TWI699285B - 表面保護膜及貼合有該表面保護膜的光學部件 - Google Patents

Abstract

本發明提供一種表面保護膜及使用了該表面保護膜的光學部件，該表面保護膜即使對表面具有凹凸的光學用膜也能夠貼合，對被黏著物的污染少，且對被黏著物的低污染性不發生經時變化，其具有優異的抗剝離靜電性能不會經時劣化。

該表面保護膜(5)在由具有透明性的樹脂所構成的基材膜(1)的一個面上形成有剝離劑層(2)，在基材膜(1)的另一個面上形成有黏著劑層(4)，剝離劑層(2)含有由鹼金屬鹽構成的抗靜電劑(3)及矽酮類剝離劑，剝離劑層(2)中所含的由鹼金屬鹽構成的抗靜電劑(3)的成分僅存在於黏著劑層(4)的表面。

Description

表面保護膜及貼合有該表面保護膜的光學部件

本發明涉及一種貼合於光學部件(以下有時稱作光學用膜)的表面的表面保護膜。更詳細而言，提供一種表面保護膜及使用了該表面保護膜的光學部件，該表面保護膜對被黏著物的污染少，且對被黏著物的污染性不發生經時變化。此外，本發明提供一種即使替換光學部件的偏振片的構成部件(由TAC膜變更為丙烯酸膜或聚酯膜、由水性黏接劑變更為紫外線固化型黏接劑)，也能將剝離表面保護膜時的剝離靜電壓抑制得較低的表面保護膜，以及貼合有該表面保護膜的光學部件。

此外，本發明的光學部件指偏振片、相位差板、顯示器用的屏膜(lense film)等。

在製造、搬運偏振片、相位差板、顯示器用的屏膜、防反射膜、硬塗膜、觸控面板用透明導電性膜等光學用膜及使用了這些光學用膜的顯示器等光學產品時，在該光學用膜的表面貼合表面保護膜，防止在後續步驟中的表面污垢和傷痕。為了節省剝下表面保護膜再貼合的工夫，提高作業效率， 在表面保護膜貼合於光學用膜上的狀態下直接進行作為產品的光學用膜的外觀檢查。

在傳統的光學產品的製造步驟中，為了防止傷痕或污垢的附著，通常使用在基材膜的單面上設有黏著劑層的表面保護膜。表面保護膜經由微黏著力的黏著劑層貼合於光學用膜上。使黏著劑層為微黏著力的原因在於，在將使用過的表面保護膜從光學用膜的表面剝離去除時，能夠容易地剝離，且使黏著劑不附著殘留在作為被黏著物的產品的光學用膜上(即所謂的防止殘膠的產生)。

近年來，在液晶顯示器面板的生產步驟中，雖然發生的件數少，但仍發生了由於將貼合於光學用膜上的表面保護膜剝離去除時產生的剝離靜電壓，引起用於控制液晶顯示器的顯示畫面的驅動IC等電路部件遭到破壞的現象、或是液晶分子的配向受損的現象。

此外，為了降低液晶顯示器面板的消耗電力，液晶材料的驅動電壓降低，驅動IC的擊穿電壓也隨之降低。在最近，要求剝離靜電壓在+0.7kV~-0.7kV的範圍內。

此外，傳統的偏振片為，在由含浸有碘的聚乙烯醇(PVA)構成的偏光鏡的兩側，用水性的黏接劑黏接用於保護偏光鏡的三乙醯纖維素膜(TAC膜)，製造偏振片，而在近年來，作為TAC膜的替代，採用了使用有丙烯酸膜、環狀聚烯烴膜或聚酯膜的偏振片，或是使用紫外線固化型黏接劑以代替水性黏接劑的偏振片。用於偏振片的構成材料變化，因此還出現了以下問題：在剝離去除表面保護膜時產生的剝離靜電壓 比使用傳統結構的偏振片時增高。

此外，近年來伴隨著3D顯示器(立體顯示器)的普及，在偏振片等光學用膜的表面上貼合FPR(Film Patterned Retarder(薄膜式圖案化相位延遲))膜。在剝離貼合於偏振片等光學用膜的表面上的表面保護膜後，貼合FPR膜。但是，偏振片等的光學用膜的表面若因用於表面保護膜的黏著劑或抗靜電劑而受到污染，則存在FPR膜難以黏接的問題。因此，要求用於該用途的表面保護膜對被黏著物的污染小。

另一方面，在若干液晶面板廠商中，作為表面保護膜對於被黏著物的污染性評價方法，採用如下的方法：將貼合於偏振片等光學用膜的表面保護膜暫時剝離，在混入氣泡的狀態下進行再貼合並在規定條件下進行加熱處理，然後剝離表面保護膜，觀察被黏著物的表面。在此評價方法中，即使被黏著物的表面污染為微量，則也會在混入氣泡的部分與表面保護膜的黏著劑黏接的部分之間存在被黏著物的表面污染差異，作為氣泡的痕跡(有時也稱作氣泡斑)而殘留。因此，作為對被黏著物的表面的污染性的評價方法，為非常嚴格的評價方法。近年來，尋求一種能夠通過上述嚴格的評價方法而判定合格、且對被黏著物的表面的污染極少的表面保護膜。

為了在將表面保護膜貼合於作為被黏著物的光學用膜後，防止因從被黏著物上將表面保護膜剝離時產生的剝離靜電壓高而造成的不良現象，提出了一種用於將剝離靜電壓抑制得較低的、使用了含有抗靜電劑的黏著劑層的表面保護膜。

例如，在專利文獻1中，公開了一種使用了由烷 基三甲銨鹽、含羥基的丙烯酸類聚合物、聚異氰酸酯構成的黏著劑的表面保護膜。

此外，在專利文獻2中，公開了一種由離子液體及酸值為1.0以下的丙烯酸聚合物構成的黏著劑組合物、及使用了該組合物的黏著片類。

此外，在專利文獻3中，公開了一種由經丙烯酸聚合物、聚醚多元醇化合物、陰離子吸附性化合物處理的鹼金屬鹽構成的黏著組合物、及使用了該組合物的表面保護膜。

此外，在專利文獻4中，公開了一種由離子液體、鹼金屬鹽、玻璃化轉變溫度為0℃以下的聚合物構成的黏著劑組合物、及使用了該組合物的表面保護膜。

現有技術文獻

專利文獻

專利文獻1：日本特開2005-131957號公報

專利文獻2：日本特開2005-330464號公報

專利文獻3：日本特開2005-314476號公報

專利文獻4：日本特開2006-152235號公報

在上述專利文獻1~4所述的表面保護膜中，黏著劑層的內部添加有抗靜電劑。因此，黏著劑層的厚度越厚，或者貼合於被黏著物後的經過時間越長，則對於貼合有表面保護膜的被黏著物，抗靜電劑從黏著劑層向被黏著物轉移的量有增 多的傾向。此外，若抗靜電劑向被黏著物轉移的量增多，則存在作為被黏著物的光學用膜的外觀品質降低、貼合FPR膜時的FPR膜的黏接性降低的可能性。

如此，為了減少抗靜電劑從黏著劑層向被黏著物轉移的經時變化，若使黏著劑層的厚度變薄，則產生其他問題。例如，存在如下問題：在使用為了防止眩光而進行過防眩處理的偏振片等、表面上具有凹凸的光學用膜上的情況下，黏著劑層難以追隨光學用膜表面的凹凸而混入氣泡；因光學用膜與黏著劑層的黏接面積減小而使黏著力降低，表面保護膜在使用中浮起或剝落。

此外，為了減少抗靜電劑從黏著劑層向被黏著物轉移的經時變化，若減少黏著劑層中添加的抗靜電劑的添加量，則將表面保護膜從被黏著物上剝離去除時產生的剝離靜電壓增高，存在產生驅動IC等電路部件受到破壞的現象、或液晶分子的配向受損的現象的危險性。

本發明是鑒於上述情況而完成的，其技術課題在於提供一種貼合於光學用膜的表面的表面保護膜及使用了該表面保護膜的光學部件，上述表面保護膜即使對表面具有凹凸的光學用膜也能夠貼合，對被黏著物的污染非常少，且對被黏著物的低污染性不發生經時變化。

此外，本發明的技術課題在於提供一種即使替換作為光學部件的偏振片的構成部件(由TAC膜變更為丙烯酸膜或聚酯膜、由水性黏接劑變更為紫外線固化型黏接劑)，也能將剝離表面保護膜時的剝離靜電壓抑制得較低的表面保護膜，以及使 用了該表面保護膜的光學部件。

為解決上述技術問題，發明人進行了仔細研究。為了使對被黏著物的污染少且使污染性的經時變化少，需要減少被推測為污染被黏著物原因的抗靜電劑的含量。但是，在減少抗靜電劑的含量的情況下，將表面保護膜從被黏著物上剝離時的剝離靜電壓增高。

因此，發明人對不增加抗靜電劑的含量、將表面保護膜從被黏著物上剝離時的剝離靜電壓抑制得較低的方法進行了研究。

發明人首先將不含抗靜電劑的黏著劑組合物塗布於基材的單面並乾燥，層積黏著劑層，在基材的另一面層積含有抗靜電劑的剝離劑層，製作表面保護膜。然後，以使黏著劑層為內側的方式將該表面保護膜捲繞成輥狀，由此，該剝離劑層中所含的抗靜電劑的成分被轉印於該黏著劑層的表面，形成僅存在於該黏著劑層的表面的狀態。發現將該表面保護膜暫時貼合於作為被黏著物的光學用膜後，從被黏著物上剝離時的剝離靜電壓被抑制地較低，且難以污染被黏著物，從而完成本發明。

本發明的表面保護膜是將不含抗靜電劑的黏著劑組合物塗布於基材的單面並乾燥，層積黏著劑層，在基材的另一面層積含有抗靜電劑的剝離劑層之後，以使黏著劑層為內側的方式將該表面保護膜捲繞成輥狀，由此使該剝離劑層所含的抗靜電劑的成分轉印於該黏著劑層的表面上。本發明的發明構 思在於，在將該捲繞成輥狀的狀態的表面保護膜由輥狀卷出回復，貼合於被黏著物的情況下，將對被黏著物的污染性抑制得較低，並且將表面保護膜從作為被黏著物的光學用膜上剝離時的剝離靜電壓抑制得較低。

為瞭解決所述技術問題，本發明提供一種表面保護膜，其特徵在於，在由具有透明性的樹脂所構成的基材膜的一個面上形成剝離劑層，在該基材膜的另一個面上形成黏著劑層，該剝離劑層含有由鹼金屬鹽構成的抗靜電劑及矽酮類剝離劑，該剝離劑層中所含的該由鹼金屬鹽構成的抗靜電劑的成分僅存在於該黏著劑層的表面。

此外，該黏著劑層為含有經交聯的(甲基)丙烯酸酯共聚物的丙烯酸類黏著劑層為佳。

此外，從作為被黏著物的光學用膜上剝離該黏著劑層時的表面電位為+0.7kV~-0.7kV為佳。

此外，該基材膜以該剝離劑層與該黏著劑層相接的方式以所述黏著劑層為內側捲繞成輥狀為佳。

此外，本發明提供一種光學部件，其經由該黏著劑層，貼合該表面保護膜而成。

本發明的表面保護膜為貼合於光學用膜表面的表面保護膜，即使對表面具有凹凸的光學用膜也能夠貼合。

此外，根據本發明，能夠提供一種對被黏著物的污染非常少、且對被黏著物的污染性不發生經時變化的表面保護膜，以及提供一種使用了該表面保護膜的光學部件。

更進一步，根據本發明，能夠提供一種即使變更光學部件的偏振片的構成部件(由TAC膜變更為丙烯酸膜、環狀聚烯烴膜或聚酯膜，由水性黏接劑變更為紫外線固化型黏接劑)，也能將剝離表面保護膜時的剝離靜電壓抑制得較低的表面保護膜，以及提供一種使用了該表面保護膜的光學部件。

此外，本發明的捲繞成輥狀的表面保護膜，是以剝離劑層與黏著劑層相接的方式，以黏著劑層為內側將基材膜捲繞成輥狀的表面保護膜，由鹼金屬鹽構成的抗靜電劑的成分從剝離劑層轉印至黏著劑層的表面，僅存在於黏著劑層的表面。

即，本發明具有以下特徵：將由捲繞成輥狀的表面保護膜開卷復原的表面保護膜貼合於被黏著物後，從被黏著物上剝離表面保護膜時的剝離靜電壓降低，且抗剝離靜電性能的經時變化及對被黏著物的污染少，因此能夠預計作為被黏著物的光學部件的生產性的提高以及成品率的提高。

1‧‧‧基材膜

2‧‧‧剝離劑層

3‧‧‧抗靜電劑

4‧‧‧黏著劑層

5‧‧‧表面保護膜

6‧‧‧光學部件(光學用膜)

7‧‧‧帶有表面保護膜的光學部件

10‧‧‧捲繞成輥狀狀態的表面保護膜

圖1為表示本發明的捲繞成輥狀狀態的表面保護膜的剖面示意圖；圖2為表示將本發明的表面保護膜捲繞成輥狀狀態下、剝離劑層與黏著劑層相接狀態的剖面示意圖；圖3為將本發明的表面保護膜貼合於光學部件上的一個實施例的剖面圖。

以下，根據實施方式，對本發明進行詳細說明。

圖1為表示本發明的卷繞成輥狀狀態的表面保護膜10的剖面示意圖。圖1的右側所示的捲繞成輥狀狀態的表面保護膜10是以黏著劑層4為內側將本發明的表面保護膜5捲繞成輥狀的表面保護膜(表面保護膜5的輥體)。此外，圖1的左側是將沿箭頭方向從輥狀開卷復原的表面保護膜5在厚度方向擴大表示的剖面示意圖。

該表面保護膜5在透明的基材膜1的一個面上，具有含有由鹼金屬鹽構成的抗静電劑3的剝離劑層2，在基材膜1的另一個面上，形成有黏著劑層4。將在基材膜1的一個面上具有剝離劑層2、在基材膜1的另一個面上具有黏著劑層4的表面保護膜5，以剝離劑層2與黏著劑層4相接的方式，以黏著劑層4為內側卷繞成輥狀，由此，可得到卷繞成輥狀的狀態的表面保護膜10，其剝離劑層2中含有的抗静電劑3的成分轉印至黏著劑層4的表面，僅存在於黏著劑層4的表面。

作為用於本發明的表面保護膜5的基材膜1，可使用由具有透明性及可撓性的樹脂構成的基材膜。由此，能夠在將表面保護膜5貼合於作為被黏著物的光學部件的狀態下，進行光學部件的外觀檢查。作為基材膜1而使用的具有透明性的樹脂所構成的膜可適宜地使用聚對苯二甲酸乙二醇酯、聚萘二甲酸乙二醇酯、聚間苯二甲酸乙二醇酯、聚對苯二甲酸丁二醇酯等聚酯膜。除了聚酯膜以外，也可使用由其他樹脂構成的膜，只要具有所需要的強度及具有光學適性即可。基材膜1可以是無拉伸膜，也可以是經單軸或雙軸拉伸的膜。此外，拉伸膜的拉伸倍率、隨拉伸膜的結晶化所形成的軸方向的配向角度 可控制為特定的值。

本發明的用於表面保護膜5的基材膜1的厚度沒有特別限定，例如以12~100μm左右的厚度為佳，若為20~75μm左右的厚度則便於操作，因此更佳。

此外，可根據需要，在基材膜1的表面上施加基於電暈放電的表面改性、塗布錨固劑等的易黏接處理。

此外，本發明的形成於表面保護膜5的剝離劑層2使用含有由鹼金屬鹽構成的抗靜電劑3的剝離劑而形成。作為剝離劑，適宜使用矽酮類剝離劑。

矽酮類剝離劑可列舉出加成反應型、縮合反應型、陽離子聚合型、自由基聚合型等習知的矽酮類剝離劑。作為加成反應型矽酮類剝離劑而市售的產品中，例如可列舉出KS-776A、KS-847T、KS-779H、KS-837、KS-778、KS-830(信越化學工業(股)製)、SRX-211、SRX-345、SRX-357、SD7333、SD7220、SD7223、LTC-300B、LTC-350G、LTC-310(Dow Corning Toray(股)製)等。作為縮合反應型而市售的產品中，例如可列舉出SRX-290、SYLOFF-23(Dow Corning Toray(股)製)等。作為陽離子聚合型而市售的產品中，例如可列舉出TPR-6501、TPR-6500、UV9300、VU9315、UV9430(Momentive Performance Materials公司製)、X62-7622(信越化學工業(股)製)等。作為自由基聚合型而市售的產品中，例如可列舉出X62-7205(信越化學工業(股)製)等。

作為剝離劑層2中所含的抗靜電劑3，以對矽酮類剝離劑溶液的分散性良好、且不阻礙矽酮類剝離劑的固化的抗 靜電劑為佳。此外，在與剝離劑層2接觸的黏著劑層4的表面上，剝離劑層2中所含的抗靜電劑3的成分進行轉印，賦予黏著劑層4的表面抗靜電的功能，因此不與矽酮類剝離劑反應的抗靜電劑較佳。作為這樣的抗靜電劑，適宜為鹼金屬鹽。

作為鹼金屬鹽，可列舉出由鋰、鈉、鉀構成的金屬鹽。具體而言，例如可適用由選自Li⁺、Na⁺、K⁺的陽離子與選自Cl^-、Br^-、I^-、BF₄ ^-、PF₆ ^-、SCN^-、ClO₄ ^-、CF₃SO₃ ^-、(CF₃SO₂)₂N^-、(C₂F₅SO₂)₂N^-、(CF₃SO₂)₃C^-的陰離子構成的金屬鹽。其中尤其使用LiBr、LiI、LiBF₄、LiPF₆、LiSCN、LiClO₄、LiCF₃SO₃、Li(CF₃SO₂)₂N、Li(C₂F₅SO₂)₂N、Li(CF₃SO₂)₃C等鋰鹽為佳。這些鹼金屬鹽可以單獨使用，也可兩種以上混合使用。為了離子物質的穩定化，也可以添加含有聚氧亞烷基結構的化合物。

抗靜電劑相對於矽酮類剝離劑的添加量因抗靜電劑的種類或與矽酮類剝離劑的親和性程度而異，但可以考慮從被黏著物上剝離表面保護膜時所期望的剝離靜電壓、對被黏著物的污染性、黏著特性等而進行設定。矽酮類剝離劑與抗靜電劑的混合比例(重量比)為，例如相對於矽酮類剝離劑的固體成分100，以固體成分計抗靜電劑的較佳值為5~100的比例，更佳為5~60的比例。若相對於矽酮類剝離劑的固體成分100，抗靜電劑的固體成分換算的添加量小於5的比例，則抗靜電劑向黏著劑層的表面的轉印量變少，難以在黏著劑中發揮抗靜電的功能。此外，若相對於矽酮類剝離劑的固體成分100，抗靜電劑的固體成分換算的添加量超過100的比例，則矽酮類剝離 劑的成分與抗靜電劑同時轉印至黏著劑層的表面，因此存在降低黏著劑的黏著特性的可能性。

剝離劑層2至少由矽酮類剝離劑、不與該剝離劑反應的抗静電劑構成。矽酮類剝離劑與抗静電劑的混合方法沒有特別的限定。以下方法中的任意一種均可：向矽酮類剝離劑中添加抗静電劑，進行混合後，添加並混合剝離劑固化用催化劑的方法；預先用有機溶劑稀釋矽酮類剝離劑，然後添加、混合抗静電劑及剝離劑固化用催化劑的方法；預先用有機溶劑稀釋矽酮類剝離劑後，添加並混合催化劑，然後添加並混合抗静電劑的方法等。此外，剝離劑層2可根據需要，含有矽烷偶聯劑等貼附性改善劑、含聚氧亞烷基的化合物等輔助抗靜電效果的材料、纖維素類化合物等賦予印字性的材料、調整滑動性的材料等。

可用習知的方法在基材膜1的表面形成剝離劑層2。具體而言，可使用凹版塗布、邁耶棒塗布、氣刀塗布等習知的塗布方法。

在本發明的形成於表面保護膜5的黏著劑層4中，剝離劑層2所含的抗靜電劑3的成分不存在於黏著劑層4的內部(表面以外)，僅存在於黏著劑層4的表面。由此，能夠抑制表面保護膜5的抗剝離靜電性能的經時變化及對被黏著物的污染。

本發明的形成於表面保護膜5的黏著劑層4沒有特別限定，只要是黏接於被黏著物的表面、在使用後能夠簡單地剝離且難以污染被黏著物的黏著劑層即可。若考慮尋求將本發明的 表面保護膜5貼合於光學用膜後的耐久性等，則將交聯(甲基)丙烯酸酯共聚物交聯而成的丙烯酸類黏著劑層為佳。

作為(甲基)丙烯酸酯共聚物，例如可列舉出丙烯酸正丁酯、丙烯酸2-乙基己酯、丙烯酸異辛酯、丙烯酸異壬酯等主單體與丙烯腈、乙酸乙烯酯、甲基丙烯酸甲酯、丙烯酸乙酯等共聚用單體(comonomer)、丙烯酸、甲基丙烯酸、丙烯酸羥乙酯、丙烯酸羥丁酯、甲基丙烯酸縮水甘油酯、N-羥甲基甲基丙烯醯胺等官能性單體共聚而成的共聚物。(甲基)丙烯酸酯共聚物可以是主單體及其他單體均為(甲基)丙烯酸酯，也可以含有(甲基)丙烯酸酯以外的單體中的一種或兩種以上作為主單體以外的單體。

此外，也可以在(甲基)丙烯酸酯共聚物中共聚或混合含有聚氧亞烷基的化合物。作為可共聚的含有聚氧亞烷基的化合物，可列舉出聚乙二醇(400)單丙烯酸酯、聚乙二醇(400)單甲基丙烯酸酯、甲氧基聚乙二醇(400)丙烯酸酯、甲氧基聚乙二醇(400)甲基丙烯酸酯、聚丙二醇(400)單丙烯酸酯、聚丙二醇(400)單甲基丙烯酸酯、甲氧基聚丙二醇(400)丙烯酸酯、甲氧基聚丙二醇(400)甲基丙烯酸酯等。藉由將這些含有聚氧亞烷基的單體與所述(甲基)丙烯酸酯共聚物的主單體、官能性單體進行共聚，能夠獲得由含有聚氧亞烷基的共聚物所構成的黏著劑。

作為可混合在(甲基)丙烯酸酯共聚物中的含有聚氧亞烷基的化合物，以含有聚氧亞烷基的(甲基)丙烯酸酯共聚物為佳，以含有聚氧亞烷基的(甲基)丙烯酸類單體的聚 合物為更佳，例如可列舉出聚乙二醇(400)單丙烯酸酯、聚乙二醇(400)單甲基丙烯酸酯、甲氧基聚乙二醇(400)丙烯酸酯、甲氧基聚乙二醇(400)甲基丙烯酸酯、聚丙二醇(400)單丙烯酸酯、聚丙二醇(400)單甲基丙烯酸酯、甲氧基聚丙二醇(400)丙烯酸酯、甲氧基聚丙二醇(400)甲基丙烯酸酯等聚合物。藉由將這些含有聚氧亞烷基的化合物與上述(甲基)丙烯酸酯共聚物混合，能夠獲得添加有含有聚氧亞烷基的化合物的黏著劑。

作為添加於黏著劑層4中的固化劑，可列舉出異氰酸酯化合物、環氧化合物、三聚氰胺化合物、金屬螯合化合物等作為使(甲基)丙烯酸酯共聚物交聯的交聯劑。此外，作為增黏劑，可列舉出松香類、古馬隆茚類(coumarone indene)、萜類(terpene)、石油類、酚類等。

本發明的形成於表面保護膜5的黏著劑層4的厚度沒有特別限定，例如以5~40μm左右的厚度為佳，以10~30μm左右的厚度更佳。表面保護膜對被黏著物表面的剝離強度(黏著力)為0.03~0.3N/25mm左右、具有微黏著力的黏著劑層4，由於從被黏著物上剝離表面保護膜時的操作性優異而較佳。

在本發明的表面保護膜5的基材膜1上形成黏著劑層4的方法，只要以習知的方法進行即可，沒有特別的限定。具體而言，可使用逆向塗布、逗號刮刀式(comma)塗布、凹版塗布、狹縫式模頭(slot die)塗布、邁耶棒塗布、氣刀塗布等習知的塗布方法。

具有上述結構的本發明的表面保護膜5，從作為被 黏著物的光學用膜上剝離黏著劑層4時的表面電位較佳為+0.7kV~-0.7kV。更進一步，表面電位更佳為+0.5kV~-0.5kV，表面電位特佳為+0.2kV~-0.2kV。該表面電位可通過對剝離劑層2中所含的抗靜電劑3的種類、添加量等進行增減而調整。可以考慮從作為被黏著物的光學用膜上剝離表面保護膜5後、作為被黏著物的光學用膜的表面污染性，調整剝離劑層2的抗靜電劑3的種類、添加量即可。

圖2為表示將本發明的表面保護膜5捲繞成輥狀狀態下、剝離劑層2與黏著劑層4相接狀態的剖面示意圖。將在基材膜1的一個面上形成有含有抗靜電劑3的剝離劑層2、在基材膜1的另一個面上形成有不含抗靜電劑3的黏著劑層4的表面保護膜5，形成以黏著劑層4為內側捲繞成輥狀狀態的表面保護膜10，由此在輥體的半徑方向上，剝離劑層2與黏著劑層4成相接的狀態。由此，在剝離劑層2中所含的抗靜電劑(符號3)成分的一部分轉印至黏著劑層4的表面。圖3表示將從如此獲得的捲繞成輥狀狀態的表面保護膜10送出的表面保護膜5貼合於光學部件6的狀態。與藉由將抗靜電劑3的成分從剝離劑層2轉印至黏著劑層4的表面而轉印抗靜電劑3的成分之前的黏著劑層4相比，表面保護膜5貼合於被黏著物後，從被黏著物上剝離表面保護膜5時的剝離靜電壓降低。此外，將圖1的表面保護膜5從被黏著物上剝離時的剝離靜電壓可藉由習知的方法測定。例如，將表面保護膜5貼合於偏振片等被黏著物後，使用高速剝離試驗機(TESTER產業製)，以每分鐘40m的剝離速度剝離表面保護膜5，同時使用表面電位 計(Keyence(股)製)以每10ms一次測定被黏著物表面的表面電位，以此時的表面電位絕對值的最大值為剝離靜電壓(kV)。

本發明的捲繞成輥狀狀態的表面保護膜10中，將從輥狀開卷復原的表面保護膜5貼合於被黏著物時，轉印至該黏著劑層4表面的抗靜電劑3與被黏著物的表面接觸。由此，能夠再次將表面保護膜5從被黏著物上剝離時的剝離靜電壓抑制得較低。此外，在本發明的捲繞成輥狀狀態的表面保護膜10中，以剝離劑層2為外側，以黏著劑層4為內側，因此在輥的狀態中，黏著劑層4的表面不露出並受到保護。在從輥狀開卷復原表面保護膜5之後，剝離劑層2與基材膜1一體化，因此不需要除去或廢棄剝離劑層2。

圖3為表示帶有表面保護膜的光學部件7作為將本發明的表面保護膜5貼合於光學部件的一個實施例的剖面圖。帶有表面保護膜的光學部件7是從捲繞成輥狀狀態的表面保護膜10送出本發明的表面保護膜5，經由其黏著劑層4貼合於作為被黏著物的光學部件6上而獲得。作為光學部件6，可列舉出偏振片、相位差板、屏膜、兼用作相位差板的偏振片、兼用作屏膜的偏振片等光學用膜。這樣的光學部件可用作液晶顯示面板等液晶顯示裝置、各種計量儀器類的光學類裝置等的構成部件。此外，作為光學部件，還可列舉出防反射膜、硬塗膜、觸控面板用透明導電性膜等光學用膜。

將本發明的表面保護膜5從捲繞成輥狀狀態的表面保護膜10送出，貼合於作為被黏著物的光學部件(光學用膜)後，在從被黏著物上剝離除去表面保護膜5時，能夠充分 地將剝離靜電壓抑制得較低。因此，不需擔憂破壞驅動IC、TFT元件、閘極線驅動電路等電路部件，提高了在製造液晶顯示面板等步驟中的生產效率，能夠保證生產步驟的可靠性。

實施例

以下通過實施例，對本發明進行詳細說明。

(實施例1)

(表面保護膜的製備)

將加成反應型的矽酮(Dow Corning Toray(股)製，商品名：SRX-345)5重量份、雙氟磺醯亞胺鋰(Lithium bis(fluorosulfonyl)imide)0.75重量份、甲苯與乙酸乙酯的1：1混合溶劑95重量份、鉑催化劑(Dow Corning Toray(股)製，商品名：SRX-212)0.05重量份混合，進行攪拌混合，配製為形成實施例1的剝離劑層的塗料。

另一方面，相對於由丙烯酸2-乙基己酯90重量份、甲氧基聚乙二醇(400)甲基丙烯酸酯7重量份、丙烯酸2-羥乙酯3重量份的共聚物構成的黏著劑的40%乙酸乙酯溶液100重量份，攪拌混合異氰酸酯類固化劑(TOSOH公司製CORONATE(註冊商標)HX)2重量份，製備實施例1的黏著劑組合物。

在厚度為38μm的聚對苯二甲酸乙二醇酯膜的表面上，用邁耶棒以乾燥後的厚度為0.2μm的方式塗布形成實施例1的剝離劑層的塗料，用120℃的熱風迴圈式烘箱進行1分鐘乾燥，形成剝離劑層。然後，在聚對苯二甲酸乙二醇酯膜的未形成剝離劑層的表面上，以乾燥後的厚度為20μm的方式塗布所製備的黏著劑組合物，然後用100℃的熱風迴圈式烘箱進行2分鐘 乾燥，形成黏著劑層。然後，將所得到的在基材膜的一個面上形成有剝離劑層、另一個面上形成有黏著劑層的膜以剝離劑層與黏著劑層相接的方式，以黏著劑層為內側捲繞成輥狀。將所得到的捲繞成輥狀的黏著膜在40℃的環境下保溫5天，使黏著劑層固化，獲得實施例1的捲繞成輥狀狀態的表面保護膜。

(實施例2)

除了使形成實施例1的剝離劑層的塗料在乾燥後的厚度為0.1μm以外，以與實施例1相同的方式，獲得實施例2的捲繞成輥狀狀態的表面保護膜。

(實施例3)

除了將實施例1的加成反應型的矽酮變更為Dow Corning Toray(股)製、商品名：SRX-211，並用雙三氟甲烷磺醯亞胺鋰代替雙氟磺醯亞胺鋰以外，以與實施例1相同的方式，獲得實施例3的捲繞成輥狀狀態的表面保護膜。

(比較例1)

除了不添加作為抗靜電劑的雙氟磺醯亞胺鋰以外，以與實施例1相同的方式，獲得比較例1的捲繞成輥狀狀態的表面保護膜。

(比較例2)

除了在黏著劑側添加相對於40%乙酸乙酯溶液100重量份為0.67重量份的雙氟磺醯亞胺鋰，來代替在剝離劑中添加雙氟磺醯亞胺鋰以外，以與實施例1相同的方式，獲得比較例2的捲繞成輥狀狀態的表面保護膜。

以下，示出評價試驗的方法及結果。

〈表面保護膜的展開力的測定方法〉

以2層重疊的狀態切取從捲繞成輥狀狀態的表面保護膜開卷復原的表面保護膜的樣品，剪裁為寬50mm、長150mm。在23℃×50%RH的試驗環境下，用拉伸試驗機測定以300mm/分鐘的剝離速度在180°的方向上進行剝離時的強度，將其作為表面保護膜的展開力(N/50mm)。

(剝離劑層及黏著劑層的表面電阻率)

使用高性能高電阻率計(三菱化學Analytech公司製Hiresta(註冊商標)-UP)，在施加電壓100V、測定時間30秒的條件下，測定將由輥狀開卷復原的表面保護膜的樣品的剝離劑層及黏著劑層的表面電阻率(Ω/□)。

〈表面保護膜的黏著力的測定方法〉

將在偏光鏡(含碘的聚乙烯醇膜)上使用紫外線固化型黏接劑貼合了丙烯酸膜、經防眩低反射處理的偏振片(AG-LR偏振片)作為被黏著物。使用貼合機，通過雙面黏著帶在玻璃板的表面上貼合該偏振片。然後，將剪裁成寬25mm的表面保護膜貼合於偏振片表面的丙烯酸膜上後，在23℃×50%RH的試驗環境下保存1天。然後，使用拉伸試驗機測定以300mm/分鐘的剝離速度在180°的方向上剝離表面保護膜時的強度，將其作為黏著力(N/25mm)。

〈表面保護膜的剝離靜電壓的測定方法〉

將在偏光鏡(含碘的聚乙烯醇膜)上使用紫外線固化型黏接劑貼合了丙烯酸膜、經防眩低反射處理的偏振片(AG-LR偏振片)作為被黏著物。使用貼合機，通過雙面黏著帶在玻璃板 的表面上貼合該偏振片。然後，將剪裁成寬25mm的表面保護膜貼合於偏振片表面的丙烯酸膜上後，在23℃×50%RH的試驗環境下保存1天。然後使用高速剝離試驗機(TESTER產業製)，以每分鐘40m的剝離速度剝離表面保護膜，同時使用表面電位計(Keyence(股)製)每10ms一次測定上述偏振片表面的表面電位，以此時的表面電位絕對值的最大值為剝離靜電壓(kV)。

〈表面保護膜的表面污染性的確認方法〉

將在偏光鏡(含碘的聚乙烯醇膜)上使用紫外線固化型黏接劑貼合了丙烯酸膜、經防眩低反射處理的偏振片(AG-LR偏振片)作為被黏著物。使用貼合機，通過雙面黏著帶在玻璃板的表面上貼合該偏振片。然後，將剪裁成寬25mm的表面保護膜貼合於偏振片表面的丙烯酸膜上後，在23℃×50%RH的試驗環境下保存3天及30天。然後，剝下表面保護膜，以目視觀察偏振片的表面上有無污染，確認表面污染性。作為表面污染性的判定標準，將在偏振片上沒有污染轉移的情況評價為(○)，在偏振片上確認到污染轉移的情況評價為(×)。

對於得到的實施例1~3及比較例1~2的捲繞成輥狀狀態的表面保護膜，將測定的測定結果示於表1。「2EHA」指丙烯酸2-乙基己酯，“HEA”指丙烯酸2-羥乙酯，“# 400G”指甲氧基聚乙二醇(400)甲基丙烯酸酯，“AS劑(1)”指雙氟磺醯亞胺鋰，“AS劑(2)”指雙三氟甲烷磺醯亞胺鋰，“SRX-345”指SRX-345，“SRX-211”指SRX-211，“SRX212”指鉑催化劑SRX-212。此外，表面電阻率的“4.2E11”指4.2×10¹¹，“超量 (Over-range)”指超越測定機的測定界限，指1.0×10¹³Ω/□以上。

由表1所示的測定結果可知：

本發明的實施例1~3的捲繞成輥狀狀態的表面保護膜，在由輥狀開卷復原而使用時，具有適度的黏著力，對被黏著物的表面無污染。此外，即使被黏著物為使用了丙烯酸膜的偏振片，暫時將表面保護膜貼合於被黏著物後，從被黏著物剝離時的剝離靜電壓也低。

另一方面，對於在剝離劑層中未添加抗靜電劑的比較例1的捲繞成輥狀狀態的表面保護膜，將由輥狀開卷復原的表面保護膜暫時貼合於被黏著物後，從被黏著物剝離時的剝離靜電壓 增高。此外，作為使剝離劑層含有抗靜電劑的替代，使黏著劑層含有抗靜電劑的比較例2的捲繞成輥狀狀態的表面保護膜，其將由輥狀開卷復原的表面保護膜暫時貼合於被黏著物後，從被黏著物剝離時的剝離靜電壓低且良好，但剝離表面保護膜後的對被黏著物的污染增多。

即，比較例1~2的捲繞成輥狀狀態的表面保護膜難以兼顧剝離靜電壓的降低及對被黏著物的低污染性。另一方面，對於在剝離劑層中添加抗靜電劑、僅在黏著劑層的表面轉印抗靜電劑的成分的、實施例1~3的捲繞成輥狀狀態的表面保護膜，良好地兼顧了剝離靜電壓的降低及對被黏著物的低污染性。

工業實用性

本發明的表面保護膜例如在偏振片、相位差板、屏膜、反射防止膜、硬塗膜、透明導電性膜等光學用膜及其他各種光學部件等的生產步驟等中，能夠貼合於該光學部件等的表面，用於保護表面。此外，本發明的表面保護膜在貼合於作為被黏著物的光學部件(光學用膜)後，能夠將表面保護膜從被黏著物上剝離時產生的剝離靜電壓抑制得較低，且抗剝離靜電性能的經時變化及對被黏著物的污染少，可通過生產步驟的成品率，工業上的利用價值大。

1‧‧‧基材膜

2‧‧‧剝離劑層

3‧‧‧抗靜電劑

4‧‧‧黏著劑層

5‧‧‧表面保護膜

10‧‧‧捲繞成輥狀狀態的表面保護膜

Claims (4)

1. 一種表面保護膜，在由具有透明性的樹脂所構成的基材膜的一個面上形成剝離劑層，在該基材膜的另一個面上形成黏著劑層，其特徵在於，該剝離劑層含有由鹼金屬鹽構成的抗靜電劑及矽酮類剝離劑，該基材膜以該剝離劑層與該黏著劑層相接的方式，以該黏著劑層為內側捲繞成輥狀，該剝離劑層中所含的該由鹼金屬鹽構成的抗靜電劑的成分轉印於該黏著劑層的表面，並僅存在於該表面。
2. 如申請專利範圍第1項所述之表面保護膜，其中該黏著劑層為含有經交聯的(甲基)丙烯酸酯共聚物的丙烯酸類黏著劑層，相對於矽酮類剝離劑的固體成分100重量份，該剝離劑層含有5~60重量份的比例之該抗靜電劑的固體成分。
3. 如申請專利範圍第1或2項所述之表面保護膜，其中從作為被黏著物的光學用膜上剝離該黏著劑層時的表面電位為+0.7kV~-0.7kV。
4. 一種光學部件，其經由該黏著劑層貼合如申請專利範圍第1~3項中任一項所述的表面保護膜而成。

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