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TWI857147B - 用於易碎板以防止破裂的氣體分配組件安裝 - Google Patents

用於易碎板以防止破裂的氣體分配組件安裝 Download PDF

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TWI857147B
TWI857147B TW109133248A TW109133248A TWI857147B TW I857147 B TWI857147 B TW I857147B TW 109133248 A TW109133248 A TW 109133248A TW 109133248 A TW109133248 A TW 109133248A TW I857147 B TWI857147 B TW I857147B
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凱文 葛瑞芬
光偉 孫
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美商應用材料股份有限公司
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Abstract

提供了使用具有石英板的氣體注射器單元來處理基板的設備和方法。氣體注射器單元包括注射器主體，該注射器主體具有延伸穿過該注射器主體的第一開口。第一開口具有螺母部分和夾持部分。藉由彈簧將螺母定位在與注射器主體間隔開的螺母部分內。夾具位於夾持部分內，夾持部分可遠端位於轂上以與注射器主體連接。螺釘延伸穿過夾具中的開口、注射器主體的一部分、彈簧並進入螺母的連接部分。亦描述了結合有氣體注射器單元的氣體分配組件和處理腔室。

Description

用於易碎板以防止破裂的氣體分配組件安裝
本申請案大體上涉及用於處理晶圓的設備和方法。具體來說，本申請案涉及結合有安裝硬體的注射器單元，該注射器單元防止由於扭矩（其由熱膨脹引起）所造成的損壞。
半導體裝置的形成通常在基板處理系統或平台中進行，該等系統或平台包含能夠一次處理多個晶圓的批量處理腔室。批量處理對於太費時以至於不能以經濟可行的方式在單個基板上執行的處理特別有益，該等處理如原子層沉積（ALD）處理和某些化學氣相沉積（CVD）處理。
一些批量處理腔室使用與基座組件間隔開的氣體分配組件以創建反應空間。可旋轉基座組件以使複數個晶圓圍繞處理腔室移動。經常加熱基座組件從而導致氣體分配組件的溫度升高。一些腔室中溫度的升高導致氣體分配組件中的注射器單元改變形狀。例如，已知一些注射器單元在中心處下垂，從而改變了氣體分配組件和基座組件之間在某些位置處的間隙的大小。
在一些批量處理腔室中，石英襯套與注射器單元配合。在經升高溫度下，注射器單元會改變形狀並在中心處下垂。若將石英襯套和注射器擰緊在一起，則形狀變化會在石英襯套中產生應力從而導致破裂。若石英襯套與注射器的配合太鬆，則通過兩個組件之間的間隙洩漏的流會損害處理。
因此，在本領域中需要減輕在高溫下經耦接到注射器單元的石英襯套之扭矩相關的破裂的設備和方法。
本申請案的一個或多個實施例針對一種氣體注射器單元，其包括注射器主體和石英板。注射器主體具有限定厚度的前表面和後表面。前表面具有延伸到注射器主體中的複數個孔，以允許來自注射器主體內的氣體流通過前表面離開。石英板具有前表面和後表面。石英板的後表面經定位成鄰近注射器主體的前表面。石英板具有複數個孔，以允許氣體流通過石英板。第一開口從注射器主體的後表面延伸到注射器主體的前表面。第一開口具有鄰近後表面的螺母部分和鄰近前表面的夾持部分。第一螺母位於第一開口的螺母部分內。第一夾具位於第一開口的夾持部分內。第一夾具具有夾具主體，該夾具主體具有從該夾具主體穿過的開口和從夾具主體延伸一距離的支撐表面。支撐表面與石英板的邊緣接觸。第一彈簧位於第一螺母和注射器主體之間的第一開口的螺母部分內。第一螺釘延伸穿過第一夾具中的開口、注射器主體的一部分、第一彈簧並進入第一螺母的連接部分中。
本申請案的額外實施例針對一種氣體分配組件，該氣體分配組件包括中央轂和圍繞中央轂佈置的複數個注射器單元。中心轂具有至少一個穿過該中心轂的開口，該至少一個穿過該中心轂的開口具有與轂的底表面相鄰的一夾持部分。注射器主體具有限定厚度的前表面和後表面。前表面具有延伸到注射器主體中的複數個孔，以允許來自注射器主體內的氣體流通過前表面離開。第一開口從注射器主體的後表面延伸到注射器主體的前表面。第一開口具有鄰近後表面的螺母部分和鄰近前表面的夾持部分。石英板具有前表面和後表面。石英板的後表面經定位成鄰近注射器主體的前表面。石英板具有複數個孔，以允許氣體流通過石英板。第一螺母位於第一開口的螺母部分內。第一夾具位於第一開口的夾持部分內。第一夾具具有夾具主體，該夾具主體具有從該夾具主體穿過的開口和從夾具主體延伸一距離的支撐表面。支撐表面與石英板的邊緣接觸。第一彈簧位於第一螺母和注射器主體之間的第一開口的螺母部分內。第一螺釘延伸穿過第一夾具中的開口、注射器主體的一部分、第一彈簧並進入第一螺母的連接部分中。第二開口從注射器主體的後表面延伸至與中心轂中的開口對準的注射器主體的前表面。第二開口具有鄰近注射器主體的後表面的螺母部分。第二螺母位於第二開口的螺母部分內。第二彈簧位於第二螺母和注射器主體之間的第二開口的螺母部分內。第二夾具位於中心轂的夾持部分內。第二夾具具有夾具主體，該夾具主體具有從該夾具主體穿過的開口和從夾具主體延伸一距離的支撐表面。支撐表面與石英板的邊緣接觸。第二螺釘延伸穿過第二夾具中的開口、中心轂、注射器主體的一部分、第二彈簧並進入第二螺母的連接部分中。
本申請案的其他實施例針對一種處理腔室，其包括氣體分配組件和基座組件。氣體分配組件包括中央轂和圍繞中央轂佈置的複數個注射器單元。中心轂具有至少一個穿過該中心轂的開口，該開口具有與轂的底表面相鄰的夾持部分。注射器主體具有限定厚度的前表面和後表面。前表面具有延伸到注射器主體中的複數個孔，以允許來自注射器主體內的氣體流通過前表面離開。第一開口從注射器主體的後表面延伸到注射器主體的前表面。第一開口具有鄰近後表面的螺母部分和鄰近前表面的夾持部分。石英板具有前表面和後表面。石英板的後表面經定位成鄰近注射器主體的前表面。石英板具有複數個孔以允許氣體流通過石英板。第一螺母位於第一開口的螺母部分內。第一夾具位於第一開口的夾持部分內。第一夾具具有夾具主體，該夾具主體具有從該夾具主體穿過的開口和從夾具主體延伸一距離的支撐表面。支撐表面與石英板的邊緣接觸。第一彈簧位於第一螺母和注射器主體之間的第一開口的螺母部分內。第一螺釘延伸穿過第一夾具中的開口、注射器主體的一部分、第一彈簧並進入第一螺母的連接部分中。第二開口從注射器主體的後表面延伸至與中心轂中的開口對準的注射器主體的前表面。第二開口具有鄰近注射器主體的後表面的螺母部分。第二螺母位於第二開口的螺母部分內。第二彈簧位於第二螺母和注射器主體之間的第二開口的螺母部分內。第二夾具位於中心轂的夾持部分內。第二夾具具有夾具主體，該夾具主體具有從該夾具主體穿過的開口和與夾具主體延伸一距離的支撐表面。支撐表面與石英板的邊緣接觸。第二螺釘延伸穿過第二夾具中的開口、中心轂、注射器主體的一部分、第二彈簧並進入第二螺母的連接部分中。基座組件包括基座，該基座的頂表面具有形成在其中的複數個凹部以支撐複數個晶圓並圍繞基座組件的中心軸旋轉複數個晶圓，使得晶圓與注射器單元上的石英板的前表面相距一距離。
在描述本申請案的幾個示例性實施例之前，應當理解，本申請案不限於以下描述中闡述的構造或處理步驟的細節。本申請案能夠具有其他實施例，且能夠以各種方式實施或執行本申請案。
如本文所用，「基板」是指在製造處理期間任何基板或在其上執行膜處理之基板上所形成的材料表面。例如，可在其上執行處理的基板表面包括如矽、氧化矽、應變矽、絕緣體上矽（SOI）、碳摻雜的氧化矽、非晶矽、摻雜的矽、鍺、砷化鎵、玻璃、藍寶石的材料及任何其他材料，如金屬、金屬氮化物、金屬合金和其他導電材料，取決於應用。基板包括但不限於半導體晶圓。可將基板暴露於預處理程序以拋光、蝕刻、還原、氧化、羥基化、退火及/或烘烤基板表面。在本申請案中，除了直接在基板本身的表面上進行薄膜處理外，亦可如下文更詳細地揭露地在經形成在基板上的底層上進行所揭露的任何薄膜處理步驟；術語「基板表面」旨在包括上下文指示的此種底層。因此，例如，在膜/層或部分膜/層已沉積在基板表面上的情況下，新沉積的膜/層的暴露表面成為基板表面。
如在本說明書和所附申請專利範圍中所使用，術語「前驅物」、「反應物」、「反應氣體」等可互換使用，以指示可與基板表面或與經形成在基板表面上的膜反應的任何氣態物種。
本申請案的一些實施例係針對批量處理腔室，也稱為空間處理腔室。圖1示出了處理腔室100的橫截面；處理腔室100包括氣體分配組件120（也稱為注射器或注射器組件）和基座組件140。氣體分配組件120是任何類型的在處理腔室中使用的氣體輸送裝置。氣體分配組件120包括面對基座組件140的前表​​面121。前表面121可具有任何數量的開口或各種開口，以朝基座組件140輸送氣體流。氣體分配組件120亦包括在所示的實施例中基本上是圓形的外周邊緣124。
所使用的特定類型的氣體分配組件120可根據所使用的特定處理而改變。本申請案的實施例可與其中基座和氣體分配組件之間的間隙經控制的任何類型的處理系統一起使用。在二元反應中，複數個氣體通道可包括至少一個第一反應氣體A通道、至少一個第二反應氣體B通道、至少一個吹掃氣體P通道及/或至少一個真空V通道。引導從(多個)第一反應氣體A通道、(多個)第二反應氣體B通道和(多個)吹掃氣體P通道流出的氣體朝向晶圓的頂表面。一些氣流水平地移動跨過晶圓的表面，並通過(多個)吹掃氣體P通道移出處理區域。
在一些實施例中，氣體分配組件120是由單個注射器單元製成的剛性固定體。在一個或多個實施例中，氣體分配組件120由複數個單獨的扇區（例如，注射器單元122）組成，如圖2所示。單件式主體或多扇區式主體之任一者可與所描述的本申請案的各種實施例一起使用。
將基座組件140定位在氣體分配組件120的下方。基座組件140包括頂表面141和在頂表面141中的至少一個凹部142。基座組件140亦具有底表面143和邊緣144。取決於要被處理的基板60的形狀和尺寸，凹部142可以是任何合適的形狀和尺寸。在圖1所示的實施例中，凹部142具有平坦的底部以支撐晶圓的底部；然而，凹部的底部可變化。在一些實施例中，凹部具有圍繞凹部的外周邊緣的台階區域，該等台階區域的尺寸經設計成支撐晶圓的外周邊緣。由台階支撐的晶圓的外周邊緣的量可取決於例如晶圓的厚度和已存在於晶圓的背側上的特徵的存在而變化。
在一些實施例中，如圖1所示，基座組件140的頂表面141中的凹部142的尺寸經設計為使得經支撐在凹部142中的基板60具有與基座140的頂表面141基本上共面的頂表面61。如本說明書及所附申請專利範圍中所使用，術語「基本上共面」是指晶圓的頂表面和基座組件的頂表面在±0.2mm內是共面的。在一些實施例中，頂表面在±0.15mm、±0.10mm或±0.05mm內是共面的。
圖1的基座組件140包括支撐柱160；支撐柱160能夠提升、降低和旋轉基座組件140。基座組件可包括在支撐柱160的中心內的加熱器、氣體管線或電氣組件。支撐柱160可以是增加或減小基座組件140和氣體分配組件120之間的間隙及將基座組件140移動到適當位置中的主要手段。基座組件140亦可包括微調致動器162；微調致動器162可對基座組件140進行微調整，以在基座組件140和氣體分配組件120之間建立預定間隙170。
在一些實施例中，間隙170的距離係在約0.1mm至約5.0mm的範圍內、或在約0.1mm至約3.0mm的範圍內、或在約0.1mm至約2.0mm的範圍內、或在約0.2mm至約1.8mm的範圍內，或在約0.3mm至約1.7mm的範圍內、或在約0.4mm至約1.6mm的範圍內、或在約0.5mm至約1.5mm的範圍內、或在約0.6mm至約1.4mm的範圍內、或在約0.7mm至約1.3mm的範圍內、或在約0.8mm至約1.2mm的範圍內、或在約0.9mm至約1.1mm的範圍內，或約1mm。
圖中所示的處理腔室100是轉盤式腔室，其中基座組件140可容納複數個基板60。如圖2所示，氣體分配組件120可包括複數個分離的注射器單元122；當晶圓在每個注射器單元下方移動時，注射器單元122能夠在晶圓上沉積膜。示出了兩個餅狀的注射器單元122位於基座組件140的大約相對側上和上方。所示數量的注射器單元122僅出於示例性目的而示出。將理解的是，可包括更多或更少的注射器單元122。在一些實施例中，存在足夠數量的餅形注射器單元122以形成與基座組件140的形狀相符的形狀。在一些實施例中，可獨立地移動、移除及/或取代每個單獨的餅形注射器單元122，而不影響任何其他的注射器單元122。例如，可抬起一個段以允許機械手臂進入基座組件140和氣體分配組件120之間的區域，以裝載/卸載基板60。
可使用具有複數個氣體注射器的處理腔室來同時處理多個晶圓，從而使晶圓經歷相同的處理流。例如，如圖3所示，處理腔室100具有四個氣體注射器組件和四個基板60。在處理開始時，可將基板60定位在注射器組件30之間。將基座組件140旋轉(元件符號：17) 45°將導致氣體分配組件120之間的每個基板60移動到氣體分配組件120以進行薄膜沉積，如氣體分配組件120下的虛線圓圈所示。另外的45º旋轉將使基板60移離注射器組件30。基板60和氣體分配組件120的數量可為相同的或不同的。在一些實施例中，處理與氣體分配組件相同數量的晶圓。在一個或多個實施例中，要處理的晶圓的數量是氣體分配組件的數量的分數或整數倍。例如，若有四個氣體分配組件，則有4x個要處理的晶圓，其中x是一個大於一或等於一的整數。在示例性實施例中，氣體分配組件120包括由氣幕隔開的八個處理區域，且基座組件140可容納六個晶圓。
圖3中所示的處理腔室100僅表示一種可能的配置，其不應被視為限制本申請案的範圍。在此，處理腔室100包括複數個氣體分配組件120。在所示的實施例中，有圍繞處理腔室100而均勻地間隔開的四個氣體分配組件（也稱為注射器組件30）。所示的處理腔室100是八邊形；然而，所屬技術領域中具有通常知識者將理解，這是一種可能的形狀，其不應被視為限制本申請案的範圍。所示的氣體分配組件120是梯形的，但其可為單個圓形部件或如圖2所示由複數個扇形段組成。
圖3所示的實施例包括裝載閘腔室180或如緩衝站的輔助腔室。此腔室180經連接到處理腔室100的一側，以允許例如從腔室100裝載/卸載基板（也稱為基板60）。可將晶圓機械手臂放置在腔室180中，以移動基座上的基板。
轉盤式傳送帶（例如基座組件140）的旋轉可以是連續的或間歇的（不連續的）。在連續處理中，晶圓不斷旋轉使得該等晶圓依次暴露於每個注射器。在不連續處理中，可將晶圓移動到注射器區域並停止，然後移至注射器之間的區域84並停止。例如，轉盤式傳送帶可旋轉使得晶圓從一個注射器間區域移動穿過注射器（或在注射器附近停止），並移動到下一個注射器間區域；在該下一個注射器間區域中可再次暫停轉盤式傳送帶。注射器之間的暫停可為每個層沉積之間的附加處理（例如，暴露於電漿）提供時間。
圖4示出了氣體分配組件220的扇區或一部分，該扇區或一部分可稱為注射器單元122。可單獨使用注射器單元122，或注射器單元122可與其他注射器單元結合使用。例如，如圖5所示，圖4的四個注射器單元122經組合以形成單個氣體分配組件220。（為清楚起見，未示出分隔四個注射器單元的線）。儘管圖4中的注射器單元122除了具有吹掃氣體埠155和真空埠145之外，還具有第一反應氣體埠125和第二氣體埠135兩者，但注射器單元122不需要所有這些部件。
參照圖4和圖5兩者，根據一個或多個實施例的氣體分配組件220可包括複數個扇區（或注射器單元122），其中每個扇區相同或不同。氣體分配組件220經定位於處理腔室內，且氣體分配組件220包括在氣體分配組件220的前表面121中的複數個細長的氣體埠125、135、155和細長的真空埠145。複數個細長的氣體埠125、135、155和細長的真空埠145從與內周邊緣123相鄰的區域朝向與氣體分佈組件220的外周邊緣124相鄰的區域延伸。所示的複數個氣體埠包括第一反應氣體埠125、第二氣體埠135、圍繞第一反應氣體埠與第二反應氣體埠中的每一者的真空埠145，及吹掃氣體埠155。
參照圖4或圖5中所示的實施例，當埠從至少大約內周區域延伸到至少大約外周區域時，埠可不僅僅從內區域徑向延伸到外部區域。當真空埠145圍繞反應氣體埠125和反應氣體埠135時，埠可切向地延伸。在圖4和圖5所示的實施例中，楔形反應氣體埠125、135在所有邊緣上由真空埠145圍繞，該等所有邊緣包括鄰近內周區域和外周區域。
參照圖4，當基板沿著路徑127移動時，基板表面的每個部分都暴露於各種反應氣體。為了遵循路徑127，基板將暴露於或「看到」淨化氣體埠155、真空埠145、第一反應氣體埠125、真空埠145、淨化氣體埠155、真空埠145、第二氣體埠135及真空埠145。因此，在圖4中所示的路徑127的端點處，基板已暴露於第一氣體埠125和第二氣體埠135以形成層。所示的注射器單元122形成四分之一圓，但可更大或更小。圖5中所示的氣體分配組件220可視成圖4的四個注射器單元122的串聯組合。
圖4的注射器單元122示出了分離反應氣體的氣幕150。術語「氣幕」用於描述將反應氣體與混合分開的氣流或真空的任何組合。圖4中所示的氣幕150包括真空埠145之在第一反應氣體埠125旁的部分、中間的吹掃氣體埠155及真空埠145之在第二氣體埠135旁的部分。氣流和真空的此種組合可用於防止或最小化第一反應氣體和第二反應氣體的氣相反應。
參考圖5，來自氣體分配組件220的氣流和真空的組合形成進入複數個處理區域250的分隔。處理區域被大致限定在有氣幕150的各個氣體埠125、135周圍，其中氣幕150在250之間。圖5中所示的實施例構成了八個分開的處理區域250，其之間具有八個分開的氣幕150。處理腔室可具有至少兩個處理區域。在一些實施例中，存在至少三個、四個、五個、六個、七個、八個、九個、10個、11個或12個處理區域。
在處理期間，基板可在任何給定時間暴露於一個以上的處理區域250中。然而，暴露於不同處理區域的部分將具有將兩者分開的氣幕。例如，若基板的前邊緣進入包括第二氣體埠135的處理區域，則基板的中間部分將在氣幕150下方且基板的後邊緣將在包括第一反應氣體埠125的處理區域中。
示出了例如可為裝載閘腔室的工廠介面280連接到處理腔室100。基板60經示出成疊置在氣體分配組件220上，以提供參考框架。基板60通常可位於基座組件上，以保持在氣體分配組件120的前表面121附近。藉由工廠介面280將基板60加載到基板支撐件或基座組件上（參見圖3）的處理腔室100中。因基板位於第一反應氣體埠125附近且在兩個氣幕150a、150b之間，故可示出基板60位於處理區域內。沿著路徑127旋轉基板60將使基板圍繞處理腔室100逆時針移動。因此，基板60將藉由包括在其間的所有處理區域的第八處理區域250h暴露於第一處理區域250a。
如圖1所示，可設置控制器395且控制器395經耦合到處理腔室100的各種部件以控制其操作。控制器195可以是控制整個處理腔室100的單個控制器，也可以是控制處理腔室100的各個部分的多個控制器。在一些實施例中，控制器195包括中央處理單元（CPU）196、支持電路197、記憶體198及輸入/輸出（I / O）199。控制器195可直接控制處理腔室100，或藉由與特定處理腔室及/或支持系統組件相關聯的電腦（或控制器）來控制處理腔室100。控制器195可以是可在工業環境中用於控制各種腔室的任何形式的通用電腦處理器和子處理器中的一者。控制器195的記憶體198或電腦可讀取媒體可以是一種或多種容易獲得的記憶體，如隨機存取記憶體（RAM）、唯讀記憶體（ROM）、軟碟、硬碟、光學存儲媒體（例如，光碟或數位影片光碟）、快閃驅動或任何其他形式的本端或遠端的數位存儲器。支持電路197經耦合到CPU 196，以用常規方式支持處理器。這些電路包括快取、電源、時鐘電路，及輸入/輸出電路和子系統等。一個或多個處理可作為軟體常式存儲在記憶體198中，該軟體常式可經執行或調用以用本文描述的方式來控制處理腔室100或各個處理腔室的操作。也可由遠離由CPU 196控制的硬體定位的第二CPU（未示出）來存儲及/或執行軟體常式。輸入/輸出199可包括鍵盤、電腦滑鼠、顯示器及/或印表機。
在一些實施例中，控制器經耦合到基座組件和氣體分配組件。控制器具有一種或多種配置以控制各種功能和處理。在一些實施例中，多種配置選自第一配置以使基座組件繞中心軸線旋轉、選自第二配置以提供氣體流至注射器單元中，及選自第三配置以加熱基座組件。
一些實施例的氣體注射器單元包括附接到注射器主體的前表面的石英板（也稱為石英襯套）。在處理溫度下，一些實施例的注射器單元在中心處下垂導致了石英襯套中的過大應力和破裂（若石英襯套與注射器連接過緊）。鬆開石英襯套和注射器單元之間的連接可減少與應力有關的破裂，但也可使處理氣體在石英襯套周圍（而不是通過基板）流動從而損害製程。
本申請案的一個或多個實施例係針對提供順應性以減輕由於注射器下垂所引起的扭矩相關的破壞且同時保持與注射器的緊密接觸的設備和方法。在一些實施例中，位於安裝硬體之間的彈簧吸收由下垂所引起的過量扭矩且同時保持足夠的夾緊力。在一些實施例中，為順應性而使用彈簧來安裝硬體，從而動態調節注射器單元的形狀的變化。
在一些實施例中，藉由柔性緊固件組件將易碎部分（例如，石英板）與配合部分（例如，注射器板或注射器主體）夾緊。在一些實施例中，易碎部分在三個位置處經連接到配合部分。一些實施例的柔性緊固件組件包括帶肩螺釘、彈簧和防旋轉螺母。一些實施例的彈簧位於注射器板上的沉孔中，而螺母位於彈簧上且螺紋開口朝下。帶肩螺釘穿過石英板和注射器板中的螺栓孔，可與螺母嚙合。隨著螺釘擰緊，彈簧從鬆弛狀態經壓縮到壓縮狀態，直到螺釘碰到螺母為止。此時，石英板位於螺釘的頭部。肩部提供了一個硬質止擋件，以防止彈簧過緊。決定肩部的長度使得彈簧充分壓縮以固定石英板，且同時在注射器板變形時留有為進一步壓縮的餘量。當注射器板掉落時，將石英板的中心向下推並將兩端向上拉。由於一些實施例的彈簧的順應性，注射器板的變形由彈簧部分地吸收，且減輕石英板中的應力以保持在破裂點下方。
參照圖6至圖13，本申請案的一個或多個實施例針對氣體注射器單元400。注射器單元400包括具有限定厚度T的前表面412和後表面414的注射器主體410。注射器主體410具有複數個延伸到注射器主體410中的孔416，以允許來自注射器主體內的氣體流通過前表面412離開。如圖7所示，一些實施例的注射器主體在主體410的內部包括氣室417。一些實施例的氣室417藉由入口419與氣源（未示出）流體連通。
第一開口420從注射器主體的後表面414延伸到注射器主體的前表面412。在此使用的術語「第一」、「第二」、「第三」等旨在指代一個部件或一組部件，而不應視為將範圍限制為特定數量的部件。例如，第一開口420可為單一開口。
一些實施例的第一開口420包括鄰近後表面414的螺母部分424和鄰近前表面412的夾持部分422。在圖8所示的實施例中，開口420具有四個不同的部分：螺母部分424是較大的頂部螺母部分414a和較窄的底部螺母部分414b；夾持部分422和連接夾持部分422和螺母部分414的中間部分423。所屬技術領域中具有通常知識者將認識到，開口420可具有多於或少於四個不同的部分。
在圖8所示的實施例中，整個第一開口420位於注射器主體410內。參照圖9，如將在下文進一步描述，在一些實施例中，開口420具有在注射器主體410中的一部分和在單獨的組件（例如，轂550）中的一部分。
將石英板430附接到注射器主體410的前表面412或與注射器主體410的前表面412接觸。石英板430具有限定石英板430的厚度Tq的前表面432和後表面434。一些實施例的石英板的厚度Tq在約5mm至約25mm的範圍中、或在約10mm至約20mm的範圍中，或約15mm。
將石英板430的後表面434定位成與注射器主體410的前表面412相鄰，從而形成間隙435。石英板430具有複數個延伸穿過石英板430的孔436，以允許氣體流通過石英板430。例如，氣體流可通過入口419進入注射器主體410以填充氣室417。氣體可從氣室417通過孔416進入間隙435中，接著通過孔436離開石英板430的前表面432。
第一螺母440位於第一開口420的螺母部分424內。參照圖8，一些實施例的第一螺母440包括具有不同的橫截面尺寸、面積及/或形狀的頂部分441和底部分442。例如，圖8中示出的頂部分441的尺寸大於建立壁架443的底部分442。一些實施例的壁架443經配置成與第一開口420的表面427相互作用，以防止第一螺母440在作為硬質止擋件的第一開口420中移動太遠。
第一螺母440具有頂表面444和底表面445。在一些實施例中，第一螺母440具有在頂表面444和底表面445之間延伸的開口446。一些實施例的開口446包括與底表面445相鄰的連接部分447。在一些實施例中，連接部分447包括一個或多個螺紋。
在一些實施例中，第一螺母440包括防旋轉螺母。在一些實施例中，開口420的螺母部分424和第一螺母440具有互補形狀，該等互補形狀限制第一螺母440在第一開口420內的旋轉移動。例如，一些實施例的開口420的螺母部分424具有六邊形橫截面（如圖10A和圖10B所示），且第一螺母440具有其尺寸經設計成在不允許多於最小的旋轉量的情況下適於在開口內的六邊形橫截面。在一些實施例中，開口的螺母部分和第一螺母具有八邊形、七邊形、五邊形、四邊形、三角形、長方形或T形橫截面。
返回參考圖8，第一彈簧450位於第一開口420的螺母部分424內。一些實施例的第一彈簧450位於第一螺母440和注射器主體410之間。在石英板430的移動期間，第一彈簧450在鬆弛狀態（參見圖10A）和壓縮狀態（見圖10B）之間移動。
在一些實施例中，第一螺母440的底表面445接觸第一彈簧450的頂部451。第一彈簧450的底部452接觸注射器主體410。在一些實施例中，第一彈簧450防止第一螺母440的底表面445接觸注射器主體410。一些實施例的第一彈簧450是波形彈簧。
第一夾具460位於第一開口420的夾持部分422內。一些實施例的第一夾具460具有夾具主體461和延伸臂465。一些實施例的夾具主體461具有延伸貫穿夾具主體461的開口462。在一些實施例中，延伸臂465包括從夾具主體461延伸一距離的支撐表面466。一些實施例的支撐表面466接觸石英板430的邊緣439並提供干涉配合（interference fit；或摩擦連接）。
在一些實施例中，第一螺釘470具有頭部471，頭部471具有從頭部471延伸的細長軸472。一些實施例的細長軸472在細長軸471之與頭部471相對的端部具有螺紋部分473。在一些實施例中，第一螺釘470的頭部471在第一夾具460的底表面中的凹部463內，且細長軸472延伸穿過第一夾具460中的開口462、注射器主體的一部分（中間部分423）、第一彈簧450並進入第一螺母440的連接部分447中。在一些實施例中，第一螺釘470的螺紋部分473被擰入第一螺母440的連接部分447中。
現在參照圖10A和圖10B來描述注射器單元400的操作。圖10A示出了處於鬆弛或低溫狀態的注射器單元400的實施例。圖10B示出了處於壓縮或高溫狀態的圖10A的注射器單元400。在圖10A所示的鬆弛狀態下，第一彈簧450是擴張的，第一夾具460完全在開口420的夾持部分422內。延伸臂465將石英板430支撐在石英板430與注射器主體410之間的間隙435最小或沒有間隙的位置。在注射器單元400的溫度經升高之後，如圖10B所示，石英板430被推離注射器主體410，而增加了間隙435的尺寸。由於石英板430在延伸臂465的支撐表面466上的壓力，第一夾具460經部分地推出開口420的夾持部分422。第一夾具460從開口的夾持部分422中移出導致了第一螺釘470和第一螺母440壓縮第一彈簧450。一些實施例中的第一彈簧450壓縮成在不使石英板430或第一夾具460移位的情況下足以減輕經施加在石英板430上的扭力。
參照回圖6和圖7，在一些實施例中，存在第二開口420a；第二開口420a從注射器主體410的後表面414延伸到注射器主體410的前表面412。第二開口420a具有與後表面414相鄰的螺母部分，其類似於第一開口420的螺母部分424。第二螺母440a位於第二開口的螺母部分內。第二彈簧450a位於第二開口的螺母部分內，及第二彈簧450a將第二螺母440a與注射器主體410分開。
在一些實施例中，如圖6所示，第二夾具460a位於第二開口的夾持部分內，該夾持部分鄰近注射器主體的前表面。第二夾具類似於第一夾具且接觸石英板430的邊緣。在一些實施例中，第二螺釘延伸穿過第二夾具中的開口、注射器主體的一部分、第二彈簧並進入第二螺母的連接部分中。
參照圖11，注射器主體410的一些實施例呈楔形，其具有內周邊緣481、外周邊緣482、第一側483和第二側484。開口420的一位置或多位置可取決於注射器單元400的配置而變化。所說明的實施例具有八個圍繞中心毂550的楔形注射器主體400。出於描述目的，三個注射器單元400以數字一號、二號或三號標註。參照一號注射器單元，一號注射器單元有一個位於外周邊緣482附近的開口420。二號注射器單元具有鄰近外周邊緣482的第一開口420及鄰近內周邊緣481的第二開口420a。三號注射器單元具有與外周邊緣482和第二側484相鄰的第一開口420、與內周邊緣481相鄰的第二開口420a和與外周邊緣482和第一側483相鄰的第三開口420b。
在一些實施例中，中心轂550經連接到注射器主體410的內周邊緣481。參照圖9和圖12，在一些實施例中，第二開口420a延伸穿過注射器主體410和轂550，使得第二開口420a的夾持部分422a在轂550中，且第二螺釘470a進一步延伸穿過轂550。
參照圖13，在一些實施例中，注射器主體410具有圓形形狀。例如，使用石英襯套的單晶圓處理噴淋頭組件。注射器主體410具有鄰近注射器主體410的外邊緣491的第一開口420。在一些實施例中，第二開口420a鄰近外邊緣491。在一些實施例中，第二開口420a和第三開口420b鄰近外邊緣491。可將開口佈置在外邊緣周圍的各個位置處。例如，在一些實施例中，有兩個佈置在注射器主體的相對側上的開口。在一些實施例中，有三個在外邊緣周圍以120°間隔佈置的開口。
本申請案的一些實施例係針對包括本文所述的一個或多個注射器單元400的氣體分配組件。在一些實施例中，如圖11所示，複數個注射器單元400經連接到中心轂550。在一些實施例中，每個注射器單元包括石英板、第一開口、第二開口、第一螺母、第二螺母、第一夾具、第二夾具、第一彈簧、第二彈簧、第一螺釘和第二螺釘。本申請案的一些實施例係針對結合有如本文所述的包括一個或多個注射器單元400的氣體分配組件的處理腔室。
根據一個或多個實施例，在形成層之前及/或之後對基板進行處理。可在同一腔室中或在一個或多個單獨的處理腔室中執行此處理。在一些實施例中，將基板從第一腔室移至單獨的第二腔室以進行進一步處理。可直接將基板從第一腔室移至單獨的處理腔室，也可將基板從第一腔室移至一個或多個傳送腔室接著再移至單獨的處理腔室。因此，處理設備可包括與轉移站連通的多個腔室。可將這種設備稱為「集群工具」或「集群系統」等。
一般來說，集群工具是包括多個腔室的模組化系統，該模組化系統執行各種功能，該等各種功能包括基板中心定位和定向、脫氣、退火、沉積及/或蝕刻。根據一個或多個實施例，一種集群工具包括至少第一腔室和中央傳送腔室。中央傳送腔室可容納可在處理腔室和裝載閘腔室之間傳送基板的機器人。傳送腔室通常保持在真空條件下，並提供中間階段以將基板從一個腔室傳送到另一腔室及/或傳送到位於集群工具的前端處的裝載閘腔室。可適用於本申請案的兩個眾所周知的集群工具是Centura®和Endura®，兩者皆可從加利福尼亞州聖塔克拉拉市的應用材料公司獲得。然而，為了執行本文所述的處理的特定步驟的目的，可更改腔室的確切佈置和組合。可使用的其他處理腔室包括但不限於循環層沉積（CLD）、原子層沉積（ALD）、化學氣相沉積（CVD）、物理氣相沉積（PVD）、蝕刻、預清潔、化學處理清潔、如RTP的熱處理、電漿氮化、脫氣、定向、羥基化和其他基板處理。藉由在集群工具上的腔室中進行處理，可避免在沉積後續膜之前在未氧化的情況下用大氣雜質對基板進行表面污染。
根據一個或多個實施例，基板連續地在真空或「裝載閘」條件下，且基板在從一個腔室移動到接下來的腔室時不暴露於環境空氣中。傳送腔室因此處於真空中，並在真空壓力下被「抽空」。惰性氣體可能存在於處理腔室或傳輸腔室中。在一些實施例中，惰性氣體用作吹掃氣體以除去一些或全部反應物。根據一個或多個實施例，在沉積腔室的出口處注入吹掃氣體，以防止反應物從沉積腔室移動到轉移腔室及/或另外的處理腔室。因此，惰性氣體流在腔室的出口處形成了簾幕。
可在單個基板沉積腔室中處理基板；在該單個基板沉積腔室中，在處理另一個基板之前，裝載、處理和卸載單個基板。亦可用類似於輸送機系統的連續方式對基板進行處理，其中將多個基板分別裝載到腔室的第一部分中、移動通過腔室，並從腔室的第二部分卸載。腔室的形狀和相關的輸送系統可形成直線路徑或彎曲路徑。另外，處理腔室可以是轉盤式傳送帶；在該轉盤式傳送帶中多個基板繞中心軸移動，且該多個基板在整個轉盤式傳送帶路徑上暴露於沉積、蝕刻、退火及清潔等處理。
在處理期間，可加熱或冷卻基板。可藉由任何合適方式實現這樣的加熱或冷卻，該等任何合適方式包括但不限於改變基板支撐件的溫度並使經加熱或經冷卻的氣體流到基板表面。在一些實施例中，基板支撐件包括可經控制以傳導地改變基板溫度的加熱器/冷卻器。在一或多個實施例中，所使用的氣體（反應氣體或惰性氣體）經加熱或冷卻以局部改變基板溫度。在一些實施例中，加熱器/冷卻器經定位在鄰近基板表面的腔室內以對流地改變基板溫度。
基板在處理期間也可為靜止的或旋轉的。可連續地（繞基板軸）旋轉或以不連續的步驟來旋轉旋轉中的基板。例如，可在整個處理旋轉基板，或可在暴露於不同的反應氣體或吹掃氣體之間使基板旋轉少量。在處理期間（連續或逐步）旋轉基板可藉由最小化例如氣流幾何形狀的局部可變性的影響來幫助產生更均勻的沉積或蝕刻。
在整個說明書中，對「一個實施例」、「某些實施例」、「一個或多個實施例」或「實施例」的引用是指結合該實施例描述的特定特徵、結構、材料或特性包括在本申請案的至少一個實施例中。因此，在整個說明書中各處出現的短語如「在一個或多個實施例中」、「在某些實施例中」、「在一個實施例中」或「在實施例中」不一定指代本說明書的相同實施例。此外，在一個或多個實施例中，可用任何合適方式來組合特定特徵、結構、材料或特性。
儘管已參考特定實施例描述了本申請案，但應該理解，這些實施例僅是本申請案的原理和應用的說明。對於所屬技術領域中具有通常知識者將顯而易見的是，在不脫離本申請案的精神和範疇的情況下，可對本申請案的方法和設備進行各種修改和變化。因此，意圖是本申請案包括在所附申請專利範圍及其等同物的範疇內的修改和變化。
17:旋轉 60:基板 61:頂表面 84:區域 100:處理腔室 120:氣體分配組件 121:前表​​面 122:注射器單元 123:內周邊緣 124:外周邊緣 125:氣體埠 127:路徑 135:氣體埠 140:基座組件 141:頂表面 142:凹部 143:底表面 144:邊緣 145:氣體埠 150:氣幕 155:氣體埠 160:支撐柱 162:致動器 170:間隙 180:裝載閘腔室 195:控制器 196:中央處理單元（CPU） 197:支持電路 198:記憶體 199:輸入/輸出（I / O） 250:處理區域 250a:第一處理區域 250h:第八處理區域 280:工廠介面 400:注射器單元 410:注射器主體 412:前表面 414:後表面 416:孔 417:氣室 419:入口 420:第一開口 420a:第二開口 420b:第三開口 422:夾持部分 422a:夾持部分 423:中間部分 424:螺母部分 427:表面 430:石英板 432:前表面 434:後表面 435:間隙 436:孔 439:邊緣 440:第一螺母 441:頂部分 442:底部分 443:壁架 444:頂表面 445:底表面 446:開口 447:連接部分 450:第一彈簧 450a:第二彈簧 451:頂部 452:底部 460:第一夾具 460a:第二夾具 461:夾具主體 462:開口 463:凹部 465:延伸臂 466:支撐表面 470:第一螺釘 471:頭部 472:細長軸 473:螺紋部分 481:內周邊緣 482:外周邊緣 483:第一側 484:第二側 491:外邊緣 550:轂
可藉由參考在附圖中描繪的一些說明性實施例來理解在上文簡要概述且在下文更詳細討論的本申請案的上述特徵。然而，應注意附圖僅示出了本申請案的典型實施例，因此不應視為對本發明範圍的限制；本申請案可允許其他等效的實施例。
圖1示出了根據本申請案的一個或多個實施例的批量處理腔室的橫截面視圖；
圖2示出了根據本申請案的一個或多個實施例的批量處理腔室的局部透視圖；
圖3示出了根據本申請案的一個或多個實施例的批量處理腔室的示意圖；
圖4示出了根據本申請案的一個或多個實施例的用於批量處理腔室中的楔形氣體分配組件的一部分的示意圖；
圖5示出了根據本申請案的一個或多個實施例的批量處理腔室的示意圖；
圖6示出了根據本申請案的一個或多個實施例的氣體注射器單元的示意性橫截面視圖；
圖7示出了根據本申請案的一個或多個實施例的氣體注射器單元的示意性橫截面視圖；
圖8示出了根據本申請案的一個或多個實施例的氣體注射器單元的分解局部示意性橫截面視圖；
圖9示出了根據本申請案的一個或多個實施例的氣體注射器單元和中心轂的局部示意性橫截面視圖；
圖10A示出了處於鬆弛狀態之根據本申請案的一個或多個實施例的氣體注射器單元的局部示意性橫截面視圖；
圖10B示出了處於壓縮狀態之圖10A的氣體注射器單元；
圖11示出了根據本申請案的一個或多個實施例的氣體分配組件的示意圖；
圖12示出了根據本申請案的一個或多個實施例的具有部分開口的中央轂的橫截面等距視圖；及
圖13示出了根據本申請案的一個或多個實施例的圓形氣體注射器單元的示意圖。
國內寄存資訊(請依寄存機構、日期、號碼順序註記) 無 國外寄存資訊(請依寄存國家、機構、日期、號碼順序註記) 無
410:注射器主體
412:前表面
414:後表面
420:第一開口
422:夾持部分
423:中間部分
424:螺母部分
427:表面
430:石英板
432:前表面
434:後表面
439:邊緣
440:第一螺母
441:頂部分
442:底部分
443:壁架
444:頂表面
445:底表面
446:開口
447:連接部分
450:第一彈簧
451:頂部
452:底部
460:第一夾具
462:開口
463:凹部
465:延伸臂
466:支撐表面
470:第一螺釘
471:頭部
472:細長軸
473:螺紋部分

Claims (20)

  1. 一種氣體注射器單元，包括： 一注射器主體，該注射器主體具有限定一厚度的一前表面和一後表面，該前表面具有延伸到該注射器主體中的複數個孔以允許來自該注射器主體內的一氣體流通過該前表面離開； 一第一開口，該第一開口從該注射器主體的該後表面延伸到該注射器主體的該前表面，該第一開口具有與該後表面相鄰的一螺母部分和與該前表面相鄰的一夾持部分； 一石英板，該石英板具有一前表面和一後表面，該後表面經定位成鄰近該注射器主體的該前表面，該石英板具有複數個孔以允許一氣體流通過該石英板； 一第一螺母，該第一螺母位於該第一開口的該螺母部分內； 一第一夾具，該第一夾具位於該第一開口的該夾持部分內，該第一夾具具有一夾具主體及一支撐表面，該夾具主體具有穿過該夾具主體的一開口及該支撐表面自該夾具主體延伸一距離，該支撐表面與該石英板的一邊緣接觸； 一第一彈簧，該第一彈簧位於該第一螺母和該注射器主體之間的該第一開口的該螺母部分內；及 一第一螺釘，該第一螺釘延伸穿過該第一夾具中的該開口、該注射器主體的一部分、該第一彈簧並進入該第一螺母的一連接部分中。
  2. 如請求項1所述的氣體注射器單元，進一步包括： 一第二開口，該第二開口從該注射器主體的該後表面延伸到該注射器主體的該前表面，該第二開口具有鄰近該後表面的一螺母部分； 一第二螺母，該第二螺母位於該第二開口的該螺母部分內；及 一第二彈簧，該第二彈簧位於該第二螺母和該注射器主體之間的該第二開口的該螺母部分內。
  3. 如請求項2所述的氣體注射器單元，進一步包括： 一第二夾具，該第二夾具位於該第二開口的一夾持部分內，該夾持部分鄰近於該注射器本體的該前表面，該第二夾具具有一夾具本體，該夾具本體具有從該夾具本體穿過的一開口和從該夾具本體延伸一距離的一支撐表面，該支撐表面接觸該石英板的一邊緣；及 一第二螺釘，其延伸穿過該第二夾具中的該開口、該注射器主體的一部分、該第二彈簧並進入該第二螺母的一連接部分。
  4. 如請求項3所述的氣體注射器單元，其中該注射器主體具有帶有一內周邊緣和一外周邊緣的一楔形，該第一開口位於該外周邊緣附近及該第二開口位於該內周邊緣附近。
  5. 如請求項4所述的氣體注射器單元，進一步包括經連接到該注射器主體的該內周邊緣的一轂。
  6. 如請求項5所述的氣體注射器單元，其中該第二開口延伸穿過該注射器主體和該轂，使得該第二開口的該夾持部分位於該轂中，且該第二螺釘進一步延伸穿過該轂。
  7. 如請求項1所述的氣體注射器單元，其中該第一螺母包括一防旋轉螺母。
  8. 如請求項7所述的氣體注射器單元，其中該第一開口的該螺母部分和該第一螺母具有互補形狀，該等互補形狀限制該第一螺母在該第一開口內的旋轉移動。
  9. 如請求項1所述的氣體注射器單元，其中該第一彈簧包括一波形彈簧。
  10. 如請求項1所述的氣體注射器單元，其中該注射器主體具有一圓形形狀，且該第一開口鄰近該注射器主體的一外邊緣。
  11. 如請求項1所述的氣體注射器單元，其中該石英板具有由該前表面和該後表面限定的一厚度，該厚度的範圍在約5mm至約25mm中。
  12. 如請求項1所述的氣體注射器單元，其中該第一夾具的該支撐表面提供與該石英板的一干涉配合(interference fit)。
  13. 一種氣體分配組件，包括： 一中心轂，該中心轂具有至少一個從該中心轂穿過的開口，該至少一個從該中心轂穿過的開口具有與該轂的一底表面相鄰的一夾持部分；及 複數個注射器單元，該複數個注射器單元圍繞該中心轂佈置，其中至少一個注射器單元包括： 一注射器主體，該注射器主體具有限定一厚度的一前表面和一後表面，該前表面具有延伸到該注射器主體中的複數個孔，以允許來自該注射器主體內的一氣體流通過該前表面離開； 一第一開口，其從該注射器主體的該後表面延伸到該注射器主體的該前表面，該第一開口具有與該後表面相鄰的一螺母部分和與該前表面相鄰的一夾持部分； 一石英板，該石英板具有一前表面和一後表面，該後表面鄰近該注射器主體的該前表面，該石英板具有複數個孔以允許氣體流通過該石英板； 一第一螺母，該第一螺母位於該第一開口的該螺母部分內； 一第一夾具，該第一夾具位於該第一開口的該夾持部分內，該第一夾具具有一夾具主體及一支撐表面，該夾具主體具有穿過該夾具主體的一開口及該支撐表面從該夾具主體延伸一距離，該支撐表面與該石英板的一邊緣接觸； 一第一彈簧，該第一彈簧位於該第一螺母和該注射器主體之間的該第一開口的該螺母部分內；及 一第一螺釘，該第一螺釘延伸穿過該第一夾具中的該開口、該注射器主體的一部分、該第一彈簧並進入該第一螺母的一連接部分； 一第二開口，該第二開口從該注射器主體的該後表面延伸至與該中心轂中的該開口對準的該注射器主體的該前表面，該第二開口具有與該注射器主體的該後表面相鄰的一螺母部分； 一第二螺母，該第二螺母位於該第二開口的該螺母部分內； 一第二彈簧，該第二彈簧位於該第二螺母和該注射器主體之間的該第二開口的該螺母部分內； 一第二夾具，該第二夾具位於該中央轂的該夾持部分內，該第二夾具具有一夾具主體及一支撐表面，該夾具主體具有從該夾具主體穿過的一開口及該支撐表面從該夾具主體延伸一距離，該支撐表面與該石英板的一邊緣接觸；及 一第二螺釘，該第二螺釘延伸穿過該第二夾具的該開口、該中心轂、該注射器主體的一部分，該第二彈簧並進入該第二螺母的一連接部分中。
  14. 如請求項13所述的氣體分配組件，其中該注射器主體具有帶有一內周邊緣和一外周邊緣的一楔形，該第一開口位於該外周邊緣附近且該第二開口位於該內周邊緣附近。
  15. 如請求項13所述的氣體分配組件，其中該第一螺母包括一防旋轉螺母。
  16. 如請求項15所述的氣體分配組件，其中該第一開口的該螺母部分和該第一螺母具有互補形狀，該等互補形狀限制該第一螺母在該第一開口內的旋轉移動。
  17. 如請求項16所述的氣體分配組件，其中該第二開口的該螺母部分和該第二螺母具有互補形狀，該等互補形狀限制該第二螺母在該第二開口內的旋轉移動。
  18. 如請求項13所述的氣體分配組件，其中該第一彈簧或該第二彈簧中的一者或多者包括一波形彈簧。
  19. 如請求項13所述的氣體分配組件，其中每個注射器單元包括該石英板、第一開口、第二開口、第一螺母、第二螺母、第一夾具、第二夾具、第一彈簧、第二彈簧、第一螺釘及第二螺釘。
  20. 一種處理腔室，其包括： 一氣體分配組件，該氣體分配組件包括： 一中心轂，其具有至少一個從該中心轂穿過的開口，該至少一個從該中心轂穿過的開口具有與該轂的一底表面相鄰的一夾持部分；及 複數個注射器單元，該複數個注射器單元圍繞該中心轂佈置，其中至少一個注射器單元包括： 一注射器主體，該注射器主體具有限定一厚度的一前表面和一後表面，該前表面具有延伸到該注射器主體中的複數個孔以允許來自該注射器主體內的一氣體流通過該前表面離開； 一第一開口，其從該注射器主體的該後表面延伸到該注射器主體的該前表面，該第一開口具有與該後表面相鄰的一螺母部分和與該前表面相鄰的一夾持部分； 一石英板，該石英板具有一前表面和一後表面，該後表面經定位成鄰近該注射器主體的該前表面，該石英板具有複數個孔以允許一氣體流通過該石英板； 一第一螺母，該第一螺母位於該第一開口的該螺母部分內； 一第一夾具，該第一夾具位於該第一開口的該夾持部分內，該第一夾具具有一夾具主體及一支撐表面，該夾具主體具有穿過該夾具主體的一開口，該支撐表面自該夾具主體延伸一距離，該支撐表面與該石英板的一邊緣接觸； 一第一彈簧，該第一彈簧位於該第一螺母和該注射器主體之間的該第一開口的該螺母部分內；及 一第一螺釘，該第一螺釘延伸穿過該第一夾具中的該開口、該注射器主體的一部分、該第一彈簧及進入該第一螺母的一連接部分； 一第二開口，該第二開口從該注射器主體的該後表面延伸至與該中心轂中的該開口對準的該注射器主體的該前表面，該第二開口具有與該注射器主體的該後表面相鄰的一螺母部分； 一第二螺母，該第二螺母位於該第二開口的該螺母部分內； 一第二彈簧，該第二彈簧位於該第二螺母和該注射器主體之間的該第二開口的該螺母部分內； 一第二夾具，該第二夾具位於該中央轂的該夾持部分內，該第二夾具具有一夾具主體及一支撐表面，該夾具主體具有從該夾具主體穿過的一開口及該支撐表面自該夾具主體延伸一距離，該支撐表面與該石英板的一邊緣接觸； 一第二螺釘，該第二螺釘延伸穿過該第二夾具中的該開口、該中心轂、該注射器主體的一部分、該第二彈簧，並進入該第二螺母的一連接部分中；及 一基座組件，該基座組件包括一基座，該基座的一頂表面具有形成在其中的複數個凹部以支撐複數個晶圓且使該複數個晶圓繞該基座組件的一中心軸旋轉，使得該等晶圓與在該注射器單元上該石英板的該前表面相距一距離。
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