PROCEDE DE CONNEXION POUR STRUCTURE A ELECTRODES IMPLANTABLE
La présente invention concerne des structures portant des électrodes destinées à mesurer l'activité électrique d'un organe ou à le stimuler, et en particulier la connexion de ces structures à un circuit. En figure 1, une structure 1 à électrodes est destinée à être raccordée à un circuit aval 2. La structure 1 comporte un film support souple isolant 3. Sur le film 3 sont déposées des électrodes 4 reliées par des pistes conductrices 5 à des plots de connexion 6. Les électrodes, les plots et les pistes qui les relient sont réalisés par dépôt et gravure d'une couche conductrice sur le film 3. Une couche isolante mince, non représentée, recouvre la structure, à l'exception des électrodes et des plots. La structure 1 est une structure souple de faible épaisseur (quelques micromètres à quelques dizaines de micromètres) , dont les électrodes sont destinées à être placées au contact d'un organe comme un nerf ou la peau afin de mesurer 1 'activité électrique de 1 'organe ou à le stimuler.
La structure 1 doit être connectée au circuit 2. Le circuit 2 comporte des plots 7 dont la disposition correspond à celle des plots 6. Chaque plot 7 est relié à une piste conductrice 8 en vue de la conduction du signal fourni aux ou par les électrodes 4. Pour connecter un plot 6 à un plot 7, on pratique,
dans chacun des plots 6, un trou 10 qui traverse la structure de part en part.
En figure 2, le circuit aval 2 est représenté partiellement et un seul plot de contact 7 est visible. La structure 1 est représentée ici avec le film support 3, un seul plot 6 et une couche isolante supérieure 11. L'épaisseur du circuit 2, de l'ordre d'un à deux millimètres, est importante devant celle de la structure 1 qui est au plus de quelques dizaines de micromètres. La structure 1 est placée sur le circuit 2 de sorte que chacun des trous 10 se trouve au-dessus d'un plot 7. La surface de chaque plot 7 est supérieure à celle d'un trou 10. On dépose alors, par une technique classique de liaison bien connue en microélectronique, une goutte de soudure 12 qui remplit le trou 10 en débordant sur le plot 6. La goutte de soudure 12 assure le contact électrique entre les plots 6 et 7.
Cette façon de procéder présente plusieurs inconvénients .
Il faut percer la structure porteuse d'électrodes au milieu de chaque plot 6. Cette opération est délicate du fait de la fragilité de la structure et cela suppose que les plots 6 sont assez gros, ce qui limite leur nombre. Le perçage des plots 6 est en général réalisé à l'aide d'un faisceau laser, ce qui a pour effet de faire partiellement éclater la couche métallique formant le plot, qui ne présente plus alors une surface uniforme. Le perçage des plots 6 peut aussi être réalisé par gravure, ce qui nécessite un masque supplémentaire, d'où un problème de coût, et augmente beaucoup le temps de perçage du plot.
De plus, 1 ' impédance présentée par ce type de contact est relativement élevée. En effet, la surface du plot 6 permettant le passage d'un signal électrique entre les plots 6 et 7 est une surface 13 sensiblement annulaire délimitée par la base de la goutte de soudure 12 et la circonférence du trou 10. La surface du plot 7 permettant le passage du signal électrique est une surface 14 sensiblement circulaire et égale à la superficie
du trou 10. Les surfaces 13 et 14 ont été représentées en traits gras en figure 2. Pour ne pas trop diminuer l'impédance du contact entre les plots 6 et 7, les surfaces 13 et 14 doivent être sensiblement égales. Il en résulte qu'au maximum, la surface permettant le passage d'un courant électrique entre les plots 6 et 7 est égale à la moitié de la surface du plot 6, ce qui fait que l'impédance du contact entre les plots 6 et 7 est relativement élevée.
En outre, la soudure 12 forme un dôme fragile de hauteur relativement élevée, typiquement de l'ordre de 50 micromètres. Cela peut présenter une gêne pour 1 ' encapsulâtion du circuit.
La demande de brevet allemand DE 195 30 353 Al décrit de façon générale un procédé pour connecter des plages de contact d'un film flexible à un circuit imprimé. Dans ce document, le circuit imprimé présente des plots percés de trous métallisés, la métallisation se prolongeant quelque peu sur la face arrière du circuit imprimé, ne portant pas les plots. Les parties du film et du circuit à connecter se font face et de la soudure est déposée entre celles-ci. De la chaleur est fournie à la face arrière du circuit, tandis qu'une pression relativement élevée est appliquée sur l'ensemble formé par le film et le circuit. La chaleur fournie fait fondre la soudure qui forme une couche de collage relativement épaisse entre le film et le circuit. L'excédent de soudure est absorbé par le trou métallisé .
L'abrégé du brevet japonais JP 09 312453 décrit une technique similaire à celle décrite dans la demande DE 195 30 353. Les techniques décrites dans les deux documents ci- dessus requièrent l'application d'une température et d'une pression élevée. Si l'on cherche à appliquer ces techniques pour connecter une structure portant des électrodes destinées à mesurer l'activité électrique d'un organe ou à le stimuler, on se heurte à plusieurs problèmes. En effet, les structures à
électrodes sont très minces et très fragiles. L'application d'une pression, même modérée, écrase la structure et peut l'endommager. En outre, l'application d'une température élevée, nécessaire pour faire fondre la soudure, peut détruire la structure. On verra par la suite que la surépaisseur créée par la couche de soudure peut aussi présenter un inconvénient.
Un objet de la présente invention est de réaliser une connexion entre une structure d'électrodes destinée à mesurer ou à stimuler une activité d'origine physiologique et un circuit, sans qu'une pression élevée soit exercée entre les parties à connecter.
Un autre objet de la présente invention est de réaliser une connexion entre une structure d'électrodes destinée à mesurer ou à stimuler une activité d'origine physiologique et un circuit, sans qu'une température élevée soit appliquée à l'une des parties à connecter.
Un autre objet de la présente invention est de réaliser une connexion aisée entre une structure d'électrodes destinée à mesurer ou à stimuler une activité d'origine physiologique et un circuit.
Un autre objet de la présente invention est de réaliser une connexion permettant d'optimiser l'impédance de contact entre une structure d'électrodes destinée à mesurer ou à stimuler une activité d'origine physiologique et un circuit. Un autre objet de la présente invention est de réaliser une connexion sensiblement plane entre une structure d'électrodes destinée à mesurer ou à stimuler une activité d'origine physiologique et un circuit.
Un autre objet de la présente invention est de réaliser une connexion entre une structure d'électrodes destinée à mesurer ou à stimuler une activité d'origine physiologique et un circuit permettant une utilisation optimale de la surface de la structure et/ou du circuit.
Pour atteindre ces objets ainsi que d'autres, la présente invention prévoit un procédé pour connecter des premiers plots
d'une structure porteuse d'électrodes propres à mesurer ou à stimuler une activité d'origine physiologique à des seconds plots d'au moins un circuit aval, chaque second plot étant traversé par une ouverture perforant le circuit aval, comportant les étapes suivantes : a) placer le circuit aval sur ladite structure, de sorte que l'ouverture d'un second plot se trouve en face d'un premier plot ; et b) déposer dans l'ouverture du second plot un matériau conducteur assurant la connexion entre le second plot et le premier plot en regard.
Selon un mode de réalisation de la présente invention, l'ouverture pratiquée dans le second plot a une surface sensiblement égale à la surface du premier plot en regard. Selon un mode de réalisation de la présente invention, la partie de ladite structure comportant les premiers plots est découpée de façon à former des languettes, et la connexion des second plots aux premiers plots est telle que les premiers plots de deux languettes adjacentes au moins sont connectés à des seconds plots de circuits aval différents, disposés sensiblement les uns au-dessus des autres.
Selon un mode de réalisation de la présente invention, l'ouverture perforant le circuit aval est un trou métallisé.
Selon un mode de réalisation de la présente invention, la connexion des premiers plots aux seconds plots est réalisée à l'aide d'une colle conductrice, d'une pâte conductrice ou d'une soudure .
Selon un mode de réalisation de la présente invention, le second plot a une épaisseur de l'ordre de 20 à 50 micromètres et le premier plot a une épaisseur égale au plus à quelques micromètres.
L' invention prévoit aussi une structure porteuse d'électrodes propres à mesurer ou à stimuler une activité d'origine physiologique présentant des premiers plots pouvant être connectés à des seconds plots de circuits aval par un procédé
selon la présente invention. La partie de ladite structure colportant les premiers plots est découpée de façon à former des languettes portant chacune des premiers plots.
L' invention prévoit aussi une structure porteuse d'électrodes propres à mesurer ou à stimuler une activité d'origine physiologique présentant des premiers plots pouvant être connectés à des seconds plots d'au moins un circuit aval par un procédé selon la présente invention, les premiers plots étant reliés aux électrodes par des pistes conductrices. Lesdites pistes conductrices sont disposées sur au moins deux niveaux superposés séparés par des couches isolantes, et au moins une piste conductrice passe sous un premier plot.
L ' invention prévoit aussi un ensemble formé par une structure porteuse d'électrodes propres à mesurer ou à stimuler une activité d'origine physiologique et un circuit aval, dans lequel la structure porteuse d'électrodes et le circuit aval sont connectés par un procédé ci-dessus.
Dans un mode de réalisation de la présente invention, la partie de la structure porteuse d'électrodes qui comporte des plots et au moins la partie du circuit aval qui est connectée à ladite structure sont recouvertes d'une gaine biocompatible.
Ces objets, caractéristiques et avantages, ainsi que d'autres de la présente invention seront exposés en détail dans la description suivante de modes de réalisation particuliers faite à titre non-limitatif en relation avec les figures jointes parmi lesquelles : la figure 1, précédemment décrite, représente une structure d'électrodes et un circuit aval ; la figure 2 représente un type connu de connexion entre une structure d'électrodes et un circuit aval ; la figure 3A représente la connexion d'une structure d'électrodes et d'un circuit aval selon un premier mode de réalisation de la présente invention ;
la figure 3B représente la connexion d'une structure d'électrodes et d'un circuit aval selon un deuxième mode de réalisation de la présente invention ; les figures 4A et 4B représentent respectivement une nouvelle structure à électrodes et son mode de connexion à un circuit aval selon un troisième mode de réalisation de la présente invention ; la figure 5 représente une nouvelle structure d'électrodes illustrant un avantage de la connexion selon la présente invention ; et les figures 6 et 7 représentent des exemples d'application d'une connexion selon la présente invention.
Sur les figures, de mêmes signes de référence représentent de mêmes éléments. Les échelles, notamment en ce qui concerne les épaisseurs, n'ont pas été respectées.
La figure 3A représente un premier mode de réalisation de la présente invention. L'extrémité d'une structure d'électrodes 1 du type susmentionné comporte un film support isolant 3, un plot 16 et une couche isolante supérieure 11. Un circuit 2 comportant un plot 17 à relier au plot 16 est placé ici au- dessus de la structure 1. Le circuit 2 comporte une ouverture 15 qui le traverse totalement, située sensiblement au centre du plot 17. Dans l'exemple représenté, l'ouverture 15 a une taille sensiblement égale à celle du plot 16. L'ouverture 15 est remplie d'un matériau 18 assurant la connexion électrique des plots 16 et 17. Le matériau 18 est de préférence une pâte ou une colle conductrice, mais il peut s'agir aussi de soudure. Par exemple, une goutte de colle conductrice est déposée dans l'ouverture 15 et durcie à l'aide de rayons ultraviolets. Le matériau 18 remplit l'ouverture 15 et a une surface sensiblement plane qui dépasse très peu de la surface du circuit 2.
Selon la présente invention, c'est le circuit 2 qui est placé au-dessus de la structure 1, et non l'inverse comme en figure 2. Cela présente de nombreux avantages .
D'abord, c'est le circuit 2 qui est percé dans la présente invention, et non la structure 1. Or, le circuit 2 est généralement beaucoup plus épais que la structure 1 (typiquement cent fois plus) et il est beaucoup plus facile de percer de façon régulière le circuit 2 que la structure 1. En outre, la couche conductrice formant les plots 17 est souvent beaucoup plus épaisse que la couche conductrice formant les plots 16, et elle est par conséquent beaucoup moins fragile (typiquement, l'épaisseur d'un plot 17 est de l'ordre de 20 à 50 micromètres, alors que l'épaisseur d'un plot 16 est de quelques micromètres au plus, voire inférieure à un micromètre) . Les trous du circuit 2 peuvent être réalisés à l'aide de techniques variées, comme à l'aide de techniques classiques de perçage mécanique, et ils sont plus réguliers. Les trous du circuit 2 peuvent aussi être réalisés avant le dépôt de la couche conductrice formant les plots 17. Cela permet, par exemple, d'utiliser un perçage par faisceau laser sans risquer de détériorer les plots 17.
Ensuite, le fait que l'épaisseur du plot 17 est généralement beaucoup plus importante que celle du plot 16 joue un rôle au niveau de l'impédance de la connexion. En effet, la surface de la couronne cylindrique 19 (en traits gras sur la figure 3A) correspondant, dans l'ouverture 15, à l'épaisseur du plot 17 est importante et participe de façon non négligeable au passage du courant électrique. A titre d'exemple, on suppose que les plots 16 et 17 ont un même rayon R et que l'épaisseur e du plot 17 est aussi égale à R. Si on choisit une ouverture 15 qui représente 75 % de la surface du plot 17, la surface du plot 16 participant à la conduction du courant est 0,75.πR2. La surface cylindrique 19 représente quand à elle environ l,7.πRe, donc l,7.πR2, soit plus de deux fois plus. Comme en général les plots
16 et 17 sont de faible rayon (typiquement une dizaine de micromètres) , l'épaisseur e est généralement supérieure au rayon des plots et, en ce qui concerne le plot 17, c'est elle qui participe principalement au passage du courant. Il en résulte que le matériau de connexion 18 n'a pas besoin de s'étaler
largement sur le plot 17 et le plot 17 n'a pas besoin d'être très étendu en surface, ce qui optimise la surface utilisée. En outre, si besoin est, le matériau 18 peut largement déborder sur la piste conductrice qui, dans le circuit 2, mène au plot 17. Aussi, le plot 17 peut, si cela est souhaité, être simplement réalisé par une partie d'une piste conductrice du circuit 2, percée par une ouverture 15.
De plus, dans la présente invention, le matériau de connexion 18 remplit le trou défini par l'ouverture 15, qui est généralement un trou profond, contrairement au trou 10 de la figure 2. Il en résulte qu'une quantité suffisante de matériau de connexion est systématiquement utilisée et forme des connexions solides, sans former un dôme important comme en figure 2. On notera d'ailleurs qu'il est possible de racler le matériau 18 à la surface du circuit 2 et d'obtenir une surface du circuit 2 pratiquement plane.
Par rapport aux connexions décrites dans les documents DE 195 30 353 et JP 09 312453, la connexion de la figure 3A n'a nécessité aucune application de pression ou de chaleur excessives. En effet, la structure 1 et le circuit 2 sont simplement placés l'un contre l'autre au cours de la connexion et maintenus en place sans pression excessive au cours de la connexion. Si besoin est, la structure 1 peut être collée au circuit 2 à l'aide d'une mince couche isolante de colle isolante ne recouvrant pas les plots 16.
La figure 3B représente un deuxième mode de réalisation de la présente invention. En figure 3B, une piste conductrice 20 du circuit 2 aboutit à l'ouverture 15 du plot 17. Le trou défini par l'ouverture 15 est métallisé. Une couche conductrice 22 recouvre les parois de l'ouverture 15. La couche
22 peut, comme cela est représenté, déborder un peu à la surface du circuit 2, mais cela n'est pas nécessaire. Le plot 17 est ainsi défini par la couche conductrice 22, reliée à la piste 20. Dans ce mode de réalisation, la surface du plot 17 participant à la conduction du courant électrique est très grande. Le matériau
de connexion 18 n'a pas besoin de remplir la totalité de 1 ' ouverture 15 pour assurer une bonne résistance mécanique et une bonne conduction de la connexion. La surface du circuit 2 reste plane. Ce mode de réalisation permet une diminution particulièrement importante de 1 ' impédance de la connexion réalisée et le plot 17 n'occupe pas plus de place que le plot 16 en regard. Cela présente un avantage important, notamment lorsque de nombreux plots 16 sont disposés sur une surface réduite de la structure 1. Les figures 4A et 4B illustrent un troisième mode de réalisation de la présente invention, qui permet une grande souplesse d'utilisation ainsi que de réaliser des plots 17 de grande taille.
La figure 4A représente une nouvelle structure d'élec- trodes l'. En figure 4A, l'extrémité de la structure l' comporte huit plots 16-i, i allant de 1 à 8. L'extrémité de la structure est découpée par trois ouvertures longitudinales 24 séparant les plots 16-i en groupes de deux. Les ouvertures 24 divisent ainsi 1 'extrémité de la structure 1 ' en quatre languettes longitu- dinales A, B, C, D, rangées dans cet ordre et comportant deux plots chacune.
La figure 4B illustre la façon de connecter la structure 1 ' . La structure 1 ' est connectée à deux circuits aval 2a et 2b. Les languettes non adjacentes A et C sont connectées au circuit 2a de la manière décrite en relation avec la figure 3A ou 3B. De même, les languettes non adjacentes B et D sont connectées au circuit 2b de la manière décrite en relation avec la figure 3A ou 3B.
Les circuits 2a et 2b sont disposés l'un au-dessus de 1 'autre. Le film support isolant de la structure 1 peut assurer à lui seul l'isolement électrique entre les circuits 2a et 2b, ou un isolant supplémentaire comme une feuille isolante séparera les circuits 2a et 2b.
En procédant ainsi, on réalise un empilement des circuits 2a et 2b. Les plots 17 de chacun des circuits 2a ou 2b
peuvent avoir une surface double des plots 16-i et s'étendre sur la largeur de deux languettes A, B, C, D. Ainsi, par exemple, le plot 17 connecté au plot 16-1 de la languette A pourra occuper une surface correspondant au plot 16-1 et au plot 16-3 de la languette B. Il présentera aisément une ouverture 15 de même surface que le plot 16-1.
Ce mode de connexion est avantageux. Par exemple, les plots de la structure l' peuvent être deux fois plus petits et donc deux fois plus nombreux que dans l'art antérieur, ou bien la largeur de la structure l' peut être deux fois plus faible. L'ensemble obtenu forme un ensemble compact, pratique à mettre en place, très souple d'emploi. Par circuits 2a et 2b, on entend soit deux circuits aval distincts couplés ou non, soit simplement deux éléments superposés d'un connecteur tridimensionnel à plusieurs étages, associé à un circuit aval unique.
Bien entendu, la présente invention est susceptible de diverses variantes et modifications qui apparaîtront à l'homme de l'art. En particulier, la structure porteuse d'électrodes a été décrite de forme allongée, avec des électrodes à une extrémité et des plots à l'autre extrémité. Cependant, la structure peut être de forme quelconque, par exemple circulaire, et les électrodes et les plots de la structure peuvent être disposés en une partie quelconque de la structure. Aussi, le nombre des plots de la structure peut être quelconque, par exemple de plusieurs centaines.
On notera que le procédé de connexion de la présente invention s'applique pour des épaisseurs très diverses de la structure porteuse d'électrodes et du circuit 2. On notera également que la forme des plots 17 peut être quelconque.
Aussi, dans le mode de connexion illustré en relation avec les figures 4A et 4B, la structure peut être découpée en un nombre de languettes différent de quatre et le nombre de circuits aval ou d'éléments superposés d'un connecteur du
circuit aval peut être supérieur à deux. Aussi, bien que chacune des languettes de la figure 4A soit représentée avec une seule rangée de plots, les languettes peuvent comporter plusieurs rangées de plots, par exemple deux. Aussi, il n'est pas nécessaire que toutes les languettes adjacentes soient connectées à des circuits aval différents. Par exemple, les languettes A et D de la figure 4B peuvent être connectées au circuit 2a et les languettes B et C au circuit 2b, en procurant les mêmes avantages que ceux cités en relation avec la figure 4B.
On notera aussi que d'autres avantages du procédé de connexion selon la présente invention apparaîtront à 1 'homme de 1 'art . Par exemple, dans le cas où la structure comporte non pas une couche à électrodes, mais plusieurs, la présente invention présente un avantage important.
La figure 5 représente une structure 1" à deux couches d'électrodes. Le film support 3 de la structure 1" est recouvert d'une première couche conductrice 30. La couche 30 est gravée pour former, à une extrémité de la structure, un plot 16a relié par une piste conductrice 31 à une électrode non représentée.
Sur la couche 30 se trouve une couche isolante 32. Sur la couche 32, est disposée une deuxième couche conductrice 34. La couche 34 est gravée pour former un plot 16b, relié par une piste conductrice 35 à une électrode non représentée. La couche 34 est surmontée d'une couche isolante 36. Les couches 32 et 36 sont convenablement gravées pour faire apparaître les plots 16a et 16b. Le plot 16a et la piste 31 sont situés à un niveau inférieur au plot 16b et à la piste 35. Dans l'art antérieur décrit en relation avec la figure 2, comme les plots 16a et 16b doivent être percés de trous perforants, la piste 31 ne peut pas se trouver sous le plot 16b, à moins d'un cheminement compliqué de la piste 31 et de l'utilisation d'un masque complexe pour sa gravure. La surface nécessaire pour réaliser la piste 31 peut alors être relativement importante. Dans l'invention, la piste 31 peut passer sous le plot 16b et être rectiligne. La surface
de la structure est mieux utilisée et le masque utilisé pour la gravure de la couche 31 est plus simple.
Enfin, les applications de la connexion selon la présente invention sont diverses et variées. Par exemple, comme cela est illustré en figure 6, la structure à électrodes peut être reliée à une autre structure flexible, et non à un circuit aval rigide.
En figure 6, une structure à électrodes 1, dont la couche 38 porteuse d'électrodes et de plots de connexion est représentée en traits gras, est reliée à un film souple 40, faisant office de circuit aval. Le film 40 comporte une base isolante 41 et, à sa face supérieure, une couche conductrice 42 dans laquelle sont formés les plots à connecter aux plots de la couche 38. La liaison entre la structure 1 et le film 40 est réalisée à l'aide du procédé de connexion selon la présente invention, les plots de la structure 1 et du film 40 n'étant pas représentés par souci de simplicité. Une gaine biocompatible 46 entoure le film 40, ou du moins la partie du film 40 destinée à entrer en contact avec un ou plusieurs organes, et la partie de la structure 1 comportant les plots.
L'exemple de la figure 6 est particulièrement avantageux. En effet, la structure 1, devant être placée au contact d'un organe, est biocompatible et son prix de revient est élevé. En outre, la fabrication de la structure 1 est réalisée par dépôt de couches sur une plaquette mère, et il est avantageux d'en réaliser simultanément le plus grand nombre possible. Ainsi, il est avantageux de réaliser des structures 1 relativement courtes (typiquement, de l'ordre de 2 centimètres) .Or, dans certaines applications, l'organe qui doit être testé ou stimulé se trouve à une profondeur non négligeable de la surface du corps. Par exemple, en chirurgie de la base du crâne (approche rétrosigmoîde) , le nerf auditif est situé à une profondeur de 5 centimètres et une structure à électrodes courte ne 1 ' atteint pas . En figure 6, 1 ' ensemble constitué par la structure 1 et le film 40 peut être relativement long, par
exemple aller jusqu'à 20 cm, et la gaine biocompatible 46 permet l'introduction de l'ensemble à la profondeur souhaitée. Par ailleurs, l'ensemble de la figure 6 est relativement bon marché. En effet, les matériaux recouverts par la gaine biocompatible n'ont pas besoin d'être biocompatibles et sont d'un moindre coût.
Dans l'exemple de la figure 6, il est avantageux de garder une épaisseur de 1 'ensemble formé par la structure 1 et le film 40 aussi faible que possible. Avec le procédé de connexion selon la présente invention, la structure 1 et le film 40 peuvent être disposés directement l'un contre l'autre, sans couche de collage entre eux, les plots de la structure 1 et du film 40 étant sur des faces opposées. Cela présente un avantage par rapport aux documents de 1 'art antérieur cité précédemment, DE 195 30 353 et JP 09 312 53. En effet, dans ces deux documents, les plots à connecter ensemble se font face, contrairement à la présente invention, et une couche de soudure constituant une couche de collage relativement épaisse se trouve entre la structure mince et la structure épaisse. Dans la présente invention, si l'on utilise par exemple une structure 1 de 3 microns, et un film 40 de 20 microns, l'ensemble de la structure 1 et du film 40 a une épaisseur de 23 microns. L'addition d'une couche de collage, comme dans les documents DE 195 30 353 et JP 09 312 53, entre la structure 1 et le film 40 augmenterait considérablement l'épaisseur de l'ensemble formé par la structure et le film, ce qui peut le rendre inopérant dans certaines applications. En outre, la présence d'une couche de collage rigide et cassante peut constituer un inconvénient (manque de souplesse, risque de rupture de la connexion) . Par ailleurs, le fait que, dans la présente invention, la face de la structure comportant les plots fait face à la face du circuit aval ne comportant pas les plots laisse libre la face du circuit aval qui comporte les plots. Cela permet par exemple que le circuit aval comporte de nombreux plots et de nombreuses pistes de liaison sans courir le risque que ceux-ci réalisent des
contacts non souhaités avec les plots et/ou pistes de la structure .
La figure 7 illustre un autre exemple d'application du procédé de connexion selon la présente invention. En figure 7, une structure à électrodes 1, présentant une couche 38 porteuse d'électrodes et de plots de connexion, est reliée à une extrémité d'un élément rigide 50, portant, à sa face supérieure 52, des plots de connexion et des pistes métalliques. L'autre extrémité de l'élément rigide 50 est connectée à un film flexible de faible épaisseur 56, qui porte des plots de connexion sur sa surface supérieure 58. Les connexions entre l'élément rigide 50 et, respectivement, la structure 1 et le film 56 sont réalisées selon le procédé de la présente invention. L'élément rigide 50 peut être relativement court, par exemple de 5 mm. Une gaine biocompatible 60 entoure le film 56, l'élément rigide 50 et la partie de la structure 1 portant les plots. Comme en figure 6, la gaine 60 permet de relier la structure 1 à un film souple relativement long, l'ensemble étant biocompatible et relativement bon marché. L'élément 50 peut avoir diverses fonctions. Par exemple, le chirurgien peut le saisir à 1 'aide d'une pince pour introduire plus facilement la structure. L'élément 50 peut aussi servir, après la mise en place de la structure, à fixer l'ensemble au drap du champ opératoire. L'élément 50 n'a pas besoin d'être en matériau biocompatible. Il peut être de diverses épaisseurs, par exemple de l'ordre de 50 micromètres. Par ailleurs, les masques de fabrication de l'élément 50 n'ont pas besoin d'être aussi précis que ceux utilisés de la fabrication de la structure 1 et ils sont par conséquent moins onéreux. On a déjà signalé qu'aucune pression élevée n'a besoin d'être exercée pour la connexion selon la présente invention d'une structure à électrodes à un circuit aval. Cela est particulièrement avantageux dans certains cas, par exemple là où la structure à électrodes présente des éléments en relief au niveau des plots, par exemple des éléments de 20 microns
d'épaisseur ou plus, en matériau isolant relativement mou, qui s'écraserait lors de l'application d'une pression élevée.
Enfin, on notera que les structures à électrodes décrites en relation avec les figures 4A et 5 peuvent aussi être connectées par tout autre procédé sans sortir du cadre de la présente invention. Aussi, une structure à électrodes résultant d'une combinaison des structures des figures 4A et 5, par exemple une structure dans laquelle une ou plusieurs languettes comportent des plots reliés à des pistes superposées, fait partie de la présente invention.