TWI668446B - 無導軌微距迴旋裝置 - Google Patents

Abstract

一種無導軌微距迴旋裝置，包括承載座、迴旋座、迴旋臂以及磁性組合。迴旋座與承載座相對配置。迴旋臂帶動迴旋座相對於承載座旋轉。磁性組合提供迴旋座相對於承載座轉動時的復歸力。

Description

無導軌微距迴旋裝置

本發明是有關於一種微距迴旋裝置，且特別是有關於一種無導軌微距迴旋裝置。

在進行植物無性繁殖之前，須針對母體進行病原體檢測，確認母體並未帶有病原體才可進行大量繁殖。目前所採用之病原體檢測技術，主要分為酵素結合免疫吸附分析法(Enzyme-linked immunosorbent assay，ELISA)與分子生物檢測技術中之聚合脢連鎖反應(Polymerase Chain Reaction，PCR)兩種技術，這兩種技術的主要缺點在於均需要高人工需求、操作人員技術要求性高、自動化程度低與檢測價格昂貴，其中依據現有檢測技術流程，檢體前處理為不可或缺之重要步驟。

傳統式的研磨均質設備以單管單次均質手動操作為主，研磨速度慢，精度部不佳，且不均勻，亦無法達到高通量(多管多樣品)均質目的。為獲得良好的均質效果，目前的均質容器係連接旋轉裝置，但是現有技術中的旋轉裝置，不僅旋轉裝置帶動均質容器的順暢性不佳，且由於旋轉裝置構造較為複雜，提升拆裝維護的困難性，且提升製造成本。

因此，有鑑於前述各種等缺陷，使得現行導致效能不佳的問 題，此實為本技術領域之人亟欲解決的技術課題。

本發明提供一種無導軌微距迴旋裝置，能提升微距迴旋之順暢性。

本發明之一實施例提出無導軌微距迴旋裝置，包括一承載座、一迴旋座、一迴旋臂以及一磁性組合。迴旋座與承載座相對配置。迴旋臂帶動迴旋座相對於承載座旋轉。磁性組合提供迴旋座相對於承載座旋轉時的復歸力。

基於上述，在本發明之無導軌微距迴旋裝置中，能藉由磁性組合來強化迴旋座相對於承載座旋轉時的方向性，並能提供迴旋座相對於承載座旋轉時的復歸力，故能提升無導軌微距迴旋裝置之微距迴旋之順暢性。

為讓本發明能更明顯易懂，下文特舉實施例，並配合所附圖式作詳細說明如下。

1‧‧‧無導軌微距迴旋裝置

10‧‧‧馬達

20、20A‧‧‧傳動裝置

21A‧‧‧第一皮帶輪

21‧‧‧第一齒輪

22A‧‧‧第二皮帶輪

22‧‧‧第二齒輪

23‧‧‧第三齒輪

24‧‧‧皮帶

30‧‧‧承載座

32‧‧‧固定槽

40‧‧‧迴旋座

42‧‧‧迴旋孔

421‧‧‧弧形

44‧‧‧凹槽

50‧‧‧旋轉軸

60‧‧‧迴旋臂

601‧‧‧弧形

70、70B、70C‧‧‧磁性組合

711、712、713、714‧‧‧第一磁性結構

721、722、723、724‧‧‧第二磁性結構

731、732、733、734‧‧‧第三磁性結構

7111A、7112、7122‧‧‧第一磁性結構

7211、7212、7222‧‧‧第二磁性結構

7311、7321、7331、7341‧‧‧第三磁性結構

7312、7322、7332、7342‧‧‧第三磁性結構

7113、7123‧‧‧第一磁性結構

7213、7223‧‧‧第二磁性結構

7321、7322、7323、7324‧‧‧第三磁性結構

7114、7124、7134、7144‧‧‧第一磁性結構

7214、7224、7234、7244‧‧‧第二磁性結構

711A、721A、731A‧‧‧磁極面積

7111‧‧‧容置孔

80‧‧‧滾珠軸承

90‧‧‧滑動層

P0、P1、P2‧‧‧磁力線

F1‧‧‧吸力

F2‧‧‧斥力

圖1為本發明一實施例之無導軌微距迴旋裝置的示意圖。

圖2為本發明之傳動裝置另一實施例的示意圖。

圖3A為圖1之第一磁性結構與第二磁性結構相吸的示意圖。

圖3B為圖1之第一磁性結構與第三磁性結構相斥的示意圖。

圖4A為圖1之迴旋座相對於承載座旋轉的一側面視角之示意圖。

圖4B為圖4A中第一磁性結構與第二磁性結構相吸的示意圖。

圖4C為圖4A中第一磁性結構與第三磁性結構相斥的示意圖。

圖5A為本發明另一實施例磁性組合設於迴旋座的示意圖。

圖5B為本發明另一實施例磁性組合設於承載座的示意圖。

圖6A為本發明另一實施例磁性組合設於迴旋座的示意圖。

圖6B為本發明另一實施例磁性組合設於承載座的示意圖。

圖7A為本發明另一實施例磁性組合設於迴旋座的示意圖。

圖7B為本發明另一實施例磁性組合設於承載座的示意圖。

圖8A為本發明另一實施例磁性組合設於迴旋座的示意圖。

圖8B為本發明另一實施例磁性組合設於承載座的示意圖。

以下結合附圖和實施例，對本發明的具體實施方式作進一步描述。以下實施例僅用於更加清楚地說明本發明的技術方案，而不能以此限制本發明的保護範圍。

請參閱圖1，在本實施例中，無導軌微距迴旋裝置1可用於一研磨機，無導軌微距迴旋裝置1可使研磨機中均質容器作微距旋轉偏心運動，造成均質容器之管壁與均質棒相互碰撞而增加研磨效果，提升均質效能。本實施例之無導軌微距迴旋裝置1包括一馬達10、一傳動裝置20、一承載座30、一迴旋座40、一旋轉軸50、一迴旋臂60、一磁性組合70、一滾珠軸承80以及一滑動層90。

在本實施例中，馬達10設置在承載座30之上端，傳動裝置20設置在承載座30之下端，傳動裝置20包含一第一齒輪21、一第二齒輪22與一第三齒輪23，第一齒輪21與第三齒輪23為主要傳動齒輪，第二齒輪22作 為輔助齒輪，以連接第一齒輪21與第三齒輪23之間。在另一實施例中，傳動裝置只有配置第一齒輪21與第三齒輪23，亦可達到同樣效果。第一齒輪21連接於馬達10，第一齒輪21與第二齒輪22相互嚙合，第二齒輪22與第三齒輪23相互嚙合，第三齒輪23連接於旋轉軸50，旋轉軸50上端與迴旋臂60相互連接。迴旋座40與承載座30相對配置，且在迴旋座40中行成一迴旋孔42，迴旋孔42的形狀為一正方形，並在正方形四個角成一弧形421(見圖5A)，迴旋臂60之外緣為一弧形601(見圖5A)，且迴旋臂60之外緣與迴旋孔42之內緣相接觸，迴旋臂60能帶動迴旋座40相對於承載座30旋轉，以及在下述磁性組合70之配置之下，馬達10經由傳動裝置20帶動旋轉軸50，因此，無導軌微距迴旋裝置1經由馬達10、第一齒輪21、第二齒輪22及第三齒輪23轉動旋轉軸50，使得迴旋臂60在迴旋孔42內緣滑動，達成無導軌微距迴旋裝置1微距迴轉之目的，當迴旋臂60旋轉時帶動迴旋孔42，迴旋座40具有旋轉半徑1mm~3mm，以達到微距迴轉之目的，其中旋轉半徑=迴旋臂60長度-迴旋孔42之半邊長。此外，圖1之傳動裝置20係以齒輪作為驅動，然本發明不對此加以限制，如圖2所示，圖2之傳動裝置20A係以皮帶輪組作為驅動，傳動裝置20A包含一第一皮帶輪21A、一第二皮帶輪22A以及一皮帶24，經由馬達驅動第一皮帶輪21A轉動，第一皮帶輪21A轉動皮帶24，使得皮帶24轉動第二皮帶輪22A，第二皮帶輪22A係可帶動旋轉軸50轉動。

請復參閱圖1，本實施例之磁性組合70提供迴旋座40相對於承載座30旋轉時的復歸力，詳細而言，磁性組合70包含一第一磁性結構711、712、713、714、一第二磁性結構721、722、723、724與第三磁性結構731、732、733、734，第一磁性結構711、712、713、714的數量為四個， 第一磁性結構711、712、713、714分別設置於迴旋座40之周圍內部，可在迴旋座40之周圍內部設置一長方孔或一長方槽，其大小略小於第一磁性結構711、712、713、714的尺寸，使得第一磁性結構711、712、713、714固定於長方孔或長方槽內，且第一磁性結構711、712、713、714環繞於迴旋孔42之外部周圍。第二磁性結構721、722、723、724的數量為四個，第二磁性結構721、722、723、724設置於承載座30之周圍內部，可在承載座30之周圍內部設置一長方孔或一長方槽，其大小略小於第二磁性結構721、722、723、724的尺寸，使得第二磁性結構721、722、723、724固定於長方孔或長方槽內，第一磁性結構711、712、713、714的位置分別與第二磁性結構721、722、723、724的位置相對應，且第一磁性結構711、712、713、714的形狀與第二磁性結構721、722、723、724的形狀相對應，如圖1所示，第一磁性結構711、712、713、714的形狀為長方柱形，第二磁性結構721、722、723、724的形狀亦為長方柱形，第一磁性結構711、712、713、714與第二磁性結構721、722、723、724係磁性相吸。如圖3A所示，圖3A係以第一磁性結構711與第二磁性結構721為例，第一磁性結構711的極性為N極，第二磁性結構721的極性為S極，第一磁性結構711與第二磁性結構721彼此相吸並形成一磁力線P0，由圖3A圖可看出磁力線P0由第一磁性結構711連接到第二磁性結構721。另一方面，第三磁性結構731、732、733、734的數量為四個，第三磁性結構731、732、733、734分別設置於承載座30，第三磁性結構731、732、733、734的形狀為圓柱形，且第三磁性結構731、732、733、734位於第二磁性結構721、722、723、724之X方向的外側，在Y方向的第二磁性結構721、722、723、724之磁性吸力較大，故在Y方向可不須設 置第三磁性結構731、732、733、734。第三磁性結構731、732、733、734與第一磁性結構711、712、713、714係磁性相斥。如圖3B所示，圖3B係以第一磁性結構711與第三磁性結構731為例，第一磁性結構711的極性為N極，第三磁性結構731的極性同為N極，第一磁性結構711與第三磁性結構731彼此相斥，而第一磁性結構711具有一磁力線P1，第三磁性結構731具有一磁力線P2，由圖3B可看出第一磁性結構711之磁力線P1與第三磁性結構731之磁力線P2分別朝外彼此相斥而不相互連接。

在上述磁性組合70之配置之下，當迴旋臂60帶動迴旋座40相對於承載座30旋轉時，第一磁性結構711、712、713、714與第二磁性結構721、722、723、724係磁性相吸，以強化迴旋座40相對於承載座30旋轉時的方向性而使迴旋座40產生更有規律的迴旋運動，第三磁性結構731、732、733、734與第一磁性結構711、712、713、714係磁性相斥，以提供迴旋座40相對於承載座30旋轉時的側向反作用力而使迴旋座40產生較佳的復位性。如圖4A與圖4B所示，迴旋座40朝一側迴旋時，第一磁性結構711亦朝一側迴旋，由於第一磁性結構711與第二磁性結構721係磁性相吸以產生吸力F1，可強化迴旋座40相對於承載座30旋轉時的方向性而不致於偏向過多，與此同時，如圖4A與圖4C所示，由於第一磁性結構711與第三磁性結構731係磁性相吸以產生斥力F2，藉由斥力F2以增加側向之反作用力，來推動迴旋座40朝另一側復位，如此一來，使得迴旋座40具有規律的迴旋運動。此外，如圖4B與圖4C所示，第一磁性結構711例如具有2700高斯的磁場強度且具有一磁極面積711A，第二磁性結構721例如具有2700高斯的磁場強度且具有一磁極面積721A，由於第一磁性結構711的形狀對應於第二磁性結構 721的形狀，均為長方柱形，故第一磁性結構711之磁極面積711A相等於第二磁性結構721之磁極面積721A，另一方面，第三磁性結構731例如具有3100高斯的磁場強度且具有一磁極面積731A，第一磁性結構711之磁極面積711A係大於第三磁性結構731之磁極面積731A，使得斥力F2不會大於吸力F1，迴旋座40能受到吸力F1之影響而能提供迴旋座40旋轉時的方向性，亦可受到外側斥力F2之影響來增加側向之反作用力，提供迴旋座40相對於承載座30旋轉時的復歸力。

請參閱圖1，在本實施例中，迴旋座40之底面設有一凹槽44，滑動層90設置於凹槽44中，滑動層90例如為玻璃，可藉由貼附的方式將玻璃固定在凹槽44中。另一方面，滾珠軸承80設置於承載座30的固定槽32中，滾珠軸承80係與滑動層90相接觸。在此配置之下，當迴旋座40相對於承載座30旋轉時，透過滑動層90接觸於滾珠軸承80，以提升無導軌微距迴旋裝置1的滑動性。

請參閱圖5A與圖5B，圖5A與圖5B係為磁性組合另一實施例的示意圖。本實施例之磁性組合70B包含一第一磁性結構7111A與一第二磁性結構7211，第一磁性結構7111A設置於迴旋座40，第一磁性結構7111A的形狀為圓環柱形，並在迴旋座40中形成一容置孔7111，第一磁性結構7111A位於容置孔7111之中。另一方面，第二磁性結構7211設置於承載座30，第二磁性結構7211的形狀為圓環柱形，第一磁性結構7111A的位置與第二磁性結構7211的位置相對應。在此配置之下，本實施例亦可藉由第一磁性結構7111A磁性相吸於第二磁性結構7211，以強化迴旋座40相對於承載座30旋轉時的方向性而使迴旋座40產生更有規律的迴旋運動。

請參閱圖6A與圖6B，圖6A與圖6B係為磁性組合另一實施例的示意圖。本實施例之磁性組合70C包括一第一磁性結構7112、7122、第二磁性結構7212、7222與第三磁性結構7311、7321、7331、7341、7312、7322、7332、7342。第一磁性結構7112、7122設置於迴旋座40，第一磁性結構7112、7122的形狀為長方柱形，以提升磁力限制面積，並且第一磁性結構7112的兩側分別具有第三磁性結構7311、7331，第一磁性結構7122的兩側分別具有第三磁性結構7321、7341，第三磁性結構7311、7321、7331、7341的形狀為圓柱形，以延長或補充磁力限制面積。另一方面，第二磁性結構7212、7222設置於承載座30，第二磁性結構7212、7222的位置與第一磁性結構7112、7122的位置相對應，且第二磁性結構7212、7222分別與第一磁性結構7112、7122係磁力相吸，並且，第二磁性結構7212的兩側分別具有第三磁性結構7312、7332，第二磁性結構7222的兩側分別具有第三磁性結構7322、7342，且第三磁性結構7312、7322、7332、7342的位置分別對應於第三磁性結構7311、7321、7331、7341，第三磁性結構7312、7322、7332、7342與第三磁性結構7311、7321、7331、7341係磁性相吸。在此配置之下，本實施例可藉由長方柱形的第一磁性結構7112、7122與長方柱形的第二磁性結構7212、7222，配合圓柱形的第三磁性結構7311、7321、7331、7341、7312、7322、7332、7342，亦可強化迴旋座40相對於承載座30旋轉時的方向性而使迴旋座40產生更有規律的迴旋運動。

請參閱圖7A與圖7B，圖7A與圖7B係為磁性組合另一實施例的示意圖。本實施例之磁性組合70D包括第一磁性結構7113、7123、第二磁性結構7213、7223與第三磁性結構7321、7322、7323、7324。第一磁性結 構7113、7123設置於迴旋座40，第一磁性結構7113、7123的形狀為長方柱形，以提升磁力限制面積。另一方面，第二磁性結構7213、7223設置於承載座30，第二磁性結構7213、7223的位置與第一磁性結構7113、7123的位置相對應，且第二磁性結構7213、7223與第一磁性結構7113、7123係磁力相吸，並且，第二磁性結構7213的外側分別具有第三磁性結構7321、7323，第二磁性結構7223的外側分別具有第三磁性結構7322、7324，第三磁性結構7321、7323係磁性相斥於第一磁性結構7113，第三磁性結構7322、7324係磁性相斥於第一磁性結構7123。在此配置之下，本實施例可藉由長方柱形的第一磁性結構7113、7123磁力相吸於長方柱形的第二磁性結構7213、7223，並由於第三磁性結構7321、7323、7322、7324係磁力相斥於第一磁性結構7113、7123以增加側向之反作用力，更可強化迴旋座40相對於承載座30旋轉時的方向性而使迴旋座40產生更有規律的迴旋運動。

請參閱圖8A與圖8B，圖8A與圖8B係為磁性組合另一實施例的示意圖。本實施例之磁性組合70E包括第一磁性結構7114、7124、7134、7144、第二磁性結構7214、7224、7234、7244與第三磁性結構7313、7323、7333、7343。第一磁性結構7114、7124、7134、7144的形狀為圓柱形，第二磁性結構7214、7224、7234、7244的形狀為圓柱形，第一磁性結構7114、7124、7134、7144的位置對應於第二磁性結構7214、7224、7234、7244的位置，且第一磁性結構7114、7124、7134、7144係分別磁性相吸於第二磁性結構7214、7224、7234、7244。第三磁性結構7313、7323、7333、7343的形狀亦為圓柱形，且第三磁性結構7313、7323、7333、7343鄰近於第二磁性結構7214、7224、7234、7244，第三磁性結構7313、7323、7333、7343 係磁性相斥於第一磁性結構7114、7124、7134、7144，且第一磁性結構7114、7124、7134、7144之磁極面積大於第三磁性結構7313、7323、7333、7343之磁極面積。在此配置之下，本實施例可藉由圓柱形的第一磁性結構7114、7124、7134、7144磁力相吸於圓柱形的第二磁性結構7214、7224、7234、7244，並由於第三磁性結構7313、7323、7333、7343係磁力相斥於第一磁性結構7114、7124、7134、7144以增加側向之反作用力，更可強化迴旋座40相對於承載座30旋轉時的方向性而使迴旋座40產生更有規律的迴旋運動。

綜上所述，在本發明之無導軌微距迴旋裝置中，能藉由磁性組合來限制迴旋座相對於承載座旋轉時的方向性，並能提供迴旋座相對於承載座旋轉時的復歸力，故能提升無導軌微距迴旋裝置之微距迴旋之順暢性。

雖然本發明已以實施例揭露如上，然其並非用以限定本發明，任何所屬技術領域中具有通常知識者，在不脫離本發明之精神和範圍內，當可作些許之更動與潤飾，故本發明之保護範圍當視後附之申請專利範圍所界定者為準。

Claims (24)

1. 一種無導軌微距迴旋裝置，包括：一承載座；一迴旋座，與該承載座相對配置，其中該迴旋座之底面設有一凹槽；一迴旋臂，帶動該迴旋座相對於該承載座旋轉；以及一磁性組合，提供該迴旋座相對於該承載座旋轉時的復歸力。
2. 如申請專利範圍第1項所述之無導軌微距迴旋裝置，其中該磁性組合包含一第一磁性結構與一第二磁性結構，該第一磁性結構設置於該迴旋座，該第二磁性結構設置於該承載座，該第一磁性結構與該第二磁性結構係磁性相吸。
3. 如申請專利範圍第2項所述之無導軌微距迴旋裝置，其中該第一磁性結構位於該迴旋座之周圍內部。
4. 如申請專利範圍第2項所述之無導軌微距迴旋裝置，其中該第一磁性結構的形狀為圓環柱形，該第二磁性結構的形狀為圓環柱形。
5. 如申請專利範圍第2項所述之無導軌微距迴旋裝置，其中該第一磁性結構的形狀為長方柱形，該第二磁性結構的形狀為長方柱形。
6. 如申請專利範圍第2項所述之無導軌微距迴旋裝置，其中該第一磁性結構的形狀為圓柱形，該第二磁性結構的形狀為圓柱形。
7. 如申請專利範圍第2項所述之無導軌微距迴旋裝置，其中該第一磁性結構的位置與該第二磁性結構的位置相對應。
8. 如申請專利範圍第2項所述之無導軌微距迴旋裝置，其中該第二磁性結構的形狀與第一磁性結構的形狀相對應，且該第二磁性結構位於該承載座之周圍內部。
9. 如申請專利範圍第2項所述之無導軌微距迴旋裝置，其中該磁性組合包 括一第三磁性結構，該第三磁性結構設置於該承載座，該第三磁性結構與該第一磁性結構係磁性相斥。
10. 如申請專利範圍第9項所述之無導軌微距迴旋裝置，其中該第一磁性結構之磁極面積大於該第三磁性結構之磁極面積。
11. 如申請專利範圍第9項所述之無導軌微距迴旋裝置，其中該第三磁性結構的形狀為圓柱形。
12. 如申請專利範圍第9項所述之無導軌微距迴旋裝置，其中該第三磁性結構鄰近於該第二磁性結構。
13. 如申請專利範圍第9項所述之無導軌微距迴旋裝置，其中該第三磁性結構位於該第二磁性結構之外側。
14. 如申請專利範圍第1項所述之無導軌微距迴旋裝置，更包括：一滑動層，設置於該凹槽中。
15. 如申請專利範圍第14項所述之無導軌微距迴旋裝置，更包括：一滾珠軸承，設置於該承載座，該滾珠軸承係與該滑動層相接觸。
16. 如申請專利範圍第14項所述之無導軌微距迴旋裝置，其中該滑動層為玻璃。
17. 如申請專利範圍第1項所述之無導軌微距迴旋裝置，其中在該迴旋座中行成一迴旋孔，該迴旋臂與該迴旋孔之內緣相接觸。
18. 如申請專利範圍第17項所述之無導軌微距迴旋裝置，其中該迴旋孔的形狀為一正方形，並在該正方形四個角成一弧形。
19. 如申請專利範圍第1項所述之無導軌微距迴旋裝置，其中該迴旋臂之外緣為一弧形，並與該迴旋孔之內緣相互接觸。
20. 如申請專利範圍第1項所述之無導軌微距迴旋裝置，其中該迴旋座具有1mm-3mm旋轉半徑。
21. 如申請專利範圍第1項所述之無導軌微距迴旋裝置，更包括：一旋轉軸，其上端與該迴旋臂相互連接。
22. 如申請專利範圍第21項所述之無導軌微距迴旋裝置，更包括：一馬達，該馬達經由一傳動裝置帶動該旋轉軸。
23. 如申請專利範圍第22項所述之無導軌微距迴旋裝置，其中該傳動裝置包含齒輪。
24. 如申請專利範圍第22項所述之無導軌微距迴旋裝置，其中該傳動裝置包含皮帶輪組。