもよい。このような位相差フィルムとしては、公知のセルロースアシレートフィルム等を用いることができる。
The backlight side polarizing plate may have a retardation film as an inner side polarizing plate protective film on the liquid crystal cell side. As such a retardation film, a known cellulose acylate film or the like can be used.
液晶表示装置51は、液晶セル21のバックライト側の面とは反対側の面に、表示側偏光板44を有する。表示側偏光板44は、偏光子42が、2枚の偏光板保護フィルム41および43で挟まれた構成である。偏光板保護フィルム43がインナー側偏光板保護フィルムであり、偏光板保護フィルム41がアウター側偏光板保護フィルムである。
The liquid crystal display device 51 has a display-side polarizing plate 44 on the surface of the liquid crystal cell 21 opposite to the surface on the backlight side. The display-side polarizing plate 44 has a configuration in which a polarizer 42 is sandwiched between two polarizing plate protective films 41 and 43. The polarizing plate protective film 43 is an inner side polarizing plate protective film, and the polarizing plate protective film 41 is an outer side polarizing plate protective film.
液晶表示装置51が有するバックライトユニット1については、先に記載した通りである。
The backlight unit 1 included in the liquid crystal display device 51 is as described above.
液晶表示装置を構成する液晶セル、偏光板、偏光板保護フィルム等については特に限定はなく、公知の方法で作製されるものや市販品を、何ら制限なく用いることができる。また、各層の間に、接着層等の公知の中間層を設けることも、もちろん可能である。
The liquid crystal cell, polarizing plate, polarizing plate protective film and the like constituting the liquid crystal display device are not particularly limited, and those produced by known methods and commercially available products can be used without any limitation. It is of course possible to provide a known intermediate layer such as an adhesive layer between the layers.
以下に実施例に基づき本発明をさらに具体的に説明する。以下の実施例に示す材料、使用量、割合、処理内容、処理手順等は、本発明の趣旨を逸脱しない限り適宜変更することができる。したがって、本発明の範囲は以下に示す具体例により限定的に解釈されるべきものではない。
Hereinafter, the present invention will be described more specifically based on examples. The materials, amounts used, ratios, processing details, processing procedures, and the like shown in the following examples can be changed as appropriate without departing from the spirit of the present invention. Therefore, the scope of the present invention should not be construed as being limited by the specific examples shown below.
(バリアフィルム10の作製)
支持体フィルムとしてポリエチレンテレフタレートフィルム(PETフィルム、東洋紡社製、商品名:コスモシャイン(登録商標)A4300、厚さ50μm)を用いて、支持体フィルムの片面側に以下の手順で有機層および無機層を順次形成した。
トリメチロールプロパントリアクリレート(ダイセルサイテック社製TMPTA)および光重合開始剤(ランベルティ社製ESACURE KTO46)を用意し、質量比率として95:5となるように秤量し、これらをメチルエチルケトンに溶解させ、固形分濃度15質量%の塗布液とした。この塗布液を、ダイコーターを用いてロールトウロールにて上記PETフィルム上に塗布し、50℃の乾燥ゾーンを3分間通過させた。その後、窒素雰囲気下で紫外線を照射(積算照射量約600mJ/cm2)し、紫外線硬化にて硬化させ、巻き取った。支持体フィルム上に形成された第1有機層の厚さは、1μmであった。 (Preparation of barrier film 10)
Using a polyethylene terephthalate film (PET film, manufactured by Toyobo Co., Ltd., trade name: Cosmo Shine (registered trademark) A4300,thickness 50 μm) as a support film, an organic layer and an inorganic layer are formed on one side of the support film by the following procedure. Were sequentially formed.
Trimethylolpropane triacrylate (TMCTA manufactured by Daicel Cytec Co., Ltd.) and a photopolymerization initiator (ESACURE KTO46 manufactured by Lamberti Co., Ltd.) were prepared, weighed so that the mass ratio was 95: 5, dissolved in methyl ethyl ketone, and solid A coating solution having a partial concentration of 15% by mass was obtained. This coating solution was applied onto the PET film with a roll toe roll using a die coater, and passed through a drying zone at 50 ° C. for 3 minutes. Thereafter, the sample was irradiated with ultraviolet rays (integrated irradiation amount: about 600 mJ / cm 2 ) in a nitrogen atmosphere, cured by ultraviolet curing, and wound up. The thickness of the first organic layer formed on the support film was 1 μm.
支持体フィルムとしてポリエチレンテレフタレートフィルム(PETフィルム、東洋紡社製、商品名:コスモシャイン(登録商標)A4300、厚さ50μm)を用いて、支持体フィルムの片面側に以下の手順で有機層および無機層を順次形成した。
トリメチロールプロパントリアクリレート(ダイセルサイテック社製TMPTA)および光重合開始剤(ランベルティ社製ESACURE KTO46)を用意し、質量比率として95:5となるように秤量し、これらをメチルエチルケトンに溶解させ、固形分濃度15質量%の塗布液とした。この塗布液を、ダイコーターを用いてロールトウロールにて上記PETフィルム上に塗布し、50℃の乾燥ゾーンを3分間通過させた。その後、窒素雰囲気下で紫外線を照射(積算照射量約600mJ/cm2)し、紫外線硬化にて硬化させ、巻き取った。支持体フィルム上に形成された第1有機層の厚さは、1μmであった。 (Preparation of barrier film 10)
Using a polyethylene terephthalate film (PET film, manufactured by Toyobo Co., Ltd., trade name: Cosmo Shine (registered trademark) A4300,
Trimethylolpropane triacrylate (TMCTA manufactured by Daicel Cytec Co., Ltd.) and a photopolymerization initiator (ESACURE KTO46 manufactured by Lamberti Co., Ltd.) were prepared, weighed so that the mass ratio was 95: 5, dissolved in methyl ethyl ketone, and solid A coating solution having a partial concentration of 15% by mass was obtained. This coating solution was applied onto the PET film with a roll toe roll using a die coater, and passed through a drying zone at 50 ° C. for 3 minutes. Thereafter, the sample was irradiated with ultraviolet rays (integrated irradiation amount: about 600 mJ / cm 2 ) in a nitrogen atmosphere, cured by ultraviolet curing, and wound up. The thickness of the first organic layer formed on the support film was 1 μm.
次に、ロールトウロールのCVD(Chemical Vapor Deposition)装置を用いて、上記有機層の表面に無機層(窒化ケイ素層)を形成した。原料ガスとして、シランガス(流量160sccm)、アンモニアガス(流量370sccm)、水素ガス(流量590sccm)、および窒素ガス(流量240sccm)を用いた。電源として、周波数13.56MHzの高周波電源を用いた。製膜圧力は40Pa、到達膜厚は50nmであった。
このようにして支持体フィルム上に形成された第1有機層の表面に無機層が積層されたバリアフィルム10を作製した。 Next, an inorganic layer (silicon nitride layer) was formed on the surface of the organic layer by using a roll-to-roll CVD (Chemical Vapor Deposition) apparatus. Silane gas (flow rate 160 sccm), ammonia gas (flow rate 370 sccm), hydrogen gas (flow rate 590 sccm), and nitrogen gas (flow rate 240 sccm) were used as source gases. A high frequency power supply having a frequency of 13.56 MHz was used as the power supply. The film forming pressure was 40 Pa, and the reached film thickness was 50 nm.
Thus, thebarrier film 10 in which the inorganic layer was laminated on the surface of the first organic layer formed on the support film was produced.
このようにして支持体フィルム上に形成された第1有機層の表面に無機層が積層されたバリアフィルム10を作製した。 Next, an inorganic layer (silicon nitride layer) was formed on the surface of the organic layer by using a roll-to-roll CVD (Chemical Vapor Deposition) apparatus. Silane gas (flow rate 160 sccm), ammonia gas (flow rate 370 sccm), hydrogen gas (flow rate 590 sccm), and nitrogen gas (flow rate 240 sccm) were used as source gases. A high frequency power supply having a frequency of 13.56 MHz was used as the power supply. The film forming pressure was 40 Pa, and the reached film thickness was 50 nm.
Thus, the
(バリアフィルム11の作製)
上記バリアフィルム10の無機層の表面に、第2有機層を積層した。
ウレタン結合含有アクリルポリマー(大成ファインケミカル社製アクリット8BR500、重量平均分子量250,000)と光重合開始剤(BASF社製イルガキュア184)を質量比率として95:5となるように秤量し、これらをメチルエチルケトンに溶解させ、固形分濃度15質量%の塗布液を調製した。調製した塗布液を、ダイコーターを用いてロールトウロールにて上記バリアフィルム10の無機層の表面に塗布し、100℃の乾燥ゾーンを3分間通過させ、巻き取った。こうして形成された第2有機層の厚さは、1μmであった。このようにして第1有機層の表面に無機層が積層され、さらに第2有機層が積層されたバリアフィルム11を作製した。 (Preparation of barrier film 11)
A second organic layer was laminated on the surface of the inorganic layer of thebarrier film 10.
Urethane bond-containing acrylic polymer (Acrit 8BR500 manufactured by Taisei Fine Chemical Co., Ltd., weight average molecular weight 250,000) and photopolymerization initiator (Irgacure 184 manufactured by BASF Co., Ltd.) are weighed to a mass ratio of 95: 5, and these are converted into methyl ethyl ketone. It was dissolved to prepare a coating solution having a solid content concentration of 15% by mass. The prepared coating solution was applied to the surface of the inorganic layer of thebarrier film 10 with a roll toe roll using a die coater, passed through a 100 ° C. drying zone for 3 minutes, and wound up. The thickness of the second organic layer thus formed was 1 μm. Thus, the barrier film 11 in which the inorganic layer was laminated on the surface of the first organic layer and the second organic layer was further laminated was produced.
上記バリアフィルム10の無機層の表面に、第2有機層を積層した。
ウレタン結合含有アクリルポリマー(大成ファインケミカル社製アクリット8BR500、重量平均分子量250,000)と光重合開始剤(BASF社製イルガキュア184)を質量比率として95:5となるように秤量し、これらをメチルエチルケトンに溶解させ、固形分濃度15質量%の塗布液を調製した。調製した塗布液を、ダイコーターを用いてロールトウロールにて上記バリアフィルム10の無機層の表面に塗布し、100℃の乾燥ゾーンを3分間通過させ、巻き取った。こうして形成された第2有機層の厚さは、1μmであった。このようにして第1有機層の表面に無機層が積層され、さらに第2有機層が積層されたバリアフィルム11を作製した。 (Preparation of barrier film 11)
A second organic layer was laminated on the surface of the inorganic layer of the
Urethane bond-containing acrylic polymer (Acrit 8BR500 manufactured by Taisei Fine Chemical Co., Ltd., weight average molecular weight 250,000) and photopolymerization initiator (Irgacure 184 manufactured by BASF Co., Ltd.) are weighed to a mass ratio of 95: 5, and these are converted into methyl ethyl ketone. It was dissolved to prepare a coating solution having a solid content concentration of 15% by mass. The prepared coating solution was applied to the surface of the inorganic layer of the
(実施例1に使用する量子ドット含有光硬化性組成物の作製)
下記の量子ドット含有光硬化性組成物1を調製し、孔径0.2μmのポリプロピレン製フィルタでろ過した後、30分間減圧乾燥して塗布液として用いた。 (Preparation of a photocurable composition containing quantum dots used in Example 1)
The following quantum dot-containingphotocurable composition 1 was prepared, filtered through a polypropylene filter having a pore size of 0.2 μm, dried under reduced pressure for 30 minutes, and used as a coating solution.
下記の量子ドット含有光硬化性組成物1を調製し、孔径0.2μmのポリプロピレン製フィルタでろ過した後、30分間減圧乾燥して塗布液として用いた。 (Preparation of a photocurable composition containing quantum dots used in Example 1)
The following quantum dot-containing
──────────────────────────────────
量子ドット含有光硬化性組成物1の調製(実施例1で使用)
──────────────────────────────────
量子ドット1のトルエン分散液(発光極大:530nm) 10質量部
量子ドット1:NN-labs社製INP530―10(球状量子ドット)
量子ドット2のトルエン分散液(発光極大:620nm) 1質量部
量子ドット2:NN-labs社製INP620-10(球状量子ドット)
脂環式エポキシ化合物 60質量部
セロキサイド2021P(ダイセル社製)
単官能アクリレート化合物 40質量部
AMP-10G(新中村化学工業社製)
シランカップリング剤1 2.5質量部
KBM-303(信越化学工業社製)
シランカップリング剤2 2.5質量部
KBM-5103(信越化学工業社製)
光カチオン重合開始剤(ヨードニウム塩化合物)A 3質量部
光ラジカル重合開始剤イルガキュア819(BASF社製) 3質量部
粘度調整剤(AEROSIL R972(日本アエロジル社製)) 3質量部
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(上記において、量子ドット1、2のトルエン分散液の量子ドット濃度は1質量%である。) ──────────────────────────────────
Preparation of quantum dot-containing photocurable composition 1 (used in Example 1)
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Quantum dot 1 in toluene dispersion (luminescence maximum: 530 nm) 10 parts by mass Quantum dot 1: INP530-10 (spherical quantum dot) manufactured by NN-labs
Quantum dot 2 in toluene dispersion (emission maximum: 620 nm) 1 part by mass Quantum dot 2: INP620-10 (spherical quantum dot) manufactured by NN-labs
Alicyclicepoxy compound 60 parts by mass Celoxide 2021P (manufactured by Daicel)
Monofunctional acrylate compound 40 parts by mass AMP-10G (manufactured by Shin-Nakamura Chemical Co., Ltd.)
Silane coupling agent 1 2.5 parts by weight KBM-303 (manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.)
Silane coupling agent 2 2.5 parts by weight KBM-5103 (manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.)
Photocationic polymerization initiator (iodonium salt compound) A 3 parts by mass Photoradical polymerization initiator Irgacure 819 (manufactured by BASF) 3 parts by mass viscosity modifier (AEROSIL R972 (manufactured by Nippon Aerosil Co., Ltd.)) 3 parts by mass ───── ─────────────────────────────
(In the above, the quantum dot concentration of the toluene dispersion of quantum dots 1 and 2 is 1% by mass.)
量子ドット含有光硬化性組成物1の調製(実施例1で使用)
──────────────────────────────────
量子ドット1のトルエン分散液(発光極大:530nm) 10質量部
量子ドット1:NN-labs社製INP530―10(球状量子ドット)
量子ドット2のトルエン分散液(発光極大:620nm) 1質量部
量子ドット2:NN-labs社製INP620-10(球状量子ドット)
脂環式エポキシ化合物 60質量部
セロキサイド2021P(ダイセル社製)
単官能アクリレート化合物 40質量部
AMP-10G(新中村化学工業社製)
シランカップリング剤1 2.5質量部
KBM-303(信越化学工業社製)
シランカップリング剤2 2.5質量部
KBM-5103(信越化学工業社製)
光カチオン重合開始剤(ヨードニウム塩化合物)A 3質量部
光ラジカル重合開始剤イルガキュア819(BASF社製) 3質量部
粘度調整剤(AEROSIL R972(日本アエロジル社製)) 3質量部
──────────────────────────────────
(上記において、量子ドット1、2のトルエン分散液の量子ドット濃度は1質量%である。) ──────────────────────────────────
Preparation of quantum dot-containing photocurable composition 1 (used in Example 1)
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Alicyclic
Monofunctional acrylate compound 40 parts by mass AMP-10G (manufactured by Shin-Nakamura Chemical Co., Ltd.)
Photocationic polymerization initiator (iodonium salt compound) A 3 parts by mass Photoradical polymerization initiator Irgacure 819 (manufactured by BASF) 3 parts by mass viscosity modifier (AEROSIL R972 (manufactured by Nippon Aerosil Co., Ltd.)) 3 parts by mass ───── ─────────────────────────────
(In the above, the quantum dot concentration of the toluene dispersion of
(実施例2~12および比較例1~6に使用する量子ドット含有光硬化性組成物の作製)
表1または表2に示す組成比にて量子ドット含有光硬化性組成物を調製し、孔径0.2μmのポリプロピレン製フィルタでろ過した後、30分間減圧乾燥して塗布液として用いた。 (Production of quantum dot-containing photocurable compositions used in Examples 2 to 12 and Comparative Examples 1 to 6)
A quantum dot-containing photocurable composition was prepared at the composition ratio shown in Table 1 or Table 2, filtered through a polypropylene filter having a pore size of 0.2 μm, dried under reduced pressure for 30 minutes, and used as a coating solution.
表1または表2に示す組成比にて量子ドット含有光硬化性組成物を調製し、孔径0.2μmのポリプロピレン製フィルタでろ過した後、30分間減圧乾燥して塗布液として用いた。 (Production of quantum dot-containing photocurable compositions used in Examples 2 to 12 and Comparative Examples 1 to 6)
A quantum dot-containing photocurable composition was prepared at the composition ratio shown in Table 1 or Table 2, filtered through a polypropylene filter having a pore size of 0.2 μm, dried under reduced pressure for 30 minutes, and used as a coating solution.
(実施例13に使用する量子ドット(量子ロッド)含有光硬化性組成物の作製)
下記の量子ドット(量子ロッド)含有光硬化性組成物2を調製し、孔径0.2μmのポリプロピレン製フィルタでろ過した後、30分間減圧乾燥して塗布液として用いた。
量子ロッド1、量子ロッド2は、米国特許7303628号、論文(Peng, X. G.; Manna, L.;Yang, W. D.; Wickham, j.;Scher, E.; Kadavanich, A.; Alivisatos, A. P. Nature 2000,404, 59-61)および論文(Manna,L.; Scher, E. C.; Alivisatos,A. P. j. Am. Chem.Soc. 2000, 122, 12700-12706)を参考にして作製した。透過型電子顕微鏡で確認した量子ロッド1、量子ロッド2の平均長軸長は、50nmであった。 (Preparation of photocurable composition containing quantum dots (quantum rods) used in Example 13)
The following quantum dot (quantum rod) -containingphotocurable composition 2 was prepared, filtered through a polypropylene filter having a pore size of 0.2 μm, dried under reduced pressure for 30 minutes, and used as a coating solution.
Quantum Rod 1 and Quantum Rod 2 are described in U.S. Pat. No. 7,303,628, paper (Peng, X. G .; Manna, L .; Yang, WD; Wickham, j .; Scher, E .; Kadavanich, A .; Alivisatos, AP Nature 2000, 404, 59-61) and articles (Manna, L .; Scher, EC; Alivisatos, AP J. Am. Chem. Soc. 2000, 122, 12700- 12706). The average major axis length of the quantum rod 1 and the quantum rod 2 confirmed by a transmission electron microscope was 50 nm.
下記の量子ドット(量子ロッド)含有光硬化性組成物2を調製し、孔径0.2μmのポリプロピレン製フィルタでろ過した後、30分間減圧乾燥して塗布液として用いた。
量子ロッド1、量子ロッド2は、米国特許7303628号、論文(Peng, X. G.; Manna, L.;Yang, W. D.; Wickham, j.;Scher, E.; Kadavanich, A.; Alivisatos, A. P. Nature 2000,404, 59-61)および論文(Manna,L.; Scher, E. C.; Alivisatos,A. P. j. Am. Chem.Soc. 2000, 122, 12700-12706)を参考にして作製した。透過型電子顕微鏡で確認した量子ロッド1、量子ロッド2の平均長軸長は、50nmであった。 (Preparation of photocurable composition containing quantum dots (quantum rods) used in Example 13)
The following quantum dot (quantum rod) -containing
──────────────────────────────────
量子ドット含有光硬化性組成物2の調製(実施例13で使用)
──────────────────────────────────
量子ロッド1のトルエン分散液 10質量部
量子ロッド1(発光極大:532nm、半値幅:30nm)
量子ロッド2のトルエン分散液 1質量部
量子ロッド2(発光極大:626nm、半値幅27nm)
脂環式エポキシ化合物 100質量部
セロキサイド2021P(ダイセル社製)
シランカップリング剤1 5質量部
KBM-303(信越化学工業社製)
光カチオン重合開始剤 3質量部
CPI-110P(サンアプロ社製)
粘度調整剤(AEROSIL R972(日本アエロジル社製)) 3質量部
──────────────────────────────────
(上記において、量子ロッド1、2のトルエン分散液の量子ロッド濃度は1質量%である。) ──────────────────────────────────
Preparation ofphotocurable composition 2 containing quantum dots (used in Example 13)
──────────────────────────────────
10 parts by mass of toluene dispersion ofquantum rod 1 Quantum rod 1 (luminescence maximum: 532 nm, half-value width: 30 nm)
1 part by mass of toluene dispersion ofquantum rod 2 Quantum rod 2 (luminescence maximum: 626 nm, half-value width 27 nm)
Alicyclicepoxy compound 100 parts by mass Celoxide 2021P (manufactured by Daicel)
Silane coupling agent 1 5 parts by weight KBM-303 (manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.)
Photocationic polymerization initiator 3 parts by mass CPI-110P (manufactured by San Apro)
Viscosity modifier (AEROSIL R972 (made by Nippon Aerosil Co., Ltd.)) 3 parts by mass ──────────────────────────────────
(In the above, the quantum rod concentration of the toluene dispersion of the quantum rods 1 and 2 is 1% by mass.)
量子ドット含有光硬化性組成物2の調製(実施例13で使用)
──────────────────────────────────
量子ロッド1のトルエン分散液 10質量部
量子ロッド1(発光極大:532nm、半値幅:30nm)
量子ロッド2のトルエン分散液 1質量部
量子ロッド2(発光極大:626nm、半値幅27nm)
脂環式エポキシ化合物 100質量部
セロキサイド2021P(ダイセル社製)
シランカップリング剤1 5質量部
KBM-303(信越化学工業社製)
光カチオン重合開始剤 3質量部
CPI-110P(サンアプロ社製)
粘度調整剤(AEROSIL R972(日本アエロジル社製)) 3質量部
──────────────────────────────────
(上記において、量子ロッド1、2のトルエン分散液の量子ロッド濃度は1質量%である。) ──────────────────────────────────
Preparation of
──────────────────────────────────
10 parts by mass of toluene dispersion of
1 part by mass of toluene dispersion of
Alicyclic
Viscosity modifier (AEROSIL R972 (made by Nippon Aerosil Co., Ltd.)) 3 parts by mass ──────────────────────────────────
(In the above, the quantum rod concentration of the toluene dispersion of the
(実施例1の波長変換部材の作製)
上述した手順で作製したバリアフィルム10を第1、第2のフィルムとして使用し、図2および図3を参照し説明した製造工程により、波長変換部材を得た。具体的には、第1のフィルムとしてバリアフィルム10を用意し、1m/分、60N/mの張力で連続搬送しながら、無機層面上に上記で調製した量子ドット含有光硬化性組成物1をダイコーターにて塗布し、50μmの厚さの塗膜を形成した。次いで、塗膜の形成された第1のフィルム(バリアフィルム10)をバックアップローラに巻きかけ、塗膜の上に第2のフィルム(バリアフィルム10)を無機層面が塗膜に接する向きでラミネートし、2枚のバリアフィルム10で塗膜を挟持した状態で連続搬送しながら、100℃の加熱ゾーンを3分間通過させた。その後、160W/cmの空冷メタルハライドランプ(アイグラフィックス社製)を用いて、紫外線を照射して硬化させ、量子ドットを含有する波長変換層を形成した。紫外線の照射量は2000mJ/cm2であった。また、L1は50mm、L2は1mm、L3は50mmであった。 (Preparation of wavelength conversion member of Example 1)
Thebarrier film 10 produced by the above-described procedure was used as the first and second films, and a wavelength conversion member was obtained by the manufacturing process described with reference to FIGS. 2 and 3. Specifically, the barrier film 10 is prepared as a first film, and the quantum dot-containing photocurable composition 1 prepared above is formed on the surface of the inorganic layer while continuously transporting at a tension of 1 m / min and 60 N / m. It was applied with a die coater to form a coating film having a thickness of 50 μm. Next, the first film (barrier film 10) on which the coating film is formed is wound around a backup roller, and the second film (barrier film 10) is laminated on the coating film so that the inorganic layer surface is in contact with the coating film. While continuously transporting the coating film sandwiched between the two barrier films 10, the heating zone at 100 ° C. was passed for 3 minutes. Thereafter, using a 160 W / cm air-cooled metal halide lamp (manufactured by Eye Graphics Co., Ltd.), it was cured by irradiation with ultraviolet rays to form a wavelength conversion layer containing quantum dots. The irradiation amount of ultraviolet rays was 2000 mJ / cm 2 . L1 was 50 mm, L2 was 1 mm, and L3 was 50 mm.
上述した手順で作製したバリアフィルム10を第1、第2のフィルムとして使用し、図2および図3を参照し説明した製造工程により、波長変換部材を得た。具体的には、第1のフィルムとしてバリアフィルム10を用意し、1m/分、60N/mの張力で連続搬送しながら、無機層面上に上記で調製した量子ドット含有光硬化性組成物1をダイコーターにて塗布し、50μmの厚さの塗膜を形成した。次いで、塗膜の形成された第1のフィルム(バリアフィルム10)をバックアップローラに巻きかけ、塗膜の上に第2のフィルム(バリアフィルム10)を無機層面が塗膜に接する向きでラミネートし、2枚のバリアフィルム10で塗膜を挟持した状態で連続搬送しながら、100℃の加熱ゾーンを3分間通過させた。その後、160W/cmの空冷メタルハライドランプ(アイグラフィックス社製)を用いて、紫外線を照射して硬化させ、量子ドットを含有する波長変換層を形成した。紫外線の照射量は2000mJ/cm2であった。また、L1は50mm、L2は1mm、L3は50mmであった。 (Preparation of wavelength conversion member of Example 1)
The
(実施例2~13、比較例1~6の波長変換部材の作製)
表1または表2中、バリアフィルムの欄にバリアフィルム10と記載されている実施例、比較例については、上記で作製した各実施例、比較例に使用する量子ドット含有光硬化性組成物(塗布液)を用いて、実施例1と同様にして波長変換部材を作製した。
表1または表2中、バリアフィルムの欄にバリアフィルム11と記載されている実施例については、上記で作製した各実施例、比較例に使用する量子ドット含有光硬化性組成物(塗布液)を用いた点、ならびに第1のフィルムおよび第2のフィルムとしてバリアフィルム10に代えて、第2有機層が塗膜と接するようにバリアフィルム11を用いた点以外、実施例1と同様にして波長変換部材を作製した。 (Production of wavelength conversion members of Examples 2 to 13 and Comparative Examples 1 to 6)
In Table 1 or Table 2, for the examples and comparative examples described as “barrier film 10” in the column of barrier film, the quantum dot-containing photocurable composition used in each of the examples and comparative examples prepared above ( Using the coating solution, a wavelength conversion member was produced in the same manner as in Example 1.
In Table 1 or Table 2, for the examples described as “barrier film 11” in the column of barrier film, the quantum dot-containing photocurable composition (coating solution) used in each of the examples and comparative examples prepared above. In the same manner as in Example 1, except that the barrier film 10 was used instead of the barrier film 10 as the first film and the second film, and the barrier film 11 was used so that the second organic layer was in contact with the coating film. A wavelength conversion member was produced.
表1または表2中、バリアフィルムの欄にバリアフィルム10と記載されている実施例、比較例については、上記で作製した各実施例、比較例に使用する量子ドット含有光硬化性組成物(塗布液)を用いて、実施例1と同様にして波長変換部材を作製した。
表1または表2中、バリアフィルムの欄にバリアフィルム11と記載されている実施例については、上記で作製した各実施例、比較例に使用する量子ドット含有光硬化性組成物(塗布液)を用いた点、ならびに第1のフィルムおよび第2のフィルムとしてバリアフィルム10に代えて、第2有機層が塗膜と接するようにバリアフィルム11を用いた点以外、実施例1と同様にして波長変換部材を作製した。 (Production of wavelength conversion members of Examples 2 to 13 and Comparative Examples 1 to 6)
In Table 1 or Table 2, for the examples and comparative examples described as “
In Table 1 or Table 2, for the examples described as “
(波長変換層のマトリックスの励起光損失率測定)
実施例1~12、比較例1~6については、用いた量子ドット含有光硬化性組成物の組成から、量子ドット1のトルエン分散液および量子ドット2のトルエン分散液を除いたモデル膜作製用組成物を用意し、前述の手段1により厚さ60μmのモデル膜を作製した。具体的には、以下の方法によりモデル膜を作製した。
実施例13については、用いた量子ロッド含有光硬化性組成物の組成から、量子ロッド1のトルエン分散液および量子ロッド2のトルエン分散液を除いたモデル膜作製用組成物を用意し、前述の手段1により厚さ60μmのモデル膜を作製した。具体的には、以下の方法によりモデル膜を作製した。
モデル膜作製用組成物を離型フィルム(東レ社製ルミラー#50、50μm厚)にワイヤーバーで塗布した後、その上にもう一枚の離型フィルムをラミネートし、大気下1200W/cmの空冷メタルハライドランプ(アイグラフィックス社製)を用いて、紫外線を塗布面より2000mJ/cm2照射して硬化させた。こうして得られた硬化膜を、2cm角に裁断したのち硬化膜の両面にある離型フィルムを剥離し、厚み60μmの樹脂層単膜(モデル膜)を得た。
得られたモデル膜を、浜松ホトニクス社製絶対PL量子収率測定装置(C9920-02)の積分球内に配置し、市販のタブレット端末(Amazon社製、Kindle Fire HDX 7”)に備えられている青色光源の発光中心波長である波長450nmに発光中心波長を有する青色光を入射させ、このときの波長450nmにおける検出光強度Iを測定した。モデル膜を積分球内に配置しないブランクについても同様に波長450nmにおける透過光強度I0を測定し、先に示した式により厚さ60μmのモデル膜の青色光の損失率Aを測定した。得られた測定値から、波長変換層のマトリックスにおける青色光の損失率を以下の評価基準により評価した。結果を表1、表2に示す。
A: A<1.0%
B: 1.0≦A<2.0
C: 2.0≦A<3.0
D: 3.0≦A (Measurement of excitation light loss rate of matrix of wavelength conversion layer)
Examples 1 to 12 and Comparative Examples 1 to 6 were used for preparing model films obtained by removing the toluene dispersion ofquantum dots 1 and the toluene dispersion of quantum dots 2 from the composition of the photocurable composition containing quantum dots. A composition was prepared, and a model film having a thickness of 60 μm was prepared by means 1 described above. Specifically, a model film was produced by the following method.
About Example 13, the composition for model film preparation which remove | excluded the toluene dispersion liquid of thequantum rod 1 and the toluene dispersion liquid of the quantum rod 2 from the composition of the used quantum rod containing photocurable composition was prepared, and the above-mentioned A model film having a thickness of 60 μm was prepared by means 1. Specifically, a model film was produced by the following method.
After applying the composition for preparing a model film to a release film (Lumirror # 50 manufactured by Toray Industries, Inc., 50 μm thick) with a wire bar, another release film is laminated thereon and air-cooled at 1200 W / cm in the atmosphere. Using a metal halide lamp (manufactured by Eye Graphics Co., Ltd.), ultraviolet rays were irradiated from the coated surface at 2000 mJ / cm 2 and cured. The cured film thus obtained was cut into 2 cm square, and then the release films on both sides of the cured film were peeled off to obtain a resin layer single film (model film) having a thickness of 60 μm.
The obtained model membrane was placed in an integrating sphere of an absolute PL quantum yield measuring apparatus (C9920-02) manufactured by Hamamatsu Photonics, and provided in a commercially available tablet terminal (manufactured by Amazon, Kindle Fire HDX 7 ″). The blue light having the emission center wavelength was incident on the wavelength 450 nm which is the emission center wavelength of the blue light source, and the detected light intensity I at the wavelength 450 nm was measured at this time. Then, the transmitted light intensity I 0 at a wavelength of 450 nm was measured, and the blue light loss rate A of the model film having a thickness of 60 μm was measured by the above-described equation, and the blue color in the matrix of the wavelength conversion layer was determined from the obtained measurement values. The loss rate of light was evaluated according to the following evaluation criteria, and the results are shown in Tables 1 and 2.
A: A <1.0%
B: 1.0 ≦ A <2.0
C: 2.0 ≦ A <3.0
D: 3.0 ≦ A
実施例1~12、比較例1~6については、用いた量子ドット含有光硬化性組成物の組成から、量子ドット1のトルエン分散液および量子ドット2のトルエン分散液を除いたモデル膜作製用組成物を用意し、前述の手段1により厚さ60μmのモデル膜を作製した。具体的には、以下の方法によりモデル膜を作製した。
実施例13については、用いた量子ロッド含有光硬化性組成物の組成から、量子ロッド1のトルエン分散液および量子ロッド2のトルエン分散液を除いたモデル膜作製用組成物を用意し、前述の手段1により厚さ60μmのモデル膜を作製した。具体的には、以下の方法によりモデル膜を作製した。
モデル膜作製用組成物を離型フィルム(東レ社製ルミラー#50、50μm厚)にワイヤーバーで塗布した後、その上にもう一枚の離型フィルムをラミネートし、大気下1200W/cmの空冷メタルハライドランプ(アイグラフィックス社製)を用いて、紫外線を塗布面より2000mJ/cm2照射して硬化させた。こうして得られた硬化膜を、2cm角に裁断したのち硬化膜の両面にある離型フィルムを剥離し、厚み60μmの樹脂層単膜(モデル膜)を得た。
得られたモデル膜を、浜松ホトニクス社製絶対PL量子収率測定装置(C9920-02)の積分球内に配置し、市販のタブレット端末(Amazon社製、Kindle Fire HDX 7”)に備えられている青色光源の発光中心波長である波長450nmに発光中心波長を有する青色光を入射させ、このときの波長450nmにおける検出光強度Iを測定した。モデル膜を積分球内に配置しないブランクについても同様に波長450nmにおける透過光強度I0を測定し、先に示した式により厚さ60μmのモデル膜の青色光の損失率Aを測定した。得られた測定値から、波長変換層のマトリックスにおける青色光の損失率を以下の評価基準により評価した。結果を表1、表2に示す。
A: A<1.0%
B: 1.0≦A<2.0
C: 2.0≦A<3.0
D: 3.0≦A (Measurement of excitation light loss rate of matrix of wavelength conversion layer)
Examples 1 to 12 and Comparative Examples 1 to 6 were used for preparing model films obtained by removing the toluene dispersion of
About Example 13, the composition for model film preparation which remove | excluded the toluene dispersion liquid of the
After applying the composition for preparing a model film to a release film (
The obtained model membrane was placed in an integrating sphere of an absolute PL quantum yield measuring apparatus (C9920-02) manufactured by Hamamatsu Photonics, and provided in a commercially available tablet terminal (manufactured by Amazon, Kindle Fire HDX 7 ″). The blue light having the emission center wavelength was incident on the wavelength 450 nm which is the emission center wavelength of the blue light source, and the detected light intensity I at the wavelength 450 nm was measured at this time. Then, the transmitted light intensity I 0 at a wavelength of 450 nm was measured, and the blue light loss rate A of the model film having a thickness of 60 μm was measured by the above-described equation, and the blue color in the matrix of the wavelength conversion layer was determined from the obtained measurement values. The loss rate of light was evaluated according to the following evaluation criteria, and the results are shown in Tables 1 and 2.
A: A <1.0%
B: 1.0 ≦ A <2.0
C: 2.0 ≦ A <3.0
D: 3.0 ≦ A
(輝度の測定)
バックライトユニットに青色光源を備える市販のタブレット端末(Amazon社製Kindle(登録商標)Fire HDX 7”)を分解し、バックライトユニットを取り出した。取り出したバックライトユニットの導光板上に矩形に切り出した実施例1~4、比較例1~3で作製した波長変換部材を置き、その上に、表面凹凸パターンの向きが直交した2枚のプリズムシートを重ね置いた。青色光源から発し、波長変換部材および2枚のプリズムシートを透過した光の輝度Yを、導光板の面に対して垂直方向740mmの位置に設置した輝度計(TOPCON社製SR3)にて測定した。そして輝度Yを以下のように評価した。結果を下記表に示す。
A+:Y≧11,000[cd/m2]
A: 10,000≦Y<11,000[cd/m2]
B: 9,000≦Y<10,000[cd/m2]
C: 8,000≦Y<9,000[cd/m2]
D: Y<8,000[cd/m2] (Measurement of brightness)
Disassembled a commercially available tablet terminal (Kindle (registered trademark) Fire HDX 7 ″ manufactured by Amazon) with a blue light source in the backlight unit, and took out the backlight unit. Cut out into a rectangle on the light guide plate of the removed backlight unit The wavelength conversion members prepared in Examples 1 to 4 and Comparative Examples 1 to 3 were placed, and two prism sheets with the surface concavo-convex patterns orthogonal to each other were placed on the wavelength conversion member. The luminance Y of the light transmitted through the member and the two prism sheets was measured with a luminance meter (SR3 manufactured by TOPCON) installed at a position of 740 mm in the direction perpendicular to the surface of the light guide plate. The results are shown in the table below.
A +: Y ≧ 11,000 [cd / m 2 ]
A: 10,000 ≦ Y <11,000 [cd / m 2 ]
B: 9,000 ≦ Y <10,000 [cd / m 2 ]
C: 8,000 ≦ Y <9,000 [cd / m 2 ]
D: Y <8,000 [cd / m 2 ]
バックライトユニットに青色光源を備える市販のタブレット端末(Amazon社製Kindle(登録商標)Fire HDX 7”)を分解し、バックライトユニットを取り出した。取り出したバックライトユニットの導光板上に矩形に切り出した実施例1~4、比較例1~3で作製した波長変換部材を置き、その上に、表面凹凸パターンの向きが直交した2枚のプリズムシートを重ね置いた。青色光源から発し、波長変換部材および2枚のプリズムシートを透過した光の輝度Yを、導光板の面に対して垂直方向740mmの位置に設置した輝度計(TOPCON社製SR3)にて測定した。そして輝度Yを以下のように評価した。結果を下記表に示す。
A+:Y≧11,000[cd/m2]
A: 10,000≦Y<11,000[cd/m2]
B: 9,000≦Y<10,000[cd/m2]
C: 8,000≦Y<9,000[cd/m2]
D: Y<8,000[cd/m2] (Measurement of brightness)
Disassembled a commercially available tablet terminal (Kindle (registered trademark) Fire HDX 7 ″ manufactured by Amazon) with a blue light source in the backlight unit, and took out the backlight unit. Cut out into a rectangle on the light guide plate of the removed backlight unit The wavelength conversion members prepared in Examples 1 to 4 and Comparative Examples 1 to 3 were placed, and two prism sheets with the surface concavo-convex patterns orthogonal to each other were placed on the wavelength conversion member. The luminance Y of the light transmitted through the member and the two prism sheets was measured with a luminance meter (SR3 manufactured by TOPCON) installed at a position of 740 mm in the direction perpendicular to the surface of the light guide plate. The results are shown in the table below.
A +: Y ≧ 11,000 [cd / m 2 ]
A: 10,000 ≦ Y <11,000 [cd / m 2 ]
B: 9,000 ≦ Y <10,000 [cd / m 2 ]
C: 8,000 ≦ Y <9,000 [cd / m 2 ]
D: Y <8,000 [cd / m 2 ]
(波長変換層の光硬化性評価)
各実施例、比較例で用いた量子ドット含有光硬化性組成物を用意し、バリアフィルム10の無機層上にワイヤーバーで塗布した後、窒素パージ(酸素濃度0.5%以下)しながら1200W/cmの空冷メタルハライドランプ(アイグラフィックス社製)を用いて、紫外線を塗布面に向かって下記表に示す露光量で照射して硬化させた。そして、指触で硬化性を以下のように評価した。結果を下記表に示す。
A: 指残りなし。
B: 若干の粘着性あり。
C: 明確な粘着性あり。
D: 明らかなベタつきがあり、未硬化。 (Evaluation of photocurability of wavelength conversion layer)
After preparing the quantum dot containing photocurable composition used by each Example and the comparative example, and apply | coating with the wire bar on the inorganic layer of thebarrier film 10, it is 1200W, purging with nitrogen (oxygen concentration 0.5% or less). Using an air-cooled metal halide lamp (manufactured by Eye Graphics Co., Ltd.) of / cm, ultraviolet rays were irradiated toward the coated surface at the exposure amount shown in the following table and cured. And sclerosis | hardenability was evaluated as follows by finger touch. The results are shown in the table below.
A: No finger remaining.
B: Some stickiness.
C: Clear tackiness.
D: Clear sticky and uncured.
各実施例、比較例で用いた量子ドット含有光硬化性組成物を用意し、バリアフィルム10の無機層上にワイヤーバーで塗布した後、窒素パージ(酸素濃度0.5%以下)しながら1200W/cmの空冷メタルハライドランプ(アイグラフィックス社製)を用いて、紫外線を塗布面に向かって下記表に示す露光量で照射して硬化させた。そして、指触で硬化性を以下のように評価した。結果を下記表に示す。
A: 指残りなし。
B: 若干の粘着性あり。
C: 明確な粘着性あり。
D: 明らかなベタつきがあり、未硬化。 (Evaluation of photocurability of wavelength conversion layer)
After preparing the quantum dot containing photocurable composition used by each Example and the comparative example, and apply | coating with the wire bar on the inorganic layer of the
A: No finger remaining.
B: Some stickiness.
C: Clear tackiness.
D: Clear sticky and uncured.
上記表に記載の実施例、比較例で用いた成分は、下記表3に示す通りである。
The components used in the examples and comparative examples described in the above table are as shown in Table 3 below.
上記表中の比較例3、6の結果から、脂肪族エポキシ化合物と比べて脂環式エポキシ化合物は光硬化性は良好であるものの(比較例1、2、4、5参照)、光源から出射される光(励起光)の損失原因となることがわかる。その結果、比較例3、6では輝度の低下が生じている。
これに対し、上記表に示すように、実施例では、光硬化性向上に寄与する脂環式エポキシ化合物を使用しつつ励起光損失率を厚み60μm換算で3%以下に抑えることにより、輝度向上を達成することができた。 From the results of Comparative Examples 3 and 6 in the above table, although the alicyclic epoxy compound has better photocurability than the aliphatic epoxy compound (see Comparative Examples 1, 2, 4, and 5), it is emitted from the light source. It can be seen that this causes a loss of light (excitation light). As a result, in Comparative Examples 3 and 6, a decrease in luminance occurs.
On the other hand, as shown in the above table, in the examples, the luminance improvement is achieved by suppressing the excitation light loss rate to 3% or less in terms ofthickness 60 μm while using the alicyclic epoxy compound that contributes to the improvement of photocurability. Could be achieved.
これに対し、上記表に示すように、実施例では、光硬化性向上に寄与する脂環式エポキシ化合物を使用しつつ励起光損失率を厚み60μm換算で3%以下に抑えることにより、輝度向上を達成することができた。 From the results of Comparative Examples 3 and 6 in the above table, although the alicyclic epoxy compound has better photocurability than the aliphatic epoxy compound (see Comparative Examples 1, 2, 4, and 5), it is emitted from the light source. It can be seen that this causes a loss of light (excitation light). As a result, in Comparative Examples 3 and 6, a decrease in luminance occurs.
On the other hand, as shown in the above table, in the examples, the luminance improvement is achieved by suppressing the excitation light loss rate to 3% or less in terms of
本発明は、液晶表示装置の製造分野において有用である。
The present invention is useful in the field of manufacturing liquid crystal display devices.
Claims (16)
- 光源と、前記光源から出射される光の光路上に位置する波長変換部材と、を含むバックライトユニットであって、
前記波長変換部材は、励起光により励起され蛍光を発光する量子ドットをマトリックス中に含む波長変換層を有し、
前記波長変換層は、光硬化性組成物を光照射により硬化させてなる光硬化層であり、
前記光硬化性組成物は、前記量子ドット、脂環式エポキシ化合物を少なくとも含む重合性化合物、および光重合開始剤を含み、
前記波長変換層のマトリックスにおける前記光源から出射される光の損失率は、厚み60μm換算で3%以下であるバックライトユニット。 A backlight unit including a light source and a wavelength conversion member positioned on an optical path of light emitted from the light source,
The wavelength conversion member has a wavelength conversion layer including quantum dots in a matrix that are excited by excitation light and emit fluorescence.
The wavelength conversion layer is a photocured layer obtained by curing a photocurable composition by light irradiation,
The photocurable composition includes the quantum dot, a polymerizable compound including at least an alicyclic epoxy compound, and a photopolymerization initiator,
The backlight unit has a loss rate of light emitted from the light source in the wavelength conversion layer matrix of 3% or less in terms of a thickness of 60 μm. - 前記光重合開始剤は、ヨードニウム塩化合物である請求項1に記載のバックライトユニット。 The backlight unit according to claim 1, wherein the photopolymerization initiator is an iodonium salt compound.
- 前記ヨードニウム塩化合物は、アニオン部として、気相酸性度が240~290kcal/molの範囲であるアニオン部を含む請求項2に記載のバックライトユニット。 The backlight unit according to claim 2, wherein the iodonium salt compound includes, as an anion moiety, an anion moiety having a gas phase acidity in the range of 240 to 290 kcal / mol.
- 前記波長変換層は、光散乱粒子を0.20体積%以上含む請求項1~3のいずれか1項に記載のバックライトユニット。 The backlight unit according to any one of claims 1 to 3, wherein the wavelength conversion layer contains 0.20% by volume or more of light scattering particles.
- 前記光源は、青色光源である請求項1~4のいずれか1項に記載のバックライトユニット。 The backlight unit according to any one of claims 1 to 4, wherein the light source is a blue light source.
- 請求項1~5のいずれか1項に記載のバックライトユニットと、液晶セルと、を含む液晶表示装置。 A liquid crystal display device comprising the backlight unit according to any one of claims 1 to 5 and a liquid crystal cell.
- 励起光により励起され蛍光を発光する量子ドットをマトリックス中に含む波長変換層を有し、
前記波長変換層は、光硬化性組成物を光照射により硬化させてなる光硬化層であり、
前記光硬化性組成物は、前記量子ドット、脂環式エポキシ化合物を少なくとも含む重合性化合物、および光重合開始剤を含み、
前記波長変換層のマトリックスにおける青色光損失率は、厚み60μm換算で3%以下である波長変換部材。 It has a wavelength conversion layer containing quantum dots that are excited by excitation light and emit fluorescence, in a matrix,
The wavelength conversion layer is a photocured layer obtained by curing a photocurable composition by light irradiation,
The photocurable composition includes the quantum dot, a polymerizable compound including at least an alicyclic epoxy compound, and a photopolymerization initiator,
The wavelength conversion member whose blue light loss rate in the matrix of the said wavelength conversion layer is 3% or less in conversion of thickness 60 micrometers. - 前記光重合開始剤は、ヨードニウム塩化合物である請求項7に記載の波長変換部材。 The wavelength conversion member according to claim 7, wherein the photopolymerization initiator is an iodonium salt compound.
- 前記ヨードニウム塩化合物は、アニオン部として、気相酸性度が240~290kcal/molの範囲であるアニオン部を含む請求項8に記載の波長変換部材。 The wavelength conversion member according to claim 8, wherein the iodonium salt compound includes, as an anion moiety, an anion moiety having a gas phase acidity in the range of 240 to 290 kcal / mol.
- 前記重合性化合物は、(メタ)アクリレート化合物を更に含む請求項7~9のいずれか1項に記載の波長変換部材。 The wavelength conversion member according to any one of claims 7 to 9, wherein the polymerizable compound further contains a (meth) acrylate compound.
- 励起光により励起され蛍光を発光する量子ドットを含む光硬化性組成物であって、
前記量子ドット、脂環式エポキシ化合物を少なくとも含む重合性化合物、および光重合開始剤を含み、
前記光硬化性組成物を光照射により硬化させて得られる光硬化体の量子ドットを除く部分の青色光損失率が、厚み60μm換算で3%以下である、光硬化性組成物。 A photocurable composition comprising quantum dots excited by excitation light and emitting fluorescence,
Including the quantum dot, a polymerizable compound containing at least an alicyclic epoxy compound, and a photopolymerization initiator,
A photocurable composition in which a blue light loss rate of a portion excluding quantum dots of a photocured product obtained by curing the photocurable composition by light irradiation is 3% or less in terms of a thickness of 60 μm. - 前記光重合開始剤は、ヨードニウム塩化合物である請求項11に記載の光硬化性組成物。 The photocurable composition according to claim 11, wherein the photopolymerization initiator is an iodonium salt compound.
- 前記ヨードニウム塩化合物は、アニオン部として、気相酸性度が240~290kcal/molの範囲であるアニオン部を含む請求項12に記載の光硬化性組成物。 The photocurable composition according to claim 12, wherein the iodonium salt compound includes, as an anion moiety, an anion moiety having a gas phase acidity in the range of 240 to 290 kcal / mol.
- 前記重合性化合物は、(メタ)アクリレート化合物を更に含む請求項11~13のいずれか1項に記載の光硬化性組成物。 The photocurable composition according to any one of claims 11 to 13, wherein the polymerizable compound further comprises a (meth) acrylate compound.
- 前記(メタ)アクリレート化合物は、単官能(メタ)アクリレートを含む請求項14に記載の光硬化性組成物。 The photocurable composition according to claim 14, wherein the (meth) acrylate compound contains a monofunctional (meth) acrylate.
- 光散乱粒子を固形分全量に対して体積基準で0.20体積%以上含む請求項11~15のいずれか1項に記載の光硬化性組成物。 The photocurable composition according to any one of claims 11 to 15, which contains 0.20% by volume or more of light scattering particles on a volume basis with respect to the total solid content.
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