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TWI663955B - 用於影響組織的色素形成之方法及設備 - Google Patents

用於影響組織的色素形成之方法及設備 Download PDF

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TWI663955B
TWI663955B TW104104785A TW104104785A TWI663955B TW I663955 B TWI663955 B TW I663955B TW 104104785 A TW104104785 A TW 104104785A TW 104104785 A TW104104785 A TW 104104785A TW I663955 B TWI663955 B TW I663955B
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曼史特林戴特爾
陳衍里
左文森
丁明適
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美商綜合醫院股份有限公司
美商布羅盛創新有限責任公司
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Abstract

本文提供用於冷卻一皮膚組織之示範性設備及方法。舉例而言，有可能使用包含一遠端表面之一接觸佈置來接觸該皮膚組織的一表面，且亦有可能利用一冷卻佈置。該冷卻佈置可以經配置以將該接觸佈置之至少一部分冷卻至小於約-4℃之溫度。該接觸佈置之該遠端表面可以包含複數個設置於其中之凹坑。

Description

用於影響組織的色素形成之方法及設備 【相關申請案之交互參照】
本申請案係關於且主張2014年2月12日申請的美國臨時專利申請案第61/939,162號的優先權，該申請案之內容以全文引用之方式併入本文。
本揭示內容通常係關於影響生物組織之色素形成，且更特定言之，係關於用於控制皮膚組織之冷卻以影響其色素形成之方法及設備。
諸如皮膚組織之生物組織的控制冷卻或冷凍可以產生各種作用。諸如習知冷凍探針之特定組織冷凍程序及裝置會造成組織之嚴重冷凍且產生細胞損傷。舉例而言，適當程度之冷卻或冷凍可以產生特定影響，諸如影響皮膚色素形成之表現。
對亮化皮膚外觀或以其他方式可控制地影響皮膚色素形成之美容產品存在需要。例如，為了美容因素可能需要亮化整個膚色或一個皮膚區域之顏色以改變一般外觀。同樣，為了美容因素，亮化諸如大的雀斑、咖啡斑、黃褐斑或 由皮膚中局部過量色素引起之黑眼圈之皮膚特定色素過度形成區域之外觀亦為所需的。色素過度形成可以由多種因素引起，諸如UV曝露、老化、壓力、外傷、發炎等。該等因素可以由黑素細胞引起皮膚中之黑色素之過量產生，或黑色素生成，此可能形成色素過度形成區域。該等色素過度形成區域一般位於表皮內。然而，其亦可由沉積於真皮內之過量黑色素引起。許多銷售之局部調配物聲稱可以亮化年齡斑且減輕該色素過多之作用。然而，大部分此等美容用調配物具有之有效性值得懷疑，且可能產生不當的副作用。
已響應於暫時冷卻或冷凍組織觀察到皮膚組織之色素過少，諸如可能發生於冷凍手術程序期間。皮膚冷卻或冷凍後色素形成之損失可能由於黑素體生成減少、黑素細胞之破壞或黑素體轉變為表皮層下部區中之角質細胞受到抑制引起。所得色素過少可能為持久或永久的。亦已觀察到一些此等冷凍程序可以產生皮膚組織之色素過多區域。
例如美國專利公開案第2011/0313411號中所述，近來已認識到皮膚組織之控制冷卻或冷凍可以產生色素過少。可以影響色素形成結果之因素可以包括冷卻溫度、冷卻時間及可能與皮膚表面接觸以將其冷卻之冷卻物體之幾何特徵。已建議用於該冷卻或冷凍之表面幾何形狀包括例如簡單平版、具有小的突起之板(例如直徑小於約1至2mm)及具有不連續凸起特徵之板(例如直徑大於約5至10mm)。在該等基於使用不同冷卻板幾何形狀之程序中，在色素形成減少及一致性方面可能存在變化，其中該等結果可能進一步對諸 如板溫度及接觸持續時間之其他參數敏感。
因此，可能需要可以控制冷凍皮膚或其他組織，且逐漸亮化皮膚組織之方法及設備，其可以解決及/或克服至少一些如上文所述之缺陷或問題。
本文所述之示範性實施例係關於可以解決及/或克服至少一些如上文所述之缺陷或問題的美容方法及設備。協同作用可能由本文所述之特徵及實施例之不同組合引起，儘管所有該等組合可能未詳細描述。此外，應注意到本揭示內容關於方法之所有實施例可以按照如所述之步驟順序進行，然而此可能不為示範性方法之唯一及必要之步驟順序。例如，因此描述方法步驟及程序之所有不同順序及組合。
本揭示內容之示範性實施例係關於用於控制冷卻或冷凍皮膚組織之非侵入性方法及設備，其可使用低溫冷凍技術減少皮膚區域之總體色素形成。在本揭示內容之一個示範性實施例中，可提供一種用於以特定溫度及持續時間可控制地冷卻或冷凍皮膚之區域以產生皮膚外觀之亮化的設備。
根據本揭示內容之一示範性實施例，設備可包括冷卻接觸佈置，其較佳至少部分地由具有大的吸熱係數之材料形成，例如吸熱係數為皮膚組織之至少約10倍。舉例而言，板可至少部分地由諸如黃銅、金、銀、銅、鋁或其類似物之金屬或合金，鑽或類鑽碳，冷凍材料或另一具有高吸熱係數之材料(諸如鑽)製成。接觸佈置可具有經配置以接觸皮膚區域之表面的遠端表面。視情況，可使用兩種或兩種以上具 有不同熱物理性質(例如不同吸熱係數)之材料形成接觸佈置。在一個示範性實施例中，第二材料之層或膜可設置於接觸佈置之遠端(接觸)表面上。
接觸佈置之遠端接觸表面可實質上為平坦的，或其可為凸形或凹形以便於與皮膚區域之接觸。接觸表面可具備複數個凹坑，例如為實質上圓形且直徑或寬度介於約0.3mm與約3mm之間，或介於約0.5mm與2mm之間，或視情況為約1mm的小凹口。凹坑之深度可介於約0.3mm與約2mm之間，或介於約0.5mm與約1.5mm之間，或視情況為約1mm。凹坑可以規則圖案(例如矩形或三角形陣列)設置或其可隨機或半隨機分佈於接觸表面上。
在本揭示內容之另一示範性實施例中，一或多個凹坑可具有伸長之形狀，寬度(例如較短直徑)介於約0.3mm與約3mm之間，或介於約0.5mm與2mm之間，或視情況為約1mm。伸長之凹坑的長度(例如較長直徑)可大於對應寬度。該等伸長之凹坑的深度可介於約0.3mm與約2mm之間，或介於約0.5mm與約1.5mm之間，或視情況為約1mm。伸長之凹坑可以規則圖案(例如長軸彼此平行或垂直)設置或其方向及/或位置可隨機或或半隨機分佈於接觸表面上。在本揭示內容之一個示範性實施例中，伸長之凹坑可設置為複數個實質上平行之凹槽，其可橫跨接觸表面之一部分或實質上整個寬度或長度。
在本揭示內容之另一示範性實施例中，具有不同尺寸及/或形狀(例如不同寬度、長度及/或深度)之凹坑可設置 於單一接觸表面上。該等凹坑可以規則陣列設置或隨機或半隨機定向及定位。
凹坑與遠端表面接合之凹坑邊緣可視情況為圓形或有斜面的例如以避免銳邊。凹坑之內部表面之輪廓可為圓形、圓柱形或正方形，或具有另一形狀。圓形凹坑之內部表面可為圓柱形或可具有球體或橢球體之一部分的形狀。伸長之凹坑的內部表面可具有圓形之形狀，諸如圓形或橢圓形柱體之一部分，或其可具備內部拐角。
接觸表面上凹坑之面積分數(area fraction)可例如介於約0.05與約0.50之間，或視情況介於約0.10與約0.30之間，或為約0.20。該等示範性部分區域覆蓋之範圍及值可提供接觸表面直接皮膚接觸之足夠面積，同時亦提供凹坑之足夠面密度以改良局部冷卻及/或冷凍功效從而產生色素過少作用。
在本揭示內容之另一示範性實施例中，冷卻佈置可設置於設備中。示範性冷卻佈置可包括例如經設置與冷卻板熱接觸之貯器。可在貯器中提供冷凍劑或其他吸熱介質來冷卻板，例如鹽水溶液、水醇混合物、水二醇混合物或其類似物。視情況地，冷凍劑可循環通過該貯器及/或排列於貯器中之一或多個管道以持續冷卻板。可視情況設置控制佈置，且冷卻佈置可經配置以在冷卻板接觸皮膚的同時控制及/或維持冷卻板之特定溫度。一或多個溫度感測器可設置於接觸元件上或設置於接觸元件中以便於對接觸元件之各部分進行溫度控制。
在本揭示內容之另一示範性實施例中，諸如Peltier裝置之熱電冷卻裝置或其他冷卻源可以設置與接觸佈置熱接觸以冷卻它。在特定實施例中，接觸佈置可形成為冷卻裝置之冷卻部分的一部分且經組態直接置放於皮膚表面上。
可在冷卻板或裝置與皮膚表面接觸置放的同時，設置一或多個溫度及/或光學感測器或其他類型感測器以控制冷卻板或裝置之溫度，以偵測所接觸/冷卻之組織之局部溫度，及/或偵測皮膚組織之局部冷凍。處理時間可視情況相對於冷凍起始確定為開始局部組織冷凍之後冷物體與皮膚表面之間的接觸持續時間。可使用接觸感測器、非接觸感測器或兩者量測溫度。可視情況提供加熱佈置以在特定處理時間逝去後溫暖冷凍之組織。可產生反饋信號且傳輸至冷卻裝置或控制佈置(若存在的話)，使得可避免非所需或過度冷卻或冷凍。舉例而言，可提供反饋控制以便於安全及有效之處理程序，經歷處理之個人對此不會產生危險或風險。
根據本揭示內容之另一示範性實施例，提供一種用於在組織冷凍剛一開始即偵測該冷凍之方法及設備。該示範性冷凍偵測可基於例如溫度偵測、光學偵測及/或對皮膚組織之電阻抗及/或機械阻抗的量測。
在本揭示內容之另一示範性實施例中，可設置一或多個壓力感測器以偵測設備之接觸表面與皮膚表面之間的接觸壓力。
在本揭示內容之另一示範性實施例中，接觸佈置可包括可撓性或柔性接觸表面以便於設備之接觸表面與皮膚表 面之間的接觸改良。具有高導熱性或吸熱係數之柔性或展性物質可設置於接觸表面之冷卻佈置與可撓性膜之間以便於接觸表面之變形，同時維持自皮膚組織之高排熱速率。該柔性或展性物質可包括例如導熱性糊漿或凝膠或相變溫度或範圍處於預定接觸溫度、靠近或接近於該溫度之兩相爛泥或泥漿。
在本揭示內容之另一示範性實施例中，可在接觸佈置中設置包含一或多個通道之真空佈置以便於例如凹坑內設備之接觸表面與皮膚表面之間的改良之接觸。
在本揭示內容之其他示範性實施例中，冷卻設備可具備複數個冷卻佈置及/或複數個接觸佈置。一或多個溫度感測器、壓力感測器、冷凍偵測器及/或控制佈置可視情況與各冷卻佈置及/或各接觸佈置關聯或與其連通設置。
在本揭示內容之另一示範性實施例中，可提供一種美容方法以產生皮膚組織中之色素過少。在一個示範性實施例中，可提供之用於亮化皮膚外觀之方法包括冷卻及/或冷凍皮膚之一個區域以誘導局部化色素過少作用。其他亮化可藉由處理皮膚之特定區域一次以上來達成。
在本揭示內容之另一示範性實施例中，美容方法可包括冷凍皮膚組織之區域，例如至至少基底層之深度，例如至至少約真皮-表皮接面之深度，其可提供色素過少作用。此示範性冷凍較佳可藉由使皮膚表面與接觸佈置(例如冷卻板或其類似物)之遠端表面接觸來達成，該接觸佈置具備複數個凹坑且溫度經設置低於約-5℃，例如介於-7℃與-10℃之間。在特定示範性實施例中，使用如約-15℃至-20℃一樣低之溫 度。可對應於在局部組織冷凍開始後冷物體與皮膚表面接觸之持續時間的冷卻或處理時間可少於約2分鐘，或較佳少於約1分鐘，例如介於約30秒與1分鐘之間，此時接觸佈置之遠端表面之溫度介於約-7℃與-10℃之間。當接觸佈置之遠端表面經設置為更低溫度時，可使用例如小於約30秒之更短冷卻時間，或當冷物體之溫度介於約-15℃與-20℃之間時，甚至小於約15秒。該等溫度及時間可導致皮膚組織之色素過少反應同時快到足以便於皮膚之複數個區域之依次冷卻或冷凍。
可提供一或多個溫度及/或光學感測器，或其他類型感測器以在接觸佈置與皮膚表面接觸置放的同時控制接觸佈置及/或經設置與接觸佈置熱連通之冷卻裝置之溫度，偵測接觸/冷卻組織之局部溫度，及/或偵測皮膚組織之局部冷凍。處理時間可視情況相對於冷凍起始確定為已開始局部組織冷凍之後冷物體與皮膚表面之間的接觸持續時間。可使用接觸感測器、非接觸感測器或兩者量測溫度。可視情況提供加熱佈置以在特定處理時間逝去後溫暖冷凍之組織。可產生反饋信號且傳輸至冷卻裝置(若存在的話)，使得可避免非所需或過度冷卻或冷凍。換言之，可提供反饋控制以確保安全之處理程序，經歷處理之個人對此不會產生危險或風險。
根據本揭示內容之一示範性實施例之示範性方法及設備可藉由可控制地形成脫色區域提供被處理皮膚區域之逐漸亮化。可使用多次處理來進一步亮化該區域。本文所述之示範性方法及設備亦可藉由刺激冷凍組織之小區域的反應改良皮膚之一般外觀。
已測試所述之示範性美容方法，且確定為一種可在美容院或其他環境中實施之安全及常規之程序。示範性方法可為一種非侵入性方法。此外，因為該方法非侵入性，未呈現大的健康風險且不需要職業醫學專家經驗來實施，所以其為安全的。不需要臨床醫生來進行本文所述之方法之實施例，正以該美容方法處理之個人未呈現風險，更不用說健康風險，如將自下列描述變得明白。
本揭示內容之此等及其他目標、特徵及優點將在結合隨附申請專利範圍時閱讀本揭示內容之實施例之實施方式之後變得顯而易見。
100‧‧‧設備
110‧‧‧接觸元件/底板/接觸板
120‧‧‧冷卻佈置
130‧‧‧手持件/外殼
140‧‧‧遠端接觸表面/遠端表面
150‧‧‧控制佈置
210‧‧‧凹坑/缺損
300‧‧‧皮膚組織/柔性皮膚/皮膚/手柄
410‧‧‧溫度感測器
500‧‧‧設備
510‧‧‧光學導管
520‧‧‧遠端
800‧‧‧設備
810‧‧‧壓力感測器
910‧‧‧通道
1010‧‧‧可撓性凹膜/可變形接觸膜
1020‧‧‧柔性傳導介質/傳導介質
1030‧‧‧上部導熱層
1100‧‧‧設備
本揭示內容之其他目標、特徵及優點將結合隨附圖式自下列實施方式變得顯而易見，此等圖式展現本揭示內容示範性實施例的說明性實施例、結果及/或特徵，其中：第1圖為用於根據本揭示內容之示範性實施例在皮膚組織中低溫產生色素過少之示範性設備的橫截面側視圖；第2A圖為第1圖中所示之示範性設備之接觸元件的示範性橫截面側視圖；第2B圖為第2A圖中所示之接觸元件之第一示範性配置的底視圖；第2C圖為第2A圖中所示之接觸元件之第二示範性配置的底視圖；第2D圖為第2A圖中所示之接觸元件之第三示範性配置的底視圖； 第2E圖為第2A圖中所示之接觸元件之第四示範性配置的底視圖；第2F圖為第2A圖中所示之接觸元件之第五示範性配置的底視圖；第2G圖為第2A圖中所示之接觸元件之第六示範性配置的底視圖；第2H圖為第2A圖中所示之接觸元件之第七示範性配置的底視圖；第2I圖為第2A圖中所示之接觸元件之第八示範性配置的底視圖；第2J圖為第2A圖中所示之接觸元件之第九示範性配置的底視圖；第2K圖為第2A圖中所示之接觸元件之第十示範性配置的底視圖；第3A圖為根據本揭示內容之示範性實施例之含有接觸皮膚表面之圓形凹坑的示範性接觸元件的橫截面側視圖；第3B圖為根據本揭示內容之另一示範性實施例之含有具有圓柱或矩形輪廓之凹坑的示範性接觸元件的橫截面側視圖；第3C圖為根據本揭示內容之另一示範性實施例之含有淺圓形之示範性接觸元件的橫截面側視圖；第3D圖為根據本揭示內容之又一示範性實施例之含有深凹坑之示範性接觸元件的橫截面側視圖； 第4A圖為展示於第2A圖中包括複數個溫度感測器之接觸元件的示例性配置的底視圖；第4B圖為包括三個設置於接觸元件上及內不同位置的熱感測器之示範性接觸元件的橫截面側視圖；第5圖為根據本揭示內容之又一示範性實施例之包括光學佈置以偵測局部皮膚冷凍的用於可控制地冷卻皮膚組織之示範性設備的橫截面側視圖；第6圖為以根據本揭示內容之示範性實施例之設備產生的示範性數據圖，其說明當活豬皮區域經冷卻且皮膚局部冷凍開始時量測到之表面溫度與光學反射之間的變化；第7圖為根據本揭示內容之另一示範性實施例之包括兩種具有不同熱物理性質之不同材料的示範性接觸元件之橫截面側視圖；第8圖為根據本揭示內容之一示範性實施例之包括壓力感測器以偵測接觸元件與皮膚表面之接觸壓力的用於可控制地冷卻或冷凍皮膚組織之示範性設備的橫截面側視圖；第9圖為根據本揭示內容之再一示範性實施例之包括真空佈置配置以便於接觸表面與皮膚表面之間的接觸的示範性接觸元件的橫截面側視圖；第10圖為包括可撓性或柔性接觸表面之示範性接觸元件的橫截面側視圖；第11圖為根據本揭示內容之另一示範性實施例之包括一個以上冷卻佈置及一個以上接觸元件的用於可控制地冷卻或冷凍皮膚組織之示範性設備的橫截面側視圖； 第12A圖為豬皮區域在其根據本揭示內容之一示範性實施例使用凹接觸表面歷時15秒接觸時間冷卻到-9℃之後4週所得到之示範性圖像；第12B圖為第12A圖中所展示之豬皮區域在其冷卻之後9.5週所得到之示範性圖像；第13A圖為豬皮區域在其使用平滑接觸表面歷時15秒接觸時間冷卻到-9℃之後4週所得到之示範性圖像；第13B圖為第13A圖中所展示之豬皮區域在其冷卻之後9.5週所得到之示範性圖像；第14A圖為豬皮區域在其根據本揭示內容之一示範性實施例使用凹接觸表面歷時30秒接觸時間冷卻到-9℃之後4週所得到之示範性圖像；第14B圖為第14A圖中所展示之豬皮區域在其冷卻之後9.5週所得到之示範性圖像；第15A圖為豬皮區域在其使用平滑接觸表面歷時30秒接觸時間冷卻到-9℃之後4週所得到之示範性圖像；以及第15B圖為第15A圖中所展示之豬皮區域在其冷卻之後9.5週所得到之示範性圖像。
在圖式中，除非另外說明，否則相同參考數字及字元表示相同特徵、元件、組件或所說明實施例之部分。因此類似特徵可以由相同參考數字描述，除非另外明確說明，否則其指示熟練之讀者不同實施例之間可交換特徵。此外，儘管本揭示內容現參考圖式詳細描述，但其結合說明性實施例進行，且不受圖式中所說明之特定實施例限制。意欲在不偏 離由隨附申請專利範圍所定義之本揭示內容之真實範圍及精神的情況下對所述實施例作出變化及改變。
根據本揭示內容之一示範性實施例，可使用基於冷療法之方法以可控制且非侵入性地冷卻及/或冷凍皮膚組織之區域。該冷卻或冷凍可以亮化皮膚之整個外觀，或減弱具有過量色素形成之特定皮膚區域之整體暗度。例如，使皮膚區域與冷物體接觸可以減少底層皮膚中色素之形成及/或表現。此作用可對正處理之區域提供持久或可能永久的亮化。
第1圖提供根據本揭示內容之示範性實施例用於可控制地冷卻及/或冷凍例如在皮膚組織中產生色素過少作用的示範性設備100的橫截面圖。示範性設備100可包括經設置與冷卻佈置120熱連通之接觸元件110。在特定示範性實施例中，接觸元件110及冷卻佈置120可至少部分地由單一材料形成。可視情況提供控制佈置150且用於控制冷卻佈置120之特定態樣，例如溫度、特定關閉等。冷卻佈置120、控制佈置150及/或接觸元件110可視情況如第1圖中所示設置於外殼或手持件130內或貼附於外殼或手持件130以便於設備100之處理及定位。展示於第1圖中之示範性設備100不一定按比例繪製。舉例而言，冷卻佈置120及接觸元件110之相對尺寸不限於第1圖中所說明之比例。在本揭示內容之其他示範性實施例中，接觸元件110之寬度或橫截面積相比於冷卻佈置120之尺寸可更大或更小。
接觸元件110可包括經配置以接觸皮膚表面之遠端 (接觸)表面140。遠端表面140可實質上為平坦的。在本揭示內容之其他示範性實施例中，遠端表面140可為凸形或凹形以當設備100置放於待要處理之皮膚區域上時更好地匹配正處理之皮膚組織的局部形狀及/或提供與皮膚表面之良好熱接觸。在本揭示內容之又其他示範性實施例中，接觸元件110可自冷卻佈置120脫離，例如如本文所述之具有不同尺寸、形狀及/或表面特徵之複數個接觸元件110可與單一冷卻元件120一起使用。
遠端接觸表面140可具有大的寬度或直徑，其經配置以接觸皮膚區域之表面，例如直徑或寬度大於約3cm，或大於約5cm以便於處理大的皮膚區域。在其他實施例中，遠端表面140之寬度可以較小，例如大約1至2cm或很小，其可便於皮膚上之特定特徵的改良之溫度控制及/或處理。
接觸元件110可以有金屬或金屬合金或另一具有高吸熱係數之材料形成，例如使得此等熱物理性質之值大於皮膚組織之對應值。吸熱係數ε等於材料之導熱性與其體積熱容量之乘積的平方根。吸熱係數為材料與其環境交換熱且保持與其如此這般之一致溫度之能力的量度。例如，兩種溫度為T1及T2之半無限材料接觸之界面溫度Ti將視其相對吸熱係數ε1及ε2而定，因為Ti=T1+(T2-T1)*[ε2/(ε2+ε1)]。因此，例如在ε2>>ε1的情況下，兩種材料接觸之界面溫度將會保持接近於T2，因為熱自一者流向另一者。以此方式，當具有高得多之吸熱係數的第二材料與第一材料接觸時，第一材料之表面冷卻至該第二材料之溫度。
舉例而言，接觸元件110至少部分或全部由黃銅、銅、銀、鋁、鋁合金、鋼、石墨、鑽、類鑽碳，用於習知接觸冷凍探針或其組合之其他材料製成。例如，接觸元件110全部或至少部分由具有比皮膚組織高得多之導熱性的材料形成，且可用於促進熱量自接觸元件110之遠端表面140所接觸之組織部分排出。另外，吸熱係數比皮膚組織高得多(例如為皮膚吸熱係數之至少約10倍)之材料可更容易保持在低溫。該等高吸熱係數材料藉此可能比具有較低吸熱係數之材料自接觸元件110所接觸之組織部分更有效地排出熱，且便於更好控制接觸界面處之組織溫度。
在本揭示內容之特定示範性實施例中，接觸元件110之遠端接觸表面140的面積可小於接觸冷卻佈置120之接觸元件110之近端。該幾何形狀可提供特定優勢。例如，接觸元件110之更窄或錐形遠端可以便於遠端表面140更精確地置放於待要冷卻之皮膚表面的特定位置上，例如同時減少外殼130之視野障礙。此外，接觸元件110之相對更大近端可以提供更大區域，冷卻佈置120可以直接冷卻該區域以便於自更小遠端接觸表面140之增加的熱排出。在特定實施例中，接觸佈置遠端接觸表面140之近端區域可以為遠端接觸表面140之區域至少兩倍大，例如3至5倍大。
接觸元件110之遠端表面140可以具備複數個凹坑210，例如形成於接觸元件110之接觸表面140中之刻痕或凹陷，如第2A圖之橫截面側視圖中所示。該等凹坑210可以為實質上圓形且直徑或寬度介於約0.3mm與約3mm之間，或 介於約0.5mm與2mm之間，或視情況為約1mm。凹坑之深度可介於約0.3mm與約2mm之間，或介於約0.5mm與約1.5mm之間，或視情況為約1mm。遠端表面140之邊緣可以為圓形或有斜面的，如第2A圖中所示，其可以便於遠端表面140與皮膚表面之持續接觸同時避免將設備100抵靠皮膚表面置放以進行處理時與任何尖銳或突變之邊緣或拐角接觸。
具有凹坑210之接觸表面140之示範性端面展示於第2B圖中。接觸表面140上凹坑210之面積分數(area fraction)可例如介於約0.05與約0.50之間，或視情況介於約0.10與約0.30之間，或為約0.20。該等示範性部分區域覆蓋之範圍及值可提供接觸表面140直接皮膚接觸之足夠面積，同時亦提供凹坑210之足夠面密度以改良局部冷卻及/或冷凍功效從而產生色素過少作用。
儘管展示於第2A圖及第2B圖中之示範性凹坑之尺寸及深度實質上均一，然而在本揭示內容之其他實施例中，與單一接觸元件110關聯之個別凹坑尺寸及/或深度可以在本文所述之範圍內變動。
如第2B圖中所示，接觸表面140上凹坑210之示範性佈置可實質上隨機。在第2C圖中所示之本揭示內容之另一示範性實施例中，凹坑210可以徑向佈置來設置。該示範性佈置/配置可產生更低密度之凹坑210(例如凹坑210之間的平均間距更寬)，其可能在接觸表面140之周長附近導致凹坑210之降低作用。在又其他實施例中，凹坑210可以規則陣列(例如第2D圖中所示之六邊形陣列)或方陣列來設置。
在本揭示內容之其他示範性實施例中，凹坑210可具有第2E圖中示範性配置所示之伸長之形狀。該等伸長之凹坑210可具有介於約0.5mm與3mm之間，或視情況為約1mm之較短直徑(例如寬度)。伸長之凹坑210的較長直徑(例如長度)可大於寬度，例如為寬度之兩倍或更長。例如，展示於第2E圖中之示範性凹坑210的長度為寬度之約5倍。其他示範性長度與寬度比提供於本揭示內容之其他示範性實施例中。伸長之凹坑210的深度可介於約0.3mm與約2mm之間，或介於約0.5mm與約1.5mm之間，或視情況為約1mm。遠端表面140之邊緣可以為圓形或有斜面的，如第2A圖中所示，此等凹坑210接合接觸表面140。
展示於第2E圖中之示範性伸長之凹坑210的長軸或尺寸可實質上彼此平行。在本揭示內容之又一示範性實施例中，一些伸長之凹坑210之長軸實質上例如如第2F圖中所示彼此垂直。在本揭示內容之又其他示範性實施例中，伸長之凹坑210的長軸在接觸表面140上以相對於彼此各個角度經設置。伸長之凹坑210可以如第2E圖及第2F圖中所示以規則陣列或圖案來設置。替代或另外地，伸長之凹坑210可以例如如第2G圖中所示之非均勻或隨機佈置來設置。
在本揭示內容之其他示範性實施例中，設置於單一遠端接觸表面140上之凹坑210中的個別凹坑可具有不同尺寸、形狀及/或定向。例如，伸長之凹坑210中的不同凹坑可以具有如例如第2H圖中所示之相同寬度(小尺寸)及不同縱橫比(例如長度與寬度比)。在本揭示內容之其他示範性實 施例中，凹坑210中的不同凹坑可以具有如例如第2I圖中所示之彼此不同之寬度及/或不同之長度。在本揭示內容之又其他示範性實施例中，接觸表面140可包括如例如第2J圖中所示之圓形與伸長之凹坑210。一般而言，各個凹坑210之寬度(或直徑)及深度在本文所述之尺寸範圍內可為較佳的。在本揭示內容之另一示範性實施例中，伸長之凹坑210可設置為如例如第2K圖中所示之複數個實質上平行之凹槽。該等凹坑210之端部可如第2K圖中示範性配置所示位於接觸表面140之周長內。或者，伸長之凹坑210可延伸通過接觸表面140之周長，使得至少一些凹坑210形成跨接觸表面140之全長的連續凹槽。
凹坑210之內部表面輪廓可為圓形、圓柱形或正方形，或具有另一形狀。例如，圓形凹坑210之內部表面可為圓柱形或可具有球體或橢球體之一部分的形狀。伸長之凹坑210的內部表面可具有圓形之形狀，諸如圓形或橢圓形柱體之一部分，或其可具備內部拐角，例如為方形通道或其類似物。
一般而言，在接觸表面處凹坑210中之相鄰凹坑之間的最近距離可至少為凹坑210之寬度那麼大。相鄰凹坑210之間的此示範性距離可例如如第2B至2K圖中所示大於其寬度。此分隔距離可促進自各凹坑210附近足夠熱排出且提供凹坑210之間接觸表面140之足夠面積，如此接觸表面140可更舒適地抵靠皮膚表面置放。
第2B至2K圖中所示之示範性接觸表面140之形狀實質上為圓形。在本揭示內容之另一示範性實施例中，接觸 表面140可具備實質上為方形、長方形或六邊形之形狀。該等形狀可在減少或避免處理區域中顯著重疊的同時藉由相繼使皮膚相鄰區域與接觸表面140接觸來促進其較大區域之處理。在其他實施例中，接觸表面140可仍然具有不同形狀。
接觸表面形狀之縱橫比可在不同示範性實施例中變化。例如，接觸表面140之方形、長方形或六邊形形狀可藉由依序將設備100置放於皮膚組織之相鄰區域上促進均勻覆蓋皮膚組織之較大區域，使得設備100已冷卻實質上所有皮膚之所要處理區域而該等處理區幾乎沒有或沒有重疊。亦可提供其他示範性板形狀及/或尺寸，例如以符合皮膚之特定區及/或符合待要處理之特定皮膚特徵(例如老年斑或其類似物)的形狀。
任一示範性凹坑形狀、尺寸、凹坑圖案、接觸表面大小及形狀等或其組合中之一或多者可與任一本揭示內容之示範性實施例及特徵一起使用。例如，單一接觸表面140可包括複數個凹坑形狀(例如圓形、伸長的等)、空間佈置等，且設置於單一接觸表面140上之該等凹坑210中之特定各種可具有一或多個如本文所述之特徵直徑、寬度及/或深度。
當接觸表面140抵靠皮膚置放時，凹坑210之幾何參數之示範性範圍及值可提供皮膚表面與凹坑210內部表面之間的部分或完全接觸。此可改良局部冷卻及/或冷凍功效以產生如本文進一步詳細所述之色素過少作用。例如，抵靠皮膚組織300置放之含有凹坑210之接觸元件110之橫截面圖展示於第3A圖中。如第3A圖中所說明，當接觸表面140抵 靠皮膚表面置放時，一小部分柔性皮膚300可突進凹坑210中。
不受特定理論之束縛，皮膚300之該局部變形可提供與凹坑210之內表面接觸之增加之局部表面積。亦可發生皮膚300之一定的局部伸展，在此情況下凹坑210之邊緣接合接觸表面140。此外，熱可經由凹坑210之內表面自凹坑210內之皮膚300之一部分側向排出，其可增加皮膚冷卻之局部有效性。因為如本文所述之凹坑210之相對較小寬度，該增強之冷卻可定位於凹坑210內皮膚300上部(例如表皮區)。凹坑210之間接觸元件110之導熱性材料可提供優於例如含有複數個接觸皮膚之離散小突起且由相同材料製成且設置為相同溫度之冷物體的自皮膚300之熱排出。
因此，對於接觸表面140處所設置或呈現之特定溫度(其通常低於0℃)，相比於處於同一溫度但不具有凹坑210之接觸表面，如本文所提出之增強之局部冷卻作用可促進皮膚組織300在凹坑210處之局部冷凍。凹接觸表面中呈現之該等因素可提供比實質上平坦或含有一或多個突起之接觸表面140更一致及/或更佳的色素過少作用。因為所提出之凹坑210之增強的局部冷卻作用，本文所述之示範性設備100之示範性實施例亦可以比使用不含有任何凹坑210之接觸表面140產生類似作用所需之溫度及時間稍微暖和之表面溫度(例如可能暖和1至2度)及/或稍微短的接觸時間提供色素過少作用。
展示於第3A圖中之示範性凹坑210之橫截面圖可 對應於實質上半球形凹坑或可替代地為延伸至頁面平面內之圓柱形凹槽，或為橢球形凹坑。可根據本揭示內容之其他示範性實施例使用之其他示範性凹坑配置展示於第3B至3D圖中。例如，展示於第3B圖中之示範性凹坑210的橫截面圖可對應於圓柱形凹坑(例如在正交平面中具有圓形橫截面形狀者)或長方形凹槽。展示於第3C圖中之示範性凹坑210的橫截面圖可對應於例如淺圓形凹坑或淺圓柱形凹槽，而展示於第3D圖中之示範性「深」凹坑210可對應於例如較深圓形凹坑或深及淺圓柱形凹槽。任一此等凹坑形狀或其組合可用於本揭示內容之各示範性實施例中。
在本揭示內容之另一示範性實施例中，冷卻佈置120可包括熱電冷卻裝置，例如Peltier裝置或其類似物。該冷卻裝置120之冷側可經設置與接觸元件110熱連通。用於對該冷卻佈置120供電之電源可設置為示範性設備100之一部分，或可替代地，可設置與其分開之外部電源。該冷卻裝置120之熱側可視情況藉由使其與冷卻物體接觸，藉由允許或導引空氣或另一氣體流經其至少一部分及/或藉由其他習知冷卻或通風技術來冷卻。在特定示範性實施例中，可設置習知冷水循環佈置(未圖示)與冷卻裝置120熱連通以冷卻熱側。在其他示範性實施例中，可設置習知散熱佈置以促進熱自冷卻佈置120散逸。
在本揭示內容之又其他示範性實施例中，可視情況將一或多個溫度感測器410設置於接觸元件110內或與其相鄰。例如，具有上面設置有三個熱感測器410之示範性配置 的接觸表面140展示於第4A圖中。
溫度感測器410可設置於接觸元件110之一或多個位置處。例如，第4B圖展示接觸表面140上或與其相鄰之溫度感測器410的橫截面圖，另一溫度感測器410設置於接觸元件110之中心部分中，且另一溫度感測器410設置於接觸元件110之近端部分處，例如與冷卻佈置120相鄰或接近於冷卻佈置120(未圖示)。如第4B圖之下部中所示，溫度感測器410可設置於位於遠端表面140上之小凹槽或凹口中，使得溫度感測器410之表面或接觸部分實質上與接觸表面140共面。在特定示範性實施例中，可將複數個溫度感測器410設置於接觸元件110內或與其相鄰，其可促進示範性設備100操作期間之更精確的溫度控制。
溫度感測器410可包括例如一或多個熱電偶、熱阻器、電阻溫度偵測器(RTD)或其類似物。單一設備100可包括一或多種類型之該等溫度感測器410。具有小尺寸及/或小質量之溫度感測器410，例如熱阻器因為對周圍接觸元件材料之熱傳遞及熱特徵具有更小作用，所以在特定示範性實施例中為所需要的。溫度感測器410可與任一本文所述之示範性實施例一起使用。
溫度感測器410可經設置與控制佈置150連通(展示於第1圖中)，控制佈置150可與冷卻佈置120關聯。如圖1所示，該示範性控制佈置150可設置於外殼130內，視情況與冷卻佈置120整合，或其可設置於外殼130外部。控制佈置150可經配置以改變或控制冷卻佈置120之特定參數，例 如提供給熱電冷卻器之功率位準、與冷卻佈置120或其一部分一起使用(例如以冷卻熱電冷卻裝置之熱側或直接冷卻接觸元件110)之冷卻劑流率或冷卻劑溫度，等。例如，可設置使用習知反饋控制系統之控制佈置150，其使用來自溫度感測器410之信號以促進穩定及/或維持接觸表面140及/或接觸元件110內之另一位置的特定溫度(或溫度範圍)。控制佈置150經配置用於使用習知比例、積分及/或微分反饋算式來控制冷卻佈置120之操作，例如用於將接觸元件110之接觸表面140維持在預定溫度或隨時間使預定溫度概況接近。該等控制算法為此項技術中已知。
在本揭示內容之其他示範性實施例中，可使用複數個溫度感測器410達成該等溫度及製程控制。如第4B圖中所示，溫度感測器410可設置於接觸表面140上(或與其共面)，例如靠近接觸表面140、在接觸元件110內，及/或靠近接觸元件110之近端或在近端上(例如接近冷卻佈置120)。控制接觸表面140處或靠近其之溫度可視情況基於至少部分藉由校準對特定冷卻佈置120之熱反應及特定接觸元件110之特徵(例如接觸元件110之形狀及材料)遠離該位置量測到之溫度。
舉例而言，可藉由將皮膚表面冷卻至特定溫度歷時特定處理時間(其確定為當局部冷凍組織開始時開始的時間間隔)來冷卻皮膚之基底層(鄰近真皮-表皮接面)。此外，該冷卻或局部冷凍可產生美容所需要之脫色作用，例如皮膚冷卻區之一般亮化之外觀。該亮化之外觀可能持續數月或更 久。已觀察到如本文所述用上面包括複數個凹坑210之冷接觸表面140冷卻或冷凍皮膚表面與藉由實質上平坦或無特徵或上面包括複數個突起之接觸表面所提供之類似冷卻程序相比可提供更一致及均勻之冷卻皮膚區域亮化。
因此，任一本文所述之示範性實施例可經配置以提供一或多個溫度為約-4℃或更冷，例如介於約-5℃與-10℃之間之表面(例如接觸元件110及/或其接觸表面140)。對應於該等溫度之處理時間可為例如在該等溫度下之約1分鐘或更少，例如介於30秒至1分鐘之間。產生組織冷凍之溫度與時間的該等組合可在皮膚中產生色素過少作用而不會產生脫色(亦即總色素脫失)。
在本揭示內容之其他示範性實施例中，至少一部分接觸元件110之溫度在相應更短接觸或處理時間的情況下可以比-10℃冷，例如和-15℃或-20℃一樣冷，從而在不誘發因過度冷卻產生之不當組織損傷的情況下對組織產生足夠之局部冷卻及冷凍。例如，此等更冷溫度時的接觸時間可以和30秒一樣短或更短，例如溫度介於約-15℃與-20℃之間時為約15至30秒。該等更冷溫度可以例如用於促進更快之處理時間及/或補償諸如經由接觸元件110熱傳導之熱效率低下及/或可以由局部血流加熱之對皮膚的升溫作用之作用。然而，該等更冷溫度及對應更短接觸時間更難以精確控制且可能導致有些過度的對組織之局部冷卻或冷凍，此舉可導致不均勻色素形成作用、一些水腫或疤形成，等。
在本文所述之任一實施例中，若沒有設置中間接觸 元件110，則可將溫度感測器410及/或凹坑210直接設置於冷卻佈置120之冷表面上(例如熱電冷卻裝置或其類似物之冷側)，使得冷卻佈置120之冷表面亦可為接觸表面140。
當使示範性設備100與待要處理之皮膚區域接觸時，由接觸元件110之接觸表面140所接觸的皮膚組織之表皮層的溫度可較佳足夠低以局部冷凍至少一部分皮膚表面區。接觸表面140可經置放與正處理之皮膚區接觸歷時足以產生冷凍區之後續色素過少的示範性持續時間。此示範性持續時間可確定為設備100與皮膚初始接觸之後的時間間隔或替代地為初始局部冷凍皮膚組織之後的時間間隔。在此等溫度下誘發對皮膚組織之上層的局部冷凍(例如下至基底層)亦可改良色素過少反應。亦可冷凍至少某些部分上部真皮層。此示範性持續時間可大於約15秒。
處理時間較佳不要太長以致會導致冷卻或冷凍組織中之過度冷凍及問題損傷。舉例而言，若接觸元件110之底面保持在介於約-4℃與-10℃之溫度，則介於約30秒與60秒之間的接觸時間足以誘發可引起色素過少之皮膚表面區的局部冷凍。該冷凍之一致性及可預測性可藉由如本文所述之設置於接觸表面140上之凹坑210的存在而得以改良。一般而言，合適的接觸時間可基於本文所述之設備的示範性實施例的幾何形狀、材料及初始冷卻溫度來確定。可選擇所用之時間及溫度以產生接近於接觸元件110之冷凍組織區歷時特定持續時間。
在本揭示內容之特定示範性實施例中，可選擇接觸 元件110之材料使得對應設備起初冷卻，且接觸元件110在與皮膚組織之延長接觸期間逐漸變暖。例如，可將示範性設備100置放於冷凍器中以將接觸元件110及冷卻佈置120冷卻到特定溫度。或者，接觸元件110及/或冷卻佈置120可藉由以諸如液氮之冷凍劑噴射，或將其浸沒於諸如變冷之乙醇溶液及水或冷鹽水溶液之冷浴中來冷卻。較佳地，冷浴可保持在預定溫度。冷卻後，可接著將接觸元件110之底面按壓在待要亮化之皮膚區域歷時預定時間，其可使一部分皮膚組織局部變冷及/或冷凍。舉例而言，可較佳將接觸元件110及冷卻佈置120冷卻至至少-4℃或更冷，例如介於-5℃或-7℃與-10℃之間，或甚至和-15℃至-20℃一樣冷，以致當使設備100與皮膚表面接觸時，接觸元件110可充分地冷卻皮膚組織且冷凍至少一部分皮膚組織，此舉亦可產生色素過少反應。因此，接觸元件110可經設置與皮膚接觸較長時段，且逐漸溫暖接觸元件110可阻止接近於其之皮膚區的過度冷卻或冷凍。
在本揭示內容之另一示範性實施例中，示範性冷卻佈置120可包括導熱性材料塊，一或多個通道設置通過其中。冷卻劑可循環通過通道以冷卻該冷卻佈置120及相鄰接觸元件110，且視情況將其保持在特定溫度。例如，習知流體泵(未圖示)可用於使冷卻介質循環通過該冷卻佈置120中之通道。該等示範性泵可位於設備100附近或遠離設備100，或在特定示範性實施例中，其可貼附於示範性設備100。可將冷卻介質提供於可使用習知技術絕緣及/或主動冷卻之貯器(未圖示) 中。可藉由例如基於如本文所述之一或多個溫度感測器410提供的信號控制冷卻介質之溫度及/或流率或使其變化來保持所需之接觸表面140之溫度。
在本揭示內容之又一示範性實施例中，設備100之冷卻佈置120可包括可含有冷卻劑之中空貯器(未圖示)，可選擇該冷凍劑使得其在特定溫度或溫度範圍，例如在至少和約-4℃，例如-5℃至-10℃，或視情況和約-15℃至-20℃一樣冷時展現固液相變化。例如，當接觸元件110例如藉由接觸更溫暖之皮膚組織變暖至相變溫度(若其起初更冷)時，相變冷凍劑可將冷卻佈置120及/或接觸元件110之溫度保持在大約該相變溫度或特定相變溫度範圍內歷時延長時段(例如在接觸元件110與正處理之皮膚組織之間更長的接觸期或在將示範性設備100施加至複數個正處理之皮膚區的期間)。自皮膚組織排出之熱量可傳導通過接觸元件110及冷卻佈置120到達設置於其中的冷凍劑，當冷凍劑中之相變進行時其可在相對恆定溫度下吸收熱量。因為冷卻佈置120與接觸表面140之間由設備100提供之溫度差可保持實質上恆定持續延長之時段，所以此示範性佈置可促進可預測及可重複之接觸表面140之溫度及自接觸接觸元件110之皮膚的相應熱傳遞流動速率。此示範性佈置亦可將皮膚組織之上部冷卻及/或冷凍設置在特定溫度或較窄溫度範圍內，例如約-4℃或更冷，例如介於-5℃與-10℃之間。一致保持該冷卻溫度之持續時間可基於諸如冷卻佈置120之尺寸及材料，及設置於其中的相變冷凍劑的量及組成之因素。
基於如本文關於各個示範性實施例所述之皮膚表面的接觸冷卻的色素過少作用可能在至少接近於該表面之局部量組織被冷凍的情況下更有效。即使當藉由使皮膚表面與冷卻至低於0℃，例如冷卻至約-4℃至-10℃的板或其他物體接觸達成皮膚組織的冷卻時，其不一定會導致局部組織冷凍。該等示範性冷卻程序反而會導致不會冷凍之局部過冷組織。如本文各示範性實施例中所述將凹坑210設置於冷接觸表面140上可以增加在特定接觸表面溫度起始一定局部冷凍歷時特定接觸時間的可能性。在一些情況下亦可能需要能夠確認存在皮膚組織之局部冷凍。
因此，在本揭示內容之其他示範性實施例中，可提供一個佈置來偵測接近接觸表面140之皮膚組織的局部冷凍。該冷凍偵測可基於例如冷卻了的皮膚中偵測到之光學、熱及/或機械特性之變化，或其他指標及技術。
根據本揭示內容之示範性實施例之可促進在冷卻程序期間偵測組織冷凍的示範性設備500在第5圖中說明。該示範性設備500可包括冷卻佈置120及視情況存在之設置於冷卻佈置120上之冷卻板110及類似於第1圖中所示之設備100的手柄130。冷卻佈置120可包括本文各個示範性實施例中所述之任一冷卻裝置或佈置(或其組合)。例如，冷卻佈置120可包括Peltier裝置或其類似物。一或多個光學導管510可與設備500一起提供，其中光學導管510之遠端520接近於冷卻板110之下接觸表面140(或，視情況地，若未提供分開之冷卻板110，則接近於冷卻佈置120之底面)。光學導管 510可包括例如光纖、光導或其類似物。
在本揭示內容之特定示範性實施例中，光學導管510中之一或多個的遠端520可例如藉由使光學導管510之遠端部分位於鑽通一部分底板110之小孔內而經設置接近冷卻板110之下接觸表面140。光學導管510之其他示範性配置亦可提供於其他示範性實施例中，其中光學導管510之遠端520可在設備500之接觸表面140抵靠皮膚置放時經設置接近皮膚表面及/或與皮膚表面光學連通(例如使得光學導管510之遠端520與皮膚表面之間存在無阻礙光路)。
為在如本文所述之冷卻程序期間偵測皮膚組織之冷凍，設置至少一個光學導管510之近端與光源或其他光能(未圖示)連通。發射波長介於約600nm與約800nm之間的紅光的LED或其他光源可用作光源。根據本揭示內容之其他示範性實施例亦可使用其他光波長。例如，亦可使用發射近紅外範圍內之光(例如波長介於約800nm與約2000nm之間的光)的光源。該近紅外光可能對於正處理皮膚區的黑色素含量的變化相對不太敏感，藉此可用於偵測多種皮膚類型的冷凍。
在冷卻程序期間，可自至少一個光學導管510之遠端520發射光至設備500下方的皮膚表面區上。由皮膚反射及/或散射之光可進入至少一個光學導管510之遠端520且經由光學導管510導引至光學偵測器(未圖示)，例如習知光計、電荷耦合裝置(CCD)、光學電晶體或其類似物，其可設置於光學導管510之近端處。在本揭示內容之其他示範性 實施例中，可自光學導管510之其他部分移除護套代替在其遠端移除或除了在其遠端移除之外亦可自光學導管510之其他部分移除護套，以促進偵測導向光學導管510之圓周部分的光，藉此促進使用光學導管510相對於皮膚之其他定向偵測光。
可見光之強度或其他特徵的變化可指示局部組織冷凍的發生。例如，在本揭示內容之特定示範性實施例中，用於偵測散射及/或反射光之光學導管510可與用於將光導引至皮膚表面上的光學導管510相同或類似，或非常接近於用於導引光之光學導管510放置，例如在約1至2mm內。若組織冷凍發生，則撞擊光之局部反射可以增加由偵測光學導管510收到之光量。光學信號之該示範性增加可用於確認當設備500置放於皮膚上歷時特定持續時間時皮膚組織的冷凍。在本揭示內容之其他示範性實施例中，光學導管510可具備一或多個偏振元件以減少或抑制自纖維端及組織表面的鏡面反射，其可更敏感地偵測局部組織冷凍。
在本揭示內容之其他示範性實施例中，用於提供及/或偵測光之光學導管510之遠端可更遠地分隔開，例如分割距離大於約3至4mm。若組織冷凍發生，組織發射可增加且更多導引在皮膚處之光可自表面區反射回，而更少光經由組織側向散射。因此，自更遠偵測光學導管510偵測到之光信號的減少亦可指示皮膚組織的局部冷凍。在本揭示內容之又其他示範性實施例中，代替設置於如第5圖中所示之凹坑210之間的接觸表面140區處或除了設置於凹坑210之間的接觸 表面140區處以外，一或多個光學導管510之遠端520可設置於凹坑210之內表面處。
可提供根據本揭示內容之其他示範性實施例之光學導管510之不同示範性配置以偵測組織冷凍及/或獲得關於如本文所述之組織冷凍的更多細節。舉例而言，複數個光學導管510中之每一者可經配置以將光導引至設備下方之皮膚表面上且偵測由皮膚組織所散射或反射的光。複數個光學導管510(例如三個或更多個)可用於提供關於組織冷凍深度方面之資訊。替代或另外地，複數個分隔開之光學導管510可經配置以如本文所述將光導引至皮膚上及/或偵測光。光學偵測器可經配置及/或校準以偵測光學信號位準的臨限值變化，該變化指示鄰近於一或多個光學導管510之遠端的冷凍。在本揭示內容之特定示範性實施例中，提供指示器，例如LED或燈泡、聲音發生器、數位顯示器或其類似物，以確認在設備500固持或以其他方式保持與皮膚表面接觸的同時組織冷凍的發生。
在本揭示內容之其他示範性實施例中，諸如第4A圖中所說明之彼等的溫度感測器410可經配置以偵測局部組織冷凍的發生。例如，在典型冷卻程序中，溫度感測器410所偵測到之溫度可對應於與之接觸的冷卻板110的溫度。當示範性設備100、500置放於皮膚表面上時，偵測到之溫度隨皮膚稍微溫暖冷卻板110之接觸表面140而初始上升。隨著板110冷卻皮膚進行，量測到之溫度接著可降低。該降低之速率及程度可視若干因素而定，例如冷卻板110之初始溫度、 材料及幾何形狀(包括接觸表面140之初始溫度、材料及幾何形狀)，用於冷卻板110之冷卻佈置120之效率，等。
水(諸如存在於皮膚組織中之水)之冷凍為放熱過程，其在自液體至固體之相變過程中產生或釋放一定量的潛熱。當組織冷凍在接近於冷卻板110之底面140發生時，可能偵測到由冷凍相變過程中釋放此潛熱所產生的局部溫度之微小臨時增加。偵測到之溫度接著隨著冷卻(部分)冷凍組織進行而繼續降低。因此，由溫度感測器410偵測到之時間冷卻曲線的「衝撞(bump)」亦可指示局部組織冷凍的發生。
根據本發明之實施例進行示範性研究以說明使用光學感測器偵測組織冷凍的開始。將20mm×20mm平坦鋁接觸板冷卻至-7.5℃之溫度。將兩根1mm之光纖插入板中鑽出的孔中，一根纖維經配置以說明冷卻之組織且第二根纖維經配置以如本文所述偵測來自組織之光。將冷卻了的板置放與Sinclair母豬之側腹上剃過毛之皮膚表面接觸歷時60秒。使用熱電偶監測冷卻板與皮膚表面之接觸點處的溫度。亦監測且記錄此冷卻程序期間所偵測到之光信號。
此冷卻程序之一組示範性數據展示於第6圖中。當起初使冷卻板與更暖皮膚表面接觸時，起初觀察到所量測溫度(由第6圖中之虛線指示)的快速上升(在約5至6秒)。接著隨著板因熱傳導而冷卻相鄰皮膚，溫度下降。此冷卻發生在第6圖中所示之數據圖中之約6秒與15秒之間。光學輸出(使用光學電晶體以伏特為單位量測且由第6圖中之實線指示)在此冷卻過程期間相當保持恆定。在約15秒時，偵測到 溫度小的升高，指示局部組織冷凍之開始及由於皮膚之冷凍所致的潛熱釋放。此組織冷凍之開始伴隨偵測到之光學信號的增加。隨著冷凍皮膚繼續冷卻，此光學信號保持升高。在移除冷卻板之後，確認一部分皮膚表面區冷凍。此研究證實如本文所述使用光學感測器基於冷物體接觸皮膚表面時所偵測到之反射量的變化偵測組織冷凍的開始，且使用溫度感測器藉由冷凍時與潛熱釋放有關之局部溫度的小的平穩或瞬態升高之存在偵測組織冷凍的開始。
在本揭示內容之又其他示範性實施例中，可提供感測器以促進基於量測電阻抗或機械阻抗偵測組織冷凍。舉例而言，多種包括水及組織之材料中冷凍開始已展示電阻抗發生變化。參見例如A.A.Gage,Cryobiology 16，第56-62頁(1979),B.Rubinsky,Ann.Rev.Biomed.Eng.02，第157-87頁(2000)及T.H.Yu等人，Intl.J.Thermophysics,24(2)(2003年3月)。在本揭示內容之一個示範性實施例中，可量測沿著與皮膚表面接觸之冷卻板110之底面兩個或兩個以上位置之間的電阻抗。或者，分開之表面電極經設置接近於冷卻了的區域且用於量測皮膚之局部電阻抗。該等用於偵測皮膚電阻抗之感測器可與任一本文所述之實施例一起使用。可單獨或以任何組合將任一此等類型之經配置用於偵測組織冷凍之感測器(熱、光、機械、力等)與任一本文所述之本發明的各個實施例一起使用。
在本揭示內容之還其他示範性實施例中，指示器經設置與本文所述之用於偵測組織冷凍之任一感測佈置(例如 溫度感測器410或光導510)及設備連通。該指示器可包括例如指示燈、蜂鳴器或其他聲音發生器、顯示板或其類似物。指示器可經配置以提供或以其他方式傳輸第一信號至使用者以指示何時已偵測到組織冷凍。該信號可視情況用於測定所需處理時間的開始。在本揭示內容之特定示範性實施例中，感測器可提供信號至控制佈置150以影響冷卻佈置120之操作及操作參數。例如，控制佈置150可傳輸信號或提供機械配置以基於該等信號將冷卻佈置120打開或關閉、改變所供應之冷卻速率等。
亦可提供定時佈置以指示自偵測到局部組織冷凍開始以來逝去的時間。視情況地，定時佈置可經配置以當自局部冷凍開始以來預定或預置時間間隔已經過去時提供或以其他方式傳輸第二信號。此第二信號可用於指示何時局部冷卻處理已經結束，且敦促使用者將所用設備分開不再接觸皮膚表面。在本揭示內容之特定示範性實施例中，定時佈置可能僅提供指示何時設備應自皮膚移除之第二信號且不提供指示局部冷凍開始之第一信號。
在本揭示內容之又其他示範性實施例中，接觸元件110可自兩種或兩種以上具有不同吸熱係數之材料形成。該等示範性複合結構可用於在接觸元件110內提供特定溫度概況，改良接觸元件表面之溫度可控制性，改變接觸元件110表面上之吸熱特性等。該等兩種或兩種材料可設置為單一材料之離散層或區，連續組成之變化或兩種或兩種材料之離散與連續組合的組合。
在本揭示內容之特定示範性實施例中，如第7圖之示範性橫截面配置所示，吸熱係數不同於接觸元件110之上部720之吸熱係數的材料710可視情況以層或塗層之形式設置於接觸元件110之至少一部分遠端表面140上。例如，鑽及類鑽碳具有極高吸熱係數，且接觸元件110之下部上的一種此等材料之層可改良接觸元件110與正處理皮膚之間的熱傳遞。或者，在本揭示內容之其他示範性實施例中，接觸元件110之上部720可比設置於其遠端表面或下表面上的材料710具有更大吸熱係數。相對於自接近於凹坑210之間的接觸表面140之皮膚組織300的熱排出速率，該示範性配置可進一步增加突入凹坑210之皮膚組織300的熱排出速率(如第3A圖中所示)。
在本揭示內容之又其他示範性實施例中，具有不同吸熱係數之不同材料之圖案或區域可設置於接觸元件110內及/或其接觸表面140上。可提供該等吸熱係數之示範性變化以例如藉由示範性設備100、500影響熱排出(例如冷卻)之模式，影響或改良該等示範性設備100、500之溫度控制，等。
在本揭示內容之其他示範性實施例中，如第8圖中之示範性橫截面配置所示，可提供之用於影響組織色素形成之設備800包括一或多個壓力感測器810。示範性設備800亦可包括手柄300、冷卻佈置120及視情況存在之設置於冷卻佈置120下表面上之冷卻板110，分別例如類似於第1圖及第5圖中所示之設備100、500，及本文所述之其任何變化。壓力感測器810可用於偵測例如操作設備800期間設備800之 接觸表面140與皮膚或組織表面之間的接觸壓力。該壓力偵測可用於例如確保施加足夠或適度之壓力以促進接觸元件110與正處理之組織之間的良好熱接觸，以指示是否存在足夠之壓力促進將柔性皮膚組織300至少部分地突入如第3A圖中所示之凹坑210中，等。幾個PSI或更大之接觸壓力(例如大於血管中之收縮壓，例如約2.5PSI或更大)亦可產生一定的局部發白或使靠近組織表面之血流量收縮。局部發白可減少由血液流動至局部組織之熱傳遞，藉此改良由靠近組織或皮膚表面之設備100、500、800產生之冷卻或熱排出。
壓力感測器810可包括任何習知用於偵測壓力之組件，例如壓電材料、壓阻應變儀、電容或感應感測器，等。可將一或多個壓力感測器810設置於設備800內。壓力感測器810之數目、類型及/或位置可基於若干例如包括所偵測之接觸壓力之可靠性的因素來選擇。例如，壓力感測器810可以為小的，具有低熱質量及/或具有高導熱性以將設備800之熱傳遞特徵之任何減小降至最低或避免該減小。
可選擇一或多個壓力感測器810之位置以精確地指示使用設備800期間接觸表面140與皮膚表面之間的接觸壓力。例如，若冷卻佈置120與手柄300具有良好之機械接觸，則一或多個壓力感測器810可如第8圖中所示設置於冷卻佈置120之上部與手柄300之間。此示範性配置可在避免冷卻佈置120與皮膚表面之間的熱流動或傳遞的任何減少的同時提供壓力感測能力。在本揭示內容之其他示範性實施例中，一或多個壓力感測器810可設置於冷卻佈置120與接觸元件 110之間、設置於接觸元件110之接觸表面140上、設置於接觸元件110內，或該等位置之任何組合。
可將壓力指示器(未圖示)設置於設備800上或靠近其設置。該壓力指示器可包括所偵測到之接觸壓力之數位或模擬輸出、可打開/關閉或改變顏色以指示接觸壓力落在或超出特定壓力範圍或高於/低於特定極限之指示燈、可聽信號，等。壓力指示器可用於向操作者提供或以其他方式傳輸信號以確保在使用設備800期間適合接觸壓力的存在。此壓力感測特徵可與本文所述之設備及方法之任一示範性實施例一起使用，例如包括凹坑210及接觸元件110之不同尺寸及/或形狀、不同冷卻佈置120、用於偵測組織冷凍及/或溫度之不同感測器，等。
在本揭示內容之其他示範性實施例中，可使用真空佈置來改良凹坑210內皮膚組織與接觸板110之間的接觸。例如，如第9圖之示範性配置中所示，接觸元件110其中可包括一或多個通道910，其具有向一或多個凹坑210之下表面140及/或內表面延伸之遠端。真空泵或其他習知低壓源(未圖示)可耦接至通道910之近端。閥佈置(亦未圖示)可用於控制通道910中之低壓的存在。通道910若存在的話可為足夠窄以避免熱傳導通過接觸元件110之任何重大的障礙。通道910之數目、形狀、尺寸及配置可基於諸如接觸元件110之尺寸及形狀，凹坑210之尺寸、形狀及數目等因素來選擇。通道910之近端可設置於設備內之任何位置處以便於連接至低壓源及/或閥佈置。
該示範性真空佈置可有利於接觸元件110與皮膚組織之間的良好接觸。例如，通道910中之低壓可導致由凹坑210與皮膚表面所形成之圍閉體積中的低壓且可藉由將組織至少部分地提起進入凹坑凹口中有利於內部凹坑表面與皮膚組織之間的良好物理及熱接觸。示範性真空佈置可與本文所述之方法及設備的任一其他各種示範性特徵及實施例組合。
在本揭示內容之另一示範性實施例中，接觸元件110之接觸表面140可為可撓性或柔性的，例如以更好地符合正處理之皮膚局部區域。例如，可撓性接觸元件110之一個示範性配置展示於第10圖中。接觸元件110包括可撓性凹膜1010、柔性傳導介質1020及上部導熱層1030。在另一示範性實施例中，可省略導熱層1030，使得傳導介質1020經設置直接與冷卻佈置120接觸。
膜1010可由一或多種可撓或可變形材料在適度壓力(例如幾個PSI或更大)下形成。膜1010之各部分可足夠堅硬以保持其中所形成之凹坑210的形狀。膜1010可如本文所述至少部分地由具有高吸熱係數之材料形成，例如吸熱係數為皮膚組織之10倍以上。例如，膜1010可至少部分地由多種金屬或金屬合金中之任一種形成。該等材料可足夠薄以在提供結構強度及高吸熱係數的同時提供可撓性。
傳導介質1020可包括例如習知導熱糊漿、油灰、凝膠或其類似物。在其他示範性實施例中，傳導介質1020可包括兩相爛泥或泥漿(例如固體/液體混合物)，其相變溫度或範圍落在本文所述之較佳溫度範圍內，例如介於約-4℃與 -20℃之間。該等可使用之兩相混合物的實例包括(但不限於)鹽水溶液、乙醇/水混合物及其類似物。該等兩相混合物可有利於在設備100、500、800自組織排出熱且冷卻皮膚時保持相對穩定之溫度。
傳導介質1020之層或體積可為相對較薄的，因為該等非固體材料趨向於具有比諸如金屬或類鑽碳之特定固體材料低的熱擴散係數。傳導介質1020之厚度應足夠大以有利於膜1010充分變形從而適於正處理之皮膚區的局部形狀或輪廓。該傳導介質1020之厚度可基於例如當設備100、500、800正在使用時膜1010所需之可撓或變形量對於特定設備加以選擇。因此，具有如第10圖中所示之可變形或可撓性接觸表面140的接觸元件110可結合任一本文所揭示之示範性方法及設備的各種實施例及其他特徵使用。
在本揭示內容之特定示範性實施例中，可勾畫與傳導介質1020接觸的上部導熱層1030之下表面(或若上部導熱層1030不存在的話，為冷卻佈置120之下表面)的輪廓以更好符合上面使用傳導介質之表面輪廓。例如，導熱層1030之下表面(或冷卻佈置120之下表面)可為凹面的或凸面的，或者為圓柱形、橢球形或球形，或其可具有另一表面形狀或該等局部形狀之組合，且不一定為實質上平面的。
在本揭示內容之另一示範性實施例中，可提供之設備1100包括例如如第11圖中所示之複數個冷卻佈置120及/或複數個接觸元件110。如第11圖中所示之示範性配置包括兩個冷卻佈置120及兩個接觸元件110，其中一個接觸佈置經 設置與各冷卻佈置120熱連通。示範性設備1100亦可包括此等特徵之其他組合，諸如一個冷卻佈置120經設置與兩個或兩個以上接觸元件110熱連通，複數個冷卻佈置120經設置與一個接觸元件110熱連通，或該等配對之組合。例如，在特定配置中，複數個冷卻佈置120對於一或多個接觸元件110可提供比單一冷卻佈置120更好的溫度控制。或者，在特定配置中，複數個接觸元件110比單一接觸元件110可提供更適於更大組織處理區域之接觸表面140。
包括複數個冷卻佈置120及/或複數個接觸元件110之本發明揭示內容之示範性實施例可與本文所述之任何其他特徵或實施例一起使用。例如，一或多個溫度感測器410及/或一或多個壓力感測器810可與各冷卻佈置120及/或與各接觸元件110關聯。控制佈置150中之一或多個(未展示於第11圖中)可經設置，且溫度感測器410及/或壓力感測器810(若存在的話)中之特定者可經設置與該等控制佈置150中之一或多者連通。任一本文所描述且第2B至2K圖中所說明之凹坑特徵或其組合可與接觸元件110中之任一者一起使用。包括特定特徵中之一者以上的設備1100之特定配置的設計可基於已知的設計原理，例如為提供所需之溫度控制，促進皮膚組織之更大區域的控制冷卻，在設備1100之整個接觸表面140上提供局部冷卻參數之變化，等。該等接觸元件110中之一或多者可包括如第10圖中所示之可變形接觸膜1010及傳導介質1020。該等接觸元件110中之一或多者亦可包括如第7圖中所示且本文所述之複數種具有不同熱擴散係數之 材料。
可在皮膚之特定區域上進行根據任一本文所述之示範性實施例之多次冷凍療法處理以進一步亮化皮膚。可在進行後續處理之前以更長的間隔，例如天或周進行該等示範性多次處理以使得因特定處理處理之色素過少作用變得視覺上明顯。該等示範性多次處理可用於逐漸亮化處理區中之皮膚外觀。
在本揭示內容之其他示範性實施例中，提供一種用於藉由使用低溫技術產生色素過少來逐漸及可控制地亮化皮膚外觀的方法。例如，可藉由使用如本文所述之示範性溫度及時間使表皮皮膚組織之區域與包括亦如本文所述之複數個凹坑210之接觸表面140接觸來將該區域冷卻或冷凍以例如誘發色素過少。冷凍表皮區域下方之上部真皮層部分亦可在該示範性程序期間冷凍或冷卻。此等示範性時間及溫度曝露可誘發冷卻或冷凍皮膚組織之色素過少反應。因此，根據本文所述之本揭示內容之低溫色素過少方法及/或程序之示範性實施例可逐漸亮化正處理之皮膚區域。
此外，本文所述之示範性程序可在皮膚特定區域上重複以進一步對其亮化。較佳地，相繼程序之間的間隔可足夠長以使得色素過少作用得以視覺上可見及更好地控制所得總體亮化程度。需要時亦可以較短間隔重複多次在一或多個特定溫度下使用特定示範性設備以提供接觸冷卻或冷凍歷時特定處理時間的示範性程序，例如以在第一皮膚區域中提供相比於第二區域更大之總體色素過少程度。
亦可將冷卻佈置、溫度及/或冷凍偵測器及本文所述之其他設備特徵之各組合用於本揭示內容之其他示範性實施例中，甚至特定示範性組合可能未在本文以單一實施例進行明確說明或描述。在可能的情況下可組合每一該等特徵之優勢或特徵以提供甚至更有利之示範性實施例。
實例
將類似於第1圖中所示之設備100的根據本揭示內容之示範性實施例之示範性設備用於測試本文所述之控制冷卻程序影響皮膚色素形成的功效。該設備包括一個正方形冷面積之寬度為約40mm之熱電冷卻器及一個由鋁形成之接觸元件110，該接觸元件為約20mm深且逐漸變細至直徑約10mm之圓形接觸表面140。接觸表面140包括18個缺損210，其中每個缺損210為圓形，直徑為1mm且深度為1mm。因此，由缺損210覆蓋之接觸表面積之分數為約0.18(18%)。熱阻器設置於靠近接觸表面140之邊緣的小凹槽中，使得熱阻器之一側實質上與接觸表面140齊平。將習知控制佈置用於冷卻器以將熱阻器所量測到之溫度保持在預設值。循環冷卻劑用於冷卻冷卻器之熱側。為比較之目的，亦可使用具有稍凸接觸表面且無凹坑之具有類似尺寸的第二接觸元件以針對接觸溫度與時間之不同組合評估凹坑對色素形成作用之影響。
使用示範性設備針對接觸表面溫度與時間之不同組合控制冷卻在Sinclair豬之側腹上的標記位置。豬模型為在許多領域中生理學及解剖學類似於人類之生物醫學研究之公認 模型。例如，通常已認識到豬皮之組織學及生物化學特性類似於人類皮膚。像人類一樣，豬在緊緊貼附於皮下組織之固定皮膚相對無毛髮，且豬皮展現與人類皮膚之其他類似性，諸如角質層及毛囊結構之厚度。
第12A圖展示藉由在-9℃之溫度下使此圖中心之豬皮特定位置與凹接觸表面接觸15秒之接觸持續時間，處理後四週拍攝觀察到之色素過少。第12B圖展示處理後9.5週觀察到之與第12A圖之色素過少相同之圓形區。經處理區域之亮化在此等圖像中明顯可見。
第13A圖之中心部分為豬皮在處理後4週觀察到之位置，該豬皮藉由使其與亦設置於-9℃之溫度的平滑(無凹坑)接觸表面接觸15秒之接觸持續時間來處理。第13B圖展示處理後9.5週之與第13A圖相同之皮膚經冷卻圓形區。在此等圖像中幾乎沒有或沒有可辨別之處理區域之亮化。
第14A圖及第14B圖展示豬之皮膚區之圖像(分別在處理後4週及9.5週獲得)，其使用凹接觸表面可控制地冷卻，除了接觸持續時間為30秒外參數與以上針對第12A圖及第12B圖所述之彼等相同。類似地，第15A圖及第15B圖展示豬皮區之圖像(分別在處理後4週及9.5週獲得)，其使用平滑接觸表面可控制地冷卻，其他參數與以上針對第14A圖及第14B圖所述之彼等相同(例如在-9℃之接觸表面溫度下接觸持續時間為30秒)。同樣，此等圖像之經處理中心部分中幾乎沒有或沒有處理區域之色素過少。
在包括第12A至12B圖及第15A至15B圖中所述者 之時間/溫度條件範圍內，當使用凹接觸表面時，觀察到皮膚組織之冷凍及後續色素過少。相比之下，結果與在類似條件下使用平滑接觸表面時之結果不一致。例如，以平滑接觸表面將皮膚冷卻至-9℃歷時15秒時未觀察到皮膚組織之冷凍及後續色素過少，且當藉由平滑接觸表面冷卻至-9℃歷時30秒時僅一部分皮膚冷卻區展現冷凍及色素過少。
一般而言，在如本文所述之各種時間/溫度條件下，包括例如-7℃歷時15秒及-5℃歷時60秒，在豬皮中觀察到凹表面可以一致地產生部分皮膚冷凍及後續色素過少。相比之下，在類似時間/溫度條件下皮膚中產生色素過少與當使用平滑接觸表面時不一致，且在更短接觸時間與稍暖溫度之特定組合(例如-9℃歷時15秒)下不產生任何色素過少。
因此，針對本文所述之接觸時間與溫度之組合，凹表面可以可靠及重複地起始皮膚組織中之冷凍且產生色素過少作用，而在類似條件下以平滑冷表面冷卻皮膚表面會產生不太可靠之結果。此外，使用凹接觸表面可促進在比可用平滑接觸表面達成之更暖溫度及/或比更短接觸時間下產生色素過少。
前述僅僅說明本揭示內容之示範性實施例之原理。熟習此項技術者在自圖式、揭示內容及隨附申請專利範圍之研究實踐所主張之揭示內容時，可理解且實現所揭示之示範性實施例之其他變化。在申請專利範圍中，字「包含」不排除其他元件或步驟且不定冠詞「一」不排除複數個。單一處理器或其他單元可履行申請專利範圍中所述之若干項或步驟 之功能。特定措施在相互不同之附屬項中敘述之事實不表明不可有利地使用此等措施之組合。申請專利範圍中之任何參考符號不應解釋為限制申請專利之範圍。熟習此項技術者根據本文之教示將明白所述示範性實施例之各種變化及變動。因此應瞭解熟習此項技術者能夠想出眾多結束，儘管本文未明確描述，該等技術體現本揭示內容之原理且因此在本揭示內容之精神及範圍內。所有本文所述之專利及申請案以引用之方式全文併入本文中。

Claims (17)

  1. 一種用於冷卻一皮膚組織之設備，其包含：一接觸佈置，該接觸佈置包含一遠端表面，該遠端表面經配置以接觸該皮膚組織的一表面，及一冷卻佈置，其中該冷卻佈置經配置以將該接觸佈置之該遠端表面冷卻至小於約-4℃之一溫度，且其中該接觸佈置之該遠端表面包含複數個凹坑，該複數個凹坑設置於該遠端表面中，且其中該複數個凹坑中之至少一個凹坑係：(i)藉由一特定距離與該複數個凹坑中之另一個凹坑分隔，及(ii)經配置以使該皮膚局部變形，以提供一增加之局部表面積，該增加之局部表面積與該複數個凹坑之內表面接觸。
  2. 如請求項1所述之設備，其中該等凹坑之一寬度介於約0.3mm與約2mm之間，且該等凹坑之一深度介於約0.3mm與約2mm之間。
  3. 如請求項1或2所述之設備，其中該接觸元件之該遠端表面由該等凹坑所覆蓋之一面積分數介於約0.05與約0.5之間。
  4. 如請求項1或2所述之設備，進一步包含至少一個壓力感測器，該壓力感測器經配置以偵測介於該接觸佈置之該遠端表面與該皮膚組織之一表面之間的一接觸壓力。
  5. 如請求項4所述之設備，進一步包含一壓力指示器，該壓力指示器耦接該至少一個壓力感測器，當由該至少一個壓力感測器所偵測之該接觸壓力落在或超出預定範圍，或高於或低於預定值時，該壓力指示器發出信號。
  6. 如請求項1或2所述之設備，其中該接觸佈置之該遠端表面為可撓性的。
  7. 如請求項1或2所述之設備，其中該接觸佈置包含一近端，該近端經配置以接觸該冷卻佈置，且其中該接觸佈置自該近端向該遠端表面漸縮，致使該接觸佈置之該遠端表面的面積小於該近端。
  8. 如請求項7所述之設備，其中該近端為該遠端表面的至少兩倍大。
  9. 如請求項1或2所述之設備，其中該接觸佈置經配置以經由一柔性傳導介質耦接該皮膚組織的該表面，該柔性傳導介質包含液體。
  10. 如請求項1或2所述之設備，其中該接觸佈置係由兩種或兩種以上具有不同吸熱係數之材料形成，該接觸佈置之一上部包含一第一材料，該第一材料具有一第一吸熱係數，且該接觸佈置之該遠端表面包含一第二材料之一圖案，該第二材料具有一第二吸熱係數，該第二吸熱係數小於該第一吸熱係數。
  11. 如請求項1或2所述之設備，其中該複數個凹坑包含刻痕，該刻痕形成於該遠端表面內。
  12. 一種用於冷卻皮膚組織的系統，該系統包含如請求項1至11中任一項所述之設備，其中該接觸佈置能自該冷卻佈置脫離，且該系統進一步包含複數個接觸佈置，該複數個接觸佈置彼此具有不同尺寸、形狀或表面特徵中之至少一者。
  13. 一種用於冷卻一皮膚組織之美容方法，包含：使該皮膚組織之表面的至少一部分與一冷物體之一表面接觸，其中該冷物體之該表面包含複數個凹坑設置於其中，且其中該冷物體之該表面設置於小於約-4℃之一溫度下，且其中使該皮膚組織之該表面與該冷物體之該表面接觸使該皮膚局部變形，以提供該皮膚組織的一增加之局部表面積，該增加之局部表面積與設置在該冷物體之該表面中的該複數個凹坑之內表面接觸。
  14. 如請求項13所述之方法，其中該等凹坑之寬度介於約0.3mm與約2mm之間，且該等凹坑之深度介於約0.3mm與約2mm之間。
  15. 如請求項13或14所述之方法，其中該冷物體之該表面由該等凹坑所覆蓋之一面積分數介於約0.05與約0.5之間。
  16. 如請求項13或14所述之方法，進一步包含將介於該冷物體與該皮膚組織之該表面之間的一接觸壓力維持在高於一預定值。
  17. 如請求項13或14所述之方法，其中接觸該皮膚組織之該表面包含：使用一柔性傳導介質將該冷物體與該皮膚組織之該表面耦接，該柔性傳導介質包含一液體。
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