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WO2013122006A1 - タッチパネル及び位置検出方法 - Google Patents

タッチパネル及び位置検出方法 Download PDF

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Publication number
WO2013122006A1
WO2013122006A1 PCT/JP2013/053086 JP2013053086W WO2013122006A1 WO 2013122006 A1 WO2013122006 A1 WO 2013122006A1 JP 2013053086 W JP2013053086 W JP 2013053086W WO 2013122006 A1 WO2013122006 A1 WO 2013122006A1
Authority
WO
WIPO (PCT)
Prior art keywords
conductive film
touch panel
transparent conductive
film
position detection
Prior art date
Application number
PCT/JP2013/053086
Other languages
English (en)
French (fr)
Inventor
光洋 関沢
桜井　聡
信吉 清水
倉島　茂美
Original Assignee
富士通コンポーネント株式会社
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
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Publication date
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Priority claimed from JP2012031102A external-priority patent/JP2013168033A/ja
Priority claimed from JP2012039313A external-priority patent/JP2013175058A/ja
Application filed by 富士通コンポーネント株式会社 filed Critical 富士通コンポーネント株式会社
Priority to KR1020147021615A priority Critical patent/KR101631780B1/ko
Priority to CN201380008855.2A priority patent/CN104106028B/zh
Publication of WO2013122006A1 publication Critical patent/WO2013122006A1/ja
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    • H03K2217/9607—Capacitive touch switches
    • H03K2217/960755—Constructional details of capacitive touch and proximity switches

Definitions

  • the present invention relates to a touch panel and a position detection method.
  • a touch panel is an input device that allows direct input to the display, and is often used by installing it on the front of the display. It can be directly input based on information visually captured by the display. Are used in various applications.
  • the resistive film type touch panel is installed so that each transparent conductive film is opposed to each other in the upper electrode substrate and the lower electrode substrate on which the transparent conductive film is formed, and each of the upper electrode substrates is applied with a force.
  • the transparent conductive films are in contact with each other, and the position where the force is applied can be detected.
  • Resistive film type touch panels can be broadly classified into 4-wire, 5-wire, and diode types.
  • an X-axis electrode is provided on one of the upper electrode substrate and the lower electrode substrate, and a Y-axis electrode is provided on the other (for example, Patent Document 1).
  • both the X-axis electrode and the Y-axis electrode are provided on the lower electrode substrate, and the upper electrode substrate functions as a probe for detecting a voltage (for example, Patent Documents). 2).
  • the diode type has a structure in which a diode is provided on the lower electrode substrate, and is provided with two electrodes for applying a voltage and four electrodes for monitoring a potential.
  • the electrodes provided on the upper electrode substrate that functions as a probe for detecting the presence of seven electrodes it is also called a seven-wire type (for example, Patent Document 3).
  • the electrostatic capacity method detects the position by detecting the current flowing through the transparent electrode or the like of the touch panel when a finger or the like approaches the touch panel.
  • the capacitive touch panel is a detection method based on capacitive coupling, it has a feature that the position can be detected by simply touching without touching, but the position is not detected by contact with an insulator. It cannot be detected.
  • the resistance film type touch panel has a feature that the material of the touch panel does not matter, but the position detection includes a transparent conductive film as an upper resistance film and a transparent conductive film as a lower resistance film. Since it is performed by touching, it is necessary to press the touch panel with a predetermined force.
  • Patent Documents 4 and 5 has a structure in which a capacitive touch panel and a resistive film type touch panel are stacked, and the capacitive touch panel and the resistive film system.
  • the touch panel has good features.
  • the touch panel having such a structure has two types of touch panels laminated, it has a problem that the thickness is increased and a problem that the cost is increased.
  • the present invention has been made in view of the above, and has a characteristic of a capacitive touch panel and a good characteristic of a resistive touch panel, that is, a position can be detected and touched only by touching.
  • the object is to provide a thin touch panel at a low cost regardless of the material of the object. It is another object of the present invention to provide a position detection method for such a touch panel.
  • the touch panel is formed in a strip shape that is long in one direction and has a plurality of separation regions formed in a strip shape, and is elongated in the other direction substantially orthogonal to the one direction.
  • a second conductive film having a plurality of isolated regions and a third conductive film, wherein the plurality of isolation regions in the first conductive film are arranged in the other direction, The plurality of separation regions in the conductive film are arranged in the one direction, and the coordinate position is detected by capacitive coupling by the first conductive film and the second conductive film.
  • the position of the coordinate position in contact is detected.
  • the touch panel includes a first substrate extending in a first direction and having a plurality of strip-shaped first conductive films having electrodes at one end in the first direction.
  • a second substrate having a plurality of strip-like second conductive films extending in a second direction orthogonal to the first direction and having electrodes at both ends of the second direction;
  • a third substrate on which a third conductive film is formed in a planar shape, and the first substrate, the second substrate, and the third substrate are stacked in this order.
  • the first conductive film having a plurality of separation regions formed in a strip shape long in one direction, and the separation formed in a strip shape long in the other direction substantially orthogonal to the one direction.
  • a second conductive film having a plurality of regions, and a third conductive film, wherein the isolation regions in the first conductive film are arranged in the other direction, and the isolation in the second conductive film.
  • the method of detecting the position of the touch panel in which the regions are arranged in the one direction includes a step of detecting a coordinate position by capacitive coupling using the first conductive film and the second conductive film.
  • a potential gradient is generated in a predetermined direction, and the second conductive film and the third conductive film are in contact with each other on the other side.
  • a position detection method on a touch panel can be provided.
  • the touch panel in the first embodiment includes a first transparent conductive film 10, a second transparent conductive film 20, and a third transparent conductive film 30.
  • position detection at a contact point can be performed by a capacitance method using the first transparent conductive film 10 and the second transparent conductive film 20, and the second transparent conductive film.
  • Position detection at the contact point can be performed by the resistance film method using the film 20 and the third transparent conductive film 30.
  • the first conductive film is the first transparent conductive film 10
  • the second conductive film is the second transparent conductive film 20
  • the third conductive film is the third conductive film.
  • the transparent conductive film 30 is assumed.
  • the first transparent conductive film 10 is formed on one surface of the first transparent substrate 11, and has a plurality of strip-shaped separation regions 10a formed long in the X-axis direction.
  • the plurality of separation regions 10a are arranged so as to be aligned in the Y-axis direction, and an electrode 12 is connected to the end of each separation region 10a.
  • the reference numerals are omitted, but the electrodes 12 are formed in all the separation regions 10a.
  • the second transparent conductive film 20 is formed on one surface of the second transparent substrate 21, and has a plurality of strip-shaped separation regions 20a and 20b formed long in the Y-axis direction.
  • the separation regions 20a and 20b are alternately arranged in the X-axis direction, and electrodes 22a and 22b are connected to both ends of each separation region 20a and 20b, that is, both ends in the Y-axis direction. .
  • the reference numerals are omitted, but the electrodes 22a and 22b are formed in all the separation regions 20a and 20b.
  • the third transparent conductive film 30 is formed substantially on one surface of the third transparent substrate 31, and electrodes 32a and 32b are connected to both ends in the X-axis direction.
  • the first transparent conductive film 10, the second transparent conductive film 20, and the third transparent conductive film 30 are metal oxides such as ITO (indium-tin oxide) and AZO (Al-doped zinc oxide), It is formed of a transparent material having conductivity.
  • the first transparent conductive film 10, the second transparent conductive film 20, and the third transparent conductive film 30 may be formed of a material other than a metal oxide as long as it is a transparent material having conductivity. . That is, any material that has conductivity and can transmit light may be used. Specifically, it is formed of a material called an alternative material such as ITO, such as a conductive polymer, metal nanowire, or carbon nanotube. Also good.
  • the first transparent substrate 11 and the second transparent substrate 21 are made of a transparent resin material such as PET (Polyethylene terephthalate) and is easily bent.
  • the third transparent substrate 31 is formed of a transparent inorganic material such as glass or a transparent resin material such as plastic.
  • the first transparent substrate 11 and the second transparent substrate 21 are formed with one surface of the first transparent substrate 11, that is, the first transparent conductive film 10.
  • the surface and the other surface of the second transparent substrate 21 are joined by a transparent adhesive layer 41.
  • the transparent adhesive layer 41 include a transparent adhesive such as an epoxy resin.
  • the second transparent substrate 21 and the third transparent substrate 31 are frame-shaped in a state where one surface of the second transparent substrate 21 and one surface of the third transparent substrate 31 face each other. It is joined by an adhesive member 42 such as a double-sided tape.
  • an adhesive member 42 such as a double-sided tape.
  • the touch panel in the present embodiment is one in which position detection by the capacitance method and position detection by the resistance film method are time-divisionally performed alternately. That is, when the position detection by the capacitance method is performed, the position detection by the resistance film method is not performed, and when the position detection by the resistance film method is performed, the position detection by the capacitance method is not performed.
  • the position detection by a capacitive method is performed on the touch panel in the present embodiment.
  • the position detection at the contact point is performed using the first transparent conductive film 10 and the second transparent conductive film 20.
  • the separation regions in the first transparent conductive film 10 and the second transparent conductive film 20 are formed apart from each other.
  • the first transparent conductive film 10 is used only in the capacitance method, the interval between the separation regions 10a in the first transparent conductive film 10 is widely formed.
  • the second transparent conductive film 20 is used not only in the electrostatic capacity method but also in the resistive film method, the second transparent conductive film 20 is formed with respective isolation regions 20a and 20b.
  • regions 20a and 20b is formed narrowly, and the space
  • the film 10 is formed narrower than the interval between the separation regions 10a.
  • the separation region 20a when position detection is performed in the capacitive method, the separation region 20a is driven through the electrode 22a, but the separation region 20b is not driven through the electrode 22a. Furthermore, it is in an open state, that is, in a floating state without being grounded.
  • the first transparent conductive film 10 and the separation region 20a in the second transparent conductive film 20 are used.
  • position detection by the resistive film method position detection is performed using the second transparent conductive film 20 and the third transparent conductive film 30. Specifically, position detection is performed by the same method as the 4-wire type in the resistive film type.
  • position detection is performed by the same method as the 4-wire type in the resistive film type.
  • the separation regions formed in the second transparent conductive film 20 are narrowly formed. If possible, the third transparent conductive film is formed. It is preferable that it is formed on one surface without being divided into each separation region as in 30.
  • the 2nd transparent conductive film 20 is used also in an electrostatic capacitance system, it needs to isolate
  • a potential gradient is generated in the second transparent conductive film 20 by applying a predetermined voltage to the electrodes 22a and 22b, so that the third By detecting the potential at the position in contact with the second transparent conductive film 20 by the transparent conductive film 30, the coordinates of the contact point in the Y direction are detected.
  • a potential gradient is generated in the third transparent conductive film 30 by applying a predetermined voltage to the electrodes 32 a and 32 b, and the second transparent conductive film 20 is in contact with the third transparent conductive film 30.
  • the separation regions 20a and 20b in the second transparent conductive film 20 and the third transparent conductive film 30 are used.
  • This embodiment is a touch panel having a structure in which a transparent conductive film for preventing noise from a display device such as a liquid crystal display device is formed, and will be described with reference to FIGS.
  • the touch panel in the present embodiment is installed on a display device 60 such as a liquid crystal display device, and includes a first transparent conductive film 10, a second transparent conductive film 20, and a third transparent conductive film 30. And a fourth transparent conductive film 50.
  • the fourth transparent conductive film 50 is formed on the side facing the display device 60, for example, the other surface of the third transparent substrate 31 in the touch panel in the present embodiment, and the fourth transparent conductive film 50.
  • the fourth transparent conductive film 50 is formed of the same material as the first transparent conductive film 10 and the like. Such a fourth transparent conductive film 50 in the present embodiment is a fourth conductive film.
  • the second transparent conductive film 20 is formed on one surface of the second transparent substrate 21, and the first transparent conductive film 10 is formed on the other surface. It is of the formed structure.
  • the touch panel similar to 1st Embodiment can be formed, without forming the 1st transparent substrate 11, and the whole thickness in a touch panel can be made thin.
  • a structure in which a thin first transparent substrate 11A on which a transparent conductive film is not formed is further bonded by an adhesive layer 41 or the like may be used.
  • a decorative film serving as a decorative portion is formed on the touch panel.
  • a decorative film 70 serving as a decorative portion formed of a black insulator material is formed on the edge of one surface of the first transparent substrate 11, and The first transparent conductive film 10 is formed thereon.
  • the decorative film 70 can be formed on one surface of the first transparent substrate 11 by a printing method such as screen printing or by sticking a film that becomes the decorative film 70.
  • the first transparent conductive film 10 can be formed by pasting a transparent conductive film on the one on which the decorative film 70 is formed, or by a film forming method such as sputtering.
  • the touch panel according to the present embodiment has a conductive property serving as a decoration portion on the first transparent conductive film 10 formed on one surface of the first transparent substrate 11.
  • the decorative film 71 may be formed.
  • the decorative film 71 is formed of a black conductive material, and is formed by a printing method such as screen printing using a black conductive paste, for example.
  • a black insulator region 72 is formed of a black insulating material.
  • the material for forming the black conductive paste include materials containing silver carbon or the like.
  • a black insulating material the thing containing the pigment which consists of a black oxide which has insulation, a black resin material, etc. are mentioned.
  • 9A is a cross-sectional view of the touch panel
  • FIG. 9B is a plan view of the first transparent substrate 10 as viewed from one surface.
  • the touch panel in the present embodiment has an insulating property that serves as a decoration portion on the first transparent conductive film 10 formed on one surface of the first transparent substrate 11.
  • the decorative film 73 may be formed.
  • the decorative film 73 can be formed by a printing method such as screen printing using a black insulating paste.
  • the material for forming the black insulating paste include those containing a pigment made of black oxide having insulating properties and black resin materials.
  • a transparent conductive film 74 is formed to connect each region in the first transparent conductive film 10 and the electrode 12 corresponding to each region.
  • region can be electrically connected by the transparent conductive film 74.
  • the transparent conductive film 74 can be formed by a printing method such as screen printing using a transparent conductive pace formed of a transparent conductive material having conductivity. Examples of the material for forming the transparent conductive paste include those containing fine particles of a transparent conductive material such as ITO.
  • 10A is a cross-sectional view of the touch panel
  • FIG. 10B is a plan view of the first transparent substrate 10 as viewed from one surface.
  • This embodiment is a touch panel having a structure in which an antireflection film is formed in order to prevent reflection on a substrate, a transparent conductive film, or the like.
  • an antireflection film By forming the antireflection film, reflection on the touch panel can be reduced, and each separation region in the first transparent conductive film 10 or the second transparent conductive film 20 can be made inconspicuous.
  • an antireflection film 81 is formed on the other surface of the first transparent substrate 11, and on one surface of the first transparent substrate 11.
  • An antireflection film 82 is formed.
  • An antireflection film 83 is formed on the other surface of the second transparent substrate 21, and an antireflection film 84 is formed on one surface of the second transparent substrate 21.
  • an antireflection film 85 is formed on one surface of the third transparent substrate 31, and an antireflection film 86 is formed on the other surface of the third transparent substrate 31.
  • the touch panel in the present embodiment may be formed with a part of the antireflection films 81 to 86 or may be formed with all of them.
  • the antireflection film 82 is formed between the first transparent substrate 11 and the first transparent conductive film 10
  • the antireflection film 84 is the second transparent substrate 21.
  • the second transparent conductive film 20 and the antireflection film 85 is formed between the third transparent substrate 31 and the third transparent conductive film 30.
  • the antireflection film 82 may be formed on the surface of the first transparent conductive film 10
  • the antireflection film 84 is formed on the surface of the second transparent conductive film 20.
  • the antireflection film 85 may be formed on the surface of the third transparent conductive film 30.
  • Such antireflection films 81 to 86 may be formed by a dielectric multilayer film in which dielectrics having different refractive indexes are alternately formed by a film forming method such as vacuum deposition or sputtering, or an AR film or the like. It may be formed by attaching an antireflection film. Thereby, reflection in a touch panel can be reduced.
  • This embodiment is a touch panel having a structure in which a polarizing plate is provided in order to prevent reflection on the touch panel.
  • the touch panel in the present embodiment is used when a liquid crystal display device is used as the display device 60, and specifically, on the other surface of the first transparent substrate 11, as shown in FIG.
  • the polarizing plate 90 is provided.
  • the touch panel having the structure shown in FIG. 12 is installed on the display screen of the display device 60, and is installed so that the display device 60 is located on the other surface side of the third transparent substrate 31.
  • the polarizing plate 90 is attached to the other surface of the first transparent substrate 11 with an adhesive layer 44.
  • the polarizing plate 90 is installed after the position of the polarizing plate used in the display device 60 is adjusted with the polarization direction. Thereby, reflection in a touch panel can be reduced.
  • the touch panel in the present embodiment is used when the display device 60 is a liquid crystal display device, and also uses the polarizing plate 90. Therefore, the first transparent substrate 11, the second transparent substrate 21, and the second transparent substrate are used.
  • the third transparent substrate 31 is preferably made of an optically isotropic material that does not have birefringence or the like. Specifically, the first transparent substrate 11, the second transparent substrate 21, and the third transparent substrate 31 are optically isotropic such as optically isotropic resin material such as polycarbonate or glass. It is preferably formed of an inorganic material having
  • the touch panel in the first embodiment will be described.
  • the touch panel in the present embodiment includes a first transparent conductive film 110 and a second transparent conductive film 120.
  • position detection at the contact point (contact position) can be performed by the electrostatic capacitance method using the first transparent conductive film 110 and the second transparent conductive film 120, and the resistance film method.
  • position detection at the contact point (contact position) can be performed.
  • the first conductive film is the first transparent conductive film 110
  • the second conductive film is the second transparent conductive film 120.
  • the first transparent conductive film 110 is formed on one surface of the first transparent substrate 111, and has a plurality of strip-shaped separation regions 110a and 110b formed long in the X-axis direction.
  • the separation regions 110a and 110b are alternately arranged in the Y-axis direction, and electrodes 112a and 112b are connected to both ends of each separation region 110a and 110b, that is, both ends in the X-axis direction.
  • the reference numerals are omitted, but the electrodes 112a and 112b are formed in all the separation regions 110a and 110b.
  • the second transparent conductive film 120 is formed on one surface of the second transparent substrate 121, and has a plurality of strip-shaped separation regions 120a and 120b formed long in the Y-axis direction.
  • the separation regions 120a and 120b are alternately arranged in the X-axis direction, and electrodes 122a and 122b are connected to both ends of each separation region 120a and 120b, that is, both ends in the Y-axis direction.
  • the reference numerals are omitted, but the electrodes 122a and 122b are formed in all the separation regions 120a and 120b.
  • the first transparent conductive film 110 and the second transparent conductive film 120 are metal oxides such as ITO (indium-tin oxide) and AZO (Al-doped zinc oxide), and are made of a transparent material having conductivity. Is formed.
  • ITO indium-tin oxide
  • AZO Al-doped zinc oxide
  • the 1st transparent conductive film 110 and the 2nd transparent conductive film 120 are transparent materials which have electroconductivity, you may form with materials other than a metal oxide. That is, any material that has conductivity and can transmit light may be used. Specifically, it is formed of a material called an alternative material such as ITO, such as a conductive polymer, metal nanowire, or carbon nanotube. Also good.
  • the first transparent substrate 111 is a transparent resin material such as PET (Polyethylene terephthalate), and is formed of a material that is easily bent.
  • the second transparent substrate 121 is made of a transparent inorganic material such as glass or a transparent resin material such as plastic.
  • the first transparent substrate 111 and the second transparent substrate 121 have one surface of the first transparent substrate 111 and one surface of the second transparent substrate 121 opposed to each other. In this state, they are joined by an adhesive member 142 such as a frame-like double-sided tape. As a result, a space 143 is formed by the first transparent substrate 111 and the second transparent substrate 121, and the first transparent conductive film 110 and the second transparent conductive film 120 are opposed to each other through the space 143. Be placed.
  • the touch panel in the present embodiment is one in which position detection by the capacitance method and position detection by the resistance film method are time-divisionally performed alternately. That is, when the position detection by the capacitance method is performed, the position detection by the resistance film method is not performed, and when the position detection by the resistance film method is performed, the position detection by the capacitance method is not performed.
  • the position detection at the contact point is performed using the first transparent conductive film 110 and the second transparent conductive film 120.
  • the separation regions in the first transparent conductive film 110 and the second transparent conductive film 120 are formed apart from each other.
  • the first transparent conductive film 110 and the second transparent conductive film 120 are used not only in the capacitive method but also in the resistive film method.
  • the separation regions 110a and 110b are formed in the first transparent conductive film 110, and the separation regions 120a and 120b are formed in the second transparent conductive film 120.
  • only the separation region 110a of the separation regions 110a and 110b is used, and only the separation region 120a of the separation regions 120a and 120b is used. That is, in the touch panel in this embodiment, when position detection is performed by the capacitive method, the separation region 110a is driven through the electrode 112a, but the separation region 110b is driven through the electrode 112b. Further, without being grounded, it is in an open state, that is, a floating state. Similarly, the isolation region 120a is driven through the electrode 122b, but the isolation region 120b is not driven through the electrode 122b, and is not grounded. It has become.
  • the separation region 110a in the first transparent conductive film 110 and the separation region 120a in the second transparent conductive film 120 are separated. Used.
  • position detection by the resistive film method position detection is performed using the first transparent conductive film 110 and the second transparent conductive film 120. Specifically, position detection is performed by the same method as the 4-wire type in the resistive film type.
  • position detection is performed by the same method as the 4-wire type in the resistive film type.
  • the separation regions formed in the first transparent conductive film 110 and the second transparent conductive film 120 are narrowly formed.
  • the surface is formed on one surface without being divided into each separation region.
  • the first transparent conductive film 110 and the second transparent conductive film 120 are also used in the electrostatic capacity method, it is necessary to separate them into respective separation regions. For this reason, as described above, the interval between the separation regions 110a and 110b and the interval between the separation regions 120a and 120b are formed to be as narrow as possible.
  • a potential gradient is generated in the first transparent conductive film 110 by applying a predetermined voltage to the electrodes 112a and 112b, so that the second By detecting the potential at the position in contact with the first transparent conductive film 110 by the transparent conductive film 120, the coordinates of the contact point in the X direction are detected.
  • a potential gradient is generated in the second transparent conductive film 120 by applying a predetermined voltage to the electrodes 122a and 122b, and the first transparent conductive film 110 is in contact with the second transparent conductive film.
  • the coordinates of the contact point in the Y direction are detected. Thereby, the position of the contact point can be detected by the resistive film method.
  • the separation regions 110a and 110b in the first transparent conductive film 110 and the separation regions 120a and 110b in the second transparent conductive film 120 are performed. 120b is used.
  • This embodiment is a touch panel having a structure in which a transparent conductive film for preventing noise from a display device such as a liquid crystal display device is formed, and will be described with reference to FIGS.
  • the touch panel in the present embodiment is installed on a display device 160 such as a liquid crystal display device, and includes a first transparent conductive film 110, a second transparent conductive film 120, and a third transparent conductive film 150. have.
  • the third transparent conductive film 150 is formed on the side facing the display device 160 in the touch panel in the present embodiment, for example, on the other surface of the second transparent substrate 121, and the third transparent conductive film 150.
  • the third transparent conductive film 150 is made of the same material as the first transparent conductive film 110 and the like.
  • Such a third transparent conductive film 150 in the present embodiment is a third conductive film.
  • a decorative film serving as a decorative portion is formed on the touch panel.
  • a decorative film 170 serving as a decorative portion formed of a black insulator material is formed on the edge of one surface of the first transparent substrate 111, and The first transparent conductive film 110 is formed thereon.
  • the decorative film 170 can be formed on one surface of the first transparent substrate 111 by a printing method such as screen printing or by sticking a film that becomes the decorative film 170.
  • the first transparent conductive film 110 can be formed by attaching a transparent conductive film sheet on the one on which the decorative film 170 is formed, or by a film forming method such as sputtering.
  • the touch panel in the present embodiment has a conductive property serving as a decoration portion on the first transparent conductive film 110 formed on one surface of the first transparent substrate 111.
  • the decorative film 171 may be formed.
  • the decorative film 171 is formed of a black conductive material, and is formed by a printing method such as screen printing using a black conductive paste, for example. Note that the regions in the first transparent conductive film 110 need to be electrically separated.
  • the material for forming the black conductive paste include materials containing silver carbon or the like.
  • a black insulating material the thing containing the pigment which consists of a black oxide which has insulation, a black resin material, etc. are mentioned.
  • 20A is a cross-sectional view of the touch panel
  • the touch panel in the present embodiment has an insulating property serving as a decoration portion on the first transparent conductive film 110 formed on one surface of the first transparent substrate 111.
  • the decorative film 173 may be formed.
  • the decorative film 173 can be formed by a printing method such as screen printing using a black insulating paste.
  • the material for forming the black insulating paste include those containing a pigment made of black oxide having insulating properties and black resin materials.
  • a transparent conductive film 174 is formed in order to connect the respective isolation regions 110a and 110b in the first transparent conductive film 110 and the electrodes 112a and 112b corresponding to the respective isolation regions 110a and 110b.
  • the isolation regions 110a and 110b in the first transparent conductive film 110 and the electrodes 112a and 112b corresponding to the isolation regions 110a and 110b can be electrically connected by the transparent conductive film 174.
  • the transparent conductive film 174 can be formed by a printing method such as screen printing using a transparent conductive pace formed of a transparent conductive material having conductivity. Examples of the material for forming the transparent conductive paste include those containing fine particles of a transparent conductive material such as ITO.
  • FIG. 21A is a cross-sectional view of the touch panel
  • FIG. 21B is a plan view of the first transparent substrate 110 viewed from one surface.
  • This embodiment is a touch panel having a structure in which an antireflection film is formed in order to prevent reflection on a substrate, a transparent conductive film, or the like.
  • an antireflection film By forming the antireflection film, reflection on the touch panel can be reduced, and each separation region in the first transparent conductive film 110 or the second transparent conductive film 120 can be made inconspicuous.
  • an antireflection film 181 is formed on the other surface of the first transparent substrate 111, and one surface of the first transparent substrate 111 is formed on one surface.
  • An antireflection film 182 is formed.
  • An antireflection film 183 is formed on the other surface of the second transparent substrate 121, and an antireflection film 184 is formed on one surface of the second transparent substrate 121.
  • the touch panel according to the present embodiment may be formed with a part of the antireflection films 181 to 184 or may be formed with all of them. In FIG.
  • the antireflection film 182 is formed between the first transparent substrate 111 and the first transparent conductive film 110, and the antireflection film 183 is formed between the second transparent substrate 121 and the first transparent conductive film 110. It shows what is formed between two transparent conductive films 120. However, the antireflection film 182 may be formed on the surface of the first transparent conductive film 110, and the antireflection film 183 is formed on the surface of the second transparent conductive film 120. It may be.
  • Such antireflection films 181 to 184 may be formed by a dielectric multilayer film in which dielectrics having different refractive indexes are alternately laminated by a film forming method such as vacuum deposition or sputtering. It may be formed by attaching an antireflection film. Thereby, reflection in a touch panel can be reduced.
  • This embodiment is a touch panel having a structure in which a polarizing plate is provided in order to prevent reflection on the touch panel.
  • the touch panel in this embodiment is used when a liquid crystal display device is used as the display device 160. Specifically, as shown in FIG. 23, the touch panel is provided on the other surface of the first transparent substrate 111. In this structure, a polarizing plate 190 is provided.
  • the touch panel having the structure shown in FIG. 23 is installed on the display screen of the display device 160, and is installed so that the display device 160 is positioned on the other surface side of the second transparent substrate 121.
  • a polarizing plate 190 is attached to the other surface of the first transparent substrate 111 with an adhesive layer 144.
  • the polarizing plate 190 is installed after the position of the polarizing plate used in the display device 160 is adjusted with respect to the polarization direction. Thereby, reflection in a touch panel can be reduced.
  • the touch panel in this embodiment is used when the display device 160 is a liquid crystal display device, and uses the polarizing plate 190. Therefore, the first transparent substrate 111 and the second transparent substrate 121 are It is preferably made of an optically isotropic material that does not have birefringence or the like. Specifically, the first transparent substrate 111 and the second transparent substrate 121 are formed of an optically isotropic resin material such as polycarbonate or an optically isotropic inorganic material such as glass. It is preferable.
  • the touch panel in the first embodiment will be described.
  • the touch panel in the present embodiment includes a first transparent conductive film 10, a second transparent conductive film 20, and a third transparent conductive film 30.
  • position detection at a contact point can be performed by a capacitance method using the first transparent conductive film 10 and the second transparent conductive film 20, and the second transparent conductive film.
  • Position detection at the contact point (contact position) can be performed by the resistance film method using the film 20 and the third transparent conductive film 30.
  • the first conductive film is the first transparent conductive film 10
  • the second conductive film is the second transparent conductive film 20
  • the third conductive film is the third conductive film.
  • the transparent conductive film 30 is assumed.
  • the first transparent conductive film 10 is formed on one surface of the first transparent substrate 11, and has a plurality of strip-shaped separation regions 10a formed long in the X-axis direction.
  • the plurality of separation regions 10a are arranged so as to be aligned in the Y-axis direction, and an electrode 12 is connected to the end of each separation region 10a.
  • the reference numerals are omitted, but the electrodes 12 are formed in all the separation regions 10a.
  • the second transparent conductive film 20 is formed on one surface of the second transparent substrate 21, and has a plurality of strip-shaped separation regions 20a and 20b formed long in the Y-axis direction.
  • the separation regions 20a and 20b are alternately arranged in the X-axis direction, and electrodes 22a and 22b are connected to both ends of each separation region 20a and 20b, that is, both ends in the Y-axis direction. .
  • the reference numerals are omitted, but the electrodes 22a and 22b are formed in all the separation regions 20a and 20b.
  • the third transparent conductive film 30 is formed substantially on one surface of the third transparent substrate 31, and electrodes 32a and 32b are connected to both ends in the X-axis direction.
  • the first transparent conductive film 10, the second transparent conductive film 20, and the third transparent conductive film 30 are metal oxides such as ITO (indium-tin oxide) and AZO (Al-doped zinc oxide), It is formed of a transparent material having conductivity.
  • the first transparent conductive film 10, the second transparent conductive film 20, and the third transparent conductive film 30 may be formed of a material other than a metal oxide as long as it is a transparent material having conductivity. . That is, any material that has conductivity and can transmit light may be used. Specifically, it is formed of a material called an alternative material such as ITO, such as a conductive polymer, metal nanowire, or carbon nanotube. Also good.
  • the first transparent substrate 11 and the second transparent substrate 21 are made of a transparent resin material such as PET (Polyethylene terephthalate) and is easily bent.
  • the third transparent substrate 31 is formed of a transparent inorganic material such as glass or a transparent resin material such as plastic.
  • the first transparent substrate 11 and the second transparent substrate 21 are formed with one surface of the first transparent substrate 11, that is, the first transparent conductive film 10.
  • the surface and the other surface of the second transparent substrate 21 are joined by a transparent adhesive layer 41.
  • the transparent adhesive layer 41 include a transparent adhesive such as an epoxy resin.
  • the second transparent substrate 21 and the third transparent substrate 31 are frame-shaped in a state where one surface of the second transparent substrate 21 and one surface of the third transparent substrate 31 face each other. It is joined by an adhesive member 42 such as a double-sided tape.
  • an adhesive member 42 such as a double-sided tape.
  • the touch panel in the present embodiment is one in which position detection by the capacitance method and position detection by the resistance film method are time-divisionally performed alternately. That is, the position detection by the resistive method is not performed during the time when the position detection by the electrostatic capacitance method is performed, and the position detection by the capacitance method is performed during the time when the position detection by the resistive film method is performed. In other words, the position detection by the electrostatic capacity method and the position detection by the resistance film method are alternately performed.
  • the position detection by a capacitive method is performed on the touch panel in the present embodiment.
  • the position detection at the contact point is performed using the first transparent conductive film 10 and the second transparent conductive film 20.
  • the separation regions formed in the first transparent conductive film 10 and the second transparent conductive film 20 are separated from each other.
  • the first transparent conductive film 10 is used only in the capacitance method, the interval between the separation regions 10a in the first transparent conductive film 10 is widely formed.
  • the second transparent conductive film 20 is used not only in the electrostatic capacity method but also in the resistive film method, the second transparent conductive film 20 is formed with respective isolation regions 20a and 20b.
  • regions 20a and 20b is formed narrowly, and the space
  • the film 10 is formed narrower than the interval between the separation regions 10a.
  • the separation region 20a when position detection is performed in the capacitive method, the separation region 20a is driven through the electrode 22a, but the separation region 20b is not driven through the electrode 22a. Furthermore, it is in an open state, that is, in a floating state without being grounded.
  • the first transparent conductive film 10 and the separation region 20a in the second transparent conductive film 20 are used.
  • position detection by the resistive film method position detection is performed using the second transparent conductive film 20 and the third transparent conductive film 30. Specifically, position detection is performed by the same method as the 4-wire type in the resistive film type.
  • position detection is performed by the same method as the 4-wire type in the resistive film type.
  • the separation regions formed in the second transparent conductive film 20 are narrowly formed. If possible, the third transparent conductive film is formed. It is preferable that it is formed on one surface without being divided into each separation region as in 30.
  • the 2nd transparent conductive film 20 is used also in an electrostatic capacitance system, it is necessary to isolate
  • a potential gradient is generated in the second transparent conductive film 20 by applying a predetermined voltage to the electrodes 22a and 22b, so that the third By detecting the potential at the position in contact with the second transparent conductive film 20 by the transparent conductive film 30, the coordinates of the contact point in the Y direction are detected.
  • a potential gradient is generated in the third transparent conductive film 30 by applying a predetermined voltage to the electrodes 32 a and 32 b, and the second transparent conductive film 20 is in contact with the third transparent conductive film 30.
  • the separation regions 20 a and 20 b in the second transparent conductive film 20 and the third transparent conductive film 30 are used. It is.
  • each divided region 10 a in the first transparent conductive film 10 is subjected to electrostatic capacitance type position detection via an electrode 12.
  • a current detector 13 is connected.
  • each divided region 20a in the second transparent conductive film 20 has a current detection unit 23 for performing position detection in an electrostatic capacitance type via the electrode 22a, a resistor
  • a potential detection unit 24 for performing position detection by a film system and a switch 25 for connection to the ground potential are connected, and a switch 26 for applying a power supply voltage Vcc is connected via an electrode 22b.
  • each divided region 20b in the second transparent conductive film 20 has a potential detecting unit 24 for performing position detection by a resistive film system via the electrode 22a, a ground potential.
  • a switch 25 for connecting to the power supply voltage Vcc is connected, and a switch 26 for applying the power supply voltage Vcc is connected via the electrode 22b.
  • the third transparent conductive film 30 includes a potential detecting unit 34 for performing position detection by a resistive film system via an electrode 32a, and a switch for connecting to the ground potential. 35 is connected, and a switch 36 for applying the power supply voltage Vcc is connected via the electrode 32b.
  • the switches 25 and 26 are opened.
  • the switches 35 and 36 are closed.
  • a potential distribution is generated in the X-axis direction in the third transparent conductive film 30, and the potential detection unit 24 connected to each of the divided regions 20 a and 20 b of the second transparent conductive film 20.
  • the position in the X direction is detected by the resistive film method.
  • the switches 25 and 26 are closed, and the switches 35 and 36 are opened.
  • FIG. 28 is a block diagram of a control circuit for controlling the touch panel in the present embodiment.
  • This control circuit includes an MCU (Micro Control Unit) unit 260, a capacitance method control unit 261, a capacitance method detection unit 262, a resistance film method control unit 263, a resistance film method selection unit 264, and a resistance film method detection unit 265. Etc.
  • the MCU unit 260 is connected to a host computer (not shown) or the like via a host I / F, and controls the capacitance type control unit 261, the resistive film type control unit 263, the resistive film type selection unit 264, and the like.
  • the capacitance type detection unit 262 is for performing position detection in the capacitance type, and specifically, a current detection unit connected to each divided region 10 a of the first transparent conductive film 10. 13 corresponds to the current detection unit 23 connected to each divided region 20 a of the second transparent conductive film 20. Further, the capacitance method control unit 261 converts the measurement value detected by the capacitance method detection unit 262 into information for transmitting to the MCU unit 260.
  • the resistance film type detection unit 265 is for performing position detection in the resistance film type, and specifically, a potential detection unit connected to each of the divided regions 20a and 20b of the second transparent conductive film 20. 24 corresponds to the potential detection unit 34 connected to the third transparent conductive film 30. Further, the resistance film type control unit 263 converts the measurement value detected by the resistance film type detection unit 265 into information for transmitting to the MCU unit 260. The resistive film type selection unit 264 connects and disconnects the resistive film type detection unit 265 and the resistive film type control unit 263 based on a selection signal from the MCU unit 260, and is, for example, a switch or the like. .
  • the resistive film type selection unit 264 is formed by a relay as shown in FIG. Specifically, the relay serving as the resistive film type selection unit 264 includes a switch 264a and a coil 264b, and a selection signal from the MCU unit 260 is input to one end of the coil 264b. . Note that the other end of the coil 264b is connected to a power source and has a potential of Vcc (H level potential).
  • Vcc H level potential
  • a selection signal as shown in FIG. 30 is generated in the MCU unit 260 and input to one end of the coil 264b.
  • the selection signal from the MCU unit 260 is at the L level, a current flows through the coil 264b, a magnetic field is generated, and the switch 264a is connected and turned on.
  • the resistive film type control unit 263 and the resistive film type detection unit 265 are connected via the resistive film type selection unit 264, and position detection by the resistive film type is performed.
  • a semiconductor element such as a transistor may be used for the resistive film type selection unit 264.
  • the selection signal is input to the base (B) of the transistor that is the resistive film type selection unit 264, and the emitter (E) and the collector (C) of the transistor that is the resistive film type selection unit 264 are respectively detected by the resistive film type detection.
  • Examples of such a semiconductor element include a field effect transistor (FET) in addition to a transistor.
  • step 102 an H level selection signal transmitted from the MCU unit 260 is input to the resistive film type selection unit 264 in order to perform position detection by the capacitance method.
  • step 104 the resistance film type selection unit 264 is turned off by inputting an H level selection signal to the resistance film type selection unit 264.
  • the switches 25, 26, 35, and 36 are opened by the control of the MCU unit 260 and the like as shown in FIG.
  • step 106 the position detection of the contact position by the capacitance method is started.
  • the current detection unit 13 connected to each divided region 10a in the first transparent conductive film 10 and the current detection unit 23 connected to each divided region 20a in the second transparent conductive film 20 include Used.
  • step 108 it is determined whether or not there is a contact detected in the capacitance method. Specifically, based on the amount of current detected by the current detectors 13 and 23, it is determined whether or not there is a contact detected in the capacitive method. If it is determined that there is contact detected in the capacitance method, the process proceeds to step 110. On the other hand, if it is determined that there is no contact detected in the capacitance method, the process proceeds to step 112.
  • step 110 based on the amount of current detected by the current detectors 13 and 23, the coordinate position of the contact position by the capacitance method is calculated, and the calculated coordinate position of the contact position is calculated by the host computer. Send to etc.
  • step 112 an L-level selection signal transmitted from the MCU unit 260 is input to the resistance film type selection unit 264 in order to perform position detection by the resistance film type.
  • step 114 an L level selection signal is input to the resistance film type selection unit 264, so that the resistance film type selection unit 264 is turned on.
  • the switches 25 and 26 are opened and the switches 35 and 36 are closed as shown in FIG. generate.
  • step 116 the position detection of the contact position by the resistive film method is started.
  • the potential detection unit 24 connected to each of the divided regions 20a and 20b in the second transparent conductive film 20 is used.
  • step 118 it is determined whether or not there is contact detected in the resistive film method. Specifically, based on the potential detected by the potential detection unit 24, it is determined whether or not there is contact detected in the resistive film method. If it is determined that there is contact detected in the resistive film method, the process proceeds to step 120. On the other hand, if it is determined that there is no contact detected in the resistive film method, the process proceeds to step 102.
  • step 120 the coordinate position of the X coordinate of the contact position is calculated by the resistive film method based on the potential detected by the potential detection unit 24.
  • the switches 25 and 26 are closed and the switches 35 and 36 are opened, so that a potential gradient is generated in the Y-axis direction.
  • the potential is detected by the potential detector 34 connected to the third transparent conductive film 30, and the coordinate position of the Y coordinate of the contact position is calculated by the resistance film method based on the detected potential. In this way, the coordinate position of the contact position by the resistive film method is calculated, and the calculated coordinate position of the contact position is transmitted to a host computer or the like.
  • the step of detecting the position of the contact point by the capacitance method is described as a first detection step
  • the step of detecting the position of the contact point by the resistance film method is described as a second detection step.
  • position detection can be performed on the touch panel in the present embodiment.
  • position detection can be performed for any contact object, and position detection can be performed by a simple process on a touch panel that can perform position detection simply by touching.
  • the touch panel in the second embodiment includes a first transparent conductive film 110 and a second transparent conductive film 120.
  • position detection at the contact point can be performed by the electrostatic capacitance method using the first transparent conductive film 110 and the second transparent conductive film 120, and the resistance film method.
  • position detection at the contact point can be performed.
  • the first conductive film is the first transparent conductive film 110
  • the second conductive film is the second transparent conductive film 120.
  • the first transparent conductive film 110 is formed on one surface of the first transparent substrate 111, and has a plurality of strip-shaped separation regions 110a and 110b formed long in the X-axis direction.
  • the separation regions 110a and 110b are alternately arranged in the Y-axis direction, and electrodes 112a and 112b are connected to both ends of each separation region 110a and 110b, that is, both ends in the X-axis direction.
  • the reference numerals are omitted, but the electrodes 112a and 112b are formed in all the separation regions 110a and 110b.
  • the second transparent conductive film 120 is formed on one surface of the second transparent substrate 121, and has a plurality of strip-shaped separation regions 120a and 120b formed long in the Y-axis direction.
  • the separation regions 120a and 120b are alternately arranged in the X-axis direction, and electrodes 122a and 122b are connected to both ends of each separation region 120a and 120b, that is, both ends in the Y-axis direction.
  • the reference numerals are omitted, but the electrodes 22a and 22b are formed in all the separation regions 20a and 20b.
  • the first transparent conductive film 110 and the second transparent conductive film 120 are metal oxides such as ITO and AZO, and are formed of a transparent material having conductivity.
  • the 1st transparent conductive film 110 and the 2nd transparent conductive film 120 are transparent materials which have electroconductivity, you may form with materials other than a metal oxide. That is, any material that has conductivity and can transmit light may be used. Specifically, it is formed of a material called an alternative material such as ITO, such as a conductive polymer, metal nanowire, or carbon nanotube. Also good.
  • the first transparent substrate 111 is a transparent resin material such as PET, and is formed of a material that is easily bent.
  • the second transparent substrate 121 is made of a transparent inorganic material such as glass or a transparent resin material such as plastic.
  • the first transparent substrate 111 and the second transparent substrate 121 have one surface of the first transparent substrate 111 and one surface of the second transparent substrate 121 opposed to each other. In the state, they are joined by an adhesive member 142 such as a frame-like double-sided tape. As a result, a space 143 is formed by the first transparent substrate 111 and the second transparent substrate 121, and the first transparent conductive film 110 and the second transparent conductive film 120 are opposed to each other through the space 143. Is arranged.
  • the touch panel in the present embodiment is one in which position detection by the capacitance method and position detection by the resistance film method are time-divisionally performed alternately. That is, when the position detection by the capacitance method is performed, the position detection by the resistance film method is not performed, and when the position detection by the resistance film method is performed, the position detection by the capacitance method is not performed.
  • the position detection at the contact point is performed using the first transparent conductive film 110 and the second transparent conductive film 120.
  • the separation regions in the first transparent conductive film 110 and the second transparent conductive film 120 are formed apart from each other.
  • the first transparent conductive film 110 and the second transparent conductive film 120 are used not only in the capacitive method but also in the resistive film method.
  • the separation regions 110a and 110b are formed in the first transparent conductive film 110, and the separation regions 120a and 120b are formed in the second transparent conductive film 120.
  • the separation region 110a is used among the separation regions 110a and 110b, and only the separation region 120a is used among the separation regions 120a and 120b. That is, in the touch panel in this embodiment, in the case of position detection in the capacitive method, the separation region 110a is driven through the electrode 112a, but the separation region 110b is not driven through the electrode 112b. Furthermore, it is in an open state, that is, in a floating state without being grounded.
  • the isolation region 120a is driven through the electrode 122b, but the isolation region 120b is not driven through the electrode 122b, and is not grounded. It has become.
  • the separation region 110a in the first transparent conductive film 110 and the separation region 120a in the second transparent conductive film 120 are separated. Used.
  • position detection by the resistive film method position detection is performed using the first transparent conductive film 110 and the second transparent conductive film 120. Specifically, position detection is performed by the same method as the 4-wire type in the resistive film type.
  • position detection is performed by the same method as the 4-wire type in the resistive film type.
  • the separation regions formed in the first transparent conductive film 110 and the second transparent conductive film 120 are narrowly formed.
  • the surface is formed on one surface without being divided into each separation region.
  • the first transparent conductive film 110 and the second transparent conductive film 120 are also used in the electrostatic capacity method, it is necessary to separate them into respective separation regions. For this reason, as described above, the interval between the separation regions 110a and 110b and the interval between the separation regions 120a and 120b are formed to be as narrow as possible.
  • a potential gradient is generated in the first transparent conductive film 110 by applying a predetermined voltage to the electrodes 112a and 112b, so that the second By detecting the potential at the position in contact with the first transparent conductive film 110 by the transparent conductive film 120, the coordinates of the contact point in the X direction are detected.
  • a potential gradient is generated in the second transparent conductive film 120, and the first transparent conductive film 110 is in contact with the second transparent conductive film 120.
  • the coordinates of the contact point in the Y direction are detected. Thereby, the position of the contact point by a resistive film system is detectable.
  • the separation regions 110a and 110b in the first transparent conductive film 110 and the separation regions 120a and 110b in the second transparent conductive film 120 are performed. 120b is used.
  • each divided region 110a in the first transparent conductive film 110 is subjected to capacitance type position detection via an electrode 112a.
  • a current detection unit 113, a potential detection unit 114 for performing position detection by a resistive film method, and a switch 115 for connection to the ground potential are connected, and a switch 116 for applying the power supply voltage Vcc is connected via the electrode 112b. It is connected. Further, as shown in FIG. 33A, each divided region 110a in the first transparent conductive film 110 is subjected to capacitance type position detection via an electrode 112a.
  • a current detection unit 113, a potential detection unit 114 for performing position detection by a resistive film method, and a switch 115 for connection to the ground potential are connected, and a switch 116 for applying the power supply voltage Vcc is connected via the electrode 112b. It is connected. Further, as shown in FIG.
  • each divided region 110b in the first transparent conductive film 110 has a potential detection unit 114 for performing position detection by a resistive film method via the electrode 112a, a ground potential.
  • a switch 115 for connecting to the power supply voltage Vcc is connected, and a switch 116 for applying the power supply voltage Vcc is connected via the electrode 112b.
  • each divided region 120a in the second transparent conductive film 120 includes a current detection unit 123 for performing position detection in a capacitive manner via an electrode 122a, a resistor A potential detection unit 124 for detecting the position by the film system and a switch 125 for connecting to the ground potential are connected, and a switch 126 for applying the power supply voltage Vcc is connected via the electrode 122b.
  • each divided region 120b in the second transparent conductive film 120 has a potential detection unit 124 for performing position detection by a resistive film method via the electrode 122a, a ground potential.
  • a switch 125 for connecting to the power supply voltage Vcc is connected, and a switch 126 for applying the power supply voltage Vcc is connected via the electrode 122b.
  • the switches 115 and 116 are opened.
  • the switches 125 and 126 are closed.
  • a potential distribution is generated in the Y-axis direction in the second transparent conductive film 30, and the potential detection unit 114 connected to each of the divided regions 110 a and 110 b of the first transparent conductive film 110.
  • position detection in the Y direction by the resistive film method is performed.
  • the switches 115 and 116 are closed, and the switches 125 and 126 are opened.
  • a potential distribution is generated in the X-axis direction in each divided region 110a, 110b of the first transparent conductive film 110, and in each divided region 120a, 120b of the second transparent conductive film 120.
  • the position detection in the X direction by the resistive film method is performed by the connected potential detection unit 124.
  • the touch panel control method in the present embodiment is the same as the touch panel control method in the first embodiment, and a control circuit similar to that shown in FIG. 28 is used.
  • the capacitance type detection unit 262 is divided into each of the current detection unit 113 and the second transparent conductive film 120 connected to each divided region 110a of the first transparent conductive film 110. This corresponds to the current detection unit 123 connected to the region 120a.
  • the resistance film type detection unit 265 specifically includes the potential detection unit 114 and the second transparent conductive film 120 connected to the divided regions 110a and 110b of the first transparent conductive film 110, respectively. This corresponds to the potential detection unit 124 connected to the divided regions 120a and 120b.
  • step 102 an H level selection signal transmitted from the MCU unit 260 is input to the resistive film type selection unit 264 in order to perform position detection by the capacitance method.
  • step 104 the resistance film type selection unit 264 is turned off by inputting an H level selection signal to the resistance film type selection unit 264.
  • the switches 115, 116, 125, and 126 are opened by the control in the MCU unit 260 and the like.
  • step 106 the position detection of the contact position by the capacitance method is started.
  • the current detection unit 113 connected to each divided region 110a in the first transparent conductive film 110 and the current detection unit 123 connected to each divided region 120a in the second transparent conductive film 120 include Used.
  • step 108 it is determined whether or not there is a contact detected in the capacitance method. Specifically, based on the amount of current detected by the current detection units 113 and 123, it is determined whether or not there is a contact detected in the capacitive method. If it is determined that there is contact detected in the capacitance method, the process proceeds to step 110. On the other hand, if it is determined that there is no contact detected in the capacitance method, the process proceeds to step 112.
  • step 110 the coordinate position of the contact position by the capacitance method is calculated based on the amount of current detected by the current detectors 113 and 123, and the calculated position coordinate of the contact position is the host computer. Etc.
  • step 112 an L-level selection signal transmitted from the MCU unit 260 is input to the resistance film type selection unit 264 in order to perform position detection by the resistance film type.
  • step 114 an L level selection signal is input to the resistance film type selection unit 264, so that the resistance film type selection unit 264 is turned on.
  • the switches 115 and 116 are opened and the switches 125 and 126 are closed as shown in FIG. generate.
  • step 116 the position detection of the contact position by the resistive film method is started.
  • the potential detection unit 114 connected to each of the divided regions 110a and 110b in the first transparent conductive film 110 is used.
  • step 118 it is determined whether or not there is contact detected in the resistive film method. Specifically, based on the potential detected by the potential detection unit 114, it is determined whether or not there is contact detected in the resistive film method. If it is determined that there is contact detected in the resistive film method, the process proceeds to step 120. On the other hand, when it is determined that there is no contact detected in the resistive film method, the process proceeds to step 102.
  • step 120 the coordinate position of the Y coordinate of the contact position is calculated by the resistance film method based on the potential detected by the potential detection unit 114.
  • the switches 115 and 116 are closed and the switches 125 and 126 are opened, so that the potential gradient is increased in the X-axis direction.
  • the potential is detected by the potential detector 124 connected to each of the divided regions 120a and 120b in the second transparent conductive film 120, and the coordinate of the X coordinate of the contact position by the resistive film method based on the detected potential Calculate the position.
  • the coordinate position of the contact position by the resistive film method is calculated, and the calculated coordinate position of the contact position is transmitted to a host computer or the like.
  • the step of detecting the position of the contact point by the capacitance method is described as a first detection step
  • the step of detecting the position of the contact point by the resistance film method is described as a second detection step.
  • position detection can be performed on the touch panel in the present embodiment.
  • position detection can be performed for any contact object, and position detection can be performed by a simple process on a touch panel that can perform position detection simply by touching.

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Abstract

　タッチパネルは、一方の方向に長く短冊状に形成された分離領域を複数有する第１の導電膜と、前記一方の方向と略直交する他方の方向に長く短冊状に形成された分離領域を複数有する第２の導電膜と、第３の導電膜とを有し、前記第１の導電膜における複数の分離領域は、前記他方の方向に配列されており、前記第２の導電膜における複数の分離領域は、前記一方の方向に配列されているものであって、前記第１の導電膜と前記第２の導電膜により、静電容量結合による座標位置の位置検出を行なう一方、前記第２の導電膜と前記第３の導電膜とが接触した位置の電位を検出することにより、前記接触した座標位置の位置検出を行なう。

Description

タッチパネル及び位置検出方法
　本発明は、タッチパネル及び位置検出方法に関する。
　タッチパネルは、ディスプレイに直接入力をすることが可能な入力デバイスであり、ディスプレイの前面に設置して使用される場合が多く、ディスプレイにより視覚的にとらえた情報に基づき、直接入力することができることから、様々な用途において用いられている。
　このようなタッチパネルとしては、抵抗膜方式及び静電容量方式が広く知られている。抵抗膜方式のタッチパネルは、透明導電膜が形成された上部電極基板及び下部電極基板において、各々の透明導電膜同士が対向するように設置し、上部電極基板の一点に力を加えることにより各々の透明導電膜同士が接触し、力の加えられた位置の位置検出を行うことができるものである。
　抵抗膜方式のタッチパネルは、４線式、５線式、ダイオード式に大別することができる。４線式は、上部電極基板又は下部電極基板のどちらか一方にＸ軸の電極が設けられており、他方にＹ軸の電極が設けられている（例えば、特許文献１）。また、５線式は、下部電極基板にＸ軸の電極及びＹ軸の電極がともに設けられており、上部電極基板は、電圧を検出するためのプローブとして機能するものである（例えば、特許文献２）。また、ダイオード式は、下部電極基板にダイオードが設けられている構造のものであり、電圧を印加するための２つの電極と、電位をモニタするための４つの電極とが設けられており、電圧を検出するためにプローブとして機能する上部電極基板に設けられた電極と併せて、電極が７つ形成されることから７線式とも呼ばれている（例えば、特許文献３）。
　また、静電容量方式は、タッチパネルに指等が接近することによりタッチパネルの透明電極等に流れる電流を検出することにより位置検出がなされるものである。
　更には、タッチパネルにおいては、静電容量方式と抵抗膜方式とは、異なる特徴を有するものであるため、抵抗膜方式のタッチパネルと静電容量方式のタッチパネルとを積層した構造のタッチパネルが開示されている（例えば、特許文献４、５）。
特開２００４－２７２７２２号公報 特開２００８－２９３１２９号公報 特開２００５－１９６２８０号公報 実用新案登録第３１３２１０６号公報 実用新案登録第３１３９１９６号公報 特開２００９－１１６８４９号公報
　ところで、静電容量方式のタッチパネルは、静電容量結合による検出方式であるため、押下することなく触れるだけで位置検出を行なうことができるといった特徴を有しているが、絶縁体による接触では位置検出をすることができない。また、抵抗膜方式のタッチパネルでは、タッチパネルに接触するものの材質等は問わないといった特徴を有しているが、位置検出は上部抵抗膜となる透明導電膜と下部抵抗膜となる透明導電膜とが接触することにより行なわれるため、タッチパネルを所定の力で押下する必要がある。
　これに対し、特許文献４及び５に記載されているものは、静電容量方式のタッチパネルと、抵抗膜方式のタッチパネルとを積層した構造のものであり、静電容量方式のタッチパネルと抵抗膜方式のタッチパネルとの双方の良い特徴を有している。
　しかしながら、このような構造のタッチパネルは、２種類のタッチパネルを積層しているため、厚さが厚くなるといった問題点や、高コストなものとなるといった問題点を有していた。
　本発明は、上記に鑑みてなされたものであり、静電容量方式のタッチパネルの特徴と抵抗膜方式のタッチパネルの良い特徴を有するタッチパネル、即ち、触れるだけで位置検出を行なうことができ、接触するものの材質等を問わない、厚さの薄いタッチパネルを低コストで提供することを目的とするものである。また、このようなタッチパネルにおける位置検出方法を提供することを目的とするものである。
　一実施例によれば、タッチパネルは、一方の方向に長く短冊状に形成された分離領域を複数有する第１の導電膜と、前記一方の方向と略直交する他方の方向に長く短冊状に形成された分離領域を複数有する第２の導電膜と、第３の導電膜とを有し、前記第１の導電膜における複数の分離領域は、前記他方の方向に配列されており、前記第２の導電膜における複数の分離領域は、前記一方の方向に配列されているものであって、前記第１の導電膜と前記第２の導電膜により、静電容量結合による座標位置の位置検出を行なう一方、前記第２の導電膜と前記第３の導電膜とが接触した位置の電位を検出することにより、前記接触した座標位置の位置検出を行なう。
　一実施例によれば、タッチパネルは、第１の方向に延び、前記第１の方向の一方の端部に電極を有する複数の帯状の第１の導電膜が形成されている第１の基板と、前記第１の方向に対して直交する第２の方向に延び、前記第２の方向の双方の端部に電極を有する複数の帯状の第２の導電膜が形成されている第２の基板と、面状に第３の導電膜が形成されている第３の基板とを有し、前記第１の基板、前記第２の基板、前記第３の基板の順で積層されている。
　一実施例によれば、一方の方向に長く短冊状に形成された分離領域を複数有する第１の導電膜と、前記一方の方向と略直交する他方の方向に長く短冊状に形成された分離領域を複数有する第２の導電膜と、第３の導電膜とを有し、前記第１の導電膜における分離領域は、前記他方の方向に配列されており、前記第２の導電膜における分離領域は、前記一方の方向に配列されているタッチパネルの位置検出方法は、前記第１の導電膜と前記第２の導電膜を用いて、静電容量結合による座標位置の位置検出を行なう工程と、前記第２の導電膜と前記第３の導電膜のいずれか一方において、所定の方向に電位勾配を発生させて、他方において前記第２の導電膜と前記第３の導電膜とが接触した位置の電位を検出することにより、抵抗膜方式による座標位置の位置検出を行なう工程とを有する。
　少なくとも一つの実施例によれば、触れるだけで位置検出を行なうことができ、接触するものの材質等を問わない、厚さの薄いタッチパネルを低コストで提供することができ、更には、このようなタッチパネルにおける位置検出方法を提供することができる。
発明の第１の態様による第１の実施の形態におけるタッチパネルの説明図 第１の実施の形態におけるタッチパネルの構造図 第１の実施の形態におけるタッチパネルの駆動方法の説明図（１） 第１の実施の形態におけるタッチパネルの駆動方法の説明図（２） 第２の実施の形態におけるタッチパネルの説明図 第２の実施の形態におけるタッチパネルの構造図 第３の実施の形態におけるタッチパネルの構造図 第４の実施の形態におけるタッチパネルの構造図 第４の実施の形態における他のタッチパネルの説明図（１） 第４の実施の形態における他のタッチパネルの説明図（２） 第５の実施の形態におけるタッチパネルの構造図 第６の実施の形態におけるタッチパネルの構造図 発明の第２の態様による第１の実施の形態におけるタッチパネルの説明図 第１の実施の形態におけるタッチパネルの構造図 第１の実施の形態におけるタッチパネルの駆動方法の説明図（１） 第１の実施の形態におけるタッチパネルの駆動方法の説明図（２） 第２の実施の形態におけるタッチパネルの説明図 第２の実施の形態におけるタッチパネルの構造図 第３の実施の形態におけるタッチパネルの構造図 第３の実施の形態における他のタッチパネルの説明図（１） 第３の実施の形態における他のタッチパネルの説明図（２） 第４の実施の形態におけるタッチパネルの構造図 第５の実施の形態におけるタッチパネルの構造図 発明の第３の態様による第１の実施の形態におけるタッチパネルの説明図 第１の実施の形態におけるタッチパネルの制御方法の説明図（１） 第１の実施の形態におけるタッチパネルの制御方法の説明図（２） 第１の実施の形態におけるタッチパネルの制御方法の説明図（３） タッチパネルの制御回路のブロック図 抵抗膜方式選択部の説明図 抵抗膜方式選択部の制御の説明図 他の抵抗膜方式選択部の説明図 タッチパネルの位置検出方法のフローチャート 第２の実施の形態におけるタッチパネルの説明図 第２の実施の形態におけるタッチパネルの制御方法の説明図（１） 第２の実施の形態におけるタッチパネルの制御方法の説明図（２） 第２の実施の形態におけるタッチパネルの制御方法の説明図（３）
　本発明を実施するための形態について、以下に説明する。尚、同じ部材等については、同一の符号を付して説明を省略する。
　〔発明の第１の態様〕
　〔第１の実施の形態〕
　第１の実施の形態におけるタッチパネルについて説明する。図１及び図２に示されるように、本実施の形態におけるタッチパネルは、第１の透明導電膜１０、第２の透明導電膜２０及び第３の透明導電膜３０を有している。本実施の形態においては、第１の透明導電膜１０と第２の透明導電膜２０を用いて静電容量方式により接触点（接触位置）における位置検出を行なうことができ、第２の透明導電膜２０と第３の透明導電膜３０を用いて抵抗膜方式により接触点（接触位置）における位置検出を行なうことができる。尚、本実施の形態においては、第１の導電膜は第１の透明導電膜１０であり、第２の導電膜は第２の透明導電膜２０であり、第３の導電膜は第３の透明導電膜３０であるものとする。
　第１の透明導電膜１０は、第１の透明基板１１の一方の面に形成されており、Ｘ軸方向に長く形成された短冊状の分離領域１０ａを複数有している。複数の分離領域１０ａはＹ軸方向に並ぶように配列されており、各々の分離領域１０ａの端部には電極１２が接続されている。尚、図面においては、符号が省略されているが、電極１２は、すべての分離領域１０ａにおいて形成されている。
　第２の透明導電膜２０は、第２の透明基板２１の一方の面に形成されており、Ｙ軸方向に長く形成された短冊状の分離領域２０ａ及び２０ｂを複数有している。分離領域２０ａ及び２０ｂは、交互にＸ軸方向に並ぶように配列されており、各々の分離領域２０ａ及び２０ｂの両端、即ち、Ｙ軸方向における両端には、電極２２ａ及び２２ｂが接続されている。尚、図面においては、符号が省略されているが、電極２２ａ及び２２ｂは、すべての分離領域２０ａ及び２０ｂにおいて形成されている。
　第３の透明導電膜３０は、第３の透明基板３１の一方の面に、略一面に形成されており、Ｘ軸方向における両端には、電極３２ａ及び３２ｂが接続されている。
　第１の透明導電膜１０、第２の透明導電膜２０及び第３の透明導電膜３０は、ＩＴＯ（indium-tin oxide）、ＡＺＯ（Al-doped zinc oxide）等の金属酸化物であって、導電性を有する透明な材料により形成されている。尚、第１の透明導電膜１０、第２の透明導電膜２０及び第３の透明導電膜３０は、導電性を有する透明な材料であれば、金属酸化物以外の材料により形成してもよい。即ち、導電性を有するものであって光を透過させることができる材料であればよく、具体的には、導電ポリマー、金属ナノワイヤ、カーボンナノチューブ等のＩＴＯ等の代替材料と呼ばれる材料により形成してもよい。
　第１の透明基板１１及び第２の透明基板２１は、ＰＥＴ（Polyethylene terephthalate）等の透明な樹脂材料であって、撓みやすい材料により形成されている。また、第３の透明基板３１は、ガラス等の透明な無機材料やプラスチック等の透明な樹脂材料により形成されている。
　本実施の形態におけるタッチパネルにおいては、第１の透明基板１１と第２の透明基板２１とは、第１の透明基板１１の一方の面、即ち、第１の透明導電膜１０が形成されている面と、第２の透明基板２１の他方の面とが、透明な粘着層４１により接合されている。透明な粘着層４１としては、エポキシ樹脂等の透明な接着剤が挙げられる。また、第２の透明基板２１と第３の透明基板３１とは、第２の透明基板２１の一方の面と第３の透明基板３１の一方の面とを対向させた状態で、枠状の両面テープ等の接着部材４２により接合されている。これにより、第２の透明基板２１と第３の透明基板３１により空間４３が形成され、この空間４３を介し、第２の透明導電膜２０と第３の透明導電膜３０とが対向するように配置される。
　（駆動方法）
　次に、本実施の形態におけるタッチパネルの駆動方法について説明する。本実施の形態におけるタッチパネルは、静電容量方式による位置検出と抵抗膜方式による位置検出が時分割され交互に行なわれるものである。即ち、静電容量方式による位置検出がなされる時には、抵抗膜方式による位置検出はなされることはなく、抵抗膜方式による位置検出がなされる時には、静電容量方式による位置検出はなされることはない。
　図３に基づき、本実施の形態におけるタッチパネルにおいて、静電容量方式による位置検出を行なう場合について説明する。静電容量方式による位置検出では、第１の透明導電膜１０と第２の透明導電膜２０とを用いて、接触点における位置検出が行なわれる。ところで、静電容量方式による位置検出においては、第１の透明導電膜１０及び第２の透明導電膜２０における各々の分離領域の間は、離れて形成されていることが好ましい。本実施の形態においては、第１の透明導電膜１０は、静電容量方式においてのみ用いられるため、第１の透明導電膜１０における分離領域１０ａ間の間隔は広く形成されている。
　また、第２の透明導電膜２０は、静電容量方式のみならず、抵抗膜方式においても用いられるため、第２の透明導電膜２０には、各々の分離領域２０ａ及び２０ｂが形成されているが、静電容量方式における位置検出を行なう場合には、分離領域２０ａ及び２０ｂのうちの分離領域２０ａのみが用いられる。従って、第２の透明導電膜２０においては、分離領域２０ａ及び２０ｂ間の間隔は狭く形成されており、第２の透明導電膜２０における分離領域２０ａ及び２０ｂ間の間隔は、第１の透明導電膜１０における分離領域１０ａ間の間隔よりも狭く形成されている。本実施の形態におけるタッチパネルにおいて、静電容量方式における位置検出を行なう場合には、分離領域２０ａは電極２２ａを介して駆動されるが、分離領域２０ｂは電極２２ａを介して駆動されることなく、更には、接地されることもなく、オープン状態、即ち、フローティング状態となっている。
　このように、本実施の形態におけるタッチパネルにおいて、静電容量方式による位置検出を行なう場合には、第１の透明導電膜１０と第２の透明導電膜２０における分離領域２０ａとが用いられる。
　次に、図４に基づき、本実施の形態におけるタッチパネルにおいて、抵抗膜方式による位置検出を行なう場合について説明する。抵抗膜方式による位置検出では、第２の透明導電膜２０と第３の透明導電膜３０とを用いて位置検出が行なわれる。具体的には、抵抗膜方式における４線式と同様の方法により位置検出が行なわれる。ところで、抵抗膜方式による位置検出においては、第２の透明導電膜２０において形成されている各々の分離領域間は、狭く形成されていることが好ましく、可能であれば、第３の透明導電膜３０のように、各々の分離領域に分割されることなく一面に形成されていることが好ましい。しかしながら、第２の透明導電膜２０は、静電容量方式においても用いられることから、各々の分離領域に分離する必要がある。このため、上述したように、分離領域２０ａ及び２０ｂ間における間隔は、できるだけ狭くなるように形成されている。
　本実施の形態におけるタッチパネルにおいて、抵抗膜方式による位置検出を行なう場合には、電極２２ａと電極２２ｂに所定の電圧を印加することにより第２の透明導電膜２０に電位勾配を発生させ、第３の透明導電膜３０によって第２の透明導電膜２０と接触した位置における電位を検出することにより、接触点のＹ方向における座標検出を行なう。また、電極３２ａと電極３２ｂに所定の電圧を印加することにより第３の透明導電膜３０に電位勾配を発生させ、第２の透明導電膜２０によって第３の透明導電膜３０と接触した位置における電位を検出することにより、接触点のＸ方向における座標検出を行なう。これにより、抵抗膜方式により接触点の位置を検出することができる。
　このように、本実施の形態におけるタッチパネルにおいて、抵抗膜方式による位置検出を行なう場合には、第２の透明導電膜２０における分離領域２０ａ及び２０ｂと第３の透明導電膜３０とが用いられる。
　〔第２の実施の形態〕
　次に、第２の実施の形態について説明する。本実施の形態は、液晶表示装置等の表示装置からのノイズを防ぐための透明導電膜を形成した構造のタッチパネルであり、図５及び図６に基づき説明する。本実施の形態におけるタッチパネルは、液晶表示装置等の表示装置６０の上に設置されるものであって、第１の透明導電膜１０、第２の透明導電膜２０、第３の透明導電膜３０及び第４の透明導電膜５０を有している。第４の透明導電膜５０は、本実施の形態におけるタッチパネルにおいて、表示装置６０に対向する側、例えば、第３の透明基板３１の他方の面に形成されており、第４の透明導電膜５０の周囲に設けられた電極５１を介し接地電位（ＧＮＤ）に接続されている。これにより、表示装置６０において発生したノイズは第４の透明導電膜５０により遮断することができ、タッチパネルにおいて接触位置の位置検出がなされる際の誤動作等の発生を防ぐことができる。尚、第４の透明導電膜５０は、第１の透明導電膜１０等と同様の材料により形成されている。このような本実施の形態における第４の透明導電膜５０は第４の導電膜となるものである。
　〔第３の実施の形態〕
　次に、第３の実施の形態について説明する。図７に示されるように、本実施の形態におけるタッチパネルは、第２の透明基板２１の一方の面に第２の透明導電膜２０を形成し、他方の面に第１の透明導電膜１０を形成した構造のものである。このような構造とすることにより、第１の透明基板１１を形成することなく第１の実施の形態と同様のタッチパネルを形成することができ、タッチパネルにおける全体の厚さを薄くすることができる。尚、本実施の形態においては、図７に示すように、更に、透明導電膜の形成されていない薄い第１の透明基板１１Ａを粘着層４１等により接合した構造のものであってもよい。
　〔第４の実施の形態〕
　次に、第４の実施の形態について説明する。本実施の形態は、タッチパネルに加飾部となる加飾フィルムが形成されているものである。具体的には、図８に示すように、第１の透明基板１１の一方の面の縁部に、黒色の絶縁体材料により形成された加飾部となる加飾フィルム７０を形成し、更に、この上に、第１の透明導電膜１０を形成した構造のものである。このように、タッチパネルの縁部に加飾フィルム７０を形成して加飾を施すことにより、タッチパネルにおける外観上の品位を高めることができる。加飾フィルム７０は、第１の透明基板１１の一方の面にスクリーン印刷等の印刷法により、または、加飾フィルム７０となるフィルムを貼り付けることにより形成することができる。尚、第１の透明導電膜１０は加飾フィルム７０の形成されたものの上に、透明導電膜シートを貼り付けること、また、スパッタリング等による成膜方法により形成することが可能である。
　また、本実施の形態におけるタッチパネルは、図９に示すように、第１の透明基板１１の一方の面に形成されている第１の透明導電膜１０の上に、加飾部となる導電性の加飾フィルム７１を形成したものであってもよい。この場合、加飾フィルム７１は、黒色の導電性材料により形成されており、例えば、黒色の導電性ペーストを用いてスクリーン印刷等の印刷法により形成されている。尚、第１の透明導電膜１０における各々の領域間は、電気的に分離されている必要がある。このため、図９（ｂ）に示すように、第１の透明導電膜１０の各々の分離領域１０ａ間において、黒色の導電性材料により形成されている加飾フィルム７１が一部除去されており、加飾フィルム７１が除去された領域には、黒色の絶縁性材料により黒色絶縁体領域７２が形成されている。黒色の導電性ペーストを形成する材料としては、銀カーボン等を含む材料が挙げられる。また、黒色の絶縁性材料としては、絶縁性を有する黒色酸化物からなる顔料が含まれるものや黒色の樹脂材料等が挙げられる。尚、図９（ａ）は、このタッチパネルの断面図であり、図９（ｂ）は、第１の透明基板１０を一方の面から見た平面図である。
　また、本実施の形態におけるタッチパネルは、図１０に示すように、第１の透明基板１１の一方の面に形成されている第１の透明導電膜１０の上に、加飾部となる絶縁性の加飾フィルム７３を形成したものであってもよい。この場合、加飾フィルム７３は、黒色の絶縁性ペーストを用いてスクリーン印刷等の印刷法により形成することができる。黒色の絶縁性ペーストを形成する材料としては、絶縁性を有する黒色酸化物からなる顔料が含まれるものや黒色の樹脂材料等が挙げられる。また、第１の透明導電膜１０における各々の領域と、各々の領域に対応する電極１２とを接続するために、透明導電膜７４が形成されている。これにより、第１の透明導電膜１０における各々の領域と、各々の領域に対応する電極１２とを透明導電膜７４により電気的に接続することができる。透明導電膜７４は、導電性を有する透明導電材料により形成された透明導電ペースを用いてスクリーン印刷等の印刷法により形成することができる。透明導電ペーストを形成する材料としては、ＩＴＯ等の透明導電材料の微粒子等が含まれるもの等が挙げられる。尚、図１０（ａ）は、このタッチパネルの断面図であり、図１０（ｂ）は、第１の透明基板１０を一方の面から見た平面図である。
　〔第５の実施の形態〕
　次に、第５の実施の形態について説明する。本実施の形態は、基板や透明導電膜等における反射を防止するため、反射防止膜を形成した構造のタッチパネルである。反射防止膜を形成することにより、タッチパネルにおける反射を軽減することができ、また、第１の透明導電膜１０または第２の透明導電膜２０における各々の分離領域を目立たなくすることができる。
　例えば、図１１に示される本実施の形態におけるタッチパネルにおいては、第１の透明基板１１の他方の面には反射防止膜８１が形成されており、第１の透明基板１１の一方の面には反射防止膜８２が形成されている。また、第２の透明基板２１の他方の面には反射防止膜８３が形成されており、第２の透明基板２１の一方の面には反射防止膜８４が形成されている。また、第３の透明基板３１の一方の面には反射防止膜８５が形成されており、第３の透明基板３１の他方の面には反射防止膜８６が形成されている。
　尚、本実施の形態におけるタッチパネルは、反射防止膜８１～８６のうちの一部が形成されたものであってもよく、また、全部が形成されたものであってもよい。また、図１１に示す場合では、反射防止膜８２は、第１の透明基板１１と第１の透明導電膜１０との間に形成されており、反射防止膜８４は、第２の透明基板２１と第２の透明導電膜２０との間に形成されており、反射防止膜８５は、第３の透明基板３１と第３の透明導電膜３０との間に形成されているものを示している。しかしながら、反射防止膜８２は、第１の透明導電膜１０の表面上に形成されたものであってもよく、反射防止膜８４は、第２の透明導電膜２０の表面上に形成されたものであってもよく、反射防止膜８５は、第３の透明導電膜３０の表面上に形成されたものであってもよい。このような反射防止膜８１～８６は、真空蒸着、スパッタリング等の成膜方法により屈折率の異なる誘電体を交互に積層形成した誘電体多層膜により形成したものであってもよく、ＡＲフィルム等の反射防止フィルムを貼り付けることにより形成したものであってもよい。これによりタッチパネルにおける反射を低減することができる。
　〔第６の実施の形態〕
　次に、第６の実施の形態について説明する。本実施の形態は、タッチパネルにおける反射を防止するため、偏光板を設けた構造のタッチパネルである。本実施の形態におけるタッチパネルは、表示装置６０として液晶表示装置を用いた場合に用いられるものであって、具体的には、図１２に示すように、第１の透明基板１１の他方の面に偏光板９０を設けた構造のものである。図１２に示す構造のタッチパネルは、表示装置６０の表示画面の上に設置されるものであり、第３の透明基板３１の他方の面の側に表示装置６０が位置するように設置されているものであって、第１の透明基板１１の他方の面には、偏光板９０が粘着層４４により貼り付けられている構造のものである。尚、この偏光板９０は、表示装置６０に用いられている偏光板の偏光方向との位置調整がなされた後に設置される。これによりタッチパネルにおける反射を低減することができる。
　本実施の形態におけるタッチパネルは、表示装置６０が液晶表示装置の場合に用いられるものであり、また、偏光板９０を用いているため、第１の透明基板１１、第２の透明基板２１及び第３の透明基板３１は、複屈折等を有することのない光学的に等方性を有する材料により形成されていることが好ましい。具体的には、第１の透明基板１１、第２の透明基板２１及び第３の透明基板３１は、ポリカーボネート等の光学的に等方性を有する樹脂材料やガラス等の光学的に等方性を有する無機材料により形成されていることが好ましい。
　〔発明の第２の態様〕
　以下において、発明の第２の態様について説明する。発明の第２の態様の各実施の形態については、発明の第２の態様のものである旨は特に明示しない。第２の態様以外の他の態様の実施の形態について言及する場合には、その旨を適宜明示する。
　〔第１の実施の形態〕
　第１の実施の形態におけるタッチパネルについて説明する。図１３及び図１４に示されるように、本実施の形態におけるタッチパネルは、第１の透明導電膜１１０及び第２の透明導電膜１２０を有している。本実施の形態においては、第１の透明導電膜１１０と第２の透明導電膜１２０を用いて静電容量方式により接触点（接触位置）における位置検出を行なうことができ、また、抵抗膜方式により接触点（接触位置）における位置検出を行なうことができる。尚、本実施の形態においては、第１の導電膜は第１の透明導電膜１１０であり、第２の導電膜は第２の透明導電膜１２０であるものとする。
　第１の透明導電膜１１０は、第１の透明基板１１１の一方の面に形成されており、Ｘ軸方向に長く形成された短冊状の分離領域１１０ａ及び１１０ｂを複数有している。分離領域１１０ａ及び１１０ｂは交互にＹ軸方向に並ぶように配列されており、各々の分離領域１１０ａ及び１１０ｂの両端、即ち、Ｘ軸方向における両端には、電極１１２ａ及び１１２ｂが接続されている。尚、図面においては、符号が省略されているが、電極１１２ａ及び１１２ｂは、すべての分離領域１１０ａ及び１１０ｂにおいて形成されている。
　第２の透明導電膜１２０は、第２の透明基板１２１の一方の面に形成されており、Ｙ軸方向に長く形成された短冊状の分離領域１２０ａ及び１２０ｂを複数有している。分離領域１２０ａ及び１２０ｂは交互にＸ軸方向に並ぶように配列されており、各々の分離領域１２０ａ及び１２０ｂの両端、即ち、Ｙ軸方向における両端には、電極１２２ａ及び１２２ｂが接続されている。尚、図面においては、符号が省略されているが、電極１２２ａ及び１２２ｂは、すべての分離領域１２０ａ及び１２０ｂにおいて形成されている。
　第１の透明導電膜１１０及び第２の透明導電膜１２０は、ＩＴＯ（indium-tin oxide）、ＡＺＯ（Al-doped zinc oxide）等の金属酸化物であって、導電性を有する透明な材料により形成されている。尚、第１の透明導電膜１１０及び第２の透明導電膜１２０は、導電性を有する透明な材料であれば、金属酸化物以外の材料により形成してもよい。即ち、導電性を有するものであって光を透過させることができる材料であればよく、具体的には、導電ポリマー、金属ナノワイヤ、カーボンナノチューブ等のＩＴＯ等の代替材料と呼ばれる材料により形成してもよい。
　第１の透明基板１１１は、ＰＥＴ（Polyethylene terephthalate）等の透明な樹脂材料であって、撓みやすい材料により形成されている。また、第２の透明基板１２１は、ガラス等の透明な無機材料やプラスチック等の透明な樹脂材料により形成されている。
　本実施の形態におけるタッチパネルにおいては、第１の透明基板１１１と第２の透明基板１２１とは、第１の透明基板１１１の一方の面と第２の透明基板１２１の一方の面とを対向させた状態で、枠状の両面テープ等の接着部材１４２により接合されている。これにより、第１の透明基板１１１と第２の透明基板１２１により空間１４３が形成され、この空間１４３を介し、第１の透明導電膜１１０と第２の透明導電膜１２０とが対向するように配置される。
　（駆動方法）
　次に、本実施の形態におけるタッチパネルの駆動方法について説明する。本実施の形態におけるタッチパネルは、静電容量方式による位置検出と抵抗膜方式による位置検出が時分割され交互に行なわれるものである。即ち、静電容量方式による位置検出がなされる時には、抵抗膜方式による位置検出はなされることはなく、抵抗膜方式による位置検出がなされる時には、静電容量方式による位置検出はなされることはない。
　図１５に基づき、本実施の形態におけるタッチパネルにおいて、静電容量方式による位置検出を行なう場合について説明する。静電容量方式による位置検出では、第１の透明導電膜１１０と第２の透明導電膜１２０とを用いて、接触点における位置検出が行なわれる。ところで、静電容量方式による位置検出においては、第１の透明導電膜１１０及び第２の透明導電膜１２０における各々の分離領域の間は、離れて形成されていることが好ましい。また、本実施の形態においては、第１の透明導電膜１１０及び第２の透明導電膜１２０は、静電容量方式のみならず、抵抗膜方式においても用いられる。従って、第１の透明導電膜１１０において分離領域１１０ａ及び１１０ｂが形成されており、第２の透明導電膜１２０において分離領域１２０ａ及び１２０ｂが形成されているが、静電容量方式における位置検出を行なう場合には、分離領域１１０ａ及び１１０ｂのうちの分離領域１１０ａのみが用いられ、分離領域１２０ａ及び１２０ｂのうちの分離領域１２０ａのみが用いられる。即ち、本実施の形態におけるタッチパネルにおいて、静電容量方式における位置検出を行なう場合には、分離領域１１０ａは電極１１２ａを介して駆動されるが、分離領域１１０ｂは電極１１２ｂを介して駆動されることなく、更には、接地されることもなく、オープン状態、即ち、フローティング状態となっている。同様に、分離領域１２０ａは電極１２２ｂを介して駆動されるが、分離領域１２０ｂは電極１２２ｂを介して駆動されることなく、更には、接地されることもなく、オープン状態、即ち、フローティング状態となっている。
　このように、本実施の形態におけるタッチパネルにおいて、静電容量方式による位置検出を行なう場合には、第１の透明導電膜１１０における分離領域１１０ａと第２の透明導電膜１２０における分離領域１２０ａとが用いられる。
　次に、図１６に基づき、本実施の形態におけるタッチパネルにおいて、抵抗膜方式による位置検出を行なう場合について説明する。抵抗膜方式による位置検出では、第１の透明導電膜１１０と第２の透明導電膜１２０とを用いて位置検出が行なわれる。具体的には、抵抗膜方式における４線式と同様の方法により位置検出が行なわれる。ところで、抵抗膜方式による位置検出においては、第１の透明導電膜１１０及び第２の透明導電膜１２０において形成されている各々の分離領域間は、狭く形成されていることが好ましく、可能であれば各々の分離領域に分割されることなく一面に形成されていることが好ましい。しかしながら、第１の透明導電膜１１０及び第２の透明導電膜１２０は、静電容量方式においても用いられることから、各々の分離領域に分離する必要がある。このため、上述したように、分離領域１１０ａ及び１１０ｂ間における間隔、分離領域１２０ａ及び１２０ｂ間における間隔は、できるだけ狭くなるように形成されている。
　本実施の形態におけるタッチパネルにおいて、抵抗膜方式による位置検出を行なう場合には、電極１１２ａと電極１１２ｂに所定の電圧を印加することにより第１の透明導電膜１１０に電位勾配を発生させ、第２の透明導電膜１２０によって、第１の透明導電膜１１０と接触した位置における電位を検出することにより、接触点のＸ方向における座標検出を行なう。また、電極１２２ａと電極１２２ｂに所定の電圧を印加することにより第２の透明導電膜１２０に電位勾配を発生させ、第１の透明導電膜１１０によって、第２の透明導電膜と接触した位置における電位を検出することにより、接触点のＹ方向における座標検出を行なう。これにより、抵抗膜方式により接触点の位置を検出することができる。
　このように、本実施の形態におけるタッチパネルにおいて、抵抗膜方式による位置検出を行なう場合には、第１の透明導電膜１１０における分離領域１１０ａ及び１１０ｂと第２の透明導電膜１２０における分離領域１２０ａ及び１２０ｂとが用いられる。
　〔第２の実施の形態〕
　次に、第２の実施の形態について説明する。本実施の形態は、液晶表示装置等の表示装置からのノイズを防ぐための透明導電膜を形成した構造のタッチパネルであり、図１７及び図１８に基づき説明する。本実施の形態におけるタッチパネルは、液晶表示装置等の表示装置１６０の上に設置されるものであって、第１の透明導電膜１１０、第２の透明導電膜１２０及び第３の透明導電膜１５０を有している。第３の透明導電膜１５０は、本実施の形態におけるタッチパネルにおいて、表示装置１６０に対向する側、例えば、第２の透明基板１２１の他方の面に形成されており、第３の透明導電膜１５０の周囲に設けられた電極１５１を介し接地電位（ＧＮＤ）に接続されている。これにより、表示装置１６０において発生したノイズは第３の透明導電膜１５０により遮断することができ、タッチパネルにおいて接触位置の位置検出がなされる際の誤動作等の発生を防ぐことができる。尚、第３の透明導電膜１５０は、第１の透明導電膜１１０等と同様の材料により形成されている。このような本実施の形態における第３の透明導電膜１５０は、第３の導電膜となるものである。
　〔第３の実施の形態〕
　次に、第３の実施の形態について説明する。本実施の形態は、タッチパネルに加飾部となる加飾フィルムが形成されているものである。具体的には、図１９に示すように、第１の透明基板１１１の一方の面の縁部に、黒色の絶縁体材料により形成された加飾部となる加飾フィルム１７０を形成し、更に、この上に、第１の透明導電膜１１０を形成した構造のものである。このように、タッチパネルの縁部に加飾フィルム１７０を形成して加飾を施すことにより、タッチパネルにおける外観上の品位を高めることができる。加飾フィルム１７０は、第１の透明基板１１１の一方の面にスクリーン印刷等の印刷法により、または、加飾フィルム１７０となるフィルムを貼り付けることにより形成することができる。尚、第１の透明導電膜１１０は加飾フィルム１７０の形成されたものの上に、透明導電膜シートを貼り付けること、また、スパッタリング等による成膜方法により形成することが可能である。
　また、本実施の形態におけるタッチパネルは、図２０に示すように、第１の透明基板１１１の一方の面に形成されている第１の透明導電膜１１０の上に、加飾部となる導電性の加飾フィルム１７１を形成したものであってもよい。この場合、加飾フィルム１７１は、黒色の導電性材料により形成されており、例えば、黒色の導電性ペーストを用いてスクリーン印刷等の印刷法により形成されている。尚、第１の透明導電膜１１０における各々の領域間は、電気的に分離されている必要がある。このため、図２０（ｂ）に示すように、第１の透明導電膜１１０の各々の分離領域１１０ａと分離領域１１０ｂとの間においては、黒色の導電性材料により形成されている加飾フィルム１７１が一部除去されており、加飾フィルム１７１が除去された領域には、黒色の絶縁性材料により黒色絶縁体領域１７２が形成されている。黒色の導電性ペーストを形成する材料としては、銀カーボン等を含む材料が挙げられる。また、黒色の絶縁性材料としては、絶縁性を有する黒色酸化物からなる顔料が含まれるものや黒色の樹脂材料等が挙げられる。尚、図２０（ａ）は、このタッチパネルの断面図であり、図２０（ｂ）は、第１の透明基板１１０を一方の面から見た平面図である。
　また、本実施の形態におけるタッチパネルは、図２１に示すように、第１の透明基板１１１の一方の面に形成されている第１の透明導電膜１１０の上に、加飾部となる絶縁性の加飾フィルム１７３を形成したものであってもよい。この場合、加飾フィルム１７３は、黒色の絶縁性ペーストを用いてスクリーン印刷等の印刷法により形成することができる。黒色の絶縁性ペーストを形成する材料としては、絶縁性を有する黒色酸化物からなる顔料が含まれるものや黒色の樹脂材料等が挙げられる。また、第１の透明導電膜１１０における各々の分離領域１１０ａ及び１１０ｂと、各々の分離領域１１０ａ及び１１０ｂに対応する電極１１２ａ及び１１２ｂとを接続するために、透明導電膜１７４が形成されている。これにより、第１の透明導電膜１１０における各々の分離領域１１０ａ及び１１０ｂと、各々の分離領域１１０ａ及び１１０ｂに対応する電極１１２ａ及び１１２ｂとを透明導電膜１７４により電気的に接続することができる。透明導電膜１７４は、導電性を有する透明導電材料により形成された透明導電ペースを用いてスクリーン印刷等の印刷法により形成することができる。透明導電ペーストを形成する材料としては、ＩＴＯ等の透明導電材料の微粒子等が含まれるもの等が挙げられる。尚、図２１（ａ）は、このタッチパネルの断面図であり、図２１（ｂ）は、第１の透明基板１１０を一方の面から見た平面図である。
　〔第４の実施の形態〕
　次に、第４の実施の形態について説明する。本実施の形態は、基板や透明導電膜等における反射を防止するため、反射防止膜を形成した構造のタッチパネルである。反射防止膜を形成することにより、タッチパネルにおける反射を軽減することができ、また、第１の透明導電膜１１０又は第２の透明導電膜１２０における各々の分離領域を目立たなくすることができる。
　例えば、図２２に示される本実施の形態におけるタッチパネルにおいては、第１の透明基板１１１の他方の面には反射防止膜１８１が形成されており、第１の透明基板１１１の一方の面には、反射防止膜１８２が形成されている。また、第２の透明基板１２１の他方の面には反射防止膜１８３が形成されており、第２の透明基板１２１の一方の面には、反射防止膜１８４が形成されている。尚、本実施の形態におけるタッチパネルは、反射防止膜１８１～１８４のうちの一部が形成されたものであってもよく、また、全部が形成されたものであってもよい。また、図２２においては、反射防止膜１８２は、第１の透明基板１１１と第１の透明導電膜１１０との間に形成されており、反射防止膜１８３は、第２の透明基板１２１と第２の透明導電膜１２０との間に形成されているものを示している。しかしながら、反射防止膜１８２は、第１の透明導電膜１１０の表面上に形成されたものであってもよく、反射防止膜１８３は、第２の透明導電膜１２０の表面上に形成されたものであってもよい。このような反射防止膜１８１～１８４は、真空蒸着、スパッタリング等の成膜方法により屈折率の異なる誘電体を交互に積層形成した誘電体多層膜により形成したものであってもよく、ＡＲフィルム等の反射防止フィルムを貼り付けることにより形成したものであってもよい。これによりタッチパネルにおける反射を低減することができる。
　〔第５の実施の形態〕
　次に、第５の実施の形態について説明する。本実施の形態は、タッチパネルにおける反射を防止するため、偏光板を設けた構造のタッチパネルである。本実施の形態におけるタッチパネルは、表示装置１６０として液晶表示装置を用いた場合に用いられるものであって、具体的には、図２３に示すように、第１の透明基板１１１の他方の面に偏光板１９０を設けた構造のものである。図２３に示す構造のタッチパネルは、表示装置１６０の表示画面の上に設置されるものであり、第２の透明基板１２１の他方の面の側に表示装置１６０が位置するように設置されているものであって、第１の透明基板１１１の他方の面には、偏光板１９０が粘着層１４４により貼り付けられている構造のものである。尚、この偏光板１９０は、表示装置１６０に用いられている偏光板の偏光方向との位置調整がなされた後に設置される。これによりタッチパネルにおける反射を低減することができる。
　本実施の形態におけるタッチパネルは、表示装置１６０が液晶表示装置の場合に用いられるものであり、また、偏光板１９０を用いているため、第１の透明基板１１１及び第２の透明基板１２１は、複屈折等を有することのない光学的に等方性を有する材料により形成されていることが好ましい。具体的には、第１の透明基板１１１及び第２の透明基板１２１は、ポリカーボネート等の光学的に等方性を有する樹脂材料やガラス等の光学的に等方性を有する無機材料により形成されていることが好ましい。
　〔発明の第３の態様〕
　以下において、発明の第３の態様について説明する。発明の第３の態様の各実施の形態については、必要でない限り、発明の第３の態様のものである旨は特に明示しない。第３の態様以外の他の態様の実施の形態について言及する場合には、その旨を適宜明示する。
　〔第１の実施の形態〕
　以下において、発明の第３の態様における第１の実施の形態については、発明の第１の態様における第１の実施の形態を示す図１乃至図４を用いて、説明をする。
　第１の実施の形態におけるタッチパネルについて説明する。図１及び図２に示されるように、本実施の形態におけるタッチパネルは、第１の透明導電膜１０、第２の透明導電膜２０及び第３の透明導電膜３０を有している。本実施の形態においては、第１の透明導電膜１０と第２の透明導電膜２０を用いて静電容量方式により接触点（接触位置）における位置検出を行なうことができ、第２の透明導電膜２０と第３の透明導電膜３０を用いて抵抗膜方式により接触点（接触位置）における位置検出を行なうことができる。尚、本実施の形態においては、第１の導電膜は第１の透明導電膜１０であり、第２の導電膜は第２の透明導電膜２０であり、第３の導電膜は第３の透明導電膜３０であるものとする。
　第１の透明導電膜１０は、第１の透明基板１１の一方の面に形成されており、Ｘ軸方向に長く形成された短冊状の分離領域１０ａを複数有している。複数の分離領域１０ａはＹ軸方向に並ぶように配列されており、各々の分離領域１０ａの端部には電極１２が接続されている。尚、図面においては、符号が省略されているが、電極１２は、すべての分離領域１０ａにおいて形成されている。
　第２の透明導電膜２０は、第２の透明基板２１の一方の面に形成されており、Ｙ軸方向に長く形成された短冊状の分離領域２０ａ及び２０ｂを複数有している。分離領域２０ａ及び２０ｂは、交互にＸ軸方向に並ぶように配列されており、各々の分離領域２０ａ及び２０ｂの両端、即ち、Ｙ軸方向における両端には、電極２２ａ及び２２ｂが接続されている。尚、図面においては、符号が省略されているが、電極２２ａ及び２２ｂは、すべての分離領域２０ａ及び２０ｂにおいて形成されている。
　第３の透明導電膜３０は、第３の透明基板３１の一方の面に、略一面に形成されており、Ｘ軸方向における両端には、電極３２ａ及び３２ｂが接続されている。
　第１の透明導電膜１０、第２の透明導電膜２０及び第３の透明導電膜３０は、ＩＴＯ（indium-tin oxide）、ＡＺＯ（Al-doped zinc oxide）等の金属酸化物であって、導電性を有する透明な材料により形成されている。尚、第１の透明導電膜１０、第２の透明導電膜２０及び第３の透明導電膜３０は、導電性を有する透明な材料であれば、金属酸化物以外の材料により形成してもよい。即ち、導電性を有するものであって光を透過させることができる材料であればよく、具体的には、導電ポリマー、金属ナノワイヤ、カーボンナノチューブ等のＩＴＯ等の代替材料と呼ばれる材料により形成してもよい。
　第１の透明基板１１及び第２の透明基板２１は、ＰＥＴ（Polyethylene terephthalate）等の透明な樹脂材料であって、撓みやすい材料により形成されている。第３の透明基板３１は、ガラス等の透明な無機材料やプラスチック等の透明な樹脂材料により形成されている。
　本実施の形態におけるタッチパネルにおいては、第１の透明基板１１と第２の透明基板２１とは、第１の透明基板１１の一方の面、即ち、第１の透明導電膜１０が形成されている面と、第２の透明基板２１の他方の面とが、透明な粘着層４１により接合されている。透明な粘着層４１としては、エポキシ樹脂等の透明な接着剤が挙げられる。また、第２の透明基板２１と第３の透明基板３１とは、第２の透明基板２１の一方の面と第３の透明基板３１の一方の面とを対向させた状態で、枠状の両面テープ等の接着部材４２により接合されている。これにより、第２の透明基板２１と第３の透明基板３１により空間４３が形成され、この空間４３を介し、第２の透明導電膜２０と第３の透明導電膜３０とが対向するように配置されている。
　（駆動方法）
　次に、本実施の形態におけるタッチパネルの駆動方法について説明する。本実施の形態におけるタッチパネルは、静電容量方式による位置検出と抵抗膜方式による位置検出が時分割され交互に行なわれるものである。即ち、静電容量方式による位置検出がなされる時間には、抵抗膜方式による位置検出はなされることはなく、抵抗膜方式による位置検出がなされる時間には、静電容量方式による位置検出はなされることはなく、静電容量方式による位置検出と抵抗膜方式による位置検出とが交互に行なわれるものである。
　図３に基づき、本実施の形態におけるタッチパネルにおいて、静電容量方式による位置検出を行なう場合について説明する。静電容量方式による位置検出では、第１の透明導電膜１０と第２の透明導電膜２０とを用いて、接触点における位置検出が行なわれる。ところで、静電容量方式による位置検出においては、第１の透明導電膜１０及び第２の透明導電膜２０において形成されている各々の分離領域の間は、離れていることが好ましい。本実施の形態では、第１の透明導電膜１０は、静電容量方式においてのみ用いられるため、第１の透明導電膜１０における分離領域１０ａ間の間隔は広く形成されている。
　また、第２の透明導電膜２０は、静電容量方式のみならず、抵抗膜方式においても用いられるため、第２の透明導電膜２０には、各々の分離領域２０ａ及び２０ｂが形成されているが、静電容量方式における位置検出を行なう場合には、分離領域２０ａ及び２０ｂのうちの分離領域２０ａのみが用いられる。従って、第２の透明導電膜２０においては、分離領域２０ａ及び２０ｂ間の間隔は狭く形成されており、第２の透明導電膜２０における分離領域２０ａ及び２０ｂ間の間隔は、第１の透明導電膜１０における分離領域１０ａ間の間隔よりも狭く形成されている。本実施の形態におけるタッチパネルにおいて、静電容量方式における位置検出を行なう場合には、分離領域２０ａは電極２２ａを介して駆動されるが、分離領域２０ｂは電極２２ａを介して駆動されることなく、更には、接地されることもなく、オープン状態、即ち、フローティング状態となっている。
　このように、本実施の形態におけるタッチパネルにおいて、静電容量方式による位置検出を行なう場合には、第１の透明導電膜１０と第２の透明導電膜２０における分離領域２０ａとが用いられる。
　次に、図４に基づき、本実施の形態におけるタッチパネルにおいて、抵抗膜方式による位置検出を行なう場合について説明する。抵抗膜方式による位置検出では、第２の透明導電膜２０と第３の透明導電膜３０とを用いて位置検出が行なわれる。具体的には、抵抗膜方式における４線式と同様の方法により位置検出が行なわれる。ところで、抵抗膜方式による位置検出においては、第２の透明導電膜２０において形成されている各々の分離領域間は、狭く形成されていることが好ましく、可能であれば、第３の透明導電膜３０のように、各々の分離領域に分割されることなく一面に形成されていることが好ましい。しかしながら、第２の透明導電膜２０は、静電容量方式においても用いられることから、各々の分離領域に分離する必要がある。このため、上述したように、分離領域２０ａ及び２０ｂ間における間隔は、できるだけ狭くなるように形成されている。
　本実施の形態におけるタッチパネルにおいて、抵抗膜方式による位置検出を行なう場合には、電極２２ａと電極２２ｂに所定の電圧を印加することにより第２の透明導電膜２０に電位勾配を発生させ、第３の透明導電膜３０によって第２の透明導電膜２０と接触した位置における電位を検出することにより、接触点のＹ方向における座標検出を行なう。また、電極３２ａと電極３２ｂに所定の電圧を印加することにより第３の透明導電膜３０に電位勾配を発生させ、第２の透明導電膜２０によって第３の透明導電膜３０と接触した位置における電位を検出することにより、接触点のＸ方向における座標検出を行なう。これにより、抵抗膜方式により接触点の位置を検出することができる。
　このように、本実施の形態におけるタッチパネルにおいて、抵抗膜方式による位置検出を行なう場合には、第２の透明導電膜２０における分離領域２０ａ及び２０ｂと第３の透明導電膜３０とを用いて行なわれる。
　（位置検出）
　本実施の形態におけるタッチパネルにおいて、接触点の位置検出について説明する。本実施の形態におけるタッチパネルでは、図２４（ａ）に示されるように、第１の透明導電膜１０における各々の分割領域１０ａには、電極１２を介し静電容量方式における位置検出を行なうための電流検出部１３が接続されている。また、図２４（ｂ）に示されるように、第２の透明導電膜２０における各々の分割領域２０ａには、電極２２ａを介し静電容量方式における位置検出を行なうための電流検出部２３、抵抗膜方式による位置検出を行なうための電位検出部２４、接地電位に接続するためのスイッチ２５が接続されており、電源電圧Ｖｃｃを印加するためのスイッチ２６が電極２２ｂを介し接続されている。また、図２４（ｃ）に示されるように、第２の透明導電膜２０における各々の分割領域２０ｂには、電極２２ａを介し抵抗膜方式による位置検出を行なうための電位検出部２４、接地電位に接続するためのスイッチ２５が接続されており、電源電圧Ｖｃｃを印加するためのスイッチ２６が電極２２ｂを介し接続されている。また、図２４（ｄ）に示されるように、第３の透明導電膜３０には、電極３２ａを介し抵抗膜方式による位置検出を行なうための電位検出部３４、接地電位に接続するためのスイッチ３５が接続されており、電源電圧Ｖｃｃを印加するためのスイッチ３６が電極３２ｂを介し接続されている。
　本実施の形態におけるタッチパネルにおいて、図３に示されるように、静電容量方式による位置検出を行なう場合には、図２５に示されるように、スイッチ２５、２６、３５、３６はすべて開いた状態（オープン状態）とする。この状態において、第１の透明導電膜１０の各々の分割領域１０ａに接続されている電流検出部１３及び、第２の透明導電膜２０の各々の分割領域２０ａに接続されている電流検出部２３により、静電容量方式による位置検出がなされる。
　また、本実施の形態におけるタッチパネルにおいて、図４に示されるように、抵抗膜方式による位置検出を行なう場合には、最初に、図２６に示されるように、スイッチ２５、２６を開いた状態とし、スイッチ３５、３６を閉じた状態とする。この状態においては、第３の透明導電膜３０において、Ｘ軸方向に電位分布が発生しており、第２の透明導電膜２０の各々の分割領域２０ａ、２０ｂに接続されている電位検出部２４により、抵抗膜方式によるＸ方向における位置検出がなされる。次に、図２７に示されるように、スイッチ２５、２６を閉じた状態とし、スイッチ３５、３６を開いた状態とする。この状態においては、第２の透明導電膜２０の各々の分割領域２０ａ、２０ｂにおいて、Ｙ軸方向に電位分布が発生しており、第３の透明導電膜３０に接続されている電位検出部３４により、抵抗膜方式によるＹ方向における位置検出がなされる。
　（制御方法）
　次に、本実施の形態におけるタッチパネルの制御方法について説明する。図２８は、本実施の形態におけるタッチパネルを制御するための制御回路のブロック図である。この制御回路は、ＭＣＵ（Micro Control Unit）部２６０、静電容量方式制御部２６１、静電容量方式検出部２６２、抵抗膜方式制御部２６３、抵抗膜方式選択部２６４、抵抗膜方式検出部２６５等を有している。ＭＣＵ部２６０は、ホストＩ／Ｆを介し不図示のホストコンピュータ等に接続されており、静電容量方式制御部２６１、抵抗膜方式制御部２６３、抵抗膜方式選択部２６４等の制御を行なう。
　静電容量方式検出部２６２は、静電容量方式における位置検出を行なうためのものであり、具体的には、第１の透明導電膜１０の各々の分割領域１０ａに接続されている電流検出部１３、第２の透明導電膜２０の各々の分割領域２０ａに接続されている電流検出部２３に相当するものである。また、静電容量方式制御部２６１は、静電容量方式検出部２６２において検出された測定値をＭＣＵ部２６０に伝達するための情報に変換等するものである。
　抵抗膜方式検出部２６５は、抵抗膜方式における位置検出を行なうためのものであり、具体的には、第２の透明導電膜２０の各々の分割領域２０ａ、２０ｂに接続されている電位検出部２４、第３の透明導電膜３０に接続されている電位検出部３４に相当するものである。また、抵抗膜方式制御部２６３は、抵抗膜方式検出部２６５において検出された測定値をＭＣＵ部２６０に伝達するための情報に変換等するものである。抵抗膜方式選択部２６４は、ＭＣＵ部２６０からの選択信号に基づき、抵抗膜方式検出部２６５と抵抗膜方式制御部２６３とを接続したり遮断したりするものであり、例えば、スイッチ等である。
　本実施の形態では、抵抗膜方式選択部２６４は、図２９に示されるように、リレーにより形成されている。具体的には、抵抗膜方式選択部２６４となるリレーは、スイッチ２６４ａとコイル２６４ｂとを有しており、コイル２６４ｂの一方の端部にが、ＭＣＵ部２６０からの選択信号が入力されている。尚、コイル２６４ｂの他方の端部は電源に接続されており、Ｖｃｃの電位（Ｈレベルの電位）になっている。
　本実施の形態におけるタッチパネルにおいて接触位置を検出する際には、図３０に示すような選択信号をＭＣＵ部２６０において発生させてコイル２６４ｂの一方の端部に入力させる。ＭＣＵ部２６０からの選択信号がＬレベルである場合には、コイル２６４ｂに電流が流れることにより磁界が発生し、スイッチ２６４ａが接続されてオン状態となる。この状態においては、抵抗膜方式選択部２６４を介し、抵抗膜方式制御部２６３と抵抗膜方式検出部２６５とが接続され、抵抗膜方式による位置検出が行なわれる。
　次に、ＭＣＵ部２６０からの選択信号がＨレベルである場合には、コイル２６４ｂには電流が流れないため、発生していた磁界が消滅し、スイッチ２６４ｂが開放されオフ状態となる。この状態においては、抵抗膜方式制御部２６３と抵抗膜方式検出部２６５とが抵抗膜方式選択部２６４において切り離されており、抵抗膜方式検出部２６５に接続されている透明導電膜や透明導電膜の分離領域はオープン状態となる。この状態において静電容量方式による位置検出が行なわれる。
　尚、上記においては、抵抗膜方式選択部２６４にリレーを用いた場合について説明したが、図３１に示すように、抵抗膜方式選択部２６４にトランジスタ等の半導体素子を用いてもよい。この場合、選択信号を抵抗膜方式選択部２６４であるトランジスタのベース（Ｂ）に入力させ、抵抗膜方式選択部２６４であるトランジスタのエミッタ（Ｅ）及びコレクタ（Ｃ）は、各々抵抗膜方式検出部２６５及び抵抗膜方式検出部２６５に接続する。このような半導体素子としては、トランジスタ以外にもＦＥＴ（Field effect transistor）等が挙げられる。
　（タッチパネルの接触位置の検出方法）
　次に、本実施の形態におけるタッチパネルの接触位置の検出方法について、図３２に基づき説明する。
　最初に、ステップ１０２（Ｓ１０２）において、静電容量方式による位置検出を行なうため、ＭＣＵ部２６０から送信されたＨレベルの選択信号を抵抗膜方式選択部２６４に入力する。
　次に、ステップ１０４（Ｓ１０４）において、Ｈレベルの選択信号を抵抗膜方式選択部２６４に入力させることにより、抵抗膜方式選択部２６４はオフ状態となる。この際、ＭＣＵ部２６０等における制御により、図２５に示されるように、スイッチ２５、２６、３５、３６は開いた状態となっている。
　次に、ステップ１０６（Ｓ１０６）において、静電容量方式による接触位置の位置検出を開始する。この際、第１の透明導電膜１０における各々の分割領域１０ａに接続されている電流検出部１３及び、第２の透明導電膜２０における各々の分割領域２０ａに接続されている電流検出部２３が用いられる。
　次に、ステップ１０８（Ｓ１０８）において、静電容量方式において検出される接触があるか否かが判断される。具体的には、電流検出部１３及び２３において検出される電流量に基づき、静電容量方式において検出される接触があるか否かが判断される。静電容量方式において検出される接触があったものと判断された場合には、ステップ１１０に移行する。一方、静電容量方式において検出される接触がなかったものと判断された場合には、ステップ１１２に移行する。
　次に、ステップ１１０（Ｓ１１０）において、電流検出部１３及び２３において検出された電流量に基づき、静電容量方式による接触位置の座標位置を算出し、算出された接触位置の座標位置をホストコンピュータ等に送信する。
　次に、ステップ１１２（Ｓ１１２）において、抵抗膜方式による位置検出を行なうため、ＭＣＵ部２６０から送信されたＬレベルの選択信号を抵抗膜方式選択部２６４に入力する。
　次に、ステップ１１４（Ｓ１１４）において、Ｌレベルの選択信号が抵抗膜方式選択部２６４に入力させることにより、抵抗膜方式選択部２６４はオン状態となる。この際、ＭＣＵ部２６０等における制御により、例えば、図２６に示すように、スイッチ２５、２６は開いた状態とし、スイッチ３５、３６は閉じた状態とすることにより、Ｘ軸方向に電位勾配を発生させる。
　次に、ステップ１１６（Ｓ１１６）において、抵抗膜方式による接触位置の位置検出を開始する。この際、第２の透明導電膜２０における各々の分割領域２０ａ及び２０ｂに接続されている電位検出部２４が用いられる。
　次に、ステップ１１８（Ｓ１１８）において、抵抗膜方式において検出される接触があるか否かが判断される。具体的には、電位検出部２４において検出される電位に基づき、抵抗膜方式において検出される接触があるか否かが判断される。抵抗膜方式において検出される接触があったものと判断された場合には、ステップ１２０に移行する。一方、抵抗膜方式において検出される接触がなかったものと判断された場合には、ステップ１０２に移行する。
　次に、ステップ１２０（Ｓ１２０）において、電位検出部２４により検出された電位に基づき抵抗膜方式により接触位置のＸ座標の座標位置を算出する。この後、ＭＣＵ部２６０等における制御により、例えば、図２７に示すように、スイッチ２５、２６を閉じた状態とし、スイッチ３５、３６を開いた状態とすることにより、Ｙ軸方向に電位勾配を発生させ、第３の透明導電膜３０に接続されている電位検出部３４により電位を検出し、検出された電位に基づき抵抗膜方式により接触位置のＹ座標の座標位置を算出する。このようにして抵抗膜方式による接触位置の座標位置を算出し、算出された接触位置の座標位置はホストコンピュータ等に送信される。
　尚、本実施の形態においては、静電容量方式による接触点の位置検出を行なう工程を第１の検出工程と、抵抗膜方式による接触点の位置検出を行なう工程を第２の検出工程と記載する場合がある。
　以上により、本実施の形態におけるタッチパネルにおいて、位置検出を行なうことができる。このタッチパネルの位置検出方法によれば、如何なる接触物においても位置検出を行なうことができ、また、触れるだけでも位置検出を行なうことができるタッチパネルにおいて、簡単な工程により位置検出を行なうことができる。
　〔第２の実施の形態〕
　以下において、発明の第３の態様における第２の実施の形態については、発明の第２の態様における第１の実施の形態を示す図１３乃至図１６を用いて、説明をする。
　まず第２の実施の形態におけるタッチパネルについて説明する。図１３及び図１４に示されるように、本実施の形態におけるタッチパネルは、第１の透明導電膜１１０及び第２の透明導電膜１２０を有している。本実施の形態においては、第１の透明導電膜１１０と第２の透明導電膜１２０を用いて静電容量方式により接触点（接触位置）における位置検出を行なうことができ、また、抵抗膜方式により接触点（接触位置）における位置検出を行なうことができる。尚、本実施の形態においては、第１の導電膜は第１の透明導電膜１１０であり、第２の導電膜は第２の透明導電膜１２０であるものとする。
　第１の透明導電膜１１０は、第１の透明基板１１１の一方の面に形成されており、Ｘ軸方向に長く形成された短冊状の分離領域１１０ａ及び１１０ｂを複数有している。分離領域１１０ａ及び１１０ｂは交互にＹ軸方向に並ぶように配列されており、各々の分離領域１１０ａ及び１１０ｂの両端、即ち、Ｘ軸方向における両端には、電極１１２ａ及び１１２ｂが接続されている。尚、図面においては、符号が省略されているが、電極１１２ａ及び１１２ｂは、すべての分離領域１１０ａ及び１１０ｂにおいて形成されている。
　第２の透明導電膜１２０は、第２の透明基板１２１の一方の面に形成されており、Ｙ軸方向に長く形成された短冊状の分離領域１２０ａ及び１２０ｂを複数有している。分離領域１２０ａ及び１２０ｂは交互にＸ軸方向に並ぶように配列されており、各々の分離領域１２０ａ及び１２０ｂの両端、即ち、Ｙ軸方向における両端には、電極１２２ａ及び１２２ｂが接続されている。尚、図面においては、符号が省略されているが、電極２２ａ及び２２ｂは、すべての分離領域２０ａ及び２０ｂにおいて形成されている。
　第１の透明導電膜１１０及び第２の透明導電膜１２０は、ＩＴＯ、ＡＺＯ等の金属酸化物であって、導電性を有する透明な材料により形成されている。尚、第１の透明導電膜１１０及び第２の透明導電膜１２０は、導電性を有する透明な材料であれば、金属酸化物以外の材料により形成してもよい。即ち、導電性を有するものであって光を透過させることができる材料であればよく、具体的には、導電ポリマー、金属ナノワイヤ、カーボンナノチューブ等のＩＴＯ等の代替材料と呼ばれる材料により形成してもよい。
　第１の透明基板１１１は、ＰＥＴ等の透明な樹脂材料であって、撓みやすい材料により形成されている。また、第２の透明基板１２１は、ガラス等の透明な無機材料やプラスチック等の透明な樹脂材料により形成されている。
　本実施の形態におけるタッチパネルでは、第１の透明基板１１１と第２の透明基板１２１とは、第１の透明基板１１１の一方の面と第２の透明基板１２１の一方の面とを対向させた状態で、枠状の両面テープ等の接着部材１４２により接合されている。これにより、第１の透明基板１１１と第２の透明基板１２１により空間１４３が形成され、この空間１４３を介し、第１の透明導電膜１１０と第２の透明導電膜１２０とが対向するように配置されている。
　（駆動方法）
　次に、本実施の形態におけるタッチパネルの駆動方法について説明する。本実施の形態におけるタッチパネルは、静電容量方式による位置検出と抵抗膜方式による位置検出が時分割され交互に行なわれるものである。即ち、静電容量方式による位置検出がなされる時には、抵抗膜方式による位置検出はなされることはなく、抵抗膜方式による位置検出がなされる時には、静電容量方式による位置検出はなされることはない。
　図１５に基づき、本実施の形態におけるタッチパネルにおいて、静電容量方式による位置検出を行なう場合について説明する。静電容量方式による位置検出では、第１の透明導電膜１１０と第２の透明導電膜１２０とを用いて、接触点における位置検出が行なわれる。ところで、静電容量方式による位置検出においては、第１の透明導電膜１１０及び第２の透明導電膜１２０における各々の分離領域の間は、離れて形成されていることが好ましい。本実施の形態においては、第１の透明導電膜１１０及び第２の透明導電膜１２０は、静電容量方式のみならず、抵抗膜方式においても用いられる。従って、第１の透明導電膜１１０において分離領域１１０ａ及び１１０ｂが形成されており、第２の透明導電膜１２０において分離領域１２０ａ及び１２０ｂが形成されているが、静電容量方式における位置検出を行なう場合には、分離領域１１０ａ及び１１０ｂのうち分離領域１１０ａのみが用いられ、分離領域１２０ａ及び１２０ｂのうち分離領域１２０ａのみが用いられる。即ち、本実施の形態におけるタッチパネルにおいて、静電容量方式における位置検出の場合には、分離領域１１０ａは電極１１２ａを介して駆動されるが、分離領域１１０ｂは電極１１２ｂを介して駆動されることなく、更には、接地されることもなく、オープン状態、即ち、フローティング状態となっている。同様に、分離領域１２０ａは電極１２２ｂを介して駆動されるが、分離領域１２０ｂは電極１２２ｂを介して駆動されることなく、更には、接地されることもなく、オープン状態、即ち、フローティング状態となっている。
　このように、本実施の形態におけるタッチパネルにおいて、静電容量方式による位置検出を行なう場合には、第１の透明導電膜１１０における分離領域１１０ａと第２の透明導電膜１２０における分離領域１２０ａとが用いられる。
　次に、図１６に基づき、本実施の形態におけるタッチパネルにおいて、抵抗膜方式による位置検出を行なう場合について説明する。抵抗膜方式による位置検出では、第１の透明導電膜１１０と第２の透明導電膜１２０とを用いて位置検出が行なわれる。具体的には、抵抗膜方式における４線式と同様の方法により位置検出が行なわれる。ところで、抵抗膜方式による位置検出においては、第１の透明導電膜１１０及び第２の透明導電膜１２０において形成されている各々の分離領域間は、狭く形成されていることが好ましく、可能であれば各々の分離領域に分割されることなく一面に形成されていることが好ましい。しかしながら、第１の透明導電膜１１０及び第２の透明導電膜１２０は、静電容量方式においても用いられることから、各々の分離領域に分離する必要がある。このため、上述したように、分離領域１１０ａ及び１１０ｂ間における間隔、分離領域１２０ａ及び１２０ｂ間における間隔は、できるだけ狭くなるように形成されている。
　本実施の形態におけるタッチパネルにおいて、抵抗膜方式による位置検出を行なう場合には、電極１１２ａと電極１１２ｂに所定の電圧を印加することにより第１の透明導電膜１１０に電位勾配を発生させ、第２の透明導電膜１２０によって第１の透明導電膜１１０と接触した位置における電位を検出することにより、接触点のＸ方向における座標検出を行なう。また、電極１２２ａと電極１２２ｂに所定の電圧を印加することにより第２の透明導電膜１２０に電位勾配を発生させ、第１の透明導電膜１１０によって第２の透明導電膜１２０と接触した位置における電位を検出することにより、接触点のＹ方向における座標検出を行なう。これにより、抵抗膜方式による接触点の位置を検出することができる。
　このように、本実施の形態におけるタッチパネルにおいて、抵抗膜方式による位置検出を行なう場合には、第１の透明導電膜１１０における分離領域１１０ａ及び１１０ｂと第２の透明導電膜１２０における分離領域１２０ａ及び１２０ｂとが用いられる。
　（位置検出）
　本実施の形態におけるタッチパネルにおいて、接触点の位置検出について説明する。本実施の形態におけるタッチパネルでは、図３３（ａ）に示されるように、第１の透明導電膜１１０における各々の分割領域１１０ａには、電極１１２ａを介し静電容量方式における位置検出を行なうための電流検出部１１３、抵抗膜方式による位置検出を行なうための電位検出部１１４、接地電位に接続するためのスイッチ１１５が接続されており、電源電圧Ｖｃｃを印加するためのスイッチ１１６が電極１１２ｂを介し接続されている。また、図３３（ｂ）に示されるように、第１の透明導電膜１１０における各々の分割領域１１０ｂには、電極１１２ａを介し抵抗膜方式による位置検出を行なうための電位検出部１１４、接地電位に接続するためのスイッチ１１５が接続されており、電源電圧Ｖｃｃを印加するためのスイッチ１１６が電極１１２ｂを介し接続されている。また、図３３（ｃ）に示されるように、第２の透明導電膜１２０における各々の分割領域１２０ａには、電極１２２ａを介し静電容量方式における位置検出を行なうための電流検出部１２３、抵抗膜方式による位置検出を行なうための電位検出部１２４、接地電位に接続するためのスイッチ１２５が接続されており、電源電圧Ｖｃｃを印加するためのスイッチ１２６が電極１２２ｂを介し接続されている。また、図３３（ｄ）に示されるように、第２の透明導電膜１２０における各々の分割領域１２０ｂには、電極１２２ａを介し抵抗膜方式による位置検出を行なうための電位検出部１２４、接地電位に接続するためのスイッチ１２５が接続されており、電源電圧Ｖｃｃを印加するためのスイッチ１２６が電極１２２ｂを介し接続されている。
　本実施の形態におけるタッチパネルにおいて、図１５に示されるように、静電容量方式による位置検出を行なう場合には、図３４に示されるように、スイッチ１１５、１１６、１２５、１２６はすべて開いた状態（オープン状態）とする。この状態において、第１の透明導電膜１１０の各々の分割領域１１０ａに接続されている電流検出部１１３及び、第２の透明導電膜１２０の各々の分割領域１２０ａに接続されている電流検出部１２３により、静電容量方式による位置検出がなされる。
　また、本実施の形態におけるタッチパネルにおいて、図１６に示されるように、抵抗膜方式による位置検出を行なう場合には、最初に、図３５に示されるように、スイッチ１１５、１１６を開いた状態とし、スイッチ１２５、１２６を閉じた状態とする。この状態においては、第２の透明導電膜３０において、Ｙ軸方向に電位分布が発生しており、第１の透明導電膜１１０の各々の分割領域１１０ａ、１１０ｂに接続されている電位検出部１１４により、抵抗膜方式によるＹ方向における位置検出がなされる。次に、図３６に示されるように、スイッチ１１５、１１６を閉じた状態とし、スイッチ１２５、１２６を開いた状態とする。この状態においては、第１の透明導電膜１１０の各々の分割領域１１０ａ、１１０ｂにおいて、Ｘ軸方向に電位分布が発生しており、第２の透明導電膜１２０の各々の分割領域１２０ａ、１２０ｂに接続されている電位検出部１２４により、抵抗膜方式によるＸ方向における位置検出がなされる。
　尚、本実施の形態におけるタッチパネルの制御方法は、第１の実施の形態におけるタッチパネルの制御方法と同様であり、図２８に示されるものと同様の制御回路が用いられる。本実施の形態においては、静電容量方式検出部２６２は、第１の透明導電膜１１０の各々の分割領域１１０ａに接続されている電流検出部１１３、第２の透明導電膜１２０の各々の分割領域１２０ａに接続されている電流検出部１２３に相当するものである。また、抵抗膜方式検出部２６５は、具体的には、第１の透明導電膜１１０の各々の分割領域１１０ａ、１１０ｂに接続されている電位検出部１１４、第２の透明導電膜１２０の各々の分割領域１２０ａ、１２０ｂに接続されている電位検出部１２４に相当するものである。
　（タッチパネルの接触位置の検出方法）
　次に、本実施の形態におけるタッチパネルの接触位置の検出方法について、図３２に基づき説明する。
　最初に、ステップ１０２（Ｓ１０２）において、静電容量方式による位置検出を行なうため、ＭＣＵ部２６０から送信されたＨレベルの選択信号を抵抗膜方式選択部２６４に入力する。
　次に、ステップ１０４（Ｓ１０４）において、Ｈレベルの選択信号を抵抗膜方式選択部２６４に入力させることにより、抵抗膜方式選択部２６４はオフ状態となる。この際、ＭＣＵ部２６０等における制御により、図３４に示されるように、スイッチ１１５、１１６、１２５、１２６は開いた状態となっている。
　次に、ステップ１０６（Ｓ１０６）において、静電容量方式による接触位置の位置検出を開始する。この際、第１の透明導電膜１１０における各々の分割領域１１０ａに接続されている電流検出部１１３及び、第２の透明導電膜１２０における各々の分割領域１２０ａに接続されている電流検出部１２３が用いられる。
　次に、ステップ１０８（Ｓ１０８）において、静電容量方式において検出される接触があるか否かが判断される。具体的には、電流検出部１１３及び１２３において検出される電流量に基づき、静電容量方式において検出される接触があるか否かが判断される。静電容量方式において検出される接触があったものと判断された場合には、ステップ１１０に移行する。一方、静電容量方式において検出される接触がなかったものと判断された場合には、ステップ１１２に移行する。
　次に、ステップ１１０（Ｓ１１０）において、電流検出部１１３及び１２３において検出された電流量に基づき、静電容量方式による接触位置の座標位置が算出され、算出された接触位置の位置座標はホストコンピュータ等に送信される。
　次に、ステップ１１２（Ｓ１１２）において、抵抗膜方式による位置検出を行なうため、ＭＣＵ部２６０から送信されたＬレベルの選択信号を抵抗膜方式選択部２６４に入力する。
　次に、ステップ１１４（Ｓ１１４）において、Ｌレベルの選択信号が抵抗膜方式選択部２６４に入力させることにより、抵抗膜方式選択部２６４はオン状態となる。この際、ＭＣＵ部２６０等における制御により、例えば、図３５に示すように、スイッチ１１５、１１６は開いた状態とし、スイッチ１２５、１２６は閉じた状態とすることにより、Ｙ軸方向に電位勾配を発生させる。
　次に、ステップ１１６（Ｓ１１６）において、抵抗膜方式による接触位置の位置検出を開始する。この際、第１の透明導電膜１１０における各々の分割領域１１０ａ及び１１０ｂに接続されている電位検出部１１４が用いられる。
　次に、ステップ１１８（Ｓ１１８）において、抵抗膜方式において検出される接触があるか否かが判断される。具体的には、電位検出部１１４において検出される電位に基づき、抵抗膜方式において検出される接触があるか否かが判断される。抵抗膜方式において検出される接触があったものと判断された場合には、ステップ１２０に移行する。一方、抵抗膜方式において検出される接触がなかったものと判断された場合には、ステップ１０２に移行する。
　次に、ステップ１２０（Ｓ１２０）において、電位検出部１１４により検出された電位に基づき抵抗膜方式により接触位置のＹ座標の座標位置を算出する。この後、ＭＣＵ部２６０等における制御により、例えば、図３６に示すように、スイッチ１１５、１１６を閉じた状態とし、スイッチ１２５、１２６を開いた状態とすることにより、Ｘ軸方向に電位勾配を発生させ、第２の透明導電膜１２０における各々の分割領域１２０ａ及び１２０ｂに接続されている電位検出部１２４により電位を検出し、検出された電位に基づき抵抗膜方式により接触位置のＸ座標の座標位置を算出する。このようにして抵抗膜方式による接触位置の座標位置を算出し、算出された接触位置の座標位置はホストコンピュータ等に送信される。
　尚、本実施の形態においては、静電容量方式による接触点の位置検出を行なう工程を第１の検出工程と、抵抗膜方式による接触点の位置検出を行なう工程を第２の検出工程と記載する場合がある。
　以上により、本実施の形態におけるタッチパネルにおいて、位置検出を行なうことができる。このタッチパネルの位置検出方法によれば、如何なる接触物においても位置検出を行なうことができ、また、触れるだけでも位置検出を行なうことができるタッチパネルにおいて、簡単な工程により位置検出を行なうことができる。
　尚、上記以外の内容については、第１の実施の形態と同様である。
　以上、本発明の実施に係る形態について説明したが、上記内容は、発明の内容を限定するものではない。
　本願は、日本特許庁に2012年2月15日に出願された基礎出願2012-031101号、2012年2月15日に出願された基礎出願2012-031102号、及び2012年2月24日に出願された基礎出願2012-039313号の優先権を主張するものであり、その全内容を参照によりここに援用する。
１０　　　　第１の透明導電膜
１０ａ　　　分離された領域
１１　　　　第１の透明基板
１２　　　　電極
２０　　　　第２の透明導電膜
２０ａ　　　分離された領域
２０ｂ　　　分離された領域
２１　　　　第２の透明基板
２２ａ　　　電極
２２ｂ　　　電極
３０　　　　第３の透明導電膜
３１　　　　第３の透明基板
３２ａ　　　電極
３２ｂ　　　電極
４１　　　　粘着層
４２　　　　接着部材
４３　　　　空間
５０　　　　第４の透明導電膜
５１　　　　電極
６０　　　　表示装置
７０　　　　加飾フィルム
７１　　　　加飾フィルム
７２　　　　黒色絶縁体領域
７３　　　　加飾フィルム
７４　　　　透明導電膜
８１、８２、８３、８４、８５、８６　　　　反射防止膜
９０　　　　偏光板
１１０　　　　第１の透明導電膜
１１０ａ　　　分離された領域
１１１　　　　第１の透明基板
１１２　　　　電極
１２０　　　　第２の透明導電膜
１２０ａ　　　分離された領域
１２０ｂ　　　分離された領域
１２１　　　　第２の透明基板
１２２ａ　　　電極
１２２ｂ　　　電極
１４１　　　　粘着層
１４２　　　　接着部材
１４３　　　　空間
１５０　　　　第３の透明導電膜
１５１　　　　電極
１６０　　　　表示装置
１７０　　　　加飾フィルム
１７１　　　　加飾フィルム
１７２　　　　黒色絶縁体領域
１７３　　　　加飾フィルム
１７４　　　　透明導電膜
１８１、１８２、１８３、１８４　　　　反射防止膜
１９０　　　　偏光板
２６０　　　　ＭＣＵ部
２６１　　　　静電容量方式制御部
２６２　　　　静電容量方式検出部
２６３　　　　抵抗膜方式制御部
２６４　　　　抵抗膜方式選択部
２６５　　　　抵抗膜方式検出部

Claims (18)

  1. 　一方の方向に長く短冊状に形成された分離領域を複数有する第１の導電膜と、
    　前記一方の方向と略直交する他方の方向に長く短冊状に形成された分離領域を複数有する第２の導電膜と、
    　第３の導電膜と、
    　を有し、
    　前記第１の導電膜における複数の分離領域は、前記他方の方向に配列されており、前記第２の導電膜における複数の分離領域は、前記一方の方向に配列されているものであって、
    　前記第１の導電膜と前記第２の導電膜により、静電容量結合による座標位置の位置検出を行なう一方、
    　前記第２の導電膜と前記第３の導電膜とが接触した位置の電位を検出することにより、前記接触した座標位置の位置検出を行なうものであることを特徴とするタッチパネル。
  2. 　前記第２の導電膜は第２の透明基板の一方の面に形成されており、
    　前記第３の導電膜は第３の透明基板の一方の面に形成されており、
    　前記第２の透明基板の一方の面と前記第３の基板の一方の面とが対向するように配置されていることを特徴とする請求項１に記載のタッチパネル。
  3. 　前記第３の透明基板の他方の面には、第４の導電膜が形成されていることを特徴とする請求項２に記載のタッチパネル。
  4. 　前記第２の導電膜における分離領域間における間隔は、前記第１の導電膜における分離領域間における間隔よりも狭く形成されていることを特徴とする請求項１から３のいずれかに記載のタッチパネル。
  5. 　第１の方向に延び、前記第１の方向の一方の端部に電極を有する複数の帯状の第１の導電膜が形成されている第１の基板と、
    　前記第１の方向に対して直交する第２の方向に延び、前記第２の方向の双方の端部に電極を有する複数の帯状の第２の導電膜が形成されている第２の基板と、
    　面状に第３の導電膜が形成されている第３の基板と、
    　を有し、前記第１の基板、前記第２の基板、前記第３の基板の順で積層されていることを特徴とするタッチパネル。
  6. 　前記第１の導電膜と前記第２の導電膜とを用いて位置検出を行なう場合には、前記複数の第２の導電膜を１つおきに駆動し、
    　前記第２の導電膜と前記第３の導電膜とを用いて位置検出を行なう場合には、前記複数の第２の導電膜のすべてを駆動することを特徴とする請求項５に記載のタッチパネル。
  7. 　一方の方向に長く短冊状に形成された分離領域を複数有する第１の導電膜と、前記一方の方向と略直交する他方の方向に長く短冊状に形成された分離領域を複数有する第２の導電膜と、第３の導電膜と、を有し、前記第１の導電膜における分離領域は、前記他方の方向に配列されており、前記第２の導電膜における分離領域は、前記一方の方向に配列されているタッチパネルの位置検出方法において、
    　前記第１の導電膜と前記第２の導電膜を用いて、静電容量結合による座標位置の位置検出を行なう工程と、
    　前記第２の導電膜と前記第３の導電膜のいずれか一方において、所定の方向に電位勾配を発生させて、他方において前記第２の導電膜と前記第３の導電膜とが接触した位置の電位を検出することにより、抵抗膜方式による座標位置の位置検出を行なう工程と、
    　を有することを特徴とするタッチパネルの位置検出方法。
  8. 　前記静電容量結合による座標位置の位置検出を行なう工程と、前記抵抗膜方式による座標位置の位置検出を行なう工程とは、交互に行なわれるものであることを特徴とする請求項７に記載のタッチパネルの位置検出方法。
  9. 　前記静電容量結合による座標位置の位置検出を行なう場合には、前記第２の導電膜における分離領域の一部を用い、
    　前記抵抗膜方式による座標位置の位置検出を行なう場合には、前記第２の導電膜における分離領域の全部を用いることを特徴とする請求項７または８に記載のタッチパネルの位置検出方法。
  10. 　一方の方向に長く短冊状に形成された分離領域を複数有する第１の導電膜と、
    　前記一方の方向と略直交する他方の方向に長く短冊状に形成された分離領域を複数有する第２の導電膜と、
    　を有し、
    　前記第１の導電膜における分離領域は、前記他方の方向に配列されており、前記第２の導電膜における分離領域は、前記一方の方向に配列されているものであって、
    　前記第１の導電膜と前記第２の導電膜により、静電容量結合による座標位置の位置検出を行なうとともに、
    　前記第１の導電膜と前記第２の導電膜とが接触した位置の電位を検出することにより、前記接触した座標位置の位置検出を行なうものであることを特徴とするタッチパネル。
  11. 　前記第１の導電膜は第１の透明基板の一方の面に形成されており、
    　前記第２の導電膜は第２の透明基板の一方の面に形成されており、
    　前記第１の透明基板の一方の面と前記第２の基板の一方の面とが対向するように配置されていることを特徴とする請求項１０に記載のタッチパネル。
  12. 　一方の方向に長く短冊状に形成された分離領域を複数有する第１の導電膜と、前記一方の方向と略直交する他方の方向に長く短冊状に形成された分離領域を複数有する第２の導電膜と、を有し、前記第１の導電膜における分離領域は、前記他方の方向に配列されており、前記第２の導電膜における分離領域は、前記一方の方向に配列されているタッチパネルの位置検出方法において、
    　前記第１の導電膜と前記第２の導電膜を用いて、静電容量結合による座標位置の位置検出を行なう工程と、
    　前記第１の導電膜と前記第２の導電膜のいずれか一方において、所定の方向に電位勾配を発生させて、他方において前記第１の導電膜と前記第２の導電膜とが接触した位置の電位を検出することにより、抵抗膜方式による座標位置の位置検出を行なう工程と、
    　を有することを特徴とするタッチパネルの位置検出方法。
  13. 　前記静電容量結合による座標位置の位置検出を行なう工程と、前記抵抗膜方式による座標位置の位置検出を行なう工程とは、交互に行なわれるものであることを特徴とする請求項１２に記載のタッチパネルの位置検出方法。
  14. 　前記静電容量結合による座標位置の位置検出を行なう場合には、少なくとも前記第１の導電膜あるいは前記第２の導電膜の一方における、分離領域の一部を用い、
    　前記抵抗膜方式による座標位置の位置検出を行なう場合には、前記分離領域の全部を用いることを特徴とする請求項１２または１３に記載のタッチパネルの位置検出方法。
  15. 　前記第１の導電膜における各々の分割領域には、電流検出部が接続されており、
    　前記第２の導電膜における分割領域の一部には、電流検出部が接続されており、
    　前記第２の導電膜における各々の分割領域には、電位検出部が接続されており、
    　前記第３の導電膜には、電位検出部が接続されていることを特徴とする、請求項１に記載のタッチパネル。
  16. 　前記第２の導電膜における各々の分割領域には、前記第２の導電膜における各々の分割領域において前記他方の方向に電位勾配を生じさせるためのスイッチが接続されており、
    　前記第３の導電膜には、前記第３の導電膜において前記一方の方向に電位勾配を生じさせるためのスイッチが接続されていることを特徴とする請求項１５に記載のタッチパネル。
  17. 　前記第１の導電膜における分割領域の一部には、電流検出部が接続されており、
    　前記第１の導電膜における各々の分割領域には、電位検出部が接続されており、
    　前記第２の導電膜における分割領域の一部には、電流検出部が接続されており、
    　前記第２の導電膜における各々の分割領域には、電位検出部が接続されている、請求項１０に記載のタッチパネル。
  18. 　前記第１の導電膜における各々の分割領域には、前記第１の導電膜における各々の分割領域において前記一方の方向に電位勾配を生じさせるためのスイッチが接続されており、
    　前記第２の導電膜における各々の分割領域には、前記第２の導電膜における各々の分割領域において前記他方の方向に電位勾配を生じさせるためのスイッチが接続されていることを特徴とする請求項１７に記載のタッチパネル。
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