TWI534946B - Plasma processing device - Google Patents

Description

電漿處理裝置

本發明用於在電漿處理裝置內部堅固地固定基板托盤，特別涉及一種電漿處理裝置，能夠應用於在室的下部形成有電漿的方式的電漿處理裝置，把基板托盤固定於室內。

一般而言，在用於半導體的晶圓及要求精密的薄膜加工步驟中，使用利用了電漿的蝕刻和沉積法，提高製品的精密度。

如此產生電漿的電漿處理裝置，由形成外形的室和安裝於室的外側的天線及使晶圓放置於室內部的卡盤構成。

由此，所述的天線供應高頻，藉由高頻而在室內部形成有電漿，對放置於卡盤的晶圓進行加工。

以往的電漿處理裝置在室上部形成電漿，在下部固定托盤，利用電漿蝕刻載置於托盤的晶圓(基板)。這存在的問題是，在室上部發生的加工副產物藉由重力而落於基板，因此，加工副產物對基板的加工造成影響，蝕刻作業無法順利進行，因而發生不良。

為了解決這種問題，提出了在室的上部固定托盤、在下部形成電漿的方案。由此，消除了因加工副產物落於基板而發生不良的問題，但基板與以往朝向上面的情形相反，而是朝向下面，在把托盤堅固地固定於室的上部方面發生問題。

以往的日本專利公開公報2004-285469 A提出“載置架處理裝置及方法”。但是，在這種現有文獻中，只公開了在平行平板式電極之間接入高頻電力並產生電漿，藉由該電漿而使工程氣體啟動，在較低溫度下進行既定的成膜處理或蝕刻處理，並未針對在室內部堅固地固定基板托盤的手段進行公開。

作為所述背景技術而說明的事項，只是為了增進對本發明的背景的理解，不得視為承認屬於該所屬技術領域的技術人員已知的以往技術。

現有技術文獻 專利文獻

專利文獻1：日本專利公開公報JP 2004-285469 A

本發明正是為了解決這種問題而研發的，其目的在於提供一種電漿處理裝置，針對在室的下部形成有電漿的方式的電漿處理裝置，在室內部堅固地固定基板托盤，使得基板托盤的周邊加工環境均一，在蝕刻作業時使出錯實現最少化。

旨在達成所述目的的本發明的電漿處理裝置包括：室，其具備供電漿生成的空間，在上端壁部的下端固定有卡盤；第1夾具組件，其安裝於所述室的上端壁部，配置有供基板托盤載置的第1夾具，配置為能夠在室的內部沿上下方向升降，從而當上升運轉時，使得基板托盤接觸卡盤並固定；及第2夾具組件，其安裝於所述室的上端壁部，配置為能夠在室的內部沿上下方向升降，當包圍所述第1夾具與基板托盤地形成的第2 夾具上升運轉時，使得基板托盤與第1夾具一同貼緊卡盤。

本發明的另一特徵在於，所述室在上端壁部固定有卡盤，工程氣體從下端壁部向上方供應，側端壁部的上側，天線配置於下側。

本發明的另一特徵在於，所述第1夾具組件包括：第1長度調節部，其固定安裝於所述室的上端壁部上端，長度沿上下方向可變；第1運轉部，其位於所述第1長度調節部的上側，連接有第1長度調節部，藉由第1長度調節部而上下移動；第1支撐部，其從所述第1運轉部向下方延長，貫通室的上端壁部，在延長的末端，具備在室的內部供基板托盤載置的第1夾具。

其特徵在於，所述第1長度調節部包括：缸，其固定於室上端壁部；活塞桿，其配置為在缸中沿上下方向升降，且連接有第1運轉部。

本發明的另一特徵在於，所述第1運轉部與室的上端壁部水平地配置，在中心連接有所述第1長度調節部，從中心呈輻射狀延長形成有構成相同長度和等角的至少兩個以上的第1連接臂，並連接有第1支撐部。

本發明的另一特徵在於，所述第1運轉部的第1連接臂能夠彈性彎曲地形成。

本發明的另一特徵在於，所述第1運轉部從中心呈輻射狀延長形成有三個第1連接臂。

本發明的另一特徵在於，所述第1支撐部的一端連接於第1運轉部的第1連接臂，另一端向下方延長而其末端位於比室內部的卡盤更下側，在另一端配置有朝向室的中央以凸緣形態延長的第1夾具。

本發明的另一特徵在於，連接於所述多個第1連接臂的各個第1支撐部，連接於以環形態形成的連接環的外周。

本發明的另一特徵在於，所述連接環在第1支撐部的延長的末端連接於比第1夾具更上側。

本發明的另一特徵在於，在所述室中形成有引導支撐部，所述引導支撐部固定安裝於上端壁部的上端，向上方延長，連接有第1夾具組件與第2夾具組件，從而使得第1夾具組件和第2夾具組件向相同方向升降，在延長的末端配置有固定面板。

所述第2夾具組件包括：第2長度調節部，其固定安裝於固定面板的下端，長度沿上下方向可變；第2運轉部，其位於所述第2長度調節部的下側，連接有第2長度調節部，藉由第2長度調節部而向上下移動；第2支撐部，其從所述第2運轉部向下方延長，貫通室的上端壁部，在延長的末端，具備在室的內部一同包圍第1夾具與基板托盤的第2夾具。

本發明的另一特徵在於，所述第2長度調節部包括：缸，其固定於第2運轉部；活塞桿，其配置為在缸中沿上下方向升降，連接於固定面板。

本發明的另一特徵在於，所述第2運轉部與室的上端壁部水平地配置，在中心連接有所述第2長度調節部，從中心呈輻射狀延長形成有構成相同長度和等角的至少兩個以上的第2連接臂，連接有第2支撐部。

本發明的另一特徵在於，所述第2運轉部的第2連接臂能夠彈性彎曲地形成。

本發明的另一特徵在於，所述第2支撐部一端連接於第2 運轉部的第2連接臂，另一端向下方延長，其末端位於比第1夾具更下側，在另一端配置有以環形態形成並包圍第1夾具與基板托盤的第2夾具。

本發明的另一特徵在於，所述第2夾具以環形態形成，在外周形成有供第1夾具容納的插入槽和供基板托盤載置的支撐槽。

本發明的另一特徵在於，在所述引導支撐部的固定面板上，形成有向下方延長並位於第1運轉部上側的停止部，從而使得第1運轉部在向上方過度移動時接觸停止部並限制移動。

本發明的另一特徵在於，進一步配備有盒模組，所述盒模組具備在底面兩側對稱的板，並具備：在兩板上沿上下方向構成多段，且朝向相互相向的方向凸出的支撐架；放置架，其載置於所述支撐架，在中央部，以比基板托盤外周更小的外周形成有移送槽，前方以與移送槽相接的方式開放，沿著移送槽的外周形成有供基板托盤載置的載置槽；移送組件，其將載置於所述放置架的基板托盤移送到所述室內而載置於第1夾具組件。

本發明的另一特徵在於，所述盒模組設有安裝於支撐架的感測器部，所述感測器部判斷載置於支撐架的基板托盤的有無。

本發明的另一特徵在於，所述移送組件以平面形成，以便與基板托盤的下面接觸，在外周配置有防止基板托盤滑動的橡膠墊，在中央形成有用於分散負載的分散孔。

另一方面，旨在達成所述目的的本發明的晶圓固定裝置包括：其特徵在於，包括：第1夾具組件，其配置有供基板托盤載置的第1夾具，配置為能夠在室的內部沿上下方向升降，從而當運轉時，使得基板托盤接觸室內的卡盤並固定；及第2夾具組件，其與所述第1夾具組件獨 立地配置，使得能夠在室的內部沿上下方向升降，具備包圍所述第1夾具和基板托盤地形成的第2夾具，運轉時，使得基板托盤與第1夾具一同貼緊室內的卡盤。

由如上所述結構構成的電漿處理裝置，針對在室的下部形成電漿的方式的電漿處理裝置，在室內部堅固地固定基板托盤，使得基板托盤的周邊加工環境均一，在蝕刻作業時使出錯實現最少化。

另外，提供作為用於向室內部移送基板托盤的手段的盒，使得容易把裝載於盒的基板托盤移送到室內，提高作業效率。

100‧‧‧室

120‧‧‧上端壁部

122‧‧‧卡盤

140‧‧‧側端壁部

142‧‧‧天線

160‧‧‧下端壁部

180‧‧‧引導支撐部

182‧‧‧固定面板

184‧‧‧停止部

200‧‧‧第1夾具組件

220‧‧‧第1長度調節部

222‧‧‧缸

224‧‧‧活塞桿

240‧‧‧第1運轉部

242‧‧‧第1連接臂

260‧‧‧第1支撐部

262‧‧‧第1夾具

264‧‧‧連接環

300‧‧‧第2夾具組件

320‧‧‧第2長度調節部

322‧‧‧缸

324‧‧‧活塞桿

340‧‧‧第2運轉部

342‧‧‧第2連接臂

360‧‧‧第2支撐部

362‧‧‧第2夾具

364‧‧‧插入槽

366‧‧‧支撐槽

400‧‧‧盒模組

420‧‧‧板

422‧‧‧支撐架

440‧‧‧放置架

442‧‧‧移送槽

460‧‧‧移送組件

462‧‧‧橡膠墊

464‧‧‧分散孔

W‧‧‧基板托盤

a‧‧‧電漿生成空間

下面參照附圖，對本發明較佳實施例的電漿處理裝置進行考查。

圖1是顯示本發明一實施例的電漿處理裝置的圖。

圖2至3是顯示圖1所示電漿處理裝置的運轉狀態的圖。

圖4是顯示圖1所示電漿處理裝置的第1夾具組件的立體圖。

圖5是顯示圖1所示電漿處理裝置的第2夾具組件的立體圖。

圖6是顯示本發明一實施例的電漿處理裝置的盒的立體圖。

圖7至8是用於說明圖6所示電漿處理裝置的盒的圖。

圖9至14是用於說明本發明一實施例的電漿處理裝置的基板托盤的移送及固定作業的圖。

下面參照附圖，對本發明較佳實施例的電漿處理裝置進行考 查。

圖1是顯示本發明一實施例的電漿處理裝置的圖，圖2至3是顯示圖1所示電漿處理裝置的運轉狀態的圖，圖4是顯示圖1所示電漿處理裝置的第1夾具組件的立體圖，圖5是顯示圖1所示電漿處理裝置的第2夾具組件的立體圖。

另一方面，圖6是顯示本發明一實施例的電漿處理裝置的盒的立體圖，圖7至8是用於說明圖6所示電漿處理裝置的盒的圖。

圖9至14是用於說明本發明一實施例的電漿處理裝置的基板托盤的移送及固定作業的圖。

如圖1所示，本發明的電漿處理裝置包括：室100，其具備供電漿生成的空間a，在上端壁部120的下端固定有卡盤122；第1夾具組件200，其安裝於所述室100的上端壁部120，配置有供基板托盤W載置的第1夾具262，配置為能夠在室100的內部沿上下方向升降，從而當上升運轉時，使得基板托盤W接觸卡盤並固定；及第2夾具組件300，其安裝於所述室100的上端壁部120，配置有包圍所述第1夾具262和基板托盤W地形成的第2夾具362，配置為能夠在室100的內部沿上下方向升降，從而使得在上升運轉時，基板托盤W與第1夾具200一同貼緊卡盤122。

在上端壁部120固定安裝有卡盤122，基板托盤W固定於上部，工程氣體從下端壁部160供應，使得在室100內的下部形成電漿，在應用這種方式的電漿處理裝置中，本發明在上部固定有基板托盤W，在下部形成電漿，因而具有使加工副產物的影響實現最小化的優點，同時，在室100內部堅固地固定基板托盤W，使得基板托盤W的周邊加工環境均一， 防止蝕刻過程中出錯。

所述室100可以在上端壁部120固定有卡盤122，工程氣體從下端壁部160向上方供應，側端壁部140的上側連接有真空泵(圖中未示出)，下側連接有天線142。

參照圖1，本發明的室100在上端壁部120固定有卡盤122，工程氣體從下端壁部160向上方供應，引入室100內部的工程氣體藉由配置於側端壁部140下側的天線142所供應的高頻而解離，使得執行基板托盤W的蝕刻。特別是在本發明中，在室100的側端壁部140，上側連接有真空泵(圖中未示出)，從而能夠防止當真空泵(圖中未示出)連接於室100的下部時，工程氣體的分離的物質接近位於室100下部的真空泵(圖中未示出)形成，因而，應傳遞到基板托盤W側的工程氣體的分離的物質被吸入真空泵(圖中未示出)，向基板托盤W側傳遞的物質的量減少的問題。由此，可以充分形成基板托盤W的初始目標的形狀，錯誤減少，品質提高。

另一方面，在本發明中，在室100的上端壁部120，安裝有能夠沿上下方向升降的第1夾具組件200，在第1夾具組件200中，配置有在室100內供基板托盤W載置的第1夾具262。這種第1夾具組件200使得在上升運轉時，載置於第1夾具262的基板托盤W接觸卡盤122，位置被固定。

而且，在室100的上端壁部120，獨立於第1夾具組件200，安裝有能夠沿上下方向升降的第2夾具組件300。在這種第2夾具組件300中，配置有在室100內一同包圍第1夾具262與基板托盤W地形成的第2夾具362，當上升運轉時，基板托盤W與第1夾具262一同貼緊卡盤122。

本發明如圖1至3依次所示，通過第1夾具組件200，基板托盤W一次固定於卡盤122，藉由第2夾具組件300，二次加壓，從而基板托盤W可以完全固定，使得不在卡盤122中發生晃動。

如果針對在所述的室100內固定基板托盤W的本發明的夾具組件進行具體說明，那麼，第1夾具組件200可以包括：第1長度調節部220，其固定安裝於所述室100的上端壁部120上端，長度沿上下方向可變；第1運轉部240，其位於所述第1長度調節部220的上側，連接有第1長度調節部220，藉由第1長度調節部220而上下移動；第1支撐部260，其從所述第1運轉部240向下方延長，貫通室100的上端壁部120，在延長的末端，配置在室100的內部供基板托盤W載置的第1夾具262。

即，如圖4所示，第1夾具組件200配置有第1運轉部240，所述第1運轉部240連接於配置為長度沿上下可變的第1長度調節部220並向上下移動，第1長度調節部220運轉時，隨著第1運轉部240向上下移動，連接於其的第1支撐部260向上下移動。其中，在第1支撐部260，配置有在室100內部供基板托盤W載置的第1夾具262，從而當第1支撐部260上升運轉時，第1夾具262朝向室100內的卡盤122向上方移動，使得接觸卡盤122。因此，載置於第1夾具262的基板托盤W在室100的上部，位置固定於卡盤122與第1夾具262之間。

詳細而言，所述第1長度調節部220可以包括：缸222，其固定於室100上端壁部120；活塞桿224，其配置為在缸222中沿上下方向升降，供第1運轉部240連接。如圖1所示，第1長度調節部220的缸222固定安裝於室100，在缸222中沿上下方向移動的活塞桿224連接於第1運 轉部240，從而，如果缸222的活塞桿224上升，則連接於其的第1運轉部240一同上升。其中，缸222與活塞桿224可以構成得利用壓縮空氣進行升降運轉，可以應用使得活塞桿224在缸222中移動的各種手段。

另一方面，所述第1運轉部240可以與室100的上端壁部120水平地配置，在中心連接有所述第1長度調節部220，從中心呈輻射狀延長形成有構成相同長度和等角的至少兩個以上的第1連接臂242，並連接有第1支撐部260。

當然，第1運轉部240作為藉由第1長度調節部220而沿上下方向移動的結構，可以以單純的圓形形態應用。但是，第1運轉部240在中心連接有第1長度調節部220，從而使得隨著第1長度調節部220的升降運轉而進行作用的負載不偏向一側，第1連接臂242從中心呈輻射狀構成等角並延長，從而與單純以圓形形態形成的情形相比，能夠減少重量。

而且，第1運轉部240從中心延長的第1連接臂242以相同長度和相同角度形成，從而使得當第1運轉部240上下移動時，向各個第1連接臂242分配相同的負載。

特別是所述第1運轉部240的第1連接臂242能彈性彎曲地形成，從而使得當負載作用於第1連接臂242時不易破損。即，隨著第1長度調節部220進行上升運轉，第1運轉部240和連接於其的第1支撐部260上升，從而載置在第1夾具262的基板托盤W接觸卡盤122，為了使基板托盤W堅固地接觸卡盤122，第1長度調節部220的上升力強烈地進行作用。

此時，就第1運轉部240而言，上升力在第1長度調節部 220所連接的中心進行作用，隨著第1支撐部260的第1夾具262掛接於卡盤122，包括第1連接臂242的第1運轉部240彈性彎曲，從而防止第1連接臂242的端部破損，與第1長度調節部220的上升力一起，第1運轉部240彈性彎曲，從而能夠使得載置於第1夾具262的基板托盤W堅固地固定於卡盤122。

所述的第1運轉部240可以從中心呈輻射狀延長形成有三個第1連接臂242。當然，就從第1運轉部240延長的第1連接臂242而言，如果增加其個數，則具有第1運轉部240的整體剛性增加的優點。但是，在本發明中，基板托盤W通過第1夾具組件200的側面進入並載置，根據第1連接臂242的個數的增加，第1連接臂242間的間隔減小，難以確保供基板托盤W進入的空間。因此，較佳為從第1運轉部240延長的第1連接臂242構成等間隔，形成三個左右，從而在確保供基板托盤W進入的空間的同時，使得確保第1運轉部240適當程度的剛性。

這種第1連接臂242的個數可以考慮基板托盤W的進入空間及整體剛性而設置為適當個數。

另一方面，所述第1支撐部260一端連接於第1運轉部240的第1連接臂242，另一端向下方延長，其末端位於比室100內部的卡盤122更下側，在另一端可以配置有朝向室100的中央以凸緣形態延長的第1夾具262。

如上所述，第1支撐部260一端連接於第1連接臂242，在第1長度調節部220運轉時，與第1連接臂242一同上下移動，另一端向下方延長，位於室100內。特別是在第1支撐部260的另一端，配置有朝向室 100的中央以凸緣形態延長的第1夾具262，基板托盤W可以載置於室100內部。

在本發明中，第1夾具組件200用於一次固定基板托盤W，配置於第1支撐部260的第1夾具262以凸緣形態形成，以便基板托盤W載置於上端。較佳為，第1夾具262以凸緣形態延長，在延長的部分形成凸台，從而可以使得載置的基板托盤W不會遊動、脫離。此時，在基板托盤W上，可以也形成對應於第1夾具262的凸台的凸台。

另外，第1夾具262的延長長度可以設置成支撐基板托盤W外周的程度，當向上方移動時掛接於卡盤122，從而基板托盤W接觸卡盤122，使得位置固定。

另一方面，連接於所述多個第1連接臂242的各個第1支撐部260可以連接於以環形態形成的連接環264的外周。

如圖4所示，在本發明中，在第1運轉部240延長有多個第1連接臂242，在這種多個第1連接臂242上，分別連接有第1支撐部260。而且，第1支撐部260從第1連接臂242向下方延長，當第1運轉部240上下移動時，因運轉衝擊，各自會發生晃動。

因此，使得從第1連接臂242延長的各個第1支撐部260通過以環形態形成的連接環264而全部連接，從而可以使第1支撐部260的晃動減小，使得載置在第1夾具262的基板托盤W被穩定地支撐。另外，第1支撐部260一端連接於第1連接臂242，另一端通過連接環264連接，從而在結構上也可以實現穩定化。這種連接環264根據卡盤122的形態，不僅是圓形，也可以以四邊環狀加以應用。

其中，較佳為所述連接環264在第1支撐部260的延長的末端，連接於比第1夾具262更上側。如此使得連接環264連接於比第1夾具262更上側，從而能夠使得從側方進入的基板托盤W移到到連接環264與第1夾具262之間的空間。由此，可以使第1支撐部260的結構穩定化，使得基板托盤W的進入順利執行。

另一方面，在所述室100中可以形成有引導支撐部180，其固定安裝於上端壁部120的上端，向上方延長，連接有第1夾具組件200與第2夾具組件300，從而使得第1夾具組件200與第2夾具組件300沿相同方向升降，在延長的末端配置有固定面板182。

這種引導支撐部180固定安裝於室100的上端壁部120，以棒形態向上方延長。這種引導支撐部180可以形成多個。特別是在引導支撐部180，連接有第1夾具組件200和第2夾具組件300，第1夾具組件200和第2夾具組件300隨著引導支撐部180而被引導得沿上下方向移動，從而可以使得第1夾具組件200與第2夾具組件300向相同方向執行穩定的升降運轉。

其中，所述第1夾具組件200和第2夾具組件300在室100的上端壁部120上下地配置，可以構成得在所述的引導支撐部180，貫通連接有第1夾具組件200的第1運轉部240，貫通連接有下面將說明的第2夾具組件300的第2運轉部340。

而且，在引導支撐部180的延長的末端，可以連接有固定面板182。就固定面板182而言，作為供下面將說明的第2夾具組件300安裝的部分，可以以平面形成，當引導支撐部180形成多個時，連接各引導支 撐部180，使得在結構上實現穩定化。

如果對第2夾具組件300進行具體說明，所述第2夾具組件300可以包括：第2長度調節部320，其固定安裝於固定面板182的下端，長度沿上下方向可變；第2運轉部340，其位於所述第2長度調節部320的下側，供第2長度調節部320連接，藉由第2長度調節部320而向上下移動；第2支撐部360，其從所述第2運轉部340向下方延長，貫通室100的上端壁部120，在延長的末端，具備在室100的內部一同包圍第1夾具262和基板托盤W的第2夾具362。

即，如圖5所示，第2夾具組件300配置有第2運轉部340，所述第2運轉部340連接於配置為長度沿上下可變的第2長度調節部320，向上下進行移動，在第2長度調節部320運轉時，隨著第2運轉部340向上下移動，連接於其的第2支撐部360向上下移動。其中，在第2支撐部360，具備在室100內部供基板托盤W載置的第2夾具362，從而使得當第2支撐部360上升運轉時，第2夾具362朝向室100內的卡盤122向上方移動，接觸卡盤122。特別是配置於第2支撐部360的第2夾具362，一同包圍第1夾具262與基板托盤W地形成，從而使第1夾具262和載置於第1夾具262的基板托盤W在室100的上部貼緊卡盤122。如上所述，第1夾具組件200與第2夾具組件300一同使得基板托盤W接觸卡盤122，位置被固定，從而能夠使得更堅固安全地固定基板托盤W的位置。

詳細而言，所述第2長度調節部320可以包括：缸322，其固定於第2運轉部340；活塞桿324，其配置為在缸322中沿上下方向升降，連接於固定面板182。

如圖1所示，第2長度調節部320的缸322固定安裝於第2運轉部340，在缸322中沿上下方向移動的活塞桿324連接於固定面板182，從而，如果缸322的活塞桿324進行下降運轉，則使得缸322上升，第2運轉部340上升。

所述的缸322與活塞桿324的連接，可以互換並安裝於固定面板182或第2運轉部340，缸322與活塞桿324可以構成得利用壓縮空氣進行升降運轉，可以應用使得在活塞桿324在缸322中移動的各種手段。

另一方面，所述第2運轉部340可以與室100的上端壁部120水平地配置，在中心連接有所述第2長度調節部320，從中心呈輻射狀延長形成有構成相同長度和等角的至少兩個以上的第2連接臂342，連接有第2支撐部360。

如圖5所示，第2運轉部340使得在中心連接有第2長度調節部320，從而使得隨著第2長度調節部320的升降運轉而進行作用的負載不偏向一側，第2連接臂342從中心呈輻射狀構成等角延長，從而與單純以圓形形態形成的情形相比，能夠減小重量。

而且，第2運轉部340從中心延長的第2連接臂342以相同長度和相同角度形成，從而使得當第2運轉部340上下移動時，向各個第2連接臂342分配相同的負載。

其中，所述第2運轉部340的第2連接臂342能彈性彎曲地形成。即，在第2運轉部340的中心連接有第2長度調節部320，因而上升力進行作用，隨著第2支撐部360的第2夾具362掛接於卡盤122，包括第2連接臂342的第2運轉部340彈性彎曲，從而防止第2連接臂342的端部 破損，與第2長度調節部320的上升力一起，第2運轉部340彈性彎曲，從而能夠使得被第2夾具362包圍的基板托盤W堅固地固定於卡盤122。

所述的第2運轉部340可以從中心呈輻射狀延長有第2連接臂342，第2連接臂342的個數可以按與後述插入槽364個數相同的個數延長形成。

另一方面，所述第2支撐部360一端連接於第2運轉部340的第2連接臂342，另一端向下方延長，其末端位於比第1夾具262更下側，在另一端可以配置有以環形態形成並包圍第1夾具262和基板托盤W的第2夾具362。

如上所述，第2支撐部360一端連接於第2連接臂342，在第2長度調節部320運轉時，與第2連接臂342一同上下移動，另一端向下方延長，位於室100內。特別是在第2支撐部360的另一端，配置有以環形態形成並包圍第2夾具362和基板托盤W的第2夾具362，從而能夠使得第1夾具262和基板托盤W位置固定於卡盤122。

所述的第2夾具362以環形態形成，在外周可以形成有供第1夾具262容納的插入槽364和供基板托盤W載置的支撐槽366。

在本發明中，第2夾具組件300用於對通過第1夾具組件200而一次固定的基板托盤W二次進行更堅固固定，配置於第2支撐部360的第2夾具362可以以環形態形成，以便包圍基板托盤W外周。這種第2夾具362根據基板托盤W的形狀，可以以圓形環形態或四邊環形態形成，可以與基板托盤W的形狀匹配，與其對應地形成。

另外，在第2夾具362上，可以形成有供第1夾具262容納 的插入槽364，按基板托盤W的外周形狀形成有支撐槽366，形成有供基板托盤W載置的支撐槽366。由此，第2夾具362上升時，第1夾具262插入於插入槽364，基板托盤W插入支撐槽366並載置，從而，以第2夾具362包圍第1夾具262，使得加工環境相同地進行作用，防止蝕刻加工中出錯，即，防止當只以第1夾具262固定基板托盤W時，固定的部位與未固定的部位在蝕刻過程中因不同的加工環境進行作用而發生錯誤。

而且，在第2夾具362中，第1夾具262通過插入槽364插入，基板托盤W通過支撐槽366插入並載置，從而防止基板托盤W遊動，基板托盤W堅固地接觸卡盤122，位置被固定。

另一方面，在所述引導支撐部180的固定面板182上，形成有向下方延長並位於第1運轉部240上側的停止部184，從而使得第1運轉部240在向上方過度移動時接觸停止部184並限制移動。

如上所述，利用從固定面板182延長的停止部184，防止第1運轉部240隨著第1長度調節部220過度運轉而過度移動，從而能夠防止第1夾具262的破損。如上所述，第1夾具262以凸緣形態延長，當設置強度以上的力進行作用時會容易破損。因此，在固定面板182上，使停止部184向下方延長且位於第1運轉部240的上側，從而藉由第1長度調節部220而上升的第1運轉部240掛接於停止部184，第1夾具262接觸卡盤122後，使得不會因過度上升而破損。就第2夾具362而言，在包圍基板托盤W和第1夾具262後接觸卡盤122，上升運轉被限制，不需要另外的停止手段。

另一方面，如圖6至8所示，可以進一步配置有盒模組400，所述盒模組400具備在底面向兩側對稱的板420，並具備：在兩板420上沿 上下方向構成多段，且朝向相互相向的方向凸出的支撐架422；放置架440，其載置於所述支撐架422，在中央部，以比基板托盤W外周更小的外周形成有移送槽442，前方以與移送槽442相接的方式開放，沿著移送槽442的外周，形成有供基板托盤W載置的載置槽444；移送組件460，其使載置於所述放置架440的基板托盤W移送到所述室100內，載置於第1夾具組件200。

所述的盒模組400用於在把基板托盤W移送到室100內之前，收納及保管基板托盤W。

這種盒模組400在底面向兩側對稱地配置有板420，從而前後方敞開，在兩板420上，支撐架422沿上下方向構成多段地形成。

在這種支撐架422上配置有供基板托盤W載置的放置架440。在放置架440上，上側供基板托盤W載置，在中央部，以小於基板托盤外周的外周形成有移送槽442，前方部開放，以便與移送槽442相接，從而使得下面將說明的移送組件460能夠抬升載置於放置架440的基板托盤W。而且，在放置架440上形成有移送槽442，從而能夠防止放置架440接觸基板托盤W的電極而造成電極損傷。另外，在放置架440中，在供基板托盤W載置的部分形成凸台，能夠使得防止基板托盤W的遊動。

所述移送組件460是用於使放置架440上載置的基板托盤W移送到室100內的裝置。最近，隨著作業加工的機械化，藉由機器人執行晶圓的移送。在本發明中，移送組件460作為用於把持基板托盤W的手段，可以加裝於機器人。即，藉由機器人的運轉，移送組件460可以把持所述放置架440上載置的基板托盤W，使移送到所述室100內，載置於第1夾 具組件200。

另一方面，所述盒模組400可以在支撐架422上安裝有感測器部480，所述感測器部480判斷有無載置於支撐架422的基板托盤W。

當使基板托盤W向室100移送時，在盒模組400中，放置架440留下，只有基板托盤W移送到室100，因而在盒模組400中，需要用於確認基板托盤W是否存在而不是確認放置架440是否存在的手段。

因此，在盒模組400中，可以安裝判斷有無基板托盤W的感測器部480，使得在機器人自動化作業時，找到層疊於盒模組400的基板托盤W並準確地移送。

所述的感測器部480例如可以在支撐架422安裝透光感測器，在放置架440上，在與透光感測器對應的位置形成孔，從而隨著基板托盤W載置於放置架440，可以通過放置架440的孔，判斷光線是否通過，判斷基板托盤W的有無。

另一方面，如圖8所示，所述移送組件460可以以平面形成，使得與基板托盤W的下面接觸，在外周上配置有防止基板托盤W滑動的橡膠墊462，在中央形成有用於分散負載的分散孔464。

如上所述，移送組件460可以以平面形成，穩定地支撐基板托盤W，在與基板托盤W接觸的端面形成有橡膠墊462，因而可以使得在移送組件460上載置的基板托盤W不滑動脫落。另外，在移送組件460的中央形成分散孔464，從而能夠使得移送組件460可以充分支撐基板托盤W的重量。

所述的作為對基板托盤W進行固定的手段的晶圓固定裝置 可以包括：第1夾具組件200，其配置有供基板托盤W載置的第1夾具262，配置為能夠在室100的內部沿上下方向升降，從而當運轉時，使得基板托盤W接觸室100內的卡盤122並固定；及第2夾具組件300，其獨立於所述第1夾具組件200配置，使得能夠在室100的內部沿上下方向升降，配置有包圍所述第1夾具262和基板托盤W地形成的第2夾具362，運轉時，使得第1夾具262和基板托盤W一同貼緊室100內的卡盤122；從而使得基板托盤W在室100內堅固地固定。

下面參照附圖，對本發明的動作進行說明。

如圖9所示，在盒模組400的支撐架422上載置放置架440，在放置架440上載置基板托盤W，基板托盤W在移送到室100之前進行待機。

如圖10所示，當使相應基板托盤W移送到室100時，移送組件460只抬升載置在放置架440的基板托盤W，執行向室100的移送。

如此移送的基板托盤W移送到圖11至12所示的室100內的晶圓固定裝置，基板托盤W載置於第1夾具組件200的第1夾具262。

如果基板托盤W載置於第1夾具262，則如圖13所示，隨著第1夾具組件200的第1長度調節部220上升運轉，第1運轉部240上升移動，連接於其的第1支撐部260上升，從而第1夾具262上升。因此，載置於第1夾具262的基板托盤W朝向卡盤122移動並接觸，從而位置被一次固定。

在該狀態下，如圖14所示，隨著第2夾具組件300的第2長度調節部320上升運轉，第2運轉部340上升移動，連接於其的第2支撐 部360上升，從而第2夾具362上升。由此，第2夾具362把第1夾具262和基板托盤W一同向上方推動加壓，從而使得基板托盤W二次堅固地固定於卡盤122。

針對在室100的下部形成有電漿的方式的電漿處理裝置，由如上所述結構構成的電漿處理裝置在室100內部堅固地固定基板托盤W，使得基板托盤W的周邊加工環境均一，在蝕刻作業時使出錯實現最少化。

另外，提供作為用於向室100內部移送基板托盤W的手段的盒，使得容易把裝載於盒的基板托盤W移送到室100內，提高作業效率。

本發明就特定實施例進行了圖示和說明，但在不超出藉由以下申請專利範圍而提供的本發明的技術思想的限度內，本發明可以多樣地改良及變化，這是所屬領域的技術人員不言而喻的。

100‧‧‧室

120‧‧‧上端壁部

122‧‧‧卡盤

140‧‧‧側端壁部

142‧‧‧天線

160‧‧‧下端壁部

180‧‧‧引導支撐部

182‧‧‧固定面板

184‧‧‧停止部

200‧‧‧第1夾具組件

220‧‧‧第1長度調節部

222‧‧‧缸

224‧‧‧活塞桿

240‧‧‧第1運轉部

260‧‧‧第1支撐部

262‧‧‧第1夾具

300‧‧‧第2夾具組件

320‧‧‧第2長度調節部

322‧‧‧缸

324‧‧‧活塞桿

340‧‧‧第2運轉部

360‧‧‧第2支撐部

362‧‧‧第2夾具

a‧‧‧電漿生成空間

Claims (21)

1. 一種電漿處理裝置，其特徵在於，包括：室，其具備供電漿生成的空間，在上端壁部的下端固定有卡盤；第1夾具組件，其安裝於所述室的上端壁部，配備有供基板托盤載置的第1夾具，配置為能夠在室的內部沿上下方向升降，從而當上升運轉時，使得基板托盤接觸卡盤並固定；及第2夾具組件，其安裝於所述室的上端壁部，配置為能夠在室的內部沿上下方向升降，當包圍所述第1夾具與基板托盤地形成的第2夾具上升運轉時，使得基板托盤與第1夾具一同貼緊卡盤；所述第1夾具組件包括：第1長度調節部，其固定安裝於所述室的上端壁部上端，長度沿上下方向可變；第1運轉部，其位於所述第1長度調節部的上側，連接有第1長度調節部，藉由第1長度調節部而向上下移動；第1支撐部，其從所述第1運轉部向下方延長，貫通室的上端壁部，在延長的末端，具備在室的內部供基板托盤載置的第1夾具。
2. 如申請專利範圍第1項所述的電漿處理裝置，其中，所述室在上端壁部固定有卡盤，工程氣體從下端壁部向上方供應，側端壁部的上側連接有真空泵，在下側配置有天線。
3. 如申請專利範圍第1項所述的電漿處理裝置，其中，所述第1長度調節部包括：缸，其固定於室上端壁部；活塞桿，其配置為在缸中沿上下方向升降，且連接有第1運轉部。
4. 如申請專利範圍第1項所述的電漿處理裝置，其中，所述第1運轉部與室的上端壁部水平地配置，在中心連接有所述第1長度調節部，從中心呈輻射狀延長形成有構成相同長度和等角的至少兩個以上的第1連接臂，並連接有第1支撐部。
5. 如申請專利範圍第4項所述的電漿處理裝置，其中，所述第1運轉部的第1連接臂能夠彈性彎曲地形成。
6. 如申請專利範圍第4項所述的電漿處理裝置，其中，所述第1運轉部從中心呈輻射狀延長形成有三個第1連接臂。
7. 如申請專利範圍第4項所述的電漿處理裝置，其中，所述第1支撐部的一端連接於第1運轉部的第1連接臂，另一端向下方延長而其末端位於比室內部的卡盤更下側，在另一端配置有朝向室的中央以凸緣形態延長的第1夾具。
8. 如申請專利範圍第4項所述的電漿處理裝置，其中，連接於所述多個第1連接臂的各個第1支撐部，連接於以環形態形成的連接環的外周。
9. 如申請專利範圍第8項所述的電漿處理裝置，其中，所述連接環在第1支撐部的延長的末端連接於比第1夾具更上側。
10. 如申請專利範圍第1項所述的電漿處理裝置，其中，在所述室中形成有引導支撐部，所述引導支撐部固定安裝於上端壁部的上端，向上方延長，連接有第1夾具組件與第2夾具組件，從而使得第1夾具組件和第2夾具組件向相同方向升降，在延長的末端配置有固定面板。
11. 如申請專利範圍第10項所述的電漿處理裝置，其中， 所述第2夾具組件包括：第2長度調節部，其固定安裝於所述固定面板的下端，長度沿上下方向可變；第2運轉部，其位於所述第2長度調節部的下側，連接有第2長度調節部，藉由第2長度調節部而向上下移動；第2支撐部，其從所述第2運轉部向下方延長，貫通室的上端壁部，在延長的末端，具備在室的內部一同包圍第1夾具與基板托盤的第2夾具。
12. 如申請專利範圍第11項所述的電漿處理裝置，其中，所述第2長度調節部包括：缸，其固定於第2運轉部；活塞桿，其配置為在缸中沿上下方向升降，連接於固定面板。
13. 如申請專利範圍第11項所述的電漿處理裝置，其中，所述第2運轉部與室的上端壁部水平地配置，在中心連接有所述第2長度調節部，從中心呈輻射狀延長形成有構成相同長度和等角的至少兩個以上的第2連接臂，連接有第2支撐部。
14. 如申請專利範圍第13項所述的電漿處理裝置，其中，所述第2運轉部的第2連接臂能夠彈性彎曲地形成。
15. 如申請專利範圍第13項所述的電漿處理裝置，其中，所述第2支撐部一端連接於第2運轉部的第2連接臂，另一端向下方延長而其末端位於比第1夾具更下側，在另一端配置有以環形態形成並包圍第1夾具與基板托盤的第2夾具。
16. 如申請專利範圍第15項所述的電漿處理裝置，其中，所述第2夾具以環形態形成，在外周形成有供第1夾具容納的插入槽 和供基板托盤載置的支撐槽。
17. 如申請專利範圍第10項所述的電漿處理裝置，其中，在所述引導支撐部的固定面板上形成有向下方延長並位於第1運轉部上側的停止部，從而使得第1運轉部在向上方過度移動時接觸停止部並限制移動。
18. 如申請專利範圍第1項所述的電漿處理裝置，其中，進一步配置有盒模組，所述盒模組具備在底面兩側對稱的板，並具備：在兩板上沿上下方向構成多段，且朝向相互相向的方向凸出的支撐架；放置架，其載置於所述支撐架，在中央部，以比基板托盤外周更小的外周形成有移送槽，前方以與移送槽相接的方式開放，沿著移送槽的外周形成有供基板托盤載置的載置槽；移送組件，其將載置於所述放置架的基板托盤移送到所述室內而載置於第1夾具組件。
19. 如申請專利範圍第18項所述的電漿處理裝置，其中，所述盒模組設有安裝於支撐架的感測器部，所述感測器部判斷載置於支撐架的基板托盤的有無。
20. 如申請專利範圍第18項所述的電漿處理裝置，其中，所述移送組件以平面形成，以便與基板托盤的下面接觸，在外周配置有防止基板托盤滑動的橡膠墊，在中央形成有用於分散負載的分散孔。
21. 一種電漿處理裝置，其特徵在於，包括：第1夾具組件，其配置有供基板托盤載置的第1夾具，配置為能夠在室的內部沿上下方向升降，從而當運轉時，使得基板托盤接觸室內的卡盤 並固定；及第2夾具組件，其與所述第1夾具組件獨立地配置，使得能夠在室的內部沿上下方向升降，具備包圍所述第1夾具和基板托盤地形成的第2夾具，運轉時，使得基板托盤與第1夾具一同貼緊室內的卡盤；所述第1夾具組件包括：第1長度調節部，其固定安裝於所述室的上端壁部上端，長度沿上下方向可變；第1運轉部，其位於所述第1長度調節部的上側，連接有第1長度調節部，藉由第1長度調節部而向上下移動；第1支撐部，其從所述第1運轉部向下方延長，貫通室的上端壁部，在延長的末端，具備在室的內部供基板托盤載置的第1夾具。