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TWI798213B - 偏光板及圖像顯示裝置 - Google Patents

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TWI798213B
TWI798213B TW107112250A TW107112250A TWI798213B TW I798213 B TWI798213 B TW I798213B TW 107112250 A TW107112250 A TW 107112250A TW 107112250 A TW107112250 A TW 107112250A TW I798213 B TWI798213 B TW I798213B
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acrylic resin
stretching
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TW107112250A
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上野友德
平岡慎哉
茂手木佑輔
岸敦史
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日商日東電工股份有限公司
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Abstract

本發明提供一種提高了耐彎曲性及操作性之偏光板。本發明之偏光板具有偏光元件、配置於偏光元件之一側之第1保護膜、及配置於偏光元件之另一側之第2保護膜，且偏光元件之厚度為12 μm以下，第1及第2保護膜之至少一者含有分散有芯殼型粒子之丙烯酸系樹脂。

Description

偏光板及圖像顯示裝置
本發明係關於一種偏光板及圖像顯示裝置。
於圖像顯示裝置(例如，液晶顯示裝置、有機EL顯示裝置)中，因其圖像形成方式而於較多情形時，於顯示單元之至少一側配置有偏光板。通常之偏光板具備偏光元件及配置於偏光元件之單側或兩側之保護膜。近年來，以提高耐久性為目的，提出有使用包含含有交聯彈性體之(甲基)丙烯酸系樹脂膜之保護膜(專利文獻1)。 先前技術文獻 專利文獻 專利文獻1：日本專利特開2016-218478號公報
[發明所欲解決之問題] 如上所述之先前之偏光板於應對近年之圖像顯示裝置之薄型化之期望而將偏光元件及保護膜進行薄型化之情形時，存在產生偏光板之耐彎曲性及操作性降低之問題之可能性。 本發明係為了解決上述先前之課題而完成者，其主要目的在於提供一種提高了耐彎曲性及操作性之偏光板、及具備此種偏光板之圖像顯示裝置。 [解決問題之技術手段] 本發明之偏光板具有偏光元件、配置於上述偏光元件之一側之第1保護膜、及配置於上述偏光元件之另一側之第2保護膜，上述偏光元件之厚度為12 μm以下，上述第1及第2保護膜之至少一者含有分散有芯殼型粒子之丙烯酸系樹脂。 於一實施形態中，上述第1及第2保護膜之至少一者係相對於上述丙烯酸系樹脂100重量份而含有上述芯殼型粒子3重量份～20重量份。 於一實施形態中，上述第1保護膜含有上述丙烯酸系樹脂、及上述芯殼型粒子，上述第1保護膜之厚度為30 μm以下。 於一實施形態中，上述丙烯酸系樹脂具有選自由戊二醯亞胺單元、內酯環單元、順丁烯二酸酐單元、順丁烯二醯亞胺單元及戊二酸酐單元所組成之群中之至少一種。 於一實施形態中，彎曲試驗中至上述偏光元件產生破裂為止之彎曲次數為10萬次以上，鉛筆硬度為H以上。 於一實施形態中，上述第1保護膜含有上述丙烯酸系樹脂、及上述芯殼型粒子，於以上述第1保護膜成為外側之方式進行彎曲之彎曲試驗中，至上述偏光元件產生破裂為止之彎曲次數為30萬次以上。 於一實施形態中，上述第2保護膜不含上述芯殼型粒子。 於一實施形態中，於上述第1保護膜或上述第2保護膜之與上述偏光元件為相反側之面配置有表面處理層，上述表面處理層係選自由硬塗層、防眩層及抗反射層所組成之群中之至少一種。 根據本發明之另一態樣，提供一種圖像顯示裝置。該圖像顯示裝置具備上述偏光板。 [發明之效果] 根據本發明，藉由第1及第2保護膜之至少任一者含有丙烯酸系樹脂、及分散至丙烯酸系樹脂中之芯殼型粒子，可提供一種提高了耐彎曲性及操作性之偏光板、及具備此種偏光板之圖像顯示裝置。
以下，對本發明之實施形態進行說明，但本發明並不限定於該等實施形態。 A.偏光板之整體構成 圖1係本發明之一實施形態之偏光板之剖視圖。偏光板100具有偏光元件10、配置於偏光元件10之一側之第1保護膜20、配置於偏光元件之另一側之第2保護膜30。偏光元件10之厚度為12 μm以下。第1保護膜20及第2保護膜30之至少任一者含有分散有芯殼型粒子之丙烯酸系樹脂。藉此，可提高偏光板之耐彎曲性及操作性。尤其是即使於將第1及第2保護膜進行薄型化之情形時，亦可提高偏光板之耐彎曲性及操作性。偏光板100可用作圖像顯示裝置之顯示單元之視認側及/或背面側之偏光板。 第1保護膜20及第2保護膜30之至少任一者較佳為相對於丙烯酸系樹脂100重量份而含有芯殼型粒子3重量份～20重量份。於一實施形態中，第1保護膜20含有上述丙烯酸系樹脂與上述芯殼型粒子，第1保護膜20之厚度為30 μm以下。丙烯酸系樹脂較佳為具有選自由戊二醯亞胺單元、內酯環單元、順丁烯二酸酐單元、順丁烯二醯亞胺單元及戊二酸酐單元所組成之群中之至少一種。偏光板100較佳為彎曲試驗中至偏光元件10產生破裂為止之彎曲次數為10萬次以上，鉛筆硬度為H以上。於一實施形態中，第1保護膜20含有丙烯酸系樹脂、及芯殼型粒子，於以第1保護膜20成為外側之方式進行彎曲之彎曲試驗中，至偏光元件10產生破裂為止之彎曲次數為30萬次以上。於一實施形態中，第2保護膜30不含芯殼型粒子。如上所述，藉由第1保護膜含有芯殼型粒子且第2保護膜不含芯殼側型粒子，可提高偏光板之硬度。第1保護膜20含有芯殼型粒子且第2保護膜30不含芯殼型粒子之偏光板較佳為可以第2保護膜側成為內側保護層之方式應用於顯示單元。於一實施形態中，於第1保護膜20或第2保護膜30之與偏光元件10為相反側之面配置有表面處理層(未圖示)，表面處理層係選自由硬塗層、防眩層及抗反射層所組成之群中之至少一種。代表性而言，可於第1保護膜20或第2保護膜30中用作外側保護層之保護膜配置上述表面處理層。 B.偏光元件 作為偏光元件，可採用任意合適之偏光元件。例如，形成偏光元件之樹脂膜可為單層之樹脂膜，亦可為兩層以上之積層體。 作為包含單層樹脂膜之偏光元件之具體例，可列舉：對聚乙烯醇(PVA)系膜、部分縮甲醛化PVA系膜、乙烯-乙酸乙烯酯共聚物系部分皂化膜等親水性高分子膜實施利用碘或二色性染料等二色性物質之染色處理及延伸處理而成者；PVA之脫水處理物或聚氯乙烯之脫氯化氫處理物等多烯系配向膜等。就光學特性優異之方面而言，較佳為使用以碘將PVA系膜染色並單軸延伸而獲得之偏光元件。 上述利用碘之染色例如係藉由將PVA系膜浸漬於碘水溶液中而進行。上述單軸延伸之延伸倍率較佳為3～7倍。延伸可於染色處理後進行，亦可一邊染色一邊進行。又，亦可於延伸後進行染色。視需要對PVA系膜實施膨潤處理、交聯處理、洗淨處理、乾燥處理等。例如，藉由在染色前將PVA系膜浸漬於水中進行水洗，不僅可洗淨PVA系膜表面之污垢或抗黏連劑，而且可使PVA系膜膨潤而防止染色不均等。 作為使用積層體而獲得之偏光元件之具體例，可列舉使用樹脂基材與積層於該樹脂基材之PVA系樹脂層(PVA系樹脂膜)之積層體、或樹脂基材與塗佈形成於該樹脂基材之PVA系樹脂層之積層體而獲得之偏光元件。使用樹脂基材與塗佈形成於該樹脂基材之PVA系樹脂層之積層體而獲得之偏光元件例如可藉由以下方法製作：將PVA系樹脂溶液塗佈於樹脂基材，加以乾燥而於樹脂基材上形成PVA系樹脂層，從而獲得樹脂基材與PVA系樹脂層之積層體；將該積層體進行延伸及染色而將PVA系樹脂層製成偏光元件。於本實施形態中，延伸代表性而言包括將積層體浸漬於硼酸水溶液中進行延伸。進而，延伸可視需要進而包括於硼酸水溶液中之延伸前將積層體於高溫(例如，95℃以上)下進行空中延伸。可將樹脂基材從所獲得之樹脂基材/偏光元件之積層體剝離，於該剝離面積層第1或第2保護膜。此種偏光元件之製造方法之詳細內容例如記載於日本專利特開2012-73580號公報。該公報之全部記載係作為參考而引用至本說明書中。 偏光元件之厚度為12 μm以下，較佳為1 μm～10 μm，進而較佳為3 μm～8 μm。 C.第1保護膜 C-1.第1保護膜之特性 於一實施形態中，第1保護膜含有分散有芯殼型粒子之丙烯酸系樹脂。於另一實施形態中，第1保護膜含有：二乙醯基纖維素、三乙醯基纖維素等纖維素系樹脂；環烯烴系樹脂、聚丙烯等烯烴系樹脂；聚對苯二甲酸乙二酯系樹脂等酯系樹脂；聚醯胺系樹脂；聚碳酸酯系樹脂；或該等之共聚物樹脂。第1保護膜之厚度較佳為5 μm～150 μm，更佳為10 μm～100 μm，進而較佳為20 μm～50 μm。 第1保護膜較佳為實質上具有光學各向同性。於本說明書中，所謂「實質上具有光學各向同性」係指面內相位差Re(550)為0 nm～10 nm且厚度方向之相位差Rth(550)為-10 nm～+10 nm。面內相位差Re(550)更佳為0 nm～5 nm，進而較佳為0 nm～3 nm，尤佳為0 nm～2 nm。厚度方向之相位差Rth(550)更佳為-5 nm～+5 nm，進而較佳為-3 nm～+3 nm，尤佳為-2 nm～+2 nm。若第1保護膜之Re(550)及Rth(550)為此種範圍，則於將偏光板應用於圖像顯示裝置之情形時可防止對顯示特性之不良影響。再者，Re(550)係於23℃下利用波長550 nm之光所測得之膜之面內相位差。Re(550)可藉由式：Re(550)＝(nx－ny)×d求出。Rth(550)係於23℃下利用波長550 nm之光所測得之膜之厚度方向之相位差。Rth(550)可藉由式：Rth(550)＝(nx－nz)×d求出。此處，nx係面內之折射率成為最大之方向(即，遲相軸方向)之折射率，ny係面內與遲相軸正交之方向(即，進相軸方向)之折射率，nz係厚度方向之折射率，d係膜之厚度(nm)。 第1保護膜之厚度為40 μm時之380 nm下之光線透過率越高越好。具體而言，光線透過率較佳為85%以上，更佳為88%以上，進而較佳為90%以上。若光線透過率為此種範圍，則可確保所需之透明性。光線透過率例如可藉由依照ASTM-D-1003之方法而測定。 第1保護膜之霧度越低越好。具體而言，霧度較佳為5%以下，更佳為3%以下，進而較佳為1.5%以下，尤佳為1%以下。若霧度為5%以下，則可對膜賦予良好之透明感。進而，即使於用於圖像顯示裝置之視認側偏光板之情形時，亦可良好地視認顯示內容。 第1保護膜之厚度為40 μm時之YI(Yellowness Index，黃度指數)較佳為1.27以下，更佳為1.25以下，進而較佳為1.23以下，尤佳為1.20以下。若YI超過1.3，則存在光學透明性變得不充分之情形。再者，YI例如可根據由使用高速積分球式分光透過率測定機(商品名DOT-3C：村上色彩技術研究所製造)之測定所獲得之顏色之三刺激值(X、Y、Z)，藉由下式而求出。 YI＝[(1.28X－1.06Z)/Y]×100 第1保護膜之厚度為40 μm時之b值(依照漢特(Hunter)表色系統之色相之尺度)較佳為未達1.5，更佳為1.0以下。於b值為1.5以上之情形時，存在出現並非所需之色調之情形。再者，b值例如可藉由將第1保護膜樣品裁斷為3 cm見方，使用高速積分球式分光透過率測定機(商品名DOT-3C：村上色彩技術研究所製造)測定色相，並依照漢特表色系統評價該色相而獲得。 第1保護膜之透濕度較佳為300 g/m2 ・24 hr以下，更佳為250 g/m2 ・24 hr以下，進而較佳為200 g/m2 ・24 hr以下，尤佳為150 g/m2 ・24 hr以下，最佳為100 g/m2 ・24 hr以下。若第1保護膜之透濕度為此種範圍，則可獲得耐久性及耐濕性優異之偏光板。 第1保護膜之拉伸強度較佳為10 MPa以上且未達100 MPa，更佳為30 MPa以上且未達100 MPa。於未達10 MPa之情形時，存在無法表現出充分之機械強度之情形。若超過100 MPa，則有加工性變得不充分之虞。拉伸強度例如可依照ASTM-D-882-61T而測定。 第1保護膜之拉伸伸長率較佳為1.0%以上，更佳為3.0%以上，進而較佳為5.0%以上。拉伸伸長率之上限例如為100%。於拉伸伸長率未達1%之情形時，存在韌性變得不充分之情形。拉伸伸長率例如可依照ASTM-D-882-61T而測定。 第1保護膜之拉伸彈性模數較佳為0.5 GPa以上，更佳為1 GPa以上，進而較佳為2 GPa以上。拉伸彈性模數之上限例如為20 GPa。於拉伸彈性模數未達0.5 GPa之情形時，存在無法表現出充分之機械強度之情形。拉伸彈性模數例如可依照ASTM-D-882-61T而測定。 第1保護膜可視目的含有任意合適之添加劑。作為添加劑之具體例，可列舉：紫外線吸收劑；受阻酚系、磷系、硫系等之抗氧化劑；耐光穩定劑、耐候穩定劑、熱穩定劑等穩定劑；玻璃纖維、碳纖維等補強材；近紅外線吸收劑；磷酸三(二溴丙基)酯、磷酸三烯丙酯、氧化銻等阻燃劑；陰離子系、陽離子系、非離子系之界面活性劑等防靜電劑；無機顏料、有機顏料、染料等著色劑；有機填料或無機填料；樹脂改質劑；有機填充劑或無機填充劑；塑化劑；潤滑劑等。添加劑可於丙烯酸系樹脂之聚合時添加，亦可於膜形成時添加。添加劑之種類、數量、組合、添加量等可視目的適當地設定。 C-2.丙烯酸系樹脂 C-2-1.丙烯酸系樹脂之構成 作為丙烯酸系樹脂，可採用任意合適之丙烯酸系樹脂。丙烯酸系樹脂具代表性的係作為單體單元，含有以(甲基)丙烯酸烷基酯作為主成分。於本說明書中，所謂「(甲基)丙烯酸」意指丙烯酸及/或甲基丙烯酸。作為構成丙烯酸系樹脂之主骨架之(甲基)丙烯酸烷基酯，可例示直鏈狀或支鏈狀之烷基之碳數為1～18者。該等可單獨使用或加以組合而使用。進而，可藉由共聚合對丙烯酸系樹脂導入任意合適之共聚合單體。此種共聚合單體之種類、數量、共聚合比等可視目的適當地設定。關於丙烯酸系樹脂之主骨架之構成成分(單體單元)，以下參照通式(2)進行說明。 丙烯酸系樹脂較佳為具有選自戊二醯亞胺單元、內酯環單元、順丁烯二酸酐單元、順丁烯二醯亞胺單元及戊二酸酐單元中之至少一種。具有內酯環單元之丙烯酸系樹脂例如記載於日本專利特開2008-181078號公報中，該公報之記載係作為參考而引用至本說明書中。戊二醯亞胺單元較佳為以下述通式(1)表示： [化1]
Figure 02_image001
於通式(1)中，R1 及R2 分別獨立地表示氫原子或碳數1～8之烷基，R3 表示氫原子、碳數1～18之烷基、碳數3～12之環烷基、或碳數6～10之芳基。於通式(1)中，較佳為R1 及R2 分別獨立為氫原子或甲基，且R3 為氫原子、甲基、丁基或環己基。更佳為R1 為甲基，R2 為氫原子，且R3 為甲基。 上述(甲基)丙烯酸烷基酯代表性而言，以下述通式(2)表示： [化2]
Figure 02_image003
於通式(2)中，R4 表示氫原子或甲基，R5 表示氫原子、或者可經取代之碳數1～6之脂肪族或脂環式烴基。作為取代基，例如可列舉鹵素、羥基。作為(甲基)丙烯酸烷基酯之具體例，可列舉：(甲基)丙烯酸甲酯、(甲基)丙烯酸乙酯、(甲基)丙烯酸正丙酯、(甲基)丙烯酸正丁酯、(甲基)丙烯酸第三丁酯、(甲基)丙烯酸正己酯、(甲基)丙烯酸環己酯、(甲基)丙烯酸氯甲酯、(甲基)丙烯酸2-氯乙酯、(甲基)丙烯酸2-羥基乙酯、(甲基)丙烯酸3-羥基丙酯、(甲基)丙烯酸2,3,4,5,6-五羥基己酯及(甲基)丙烯酸2,3,4,5-四羥基戊酯。於通式(2)中，R5 較佳為氫原子或甲基。因此，尤佳之(甲基)丙烯酸烷基酯為丙烯酸甲酯或甲基丙烯酸甲酯。 上述丙烯酸系樹脂可僅含有單一之戊二醯亞胺單元，亦可含有上述通式(1)中之R1 、R2 及R3 不同之複數種戊二醯亞胺單元。 上述丙烯酸系樹脂中之戊二醯亞胺單元之含有比率較佳為2莫耳%～50莫耳%，更佳為2莫耳%～45莫耳%，進而較佳為2莫耳%～40莫耳%，尤佳為2莫耳%～35莫耳%，最佳為3莫耳%～30莫耳%。若含有比率少於2莫耳%，則有不會充分地發揮源自戊二醯亞胺單元而表現之效果(例如，較高之光學特性、較高之機械強度、與偏光元件之優異之接著性、薄型化)之虞。若含有比率超過50莫耳%，則有例如耐熱性、透明性變得不充分之虞。 上述丙烯酸系樹脂可僅含有單一之(甲基)丙烯酸烷基酯單元，亦可含有上述通式(2)中之R4 及R5 不同之複數種(甲基)丙烯酸烷基酯單元。 上述丙烯酸系樹脂中之(甲基)丙烯酸烷基酯單元之含有比率較佳為50莫耳%～98莫耳%，更佳為55莫耳%～98莫耳%，進而較佳為60莫耳%～98莫耳%，尤佳為65莫耳%～98莫耳%，最佳為70莫耳%～97莫耳%。若含有比率少於50莫耳%，則有不會充分地發揮源自(甲基)丙烯酸烷基酯單元而表現之效果(例如，較高之耐熱性、較高之透明性)之虞。若上述含有比率多於98莫耳%，則有樹脂變脆而容易開裂，無法充分地發揮出較高之機械強度，生產性差之虞。 上述丙烯酸系樹脂亦可含有戊二醯亞胺單元及(甲基)丙烯酸烷基酯單元以外之單元。 於一實施形態中，丙烯酸系樹脂可含有未參與下文所述之分子內醯亞胺化反應之不飽和羧酸單元例如0～10重量%。不飽和羧酸單元之含有比率較佳為0～5重量%，更佳為0～1重量%。若含量為此種範圍，則可維持透明性、滯留穩定性及耐濕性。 於一實施形態中，丙烯酸系樹脂可含有上述以外之可進行共聚合之乙烯系單體單元(其他乙烯系單體單元)。作為該其他乙烯系單體，例如可列舉：丙烯腈、甲基丙烯腈、乙基丙烯腈、烯丙基縮水甘油醚、順丁烯二酸酐、伊康酸酐、N-甲基順丁烯二醯亞胺、N-乙基順丁烯二醯亞胺、N-環己基順丁烯二醯亞胺、丙烯酸胺基乙酯、丙烯酸丙基胺基乙酯、甲基丙烯酸二甲胺基乙酯、甲基丙烯酸乙基胺基丙酯、甲基丙烯酸環己基胺基乙酯、N-乙烯基二乙基胺、N-乙醯基乙烯基胺、烯丙基胺、甲基烯丙基胺、N-甲基烯丙基胺、2-異丙烯基㗁唑啉、2-乙烯基㗁唑啉、2-丙烯醯基㗁唑啉、N-苯基順丁烯二醯亞胺、甲基丙烯酸苯基胺基乙酯、苯乙烯、α-甲基苯乙烯、對縮水甘油基苯乙烯、對胺基苯乙烯、2-苯乙烯基㗁唑啉等。該等可單獨使用，亦可併用。較佳為苯乙烯、α-甲基苯乙烯等苯乙烯系單體。其他乙烯系單體單元之含有比率較佳為0～1重量%，更佳為0～0.1重量%。若為此種範圍，則可抑制並非所需之相位差之表現及透明性之降低。 上述丙烯酸系樹脂中之醯亞胺化率較佳為2.5%～20.0%。若醯亞胺化率為此種範圍，則可獲得耐熱性、透明性及成形加工性優異之樹脂，可防止膜成形時之燒焦之產生或機械強度之降低。於上述丙烯酸系樹脂中，醯亞胺化率係以戊二醯亞胺單元與(甲基)丙烯酸烷基酯單元之比表示。該比例如可根據丙烯酸系樹脂之NMR(nuclear magnetic resonance，核磁共振)圖譜、IR(infrared，紅外線)圖譜等而獲得。於本實施形態中，醯亞胺化率可使用1 HNMR BRUKER AvanceIII(400 MHz)，藉由樹脂之1 H-NMR測定而求出。更具體而言，將3.5至3.8 ppm附近之源自(甲基)丙烯酸烷基酯之O-CH3 質子之波峰面積設為A，將3.0至3.3 ppm附近之源自戊二醯亞胺之N-CH3 質子之波峰面積設為B，藉由下式而求出。 醯亞胺化率Im(%)＝{B/(A＋B)}×100 上述丙烯酸系樹脂之酸值較佳為0.10 mmol/g～0.50 mmol/g。若酸值為此種範圍，則可獲得耐熱性、機械物性及成形加工性之平衡性優異之樹脂。若酸值過小，則存在產生因使用用以調整為所需酸值之改性劑引起之成本提高、因改性劑之殘存引起之凝膠狀物之產生等問題之情形。若酸值過大，則有變得容易引起膜成形時(例如，熔融擠出時)之發泡而導致成形品之生產性降低之傾向。關於上述丙烯酸系樹脂，酸值係該丙烯酸系樹脂中之羧酸單元及羧酸酐單元之含量。於本實施形態中，酸值例如可藉由WO2005/054311或日本專利特開2005-23272號公報所記載之滴定法而算出。 上述丙烯酸系樹脂之重量平均分子量較佳為1000～2000000，更佳為5000～1000000，進而較佳為10000～500000，尤佳為50000～500000，最佳為60000～150000。重量平均分子量例如可使用凝膠滲透層析儀(GPC系統，Tosoh製造)，藉由聚苯乙烯換算而求出。再者，可使用四氫呋喃作為溶劑。 上述丙烯酸系樹脂之Tg(玻璃轉移溫度)較佳為110℃以上，更佳為115℃以上，進而較佳為120℃以上，尤佳為125℃以上，最佳為130℃以上。若Tg為110℃以上，則含有由此種樹脂獲得之第1保護膜之偏光板容易成為耐久性優異者。Tg之上限值較佳為300℃以下，更佳為290℃以下，進而較佳為285℃以下，尤佳為200℃以下，最佳為160℃以下。若Tg為此種範圍，則成形性會優異。 C-2-2.丙烯酸系樹脂之聚合 上述丙烯酸系樹脂例如可藉由以下之方法製造。該方法包括：(I)將與通式(2)所表示之(甲基)丙烯酸烷基酯單元相對應之(甲基)丙烯酸烷基酯單體與不飽和羧酸單體及/或其前驅物單體進行共聚合而獲得共聚物(a)；及(II)利用醯亞胺化劑處理該共聚物(a)，藉此進行該共聚物(a)中之(甲基)丙烯酸烷基酯單體單元與不飽和羧酸單體及/或其前驅物單體單元之分子內醯亞胺化反應，而將通式(1)所表示之戊二醯亞胺單元導入至共聚物中。 作為不飽和羧酸單體，例如可列舉：丙烯酸、甲基丙烯酸、丁烯酸、α-取代丙烯酸、α-取代甲基丙烯酸。作為其前驅物單體，例如可列舉：丙烯醯胺、甲基丙烯醯胺等。該等可單獨使用，亦可併用。較佳之不飽和羧酸單體為丙烯酸或甲基丙烯酸，較佳之前驅物單體為丙烯醯胺。 作為利用醯亞胺化劑對共聚物(a)進行處理之方法，可使用任意合適之方法。作為具體例，可列舉使用擠出機之方法、使用批次式反應槽(壓力容器)之方法。使用擠出機之方法包括使用擠出機將共聚物(a)加熱熔融，並利用醯亞胺化劑對其進行處理。於該情形時，作為擠出機，可使用任意合適之擠出機。作為具體例，可列舉：單軸擠出機、雙軸擠出機、多軸擠出機。使用批次式反應槽(壓力容器)之方法中可使用任意合適之批次式反應槽(壓力容器)。 作為醯亞胺化劑，只要可生成上述通式(1)所表示之戊二醯亞胺單元，則可使用任意合適之化合物。作為醯亞胺化劑之具體例，可列舉：甲胺、乙胺、正丙胺、異丙胺、正丁胺、異丁胺、第三丁胺、正己胺等含有脂肪族烴基之胺；苯胺、苄胺、甲苯胺、三氯苯胺等含有芳香族烴基之胺；環己胺等含有脂環式烴基之胺。進而，例如亦可使用藉由加熱而產生此種胺之脲系化合物。作為脲化合物，例如可列舉：脲、1,3-二甲基脲、1,3-二乙基脲、1,3-二丙基脲。醯亞胺化劑較佳為甲胺、氨、環己胺，更佳為甲胺。 於醯亞胺化中，除了上述醯亞胺化劑以外，亦可視需要添加閉環促進劑。 醯亞胺化中之醯亞胺化劑之使用量相對於共聚物(a)100重量份，較佳為0.5重量份～10重量份，更佳為0.5重量份～6重量份。若醯亞胺化劑之使用量少於0.5重量份，則未達成所需之醯亞胺化率之情形較多。其結果為，存在所獲得之樹脂之耐熱性變得極不充分，而誘發成形後之燒焦等外觀缺陷之情形。若醯亞胺化劑之使用量超過10重量份，則存在樹脂中殘存醯亞胺化劑，而由該醯亞胺化劑誘發成形後之燒焦等外觀缺陷或發泡之情形。 本實施形態之製造方法除了上述醯亞胺化以外視需要亦可包括利用酯化劑所進行之處理。 作為酯化劑，例如可列舉：碳酸二甲酯、2,2-二甲氧基丙烷、二甲基亞碸、原甲酸三乙酯、原乙酸三甲酯、原甲酸三甲酯、碳酸二苯酯、硫酸二甲酯、甲苯磺酸甲酯、三氟甲磺酸甲酯、乙酸甲酯、甲醇、乙醇、異氰酸甲酯、異氰酸對氯苯酯、二甲基碳二醯亞胺、二甲基第三丁基甲矽烷基氯、乙酸異丙烯酯、二甲基脲、氫氧化四甲基銨、二甲基二乙氧基甲矽烷、四正丁氧基甲矽烷、亞磷酸二甲酯(三甲基甲矽烷基)酯、亞磷酸三甲酯、磷酸三甲酯、磷酸三甲苯酯、重氮甲烷、環氧乙烷、環氧丙烷、環氧環己烷、2-乙基己基縮水甘油醚、苯基縮水甘油醚、苄基縮水甘油醚。該等中，就成本及反應性等觀點而言，較佳為碳酸二甲酯。 酯化劑之添加量可以丙烯酸系樹脂之酸值成為所需之值之方式設定。 C-2-3.其他樹脂之併用 於本發明之實施形態中，可將上述丙烯酸系樹脂與其他樹脂併用。即，可將構成丙烯酸系樹脂之單體成分與構成其他樹脂之單體成分進行共聚合，並將該共聚物供於下文D項所說明之膜形成；亦可將丙烯酸系樹脂與其他樹脂之摻合物供於膜形成。作為其他樹脂，例如可列舉：苯乙烯系樹脂、聚乙烯、聚丙烯、聚醯胺、聚苯硫醚、聚醚醚酮、聚酯、聚碸、聚苯醚、聚縮醛、聚醯亞胺、聚醚醯亞胺等其他熱塑性樹脂；酚系樹脂、三聚氰胺系樹脂、聚酯系樹脂、聚矽氧系樹脂、環氧系樹脂等熱硬化性樹脂。所併用之樹脂之種類及調配量可視目的及對所獲得之膜所期待之特性等而適當地設定。例如，苯乙烯系樹脂(較佳為丙烯腈-苯乙烯共聚物)可作為相位差控制劑而併用。 於將丙烯酸系樹脂與其他樹脂併用之情形時，丙烯酸系樹脂與其他樹脂之摻合物中之丙烯酸系樹脂之含量較佳為50重量%～100重量%，更佳為60重量%～100重量%，進而較佳為70重量%～100重量%，尤佳為80重量%～100重量%。於含量未達50重量%之情形時，有無法充分地反映出丙烯酸系樹脂本來具有之較高之耐熱性、較高之透明性之虞。 C-3.芯殼型粒子 於上述第1保護膜中，芯殼型粒子係相對於丙烯酸系樹脂100重量份，而調配較佳為3重量份～25重量份，更佳為5重量份～20重量份。藉此，於將第1保護膜用作偏光元件之保護層之情形時可提高偏光板之耐彎曲性及操作性。 芯殼型粒子代表性而言具有包含橡膠狀聚合物之芯、及包含玻璃狀聚合物且被覆該芯之被覆層。芯殼型粒子具有一層以上包含玻璃狀聚合物之層作為最內層或中間層。 構成芯之橡膠狀聚合物之Tg較佳為20℃以下，更佳為-60℃～20℃，進而較佳為-60℃～10℃。若構成芯之橡膠狀聚合物之Tg超過20℃，則有丙烯酸系樹脂之機械強度之提高不充分之虞。構成被覆層之玻璃狀聚合物(硬質聚合物)之Tg較佳為50℃以上，更佳為50℃～140℃，進而較佳為60℃～130℃。若構成被覆層之玻璃狀聚合物之Tg低於50℃，則有丙烯酸系樹脂之耐熱性降低之虞。 芯殼型粒子中之芯之含有比率較佳為30重量%～95重量%，更佳為50重量%～90重量%。芯中之玻璃狀聚合物層之比率相對於芯之總量100重量%，為0～60重量%，較佳為0～45重量%，更佳為10重量%～40重量%。芯殼型粒子中之被覆層之含有比率較佳為5重量%～70重量%，更佳為10重量%～50重量%。 於一實施形態中，分散至丙烯酸系樹脂中之芯殼型粒子可具有扁平形狀。芯殼型粒子可藉由下文C-4項所說明之延伸而扁平化。經扁平化之芯殼型粒子之長度/厚度之比為7.0以下。長度/厚度之比較佳為6.5以下，更佳為6.3以下。另一方面，長度/厚度之比較佳為4.0以上，更佳為4.5以上，進而較佳為5.0以上。於本說明書中，所謂「長度/厚度之比」意指芯殼型粒子之俯視形狀之代表長度與厚度之比。此處，所謂「代表長度」，於俯視形狀為圓形之情形時指直徑，於橢圓形之情形時指長徑，於矩形或多邊形之情形時指對角線之長度。該比例如可按照以下之順序求出。利用穿透式電子顯微鏡(例如，加速電壓80 kV、RuO4 染色超薄切片法)對所獲得之膜剖面進行拍攝，自存在於所獲得之照片中之芯殼型粒子中之較長者(獲得接近代表長度之剖面者)中依序選取30個，算出(長度之平均值)/(厚度之平均值)，藉此可獲得該比。 構成芯殼型粒子之芯之橡膠狀聚合物、構成被覆層之玻璃狀聚合物(硬質聚合物)、該等之聚合方法、及其他構成之詳細內容例如記載於日本專利特開2016-33552號公報。該公報之記載係作為參考而引用至本說明書中。 C-4.第1保護膜之形成 本發明之實施形態之第1保護膜代表性而言可藉由包括將含有上述丙烯酸系樹脂(於併用其他樹脂之情形時為與該其他樹脂之摻合物)及芯殼型粒子之組合物形成膜之方法而形成。進而，形成第1保護膜之方法可包括將上述膜加以延伸。 用於膜形成所使用之芯殼型粒子之平均粒徑較佳為1 nm～500 nm。芯之平均粒徑較佳為50 nm～300 nm，更佳為70 nm～300 nm。 作為形成膜之方法，可採用任意合適之方法。作為具體例，可列舉：流鑄塗敷法(例如，流延法)、擠出成形法、射出成形法、壓縮成形法、轉移成形法、吹塑成形法、粉末成形法、FRP(Fiber Reinforced Plastic，纖維強化塑膠)成形法、壓延成形法、熱壓法。較佳為擠出成形法或流鑄塗敷法。其原因在於：可提高所獲得之膜之平滑性，可獲得良好之光學均一性。尤佳為擠出成形法。其原因在於無需考慮因殘存溶劑引起之問題。其中，使用T模之擠出成形法就膜之生產性及以後之延伸處理之容易性之觀點而言較佳。成形條件可根據所使用之樹脂之組成或種類、對所獲得之膜所期待之特性等而適當設定。 作為延伸方法，可採用任意合適之延伸方法、延伸條件(例如，延伸溫度、延伸倍率、延伸速度、延伸方向)。作為延伸方法之具體例，可列舉自由端延伸、固定端延伸、自由端收縮、固定端收縮。該等可單獨使用，亦可同時使用，亦可依次使用。藉由在合適之延伸條件下對已適當調整芯殼型粒子相對於丙烯酸系樹脂之調配量之膜進行延伸，可提高將第1保護膜應用於偏光板之情形時之偏光板之耐彎曲性及操作性。 延伸方向可視目的而採用合適之方向。具體而言，可列舉：長度方向、寬度方向、厚度方向、斜方向。延伸方向可為一方向(單軸延伸)，亦可為兩方向(雙軸延伸)，亦可為三方向以上。於本發明之實施形態中，代表性而言，可採用長度方向之單軸延伸、長度方向及寬度方向之同時雙軸延伸、長度方向及寬度方向之依次雙軸延伸。較佳為雙軸延伸(同時或依次)。其原因在於：容易控制面內相位差，而容易實現光學各向同性。 延伸溫度可根據對第1保護膜所期待之光學特性、機械特性及厚度、所使用之樹脂之種類、所使用之膜之厚度、延伸方法(單軸延伸或雙軸延伸)、延伸倍率、延伸速度等而變化。具體而言，延伸溫度較佳為Tg～Tg＋50℃，進而較佳為Tg＋15℃～Tg＋50℃，最佳為Tg＋35℃～Tg＋50℃。藉由在此種溫度下進行延伸，可獲得具有合適之特性之第1保護膜。具體之延伸溫度例如為110℃～200℃，較佳為120℃～190℃。若延伸溫度為此種範圍，則藉由適當地調整延伸倍率及延伸速度，可提高將第1保護膜應用於偏光板之情形時之偏光板之耐彎曲性及操作性。 又，延伸倍率亦與延伸溫度同樣地可根據光學特性、機械特性及厚度、所使用之樹脂之種類、所使用之膜之厚度、延伸方法(單軸延伸或雙軸延伸)、延伸溫度、延伸速度等而變化。於採用雙軸延伸之情形時，寬度方向(TD)之延伸倍率與長度方向(MD)之延伸倍率之比(TD/MD)較佳為1.0～1.5，更佳為1.0～1.4，進而較佳為1.0～1.3。又，採用雙軸延伸之情形時之面倍率(長度方向之延伸倍率與寬度方向之延伸倍率之積)較佳為2.0～6.0，更佳為3.0～5.5，進而較佳為3.5～5.2。若延伸倍率為此種範圍，則藉由適當調整延伸溫度及延伸速度，可提高將第1保護膜應用於偏光板之情形時之偏光板之耐彎曲性及操作性。 又，延伸速度亦與延伸溫度同樣地可根據光學特性、機械特性及厚度、所使用之樹脂之種類、所使用之膜之厚度、延伸方法(單軸延伸或雙軸延伸)、延伸溫度、延伸倍率等而變化。延伸速度較佳為3%/秒～20%/秒，更佳為3%/秒～15%/秒，進而較佳為3%/秒～10%/秒。於採用雙軸延伸之情形時，一方向之延伸速度與另一方向之延伸速度可相同亦可不同。若延伸速度為此種範圍，則藉由適當調整延伸溫度及延伸倍率，可提高將第1保護膜應用於偏光板之情形時之偏光板之耐彎曲性及操作性。 以上述方式可形成第1保護膜。 D.第2保護膜 於一實施形態中，第2保護膜如上所述含有分散有芯殼型粒子之丙烯酸系樹脂。於另一實施形態中，第2保護膜不含芯殼型粒子。構成第2保護膜之膜如C項中對第1保護膜所說明般。 E.表面處理層 表面處理層係根據對偏光板所要求之功能而形成於第1保護膜或第2保護膜之單側的任意合適之功能層。作為表面處理層之具體例，可列舉硬塗層、防眩層、及抗反射層等。表面處理層之厚度較佳為2 μm～30 μm，更佳為5 μm～25 μm。 表面處理層代表性而言為形成於第1保護膜或第2保護膜(以下簡稱為「保護膜」)上之樹脂組合物之硬化層。形成表面處理層之步驟可包括：於保護膜上塗佈表面處理層形成用之樹脂組合物而形成塗佈層；及將上述塗佈層加以乾燥使之硬化而製成表面處理層。將上述塗佈層加以乾燥使之硬化可包括加熱上述塗佈層。 作為樹脂組合物之塗佈方法，可採用任意合適之方法。例如可列舉：棒式塗佈法、輥式塗佈法、凹版塗佈法、桿式塗佈法、孔縫式塗佈法、淋幕式塗佈法、噴注式塗佈法、缺角輪塗佈法。就使塗佈變得容易之觀點而言，樹脂組合物較佳為含有稀釋用之溶劑。 塗佈層之加熱溫度可設定為對應於樹脂組合物之組成的任意合適之溫度，較佳為設定為保護膜所含之丙烯酸系樹脂之玻璃轉移溫度以下。若於保護膜所含之丙烯酸系樹脂之玻璃轉移溫度以下之溫度下進行加熱，則可獲得抑制了因加熱引起之變形的保護膜。塗佈層之加熱溫度例如為60℃～140℃，較佳為70℃～100℃。藉由在此種加熱溫度下進行加熱，可獲得保護膜與表面處理層之密接性優異之保護膜。 C-1.硬塗層 硬塗層係對保護膜之表面賦予耐擦傷性及耐化學品性等之層。硬塗層於鉛筆硬度試驗中具有較佳為H以上、更佳為3H以上之硬度。鉛筆硬度試驗可依照JIS K 5400而測定。硬塗層形成用之樹脂組合物例如可含有能夠藉由熱、光(紫外線等)或電子束等而硬化之硬化性化合物。硬塗層及硬塗層形成用之樹脂組合物之詳細內容例如記載於日本專利特開2014-240955號公報。該公報之全部記載係作為參考而引用至本說明書中。 C-2.防眩層 防眩層係用以藉由使光散射並反射而防止外界光之映入之層。防眩層形成用之樹脂組合物例如可含有能夠藉由熱、光(紫外線等)或電子束等而硬化之硬化性化合物。防眩層代表性而言於表面具有微細凹凸形狀。作為形成此種微細凹凸形狀之方法，例如可列舉使上述硬化性化合物含有微粒子之方法。防眩層及防眩層形成用之樹脂組合物之詳細內容例如記載於日本專利特開2017-32711號公報。該公報之全部記載係作為參考而引用至本說明書中。 C-3.抗反射層 抗反射層係用以防止外界光之反射之層。抗反射層形成用之樹脂組合物例如可含有能夠藉由熱、光(紫外線等)或電子束等而硬化之硬化性化合物。抗反射層可為僅由1層構成之單層，亦可為包含2層以上之複數層。抗反射層及抗反射層形成用之樹脂組合物之詳細內容例如記載於日本專利特開2012-155050號公報。該公報之全部記載係作為參考而引用至本說明書中。 F.圖像顯示裝置 上述A至E項所記載之偏光板可應用於圖像顯示裝置。因此，本發明亦包含使用此種偏光板之圖像顯示裝置。作為圖像顯示裝置之代表例，可列舉：液晶顯示裝置、有機電致發光(EL)顯示裝置。圖像顯示裝置具備上述A至E項所記載之偏光板。 實施例 以下，藉由實施例對本發明進行具體說明，但本發明並不限定於該等實施例。各特性之測定方法如以下所述。再者，只要無特別明確記載，則實施例中之「份」及「%」為重量基準。 (1)厚度 使用數位式測微計(Anritsu公司製造，製品名「KC-351C」)進行測定。 (2)保護膜之彈性模數 保護膜之彈性模數測定係使用TI900 TriboIndenter(Hysitron公司製造)。將所獲得之偏光板裁斷為10 mm×10 mm之尺寸，並固定於附有TriboIndenter之支持體，藉由奈米壓痕法進行壓縮彈性模數之測定。此時，以使用壓頭壓入透明層之中心部附近之方式調整位置。將測定條件示於以下。 使用壓頭：Berkovich(三角錐型) 測定方法：單一壓入測定 測定溫度：25℃ 壓入深度：500 nm 壓入速度：100 nm/s (3)硬度 依照JIS K 5600-5-4(負荷：500 g)測定鉛筆硬度。 (4)耐彎曲性 於實施例及比較例之偏光板之第2保護膜側形成黏著劑層，將附黏著劑層之偏光板供於彎曲試驗，以至偏光板產生破裂為止之彎曲次數作為耐彎曲性之指標。 彎曲試驗係使用YUASA SYSTEM公司製造之面狀體無負荷U字伸縮試驗機(製品名：本體DLDM111LH及治具：面狀體無負荷U字伸縮試驗治具)按照以下之順序進行。如圖2所示，藉由雙面膠帶(未圖示)將100 mm(吸收軸方向)×50 mm(透射軸方向)之單片狀偏光板之兩端部x、y(50 mm)固定於上述試驗機之支持部21、22後，於下述條件下進行如偏光板之單面側(第1面)朝向內側成為U字狀之伸縮，將偏光板彎折。於U字伸縮中，以彎折R(彎曲半徑)成為6 mm之方式設定，將偏光板由平面狀態以對折狀態彎折。上述彎折係使兩端部x、y以如下方式接觸：藉由支持部之作動進行兩端部x、y之接觸，同時藉由另行設置之板部23、24將偏光板之其他部分自兩外側無負荷地夾住。又，上述利用伸縮進行之彎折對於偏光板之其他單面側(第2面)，亦同樣地進行朝向內側成為U字狀之伸縮。 伸縮速度：60 rpm 彎折R：6 mm ・內彎彎曲試驗 以第1保護膜成為內側(第2保護膜成為外側)之方式，以彎曲直徑6 mm反覆進行彎曲。 ・外彎彎曲試驗 以第1保護膜成為外側(第2保護膜成為內側)之方式，以彎曲直徑6 mm反覆進行彎曲。 (5)操作性 對於實施例及比較例之偏光板，於第2保護膜側形成黏著劑層，將附黏著劑層之偏光板供於扭轉試驗，以偏光板是否存在折斷或破裂作為操作性之指標。 扭轉試驗係使用YUASA SYSTEM公司製造之面狀體無負荷扭轉試驗機(製品名：本體TCDM111LH及治具：面狀體無負荷扭轉試驗治具)按照以下之順序進行。如圖3所示，藉由上述試驗機之扭轉用夾具18、19夾持固定120 mm(吸收軸方向)×80 mm(透射軸方向)之單片狀偏光板之兩短邊後，於以夾具19固定一短邊之狀態下，於下述條件下扭轉另一短邊側之夾具18。 扭轉速度：10 rpm 扭轉角度：45度 扭轉次數：100次 再者，評價基準如以下所述。 ○：無折斷/無破裂(評價基準) △：有折斷/無破裂(評價基準) ×：有破裂(評價基準) 1.保護膜 ＜製造例1＞ (保護膜A) 藉由利用單甲基胺將MS樹脂(MS-200；甲基丙烯酸甲酯/苯乙烯(莫耳比)＝80/20之共聚物，新日鐵化學股份有限公司製造)進行醯亞胺化(醯亞胺化率：5%)。所獲得之醯亞胺化MS樹脂具有通式(1)所表示之戊二醯亞胺單元(R1 及R3 為甲基，R2 為氫原子)、通式(2)所表示之(甲基)丙烯酸酯單元(R4 及R5 為甲基)、及苯乙烯單元。再者，上述醯亞胺化係使用口徑15 mm之嚙合型同方向旋轉式雙軸擠出機。將擠出機之各調溫區之設定溫度設為230℃，將螺桿轉速設為150 rpm，以2.0 kg/hr供給MS樹脂，單甲基胺之供給量係相對於MS樹脂100重量份而設為2重量份。從料斗投入MS樹脂，藉由捏合段使樹脂熔融及充滿後，從噴嘴注入單甲基胺。於反應區之末端裝入密封圈使樹脂充滿。將排氣口之壓力減壓為-0.08 MPa而將反應後之副產物及過量之甲基胺去除揮發物。以線料形式從設置於擠出機出口之模具排出之樹脂於水槽中冷卻後，藉由造粒機進行顆粒化。所獲得之醯亞胺化MS樹脂之醯亞胺化率為5.0%，酸值為0.5 mmol/g。 將上述所獲得之醯亞胺化MS樹脂100重量份與芯殼型粒子15重量份投入至單軸擠出機進行熔融混合，通過T模而進行膜形成，藉此獲得厚度120 μm之擠出膜。將所獲得之擠出膜於延伸溫度150℃下沿長度方向及寬度方向分別同時雙軸延伸為2倍。延伸速度於長度方向及寬度方向均為10%/秒。由此製作保護膜A。所獲得之保護膜A之厚度為30 μm，保護膜A之彈性模數為3.8 GPa。 ＜製造例2＞ (保護膜B) 將上述製造例1中獲得之醯亞胺化MS樹脂投入至單軸擠出機進行熔融混合，通過T模而進行膜形成，藉此獲得厚度120 μm之擠出膜。將所獲得之擠出膜於延伸溫度160℃下沿長度方向及寬度方向分別同時雙軸延伸為2倍。延伸速度於長度方向及寬度方向均為10%/秒。由此製作保護膜B。所獲得之保護膜B之厚度為30 μm，保護膜B之彈性模數為5.1 GPa。 ＜製造例3＞ (保護膜C) 使用三乙醯基纖維素(TAC)膜(Konica Minolta股份有限公司製造，商品名「KC4UY」，厚度40 μm)作為保護膜C。 ＜製造例4＞ (保護膜D) 使用TAC膜(Konica Minolta股份有限公司製造，商品名「KC2UA」，厚度25 μm)作為保護膜D。 ＜製造例5＞ (保護膜E) 使用聚對苯二甲酸乙二酯膜(Toray股份有限公司製造，商品名「Lumirror」，厚度25 μm)作為保護膜E。 ＜製造例6＞ (保護膜F) 使用環烯烴系樹脂膜(ZEON股份有限公司製造，商品名「ZeonorFilm」，厚度40 μm)作為保護膜F。 ＜製造例7＞ (保護膜G) 使用環烯烴系樹脂膜(ZEON股份有限公司製造，商品名「ZeonorFilm」，厚度25 μm)作為保護膜G。 ＜製造例8＞ (保護膜H) 使用環烯烴系樹脂膜(ZEON股份有限公司製造，商品名「ZeonorFilm」，厚度50 μm)作為保護膜H。 2.偏光元件 ＜製造例9＞ (偏光元件A) 對吸水率0.75%、Tg75℃之非晶質之間苯二甲酸共聚聚對苯二甲酸乙二酯(IPA共聚PET)膜(厚度：100 μm)基材之單面實施電暈處理，於25℃下於該電暈處理面塗佈以9：1之比含有聚乙烯醇(聚合度4200，皂化度99.2莫耳%)及乙醯乙醯基改性PVA(聚合度1200，乙醯乙醯基改性度4.6%，皂化度99.0莫耳%以上，日本合成化學工業公司製造，商品名「GOHSEFIMER Z200」)之水溶液並加以乾燥，而形成厚度11 μm之PVA系樹脂層，製作積層體。將所獲得之積層體於120℃之烘箱內在周速不同之輥間沿縱向(長邊方向)自由端單軸延伸為2.0倍(空中輔助延伸處理)。繼而，將積層體於液溫30℃之不溶化浴(相對於水100重量份調配4重量份之硼酸所獲得之硼酸水溶液)中浸漬30秒(不溶化處理)。繼而，一邊以偏光板成為特定之透過率之方式調整碘濃度、浸漬時間，一邊使其浸漬於液溫30℃之染色浴中。於本製造例中，於相對於水100重量份調配碘0.2重量份並調配碘化鉀1.0重量份所獲得之碘水溶液中浸漬60秒(染色處理)。繼而，於液溫30℃之交聯浴(相對於水100重量份調配碘化鉀3重量份並調配硼酸3重量份所獲得之硼酸水溶液)中浸漬30秒(交聯處理)。其後，一邊將積層體浸漬於液溫70℃之硼酸水溶液(相對於水100重量份調配硼酸3.75重量份並調配碘化鉀5重量份所獲得之水溶液)中，一邊以總延伸倍率成為5.5倍之方式於周速不同之輥間沿縱向(長邊方向)進行單軸延伸(水中延伸處理)。其後，將積層體浸漬於液溫30℃之洗淨浴(相對於水100重量份調配碘化鉀4重量份所獲得之水溶液)中(洗淨處理)。 藉由以上獲得含有厚度5 μm之偏光元件A之光學膜積層體A。 ＜製造例10＞ (偏光元件B) 對吸水率0.75%、Tg75℃之非晶質之間苯二甲酸共聚聚對苯二甲酸乙二酯(IPA共聚PET)膜(厚度：100 μm)基材之單面實施電暈處理，於25℃下於該電暈處理面塗佈以9：1之比含有聚乙烯醇(聚合度4200，皂化度99.2莫耳%)及乙醯乙醯基改性PVA(聚合度1200，乙醯乙醯基改性度4.6%，皂化度99.0莫耳%以上，日本合成化學工業公司製造，商品名「GOHSEFIMER Z200」)之水溶液並加以乾燥，而形成厚度15 μm之PVA系樹脂層，製作積層體。將所獲得之積層體於120℃之烘箱內在周速不同之輥間沿縱向(長邊方向)自由端單軸延伸為2.0倍(空中輔助延伸處理)。繼而，將積層體於液溫30℃之不溶化浴(相對於水100重量份調配4重量份之硼酸所獲得之硼酸水溶液)中浸漬30秒(不溶化處理)。繼而，一邊以偏光板成為特定之透過率之方式調整碘濃度、浸漬時間，一邊使其浸漬於液溫30℃之染色浴中。於本製造例中，於相對於水100重量份調配碘0.2重量份並調配碘化鉀1.0重量份所獲得之碘水溶液中浸漬60秒(染色處理)。繼而，於液溫30℃之交聯浴(相對於水100重量份調配碘化鉀3重量份並調配硼酸3重量份所獲得之硼酸水溶液)中浸漬30秒(交聯處理)。其後，一邊將積層體浸漬於液溫70℃之硼酸水溶液(相對於水100重量份調配硼酸3.75重量份並調配碘化鉀5重量份所獲得之水溶液)中，一邊以總延伸倍率成為5.5倍之方式於周速不同之輥間沿縱向(長邊方向)進行單軸延伸(水中延伸處理)。其後，將積層體浸漬於液溫30℃之洗淨浴(相對於水100重量份調配碘化鉀4重量份所獲得之水溶液)中(洗淨處理)。 藉由以上獲得含有厚度7 μm之偏光元件B之光學膜積層體B。 ＜製造例11＞ (偏光元件C) 對吸水率0.75%、Tg75℃之非晶質之間苯二甲酸共聚聚對苯二甲酸乙二酯(IPA共聚PET)膜(厚度：100 μm)基材之單面實施電暈處理，於25℃下於該電暈處理面塗佈以9：1之比含有聚乙烯醇(聚合度4200，皂化度99.2莫耳%)及乙醯乙醯基改性PVA(聚合度1200，乙醯乙醯基改性度4.6%，皂化度99.0莫耳%以上，日本合成化學工業公司製造，商品名「GOHSEFIMER Z200」)之水溶液並加以乾燥，而形成厚度30 μm之PVA系樹脂層，製作積層體。將所獲得之積層體於120℃之烘箱內在周速不同之輥間沿縱向(長邊方向)自由端單軸延伸為2.0倍(空中輔助延伸處理)。繼而，將積層體於液溫30℃之不溶化浴(相對於水100重量份調配4重量份之硼酸所獲得之硼酸水溶液)中浸漬30秒(不溶化處理)。繼而，一邊以偏光板成為特定之透過率之方式調整碘濃度、浸漬時間，一邊使其浸漬於液溫30℃之染色浴中。於本製造例中，於相對於水100重量份調配碘0.2重量份並調配碘化鉀1.0重量份所獲得之碘水溶液中浸漬60秒(染色處理)。繼而，於液溫30℃之交聯浴(相對於水100重量份調配碘化鉀3重量份並調配硼酸3重量份所獲得之硼酸水溶液)中浸漬30秒(交聯處理)。其後，一邊將積層體浸漬於液溫70℃之硼酸水溶液(相對於水100重量份調配硼酸3.75重量份並調配碘化鉀5重量份所獲得之水溶液)中，一邊以總延伸倍率成為5.5倍之方式於周速不同之輥間沿縱向(長邊方向)進行單軸延伸(水中延伸處理)。其後，將積層體浸漬於液溫30℃之洗淨浴(相對於水100重量份調配碘化鉀4重量份所獲得之水溶液)中(洗淨處理)。 藉由以上獲得含有厚度12 μm之偏光元件C之光學膜積層體C。 ＜製造例12＞ (偏光元件D) 將平均聚合度2400、皂化度99.9莫耳%之厚度75 μm之聚乙烯醇膜於30℃之溫水中浸漬60秒使其膨潤。繼而，浸漬於碘/碘化鉀(重量比＝0.5/8)之濃度0.3%之水溶液中，一邊延伸至3.5倍一邊對膜進行染色。其後，於65℃之硼酸酯水溶液中，以總延伸倍率成為6倍之方式進行延伸。延伸後，於40℃之烘箱中乾燥3分鐘，而獲得厚度23 μm之PVA系偏光元件D。 3.表面處理層 ＜製造例13＞ (硬塗層A之形成材料) 作為塗敷液所含之樹脂，準備固形物成分70重量份之紫外線硬化型樹脂(新中村化學工業股份有限公司製造，商品名「NK低聚物UA-53H-80BK」固形物成分濃度80%)、30重量份之紫外線硬化型樹脂(新中村化學股份有限公司製造，商品名「A-GLY-9E」固形物成分濃度100%)。相對於上述樹脂之樹脂固形物成分100重量份，添加光聚合起始劑(Ciba Japan股份有限公司製造，製品名「IRGACURE 907」)5份、調平劑(DIC股份有限公司製造，製品名「GRANDIC PC4100」)0.1份。以上述溶液中之固形物成分濃度成為40%之方式，以80：20之比率於上述調配液中添加甲苯與環戊酮(以下記作「CPN」)。由此製作用以形成硬塗層A之形成材料。 ＜製造例14＞ (硬塗層B之形成材料) 作為塗敷液所含之樹脂，準備固形物成分70重量份之紫外線硬化型樹脂(新中村化學工業股份有限公司製造，商品名「NK低聚物UA-53H-80BK」固形物成分濃度80%)、30重量份之紫外線硬化型樹脂(新中村化學股份有限公司製造，商品名「A-GLY-9E」固形物成分濃度100%)。相對於上述樹脂之樹脂固形物成分100重量份，添加橡膠粒子(Kaneka股份有限公司製造，製品名「Kane Ace」B-513)10份、光聚合起始劑(Ciba Japan股份有限公司製造，製品名「IRGACURE 907」)5份、調平劑(DIC股份有限公司製造，製品名「GRANDIC PC4100」)0.1份。以上述溶液中之固形物成分濃度成為40%之方式，以80：20之比率於上述調配液中添加甲苯與環戊酮(以下記作「CPN」)。由此製作用以形成硬塗層B之形成材料。 4.紫外線硬化型接著劑 ＜製造例15＞ 將N-羥基乙基丙烯醯胺(HEAA)40重量份、丙烯醯𠰌啉(ACMO)60重量份及光起始劑「IRGACURE 819」(BASF公司製造)3重量份加以混合，而製備紫外線硬化型接著劑。 5.黏著劑層 ＜製造例16＞ 於具備冷卻管、氮氣導入管、溫度計及攪拌裝置之反應容器中一併添加丙烯酸丁酯100份、丙烯酸3份、丙烯酸2-羥基乙酯0.1份及2,2'-偶氮二異丁腈0.3份與乙酸乙酯而製備溶液。繼而，一邊於該溶液中吹入氮氣一邊加以攪拌，於55℃下反應8小時，而獲得含有重量平均分子量220萬之丙烯酸系聚合物之溶液。進而，於該含有丙烯酸系聚合物之溶液中添加乙酸乙酯，獲得將固形物成分濃度調整為30%之丙烯酸系聚合物溶液。相對於上述丙烯酸系聚合物溶液之固形物成分100份，依序調配作為交聯劑之0.5份之以具有異氰酸酯基之化合物作為主成分的交聯劑(Nippon Polyurethane股份有限公司製造，商品名「Coronate L」)、及作為矽烷偶合劑之0.075份之γ-縮水甘油氧基丙基三甲氧基甲矽烷(信越化學工業股份有限公司製造，商品名「KMB-403」)，而製備黏著劑溶液。以乾燥後之厚度成為20 μm之方式將上述黏著劑溶液塗佈於經剝離處理之包含聚對苯二甲酸乙二酯膜(厚度38 μm)之脫模片(隔離膜)之表面並加以乾燥，而形成黏著劑層。 ＜實施例1＞ 使用保護膜B作為第1保護膜。以硬化後之硬塗層之厚度成為6.5 μm之方式於保護膜B之表面塗佈上述硬塗層A之形成材料，而形成塗膜。繼而，於90℃下乾燥1分鐘，其後，藉由高壓水銀燈照射累計光量300 mJ/cm2 之紫外線，對上述塗膜進行硬化處理，藉此於保護膜B之表面形成硬塗層A。 繼而，一邊以硬化後之接著劑層之厚度成為0.5 μm之方式於上述光學膜積層體A之偏光元件A之表面塗佈製造例15之紫外線硬化型接著劑，一邊貼合上述保護膜B後，照射作為活性能量線之紫外線，使接著劑硬化。紫外線照射係使用封入鎵之金屬鹵化物燈、照射裝置：Fusion UV Systems，Inc公司製造之Light HAMMER10、燈泡：V燈泡、波峰照度：1600 mW/cm2 、累計照射量1000/mJ/cm2 (波長380～440 nm)，紫外線之照度係使用Solatell公司製造之Sola-Check系統進行測定。 繼而，將非晶性PET基材剝離，以與上述同樣之方式於偏光元件之與第1保護膜為相反側之面貼合作為第2保護膜之保護膜A。 繼而，於第2保護膜之表面貼合於製造例16之脫模片(隔離膜)之剝離處理面形成之黏著劑層，而製作附黏著劑層之偏光板。將上述偏光板供於各評價。將結果示於表1。 ＜實施例2～13及比較例1～2＞ 於實施例1中，如表1所示般變更偏光元件、第1保護膜、第2保護膜、及表面處理層，除此以外，以與實施例1同樣之方式製作附黏著劑層之偏光板。將上述偏光板供於各評價。將結果示於表1。 [表1]
Figure 107112250-A0304-0001
 根據表1可知，比較例1～2之偏光板之耐彎曲性及操作性較低。尤其是比較例2之偏光板於彎曲試驗剛開始後產生偏光元件之破裂。另一方面，實施例1～13之偏光板之耐彎曲性及操作性優異。 [產業上之可利用性] 本發明之偏光板可適宜地用於圖像顯示裝置。本發明之圖像顯示裝置可用於：攜帶型資訊終端(PDA，portable information terminal)、智慧型手機、行動電話、時鐘、數位相機、攜帶型遊戲機等攜帶型機器；電腦顯示器、筆記型電腦、影印機等OA機器；攝錄影機、電視、微波爐等家庭用電氣設備；後部監視器、汽車導航系統用監視器、汽車音響等車載用機器；數位標牌、商業店鋪用資訊用顯示器等展示機器；監視用監視器等警備機器；護理用監視器、醫療用監視器等護理、醫療機器等各種用途。
10‧‧‧偏光元件18‧‧‧夾具19‧‧‧夾具20‧‧‧第1保護膜21‧‧‧支持部22‧‧‧支持部23‧‧‧板部24‧‧‧板部30‧‧‧第2保護膜100‧‧‧偏光板x‧‧‧端部y‧‧‧端部
圖1係本發明之一實施形態之偏光板之剖視圖。 圖2係用以說明U次伸縮試驗之概略圖。 圖3係用以說明扭轉試驗之概略圖。
10‧‧‧偏光元件
20‧‧‧第1保護膜
30‧‧‧第2保護膜
100‧‧‧偏光板

Claims (9)

  1. 一種偏光板，其具有偏光元件、配置於該偏光元件之一側之第1保護膜、及配置於該偏光元件之另一側之第2保護膜，並且上述偏光元件之厚度為12μm以下，上述第1及第2保護膜之至少一者含有分散有芯殼型粒子之丙烯酸系樹脂。
  2. 如請求項1之偏光板，其中上述第1及第2保護膜之至少一者係相對於上述丙烯酸系樹脂100重量份而含有上述芯殼型粒子3重量份~20重量份。
  3. 如請求項1或2之偏光板，其中上述第1保護膜含有上述丙烯酸系樹脂、及上述芯殼型粒子，上述第1保護膜之厚度為30μm以下。
  4. 如請求項1或2之偏光板，其中上述丙烯酸系樹脂具有選自由戊二醯亞胺單元、內酯環單元、順丁烯二酸酐單元、順丁烯二醯亞胺單元及戊二酸酐單元所組成之群中之至少一種。
  5. 如請求項1或2之偏光板，其中彎曲試驗中至上述偏光元件產生破裂為止之彎曲次數為10萬次以上，鉛筆硬度為H以上。
  6. 如請求項1或2之偏光板，其中上述第1保護膜含有上述丙烯酸系樹脂、及上述芯殼型粒子，於以上述第1保護膜成為外側之方式進行彎曲之彎曲試驗中，至上述偏光元件產生破裂為止之彎曲次數為30萬次以上。
  7. 如請求項6之偏光板，其中上述第2保護膜不含上述芯殼型粒子。
  8. 如請求項1或2之偏光板，其中於上述第1保護膜或上述第2保護膜之與上述偏光元件為相反側之面配置有表面處理層，上述表面處理層係選自由硬塗層、防眩層及抗反射層所組成之群中之至少一種。
  9. 一種圖像顯示裝置，其具備如請求項1至8中任一項之偏光板。
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