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WO2011132463A1 - プリント基板の製造方法及びこれを用いたプリント基板 - Google Patents

プリント基板の製造方法及びこれを用いたプリント基板 Download PDF

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WO2011132463A1
WO2011132463A1 PCT/JP2011/054724 JP2011054724W WO2011132463A1 WO 2011132463 A1 WO2011132463 A1 WO 2011132463A1 JP 2011054724 W JP2011054724 W JP 2011054724W WO 2011132463 A1 WO2011132463 A1 WO 2011132463A1
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layer
mask layer
plating
circuit board
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Inventor
陽一 齋藤
道脇　茂
典明 種子
秀吉 瀧井
Original Assignee
株式会社メイコー
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Publication date
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Definitions

  • the present invention relates to a printed circuit board manufacturing method using a transfer method and a printed circuit board using the same.
  • a transfer method in which a substrate is formed by embedding a pattern in an insulating base material (see, for example, Patent Document 2).
  • This transfer method includes a step of pressure-bonding a pattern formed by plating and an insulating resin.
  • the cross-sectional shape of the plating as a pattern is complicated, so the electrical characteristics can be predicted. It becomes difficult and handling becomes worse. In order to prevent outgrowth, the resist may be raised. However, when thick copper plating is performed, it may be difficult to form a resist of that height.
  • the present invention can stabilize the electrical characteristics even when outgrowth occurs, improve the planarization of the substrate surface, and even when a thick copper pattern is formed.
  • a printed circuit board manufacturing method that eliminates the need for a resist having a height corresponding to the above and a printed circuit board using the same.
  • a metal layer is formed on a support plate, a resist layer is formed on the metal layer, and the resist layer in the exposed region is formed with a groove to be a conductive pattern as an exposed region.
  • pattern plating is performed by performing plating treatment on the exposed area, a pattern portion plated to the height of the mask layer as seen in the cross section of the groove, and the height of the mask layer
  • a conductive circuit comprising a pattern plate including an elevated portion that is raised and plated, and a part of the umbrella layer having an outgrowth protruding on the surface of the mask layer, and comprising the support plate, the metal layer, and the pattern plating.
  • the insulating base material is laminated on a plate to form a substrate intermediate in which the pattern plating is embedded in the insulating base material, and the support plate and the metal layer are removed from the substrate intermediate to remove the conductive material.
  • the mask layer is removed after the plating process.
  • the mask layer remains as a part of the conductive circuit board during the lamination.
  • the printed circuit board manufactured with the manufacturing method of the printed circuit board of Claim 1 is provided.
  • the pattern exposed surface is mechanically polished and flattened to a position where the outgrowth is exposed while removing the handle portion, so that the coverage with the solder resist in the subsequent process is improved, and Component mounting can also be performed stably. Further, even if outgrowth occurs, the mechanical characteristics do not complicate the cross-sectional shape of the pattern plating, so that the electrical characteristics are stabilized. Further, even when thick copper pattern plating is formed, a resist layer (mask layer) having a height corresponding to this is not required, and the thickness of thick copper can be set freely.
  • the portion of the mask layer sandwiched between the outgrowth and the metal layer is generally difficult for the peeling solution to reach, so even if a portion of the mask layer remains, the remaining mask layer is mechanically removed. It can be reliably removed by smooth polishing. Therefore, it is possible to reliably prevent a phenomenon in which a part of the remaining mask layer peels off after lamination and becomes a so-called void (resin defect).
  • the mask layer is a so-called permanent resist
  • the mask layer is reliably removed together with the handle by mechanical polishing. Accordingly, it is possible to prevent peeling between the mask layer and the plating and affecting the quality.
  • a printed circuit board having the above effects can be obtained.
  • a metal layer 2 is formed on a support plate 1, and a resist layer 3 is formed thereon.
  • the support plate 1 is formed of a conductive SUS plate or the like as a transfer substrate.
  • the metal layer 2 is a base plating.
  • the support plate 1 is subjected to 12 ⁇ m electrolytic copper plating.
  • the resist layer 3 is formed of a dry film or the like.
  • the resist layer 3 at a predetermined position is removed by using an exposure developing device or the like (not shown) to form a mask layer 4.
  • the resist layer 3 is removed so that a portion (groove) to be a conductive pattern is an exposed area 5 so that the surface of the metal layer 2 in the exposed area 5 is exposed. Therefore, a mask layer 4 and an exposed area 5 are formed on the surface of the metal layer 2.
  • the exposed area 5 is plated. That is, the pattern plating 6 is disposed in the exposed area 5.
  • the pattern plating 6 has a handle portion 7 and an umbrella portion 8 as seen in the cross section of the groove described above.
  • the handle 7 is a portion plated up to the height of the mask layer 4.
  • the umbrella portion 8 is a portion plated beyond the height of the mask layer 4. Since the pattern plating 6 is formed higher than the mask layer 4 in this way, the umbrella portion 8 extends to the surface of the mask layer 4.
  • a portion formed on the surface of the mask layer 4 is an outgrowth 8a. Therefore, the outgrowth 8 a forms a part of the umbrella portion 8.
  • the mask layer 4 is removed with a stripping solution or the like.
  • the conductive circuit board 9 is formed. That is, the conductive circuit board 9 is formed of the support plate 1, the metal layer 2, and the pattern plating 6. However, as will be described later, when a permanent resist is used as the mask layer 3, the mask layer 3 is also an element for forming the conductive circuit board 9.
  • the conductive circuit board 9 and the insulating base material 10 are prepared, and these are pressure-contacted as shown in FIG.
  • the insulating substrate 10 enters between the pattern platings 6 and between the outgrowth 8 a and the metal layer 2. Therefore, the pattern plating 6 is embedded in the insulating base material 10.
  • the conductive circuit board 9 is disposed only on one side of the insulating base material 10 and laminated.
  • the double-sided plate and the single-sided plate thus formed can also be used as the intermediate layer and the outermost layer of the multilayer plate.
  • the support plate 1 and the metal layer 2 are removed from the substrate intermediate 13. Thereby, the conductive pattern 11 and the insulating base material 10 are exposed, and the exposed surface 14 is formed.
  • the conductive pattern 11 is an exposed surface of the handle portion 7.
  • the exposed surface 14 (both surfaces in the figure) is mechanically polished and flattened. Thereby, the coverage with the solder resist in the subsequent steps is improved, and the component mounting can be performed stably.
  • the physical polishing (mechanical polishing) is performed up to a position where the outgrowth 8a is exposed so as to remove all the handle portion 7. Thereby, the line width of the conductive pattern 11 is increased because the outgrowth 8a is exposed.
  • the outgrowth 8a occurs, the cross-sectional shape of the pattern plating 6 is not complicated by mechanical polishing, so that the electrical characteristics of the manufactured printed circuit board 12 are stabilized.
  • the outgrowth 8a is intentionally provided, even when the thick copper pattern plating 6 is formed, the resist layer 3 (mask layer 4) having a height corresponding to the thick copper plating 6 is not required.
  • the copper height can be set freely.
  • wet polishing using a non-woven buffol wet polishing using a ceramic buffol, wet polishing using a polishing belt (so-called belt sander), or the like can be applied.
  • the mask layer 4 is removed after the plating process.
  • the part of the mask layer 4 sandwiched between the outgrowth 8a and the metal layer 2 is generally difficult for the stripping solution to reach. For this reason, a part of the mask layer 4 may remain in the portion, but the remaining mask layer 4 can be surely removed by the mechanical polishing described above. Therefore, it is possible to reliably prevent a phenomenon in which a part of the remaining mask layer 4 is peeled off after lamination and becomes a so-called void (resin defect).
  • a permanent resist may be used as the mask layer 4 and may be left as a part of the conductive circuit board 9 when laminated with the insulating base material 10. Even in such a case, the remaining mask layer 4 is reliably removed together with the handle 7 by mechanical polishing. Therefore, it can prevent that peeling arises between the mask layer 4 and the pattern plating 6, and quality is influenced.

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  • Manufacturing & Machinery (AREA)
  • Microelectronics & Electronic Packaging (AREA)
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Abstract

支持板上に金属層を形成し、金属層上にマスク層を形成し、マスク層高さまでめっきされた柄部（７）と、マスク層高さよりも高く盛り上げてめっきされ、一部がマスク層の表面にはみ出したアウトグロース（８ａ）を有する傘部（８）とを含むパターンめっき（６）を形成し、支持板、薄胴層及びパターンめっき（６）の三者からなる導電回路板に前記絶縁基材（１０）を積層してパターンめっき（６）が前記絶縁基材（１０）に埋設された基板中間体を形成し、前記支持板及び前記金属層を除去し、前記導電パターンの前記柄部（７）が除去されるまで機械的に研磨し、前記露出面上での前記導電パターンの線幅を増大させる。

Description

プリント基板の製造方法及びこれを用いたプリント基板
　本発明は、転写法を用いたプリント基板の製造方法及びこれを用いたプリント基板に関するものである。
　レジストで予めパターンとなる部分を露出させておいて、この部分にめっきを施した場合、めっき高さがレジスト高さよりも高くなると、レジストの上にめっきが広がっていく。このように、予めレジストで設定したパターンの幅を超えて、レジスト上に盛り上がっためっき部分をアウトグロースという。このようなアウトグロースは特許文献１に開示されている。
　一方で、基板表面を平滑にするために、パターンを絶縁基材に埋め込んで基板を形成する転写法が知られている（例えば特許文献２参照）。この転写法は、めっきで形成されたパターンと絶縁樹脂とを圧着させる工程を含むものである。
　しかしながら、上記アウトグロースが発生している基板中間体と絶縁樹脂とを圧着させ、転写法により基板を形成する場合、パターンとしてのめっきの断面形状が複雑となっているので、電気特性の予測が困難となり、取扱い性が悪くなってしまう。アウトグロースを発生させないためには、レジストを高くすればよいが、厚銅のめっきを施す場合は、その高さのレジストを形成することが困難な場合がある。
特開平５－２１７７５５号公報 特開平５－３７１５７号公報
　本発明は、アウトグロースが発生しても電気的な特性を安定化することができ、また基板表面の平坦化を向上することができ、さらに厚銅のパターンを形成する場合であってもこれに合わせた高さのレジストが不要となるプリント基板の製造方法及びこれを用いたプリント基板を提供する。
　前記目的を達成するため、本発明では、支持板上に金属層を形成し、該金属層上にレジスト層を形成し、導電パターンとなるべき溝を露出域として該露出域の前記レジスト層が除去されたマスク層を形成し、前記露出域にめっき処理を施してパターンめっきを形成するに際し、前記溝の横断面でみて前記マスク層高さまでめっきされた柄部と、前記マスク層高さよりも高く盛り上げてめっきされ、一部が前記マスク層の表面にはみ出したアウトグロースを有する傘部とを含むパターンめっきを形成し、前記支持板、前記金属層及び前記パターンめっきの三者からなる導電回路板に前記絶縁基材を積層して前記パターンめっきが前記絶縁基材に埋設された基板中間体を形成し、前記基板中間体から前記支持板及び前記金属層を除去して前記導電パターン及び前記絶縁基材が露出する露出面を形成し、前記露出面を前記パターンめっきの前記柄部が除去されるまで機械的に研磨し、前記露出面上での前記導電パターンの線幅を前記溝幅よりも増大させることを特徴とするプリント基板の製造方法を提供する。
　また、本発明では、請求項１の発明において、前記マスク層は、前記めっき処理の後に除去されることを特徴としている。
　また、本発明では、請求項１の発明において、前記マスク層は、前記積層時に前記導電回路板の一部としてそのまま残っていることを特徴としている。
　また、本発明では、請求項１に記載のプリント基板の製造方法で製造されたプリント基板を提供する。
　本発明によれば、柄部を除去するとともにアウトグロースが露出する位置までパターン露出面を機械的に研磨して平坦化するため、この後の工程におけるソルダレジストでの被覆性が向上し、さらに部品実装も安定して行うことができる。また、アウトグロースが発生しても、機械的な研磨によりパターンめっきの断面形状が複雑なものとはならないので、電気的な特性が安定する。また、厚銅のパターンめっきを形成する場合であっても、これに合わせた高さのレジスト層（マスク層）が不要となり、厚銅高さを自由に設定できる。
　本発明によれば、アウトグロースと金属層とで挟まれた部分のマスク層は、一般的に剥離液が届きにくいため、マスク層が一部残った場合でも、この残ったマスク層を機械的な研磨で確実に除去することができる。したがって、一部残ったマスク層が積層後に剥がれ落ちていわゆるボイド（樹脂の欠損）となる現象を確実に防止できる。
　本発明によれば、マスク層がいわゆる永久レジストである場合でも、このマスク層は柄部とともに機械的な研磨で確実に除去される。したがって、マスク層とめっきとの間で剥離が生じ、品質に影響が与えられることを防止できる。
　本発明によれば、上記効果を有するプリント基板を得ることができる。
本発明に係るプリント基板の製造方法を順番に示す概略図である。 本発明に係るプリント基板の製造方法を順番に示す概略図である。 本発明に係るプリント基板の製造方法を順番に示す概略図である。 本発明に係るプリント基板の製造方法を順番に示す概略図である。 本発明に係るプリント基板の製造方法を順番に示す概略図である。 本発明に係るプリント基板の製造方法を順番に示す概略図である。 本発明に係るプリント基板の製造方法を順番に示す概略図である。 本発明に係るプリント基板の製造方法を順番に示す概略図である。
　図１に示すように、支持板１上に金属層２を形成し、その上にレジスト層３を形成する。支持板１は、転写基材としての導電性のあるＳＵＳ板等で形成されている。金属層２は、下地となるめっきであり、例えば支持板１に対し、電解銅めっきを１２μｍ施したものである。レジスト層３は、ドライフィルム等で形成されている。そして、図２に示すように、露光現像装置等（不図示）を用いて所定の位置のレジスト層３を除去し、マスク層４を形成する。レジスト層３の除去は、導電パターンとなるべき部分（溝）を露出域５として、この露出域５における金属層２の表面が露出するように行われる。したがって、金属層２の表面には、マスク層４と露出域５が形成されている。
　次に、図３に示すように、露出域５にめっき処理が施される。すなわち、露出域５にはパターンめっき６が配される。パターンめっき６は上述した溝における横断面で見て、柄部７と傘部８とを有している。柄部７は、マスク層４の高さまでめっきされた部分である。傘部８は、マスク層４の高さを超えてめっきされた部分である。パターンめっき６は、このようにマスク層４よりも高く形成されるため、傘部８はマスク層４の表面にまで広がっている。このマスク層４の表面上に盛られた部分がアウトグロース８ａである。したがって、アウトグロース８ａは傘部８の一部を形成している。そして、図４に示すように、マスク層４を剥離液等で除去する。これにより、導電回路板９が形成される。すなわち、導電回路板９は、支持板１と、金属層２と、パターンめっき６で形成されている。ただし、後述するように、マスク層３として永久レジストを用いた場合は、マスク層３も導電回路板９を形成する一つの要素となる。
　次に、図５に示すように、導電回路板９と絶縁基材１０とを用意し、図６に示すように、これらを圧接させる。図では、基板両面にパターンが形成された両面板を作成する場合を例にして説明している。すなわち、プリプレグ等の絶縁基材１０を挟んで、この絶縁基材１０の両側に導電回路板９を配している。このとき、導電回路板９のめっき処理面、すなわちパターンめっき６が形成された側の面を絶縁基材１０側に向ける。そして、これら９，１０を圧接することにより、図６に示すように導電回路板９と絶縁基材１０が積層され、基板中間体１３が形成される。積層時、絶縁基材１０はパターンめっき６同士の間、さらにアウトグロース８ａと金属層２との間に入り込む。したがって、パターンめっき６は絶縁基材１０に埋設される。なお、基板の片面にパターンが形成された片面板の場合は、絶縁基材１０の片側にのみ導電回路板９を配して積層する。このようにして形成された両面板及び片面板は、多層板の中間層及び最外層としても当然に利用可能である。
　そして、図７に示すように、基板中間体１３から支持板１及び金属層２を除去する。これにより、導電パターン１１及び絶縁基材１０が露出し、露出面１４が形成される。導電パターン１１は、柄部７の露出面である。そして、図８に示すように、露出面１４（図では両面）を機械的に研磨して平坦化する。これにより、この後の工程におけるソルダレジストでの被覆性が向上し、さらに部品実装も安定して行うことができる。また、物理研磨（機械的研磨）は、柄部７を全て除去するように、アウトグロース８ａが露出する位置まで行われる。これにより、導電パターン１１の線幅は、アウトグロース８ａが露出するために増大される。したがって、アウトグロース８ａが発生しても、機械的研磨によりパターンめっき６の断面形状が複雑なものとはなっていないので、製造されたプリント基板１２の電気的な特性が安定する。このように、本発明ではアウトグロース８ａをあえて設けるため、厚銅のパターンめっき６を形成する場合であっても、これに合わせた高さのレジスト層３（マスク層４）が不要となり、厚銅高さを自由に設定できる。
　機械的な研磨としては、不織布系バフロールを用いた湿式研磨、セラミックバフロールを用いた湿式研磨、研磨ベルトを用いた湿式研磨（いわゆるベルトサンダー）等を適用できる。
　また、上述した例では、マスク層４がめっき処理の後に除去されるものを示した。アウトグロース８ａと金属層２とで挟まれた部分のマスク層４は、一般的に剥離液が届きにくい。このため、前記部分にマスク層４が一部残っている場合があるが、上述した機械的研磨により、この残っているマスク層４を確実に除去することができる。したがって、一部残ったマスク層４が積層後に剥がれ落ちて、いわゆるボイド（樹脂の欠損）となる現象を確実に防止できる。
　一方で、上述したように、マスク層４として永久レジストを用い、絶縁基材１０との積層時に導電回路板９の一部としてそのまま残していてもよい。このような場合であっても、残ったマスク層４は柄部７とともに機械的研磨で確実に除去される。したがって、マスク層４とパターンめっき６との間で剥離が生じ、品質に影響が与えられることを防止できる。
１　支持板
２　金属層
３　レジスト層
４　マスク層
５　露出域
６　パターンめっき
７　柄部
８　傘部
８ａ　アウトグロース
９　導電回路板
１０　絶縁基材
１１　パターン
１２　プリント基板
１３　基板中間体
１４　露出面

Claims (4)

  1. 　支持板上に金属層を形成し、
    　該金属層上にレジスト層を形成し、
    　導電パターンとなるべき溝を露出域として該露出域の前記レジスト層が除去されたマスク層を形成し、
    　前記露出域にめっき処理を施してパターンめっきを形成するに際し、前記溝の横断面でみて前記マスク層高さまでめっきされた柄部と、前記マスク層高さよりも高く盛り上げてめっきされ、一部が前記マスク層の表面にはみ出したアウトグロースを有する傘部とを含むパターンめっきを形成し、
    　前記支持板、前記金属層及び前記パターンめっきの三者からなる導電回路板に前記絶縁基材を積層して前記パターンめっきが前記絶縁基材に埋設された基板中間体を形成し、
    　前記基板中間体から前記支持板及び前記金属層を除去して前記導電パターン及び前記絶縁基材が露出する露出面を形成し、
    　前記露出面を前記パターンめっきの前記柄部が除去されるまで機械的に研磨し、前記露出面上での前記導電パターンの線幅を前記溝幅よりも増大させることを特徴とするプリント基板の製造方法。
  2. 　前記マスク層は、前記めっき処理の後に除去されることを特徴とする請求項１に記載のプリント基板の製造方法。
  3. 　前記マスク層は、前記積層時に前記導電回路体の一部としてそのまま残っていることを特徴とする請求項１に記載のプリント基板の製造方法。
  4. 　請求項１に記載のプリント基板の製造方法で製造されたプリント基板。
PCT/JP2011/054724 2010-04-23 2011-03-02 プリント基板の製造方法及びこれを用いたプリント基板 WO2011132463A1 (ja)

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