TWI666993B - 用於霧劑產生之感應加熱裝置及系統 - Google Patents

Abstract

本發明係關於一種用於霧劑產生之感應加熱裝置，其包含一裝置外殼，該裝置外殼包含一個具有一內表面之腔室，該腔室用於接收一霧劑形成插入件之至少一部分，其中該霧劑形成插入件包含一霧劑形成基材及一感受器。該裝置外殼進一步包含一個具有一磁軸之感應線圈，該感應線圈佈置為包圍該腔室之至少一部分。該裝置還進一步包含一電源，該電源連接至該感應線圈且經組態為向該感應線圈提供高頻電流。本說明書中，形成該感應線圈之配線材料之剖面包含一主要部分，該主要部分具有沿該磁軸之方向之縱向延展及垂直於該磁軸之橫向延展，該主要部分之該縱向延展長於該橫向延展。

Description

用於霧劑產生之感應加熱裝置及系統

本發明係關於一種可感應加熱之吸煙裝置，其中可藉由感應加熱一霧劑形成基材而產生霧劑。

在可電加熱之裝置中，當前缺陷在於位於裝置內之電池可提供之能量有限。此類裝置之小型化趨勢更對此些電源增加了額外壓力。為了最佳化能量之使用，已有人提出能量感應加熱。藉由感應加熱，可獲得更好的進入裝置待加熱部分之能量傳送，且可更好地將能量轉化為熱能。然而，小型化之電吸煙裝置仍必須時常再充電，此點可能對使用者造成不便。

因此，需要改良之用於霧劑產生之感應加熱裝置。尤其需要此類裝置顧及能量效率。

根據本發明之一態樣，提供了一種用於霧劑產生之感應加熱裝置。該裝置包含一裝置外殼，該裝置外殼包含一個具有一內表面之腔室，該腔室用於接收一霧劑形成插入件之至少一部分，其中該霧劑形成插入件包含一霧劑形成基材及一感受器。該裝置外殼進一步包 含一個具有一磁軸之感應線圈，其中該感應線圈經配置為包圍該腔室之至少一部分。該裝置進一步包含一電源，該電源連接至該感應線圈且經組態為向該感應線圈提供高頻電流。形成該感應線圈之配線材料之剖面包含一主要部分。該主要部分具有沿該磁軸之方向之縱向延展及垂直於該磁軸之橫向延展。較佳地，垂直於磁軸之橫向延展沿著徑向方向延展。剖面之主要部分之縱向延展長於剖面之主要部分之橫向延展。簡言之，相較於用剖面為圓形之配線形成的習知螺旋狀感應線圈，該配線材料全部或至少在主要部分處之形式為扁平狀。因此，配線材料在主要部分中沿線圈之磁軸延展並以較小程度延展至徑向方向上。藉此方式，可降低感應線圈中之能量損失。尤其可降低電容損失。兩個充電物體之電容與兩個相鄰表面之表面面積成正比，此處為感應線圈中彼此相向之相鄰繞線或線匝之側邊。因此，藉由減少繞線在垂直方向之延展，降低了電容損失。

較佳地，主要部分具有矩形之形式。在一些較佳實施例中，主要部分形成配線材料之整個剖面。在此些實施例中，用具有矩形剖面之配線材料螺旋地形成感應線圈，從而形成螺旋狀扁平線圈(就配線材料之形式而言為扁平)。此類感應線圈容易生產。除降低能量損失之外，其還具有能最小化感應線圈之外直徑之額外優勢。此點使得可最小化裝置。藉由提供扁平線圈而獲得之空間亦可用於磁屏之提供，而無需改變裝置之尺寸、甚至進一步最小化裝置。

在本發明之裝置中，感應線圈係配置於裝置外殼中、包圍該腔室。此舉有利，因感應線圈可配置為不與腔室或或任何插入腔室中之材料接觸。感應線圈可完全嵌於外殼中，例如模鑄於外殼材料中。感應線圈與外部影響相隔離，可固定地安裝於外殼中。此外，腔室中未容納插入件時，腔室可為全空。此舉不僅使腔室、亦使整個裝置之清潔得以實現以及便利化，同時無需承擔損壞裝置各部件之風險。又，腔室中不存在當一插入件插入或取出腔室時可能受損之元件或可能需要清潔之元件。

根據本發明之裝置之另一態樣，剖面包含一次要部分。該次要部分具有沿磁軸之垂直方向之縱向延展及沿磁軸之方向之橫向延展，次要部分之縱向延展長於橫向延展。次要部分之橫向延展總是小於主要部分之縱向延展，次要部分之縱向延展總是大於主要部分之橫向延展。由此，配線材料之剖面可保持較大，且同時亦可降低感應線圈中之能量損失。電容亦與相鄰表面之距離成反比。因此，可藉由增加相鄰表面間之距離使電容更小。較佳地，用尺寸均勻之配線材料生產感應線圈，使得感應線圈之繞線大體相同。若配線材料之次要部分在徑向方向上具有擴大之延展，則每圈繞線之該些次要部分相互間隔開。該相互間隔開不僅藉由如習知感應線圈中之相鄰繞線間之距離、亦藉由主要部分之縱向延展之長度間隔開。

提供次要部分亦可於感應線圈與裝置外殼外壁之間、或亦於各圈繞線之間提供額外之空間。藉由最小化線圈尺寸而獲得之此空間中可配置例如遮罩材料。

較佳地，具有主要部分及次要部分之配線材料之剖面為L形。

較佳地，感應線圈係配置於靠近腔室，以便靠近插入腔室之中之、用感應線圈產生之電磁場加熱之感受器。因此，若感應線圈之配線材料之剖面包含次要部分，其中剖面之次要部分之縱向延展超過主要部分之橫向延展，則次要部分較佳延展至感應線圈之徑向向外的方向上。由此，可確保主要部分為剖面上最靠近腔室之部分。

配線材料之剖面之另一形式可為T形。本說明書中，T係配置為反轉方式，T之頭部形成主要部分且經配置為平行於腔室之縱向軸。

剖面之又一形式為三角形，其中三角形之底邊係配置為平行於感應線圈之磁軸且平行於腔室之縱向軸。本發明之感應線圈之形式大體可界定為：剖面之最大縱向延展形成剖面之一邊。本說明書中，配線材料係配置為使配線材料之剖面之最大縱向延展平行於感應線圈之磁軸而延展。本說明書中，配線材料亦包圍腔室，以使配線材料之剖面之最大縱向延展最接近腔室。剖面之任何其他縱向延展等於(例如扁平線圈中)或小於(例如三角形線圈感應線圈中)最大縱向延展。

根據本發明之裝置之另一態樣，感應線圈之配線材料由李茲(Litz)線製成或為李茲纜線。在李茲材料中，線材或纜線由各個獨立之線材製成，例如以撚繞方式束緊或打辮。李茲材料尤其適合於輸送交流電。各線材經設計以減少高頻下導體之集膚效應(skin effect)及鄰近效應(proximity effect)損失，並允許感應線圈之配線材料之內部有助於增加感應線圈之傳導性。

電源提供之流經感應線圈之高頻電流之頻率可介於1MHz至30MHz之間範圍、較佳介於1MHz至10MHz之間範圍、更加介於5MHz至7MHz之間範圍。在本發明書中，短語「介於...之間範圍」應理解為顯然亦包含各邊界值。

根據本發明之裝置之另一態樣，感應線圈包含三至五圈繞線。在此些實施例中，配線材料或其主要部分之剖面較佳各自形成一扁平矩形。藉此，可以極有效率之方式生產充足長度之感應線圈。若感應線圈為扁平線圈且採用李茲纜線形成感應線圈，則生產將尤其有效率。

慮及本發明之裝置中所用之感應線圈之生產，圖示主要部分或扁平線圈之該些尺寸已介於最佳範圍內。此些尺寸尤其對於感應加熱吸煙裝置中所用之感應線圈而言達到最佳化。

根據本發明之裝置之又一態樣，裝置進一步包含一個置於裝置外殼之外壁與感應線圈之間的磁屏。置於感應線圈外部之磁屏可最小化到達裝置外部之電磁 場。較佳地，磁屏包圍感應線圈。此類屏可藉由裝置外殼自身之材料選取而獲得。磁屏亦可採取例如薄片材料之形式或裝置外殼之外壁內塗層之形式。屏亦可為例如雙層或多層屏材料例如阿姆科鐵(mu-metal)，以改良遮罩效應。較佳地，屏之材料具有高導磁率且可為磁鐵材料。磁屏材料亦可配置於感應線圈之各圈繞線之間。較佳地，屏材料(若有)繼而提供於配線材料之剖面之次要部分之間。藉此，次要部分間之空間可用於磁屏。較佳地，提供於繞線間之屏材料具有特定屬性。

磁屏亦可具有磁集中器(magnetic concentrator)之功能，從而吸引及導引磁場。此場集中器可與上述磁屏同時存在、作為上述磁屏之附屬存在或獨立於其而存在。

根據本發明之裝置之一態樣，腔室之內表面之周圍部分及感應線圈為圓柱形。在此配置中，腔室內之磁場分佈基本均勻。因此，視感受器之配置而定，可實現容納於腔室中之霧劑形成插入件之規則或對稱加熱。此外，圓柱形腔室之清潔變容易了，因為不存在或僅存在少許可能累積汙物或餘料之邊緣。

較佳地，霧劑形成插入件緊密貼合於裝置外殼之腔室中，以使其可由腔室之內表面固持。裝置外殼或腔室之內表面亦可形成為對插入之插入件提供更好的固持作用。根據本發明之裝置之另一態樣，裝置外殼包含保持組件以用於當霧劑形成插入件容納於腔室中時將霧劑形成插入件固持於腔室中。此類保持組件可為例如 腔室內表面上延伸至腔室內之一些突起。較佳地，該些突起係配置於腔室之遠端區域，靠近或位於插入開口的位置，在該插入開口處，霧劑形成插入件插入裝置外殼之腔室中。例如，突起可具有沿周圍行進之肋狀物或部分肋狀物的形式。突起亦可充當對齊組件，用於支撐插入件引入腔室內。較佳地，對齊組件具有縱向肋狀物之形式，該縱向肋狀物沿腔室內表面之周圍部分縱向延展。突起亦可配置於插針(pin)處，例如沿徑向方向延展。較佳地，保持組件實現插入件之一定程度的固定，使得插入件不會脫落出腔室，即使當腔室倒置時。然而，當對插入件施加一定釋放力時，保持組件較佳再次釋放插入件而不致損壞插入件。

根據本發明之另一態樣，亦提供一種感應加熱及霧劑產生之系統。該系統包含具有如本申請書中所描述之感應線圈的裝置，且包含霧劑形成插入件，該霧劑形成插入件包含霧劑形成基材及感受器。霧劑形成基材容納於裝置之腔室中，且在其中經配置為使霧劑形成插入件之感受器可被感應線圈所產生之電磁場感應加熱。

以上已描述了該裝置之態樣及優點，下文將不再重複。

霧劑形成基材較佳為能夠釋放揮發性化合物以形成霧劑之基材。藉由加熱霧劑基材釋放出揮發性化合物。霧劑形成基材可為固體或液體或同時包含固體與液體組份。

霧劑形成基材可包含尼古丁。包含尼古丁之霧劑形成基材可為尼古丁鹽基質。霧劑形成基材可包含基於植物之材料。煙霧形成基材可包含菸草，較佳為含有菸草之材料，該材料含有在加熱後即自霧劑形成基材釋放的揮發性菸草味化合物。或者，霧劑形成基材可包含均質化菸草材料。

均質化菸草材料可藉由黏聚特定菸草來形成。若存在，均質化菸草材料所含之含量基於乾燥重量可等於或大於5%、較佳基於乾燥重量在大於5%與30%之間。

或者，霧劑形成基材可包含不含菸草之材料。霧劑形成基材可包含均質化之基於植物之材料。

霧劑形成基材可包含至少一個霧劑形成物。霧劑形成物可為任何適合之已知化合物或化合物之混合，其在使用中便於形成一種濃稠且穩定之霧劑，且在霧劑產生裝置之操作溫度下對熱降解有實質性抵抗力。合適之霧劑形成物為熟習該項技術者熟知，包括但不限於：多元醇，如三甘醇、1,3-丁二醇及甘油；多元醇之酯，如一、二或三醋酸甘油酯；及一、二或多羧酸之脂族酯，如十二烷二羧酸二甲酯及十四烷二羧酸二甲酯。尤佳之霧劑形成物為多元醇或其混合物，如三甘醇、1,3-丁二醇，最佳為甘油。

霧劑形成基材可包含其他添加物或成分，如芳香劑。

感受器為能夠感應加熱之導體。感受器能夠吸收電磁能量並將其轉化為熱能。在本發明之系統中，由一個或若干感應線圈產生之變化電磁場加熱感受器，感受器繼而主要藉由熱傳導，將熱能傳送至霧劑形成插入件之霧劑形成基材。由此，感受器與霧劑形成基材之材料熱性相鄰。感受器之形式、種類、分佈及配置可根據使用者需求而選擇。

在一些較佳實施例中，霧劑形成插入件為一料匣，其包含一感受器且含有一液體，較佳包含尼古丁。在其他一些較佳實施例中，霧劑形成插入件為包含一感受器之菸草材料容納單元。菸草材料容納單元可為一個包含感受器及由均質化菸草材料製成之菸草插條(tobacco plug)的單元。菸草材料容納單元可進一步包含一濾嘴，該濾嘴配置於菸草材料容納單元之口端。

由於本發明之裝置的裝置外殼中之腔室可具有簡單開口形式，例如管形杯之形式，亦可方便欲插入腔室之插入件之製造。此插入件可為例如管狀形狀。

1‧‧‧感應加熱裝置

2‧‧‧霧劑形成插入件，霧劑形成單元，插入單元

10‧‧‧外殼

11‧‧‧內部電源，可再充電電池

12‧‧‧電子器件

13‧‧‧腔室

15‧‧‧感應線圈

17‧‧‧遮屏材料

18‧‧‧粒狀材料，集中器材料

20‧‧‧插塞，霧劑形成基材

21‧‧‧香菸濾嘴

22‧‧‧感受器

25‧‧‧感應線圈

35‧‧‧感應線圈

45‧‧‧感應線圈，繞線

101‧‧‧觸點

102‧‧‧開口

103‧‧‧外壁，外殼壁

130‧‧‧腔室壁，下壁

131‧‧‧腔室側壁，腔室壁，下壁

132‧‧‧突起

150‧‧‧電連接，繞線

151‧‧‧較大延展

152‧‧‧較窄延展

251‧‧‧足部

252‧‧‧腿部

253‧‧‧距離

254‧‧‧距離

255‧‧‧延展

351‧‧‧頭部

352‧‧‧腿部

400‧‧‧縱向軸，磁軸，中心軸

451‧‧‧底邊

452‧‧‧頂端

參照以下附圖所說明之實施例可對本發明作進一步描述，其中：圖1為包含扁平感應線圈之感應加熱裝置之示意圖，其中霧劑形成基材插入裝置之腔室中；圖2展示了例如圖1中所示之感應加熱裝置之節選的剖面圖，其中腔室被扁平感應線圈及磁屏所包圍； 圖3展示了具有方形直徑之扁平感應線圈的實施例；圖4展示了腔室被L形感應線圈包圍之感應加熱裝置之節選的剖面圖；圖5展示了被反向T形感應線圈包圍之腔室之節選；圖6展示了被三角形感應線圈包圍之腔室之節選。

圖1示意性展示了感應加熱裝置1與處於霧劑形成插入件2之安裝狀態下的霧劑形成插入件2，其等形成一感應加熱系統。感應加熱裝置1包含裝置外殼10，其遠端有觸點101，例如對接埠(docking port)與插針，用於連接內部電源11至外部電源(未圖示)，例如充電裝置。內部電源11，例如可再充電電池11，置於裝置外殼內外殼10之遠端。

裝置之近端具有插入開口102，用於將霧劑形成插入件2插入腔室13中。腔室13形成於裝置外殼內裝置外殼之近端區域。腔室13經構設為可移除地接收霧劑形成插入件2於腔室13中。螺旋感應線圈15置於裝置內裝置外殼10之外壁103與腔室側壁131之間。感應線圈15之磁軸對應於腔室13之縱向軸400，該縱向軸在此實施例中又對應於裝置1之縱向軸。以下將於圖2至圖6中進一步更詳盡描述裝置外殼之腔室、感應線圈及遠端區域的實施例。

裝置1進一步包含電子器件12，例如含電子路線之印刷電路板。電子器件12同感應線圈15一樣接 收來自內部電源11之電力。各組件相應互連。進出感應線圈15之電連接150穿行於外殼內但在腔室13外。感應線圈15與腔室13或腔室內可能配置或存在之任何元件無接觸。因此，電組件可與腔室13中之組件或製程保持分開。此可為霧劑形成單元2自身，但特別而言亦可為從單元或其部件之加熱中、或從霧劑產生製程中出現之殘餘物。較佳地，裝置1之腔室13與具有電子器件12及電源11之遠端區域間的分離為液密(fluid-tight)。然而，可於腔室壁130、131上及於裝置外殼上或同時於二者上，提供用於允許氣流進入裝置1之近端方向之揮發開口。

腔室13具有由腔室壁130、131形成之內表面。腔室13之一開口端形成插入開口102。經由插入開口，可將霧劑形成單元2，例如菸草插條或含霧劑之料匣，插入腔室13。此霧劑形成單元可配置在腔室中，當該單元容納於腔室13中時，使該單元之感受器22可被感應線圈15中所產生之電磁場及感受器中感應之電流所感應加熱。在插入單元2時，腔室13之下壁131可形成機械性的止擋。

霧劑形成插入件可包含例如霧劑形成基材，例如菸草材料，及包含霧劑形成物之插塞20。插入件2包含用於感應加熱霧劑形成基材之感受器22，且可包含香菸濾嘴21。感應線圈產生之電磁場感應加熱霧劑形成基材20中之感受器。感受器之熱量傳送至霧劑形成插入件，從而蒸發出可形成霧劑以供使用者吸入之組份。

圖2展示了感應加熱裝置例如圖1之感應加熱裝置之腔室13之放大之剖面。腔室由腔室側壁131及下壁130形成，且具有插入開口102。在腔室側壁131與裝置外殼10之外壁103之間設置扁平感應線圈15。扁平感應線圈15為螺旋線圈且沿腔室之長度或腔室之部分長度延展。較佳地，外壁103、裝置外殼10、扁平感應線圈15及腔室13為管狀形狀且同心配置。扁平感應線圈可嵌於裝置外殼中。較佳地，扁平感應線圈由扁平線材或李茲纜線製成。較佳地，感應線圈之材料為銅。

腔室13可具有保持裝置以用於固持霧劑形成單元於腔室中。採用環形配置之突起132之形式的保持裝置延展入腔室中。腔室壁131及裝置外殼10可由相同材料製成，較佳由塑膠材料製成。較佳地，腔室壁130、131使用例如射出成型而形成為一體。

感應線圈之繞線150於縱向方向上之較大延展151使之能於線圈內沿線圈之磁軸400方向上產生較為均勻之電磁場。然而，感應線圈之繞線於徑向方向上之較窄延展152可限制電容損失，並可容許增大腔室13之直徑抑或限制裝置1之直徑。

一片遮屏材料17同心地配置於感應線圈15與外殼壁103之間。此片材料充當磁屏。較佳地，遮屏材料具有高磁導率，以便感應場可進入遮屏材料且受導引於遮屏材料中。較佳地，使用阿姆科鐵(mu-metal)作為薄片材料。

減少遮屏材料17之外部之場的因素取決於製屏所用磁性材料之磁導率、提供導磁路徑之此材料之厚度及磁起伏之頻率。因此，薄片材料及其配置可適應於特定用途及應用場合。例如藉由利用遮屏材料中之渦電流之形成，薄片材料亦有可阻攔磁場之作用。此遮屏方式尤其適用於更高頻率時。對於此類遮屏，使用導電材料。

除遮屏材料薄片17之外，亦可於遮屏材料17與外殼壁103之間提供採用粒狀材料18之形式之其他遮屏材料。較佳地，粒狀材料18為場集中器材料，且配置於感應線圈15之繞線150之間。

圖3展示了由李茲纜線製成之扁平螺旋感應線圈15。感應線圈15具有三圈繞線150及約22毫米之長度。感應線圈15自身為方形之形式。

圖4展示了例如圖1所描述之感應加熱裝置之腔室13之放大之剖面。相同或相似之元件使用圖2中相同之元件編號。

腔室側壁131與裝置外殼10或外壁103之間設置L形感應線圈25。感應線圈25為螺旋線圈，其中製作L形感應線圈25之繞線材料具有L形剖面。

L形感應線圈25沿腔室13之長度或部分長度延展。較佳地，裝置外殼10(至少腔室之區域)、L形感應線圈25及腔室13為管狀形狀且同心地配置。L形感應線圈係配置於裝置外殼10內且可嵌於其中。

L之「足部」251(或剖面之主要部分)的尺寸可等於例如圖2及圖3中所描述之扁平感應線圈之長度。較佳地，L之「腿部」250(或剖面之次要部分)於徑向方向上之延展255等於或小於縱向方向上之「足部」。

同樣，各圈繞線250間之電容損失小於常見感應線圈使用相當之圓形線材時。繞線150之腿部252(或具有徑向較大延展之次要部分)間之距離253遠大於相鄰繞線150間之距離254。繞線150之間彼此直接相鄰且彼此相對之表面主要為L形繞線之較為扁平的「足部」(或剖面之主要部分)。

在由L形感應線圈25之L形成於各圈繞線之間的空間中設置集中器材料18。

圖5及圖6中展示了另外兩個感應線圈實施例。圖5中之剖面具有反向T形。「頭部」351為感應線圈最接近腔室13之部分。T之「頭部」配置為平行於腔室13之側壁131或腔室之縱向中心軸400。

T之「腿部」352相對於腔室13之中心軸400沿徑向方向延展。同樣，T之腿部間之距離253大於、較佳約兩倍至三倍於感應線圈35的個別繞線351間之距離254。集中器材料18係被提供於感應線圈35之繞線351之間。集中器材料18可用感應線圈35之材料之T形剖面之「腿部」保持於原位。

如圖6所示，感應線圈45之剖面可為三角形。三角形之底邊451係配置為平行於腔室13之側壁131。底邊451為三角形在腔室13之縱向方向上之最大 延展且配置為最接近腔室13。三角形之頂端452為三角形在縱向方向上之最小延展且配置為最遠離腔室。頂端452指向遠離腔室之方向。同樣，頂端至頂端452之距離253大於相鄰繞線45間之距離254。

三角形之徑向延展255可小於或大於、但較佳小於三角形之縱向延展(底邊451)，以便保持感應線圈45之直徑小。

感應線圈配置與感應加熱裝置僅以舉例之方式圖示。根據使用者之需要或結合裝置使用之待加熱之霧劑形成單元，可對例如長度、繞線圈數、感應線圈位置或厚度進行變化。

Claims (15)

1. 一種用於霧劑產生之感應加熱裝置，該裝置包含：一裝置外殼，其包含一具有一內表面之腔室，該腔室用於接收一霧劑形成插入件之至少一部分，其中該霧劑形成插入件包含一霧劑形成基材與一感受器，該裝置外殼進一步包含一具有一磁軸之感應線圈，該感應線圈經配置為包圍該腔室之至少一部分；一電源，該電源連接至該感應線圈且經組態為向該感應線圈提供高頻電流，其中，形成該感應線圈之配線材料之剖面包含一主要部分，該主要部分具有沿該磁軸之方向之縱向延展及垂直於該磁軸之橫向延展，該主要部分之該縱向延展長於該橫向延展。
2. 如申請專利範圍第1項之裝置，其中該主要部分具有矩形之形式。
3. 如申請專利範圍第1或2項之裝置，其中該主要部分形成該配線材料之整個該剖面。
4. 如申請專利範圍第1或2項之裝置，其中該配線材料之該剖面進一步包含一次要部分，該次要部分具有沿該磁軸之垂直方向之縱向延展及沿該磁軸之方向之橫向延展，該次要部分之該縱向延展長於該橫向延展。
5. 如申請專利範圍第4項之裝置，其中該配線材料之該剖面為L形。
6. 如申請專利範圍第1或2項之裝置，其中該感應線圈之該配線材料由李茲線製成或為李茲纜線。
7. 如申請專利範圍第1或2項之裝置，其中該感應線圈包含三至五圈繞線。
8. 如申請專利範圍第1項之裝置，進一步包含一位於該裝置外殼之外壁與該感應線圈之間的磁屏。
9. 如申請專利範圍第8項之裝置，其中該磁屏以一薄片材料或以該裝置外殼之外壁內塗層之形式包圍該感應線圈。
10. 如申請專利範圍第8或9項之裝置，其中該磁屏係配置於該感應線圈之各圈繞線之間。
11. 如申請專利範圍第1或2項之裝置，其中該腔室之該內表面之周圍部分及該感應線圈為圓柱形。
12. 如申請專利範圍第1或2項之裝置，其中該裝置外殼包含保持組件，以用於當該霧劑形成插入件容納於該腔室中時，將該霧劑形成插入件固持於該腔室中。
13. 一種感應加熱及霧劑產生系統，其包含一如申請專利範圍第1至12項中任一項之裝置及一霧劑形成插入件，該霧劑形成插入件包含一霧劑形成基材及一感受器，其中該霧劑形成基材容納於該裝置之該腔室中，且在其中經配置為使該霧劑形成插入件之該感受器可被感應線圈所產生之電磁場感應地加熱。
14. 如申請專利範圍第13項之系統，其中該霧劑形成插入件為以下之一者：一料匣，包含一感受器且含有一液體及一菸草材料容納單元，包含一感受器。
15. 如申請專利範圍第14項之系統，其中該液體包含尼古丁。