WO2014147820A1

WO2014147820A1 - 液晶組成物及びそれを使用した液晶表示素子

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Publication number: WO2014147820A1
Application number: PCT/JP2013/058298
Authority: WO
Inventors: 河村　丞治; 雅裕丹羽; 根岸　真; 芳典岩下
Original assignee: Dic株式会社
Priority date: 2013-03-22
Filing date: 2013-03-22
Publication date: 2014-09-25
Also published as: CN104812871A; JPWO2014147820A1; JP5598615B1; US9464230B2; US20150307780A1; CN104812871B

Abstract

　下記一般式（ｉ）で表される化合物を１種又は２種以上を含有し、下記一般式（ｉｉ）で表される化合物を１種又は２種以上を含有する液晶組成物。（式中、Ｒ^ｉ１、Ｒ^ｉ２及びＲ^ｉｉ１はそれぞれ独立して炭素原子数１～８のアルキル基を表し、該アルキル基中の１個又は非隣接の２個以上の－ＣＨ_２－はそれぞれ独立して－ＣＨ＝ＣＨ－、－Ｃ≡Ｃ－、－Ｏ－、－ＣＯ－、－ＣＯＯ－又は－ＯＣＯ－によって置換されていてもよく、該アルキル基中の水素原子はフッ素原子又は塩素原子によって置換されていてもよく、Ｘ^ｉ１、Ｘ^ｉ２、Ｘ^ｉ３、Ｘ^ｉ４、Ｘ^ｉｉ１及びＸ^ｉｉ２はそれぞれ独立して水素原子又はフッ素原子を表し、Ａ^ｉｉ１、Ａ^ｉｉ２及びＡ^ｉｉ３はそれぞれ独立してトランス－１，４－シクロヘキシレン基又は水素原子がフッ素原子又は塩素原子によって置換されていてもよい１，４－フェニレン基を表す。）

Description

液晶組成物及びそれを使用した液晶表示素子

　本発明は液晶表示材料として有用な誘電率異方性（Δε）が正の値を示すネマチック液晶組成物及びこれを用いた液晶表示素子に関する。

　液晶表示素子は、時計、電卓をはじめとして、各種測定機器、自動車用パネル、ワードプロセッサー、電子手帳、プリンター、コンピューター、テレビ、時計、広告表示板等に用いられるようになっている。液晶表示方式としては、その代表的なものにＴＮ（ツイステッド・ネマチック）型、ＳＴＮ（スーパー・ツイステッド・ネマチック）型、ＴＦＴ（薄膜トランジスタ）を用いた垂直配向型やＩＰＳ（イン・プレーン・スイッチング）型等がある。これらの液晶表示素子に用いられる液晶組成物は水分、空気、熱、光などの外的刺激に対して安定であること、また、室温を中心としてできるだけ広い温度範囲で液晶相を示し、低粘性であり、かつ駆動電圧が低いことが求められる。さらに液晶組成物は個々の表示素子にとって誘電率異方性（Δε）及び／又は屈折率異方性（Δｎ）等を最適な値とするために、数種類から数十種類の化合物から構成されている。

垂直配向（ＶＡ）型ディスプレイではΔεが負の液晶組成物が用いられており、ＴＮ型、ＳＴＮ型又はＩＰＳ（イン・プレーン・スイッチング）型等の水平配向型ディスプレイではΔεが正の液晶組成物が用いられている。また、Δεが正の液晶組成物を電圧無印加時に垂直に配向させ、横電界を印加することにより表示する駆動方式も報告されており、Δεが正の液晶組成物の必要性はさらに高まっている。一方、全ての駆動方式において低電圧駆動、高速応答、広い動作温度範囲が求められている。すなわち、Δεが正で絶対値が大きく、粘度（η）が小さく、高いネマチック相－等方性液体相転移温度（Ｔｎｉ）が要求されている。また、Δｎとセルギャップ（ｄ）との積であるΔｎ×ｄを所定値に設定するために、液晶組成物のΔｎをセルギャップに合わせて適当な範囲に調節する必要がある。加えて液晶表示素子をテレビ等へ応用する場合においては高速応答性が重視されるため、回転粘性（γ_１）の小さい液晶組成物が要求される。

高速応答性を志向した液晶組成物の構成として、例えば、Δεが正の液晶化合物である下記式（Ａ－１）若しくは下記式（Ａ－２）で表される化合物、およびΔεが中性の液晶化合物である下記式（Ｂ）で表される化合物を組み合わせて使用した液晶組成物が開示されている。これらの液晶組成物の特徴は、Δεが正の液晶化合物が－ＣＦ_２Ｏ－構造を有すること、及びΔεが中性の液晶化合物がアルケニル基を有することである。これらの特徴は、この液晶組成物の分野では広く知られている（特許文献１～４を参照）。

一方で、液晶表示素子の用途が拡大するに至り、その使用方法、製造方法にも大きな変化が見られる。これらの変化に対応するためには、従来知られているような基本的な物性値以外の特性を最適化することが求められるようになった。すなわち、液晶組成物を使用する液晶表示素子はＶＡ型やＩＰＳ型等が広く使用されるに至り、その大きさも５０型以上の超大型サイズの表示素子が、実用化されるに至り、使用されるようになった。基板サイズの大型化に伴い、液晶組成物の基板への注入方法も変化し、従来の真空注入法から滴下注入（ODF：One Drop Fill）法が注入方法の主流になった。しかし、液晶組成物を基板に滴下した際の滴下痕が表示品位の低下を招く問題が表面化するに至った。さらに、ODF法による液晶表示素子製造工程においては、液晶表示素子のサイズに応じて最適な量の液晶を滴下する必要がある。滴下量のずれが最適値から大きくなると、あらかじめ設計された液晶表示素子の屈折率や駆動電界のバランスが崩れ、斑発生やコントラスト不良などの表示不良が生じる。特に、最近流行しているスマートフォンに多用される小型液晶表示素子は、最適な液晶滴下量が少量であるために、最適値からのずれを一定範囲内に制御すること自体が難しい。従って、液晶表示素子の製造歩留まりを高く維持するために、液晶組成物には、例えば、液晶滴下時に生じる滴下装置内の急激な圧力変化や衝撃から受ける影響が少なく、長時間にわたって安定的に連続して滴下可能であることが必要である。

このように、ＴＦＴ素子等で駆動するアクティブマトリックス駆動液晶表示素子に使用される液晶組成物においては、高速応答性能等の液晶表示素子として求められている特性や性能を維持しつつ、従来から重視されてきた、高い比抵抗値、高い電圧保持率、光や熱等の外部刺激に対する安定性、という特性に加えて、液晶表示素子の製造方法を考慮した開発が求められてきている。

特開２００８－０３７９１８号公報特開２００８－０３８０１８号公報特開２０１０－２７５３９０号公報特開２０１１－０５２１２０号公報

　本発明が解決しようとする課題は、広い温度範囲の液晶相を有し、粘性が小さく、低温での溶解性が良好であり、比抵抗や電圧保持率が高く、熱や光に対して安定であり、焼き付きや滴下痕等の表示不良が発生し難い、表示品位に優れた液晶表示素子を歩留まり良く製造可能な、Δεが正の液晶組成物を提供すること、及びこの液晶組成物を用いた液晶表示素子を提供することである。

　本発明者は、種々の液晶化合物および種々の化学物質を検討し、特定の液晶化合物を組み合わせることにより前記課題を解決することができることを見出し、本発明を完成するに至った。すなわち、本発明の第一態様は以下の液晶組成物であり、本発明の第二態様は以下の液晶素子である。

［１］下記一般式（ｉ）で表される化合物を１種又は２種以上を含有し、下記一般式（ｉｉ）で表される化合物を１種又は２種以上を含有する液晶組成物。

（式中、Ｒ^ｉ１、Ｒ^ｉ２及びＲ^ｉｉ１はそれぞれ独立して炭素原子数１～８のアルキル基を表し、該アルキル基中の１個又は非隣接の２個以上の－ＣＨ_２－はそれぞれ独立して－ＣＨ＝ＣＨ－、－Ｃ≡Ｃ－、－Ｏ－、－ＣＯ－、－ＣＯＯ－又は－ＯＣＯ－によって置換されていてもよく、該アルキル基中の水素原子はフッ素原子又は塩素原子によって置換されていてもよく、Ｘ^ｉ１、Ｘ^ｉ２、Ｘ^ｉ３、Ｘ^ｉ４、Ｘ^ｉｉ１及びＸ^ｉｉ２はそれぞれ独立して水素原子又はフッ素原子を表し、Ａ^ｉｉ１、Ａ^ｉｉ２及びＡ^ｉｉ３はそれぞれ独立してトランス－１，４－シクロヘキシレン基又は水素原子がフッ素原子又は塩素原子によって置換されていてもよい１，４－フェニレン基を表す。）

［２］前記一般式（ｉ）におけるＸ^ｉ２がフッ素原子である前記［１］に記載の液晶組成物。
［３］前記一般式（ｉｉ）におけるＡ^ｉｉ１がトランス－１，４－シクロヘキシレン基である前記［１］又は［２］に記載の液晶組成物。
［４］前記一般式（ｉｉ）におけるＡ^ｉｉ２及びＡ^ｉｉ３が、水素原子がフッ素原子によって置換されていてもよいが１，４－フェニレン基である前記［１］～［３］のいずれか一項に記載の液晶組成物。
［５］前記一般式（ｉｉ）におけるＸ^ｉｉ１がフッ素原子である前記［１］～［４］のいずれか一項に記載の液晶組成物。
［６］下記一般式（Ｌ）で表される化合物を含有する前記［１］～［５］のいずれか一項に記載の液晶組成物。

（式中、Ｒ^Ｌ１及びＲ^Ｌ２はそれぞれ独立して炭素原子数１～８のアルキル基を表し、該アルキル基中の１個又は非隣接の２個以上の－ＣＨ_２－はそれぞれ独立して－ＣＨ＝ＣＨ－、－Ｃ≡Ｃ－、－Ｏ－、－ＣＯ－、－ＣＯＯ－又は－ＯＣＯ－によって置換されていてもよく、
　ＯＬは０、１、２又は３を表し、
　Ｂ^Ｌ１、Ｂ^Ｌ２及びＢ^Ｌ３はそれぞれ独立して
（ａ）　１，４－シクロヘキシレン基（この基中に存在する１個の－ＣＨ_２－又は隣接していない２個以上の－ＣＨ_２－は－Ｏ－に置き換えられてもよい。）及び
（ｂ）　１，４－フェニレン基（この基中に存在する１個の－ＣＨ＝又は隣接していない２個以上の－ＣＨ＝は－Ｎ＝に置き換えられてもよい。）
からなる群より選ばれる基を表し、上記の基（ａ）、基（ｂ）中の１個又は２個以上の水素原子はそれぞれ独立してシアノ基、フッ素原子又は塩素原子で置換されていても良く、
　Ｌ^Ｌ１及びＬ^Ｌ２はそれぞれ独立して単結合、－ＣＨ_２ＣＨ_２－、－（ＣＨ_２）_４－、－ＯＣＨ_２－、－ＣＨ_２Ｏ－、－ＣＯＯ－、－ＯＣＯ－、－ＯＣＦ_２－、－ＣＦ_２Ｏ－、－ＣＨ＝Ｎ－Ｎ＝ＣＨ－、－ＣＨ＝ＣＨ－、－ＣＦ＝ＣＦ－又は－Ｃ≡Ｃ－を表し、
　ＯＬが２又は３であってＬ^Ｌ２が複数存在する場合は、それらは同一であっても異なっていても良く、ＯＬが２又は３であってＢ^Ｌ３が複数存在する場合は、それらは同一であっても異なっていても良い。）

［７］下記一般式（Ｍ）で表される化合物を含有する前記［１］～［６］のいずれか一項に記載の液晶組成物。

（式中、Ｒ^Ｍ１は炭素原子数１～８のアルキル基を表し、該アルキル基中の１個又は非隣接の２個以上の－ＣＨ_２－はそれぞれ独立して－ＣＨ＝ＣＨ－、－Ｃ≡Ｃ－、－Ｏ－、－ＣＯ－、－ＣＯＯ－又は－ＯＣＯ－によって置換されていてもよく、
　ＰＭは、０、１、２、３又は４を表し、
　Ｃ^Ｍ１及びＣ^Ｍ２はそれぞれ独立して、
（ｄ）　１，４－シクロヘキシレン基（この基中に存在する１個の－ＣＨ_２－又は隣接していない２個以上の－ＣＨ_２－は－Ｏ－又は－Ｓ－に置き換えられてもよい。）及び
（ｅ）　１，４－フェニレン基（この基中に存在する１個の－ＣＨ＝又は隣接していない２個以上の－ＣＨ＝は－Ｎ＝に置き換えられてもよい。）
からなる群より選ばれる基を表し、上記の基（ｄ）、基（ｅ）中の１個又は２個以上の水素原子はそれぞれ独立してシアノ基、フッ素原子又は塩素原子で置換されていても良く、
　Ｋ^Ｍ１及びＫ^Ｍ２はそれぞれ独立して単結合、－ＣＨ_２ＣＨ_２－、－（ＣＨ_２）_４－、－ＯＣＨ_２－、－ＣＨ_２Ｏ－、－ＯＣＦ_２－、－ＣＦ_２Ｏ－、－ＣＯＯ－、－ＯＣＯ－又は－Ｃ≡Ｃ－を表し、
　ＰＭが２、３又は４であってＫ^Ｍ１が複数存在する場合は、それらは同一であっても異なっていても良く、ＰＭが２、３又は４であってＣ^Ｍ２が複数存在する場合は、それらは同一であっても異なっていても良く、
　Ｘ^Ｍ１及びＸ^Ｍ３はそれぞれ独立して水素原子、塩素原子又はフッ素原子を表し、
　Ｘ^Ｍ２は、水素原子、フッ素原子、塩素原子、シアノ基、トリフルオロメチル基、フルオロメトキシ基、ジフルオロメトキシ基、トリフルオロメトキシ基又は２，２，２－トリフルオロエチル基を表す。ただし、一般式（ｉ）で表される化合物、及び一般式（ｉｉ）で表される化合物を除く。）

［８］前記［１］～［７］のいずれか一項に記載の液晶組成物を使用した液晶表示素子。
［９］前記［１］～［７］のいずれか一項に記載の液晶組成物を使用したＩＰＳモード、ＯＣＢモード、ＥＣＢモード、ＶＡモード、ＶＡ－ＩＰＳモード又はＦＦＳモード用液晶表示素子。
［１０］前記［８］又は［９］に記載の液晶表示素子を使用した液晶ディスプレイ。

本発明の正の誘電率異方性を有する液晶組成物は、従来よりも低い粘性を有し、低温における溶解性が良好であり、その比抵抗や電圧保持率が熱や光によって変化する程度が極めて小さい。このため、本発明の液晶組成物は液晶製品への実用性（適用性）が高く、前記液晶組成物を用いたＩＰＳ型やＦＦＳ型等の液晶表示素子は高速応答を達成できる。また、液晶表示素子の製造工程を経た後においても本発明の液晶組成物は安定的にその性能を発揮できるため、製造工程に起因する表示不良が抑制されて、液晶表示素子を歩留まり高く製造できるので、非常に有用である。

本発明の液晶表示素子の断面図である。１００～１０５を備えた基板を「バックプレーン」、２００～２０５を備えた基板を「フロントプレーン」と称している。フォトマスクパターンとしてブラックマトリックス上に形成する柱状スペーサ作成用パターンを使用した露光処理工程の図である。

また、以下の組成物における「％」は特に明示しない限り『質量％』を意味する。

　本願発明の液晶組成物は、下記一般式（ｉ）で表される化合物を１種又は２種以上を含有し、下記一般式（ｉｉ）で表される化合物を１種又は２種以上を含有する。

＜一般式（ｉ）で表される化合物＞
前記一般式（ｉ）中、Ｘ^ｉ２がフッ素原子であることが好ましく、Ｘ^ｉ１、Ｘ^ｉ３及びＸ^ｉ４が水素原子であることが好ましい。
　前記一般式（ｉ）中、Ｒ^ｉ１及びＲ^ｉ２は炭素原子数１～８の直鎖のアルキル基又は炭素原子数２～８の直鎖のアルケニル基が好ましく、炭素原子数２～５の直鎖のアルキル基又は炭素原子数２～５の直鎖のアルケニル基が好ましく、メチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基、ペンチル基又は下記の構造が好ましく、特にエチル基、プロピル基、ブチル基又はペンチル基が好ましい。

（式中、環構造へは右端で結合するものとする。）
　応答速度の改善を重視する場合はアルケニル基が好ましく、液晶組成物にした際の電圧保持率等の信頼性を重視する場合にはアルキル基が好ましい。

　前記一般式（ｉ）で表される化合物として、一般式（ｉ－１）で表される化合物が好ましい。

（式中、Ｒ^４１及びＲ^４２はそれぞれ独立して炭素原子数１～５のアルキル基または炭素原子数２～５のアルケニル基を表す。）

　組み合わせることができる化合物の種類に特に制限は無いが、低温での溶解性、転移温度、電気的な信頼性、複屈折率などの求められる性能に応じて組み合わせる。使用する化合物の種類は、例えば本発明の一つの実施形態としては１種類である。あるいは本発明の別の実施形態では２種類である。さらに、本発明の別の実施形態では３種類である。さらに、本発明の別の実施形態では４種類である。さらに、本発明の別の実施形態では５種類である。さらに、本発明の別の実施形態では６種類以上である。このうち特に好ましいのは２種類を含有する実施形態である。

　さらに、一般式（ｉ－１）で表される化合物は、例えば一般式（ｉ－１－１）で表される化合物群から選ばれる化合物であることが好ましい。

（式中、Ｒ^４３、Ｒ^４４はそれぞれ独立して炭素原子数１～５のアルキル基を表す。）

一般式（ｉ－１－１）で表される化合物の含有量は、低温での溶解性、転移温度、電気的な信頼性、複屈折率、プロセス適合性、滴下痕、焼き付き、誘電率異方性などの求められる性能に応じて適宜調整する必要がある。

本発明の液晶組成物の総質量に対して、前記一般式（ｉ－１－１）で表される化合物の含有量は、１～４０質量％が好ましく、２～３０質量％がより好ましく、４～２０質量％が更に好ましく、８～１６質量％が特に好ましい。

　一般式（ｉ－１－１）で表される化合物は、例えば式（ｉ－１－１．１）から式（ｉ－１－１．９）で表される化合物であることが好ましい。

　組み合わせることができる化合物の種類に特に制限は無いが、これらの化合物の中から１種～３種類含有することが好ましく、１種～２種類含有することがより好ましく、２種類含有することが特に好ましい。また、選ぶ化合物の分子量分布が広いことも溶解性に有効であるため、例えば、式（ｉ－１－１．１）及び（ｉ－１－１．２）で表される化合物から１種類、式（ｉ－１－１．４）及び（ｉ－１－１．５）で表される化合物から１種類、式（ｉ－１－１．６）及び式（ｉ－１－１．７）で表される化合物から１種類、式（ｉ－１－１．８）及び（ｉ－１－１．９）で表される化合物から１種類の化合物を選び、これらを適宜組み合わせることが好ましい。
　中でも、（ｉ－１－１．１）と（ｉ－１－１．６）の組み合わせ、（ｉ－１－１．４）と（ｉ－１－１．６）の組み合わせ、（ｉ－１－１．１）と（ｉ－１－１．３）の組み合わせ、（ｉ－１－１．１）と（ｉ－１－１．４）の組み合わせが好ましく、（ｉ－１－１．１）と（ｉ－１－１．６）の組み合わせ、（ｉ－１－１．１）と（ｉ－１－１．３）の組み合わせ、（ｉ－１－１．１）と（ｉ－１－１．４）の組み合わせがより好ましい。

　本発明の一つの実施形態では、本発明の液晶組成物の総質量に対して、式（ｉ－１－１．１）で表される化合物の含有量は１～４０質量％が好ましく、２～２０質量％がより好ましく、３～１０質量％が特に好ましい。

　本発明の一つの実施形態では、本発明の液晶組成物の総質量に対して、式（ｉ－１－１．３）で表される化合物の含有量は１～４０質量％が好ましく、２～２０質量％がより好ましく、４～１０質量％がより好ましく、５～９質量％が特に好ましい。

　本発明の一つの実施形態では、本発明の液晶組成物の総質量に対して、式（ｉ－１－１．４）で表される化合物の含有量は１～４０質量％、別の実施形態では式（ｉ－１－１．４）で表される化合物の含有量は２～２０質量％、さらに別の実施形態では式（ｉ－１－１．４）で表される化合物の含有量は５～１０質量％である。

　本発明の一つの実施形態では、本発明の液晶組成物の総質量に対して、式（ｉ－１－１．６）で表される化合物の含有量は１～４０質量％、別の実施形態では式（ｉ－１－１．６）で表される化合物の含有量は２～２０質量％、さらに別の実施形態では式（ｉ－１－１．６）で表される化合物の含有量は４～１０質量％である。

＜一般式（ｉｉ）で表される化合物＞
　前記一般式（ｉｉ）中、Ｒ^ｉｉ１は炭素原子数１～８のアルキル基又は炭素原子数２～８の直鎖のアルケニル基が好ましく、炭素原子数２～５の直鎖のアルキル基又は炭素原子数２～５の直鎖のアルケニル基が好ましく、エチル基、プロピル基、ブチル基、ペンチル基又は下記の構造

（式中、環構造へは右端で結合するものとする。）
が好ましく、プロピル基がより好ましい。
前記一般式（ｉｉ）中、Ａ^ｉｉ１がトランス－１，４－シクロヘキシレン基であることが好ましい。
また、前記一般式（ｉｉ）中Ａ^ｉｉ２及びＡ^ｉｉ３が、水素原子がフッ素原子によって置換されていてもよい１，４－フェニレン基であることが好ましい。
また、前記一般式（ｉｉ）中、Ａ^ｉｉ２が１，４－フェニレン基であることが好ましい。
また、前記一般式（ｉｉ）中、Ａ^ｉｉ３が、水素原子がフッ素原子によって置換された１，４－フェニレン基であることが好ましい。

前記一般式（ｉｉ）中、Ｘ^ｉｉ１がフッ素原子であることが好ましい。
　前記一般式（ｉｉ）で表される化合物は、下記一般式（ｉｉ－１）で表される化合物が好ましい。

（式中、Ｒ^１０は炭素原子数１～５のアルキル基、炭素原子数２～５のアルケニル基または炭素原子数１～４のアルコキシ基を表す。）

　一般式（ｉｉ－１）で表される化合物の含有量は、低温での溶解性、転移温度、電気的な信頼性などを考慮して、本発明の液晶組成物の総質量に対して１～２０質量％が好ましく、２～１６質量％がより好ましく、２～１３がより好ましい。特に低温での析出の改善を考慮する場合には、３～１０質量％が好ましく、４～８質量％がより好ましく、５～７質量％がより好ましい。

　さらに、本発明の液晶組成物に使用される一般式（ｉｉ－１）で表される化合物は、具体的には式（ｉｉ－１．１）から式（ｉｉ－１．４）で表される化合物であることが好ましく、中でも式（ｉｉ－１．２）、式（ｉｉ－１．４）で表される化合物を含有することが好ましい。

本発明の液晶組成物において、式（ｉｉ－１．２）で表される化合物の含有量は、本発明の液晶組成物の総質量に対して１～３５質量％が好ましく、２～２５質量％がより好ましく、２～１５質量％が更に好ましく、２～１０質量％が更に好ましく、４～８質量％が特に好ましい。

本発明の液晶組成物において、式（ｉｉ－１．４）で表される化合物の含有量は、本発明の液晶組成物の総質量に対して１～３５質量％が好ましく、２～２５質量％がより好ましく、２～１５質量％が更に好ましく、３～８質量％が特に好ましい。

　また、一般式（ｉｉ）で表される化合物は、下記一般式（ｉｉ－２）で表される化合物が好ましい。

　組み合わせることのできる化合物に特に制限は無いが、低温での溶解性、転移温度、電気的な信頼性、複屈折率などを考慮して１種から２種類以上組み合わせることが好ましく、１種から３種類以上組み合わせることがより好ましい。

　一般式（ｉｉ－２）で表される化合物の含有量は、低温での溶解性、転移温度、電気的な信頼性などを考慮して、本発明の液晶組成物の総質量に対して１～１０質量％が好ましく、２～８質量％がより好ましく、２～５質量％が特に好ましい。

　さらに、本発明の液晶組成物に使用される一般式（ｉｉ－２）で表される化合物は、具体的には式（ｉｉ－２．１）から式（ｉｉ－２．４）で表される化合物であることが好ましく、中でも式（ｉｉ－２．２）で表される化合物を含有することが好ましい。

本発明の液晶組成物において、式（ｉｉ－２．２）で表される化合物の含有量は、本発明の液晶組成物の総質量に対して１～１０質量％が好ましく、２～８質量％がより好ましく、２～５質量％が特に好ましい。

　また、前記一般式（ｉｉ）で表される化合物は、下記一般式（ｉｉ－３）で表される化合物が好ましい。

　一般式（ｉｉ－３）で表される化合物の含有量は、低温での溶解性、転移温度、電気的な信頼性などを考慮して、本発明の液晶組成物の総質量に対して１～２０質量％が好ましく、２～１６質量％がより好ましく、２～１３が特に好ましい。

　さらに、本発明の液晶組成物に使用される一般式（ｉｉ－３）で表される化合物は、具体的には式（ｉｉ－３．１）から式（ｉｉ－３．４）で表される化合物であることが好ましく、中でも式（ｉｉ－３．２）で表される化合物を含有することが好ましい。

本発明の液晶組成物において、式（ｉｉ－３．２）で表される化合物の含有量は、本発明の液晶組成物の総質量に対して１～３５質量％が好ましく、２～２５質量％がより好ましく、２～１５質量％が更に好ましく、２～１０質量％が特に好ましい。

　また、一般式（ｉｉ）で表される化合物は、下記一般式（ｉｉ－４）で表される化合物が好ましい。

　一般式（ｉｉ－４）で表される化合物の含有量は、低温での溶解性、転移温度、電気的な信頼性などを考慮して、本発明の液晶組成物の総質量に対して３質量％以上２０質量％以下であることが好ましく、６質量％以上１６質量％以下がより好ましく、９質量％以上１２質量％以下がさらに好ましく、９質量％以上１０質量％以下が特に好ましい。

　さらに、本発明の液晶組成物に使用される一般式（ｉｉ－４）で表される化合物は、具体的には式（ｉｉ－４．１）から式（ｉｉ－４．４）で表される化合物であることが好ましく、中でも式（ｉｉ－４．２）で表される化合物を含有することが好ましい。

本発明の液晶組成物において、式（ｉｉ－４．２）で表される化合物の含有量は、本発明の液晶組成物の総質量に対して１～１０質量％が好ましく、２～８質量％がより好ましく、２～５質量％が特に好ましい。

　また、一般式（ｉｉ）で表される化合物は、下記一般式（ｉｉ－５）で表される化合物が好ましい。

　一般式（ｉｉ－５）で表される化合物の含有量は、低温での溶解性、転移温度、電気的な信頼性などを考慮して、本発明の液晶組成物の総質量に対して３質量％以上２０質量％以下であることが好ましく、６質量％以上１６質量％以下がより好ましく、９質量％以上１２質量％以下がさらに好ましく、９質量％以上１０質量％以下が特に好ましい。

　さらに、本発明の液晶組成物に使用される一般式（ｉｉ－５）で表される化合物は、具体的には式（ｉｉ－５．１）から式（ｉｉ－５．４）で表される化合物であることが好ましく、中でも式（ｉｉ－５．２）で表される化合物を含有することが好ましい。

本発明の液晶組成物において、式（ｉｉ－５．２）で表される化合物の含有量は、本発明の液晶組成物の総質量に対して１質量％以上３５質量％以下であることが好ましく、２質量％２５質量％以下であることがより好ましく、３質量％以上２０質量％以下であることがより好ましく、３質量％以上１５質量％以下であることがより好ましく、３質量％以上１０質量％以下であることが更に好ましく、４質量％以上１０質量％以下であることが更に好ましい。

　さらに、本発明の液晶組成物に使用される一般式（ｉｉ）で表される化合物は、一般式（ｉｉ－６）で表される化合物であることが好ましい。

　組み合わせることのできる化合物に特に制限は無いが、低温での溶解性、転移温度、電気的な信頼性、複屈折率などを考慮して１種から２種類以上組み合わせることが好ましい。
　一般式（ｉｉ－６）で表される化合物の含有量は、低温での溶解性、転移温度、電気的な信頼性などを考慮して、本発明の液晶組成物の総質量に対して３質量％以上２０質量％以下であることが好ましく、６質量％以上１６質量％以下がより好ましく、９質量％以上１２質量％以下がさらに好ましく、９質量％以上１０質量％以下が特に好ましい。

　さらに、本発明の液晶組成物に使用される一般式（ｉｉ－６）で表される化合物は、具体的には式（ｉｉ－６．１）から式（ｉｉ－６．４）で表される化合物であることが好ましく、中でも式（ｉｉ－６．２）で表される化合物を含有することが好ましい。

　組み合わせることができる化合物の種類に特に制限は無いが、これらの化合物の中から１種～３種類含有することが好ましく、１種～２種類含有することがより好ましい。
　組み合わせとしては、（ｉｉ－１．２）単独、（ｉｉ－２．２）単独、（ｉｉ－３．２）単独、（ｉｉ－４．２）単独、（ｉｉ－１．２）と（ｉｉ－１．４）との組み合わせ、（ｉｉ－１．２）と（ｉｉ－２．２）の組み合わせ、（ｉｉ－１．２）と（ｉｉ－４．２）の組み合わせが好ましい。

　一般式（ｉｉ）で表される化合物の含有量は、低温での溶解性、転移温度、電気的な信頼性などを考慮して、本発明の液晶組成物の総質量に対して１～２５質量％が好ましく、２～２０質量％がより好ましく、４～１６が特に好ましい。

　一般式（ｉ）で表される化合物及び一般式（ｉｉ）で表される化合物の合計の含有量は、本発明の液晶組成物の総質量に対して１０質量％以上３０質量％以下であることが好ましく、１３質量％以上２８質量％以下であることが好ましく、１６質量％以上２５質量％以下であることが好ましく、１７質量％以上２４質量％以下であることが好ましい。

　一般式（ｉ）で表される化合物及び一般式（ｉｉ）で表される化合物はあわせて２～４種使用することが好ましく、３又は４種使用することがより好ましく、３種使用することが特に好ましい。一般式（ｉ）で表される化合物及び一般式（ｉｉ）で表される化合物はあわせて３種使用する場合、一般式（ｉ）で表される化合物を２種、一般式（ｉｉ）で表される化合物を１種使用することが好ましい。この場合、一般式（ｉ）で表される化合物として式（ｉ－１－１．１）と式（ｉ－１－１．６）の２種、式（ｉ－１－１．１）と式（ｉ－１－１．３）の２種、式（ｉ－１－１．１）と（ｉ－１－１．４）の２種を、一般式（ｉｉ）で表される化合物として式（ｉｉ－１．２）の１種を使用するのが好ましい。

　本発明の液晶組成物は、一般式（Ｌ）で表される化合物を１種類または２種類以上含有することもできる。

（式中、Ｒ^Ｌ１及びＲ^Ｌ２はそれぞれ独立して炭素原子数１～８のアルキル基を表し、該アルキル基中の１個又は非隣接の２個以上の－ＣＨ_２－はそれぞれ独立して－ＣＨ＝ＣＨ－、－Ｃ≡Ｃ－、－Ｏ－、－ＣＯ－、－ＣＯＯ－又は－ＯＣＯ－によって置換されていてもよく、
　ＯＬは０、１、２又は３を表し、
　Ｂ^Ｌ１、Ｂ^Ｌ２及びＢ^Ｌ３はそれぞれ独立して
（ａ）　１，４－シクロヘキシレン基（この基中に存在する１個の－ＣＨ_２－又は隣接していない２個以上の－ＣＨ_２－は－Ｏ－に置き換えられてもよい。）及び
（ｂ）　１，４－フェニレン基（この基中に存在する１個の－ＣＨ＝又は隣接していない２個以上の－ＣＨ＝は－Ｎ＝に置き換えられてもよい。）
からなる群より選ばれる基を表し、上記の基（ａ）、基（ｂ）中の１個又は２個以上の水素原子はそれぞれ独立してシアノ基、フッ素原子又は塩素原子で置換されていても良く、
　Ｌ^Ｌ１及びＬ^Ｌ２はそれぞれ独立して単結合、－ＣＨ_２ＣＨ_２－、－（ＣＨ_２）_４－、－ＯＣＨ_２－、－ＣＨ_２Ｏ－、－ＣＯＯ－、－ＯＣＯ－、－ＯＣＦ_２－、－ＣＦ_２Ｏ－、－ＣＨ＝Ｎ－Ｎ＝ＣＨ－、－ＣＨ＝ＣＨ－、－ＣＦ＝ＣＦ－又は－Ｃ≡Ｃ－を表し、
　ＯＬが２又は３であってＬ^Ｌ２が複数存在する場合は、それらは同一であっても異なっていても良く、ＯＬが２又は３であってＢ^Ｌ３が複数存在する場合は、それらは同一であっても異なっていても良い。ただし、一般式（ｉ）で表される化合物を除く。）
　組み合わせることができる化合物の種類に特に制限は無いが、低温での溶解性、転移温度、電気的な信頼性、複屈折率などの所望の性能に応じて適宜組み合わせて使用する。使用する化合物の種類は、例えば本発明の一つの実施形態としては１種類である。あるいは本発明の別の実施形態では２種類である。また、本発明の別の実施形態では３種類である。さらに、本発明の別の実施形態では４種類である。さらに、本発明の別の実施形態では５種類である。さらに、本発明の別の実施形態では６種類である。さらに、本発明の別の実施形態では７種類である。さらに、本発明の別の実施形態では８種類である。さらに、本発明の別の実施形態では９種類である。さらに、本発明の別の実施形態では１０種類以上である。

　本発明の液晶組成物において、一般式（Ｌ）で表される化合物の含有量は、低温での溶解性、転移温度、電気的な信頼性、複屈折率、プロセス適合性、滴下痕、焼き付き、誘電率異方性などの求められる性能に応じて適宜調整する必要がある。

　本発明の液晶組成物の総質量に対して、前記化合物の含有量は、例えば本発明の一つの実施形態としては１～９５質量％である。あるいは本発明の別の実施形態では前記含有量は１０～９５質量％である。また、本発明の別の実施形態では前記含有量は２０～９５質量％である。さらに、本発明の別の実施形態では前記含有量は３０～９５質量％である。さらに、本発明の別の実施形態では前記含有量は４０～９５質量％である。さらに、本発明の別の実施形態では前記含有量は５０～９５質量％である。さらに、本発明の別の実施形態では前記含有量は５５～９５質量％である。さらに、本発明の別の実施形態では前記含有量は６０～９５質量％である。さらに、本発明の別の実施形態では前記含有量は６５～９５質量％である。さらに、本発明の別の実施形態では前記含有量は７０～９５質量％である。さらに、本発明の別の実施形態では前記含有量は７５～９５質量％である。さらに、本発明の別の実施形態では前記含有量は８０～９５質量％である。

　さらに、本発明の液晶組成物の総質量に対して、前記化合物の含有量は、例えば本発明の一つの形態では１～９５％である。また、本発明の別の実施形態では前記含有量は１～８５％である。さらに、本発明の別の実施形態では前記含有量は１～７５％である。さらに、本発明の別の実施形態では前記含有量は１～６５％である。さらに、本発明の別の実施形態では前記含有量は１～５５％である。さらに、本発明の別の実施形態では前記含有量は１～４５％である。さらに、本発明の別の実施形態では前記含有量は１～３５％である。さらに、本発明の別の実施形態では前記含有量は１～２５％である。

　本発明の液晶組成物の粘度を低く保ち、応答速度が速い液晶組成物が必要な場合は上記の下限値が高く上限値が高いことが好ましい。さらに、本発明の液晶組成物のＴｎｉを高く保ち、温度安定性の良い液晶組成物が必要な場合は上記の下限値が高く上限値が高いことが好ましい。また、駆動電圧を低く保つために誘電率異方性を大きくしたいときは、上記の下限値を低く上限値が低いことが好ましい。

　Ｒ^Ｌ１及びＲ^Ｌ２は、それが結合する環構造がフェニル基（芳香族）である場合には、直鎖状の炭素原子数１～５のアルキル基、直鎖状の炭素原子数１～４（またはそれ以上）のアルコキシ基及び炭素原子数４～５のアルケニル基が好ましく、それが結合する環構造がシクロヘキサン、ピラン及びジオキサンなどの飽和した環構造の場合には、直鎖状の炭素原子数１～５のアルキル基、直鎖状の炭素原子数１～４（またはそれ以上）のアルコキシ基及び直鎖状の炭素原子数２～５のアルケニル基が好ましい。

　一般式（Ｌ）で表される化合物は液晶組成物の化学的な安定性が求められる場合には塩素原子をその分子内に有さないことが好ましい。
　一般式（Ｌ）で表される化合物は、例えば、一般式（Ｉ）で表される化合物群から選ばれる化合物が好ましい。

（式中、Ｒ^１１およびＲ^１２はそれぞれ独立して炭素原子数１～５のアルキル基、炭素原子数１～５のアルコキシ基または炭素原子数２～５のアルケニル基を表し、Ａ^１１およびＡ^１２はそれぞれ独立して１，４－シクロヘキシレン基、１，４－フェニレン基、２－フルオロ－１，４－フェニレン基または３－フルオロ－１，４－フェニレン基を表す。）

　組み合わせることができる化合物の種類に特に制限は無いが、低温での溶解性、転移温度、電気的な信頼性、複屈折率などの求められる性能に応じて適宜組み合わせて使用する。使用する化合物の種類は、例えば本発明の一つの実施形態としては１種類である。あるいは本発明の別の実施形態では２種類である。また、本発明の別の実施形態では３種類である。さらに、本発明の別の実施形態では４種類である。さらに、本発明の別の実施形態では５種類である。さらに、本発明の別の実施形態では６種類以上である。

　本発明の液晶組成物において、一般式（Ｉ）で表される化合物の含有量は、低温での溶解性、転移温度、電気的な信頼性、複屈折率、プロセス適合性、滴下痕、焼き付き、誘電率異方性などの求められる性能に応じて適宜調整する必要がある。

　本発明の液晶組成物の総質量に対して、前記化合物の含有量は、例えば本発明の一つの実施形態としては３～７５質量％である。あるいは本発明の別の実施形態では前記含有量は１５～７５質量％である。また、本発明の別の実施形態では前記含有量は１８～７５質量％である。さらに、本発明の別の実施形態では前記含有量は２０～７５質量％である。さらに、本発明の別の実施形態では前記含有量は２９～７５質量％である。さらに、本発明の別の実施形態では前記含有量は３５～７５質量％である。さらに、本発明の別の実施形態では前記含有量は４２～７５質量％である。さらに、本発明の別の実施形態では前記含有量は４７～７５質量％である。さらに、本発明の別の実施形態では前記含有量は５３～７５質量％である。さらに、本発明の別の実施形態では前記含有量は５６～７５質量％である。さらに、本発明の別の実施形態では前記含有量は６０～７５質量％である。さらに、本発明の別の実施形態では前記含有量は６５～７５質量％である。

　さらに、本発明の液晶組成物の総質量に対して、前記含有量は、例えば本発明の一つの形態では３～７５質量％である。また、本発明の別の実施形態では前記含有量は３～６５質量％である。さらに、本発明の別の実施形態では前記含有量は３～５５質量％である。さらに、本発明の別の実施形態では前記含有量は３～５０質量％である。さらに、本発明の別の実施形態では前記含有量は３～４５質量％である。さらに、本発明の別の実施形態では前記含有量は３～４０質量％である。さらに、本発明の別の実施形態では前記含有量は３～３５質量％である。さらに、本発明の別の実施形態では前記含有量は３～３０質量％である。

　本発明の液晶組成物の粘度を低く保ち、応答速度が速い液晶組成物が必要な場合は上記の下限値が高く上限値が高いことが好ましい。さらに、本発明の液晶組成物のＴｎｉを高く保ち、温度安定性の良い液晶組成物が必要な場合は上記の下限値が中庸で上限値が中庸であることが好ましい。また、駆動電圧を低く保つために誘電率異方性を大きくしたいときは、上記の下限値を低く上限値が低いことが好ましい。

　さらに、一般式（Ｉ）で表される化合物は一般式（Ｉ－１）で表される化合物群から選ばれる化合物であることが好ましい。

（式中、Ｒ^１１およびＲ^１２はそれぞれ独立して炭素原子数１～５のアルキル基、炭素原子数１～５のアルコキシ基または炭素原子数２～５のアルケニル基を表す。）
　組み合わせることができる化合物の種類に特に制限は無いが、低温での溶解性、転移温度、電気的な信頼性、複屈折率などの求められる性能に応じて適宜組み合わせて使用する。使用する化合物の種類は、例えば本発明の一つの実施形態としては１種類である。あるいは本発明の別の実施形態では２種類である。また、本発明の別の実施形態では３種類である。さらに、本発明の別の実施形態では４種類である。さらに、本発明の別の実施形態では５種類以上である。

　本発明の液晶組成物において、一般式（Ｉ－１）で表される化合物の含有量は、低温での溶解性、転移温度、電気的な信頼性、複屈折率、プロセス適合性、滴下痕、焼き付き、誘電率異方性などの求められる性能に応じて適宜調整する必要がある。

　本発明の液晶組成物の総質量に対して、前記化合物の含有量は、例えば本発明の一つの実施形態としては、前記含有量は３～７０質量％である。あるいは本発明の別の実施形態では前記含有量は１５～７０質量％である。また、本発明の別の実施形態では前記含有量は１８～７０質量％である。さらに、本発明の別の実施形態では前記含有量は２５～７０質量％である。さらに、本発明の別の実施形態では前記含有量は２９～７０質量％である。さらに、本発明の別の実施形態では前記含有量は３１～７０質量％である。さらに、本発明の別の実施形態では前記含有量は３５～７０質量％である。さらに、本発明の別の実施形態では前記含有量は４３～７０質量％である。さらに、本発明の別の実施形態では前記含有量は４７～７０質量％である。さらに、本発明の別の実施形態では前記含有量は５０～７０質量％である。さらに、本発明の別の実施形態では前記含有量は５３～７０質量％である。さらに、本発明の別の実施形態では前記含有量は５６～７０質量％である。

　本発明の液晶組成物の総質量に対して、前記化合物の含有量は、例えば本発明の一つの形態では前記含有量は３～７０質量％である。また、本発明の別の実施形態では前記含有量は３～６０質量％である。さらに、本発明の別の実施形態では前記含有量は３～５０質量％である。さらに、本発明の別の実施形態では前記含有量は３～４５質量％である。さらに、本発明の別の実施形態では前記含有量は３～４０質量％である。さらに、本発明の別の実施形態では前記含有量は３～３５質量％である。さらに、本発明の別の実施形態では前記含有量は３～３０質量％である。さらに、本発明の別の実施形態では前記含有量は３～２６質量％である。

　さらに、一般式（Ｉ－１）で表される化合物は一般式（Ｉ－１－１）で表される化合物群から選ばれる化合物であることが好ましい。

（式中Ｒ^１２はそれぞれ独立して炭素原子数１～５のアルキル基、炭素原子数２～５のアルケニル基または炭素原子数１～５のアルコキシ基を表す。）

　本発明の液晶組成物において、一般式（Ｉ－１－１）で表される化合物の含有量は、低温での溶解性、転移温度、電気的な信頼性、複屈折率、プロセス適合性、滴下痕、焼き付き、誘電率異方性などの求められる性能に応じて適宜調整する必要がある。

本発明の液晶組成物の総質量に対して、前記化合物の含有量は、例えば本発明の一つの実施形態としては２～６０質量％である。あるいは本発明の別の実施形態では前記含有量は４～６０質量％である。また、本発明の別の実施形態では前記含有量は７～６０質量％である。さらに、本発明の別の実施形態では前記含有量は１１～６０質量％である。さらに、本発明の別の実施形態では前記含有量は１３～６０質量％である。さらに、本発明の別の実施形態では前記含有量は１５～６０質量％である。さらに、本発明の別の実施形態では前記含有量は１７～６０質量％である。さらに、本発明の別の実施形態では前記含有量は２０～６０質量％である。さらに、本発明の別の実施形態では前記含有量は２５～６０質量％である。さらに、本発明の別の実施形態では前記含有量は３０～６０質量％である。さらに、本発明の別の実施形態では前記含有量は３２～６０質量％である。さらに、本発明の別の実施形態では前記含有量は３５～６０質量％である。

本発明の液晶組成物の総質量に対して、前記化合物の含有量は、例えば本発明の一つの形態では２～６０質量％である。また、本発明の別の実施形態では前記含有量は２～５０質量％である。さらに、本発明の別の実施形態では前記含有量は２～４０質量％である。さらに、本発明の別の実施形態では前記含有量は２～３５質量％である。さらに、本発明の別の実施形態では前記含有量は２～３０質量％である。さらに、本発明の別の実施形態では前記含有量は２～２５質量％である。さらに、本発明の別の実施形態では前記含有量は２～２０質量％である。さらに、本発明の別の実施形態では前記含有量は２～１５質量％である。

　さらに、一般式（Ｉ－１－１）で表される化合物は、式（１．１）から式（１．３）で表される化合物群から選ばれる化合物であることが好ましく、式（１．２）または式（１．３）で表される化合物であることが好ましく、特に、式（１．３）で表される化合物であることが好ましい。

　式（１．２）または式（１．３）で表される化合物がそれぞれ単独で使われる場合は、式（１．２）で表される化合物の含有量は高めであることが応答速度の改善に効果があり、式（１．３）で表される化合物の含有量は下記に示す範囲が応答速度の速く電気的、光学的に信頼性が高い液晶組成物ができるので好ましい。

　式（１．３）で表される化合物を、本発明の液晶組成物の総質量に対して３～３５質量％含有することが好ましく、４～２５質量％含有することがより好ましく、４～２０質量％以下含有することが特に好ましい。本発明の液晶組成物の総質量に対して、前記化合物の含有量は、例えば本発明の一つの形態では４～６質量％である。また、本発明の別の実施形態では前記含有量は７～９質量％である。更に、本発明の別の実施形態では前記含有量は１２～１８質量％である。

　さらに、一般式（Ｉ－１）で表される化合物は一般式（Ｉ－１－２）で表される化合物群から選ばれる化合物であることが好ましい。

（式中Ｒ^１２はそれぞれ独立して炭素原子数１～５のアルキル基、炭素原子数１～５のアルコキシ基または炭素原子数２～５のアルケニル基を表す。）

　組み合わせることができる化合物の種類に特に制限は無いが、低温での溶解性、転移温度、電気的な信頼性、複屈折率などの求められる性能に応じて適宜組み合わせて使用する。使用する化合物の種類は、例えば本発明の一つの実施形態としては１種類である。あるいは本発明の別の実施形態では２種類である。また、本発明の別の実施形態では３種類である。

　本発明の液晶組成物において、一般式（Ｉ－１－２）で表される化合物の含有量は、低温での溶解性、転移温度、電気的な信頼性、複屈折率、プロセス適合性、滴下痕、焼き付き、誘電率異方性などの求められる性能に応じて適宜調整する必要がある。

本発明の液晶組成物の総質量に対して、前記化合物の含有量は、例えば本発明の一つの実施形態としては７～６０質量％である。あるいは本発明の別の実施形態では前記含有量は１５～６０質量％である。また、本発明の別の実施形態では前記含有量は１８～６０質量％である。さらに、本発明の別の実施形態では前記含有量は２１～６０質量％である。さらに、本発明の別の実施形態では前記含有量は２４～６０質量％である。さらに、本発明の別の実施形態では前記含有量は２７～６０質量％である。さらに、本発明の別の実施形態では前記含有量は３０～６０質量％である。さらに、本発明の別の実施形態では前記含有量は３４～６０質量％である。さらに、本発明の別の実施形態では前記含有量は３７～６０質量％である。さらに、本発明の別の実施形態では前記含有量は４１～６０質量％である。さらに、本発明の別の実施形態では前記含有量は４７～６０質量％である。さらに、本発明の別の実施形態では前記含有量は５０～６０質量％である。

　さらに、本発明の液晶組成物の総質量に対して、前記化合物の含有量は、例えば本発明の一つの実施形態では７～６０質量％である。また、本発明の別の実施形態では前記含有量は７～５５質量％である。さらに、本発明の別の実施形態では前記含有量は７～４５質量％である。さらに、本発明の別の実施形態では前記含有量は７～４０質量％である。さらに、本発明の別の実施形態では前記含有量は７～３５質量％である。さらに、本発明の別の実施形態では前記含有量は７～３０質量％である。さらに、本発明の別の実施形態では前記含有量は７～２５質量％である。さらに、本発明の別の実施形態では前記含有量は７～２０質量％である。

　さらに、一般式（Ｉ－１－２）で表される化合物は、式（２．１）から式（２．４）で表される化合物群から選ばれる化合物であることが好ましく、式（２．２）から式（２．４）で表される化合物であることが好ましい。特に、式（２．２）で表される化合物は本発明の液晶組成物の応答速度を特に改善するため好ましい。また、応答速度よりも高いＴｎｉを求めるときは、式（２．３）または式（２．４）で表される化合物を用いることが好ましい。式（２．３）および式（２．４）で表される化合物の含有量は、低温での溶解度を良くするために２０％以上にすることは好ましくない。

　本発明の液晶組成物において、式（２．２）で表される化合物の含有量は、本発明の液晶組成物の総質量に対して５質量％以上５５質量％以下であることが好ましい。前記含有量のより好ましい例として、７質量％４７質量％以下、が挙げられる。

　本発明の液晶組成物において、式（２．２）で表される化合物の含有量は、本発明の液晶組成物の総質量に対して５～５５質量％が好ましく、１５～５０質量％がより好ましく、２５～４８質量％が更に好ましく、３５～４８質量％がより好ましく、４０～４８質量％が特に好ましい。

　本願発明の液晶組成物は、更に、一般式（Ｉ－１－２）で表される化合物と類似した構造を有する式（２．５）で表される化合物を含有することもできる。

　低温での溶解性、転移温度、電気的な信頼性、複屈折率などの求められる性能に応じて式（２．５）であらわされる化合物の含有量を調整することが好ましく、この化合物を本発明の液晶組成物の総質量に対して１１質量％以上含有することが好ましく、１５質量％含有することがさらに好ましく、２３質量％含有することがさらに好ましく、２６質量％以上含有することが更に好ましく、２８質量％以上含有することが特に好ましい。

　さらに、一般式（Ｉ）で表される化合物は一般式（Ｉ－２）で表される化合物群から選ばれる化合物であることが好ましい。

（式中、Ｒ^１３およびＲ^１４はそれぞれ独立して炭素原子数１～５のアルキル基を表す。）

　組み合わせることができる化合物の種類に特に制限は無いが、低温での溶解性、転移温度、電気的な信頼性、複屈折率などの求められる性能に応じて組み合わせる。使用する化合物の種類は、例えば本発明の一つの実施形態としては１種類である。あるいは本発明の別の実施形態では２種類である。また、本発明の別の実施形態では３種類である。

　本発明の液晶組成物において、一般式（Ｉ－２）で表される化合物の含有量は、低温での溶解性、転移温度、電気的な信頼性、複屈折率、プロセス適合性、滴下痕、焼き付き、誘電率異方性などの求められる性能に応じて適宜調整する必要がある。

本発明の液晶組成物の総質量に対して、前記化合物の含有量は、例えば本発明の一つの実施形態としては３～６０質量％である。あるいは本発明の別の実施形態では前記含有量は４～６０質量％である。また、本発明の別の実施形態では前記含有量は１５～６０質量％である。さらに、本発明の別の実施形態では前記含有量は２５～６０質量％である。さらに、本発明の別の実施形態では前記含有量は３０～６０質量％である。さらに、本発明の別の実施形態では前記含有量は３５～６０質量％である。さらに、本発明の別の実施形態では前記含有量は３８～６０質量％である。さらに、本発明の別の実施形態では前記含有量は４０～６０質量％である。さらに、本発明の別の実施形態では前記含有量は４２～６０質量％である。さらに、本発明の別の実施形態では前記含有量は４５～６０質量％である。さらに、本発明の別の実施形態では前記含有量は４７～６０質量％である。さらに、本発明の別の実施形態では前記含有量は５０～６０質量％である。

　さらに、本発明の液晶組成物の総質量に対して、前記化合物の含有量は、例えば本発明の一つの形態では３～６０質量％である。また、本発明の別の実施形態では前記含有量は３～５５質量％である。さらに、本発明の別の実施形態では前記含有量は３～４５質量％である。さらに、本発明の別の実施形態では前記含有量は３～４０質量％である。さらに、本発明の別の実施形態では前記含有量は３～３０質量％である。さらに、本発明の別の実施形態では前記含有量は３～２０質量％である。さらに、本発明の別の実施形態では前記含有量は３～１５質量％である。さらに、本発明の別の実施形態では前記含有量は３～５質量％である。

さらに、一般式（Ｉ－２）で表される化合物は、式（３．１）から式（３．４）で表される化合物群から選ばれる化合物であることが好ましく、式（３．１）、式（３．３）または式（３．４）で表される化合物であることが好ましい。特に、式（３．２）で表される化合物は本発明の液晶組成物の応答速度を特に改善するため好ましい。また、応答速度よりも高いＴｎｉを求めるときは、式（３．３）または式（３．４）で表される化合物を用いることが好ましい。式（３．３）および式（３．４）で表される化合物の含有量は、低温での溶解度を良くするために２０％以上にすることは好ましくない。

　さらに、一般式（Ｉ－２）で表される化合物は、式（３．１）から式（３．４）で表される化合物群から選ばれる化合物であることが好ましく、式（３．１）、式（３．３）および／または式（３．４）で表される化合物であることが好ましい。

　本発明の液晶組成物において、式（３．３）で表される化合物の含有量は、本発明の液晶組成物の総質量に対して２質量％以上４０質量％以下であることが好ましい。より好ましい含有量としては、例えば、３質量％以上４０質量％以下、４質量％以上４０質量％以下、或いは、３質量％以上５質量％以下、３質量％以上１０質量％以下、３質量％以上１２質量％以下、３質量％以上１４質量％以下、３質量％以上１６質量％以下、３質量％以上２０質量％以下、３質量％以上２３質量％以下、３質量％以上２６質量％以下、３質量％以上３０質量％以下、３質量％以上３４質量％以下、３質量％以上３７質量％以下が挙げられる。

　さらに、一般式（Ｉ）で表される化合物は一般式（Ｉ－３）で表される化合物群から選ばれる化合物であることが好ましい。

（式中、Ｒ^１３は炭素原子数１～５のアルキル基を表し、Ｒ^１５は炭素原子数１～４のアルコキシ基を表す。）

　本発明の液晶組成物において、一般式（Ｉ－３）で表される化合物の含有量は、低温での溶解性、転移温度、電気的な信頼性、複屈折率、プロセス適合性、滴下痕、焼き付き、誘電率異方性などの求められる性能に応じて適宜調整する必要がある。

本発明の液晶組成物の総質量に対して、前記化合物の含有量は、例えば本発明の一つの実施形態としては３質量％である。あるいは本発明の別の実施形態では前記含有量は４～６０質量％である。また、本発明の別の実施形態では前記含有量は１５～６０質量％である。さらに、本発明の別の実施形態では前記含有量は２５～６０質量％である。さらに、本発明の別の実施形態では前記含有量は３０～６０質量％である。さらに、本発明の別の実施形態では前記含有量は３５～６０質量％である。さらに、本発明の別の実施形態では前記含有量は３８～６０質量％である。さらに、本発明の別の実施形態では前記含有量は４０～６０質量％である。さらに、本発明の別の実施形態では前記含有量は４２～６０質量％である。さらに、本発明の別の実施形態では前記含有量は４５～６０質量％である。さらに、本発明の別の実施形態では前記含有量は４７～６０質量％である。さらに、本発明の別の実施形態では前記含有量は５０～６０質量％である。

　さらに、本発明の液晶組成物の総質量に対して、前記化合物の含有量は、例えば本発明の一つの形態では前記含有量は３～６０質量％である。また、本発明の別の実施形態では前記含有量は３～５５質量％である。さらに、本発明の別の実施形態では前記含有量は３～４５質量％である。さらに、本発明の別の実施形態では前記含有量は３～４０質量％である。さらに、本発明の別の実施形態では前記含有量は３～３０質量％である。さらに、本発明の別の実施形態では前記含有量は３～２０質量％である。さらに、本発明の別の実施形態では前記含有量は３～１５質量％である。さらに、本発明の別の実施形態では前記含有量は３～５質量％である。

　低温での溶解性を重視する場合は含有量を多めに設定すると効果が高く、反対に、応答速度を重視する場合は含有量を少なめに設定すると効果が高い。さらに、滴下痕や焼き付き特性を改良する場合は、含有量の範囲を中間に設定することが好ましい。

　さらに、一般式（Ｉ－３）で表される化合物は、式（４．１）から式（４．３）で表される化合物群から選ばれる化合物であることが好ましく、式（４．３）で表される化合物であることが好ましい。

　式（４．３）で表される化合物の含有量は、本発明の液晶組成物の総質量に対して２質量％以上３０質量％以下であることが好ましく、４質量％以上３０質量％以下であることがより好ましく、６質量％以上３０質量％以下であることがより好ましく、８質量％以上３０質量％以下であることがより好ましく、１０質量％以上３０質量％以下であることがより好ましく、１２質量％以上３０質量％以下であることがより好ましく、１４質量％以上３０質量％以下であることがより好ましく、１６質量％以上３０質量％以下であることがより好ましく、１８質量％以上２５質量％以下であることがより好ましく、２０質量％以上２４質量％以下であることがより好ましく、２２質量％以上２３質量％以下であることが特に好ましい。

　さらに、一般式（Ｉ）で表される化合物は一般式（Ｉ－４）で表される化合物群から選ばれる化合物であることが好ましい。

（式中、Ｒ^１１およびＲ^１２はそれぞれ独立して炭素原子数１～５のアルキル基、炭素原子数４～５のアルケニル基または炭素原子数１～４のアルコキシ基を表す。）

組み合わせることができる化合物の種類に特に制限は無いが、低温での溶解性、転移温度、電気的な信頼性、複屈折率などの求められる性能に応じて組み合わせる。使用する化合物の種類は、例えば本発明の一つの実施形態としては１種類である。あるいは本発明の別の実施形態では２種類である。

　本発明の液晶組成物において、一般式（Ｉ－４）で表される化合物の含有量は、低温での溶解性、転移温度、電気的な信頼性、複屈折率、プロセス適合性、滴下痕、焼き付き、誘電率異方性などの求められる性能に応じて適宜調整する必要がある。

本発明の液晶組成物の総質量に対して、前記化合物の含有量は、例えば本発明の一つの実施形態としては３～５０質量％である。あるいは本発明の別の実施形態では前記含有量は５～５０質量％である。また、本発明の別の実施形態では前記含有量は６～５０質量％である。さらに、本発明の別の実施形態では前記含有量は８～５０質量％である。さらに、本発明の別の実施形態では前記含有量は１０～５０質量％である。さらに、本発明の別の実施形態では前記含有量は１２～５０質量％である。さらに、本発明の別の実施形態では前記含有量は１５～５０質量％である。さらに、本発明の別の実施形態では前記含有量は２０～５０質量％である。さらに、本発明の別の実施形態では前記含有量は２５～５０質量％である。さらに、本発明の別の実施形態では前記含有量は３０～５０質量％である。さらに、本発明の別の実施形態では前記含有量は３５～５０質量％である。さらに、本発明の別の実施形態では前記含有量は４０～５０質量％である。

　さらに、本発明の液晶組成物の総質量に対して、前記化合物の含有量は、例えば本発明の一つの形態では前記含有量は、３～５０質量％である。また、本発明の別の実施形態では前記含有量は、３～４０質量％である。さらに、本発明の別の実施形態では前記含有量は、３～３５質量％である。さらに、本発明の別の実施形態では前記含有量は、３～３０質量％である。さらに、本発明の別の実施形態では前記含有量は、３～２０質量％である。さらに、本発明の別の実施形態では前記含有量は、３～１５質量％である。さらに、本発明の別の実施形態では前記含有量は、３～１０質量％である。さらに、本発明の別の実施形態では前記含有量は、３～５質量％である。

　高い複屈折率を得る場合は含有量を多めに設定すると効果が高く、反対に、高いＴｎｉを重視する場合は含有量を少なめに設定すると効果が高い。さらに、滴下痕や焼き付き特性を改良する場合は、含有量の範囲を中間に設定することが好ましい。

　さらに、一般式（Ｉ－４）で表される化合物は、式（５．１）から式（５．４）で表される化合物群から選ばれる化合物であることが好ましく、式（５．２）から式（５．４）で表される化合物であることが好ましい。

　式（５．２）で表される化合物の含有量は、本発明の液晶組成物の総質量に対して２～３０質量％が好ましく、４～２０質量％がより好ましく、６～１５質量％が更に好ましく、８～１２質量％が特に好ましい。

　式（５．４）で表される化合物の含有量は、本発明の液晶組成物の総質量に対して２～３０質量％が好ましく、４～２０質量％がより好ましく、６～１５質量％が更に好ましく、８～１２質量％が特に好ましい。

　さらに、一般式（Ｉ）で表される化合物は一般式（Ｉ－５）で表される化合物群から選ばれる化合物であることが好ましい。

（式中、Ｒ^１１およびＲ^１２はそれぞれ独立して炭素原子数１～５のアルキル基、炭素原子数２～５のアルケニル基または炭素原子数１～４のアルコキシ基を表す。）

　本発明の液晶組成物において、一般式（Ｉ－５）で表される化合物の含有量は、低温での溶解性、転移温度、電気的な信頼性、複屈折率、プロセス適合性、滴下痕、焼き付き、誘電率異方性などの求められる性能に応じて適宜調整する必要がある。

本発明の液晶組成物の総質量に対して、前記化合物の含有量は、例えば本発明の一つの実施形態としては１～５０質量％である。あるいは本発明の別の実施形態では前記含有量は５～５０質量％である。また、本発明の別の実施形態では前記含有量は８～５０質量％である。さらに、本発明の別の実施形態では前記含有量は１１～５０質量％である。さらに、本発明の別の実施形態では前記含有量は１３～５０質量％である。さらに、本発明の別の実施形態では前記含有量は１５～５０質量％である。さらに、本発明の別の実施形態では前記含有量は１７～５０質量％である。さらに、本発明の別の実施形態では前記含有量は２０～５０質量％である。さらに、本発明の別の実施形態では前記含有量は２５～５０質量％である。さらに、本発明の別の実施形態では前記含有量は３０～５０質量％である。さらに、本発明の別の実施形態では前記含有量は３５～５０質量％である。さらに、本発明の別の実施形態では前記含有量は４０～５０質量％である。

　さらに、本発明の液晶組成物の総質量に対して、前記化合物の含有量は、例えば本発明の一つの形態では１～５０％である。また、本発明の別の実施形態では前記含有量は１～４０％である。さらに、本発明の別の実施形態では前記含有量は１～３５％である。さらに、本発明の別の実施形態では前記含有量は１～３０％である。さらに、本発明の別の実施形態では前記含有量は１～２０％である。さらに、本発明の別の実施形態では前記含有量は１～１５％である。さらに、本発明の別の実施形態では前記含有量は１～１０％である。さらに、本発明の別の実施形態では前記含有量は１～５％である。

　さらに、一般式（Ｉ－５）で表される化合物は、式（６．１）から式（６．６）で表される化合物群から選ばれる化合物であることが好ましく、式（６．３）、式（６．４）および式（６．６）で表される化合物であることが好ましい。

　例えば、式（６．３）で表される化合物の含有量は、本発明の液晶組成物の総質量に対して２質量％以上３０質量％以下であることが好ましく、４質量％以上３０質量％以下であることがより好ましく、５質量％以上３０質量％以下であることがより好ましく、６質量％以上３０質量％以下であることがより好ましく、９質量％以上３０質量％以下であることがより好ましく、１０質量％以上３０質量％以下であることがより好ましい。

　本願発明の液晶組成物は、更に、式（６．７）～式（６．８）で表される化合物を含有することもできる。

　低温での溶解性、転移温度、電気的な信頼性、複屈折率などの求められる性能に応じて式（６．７）～式（６．８）であらわされる化合物の含有量を調整することが好ましく、この化合物を本発明の液晶組成物の総質量に対して２質量％以上含有することが好ましく、３質量％以上含有することがさらに好ましく、４質量％以上含有することがさらに好ましく、５質量％以上含有することがさらに好ましく、７質量％以上含有することが特に好ましい。

　さらに、一般式（Ｉ）で表される化合物は一般式（Ｉ－６）で表される化合物群から選ばれる化合物であることが好ましい。

（式中、Ｒ^１１およびＲ^１２はそれぞれ独立して炭素原子数１～５のアルキル基、炭素原子数４～５のアルケニル基または炭素原子数１～４のアルコキシ基を表し、Ｘ^１１およびＸ^１２はそれぞれ独立してフッ素原子または水素原子を表し、Ｘ^１１またはＸ^１２のどちらか一方はフッ素原子である。）

　一般式（Ｉ－６）で表される化合物の含有量は、本発明の液晶組成物の総質量に対して２質量％以上３０質量％以下であることが好ましく、４質量％以上３０質量％以下であることがより好ましく、５質量％以上３０質量％以下であることがより好ましく、６質量％以上３０質量％以下であることがより好ましく、９質量％以上３０質量％以下であることがより好ましく、１２質量％以上３０質量％以下であることがより好ましく、１４質量％以上３０質量％以下であることがより好ましく、１６質量％以上３０質量％以下であることがより好ましく、１８質量％以上２５質量％以下であることがより好ましく、２０質量％以上２４質量％以下であることがより好ましく、２２質量％以上２３質量％以下であることが特に好ましい。

　さらに、一般式（Ｉ－６）で表される化合物は、式（７．１）で表される化合物であることが好ましい。

　さらに、一般式（Ｉ）で表される化合物は一般式（Ｉ－７）で表される化合物群から選ばれる化合物であることが好ましい。

（式中、Ｒ^１１およびＲ^１２はそれぞれ独立して炭素原子数１～５のアルキル基、炭素原子数２～５のアルケニル基または炭素原子数１～４のアルコキシ基を表し、Ｘ^１２はそれぞれ独立してフッ素原子または塩素原子を表す。）

　一般式（Ｉ－７）で表される化合物の含有量は、本発明の液晶組成物の総質量に対して１質量％以上３０質量％以下であることが好ましく、２質量％以上３０質量％以下であることがより好ましく、３質量％以上３０質量％以下であることがより好ましく、４質量％以上３０質量％以下であることがより好ましく、６質量％以上３０質量％以下であることがより好ましく、８質量％以上３０質量％以下であることがより好ましく、１０質量％以上３０質量％以下であることがより好ましく、１２質量％以上３０質量％以下であることがより好ましく、１５質量％以上２５質量％以下であることがより好ましく、１８質量％以上２４質量％以下であることがより好ましく、２１質量％以上２２質量％以下であることが特に好ましい。

　さらに、一般式（Ｉ－７）で表される化合物は、式（８．１）で表される化合物であることが好ましい。

　さらに、一般式（Ｉ）で表される化合物は一般式（Ｉ－８）で表される化合物群から選ばれる化合物であることが好ましい。

（式中、Ｒ^１６およびＲ^１７はそれぞれ独立して炭素原子数２～５のアルケニル基を表す。）

　組み合わせることができる化合物の種類に特に制限は無いが、低温での溶解性、転移温度、電気的な信頼性、複屈折率などの求められる性能に応じて、１種類から３種類組み合わせることが好ましい。
　一般式（Ｉ－８）で表される化合物の含有量は、低温での溶解性、転移温度、電気的な信頼性、複屈折率、プロセス適合性、滴下痕、焼き付き、誘電率異方性などの求められる性能に応じて、本発明の液晶組成物の総質量に対して５質量％以上６５質量％以下であることが好ましく、１０質量％以上６５質量％以下であることがより好ましく、１５質量％以上６５質量％以下であることがより好ましく、２０質量％以上６５質量％以下であることがより好ましく、２５質量％以上６５質量％以下であることがより好ましく、３０質量％以上６５質量％以下であることがより好ましく、３５質量％以上６５質量％以下であることがより好ましく、４０質量％以上６５質量％以下であることがより好ましく、４５質量％以上６０質量％以下であることがより好ましく、５０質量％以上５８質量％以下であることがより好ましく、５５質量％以上５６質量％以下であることが特に好ましい。

　さらに、一般式（Ｉ－８）で表される化合物は、式（９．１）から式（９．１０）で表される化合物群から選ばれる化合物であることが好ましく、式（９．２）、式（９．４）および式（９．７）で表される化合物であることが好ましい。

　さらに、一般式（Ｌ）で表される化合物は、例えば一般式（ＩＩ）で表される化合物から選ばれる化合物であることが好ましい。

（Ｒ^２１およびＲ^２２はそれぞれ独立して炭素原子数２～５のアルケニル基、炭素原子数１～５のアルキル基または炭素原子数１～４のアルコキシ基を表し、Ａ^２は１，４－シクロヘキシレン基または１，４－フェニレン基を表し、Ｑ^２は単結合、－ＣＯＯ－、－ＣＨ_２－ＣＨ_２－または－ＣＦ_２Ｏ－を表す。）

　組み合わせることができる化合物の種類に特に制限は無いが、低温での溶解性、転移温度、電気的な信頼性、複屈折率などの求められる性能に応じて組み合わせる。使用する化合物の種類は、例えば本発明の一つの実施形態としては１種類である。あるいは本発明の別の実施形態では２種類である。また、本発明のさらに別の実施形態では３種類である。さらに、本発明の別の実施形態では４種類以上である。

　本発明の液晶組成物において、一般式（ＩＩ）で表される化合物の含有量は、低温での溶解性、転移温度、電気的な信頼性、複屈折率、プロセス適合性、滴下痕、焼き付き、誘電率異方性などの求められる性能に応じて適宜調整する必要がある。

本発明の液晶組成物の総質量に対して、前記化合物の含有量は、例えば本発明の一つの実施形態としては３～５０質量％である。あるいは本発明の別の実施形態では前記含有量は５～５０質量％である。また、本発明の別の実施形態では前記含有量は７～５０質量％である。さらに、本発明の別の実施形態では前記含有量は１０～５０質量％である。さらに、本発明の別の実施形態では前記含有量は１４～５０質量％である。さらに、本発明の別の実施形態では前記含有量は１６～５０質量％である。さらに、本発明の別の実施形態では前記含有量は２０～５０質量％である。さらに、本発明の別の実施形態では前記含有量は２３～５０質量％である。さらに、本発明の別の実施形態では前記含有量は２６～５０質量％である。さらに、本発明の別の実施形態では前記含有量は３０～５０質量％である。さらに、本発明の別の実施形態では前記含有量は３５～５０質量％である。さらに、本発明の別の実施形態では前記含有量は４０～５０質量％である。

　さらに、本発明の液晶組成物の総質量に対して、前記化合物の含有量は、例えば本発明の一つの形態では３～５０質量％である。また、本発明の別の実施形態では前記含有量は３～４０質量％である。さらに、本発明の別の実施形態では前記含有量は３～３５質量％である。さらに、本発明の別の実施形態では前記含有量は３～３０質量％である。さらに、本発明の別の実施形態では前記含有量は３～２０質量％である。さらに、本発明の別の実施形態では前記含有量は３～１５質量％である。さらに、本発明の別の実施形態では前記含有量は３～１０質量％である。さらに、本発明の別の実施形態では前記含有量は３～５質量％である。

　さらに、一般式（ＩＩ）で表される化合物は、例えば一般式（ＩＩ－１）で表される化合物群から選ばれる化合物であることが好ましい。

（Ｒ^２１およびＲ^２２はそれぞれ独立して炭素原子数２～５のアルケニル基、炭素原子数１～５のアルキル基または炭素原子数１～４のアルコキシ基を表す。）

　一般式（ＩＩ－１）で表される化合物の含有量は、低温での溶解性、転移温度、電気的な信頼性、複屈折率などの求められる性能に応じて調整することが好ましく、４質量％以上２４質量％以下が好ましく、８質量％以上１８質量％以下であることがより好ましく、１２質量％以上１４質量％以下であることが更に好ましい。

　さらに、一般式（ＩＩ－１）で表される化合物は、例えば式（１０．１）及び式（１０．２）で表される化合物であることが好ましく、式（１０．１）で表される化合物であることがより好ましい。

　式（１０．１）で表される化合物の含有量は、低温での溶解性、転移温度、電気的な信頼性、複屈折率などの求められる性能に応じて調整することが好ましく、４～２４質量％が好ましく、８～１８質量％がより好ましく、８～１４質量％が更に好ましい。

　さらに、一般式（ＩＩ）で表される化合物は、例えば一般式（ＩＩ－２）で表される化合物群から選ばれる化合物であることが好ましい。

（Ｒ^２３は炭素原子数２～５のアルケニル基を表し、Ｒ^２４は炭素原子数１～５のアルキル基または炭素原子数１～４のアルコキシ基を表す。）

　組み合わせることができる化合物の種類に特に制限は無いが、低温での溶解性、転移温度、電気的な信頼性、複屈折率などの求められる性能に応じて組み合わせる。使用する化合物の種類は、例えば本発明の一つの実施形態としては１種類である。あるいは本発明の別の実施形態では２種類以上である。

　本発明の液晶組成物において、一般式（ＩＩ－２）で表される化合物の含有量は、低温での溶解性、転移温度、電気的な信頼性、複屈折率、プロセス適合性、滴下痕、焼き付き、誘電率異方性などの求められる性能に応じて適宜調整する必要がある。

　さらに、一般式（ＩＩ－２）で表される化合物は、例えば式（１１．１）から式（１１．３）で表される化合物であることが好ましく、式（１１．１）で表される化合物であることがより好ましい。

　低温での溶解性、転移温度、電気的な信頼性、複屈折率などの求められる性能に応じて、式（１１．１）で表される化合物を含有していても、式（１１．２）で表される化合物を含有していても、式（１１．１）で表される化合物と式（１１．２）で表される化合物との両方を含有していても良いし、式（１１．１）から式（１１．３）で表される化合物を全て含んでいても良い。式（１１．１）または式（１１．２）で表される化合物の含有量は、本発明の液晶組成物の総質量に対して３質量％以上４０質量％以下であることが好ましく、５質量％以上３５質量％以下であることがより好ましく、５質量％以上３０質量％以下であることが更に好ましく、５質量％以上２５質量％以下であることが特に好ましく、５質量％以上２０質量％以下であることが最も好ましい。

また、式（１１．１）で表される化合物の含有量は、本発明の液晶組成物の総質量に対して３～４０質量％が好ましく、４～２０質量％がより好ましく、６～１５質量％が特に好ましい。

　さらに、一般式（ＩＩ）で表される化合物は、例えば一般式（ＩＩ－３）で表される化合物群から選ばれる化合物であることが好ましい。

（Ｒ^２５は炭素原子数１～５のアルキル基を表し、Ｒ^２４は炭素原子数１～５のアルキル基または炭素原子数１～４のアルコキシ基を表す。）

　組み合わせることができる化合物の種類に特に制限は無いが、低温での溶解性、転移温度、電気的な信頼性、複屈折率などの求められる性能に応じて、これらの化合物の中から１種～３種類含有することが好ましい。

　一般式（ＩＩ－３）で表される化合物の含有量は、低温での溶解性、転移温度、電気的な信頼性、複屈折率、プロセス適合性、滴下痕、焼き付き、誘電率異方性などの求められる性能に応じて適宜調整する必要がある。好ましい含有量として、例えば、本発明の液晶組成物の総質量に対して前記化合物の含有量が２～４５質量％が挙げられる。より好ましい含有量として、例えば、５～４５質量％、８～４５質量％、１１～４５質量％、１４～４５質量％、１７～４５質量％、２０～４５質量％、２３～４５質量％、２６～４５質量％、２９～４５質量％、或いは２～４５質量％、２～４０質量％、２～３５質量％、２～３０質量％、２～２５質量％、２～２０質量％、２～１５質量％、２～１０質量％が挙げられる。

　さらに、一般式（ＩＩ－３）で表される化合物は、例えば式（１２．１）から式（１２．３）で表される化合物であることが好ましい。

　低温での溶解性、転移温度、電気的な信頼性、複屈折率などの求められる性能に応じて、式（１２．１）で表される化合物を含有していても、式（１２．２）で表される化合物を含有していても、式（１２．１）で表される化合物と式（１２．２）で表される化合物との両方を含有していても良い。

式（１２．１）または式（１２．２）で表される化合物の含有量は、本発明の液晶組成物の総質量に対して３質量％以上４０質量％以下であることが好ましく、５質量％以上４０質量％以下であることがより好ましく、７質量％以上４０質量％以下であることがより好ましく、９質量％以上４０質量％以下であることがより好ましく、１１質量％以上４０質量％以下であることがより好ましく、１２質量％以上４０質量％以下であることがより好ましく、１３質量％以上４０質量％以下であることが更に好ましく、１８質量％以上３０質量％以下であることが更に好ましく、２１質量%以上２５質量％以下であることが特に好ましい。また、式（１２．２）で表される化合物の含有量は、本発明の液晶組成物の総質量に対して３質量％以上４０質量％以下であることが好ましく、５質量％以上４０質量％以下であることがより好ましく、８質量％以上４０質量％以下であることが更に好ましく、１０質量％以上４０質量％以下であることが更に好ましく、１２質量％以上４０質量％以下であることが更に好ましく、１５質量％以上４０質量％以下であることが更に好ましく、１７質量％以上３０質量％以下であることが更に好ましく、１９質量％以上２５質量％以下であることが特に好ましい。式（１２．１）で表される化合物と式（１２．２）で表される化合物との両方を含有する場合は、両方の化合物の合計質量が本発明の液晶組成物の総質量に対して１５質量％以上４５質量％以下であることが好ましく、１９質量％以上４５質量％以下であることがより好ましく、２４質量％以上４０質量％以下であることが更に好ましく、３０質量%以上３５質量％以下であることが特に好ましい。

　また、式（１２．３）で表される化合物の含有量は、本発明の液晶組成物の総質量に対して０．０５質量％以上２質量％以下であることが好ましく、０．１質量％以上１質量％以下であることがより好ましく、０．２質量％以上０．５質量％以下であることが更に好ましい。式（１２．３）で表される化合物は、光学活性化合物であってもよい。

　さらに、一般式（ＩＩ－３）で表される化合物は、例えば一般式（ＩＩ－３－１）で表される化合物群から選ばれる化合物であることが好ましい。

（Ｒ^２５は炭素原子数１～５のアルキル基を表し、Ｒ^２６は炭素原子数１～４のアルコキシ基を表す。）

　一般式（ＩＩ－３－１）で表される化合物の含有量は、低温での溶解性、転移温度、電気的な信頼性、複屈折率などの求められる性能に応じて調整することが好ましく、１質量％以上２４質量％以下が好ましく、４質量％以上１８質量％以下であることがより好ましく、８質量％以上１４質量％以下であることが更に好ましい。

　さらに、一般式（ＩＩ－３－１）で表される化合物は、例えば式（１３．１）から式（１３．４）で表される化合物であることが好ましく、特に、式（１３．３）で表される化合物であることが好ましい。

　さらに、一般式（ＩＩ）で表される化合物は、例えば一般式（ＩＩ－４）で表される化合物群から選ばれる化合物であることが好ましい。

これらの化合物のうち１種類だけを含有していても２種類以上含有していても良いが、求められる性能に応じて適宜組み合わせることが好ましい。組み合わせることができる化合物の種類に特に制限は無いが、低温での溶解性、転移温度、電気的な信頼性、複屈折率などの求められる性能に応じて、これらの化合物の中から１種～２種類含有することが好ましく、１種～３種類含有することが特に好ましい。

　一般式（ＩＩ－４）で表される化合物の含有量は、本発明の液晶組成物の総質量に対して１質量％以上１５質量％以下であることが好ましく、２質量％以上１５質量％以下であることがより好ましく、３質量％以上１５質量％以下であることがより好ましく、４質量％以上１２質量％以下であることがより好ましく、５質量％以上７質量％以下であることが特に好ましい。

　さらに、一般式（ＩＩ－４）で表される化合物は、例えば式（１４．１）から式（１４．５）で表される化合物であることが好ましく、特に、式（１４．２）または式（１４．５）で表される化合物であることが好ましい。

　さらに、一般式（Ｌ）で表される化合物は、一般式（ＩＩＩ）で表される化合物群から選ばれる化合物であることが好ましい。

（Ｒ^３１およびＲ^３２はそれぞれ独立して炭素原子数２～５のアルケニル基、炭素原子数１～５のアルキル基または炭素原子数１～４のアルコキシ基を表す。）

一般式（ＩＩＩ）で表される化合物の含有量は、求められる溶解性や複屈折率などを考慮して、本発明の液晶組成物の総質量に対して３質量%以上２５質量％以下含有することが好ましく、６質量%以上２０質量％以下含有することがより好ましく、８質量%以上１５質量％以下含有することが更に好ましい。

　さらに、一般式（ＩＩＩ）で表される化合物は、例えば式（１５．１）～式（１５．３）で表される化合物であることが好ましく、特に、式（１５．１）で表される化合物であることが好ましい。

式（１５．１）で表される化合物の含有量は、求められる溶解性や複屈折率などを考慮して、本発明の液晶組成物の総質量に対して１～２５質量％含有することが好ましく、２～１５質量％含有することがより好ましく、３～１０質量％含有することが更に好ましく、４～８質量％含有することが特に好ましい。

　さらに、一般式（ＩＩＩ）で表される化合物は、一般式（ＩＩＩ－１）で表される化合物群から選ばれる化合物であることが好ましい。

（Ｒ^３３は炭素原子数２～５のアルケニル基を表し、Ｒ^３２はそれぞれ独立して炭素原子数１～５のアルキル基または炭素原子数１～４のアルコキシ基を表す。）

　一般式（ＩＩＩ－１）で表される化合物は、低温での溶解性、転移温度、電気的な信頼性、複屈折率などの求められる性能に応じてその含有量を調整することが好ましく、４質量％以上２３質量％以下が好ましく、６質量％以上１８質量％以下であることがより好ましく、１０質量％以上１３質量％以下であることが更に好ましい。

　一般式（ＩＩＩ－１）で表される化合物は、たとえば式（１６．１）または式（１６．２）で表される化合物であることが好ましい。

　さらに、一般式（ＩＩＩ）で表される化合物は、一般式（ＩＩＩ－２）で表される化合物群から選ばれる化合物であることが好ましい。

（Ｒ^３１は炭素原子数１～５のアルキル基を表し、Ｒ^３４は炭素原子数１～４のアルコキシ基を表す。）

　一般式（ＩＩＩ－２）で表される化合物の含有量は、低温での溶解性、転移温度、電気的な信頼性、複屈折率などの求められる性能に応じて調整することが好ましく、４質量％以上２３質量％以下が好ましく、６質量％以上１８質量％以下であることがより好ましく、１０質量％以上１３質量％以下であることが更に好ましい。

　さらに、一般式（ＩＩＩ－２）で表される化合物は、たとえば式（１７．１）から式（１７．３）で表される化合物群から選ばれる化合物であることが好ましく、特に式（１７．３）で表される化合物であることが好ましい。

　さらに、一般式（Ｌ）で表される化合物は、一般式（Ｖ）で表される群より選ばれる化合物であることが好ましい。

（式中、Ｒ^５１およびＲ^５２はそれぞれ独立して炭素原子数１～５のアルキル基、炭素原子数２～５のアルケニルまたは炭素原子数１～４のアルコキシ基を表し、Ａ^５１およびＡ^５２はそれぞれ独立して１，４－シクロヘキシレン基または１，４－フェニレン基を表し、Ｑ^５は単結合または－ＣＯＯ－を表し、Ｘ^５１およびＸ^５２はそれぞれ独立してフッ素原子または水素原子を表す。）

　組み合わせることができる化合物の種類に特に制限は無いが、低温での溶解性、転移温度、電気的な信頼性、複屈折率などの求められる性能に応じて組み合わせる。使用する化合物の種類は、例えば本発明の一つの実施形態としては１種類である。あるいは本発明の別の実施形態では２種類である。さらに、本発明の別の実施形態では３種類である。さらに、本発明の別の実施形態では４種類である。

　本発明の液晶組成物の総質量に対して、前記化合物の含有量は、例えば一つの実施形態では２～４０質量％である。さらに、本発明の別の実施形態では前記含有量は４～４０質量％である。さらに、本発明の別の実施形態では前記含有量は７～４０質量％である。さらに、本発明の別の実施形態では前記含有量は１０～４０質量％である。さらに、本発明の別の実施形態では前記含有量は１２～４０質量％である。さらに、本発明の別の実施形態では前記含有量は１５～４０質量％である。さらに、本発明の別の実施形態では前記含有量は１７～４０質量％である。さらに、本発明の別の実施形態では前記含有量は１８～４０質量％である。さらに、本発明の別の実施形態では前記含有量は２０～４０質量％である。さらに、本発明の別の実施形態では前記含有量は２２～４０質量％である。

　また、たとえば、本発明の一つの実施形態では、本発明の液晶組成物の総質量に対して、前記化合物の含有量は２～４０質量％である。さらに、本発明の別の実施形態では前記化合物の含有量は２～３０質量％である。さらに、本発明の別の実施形態では前記化合物の含有量は２～２５質量％である。さらに、本発明の別の実施形態では前記化合物の含有量は２～２０質量％である。さらに、本発明の別の実施形態では前記化合物の含有量は２～１５質量％である。さらに、本発明の別の実施形態では前記化合物の含有量は２～１０質量％である。さらに、本発明の別の実施形態では前記化合物の含有量は２～５質量％である。さらに、本発明の別の実施形態では前記化合物の含有量は２～４質量％である。

　さらに、一般式（Ｖ）で表される化合物は一般式（Ｖ－１）で表される化合物であることが好ましい。

（式中、Ｒ^５１およびＲ^５２はそれぞれ独立して炭素原子数１～５のアルキル基、炭素原子数２～５のアルケニル又は炭素原子数１～４のアルコキシ基を表し、Ｘ^５１およびＸ^５２はそれぞれ独立してフッ素原子または水素原子を表す。）

　さらに、一般式（Ｖ－１）で表される化合物は一般式（Ｖ－１－１）で表される化合物であることが好ましい。

（式中、Ｒ^５１およびＲ^５２はそれぞれ独立して炭素原子数１～５のアルキル基、炭素原子数２～５のアルケニル又は炭素原子数１～４のアルコキシ基を表す。）

　一般式（Ｖ－１－１）で表される化合物を、本発明の液晶組成物の総質量に対して１質量%以上１５質量％以下含有することが好ましく、２質量%以上１５質量％以下含有することが更に好ましく、３質量％以上１０質量％以下含有することが更に好ましい。

　さらに、一般式（Ｖ－１－１）で表される化合物は、式（２０．１）から式（２０．４）で表される化合物であることが好ましく、式（２０．２）で表される化合物であることが好ましい。

本発明の液晶組成物において、式（２０．２）で表される化合物の含有量は、低温での溶解性、転移温度、電気的な信頼性などを考慮して、本発明の液晶組成物の総質量に対して１～２０質量％が好ましく、２～１０質量％がより好ましく、３～６質量％が特に好ましい。

　さらに、一般式（Ｖ－１）で表される化合物は一般式（Ｖ－１－２）で表される化合物であることが好ましい。

　一般式（Ｖ－１－２）で表される化合物を、本発明の液晶組成物の総質量に対して１質量%以上１５質量％以下含有することが好ましく、２質量%以上１５質量％以下含有することが更に好ましく、３質量％以上１０質量％以下含有することが更に好ましい。

　さらに、一般式（Ｖ－１－２）で表される化合物は、式（２１．１）から式（２１．３）で表される化合物であることが好ましく、式（２１．１）で表される化合物であることが好ましい。

　さらに、一般式（Ｖ－１）で表される化合物は一般式（Ｖ－１－３）で表される化合物であることが好ましい。

　一般式（Ｖ－１－３）で表される化合物を、本発明の液晶組成物の総質量に対して１質量％以上含有することが好ましく、２質量％以上含有することが更に好ましく、３質量％以上含有することが更に好ましく、４質量％以上含有することが特に好ましい。また、最大に含有できる比率としては、１５質量％以下が好ましく、１０質量％以下がより好ましく、８質量％以下がさらに好ましい。

　さらに、一般式（Ｖ－１－３）で表される化合物は、式（２２．１）から式（２２．３）で表される化合物である。式（２２．１）で表される化合物であることが好ましい。

　さらに、一般式（Ｖ）で表される化合物は一般式（Ｖ－２）で表される化合物であることが好ましい。

　本発明の液晶組成物の総質量に対して、前記化合物の含有量は、例えば一つの実施形態では２～４０質量％である。さらに、本発明の別の実施形態では前記化合物の含有量は４～４０質量％である。さらに、本発明の別の実施形態では前記化合物の含有量は７～４０質量％である。さらに、本発明の別の実施形態では前記化合物の含有量は１０～４０質量％である。さらに、本発明の別の実施形態では前記化合物の含有量は１２～４０質量％である。さらに、本発明の別の実施形態では前記化合物の含有量は１５～４０質量％である。さらに、本発明の別の実施形態では前記化合物の含有量は１７～４０質量％である。さらに、本発明の別の実施形態では前記化合物の含有量は１８～４０質量％である。さらに、本発明の別の実施形態では前記化合物の含有量は２０～４０質量％である。さらに、本発明の別の実施形態では前記化合物の含有量は２２～４０質量％である。

　本発明の液晶組成物が高いＴｎｉの実施形態が望まれる場合は式（Ｖ－２）で表される化合物の含有量を多めにすることが好ましく、低粘度の実施形態が望まれる場合は含有量を少なめにすることが好ましい。

　さらに、一般式（Ｖ－２）で表される化合物は一般式（Ｖ－２－１）で表される化合物であることが好ましい。

　さらに、一般式（Ｖ－２－１）で表される化合物は、式（２３．１）から式（２３．４）で表される化合物であることが好ましく、式（２３．１）または／および式（２３．２）で表される化合物であることが好ましい。

　さらに、一般式（Ｖ－２）で表される化合物は一般式（Ｖ－２－２）で表される化合物であることが好ましい。

　さらに、一般式（Ｖ－２－２）で表される化合物は、式（２４．１）から式（２４．４）で表される化合物であることが好ましく、式（２４．１）または式（２４．２）で表される化合物であることが好ましい。

　さらに、一般式（Ｖ）で表される化合物は一般式（Ｖ－３）で表される化合物であることが好ましい。

　組み合わせることができる化合物の種類に特に制限は無いが、低温での溶解性、転移温度、電気的な信頼性、複屈折率などの求められる性能に応じて組み合わせる。使用する化合物の種類は、例えば本発明の一つの実施形態としては１種類である。あるいは本発明の別の実施形態では２種類である。さらに、本発明の別の実施形態では３種類以上である。

　一般式（Ｖ－３）で表される化合物を、本発明の液晶組成物の総質量に対して２質量%以上１６質量％以下含有することが好ましく、４質量%以上１６質量％以下含有することが更に好ましく、７質量％以上１３質量％以下含有することが更に好ましく、８質量％以上１１質量％以下含有することが特に好ましい。

　さらに、一般式（Ｖ－３）で表される化合物は、式（２５．１）から式（２５．３）で表される化合物であることが好ましい。

　本発明の液晶組成物は、一般式（Ｍ）で表される化合物を含有することも好ましい。

（式中、Ｒ^Ｍ１は炭素原子数１～８のアルキル基を表し、該アルキル基中の１個又は非隣接の２個以上の－ＣＨ_２－はそれぞれ独立して－ＣＨ＝ＣＨ－、－Ｃ≡Ｃ－、－Ｏ－、－ＣＯ－、－ＣＯＯ－又は－ＯＣＯ－によって置換されていてもよく、
　ＰＭは、０、１、２、３又は４を表し、
　Ｃ^Ｍ１及びＣ^Ｍ２はそれぞれ独立して、
（ｄ）　１，４－シクロヘキシレン基（この基中に存在する１個の－ＣＨ_２－又は隣接していない２個以上の－ＣＨ_２－は－Ｏ－又は－Ｓ－に置き換えられてもよい。）及び
（ｅ）　１，４－フェニレン基（この基中に存在する１個の－ＣＨ＝又は隣接していない２個以上の－ＣＨ＝は－Ｎ＝に置き換えられてもよい。）
からなる群より選ばれる基を表し、上記の基（ｄ）、基（ｅ）中の１個又は２個以上の水素原子はそれぞれ独立してシアノ基、フッ素原子又は塩素原子で置換されていても良く、
　Ｋ^Ｍ１及びＫ^Ｍ２はそれぞれ独立して単結合、－ＣＨ_２ＣＨ_２－、－（ＣＨ_２）_４－、－ＯＣＨ_２－、－ＣＨ_２Ｏ－、－ＯＣＦ_２－、－ＣＦ_２Ｏ－、－ＣＯＯ－、－ＯＣＯ－又は－Ｃ≡Ｃ－を表し、
　ＰＭが２、３又は４であってＫ^Ｍ１が複数存在する場合は、それらは同一であっても異なっていても良く、ＰＭが２、３又は４であってＣ^Ｍ２が複数存在する場合は、それらは同一であっても異なっていても良く、
　Ｘ^Ｍ１及びＸ^Ｍ３はそれぞれ独立して水素原子、塩素原子又はフッ素原子を表し、
　Ｘ^Ｍ２は、水素原子、フッ素原子、塩素原子、シアノ基、トリフルオロメチル基、フルオロメトキシ基、ジフルオロメトキシ基、トリフルオロメトキシ基又は２，２，２－トリフルオロエチル基を表す。ただし、一般式（ｉｉ）で表される化合物を除く。）

　組み合わせることができる化合物の種類に特に制限は無いが、低温での溶解性、転移温度、電気的な信頼性、複屈折率などの所望の性能に応じて組み合わせて使用する。使用する化合物の種類は、例えば本発明の一つの実施形態としては１種類である。あるいは本発明の別の実施形態では２種類である。さらに、本発明の別の実施形態では３種類である。またさらに、本発明の別の実施形態では４種類である。さらに、本発明の別の実施形態では５種類である。さらに、本発明の別の実施形態では６種類である。さらに、本発明の別の実施形態では７種類以上である。

　本発明の液晶組成物において、一般式（Ｍ）で表される化合物の含有量は、低温での溶解性、転移温度、電気的な信頼性、複屈折率、プロセス適合性、滴下痕、焼き付き、誘電率異方性などの求められる性能に応じて適宜調整する必要がある。

　本発明の液晶組成物の総質量に対して、前記化合物の含有量は、例えば本発明の一つの実施形態としては１～９５質量％である。さらに、例えば本発明の別の実施形態としては前記化合物の含有量は１０～９５質量％である。例えば、本発明のさらに別の実施形態としては前記化合物の含有量は２０～９５質量％である。例えば本発明のさらに別の実施形態としては前記化合物の含有量は３０～９５質量％である。例えば本発明のさらに別の実施形態としては前記化合物の含有量は４０～９５質量％である。例えば本発明のさらに別の実施形態としては前記化合物の含有量は４５～９５質量％である。例えば本発明のさらに別の実施形態としては前記化合物の含有量は５０～９５質量％である。例えば本発明のさらに別の実施形態としては前記化合物の含有量は５５～９５質量％である。例えば本発明のさらに別の実施形態としては前記化合物の含有量は６０～９５質量％である。例えば本発明のさらに別の実施形態としては前記化合物の含有量は６５～９５質量％である。例えば本発明のさらに別の実施形態としては前記化合物の含有量は７０～９５質量％である。例えば本発明のさらに別の実施形態としては前記化合物の含有量は７５～９５質量％である。例えば本発明のさらに別の実施形態としては前記化合物の含有量は８０～９５質量％である。

　また、本発明の液晶組成物の総質量に対して、前記化合物の含有量は、例えば本発明の一つの実施形態としては１～９５質量％である。さらに、本発明の別の実施形態としては前記化合物の含有量は１～８５質量％である。本発明のさらに別の実施形態としては前記化合物の含有量は１～７５質量％である。本発明のさらに別の実施形態として前記化合物の含有量は１～６５質量％である。本発明のさらに別の実施形態として前記化合物の含有量は１～５５質量％である。本発明のさらに別の実施形態として前記化合物の含有量は１～４５質量％である。本発明のさらに別の実施形態として前記化合物の含有量は１～３５質量％である。本発明のさらに別の実施形態として前記化合物の含有量は１～２５質量％である。

　本発明の液晶組成物の粘度を低く保ち、応答速度が速い液晶組成物が必要な場合は上記の下限値を低めに、上限値を低めにすることが好ましい。さらに、本発明の液晶組成物のＴｎｉを高く保ち、温度安定性の良い液晶組成物が必要な場合は上記の下限値を低めに、上限値を低めにすることが好ましい。また、駆動電圧を低く保つために誘電率異方性を大きくしたいときは、上記の下限値を高めに、上限値を高めにすることが好ましい。

　Ｒ^Ｍ１は、それが結合する環構造がフェニル基（芳香族）である場合には、直鎖状の炭素原子数１～５のアルキル基、直鎖状の炭素原子数１～４のアルコキシ基及び炭素原子数４～５のアルケニル基が好ましく、それが結合する環構造がシクロヘキサン、ピラン及びジオキサンなどの飽和した環構造の場合には、直鎖状の炭素原子数１～５のアルキル基、直鎖状の炭素原子数１～４のアルコキシ基及び直鎖状の炭素原子数２～５のアルケニル基が好ましい。

一般式（Ｍ）で表される化合物は液晶組成物の化学的な安定性が求められる場合には塩素原子をその分子内に有さないことが好ましい。更に液晶組成物内に塩素原子を有する化合物が５％以下であることが好ましく、３％以下であることが好ましく、１％以下であることが好ましく、０．５％以下であることが好ましく、実質的に含有しないことが好ましい。実質的に含有しないとは、化合物製造時の不純物として生成した化合物等の意図せず塩素原子を含む化合物のみが液晶組成物に混入することを意味する。

　一般式（Ｍ）で表される化合物は、例えば一般式（ＶＩＩＩ）で表される化合物群から選ばれる化合物であることが好ましい。

（式中、Ｒ^８は炭素原子数１～５のアルキル基、炭素原子数２～５のアルケニル基または炭素原子数１～４のアルコキシ基を表し、Ｘ^８１からＸ^８５はそれぞれ独立して水素原子またはフッ素原子を表し、Ｙ^８はフッ素原子または－ＯＣＦ_３を表す。）

　組み合わせることができる化合物の種類に特に制限は無いが、低温での溶解性、転移温度、電気的な信頼性、複屈折率などの所望の性能に応じて組み合わせて使用する。使用する化合物の種類は、例えば本発明の一つの実施形態としては１種類である。あるいは本発明の別の実施形態では２種類である。さらに、本発明の別の実施形態では３種類以上である。

　本発明の液晶組成物において、一般式（ＶＩＩＩ）で表される化合物の含有量は、低温での溶解性、転移温度、電気的な信頼性、複屈折率、プロセス適合性、滴下痕、焼き付き、誘電率異方性などの求められる性能に応じて適宜調整する必要がある。

　本発明の液晶組成物の総質量に対して、前記化合物の含有量は、例えば本発明の一つの実施形態としては２～４０質量％である。さらに、例えば本発明の別の実施形態としては前記化合物の含有量は４～４０質量％である。例えば、本発明のさらに別の実施形態としては前記化合物の含有量は５～４０質量％である。例えば本発明のさらに別の実施形態としては前記化合物の含有量は６～４０質量％である。例えば本発明のさらに別の実施形態としては前記化合物の含有量は７～４０質量％である。例えば本発明のさらに別の実施形態としては前記化合物の含有量は８～４０質量％である。例えば本発明のさらに別の実施形態としては前記化合物の含有量は９～４０質量％である。例えば、本発明のさらに別の実施形態としては前記化合物の含有量は１０～４０質量％である。例えば本発明のさらに別の実施形態としては前記化合物の含有量は１１～４０質量％である。例えば本発明のさらに別の実施形態としては前記化合物の含有量は１２～４０質量％である。例えば本発明のさらに別の実施形態としては前記化合物の含有量は１４～４０質量％である。例えば本発明のさらに別の実施形態としては前記化合物の含有量は１５～４０質量％である。例えば、本発明のさらに別の実施形態としては前記化合物の含有量は２１～４０質量％である。例えば、本発明のさらに別の実施形態としては前記化合物の含有量は２３～４０質量％である。

　また、本発明の液晶組成物の総質量に対して、前記化合物の含有量は、例えば本発明の一つの実施形態としては２～４０質量％である。さらに、本発明の別の実施形態としては前記化合物の含有量は２～３０質量％である。本発明のさらに別の実施形態としては前記化合物の含有量は２～２５質量％である。本発明のさらに別の実施形態として前記化合物の含有量は２～２１質量％である。本発明のさらに別の実施形態として前記化合物の含有量は２～１６質量％である。本発明のさらに別の実施形態として前記化合物の含有量は２～１２質量％である。本発明のさらに別の実施形態として前記化合物の含有量は２～８質量％である。本発明のさらに別の実施形態として前記化合物の含有量は２～５質量％である。

さらに、一般式（ＶＩＩＩ）で表される化合物は、一般式（ＶＩＩＩ－１）で表される化合物であることが好ましい。

（式中、Ｒ^８は炭素原子数１～５のアルキル基、炭素原子数２～５のアルケニル基または炭素原子数１～４のアルコキシ基を表す。）

組み合わせることができる化合物の種類に特に制限は無いが、低温での溶解性、転移温度、電気的な信頼性、複屈折率などの所望の性能に応じて組み合わせて使用する。使用する化合物の種類は、例えば本発明の一つの実施形態としては１種類である。あるいは本発明の別の実施形態では２種類以上である。

さらに、一般式（ＶＩＩＩ－１）で表される化合物は、具体的には式（２６．１）から式（２６．４）で表される化合物であることが好ましく、式（２６．１）または式（２６．２）で表される化合物が好ましい。

　式（２６．１）で表される化合物の含有量は、低温での溶解性、転移温度、電気的な信頼性、複屈折率などを考慮して、本発明の液晶組成物の総質量に対して２～３０質量％であることが好ましく、３～２０質量％がより好ましく、３～１０質量％がより好ましく、３～７質量％が特に好ましい。

　式（２６．２）で表される化合物の含有量は、低温での溶解性、転移温度、電気的な信頼性、複屈折率などを考慮して、本発明の液晶組成物の総質量に対して１～３０質量％であることが好ましく、２～２０質量がより好ましく、２～１０質量％がより好ましく、２～６質量％が特に好ましい。

さらに、一般式（ＶＩＩＩ）で表される化合物は、一般式（ＶＩＩＩ－２）で表される化合物であることが好ましい。

組み合わせることができる化合物の種類に特に制限は無いが、低温での溶解性、転移温度、電気的な信頼性、複屈折率などの所望の性能に応じて組み合わせて使用する。使用する化合物の種類は、例えば本発明の一つの実施形態としては１種類である。あるいは本発明の別の実施形態では２種類である。あるいは、本発明のさらに別の実施形態では３種類以上である。

一般式（ＶＩＩＩ－２）表される化合物の含有量は、低温での溶解性、転移温度、電気的な信頼性、複屈折率などを考慮して、２．５質量％以上２５質量％以下であることが好ましく、８質量％以上２５質量％以下であることが好ましく、１０質量％２０質量％以下であることがより好ましく、１２質量％以上１５質量％以下であることがさらに好ましい。

さらに、一般式（ＶＩＩＩ－２）で表される化合物は、式（２７．１）から式（２７．４）で表される化合物であることが好ましく、式（２７．２）で表される化合物であることが好ましい。

さらに、一般式（Ｍ）で表される化合物は、一般式（ＶＩＩＩ－３）で表される化合物であることが好ましい。

　さらに、一般式（ＶＩＩＩ－３）で表される化合物は、具体的には式（２６．１１）から式（２６．１４）で表される化合物であることが好ましく、式（２６．１１）または式（２６．１２）で表される化合物が好ましく、式（２６．１２）で表される化合物がさらに好ましい。

　また、一般式（Ｍ）で表される化合物は、例えば一般式（ＩＸ）で表される化合物群から選ばれる化合物であることが好ましい。

（式中、Ｒ^９は炭素原子数１～５のアルキル基、炭素原子数２～５のアルケニル基または炭素原子数１～４のアルコキシ基を表し、Ｘ^９１およびＸ^９２はそれぞれ独立して水素原子またはフッ素原子を表し、Ｙ^９はフッ素原子、塩素原子または－ＯＣＦ_３を表し、Ｕ^９は単結合、－ＣＯＯ－または－ＣＦ_２Ｏ－を表す。）

　組み合わせることができる化合物の種類に特に制限は無いが、低温での溶解性、転移温度、電気的な信頼性、複屈折率などの所望の性能に応じて組み合わせて使用する。使用する化合物の種類は、例えば本発明の一つの実施形態としては１種類である。あるいは本発明の別の実施形態では２種類である。さらに、本発明の別の実施形態では３種類である。またさらに、本発明の別の実施形態では４種類である。さらに、本発明の別の実施形態では５種類である。さらに、本発明の別の実施形態では６種類以上である。

　本発明の液晶組成物において、一般式（ＩＸ）で表される化合物の含有量は、低温での溶解性、転移温度、電気的な信頼性、複屈折率、プロセス適合性、滴下痕、焼き付き、誘電率異方性などの求められる性能に応じて適宜調整する必要がある。

　本発明の液晶組成物の総質量に対して、前記化合物の含有量は、例えば本発明の一つの実施形態としては３～７０質量％である。さらに、例えば本発明の別の実施形態としては前記化合物の含有量は５～７０質量％である。例えば、本発明のさらに別の実施形態としては前記化合物の含有量は８～７０質量％である。例えば本発明のさらに別の実施形態としては前記化合物の含有量は１０～７０質量％である。例えば本発明のさらに別の実施形態としては前記化合物の含有量は１２～７０質量％である。例えば本発明のさらに別の実施形態としては前記化合物の含有量は１５～７０質量％である。例えば本発明のさらに別の実施形態としては前記化合物の含有量は１７～７０質量％である。例えば本発明のさらに別の実施形態としては前記化合物の含有量は２０～７０質量％である。例えば本発明のさらに別の実施形態としては前記化合物の含有量は２４～７０質量％である。例えば本発明のさらに別の実施形態としては前記化合物の含有量は２８～７０質量％である。例えば本発明のさらに別の実施形態としては前記化合物の含有量は３０～７０質量％である。例えば本発明のさらに別の実施形態としては前記化合物の含有量は３４～７０質量％である。例えば本発明のさらに別の実施形態としては前記化合物の含有量は３９～７０質量％である。例えば本発明のさらに別の実施形態としては前記化合物の含有量は４０～７０質量％である。例えば本発明のさらに別の実施形態としては前記化合物の含有量は４２～７０質量％である。例えば本発明のさらに別の実施形態としては前記化合物の含有量は４５～７０質量％である。

　また、本発明の液晶組成物の総質量に対して、前記化合物の含有量は、例えば本発明の一つの実施形態としては３～７０質量％である。さらに、本発明の別の実施形態としては前記化合物の含有量は３～６０質量％である。本発明のさらに別の実施形態としては前記化合物の含有量は３～５５質量％である。本発明のさらに別の実施形態として前記化合物の含有量は３～５０質量％である。本発明のさらに別の実施形態として前記化合物の含有量は３～４５質量％である。本発明のさらに別の実施形態として前記化合物の含有量は３～４０質量％である。本発明のさらに別の実施形態として前記化合物の含有量は３～３５質量％である。本発明のさらに別の実施形態として前記化合物の含有量は３～３０質量％である。本発明のさらに別の実施形態として２５質量％である。本発明のさらに別の実施形態として前記化合物の含有量は３～２０質量％である。本発明のさらに別の実施形態として前記化合物の含有量は３～１５質量％である。本発明のさらに別の実施形態として前記化合物の含有量は３～１０質量％である。

　本発明の液晶組成物の粘度を低く保ち、応答速度が速い液晶組成物が必要な場合は上記の下限値を低めに、上限値を低めにすることが好ましい。さらに、本発明の液晶組成物のＴｎｉを高く保ち、焼きつきの発生しにくい液晶組成物が必要な場合は上記の下限値を低めに、上限値を低めにすることが好ましい。また、駆動電圧を低く保つために誘電率異方性を大きくしたいときは、上記の下限値を高めに、上限値を高めにすることが好ましい。

　さらに、一般式（ＩＸ）で表される化合物は、一般式（ＩＸ－１）で表される化合物であることが好ましい。

（式中、Ｒ^９は炭素原子数１～５のアルキル基、炭素原子数２～５のアルケニル基または炭素原子数１～４のアルコキシ基を表し、Ｘ^９２は水素原子またはフッ素原子を表し、Ｙ^９はフッ素原子または－ＯＣＦ_３を表す。）

　組み合わせることができる化合物の種類に特に制限は無いが、低温での溶解性、転移温度、電気的な信頼性、複屈折率などの所望の性能に応じて組み合わせて使用する。使用する化合物の種類は、例えば本発明の一つの実施形態としては１種類である。あるいは本発明の別の実施形態では２種類である。さらに、本発明の別の実施形態では３種類である。またさらに、本発明の別の実施形態では４種類以上である。

　さらに、一般式（ＩＸ－１）で表される化合物は、一般式（ＩＸ－１－１）で表される化合物であることが好ましい。

（式中、Ｒ^９は炭素原子数１～５のアルキル基、炭素原子数２～５のアルケニル基または炭素原子数１～４のアルコキシ基を表す。）

　一般式（ＩＸ－１－１）で表される化合物の含有量は、低温での溶解性、転移温度、電気的な信頼性、複屈折率などを考慮して実施形態に応じて好ましい上限値と下限値がある。

たとえば、本発明の液晶組成物の総質量に対して前記化合物の含有量は、一つの実施形態では１～４０質量％、別の実施形態では２～４０質量％、更に別の実施形態では４～４０質量％、また更に別の実施形態では１０～４０質量％、また更に別の実施形態では１４～４０質量％、また更に別の実施形態では１６～４０質量％である。

　また、例えば、本発明の液晶組成物の総質量に対して、前記化合物の含有量は、一つの実施形態では１～４０質量％、別の実施形態では１～３５質量％、更に別の実施形態では１～３０質量％、また更に別の実施形態では１～２５質量％、である。

　さらに、一般式（ＩＸ－１－１）で表される化合物は、式（２８．１）から式（２８．５）で表される化合物であることが好ましく、式（２８．３）または式（２８．５）で表される化合物であることが好ましい。

　本発明の液晶組成物において、式（２８．３）で表される化合物の含有量は、低温での溶解性、転移温度、電気的な信頼性などを考慮して、本発明の液晶組成物の総質量に対して１質量％以上３０質量％以下であることが好ましい。前記含有量のより好ましい例として、２質量％以上２０質量％以下、２質量％以上１５質量％以下、２質量％以上１２質量％以下、２質量％以上９質量％以下、或いは、４質量％以上２０質量％以下、６質量％以上２０質量％以下、８質量％以上２０質量％以下、が挙げられる。

　本発明の液晶組成物において、式（２８．５）で表される化合物の含有量は、低温での溶解性、転移温度、電気的な信頼性などを考慮して、本発明の液晶組成物の総質量に対して３質量％以上２５質量％以下であることが好ましく、３質量％以上２０質量％以下がより好ましく、３質量％以上１５質量％以下がさらに好ましく、３質量％以上１０質量％以下が特に好ましい。

　一般式（ＩＸ－１）で表される化合物は、一般式（ＩＸ－１－２）で表される化合物であることが好ましい。

　組み合わせることのできる化合物の種類に制限は無いが、低温での溶解性、転移温度、電気的な信頼性、複屈折率などを考慮して１種から３種類組み合わせることが好ましく、１種から４種類組み合わせることがより好ましい。

　一般式（ＩＸ－１－２）で表される化合物の含有量は、低温での溶解性、転移温度、電気的な信頼性などを考慮して、本発明の液晶組成物の総質量に対して１質量％以上３０質量％以下であることが好ましく、５質量％以上３０質量％以下がより好ましく、８質量％以上３０質量％以下がさらに好ましく、１０質量％以上２５質量％以下がさらに好ましく、１４質量％以上２２質量％以下がさらに好ましく、１６質量％以上２０質量％以下が特に好ましい。

　さらに、一般式（ＩＸ－１－２）で表される化合物は、式（２９．１）から式（２９．４）で表される化合物であることが好ましく、式（２９．２）または式（２９．４）で表される化合物であることが好ましい。

　さらに、一般式（ＩＸ）で表される化合物は、一般式（ＩＸ－２）で表される化合物であることが好ましい。

（式中、Ｒ^９は炭素原子数１～５のアルキル基、炭素原子数２～５のアルケニル基または炭素原子数１～４のアルコキシ基を表し、Ｘ^９１およびＸ^９２はそれぞれ独立して水素原子またはフッ素原子を表し、Ｙ^９はフッ素原子、塩素原子または－ＯＣＦ_３を表す。）

　組み合わせることのできる化合物の種類に制限は無いが、低温での溶解性、転移温度、電気的な信頼性、複屈折率などを考慮して、実施形態ごとに適宜組み合わせて使用する。例えば、本発明の一つの実施形態では１種類、別の実施形態では２種類、さらに別の実施形態では３種類、またさらに別の実施形態では４種類、またさらに別の実施形態では５種類、またさらに別の実施形態では６種類以上組み合わせる。

　さらに、一般式（ＩＸ－２）で表される化合物は、一般式（ＩＸ－２－１）で表される化合物であることが好ましい。

　組み合わせることのできる化合物の種類に制限は無いが、低温での溶解性、転移温度、電気的な信頼性、複屈折率などを考慮して１種から３種類組み合わせることが好ましい。

　一般式（ＩＸ－２－１）で表される化合物の含有量は、低温での溶解性、転移温度、電気的な信頼性、複屈折率などの特性を考慮して実施形態ごとに好ましい上限値と下限値がある。

例えば、本発明の一つの実施形態では、本発明の液晶組成物の総質量に対して、前記化合物の含有量は１～４０質量％。別の実施形態では前記化合物の含有量は２～４０質量％、更に別の実施形態では前記化合物の含有量は４～４０質量％、また更に別の実施形態では前記化合物の含有量は１０～４０質量％、また更に別の実施形態では前記化合物の含有量は１４～４０質量％、また更に別の実施形態では前記化合物の含有量は１６～４０質量％、また更に別の実施形態では前記化合物の含有量は２１～４０質量％である。

また、例えば、前記総質量に対して、本発明の一つの実施形態では前記化合物の含有量は１～４０質量％、別の実施形態では前記化合物の含有量は１～３５質量％、更に別の実施形態では前記化合物の含有量は１～３０質量％、また更に別の実施形態では前記化合物の含有量は１～２５質量％、また更に別の実施形態では前記化合物の含有量は１～２２質量％、また更に別の実施形態では前記化合物の含有量は１～２０質量％、また更に別の実施形態では前記化合物の含有量は１～１０質量％、また更に別の実施形態では前記化合物の含有量は１～７質量％、また更に別の実施形態では前記化合物の含有量は１～５質量％である。

　さらに、一般式（ＩＸ－２－１）で表される化合物は、式（３０．１）から式（３０．４）で表される化合物であることが好ましく、式（３０．１）から式（３０．２）で表される化合物であることが好ましい。

　さらに、一般式（ＩＸ－２）で表される化合物は、一般式（ＩＸ－２－２）で表される化合物であることが好ましい。

　一般式（ＩＸ－２－２）で表される化合物の含有量は、低温での溶解性、転移温度、電気的な信頼性、複屈折率などの特性を考慮して実施形態ごとに上限値と下限値がある。たとえば、本発明の一つの実施形態では本発明の液晶組成物の総質量に対して、前記化合物の含有量は１～４０質量％、別の実施形態では前記化合物の含有量は２～４０質量％、である。

また、例えば、前記総質量に対して、本発明の一つの実施形態では前記化合物の含有量は１～４０質量％、別の実施形態では前記化合物の含有量は１～３５質量％、更に別の実施形態では前記化合物の含有量は１～３０質量％、また更に別の実施形態では前記化合物の含有量は１～２５質量％、また更に別の実施形態では前記化合物の含有量は１～２２質量％、また更に別の実施形態では前記化合物の含有量は１～１５質量％、また更に別の実施形態では前記化合物の含有量は１～１２質量％、である。

　さらに、一般式（ＩＸ－２－２）で表される化合物は、式（３１．１）から式（３１．４）で表される化合物であることが好ましく、式（３１．２）から式（３１．４）で表される化合物であることがより好ましく、式（３１．２）で表される化合物であることが更に好ましい。

　さらに、一般式（ＩＸ－２）で表される化合物は、一般式（ＩＸ－２－３）で表される化合物であることが好ましい。

　組み合わせることのできる化合物の種類に制限は無いが、低温での溶解性、転移温度、電気的な信頼性、複屈折率などを考慮して１種から２種類組み合わせることが好ましい。

　一般式（ＩＸ－２－３）で表される化合物の含有量は、低温での溶解性、転移温度、電気的な信頼性などを考慮して、本発明の液晶組成物の総質量に対して１質量％以上３０質量％以下であることが好ましく、３質量％以上２０質量％以下がより好ましく、６質量％以上１５質量％以下がさらに好ましく、８質量％以上１０質量％以下がさらに好ましい。

　さらに、一般式（ＩＸ－２－３）で表される化合物は、式（３２．１）から式（３２．４）で表される化合物であることが好ましく、式（３２．２）および／または式（３２．４）で表される化合物であることが好ましい。

　さらに、一般式（ＩＸ－２）で表される化合物は、一般式（ＩＸ－２－４）で表される化合物であることが好ましい。

　一般式（ＩＸ－２－４）で表される化合物の含有量は、低温での溶解性、転移温度、電気的な信頼性などを考慮して、本発明の液晶組成物の総質量に対して１質量％以上３０質量％以下であることが好ましく、３質量％以上２０質量％以下がより好ましく、６質量％以上１５質量％以下がさらに好ましく、８質量％以上１０質量％以下が特に好ましい。

　さらに、一般式（ＩＸ－２－４）で表される化合物は、式（３３．１）から式（３３．６）で表される化合物であることが好ましく、式（３３．１）および／または式（３３．３）で表される化合物であることが好ましい。

　さらに、一般式（ＩＸ－２）で表される化合物は、一般式（ＩＸ－２－５）で表される化合物であることが好ましい。

　組み合わせることのできる化合物の種類に制限は無いが、低温での溶解性、転移温度、電気的な信頼性、複屈折率などを考慮して、実施形態ごとに適宜組み合わせて使用する。例えば、本発明の一つの実施形態では１種類、別の実施形態では２種類、さらに別の実施形態では３種類、またさらに別の実施形態では４種類以上である。

　一般式（ＩＸ－２－５）で表される化合物の含有量は、低温での溶解性、転移温度、電気的な信頼性、複屈折率などの特性を考慮して実施形態ごとに上限値と下限値がある。たとえば、本発明の一つの実施形態では本発明の液晶組成物の総質量に対して、前記化合物の含有量は４～４５質量％、別の実施形態では前記化合物の含有量は８～４５質量％、さらに別の実施形態では前記化合物の含有量は１２～４５質量％、またさらに別の実施形態では前記化合物の含有量は２１～４５質量％、またさらに別の実施形態では前記化合物の含有量は３０～４５質量％、またさらに別の実施形態では前記化合物の含有量は３１～４５質量％、またさらに別の実施形態では前記化合物の含有量は３４～４５質量％である。また、例えば、前記総質量に対して、本発明の一つの実施形態では前記化合物の含有量は４～４５質量％、別の実施形態では前記化合物の含有量は４～４０質量％、更に別の実施形態では前記化合物の含有量は４～３５質量％、また更に別の実施形態では前記化合物の含有量は４～３２質量％、また更に別の実施形態では前記化合物の含有量は４～２２質量％、また更に別の実施形態では前記化合物の含有量は４～１３質量％、また更に別の実施形態では前記化合物の含有量は４～９質量％、また更に別の実施形態では前記化合物の含有量は４～８質量％、また更に別の実施形態では前記化合物の含有量は４～５質量％である。

　さらに、一般式（ＩＸ－２－５）で表される化合物は、式（３４．１）から式（３４．７）で表される化合物であることが好ましく、式（３４．１）、式（３４．２）、式（３４．３）および／または式（３４．５）で表される化合物であることが好ましい。

　さらに、一般式（ＩＸ）で表される化合物は、一般式（ＩＸ－３）で表される化合物であることが好ましい。

（式中、Ｒ^９は炭素原子数１～５のアルキル基または炭素原子数２～５のアルケニル基を表し、Ｘ^９１およびＸ^９２はそれぞれ独立して水素原子またはフッ素原子を表し、Ｙ^９はフッ素原子、塩素原子または－ＯＣＦ_３を表す。）

　さらに、一般式（ＩＸ－３）で表される化合物は、一般式（ＩＸ－３－１）で表される化合物であることが好ましい。

　一般式（ＩＸ－３－１）で表される化合物の含有量は、低温での溶解性、転移温度、電気的な信頼性などを考慮して、本発明の液晶組成物の総質量に対して３質量％以上３０質量％以下であることが好ましく、７質量％以上３０質量％以下がより好ましく、１３質量％以上２０質量％以下がさらに好ましく、１５質量％以上１８質量％以下が特に好ましい。

　さらに、一般式（ＩＸ－３－１）で表される化合物は、式（３５．１）から式（３５．４）で表される化合物であることが好ましく、式（３５．１）および／または式（３５．２）で表される化合物であることが好ましい。

　さらに、一般式（Ｍ）で表される化合物は、一般式（Ｘ）で表される化合物であることが好ましい。

（式中、Ｘ^１０１からＸ^１０４はそれぞれ独立してフッ素原子または水素原子を表し、Ｙ^１０はフッ素原子、塩素原子、－ＯＣＦ_３を表し、Ｑ^１０は単結合または－ＣＦ_２Ｏ－を表し、Ｒ^１０は炭素原子数１～５のアルキル基、炭素原子数２～５のアルケニル基または炭素原子数１～４のアルコキシ基を表し、Ａ^１０１およびＡ^１０２はそれぞれ独立して、１，４－シクロヘキシレン基、１，４－フェニレン基、または

を表すが、１,４-フェニレン基上の水素原子はフッ素原子によって置換されていてもよい。ただし、前記一般式（ｉｉ）で表される化合物を除く。）

　組み合わせることのできる化合物に特に制限は無いが、低温での溶解性、転移温度、電気的な信頼性、複屈折率などを考慮して実施形態ごとに適宜組み合わせる。例えば、本発明の一つの実施形態では１種である。また、本発明の別の実施形態では２種類である。さらに別の実施形態では３種類である。さらにまた別の実施形態では４種類である。さらにまた別の実施形態では５種類以上である。

　一般式（Ｘ）で表される化合物の含有量は、低温での溶解性、転移温度、電気的な信頼性、複屈折率などの特性を考慮して実施形態ごとに上限値と下限値がある。たとえば、本発明の一つの実施形態では本発明の液晶組成物の総質量に対して、前記化合物の含有量は２～４５質量％、別の実施形態では前記化合物の含有量は３～４５質量％、さらに別の実施形態では前記化合物の含有量は６～４５質量％、またさらに別の実施形態では前記化合物の含有量は８～４５質量％、またさらに別の実施形態では前記化合物の含有量は９～４５質量％、またさらに別の実施形態では前記化合物の含有量は１１～４５質量％、またさらに別の実施形態では前記化合物の含有量は１２～４５質量％である。またさらに別の実施形態では前記化合物の含有量は１８～４５質量％である。またさらに別の実施形態では前記化合物の含有量は１９～４５質量％である。またさらに別の実施形態では前記化合物の含有量は２３～４５質量％である。またさらに別の実施形態では前記化合物の含有量は２５～４５質量％である。また、例えば、前記総質量に対して、本発明の一つの実施形態では前記化合物の含有量は２～４５質量％、別の実施形態では前記化合物の含有量は２～３５質量％、更に別の実施形態では前記化合物の含有量は２～３０質量％、また更に別の実施形態では前記化合物の含有量は２～２５質量％、また更に別の実施形態では前記化合物の含有量は２～２０質量％、また更に別の実施形態では前記化合物の含有量は２～１３質量％、また更に別の実施形態では前記化合物の含有量は２～９質量％、また更に別の実施形態では前記化合物の含有量は２～６質量％、また更に別の実施形態では前記化合物の含有量は２～３質量％である。

　本発明の液晶組成物の粘度を低く保ち、応答速度が速い液晶組成物が必要な場合は上記の下限値を低めに、上限値を低めにすることが好ましい。さらに、焼き付きの発生しにくい液晶組成物が必要な場合は上記の下限値を低めに、上限値を低めにすることが好ましい。また、駆動電圧を低く保つために誘電率異方性を大きくしたいときは、上記の下限値を高めに、上限値を高めにすることが好ましい。

　本発明の液晶組成物に使用される一般式（Ｘ）で表される化合物は、一般式（Ｘ－１）で表される化合物であることが好ましい。

（式中、Ｘ^１０１からＸ^１０３はそれぞれ独立してフッ素原子または水素原子を表し、Ｒ^１０は炭素原子数１～５のアルキル基、炭素原子数２～５のアルケニル基または炭素原子数１～４のアルコキシ基を表す。）

　一般式（Ｘ－１）で表される化合物の含有量は、低温での溶解性、転移温度、電気的な信頼性、複屈折率などの特性を考慮して実施形態ごとに上限値と下限値がある。たとえば、本発明の一つの実施形態では本発明の液晶組成物の総質量に対して、前記化合物の含有量は２～４０質量％、別の実施形態では前記化合物の含有量は３～４０質量％、さらに別の実施形態では前記化合物の含有量は５～４０質量％、またさらに別の実施形態では前記化合物の含有量は６～４０質量％、またさらに別の実施形態では前記化合物の含有量は７～４０質量％、またさらに別の実施形態では前記化合物の含有量は８～４０質量％、またさらに別の実施形態では前記化合物の含有量は９～４０質量％である。またさらに別の実施形態では前記化合物の含有量は１３～４０質量％である。またさらに別の実施形態では前記化合物の含有量は１８～４０質量％である。またさらに別の実施形態では前記化合物の含有量は２３～４０質量％である。

　また、例えば、前記総質量に対して、本発明の一つの実施形態では前記化合物の含有量は２～４０質量％、別の実施形態では前記化合物の含有量は２～３０質量％、更に別の実施形態では前記化合物の含有量は２～２５質量％、また更に別の実施形態では前記化合物の含有量は２～２０質量％、また更に別の実施形態では前記化合物の含有量は２～１５質量％、また更に別の実施形態では前記化合物の含有量は２～１０質量％、また更に別の実施形態では前記化合物の含有量は２～６質量％、また更に別の実施形態では前記化合物の含有量は２～４質量％である。

　さらに、本発明の液晶組成物に使用される一般式（Ｘ－１）で表される化合物は、一般式（Ｘ－１－１）で表される化合物であることが好ましい。

　組み合わせることのできる化合物に特に制限は無いが、低温での溶解性、転移温度、電気的な信頼性、複屈折率などを考慮して実施形態ごとに適宜組み合わせる。例えば、本発明の一つの実施形態では１種である。また、本発明の別の実施形態では２種類である。さらに別の実施形態では３種類である。さらにまた別の実施形態では４種類以上である。

　一般式（Ｘ－１－１）で表される化合物の含有量は、低温での溶解性、転移温度、電気的な信頼性、複屈折率などの特性を考慮して実施形態ごとに上限値と下限値がある。たとえば、本発明の一つの実施形態では、本発明の液晶組成物の総質量に対して、前記化合物の含有量は３～３０質量％、別の実施形態では前記化合物の含有量は４～３０質量％、さらに別の実施形態では前記化合物の含有量は６～３０質量％、またさらに別の実施形態では前記化合物の含有量は９～３０質量％、またさらに別の実施形態では前記化合物の含有量は１２～３０質量％、またさらに別の実施形態では前記化合物の含有量は１５～３０質量％、またさらに別の実施形態では前記化合物の含有量は１８～３０質量％である。またさらに別の実施形態では前記化合物の含有量は２１～３０質量％である。

　また、例えば、前記総質量に対して、本発明の一つの実施形態では前記化合物の含有量は３～３０質量％、別の実施形態では前記化合物の含有量は３～２０質量％、更に別の実施形態では前記化合物の含有量は３～１３質量％、また更に別の実施形態では前記化合物の含有量は３～１０質量％、また更に別の実施形態では前記化合物の含有量は３～７質量％である。

　さらに、本発明の液晶組成物に使用される一般式（Ｘ－１－１）で表される化合物は、具体的には式（３６．１）から式（３６．４）で表される化合物であることが好ましく、中でも式（３６．１）および／または式（３６．２）で表される化合物を含有することが好ましい。

さらに、本発明の液晶組成物に使用される一般式（Ｘ－１）で表される化合物は、一般式（Ｘ－１－２）で表される化合物であることが好ましい。

一般式（Ｘ－１－２）で表される化合物の含有量は、低温での溶解性、転移温度、電気的な信頼性などを考慮して、本発明の液晶組成物の総質量に対して１質量％以上２０質量％以下であることが好ましく、２質量％以上１６質量％以下がより好ましく、６質量％以上１２質量％以下がさらに好ましく、６質量％以上１０質量％以下がさらに好ましい。

さらに、本発明の液晶組成物に使用される一般式（Ｘ－１－２）で表される化合物は、具体的には式（３７．１）から式（３７．４）で表される化合物であることが好ましく、中でも式（３７．２）で表される化合物を含有することが好ましい。

本発明の液晶組成物において、式（３７．２）で表される化合物の含有量は、低温での溶解性、転移温度、電気的な信頼性などを考慮して、本発明の液晶組成物の総質量に対して１～２０質量％が好ましく、２～１０質量％がより好ましく、２～８質量％が好ましく、２～５質量％が特に好ましい。

さらに、本発明の液晶組成物に使用される一般式（Ｘ－１）で表される化合物は、一般式（Ｘ－１－３）で表される化合物であることが好ましい。

組み合わせることのできる化合物に特に制限は無いが、低温での溶解性、転移温度、電気的な信頼性、複屈折率などを考慮して１種から２種類以上組み合わせることが好ましい。

一般式（Ｘ－１－３）で表される化合物の含有量は、本発明の液晶組成物の総質量に対して１質量％以上であることが好ましく、２質量％以上がより好ましく、６質量％以上がさらに好ましい。また、低温での溶解性、転移温度、電気的な信頼性などを考慮して、最大比率を２０質量％以下にとどめることが好ましく、１６質量％以下がさらに好ましく、１２質量％以下がより好ましく、１０質量％以下が特に好ましい。

さらに、本発明の液晶組成物に使用される一般式（Ｘ－１－３）で表される化合物は、具体的には式（３８．１）から式（３８．４）で表される化合物であることが好ましく、中でも式（３８．２）で表される化合物を含有することが好ましい。

　本発明の液晶組成物に使用される一般式（Ｘ）で表される化合物は、一般式（Ｘ－２）で表される化合物であることが好ましい。

（式中、Ｘ^１０２からＸ^１０３はそれぞれ独立してフッ素原子または水素原子を表し、Ｙ^１０はフッ素原子、塩素原子、Ｒ^１０は炭素原子数１～５のアルキル基、炭素原子数２～５のアルケニル基または炭素原子数１～４のアルコキシ基を表す。）

　さらに、一般式（Ｘ）で表される化合物は一般式（Ｘ－３）で表される化合物であることが好ましい。

（式中、Ｘ^１０２からＸ^１０３はそれぞれ独立してフッ素原子または水素原子を表し、Ｒ^１０は炭素原子数１～５のアルキル基、炭素原子数２～５のアルケニル基または炭素原子数１～４のアルコキシ基を表す。）

　さらに、本発明の液晶組成物に使用される一般式（Ｘ－３）で表される化合物は、一般式（Ｘ－３－１）で表される化合物であることが好ましい。

　一般式（Ｘ－３－１）で表される化合物の含有量は、本発明の液晶組成物の総質量に対して１質量％以上であることが好ましく、２質量％以上がより好ましく、３質量％以上がさらに好ましい。また、低温での溶解性、転移温度、電気的な信頼性などを考慮して、最大比率を１０質量％以下にとどめることが好ましく、８質量％以下がさらに好ましく、６質量％以下がより好ましく、４質量％以下が特に好ましい。

　さらに、本発明の液晶組成物に使用される一般式（Ｘ－３－１）で表される化合物は、具体的には式（４１．１）から式（４１．４）で表される化合物であることが好ましく、中でも式（４１．２）で表される化合物を含有することが好ましい。

　更に、一般式（Ｘ）で表される化合物は、一般式（Ｘ－４）で表される化合物であることが好ましい。

（式中、Ｘ^１０２はフッ素原子または水素原子を表し、Ｒ^１０は炭素原子数１～５のアルキル基、炭素原子数２～５のアルケニル基または炭素原子数１～４のアルコキシ基を表す。）

　さらに、本発明の液晶組成物に使用される一般式（Ｘ－４）で表される化合物は、一般式（Ｘ－４－１）で表される化合物であることが好ましい。

　一般式（Ｘ－４－１）で表される化合物の含有量は、低温での溶解性、転移温度、電気的な信頼性などを考慮して、本発明の液晶組成物の総質量に対して２質量％以上２０質量％以下であることが好ましく、５質量％以上１７質量％以下がより好ましく、１０質量％以上１５質量％以下がさらに好ましく、１０質量％以上１３質量％以下が特に好ましい。

　さらに、本発明の液晶組成物に使用される一般式（Ｘ－４－１）で表される化合物は、具体的には式（４２．１）から式（４２．４）で表される化合物であることが好ましく、中でも式（４２．３）で表される化合物を含有することが好ましい。

本発明の液晶組成物において、式（４２．３）で表される化合物の含有量は、低温での溶解性、転移温度、電気的な信頼性などを考慮して、本発明の液晶組成物の総質量に対して１～２０質量％が好ましく、２～１０質量％がより好ましく、２～８質量％が特に好ましい。

さらに、本発明の液晶組成物に使用される一般式（Ｘ）で表される化合物は、一般式（Ｘ－４－２）で表される化合物であることが好ましい。

　一般式（Ｘ－４－２）で表される化合物の含有量は、低温での溶解性、転移温度、電気的な信頼性などを考慮して、本発明の液晶組成物の総質量に対して２質量％以上２０質量％以下であることが好ましく、５質量％以上１７質量％以下がより好ましく、１０質量％以上１５質量％以下がさらに好ましく、１０質量％以上１３質量％以下が特に好ましい。

さらに、本発明の液晶組成物に使用される一般式（Ｘ－４－２）で表される化合物は、具体的には式（４２．１１）から式（４２．１４）で表される化合物であることが好ましく、中でも式（４２．１３）又は式（４２．１４）で表される化合物を含有することがより好ましい。

さらに、本発明の液晶組成物に使用される一般式（Ｘ）で表される化合物は、一般式（Ｘ－４－３）で表される化合物であることが好ましい。

一般式（Ｘ－４－３）で表される化合物の含有量は、低温での溶解性、転移温度、電気的な信頼性などを考慮して、本発明の液晶組成物の総質量に対して２質量％以上２０質量％以下であることが好ましく、５質量％以上１７質量％以下がより好ましく、１０質量％以上１５質量％以下がさらに好ましく、１０質量％以上１３質量％以下が特に好ましい。

さらに、本発明の液晶組成物に使用される一般式（Ｘ－４－３）で表される化合物は、具体的には式（４２．２１）から式（４２．２４）で表される化合物であることが好ましく、中でも式（４２．２２）で表される化合物を含有することがより好ましい。

　更に、一般式（Ｘ）で表される化合物は、一般式（Ｘ－５）で表される化合物であることが好ましい。

　さらに、本発明の液晶組成物に使用される一般式（Ｘ－５）で表される化合物は、一般式（Ｘ－５－１）で表される化合物であることが好ましい。

　さらに、本発明の液晶組成物に使用される一般式（Ｘ－５－１）で表される化合物は、具体的には式（４３．１）から式（４３．４）で表される化合物であることが好ましく、中でも式（４３．２）で表される化合物を含有することが好ましい。

　本発明の液晶組成物に使用される一般式（Ｘ）で表される化合物は、一般式（Ｘ－６）で表される化合物であることが好ましい。

　一般式（Ｘ－６）で表される化合物の含有量は、低温での溶解性、転移温度、電気的な信頼性、複屈折率などの特性を考慮して実施形態ごとに上限値と下限値がある。たとえば、本発明の一つの実施形態では本発明の液晶組成物の総質量に対して前記化合物の含有量は、４～３０質量％、別の実施形態では５～３０質量％、さらに別の実施形態では６～３０質量％、またさらに別の実施形態では８～３０質量％である。

　また、例えば、本発明の一つの実施形態では、本発明の液晶組成物の総質量に対して前記化合物の含有量は、１～３０質量％、別の実施形態では１～２０質量％、更に別の実施形態では１～１３質量％、また更に別の実施形態では１～１０質量％である。

　さらに、本発明の液晶組成物に使用される一般式（Ｘ－６）で表される化合物は、具体的には式（４４．１）から式（４４．４）で表される化合物であることが好ましく、中でも式（４４．１）および／または式（４４．２）で表される化合物を含有することが好ましい。

　また、一般式（Ｘ）で表される化合物に類似する化合物である、一般式（Ｘ－７）で表される化合物を本発明の液晶化合物に含有させてもよい。

一般式（Ｘ－７）で表される化合物の含有量は、低温での溶解性、転移温度、電気的な信頼性、複屈折率などの特性を考慮して実施形態ごとに上限値と下限値がある。

たとえば、本発明の一つの実施形態では、本発明の液晶組成物の総質量に対して、前記化合物の含有量は４～３０質量％、別の実施形態では前記化合物の含有量は５～３０質量％、さらに別の実施形態では前記化合物の含有量は６～３０質量％、またさらに別の実施形態では前記化合物の含有量は８～３０質量％、またさらに別の実施形態では前記化合物の含有量は９～３０質量％、またさらに別の実施形態では前記化合物の含有量は１１～３０質量％、またさらに別の実施形態では前記化合物の含有量は１４～３０質量％である。またさらに別の実施形態では前記化合物の含有量は１８～３０質量％である。

また、例えば、前記総質量に対して、本発明の一つの実施形態では前記化合物の含有量は４～３０質量％、別の実施形態では前記化合物の含有量は４～２０質量％、更に別の実施形態では前記化合物の含有量は４～１３質量％、また更に別の実施形態では前記化合物の含有量は４～１０質量％、また更に別の実施形態では前記化合物の含有量は４～７質量％、また更に別の実施形態では３質量％である。

さらに、本発明の液晶組成物に使用される一般式（Ｘ－７）で表される化合物は、具体的には式（４４．１１）から式（４４．１４）で表される化合物であることが好ましく、中でも式（４４．１３）で表される化合物を含有することがより好ましい。

　さらに、一般式（Ｘ）で表される化合物は、一般式（ＸＩ）で表される群より選ばれる化合物であることが好ましい。

（式中、Ｘ^１１１からＸ^１１７はそれぞれ独立してフッ素原子または水素原子を表し、Ｘ^１１１からＸ^１１７の少なくとも一つはフッ素原子を表し、Ｒ^１１は炭素原子数１～５のアルキル基、炭素原子数２～５のアルケニル基または炭素原子数１～４のアルコキシ基を表し、Ｙ^１１はフッ素原子または－ＯＣＦ_３を表す。）

　組み合わせることのできる化合物に特に制限は無いが、低温での溶解性、転移温度、電気的な信頼性、複屈折率などを考慮して１種から３種類以上組み合わせることが好ましい。

　一般式（ＸＩ）で表される化合物の含有量は、低温での溶解性、転移温度、電気的な信頼性、複屈折率などの特性を考慮して実施形態ごとに上限値と下限値がある。たとえば、本発明の一つの実施形態では、本発明の液晶組成物の総質量に対して、前記化合物の含有量は２～３０質量％、別の実施形態では前記化合物の含有量は４～３０質量％、さらに別の実施形態では前記化合物の含有量は５～３０質量％、またさらに別の実施形態では前記化合物の含有量は７～３０質量％、またさらに別の実施形態では前記化合物の含有量は９～３０質量％、またさらに別の実施形態では前記化合物の含有量は１０～３０質量％、またさらに別の実施形態では前記化合物の含有量は１２～３０質量％である。またさらに別の実施形態では前記化合物の含有量は１３～３０質量％である。またさらに別の実施形態では前記化合物の含有量は１５～３０質量％である。またさらに別の実施形態では前記化合物の含有量は１８～３０質量％である。

　また、例えば、前記総質量に対して、本発明の一つの実施形態では前記化合物の含有量は２～３０質量％、別の実施形態では前記化合物の含有量は２～２５質量％、更に別の実施形態では前記化合物の含有量は２～２０質量％、また更に別の実施形態では前記化合物の含有量は２～１５質量％、また更に別の実施形態では前記化合物の含有量は２～１０質量％、また更に別の実施形態では前記化合物の含有量は２～５質量％である。

　本発明の液晶組成物が、セルギャップの小さい液晶表示素子用に用いられる場合は、一般式（ＸＩ）で表される化合物の含有量を多めにすることが適している。駆動電圧の小さい液晶表示素子用に用いられる場合は、一般式（ＸＩ）で表される化合物の含有量を多めにすることが適している。また、低温の環境で用いられる液晶表示素子用に用いられる場合は一般式（ＸＩ）で表される化合物の含有量を少なめにすることが適している。応答速度の速い液晶表示素子に用いられる液晶組成物である場合は、一般式（ＸＩ）で表される化合物の含有量を少なめにすることが適している。

　さらに、本発明の液晶組成物に使用される一般式（ＸＩ）で表される化合物は、一般式（ＸＩ－１）で表される化合物であることが好ましい。

（式中、Ｒ^１１は炭素原子数１～５のアルキル基、炭素原子数２～５のアルケニル基または炭素原子数１～４のアルコキシ基を表す。）

　組み合わせることのできる化合物に特に制限は無いが、低温での溶解性、転移温度、電気的な信頼性、複屈折率などを考慮して、実施形態ごとに適宜組み合わせる。例えば、本発明の一つの実施形態では１種類、別の実施形態では２種類、更に別の実施形態では３種類以上組み合わせる。

一般式（ＸＩ－１）で表される化合物の含有量は、低温での溶解性、転移温度、電気的な信頼性などを考慮して、本発明の液晶組成物の総質量に対して１質量％以上２０質量％以下であることが好ましく、３質量％以上２０質量％以下がより好ましく、４質量％以上２０質量％以下がさらに好ましく、６質量％以上１５質量％以下がさらに好ましく、９質量％以上１２質量％以下が特に好ましい。

さらに、本発明の液晶組成物に使用される一般式（ＸＩ－１）で表される化合物は、具体的には式（４５．１）から式（４５．４）で表される化合物であることが好ましく、中でも式（４５．２）から式（４５．４）で表される化合物を含有することが好ましく、式（４５．２）で表される化合物を含有することがより好ましい。

　本発明の液晶組成物において、式（４５．２）で表される化合物の含有量は、低温での溶解性、転移温度、電気的な信頼性などを考慮して、本発明の液晶組成物の総質量に対して１～２５質量％が好ましく、２～１５質量％がより好ましく、３～１０質量％がさらに好ましく、４～８質量％が特に好ましい。

　さらに、本発明の液晶組成物に使用される一般式（ＸＩ）で表される化合物は、一般式（ＸＩ－２）で表される化合物であることが好ましい。

（式中、Ｒ^１１０は炭素原子数１～５のアルキル基、炭素原子数２～５のアルケニル基または炭素原子数１～４のアルコキシ基を表す。）

　一般式（ＸＩ－２）で表される化合物の含有量は、低温での溶解性、転移温度、電気的な信頼性などを考慮して、本発明の液晶組成物の総質量に対して１質量％以上２０質量％以下であることが好ましく、３質量％以上２０質量％以下がより好ましく、４質量％以上２０質量％以下がさらに好ましく、６質量％以上１５質量％以下がさらに好ましく、９質量％以上１２質量％以下が特に好ましい。

　さらに、本発明の液晶組成物に使用される一般式（ＸＩ－２）で表される化合物は、具体的には式（４５．１１）から式（４５．１４）で表される化合物であることが好ましく、中でも式（４５．１２）から式（４５．１４）で表される化合物を含有することが好ましく、式（４５．１２）で表される化合物を含有することがより好ましい。

　一般式（Ｘ）で表される化合物は、一般式（ＸＩＩ）で表される群より選ばれる化合物であることが好ましい。

（式中、Ｘ^１２１からＸ^１２６はそれぞれ独立してフッ素原子または水素原子を表し、Ｒ^１２０は炭素原子数１～５のアルキル基、炭素原子数２～５のアルケニル基または炭素原子数１～４のアルコキシ基を表し、Ｙ^１２はフッ素原子または－ＯＣＦ_３を表す。）

　組み合わせることのできる化合物に特に制限は無いが、低温での溶解性、転移温度、電気的な信頼性、複屈折率などを考慮して１種から３種類以上組み合わせることが好ましく、１種から４種類以上組み合わせることがより好ましい。

　さらに、本発明の液晶組成物に使用される一般式（ＸＩＩ）で表される化合物は、一般式（ＸＩＩ－１）で表される化合物であることが好ましい。

（式中、Ｒ^１２０は炭素原子数１～５のアルキル基、炭素原子数２～５のアルケニル基または炭素原子数１～４のアルコキシ基を表す。）

　一般式（ＸＩＩ－１）で表される化合物の含有量は、低温での溶解性、転移温度、電気的な信頼性などを考慮して、本発明の液晶組成物の総質量に対して１質量％以上１５質量％以下であることが好ましく、２質量％以上１０質量％以下がより好ましく、３質量％以上８質量％以下がさらに好ましく、４質量％以上６質量％以下が特に好ましい。

　さらに、本発明の液晶組成物に使用される一般式（ＸＩＩ－１）で表される化合物は、具体的には式（４６．１）から式（４６．４）で表される化合物であることが好ましく、中でも式（４６．２）から式（４６．４）で表される化合物を含有することが好ましい。

　さらに、一般式（ＸＩＩ）で表される化合物は、一般式（ＸＩＩ－２）で表される化合物であることが好ましい。

　一般式（ＸＩＩ－２）で表される化合物の含有量は、低温での溶解性、転移温度、電気的な信頼性などを考慮して、本発明の液晶組成物の総質量に対して１質量％以上２０質量％以下であることが好ましく、３質量％以上２０質量％以下がより好ましく、４質量％以上１７質量％以下がさらに好ましく、６質量％以上１５質量％以下がさらに好ましく、９質量％以上１３質量％以下が特に好ましい。

　さらに、本発明の液晶組成物に使用される一般式（ＸＩＩ－２）で表される化合物は、具体的には式（４７．１）から式（４７．４）で表される化合物であることが好ましく、中でも式（４７．２）から式（４７．４）で表される化合物を含有することが好ましい。

　更に、一般式（Ｍ）で表される化合物は、一般式（ＸＩＩＩ）で表される化合物群から選ばれる化合物であることが好ましい。

（式中、Ｘ^１３１からＸ^１３５はそれぞれ独立してフッ素原子または水素原子を表し、Ｒ^１３は炭素原子数１～５のアルキル基、炭素原子数２～５のアルケニル基または炭素原子数１～４のアルコキシ基を表し、Ｙ^１３はフッ素原子または－ＯＣＦ_３を表す。ただし、一般式（ｉ）で表される化合物を除く。）

　組み合わせることができる化合物の種類に特に制限は無いが、これらの化合物の中から１種～２種類含有することが好ましく、１種～３種類含有することがより好ましく、１種～４種類含有することが更に好ましい。

　一般式（ＸＩＩＩ）で表される化合物の含有量は、低温での溶解性、転移温度、電気的な信頼性、複屈折率などの特性を考慮して実施形態ごとに上限値と下限値がある。

たとえば、本発明の一つの実施形態では、本発明の液晶組成物の総質量に対して、前記化合物の含有量は２～３０質量％、別の実施形態では前記化合物の含有量は４～３０質量％、さらに別の実施形態では前記化合物の含有量は５～３０質量％、またさらに別の実施形態では前記化合物の含有量は７～３０質量％、またさらに別の実施形態では前記化合物の含有量は９～３０質量％、またさらに別の実施形態では前記化合物の含有量は１１～３０質量％、またさらに別の実施形態では前記化合物の含有量は１３～３０質量％である。またさらに別の実施形態では前記化合物の含有量は１４～３０質量％である。またさらに別の実施形態では前記化合物の含有量は１６～３０質量％である。またさらに別の実施形態では前記化合物の含有量は２０～３０質量％である。

　本発明の液晶組成物が、セルギャップの小さい液晶表示素子用に用いられる場合は、一般式（ＸＩＩＩ）で表される化合物の含有量を多めにすることが適している。駆動電圧の小さい液晶表示素子用に用いられる場合は、一般式（ＸＩＩＩ）で表される化合物の含有量を多めにすることが適している。また、低温の環境で用いられる液晶表示素子用に用いられる場合は一般式（ＸＩＩＩ）で表される化合物の含有量を少なめにすることが適している。応答速度の速い液晶表示素子に用いられる液晶組成物である場合は、一般式（ＸＩＩＩ）で表される化合物の含有量を少なめにすることが適している。

　さらに、一般式（ＸＩＩＩ）で表される化合物は一般式（ＸＩＩＩ－１）で表される化合物であることが好ましい。

（式中、Ｒ^１３は炭素原子数１～５のアルキル基、炭素原子数２～５のアルケニル基または炭素原子数１～４のアルコキシ基を表す。）

　一般式（ＸＩＩＩ－１）で表される化合物を本発明の液晶組成物の総質量に対して１～２５質量％含有することが好ましく、３～２５質量％含有することがさらに好ましく、５～２０質量％含有することがさらに好ましく、１０～１５質量％含有することが特に好ましい。

　さらに、一般式（ＸＩＩＩ－１）で表される化合物は、式（４８．１）から式（４８．４）で表される化合物であることが好ましく、式（４８．２）で表される化合物であることが好ましい。

　さらに、一般式（ＸＩＩＩ）で表される化合物は一般式（ＸＩＩＩ－２）で表される化合物であることが好ましい。

（式中、Ｒ^１３０は炭素原子数１～５のアルキル基、炭素原子数２～５のアルケニル基または炭素原子数１～４のアルコキシ基を表す。）

組み合わせることができる化合物の種類に特に制限は無いが、これらの化合物の中から１種～２種類以上含有することが好ましい。

　一般式（ＸＩＩＩ－２）で表される化合物を本発明の液晶組成物の総質量に対して５～２５質量％含有することが好ましく、６～２５質量％含有することがさらに好ましく、８～２０質量％含有することがさらに好ましく、１０～１５質量％含有することが特に好ましい。

さらに、一般式（ＸＩＩＩ－２）で表される化合物は、式（４９．１）から式（４９．４）で表される化合物であることが好ましく、式（４９．１）及び／または式（４９．２）で表される化合物であることが好ましい。

本発明の液晶組成物において、式（４９．１）で表される化合物の含有量は、低温での溶解性、転移温度、電気的な信頼性などを考慮して、本発明の液晶組成物の総質量に対して１～２０質量％が好ましく、２～１０質量％がより好ましく、３～８質量％が特に好ましい。

本発明の液晶組成物において、式（４９．２）で表される化合物の含有量は、低温での溶解性、転移温度、電気的な信頼性などを考慮して、本発明の液晶組成物の総質量に対して１～２０質量％が好ましく、２～１０質量％がより好ましく、３～８質量％が特に好ましい。

　さらに、一般式（ＸＩＩＩ）で表される化合物は一般式（ＸＩＩＩ－３）で表される化合物であることが好ましい。

　組み合わせることができる化合物の種類に特に制限は無いが、これらの化合物の中から１種～２種類含有することが好ましい。

　一般式（ＸＩＩＩ－３）で表される化合物を、本発明の液晶組成物の総質量に対して２～２０質量％含有することが好ましく、４～２０質量％含有することが更に好ましく、９～１７質量％含有することが更に好ましく、１１～１４質量％含有することが特に好ましい。

　さらに、一般式（ＸＩＩＩ－３）で表される化合物は、式（５０．１）から式（５０．４）で表される化合物であることが好ましく、式（５０．１）または式（５０．２）で表される化合物であることが好ましい。

　さらに、一般式（Ｍ）で表される化合物は、一般式（ＸＩＶ）で表される化合物群から選ばれる化合物であることが好ましい。

（式中、Ｒ^１４は炭素原子数１～５のアルキル基、炭素原子数２～５のアルケニル基または炭素原子数１～４のアルコキシ基を表し、Ｘ^１４１からＸ^１４４はそれぞれ独立してフッ素原子または水素原子を表し、Ｙ^１４はフッ素原子、塩素原子または－ＯＣＦ_３を表し、Ｑ^１４は単結合、－ＣＯＯ－または－ＣＦ_２Ｏ－を表し、ｍ^１４は０または１である。）

　組み合わせることのできる化合物の種類に制限は無いが、低温での溶解性、転移温度、電気的な信頼性、複屈折率などを考慮して実施形態ごとに適宜組み合わせる。例えば、本発明の一つの実施形態では１種である。さらに、本発明の別の実施形態では２種類である。あるいは、本発明のさらに別の実施形態では３種類である。また、本発明のさらに別の実施形態では４種類である。あるいは、本発明のさらに別の実施形態では５種類である。あるいは、本発明のさらに別の実施形態では６種類以上である。

　一般式（ＸＩＶ）で表される化合物の含有量は、低温での溶解性、転移温度、電気的な信頼性、複屈折率などの特性を考慮して実施形態ごとに上限値と下限値がある。

たとえば、本発明の一つの実施形態では、本発明の液晶組成物の総質量に対して、前記化合物の含有量は３～４０質量％、別の実施形態では前記化合物の含有量は７～４０質量％、さらに別の実施形態では前記化合物の含有量は８～４０質量％、またさらに別の実施形態では前記化合物の含有量は１１～４０質量％、またさらに別の実施形態では前記化合物の含有量は１２～４０質量％、またさらに別の実施形態では前記化合物の含有量は１６～４０質量％、またさらに別の実施形態では前記化合物の含有量は１８～４０質量％である。またさらに別の実施形態では前記化合物の含有量は１９～４０質量％である。またさらに別の実施形態では前記化合物の含有量は２２～４０質量％である。またさらに別の実施形態では前記化合物の含有量は２５～４０質量％である。

また、例えば、前記総質量に対して、本発明の一つの実施形態では前記化合物の含有量は３～４０質量％、別の実施形態では前記化合物の含有量は３～３５質量％、更に別の実施形態では前記化合物の含有量は３～３０質量％、また更に別の実施形態では前記化合物の含有量は３～２５質量％、また更に別の実施形態では前記化合物の含有量は３～２０質量％、また更に別の実施形態では前記化合物の含有量は３～１５質量％である。

　本発明の液晶組成物が、駆動電圧の小さい液晶表示素子用に用いられる場合は、一般式（ＸＩＶ）で表される化合物の含有量を多めにすることが適している。また応答速度の速い液晶表示素子に用いられる液晶組成物である場合は、一般式（ＸＩＶ）で表される化合物の含有量を少なめにすることが適している。

　さらに、一般式（ＸＩＶ）で表される化合物は、一般式（ＸＩＶ－１）で表される化合物であることが好ましい。

（式中、Ｒ^１４は炭素原子数１～７のアルキル基、炭素原子数２～７のアルケニル基または炭素原子数１～７のアルコキシ基を表し、Ｙ^１４はフッ素原子、塩素原子または－ＯＣＦ_３を表す。）

　さらに、一般式（ＸＩＶ－１）で表される化合物は、一般式（ＸＩＶ－１－１）で表される化合物であることが好ましい。

（式中、Ｒ^１４は炭素原子数１～７のアルキル基、炭素原子数２～７のアルケニル基または炭素原子数１～７のアルコキシ基を表す。）

　一般式（ＸＩＶ－１）で表される化合物の含有量は、本発明の液晶組成物の総質量に対して２質量％以上であることが好ましく、４質量％以上がより好ましく、７質量％以上がさらに好ましく、１０質量％以上がさらに好ましく、１８質量％以上が特に好ましい。また、低温での溶解性、転移温度、電気的な信頼性などを考慮して、最大比率を３０質量％以下にとどめることが好ましく、２７質量％以下がさらに好ましく、２４質量％以下がより好ましく、２１質量％未満が特に好ましい。

　さらに、一般式（ＸＩＶ－１－１）で表される化合物は具体的には式（５１．１）から式（５１．４）で表される化合物であることが好ましく、式（５１．１）で表される化合物を含有することがより好ましい。

　また、一般式（ＸＩＶ）で表される化合物は、一般式（ＸＩＶ－１－２）で表される化合物であることが好ましい。

　一般式（ＸＩＶ－１－２）で表される化合物の含有量は、低温での溶解性、転移温度、電気的な信頼性などを考慮して、本発明の液晶組成物の総質量に対して１質量％以上１５質量％以下であることが好ましく、３質量％以上１３質量％以下がより好ましく、５質量％以上１１質量％以下がさらに好ましく、７質量％以上９質量％以下が特に好ましい。

　さらに、一般式（ＸＩＶ－１－２）で表される化合物は具体的には式（５２．１）から式（５２．４）で表される化合物であることが好ましく、中でも式（５２．４）で表される化合物を含有することが好ましい。

　さらに、一般式（ＸＩＶ）で表される化合物は、一般式（ＸＩＶ－２）で表される化合物であることが好ましい。

（式中、Ｒ^１４は炭素原子数１～５のアルキル基、炭素原子数２～５のアルケニル基または炭素原子数１～４のアルコキシ基を表し、Ｘ^１４１からＸ^１４４はそれぞれ独立してフッ素原子または水素原子を表し、Ｙ^１４はフッ素原子、塩素原子または－ＯＣＦ_３を表す。ただし、一般式（ｉ）で表される化合物を除く。）

　組み合わせることのできる化合物の種類に制限は無いが、低温での溶解性、転移温度、電気的な信頼性、複屈折率などを考慮して実施形態ごとに適宜組み合わせる。例えば、本発明の一つの実施形態では１種である。さらに、本発明の別の実施形態では２種類である。あるいは、本発明のさらに別の実施形態では３種類である。また、本発明のさらに別の実施形態では４種類である。あるいは、本発明のさらに別の実施形態では５種類以上である。

　一般式（ＸＩＶ－２）で表される化合物の含有量は、低温での溶解性、転移温度、電気的な信頼性、複屈折率などの特性を考慮して実施形態ごとに上限値と下限値がある。

たとえば、本発明の一つの実施形態では、本発明の液晶組成物の総質量に対して、前記化合物の含有量は３～４０質量％、別の実施形態では前記化合物の含有量は７～４０質量％、さらに別の実施形態では前記化合物の含有量は８～４０質量％、またさらに別の実施形態では前記化合物の含有量は１０～４０質量％、またさらに別の実施形態では前記化合物の含有量は１１～４０質量％、またさらに別の実施形態では前記化合物の含有量は１２～４０質量％、またさらに別の実施形態では前記化合物の含有量は１８～４０質量％である。またさらに別の実施形態では前記化合物の含有量は１９～４０質量％である。またさらに別の実施形態では前記化合物の含有量は２１～４０質量％である。またさらに別の実施形態では前記化合物の含有量は２２～４０質量％である。

　また、例えば、前記総質量に対して、本発明の一つの実施形態では前記化合物の含有量は３～４０質量％、別の実施形態では前記化合物の含有量は３～３５質量％、更に別の実施形態では前記化合物の含有量は３～２５質量％、また更に別の実施形態では前記化合物の含有量は３～２０質量％、また更に別の実施形態では前記化合物の含有量は３～１５質量％、また更に別の実施形態では前記化合物の含有量は３～１０質量％である。

　本発明の液晶組成物が、駆動電圧の小さい液晶表示素子用に用いられる場合は、一般式（ＸＩＶ－２）で表される化合物の含有量を多めにすることが適している。また応答速度の速い液晶表示素子に用いられる液晶組成物である場合は、一般式（ＸＩＶ－２）で表される化合物の含有量を少なめにすることが適している。

　さらに、一般式（ＸＩＶ－２）で表される化合物は、一般式（ＸＩＶ－２－１）で表される化合物であることが好ましい。

（式中、Ｒ^１４は炭素原子数１～５のアルキル基、炭素原子数２～５のアルケニル基または炭素原子数１～４のアルコキシ基を表す。）

　一般式（ＸＩＶ－２－１）で表される化合物の含有量は、低温での溶解性、転移温度、電気的な信頼性などを考慮して、本発明の液晶組成物の総質量に対して１質量％以上１５質量％以下であることが好ましく、３質量％以上１３質量％以下がより好ましく、５質量％以上１１質量％以下がさらに好ましく、７質量％以上９質量％以下が特に好ましい。

　さらに、一般式（ＸＩＶ－２－１）で表される化合物は具体的には式（５３．１）から式（５３．４）で表される化合物であることが好ましく、中でも式（５３．４）で表される化合物を含有することが好ましい。

　さらに、一般式（ＸＩＶ－２）で表される化合物は、一般式（ＸＩＶ－２－２）で表される化合物であることが好ましい。

　一般式（ＸＩＶ－２－２）で表される化合物の含有量は、低温での溶解性、転移温度、電気的な信頼性などを考慮して、本発明の液晶組成物の総質量に対して３質量％以上２０質量％以下であることが好ましく、６質量％以上１７質量％以下がより好ましく、９質量％以上１５質量％以下がさらに好ましく、１２質量％以上１４質量％以下が特に好ましい。

　一般式（ＸＩＶ－２－２）で表される化合物は具体的には式（５４．１）から式（５４．４）で表される化合物であることが好ましく、中でも式（５４．２）および／または式（５４．４）で表される化合物を含有することが好ましい。

　さらに、一般式（ＸＩＶ－２）で表される化合物は、一般式（ＸＩＶ－２－３）で表される化合物であることが好ましい。

　一般式（ＸＩＶ－２－３）で表される化合物の含有量は、低温での溶解性、転移温度、電気的な信頼性などを考慮して、本発明の液晶組成物の総質量に対して５質量％以上３０質量％以下であることが好ましく、９質量％以上２７質量％以下がより好ましく、１２質量％以上２４質量％以下がさらに好ましく、１２質量％以上２０質量％以下が特に好ましい。

　さらに、一般式（ＸＩＶ－２－３）で表される化合物は具体的には式（５５．１）から式（５５．４）で表される化合物であることが好ましく、中でも式（５５．２）および／または式（５５．４）で表される化合物を含有することが好ましい。

　さらに、一般式（ＸＩＶ－２）で表される化合物は、一般式（ＸＩＶ－２－４）で表される化合物であることが好ましい。

　組み合わせることのできる化合物の種類に制限は無いが、低温での溶解性、転移温度、電気的な信頼性、複屈折率などを考慮して実施形態ごとに適宜組み合わせる。例えば、本発明の一つの実施形態では１種である。さらに、本発明の別の実施形態では２種類である。あるいは、本発明のさらに別の実施形態では３種類以上である。

　一般式（ＸＩＶ－２－４）で表される化合物の含有量は、低温での溶解性、転移温度、電気的な信頼性、複屈折率などの特性を考慮して実施形態ごとに上限値と下限値がある。

たとえば、本発明の一つの実施形態では、本発明の液晶組成物の総質量に対して、前記化合物の含有量は２～３５質量％、別の実施形態では前記化合物の含有量は５～３５質量％、さらに別の実施形態では前記化合物の含有量は８～３５質量％、またさらに別の実施形態では前記化合物の含有量は９～３５質量％、またさらに別の実施形態では前記化合物の含有量は１０～３５質量％、またさらに別の実施形態では前記化合物の含有量は１８～３５質量％、またさらに別の実施形態では前記化合物の含有量は２１～３５質量％である。またさらに別の実施形態では前記化合物の含有量は２２～３５質量％である。またさらに別の実施形態では前記化合物の含有量は２４～３５質量％である。

　また、例えば、前記総質量に対して、本発明の一つの実施形態では前記化合物の含有量は２～３５質量％、別の実施形態では前記化合物の含有量は２～３０質量％、更に別の実施形態では前記化合物の含有量は２～２５質量％、また更に別の実施形態では前記化合物の含有量は２～２０質量％、また更に別の実施形態では前記化合物の含有量は２～１５質量％、また更に別の実施形態では前記化合物の含有量は２～１０質量％である。

　本発明の液晶組成物が、駆動電圧の小さい液晶表示素子用に用いられる場合は、一般式（ＸＩＶ－２－４）で表される化合物の含有量を多めにすることが適している。また応答速度の速い液晶表示素子に用いられる液晶組成物である場合は、一般式（ＸＩＶ－２－４）で表される化合物の含有量を少なめにすることが適している。

　さらに、一般式（ＸＩＶ－２－４）で表される化合物は具体的には式（５６．１）から式（５６．４）で表される化合物であることが好ましく、中でも式（５６．１）、式（５６．２）又は式（５６．４）で表される化合物を含有することが好ましい。

　さらに、一般式（ＸＩＶ－２）で表される化合物は、一般式（ＸＩＶ－２－５）で表される化合物であることが好ましい。

（式中、Ｒ^１４０は炭素原子数１～５のアルキル基、炭素原子数２～５のアルケニル基または炭素原子数１～４のアルコキシ基を表す。）

一般式（ＸＩＶ－２－５）で表される化合物の含有量は、低温での溶解性、転移温度、電気的な信頼性などを考慮して、本発明の液晶組成物の総質量に対して５質量％以上２５質量％以下であることが好ましく、１０質量％以上２２質量％以下がより好ましく、１３質量％以上１８質量％以下がさらに好ましく、１３質量％以上１５質量％以下が特に好ましい。

さらに、一般式（ＸＩＶ－２－５）で表される化合物は具体的には式（５７．１）から式（５７．４）で表される化合物である。中でも式（５７．１）で表される化合物を含有することが好ましい。

　さらに、一般式（ＸＩＶ－２）で表される化合物は、一般式（ＸＩＶ－２－６）で表される化合物であることが好ましい。

一般式（ＸＩＶ－２－６）で表される化合物の含有量は、低温での溶解性、転移温度、電気的な信頼性などを考慮して、本発明の液晶組成物の総質量に対して５質量％以上２５質量％以下であることが好ましく、１０質量％以上２２質量％以下がより好ましく、１５質量％以上２０質量％以下がさらに好ましく、１５質量％以上１７質量％以下が特に好ましい。

さらに、一般式（ＸＩＶ－２－６）で表される化合物は具体的には式（５８．１）から式（５８．４）で表される化合物であることが好ましく、中でも式（５８．２）で表される化合物を含有することが好ましい。

　本願発明の液晶組成物は、分子内に過酸（－ＣＯ－ＯＯ－）構造等の酸素原子同士が結合した構造を持つ化合物を含有しないことが好ましい。

　液晶組成物の信頼性及び長期安定性を重視する場合にはカルボニル基を有する化合物の含有量を前記組成物の総質量に対して５質量％以下とすることが好ましく、３質量％以下とすることがより好ましく、１質量％以下とすることが更に好ましく、実質的に含有しないことが最も好ましい。

　ＵＶ照射による安定性を重視する場合、塩素原子が置換している化合物の含有量を前記組成物の総質量に対して１５質量％以下とすることが好ましく、１０質量％以下とすることがより好ましく、５質量％以下とすることが更に好ましく、実質的に含有しないことが最も好ましい。

　分子内の環構造がすべて６員環である化合物の含有量を多くすることが好ましく、分子内の環構造がすべて６員環である化合物の含有量を前記組成物の総質量に対して８０質量％以上とすることが好ましく、９０質量％以上とすることがより好ましく、９５質量％以上とすることが更に好ましく、実質的に分子内の環構造がすべて６員環である化合物のみで液晶組成物を構成することが最も好ましい。

　液晶組成物の酸化による劣化を抑えるためには、環構造としてシクロヘキセニレン基を有する化合物の含有量を少なくすることが好ましく、シクロヘキセニレン基を有する化合物の含有量を前記組成物の総質量に対して１０質量％以下とすることが好ましく、５質量％以下とすることがより好ましく、実質的に含有しないことが更に好ましい。

　粘度の改善及びＴｎｉの改善を重視する場合には、水素原子がハロゲンに置換されていてもよい２－メチルベンゼン－１，４－ジイル基を分子内に持つ化合物の含有量を少なくすることが好ましく、前記２－メチルベンゼン－１，４－ジイル基を分子内に持つ化合物の含有量を前記組成物の総質量に対して１０質量％以下とすることが好ましく、５質量％以下とすることがより好ましく、実質的に含有しないことが更に好ましい。

　本発明の第一実施形態の組成物に含有される化合物が、側鎖としてアルケニル基を有する場合、前記アルケニル基がシクロヘキサンに結合している場合には当該アルケニル基の炭素原子数は２～５であることが好ましく、前記アルケニル基がベンゼンに結合している場合には当該アルケニル基の炭素原子数は４～５であることが好ましく、前記アルケニル基の不飽和結合とベンゼンは直接結合していないことが好ましい。

　本発明の液晶組成物には、ＰＳモード、横電界型ＰＳＡモード又は横電界型ＰＳＶＡモードなどの液晶表示素子を作製するために、重合性化合物を含有することができる。使用できる重合性化合物として、光などのエネルギー線により重合が進行する光重合性モノマーなどが挙げられ、構造として、例えば、ビフェニル誘導体、ターフェニル誘導体などの六員環が複数連結した液晶骨格を有する重合性化合物などが挙げられる。更に具体的には、一般式（ＸＸ）

（式中、Ｘ^２０１及びＸ^２０２はそれぞれ独立して、水素原子又はメチル基を表し、
Ｓｐ^２０１及びＳｐ^２０２はそれぞれ独立して、単結合、炭素原子数１～８のアルキレン基又は－Ｏ－（ＣＨ_２）_ｓ－（式中、ｓは２から７の整数を表し、酸素原子は芳香環に結合するものとする。）を表し、
Ｚ^２０１は－ＯＣＨ_２－、－ＣＨ_２Ｏ－、－ＣＯＯ－、－ＯＣＯ－、－ＣＦ_２Ｏ－、－ＯＣＦ_２－、－ＣＨ_２ＣＨ_２－、－ＣＦ_２ＣＦ_２－、－ＣＨ＝ＣＨ－ＣＯＯ－、－ＣＨ＝ＣＨ－ＯＣＯ－、－ＣＯＯ－ＣＨ＝ＣＨ－、－ＯＣＯ－ＣＨ＝ＣＨ－、－ＣＯＯ－ＣＨ_２ＣＨ_２－、－ＯＣＯ－ＣＨ_２ＣＨ_２－、－ＣＨ_２ＣＨ_２－ＣＯＯ－、－ＣＨ_２ＣＨ_２－ＯＣＯ－、－ＣＯＯ－ＣＨ_２－、－ＯＣＯ－ＣＨ_２－、－ＣＨ_２－ＣＯＯ－、－ＣＨ_２－ＯＣＯ－、－ＣＹ^１＝ＣＹ^２－（式中、Ｙ^１及びＹ^２はそれぞれ独立して、フッ素原子又は水素原子を表す。）、－Ｃ≡Ｃ－又は単結合を表し、
Ｍ^２０１は１，４－フェニレン基、トランス－１，４－シクロヘキシレン基又は単結合を表し、式中の全ての１，４－フェニレン基は、任意の水素原子がフッ素原子により置換されていても良い。）で表される二官能モノマーが好ましい。

　Ｘ^２０１及びＸ^２０２は、何れも水素原子を表すジアクリレート誘導体、何れもメチル基を有するジメタクリレート誘導体の何れも好ましく、一方が水素原子を表しもう一方がメチル基を表す化合物も好ましい。これらの化合物の重合速度は、ジアクリレート誘導体が最も早く、ジメタクリレート誘導体が遅く、非対称化合物がその中間であり、その用途により好ましい態様を用いることができる。ＰＳＡ表示素子においては、ジメタクリレート誘導体が特に好ましい。

　Ｓｐ^２０１及びＳｐ^２０２はそれぞれ独立して、単結合、炭素原子数１～８のアルキレン基又は－Ｏ－（ＣＨ_２）_ｓ－を表すが、ＰＳＡ表示素子においては少なくとも一方が単結合であることが好ましく、共に単結合を表す化合物又は一方が単結合でもう一方が炭素原子数１～８のアルキレン基又は－Ｏ－（ＣＨ_２）_ｓ－を表す態様が好ましい。この場合１～４のアルキル基が好ましく、ｓは１～４が好ましい。

　Ｚ^２０１は、－ＯＣＨ_２－、－ＣＨ_２Ｏ－、－ＣＯＯ－、－ＯＣＯ－、－ＣＦ_２Ｏ－、－ＯＣＦ_２－、－ＣＨ_２ＣＨ_２－、－ＣＦ_２ＣＦ_２－又は単結合が好ましく、－ＣＯＯ－、－ＯＣＯ－又は単結合がより好ましく、単結合が特に好ましい。

　Ｍ^２０１は任意の水素原子がフッ素原子により置換されていても良い１，４－フェニレン基、トランス－１，４－シクロヘキシレン基又は単結合を表すが、１，４－フェニレン基又は単結合が好ましい。Ｍ^２０１が単結合以外の環構造を表す場合、Ｚ^２０１は単結合以外の連結基も好ましく、Ｍ^２０１が単結合の場合、Ｚ^２０１は単結合が好ましい。

　これらの点から、一般式（ＸＸ）において、Ｓｐ^２０１及びＳｐ^２０２の間の環構造は、具体的には次に記載する構造が好ましい。

　一般式（ＸＸ）において、Ｍ^２０１が単結合を表し、環構造が二つの環で形成される場合において、次の式（ＸＸａ－１）から式（ＸＸａ－５）を表すことが好ましく、式（ＸＸａ－１）から式（ＸＸａ－３）を表すことがより好ましく、式（ＸＸａ－１）を表すことが特に好ましい。

（式中、両端はＳｐ^２０１又はＳｐ^２０２に結合するものとする。）

　これらの骨格を含む重合性化合物は重合後の配向規制力がＰＳＡ型液晶表示素子に最適であり、良好な配向状態が得られることから、表示ムラが抑制されるか、又は、全く発生しない。

　以上のことから、重合性モノマーとしては、一般式（ＸＸ－１）～一般式（ＸＸ－４）が特に好ましく、中でも一般式（ＸＸ－２）が最も好ましい。

（式中、Ｓｐ^２０は炭素原子数２から５のアルキレン基を表す。）

　本発明の液晶組成物にモノマーを添加する場合において、重合開始剤が存在しない場合でも重合は進行するが、重合を促進するために重合開始剤を含有していてもよい。重合開始剤としては、ベンゾインエーテル類、ベンゾフェノン類、アセトフェノン類、ベンジルケタール類、アシルフォスフィンオキサイド類等が挙げられる。

　本発明における液晶組成物は、さらに、一般式（Ｑ）で表される化合物を含有することができる。

（式中、Ｒ^Ｑは炭素原子数１から２２の直鎖アルキル基又は分岐鎖アルキル基を表し、該アルキル基中の１つ又は２つ以上のＣＨ_２基は、酸素原子が直接隣接しないように、－Ｏ－、－ＣＨ＝ＣＨ－、－ＣＯ－、－ＯＣＯ－、－ＣＯＯ－、－Ｃ≡Ｃ－、－ＣＦ_２Ｏ－、－ＯＣＦ_２－で置換されてよく、Ｍ^Ｑはトランス－１，４－シクロへキシレン基、１，４－フェニレン基又は単結合を表す。）

　Ｒ^Ｑは炭素原子数１から２２の直鎖アルキル基又は分岐鎖アルキル基を表し、該アルキル基中の１つ又は２つ以上のＣＨ_２基は、酸素原子が直接隣接しないように、－Ｏ－、－ＣＨ＝ＣＨ－、－ＣＯ－、－ＯＣＯ－、－ＣＯＯ－、－Ｃ≡Ｃ－、－ＣＦ_２Ｏ－、－ＯＣＦ_２－で置換されてよいが、炭素原子数１から１０の直鎖アルキル基、直鎖アルコキシ基、１つのＣＨ_２基が－ＯＣＯ－又は－ＣＯＯ－に置換された直鎖アルキル基、分岐鎖アルキル基、分岐アルコキシ基、１つのＣＨ_２基が－ＯＣＯ－又は－ＣＯＯ－に置換された分岐鎖アルキル基が好ましく、炭素原子数１から２０の直鎖アルキル基、１つのＣＨ_２基が－ＯＣＯ－又は－ＣＯＯ－に置換された直鎖アルキル基、分岐鎖アルキル基、分岐アルコキシ基、１つのＣＨ_２基が－ＯＣＯ－又は－ＣＯＯ－に置換された分岐鎖アルキル基が更に好ましい。Ｍ^Ｑはトランス－１，４－シクロへキシレン基、１，４－フェニレン基又は単結合を表すが、トランス－１，４－シクロへキシレン基又は１，４－フェニレン基が好ましい。

　一般式（Ｑ）で表される化合物は、より具体的には、下記の一般式（Ｑ－ａ）から一般式（Ｑ－ｄ）で表される化合物が好ましい。

　式中、Ｒ^Ｑ１は炭素原子数１から１０の直鎖アルキル基又は分岐鎖アルキル基が好ましく、Ｒ^Ｑ２は炭素原子数１から２０の直鎖アルキル基又は分岐鎖アルキル基が好ましく、Ｒ^Ｑ３は炭素原子数１から８の直鎖アルキル基、分岐鎖アルキル基、直鎖アルコキシ基又は分岐鎖アルコキシ基が好ましく、Ｌ^Ｑは炭素原子数１から８の直鎖アルキレン基又は分岐鎖アルキレン基が好ましい。一般式（Ｑ－ａ）から一般式（Ｑ－ｄ）で表される化合物中、一般式（Ｑ－ｃ）及び一般式（Ｑ－ｄ）で表される化合物が更に好ましい。

　本願発明の液晶組成物において、一般式（Ｑ）で表される化合物を１種又は２種を含有することが好ましく、１種から５種含有することが更に好ましく、その含有量は０．００１から１質量％であることが好ましく、０．００１から０．１質量％が更に好ましく、０．００１から０．０５質量％が特に好ましい。

＜液晶表示素子＞
　本発明の重合性化合物を含有した液晶組成物は、これに含まれる重合性化合物が紫外線照射により重合することで液晶配向能が付与され、液晶組成物の複屈折を利用して光の透過光量を制御する液晶表示素子に使用される。液晶表示素子として、ＡＭ－ＬＣＤ（アクティブマトリックス液晶表示素子）、ＴＮ（ネマチック液晶表示素子）、ＳＴＮ－ＬＣＤ（超ねじれネマチック液晶表示素子）、ＯＣＢ－ＬＣＤ及びＩＰＳ－ＬＣＤ（インプレーンスイッチング液晶表示素子）に有用であるが、ＡＭ－ＬＣＤに特に有用であり、透過型あるいは反射型の液晶表示素子に用いることができる。

　液晶表示素子に使用される液晶セルの２枚の基板はガラス又はプラスチックの如き柔軟性をもつ透明な材料を用いることができ、一方はシリコン等の不透明な材料でも良い。透明電極層を有する透明基板は、例えば、ガラス板等の透明基板上にインジウムスズオキシド（ＩＴＯ）をスパッタリングすることにより得ることができる。

　カラーフィルターは、例えば、顔料分散法、印刷法、電着法又は、染色法等によって作成することができる。顔料分散法によるカラーフィルターの作成方法を一例に説明すると、カラーフィルター用の硬化性着色組成物を、該透明基板上に塗布し、パターニング処理を施し、そして加熱又は光照射により硬化させる。この工程を、赤、緑、青の３色についてそれぞれ行うことで、カラーフィルター用の画素部を作成することができる。その他、該基板上に、ＴＦＴ、薄膜ダイオード等の能動素子を設けた画素電極を設置してもよい。

　前記基板を、透明電極層が内側となるように対向させる。その際、スペーサーを介して、基板の間隔を調整してもよい。このときは、得られる調光層の厚さが１～１００μｍとなるように調整するのが好ましい。１．５から１０μｍが更に好ましく、偏光板を使用する場合は、コントラストが最大になるように液晶の屈折率異方性Δｎとセル厚ｄとの積を調整することが好ましい。又、二枚の偏光板がある場合は、各偏光板の偏光軸を調整して視野角やコントラトが良好になるように調整することもできる。更に、視野角を広げるための位相差フィルムも使用することもできる。スペーサーとしては、例えば、ガラス粒子、プラスチック粒子、アルミナ粒子、フォトレジスト材料などからなる柱状スペーサー等が挙げられる。その後、エポキシ系熱硬化性組成物等のシール剤を、液晶注入口を設けた形で該基板にスクリーン印刷し、該基板同士を貼り合わせ、加熱しシール剤を熱硬化させる。

　２枚の基板間に重合性化合物含有液晶組成物を狭持させる方法は、通常の真空注入法又はＯＤＦ法などを用いることができる。しかし、真空注入法においては滴下痕が発生しない代わりに、注入の跡が残るという課題がある。本願発明においては、ＯＤＦ法を用いて製造する表示素子に、より好適に使用することができる。ＯＤＦ法の液晶表示素子製造工程においては、バックプレーンまたはフロントプレーンのどちらか一方の基板にエポキシ系光熱併用硬化性などのシール剤を、ディスペンサーを用いて閉ループ土手状に描画し、その中に脱気下で所定量の液晶組成物を滴下後、フロントプレーンとバックプレーンを接合することによって液晶表示素子を製造することができる。本発明の液晶組成物は、ＯＤＦ工程における液晶組成物の滴下が安定的に行えるため、好適に使用することができる。

　重合性化合物を重合させる方法としては、液晶の良好な配向性能を得るためには、適度な重合速度が望ましいので、紫外線又は電子線等の活性エネルギー線を単一又は併用又は順番に照射することによって重合させる方法が好ましい。紫外線を使用する場合、偏光光源を用いても良いし、非偏光光源を用いても良い。また、重合性化合物含有液晶組成物を２枚の基板間に挟持させて状態で重合を行う場合には、少なくとも照射面側の基板は活性エネルギー線に対して適当な透明性が与えられていなければならない。また、光照射時にマスクを用いて特定の部分のみを重合させた後、電場や磁場又は温度等の条件を変化させることにより、未重合部分の配向状態を変化させて、更に活性エネルギー線を照射して重合させるという手段を用いても良い。特に紫外線露光する際には、重合性化合物含有液晶組成物に交流電界を印加しながら紫外線露光することが好ましい。印加する交流電界は、周波数１０Ｈｚから１０ｋＨｚの交流が好ましく、周波数６０Ｈｚから１０ｋＨｚがより好ましく、電圧は液晶表示素子の所望のプレチルト角に依存して選ばれる。つまり、印加する電圧により液晶表示素子のプレチルト角を制御することができる。横電界型ＭＶＡモードの液晶表示素子においては、配向安定性及びコントラストの観点からプレチルト角を８０度から８９．９度に制御することが好ましい。

　照射時の温度は、本発明の液晶組成物の液晶状態が保持される温度範囲内であることが好ましい。室温に近い温度、即ち、典型的には１５～３５℃での温度で重合させることが好ましい。紫外線を発生させるランプとしては、メタルハライドランプ、高圧水銀ランプ、超高圧水銀ランプ等を用いることができる。また、照射する紫外線の波長としては、液晶組成物の吸収波長域でない波長領域の紫外線を照射することが好ましく、必要に応じて、紫外線をカットして使用することが好ましい。照射する紫外線の強度は、０．１ｍＷ／ｃｍ^２～１００Ｗ／ｃｍ^２が好ましく、２ｍＷ／ｃｍ^２～５０Ｗ／ｃｍ^２がより好ましい。照射する紫外線のエネルギー量は、適宜調整することができるが、１０ｍＪ／ｃｍ^２から５００Ｊ／ｃｍ^２が好ましく、１００ｍＪ／ｃｍ^２から２００Ｊ／ｃｍ^２がより好ましい。紫外線を照射する際に、強度を変化させても良い。紫外線を照射する時間は照射する紫外線強度により適宜選択されるが、１０秒から３６００秒が好ましく、１０秒から６００秒がより好ましい。

　本発明の液晶組成物を用いた液晶表示素子は高速応答と表示不良の抑制を両立させた有用なものであり、特に、アクティブマトリックス駆動用液晶表示素子に有用であり、ＶＡモード、ＰＳＶＡモード、ＰＳＡモード、ＩＰＳ（イン・プレーン・スイッチング）モード、ＶＡ－ＩＰＳモード、ＦＦＳ（フリンジ・フィールド・スイッチング）モード又はＥＣＢモード用液晶表示素子に適用できる。

　以下、図面を参照しつつ、本発明に係る液晶表示装置の好適な実施の形態について詳細に説明する。
　図１は、互いに対向する二つの基板と、前記基板間に設けられたシール材と、前記シール材に囲まれた封止領域に封入された液晶とを備えている液晶表示素子を示す断面図である。
　具体的には、第１基板１００上に、ＴＦＴ層１０２、画素電極１０３を設け、その上からパッシベーション膜１０４及び第１配向膜１０５を設けたバックプレーンと、第２基板２００上に、ブラックマトリックス２０２、カラーフィルタ２０３、平坦化膜（オーバーコート層）２０１、透明電極２０４を設け、その上から第２配向膜２０５を設け、前記バックプレーンと対向させたフロントプレーンと、前記基板間に設けられたシール材３０１と、前記シール材に囲まれた封止領域に封入された液晶層３０３とを備え、前記シール材３０１が接する基板面には突起（柱状スペーサー）３０２，３０４が設けられている液晶表示素子の具体的態様を示している。

　前記第１基板又は前記第２基板は、実質的に透明であれば材質に特に限定はなく、ガラス、セラミックス、プラスチック等を使用することができる。プラスチック基板としてはセルロ－ス、トリアセチルセルロ－ス、ジアセチルセルロ－ス等のセルロ－ス誘導体、ポリシクロオレフィン誘導体、ポリエチレンテレフタレ－ト、ポリエチレンナフタレ－ト等のポリエステル、ポリプロピレン、ポリエチレン等のポリオレフィン、ポリカーボネート、ポリビニルアルコ－ル、ポリ塩化ビニル、ポリ塩化ビニリデン、ポリアミド、ポリイミド、ポリイミドアミド、ポリスチレン、ポリアクリレート、ポリメチルメタクリレ－ト、ポリエーテルサルホン、ポリアリレート、さらにガラス繊維－エポキシ樹脂、ガラス繊維－アクリル樹脂などの無機－有機複合材料などを用いることができる。

　なおプラスチック基板を使用する際には、バリア膜を設けることが好ましい。バリア膜の機能は、プラスチック基板が有する透湿性を低下させ、液晶表示素子の電気特性の信頼性を向上することにある。バリア膜としては、それぞれ、透明性が高く水蒸気透過性が小さいものであれば特に限定されず、一般的には酸化ケイ素などの無機材料を用いて蒸着やスパッタリング、ケミカルベーパーデポジション法（ＣＶＤ法）によって形成した薄膜を使用する。

　本発明においては、前記第１基板又は前記第２基板として同素材を使用しても異素材を使用してもよく特に限定はない。ガラス基板を用いれば耐熱性や寸法安定性の優れた液晶表示素子を作製することができて好ましい。またプラスチック基板であれば、ロールツウロール法による製造方法に適し且つ軽量化あるいはフレキシブル化に適しており好ましい。また、平坦性及び耐熱性付与を目的とするならば、プラスチック基板とガラス基板とを組み合わせると良い結果を得ることができる。
　なお後述の実施例においては、第１基板１００又は第２基板２００の材質として基板を使用している。

　バックプレーンには、第１基板１００上に、ＴＦＴ層１０２及び画素電極１０３を設けている。これらは通常のアレイ工程にて製造される。この上にパッシベーション膜１０４及び第１配向膜１０５を設けてバックプレーンが得られる。

　パッシベーション膜１０４（無機保護膜ともいう）はＴＦＴ層を保護するための膜で、通常は窒化膜（ＳｉＮｘ）、酸化膜（ＳｉＯｘ）等を化学的気相成長（ＣＶＤ）技術等により形成する。

　また、第１配向膜１０５は、液晶を配向させる機能を有する膜であり、通常ポリイミドのような高分子材料が用いられることが多い。塗布液には、高分子材料と溶剤からなる配向剤溶液が使われる。配向膜はシール材との接着力を阻害する可能性があるため、封止領域内にパターン塗布する。塗布にはフレキソ印刷法のような印刷法、インクジェットのような液滴吐出法が用いられる。塗布された配向剤溶液は仮乾燥により溶剤が蒸発した後、ベーキングにより架橋硬化される。この後、配向機能を出すために、配向処理を行う。

　配向処理は通常ラビング法にて行われる。前述のように形成された高分子膜上を、レーヨンのような繊維から成るラビング布を用いて一方向にこすることにより液晶配向能が生じる。

　また、光配向法を用いることもある。光配向法は、光感受性を有する有機材料を含む配向膜上に偏光を照射することにより配向能を発生させる方法であり、ラビング法による基板の傷や埃の発生が生じない。光配向法における有機材料の例としては二色性染料を含有する材料がある。二色性染料としては、光二色性に起因するワイゲルト効果による分子の配向誘起もしくは異性化反応（例：アゾベンゼン基）、二量化反応（例：シンナモイル基）、光架橋反応（例：ベンゾフェノン基）、あるいは光分解反応（例：ポリイミド基）のような、液晶配向能の起源となる光反応を生じる基（以下、光配向性基と略す）を有するものを用いることができる。塗布された配向剤溶液は仮乾燥により溶剤が蒸発した後、任意の偏向を有する光（偏光）を照射することで、任意の方向に配向能を有する配向膜を得ることができる。

　一方のフロントプレーンは、第２基板２００上に、ブラックマトリックス２０２、カラーフィルタ２０３、平坦化膜２０１、透明電極２０４、第２配向膜２０５を設けている。

　ブラックマトリックス２０２は、例えば、顔料分散法にて作製する。具体的にはバリア膜２０１を設けた第２基板２００上に、ブラックマトリックス形成用に黒色の着色剤を均一分散させたカラーレジン液を塗布し、着色層を形成する。続いて、着色層をベーキングして硬化する。この上にフォトレジストを塗布し、これをプリベークする。フォトレジストにマスクパターンを通して露光した後に、現像を行って着色層をパターニングする。この後、フォトレジスト層を剥離し、着色層をベーキングしてブラックマトリックス２０２が完成する。

　あるいは、フォトレジスト型の顔料分散液を使用してもよい。この場合は、フォトレジスト型の顔料分散液を塗布し、プリベークしたのち、マスクパターンを通して露光した後に、現像を行って着色層をパターニングする。この後、フォトレジスト層を剥離し、着色層をベーキングしてブラックマトリックス２０２が完成する。

　カラーフィルタ２０３は、顔料分散法、電着法、印刷法あるいは染色法等にて作成する。顔料分散法を例にとると、（例えば赤色の）顔料を均一分散させたカラーレジン液を第２基板２００上に塗布し、ベーキング硬化後、該上にフォトレジストを塗布しプリベークする。フォトレジストにマスクパターンを通して露光した後に現像を行い、パターニングする。この後フォトレジスト層を剥離し、再度ベーキングすることで、（赤色の）カラーフィルタ２０３（２０３ａ）が完成する。作成する色順序に特に限定はない。同様にして、緑カラーフィルタ２０３（２０３ｂ）、青カラーフィルタ２０３（２０３ｃ）を形成する。

　透明電極２０４は、前記カラーフィルタ２０３上に（必要に応じて前記カラーフィルタ２０３上に表面平坦化のためにオーバーコート層（２０１）を設け）を設ける。透明電極２０４は透過率が高い方が好ましく、電気抵抗が小さいほうが好ましい。透明電極２０４はＩＴＯなどの酸化膜をスパッタリング法などによって形成する。

　また、前記透明電極２０４を保護する目的で、透明電極２０４の上にパッシベーション膜を設ける場合もある。

　第２配向膜２０５は、前述の第１配向膜１０５と同じものである。

　以上本発明で使用する前記バックプレーン及び前記フロントプレーンについての具体的態様を述べたが、本願においては該具体的態様に限定されることはなく、所望される液晶表示素子に応じた態様の変更は自由である。

　前記柱状スペーサーの形状は特に限定されず、その水平断面を円形、四角形などの多角形など様々な形状にすることができるが、工程時のミスアラインマージンを考慮して、水平断面を円形または正多角形にすることが特に好ましい。また該突起形状は、円錐台または角錐台であることが好ましい。

　前記柱状スペーサーの材質は、シール材もしくはシール材に使用する有機溶剤、あるいは液晶に溶解しない材質であれば特に限定されないが、加工及び軽量化の面から合成樹脂（硬化性樹脂）であることが好ましい。一方、前記突起は、フォトリソグラフィによる方法や液滴吐出法により、第一の基板上のシール材が接する面に設けることが可能である。このような理由から、フォトリソグラフィによる方法や液滴吐出法に適した、光硬化性樹脂を使用することが好ましい。

　例として、前記柱状スペーサをフォトリソグラフィ法によって得る場合について説明する。図２は、フォトマスクパターンとしてブラックマトリックス上に形成する柱状スペーサー作成用パターンを使用した露光処理工程の図である。

　前記フロントプレーンの透明電極２０４上に、柱状スペーサー形成用の（着色剤を含まない）レジン液を塗布する。続いて、このレジン層４０２をベーキングして硬化する。この上にフォトレジストを塗布し、これをプリベークする。フォトレジストにマスクパターン４０１を通して露光した後に、現像を行ってレジン層をパターニングする。この後、フォトレジスト層を剥離し、レジン層をベーキングして柱状スペーサー（図１の３０２，０３０４）が完成する。

　柱状スペーサーの形成位置はマスクパターンによって所望の位置に決めることができる。従って、液晶表示素子の封止領域内と封止領域外（シール材塗布部分）との両方を同時に作成することができる。また柱状スペーサーは封止領域の品質が低下することがないように、ブラックマトリックスの上に位置するように形成させることが好ましい。このようにフォトリソグラフィ法によって作製された柱状スペーサーのことを、カラムスペーサ又はフォトスペーサと呼ぶことがある。

　前記スペーサーの材質は、ＰＶＡ－スチルバゾ感光性樹脂などのネガ型水溶性樹脂や多官能アクリル系モノマー、アクリル酸共重合体、トリアゾール系開始剤などの混合物が使用される。あるいはポリイミド樹脂に着色剤を分散させたカラーレジンを使う方法もある。本発明においては特に限定はなく、使用する液晶やシール材との相性に従い公知の材質でスペーサーを得ることができる。

　このようにして、フロントプレーン上の封止領域となる面に柱状スペーサーを設けた後、該バックプレーンのシール材が接する面にシール材（図１における３０１）を塗布する。

　シール材の材質は特に限定はなく、エポキシ系やアクリル系の光硬化性、熱硬化性、光熱併用硬化性の樹脂に重合開始剤を添加した硬化性樹脂組成物が使用される。また、透湿性や弾性率、粘度などを制御するために、無機物や有機物よりなるフィラー類を添加することがある。これらフィラー類の形状は特に限定されず、球形、繊維状、無定形などがある。さらに、セルギャップを良好に制御するために単分散径を有する球形や繊維状のギャップ材を混合したり、基板との接着力をより強化するために、基板上突起と絡まりやすい繊維状物質を混合しても良い。このとき使用する繊維状物質の直径はセルギャップの１／５～１／１０以下程度が望ましく、繊維状物質の長さはシール塗布幅よりも短いことが望ましい。

　また、繊維状物質の材質は所定の形状が得られるものであれば特に限定されず、セルロース、ポリアミド、ポリエステルなどの合成繊維やガラス、炭素などの無機材料を適宜選ぶことが可能である。

　シール材を塗布する方法としては、印刷法やディスペンス法があるが、シール材の使用量が少ないディスペンス法が望ましい。シール材の塗布位置は封止領域に悪影響を及ぼさないように通常ブラックマトリックス上とする。次工程の液晶滴下領域を形成するため（液晶が漏れないように）、シール材塗布形状は閉ループ形状とする。

　前記シール材を塗布したフロントプレーンの閉ループ形状（封止領域）に液晶を滴下する。通常はディスペンサーを使用する。滴下する液晶量は液晶セル容積と一致させるため、柱状スペーサーの高さとシール塗布面積とを掛け合わせた体積と同量を基本とする。しかし、セル貼り合わせ工程における液晶漏れや表示特性の最適化のために、滴下する液晶量を適宜調整することもあれば、液晶滴下位置を分散させることもある。

　次に、前記シール材を塗布し液晶を滴下したフロントプレーンに、バックプレーンを貼り合わせる。具体的には、静電チャックのような基板を吸着させる機構を有するステージに前記フロントプレーンと前記バックプレーンとを吸着させ、フロントプレーンの第２配向膜とバックプレーンの第１配向膜とが向きあい、シール材ともう一方の基板が接しない位置（距離）に配置する。この状態で系内を減圧する。減圧終了後、フロントプレーンとバックプレーンとの貼り合せ位置を確認しながら両基板位置を調整する（アライメント操作）。貼り合せ位置の調整が終了したら、フロントプレーン上のシール材とバックプレーンとが接する位置まで基板を接近させる。この状態で系内に不活性ガスを充填させ、徐々に減圧を開放しながら常圧に戻す。このとき、大気圧によりフロントプレーンとバックプレーンが貼り合わされ、柱状スペーサーの高さ位置でセルギャップが形成される。この状態でシール材に紫外線を照射してシール材を硬化することによって液晶セルを形成する。この後、場合によって加熱工程を加え、シール材硬化を促進する。シール材の接着力強化や電気特性信頼性の向上のために、加熱工程を加えることが多い。

　以下に実施例を挙げて本発明を更に詳述するが、本発明はこれらの実施例に限定されるものではない。また、以下の実施例及び比較例の組成物における「％」は『質量％』を意味する。

　実施例中、測定した特性は以下の通りである。
　Ｔｎｉ　：ネマチック相－等方性液体相転移温度（℃）
　Δｎ　：２９８Ｋにおける屈折率異方性（別名：複屈折率）
　Δε　：２９５Ｋおける誘電率異方性
　η　　：２９３Ｋにおける粘度（ｍＰａ・ｓ）
　γ１　：２９５Ｋにおける回転粘性（ｍＰａ・ｓ）
　ＶＨＲ：周波数６０Ｈｚ，印加電圧４Ｖの条件下で３３３Ｋにおける電圧保持率（％）

＜焼き付きの評価＞
　液晶表示素子の焼き付き評価は、表示エリア内に所定の固定パターンを６週間表示させた後に、全画面均一な表示を行ったときの固定パターンの残像のレベルを目視にて以下の４段階評価で行った。

　◎：残像無し
　○：残像ごく僅かに有るも許容できるレベル
　△：残像有り許容できないレベル
　×：残像有りかなり劣悪

＜揮発性（製造装置汚染性）の評価＞
　容量０．３３Ｌの真空攪拌脱泡ミキサーの専用容器に液晶組成物を０．１５ｋｇ入れ、公転速度２０Ｓ^－１、自転速度１０．０Ｓ^－１で真空攪拌脱泡ミキサーを運転しながら１５ｋＰａまで脱気し、液晶材料の発泡を目視観察した。揮発性は、ミキサー運転開始から発泡が始まるまでの時間により、以下の４つのレベルに分類した。

　◎：発泡するまで３分以上を要した。揮発による装置汚染の可能性が低い。
　○：発泡するまで１分以上かつ３分未満であった。揮発による軽微な装置汚染の懸念あり。
　△：発泡するまで３０秒以上かつ１分未満であった。揮発による装置汚染が起きる。
　×：発泡するまで３０秒以内であった。揮発による重大な装置汚染の懸念がある。

＜プロセス適合性の評価＞
　ＯＤＦプロセスにおいて、定積計量ポンプを用いて１回に５０ｐＬずつ液晶を滴下することを１０００００回行い、「０～１００回、１０１～２００回、２０１～３００回、・・・・９９９０１～１０００００回」の各１００回ずつ滴下されたときの液晶量の変化を以下の４段階で評価した。

　◎：変化が極めて小さい（安定的に液晶表示素子を製造できる）
　○：変化が僅かに有るも許容できるレベル
　△：変化が有り許容できないレベル（斑発生により歩留まりが悪化）
　×：変化が有りかなり劣悪（液晶漏れや真空気泡が発生）

＜低温における溶解性の評価＞
　低温での溶解性評価は、液晶組成物を調製後、１ｍＬのサンプル瓶に液晶組成物を０．５ｇ秤量し、これに温度制御式試験槽の中で、次を１サイクル「－２５℃（１時間保持）→昇温（０．２℃／毎分）→０℃（１時間保持）→昇温（０．２℃／毎分）→２５℃（１時間保持）→降温（－０．２℃／毎分）→０℃（１時間保持）→降温（－０．２℃／毎分）→－２５℃」として温度変化を与え続け、目視にて液晶組成物からの析出物の発生を観察し、以下の４段階評価を行った。

　◎：４８０時間以上析出物が観察されなかった。
　○：２４０時間以上析出物が観察されなかった。
　△：１２０時間以内に析出物が観察された。
　×：６０時間以内に析出物が観察された。

（実施例１）
　以下に示す組成物を調製した。実施例１の組成物の物性値を表１に示す。

（比較例１）
　前記一般式（ｉｉ）で表される化合物を含有しない、以下に示す組成物を調製した。比較例１の組成物の物性値を表２に示す。

　前記一般式（ｉｉ）で表される化合物を含有しない比較例１の組成物は、前記一般式（ｉｉ）で表される化合物を含有する実施例１の組成物と比べてＴｎｉが低く、Δεが小さいことが示された。

（実施例２）
　以下に示す組成物を調製した。実施例２の組成物の物性値を表３に示す。

（実施例３）
　以下に示す組成物を調製した。実施例３の組成物の物性値を表４に示す。

（実施例４）
　以下に示す組成物を調製した。実施例４の組成物の物性値を表５に示す。

（実施例５）
　以下に示す組成物を調製した。実施例５の組成物の物性値を表６に示す。

（実施例６）
　以下に示す組成物を調製した。実施例６の組成物の物性値を表７に示す。

（実施例７）
　以下に示す組成物を調製した。実施例７の組成物の物性値を表８に示す。

（実施例８）
　以下に示す組成物を調製した。実施例８の組成物の物性値を表９に示す。

（実施例９）
　以下に示す組成物を調製した。実施例９の組成物の物性値を表１０に示す。

（実施例１０）
　以下に示す組成物を調製した。実施例１０の組成物の物性値を表１１に示す。

（実施例１１）
　以下に示す組成物を調製した。実施例１１の組成物の物性値を表１２に示す。

（実施例１２）
　以下に示す組成物を調製した。実施例１２の組成物の物性値を表１３に示す。

（実施例１３）
　以下に示す組成物を調製した。実施例１３の組成物の物性値を表１４に示す。

以上で説明した各実施態様における各構成及びそれらの組み合わせ等は一例であり、本発明の趣旨を逸脱しない範囲で、構成の付加、省略、置換、およびその他の変更が可能である。また、本発明は各実施態様によって限定されることはなく、請求項（クレーム）の範囲によってのみ限定される。
　各実施例に記載の液晶組成物の初期ＶＨＲ、加熱後（１５０℃、１時間）のＶＨＲ、焼き付き評価、揮発性の評価、プロセス適合性の評価及び低温における溶解性の評価を表１５～表１７に記載する。

　広い温度範囲の液晶相を有し、粘性が小さく、低温での溶解性が良好であり、比抵抗や電圧保持率が高く、熱や光に対して安定であり、焼き付きや滴下痕等の表示不良が発生し難い、表示品位に優れた液晶表示素子を歩留まり良く製造可能な、Δεが正の液晶組成物を提供すること、及びこの液晶組成物を用いた液晶表示素子を提供できる。

　１００　　第１基板
　１０２　　ＴＦＴ層
　１０３　　画素電極
　１０４　　パッシベーション膜
　１０５　　第１配向膜
　２００　　第２基板
　２０１　　平坦化膜（オーバーコート層）
　２０２　　ブラックマトリックス
　２０３　　カラーフィルタ
　２０４　　透明電極
　２０５　　第２配向膜
　３０１　　シール材
　３０２　　突起（柱状スペーサー）
　３０３　　液晶層
　３０４　　突起（柱状スペーサー）
　４０１　　マスクパターン
　４０２　　レジン層
　　Ｌ　　　光

Claims

　下記一般式（ｉ）で表される化合物を１種又は２種以上を含有し、下記一般式（ｉｉ）で表される化合物を１種又は２種以上を含有する液晶組成物。

（式中、Ｒ^ｉ１、Ｒ^ｉ２及びＲ^ｉｉ１はそれぞれ独立して炭素原子数１～８のアルキル基を表し、該アルキル基中の１個又は非隣接の２個以上の－ＣＨ_２－はそれぞれ独立して－ＣＨ＝ＣＨ－、－Ｃ≡Ｃ－、－Ｏ－、－ＣＯ－、－ＣＯＯ－又は－ＯＣＯ－によって置換されていてもよく、該アルキル基中の水素原子はフッ素原子又は塩素原子によって置換されていてもよく、Ｘ^ｉ１、Ｘ^ｉ２、Ｘ^ｉ３、Ｘ^ｉ４、Ｘ^ｉｉ１及びＸ^ｉｉ２はそれぞれ独立して水素原子又はフッ素原子を表し、Ａ^ｉｉ１、Ａ^ｉｉ２及びＡ^ｉｉ３はそれぞれ独立してトランス－１，４－シクロヘキシレン基又は水素原子がフッ素原子又は塩素原子によって置換されていてもよい１，４－フェニレン基を表す。）
　前記一般式（ｉ）におけるＸ^ｉ２がフッ素原子である請求項１に記載の液晶組成物。
前記一般式（ｉｉ）におけるＡ^ｉｉ１がトランス－１，４－シクロヘキシレン基である請求項１に記載の液晶組成物。
前記一般式（ｉｉ）におけるＡ^ｉｉ２及びＡ^ｉｉ３が、水素原子がフッ素原子によって置換されていてもよい１，４－フェニレン基である請求項１に記載の液晶組成物。
前記一般式（ｉｉ）におけるＸ^ｉｉ１がフッ素原子である請求項１記載の液晶組成物。
下記一般式（Ｌ）で表される化合物を含有する請求項１に記載の液晶組成物。

（式中、Ｒ^Ｌ１及びＲ^Ｌ２はそれぞれ独立して炭素原子数１～８のアルキル基を表し、該アルキル基中の１個又は非隣接の２個以上の－ＣＨ_２－はそれぞれ独立して－ＣＨ＝ＣＨ－、－Ｃ≡Ｃ－、－Ｏ－、－ＣＯ－、－ＣＯＯ－又は－ＯＣＯ－によって置換されていてもよく、
　ＯＬは０、１、２又は３を表し、
　Ｂ^Ｌ１、Ｂ^Ｌ２及びＢ^Ｌ３はそれぞれ独立して
（ａ）　１，４－シクロヘキシレン基（この基中に存在する１個の－ＣＨ_２－又は隣接していない２個以上の－ＣＨ_２－は－Ｏ－に置き換えられてもよい。）及び
（ｂ）　１，４－フェニレン基（この基中に存在する１個の－ＣＨ＝又は隣接していない２個以上の－ＣＨ＝は－Ｎ＝に置き換えられてもよい。）
からなる群より選ばれる基を表し、上記の基（ａ）、基（ｂ）中の１個又は２個以上の水素原子はそれぞれ独立してシアノ基、フッ素原子又は塩素原子で置換されていても良く、
　Ｌ^Ｌ１及びＬ^Ｌ２はそれぞれ独立して単結合、－ＣＨ_２ＣＨ_２－、－（ＣＨ_２）_４－、－ＯＣＨ_２－、－ＣＨ_２Ｏ－、－ＣＯＯ－、－ＯＣＯ－、－ＯＣＦ_２－、－ＣＦ_２Ｏ－、－ＣＨ＝Ｎ－Ｎ＝ＣＨ－、－ＣＨ＝ＣＨ－、－ＣＦ＝ＣＦ－又は－Ｃ≡Ｃ－を表し、
　ＯＬが２又は３であってＬ^Ｌ２が複数存在する場合は、それらは同一であっても異なっていても良く、ＯＬが２又は３であってＢ^Ｌ３が複数存在する場合は、それらは同一であっても異なっていても良い。ただし、一般式（ｉ）で表される化合物を除く。）
　下記一般式（Ｍ）で表される化合物を含有する請求項１に記載の組成物。

（式中、Ｒ^Ｍ１は炭素原子数１～８のアルキル基を表し、該アルキル基中の１個又は非隣接の２個以上の－ＣＨ_２－はそれぞれ独立して－ＣＨ＝ＣＨ－、－Ｃ≡Ｃ－、－Ｏ－、－ＣＯ－、－ＣＯＯ－又は－ＯＣＯ－によって置換されていてもよく、
　ＰＭは、０、１、２、３又は４を表し、
　Ｃ^Ｍ１及びＣ^Ｍ２はそれぞれ独立して、
（ｄ）　１，４－シクロヘキシレン基（この基中に存在する１個の－ＣＨ_２－又は隣接していない２個以上の－ＣＨ_２－は－Ｏ－又は－Ｓ－に置き換えられてもよい。）及び
（ｅ）　１，４－フェニレン基（この基中に存在する１個の－ＣＨ＝又は隣接していない２個以上の－ＣＨ＝は－Ｎ＝に置き換えられてもよい。）
からなる群より選ばれる基を表し、上記の基（ｄ）、基（ｅ）中の１個又は２個以上の水素原子はそれぞれ独立してシアノ基、フッ素原子又は塩素原子で置換されていても良く、
　Ｋ^Ｍ１及びＫ^Ｍ２はそれぞれ独立して単結合、－ＣＨ_２ＣＨ_２－、－（ＣＨ_２）_４－、－ＯＣＨ_２－、－ＣＨ_２Ｏ－、－ＯＣＦ_２－、－ＣＦ_２Ｏ－、－ＣＯＯ－、－ＯＣＯ－又は－Ｃ≡Ｃ－を表し、
　ＰＭが２、３又は４であってＫ^Ｍ１が複数存在する場合は、それらは同一であっても異なっていても良く、ＰＭが２、３又は４であってＣ^Ｍ２が複数存在する場合は、それらは同一であっても異なっていても良く、
　Ｘ^Ｍ１及びＸ^Ｍ３はそれぞれ独立して水素原子、塩素原子又はフッ素原子を表し、
　Ｘ^Ｍ２は、水素原子、フッ素原子、塩素原子、シアノ基、トリフルオロメチル基、フルオロメトキシ基、ジフルオロメトキシ基、トリフルオロメトキシ基又は２，２，２－トリフルオロエチル基を表す。ただし、一般式（ｉｉ）で表される化合物を除く。）
請求項１に記載の組成物を使用した液晶表示素子。
請求項１に記載の組成物を使用したＩＰＳモード用、ＯＣＢモード、ＥＣＢモード、ＶＡモード、ＶＡ－ＩＰＳモード又はＦＦＳモード液晶表示素子。
　請求項８又は９に記載の液晶表示素子を使用した液晶ディスプレイ。